TWI242479B - Gantry-type XY stage - Google Patents

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TWI242479B
TWI242479B TW093129788A TW93129788A TWI242479B TW I242479 B TWI242479 B TW I242479B TW 093129788 A TW093129788 A TW 093129788A TW 93129788 A TW93129788 A TW 93129788A TW I242479 B TWI242479 B TW I242479B
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sliding
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TW093129788A
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TW200603928A (en
Inventor
Yasushi Iwanaga
Kazuhiko Mitobe
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Laserfront Technologies Inc
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1306Details
    • G02F1/1309Repairing; Testing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
    • B23K26/0869Devices involving movement of the laser head in at least one axial direction
    • B23K26/0876Devices involving movement of the laser head in at least one axial direction in at least two axial directions
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/003Alignment of optical elements
    • G02B7/005Motorised alignment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Description

1242479 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於用於對平面構造物進行局部性處理 之裝置之Η型XY滑動台座,尤其係有關於用於液晶顯示 為之雷射修理裝置、液晶光罩之雷射修理裝置、太陽能電 池面板之圖案產生裝置、液晶顯示器之缺 導體元件之缺陷檢查裝置等動^裝置丰 【先前技術】 在修補液晶顯示器之TFT基板之製造缺陷之雷射修 理裝置’在主要之構造單元上設置門型灯滑動台座。門 型χγ滑動台座由以下之構件構成,基座部,係固定部分; 及門部’係設置於基座部上之可動部分。在基座部設置上 面成為水平之滑動台座面之石平台。又,在門部設置一對 支柱’配置於石平台上,在-方向(γ方向)可移動;及樑, 舖設於該一對支柱之上端部, 鲕口卩間而,在該樑裝載雷射光學 單元’使得在和該-方向正交之方向(χ方向)可移動。此 外,這種技術公開於株式會社SIGMA首頁(http: //www sigma-fa.co.jp/2_3.h_)[平成16年7月28曰檢索]或住友 重機械工業株式會社首頁(http : //www
Shi.C〇.JP/Stage/prellys/2〇〇3〇318 htm)[平成 i6 年 7 月 μ 曰檢索]。 …依據這種構造,藉著在基座部之石平台上裳載成為修 補對象之液晶顯示器,門部令雷射光學單元移動,令本單
2138-6585-PF 5 1242479 7G位於液晶顯示器之缺陷部之正上,雷射光學單元對本缺 fe部照射雷射光,可修理缺陷部。 在k種用於液晶顯示器之雷射修理裝置等之門型 滑動台座,要求誤差約10_之極高之形狀精度。因而, 將-個大的花岗石等精密的加工而製作石平台。又,對構 成門。P之支柱及樑也要求極高之形狀精度。因π,在以往 之門型ΧΥ滑動台座’將鐵或鐵合金之鑄造件(以下總稱為 鐵禱件)研磨加工而形成門部之支柱及樑。這係由於例如 利用軋鋼等锻造件形成門部時,無法避免發生在滚壓方向 、 …法侍到充分之形狀精度。又,若利用鐵鑄件形 成支柱及樑,因鐵之揚氏係數係、約咖㈣,剛性高,抑 制自重所引起之^蠻、JJL -Q ^ ^ 一 移動所伴隨之扭曲等變形,可保持 面的形狀精度。 在上述之習知技術有以下所示之問題點。 般,在衣造液晶顯示器 同時形成複數TFT基板/ = ’進行在—片母玻, 顯示器之製造費用,有令在二。:,最近為了降低液 個數增加之傾向。因而,母玻璃形成之TFT基板·
母玻璃之尺寸年年大划彳卜,卩省I 在液晶顯示器之雷射修 化。因而,門部之質量mxY滑動台座也大: 結果,高速.驅動門;時,二移動距離也變長。 之石平t 移動日寸因其力矩而基座部 之石千σ 6搖動,其振動 元。因而,在觀察成為修補對裝…光學」 搖動。而,因至哕搖 之日日顯不盗之影像發j 口至該搖動停止為止無法進行修理加工,每_
