KR100861901B1 - 대전 방지성 광학 필름, 대전 방지성 점착형 광학 필름,그들의 제조 방법 및 화상 표시 장치 - Google Patents

대전 방지성 광학 필름, 대전 방지성 점착형 광학 필름,그들의 제조 방법 및 화상 표시 장치 Download PDF

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아키라 오오타니
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

광학 필름의 적어도 한쪽 면에 대전 방지층이 적층되어 있는 대전 방지성 광학 필름으로서, 대전 방지 효과가 우수하고, 또 광투과율이 높은 것을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또 상기 효과에 추가하여 점착제 결락이 잘 일어나지 않고, 리워크성이 양호한 대전 방지성 점착형 광학 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 대전 방지성 광학 필름은, 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 대전 방지층이 적층되어 있고, 상기 대전 방지층이 적층되어 있는 측의 광학 필름 표면에 러빙 처리가 실시되어 있으며, 또한 상기 대전 방지층 중의 도전성 폴리머가 배향하고 있는 것을 특징으로 한다.

Description

대전 방지성 광학 필름, 대전 방지성 점착형 광학 필름, 그들의 제조 방법 및 화상 표시 장치{CHARGE-PREVENTING OPTICAL FILM, CHARGE-PREVENTING ADHESIVE OPTICAL FILM, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}
본 발명은, 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 대전 방지층이 적층되어 있는 대전 방지성 광학 필름에 관한 것이다. 또한 본 발명은, 상기 대전 방지성 광학 필름의 대전 방지층에 점착제층이 적층되어 있는 대전 방지성 점착형 광학 필름에 관한 것이다. 나아가서는 상기 대전 방지성 광학 필름, 대전 방지성 점착형 광학 필름을 사용한 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, PDP 등의 화상 표시 장치에 관한 것이다. 상기 광학 필름으로는, 편광판, 위상차판, 광학 보상 필름, 휘도 향상 필름, 추가로는 이들이 적층되어 있는 것 등을 들 수 있다.
액정 디스플레이 등은, 그 화상 형성 방식으로부터 액정 셀의 양측에 편광 소자를 배치하는 것이 반드시 필요하고, 일반적으로는 편광판이 부착되어 있다. 또한 액정 패널에는 편광판 외에, 디스플레이의 표시 품위를 향상시키기 위해서 여러 가지 광학 소자가 사용되게 되었다. 예를 들어, 착색 방지로서의 위상차판, 액정 디스플레이의 시야각을 개선하기 위한 시야각 확대 필름, 나아가서는 디스플레이의 콘트라스트를 높이기 위한 휘도 향상 필름 등이 사용된다. 이들 필 름을 총칭하여 광학 필름이라고 부른다.
이들 광학 필름은, 통상, 소비자에게 도달되기 전까지는 수송이나 제조 공정에 있어서 광학 필름의 표면에 흠집이나 오염이 생기지 않도록, 그 표면에 표면 보호 필름이 부착되어 있다. 당해 표면 보호 필름은, LCD 등에 부착된 후에 박리되거나, 한번 박리한 후에 동일한 또는 별도의 표면 보호 필름을 재차 부착하는 경우도 있다. 그리고, 그 표면 보호 필름을 박리할 때에 정전기가 발생하여, 이 정전기에 의해 LCD 패널 등의 회로가 파괴된다는 문제가 있었다. 또한 LCD 패널 내부의 어레이 소자에 영향을 주고, 그것이 다시 액정의 배향에 영향을 미쳐 불량을 유발하는 문제가 있었다. 또한 표면 보호 필름은 박리할 때뿐만 아니라, 제조 공정이나 소비자의 사용 방법에 따라서도 광학 필름끼리의 마찰에 의해 동일한 문제가 발생한다. 상기 문제를 해결하기 위해서, 편광판 등의 광학 필름에 대전 방지성을 부여하는 것이 제안되어 있다. 예를 들어, 광학 필름의 표면에 대전 방지층을 형성한 대전 방지층 형성 광학 필름, 광학 필름의 편측 또는 양측에 투명 도전층을 형성한 것이 개시되어 있다.
한편, 광학 필름을 액정 셀에 부착할 때에는, 통상 점착제가 사용된다. 또한, 광학 필름과 액정 셀, 또는 광학 필름 사이의 접착은, 통상 광의 손실을 저감하기 위해서, 각각의 재료는 점착제를 사용하여 밀착되어 있다. 이러한 경우에, 광학 필름을 고착시키는 데에 건조 공정을 필요로 하지 않은 것 등의 메리트를 갖는 점에서, 점착제는, 광학 필름의 편측에 미리 점착제층으로서 형성된 점착형 광학 필름이 일반적으로 사용된다.
상기 점착형 광학 필름은, 그 사용에 있어서, 디스플레이 사이즈로 절단된다. 이러한 사용 공정에서의 핸들링시, 점착형 광학 필름의 단부 (절단부) 가 사람이나 장치에 접촉하면, 그 부분에 점착제의 결락이 생기는 경우가 있다. 이러한, 점착제가 결락된 점착형 광학 필름을 액정 셀에 부착하면, 그 결락된 부분은 밀착하지 않기 때문에, 그 부분에서 광이 반사되어 표시 결점이 되는 문제가 있다. 특히 최근에는 디스플레이의 협(狹)프레임화가 진행되어, 상기 단부에서 발생하는 결점에 의해서도 표시 품질이 현저하게 저하된다. 또한, 상기 점착형 광학 필름을 액정 패널에 부착한 후, 이물의 혼입 등의 이유에서 패널로부터 벗겨내는 경우에, 패널측에 점착제가 남는다 (이른바 접착제 잔류 현상) 는 문제가 생기지 않을 것, 즉 양호한 리워크성이 요구된다.
상기 점착형 광학 필름에 관해서도 대전 방지성을 부여하는 것이 제안되어 있다. 예를 들어, 편광판 표면의 방현층에 도전성 입자를 함유시켜서 방현(防眩)층에 대전 방지성을 부여함과 함께, 그 반대면에 점착제층을 형성한 것이 제안되어 있다 (특허 문헌 1). 그러나, 특허 문헌 1 의 방법에서는, 방현층으로서의 특성 유지가 곤란하고, 안정성이 부족하다. 또한 점착형 광학 필름에 대전 방지층을 형성하는 경우, 패널 내부에서 일어나는 전압의 인가로부터 발생하는 액정 셀의 배향 불량을 해소하기 위해서는, 광학 필름과 점착제층 사이에 대전 방지층을 형성하는 것이 바람직하다. 또한 광학 필름과 점착제층 사이에 대전 방지층을 형성한 대전 방지성 점착형 광학 필름에서는 점착제 결락, 접착제 잔류의 문제나 리워크성에 문제가 있었다.
또한 광학 필름에 대전 방지 기능을 부여하는 방법으로서, 점착제층에 도전성 물질을 함유시키는 방법이 제안되어 있다 (특허 문헌 2). 그러나, 특허 문헌 2 의 방법에서는, 점착제층으로서의 특성 유지가 곤란하고, 안정성이 부족하다.
또한, 폴리에틸렌디옥시티오펜계 도전성 고분자, 폴리아닐린계 도전성 고분자, 또는 폴리피롤계 도전성 고분자를 함유하는 도전성 코팅제에 의해 대전 방지막을 형성하는 방법이 제안되어 있다 (특허 문헌 3). 그러나, 상기 도전성 고분자를 사용하여 대전 방지막을 형성한 경우에는, 대전 방지성 광학 필름의 광투과율이 저하된다는 문제가 있었다.
특허 문헌 1: 일본 공개특허공보 평10-239521호
특허 문헌 2: 일본 공개특허공보 2003-294951호
특허 문헌 3: 일본 공개특허공보 2002-179954호
발명의 개시
발명이 해결하고자 하는 과제
본 발명은, 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 대전 방지층이 적층되어 있는 대전 방지성 광학 필름으로서, 대전 방지 효과가 우수하고, 또 광투과율이 높은 것을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또 상기 효과에 추가하여 점착제 결락이 잘 일어나지 않고, 리워크성이 양호한 대전 방지성 점착형 광학 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 나아가서는, 당해 대전 방지형 광학 필름을 사용한 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
과제를 해결하기 위한 수단
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 거듭한 결과, 하기 대전 방지성 광학 필름 및 대전 방지성 점착형 광학 필름을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉 본 발명은, 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 대전 방지층이 적층되어 있는 대전 방지성 광학 필름에 있어서, 대전 방지층이 적층되어 있는 측의 광학 필름 표면에 러빙 처리가 실시되어 있고, 또한 대전 방지층 중의 도전성 폴리머가 배향하고 있는 것을 특징으로 하는 대전 방지성 광학 필름에 관한 것이다.
본 발명자들은, 미리 광학 필름의 표면에 러빙 처리를 실시하고, 러빙 처리를 실시한 광학 필름 상에 적어도 도전성 폴리머를 함유하는 대전 방지층을 형성함으로써, 도전성 폴리머 (및 바인더 성분) 가 일정한 방향으로 배향하고, 그것에 의해 광의 흡수를 효과적으로 억제할 수 있음을 알아내었다.
본 발명의 대전 방지성 광학 필름에 있어서, 상기 광학 필름은 광학 이방성을 가지고 있고, 지상축에 대하여 ±10°이내의 러빙 각도로 러빙 처리가 실시되어 있는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 ±5°이내, 특히 바람직하게는 0°이다. 러빙 각도를 지상축에 대하여 ±10°이내로 함으로써, 광의 흡수를 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 이러한 효과가 얻어지는 이유로는, 광학 필름의 지상축방향으로 러빙 처리를 실시함으로써, 대전 방지층 중의 도전성 폴리머 (및 바인더 성분) 가 지상축과 평행하게 배향되어, 광학 필름을 투과한 광이 도전성 폴리머 (및 바인더 성분) 에 흡수되는 것이 적어지기 때문인 것으로 생각된다.
또한 본 발명은, 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 대전 방지층이 적층되어 있는 대전 방지성 광학 필름에 있어서, 대전 방지층의 표면에 러빙 처리가 실시되어 있고, 또한 대전 방지층 중의 도전성 폴리머가 배향하고 있는 것을 특징으로 하는 대전 방지성 광학 필름에 관한 것이다.
대전 방지층을 형성한 후에 그 표면에 러빙 처리를 실시함으로써 도전성 폴리머 (및 바인더 성분) 의 배향성을 제어할 수 있고, 그것에 의해 광의 흡수를 효과적으로 억제할 수 있다. 그 결과, 광학 필름의 광투과율 저하를 억제할 수 있다.
상기 대전 방지성 광학 필름에 있어서, 도전성 폴리머는 수용성 또는 수분산성의 도전성 폴리머인 것이 바람직하다. 특히, 수용성 또는 수분산성의 도전성 폴리머는, 폴리티오펜계 도전성 폴리머인 것이 바람직하다.
상기 대전 방지성 광학 필름에 있어서, 대전 방지층은 추가로 바인더 성분을 함유하는 것이 바람직하다. 특히, 바인더 성분은, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지 및 아크릴계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다.
또한 본 발명은, 상기 대전 방지성 광학 필름의 대전 방지층 상에 점착제층이 적층되어 있는 대전 방지성 점착형 광학 필름에 관한 것이다.
