TWI225944B - Adhesive type optical film and image display device - Google Patents

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TWI225944B
TWI225944B TW092102274A TW92102274A TWI225944B TW I225944 B TWI225944 B TW I225944B TW 092102274 A TW092102274 A TW 092102274A TW 92102274 A TW92102274 A TW 92102274A TW I225944 B TWI225944 B TW I225944B
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Masayuki Satake
Shigeo Kobayashi
Michio Umeda
Chiaki Harada
Naoki Sadayor
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Nitto Denko Corp
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    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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    • G02B5/3033Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
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    • G02B5/305Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers

Description

1225944 玖、發明說明 (發明說明應敘明:發明所屬之技術領域、先前技術、内容、實施方式及圈式簡單說明) 【發明所屬^技術領域】 發明領域 本么明疋有關於在光學膜之至少一側之面上積層有黏 著背丨層之黏著型光學膜。更有關於使用前述黏著型光學膜 之液晶顯示裝置、有機el顯示裝置、PDP等之圖像顯示 裝置。前述光學膜可舉偏光片、相位差片、光學補償膜、 壳度提升膜甚至由這些片膜所積層者等。 【先前技術;J 10 發明背景 液晶顯示器等由於其圖像形成方式的緣故,必須在液 晶晶胞之兩侧設置偏光元件,一般是貼著偏光片。又,在 液晶面板方面,除偏光片外,為了提升顯示器之顯示品質 ,而使用各式各樣的光學元件。例如使用作為防止著色之 15相位差片、用以改善液晶顯示器之可視角度之可視角擴大 膜、甚至用以提高顯示器之對比之亮度提升膜等。這些膜 總稱為光學膜。 在將前述光學膜貼著於液晶晶胞時,通常是使用黏著 劑。又,光學膜與液晶晶胞、或光學膜間之接著,通常為 20 了降低光之損失,而使用黏著劑使各自之材料密著。這種 情況下,由於具有不需乾燥步驟即可使光學膜固著等優點 ,故一般係使用事先將黏著劑設置於光學膜之單面作為黏 著劑層之黏著型光學膜。 前述光學膜所要求之必要特性可舉例如將光學 1225944 玖、發明說明 膜貼合於液晶面板表面時, ^ 右知生貼合位置錯誤、貼合面 上咬入異物之情況時,可將朵成 肘光予膜自液晶面板剝離、重新 貼合(重做rework ) ; ( 2、幺7 τ丄. )為了防止因光學膜之尺寸變化 所產生之光學不均勾而必須具有應力緩和性;⑴對一般 進仃之加熱及加溫等作為環保試驗之耐久實驗*會產生起 因於黏著劑之不良等等。 L、疋有關别述⑴之重做性,以目前的黏著形光 學膜,由於黏著劑層與光學膜基材之密著性很低,因此當 將‘著5L光予膜從液晶面板剝離時,黏著型光學膜之黏著 1。w]會部分殘留在液晶面板表面(以下稱之為黏著劑殘留)。 又m述黏著型光學膜在使用時,會切斷成顯示器之 尺寸。在進行該使用步驟中之處理時,一旦黏著型光學膜 之端部(切斷部)接觸到人或裝置,則該部分會發生黏著 知]之脫落(黏著劑欠缺)。若將這種黏著劑n之黏著型光 15學膜黏貼於液晶晶胞,則由於該脫落部分未密著,因此該 P刀會反射光而$為顯示瑕疵。纟其是最近顯示器不斷地 乍汇化顯示°口質也會因前述端部所發生之瑕疵而顯著降 低0 又,通常光學膜之表面會貼上表面保護膜。該表面保 20 «蒦膜在將光學膜黏貼於液晶面板後即被剝下。這時,會產 生剝離帶電而破壞面板之電路。 本叙明之目的在提供一種光學膜之至少一側之面上積 層有黏著劑之黏著型光學膜,該黏著型光學膜是在進行使 用步驟之處理時對端部之接觸不會發生黏著劑脫落且處理 1225944 玖、發明說明 容易者。 又,本發明之目的在提供可抑制剝離帶電之黏著型光 學膜。 又,本發明之目的在提供使用該黏著型光學膜之圖像 5 顯示裝置。 【發明内容3 發明概要 本發明人為了解決上述課題而專心研究,發現藉下述 黏著型光學膜可達成上述目的,而完成了本發明。 1〇 亦即,本發明係有關於一種黏著型光學膜,係在光學 膜之至少一側之面上積層有黏著劑層者,其特徵在於··前 述黏著劑層係隔著藉聚胺化合物形成之固定層積層者。 上述本發明之黏著型光學膜係推測黏著劑脫落之主因 為黏著劑層與光學膜基材之密著性過低,因此於黏著劑層 15與光學膜基材間隔著藉聚胺化合物形成之固定層,藉此提 升黏著劑層與光學膜之密著性者。藉此,可大幅降低在處 理黏著型光學膜時膜端部發生之黏著劑局部脫落,提升黏 著型光學膜之處理性。 又,使用藉上述聚胺化合物形成之固定層,不僅可使 2〇處理性提升,且可抑制剝離帶電。剝離帶電亦可藉由於光 學膜上施行導電處理來抑制,不過,若再重新賦予導電層 、丨成本提同且會使光學特性低劣。而藉聚胺化合物形 成之固疋層則不會有這些問題。 在上逃黏著型光學膜中,該固定層之厚度以5〜500_ 1225944 玖、發明說明 為佳。基於確保密著性、抑制剝離帶電,固定層之厚度宜 在5nm以上、甚至1〇nm以上為佳。另一方面,由於會導 致光學特性降低,因此固定層之厚度通常在50_m以下 ’但若固定層之厚度過厚,則由於聚胺化合物之強度不足 5 ,故固定層内容易產生破壞,無法得到充分之密著性。固 定層之厚度以在500nm以下,尤其3〇〇nm以下甚至2〇〇nm 以下為佳。剝離帶電效果以固定層之厚度較厚為佳,不過 超過20〇nm則與200nma下同等,基於這點,固定層之厚 度以5〜50〇nm、尤其1〇〜3〇〇nm甚至1〇〜2〇〇nm為佳。 10 上述黏著型光學膜中,該聚胺化合物以聚乙亞胺為佳 。形成固定層之聚乙亞胺係末端具有i級胺基、且主鏈中 具有2級胺基,樹脂中之胺基比例高,聚乙亞胺之胺基與 黏著劑層中之官能基在固定層與黏著劑層之界面及其附近 反應,可使固定層與黏著劑層強固地密著。