2138-6585-PF 1242479 若以低速驅動門部, 示器之處理時間還是 片液晶顯示器之處理時間變長。又, 可抑制搖動發生,但是每一片液晶顯 變長。 【發明内容】 本發明鑑於上述之問題點,1 /、日的在於提供一種門型 XY滑動台座’伴隨門部之移動之搖動小。 本發明之門型XY滑動台座,包括:平台;一對支柱, 由係揚氏係數20()GPa以上之第—複合材料構成,在該平 台上在和該平台之上面平行一 丁订 < 弟方向相隔離的設置成 在和該第一方向交叉之第二方向 ^ Π j移動,樑,由係揚氏係 數200GPa以上之箆-茄人枓把_ 弟一稷ϋ材枓構成,舖設於該一對支柱 之間;以及移動基座,對於該樑設置成在該第—方向可移 動0 在本發明’因㈣揚氏係數2⑸GPa以上之複合材料 形,支柱及樑,可在保持支柱及樑之剛性下,將這些零件 輪里化π而,令在第二方向移動支柱及襟時作用於平台 之反作用力小’抑制該反作用力對平台之搖動 ,: 抑制支柱及樑之搖動。因而’可縮短至搖動停止為止之安 定時間’而且可利用大的加減速令高速移動支柱及樑。 二該第-及第二複合材料之中至少—方係炭纖維強 化塑膠較好。因炭纖維強化塑膠之振動吸收性高,抑振效 果局’可更有效的抑制支柱及樑之搖動。 此外,最好該樑係由在其上面形成了第—孔之殼構成
2138-6585-PF 7 1242479 之中二體,包括·直動式導引軸承,由金屬或合金構成, 配置於該樑之上面,在和該第一孔整合之位置形成第二 孔,導引該移動基座之移動;背貼件,由金屬或合金構成, 配置於在該樑之内部之隔著該殼和該直動式導引轴承相 向之位置,纟矛口該第一孔整合之位置形&第三子匕;以及固 疋構件’插穿該第二孔、該第一孔以及該第三孔後將該直 動式導引軸承固定於該樑。 藉著將樑設為中空,可減少構成樑之複合材料之使用 量。因而,可降低材料費,而且可使樑更輕量化。又,藉 者使用由金屬或合金構成之背貼件將直動式導引軸承固 定於樑,,可防止固定部分晃動。因而,可抑制直動式導引 軸承之形狀精度隨時間經過而劣化。 , 此時,在該樑之内部設置由該第二複合材料構成並在 垂直方向延伸之支樓件較好。因而,因本支撐件對抗樑之 ^重所引起之彎曲及支柱與樑之移動所伴隨之扭曲,可使 殼之厚度變薄,可使樑更輕量化。 此外,該樑之上面及該支柱之下面係在將該襟和該支 柱黏接後研磨的較好。因而,可使樑之上面及支柱之下面 之間之距離更嚴格的變成定值。 此外,本發明之門型XY滑動台座係裝载於液晶顯示 器之缺陷檢查裝置或半導體元件之缺陷檢查裝置的也 可,或,具有固定於該移動基座之雷射照射裝置,係裝載 於液晶顯示器之雷射修理裝置、液晶光罩之雷射修理裝置 或太陽能電池面板之圖案產生裝置的也可。此外:液晶光 2138-6585-PF 8 1242479 罩意指成為製作液晶顯示器之TFT基板時之原版之光罩 以下,參照附加之圖面具體說明本發明之實施例。 【實施方式】 實施例之門型XY滑動台座係裝载於修理液晶顯示 為之TFT基板之製造缺陷之雷射修理裝置的。如圖 示’在本貫施例之門别χγ、私說 1 i XY滑動台座1,設置基座部2,係 固定部分;及門部3,#配詈於其 ’、 你配置於基座部2上之可動部分〇 在基座部2,設置支撐門型χγ滑動台座!整體之牟 Ϊ置Vs座4由以下之構件構成,9支支柱4a,等間隔的 -己置成3列3行’·及樑4b ’連結相鄰之支柱心之間。利 用二在JIS G3466記載之一般構造用角型鋼管形成支柱 a及樑4b。又,在架座4各 〜分又彺Μ上设置各i個避振 座5。即共設置9個避振座5。 楚 t派I 5例如利用空氣彈 耳構成。在各避振座5設置機械式感測器 其高度。此外,在避振座5設置電= 口口,使付主動控制其高度也可。 此外,在本9個避振座5上設置例如由一個花岗石等 構成之石平台6。石平台6之形狀係矩形之板狀,盆 下’如圖1所示’將和石平台6之上面平ς之方 向之中在該上面之一科夕、息u. 囬之對之邊延伸之方向稱為乂方向,將 -邊延伸之方向稱為γ方向。χ方向和γ方向相正交。石 方向之長度例如係3._,在Υ方向之長度例 士係3.5m。而,在石平台 囬及在Υ方向延伸之兩
2138-6585-PF 1242479 端部固定一對導引基座7。導引基座7例如由鑄鐵構成, 係在Y方向延伸之柱狀之構件。在石平台6之上面之導引 基座7間之區域成為滑動台座面8。 又,在各導引基座7之上面設置在Y方向延伸之一對 直動式導引軸承9。i動式導引軸承9例如利用炭鋼形 成。直動式導引軸承9係導引門部3在Y方向之移動的。 又在導引基座7之上面之直動式導引轴承9之間之區域 :置偵測門部3在Y方向之位置之線性尺1〇。此外,在 導引基座7之在γ方向延伸之側面之中和另一方之導引基 座7未相向之側之側面安裝線性馬達定子η。線性馬達定 子^在γ方向延伸,形成在上方開口之槽。_,線性馬 達疋子11之和Υ方向正交之截面變成〕字形。利用架座 4:避振座5、石平台6、導引基座7、直動式導引軸承9、 線性尺10以及線性馬達定子11構成基座部2。 又,在門部3設置由例如CFRp(Carb〇n ㈣之揚氏係數⑽以上之複合材料 構成之—對支柱12°CFRP之楊氏係數係則至_GPa, 2例如係U。而,在各支柱12之下部固定線性馬達可 動件1 3,線性馬達可勤彳生 勳件1 3位於線性馬達定子丨丨之槽 内而’错者線性馬達定子11和線性馬達可動件13之間 之磁性相互作用,門部3在γ方向移動。 200^’在—對支柱12之間舖設由例如CFRP之揚氏係數 方::上之複合材料構成之標 方向延伸之樑狀構件’其兩端部和一對支柱^之上面連