본 발명자들은, 점착제의 결락 및 액정 패널로부터의 리워크시 접착제 잔류의 주원인이 대전 방지층을 형성한 것으로 인한 광학 필름과 점착제층의 밀착성이 낮은 것에 있다고 생각하여, 특히, 대전 방지층에 수용성 또는 수분산성의 도전성 폴리머 (및 바인더 성분) 를 사용함으로써, 대전 방지층과 점착제층의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 그것에 의해, 대전 방지성 점착형 광학 필름을 취급할 때에 필름 단부의 접촉에 대하여 점착제의 일부 결락이나, 액정 패널로부터의 리워크시에 있어서의 접착제 잔류를 대폭 저감시킬 수 있어, 대전 방지성 점착형 광학 필름의 핸들링성을 향상시킬 수 있다. 또한 대전 방지층은, 광학 필름과 점착제층 사이에 형성되어 있기 때문에, 대전 방지 효과가 좋고, 표면 보호 필름의 박리에 의한 정전기나 광학 필름의 마찰에 의한 정전기의 발생을 억제할 수 있으며, 회로의 파손이나 액정의 배향 불량을 방지할 수 있다. 또한, 광학 필름, 점착제층은 각각의 특성을 유지할 수 있고 안정성도 우수하다.
상기 대전 방지성 점착형 광학 필름에 있어서, 점착제층이 아크릴계 점착제에 의해 형성되어 있는 것이 바람직하다.
또한 본 발명은, 상기 대전 방지성 광학 필름을 제조하는 방법으로서, 대전 방지층을 형성하는 측의 광학 필름 표면에 러빙 처리를 실시하는 공정, 및 러빙 처리를 실시한 광학 필름의 표면에 도전성 폴리머를 함유하는 도포액을 도포하고, 건조시켜 대전 방지층을 형성하는 공정을 포함하는 대전 방지성 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
또한 본 발명은, 상기 대전 방지성 광학 필름을 제조하는 방법으로서, 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 도전성 폴리머를 함유하는 도포액을 도포하고, 건조시켜 대전 방지층을 형성하는 공정, 및 그 대전 방지층의 표면에 러빙 처리를 실시하는 공정을 포함하는 대전 방지성 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
또한 본 발명은, 상기 대전 방지성 점착형 광학 필름을 제조하는 방법으로서, 대전 방지층을 형성하는 측의 광학 필름 표면에 러빙 처리를 실시하는 공정, 러빙 처리를 실시한 광학 필름의 표면에 도전성 폴리머를 함유하는 도포액을 도포하고, 건조시켜 대전 방지층을 형성하는 공정, 및 그 대전 방지층 상에 점착제층을 형성하는 공정을 포함하는 대전 방지성 점착형 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
또한 본 발명은, 상기 대전 방지성 점착형 광학 필름을 제조하는 방법으로서, 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 도전성 폴리머를 함유하는 도포액을 도포하고, 건조시켜 대전 방지층을 형성하는 공정, 그 대전 방지층의 표면에 러빙 처리를 실시하는 공정, 및 러빙 처리를 실시한 대전 방지층 상에 점착제층을 형성하는 공정을 포함하는 대전 방지성 점착형 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
종래, 광학 필름의 표면에 대전 방지층을 형성하는 방법으로는 진공 증착 방식, 스퍼터링 방식 또는 이온 플레이팅 방식 등에 의해 투명 도전층을 형성했는데, 이들 방법은 제조 비용이 높고 생산성은 나뻤다. 본 발명의 제법에 의하면, 코팅 등의 도포법에 의해 대전 방지층을 형성할 수 있기 때문에 생산성이 양호하다.
또한 본 발명은, 상기 대전 방지성 광학 필름 또는 대전 방지성 점착형 광학 필름을 적어도 1장 사용한 화상 표시 장치에 관한 것이다. 본 발명의 대전 방지성 광학 필름, 대전 방지성 점착형 광학 필름은, 액정 표시 장치 등과 같은 화상 표시 장치의 각종 사용 양태에 따라서, 1장 또는 복수 장을 조합하여 사용된다.
도 1 은 본 발명의 대전 방지성 점착형 광학 필름의 단면도의 일례이다.
부호의 설명
1: 광학 필름
2: 대전 방지층
3: 점착제층
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
본 발명의 대전 방지성 점착형 광학 필름은, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 광학 필름 (1) 의 한쪽 면에 대전 방지층 (2), 점착제층 (3) 이 이 순서대로 적층되어 있다. 또, 도 1 에서는, 광학 필름 (1) 의 한쪽 면에 점착제층 (3) 이 형성되어 있는 경우를 나타내고 있지만, 점착제층 (3) 은 광학 필름의 양면에 형성되어 있어도 된다. 또 다른 일면의 점착제층 (3) 에 관해서도 대전 방지층 (2) 이 형성되어 있어도 된다. 또, 본 발명의 대전 방지성 광학 필름은, 도 1 에 있어서 점착제층 (3) 이 형성되어 있지 않은 경우이다.
본 발명의 대전 방지성 점착형 광학 필름의 대전 방지층 (2) 은, 대전 방지제로서 도전성 폴리머를 함유한다.
도전성 폴리머로는, 광학 특성, 외관, 대전 방지 효과 및 대전 방지 효과의 열시(熱時), 가습시에서의 안정성이 양호한 것을 사용한다. 그와 같은 도전성 폴리머로는, 폴리아닐린, 폴리티오펜, 폴리피롤, 폴리퀴녹살린 등의 폴리머를 들 수 있다. 이들 중에서도, 수용성 도전성 폴리머 또는 수분산성 도전성 폴리머가 되기 쉬운, 폴리아닐린, 폴리티오펜 등이 바람직하게 사용된다. 특히 폴리 티오펜이 바람직하다.
수용성 도전성 폴리머나 수분산성 도전성 폴리머를 사용함으로써, 대전 방지층을 형성할 때의 도포액을 수용액 또는 수분산액으로서 조제할 수 있고, 도포액에 유기용제를 사용할 필요가 없다. 그 때문에, 유기용제에 의한 광학 필름 기재의 변질이나 열화를 억제할 수 있다. 수용액 또는 수분산액은, 용매를 물만으로 하는 것이 밀착성의 관점에서 바람직하지만, 친수성 용매를 함유하고 있어도 된다. 친수성 용매로는, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 이소부탄올, sec-부탄올, ter-부탄올, n-아밀알코올, 이소아밀알코올, sec-아밀알코올, tert-아밀알코올, 1-에틸-1-프로판올, 2-메틸-1-부탄올, n-헥산올 및 시클로헥산올 등의 알코올류를 들 수 있다.
상기 수용성 또는 수분산성 폴리아닐린의 폴리스티렌 환산에 의한 중량평균 분자량은 500000 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 300000 이하이다. 수용성 또는 수분산성 폴리티오펜의 폴리스티렌 환산에 의한 중량평균 분자량은 400000 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 300000 이하이다. 중량평균 분자량이 상기 값을 초과하는 경우에는 상기 수용성 또는 수분산성을 만족시키지 못하게 되는 경향이 있고, 그러한 폴리머를 사용하여 도포액 (수용액 또는 수분산액) 을 조제한 경우에는, 당해 도포액 중에 폴리머의 고형분이 잔존하거나, 또는 고점도화되어 막두께가 균일한 대전 방지층을 형성하기가 곤란해지는 경향이 있다.
수용성 도전 폴리머의 수용성이란, 물 100g 에 대한 용해도가 5g 이상인 경우를 말한다. 상기 수용성 도전 폴리머의 물 100g 에 대한 용해도는 20∼30g 인 것이 바람직하다. 수분산성 도전성 폴리머란, 폴리아닐린, 폴리티오펜 등의 도전성 폴리머가 미립자상으로 수 중에 분산되어 있는 것으로, 수분산액은 액점도가 작아 박막 도공이 용이할 뿐만 아니라, 도포층의 균일성이 우수하다. 여기서 미립자의 사이즈로는 1㎛ 이하인 것이 대전 방지층의 균일성이란 점에서 바람직하다.
또한, 상기 폴리아닐린, 폴리티오펜 등의 수용성 도전성 폴리머 또는 수분산성 도전성 폴리머는, 분자 중에 친수성 관능기를 갖는 것이 바람직하다. 친수성 관능기로는, 예를 들어 술폰기, 아미노기, 아미드기, 이미노기, 4급 암모늄염기, 히드록실기, 메르캅토기, 히드라지노기, 카르복실기, 황산에스테르기, 인산에스테르기, 또는 그들의 염 등을 들 수 있다. 분자 내에 친수성 관능기를 가짐으로써 물에 잘 용해되게 되거나, 물에 미립자상으로 잘 분산되게 되어, 상기 수용성 도전성 폴리머 또는 수분산성 도전성 폴리머를 용이하게 조제할 수 있다.
수용성 도전성 폴리머의 시판품의 예로는, 폴리아닐린술폰산 (미쓰비시 레이온사 제조, 폴리스티렌 환산에 의한 중량평균 분자량 150000) 등을 들 수 있다. 수분산성 도전 폴리머의 시판품의 예로는, 폴리티오펜계 도전성 폴리머 (나가세켐텍사 제조, 데나트론 시리즈) 등을 들 수 있다.
또한 대전 방지층의 형성 재료로는, 상기 도전성 폴리머와 함께, 대전 방지제의 피막 형성성, 광학 필름에 대한 밀착성 향상 등을 목적으로 하여 바인더 성분을 병용하는 것이 바람직하다. 대전 방지제가 수용성 도전성 폴리머 또는 수분산성 도전성 폴리머는 수계 재료이기 때문에, 수용성 또는 수분산성의 바인더 성분 을 사용하는 것이 바람직하다. 바인더 성분의 예로는, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에테르계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 에폭시 수지, 폴리비닐피롤리돈, 폴리스티렌계 수지, 폴리에틸렌글리콜, 펜타에리트리톨 등을 들 수 있다. 특히 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지가 바람직하다. 이들 바인더 성분은 1종 또는 2종 이상을 적절히 그 용도에 맞추어 사용할 수 있다. 바인더 성분의 사용량은 도전성 폴리머의 종류에 따라서도 달라지지만, 통상, 바인더 성분 100중량부에 대하여 도전성 폴리머가 0.1∼100중량부, 보다 바람직하게는 1∼50중량부이다.
상기 대전 방지층의 표면 저항값은 1×1012Ω/□ 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1×1010Ω/□ 이하이고, 특히 바람직하게는 1×109Ω/□ 이하이다. 표면 저항값이 1×1012Ω/□ 를 초과하는 경우에는, 대전 방지 기능이 충분치 않고, 표면 보호 필름의 박리나, 광학 필름의 마찰에 의해 정전기가 발생ㆍ대전되어, 액정 셀의 회로 파괴나 액정의 배향 불량을 야기하는 경우가 있다.
본 발명의 대전 방지성 점착형 광학 필름의 점착제층 (3) 을 형성하는 점착제로는 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리에테르, 불소계나 고무계 등의 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 것을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 특히, 광학적 투명성이 우수하고, 적당한 젖음성과 응집성 및 접착성의 점착 특성을 나타내고, 내후성이나 내열성 등이 우수한 것이 바람직하게 사용된다. 이러한 특징을 나타 내는 것으로서 아크릴계 점착제가 바람직하게 사용된다.