聚乙亞胺可溶 15於水/醇,即使在光學膜之素材耐溶劑性不佳時,仍可在不 使該光學膜變質之情況下形成黏著劑層。例如,在前述黏 著型光學膜令,當積層固定層之光學膜表面之素材為聚碳 酉文酉曰或去甲坎系樹脂時,亦可抑制素材變質。 又,目前已有於黏著劑層與光學膜基材間設置聚丙烯 2〇酸酯之乙亞胺加成物之固定層作為固定層之例子(特開平 10-20118號公報)。然而,該固定層中,分子中所含1級 胺(2級胺基)之比例报少,且聚丙烯酸酯部分對基材與 饴著性不發揮有效功能,因此可以說無法使黏著劑層與光 學膜基材之密著性充分提昇。更,上述聚丙稀酸醋之乙亞 10 1225944 玖、發明說明 私加成物由於必須在有機溶劑中稀釋後塗覆,因此當光學 膜素材為聚碳義或去曱茨系樹脂時,會使素材變質。 上述J著里光學膜中,該聚胺化合物以稀丙胺系化合 物為佳丙胺系化合物在末端!級胺基之比例也很高, 可使口定層與黏著劑層強固地密著。尤其,以聚稀丙胺作 為烯丙胺系化口物為佳。聚締丙胺可溶於水/醇,因此即使 光學膜之素材耐溶劑性不佳,仍可在不使該光學膜變質之 情況下形成黏著劑層。例如,在前述黏著型光學膜中,積 層固定層之光學膜表面之素材為聚碳酸酉旨或去甲获系樹脂 10 時,亦可抑制素材變質。 上述黏著型光學膜中,前述黏著劑層宜藉丙稀酸系黏 著劑形成。 形成前述黏著劑層之黏著劑中,以使用含有可與胺基 反應之官能基者作為原料聚合物為佳。藉由使用含有與胺 b基反應之官能基者作為前述原料聚合物,可使聚胺化合物 之胺基與黏著劑層中之官能基在固定層與黏著劑層之界面 及其附近反應,而使固定層與黏著劑層強固地密著。 在前述黏著型光學膜中,形成前述黏著劑層之黏著劑 之原料聚合物所含有且可與胺基反應之官能基以羧基為佳 20 。羧基與胺基之反應性良好,適宜作為原料聚合物所含有 之官能基,且可使黏著劑層與固定層之密著性良好。 前述黏著型光學膜中,形成前述黏著劑層之黏著劑之 原料聚合物含有可與胺基反應之官能基,而隔著藉聚胺化 合物形成之固定層積層之黏著劑層,係黏著劑層中之黏著 1225944 玖、發明說明 劑與固疋層中之聚胺化合物在固定層中形成混合反應層, 而該混合反應層之厚度以在固定層全體厚度之5〇%以上為 佳。 形成固定層之聚胺化合物係末端具有丨級胺基,另一 5方面,形成黏著劑層之黏著劑中係使用具有可與胺基反應 之官能基者作為原料聚合物,這些相互貫入固定層與黏著 劑層之界面及其附近。結果,固定層中之胺基與黏著劑層 中之官能基反應之領域内形成了混合反應層,使固定層與 黏著劑層強固地密著。 10 又,固定層中不形成混合反應層之部分,由於不參與 前述反應,因此不僅不可寄望其密著,且若比例過多反而 會降低密著性。基於這點發現,故前述混合反應層最好調 整為前述固定層全體之至少、50%以上,又以80%以上為佳 。又,混合反應層可在藉釕酸將光學膜染色時,成為業經 15強力染色之層而確認出來。因此,聚胺化合物單獨存在於 不易藉釕酸染色之固定層之部分。 則述黏著型光學膜中,積層固定層之光學膜表面之素 材可適宜使用聚碳酸醋或去甲获系樹脂。如前所述,使用 婦丙胺系化合物作為固定層之形成材料之聚胺化合物時, 20可抑制聚碳酸酯或去曱莰系樹脂之變質。 又,上述黏著型光學膜中,係以於光學膜上施行活性 化處理者為佳。藉由在光學膜上施行活性化處理,可抑制 固定層形成於光學膜上時之彈性。並可使固定層在光學膜 上密著性良好地形成。 12 1225944 玖、發明說明 又本發明係有關於一種圖像顯示裝置,係至少使用 1張前述黏著型光學臈者。本發明之黏著型光學膜可因應 夜曰B 示装置之圖像顯示裝置之各種使用態樣,使用1張 或組合多數者來使用。 5圖式簡單說明 第1圖是本發明之黏著型光學膜之截面圖。 第2圖是本發明之黏著型光學膜之截面擴大圖。 C實施方式;j 較佳貫施例之詳細說明 10 形成本發明之黏著型光學膜之黏著劑層之黏著劑,可 使用橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑等 各種黏著劑,不過一般是使用無色透明且與液晶晶胞等之 接著性良好之丙烯酸系黏著劑。又,黏著劑之原料聚合物 以具有與胺基反應之官能基者為佳。 15 丙烯酸系黏著劑係以烷基(甲基)丙烯酸酯之單體單 元為主骨架之丙稀酸系聚合物作為原料聚合物。又,(甲基 )丙烯酸酯是指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯,與本發明之 (甲基)相同意思。構成丙烯酸系聚合物之主骨架之烧基 (甲基)丙烯酸酯之烷基之平均碳原子數為1〜12者,燒基 20 (甲基)丙稀酸酯之具體例可舉例如:曱基(甲基)丙稀 酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、丁基(曱基)丙稀酸酯、 2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯等,這些可單獨或組合使用 。這些烷基(曱基)丙烯酸系當中以烷基之碳原子數丨〜? 之烧基(曱基)丙稀酸酯為佳。 13 1225944 玖、發明說明 導入前述丙烯酸系聚合物等之原料聚合物且可與胺基 反應之官能基可舉例如··竣基、環氧基、異氰酸醋基等。 這當中又以羧基較適合。聚有與胺基反應之官能基之丙烯 酸系聚合物,含有具該官能基之單體單元。具有羧基之單 5體可舉丙烯酸、甲基丙烯酸、反丁婦二酸、順丁稀酿胺酸 、亞甲基丁二酸等。含環氧基之單體可舉例如環氧丙基( 甲基)丙稀酸酯等。 丙烯酸系聚合物中之具有前述官能基之單體單元之比 例並無特別限制,不過,與構成丙烯酸系聚合物之單體單 1〇 70 (A)(唯,不含前述單體單元(a))之重量比(a/A) 以0.001〜0.12為佳、且以0·005〜0丨為佳。 又,前述丙烯酸系聚合物中可導入聚羥基之單體單元 、具Ν元素之單體單元等。具有羥基之單體可舉2_羥基乙 基(甲基)丙烯酸酯、Ν-羥甲基(甲基)丙烯醯胺等含羥 15基單體、羥基丁基(甲基)丙烯酸酯、羥基己基(甲基) 丙烯酸酯等。含Ν元素單體可舉:(曱基)丙烯醯胺、 Ν,Ν-二甲基(曱基)丙烯醯胺、Ν,Ν_二乙基(曱基)丙烯 醯胺、(甲基)丙烯醯基口末啉、(曱基)乙腈、乙烯基吡咯 咬S同、Ν-環己基順丁烯二醯亞胺、亞甲基丁二醯亞胺、 20 Ν,Ν-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯醯胺等。此外,可在不 損害黏著劑之性能之範圍内,於丙烯酸系聚合物中更使用 乙酸乙烯、苯乙烯等。這些單體可組合1種或2種以上。 丙歸酸系聚合物之平均分子量並無特別限制,不過重 量平均分子量(GPC)以30萬〜250萬者為佳。前述丙烯 14 1225944 玖、發明說明 酸系聚合物之製造,可藉由各種已知之方法製造,例如可 適當選擇整體聚合法、溶液聚合法、懸浮聚合法等自由基 聚合法。自由基聚合引發劑可使用偶氮基系、過氧化㈣ 之各種已知者,通常使其反應溫度為5〇〜8rc ,反應時間 5 1〜8小時。