2138-6585-PF 10 1242479 結,跨滑動台座面s α ⑷,長方體形狀·及°樑14由以下之構件構成,本體部 向υ方向延出。因^延出部14b,自本本體部14a之下部 形狀成L字形。此休’在樑14之和X方向正交之截面之 2為。而,摔14利用’ # 14之在X方向之長度例如係 ]用黏接劑和支柱12黏接,樑14 面及支柱12之下而及 〈上 ^ ^ ,、在將樑14和支柱12黏接後研磨 工的。在本研磨加工, π潛加 12及樑U後,邊利用:先利用大型之研磨裝置研磨支枝 行精研磨。邊利用!測器量測形狀邊利用人工作業進 而,在樑14之太娜加,, 本體口P 14a之上面設置2支、在Μ 部14b之上面設置 ^支在延出 π A 支,、3支之直動式導引軸承15。直動 式V引軸承15例如剎田山△ / 直動 利用厌鋼形成,在x方向伸 在本體部14a之上面之9 士 又, Ψ a X 支直動式導引軸承15之間之區 域:置在X方向延伸之線性馬達固定件16。在 固定件16形成在側向開 …達 】门開口之槽(參照圖2),和X方向正 之截面之形狀成3字开^。, 山立 子形此外,在本體部…之側面之延 出部14b之上方安裝在X方向延伸之線性尺17。 此外’為了相對於拇】4古γ + 丄、 铩14在X方向可移動,設置例如 由鐵板構成之移動基座, 18在移動基座18之和X方向正 交之截面之形狀成倒L字形,使得覆蓋樑14之上 置直動式導引軸承15之側之側方。 又
叫々又,移動基座丨8在X 方向之長度比樑14在X方合夕且由 方向之長度短。巾,在移動基座 18之下面安裝線性馬達可動件19,位於線性馬達固定件 16之槽内。因而,移動其成 秒動基座18利用線性馬達可動件19
2138-6585-PF 11 1242479 沿著直動式導引 1 7偵測移動基座 n生馬達固定件16之磁性相互作用 軸承15在X方向移動。而,利用線性尺 18在X方向之位置。 此外,在移動基座18之上面及和 側面裝载雷射光學單 :、_目。之側之 基座“之外側面二τ 早70 20係覆蓋移動 '子形’向外部輸出被放置於滑動 口压面8之修理對象物夕+ 昭射m, 之放大影像’而且向本修理對象物 :射田射先。利用支柱12、線性馬達可動件13、樑“、 =導引轴纟15、線性馬達固定件16、線性尺η、移 =^18、線性馬達可動件19以及雷射光學單元20構成 以下詳細說明樑14之構造。圖2表示和樑14之縱向 (方向)正乂之截面。如圖2所示,樑! 4係中空體,設置 構成其外面之殼2 1。而,恶JL. 5又置在垂直方向延伸之板狀之支 樓件22a,使得將本體部14a和延出部⑷相隔開。又, 汉置在垂直方向延伸之2片板狀之支樓件咖及以。此 外,在本體部14a内設置在水平方向延伸之板狀之支撐件 22d ’使得和在垂直方向延伸之2片支撐件22b及22c正 交。因而’利用支擇件22b、22c以及22d將本體部14a 之内部隔< 6個室。又’延出部14b之内部成為利用支撐 件22a自本體部14a隔開之一個室。即,殼21之内部利 用板狀之支撐件22a至22d隔成7個室。 一士又,在殼21之内部之殼21之上面部分之背側,在隔 著叙21和直動式導引軸承1 5相向之位置各自設置背貼件
2138-6585-PF 12 1242479 23。月貼件23由例如炭鋼之金屬或合金構成,係在χ方 向I伸之π狀之板件。而,在直動式導引軸承丨5沿著X 方向將複數孔24形成一列,在樑14之殼21之上面部分 24 1合之位置各自形成孔25。又,在背貼件23 之和孔24及25整合之位置形成螺絲孔26。而且,設置由 :屬或合金構成之螺栓29,插穿孔24及25後和孔2“累 °因而’將直動式導引軸承1 5固定於樑14。 永3,在忒21之上面部分之背側,在隔著殼21和 直動式導引轴承16相向之位置各自設置背貼件^。又, 在線性馬達以件16形成在χ方向排列之複數孔28,在 殼21之和孔28整合之位置形成孔25,在背貼件23之和 孔28及25整合之位置形成螺絲孔%。而且,設置螺栓 29使侍插牙孔28及25後和螺絲孔26螺合。因而,將 線性馬達固定件16固定於_ 、 疋於軚14。此外,孔25係設置了金 三。”衣之回精度螺絲襯(helise⑴之螺絲孔也可。 將門型χγ滑動△庙 σ 衣入液晶顯示器之修理裝置。 ==裝置設置移動控置(圖上未示),令驅動線性 及線性馬達可動件13,令門部3在…移 同W線性馬達固定件16及線性馬達可動件 々移動基座18相對於樑14在X方向移動。又,在太 修理裝置設置雷射控制裝置 本 單元20,得到修理對象物之:“),令驅動雷射光學 對象物。此外,也像,而且令雷射光照射修理 像之顯示裝置(圖上未示)。 ^ 輸出之影
2138-6585-PF 13 1242479 台座1之動作月:=述所構成之本實施例之門型χγ滑動 理對象之液晶顯示器之τρτ ’將形成了複數成為修 於滑動台座面8上。^ ^母玻璃(圖上未示)放置 馬達可動件〃,令二二T線性馬達定子Μ及線性 性馬達固 t ^移動’同時令驅動線 及線性馬達可動件〗9,令 相對於樑14力Y7移動基座18 於丁FTd 向移動,令雷射光學單元2〇位於相當 對該修理土部部Λ之位進置°接著,雷射光學單元- 板之全部之修理部分。然後==成之TFT基 玻璁 ·自/月動口座面8上搬出本母 將下-母玻璃放置於滑動台座面8上,進行修理。 么座^夹Γ令門部3在¥方向移動時之門型χγ滑動 休.^ 。卩開始移動前之狀態。此 干門… 巧了間化圖,各自利用光是矩形表 =二及架座4。又,對於門部3、架座4、避振座5 二石平台6以外之構成元件’省略圖示。如圖3A所示, =部3開始移動前,門型XY滑動台座丨處於穩態,石 之上面利用避振座5保持水平。即,全部之避振座 之,度彼此相等,位於門部3之移動起點侧之避振座4 之鬲度和位於移動終點侧之避振座5b之高产相等
