JP4928985B2

JP4928985B2 - 液晶表示装置

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Publication number: JP4928985B2
Application number: JP2007053010A
Authority: JP
Inventors: 博暁佐多; 浩太郎保田; 純一平方
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2007-03-02
Filing date: 2007-03-02
Publication date: 2012-05-09
Anticipated expiration: 2027-03-02
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Description

本発明は、広視野角特性、広い視野角において優れた色再現性を有する液晶表示装置に関する。また、本発明は、液晶表示装置、特にＩＰＳモードの液晶表示装置の色再現性とコントラスト視野角改善に関する。

液晶表示素子（液晶表示パネルとも呼ばれる）やエレクトロルミネセンス素子（用いる蛍光材料により有機系、無機系に別れる、以下、ＥＬ素子）、電界放出素子（ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｅｖｉｃｅ、以下、ＦＥＤ素子）、電気泳動素子等を用いた表示装置は、ブラウン管（ＣＲＴ：ＣａｔｈｏｄｅＲａｙＴｕｂｅ）のように表示画面の裏側に電子線を２次元的に走査するための空間（真空筐体）を設けることなく画像表示を行う。従って、これらの表示装置は、ブラウン管に比べて、薄く軽量であること、消費電力が低いこと等の特徴を持つ。これらの表示装置は、その外観上の特徴からフラット・パネル・ディスプレイ（ＦｌａｔＰａｎｅｌＤｉｓｐｌａｙ）と呼ばれることがある。

液晶表示素子、ＥＬ素子、又は電界放出素子等を用いた表示装置は、ブラウン管に対する上述の利点から、ノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、携帯端末、テレビなど各種用途においてブラウン管を用いた表示装置に代わり広く普及しつつある。ブラウン管からフラット・パネル・ディスプレイへの置き換えが進んだ背景には、液晶表示素子やＥＬ素子等の視野角特性や表示色再現性領域の拡大等の画質向上といった技術革新がある。また最近はマルチメディアやインターネットの普及により、動画表示性能の向上もある。さらには電子ペーパーや大型の公共、広告用情報ディスプレイといったＣＲＴには実現できない分野への進出もある。

液晶表示装置は、通常、液晶セルと液晶セルに表示信号電圧を送る駆動回路、バックライト（背面光源）、及び入力画像信号を駆動回路に送る信号制御システムを含み、これらを合せて液晶モジュールと呼ぶ。
液晶セルは、通常、液晶分子、それを封入、挟持するための二枚の基板及び液晶分子に電圧を加えるための電極層からなり、さらにその外側に偏光板が配置される。偏光板は、通常、保護フィルムと偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償シートを配置することもある。また、反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート及び偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶分子の配向状態の違いで、ＯＮ−ＯＦＦ表示を行い、透過型、反射型及び半透過型のいずれにも適用できる。

平面内と厚さ方向の位相差の値を制御された光学補償シートを用いると、視野角に依存した輝度の変化の少ない液晶表示装置を提供することができる。例えば、特許文献１には斜めから見たときの光漏れを防止しすることを目的として、面内及び厚さ方向の位相差が所定の関係を満足する高分子配向フィルムを有する広視野角偏光フィルムが提案されている。

また、特許文献２には偏光板の保護フィルムの平面内と厚さ方向の位相差の値を制御したフィルムが開示されており、光学補償シートと組み合わせることで、斜め方向から見た時の光モレを低減した液晶表示装置が提案されている。

特開１１−３０５２１７号公報特開２００６−３０９３７号公報

しかし、前記液晶表示装置では、輝度と色の視野角の両立が難しく，特に黒表示時の視野角を改善することができなかった。またパネルの耐久性に関しても不十分であった。
従って、本発明は、広い視野角において優れた色再現性を有する液晶表示装置を提供することを課題とする。
また、本発明は、黒表示時に斜めから観察した場合においても、カラーシフトが観察されない、又はカラーシフトが軽減された液晶表示装置を提供することを課題とする。
また、本発明は、水平配向モードの液晶表示装置の色再現性の改善に寄与するカラーフィルタを提供することを課題とする。

