TWI258766B - Dynamic semiconductor memory device - Google Patents
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Description
1258766 ' 九、--------------------------------------------------------------------------------------------- 【毛明所屬之技術領域】 有關:::::關於動態半導體記憶裝置咖),尤μ 丨审』在備用時之位亓绩知忠-& 之漏電流增大之電路短路缺陷所引起 【先前技術】 一 叙之DRAM,為了令提尚製造良率而設置備用單 :_叙之記憶體單元之-部分發生不良,也藉著將不良 :兀置換成備用單元而補救,可良品化。置換成備用單元, 在晶圓狀態之預備測試,藉著按照成為寫入讀出不良之位址 切斷保險絲等程式今许。昔I ^ 077 ^ πο 寻担式°又汁。百先,參照圖1說明具有置換成備 用單元之功能之DRAM之陣列構造之典型例。此外,圖i係 也屬於應用本發明之一實施形態之整體之陣列構造的,但是 在以下’為了理解發明技術而預先說明。 參照圖1,記憶體板7由係一般之單元之記憶體單元群 以7及係行備用單元之R記憶體單元群R7構成,將複數個配 置成列號碼0〜Μ、行號碼〇〜N之陣列狀。在行方向交互的配 置ώ彳思體板7和予元線驅動|§ (副字元線驅動器)Μ。1 2。 * 感測放大器6由以下之元件構成,SAN6,係控制記情 體單元群N 7之感測放大裔,及s A R 6,係控制r記情體單一 群R7之行備用單元用之感測放大器。 在列方向交互的配置記憶體板7和感測放大器6。記情 體板7所夾之感測放大器,例如在圖1之列號碼〇和列號石馬 1之記憶體板7所夾之感測放大器6控制列號碼0(圖}之左
2083-6835-PF 5 1258766 側)之記憶體板和列號碼l (圖1之右側)之記憶體板雙方。 於是,控制左右兩側之記憶體板之感測放大器構造— 般稱為「共用感測放大器」。 又,在圖1之陣列構造下側配置X解碼器XDEC14,在 陣列構造左側配置Y解碼器YDEC13。YDEC1 3在構造上包括 YDEC N13,輸出用以控制一般單元用之感測放大器N6之複 數條行選擇信號線YSWO、YSW1、…;及RYDEC R13,輸出用 以控制行備用單元用之感測放大器R6之行選擇信號線RYsw。 鲁此外,在圖1,對於行選擇信號線YSWO、YSW1、.··以 及R Y S W只圖示行號碼〇之部分,但是一樣的,在行號碼1 ~ ^ 也配置。又’在圖1之陣列構造之例子,只圖示在行方向置 換之行備用構造,但是一般之構造也裝載列方向置換之列傷 用構造。 圖6係表示圖1之感測放大器6之中2個記憶體板7 所夾之共用感測放大器之一般之電路構造例之圖。 參照圖6,對於共用感測放大器6 〇 (和圖1之6對應), 籲在圖6之左側配置係一般之單元之記憶體單元群N7L和係行 備用單元之R記憶體單元群r7L,在圖6之右側配置係一般 之單元之記憶體單元群N7R和係行備用單元之R記憶體單元 群 R7R。 在€憶體單元群N7L連接由位元線bl〇LT、BLOLN構成 之一對位元線對、由位元線BL1LT、BL1LN構成之一對位元 線對等複數對位疋線對,在各自之位元線連接複數個記憶體 單元8。圮憶體單元群n 7 R、R記憶體單元群r 7 β 7 N之構 造也相同。 2 083-6835-PF 6 1258766 。。記憶體單元8由—個單元一電—ί 之早凡電晶體構成。單元電容之一側電極和供給電壓之 電容板連接’單元電容之另一側電極和單元電晶體之一方之 電極連接X ’單I電晶體之另—方之電極和位元線連接, 閘極和字元線連接。 感測放大器電路60在構造上包括左右之等化電路1L 及1R、共用開關電路2U 2R、_感測電路3、p感測 電路4以及關電路5’控制左側之位元線對 籲及右側之位元線對BL〇RT、bl〇RN2 2對位元線對。 感測放大器電路61、62、63、...及編、咖之電路構 造也一樣。 等化電路1L由以下共3個NM0S電晶體構成,NM〇s電 晶體,一方之電極(源極及汲極之一方)和位元線BL0LT連 接另方之電極(源極及汲極之另一方)和位元線BL〇LN連 接;NMOS電晶體,一方之電極和位元線BL〇LT連接,另一方 之電極和位元線預充電電源VHB連接;以及NM〇s電晶體, 一方之電極和位元線BL0LN連接,另一方之電極和位元線預 充電電源VHB連接;在這3個NM〇s電晶體之閘極共同連接 控制信號EQL。當控制信號Eql為高位準時,等化電路j乙之 NMOS電晶體變成導通,將位元線BL〇LT、BL〇LN預充電至預 充電電源VHB。等化電路1 r也和等化電路1 [ 一樣,由3個 NMOS電晶體構成,3個NMOS電晶體之閘極和控制信號Eql 共同連接。 共用開關電路2L由以下2個NMOS電晶體構成,NM〇s 電晶體,一方之電極和位元線BLOLT連接,另一方之電極和 2083-6835-PF 7 1258766
感測放大器電路内節點SL〇T 電f和位元線舰τ連接,另—方之電極和感測放大器電路 内:點SLON連接;在這2個NM〇s電晶體之間極共同連接控 制信號SHL。右側之共用開關電路2R之電路構造也一樣,在 2個NMGS電晶體之間極共同連接控制信號shr。控制信號 SHL、SHR各自為高位準時,共用開關轉2l、2r各自變成 導通’將左側之位元線對腿T、BL〇LN和右側之位元線對 BLORT、BLORN設為和感測電路⑽〇s感測電路3、pM〇s感 電路4)導通之狀態。 〜、 +曰NMOS感測電路3由以下2個NM〇s電晶體構成,麵$ 電晶體,一方之電極和感測放大器電路内節點SLOT連接, 電極矛感測4號SAN連接,閘極和感測放大器電路 内節點SL0N連接;及麵電晶體,一方之電極和&⑽連 接,另一方之電極和SAN連接,閘極和SL〇T連接。 +曰PM0S感測電路4由以下2個ρ_電晶體構成,⑽$ 電晶體,一方之電極和感測放大器電路内節點sl〇t連接, 另-方之電極和感測㈣SAp連接,閑極和感測放大哭 内節點SL0N連接;及剛s電晶體,—方之電極和節點%⑽ 連接,另一方之電極和SAP連接,閘極和SL〇T連接。 