아크릴계 점착제는, 알킬(메트)아크릴레이트의 모노머 유닛을 주골격으로 하는 아크릴계 폴리머를 베이스 폴리머로 한다. 또, (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 말하며, 본 발명의 (메트) 와는 동일한 의미이다. 아크릴계 폴리머의 주골격을 구성하는, 알킬(메트)아크릴레이트의 알킬기의 평균 탄소수는 1∼12 정도인 것이고, 알킬(메트)아크릴레이트의 구체예로는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트 등을 예시할 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도 알킬기의 탄소수 1∼9 인 알킬(메트)아크릴레이트가 바람직하다.
상기 아크릴계 폴리머 중에는, 접착성이나 내열성의 개선을 목적으로, 1종류 이상의 각종 모노머가 공중합에 의해 도입된다. 그와 같은 공중합 모노머의 구체예로는, 예를 들어, (메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산2-히드록시프로필, (메트)아크릴산4-히드록시부틸, (메트)아크릴산6-히드록시헥실, (메트)아크릴산8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산10-히드록시데실, (메트)아크릴산12-히드록시라우릴이나 (4-히드록시메틸시클로헥실)-메틸아크릴레이트 등의 히드록실기 함유 모노머; (메트)아크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등의 카르복실기 함유 모노머; 무수말레산, 무수이타콘산 등의 산무수물기 함유 모노머; 아크릴산의 카프로락톤 부가물; 스티렌술폰산이나 알릴술폰산, 2-(메트)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미드프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산 등의 술폰산기 함유 모노머; 2-히드록시에틸아크릴로일포스페이트 등의 인산기 함유 모노머 등을 들 수 있다.
또한, (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N-부틸(메트)아크릴아미드나 N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-메틸올프로판(메트)아크릴아미드 등의 (N-치환)아미드계 모노머; (메트)아크릴산아미노에틸, (메트)아크릴산N,N-디메틸아미노에틸, (메트)아크릴산t-부틸아미노에틸 등의 (메트)아크릴산알킬아미노알킬계 모노머; (메트)아크릴산메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시에틸 등의 (메트)아크릴산알콕시알킬계 모노머; N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌숙신이미드나 N-(메트)아크릴로일-6-옥시헥사메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-8-옥시옥타메틸렌숙신이미드, N-아크릴로일모르폴린 등의 숙신이미드계 모노머 등도 개질 목적의 모노머예로서 들 수 있다.
또, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, N-비닐피롤리돈, 메틸비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 비닐피페리돈, 비닐피리미딘, 비닐피페라진, 비닐피라진, 비닐피롤, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸, 비닐모르폴린, N-비닐카르복실산아미드류, 스티렌, α-메틸스티렌, N-비닐카프로락탐 등의 비닐계 모노머; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노아크릴레이트계 모노머; (메트)아크릴산글리시딜 등의 에폭시기 함유 아크릴계 모노머; (메트)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 모노머; (메트)아크릴산테트라히드로푸르푸 릴, 불소(메트)아크릴레이트, 실리콘(메트)아크릴레이트나 2-메톡시에틸아크릴레이트 등의 아크릴산에스테르계 모노머 등도 사용할 수 있다.
이들 중에서도, 광학 필름 용도로서 액정 셀에 대한 접착성 및 접착 내구성의 관점에서, 아크릴산 등의 카르복실기 함유 모노머가 바람직하게 사용된다.
아크릴계 폴리머 중의 상기 공중합 모노머의 비율은 특별히 제한되지 않지만, 중량비율에 있어서, 0.1∼10% 정도인 것이 바람직하다.
아크릴계 폴리머의 평균 분자량은 특별히 제한되지 않지만, 중량평균 분자량은 30만∼250만 정도인 것이 바람직하다. 상기 아크릴계 폴리머의 제조는, 각종 공지된 수법에 의해 제조할 수 있고, 예를 들어, 벌크 중합법, 용액 중합법, 현탁 중합법 등의 라디칼 중합법을 적절히 선택할 수 있다. 라디칼 중합 개시제로는, 아조계, 과산화물계의 각종 공지된 것을 사용할 수 있다. 반응 온도는 통상 50∼80℃ 정도, 반응 시간은 1∼8 시간이 된다. 또한, 상기 제조법 중에서도 용액 중합법이 바람직하고, 아크릴계 폴리머의 용매로는 일반적으로 아세트산에틸, 톨루엔 등이 사용된다. 용액 농도는 통상 20∼80중량% 정도가 된다.
고무계 점착제의 베이스 폴리머로는, 예를 들어, 천연 고무, 이소프렌계 고무, 스티렌-부타디엔계 고무, 재생 고무, 폴리이소부틸렌계 고무, 추가로는 스티렌-이소프렌-스티렌계 고무, 스티렌-부타디엔-스티렌계 고무 등을 들 수 있다. 실리콘계 점착제의 베이스 폴리머로는, 예를 들어, 디메틸폴리실록산, 디페닐폴리실록산 등을 들 수 있고, 이들 베이스 폴리머도 카르복실기 등의 관능기가 도입된 것을 사용할 수 있다.
또한 상기 점착제는, 가교제를 함유하는 점착제 조성물로 하는 것이 바람직하다. 점착제에 배합할 수 있는 다관능 화합물로는, 유기계 가교제나 다관능성 금속 킬레이트를 들 수 있다. 유기계 가교제로는, 에폭시계 가교제, 이소시아네이트계 가교제, 이민계 가교제 등을 들 수 있다. 유기계 가교제로는 이소시아네이트계 가교제가 바람직하다. 다관능성 금속 킬레이트는, 다가 금속이 유기 화합물과 공유 결합 또는 배위 결합하고 있는 것이다. 다가 금속 원자로는, Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti 등을 들 수 있다. 공유 결합 또는 배위 결합하는 유기 화합물 중의 원자로는 산소 원자 등을 들 수 있고, 유기 화합물로는 알킬에스테르, 알콜 화합물, 카르복실산 화합물, 에테르 화합물, 케톤 화합물 등을 들 수 있다.
아크릴계 폴리머 등의 베이스 폴리머와 가교제의 배합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 통상, 베이스 폴리머 (고형분) 100중량부에 대하여, 가교제 (고형분) 0.01∼10중량부 정도가 바람직하고, 0.1∼5중량부 정도가 더욱 바람직하다.
그리고, 상기 점착제에는, 필요에 따라서, 점착 부여제, 가소제, 유리 섬유, 유리 비드, 금속분말, 그 밖의 무기분말 등으로 이루어지는 충전제, 안료, 착색제, 충전제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 실란 커플링제 등을, 또한 본 발명의 목적을 일탈하지 않는 범위에서 각종 첨가제를 적절히 사용할 수도 있다. 또 미립자를 함유하여 광확산성을 나타내는 점착제층 등으로 해도 된다.
본 발명의 대전 방지성 점착형 광학 필름에 사용되는 광학 필름 (1) 으로는, 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치의 형성에 사용되는 것이 사용되고, 그 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 광학 필름으로는 편광판을 들 수 있다. 편광판은 편광자의 한쪽 면 또는 양면에는 투명 보호 필름을 갖는 것이 일반적으로 사용된다.
편광자는 특별히 한정되지 않고, 각종 편광자를 사용할 수 있다. 편광자로는 예를 들어, 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌ㆍ아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 2 색성 염료 등의 2 색성 물질을 흡착시켜 1 축 연신한 것, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도 폴리비닐알코올계 필름과 요오드 등의 2 색성 물질로 이루어지는 편광자가 바람직하다. 이들 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로 5∼80㎛ 정도이다.
폴리비닐알코올계 필름을 요오드로 염색하여 1 축 연신한 편광자는 예를 들어, 폴리비닐알코올을 요오드의 수용액에 침지함으로써 염색하고, 원래 길이의 3∼7 배로 연신함으로써 제작할 수 있다. 필요에 따라서 붕산이나 황산아연, 염화아연 등을 함유하고 있어도 되는 요오드화칼륨 등의 수용액에 침지할 수도 있다. 또한 필요에 따라 염색 전에 폴리비닐알코올계 필름을 물에 침지하여 물세척해도 된다. 폴리비닐알코올계 필름을 물세척함으로써 폴리비닐알코올계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있는 것 이외에, 폴리비닐알코올계 필름을 팽윤시킴으로써 염색 불균일 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 실시해도 되고, 염색하면서 연신해도 되고, 또한, 연신한 후 요 오드로 염색해도 된다. 붕산이나 요오드화칼륨 등의 수용액이나 수욕 중에서도 연신할 수 있다.
상기 편광자의 한쪽 면 또는 양면에 형성되는 투명 보호 필름을 형성하는 재료로는, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차폐성, 등방성 등이 우수한 것이 바람직하다. 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 폴리머, 디아세틸셀룰로오스나 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 폴리머, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 폴리머, 폴리스티렌이나 아크릴로니트릴ㆍ스티렌 공중합체 (AS 수지) 등의 스티렌계 폴리머, 폴리카보네이트계 폴리머 등을 들 수 있다. 또, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 내지 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌ㆍ프로필렌 공중합체와 같은 폴리올레핀계 폴리머, 염화비닐계 폴리머, 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 폴리머, 이미드계 폴리머, 술폰계 폴리머, 폴리에테르술폰계 폴리머, 폴리에테르에테르케톤계 폴리머, 폴리페닐렌술피드계 폴리머, 비닐알코올계 폴리머, 염화비닐리덴계 폴리머, 비닐부티랄계 폴리머, 알릴레이트계 폴리머, 폴리옥시메틸렌계 폴리머, 에폭시계 폴리머 또는 상기 폴리머의 블렌드물 등도 상기 투명 보호 필름을 형성하는 폴리머의 예로서 들 수 있다. 투명 보호 필름은, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화형, 자외선 경화형 수지의 경화층으로서 형성할 수도 있다.
또한, 일본 공개특허공보 2001-343529 호 (WO01/37007) 에 기재된 폴리머 필름, 예를 들어, (A) 측쇄에 치환 및/또는 비치환 이미드기를 갖는 열가소성 수지 와, (B) 측쇄에 치환 및/또는 비치환 페닐 그리고 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물을 들 수 있다. 구체예로는 이소부틸렌과 N-메틸말레이미드로 이루어지는 교호 공중합체와 아크릴로니트릴ㆍ스티렌 공중합체를 함유하는 수지 조성물의 필름을 들 수 있다. 필름은 수지 조성물의 혼합 압출품 등으로 이루어지는 필름을 사용할 수 있다.
보호 필름의 두께는 적당하게 결정할 수 있지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성, 박막성 등의 관점에서 1∼500㎛ 정도이다. 특히, 5∼200㎛ 가 바람직하다.
또한, 보호 필름은 가능한 한 착색되지 않는 것이 바람직하다. 따라서, Rth=(nx-nz)ㆍd (여기서, nx 는 필름 평면내 지상축방향의 굴절률, nz 는 필름 두께방향의 굴절률, d 는 필름 두께이다) 로 표시되는 필름 두께방향의 위상차가 -90㎚∼+75㎚ 인 보호 필름을 바람직하게 사용할 수 있다. 이러한 두께방향의 위상차값 (Rth) 이 -90㎚∼+75㎚ 인 것을 사용함으로써, 보호 필름에 기인하는 편광판의 착색 (광학적인 착색) 을 거의 해소할 수 있다. 두께방향 위상차 (Rth) 는, 보다 바람직하게는 -80㎚∼+60㎚, 특히 -70㎚∼+45㎚ 가 바람직하다.