又’前述製造方法中又以溶液聚合法為佳作 為丙烯酸系聚合物之溶劑—般是使用乙酸乙醋、苯乙稀等 極性溶劑。通常溶液濃度為2〇〜8〇重量%。 橡膠系黏著劑之原料聚合物可舉例如天然橡膠、異戊 二烯系橡膠、苯乙烯-丁二烯系橡膠、再生橡膠、聚異丁稀 10系橡膠,更可舉苯乙烯-異戍二稀苯乙稀系橡膠、苯乙稀· 丁一烯-本乙烯系橡膠等,而作為聚矽氧系黏著劑之原料聚 合物可舉例如二甲基多石夕氧院、二苯基多石夕氧燒等;、可適 當地使用業已於這些黏著劑十導入有叛基等與胺基有反應 性之官能基者。 〜 15 又’使前述黏著劑為含有交聯劑之黏著劑組合物者為 佳。可配合於黏著劑之多官能性化合物可舉有機系交聯劑 或多官能性金屬鉗合物為例。有機系交聯劑可舉環氧系交 聯劑、異氰酸酯系交聯劑、亞胺系交聯劑等為例。又以異 氰酸酯系交聯劑作為有機系交聯劑為佳。多官能性金屬鉗 20 σ物為多價金屬與有機化合物共價鍵合或配位鍵合者,多 價金屬原子可舉例如m、zr、co、cu、Fe、Ni、v、 Zn:In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、M〇 La Sn、 Τι等作為共價鍵合或配位鍵合之有機化合物中之原子, 可舉例如氧原子等’作為有機化合物者可舉燒基酉/、醇化 15 1225944 玖、發明說明 5物、魏酸化合物、喊化合物、嗣化合物等。 丙稀酸系聚合物等原料聚合物與交聯劑之配合比例並 無特別限制,通常相對於原料聚合物(固體成分)1〇()重 嚴邙,父聯劑(固體成分)以〇·〇丨〜6重量部為佳,又以 5 0·1〜3重量部為佳。 更可因應需要,在不脫離本發明目的之範圍内,於前 述黏著劑中適宜地使用各種添加劑,如黏著賦予劑、可塑 劑、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、由其他無機粉末等形成 之充填劑、顏料、著色劑、充填劑、抗氧化劑、紫外線吸 10收劑、矽烷偶合劑等。又亦可使其為含有微粒子而顯示光 擴散性之黏著劑層等。 形成固定層之聚胺化合物,只要是可形成塗膜者皆可 使用,並無特別限制。聚胺化合物為含多量胺基之化合物 ,以利用具有胺基之單體作為構成聚胺化合物之主單體者 15為佳。聚胺化合物可舉例如聚乙亞胺、烯丙胺系化合物。 聚胺化合物之使用型態可為溶劑可溶劑、水分散型、水溶 解型之任一者。 形成固定層之聚乙亞胺並無特別限制,可使用各種聚 乙亞胺。聚乙亞胺之重量平均分子量並無特別限制,通常 20 為1〇〇〜1〇〇萬。例如,聚乙亞胺之市售品之例子可舉:株 式會社日本觸媒製之伊波命SP系列(工求ζ ^ Spシy 一 X ) ( SP-003 、 SP006 、 SP012 、 SP018 、 SP103 、 SPll〇 、 SP200等)、伊波命P-1000 (工求ζ V p1000)等。其中又 以伊波命P-1 〇〇〇 (工求5 > P-1000)為佳。 16 1225944 玖、發明說明 形成固定層之烯丙胺系化合物並無特別限制,可舉例 如:二烯丙胺鹽酸鹽-二氧化硫共聚合物、二烯丙胺氯化鹽 共聚合物、聚烯丙胺鹽酸鹽、聚烯丙胺等烯丙胺系化合物 、二乙烯三胺等聚烷烯聚胺與二羧酸之縮合物、甚或表鹵 5醇之加成物、聚乙烯胺等。烯丙胺系化合物;尤其是聚烯 丙胺可溶於水/醇,因此很適合。又,聚胺化合物之重量平 均分子量並無特別限制,以ΙΟΟΟΟΜΟΟΟΟΟ為佳。
又,固定層形成時,除聚胺化合物外,再混合與聚胺 化合物反應之化合物使其交聯,可使固定層之強度提升。 1〇與聚胺化合物反應之化合物可舉環氧化合物等。 本發明之黏著型光學膜係如第〗圖所示,黏著劑層3 隔著藉聚胺化合物形成之固定層2設於光學膜丨上。又, 黏著劑層3上亦可設置脫模膜4。又,固定層2係如第2 圖所示,宜在其厚度(A)中,具有厚度⑴之混合反應 15 層 5 〇
使用用於形成液晶顯示裝置等圖像顯示裝置者作為光 2骐1,隸類並無特別限制。例如,可舉偏光片作為光 學膜。偏光片-般係使用偏光鏡之單面或兩面具有透 護膜者。 ’ 偏光鏡並無制㈣,可❹各财。作為偏光鏡 舉例如使聚乙婦醇系膜、部㈣酸化聚乙烯醇系膜' $•乙稀乙酸共聚合物系部分4化膜等親水性高分子膜厂 吸著峨或二色性染料等二色性物f單軸延伸者' 之脫水處理物或聚氯乙婦之脫氯酸處理物等多締系定向: 17 1225944 玖、發明說明 等。這當中又以聚乙烯醇系膜與碘等 之 偏光鏡為佳。這些偏光鏡之厚度並無特別 5〜80 // m 〇 色性物質形成 之 限定,一般為 5 將聚乙烯醇系膜以埃染色之單轴延伸之偏光鏡,可以 例如藉由將聚乙婦醇浸潰於破水溶液中來染色,並延伸為 原長之3〜7倍來製作。亦可因應需要使浸潰於含有蝴酸或 硫酸鋅、氯化鋅等之磁化鉀等水溶液中。更可因應需要, 於染色前將聚乙稀醇系膜浸漬於水中水洗。藉由水洗聚乙 稀醇系膜,不僅可洗淨聚乙烯醇系膜表面之污垢或阻塞防 止劑,且有使聚乙烯醇系膜膨脹來防止染色斑駁等不均之 效果。延伸係可在以_色後進行,或於染色之同時進行 延伸,或於延伸後再以碘染色皆可。也可在硼酸或碘化鉀 專水溶液中或於水浴中延伸。 形成5又於則述偏光鏡之單面或兩面之透明保護膜之材 15料,以透明性、機械性強度、熱安定性、水分遮蔽性、各 向同性性質等皆很優異者為佳。例如,可舉聚乙烯對苯二 曱酸酯或聚乙烯萘二甲酸酯等聚酯系聚合物、雙乙醯纖維 素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物、聚甲基甲基丙烯酸 酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈•苯乙烯共聚合 20 物(AS樹脂)等之苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等 。又,具有聚乙烯、聚丙烯、環系乃至去甲莰構造之聚烯 烴、如乙焊•丙稀共聚合物之聚稀烴系聚合物、氯乙稀系 聚合物、耐綸或芳香族聚醯胺等之醯胺系聚合物、醯亞胺 系聚合物、楓系聚合物、聚醚现系聚合物、聚醚醚酮系聚 18 1225944 玖、發明說明 合物^伸笨基硫化物系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏氣 乙烯系承合物、聚乙烯醇縮丁醛系聚合物、烯丙酯系聚合 物、聚曱略系聚合物、環氧系聚合物、或前述聚合物之摻 σ物等也疋可舉出之可作為形成前述透明保護膜之聚合物 5之例子。透明保護膜亦可形成為:丙稀酸系、胺醋系、丙 稀月女酉曰系、%氧系、聚石夕氧系等之熱硬化型、紫外線硬化 型之樹脂之硬化層。 又,特開2001-343529號公報(w〇〇1/37〇〇7)中所記 載之聚合物膜,可舉例如含有(A)側鏈上具有取代及/或 10非取代醯胺基之熱可塑性樹脂、及(B)側鍵上具有取代 及/或非取代苯基以及腈基之熱可塑性樹脂之樹脂組成物。 具體例可舉含有由異丁烯與N_甲基順丁稀二醯亞胺形成之 乂互共聚合物及丙烯腈•苯乙烯共聚合物之樹脂組成物之 膜。