前記課題は具体的には下記の手段により達成された。
＜１＞
少なくとも一方が電極を有する対向配置された一対の基板と、該基板間に配置され、配向制御された液晶層とを有し、前記電極により、該電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が形成される液晶セル、前記液晶セルを挟持して配置された一対の偏光膜、及びバックライトを少なくとも有する液晶表示装置であって、
前記一対の偏光膜のうち前記液晶セルに対して視認側にある偏光膜と前記液晶セルとの間に位相差層（Ａ）、前記一対の偏光膜のうち前記液晶セルに対して前記バックライト側にある偏光膜と前記液晶セルとの間に位相差層（Ｂ）をさらに有し、該位相差層（Ａ）の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向の位相差（ＲｔｈＵ）、および位相差層（Ｂ）の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向の位相差（ＲｔｈＤ）が下記式（１）〜（３）の全てを満たし、かつ前記位相差層（Ａ）の厚みおよび位相差層（Ｂ）の厚みがいずれも７０μｍ以下である液晶表示装置。
式（１）：ＲｔｈＵ＞ＲｔｈＤ
式（２）： −２０ｎｍ ≦ ＲｔｈＤ ≦ ２０ｎｍ
式（３）：２０ｎｍ＜ＲｔｈＵ ≦ ６０ｎｍ
＜２＞
前記位相差層（Ａ）の波長５５０ｎｍにおける面内の位相差（ＲeＵ）、および前記位相差層（Ｂ）の波長５５０ｎｍにおける面内の位相差（ＲeＤ）が下記式（４）および（５）を満たす＜１＞に記載の液晶表示装置。
式（４）： −１０ｎｍ ≦ ＲｅＵ ≦ １０ｎｍ
式（５）： −１０ｎｍ ≦ ＲｅＤ ≦ １０ｎｍ
＜３＞
前記位相差層（Ａ）および（Ｂ）がいずれもセルロースアシレートフィルムからなる＜１＞又は＜２＞に記載の液晶表示装置。
＜４＞
前記偏光膜のそれぞれにこれを挟持して保護フィルムが配置され、該保護フィルムのうち最も薄い保護フィルムと最も厚い保護フィルムの膜厚の差が２０μｍ以下である＜３＞記載の液晶表示装置。
＜５＞
前記電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が、層を異にして配置された画素電極と対向電極によって発生する＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
＜６＞
前記電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が、層を異にして配置された少なくとも一方が透明な一対の電極と、電圧が印加されない電極とによって発生する＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
なお、本発明は上記＜１＞〜＜６＞に関するものであるが、以下、その他の事項についても参考のために記載した。

（１）少なくとも一方が電極を有する対向配置された一対の基板と、該基板間に配置され、配向制御された液晶層とを有し、前記電極により、該電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が形成される液晶セル、及び前記液晶セルを挟持して配置された一対の偏光膜を少なくとも有する液晶表示装置であって、
前記偏光膜と液晶セルの間に位相差層（Ａ）、他方の偏光板の偏光膜と液晶セルの間に位相差層（Ｂ）をさらに有し、該位相差層（Ａ）の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向の位相差（ＲｔｈＵ）、および位相差層（Ｂ）の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向の位相差（ＲｔｈＤ）が下記式（１）〜（３）の全てを満たし、かつ前記位相差層（Ａ）の厚みおよび位相差層（Ｂ）の厚みがいずれも７０μｍ以下である液晶表示装置。
式（１）：ＲｔｈＵ＞ＲｔｈＤ
式（２）： −２０ｎｍ ≦ ＲｔｈＤ ≦ ２０ｎｍ
式（３）：２０ｎｍ＜ＲｔｈＵ ≦ ６０ｎｍ
（２）前記位相差層（Ａ）の波長５５０ｎｍにおける面内の位相差（ＲeＵ）、および前記位相差層（Ｂ）の波長５５０ｎｍにおける面内の位相差（ＲeＤ）が下記式（４）および（５）を満たす前記（１）に記載の液晶表示装置。
式（４）： −１０ｎｍ ≦ ＲｅＵ ≦ １０ｎｍ
式（５）： −１０ｎｍ ≦ ＲｅＤ ≦ １０ｎｍ
（３）前記位相差層（A）および（B）がいずれもセルロースアシレートフィルムからなる前記（１）あるいは（２）いずれかに記載の液晶表示装置。
（４）前記偏光膜のそれぞれに、これを挟持して保護フィルムが配置され、該保護フィルムのうち最も薄い保護フィルムと最も厚い保護フィルムの膜厚の差が２０μｍ以下である前記（３）記載の液晶表示装置。
（５）前記電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が、層を異にして配置された画素電極と対向電極によって発生する前記（１）〜（４）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（６）前記電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が、層を異にして配置された少なくとも一方が透明な一対の電極と、電圧が印加されない電極とによって発生する前記（１）〜（４）のいずれかに記載の液晶表示装置。