보호 필름으로는, 편광 특성이나 내구성 등의 관점에서 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 폴리머가 바람직하다. 특히 트리아세틸셀룰로오스 필름이 바람직하다. 또, 편광자의 양측에 보호 필름을 형성하는 경우, 그 표리에서 동일한 폴리머 재료로 이루어지는 보호 필름을 사용해도 되고, 상이한 폴리머 재료 등으로 이루어지는 보호 필름을 사용해도 된다. 상기 편광자와 보호 필름은 통상, 수계 접착제 등을 통해서 밀착하고 있다. 수계 접착제로는, 이소시아네이트계 접착제, 폴리비닐알코올계 접착제, 젤라틴계 접착제, 비닐계 라텍스계, 수계 폴리우레탄, 수계 폴리에스테르 등을 예시할 수 있다.
상기 투명 보호 필름의 편광자를 접착시키지 않은 면에는, 하드코트층이나 반사 방지 처리, 스티킹 방지나, 확산 내지 안티글레어를 목적으로 한 처리를 실시한 것이어도 된다.
하드코트 처리는 편광판 표면의 손상 방지 등을 목적으로 실시되는 것으로서, 예를 들어 아크릴계, 실리콘계 등의 적당한 자외선 경화형 수지에 의한 경도나 미끄러짐 특성 등이 우수한 경화 피막을 투명 보호 필름의 표면에 부가하는 방식 등에 의해 형성할 수 있다. 반사 방지 처리는 편광판 표면에서의 외광의 반사 방지를 목적으로 실시되는 것으로, 종래에 준한 반사 방지막 등의 형성에 의해 달성할 수 있다. 또한, 스티킹 방지 처리는 다른 부재와의 밀착 방지를 목적으로 실시된다.
또한 안티글레어 처리는 편광판의 표면에서 외광이 반사되어 편광판 투과광의 시인을 저해하는 것을 방지하려는 목적 등에서 실시되는 것으로, 예를 들어 샌드블라스트 방식이나 엠보싱 가공 방식에 의한 조면화 방식이나 투명 미립자의 배합 방식 등과 같은 적당한 방식으로 투명 보호 필름의 표면에 미세 요철 구조를 부여함으로써 형성할 수 있다. 상기 표면 미세 요철 구조의 형성에 함유시키는 미립자로는, 예를 들어 평균 입경이 0.5∼50㎛ 인 실리카, 알루미나, 티타니아, 지 르코니아, 산화주석, 산화인듐, 산화카드뮴, 산화안티몬 등으로 이루어지는 도전성을 갖는 경우도 있는 무기계 미립자, 가교 또는 미가교 폴리머 등으로 이루어지는 유기계 미립자 (비드 포함) 등의 투명 미립자를 사용할 수 있다. 표면 미세 요철 구조를 형성하는 경우, 미립자의 사용량은 표면 미세 요철 구조를 형성하는 투명 수지 100중량부에 대하여 일반적으로 2∼50중량부 정도이고, 5∼25중량부가 바람직하다. 안티글레어층은 편광판 투과광을 확산시켜 시야각 등을 확대하기 위한 확산층 (시야각 확대 기능 등) 을 겸하는 것이어도 된다.
또한, 상기 반사 방지층, 스티킹 방지층, 확산층이나 안티글레어층 등은 투명 보호 필름 자체에 형성할 수 있는 것 외에, 별도 광학층으로서 투명 보호 필름과는 별체의 것으로 형성할 수도 있다.
또한 광학 필름으로는, 예를 들어 반사판이나 반투과판, 위상차판 (1/2 이나 1/4 등의 파장판 포함), 시각 보상 필름, 휘도 향상 필름 등의 액정 표시 장치 등의 형성에 사용되는 경우가 있는 광학층이 되는 것을 들 수 있다. 이들은 단독으로 광학 필름으로서 사용할 수 있는 것 외에, 상기 편광판에, 실용시에 적층하여 1층 또는 2층 이상 사용할 수 있다.
특히, 편광판에 추가로 반사판 또는 반투과 반사판이 적층되어 이루어지는 반사형 편광판 또는 반투과형 편광판, 편광판에 추가로 위상차판이 적층되어 이루어지는 타원 편광판 또는 원편광판, 편광판에 추가로 시각 보상 필름이 적층되어 이루어지는 광시야각 편광판, 또는 편광판에 추가로 휘도 향상 필름이 적층되어 이루어지는 편광판이 바람직하다.
반사형 편광판은 편광판에 반사층을 형성한 것으로, 시인측 (표시측) 으로부터의 입사광을 반사시켜 표시하는 타입의 액정 표시 장치 등을 형성하기 위한 것이고, 백라이트 등의 광원의 내장을 생략할 수 있어 액정 표시 장치의 박형화를 도모하기 쉽다는 등의 이점을 갖는다. 반사형 편광판의 형성은 필요에 따라서 상기 투명 보호 필름 등을 사이에 두고 편광판의 한쪽 면에 금속 등으로 이루어지는 반사층을 부설하는 방식 등의 적당한 방식으로 실시할 수 있다.
반사형 편광판의 구체예로는, 필요에 따라 매트 처리한 투명 보호 필름의 한쪽 면에, 알루미늄 등의 반사성 금속으로 이루어지는 박이나 증착막을 부설하여 반사층을 형성한 것 등을 들 수 있다. 또 상기 투명 보호 필름에 미립자를 함유시켜 표면 미세 요철 구조로 하고, 그 위에 미세 요철 구조의 반사층을 갖는 것 등도 들 수 있다. 상기한 미세 요철 구조의 반사층은, 입사광을 난반사에 의해 확산시켜 지향성이나 번쩍거림 (눈부심) 을 방지하여 명암의 불균일을 억제할 수 있는 이점 등을 갖는다. 또한 미립자가 함유된 보호 필름은, 입사광 및 그 반사광이 그것을 투과할 때에 확산되어 명암 불균일을 좀더 억제할 수 있는 이점 등도 가지고 있다. 투명 보호 필름의 표면 미세 요철 구조를 반영시킨 미세 요철 구조의 반사층의 형성은, 예를 들어 진공 증착 방식, 이온 플레이팅 방식, 스퍼터링 방식이나 도금 방식 등의 적당한 방식으로 금속을 투명 보호층의 표면에 직접 부설하는 방법 등에 의해 실시할 수 있다.
반사판은 상기 편광판의 투명 보호 필름에 직접 부여하는 방식을 대신하여, 그 투명 필름에 준한 적당한 필름에 반사층을 형성하여 이루어지는 반사 시트 등으 로서 사용할 수도 있다. 또 반사층은, 통상 금속으로 이루어지기 때문에, 그 반사면이 투명 보호 필름이나 편광판 등으로 피복된 상태의 사용 형태가, 산화에 의한 반사율의 저하 방지, 나아가서는 초기 반사율의 장기 지속의 관점이나 보호층의 별도 부설을 피할 수 있다는 등의 관점에서 보다 바람직하다.
또, 반투과형 편광판은, 상기에 있어서 반사층에서 광을 반사하고 또 투과하는 하프 미러 등의 반투과형 반사층으로 함으로써 얻을 수 있다. 반투과형 편광판은 통상 액정 셀의 뒷쪽에 형성되고, 액정 표시 장치 등을 비교적 밝은 분위기에서 사용하는 경우에는 시인측 (표시측) 으로부터의 입사광을 반사시켜 화상을 표시하고, 비교적 어두운 분위기에서는 반투과형 편광판의 백사이드에 내장되어 있는 백라이트 등의 내장 광원을 사용하여 화상을 표시하는 타입의 액정 표시 장치 등을 형성할 수 있다. 즉, 반투과형 편광판은, 밝은 분위기 하에서는 백라이트 등의 광원 사용 에너지를 절약할 수 있고, 비교적 어두운 분위기 하에서도 내장 광원을 이용하여 사용할 수 있는 타입의 액정 표시 장치 등의 형성에 유용하다.
편광판에 추가로 위상차판이 적층되어 이루어지는 타원 편광판 또는 원편광판에 대해 설명한다. 직선 편광을 타원 편광 또는 원편광으로 바꾸거나, 타원 편광 또는 원편광을 직선 편광으로 바꾸거나, 또는 직선 편광의 편광방향을 바꾸는 경우에 위상차판 등이 사용된다. 특히, 직선 편광을 원편광으로 바꾸거나, 원편광을 직선 편광으로 바꾸는 위상차판으로는, 소위 1/4 파장판 (λ/4 판이라고도 한다) 이 사용된다. 1/2 파장판 (λ/2 판이라고도 한다) 은 통상 직선 편광의 편광방향을 바꾸는 경우에 사용된다.
타원 편광판은 슈퍼 트위스트 네마틱 (STN) 형 액정 표시 장치의 액정층의 복굴절에 의해 생긴 착색 (청색 또는 황색) 을 보상 (방지) 하여, 상기 착색이 없는 흑백 표시하는 경우 등에 유효하게 사용된다. 또한, 3차원의 굴절률을 제어한 것은, 액정 표시 장치의 화면을 경사 방향에서 보았을 때에 생기는 착색도 보상 (방지) 할 수 있어 바람직하다. 원편광판은, 예를 들어 화상이 컬러 표시가 되는 반사형 액정 표시 장치의 화상의 색조를 조절하는 경우 등에 유효하게 사용되고, 또한 반사 방지의 기능도 갖는다.
위상차판으로는, 고분자 소재를 1축 또는 2축 연신 처리하여 이루어지는 복굴절성 필름, 액정 폴리머의 배향 필름, 액정 폴리머의 배향층을 필름으로 지지한 것 등을 들 수 있다. 위상차판의 두께도 특별히 제한되지 않지만, 20∼150㎛ 정도가 일반적이다.
고분자 소재로는, 예를 들어 폴리비닐알코올, 폴리비닐부티랄, 폴리메틸비닐에테르, 폴리히드록시에틸아크릴레이트, 히드록시에틸셀룰로오스, 히드록시프로필셀룰로오스, 메틸셀룰로오스, 폴리카보네이트, 폴리알릴레이트, 폴리술폰, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리페닐렌술파이드, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리알릴술폰, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리올레핀, 폴리염화비닐, 셀룰로오스계 중합체, 노르보르넨계 수지, 또는 이들의 2원계, 3원계 각종 공중합체, 그래프트 공중합체, 블렌드물 등을 들 수 있다. 이들 고분자 소재는 연신 등에 의해 배향물 (연신 필름) 이 된다.
액정 폴리머로는, 예를 들어, 액정 배향성을 부여하는 공액성의 직선상 원자 단 (메소겐) 이 폴리머의 주쇄나 측쇄에 도입된 주쇄형이나 측쇄형의 각종 액정성 폴리머 등을 들 수 있다. 주쇄형의 액정 폴리머의 구체예로는, 굴곡성을 부여하는 스페이서부에 의해 메소겐기를 결합한 구조의, 예를 들어 네마틱 배향성의 폴리에스테르계 액정성 폴리머, 디스코틱 폴리머나 콜레스테릭 폴리머 등을 들 수 있다. 측쇄형의 액정 폴리머의 구체예로는, 폴리실록산, 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트 또는 폴리말로네이트를 주쇄 골격으로 하고, 측쇄로서 공액성의 원자단으로 이루어지는 스페이서부를 통해서 네마틱 배향 부여성의 파라 치환 환상 화합물 단위로 이루어지는 메소겐부를 갖는 것 등을 들 수 있다. 이들 액정 폴리머는, 예를 들어, 유리판 상에 형성한 폴리이미드나 폴리비닐알코올 등의 박막의 표면을 러빙 처리한 것, 산화규소를 사방 증착한 것 등의 배향 처리면 상에 액정성 폴리머의 용액을 전개하여 열처리함으로써 실시된다.