膜可使用由樹脂組成物之混合押出品等所形成之膜。 15 保濩膜之厚度可適當地決定,一般基於強度或處理性 4作業性、薄層性等方面,為m。尤以瓜 為佳’ 5〜200 // m更佳。 又’保《蒦膜以盡可能沒有著色為佳。因此,宜使用·· 以Rth=[ (nx+ny) /2-ηζ] · d (唯,ηχ、ny為膜平面内之主 2〇折射率、nz為膜厚度方向之折射率、d為膜厚)所表示之 膜厚度方向之相位差值為-90nm〜+75nm之保護膜。藉由使 用5亥種厚度方向之相位差值為_9Onm〜+75nm者,可幾乎消 除起因於保護膜之偏光片之著色(光學性染色)。厚度方向 之相位差值(Rth )又以-80nm〜+60nm為佳,尤其以. 19 1225944 玖、發明說明 70nm〜+45nm 為佳。 保護膜基於偏光特性或耐久性等點,以三乙醯纖維素 等纖維素系聚合物為佳,尤以三乙醯纖維素膜為佳。又, 若為在偏光鏡之兩側設置保護膜之情況,則該表裡可使用 5由相同聚合物材料形成之保護膜,亦可使用由不同聚合物 材料等形成之保護膜。前述偏光鏡與保護膜通常隔著水系 黏著劑密著。水系黏著劑可舉例如異氰酸酯系接著劑、聚 乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、水系聚 胺甲酸酯、水系聚酯等。 1〇 前述透明保護膜之未接著偏光鏡之面,亦可施行以硬 罩層或反射防止處理、黏結防止或擴散乃至抗眩光為目的 之處理。 硬罩處理係以防止偏光片表面之損失為目的所施行者 ,可藉由將藉丙烯酸系、聚矽氧系等適宜之紫外線硬化型 树月曰心成之硬度或滑動特性上很優異之硬化皮膜附加於透 月保4膜表面之方式來形成。反射防止處理係以防止偏光 片表面之外光之反射為目的而施行者,可按照習知之反射 防止膜等之形成來達成。又,黏結防止處理係以防止與鄰 接層之密著為目的而施行者。 〇 X,抗眩光處理係為了防止外光在偏光片之表面反射 而阻礙偏光片透過光之目視辨認等目的而施行者,可 方式或i纹加工方式等之粗面化方式、或』明 Γ 合方式等適宜之方式於透明保護膜表面職予微 、、田凹凸構造來形成。前述表面微 20 1225944 玖、發明說明 為其:所含之微粒子’可使用例如平均粒子徑G.5〜50_ 氧化矽I化紹 '二氧化欽、氧化錯、氧化錫、氧化 鋼、减鎮、氧化錄等所形成之具導電性之無機系微粒子 5 λ又聯或未父聯之聚合物等形成之有機系微粒子等之透 月微粒子。形成表面微細凹凸構造時,微粒子之使用量係 才晴於形成表面微細凹凸構造之透明樹脂UK)重量部… 身又為2〜50重量部,又以5〜25重量部為佳。亦可使抗眩光 層兼作擴散層(擴大可視角機能等),使偏光片透過光擴散 來擴大可視角等。 1〇 ★又,前述反射防止層、黏結防止層、擴散層或抗眩光 層等係可設於透明保護膜,此外亦可作為其他用途光學層 而與透明保護膜作為不同個體來設置。 又,作為本發明之光學膜亦可舉··能作為例如反射片 或半透過片、相位差片(包含1/2或1/4之波長片)、視角 補4員膜冗度&升膜等可用以形成液晶顯示裝置等之光學 曰者這些光學層可單獨作為本發明之光學膜使用,此外 亦可於實際使用時,在前述偏光片上積層而使用丨層或2 層以上。 特別是以偏光片上更積層有反射片或半透過反射片之 2〇反射型偏光片或半透過型偏光片、偏光片上更積層有相位 差片之橢圓偏光片或圓偏光片、偏光片上更積層有可視角 補仏膜之廣可視角偏光片、或是偏光片上更積層有亮度提 升膜之偏光片為佳。 反射型偏光片係於偏光片設置反射層者,係用以形成 21 1225944 玖、發明說明 使發自目視辨認侧(顯示侧)之入射光反射而顯示之類型 之液晶顯示裝置等者,具有可省略内藏背光等光源、容易 達到液晶顯示裝置之薄型化等優點。反射型偏光片之形成 ’可因應需要,隔著透明保護層等而於偏光狀單面附設 5由金屬等形成之反射層之方式等適宜之方式來進行。 反射型偏光片之具體例,可舉例如:因應需要而在業 已施行褪光處理之透明保護膜之單面上,附設由铭等反射 陡金屬形成之金屬薄片或蒸錄膜來形成反射層者等。又, 亦可舉使前述透明保護膜中含有微粒子作成表面微細凹凸 10構造,且其上面具有微細凹凸構造之反射層者等。前述微 細凹凸構造之反射層具有:藉漫反射使入射光擴散而防止 指向性或刺眼之外觀、抑制明暗不均勻等優點。又,含有 微粒子之透明保護膜也具有當入射光及其反射光透過該保 護膜時使之擴散而更進一步抑制明暗不均句之優點。反映 15出透明保護膜之表面微細凹凸構造之細微凹凸構造反射層 之形成二可藉由例如以真空蒸鑛方式、離子鑛方式、減射 方式等丄鑛方式或電鍵方式等適宜之方式,將金屬直接附 加於透明保護層表面之方法等來進行。 射片亦可在按照該透明膜之適宜之膜上設置反射層 20而作成反射膜等來使用,代替前述之於偏光片之透明保護 *、直接賦予之方式。又,由於該反射層通常由金屬形成 ^彳木取°亥反射面為透明保護膜或偏光片等所覆蓋之 狀悲,則該使用形態可防止因氧化導致之反射率降低’進 一步可長期维持_反射率、職刊免另相設保護層 22 1225944 玖、發明說明 等,因此更適宜。
又’半透過型偏光片係可藉由作成以上述反射層使光 反射且透過之半透明反射鏡等之半透過型反射層而得到。 半透過型偏光片通常设於液晶晶胞之裡側,可形成如下述 5類型之液晶顯示裝置等,即,在相對較明亮之環境中使用 時,使發自目視辨認側(顯示側)之入射光反射來顯示圖 像,而在相對較暗之環境下,則使用内藏於半透過型偏光 片之背側之背光等之内藏光源來顯示圖像之類型。亦即, 半透過型偏光片在形成這種在明亮之環境下,可節約背光 10 4之光源使用之能源,而即使在相對較暗之環境下仍可用 内藏光源來使用之類型之液晶顯示裝置等上是有用的。
接著就偏光片上更積層有相位差片所形成之橢圓偏光 片或圓偏光片說明之。在將直線偏光改變為橢圓偏光或圓 偏光,或將橢圓偏光或圓偏光改變為直線偏光,或改變直 15線偏光之偏光方向時,可使用相位差片等。特別是將直線 偏光改變為圓偏光或將圓偏光改變為直線偏光之相位差片 ,可使用所謂1/4波長片(又稱;片)。而1/2波長片( 又稱;1/2纟長片)通常用於改變直線偏光之偏光方向之情 況。 2〇 擴圓偏光片可補償超扭轉向列(STN )型液晶顯示裝 置之液晶層因複折射產生之著色(青或黃),可有效地用於 前述無著色之黑白顯示之情況等。更,控制三次元折射率 者由於亦可補償從斜方向看液晶顯示裝置之圖像時產生之 著色,故更適宜。圓偏光片在例如用以調整圖像變為彩色 23 1225944 玖、發明說明 顯不之反射型液晶顯示裝置之圖像之色調時彳艮有效,且也 具有防止反射之機能。 相位差片可舉例如將高分子素材單軸或雙軸延伸處理 而成之複折射性膜、液晶聚合物之定向膜、及以膜支持液 5晶聚合物之定向層者。相位差片之厚度也沒有特別限制, 一般為20〜150# m。 