10開關電路5由以下2個NM0S電晶體構成,NM〇s電 晶體’ -方之電極和SL0T連接,另一方之電極和由複數條 構成之10線之中之一條連接,閘極和行選擇信號線mo連 接;及NM0S電晶體’一方之電極和SL〇N連接,另一方之電 極和由複數條構成之IG線之中之別的—條連接,閘極 選擇信號線YSW0連接。 2083-6835-PF 8 1258766 , 在圖6所示之ϋ,f條行—選擇信號線控制2個感測放 大器電路。即,行選擇信號線YSW0輸入感測放大器電路6〇 和感測放大器電路6丨,輸入I 〇開關電路内之共4個NM〇s電 晶體之閘極。在此情況,準備共4條10線,在閘極連接了 共同之行選擇信號線之構成4個I 〇開關電路之NMOS電晶體 各自之另一方之電極和不同之I 〇線連接。 在本例之電路構造,在按照自外部輸入之位址行選擇 信號線YSW0變成活化之情況,可同時寫或讀感測放大器電 馨路6 0和感測放大器電路6 1之2個感測放大器。 在別的例子上,也有一條行選擇信號線輸入一個感測 放大器電路之情況。在此情況,I 〇線變成2條,依據1條行 選擇信號線之活化,變成一個感測放大器電路之寫或讀動 作。 又’在別的例子上,也有一條行選擇信號線輸入4個 感測放大器電路之情況,在此情況,I 〇線變成8條,依據1 條行選擇信號線之活化,可同時寫或讀4個感測放大器電路。 φ 在圖6之感測放大器之左側之係一般之單元之記憶體 單元群N7L内之單元發生讀寫不良之情況,被置換成備用單 元。例如,在和位元線BLOLN連接之記憶體單元變成讀寫不 良之情況,和位元線BLOLT、BLOLN及BL1LT、BL1LN之2對 位元線連接之記憶體單元群1 〇按照組(s e t )被置換成行備用 單元群R7L。 即,按照組置換在記憶體單元群N7 L内依照共同之行 選擇信號線YSWO控制之記憶體單元群。這係由於需要按照 組置換依照一條行選擇信號線同時寫或讀之感測放大器電 2083-6835-PF 9 1258766 路0 在條行選擇信號線輸入一個感測放大器電路之例子 之情況,按照組置換一對,即2條之位元線。 又在一條行選擇信號線輸入4個感測放大器電路之 例子之情況,按照組置換4對,即8條之位元線。 此外,在圖1及圖6,只表示丨條行備用單元用之行選 擇信號線YSWO,但是也有配置複數條行備用單元用之行選擇 信號線’使得可補救至複數個不良為止之情況。 圖6所示之共用感測放大器,在圖6之左側,和行選 擇信號線YSWO對應之記憶體單元群1〇被置換成行選擇信號 、、象RYS行備用單元R7L,在右侧,和行選擇信號線YSwi 對應之記憶體單元群u被置換成行選擇信號線”,之行備 用單元R7R。換言之,係將共用感測放大器之一側和另一側 之記憶體板分成不同之行置換段之方式。此外,在本專利說 明書,「行置換段」意指在行備用之置換對象成為共同之圮 憶體單元群之單位。 與其在共用感測放大器之一側和另一侧作為共同之行 置換段,不如設為不同之行詈拖恐,处,^ y q个丨』< 仃置換奴,此以小的行備用單元之 布置面積提高補救率。 在圖1,假設行號碼〇之行備用單元用之行選擇信號線 RYSW有L條。在全部之共用感測放大器之左侧和右側作為共 同之行置換段之情況,和行號碼0及列號碼〇對應之”M+丄 個€憶體單元群之大的區域成為一個行置拖以 狀仪^在此情況, 在本大區域之行置換段内可補救至L個不良為止,但是有匕+丄 個不良時,就無法補救。 2083-6835-PF 10 •1258766 若補救至L + 1個不良,行號碼〇之行備一用單元用之行 選擇信號線RYSW需要Lh條,行備用單元之布置面積增大。 而,在全部之共用感測放大器之左侧和右側各自作為 不同之行置換段之情況,行號碼0之列號碼各自相異之記憶 體單元群N7各自成為不同之小的行置換段。在此情況,在 各自之小的打置換段内各自可補救至L個不良為止。 因此,右在各自之行置換段内均勻的發生不艮,在和 行號碼〇及列號碼〇〜M對應之M+1個記憶體單元_之大的區 籲域内最多可補救至Lx (M+1)個不良為止。 於是,在行備用單元用行選擇信號線之線數相同之情 況,使行置換段小的可補救至較多之不良數為止。 又’在想補救相同之不良密度之情況,使行置換段小 的可減少行備用單元用之行選擇信號線之線數,虞生小的行 備用單元之布置面積。 又,未必在全部之共用感測放大器在一側和另一側之
記憶體單%群仃置換段相異,—般常採用對幾個記憶體單元 群指定一個行置換段之構造。 例士 在圖1 ’如將行號碼0、列號碼〇、1之2個記 憶體單元群設為-個行置換段,而將行號碼Q、列號碼2、3 之2個記憶體單元群設為—個行置換段般,係每2個記憶體 早兀群卩又為 個4丁置換}主、、W。4士在rK -4-Λ »> 于 u 1伏仅t 况。廷係由於當使行置換段變 小時,行置換之組數增加,隨荽招式抓呌仏; a 1通者私式0又汁所需之保險絲之個 數增多’有保險絲之布置面積變大之問題。 在圖6,將PMOS感測電路4布置於N井區域。將圖〔 所示電路之中之PMOS感測電路4以外之電路布置於p井區 2083-6835-PF 11 1258766 !N -見之無法布置電晶體之浪 f 刀離區域」之數// m -小,連接各感測放大器電路6〇、6 = 了使布置面積 R61内之PMOS感測電路4之 63、…及R60、 示,在圖6之縱向布置成帶狀。之N井,N井區域如圖6所 圖7係表示在圖6之共用感測放大器 之日卞序圖。在雷诉雷厭u 叙之動作例 錢你1π兀綠預充電雷 :D。…位準設為"一準乂及二基準Γ:: 電容板之電麼Vp供給和VHB相同之固定之位準。又圖6之 電位%在Λ7之例,將字元線在等化期間之位準設為⑽ 之千疋在取近之顧,也有準備比⑽電位低之負電位 之笔源m,將字元線在等化期間之位準設為m之情況。 此外’圖6之P井之電位在_般之⑽龍供給比⑽電位低 之負電位VBB。 在比時序T1之前之等化期間,將控制等化之控制信號 EQL、EQR設為VPP位準(EQR在圖上未示)。因而,圖6之等 化電路1L、1R變成導通,位元線對BL〇LT、BL〇LN及位元線 對BLORT、BLORN等各自之成對之位元線間短路(即進行等化 動作),又供給位元線預充電電源VHB。將控制信號SHL、SHR 設為VPP位準,共用開關電路2L、2R變成導通。因而,感 測放大器電路内節點S L Ο T、S L Ο N等變成和位元線對b l 〇 L T、 BLOLN及位元線對BLORT、BLORN等相同之VHB位準。 在T1之時刻,令圖6左側之記憶體單元群N7 L内之 字元線變成活化。此時,將控制信號SHR設為GND位準,將