圖3B表示門部3開始移動而加速時IS態寺如W3B Γ’門部3在方向31開始移動而加速時,其反作用力 作用於石平台6,因而,在垂直方向摩縮避振座5a,石
2138-6585-PF 14 ^42479 千台6下沈。將此時 圖%表示門部J沈!設為下沈量33。 3B所示之加速期承:速之狀悲。〜圖3C所示,在圖 圖3C所示之減速 用力32而被壓縮避振座5a,在 向上推石平台6。、心、使石平台6之位置回到基準位置, 上區域移%,g ^此&刻門部3自避振座5a之正 移動因作用於避振座 向上推石平台6 ] P 3之負載減少, 變成比下沈量33;1’而發生過越。即,此時之上推量34 括广《 然後’避振座5a拉下石平a 6之擗 振座5a側之端部。 卜石十口 6之避 之法辫λ、』 守 下沈置3 5和上述之下沈量3 3 之和變成和上推量34相等。 k心卜况里33 而,門部3 $ g #、 ,r 、何逐漸作用於位於門部3之轉動玖里上 側之避振座5b,作 』丨j之移動終點 „. ^ 6 門部3之移動速度愈高速,苴負載 芰動愈激烈,利用磷^八貝戰 盔法追if本$ # 、坐5b之利用機械式感測器之控制 之高度保持在基準位置、1德座5b無法將石平台6 部下沈下去。此時之下平台6之避振座外側之端 Η ^ 3 ^ ^ 〜里係圖3C所示之下沈量37。又, 门口丨3開始減速而停 作用於避振座ι 力36經由石平台6 更壓縮避振座5b,石平台6之僻接庙 5b側之端部更下沈。 之避振座 、Ph r '九里°又為下沈置3 8。鋏德, 避振座5b想使石平台6 …、傻 回到原來之基準位置,向 上推石平台6。此時之上推增 及38之和相等。 “和上逑之下沈量37 圖3D表示門部3之移動完了之狀態。如圖扣所示, 本狀態避振座5使石平台6之高度回到基準位置,石平
2138-6585-PF 15 1242479 台6之上面回到水平。即,門型χγ滑動台^回到穩態。 其次’說明本實施例之效果。如上述 ’ W ^ 不4 1述所不,因伴隨門 口 移動,避振座5如圖3A至圖^ ,^ 口 所不動作,石平台 6纟交成在門部3之移動方向(γ方 ^ ^ 。然後,該搖動 、、由支柱12及14向雷射光學單元2() ^ - 9Π ^ 予早兀20傳播,使雷射光學 早兀20搖動。因而,如上述 ..^ ^ 至本雷射光學單元20 之搖動收歛為止,無法修理’作業效率降低。 設門部3之質量為Me、石平台6 Mq、々杜入 σ 0之貝里為Ms,則(Me/
Ms)之值愈小本搖動量愈小。又, 叹加減速度為α時,門 口丨3之加速時之反作用力 Π^χ、主 及減速時之反作用力36以 (Me 〇〇表示,本值愈小石平 暑侖I 了 又徭動里愈小。而,搖動 心小,至搖動停止為止之安定時間愈短。 在本實施例,因利用CFRP形纟 I烕門部3之支柱12及樑 往利用鐵鑄件形成支柱12及襟14之門咖^ ^座相比,門部3大幅度輕量化。即,該MC之值變小。 因而,該(Me/ Ms)之值變小,可使 姓 使千台6之搖動量變小。 、、.。果抑制自石平台傳播之 _ R旦彡梓々访& 予早兀之搖動所引起之 嬈““象之搖動,又,可使至搖 ^ , 7丨了此馮止之安定時間轡 短,可縮短修理處理時間。χ 入 又因可利用比以往大之加減 速度々移動門部,可令高速移動 勒門口P。因而,雷射光學單 兀20之疋位時間縮短, p人 從^理作業高效率化,可使石 平台之搖動更有效的安定。 此外’右只疋使門部輕量化, ^ ,. y 也可考慮利用一般之樹 月曰材料形成支柱1 2及樑14。 J疋,利用一般之樹脂材料
2138-6585-PF 16 1242479 形成支柱12及樑丨4時,無法得到這些零件所需之形狀精 度。為了高精度的控制雷射光學單元20之位置,樑丨4之 上面之高度需要嚴格的係定值,其最大容許誤差係約 1 Ομπι。可是,利用例如壓克力樹脂之一般之樹脂形成支柱 12及樑14時,因壓克力樹脂之比重係12,比鐵鑄件輕, 但是因之揚氏係數只有約3GPa,支柱12及樑14因自及 :射光學單元20等之質量而彎曲。χ,在用以令移動門 口Ρ 3之-對線性馬達(線性馬達定子^ }及線性馬達可動件 13)之動作有偏差時,樑14就扭曲。結果,無法將樑Μ 之上面之鬲度保持定值。 ,在本實施例’為了在將支柱12及樑14之形狀精 又保持在和鐵鑄件同等水準以上下,料 利用CFRP形成支柱12及 - 里化 汉W丨4。CFRP之之楊氏係數将 2〇〇至600GPa,因剛性充…係 洚,.J充刀貝現要求之形狀精 度。此外,支柱12及樑14 达7 /曰 何枓未限定為CFRP,但是 為了侍到所需之形狀精度,需 上之材料。 * 4使用揚氏係數2GGGPa以 又,在本貫施例,為了更減輕 旦 形狀精度,除了如上述所 貞里及更提r 複合材料形成以外,還下了二广氏係數20〇GPa以h 為中空體。因而,可使# 147先,將樑14言 C贈之使用量,降低費用。又更、;:’而且減少昂貴々 設置板狀之支撐件22a至22d, 紅14之殼21之内部 性,可使殼隨著變薄 *而’可令提高樑14之剛 、。果’可使樑14更輕量化,可