作為高分子素材者可舉例如:聚乙烯醇、聚乙烯醇縮 丁醛、聚甲基乙烯醚、聚羥乙基乙基丙烯酸酯、羥乙基纖 維素、羥丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚烯丙酯 1〇 、聚颯、聚乙烯對苯二甲酸、聚乙烯萘二甲酸酯、聚醚砜 、聚苯硫、聚苯氧、烯丙基颯、聚乙烯醇、聚醯胺、聚醯 亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素系聚合物、去曱莰系樹 月曰或這些之一元系、三元系各種共聚合物、接枝共聚合物 、摻合物等。這些高分子素材係藉延伸等成為定向物(延 15 伸膜)。 液晶性聚合物可舉例如業已將賦予液晶定向性之共轭 性之直線狀原子團(液晶原(mes〇gen))導入聚合物之主 鏈或側鏈之主鏈型或側鏈型之各種聚合物等。主鏈型之液 晶型聚合物之具體例可舉藉賦予折射性之隔離部來結合液 20晶原基之構造者,例如向列定向性之聚酯系液晶性聚合物 、盤狀液晶聚合物或螺旋狀聚合物等。側鏈型之液晶性聚 合物之具體例可舉:具有以聚多矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚 甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯為主鏈骨架、且以隔著由共軛 1±原子團形成之隔離部而具有由向列定向賦予性之對位取 24 1225944 玖、發明說明 代環狀化合物單位所形成之液晶原部等者來作為侧鏈。這 些液晶性聚合物係藉由將液晶性聚合物溶液在例如將形成 於玻璃板上之聚酿胺或聚乙烯醇等薄膜表面進行過摩擦處 理者、對氧化石夕進行過菱形蒸鑛者等定向處理面上展開並 5 加以熱處理來進行。 相位差片可以是具有因應各種使用目的之適當相位差 者,所明各種使用目的係例如以補償因各種波長片或液晶 層之雙折射造成之著色或可視角等為目的,而相位差片也 可以疋積層2種以上的相位差片以抑制相位差等之光學特 10 性者。 又,上述橢圓偏光片或反射型橢圓偏光片係將偏光片 或反射型偏光片與相位差片以適當之組合積層者。該擴圓 偏光月等可藉由將(反射型)偏光片與相位差片在液晶顯 不裝置之製造過程中依序個別積層使這些片組合之狀態來 15形成,不過若為如前所述之事先作成橢圓偏光片等之光學 膜者,則具有品質之安定性或積層作業性等優異、可提升 液晶顯示裝置等之製造效率等優點。 可視角補償膜係用以擴大可視角,可在當從不是垂直 於晝面、而是從稍微傾斜之方向來看液晶顯示裝置之圖像 2〇時,使畫面看起來較為鮮明。這種可視角補償相位差片係 由在例如相位差片、或液晶聚合物等定向膜、或透明基材 上支持液晶聚合物等之定向層者等所形成。一般之相位差 片係使用在其面方向具有單軸延伸之雙折射之聚合物膜, 相對的,作為可視角補償膜來使用之相位差片係使用於面 25 1225944 玖、發明說明 方向具有雙軸延伸之雙折射之聚合物膜、或具有可控制於 面方向單軸延伸且厚度方向亦延伸之厚度方向之折射率之 雙折射率之聚合物、或如傾斜定向膜之二方向延伸膜等。 作為傾斜定向膜可舉例如:使熱收縮膜接著於聚合物膜並 5加熱產生收縮力,在該收縮力之作用下將聚合物膜延伸處 理或/及收縮處理者、或使液晶聚合物傾斜定向者等。相位 差片之素材原料聚合物係使用與先前在相位差片中說明之 聚合物相同者,可使用對於達到:防止基於因液晶晶胞之 相位差之目視辨認角之變化所產生之著色等、或好的目視 10辨認之可視角之擴大等目的上適宜者。 又’基於達成好的目視辨認可視角這點等,可適宜地 使用以二乙醯纖維素膜支持液晶聚合物之定向層;特別是 盤狀液晶聚合物之傾斜定向層所形成之光學性各向異性層 之光學補償相位片。 15 業已貼合偏光片與亮度提升膜之偏光片,通常係設於 液晶晶胞之裡側來使用。亮度提升膜係具有當液晶顯示裝 置等之背光或自然光藉由從裡側之反射等而入射時,即反 射預定偏光軸之直線偏光或預定方向之圓偏光,且使其他 光透過這樣的特性者。而將亮度提升膜與偏光片積層之偏 20 光片,則使來自背光等光源之光入射而得到預定偏光狀態 之透過光,同時使預定偏光狀態以外之光不透過地反射, 使在該亮度提升膜面反射之光經由設於更後侧之反射層等 而反轉,再入射到亮度提升膜上,使其局部或全部透過作 為預定偏光狀態之光以增加透過亮度提升膜之光量,同時 26 1225944 玖、發明說明 供給難以為偏光鏡所吸收之偏光以增大可利用於液晶顯示 圖像顯示等之光量,藉此使亮度提升者。亦即,不利用亮 度^升膜、並以背光專使光從液晶晶胞裡側通過偏光鏡入 射時’具有與偏光鏡之偏光軸不一致之偏光方向之光幾乎 5 全被偏光鏡吸收,而不會透過偏光鏡。亦即,雖然會依據 所使用之偏光鏡之特性而不同,不過大約50%的光會被偏 光鏡所吸收,這種狀態下,可為液晶圖像顯示等所利用之 光量減少,畫面會變暗。亮度提升膜可反覆使具有被偏光 鏡吸收之偏光方向之光不入射偏光鏡而被亮度提升膜暫時 10反射,更經由設於其後側之反射層等使其反轉再入射到亮 度提升膜這個動作,由於其僅使該兩者間反射、反轉之光 之偏光方向變成可通過偏光鏡之偏光方向之偏光透過亮度 提升膜供給於偏光鏡,因此可使背光等光有效率地利用於 液晶顯示裝置之圖像等之顯示,使晝面變亮。 15 亦可於壳度提升膜與上述反射層等之間設置擴散片。 藉冗度提升膜反射之偏光狀態之光雖朝向上述反射層等, 不過業經設置之擴散片能使通過之光均句擴散同時消除偏 光狀態,而變成非偏光狀態。亦即,擴散片係使偏光恢復 為原來的自然光狀態。該非偏光狀態、亦即自然光狀態之 20光會反覆進行朝向反射層等,經由反射層等反射,再次通 過擴散片再入射到亮度提升膜之過程。藉由如此於亮度提 升膜與上述反射層等之間設置使偏光恢復成自然光狀態之 擴政片,可維持顯示畫面之明亮,同時減少顯示晝面之亮 度不均,提供均-明亮的畫面。藉由設置該擴散片,初次 27 1225944 玖、發明說明 之入射光可適當地增加反射之重覆次數、與擴散片之擴散 機能相輔相成,故可提供均句之明亮之顯示晝面。 作為前述亮度提升膜係可使用適宜之例如:如介電體 之多層薄膜或折射率各向異性不同之薄膜之多層積層體, 5 透過預定偏光軸之直線偏光而顯示其他光反射之特性者, 或如於薄膜基材上支持螺旋狀液晶聚合物之定向膜或該定 向液晶層者,反射左旋或右旋任一側之圓偏光而顯示其他 光透過之特性者等。 因此’使前述之預定偏光軸之直線偏光透過之類型之 10亮度提升膜中,藉由使該透過光於該狀態下使偏光軸聚集 於偏光片上入射,可抑制因偏光片產生之吸收損失,同時 使其有效率地透過。另一方面,將如螺旋狀液晶層之投下 圓偏光之類型之亮度提升膜中,可於該狀態下使之入射於 偏光鏡,但基於抑制吸收損失這點,宜使該圓偏光經由相 15位差片而直線偏光化並入射到偏光片。又,藉由使用1/4 波長片作為該相位差片,可將圓偏光變換為直線偏光。 在可見光域等之廣波長範圍中作為1/4波長片來發揮 功能之相位差片,可藉由例如將相對於波長55〇nm之淡色 光作為1/4波長片發揮功能之相位差層與顯示其他相位差 20特性之相位差層;例如作為1/2波長片發揮功能之相位差 層重疊之方式等得到。因此,配置於偏光片與亮度提升膜 之間之相位差片亦可以是由〗層或2層以上之相位差層形 成者。 