2083-6835-PF 12 1258766 ^ 、 ……—…. ............... 感、]放大σσ電路内節點SLOT及SLON和右側之記憶體單元群 N7R内之位元線對BLORT、BL0RN等各自分離。又,將控制信 號EQL設為GND位準,將等化電路u設為不導通,令位元 線對BL0LT、BL0LN之等化動作停止。 此外’控制化號EQR在圖7所示之期間,總是令持續 保持VPP位準,繼續供給位元線對BL0RT、BLORN等VHB位 準。又,k唬線SHL(圖上未示)也在圖7所示之期間,總是 令持續保持VPP位準,令位元線對BL〇RT及bl〇rn和感測放 ♦大器電路内節點SL0丁及SL0N各自繼續導通。 接著,向位元線BL0LT或BL0LN輸出記憶體單元群N7L 内之和上升至VPP位準之一條字元線連接之記憶體單元8之 單兀電谷之電何。在圖7所示之例子,向位元線bl〇lt輸出 问位準,其輸出經由共用開關電路2L傳給感測放大器電路 内節點SLOT、SL0N,在SL〇T、SL0N具有微小之差電位。然 後將感測仏號SAN设為GND位準,將感測信號SAp設為VAR 位準,進行感測動作。 ^在感測動作,在_S感測電路3及PMQS感測電路4 之各自之2個電晶體之中各自_個變成導通,使和在、 SL0N具有微小之差電位對應的放大該差電位,感測sl〇t為 VAR位準,感測SL0N為GND位準。 此外,NM0S感測雷政q B , 电路d及pm〇s感測電路4因設計成在 SLOT及關為位準附近時將微小之差電位正常的放 大,在若因故SLOT及SL0N變成大為偏離VHB之位準之情況, 無法正常的放大。 又,感測放大器電路内節點SLOT、SL0N之位準經由共
2083-6835-PF 1258766 用開關電路2L分別傳給位元線BLOLT、BLOLN,位元線BLOLT 變為VAR位準,BL0LN變為GND位準。 又,雖未圖示,在此狀態時,使行選擇信號線YSW0自 GND上升至VAR位準,I〇開關電路5變成導通,10線和感測 放大器電路内節點SLOT、SL0N變成導通。因而,經由10線 可讀或寫感測放大器電路,進行和所選擇之字元線連接之記 憶體單元8之讀、寫。 等化動作首先將字元線設為GND位準。然後,在T2之 籲時刻藉著將控制信號EQL設為VPP位準,等化電路1L變成 導通,位元線對BLOLT、BL0LN等化成VHB位準。 在本等化動作,幾乎不供給來自位元線預充電電源之 位準,也可將位元線對BLOLT、BL0LN等化成VHB位準。在 活化期間,BL0LT變為VAR位準,BL0LN變為GND位準,又, BL0LT和BL0LN具有大致相等之配線電容。因而,在等化動 作,按照各自之位元線之電荷再分配可設為l/2x VAR位準, 即VHB位準。 _ 又,在T2之時刻附近,將控制信號SHR也設為VPP位 準,令共用開關電路2L、2R變成導通。因而,因感測放大 器電路内節點SLOT及SLON經由共用開關電路2L及2R各自 和位元線BLOLT、BL0LN及BL0RT、BL0RN連接,變成VHB位 準。此外,因感測放大器電路内節點SLOT、SL0N之配線電 容小,共用開關電路2L、2R之導通電阻大,節點SLOT、SL0N 也高速的追蹤位元線BLOLT、BLOLN及BL0RT、BL0RN之電位 變化,變成VHB位準。 在自將控制信號EQL設為GND位準之T1之時刻至設為 2083-6835-PF 14 1258766 、P位準之T2之柃刻之期間係活化期間,將控制信號設 為vpp位準之期間係等化期間。此外,將d編内全部之感 測放大益處於等化期間之情況稱為「備用(standby)」。 ^在近年來之DRAM規格,縮短等化期間以高速化之要求 欠強因而,希望在控制信號EQL及SHR變成VPP位準後, 位兀線BLOLT、BLOLN及感測放大器電路内節點SL〇T、SL〇N 儘量高速的變成VHB位準。 在圖6之電路構造,為了減少感測放大器電路之布置 面積,也想到將等化電路1LA 1R^ 2個等化電路只設為一 個,和感測放大器電路内節點SL〇T、SL〇N連接之電路構造。 圖8係舉例表示這種共用感測放大器之電路構造之 圖在圖8,係在圖6所示之構造只抽出依照行選擇信號線 YSWO控制之部分表示。 々圖8所示之構造和圖6之構造之相異點在於省略圖6 之等化電路1R,配置替代等化電路1L之等化電路i。 等化電路1包括NMOS電晶體,-方之電極和感測放大 器7路内節點SLOT連接,另一方之電極和SL〇N連接;NM〇s 電a曰體’方之電極和感測放大器電路内節點SL 0 τ連接, 另一方之電極和VHB連接;以及NM0S電晶體,一方之電極 和VHB連接,另一方之電極和感測放大器電路内節點SL0N 連接,在這3個NMOS電晶體之閘極連接控制信號EQ。 在圖8之動作上,進行將在圖7之時序圖之控制信號 EQL置換成控制信號EQ之動作。藉著在T2之時刻之控制信 號EQ變成VPP位準,等化電路}變成導通,進行等化動作。 那時,經由共用開關電路2L及等化電路j將位元線bl〇lt 2083-6835-PF 15 1258766 和BLjLN短路。位元線BLOLT、BLOLN等之配線電容比感測 放大器電路内節點SLOT、SL0N等之配線電容大數倍。因而, =了將位元線對BL0LT、BL0LN高速的等化而設為VHB位準, 需要使共用開關電路2L之導通電阻變成充分小。 、 即而要使共用開關電路之電晶體尺寸變大。結果, 為了應付等化期間之高速化要求,在圖8所示之構造,布置 面積反而比圖6之構造大。 a ^外在圖8所不之構造,因在活化期間共用開關電 路2R交成不導通,位元線BL〇RT及BL0RN等變成浮動。在 DRAM之規格上,也 士 ^ 也有活化期間成為充分長之期間之情況。此 才、右有極小之漏電流流向位元線BL0RT或BL0RN之不良, 位準為大為偏離應,該位元線變成讀寫不良。因而,圖8 所不之:冓造之良率比圖6之電路構造的降低。 因為有這種問題,在最近之DRAM之等化電路如圖6之 例子所示,需Iv 士加 ❿要各自分開的配置於共用感測放大器之左侧及 右側之位元線對。 6所*之—般之職發生位元“字元線之短路 缺^之h況,變成 和字元線之短路缺陷15之^\在圖6之位元線舰τ
連接之^『和位元線對BL0LT、BL0LN 逆接 < 忑ί思體早凡變成讀寫不良。 在發生本不良之情況, ^ ^ - 匕U體早兀群1 〇被置換成行 備用彻早元群R7L,讀寫動作上良品化。 了疋在置換後,也因在等化_ p卩.