2138-6585-PF 17 1242479 減少CFRP之使用量。此外,在本實施例,表示利用4片 支撐件22a至22d將殼21之内部隔成7室之例子,若在 垂直方向延伸之板狀或棒狀之支撐件只要至少有一個,就 可得到令提高樑14之剛性之效果。 此外,藉著在殼21之上面部分之背側設置背貼件 23,令螺栓27插穿直動式導引軸承15之孔24及殼η之 孔^後和f貼件23之孔26螺合,將直動式導引軸承15 固定於樑M。因而’和在CFRp製之殼21形成螺絲孔後 令金屬製之螺栓和該螺絲孔26直接螺合之情況相比,防 止因螺絲孔被螺栓削減而螺栓晃動,可抑制門部3之形狀 精度隨時間經過而劣化。又’在將孔25 _絲孔之情 況’藉著在本螺絲孔之内面設置金屬或合金製之高精度螺 絲襯,可得到一樣之效果。 此外’在製作門部3時’首先,利用黏接劑將樑14 和支柱12黏接而一體化後’對樑14之上面及支柱。之 下面研磨加工。因而’可使樑14之上面及支柱12之下面 之間之距離嚴格的變成定值,可使樑14之上面之高度高 精度的一致。又’本研磨製程依次實施利用Λ型之研磨裝 置對由支柱12及樑Η構成之—體構造物研磨加工之製程 和使用量測器邊量測形狀邊利用人工作業進行精研磨之 製程。因而,可極高精度的加工門部3。 研磨之 以上,列舉具體之數值,比較本實施例之門型ΧΥ滑 動口座和以彺之由鐵鑄件構成支柱及樑之門型π滑動A 座。首先,鐵之比重係7.9,而咖之比重係約U,:
2138-6585-PF 18 1242479 鐵之約20%。因而,利用鐵鑄件所形成之支柱及樑之總質 量係約600kg,而利用CFRP所形成之支柱及樑之總質量 係約120kg。又,石平台6之質量Ms例如係10t〇n。因而, 該(Me/ Ms)之值在以往之在支柱及樑使用鐵鑄件之χγ滑 動口座係約11 %,而在本實施例之在支柱及樑使用CFRp 之XY滑動台座係約6%。因而,在以往之χγ滑動台座, 搖動之大小最大例如係約5mm,而至可開始修理作業為止 之搖動之安定時間最大例如係5秒;而在本實施例,搖動 之大小最大例如變成約2mm,而搖動之安定時間最大例如 麦成約2秒,可大幅度縮短。又,在以往之門型χγ滑動 台座,門部之移動速度最大也只能實現至約8〇〇mm/秒為 止,但是在本實施例之門型χγ滑動台座,門部之移動速 度可设為1 600mm/秒。 此外,最近隨著門型XY滑動台座之大型化,門部之 λ置增加,需要推力更大之線性馬達,但是若依據本實施 例,因可將問部輕量化,可抑制令移動門部之線性馬達之 推力,可抑制門型χγ滑動台座之費用增多。 此外,在本實施例,表示在石平台6上設置一對導引 基座7之例子,但是本發明未限定如此,不設置導引基座, 而在石平台6之上面直接安裝直動式導引軸承9及線性尺 10 ’又’在石平台6之側面直接安裝線性馬達定子11也 可在此&况’需要使支柱12之高度比本實施例的高導 引基座7之高度。 又在本貫施例表示在基座部2上設置一組門部3,
2138-6585-PF 19 1242479 2 -組Η部3設置-個移動基座18 未限定如此,在一個基座部上設置 仁疋本發明 又置在Y方向移動之多έ且門 :=又,在一組門部3設置在X方向移動之複數:: ;因而在:移,基座18各自裝载雷射光學單元2。1 因而,可同時進行複數位置之修理。 此外’在本實施例表示將門型ΧΥ滑動台座裝 =不器W置之例子,但是本發明未限定如此,本: 之門型ΧΥ滑動台座可適合用於對大型平面構造物進行 某種局部性處理之裝置’例如’也可裝入液晶光罩之雷射 修理裝置、太陽能電池面板之圖案產生裝置、液晶顯示器 之缺查裝置、半導體元件之缺陷檢查裝置等。此外, 在裝入液晶顯*器或帛導體元件等之缺陷檢查裝置之情 況,令裝載顯微鏡單元等,替代雷射光學單元。 本卷月之門型XY滑動台座可適合用於例如液晶顯示 ^之修理裝置、液晶光罩之雷射修理裝置、太陽能電池面 板之圖案產生裝置、液晶顯示器之缺陷檢查裝置、半導體 凡件之缺陷檢查裝置等對大型平面構造物進行某種局部 性處理之裝置。 【圖式簡單說明】 圖1係表示本發明之一實施例之門型XY滑動台座之 立體圖。
圖2係表示圖1所示之門型χγ滑動台座之樑及其周 邊之剖面圖。 2138-6585-PF 20 1242479 1所示之門型XY滑動 圖3A至圖3D係隨時間表示圖 台座之動作之側視圖。 【主要元件符號說明】 1門型XY滑動台座、 2基座部、 3門部、 4架座、 5避振座、 6石平台、 7導引基座、 8滑動台座面、 9直動式導引轴承、 1 0線性尺、 11線性馬達定子、 12支柱、 1 3線性馬達可動件、 14樑、 1 5直動式導引軸承、 1 6線性馬達固定件、 1 7線性尺、 1 8移動基座、 19線性馬達可動件、 20雷射光學單元、 4a支柱、 4b樑、 14a本體部、 14b延出部。 2138-6585-PF 21

Claims (1)

1242479 十、申請專利範圍: 1· 一種門型XY滑動台座,包括: 平台; 一對支柱,由係揚氏係數200GPa以上〃、— 才梁’由係揚氏係數200GPa 設於該一對支柱之間;以及 成,在該平台上在和該平台之上面平行:―複合材料構 設置成在和該第一方向交叉之第二方向可移動;方向相隔離的