又’有關螺旋狀液晶層,藉由作成反射波長不同者之 28 1225944 玖、發明說明 組合且作成重疊2層或3層以上之配置構造,可在可見光 領域等之廣波長範圍中得到反射圓偏光者,並可據之而得 到廣波長範圍之透過圓偏光。 又,偏光片亦可如上述之偏光分離型偏光片,由積層 5偏光月與2層或3層以上之光學層者形成。因此,亦可為 組合上述反射型偏光片或半透過型偏光片與相位差片之反 射型橢圓偏光片或半透過型橢圓偏光月等。 於偏光片上積層前述光學層之光學膜可藉由在液晶顯 示裝置等之製造過程中依序個別積層之方式來形成,不過 10事先積層作成光學膜者則在品質之安定性或裝配作業等方 面很優異,具有可使液晶顯示裝置等之製造步驟提升之優 點。積層可使用黏著層等之適宜接著方法。在接著前述偏 光片與其他光學層之際,這些膜的光學軸可因應作為目的 之相位差特性等而作成適宜之配置角度。 於則述光學膜1上形成藉聚胺化合物形成之固定層2 之方法並無特別限制,可舉例如於光學膜1上塗覆聚胺化 合物溶液或其分散液並使之乾燥之方法等。形成固定層2 時,可於光學膜i上施以活性化處理。活性化處理可採用 各種方法,例如可採用電暈處理、低壓uv處理、電聚處 理等。活性化處理係在光學膜U聚婦煙系樹脂、去甲获 系树月曰a夺尤其有效,使各薄膜與水之接觸角在⑼度以下、 '、在75度以下時,可抑制塗覆固定劑時之彈性。固定層 (乾知膜厚)之厚度並無特別限制,不過如前所述使其在 5〜50〇nm以上為佳。 29 1225944 玖、發明說明 :二反應層5之厚度(a)相對於固定層2 ( )之全體厚度⑷之比例(a/A)宜在5〇%以上。混合反 f 5之厚度U)幾乎取決㈣成固定層2之聚胺化合物 與形成黏著㈣3之黏著劑各自之分子移動之難易度與兩 "牙力目此,可g應聚胺化合物及黏著劑之種類來 調整固定層2之厚度,藉此可將混合反應層5之厚度(a) 調整成前述範圍。
黏者劑層3之形成係藉於前述固定層2上積層來進行 。形成方法並無特別限制,可舉於固定層2上塗覆黏著劑 10 (4液)並使之乾燥之方法、藉由設於黏著劑層3之脫模 膜4轉印之方法等。黏著劑層3 (乾燥膜厚)並無特別限 定’以10〜40 // m為佳。
脫模膜4之構成材料可舉紙、聚乙稀、聚丙婦、聚乙 烯對苯二甲酸等之合成樹脂薄膜、橡膠薄片、紙、布、不 15織布、網、發泡薄片或金屬薄片、這些薄片的積層體等之 適宜之薄片。為了提高從黏著劑層3之剝離性,脫模膜4 之表面可因應需要而施以矽氧處理、長鏈烷基處理、氟元 素處理等之剝離處理。 又,本發明之黏著型光學膜之光學膜或黏著劑層等各 20層上亦可藉由以例如柳酸酯系化合物或苯酚系化合物、苯 并三氮唑系化合物或氰基丙烯酸系化合物、鎳錯鹽系化合 物等之紫外線吸收劑來處理之方式等方式,使其具有紫外 線吸收能等。 本發明之黏著型光學膜可適當地使用在液晶顯示裝置 30 1225944 玖、發明說明 3各種圖像顯示裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可以 7知為基準來進行。亦即’液晶顯示裝置一般是藉由將液 晶晶胞與黏著型光學膜及因應需要之照明系統等之構成零 件適當地組合並裝入驅動電路等來形成,本發明中,除了 吏^藉本發明形成之光學膜這點外,並無特別限定,可依 據習知之方法。有關液晶晶胞也可使用例如TN型、STN 型或7Γ型等任意類型者。 又,亦可形成在液晶晶胞之單側或兩側配置黏著型光 予膜之液日日顯裝置、或於照明系統中使用後照燈或反射 1〇 =者等之適宜之液晶顯示裝置。這時,藉本發明形成之光 予膜可。又置於液晶晶胞之單側或兩側。於兩側設置光學膜 時,這些光學膜可以相同,也可以不同。更,在液晶顯示 裝置形成之際,可於適宜之位置將例如擴散月、抗眩光層 反射防止膜、保護片、稜鏡陣列、透鏡陣列薄膜、光擴 15散片、背光等適宜之零件配置i層或2層以上。 接著說明有關有機電致發光裝置(有機EL顯示裝置) 般而a,有機EL顯示裝置係於透明基板上依序積層 透明電極、有機發光層及金屬電極而形成發光體(有機電 致發光㊆光體)。在此,有機發光層是各種有機薄膜之積層 20體[去口的有例如由三苯胺衍生物等形成之正電洞注入層 與由蒽等之螢光性有機固體所形成之發光層之積層體, 或這種發光層與紫蘇烯衍生物等形成之電子注入層之積層 體,甚或這些之正電洞注入層、發光層及電子注入層之積 層體等具各種組合之構成。 31 1225944 玖、發明說明 有機EL顯示裝置是以下述原理發光,亦即,藉由外 加電壓於透明電極與金屬電極,使正電洞與電子注入有機 發光層,再藉這些正電洞與電子之再結合所產生之能源激 發螢光物質,被激發之螢光物質恢復基態時會將光放射出 5來而發光。所謂途中之再結合機構與一般二極體相同,由 此可預測到,電流與發光強度相對於外加電壓顯示出伴隨 整流性之強烈非線性。 在有機EL顯示裝置中,為了取出在有機發光層之發 光,必須至少一側之電極為透明,通常是使用氧化銦錫( 10 ITO)等透明導電體所形成之透明電極作為陽極。另一方 面,為了要使電子注入容易進行,提高發光效率,於陰極 使用工作函數小的物質是很重要的,通常是使用Mg_Ag、 Al-Li等金屬電極。 在這種構成之有機EL顯示裝置中,有機發光層係由 15 厚度l〇nm之極薄之膜形成。因此,有機發光層也與透明 電極相同地可使光完全透過。結果,非發光時從透明基板 表面入射、透過透明電極與有機發光層而以金屬電極反射 之光’會再次往透明基板表面側透出,因此從外部目視辨 認時,有機EL顯示裝置之顯示面看起來有如鏡面。 20 在含有藉施加電壓來發光之有機發光層之表面側具有 透明電極、同時有機發光層之裡面側具有金屬電極之有機 致電發光發光體之有機EL顯示裝置中,可於透明電極之 表面側設置偏光片,同時於透明電極與偏光片之間設置相 位差片。 32 1225944 坎、發明說明 相位差片及偏光片由於具有使從外部入射並以金屬電 極反射之光偏光之作用,因此藉該偏光作用可產生使金屬 電極之鏡面無法從外部目視辨認之效果。尤其是以1/4波 長片構成相位差片,且將偏光片與相位差片之偏光方向形 5成之角調整為冗/4,即可完全遮蔽金屬電極之鏡面。 亦即’入射到該有機EL顯示裝置之外部光,因偏光 片而僅有直線偏光成分透過。該直線偏光一般藉相位差片 成為橢圓偏光,不過特別是當相位差片為1/4波長片、且 偏光片與相位差片之偏光方向形成之角為冗/4時會變成圓 1 〇 偏光。 該圓偏光透過透明基板、透明電極、有機薄膜而以金 屬電極反射,再透過有機薄膜、透明電極、透明基板,於 相位差片再次變成直線偏光ί。然後,由於該直線偏光與偏 光片之偏光方向垂直,故無法透過偏光片。結果,可完全 15 遮蔽金屬電極之鏡面。 實施例 以下藉實施例具體說明本發明,但本發明並不受限於 這些實施例。又,各例中之份及%皆為重量基準。 實施例1 20 (光學膜之製作) 將厚80//m之聚乙烯醇膜在4(rc之碘水溶液中延伸5 倍後,以50°C使其乾燥4分鐘而得到偏光鏡。