VHR仿、、隹^ 化期間,供給位元線BL0LT ™位準,又供給字元線GN])位準(或v 動,備用電流增大。 — 準),漏电k >瓜
2083-6835-PF 16 1258766 又,因短路缺陷之電阻取自約數歐姆之低電阻至數百 萬以上之尚電阻之各種電阻值。依據我們之估計,位元線和 字兀線之短路缺陷以約數歐姆 电1且發生之情況,1個短 路缺陷之漏電流變成約2 〇 〇 μ a。 一般之DRAM之備用雷片夕目攸m、 備用冤抓之規格因小到數mA,位元線和 字兀線之以低電阻之短路缺陷 々、士 疋^生約1 〇個,就成為漏 電k之不良品,成為降低良率之要因。 因而’希望發生位元線和字 子兀踝之短路缺陷也令該漏 電流降低之裝置,提議幾種方法。 在令位元線和字元線之短路缺 給紙丨曰之漏電流降低之方法 上,在專利文獻1公開在等化雷
電路和位凡線預充電電源VHB 之間配置限流元件之方法。 圖9係表示在專利文獻1 °己戟之用感測放大器電路 之構造圖。在圖9,係對圖6 口妯φ^ 丁口 b /、抽出依照行選擇信號線YSW0 控制之部分。與圖6相異之位置係.笠彳μ φ a
置係在等化電路1 L及1 R和VHB 之間各自配置限流元件9。 此外,在專利文獻1,在 生 尽隈*兀件9之具體之電路構 造上,公開圖10(A)、圖ι〇(Β)、 圖10(C)、圖i〇(D)之構造。 在圖10(A)之構造,在限产 Γ爪70件9上使用NMOS電晶體, 画電晶體之—方之電極和VHB連接,另—方之電極和節點 A連接…間極和定電壓位準n連接,將n之電 可令適當之電流流動之位準。 干又,供給寺化電路1L節點A。 在圖10(B)之電路構造, 在限▲兀件9上使用MOS電 晶體。將PMOS電晶體之閑極 仏电& VI δ又為可令適當之電流流 動之位準。
2083-6835-PF 17 1258766 在圖10(C)之電路構造,在限流元件9上使用空乏型 NMOS電晶體。空乏型NM〇s電晶體之閘極和節點A連接。空 乏型NMOS電晶體之臨限值電壓藉著調整雜質摻入量設為可 令適當之電流流動之值。 在圖10(D)之電路構造,在限流元件9上使用暫存器。 將暫存Is之電阻值設為可令適當之電流流動之值。 又,在專利文獻2及非專利文獻丨公開一種構造,對 於按照組同時置換成行備用記憶體單元群之控制複數對位 元線對之複數個等化電路,用一個限流元件共用。藉此,減 少限流元件之個數,可將布置面積之增加抑制為小。 圖11係表示依照這種原理在非專利文獻丨之圖8公開 之共用感測放大器之電路構造之圖。 圖11和® 6相異之點在於,對於按照組置換成行備用 記憶體單元群之各自和位元線對BLQLT、buln及位元線對 BL1LT、BL1LN連接之2個等化電路1L配置一個限流元件9, 限机兀件9之方之電極和位元線預充電電源VHB連接,另 一方之電極和節點A0L連接,供給2個等化電節點飢。 一樣的’對於按照其他之組置換成行備用記_體單元 群之和2對位元線對連接之2個等化電路ir…用一個 限流元件0對於依昭;供田、技4甲# t丄 、 …、仃備用遠擇信號線RYsw控.制之處也一 樣在非專利文獻1之例子,在限流元件g上使用空乏型關⑽ 電晶體,但是也使用別的型式之限流元件。 圖12(A)係令在專利文獻2公開之位元線和字元線之短 路缺陷之漏電流減少之太、、土 mu ^ 取夕之方法,係對於在圖i記载之DRAM之 陣列構造圖只抽出行號碼〇 < ^ 之口p刀之圖。又,圖12(β)係該
2083-6835-PF 18 1258766 只 方法應用於共用感測放大器電路之電路構造例,對於圖 抽出依照行選擇信號線YSW0控制之部分。 選擇信號線YSWO、 A〇 、 A1 、…、ra , 6連接,又,信號 各自經由保險 圖12(A)和圖1相異之處係和各行 YSW1.....R YSW平行的各自配置信號線 信號線AO、A1.....RA和各感測放大器 線A〇、A1.....RA和位元線預充電電源 絲連接,在限流元件9上使用保險絲。 圖1 2(B)和圖6相異之處係在依照行選擇信號線Ysw〇 控制之感測放大器電路6 〇及6 1内之4個等化電路連接替代 VHB之信號線A0。 在圖12(A)、圖12(B)所示之專利文獻2公開之構造 係’在發生位元線和字元線之短路缺陷1 5之情況,將屬於 不良之行選擇信號線YSWO置換成行備用選擇信號線rySw, 再切斷該信號線A 0之保險絲而切斷漏電流的。 [專利文獻1 ]特開平8-263983號公報(申請專利範圍第 9項、圖3、圖4、圖5) [專利文獻2]特開平8-334987號公報(段落號碼 0 0 35、0 0 36、圖 1、圖 2、圖 3) [非專利文獻 1]IEEE JOURNAL OF SOLID STATE CIRCUITS,VOL. 31,NO. 4,APRIL 1996,p558〜p566,Fault Tolerant Designs 256Mb DRAM , Toshiaki Kirihata 等,發 行年月日:Ν〇β 4,APRIL 1 996 $ p563,Fig. 8 【發明内容】 發明要解決之課題 2083-6835-PF 19 1258766 關於在該專利文獻i所公開之在圖1〇(A)〜圖i〇(d)之 限流元件之適當之限流量,最大也若不是可充分限制係在位 兀線和字兀線之短路缺陷之漏電流之2〇〇/zA之電流量對策 :無效士又:最小也需要對於無漏電流不良之正常之位元線 在送上電源時在規格上之既定之時間(例如在一般之卯題規 格為20 0 #秒)可將該位元線拉升至VHB位準為止之電流量之 約數nA以上。依據我們之估計,認為限流元件之適 流量係約數// A 〇 田义 在圖10U)所示之限流元件上在閘極輪入 準…MOS電晶體’在無不良之情況,在備用時 位準變成位準。而,在發生由位元線和字元線之短路缺 所引起之漏電流之情況,節點人之位準比νΗβ低。此日士, 因限流70件之_S電晶體之源極電壓係節點a,又閑極電丁壓 之位準愈低隱電晶體之卿閘極源極間電 見’可限制之電流量愈增大。_,若短路缺陷所引起 之漏電阻愈小,限流元件之限流愈增大,在特性上有問題。 在圖10(D)所示之限流元件上使用暫存器之情況也一 樣’在發生由短路缺陷所引起之漏電流之情況,漏電阻命小 即點Α之位準愈降低,因暫存器之兩電極之電位差變 流量增大,在特性上有問題。 艮 在圖10(c)所示之限流元件上在將閘極和節 空乏型NMOS電晶體,卢欢丄丄1 ^ ^ 在lx生由紐路缺陷所引起之漏電产 情況1節點準降低。可是,源極和閘極短路,因VGS, 而係疋值’和郎點A之位準無關的作為定電 和短路缺陷之漏電阻值之大小無關,限流元件具有可::為