以上之第二複合材料構成, 移動基座,對於該樑設置成在該第一方向可移動。 2·如申請專利範圍第!項之門型灯滑動台座,立中 第-及第二複合材料之中至少一方係炭纖維強化塑膠。” 3·如申請專利範圍第丄項之門型对滑動台座 樑係由在其上面形成了第__孔之殼構成之中空體;〃 “ 且包括: 直動式導引軸承,由金屬或合金構成,配置於該樑之上 面在和該第一孔整合之位置形成第二孔,導引該移動基座 之移動; 月貼件’由金屬或合金構成,配置於在該樑之内部之隔 著該殼和該直動式導引軸承相向之位置,在和該第一孔整合 之位置形成第三孔;以及 口定構件,插穿該第二孔、該第一孔以及該第三孔後將 该直動式導引軸承固定於該樑。 4.如申請專利範圍第3項之門型χγ滑動台座,其中,該 第三孔係螺絲孔,該固定構件係和該螺絲孔螺合之螺栓。 2138-6585-PF 1242479 5·如申請專利範圍第3項之門型χγ滑動台座,其中,在 該樑之内部設置由該第二複合材料構成並在垂直方向延伸之 支撐件。 6·如申請專利範圍第丨項之門型χγ滑動台座,其中,該 樑之上面及該支柱之下面係在將該樑和該支柱黏接後研磨 的。 7·如申請專利範圍第1項之門型χγ滑動台座,其中,裝 載於液晶顯示器之缺陷檢查裝置。 8·如申請專利範圍第i項之門型χγ滑動台座,其中,裝 載於半導體元件之缺陷檢查裝置。 9·如申請專利範圍第1項之門型XY滑動台座,其中,具 有固定於該移動基座之雷射照射裝置。 10·如申請專利範圍第9項之門型χγ滑動台座,其中, 裝載於液晶顯示器之雷射修理裝置。 11 ·如申請專利範圍第9項之門型χγ滑動台座,其中, 裝載於液晶光罩之雷射修理裝置。 12.如申請專利範圍第9項之門型χγ滑動台座,其中, 裝載於太陽能電池面板之圖案產生裝置。 2138-6585-PF
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Families Citing this family (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8664030B2 (en) 1999-03-30 2014-03-04 Daniel Luch Collector grid and interconnect structures for photovoltaic arrays and modules
DE10239845C1 (de) * 2002-08-29 2003-12-24 Day4 Energy Inc Elektrode für fotovoltaische Zellen, fotovoltaische Zelle und fotovoltaischer Modul
WO2006104219A1 (en) 2005-03-29 2006-10-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser irradiation apparatus and method for manufacturing semiconductor device
US20070068567A1 (en) * 2005-09-23 2007-03-29 Rubin Leonid B Testing apparatus and method for solar cells
KR100712680B1 (ko) * 2005-12-14 2007-05-02 주식회사 로보스타 엑스와이 이송장치용 거더 및 이를 이용한 엑스와이이송장치
JP2007206641A (ja) * 2006-02-06 2007-08-16 Laserfront Technologies Inc リペア装置及びリペア方法
US8729385B2 (en) 2006-04-13 2014-05-20 Daniel Luch Collector grid and interconnect structures for photovoltaic arrays and modules
US8884155B2 (en) 2006-04-13 2014-11-11 Daniel Luch Collector grid and interconnect structures for photovoltaic arrays and modules
US9236512B2 (en) 2006-04-13 2016-01-12 Daniel Luch Collector grid and interconnect structures for photovoltaic arrays and modules
US9006563B2 (en) 2006-04-13 2015-04-14 Solannex, Inc. Collector grid and interconnect structures for photovoltaic arrays and modules
US9865758B2 (en) 2006-04-13 2018-01-09 Daniel Luch Collector grid and interconnect structures for photovoltaic arrays and modules
US8822810B2 (en) 2006-04-13 2014-09-02 Daniel Luch Collector grid and interconnect structures for photovoltaic arrays and modules
KR100786542B1 (ko) * 2006-08-14 2007-12-21 (주)에스티아이 액정표시장치의 실런트 도포장치 및 이를 이용한 실런트도포방법
KR100807086B1 (ko) * 2006-08-16 2008-03-03 (주)에스티아이 액정표시장치의 스페이서 형성장치 및 이를 이용한스페이서 형성방법
KR100798702B1 (ko) * 2006-08-24 2008-01-28 (주)라컴텍 복합재료 하이브리드 거더
US20080092944A1 (en) * 2006-10-16 2008-04-24 Leonid Rubin Semiconductor structure and process for forming ohmic connections to a semiconductor structure