위상차판은, 예를 들어 각종 파장판이나 액정층의 복굴절에 의한 착색이나 시각 등의 보상을 목적으로 한 것 등과 같은 사용 목적에 따른 적당한 위상차를 갖는 것이면 되고, 2종 이상의 위상차판을 적층하여 위상차 등의 광학 특성을 제어한 것 등이어도 된다.
또한, 상기 타원 편광판이나 반사형 타원 편광판은, 편광판 또는 반사형 편광판과 위상차판을 적절한 조합으로 적층한 것이다. 이러한 타원 편광판 등은, (반사형) 편광판과 위상차판의 조합으로 되도록 이들을 액정 표시 장치의 제조 과정에서 순차적으로 별개로 적층함으로써도 형성할 수 있지만, 상기와 같이 미리 타원 편광판 등의 광학 필름으로 한 것은 품질의 안정성이나 적층 작업성 등이 우수 하여 액정 표시 장치 등의 제조 효율을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.
시각 보상 필름은, 액정 표시 장치의 화면을 화면에 수직이 아니라 약간 기울어진 방향에서 본 경우라도 화상이 비교적 선명하게 보이도록 시야각을 넓히기 위한 필름이다. 이러한 시각 보상 위상차판으로는 예를 들어 위상차 필름, 액정 폴리머 등의 배향 필름이나 투명 기재 상에 액정 폴리머 등의 배향층을 지지한 것 등으로 이루어진다. 통상의 위상차판은 그 면방향으로 1축으로 연신된 복굴절을 갖는 폴리머 필름이 사용되는데 비해, 시각 보상 필름으로서 사용되는 위상차판에는 면방향으로 2축으로 연신된 복굴절을 갖는 폴리머 필름이라든가, 면방향으로 1축으로 연신되고 두께방향으로도 연신된 두께방향의 굴절률을 제어한 복굴절을 갖는 폴리머나 경사 배향 필름같은 2방향 연신 필름 등이 사용된다. 경사 배향 필름으로는 예를 들어 폴리머 필름에 열수축 필름을 접착하여 가열에 의한 그 수축력의 작용 하에 폴리머 필름을 연신 처리 또는/및 수축 처리한 것이나, 액정 폴리머를 경사 배향시킨 것 등을 들 수 있다. 위상차판의 소재 원료 폴리머는 앞서 위상차판에서 설명한 폴리머와 동일한 것이 사용되고, 액정 셀에 의한 위상차에 기인하는 시인각의 변화에 의한 착색 등의 방지나 양호한 시인의 시야각 확대 등을 목적으로 한 적당한 것을 사용할 수 있다.
또한, 양호한 시인의 넓은 시야각을 달성한다는 점 등에서, 액정 폴리머의 배향층, 특히 디스코틱 액정 폴리머의 경사 배향층으로 이루어지는 광학적 이방성층을 트리아세틸셀룰로오스 필름으로 지지한 광학 보상 위상차판이 바람직하게 사용될 수 있다.
편광판과 휘도 향상 필름을 부착한 편광판은 통상 액정 셀의 이면측 사이드에 형성되어 사용된다. 휘도 향상 필름은 액정 표시 장치 등의 백라이트나 이면측으로부터의 반사 등에 의해 자연광이 입사하면, 소정 편광축의 직선 편광 또는 소정 방향의 원편광을 반사시키고 다른 광은 투과시키는 특성을 나타내는 것으로, 휘도 향상 필름을 편광판과 적층한 편광판은, 백라이트 등의 광원으로부터의 광을 입사시켜 소정 편광 상태의 투과광을 얻음과 함께, 상기 소정 편광 상태 이외의 광은 투과시키지 않고 반사된다. 이 휘도 향상 필름면에서 반사한 광을 다시 그 뒤측에 형성된 반사층 등을 통해서 반전시켜 휘도 향상 필름에 재입사시키고, 그 일부 또는 전부를 소정 편광 상태의 광으로서 투과시켜 휘도 향상 필름을 투과하는 광의 증량을 도모함과 함께, 편광자에 흡수시키기 어려운 편광을 공급하여 액정 표시 화상 표시 등에 이용할 수 있는 광량의 증대를 도모함으로써 휘도를 향상시킬 수 있는 것이다. 즉, 휘도 향상 필름을 사용하지 않고, 백라이트 등에서 액정 셀의 이면측에서 편광자를 통해서 광이 입사된 경우에는 편광자의 편광축에 일치하지 않는 편광방향을 갖는 광은 거의 편광자에 흡수되어 버려, 편광자를 투과하지 않는다. 즉, 사용한 편광자의 특성에 따라서도 다르지만, 대략 50% 의 광이 편광자에 흡수되고, 그 만큼 액정 화상 표시 등에 이용할 수 있는 광량이 감소하여 화상이 어두워진다. 휘도 향상 필름은 편광자에 흡수되는 편광방향을 갖는 광을 편광자에 입사시키지 않고 휘도 향상 필름에서 일단 반사시키고, 다시 그 뒤측에 형성된 반사층 등을 통해 반전시켜 휘도 향상 필름에 재입사시키는 것을 반복하고, 이 양자 사이에서 반사, 반전하는 광의 편광방향이 편광자를 통과할 수 있는 편광방향으로 된 편광만을, 휘도 향상 필름이 투과시켜 편광자에 공급하기 때문에, 백라이트 등의 광을 효율적으로 액정 표시 장치의 화상 표시에 사용할 수 있어 화면을 밝게 할 수 있다.
휘도 향상 필름과 상기 반사층 등의 사이에 확산판을 형성할 수도 있다. 휘도 향상 필름에 의해 반사된 편광 상태의 광은 상기 반사층 등을 향하지만, 설치된 확산판은 통과하는 광을 균일하게 확산시키는 동시에 편광 상태를 해소하여 비편광 상태가 된다. 즉, 자연광 상태의 광이 반사층 등을 향하고, 반사층 등을 통해 반사되어 다시 확산판을 통과하고 휘도 향상 필름에 재입사하는 것을 반복한다. 이와 같이 휘도 향상 필름과 상기 반사층 등의 사이에, 편광을 원래의 자연광으로 되돌리는 확산판을 형성함으로써 표시 화면의 밝기를 유지하면서, 동시에 표시 화면의 밝기 불균일을 적게 하여 균일하고 밝은 화면을 제공할 수 있다. 이러한 확산판을 형성함으로써, 초회의 입사광은 반사의 반복 회수가 적당하게 증가하여 확산판의 확산 기능과 맞물려 균일하고 밝은 표시 화면을 제공할 수 있는 것으로 생각된다.
상기 휘도 향상 필름으로는 예를 들어 유전체의 다층 박막이나 굴절률 이방성이 상이한 박막 필름의 다층 적층체와 같은, 소정 편광축의 직선 편광을 투과하고 다른 광은 반사하는 특성을 나타내는 것, 콜레스테릭 액정 폴리머의 배향 필름이나 그 배향 액정층을 필름 기재 상에 지지한 것 같은, 좌선성 또는 우선성 회전 중 어느 일방의 원편광은 반사하고 다른 광은 투과하는 특성을 나타내는 것 등의 적당한 것을 사용할 수 있다.
따라서, 상기한 소정 편광축의 직선 편광을 투과시키는 타입의 휘도 향상 필름에서는 그 투과광을 그대로 편광판에 편광축을 정렬시켜 입사시킴으로써, 편광판에 의한 흡수 손실을 억제하면서 효율적으로 투과시킬 수 있다. 한편, 콜레스테릭 액정층과 같이 원편광을 투과하는 타입의 휘도 향상 필름에서는 그대로 편광자에 입사시킬 수도 있지만, 흡수 손실을 억제하는 점에서 그 원편광을 위상차판을 통해 직선 편광화하여 편광판에 입사시키는 것이 바람직하다. 또한, 그 위상차판으로서 1/4 파장판을 사용함으로써, 원편광을 직선 편광으로 변환할 수 있다.
가시광역 등의 넓은 파장 범위에서 1/4 파장판으로서 기능하는 위상차판은,예를 들어 파장 550㎚ 의 담색광에 대하여 1/4 파장판으로서 기능하는 위상차층과 다른 위상차 특성을 나타내는 위상차층, 예를 들어 1/2 파장판으로서 기능하는 위상차층을 중첩하는 방식 등에 의해 얻을 수 있다. 따라서, 편광판과 휘도 향상 필름 사이에 배치하는 위상차판은 1층 또는 2층 이상의 위상차층으로 이루어지는 것일 수 있다.
또한, 콜레스테릭 액정층에 관해서도, 반사 파장이 상이한 것의 조합으로 하여 2층 또는 3층 이상 중첩한 배치 구조로 함으로써 가시광역 등의 넓은 파장 범위에서 원편광을 반사하는 것을 얻을 수 있고, 이것에 기초하여 넓은 파장 범위의 투과 원편광을 얻을 수 있다.
또한, 편광판은 상기 편광 분리형 편광판과 같이, 편광판과 2층 또는 3층 이상의 광학층을 적층한 것으로 되어 있어도 된다. 따라서, 상기 반사형 편광판이나 반투과형 편광판과 위상차판을 조합한 반사형 타원 편광판이나 반투과형 타원 편광판 등일 수도 있다.
편광판에 상기 광학층을 적층한 광학 필름은, 액정 표시 장치 등의 제조 과정에서 순차적으로 별개로 적층하는 방식으로도 실시할 수 있지만, 이들을 미리 적층하여 광학 필름으로 한 것은 품질의 안정성이나 조립 작업성 등이 우수하여 액정 표시 장치 등의 제조 공정을 향상시킬 수 있는 이점이 있다. 적층에는 점착층 등의 적당한 접착 수단을 사용할 수 있다. 상기 편광판과 다른 광학층의 접착시에, 이들의 광학축은 목적으로 하는 위상차 특성 등에 따라서 적당한 배치 각도로 할 수 있다.
다음으로, 본 발명의 대전 방지성 광학 필름, 대전 방지성 점착형 광학 필름의 제조 방법에 관해서 설명한다.
우선, 전술한 광학 필름 (1) 의 표면에 러빙 처리를 실시한다. 러빙 처리는 공지된 방법을 채용할 수 있고, 예를 들어, 레이온제, 코튼제, 또는 나일론제 등의 러빙 천 (예를 들어, 요시카와 가공 (주) 제조, Y-19-R) 을 롤에 감은 러빙 롤을 회전시키면서 광학 필름을 이동시켜서, 광학 필름 표면을 러빙하는 방법을 들 수 있다. 러빙 처리에 의해 형성된 오목부 (압입) 의 깊이는 0.2∼1.0㎜ 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.2∼0.5㎜ 이다. 상기 범위의 오목부 깊이로 하기 위해서는, 필라멘트 밀도가 24000∼32000개/㎠ 인 러빙 천을 사용하는 것이 바람직하다. 오목부의 깊이가 0.2㎜ 미만인 경우에는, 도전성 폴리머나 바인더 성분의 배향성이 저하되는 경향이 있다. 한편, 1.0㎜ 를 초과하는 경우에는, 흠집으로 되어 눈에 띄기 때문에 외관상 바람직하지 못하다. 러빙 롤의 회 전수는, 500∼2000rpm 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1000∼1700rpm 이다. 회전수가 500rpm 미만인 경우에는, 광학 필름 표면에 균일하게 러빙 처리를 실시하기가 곤란해지는 경향이 있고, 한편, 2000rpm 을 초과하는 경우에는, 광학 필름 표면에 흠집이 생기기 쉬워지는 경향이 있다. 광학 필름의 이동 속도는, 3∼10m/min 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5∼8m/min 이다. 이동 속도가 3m/min 미만인 경우에는, 외관에 문제가 발생하기 쉬워지는 경향이 있고, 한편, 10m/min 을 초과하는 경우에는, 도전성 폴리머나 바인더 성분의 배향성이 저하되는 경향이 있다.