本発明によれば、優れたコントラスト視野角特性を有する液晶表示装置を提供することができる。また、本発明によれば、黒表示時に斜めから観察した場合においても、カラーシフトが観察されない、又はカラーシフトが軽減された液晶表示装置を提供することができる。また、本発明によれば、温湿度変化による表示性能の変化の少ない耐久性に優れた液晶表示装置を提供することができる。

以下において、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
尚、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚さ方向のレタデーションを表す。

[位相差層あるいは光学フィルムの光学性能]
本発明の位相差層あるいは光学フィルムのＲｅ（λ）は、２５℃６０％ＲＨにて２４時間調湿後、エリプソメーター（Ｍ−１５０：日本分光（株）製）を用いて、フィルム面に対して垂直な方向に光を当てて測定した値を用いる。測定波長範囲は４００ｎｍ〜７００ｎｍとした。
本発明の位相差層あるいは光学フィルムのＲｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフイルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフイルム法線方向に対して法線方向から４０度、および−４０度に傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させてレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（５）及び式（６）よりＲｔｈを算出する。

---式（５）

[式中、Re(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
式（５）におけるxnは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、nyは面内においてnxに直交する方向の屈折率を表し、nzはnx及びnyに直交する方向の屈折率を表す。ｄはフィルムの膜厚を表す。]

Rth＝(（nx+ny）/2 - nz) x d --- 式（６）

上記の測定において、平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（JOHN WILEY＆SONS，INC）、各種光学フイルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フイルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。

本発明は少なくとも一方が電極を有する対向配置された一対の基板と、該基板間に配置され、配向制御された液晶層とを有し、前記電極により、該電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が形成される液晶セル、及び前記液晶セルを挟持して配置された一対の偏光膜を少なくとも有する液晶表示装置であって、前記偏光膜と液晶セルの間に位相差層（Ａ）、他方の偏光板の偏光膜と液晶セルの間に位相差層（Ｂ）をさらに有し、該位相差層（A）の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向の位相差（ＲｔｈＵ）、および位相差層（B）の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向の位相差（ＲｔｈＤ）が下記式（１）〜（３）の全てを満たし、かつ前記位相差層（Ａ）の厚みおよび位相差層（Ｂ）の厚みがいずれも７０μｍ以下である液晶表示装置に関する。
式（１）：ＲｔｈＵ＞ＲｔｈＤ
式（２）： −２０ｎｍ ≦ ＲｔｈＤ ≦ ２０ｎｍ
式（３）：２０ｎｍ＜ＲｔｈＵ ≦ ６０ｎｍ

ＲｔｈＤとして好ましくは
式（２）’ ： −１５ｎｍ≦ ＲｔｈＤ ≦１５ｎｍであり、さらに好ましくは
式（２）’’ ： −１０ｎｍ≦ ＲｔｈＤ ≦１０ｎｍである。
またＲｔｈＵとして好ましくは
式（３）’：２０ｎｍ＜ＲｔｈＵ ≦５０ｎｍであり、さらに好ましくは
式（３）’’ ：２０ｎｍ＜ＲｔｈＵ ≦４５ｎｍである。

また前記位相差層（Ａ）の波長５５０ｎｍにおける面内の位相差の合計（ＲeＵ）、および前記位相差層（Ｂ）の波長５５０ｎｍにおける面内の位相差の合計（ＲeＤ）は下記式（４）および（５）を満たすことが好ましい。
式（４）：｜ＲｅＵ｜≦ １０ｎｍ
式（５）：｜ＲｅＤ｜≦ １０ｎｍ
ＲｅＵとして好ましくは
式（４）’ ：｜ＲｅＵ｜≦８ｎｍであり、さらに好ましくは
式（４）’’ ：｜ＲｅＵ｜≦３ｎｍである。
またＲｅＤとして好ましくは
式（５）’ ：｜ＲｅＤ｜≦８ｎｍであり、さらに好ましくは
式（５）’’ ：｜ＲｅＤ｜≦３ｎｍである。