KR100781292B1 (ko) 2006-11-10 2007-11-30 한양대학교 산학협력단 대면적 스테이지의 빔
JP4838695B2 (ja) * 2006-11-30 2011-12-14 株式会社日立国際電気 線幅測定装置
US20080290368A1 (en) * 2007-05-21 2008-11-27 Day4 Energy, Inc. Photovoltaic cell with shallow emitter
JP4138858B2 (ja) * 2007-12-12 2008-08-27 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
JP4195497B2 (ja) * 2007-12-12 2008-12-10 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
WO2009076740A1 (en) * 2007-12-18 2009-06-25 Day4 Energy Inc. Photovoltaic module with edge access to pv strings, interconnection method, apparatus, and system
JP4643685B2 (ja) * 2008-06-04 2011-03-02 株式会社日立ハイテクインスツルメンツ 駆動ステージ及びそれを用いたチップマウンタ
US8293568B2 (en) * 2008-07-28 2012-10-23 Day4 Energy Inc. Crystalline silicon PV cell with selective emitter produced with low temperature precision etch back and passivation process
US8735774B2 (en) * 2009-03-27 2014-05-27 Electro Scientific Industries, Inc. Force reaction compensation system
JP5476519B2 (ja) * 2010-01-20 2014-04-23 株式会社ブイ・テクノロジー レーザ加工装置
JP2011155167A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Ntn Corp ガントリー型xyステージ
KR101689802B1 (ko) * 2010-10-26 2016-12-27 삼성전자 주식회사 겐트리 장치
JP5456649B2 (ja) * 2010-12-01 2014-04-02 株式会社日立ハイテクインスツルメンツ 駆動ステージ
JP4759094B1 (ja) * 2010-12-28 2011-08-31 株式会社進興製作所 Xyテーブル
KR102226989B1 (ko) * 2011-08-30 2021-03-11 가부시키가이샤 니콘 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법, 노광 방법 및 노광 장치 그리고 디바이스 제조 방법 및 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법
CN103203631A (zh) * 2012-01-11 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 一种高稳定性机台
CN103472681B (zh) * 2012-06-08 2015-07-22 上海微电子装备有限公司 光刻机运动台反力抵消装置及应用其的光刻机
CN103567461A (zh) * 2012-07-20 2014-02-12 鸿准精密模具(昆山)有限公司 车削设备
KR101411190B1 (ko) * 2012-09-28 2014-06-23 세메스 주식회사 갠트리 스테이지
US9080865B2 (en) * 2012-12-27 2015-07-14 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Orthogonality compensation method for length measurement device and length measurement device using same
JP2014192509A (ja) * 2013-03-28 2014-10-06 Samsung Techwin Co Ltd 部品実装機
KR20150073370A (ko) * 2013-12-23 2015-07-01 주식회사 코윈디에스티 곡면 패널 디스플레이 결함 리페어 장치
CN104570258B (zh) * 2015-01-04 2016-09-21 中国科学院上海光学精密机械研究所 轻便型可扩展铝型材光学平台
CN105489525B (zh) * 2015-12-31 2018-12-28 广州兴森快捷电路科技有限公司 器件位置指示系统及器件位置指示方法
CN105506548B (zh) * 2016-03-01 2018-05-25 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板修复装置、修复方法及蒸镀系统