於該偏光鏡 之兩側使用聚乙烯醇系接著劑來接著三乙醯基纖維素膜, 而得到偏光片。 33 1225944 玖、發明說明 (固定層之形成) 使用株式會社日本觸媒製之伊波命p1〇〇〇 (工求S ^ P1000)作為聚乙亞胺,並以水:異丙醇=1 ·· 3 (容量比) 之混合溶劑將之稀釋、調製成固體成分〇·2%之溶液。使用 5線錠#5將該溶液塗布於前述偏光片上後,使揮發份蒸發。 糟洛發後之5^乙亞胺所形成之固定層厚度為25nm。 (黏著劑層之形成) 使用含有以丁基丙烯酸酯:丙烯酸:2-羥基乙基丙烯 酸酯=100 : 5 : 0.1 (重量比)之共聚合物形成之重量平均 10分子ϊ 200萬之丙烯酸系聚合物之溶液(固體成分3〇%) 作為原料聚合物。且以相對於聚合物固體成分1〇()份,於 上述丙烯酸系聚合物溶液中添加異氫酸酯系多官能性化合 物之日本聚胺甲酸酯社製科羅内特L ( a 口氺一卜乙)3 份、添加劑(KBM403,信越矽利康(信越シy 口一 ^ )製 15 ) 〇·5份、及用以調整黏度之溶劑(甲苯),調製黏著劑溶 液(固體成分10%)。將該黏著劑溶液塗布於脫模膜(聚乙 烯對苯二甲酸酯基材··戴亞或魯MRF38,三菱化學聚酯製( 夕彳十氺彳少MRF3 8,三菱化學求y工只亍少))上後, 以熱風循環式烘箱乾燥,使其乾燥後之厚度為25#m,而 20 形成黏著劑層。 (黏著型光學膜之製作) 在上述形成於偏光片表面之固定層上,黏貼形成黏著 劑層之脫模膜,製作黏著型偏光片。 實施例2 34 1225944 玖、發明說明 (光學膜之製作) 將聚碳酸酯(PC)之]、边y ^ 、 、、 J碎片(仏1^)溶解於氯乙烯之 溶液均勻地塑製於平滑之 US板上,並在溶劑環境中乾燥 使其表面不凝結。充分乾燥後,從sus板上剝下PC,之 後料風循環式烘箱乾燥,得到K無延伸膜(、m)。
將該薄膜一面加熱一面延伸A 、呷馮1.2倍,施以電暈處理,得 到pc相位差片(與水之接觸角乃度)。 (黏著型光學膜之製作) 在實施例1中,除使用上述相位差片作為光學膜外, 10 與實施例1相同做法形成固定層,又,貼合形成與實施例 1相同黏著劑層之脫模膜,製作黏著型相位差片。 實施例3 (光學膜) 使用在用進行雙軸延伸之去甲莰系樹脂(JSR社製,阿 15頓(了一卜^))之相位差片(100# m)上施以電暈處理 者(與水之接觸角71度)作為光學膜。 (固定層之形成) 使用株式會社日本觸媒製之伊波命p丨〇〇〇 (工求ζ ^ Ρ1000)作為聚乙亞胺,並以水··異丙醇=2 ·· 1 (容量比) 20之混合溶劑將之稀釋、調製成固體成分1%之溶液。使用線 銳#5將該溶液塗布於前述相位差板上後,使揮發份蒸發。 藉蒸發後之聚乙亞胺所形成之固定層厚度為15〇ηιη。 (黏著型光學膜之製作) 在上述形成於相位差片之表面之固定層上,黏貼形成 35 1225944 玖、發明說明 與實施例1相同之黏著劑層之脫模膜,製作黏著型相位差 片。 實施例4 (光學膜) 5 使用與實施例1相同的偏光片。 (固定層之形成) 使用株式會社日本觸媒製之伊波命SP200 (工求 SP200 )作為聚乙亞胺,並以水:異丙醇=1 : 3 (容量比) 之混合溶劑將之稀釋、調製成固體成分1%之溶液。使用線 10錠#5將該溶液塗布於前述偏光片上後,使揮發份蒸發。藉 蒸發後之聚乙亞胺所形成之固定層厚度為1〇〇nm。 (黏著劑層之形成) 使用含有以丁基丙婦酸酯:丙稀酸:2-經基乙基丙稀 酸酯=100 : 5 : 0.1 (重量比)之共聚合物形成之重量平均 ^5刀子置2〇〇萬之丙稀酸系聚合物之溶液(固體成分%% ) 作為原料聚合物。且以相對於聚合物固體成分1〇〇份,於 上述丙烯酸系聚合物溶液中添加異氫酸酯系多官能性化合 物之日本聚胺甲酸酯社製科羅内特L ( η 口氺一卜L ) 4 份、添加劑(KBM403,信越矽利康(信越シy 3 一 ^ )製 20 ) 〇·5伤、及用以調整黏度之溶劑(乙酸乙酯),調製黏著 劑溶液(固體成分12%)。將該黏著劑溶液塗布於脫模膜( 聚乙烯對苯二甲酸酯基材··戴亞或魯MRF38,三菱化學聚酯 製(夕、V十木彳少MRF38,三菱化學求口工只亍少))上 後,以熱風循環式烘箱乾燥,使其乾燥後之厚度為25#爪 36 1225944 玖、發明說明 ,而形成黏著劑層。 (黏著型光學膜之製作) 、 在上述形成於偏光片表面之固定層上,黏貼形成上述 · 黏著劑層之脫模膜,製作黏著型偏光片。 5 實施例5 (光學膜) > 使用在用進行雙軸延伸之去甲莰系樹脂(日本七才^ ; 才製’仓才y 了)之相位差片(8〇 # m)上施以電暈處理者 ,· (與水之接觸角70度)作為光學膜。 10 (黏著型光學膜之製作) 在實施例3中,除使用上述相位差片作為光學膜外, 與實施例3相同做法形成固定層,又,貼合形成與實施例 1同樣黏著劑層之脫模膜,製作黏著型相位差片。 貫施例6 15 (光學膜) 使用與實施例1相同的偏光片。 修 (固定層之形成) 使用聚烯丙胺(求1; 了 US (日東紡績(株) 製’ PAA-10C)作為烯丙胺系化合物,將之以水/乙醇(重 ; 20量比=叫稀釋調製成固體成分1%之溶液。使用線鍵#5 . 將該溶液塗布於前述偏光片上後,使揮發份蒸發。蒸發後 之固定層之厚度為l00nm。 (黏著劑之調製) 將丁基丙埽酸醋88份、曱基丙烯酸醋12份、丙烯酸 37 1225944 玖、發明說明 3份、2-羥基乙基丙烯酸酯〇1份、偶氮二異丁腈〇·3份及 乙酸乙酯150份一面攪拌一面在60°C左右進行反應6小時 ’得到重量平均分子量165萬之丙烯酸系聚合物溶液。且 以相對於聚合物固體成分1〇〇份,於上述丙烯酸系聚合物 5溶液中添加異氫酸酯系多官能性化合物之日本聚胺曱酸酯 社製科羅内特L ( η 口彳一卜L )丨份,調製黏著劑溶液 (固體成分10〇/〇)。將該黏著劑溶液塗布於脫模膜(聚乙烯 對苯二甲酸酯基材:戴亞或魯MRF38,三菱化學聚酯製(〆 彳亇本彳少MRF38,三菱化學求y工只亍少))上後,以 1〇熱風循環式烘箱乾燥,使其乾燥後之厚度為25//m,而形 成黏著劑層。 (黏著型光學膜之製作) 在上述形成於偏光片之表面之固定層上,黏貼形成上 述黏著劑層之脫模膜,製作黏著型偏光片。 15 實施例7 (光學膜) 使用與實施例1相同的偏光片。 (黏著型光學膜之製作) 在實施例6中,除使用上述相位差片作為光學膜外, 20與實施例6相同做法形成固定層,又,貼合形成與實施例 6同樣黏著之脫模膜,製作黏著型相位差片。 參考例1 (光學膜) 使用與實施例1相同的偏光片。