また位相差層（Ａ）において
（６）−３：｜Ｒｅ（４５０）−Ｒｅ（６３０）｜≦ １０ｎｍ
（７）−４：｜Ｒｔｈ（４５０）−Ｒｔｈ（６３０）｜≦ ３５ｎｍ
であることがパネルの着色の低減および視角による色味変化の低減の点で好ましい。

前記のように本発明においては前記位相差層（Ａ）、（Ｂ）のそれぞれの厚みは７０μｍ以下である。
位相差層（Ａ）、（Ｂ）の厚みとしては、環境変化によって生じることがある、パネルの反りを低減する点で、６０μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がさらに好ましい。

本発明の位相差層（Ａ）、（Ｂ）についてはその材料について特に限定はなく、それぞれさらに複数の層に分かれていてもよい。特に本発明において位相差層（Ａ）、（Ｂ）はいずれも偏光膜保護フィルム、であることが好ましい。この場合、本発明の前記規定を満たす限りにおいて、保護フィルムと基板を密着するための粘着材や接着剤に位相差をもたせてもよく，保護フィルムと基板の間にさらに光学補償フィルムを配置してもよい。

位相差層（Ａ）および位相差層（Ｂ）において前記レタデーションの範囲を実現するための具体的な方法としては正および負の光学異方性を有するモノマーを共重合させて得たポリマーフィルムを用いる方法、ポリマーフィルムに添加剤を加える方法など公知の手法を用いることができる。特に特開２００６−３０９３７に記載されたレターデーション低減剤をポリマーフィルムに添加する方法を好ましく用いることが出来るが、用いるポリマーフィルムに相溶し透明性を損なわなければ添加剤の分子量は特に制限はなく、一般にオリゴマーと呼ばれる分子量の添加剤も用いることができる。
また、位相差層（Ａ）および位相差層（Ｂ）において前述のレタデーションの範囲を実現する方法としては、他にポリマーフィルムフィルム製膜中の工程条件、例えば乾燥温度条件、搬送テンションの条件、延伸処理の条件を調整することによっても可能であり、これらをフィルムの品質を損なわない範囲で調整することができる。

また本発明に使用する位相差層（Ａ）および（Ｂ）の波長分散は添加剤により調整することができる。添加剤の種類、添加量、添加方法は特に制限はなく、紫外領域に吸収を有する素材を添加する方法など、公知の方法で調整することができる。

位相差層（Ａ）、（Ｂ）を構成するポリマーフィルムの主要成分は、光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるポリマーが好ましく、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー等が挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、ノルボルネン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、または前記ポリマーを混合したポリマーも例として挙げられる。
特に偏光フィルムとの接着性や加工適性の観点から、セルロースアシレートを好ましく用いることができ、中でもセルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネートを最も好ましく用いることができる。

〔セルロースアシレートフィルム〕
本発明に使用するセルロースアシレートフィルムには、厚み方向の位相差を調整すること以外にも様々な機能を付与したり、安定した製造を行う為に種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、微粒子、剥離促進剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開平２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。剥離促進剤としてはクエン酸のエチルエステル類が例として挙げられる。
また、セルロースアシレートフィルムが多層に形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。その例は、特開平２００１−１５１９０２号公報などにも記載されているが、これらは従来から知られている技術である。さらにこれらの詳細は、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁以降に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。

本発明のセルロースアシレートフィルムの厚さは２０μｍ以上７０μｍ以下で用いる。一般に膜厚調整は製造時の流量で行うが、流量以外は全ての条件を同じにして、流量を下げて製膜すると｜Ｒｔｈ（４５０）−Ｒｔｈ（６３０）｜は小さくなる傾向があり、前記の波長分散調整のための添加剤を投与するようなコストアップになる方法を用いずに、本発明の好ましい態様に調整することができる。

一方、２０μｍより薄いと製膜時や偏光板加工時のハンドリングが難しく、安定製造しにくくなる。膜厚の範囲としては２５μｍ以上７０μｍ以下であることがさらに好ましく、３０μｍ以上５０μｍ以下であることが最も好ましい。

〔セルロースアシレートフィルムの製造方法〕
次に、セルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。

セルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置を付加しても良い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む），金属支持体，乾燥，剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。

［偏光板］
本発明の液晶表示装置は、液晶層を挟持して配置された一対の偏光板を有する。。該偏光板としては例えば、ポリビニルアルコールフィルム等をヨウ素にて染色し、延伸を行い作製した偏光膜の両面を保護フィルム、および保護フィルムにて積層して得られる偏光板を用いることができる。

[偏光膜]
偏光膜には、ヨウ素系偏光フィルム、二色性染料を用いる染料系偏光フィルムやポリエン系偏光フィルムがある。ヨウ素系偏光フィルム及び染料系偏光フィルムは、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。

[偏光板の製造工程]
本発明に用いられる偏光板は、通常、偏光膜用フィルムを延伸後、収縮させ揮発分率を低下させる乾燥工程を有するが、乾燥後もしくは乾燥中に少なくとも片面に保護フィルムを貼り合わせた後、加熱工程を有することが好ましい。前記保護フィルムが、光学補償層として機能する光学補償膜の支持体を兼ねている態様では、片面に保護フィルム、反対側に位相差を有する保護フィルムを貼り合わせた後、加熱するのが好ましい。具体的な貼り付け方法として、フィルムの乾燥工程中、両端を保持した状態で接着剤を用いて偏光膜に保護フィルムを貼り付け、その後両端を耳きりする、もしくは乾燥後、両端保持部から偏光フィルム用フィルムを解除し、フィルム両端を耳きりした後、保護フィルムを貼り付けるなどの方法がある。耳きりの方法としては、刃物などのカッターで切る方法、レーザーを用いる方法など、一般的な技術を用いることができる。貼り合わせた後に、接着剤を乾燥させるため、及び偏光性能を良化させるために、加熱することが好ましい。加熱の条件としては、接着剤により異なるが、水系の場合は、３０°以上が好ましく、さらに好ましくは４０〜１００°、さらに好ましくは５０〜９０°である。これらの工程は一貫のラインで製造されることが、性能上及び生産効率上更に好ましい。

偏光フィルムと保護フィルムとの接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは、乾燥後の厚さが、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜５μｍであることが特に好ましい。

［光学補償フィルム］
本発明の液晶表示装置には、複屈折ポリマーフィルムからなる光学補償シートをさらに用いてもよい。ポリマーの種類には本発明の要件を持たす限り特に制約はない。適宜、添加剤の使用、延伸条件の調整等を行い、光学補償フィルムに要求される光学特性を満足する複屈折ポリマーフィルムを作製することができる。

［液晶材料］
本発明の液晶表示装置に用いられる液晶層を構成する液晶材料については特に制限されない。例えば、液晶材料として、誘電率異方性△εが正のネマチック液晶を用いてもよい。液晶層の厚み（ギャップ）は、２．８μｍ超４．５μｍ未満程度とするのが好ましい。液晶層のレタデーション（Δｎ・ｄ）を０．２５μｍ超０．３２μｍ未満とすると、可視光の範囲内で波長依存性が殆どない透過率特性がより容易に得られる。液晶性分子がラビング方向から電界方向に４５度回転したとき最大透過率を得ることができる。なお、液晶層の厚み（ギャップ）はポリマビーズで制御している。もちろんガラスビーズヤファイバー、樹脂製の柱状スペーサでも同様のギャップを得ることができる。また液晶材料ＬＣは、ネマチック液晶であれば、特に限定したものではない。誘電率異方性△εは、その値が大きいほうが、駆動電圧が低減でき、屈折率異方性△ｎは小さいほうが液晶層の厚み（ギャップ）を厚くでき、液晶の封入時間が短縮され、かつギャップばらつきを少なくすることができる。

［液晶セル］
本発明の液晶表示装置に用いる液晶セルは、少なくとも一方が電極を有する対向配置された一対の基板と、該基板間に配置され、配向制御された液晶層とを有する。液晶セル用基板の内側の対向面の双方に、液晶分子を配向させる配向膜を形成するのが好ましい。また、いずれか一方の対向面に、カラーフィルタを形成するのが好ましい。さらに、液晶セルの内側に偏光フィルムを配置してもよいし、また液晶層のレタデーションの光学補償に寄与する光学異方性層を配置してもよい。また、２枚の基板間の距離（セルギャップ）を保持するための柱状あるいは球状のスペーサを配置するのが一般的である。その他、反射板、集光レンズ、輝度向上フィルム、発光層、蛍光層、燐光層、反射防止膜、防汚膜、ハードコート膜等をセル内に配置してもよい。