KR101680026B1 (ko) 2016-03-14 2016-11-28 주식회사 코윈디에스티 곡면 패널 디스플레이 결함 리페어 장치
CN105892235A (zh) * 2016-04-29 2016-08-24 珠海市瑞明科技有限公司 一种浅纹菲涅耳透镜的制版设备及制版方法
KR101881901B1 (ko) 2016-10-05 2018-07-26 한국생산기술연구원 하이브리드 복합가공장비 및 이를 이용한 가공방법
JP6767253B2 (ja) * 2016-12-13 2020-10-14 株式会社ディスコ レーザー加工装置
CN107900699A (zh) * 2017-10-11 2018-04-13 肇庆市高讯数控设备有限公司 一种高速高精龙门式加工中心
CN108789290A (zh) * 2018-04-20 2018-11-13 苏州大懿智能装备有限公司 特大型龙门定位平台
CN108732799B (zh) * 2018-05-21 2021-04-23 Tcl华星光电技术有限公司 承载治具
CN109226982B (zh) * 2018-06-23 2021-03-30 武汉吉事达科技股份有限公司 一种xy运行平台系统的调整装置
CN109556547A (zh) * 2018-11-22 2019-04-02 中国航空工业集团公司北京航空精密机械研究所 一种用于测量机的复合导轨结构及其制备方法
US20220040787A1 (en) * 2019-04-25 2022-02-10 Mitsubishi Electric Corporation Laser beam machine
CN112935845A (zh) * 2021-02-03 2021-06-11 上海拓璞数控科技股份有限公司 龙门式多轴加工中心的复合材料框架结构及加工中心
CN117226780B (zh) * 2023-11-13 2024-01-23 成都市楠菲微电子有限公司 一种多功能的轻量级的自动化芯片工作台

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6176239A (ja) 1984-09-25 1986-04-18 Hiroshi Teramachi リニアモ−タ付xyテ−ブル
US5543726A (en) * 1994-01-03 1996-08-06 International Business Machines Corporation Open frame gantry probing system
JPH11116696A (ja) * 1997-10-20 1999-04-27 Nippon Steel Corp 精密機器用部材
JP3681884B2 (ja) 1998-02-17 2005-08-10 三菱電機株式会社 放電加工機
JPH11277351A (ja) 1998-03-30 1999-10-12 Nippon Seiko Kk 直動テーブル
JP3145355B2 (ja) * 1998-06-08 2001-03-12 キヤノン株式会社 移動案内装置
JPH11354608A (ja) * 1998-06-10 1999-12-24 Mitsubishi Chemical Corp 搬送装置用ハンド
DE19833125A1 (de) 1998-07-23 2000-01-27 Actech Gmbh Adv Casting Tech Flächenportalsystem mit linearen Direktantrieben
JP2000111677A (ja) * 1998-10-07 2000-04-21 Canon Inc 位置決めステージ装置、カラーフィルタ製造装置および液晶用アライナ
JP2000263356A (ja) 1999-03-15 2000-09-26 Mitsubishi Electric Corp 工作機械
JP2002158274A (ja) 2000-08-10 2002-05-31 Nsk Ltd 位置決め装置
JP2002082067A (ja) * 2000-09-05 2002-03-22 Olympus Optical Co Ltd 基板検査装置
JP2003022960A (ja) * 2001-07-09 2003-01-24 Canon Inc ステージ装置及びその駆動方法
JP2002192426A (ja) 2001-11-16 2002-07-10 Sodick Co Ltd 放電加工の送り装置
JP4383173B2 (ja) * 2001-12-03 2009-12-16 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 電気導電率を有する搬送部材およびその製造方法
CN2541118Y (zh) * 2002-06-06 2003-03-26 总格实业股份有限公司 高速床台的弹性连结装置

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Publication number Publication date
US20060023206A1 (en) 2006-02-02
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