또한, 편광판 등의 광학 이방성을 갖는 광학 필름을 사용하는 경우에는, 지상축에 대하여 ±10°이내의 러빙 각도로 러빙 처리를 실시하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 ±5°이내, 특히 바람직하게는 0°이다.
그 후, 러빙 처리를 실시한 광학 필름의 표면 상에 도전성 폴리머를 함유하는 도포액에 의해 대전 방지층 (2) 을 형성한다. 도포액의 고형분 농도는, 0.5∼5중량% 정도로 조제하는 것이 바람직하다. 자세하게는, 당해 도포액을, 리버스 코팅, 그라비아 코팅 등의 롤 코팅법, 스핀 코팅법, 스크린 코팅법, 파운틴 코팅법, 디핑법, 스프레이법 등의 도포법을 사용하여 광학 필름 상에 도포하고, 건조시켜 대전 방지층을 형성한다.
한편, 광학 필름 표면에 러빙 처리를 실시하지 않고, 상기와 동일한 방법으로 광학 필름 상에 대전 방지층을 형성하고, 그 후, 형성한 대전 방지층 표면에 상기와 동일한 방법으로 러빙 처리를 실시해도 된다.
대전 방지층의 두께는 5∼1000㎚ 인 것이 바람직하다. 대전 방지층의 두께는, 광학 특성 저하의 관점에서 통상 5000㎚ 이하로 되지만, 대전 방지층의 두께가 두꺼워지면, 대전 방지층의 강도 부족에서 대전 방지층 내에서 파괴가 일어나기 쉬워, 충분한 밀착성이 얻어지지 않는 경우가 있다. 대전 방지제의 두께는, 500㎚ 이하, 또는 300㎚ 이하, 더 나아가 200㎚ 이하인 것이 바람직하다. 밀착성의 확보, 박리 대전의 억제를 위해, 5㎚ 이상, 또는 10㎚ 이상으로 하는 것이 바람직하다. 한편, 박리 대전 효과는 대전 방지층의 두께가 두꺼운 쪽이 바람직하지만, 200㎚ 를 초과해도 효과는 그보다 아래거나 동등하다. 이러한 점에서, 5∼500㎚, 또는 10∼300㎚, 더 나아가 10∼200㎚ 인 것이 바람직하다.
대전 방지층 (2) 의 형성에 있어서, 광학 필름 (1) 에는 활성화 처리를 실시할 수 있다. 활성화 처리는 각종 방법을 채용할 수 있고, 예를 들어 코로나 처리, 저압 UV 처리, 플라즈마 처리 등을 채용할 수 있다. 활성화 처리는, 대전 방지제로서 수용성 도전 폴리머를 함유하는 수용액을 사용하는 경우에 유효하며, 당해 수용액을 도포할 때의 크레이터링 (cratering) 을 억제할 수 있다. 활성화 처리는, 광학 필름 (1) 이 특히 폴리올레핀계 수지, 노르보르넨계 수지인 경우에 유효하다.
점착제층 (3) 의 형성은, 상기 대전 방지층 (2) 상에 적층함으로써 실시한다. 형성 방법으로는 특별히 제한되지 않고, 대전 방지층에 점착제 용액을 도포하여 건조시키는 방법, 점착제층을 형성한 이형 시트에 의해 전사하는 방법 등을 들 수 있다. 점착제층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 10∼40㎛ 정도로 하 는 것이 바람직하다.
이형 시트의 구성 재료로는, 종이, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 합성 수지 필름, 고무 시트, 종이, 천, 부직포, 네트, 발포 시트나 금속박, 그들의 라미네이트체 등의 적당한 박엽체(薄葉體) 등을 들 수 있다. 이형 시트의 표면에는, 점착제층 (3) 으로부터의 박리성을 높이기 위해, 필요에 따라서 실리콘 처리, 장쇄 알킬 처리, 불소 처리 등의 저접착성 박리 처리가 실시되어 있어도 된다.
또, 본 발명의 대전 방지성 점착형 광학 필름의 광학 필름이나 점착제층 등의 각 층에는, 예를 들어 살리실산에스테르계 화합물이나 벤조페놀계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물이나 시아노아크릴레이트계 화합물, 니켈착염계 화합물 등의 자외선 흡수제로 처리하는 방식 등의 방식에 의해 자외선 흡수능을 갖게 한 것 등이어도 된다.
본 발명의 대전 방지성 점착형 광학 필름은 액정 표시 장치 등의 각종 화상 표시 장치의 형성 등에 바람직하게 사용할 수 있다. 액정 표시 장치의 형성은, 종래에 준하여 실시할 수 있다. 즉 액정 표시 장치는 일반적으로, 액정 셀과 대전 방지성 점착형 광학 필름, 및 필요에 따른 조명 시스템 등의 구성 부품을 적절히 조립하여 구동 회로를 장착하는 것 등에 의해 형성되지만, 본 발명에 있어서는 본 발명에 의한 광학 필름을 사용하는 점을 제외하고 특별히 한정되는 것은 없고, 종래에 준하여 할 수 있다. 액정 셀에 관해서도, 예를 들어 TN 형이나 STN 형, π 형 등의 임의의 타입의 것을 사용할 수 있다.
액정 셀의 편측 또는 양측에 대전 방지성 점착형 광학 필름을 배치한 액정 표시 장치나, 조명 시스템에 백라이트 또는 반사판을 사용한 것 등의 적당한 액정 표시 장치를 형성할 수 있다. 그 경우, 본 발명에 의한 광학 필름은 액정 셀의 편측 또는 양측에 설치할 수 있다. 양측에 광학 필름을 형성하는 경우, 그것들은 동일한 것이어도 되고 다른 것이어도 된다. 또한, 액정 표시 장치의 형성시에 있어서는, 예를 들어 확산판, 안티글레어층, 반사 방지막, 보호판, 프리즘 어레이, 렌즈 어레이 시트, 광확산판, 백라이트 등의 적당한 부품을 적당한 위치에 1층 또는 2층 이상 배치할 수 있다.
이어서 유기 일렉트로루미네선스 장치 (유기 EL 표시 장치) 에 관해서 설명한다. 본 발명의 광학 필름 (편광판 등) 은, 유기 EL 표시 장치에 있어서도 적용할 수 있다. 일반적으로, 유기 EL 표시 장치는 투명 기판 상에 투명 전극과 유기 발광층과 금속 전극을 차례로 적층하여 발광체 (유기 일렉트로루미네선스 발광체) 를 형성하고 있다. 여기서, 유기 발광층은 각종 유기 박막의 적층체이고, 예를 들어 트리페닐아민 유도체 등으로 이루어지는 정공 주입층과, 안트라센 등의 형광성 유기 고체로 이루어지는 발광층의 적층체, 또는 이러한 발광층과 페릴렌 유도체 등으로 이루어지는 전자 주입층의 적층체, 또는 이들 정공 주입층, 발광층, 및 전자 주입층의 적층체 등, 여러 가지 조합을 갖는 구성이 알려져 있다.
유기 EL 표시 장치는 투명 전극과 금속 전극에 전압을 인가함으로써, 유기 발광층에 정공과 전자가 주입되고, 이들 정공과 전자의 재결합에 의해 생기는 에너지가 형광 물질을 여기하여서, 여기된 형광 물질이 기저 상태로 되돌아갈 때에 광 을 방사하는 원리로 발광한다. 도중의 재결합이라는 매커니즘은 일반적인 다이오드와 동일하고, 이 점을 통해서도 예상할 수 있는 바와 같이, 전류와 발광 강도는 인가 전압에 대하여 정류성을 동반하는 강한 비선형성을 나타낸다.
유기 EL 표시 장치에서는 유기 발광층에서의 발광을 추출하기 위해, 적어도 일방의 전극이 투명해야 하고, 통상 산화인듐주석 (ITO) 등의 투명 도전체로 형성된 투명 전극을 양극으로서 사용하고 있다. 한편, 전자 주입을 쉽게 하여 발광 효율을 높이기 위해서는 음극에 일함수가 작은 물질을 사용하는 것이 중요하고, 통상 Mg-Ag, Al-Li 등의 금속 전극을 사용하고 있다.
이러한 구성의 유기 EL 표시 장치에 있어서, 유기 발광층은 두께 10㎚ 정도로 매우 얇은 막으로 형성되어 있다. 그래서, 유기 발광층도 투명 전극과 마찬가지로, 광을 거의 완전히 투과한다. 그 결과, 비발광시에 투명 필름의 표면으로부터 입사하여 투명 전극과 유기 발광층을 투과하여 금속 전극에서 반사된 광이, 다시 투명 필름의 표면측으로 나가기 때문에, 외부에서 보았을 때 유기 EL 표시 장치의 표시면이 경면처럼 보인다.
전압의 인가에 의해 발광하는 유기 발광층의 표면측에 투명 전극을 구비함과 함께, 유기 발광층의 이면측에 금속 전극을 구비하여 이루어지는 유기 일렉트로루미네선스 발광체를 포함하는 유기 EL 표시 장치에 있어서, 투명 전극의 표면측에 편광판을 형성함과 함께, 이들 투명 전극과 편광판 사이에 위상차판을 형성할 수 있다.
위상차판 및 편광판은 외부로부터 입사하여 금속 전극에서 반사되어 온 광을 편광하는 작용을 갖기 때문에, 그 편광 작용에 의해 금속 전극의 경면을 외부로부터 시인시키지 않는다는 효과가 있다. 특히, 위상차판을 1/4 파장판으로 구성하고, 또한, 편광판과 위상차판의 편광방향이 이루는 각을 π/4 로 조정하면 금속 전극의 경면을 완전히 차폐할 수 있다.
즉, 이 유기 EL 표시 장치에 입사하는 외부광은 편광판에 의해 직선 편광 성분만이 투과한다. 이 직선 편광은 위상차판에 의해 일반적으로 타원 편광으로 되는데, 특히 위상차판이 1/4 파장판이고 게다가 편광판과 위상차판의 편광방향이 이루는 각이 π/4 일 때에는 원편광으로 된다.
이 원편광은 투명 기판, 투명 전극, 유기 박막을 투과하여, 금속 전극에서 반사되고, 다시 유기 박막, 투명 전극, 투명 기판을 투과하여 위상차판에 다시 직선 편광으로 된다. 그리고, 이 직선 편광은 편광판의 편광방향과 직교하고 있기 때문에 편광판을 투과할 수 없다. 그 결과, 금속 전극의 경면을 완전히 차폐할 수 있다.
이하에, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또, 각 예 중의 부 및 % 는 모두 중량 기준이다.