2083-6835-PF 20 1258766 ……................................................................................... 所設定之電流量之優點之转枓 e 支點之特14可是,因在一般之DRAM不 :吏用空乏型瞧電晶體,因在製造上需要特別製造空乏型 NMOS電晶體’具有製造費用增大之問題。 、、在圖1〇(B)所示之限流元件上在閘極輪入了定電壓位 :、:PMOS電曰a體,在發生由短路缺陷所引起之漏電流之 =況,即點A之位準降低。可是,源極位準係,因= -VI而係定值’和節點A之位準無關的作為定電流源作用。 因此’和短路缺陷之、、运| K # 之漏電阻值之大小無關,限流元件具有可 丨限制為所設定之電流量之優點之特性。又,因採用在一般之 DRAM平常使用之PM〇s電晶體,具有不會導致 之特徵。 、S a 、可是/在圖9或圖n之等化電路1L&lR之旁邊配置 ::限· το件9之PM〇s電晶體,結果需要在感測放大器電 内之P井區域追加2處新的N井。在N井和p井之邊 =因=井分離區域上發生數㈣寬之㈣之區域,若係本 _方式,有布置面積大為增加之問題。 此外’在晶圓狀態之預備測試’藉著切斷保險絲等之 矛王式s又計將變杰綠皆 ^ θ . ^ 成項寫不良之§己憶體單元置換成備用單元,作 =二及圖11所示之以往之利用限流元件之由位元線 的置換,:=τ起之備用電流不良之對策時,未確實 、也有降低良率之問題。 造之:用己!體單元群N7L和N7R行置換段相異之構 造,在等:/、1方大為配置限流元件9之電路構造圖。在本構 陷15時_有低電阻之位元線BL0LN和字元線之短路缺 立几線BL0LN降低至字元線之備用時之位準(g肋 2 0 83 - 6835-pp 1258766 或™位準)附近為止。因位元線BLOLT也利用等化電路1L 和舰N短路,降低至一樣之低位準為止。又,因節點侃 也利用等化電路1L和位元線腿T、bl〇ln短路,降低至一 樣之低位準為止,利用等化電路供給節點皿之位準之位元 線對BL1LT、BL1LN也降低至-樣之低位準為止。自這種狀 態拉升記憶體單元群N7 L内之字元線而移至活化狀態時, 和位兀線對BLOLT、BL0LN及位元線對BULT、BULN連接之 記憶體單元變成讀寫*良,被置換成記憶體單元群ι〇 賢備用記憶體單元群R7L。 而,在等化期間共用開關電路2L及2R變成導通。因 而,h線對BLORT、BL0RN及位元線對BURT、BURN之位 準及h號線A 0 R之位準4 士 v Ff R除Ac , +也比VHB降低。本降低位準依據共用 開關笔路2L、2k導通電阻和限流元件9之電阻值等之比 例而定’變成字元線之備用時之位準和葡位準之間之 位準。共用開關電路2L、⑼之導通電阻和限流元件9 ^且值因温度變動或各電源電壓變動等而變動。因而,中間位 =之電位因各種條件而變動。自這種狀態拉升記憶體單元群 h之子兀線而移至活化狀態時,和位元線對BLOLT、BL0LN 及位元線對BL1LT、BL1I N』 ^ , ^ N連接之€憶體單元變成讀寫有時 不良有日守良品化之不安定之壯 之狀况。因而,在晶圓狀態之預備 難將和位元線對則LT、祕N及位元線對⑽τ、β =記憶體單元群確實的傾測為讀寫不良位元,也發生未 二:備用記憶體單元群之情況。因而,發 之程式設計之置換製程以後之選別測試常發生不 良而成為降低良率之要因之問題。
2083-6835-PF 22 1258766 又’在圖1 2 (A)所示之專利文獻2之構造,在各信號線 A 0、A1、…、RA各自配置一個係限流元件9之保險絲,供給 控制列號碼0〜Μ之記憶體單元板7之全部感測放大器6信號 線AO、Α1、…、RA。在發生位元線和字元線之短路缺陷之情 況’和該缺陷對應之行選擇信號線被置換成行備用選擇信號 線RYSW,同時,切斷和該缺陷對應之信號線之保險絲。因而, 係本構造時必然的列號碼〇〜Μ之Μ+ 1個記憶體單元群變成一 個大的行置換段。在這種大的行置換段,對於行備用單元之 布置面積及補救率有問題。 因此,本發明之目的在於提供一種裝置,在適當的處 理在動態半導體記憶裝置之由位元線和字元線之短路缺陷 所引起之備用電流不良下,可抑制並減少布置面積之增加, 達成咼的備用補救率,可實現轉實之備用補救。 解決課題之手段 在本發明公開之發明用以達成上述之目的,若說明其 概略,在構造上對在共用感測放大器之一侧之位元線對用之 等化電路和另一侧之位元線對用之等化電路共同的設置一 個限流元件,經由限流元件,供給雙方之側之等化電路位元 線預充電電位。 本發明之一種形態之半導體記憶裝置包括:一側和另 一側之記憶體單元群,相向配置;複數對一侧之位元線對, 和該一侧之記憶體單元群連接;複數對另一側之位元線對, 和該另一側之記憶體單元群連接;以及共用感測放大器,配 置於該一侧和另一侧之記憶體單元群之間,控制該一側之位 元線對和該另一側之位元線對;該共用感測放大器包括:一 2083-6835-pp 23 1258766 側,等化電路,各自和該-側之一對位元.、,、 之等化電路,久自 、、泉對連接,另一側 各自和該另一側之一對位元 個限流元件,對, ^ 凡線對連接;以及一 干對一個或複數個該一側之蓉# + 數個該另一侧 4化電路和一個或複 之4化電路共同的設置,對 侧及另一側之望儿 對—個或複數個該一 自和共用::化電路供給位元線預充電電位;在構造上各 ,、用忒一個限流元件之該一側之 合 之等化電路連接,在行備用之 路和該另-側 元群之單位(稱為「行置換段」)在該一:共『之記憶體單 該另一側彳#哞^ 側之記憶體單元群和 側之冗憶體單元群成為相異之單位。 本發明之別的形態之半導體記憶裳置 另一側之記憶體單元群,相向配置,·複數對 和 對,釦分 7, 硬數對一側之位元線 ^ 一側之記憶體單元群連接 對,和兮另一 μ 禝数對另一側之位元線 q另一側之記憶體單元群連接; 器,配置於今一相丨^ ,、用感測放大 側之位元二 側之記憶體單元群之間,控制該- J之位兀線對和該另一側之位元 ^ ^ + ,、符徵在於··該共用 这測放大盗包括··_側之等化 亓綠#n # · 合目和邊一側之一對位 、、、、連接,及另一側之等化電路,各自和 位元線對連接·在兮_該另一側之一對 第…,,在該一侧之記憶體單元群為活化狀態時,將 之擇線設為活化狀態’而且按照組將進行讀/寫動作 以側之一對或複數對位元線對置換成行備用位元線 自和該一側之-對或複數對位元線對連接之該一側 之寺化電路及各自和該另一側之—對或複數對位元線對連 接之該另-側之等化電路包括共同的供給值元線預充電電 位之一個限流元件;在構造上,各自和共用該-個限流元件 之該-側之等化電路和該另一側之等化電路連接,並在行備 2083-6835-pp 24 1258766 用之置換對象成為共同之記憶體單元群之單位(稱為「行置 換段」)在該一側之記憶體單元群和該另一侧之記憶體單元 群成為相異之單位。 " 在本發明,該限流元件由PMOS電晶體構成也可,該pM〇s 電晶體之第一端子和位元線預充電電源連接,第二端子作為 供給該位元線預充電電位之供電端子,和該一側與另一侧之 等化電路共同的連接。 在本發明,也可採用供給該PM0S電晶體之閘極基準電 _壓(GND)、記憶體單元電晶體之基板電壓(VBB)以及字元線之 備用電壓(VKK)之電壓位準之中之至少一個之構造。 在本發明,也可採用將該PM0S電晶體配置於和配置構 成該構成共用感測放大器之PMOS感測電路之pM〇s電晶體之 N井共同之N井區域之構造。 在本發明,也可採用在自該限流元件共同的供給一個 或稷數個該一側之等化電路和一個或複數個該另一側之等 化電路位70線預充電電位之配線之配線層上使用和記憶體 單元群之單元電容之一端共同的連接之電容板層之構造。 在本發明,也可採用具有可變的切換控制在該限流元 件之限流量之裝置之構造。 在本發明,也可採用具有將供給構成該限流元件之 PMOS電晶體之閘極之電壓切換成基準電壓、記憶體單元電晶 體之基板電壓以及字元線之備用電壓之電壓位準之中之所 選擇之電壓之裝置之構造。 在本發明’使依照測試模式切換該限流元件之限流量 也可。或者,包括依據有無切斷可變的控制該限流元件之限 2083-6835-PF 25 1258766 流量之保險絲,使藉著保險絲之切斷切換該限流元件之限流 量也可° 發明之效果 若依據本發明,在動態半導體記憶裝置之共用感測放 大器,藉著在構造上對一側之位元線對用之等化電路和另一 側之位元線對用之等化電路共同的設置一個限流元件,供給 一側和另一側之雙方之等化電路利用限流元件限流之位元 _線預充電電位,可在採取由位元線和字元線之短路缺陷所引 起之備用電流不良之對策下,以小的布置面積實現高的備用 補救率。 又,若依據本發明,因具有令限流元件之限流量變化 之裝置,可使得實現確實備用補救率。 【實施方式】 參照附加之圖面詳細說明本發明。 ® 說明本發明之最佳實施例。本發明之一實施形態之動 態半導體記憶裝置之陣列之整體構造採用圖1所示之構造, 為避免重複省略其說明,以下詳細說明本發明之共用感測放 大器等之構造之細節。 [實施例1] 圖2係表示在本發明之一實施形態之動態半導體記憶 裝置之共用感測放大器之一實施例之構造例之圖。在圖2, 表示在圖1之記憶體板7所夾之一個感測放大器6 ( 6 0…6 3、 R6 0、R61)。如圖2所示,在本實施例,在左侧之記憶體單 2083-6835-PF 26 1258766 .........................................-......................................——._.......—…_——_— — 元群N7L和右側之記憶體單元群N7R成為各自相異之行置換 段(segment) 〇 圖2所示之本實施例之構造和圖11之以往之構造之相 異點係,對於和按照組置換成行備用記憶體單元群之2對位 元線對BLOLT、BLOLN及BL1LT、BL1LN連接之2個等化電路 1L與和按照別的組置換成行備用記憶體單元群之2對位元線 對BLORT、BLORN及BL1RT、BL1RN連接之2個等化電路1R 之共4個等化電路,共同的配置一個限流元件9,限流元件 9之一方之電極和位元線預充電電源VHB連接,另一方之電 極矛節點A 0連接,節點a 〇和4個等化電路共同的連接。等 化電路1L由以下共3個電晶體構成,NM〇s電晶體,一方及 另一方之電極和位元線對連接;臟s電晶體…方之電極和 節點A0連接,另一方之電極和位元線對之一方連接;以及 麵電晶體,一方之電極和節點A〇連接1 -方之電極和 位凡線對之另一方連接;這3個NMOS電晶體之閘極和控制 線EQL共同連接。等化電路 峪之構以也和等化電路1L 一樣, 3個_S電晶體之閘極和控制、線_共同連接。 7 在發生位元線B L fl i w在η今-μ m ULN和子兀線之短路缺陷15之情況, 用限流兀件9限制漏電流,可作 扑馮備用電流不良之對策。 在發生低電阻之位元结R τ ηϊ 夕卜主, 兀線BULN和字元線之短路缺陷15
月和圖11 一樣,在等化期間,位元線對BL0LT、BL〇LN 降低…線之備用時之位準⑽"m位準)附近為止。 又,因即點胤也利用等化電路u和位元、線 短路,降低至一樣之低位準為止。 此外,被供給節點A〇之
位凡線對BL1LT、BL1LN
2083-6835-PF 2Ί 1258766 及位元線對BLORT、BLORN也降低至—樣之低位準為止。自 這種狀態拉升記憶體單元群N7L内之字元線而移至活化狀態 時,和以往一樣,和位元線對BL0LT、bL0LN及位元線對 BL1LT、BL1LN連接之記憶體單元變成讀寫不良。 此外,在本實施例,在拉升記憶體單元群N7L内之字 元線而移至活化狀恶之情況,也可將和位元線對Blort、 BL0RN及位元線對BL1RT、BL1 RN連接之記憶體單元安定的設 為讀寫不良。 因而,在晶圓狀態之預備測試,可比圖丨丨之以往之構 造確實的將和位元線對BURT、bl〇rn及位元線對burt、 BL1RN連接之$憶體單凡群置換成行備用記憶體單元群,對 於圖11之以彺之構造,可改善在置換製程以後之選別測試 之良率。 此,對於在 策’若依據I實㈣,限流元件之元件數減半,具有可使 置面積變小之效果。 [實施例2 ] 一圖3係表示本發明之—實施例之更具體之構造圖。圖 :丁之本貝&例之構造和51 2所示之該實施例之相異點係 _ *兀件9上採用在閘極連接定電壓位準V1之pm〇s電 古此外將本PM〇S電晶體配置於配i PM0S感測電路4 布置成帶狀之N井區域中。 在限流元件之種_ μ ^ _ 類上,在習知技術公開圖10(A)〜 )所不之構造’但是由限流特性及製造費用之觀點, 圖10(B)之將pm〇s電晶體用作限流元件的最優異。
2083-6835-PF 28 1258766 因發 7疋,在以往之限流元件9 —之配—晋7夫_ 生新的井分離 千9之配置(參照圖U) 離£域,有布置面積大為增大 而,若應用本發明,如圖3所亍,因广 離區域,具有大幅度減輕布置面箱2因未發生新的井分 積增大之效果。 、θ 即特別抑制減少面 於是,若依據本實施例, 優異之限流特性之_ 布置®積實現具有 將定雷严 "不會增大製造費用。 财疋電屋Vi之位阜兮凡 ^晶體可流過適當之電产 ”、、7 <限*兀件9之PMOS電 田心电/;丨L (例如約數 A ) 上可使用⑽、™或m等電源„。 例如,在V1 [實施例3 ] 在目3,也有位元線咖和 :…高電阻之短路缺陷之情況。路二為 間,卽點A0等之位準變 兄在寺化期 位準)和位元線預奋念予兀線之備用時之位準(GND或VKK … 電電源、VHB之中間位準。而,該中間位 1又謂缺陷之電阻值和限流元件9之電阻值等之比例 疋。因而,節點A〇等 、 】而 社要,/曰。.位準因溫度變動等各種條件而變動。 bIoLN及了囫“之預備測試’也有無法將位元線對BL°LT、 及立Γ元線對BULT、BL1LN、位元線對_了、B_ 二 =線對BL1RT、BL1RN衫的設為讀寫不良位元之情況。 =二在置換製程以後之選別測試發生不良,也成為降 低良率之要因。 為了處理本問題,在本實施例,採用包括令限 流元件9之限流值變化之裝置之構造。 在本實施例,例如,平常時,將供給限流元件(腦電