38 1225944 玖、發明說明 (黏著劑層之形成) 錢 使用含有以丁基丙烯酸酯:2-經基乙基丙烯酸酯=100 • 〇·5 (重量比)之共聚合物形成之重量平均分子量14〇萬 之丙烯酸系聚合物之溶液(固體成分3〇%)作為原料聚合 · 5物。並相對於聚合物固體成分1〇〇份,於上述丙烯酸系聚 · 合物溶液中添加異氫酸酯系多官能性化合物之日本聚胺甲 · 酸酯社製科羅内特L ( 3 口氺一卜L ) 5份、添加劑( ' KBM4〇3,信越矽利康(信越シリ口一^)製)〇 5份、及用 ,馨 以調整黏度之溶劑(甲苯),調製黏著劑溶液(固體成分 ^ . 10 1〇%)。將該黏著劑溶液塗布於脫模膜(聚乙烯對苯二甲酸 酯基材:戴亞或魯MRF38,三菱化學聚酯製(夕、、彳十示彳少 MRF38,三菱化學求上後,以熱風循環式烘 箱乾燥,使其乾燥後之厚度為25//m,而形成黏著劑層。 (黏著型光學膜之製作) 15 與實施例1相同做法在偏光片表面上形成固定層後, 於该固定層上黏貼形成上述黏著劑層之脫模膜,製作黏著 · 型偏光片。 參考例2 (光學膜) 2〇 使用與實施例3相同的相位差片。 (固定層之形成) 在實施例3中,調製稀釋成固體成分1〇%之聚乙亞胺 溶液,並使用該溶液在上述相位差片上形成厚度約1〇〇〇nm 之固定層,此外與實施例3相同做法,製作黏著型相位差 39 1225944 玖、發明說明 片。 比較例1 5 在實施例1中,不 1相同做法,製作黏著型 比較例2 進行固定層之形成 偏光片。 此外與實施例 (光學膜) 使用與實施例1相同的偏光片。 (固定層之形成) 使用株式會社日本觸媒製之波利免脫NK380 (求W 10〆卜SK380 )溶液作為聚乙亞胺系樹脂(聚㈣酸醋之乙 亞胺加成物),再使用線㈣將該溶液塗布於前述偏光片 上後,使揮發份蒸發。蒸發後之藉聚乙亞胺系樹脂所形成 之固定層之厚度為100nm。 比較例3 15 在實施例3中,不進行固定層之形成,此外與實施例 3相同做法,製作黏著型相位差片。 就上述實施例及比較例中所得之黏著型光學膜進行以 下評價。評價結果顯示於第1表。 (混合反應層) )〇 # w 糟釕酸將黏著型光學膜染色,之後,以TEM超薄膜切 片法進行截面觀察,確認固定層被染色之範圍(混合反應 層),並算出混合反應層之厚度(a)對固定層之厚度(A )之比例:(a/A) X 100 (%)。 (黏著劑缺口 : 1)
40 1225944 玖、發明說明 以苟木生刃型將藉上述方法所製作之黏著型光學膜打 穿25麵X 150mm之大小,並使其切斷端部(25麵寬側 )連續接觸玻璃板(科寧古社製,科寧纟ι737 (;;ι 一二乂 夕社製,〕—乃、1737)) 2〇次。之後,以目視碟認各個 黏著型光學膜之前述接觸端部,並用以下基準來評價。並 求得黏著劑缺口之面積。 〇 無深150 β m以上之黏著劑缺口。 Δ 無深300//m以上之黏著劑缺口。 X 有深300//m以上之黏著劑缺口。 10 (黏著劑缺口 : 2 ) 將藉上述所製作之黏著型光學膜切斷成 15〇mm之大小50片,並將這些片重疊作成束。於該束之 側面以4.9N/25mm之壓力貼合日東電工(株)製Ν〇·29膠 帶,然後於90方向以剝離速度1〇m/分之速度將膠帶剝離 15。重複10次該㈣作業。然後,以目測確認各個黏著型光 學膜之端部,確認產生寬度lmm以上、深度〇3醜以上 φ 之黏著劑缺口之黏著型光學膜之張數(缺口張數)。 (黏著劑層與光學膜基材之密著性) 將藉上述製作之黏著型光學膜切斷為25mmx 150mm ·· 20之大小,並使其黏著劑層面與50/z m厚之聚乙烯對苯二甲 \ 酸酯表面蒸鍍有銦_氧化錫之蒸鍍膜之蒸鍍面接觸並貼合, 之後,放置於23°C/60%RH之環境下20分鐘以上。之後, 以手將聚乙烯對苯二f酸酯膜之端部剝離,確認黏著劑附 著於聚乙烯對苯二甲酸酯膜側,再使用島津製作所製之張 41 1225944 玖、發明說明 力試驗機AG-1,測定(25°C )於180。方向以3〇〇mm/分 之速度剝離時之應力(N/25mm)。 (剝離帶電量) 於藉上述製作之黏著型光學膜表面上,貼合表面保護 5 膜’該表面保護膜係在厚38//m之聚乙稀對苯二甲酸醋基 材上塗布有20/zm厚之丙烯酸系黏著劑者。將該樣本切成 70mmx l〇〇mm之薄長方形狀,將黏著型光學膜隔著黏著 劑層貼於玻璃。在23°C/50%R.H.下,將表面保護膜於ι8〇 。方向以5m/分之一定速度剝離。以春曰電機(株)製數 10位靜電電位測定器KSD-0103測定剝離後之光學膜表面之 帶電量(kV)。又,表面保護膜對各黏著型光學膜之剝離 力為0.01〜1N。 1225944 玫 明 說 明 發 表 § t ul§ ?!砌银 S.0
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25«iJ 43 1225944 玖、發明說明 表中 株式會社日本觸媒製之伊波命Pl〇〇〇 (工求 S y P1000 ),*2 ·扯 4 人、 •株式會社日本觸媒製之伊波命 - SP200 (工求》SP2〇〇),*3:聚稀丙胺(求以口心 · 、' >)(曰東紡績(株)製,PAA_1〇c),*4:株式會社曰 5本觸媒製之波利免特(求y y卜)置38〇。 產業上之可利用性 本發明可作為適用於偏光片、相位差片、光學補償膜 二 、>梵度提昇膜等、甚或由這些積層而成之光學膜之黏著型 •‘麵 光學膜,進而可適當地適用於液晶顯示裝置、有機顯 · 10示裝置、PDP等圖像顯示裝置。 【圖式簡單說明】 第1圖是本發明之黏著型光學膜之截面圖。 、 第2圖是本發明之黏著型光學膜之截面擴大圖。 【囷式之主要元件代表符號表】 1…光學膜 2···固定層 3…黏著劑層 4···脫模膜 5…混合反應層 a…混合反應層5之厚度 _ A…固定層2之全體厚度 44

Claims (1)

1225944 拾、申請專利範圍 i —種黏著型光學膜,係在光學膜之至少一側之面上積 層有黏著劑層I,其肖徵在於:t述黏著劑層係隔著 藉聚胺化合物形成之固定層積層者。 2·如申請專利範圍第丨項之黏著型光學膜,其中該固定 5 層之厚度為5〜500nm。
3.如申請專利範圍第丨項之黏著型光學膜,其中該聚胺 化合物係聚乙亞胺。 4·如申請專利範圍第1項之黏著型光學膜,其中該聚胺 化合物係聚烯丙胺系化合物。 10 5· ”請專利範圍第"員之黏著型光學膜,其中前述黏 著劑層係藉由丙烯酸系黏著劑形成。 6.如申請專利範圍帛卜項之黏著型光學膜,#中形成前 述黏著劑層之黏著劑之原料聚合物含有可與胺基反應 之官能基。 15 7."請專利範圍第6項之黏著型光學膜,其中形成前 述黏著劑層之黏著劑之原料聚合物所含有且可與胺基 反應之官能基為羧基。 8.如申請專利範圍第6項之黏著型光學膜,其中該隔著 瓤 藉聚胺化合物形成之固定層積層之黏著劑層係黏著劑 20 層中之黏著劑與固定層甲之聚胺化合物在固定層中形 成混合反應層,而該混合反應層之厚度在固定層全體 之厚度之50%以上。 9.如申請專利範圍第】項之黏著型光學膜,其中積層固 定層之光學膜表面之素材為聚碳酸醋或去甲获系樹脂 45 1225944 拾、申請專利範圍 〇 10. 如申請專利範圍第1項之黏著型光學膜,係於光學膜 上施行活性化處理者。 11. 一種圖像顯示裝置,係至少使用1張申請專利範圍第 5 1〜10項中任一項之黏著型光學膜者。 46
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