실시예 1
(광학 필름의 제작)
두께 80㎛ 의 폴리비닐알코올 필름을 40℃ 의 요오드 수용액 중에서 5배로 연신한 후, 50℃ 에서 4분간 건조시켜 편광자를 얻었다. 이 편광자의 양측에 트리아세틸셀룰로오스 필름을 폴리비닐알코올계 접착제를 사용해서 접착하여 편광판을 얻었다. 레이온제의 러빙 천 (요시카와 가공 (주) 제조) 을 롤에 감은 러빙 롤을 사용하여, 편광판의 지상축에 대한 러빙 각도 0°, 압입 깊이 0.2㎜, 롤 회전수 1500rpm, 및 필름 이동 속도 8m/min 의 조건으로, 상기 편광판의 일면에 러빙 처리를 실시하였다.
(대전 방지층의 형성)
수용성 폴리티오펜계 도전성 폴리머를 함유하는 수용액 (나가세 켐텍스 (주) 제조, Denatron P-502RG, 고형분 농도 0.8%) 을 상기 편광판의 러빙 처리면에, 건조 후의 두께가 50㎚ 가 되도록 도포하여, 80℃ 에서 2분간 건조시켜 대전 방지층을 형성하였다.
(점착제층의 형성)
부틸아크릴레이트 95부, 아크릴산 5부, 과산화벤조일 0.2부를 아세트산에틸 300부에 용해하고, 교반 하, 약 60℃ 에서 6시간 반응시켜 이루어지는 중량평균 분자량 200만인 아크릴계 폴리머를 함유하는 용액 (고형분 25%) 을 사용하였다. 상기 아크릴계 폴리머 용액에 이소시아네이트계 다관능성 화합물인 닛폰 폴리우레탄사 제조 콜로네이트 L 을 폴리머 고형분 100부에 대하여 0.5부를 첨가하여 점착제 용액을 얻었다. 당해 점착제 용액을, 건조 후의 두께가 25㎛ 가 되도록, 이형 필름 (폴리에틸렌테레프탈레이트 기재: 다이야호일 MRF38, 미쓰비시 화학 폴리에스테르 제조) 상에 리버스롤 코트법에 의해 도포한 후, 또 그 위에 이형 시트를 부여하여 열풍 순환식 오븐에서 건조시켜, 점착제층을 형성하였다.
(대전 방지성 점착형 광학 필름의 제작)
상기 대전 방지성 편광판의 대전 방지층 상에, 상기 점착제층이 형성된 이형 시트를 부착해서 대전 방지성 점착형 편광판을 제작하였다.
실시예 2
(광학 필름의 제작)
두께 80㎛ 의 폴리비닐알코올 필름을 40℃ 의 요오드 수용액 중에서 5배로 연신한 후, 50℃ 에서 4분간 건조시켜 편광자를 얻었다. 이 편광자의 양측에 트리아세틸셀룰로오스 필름을 폴리비닐알코올계 접착제를 사용해서 접착하여 편광판을 얻었다.
(대전 방지층의 형성)
수용성 폴리티오펜계 도전성 폴리머를 함유하는 수용액 (나가세 켐텍스 (주) 제조, Denatron P-502RG, 고형분 농도 0.8%) 을 상기 편광판의 한쪽 면에, 건조 후의 두께가 50㎚ 가 되도록 도포하여, 80℃ 에서 2분간 건조시켜 대전 방지층을 형성하였다. 그 후, 레이온제의 러빙 천 (요시카와 가공 (주) 제조) 을 롤에 감은 러빙 롤을 사용하여, 압입 깊이 0.2㎜, 롤 회전수 1500rpm, 및 필름 이동 속도 8m/min 의 조건으로, 상기 대전 방지층의 표면에 러빙 처리를 실시하였다.
(점착제층의 형성)
실시예 1 과 동일한 방법으로 점착제이 형성된 이형 필름을 제작하였다.
(대전 방지성 점착형 광학 필름의 제작)
상기 대전 방지성 편광판의 대전 방지층 상에, 상기 점착제층을 형성한 이형 필름을 부착하여 대전 방지성 점착형 편광판을 제작하였다.
비교예 1
실시예 1 에 있어서, 대전 방지층을 형성하지 않은 것 외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 점착형 편광판을 제작하였다.
비교예 2
실시예 1 의 광학 필름의 형성에 있어서, 편광판에 러빙 처리를 실시하지 않은 것 외에는 실시예 1 과 동일한 수법에 의해 대전 방지성 점착형 편광판을 제작하였다.
참고예 1
실시예 1 의 광학 필름의 형성에 있어서, 편광판의 지상축에 대한 러빙 각도를 0°에서 20°로 변경한 것 외에는 실시예 1 과 동일한 수법에 의해 대전 방지성 점착형 편광판을 제작하였다.
상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 대전 방지성 점착형 광학 필름 등에 관해서 이하를 평가하였다. 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.
(광투과율)
제작한 대전 방지성 점착형 광학 필름 또는 점착형 광학 필름을 톰슨 칼형(型)에 의해 25㎜×50㎜ 의 크기로 펀칭하고, 이것을 유리 표면에 부착하여 샘플을 얻었다. 적분구식 분광 투과율 측정기 (주식회사 무라카미 색채 기술 연구소 제조, DOT-3) 를 사용하여, 그 샘플의 광투과율을 측정하였다.
(대전 방지 효과)
제작한 대전 방지성 점착형 광학 필름 또는 점착형 광학 필름을 100㎜×100㎜ 의 크기로 절단하고, 액정 패널에 부착하였다. 이 패널을 10000cd 의 휘도를 갖는 백라이트 상에 두고, 정전기 발생 장치인 ESD (SANKI 사 제조, ESD-8012A) 를 사용하여 5kv 의 정전기를 발생시킴으로써 액정의 배향 교란을 발생시켰다. 그 배향 불량에 의한 표시 불량의 회복 시간 (초) 을, 순간 멀티 측광 검출기 (오오쓰카 전자사 제조, MCPD-3000) 를 사용하여 측정하였다.
〔표면 저항값〕
표면 저항 측정기 (미쓰비시 화학 (주) 제조, Hiresta MCP-HT450) 를 사용하여 인가 전압 500V 에서 대전 방지층의 표면 저항값 (Ω/□) 을 측정하였다.
광투과율 (%) 표시 불량 회복 시간 (s) 표면 저항값 (Ω/□)
실시예 1 42.9 1> 5.4×108
실시예 2 42.6 1> 6.3×108
비교예 1 43.0 >600 >1.0×1013
비교예 2 41.5 1> 7.5×108
참고예 1 42.0 1> 5.9×108

Claims (14)

  1. 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 대전 방지층이 적층되어 있는 대전 방지성 광학 필름에 있어서, 대전 방지층이 적층되어 있는 측의 광학 필름 표면에 러빙 처리가 실시되어 있고, 또한 대전 방지층 중의 도전성 폴리머가 배향하고 있는 것을 특징으로 하는 대전 방지성 광학 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 필름은, 광학 이방성을 가지고 있고, 지상축에 대하여 ±10°이내의 러빙 각도로 러빙 처리가 실시되어 있는 대전 방지성 광학 필름.
  3. 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 대전 방지층이 적층되어 있는 대전 방지성 광학 필름에 있어서, 대전 방지층의 표면에 러빙 처리가 실시되어 있고, 또한 대전 방지층 중의 도전성 폴리머가 배향하고 있는 것을 특징으로 하는 대전 방지성 광학 필름.
  4. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 도전성 폴리머가, 수용성 또는 수분산성의 도전성 폴리머인 대전 방지성 광학 필름.
  5. 제 4 항에 있어서,
    수용성 또는 수분산성의 도전성 폴리머가, 폴리티오펜계 도전성 폴리머인 대전 방지성 광학 필름.
  6. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 대전 방지층은, 추가로 바인더 성분을 함유하는 대전 방지성 광학 필름.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 바인더 성분이, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지 및 아크릴계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 대전 방지성 광학 필름.
  8. 제 1 항 또는 제 3 항에 기재된 대전 방지성 광학 필름의 대전 방지층 상에 점착제층이 적층되어 있는 대전 방지성 점착형 광학 필름.
  9. 제 8 항에 있어서,
    점착제층이 아크릴계 점착제에 의해 형성되어 있는 대전 방지성 점착형 광학 필름.
  10. 제 1 항에 기재된 대전 방지성 광학 필름을 제조하는 방법으로서, 대전 방지 층을 형성하는 측의 광학 필름 표면에 러빙 처리를 실시하는 공정, 및 러빙 처리를 실시한 광학 필름의 표면에 도전성 폴리머를 함유하는 도포액을 도포하고, 건조시켜 대전 방지층을 형성하는 공정을 포함하는 대전 방지성 광학 필름의 제조 방법.
  11. 제 8 항에 기재된 대전 방지성 점착형 광학 필름을 제조하는 방법으로서, 대전 방지층을 형성하는 측의 광학 필름 표면에 러빙 처리를 실시하는 공정, 러빙 처리를 실시한 광학 필름의 표면에 도전성 폴리머를 함유하는 도포액을 도포하고, 건조시켜 대전 방지층을 형성하는 공정, 및 그 대전 방지층 상에 점착제층을 형성하는 공정을 포함하는 대전 방지성 점착형 광학 필름의 제조 방법.
  12. 제 3 항에 기재된 대전 방지성 광학 필름을 제조하는 방법으로서, 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 도전성 폴리머를 함유하는 도포액을 도포하고, 건조시켜 대전 방지층을 형성하는 공정, 및 그 대전 방지층의 표면에 러빙 처리를 실시하는 공정을 포함하는 대전 방지성 광학 필름의 제조 방법.
  13. 제 8 항에 기재된 대전 방지성 점착형 광학 필름을 제조하는 방법으로서, 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 도전성 폴리머를 함유하는 도포액을 도포하고, 건조시켜 대전 방지층을 형성하는 공정, 그 대전 방지층의 표면에 러빙 처리를 실시하는 공정, 및 러빙 처리를 실시한 대전 방지층 상에 점착제층을 형성하는 공정을 포함하는 대전 방지성 점착형 광학 필름의 제조 방법.
  14. 제 1 항 또는 제 3 항에 기재된 대전 방지성 광학 필름을 적어도 1장 사용한 화상 표시 장치.