2083-6835-PF 29 1258766 晶體)9之問極定電壓位準VI ^ VBB 〇 …:’在本實施例,在晶㈣態之預備測試時,將定電 二Γ V1設為比平常時高之位準(例如G,)。因而,在晶圓 ' σ預備Κ % ’限流元# 9之PMOS電晶體之限流量變 一 17吏在等化期間之節點Α〇和位元線對BL〇lt、π·、 、Ί BL1LT、BL1LN 及位元線對 BL〇RT、BL〇RN、位元線 ^ ^ T BL1RN之位準(電位)比平常時低。結果,對於在 平"守在讀寫有時不良化有時良品化之不安定記憶體單 一— 口狀L之預備測試時,可安定的設為讀寫不良,可 確貝的置換成行備用記憶體單元。 ;是若依據本實施例,發生高電阻之位元線和字元 線之短路缺陷也可提高良率。 此外,藉著測試模式(輸入測試模式信號)或切斷保險 絲等變更定電壓位準V1之設定電壓。 ^若依據本實施例,應用於一側之行置換段和另一側之 行置換I又相異之共用感測放大器,也可 救。因此,因可採用和-般之D讀-樣之小的行置換j 口J對於圖1 2 (A)、圖1 2 (B)所示之習知技術,可減少行備 用單元之布置面積,可提高補救率。 [貫施例4 ] 圖4係表不本發明之布置構造之一實施例之圖。本實 施例係使得可將在圖3所示之實施例之信號線a〇、···'、 RA冋效率的配線的。在圖3所示之該實施例,各記憶體單元 8之早tl電容之一方之電極和供給電壓vp之稱為「電容板」 之導電層連接。 2083-6835-PF 30 1258766 在本實施例,如圖4所示,記憶體板7如斜線所示, 被電容板覆蓋。 而在以在之感測放大器電路6 0、6 1、6 2、6 3、…、 R60、R61之區域,一般不使用電容板之導電層。 在本實施例,在信號線A〇、A1.....RA之配線上,使 用^本電容板之導電層。利用這種構造,對於在共用感測放大 器之一側和另一側各自配置之等化電路,共用一個限流元件 在又方之等化電路將信號線A 0、A1、…、R a配線,也不 ’、、在製知追加新的配線層,或為了使新的配線通過而自以往 之布置大幅度的變更感測放大器之布置,對於圖6所示之以 往之電路,以簡單之修正可進行由位元線和字元線之短路缺 陷所引起之備用電流不良之對策。 [實施例5 ] 在圖2所示之該實施例,說明了 一條行 入一個感測放大器電路之本發明之應用例,但是本 應用於一條行選擇信號線輸入一個感測放大器電路之情況 或一條行選擇信號線輸入4個以上之感測放大器電路之 況。 月 圖5係表示本發明應用於一條行選擇信號線輪入一個 感測放大為電路之一實施例之構造之圖。如圖5所示,在本 灵施例,在共用感測放大器之左侧之記憶體單元群N 7 l 右側之圮憶體單元群N7 R,行置換段也相異。又,係對> : 對位元線對按照組置換之構造。 ’、、母一 對於等化電路1L及等化電路1R之2個等化電略 同的配置1個限流元件9,限流元件9之一方之共 他和位元 卜6835-ρρ 31 1258766 極和節點AO連接’又 線預充電電源VHB ^ ^ ^ ^ ^ ^ 將節點A0和2個等化電路連接。 樣勺在條行選擇信號線輸入4個以上之感測放 大器電路之情況,對於在共用感測放大H之-侧和另1側之 各自按照組置換之共8對之位元線對(-側4對及另-侧4 對)各自連接之共8個等化電路,共同的配置i個限流元件 9限μ兀件9之一方之電極(源極或汲極)和位元線預充電 電源VHB連接,另一方之電極和節點Α〇連接,又將節點Α〇 和8個等化電路連接,其閘極和V1連接。又,將限流元件g 設置於N井區域。 以上按照上述之實施例說明本發明,但是本發明未限 定為上述之實施例之構造,當然包含若係本業者在本發明之 範圍内可進行之各種變形、修正。 【圖式簡單說明】 圖1係表示本發明之一實施形態之動態半導體記憶裝 •置之陣列構造圖。 圖2係表示本發明之一實施例之共用感測放大器之電 路之構造例之圖。 圖3係表示本發明之一實施例之共用感測放大器之電 路之構造例之圖。 圖4係表示本發明之一實施例之共用感測放大器之電 路之布置例之圖。 圖5係表示本發明之一實施例之共用感測放大器之電 路之構造例之圖。 2083-6835-PF 32 1258766 笔路之構造例之 電路之一般之構 電路之構造例之 圖6係表示以往之共用感測放大器之 圖。 圖7係表示圖6之動作之時序圖。 圖8係表示以往之共用感測放大器之 造例之圖。 圖9係表示以往之共用感測放大器之 圖0 圖1 0 (A)〜(D )係各自表示圖9所示之限流元杜 什及等化電 路之電路構造例之圖。 圖11係表示以往之共用感測放大器之電路之止 々再^[列 圖。 圖1 2 (A)係表示以往之動態半導體記憶裝置 且< I旱列構 造圖,圖(B)係表示圖(a )所示之共用感測放大器之電 % "之才盖 造例之圖。 【主要元件符號說明】 1、1L、1R等化電路 2L、2R共用開關電路 3 NMOS感測電路 4 PMOS感測電路 5 10開關電路 6 感測放大器 7 記憶體板 8 記憶體單元 9 限流元件
2083-6835-PF 33 1258766 1 Ο、11 記憶體單元群 1 2字元線驅動器 1 3 Υ解碼器 14 X解碼器 1 5位元線和字元線之短路缺陷 60、61、62、R60、R61感測放大器電路 Ν6控制記憶體單元群Ν7之感測放大器 Ν7、N7L、N7R係一般之單元之記憶體單元群
Ν13 一般之單元用之YDEC R6控制記憶體單元群R7之感測放大器 R7、R7L、R7R係行備用單元之記憶體單元群
R13 行備用單元用之YDEC
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Claims (1)