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3902186B2 (ja) * 2003-04-21 2007-04-04 日東電工株式会社 帯電防止型光学フィルム、その製造方法、及び画像表示装置
JP4714452B2 (ja) * 2004-10-21 2011-06-29 日東電工株式会社 帯電防止性粘着型光学フィルム及び画像表示装置
KR101232732B1 (ko) * 2006-05-22 2013-02-13 삼성디스플레이 주식회사 편광판 및 이를 이용한 액정표시장치
KR100926222B1 (ko) * 2007-12-28 2009-11-09 제일모직주식회사 대전방지 코팅층을 포함하는 편광필름
KR20100009472A (ko) * 2008-07-18 2010-01-27 주식회사 엘지화학 액정표시장치
US7957621B2 (en) * 2008-12-17 2011-06-07 3M Innovative Properties Company Light extraction film with nanoparticle coatings
KR100995067B1 (ko) * 2009-01-21 2010-11-18 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 표시 장치
US20110010254A1 (en) * 2009-07-07 2011-01-13 Chenot Richard H Transaction processing systems and methods for per-transaction personal financial management
US8265998B2 (en) * 2009-07-07 2012-09-11 Chenot Richard H Systems and methods for per-transaction financial card enabled personal financial management
JP6297772B2 (ja) 2012-09-03 2018-03-20 日東電工株式会社 積層体
JP6164810B2 (ja) * 2012-09-03 2017-07-19 日東電工株式会社 樹脂フィルム
TWI551444B (zh) * 2013-02-22 2016-10-01 友達光電股份有限公司 具靜電防護設計之顯示模組及其使用之光學膜片組
JP5613276B2 (ja) 2013-03-01 2014-10-22 日東電工株式会社 積層体
WO2014163068A1 (ja) * 2013-04-04 2014-10-09 日東電工株式会社 導電性フィルムおよび画像表示装置
JP5885868B1 (ja) * 2015-03-24 2016-03-16 日東電工株式会社 パネル部材への連続貼りに用いる光学フィルム積層体
KR102010759B1 (ko) * 2016-03-08 2019-08-14 주식회사 엘지화학 디스플레이 장치
JP2018028974A (ja) * 2016-08-15 2018-02-22 日東電工株式会社 有機el表示装置用粘着剤組成物、有機el表示装置用粘着剤層、有機el表示装置用粘着剤層付偏光フィルム、及び有機el表示装置
JP6936009B2 (ja) * 2017-01-20 2021-09-15 日東電工株式会社 偏光板
CN110444110B (zh) * 2019-08-14 2021-06-29 云谷(固安)科技有限公司 电子元件及显示装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62276506A (ja) * 1986-05-23 1987-12-01 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光フイルム
JPH10239521A (ja) * 1997-02-25 1998-09-11 Nec Corp 導電性偏光板
JPH1191038A (ja) * 1997-07-24 1999-04-06 Sumitomo Chem Co Ltd 帯電防止板
JP2002179954A (ja) * 2000-10-10 2002-06-26 Deha Manteku Co Ltd 導電性高分子水溶液を含む光硬化型透明導電性コーティング剤、及びこれにより形成された透明導電膜
JP2003294951A (ja) * 2001-12-31 2003-10-15 Boe-Hydis Technology Co Ltd 液晶表示装置の導電性偏光板及びその製造方法

Family Cites Families (66)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62239108A (ja) 1986-04-11 1987-10-20 Mitsui Toatsu Chem Inc 導電性偏光フイルム及びその製造方法
CA1305581C (en) * 1986-05-23 1992-07-21 Sumitomo Chemical Company, Limited Light-polarizing films
JPH0652390B2 (ja) 1986-12-22 1994-07-06 新王子製紙株式会社 写真印画紙用支持体
JPH0273307A (ja) 1988-09-09 1990-03-13 Sharp Corp 帯電防止膜付偏光板
DE59010247D1 (de) 1990-02-08 1996-05-02 Bayer Ag Neue Polythiophen-Dispersionen, ihre Herstellung und ihre Verwendung
JPH04124601A (ja) 1990-09-14 1992-04-24 Nitto Denko Corp 偏光板
DE4110263A1 (de) * 1991-03-28 1992-10-01 Hoechst Ag Waessrige dispersion aus intrinsisch elektrisch leitfaehigen polyalkoxythiophenen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
DE4211461A1 (de) * 1992-04-06 1993-10-07 Agfa Gevaert Ag Antistatische Kunststoffteile
JPH0819391B2 (ja) * 1992-11-30 1996-02-28 日東電工株式会社 感圧接着剤とその接着シ―ト類
EP0602713B1 (en) * 1992-12-17 1998-10-14 Agfa-Gevaert N.V. Permanent antistatic primer layer
US5602202A (en) 1994-01-14 1997-02-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Methods of using acrylate-containing polymer blends
ATE216090T1 (de) * 1994-08-04 2002-04-15 Canon Kk Flüssigkristallvorrichtung
CN1188500A (zh) 1995-06-22 1998-07-22 美国3M公司 使用含丙烯酸酯的聚合物共混物的方法
US5773150A (en) * 1995-11-17 1998-06-30 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Polymeric antistatic coating for cathode ray tubes
JPH10142593A (ja) 1995-12-27 1998-05-29 Toshiba Corp 反射型液晶表示素子
JP3676474B2 (ja) * 1996-01-09 2005-07-27 日東電工株式会社 光学フィルム及び液晶表示装置
JP3619915B2 (ja) * 1996-01-26 2005-02-16 コニカミノルタホールディングス株式会社 偏光板用保護フィルム及び偏光板
TW464661B (en) * 1996-06-10 2001-11-21 Nippon Catalytic Chem Ind Water-soluble electrically-conductive polyaniline and method for production thereof and antistatic agent using water-soluble electrically-conductive polymer
JPH107795A (ja) 1996-06-24 1998-01-13 Hitachi Chem Co Ltd 導電性樹脂シート
CN1053992C (zh) 1996-07-23 2000-06-28 中华映管股份有限公司 信息显示器的抗静电涂复层及其涂复方法
US6310133B1 (en) * 1997-08-25 2001-10-30 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Antistatic coat, thermal transfer sheet having antistatic property and antistatic agent
JPH10212373A (ja) 1996-11-26 1998-08-11 Sumitomo Chem Co Ltd ディスプレイ前面板
US5700623A (en) * 1997-01-21 1997-12-23 Eastman Kodak Company Thermally stable photographic bar code label containing an antistatic layer
JPH10217379A (ja) 1997-02-03 1998-08-18 Toyobo Co Ltd 導電性積層フィルム
JP3028097B2 (ja) * 1997-04-11 2000-04-04 日本電気株式会社 スメクティック液晶材料および液晶光学素子
JP3479696B2 (ja) * 1997-12-08 2003-12-15 ビオイ−ハイディス テクノロジー カンパニー リミテッド 液晶表示装置
JP4057127B2 (ja) * 1998-02-19 2008-03-05 セイコーエプソン株式会社 アクティブマトリックス基板及びアクティブマトリックス基板の製造方法並びに液晶装置
US6504587B1 (en) * 1998-06-17 2003-01-07 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device in which the inner frame having sidewall
JP4540150B2 (ja) * 1998-09-30 2010-09-08 日東電工株式会社 熱剥離型粘着シート
US6048587A (en) * 1998-10-01 2000-04-11 Ricon Resins, Inc. Water-dispersible, radiation and thermally-curable polymeric compositions
TW536639B (en) * 1998-10-14 2003-06-11 Tomoegawa Paper Co Ltd Anti-reflection material and polarized film using the same
US6124083A (en) * 1998-10-15 2000-09-26 Eastman Kodak Company Antistatic layer with electrically conducting polymer for imaging element
US6197418B1 (en) * 1998-12-21 2001-03-06 Agfa-Gevaert, N.V. Electroconductive glass laminate
US6140030A (en) * 1999-05-06 2000-10-31 Eastman Kodak Company Photographic element containing two electrically-conductive agents
JP4336427B2 (ja) * 1999-10-01 2009-09-30 帝人株式会社 表面保護フィルムおよびそれからなる積層体
EP1224503B1 (en) 1999-10-15 2006-06-14 Agfa-Gevaert Liquid crystal alignment layer
US7357965B1 (en) * 1999-10-15 2008-04-15 Agfa-Gevaert, N.V. Liquid crystal alignment layer
TWI300856B (ko) * 1999-10-21 2008-09-11 Konica Minolta Opto Inc
CN1093679C (zh) 1999-10-27 2002-10-30 西安科技学院 一种导电材料复合组合物及其制备方法
JP2001130179A (ja) 1999-11-01 2001-05-15 Konica Corp 画像記録体及び画像記録体製造方法
JP2001166112A (ja) * 1999-12-08 2001-06-22 Nitto Denko Corp 光学フィルム及び光学素子
US6442654B1 (en) * 1999-12-10 2002-08-27 International Business Machines Corporation Operating system support for in-server caching of documents
JP2001318230A (ja) 2000-03-01 2001-11-16 Nitto Denko Corp 偏光部材、面光源及び液晶表示装置
JP4384333B2 (ja) 2000-04-24 2009-12-16 株式会社サンエー化研 表面保護フィルム
JP4004214B2 (ja) 2000-08-24 2007-11-07 ナガセケムテックス株式会社 帯電防止コーティング用組成物
JP2002090749A (ja) * 2000-09-11 2002-03-27 Nec Corp 液晶表示装置及びその製造方法
TW555799B (en) * 2000-11-09 2003-10-01 Fuji Photo Film Co Ltd Cellulose acylate solution and process for the production of cellulose acylate film
JP2002180052A (ja) 2000-12-14 2002-06-26 Fuji Photo Film Co Ltd 水溶性二色性色素、光学フイルム、偏光素子、二色性色素のミセルを配向させる方法および光学フイルムの製造方法
US6692663B2 (en) * 2001-02-16 2004-02-17 Elecon, Inc. Compositions produced by solvent exchange methods and uses thereof
JP2002258047A (ja) 2001-03-02 2002-09-11 Fuji Photo Film Co Ltd 光学フイルムの製造方法
US6663956B2 (en) * 2001-04-26 2003-12-16 Mitsubishi Polyerster Film, Llc Antistatic coating and coated film
EP2251874B1 (en) * 2001-06-27 2011-12-07 Fujifilm Corporation Conductive film
JP5174303B2 (ja) 2001-09-11 2013-04-03 三菱樹脂株式会社 フィルム
JP3894549B2 (ja) * 2001-09-26 2007-03-22 日東電工株式会社 半透過型偏光板、反射型偏光板及びそれらを用いた液晶表示装置
JP4213887B2 (ja) * 2001-10-26 2009-01-21 日東電工株式会社 透明性粘着剤組成物とその粘着シート
JP4514392B2 (ja) 2002-02-26 2010-07-28 日東電工株式会社 偏光板用保護フィルムの製造方法
JP2004082371A (ja) 2002-08-23 2004-03-18 Teijin Dupont Films Japan Ltd 表面保護フィルム
KR20040020085A (ko) 2002-08-29 2004-03-09 서광석 액정디스플레이용 투명 대전방지 트리아세틸 셀룰로오즈필름
JP2004094012A (ja) 2002-09-02 2004-03-25 Nitto Denko Corp 光学フィルム用表面保護フィルム
JP2004174725A (ja) 2002-11-25 2004-06-24 Mitsubishi Polyester Film Copp 光学部材表面保護フィルム
JP4017156B2 (ja) * 2003-01-27 2007-12-05 日東電工株式会社 粘着型光学補償層付偏光板および画像表示装置
JP3902186B2 (ja) * 2003-04-21 2007-04-04 日東電工株式会社 帯電防止型光学フィルム、その製造方法、及び画像表示装置
JP4578074B2 (ja) 2003-08-08 2010-11-10 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 非ハロゲン系難燃性アクリル系粘着シート又はテープ
JP4714452B2 (ja) * 2004-10-21 2011-06-29 日東電工株式会社 帯電防止性粘着型光学フィルム及び画像表示装置
US20080032096A1 (en) * 2006-08-07 2008-02-07 Eastman Kodak Company Microstructured film containing polysulfone polymer
JP4928985B2 (ja) * 2007-03-02 2012-05-09 富士フイルム株式会社 液晶表示装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62276506A (ja) * 1986-05-23 1987-12-01 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光フイルム
JPH10239521A (ja) * 1997-02-25 1998-09-11 Nec Corp 導電性偏光板
JPH1191038A (ja) * 1997-07-24 1999-04-06 Sumitomo Chem Co Ltd 帯電防止板
JP2002179954A (ja) * 2000-10-10 2002-06-26 Deha Manteku Co Ltd 導電性高分子水溶液を含む光硬化型透明導電性コーティング剤、及びこれにより形成された透明導電膜
JP2003294951A (ja) * 2001-12-31 2003-10-15 Boe-Hydis Technology Co Ltd 液晶表示装置の導電性偏光板及びその製造方法

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