1258766 十、申請專利範圍: 接; 1 · 一種動態半導體記憶裝 一側和另一側之記憶體單 複數對一側之位元線對, 置,包括: 元群,相向配置; 和該一侧之記憶體單元群連 和該另一側之記憶體單元 複數對另一側之位元線對 群連接;以及 共用感測放大器,配置於 元群之間,控制該一側之位元绝~ —側和另一側之記憶體單 其特徵在於: 、、、對和該另一側之位元線對; 該共用感測放大器包括: 一側之等化電路 另一側之等化電 連接;以及 各自和 ^ 一側之一對位元線對連接· 路,久ό』 , 和該另一側之一對位元線對 脚哏流兀仵 一彻々a A吸数個琢一侧之等化電路. 個或锼數個該另一側之等 电路和 數個該一側及另一側之等/ 飞啜 τ Κ屬路供給位元線預充電電位; 在構造上各自和共用士合 、 個限流元件之該一側之等化 迅路和該另一側之等化電 士〆他田 > 吳她^ ^ 搭連接,在打備用之置換對象成為 a 5之屺恍體單兀群之單位(稱為「行置換段」)在該一側之 °己丨思體單元群和該另一側之記憶體單元靜成為相異之單位。 2 · 一種動態半導體記憶裝置,包栝: 一侧和另一側之記憶體單元群,相向配置; 複數對侧之位元線對,和該一御j之己體早元群連 2083-6835-PF 35 1258766 複數對另一側之位元線斜工 群連接;以及 、、,和該另一側之記憶體單元 共用感測放大器,配詈於 元群之間,控制該一側 線5對:側和另-侧之記憶體單 其特徵在於: 讀對和該另-側之位元線對,· 該共用感測放大器包括: 接;及 側之等化電路,各自和 該 側之一對位元線對連 另一側之等化電路, 連接; 各自和該另一側之一對位元線對 在該-側之記憶體單元群為活化狀態時 擇線設為活化狀態,而且 〜 之-對或複數對…“ 仃頃寫動作之該-側 一 兀* '、、’子置換成行備用位元線對; 在各自和該一側之一斜々、-a ^ ^ ^ , 對或禝數對位元線對連接之該一 連 μ另一側之一對或複數對位元線對 巧钱之该另一側之等仆雷 堂 電路匕括共同的供給位元線預充電 冤位之一個限流元件; 構以上各自和共用該一個限流元件之該一側之等 =路和該另-側之等化電路連接,並在行備用之置換對象 成為共同之記憶體單开盤+ σσ / .τ 早群之早位(稱為「行置換段」)在該一 貝之冗憶體單元群和$ g . αο 〒不落另一側之記憶體單元群成為相異之 卓值。 3.如申請專利範圍第1或2項之動態半導體記憶裝 置,其中’該限流元件包含PM〇s電晶體,其第一端子和位 兀線預充電電源連接,第二端子作為供給該位元線預充電電 2083-6835-PF 36 1258766 位之供電端子,和該一侧與另一側之等化電路共同的連接。 4·如申請專利範圍第3項之動態半導體記憶裝置,其 中,供給該PMOS電晶體之閘極基準電壓(GND)、記憶體單元 電晶體之基板電壓(VBB)以及字元線之備用電壓(νκκ)之電 壓位準之中之至少一個。 5. 如申請專利範圍第3項之動態半導體記憶裝置,其 中’將該PMGS電晶體配置於和配置構成該構成共用感測放 大器之MOS感測電路之PM0S電晶體之Ν井共同之ν井區域。 6. 如申請專利細15戈2項之動態半導體記憶裝 置,其中’在自該限流元件共同的供給一個或複數個該一側 之等化電路和-個或複數個該另—侧之等化電路位元線預 充電電位之配線之配線層上使用和記憶體單元群之單元電 容之一端共同的連接之電容板層。 置 置 7·如申明專利耗圍帛丨< 2項之動態半導體記憶裝 其中’具有可變的切旅批在丨^ 刀換控制在該限流元件之限流量之裝 8 ·如申請專利範圍第s 中 图弟3項之動態半導體記憶裝置,其 具有將供給構成兮呢、、古-μ ^ 〜限机兀件之PMOS電晶體之閘極之電 壓切換成基準電壓、記丨咅體單 U篮早7^電晶體之基板電壓以及字元 線之備用電壓之電壓位 平1平之所選擇之電壓之裝置。 •如申凊專利範圍第γ ,^ 07, ,a| ^ ^ 乐(項之動態半導體記憶裝置,其 中’依#日、?、測式检式士乃姑 式切換该限流元件之限流量。 1〇.如申請專利範圍第6頂夕 中,包括保險絲,依之動態半導體記憶裝置,其 流量; 有…、刀斷可變的控制該限流元件之限 2083-6835-PF 1258766 藉著保險絲之切斷切換該限流元件之限流量。 11 · 一種動態半導體記憶裝置,包括·· 一侧和另一側之記憶體陣列,相向配置,各自具有僑 用單元;及 個記憶體陣列之間 感測放大器電路,接在該 其特徵在於: 口亥感測放大裔電路包括: 側之等化電路,具有2個主動元件,對於該一側之 記憶體陣列之位元線對設置,—端各自和該位元線對連接, 預充電·等化動作時’按照在另一端共同的輸入之位元線預 充電電壓,將該位元線對各自驅動至位元線預充電電塵;及 1個主動元件’插人該位元線對之間’·該3個主動元件之控 制端子和第—等化控制信號共同的連接而成; 另側之等化電路,具有2個主動元件,對於該另一 側之記憶體陣列之位元後對执 凡深對叹置,一端各自和該位元線對連 接,預充電•等化動作時,松昭+ 口 ' ^…、在另一端共同的輸入之位元 線預充電電壓,將該位元绐剩_ θ 線對各自驅動至位元線預充電電 壓’及1個主動元件,插入該位元線對之間;該3個主動元 件之控制端化㈣信號共同的連接而成; 感測電路,在第_及镇_ # 弟一即點接受位元線對之電壓, 差動放大後’向該第一及第二節點輸出; 第一開關,依照輸入之批也丨 > 上 ^ ^ , φ q^ 控制^號開關的控制和該一側 μ 十之缒邻與該感測電路之第一及 弟一即點間之連接; 第二開關,依照輪入之批去 控制^唬開關的控制和該另一 2083-6835-PF 38 1258766 側=等 ^ 電路連 ^ ^ t ^ ^ ^ - 及苐一節點間之連接;以及 開關,依照輸入之行選擇信號開關的控制和該感測電 路之第一及第二節點對應之10線; 還匕括限流兀件,對一組該一側之等化電路和另一側 之等化電路共同的設置’一端和位元線預充電電源連接,控 制端子輸入既定之電壓,另一端和在該—側及另一側之等化 電路之將該位元線對驅動至位元線預充電電壓之2個主動元 件之該另一端共同連接而成; 在構造上,各自和共用該一個限流元件之該一側之等 化電路和該另—侧之等化電路連接,並在行備用之置換對象 成為共同之記憶體單元群之單位(稱為「行置換段」)在該一 狀記憶料謂和該另—狀記憶料元群成為相異之 早位。 12.如申請專利範圍第u項之動態半導體記憶裝置, 二中對複數個該-側之等化電路和複數個該另—側之等化 電路共同的設置限流元件; 該限机兀件之一端和位元線預充電電源連接,控制端 别入既定之電壓’另一端和在複數個該一側之等化電路之 :該位元線對驅動至位元線預充電電壓之2個主動元件之該 另-端共同連接:和在複數個該另_側之等化電路之將該位 :線對驅動至位το線預充電電壓之2個主動元件之該另一端 共同連接。 13.如申請專利範圍第12項之動態半導體記憶裝置, 、中,和複數個該-側之等化電路連接之位元線對及和複數 2083-6835-PF 39 1258766 依據共 個該另一侧之等化電路連接之位元線對之資料經 同之行選擇信號開閉之開關和對應之I 〇線連接。
2083-6835-PF 40
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