液晶セル用の基板は透明ガラス基板を用いるのが一般的であるが、より硬く高温に耐えるシリコンガラス基板を用いてもよい。また耐熱性の優れたプラスチック基板、高分子材料による基板を用いてもよい。変形可能な材料により基板を使用してフレキシブルやリーラブルディスプレイも有効である。さらに反射型表示装置では基板の一方が透明であればよく、他方にステンレス等の金属基板を用いることも可能である。

本発明では、液晶表示装置は、少なくとも３つの絵素領域を含む。例えば、カラーフィルタを有する、カラー表示を行う液晶表示装置では、光の３原色、赤、緑、青のサブピクセル（絵素領域）が１組となり、通常１画素を形成する。また３色以上のサブピクセルで１画素を形成する場合もある。本発明の一態様として、一画素を構成している各色のサブピクセルにおいて、それぞれセルギャップが異なるマルチギャップの態様が挙げられる。
また、１画素を複数の領域に分割するマルチドメインと呼ばれる構造にして、色バランスの調整や視野角特性の平均化を行ってもよい。
さらに３つの絵素領域の液晶層の厚さを変えたマルチギャップ構成としてもよい。３つの絵素領域での電極間距離を変えてもよい。

［カラーフィルタ］
本発明の液晶表示装置においては、液晶セルの一対の基板の一方の対向面に、カラーフィルタを配置するのが好ましい。カラーフィルタについては特に制限されないが、例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の各層を含むカラーフィルタを配置するのが好ましい。
前述のように本発明の液晶表示装置では、前記液晶セルが、３つの絵素領域を含み、これらのうち少なくとも２つの絵素領域のそれぞれに配置されたカラーフィルタのＲｔｈが互いに異なる。３つの絵素領域のそれぞれに配置されたカラーフィルタのＲｔｈが互いに異なっているのがより好ましい。この構成を達成する好ましい手段の一つは、前記３つの絵素領域のそれぞれに配置されたカラーフィルタの厚さのうち、少なくとも２つの絵素領域に配置されたカラーフィルタの厚さを異なる厚さにすることが挙げられる。
これによって前記３つの絵素領域のそれぞれに配置されたカラーフィルタのＲｔｈのうち、少なくとも２つの絵素領域のそれぞれに配置されたカラーフィルタのＲｔｈを、互いに異ならせることができ、本発明の課題をより効果的に達成することができる。

カラーフィルタは、例えば、以下の方法で作製することができる。先ず、透明基板上に赤色、緑色、青色等の、目的に合せた着色画素を形成する。透明基板上に赤色、緑色、青色等の着色画素を形成する方法としては、前述した染色法、印刷法、又は着色感光性樹脂液をスピンコーター等で塗布後、フォトリソ工程でパターニングする着色レジスト法、さらにはラミネート法等が適宜利用できる。例えば、塗布工程を含む形成方法では、塗布量を調整することで、厚さの異なるＲＧＢ層を有するカラーフィルタを形成できる。また、ラミネート法を利用する場合は、厚さが異なる転写材料を用いることで、厚さの異なるＲＧＢ層からなるカラーフィルタを形成できる。

黒色感光性樹脂を用いてブラックマトリクスを形成する場合は、上記着色画素を形成した後にするのが好ましい。最初にブラックマトリクスを形成すると、光学濃度の高い黒色感光性樹脂では、樹脂表面しか硬化しないため、次いで行われる現像処理、特に着色画素を形成するため繰り返し行う現像処理により未硬化の樹脂が溶け出し（サイドエッチと称する）、極端な場合には形成されたマトリクスが剥がれてしまうこともあるからである。
これに対し、ブラックマトリクスを最後に形成すれば、ブラックマトリクスの周囲は着色画素で囲まれていて、断面からは現像液が浸透しにくいため、サイドエッチが起こりにくく、光学濃度の高いブラックマトリクスを形成できるという大きな利点がある。
更に、着色画素形成用の着色層の形成をラミネート法で行う場合は、先にブラックマトリクスを形成すると、着色画素が形成されるべき場所がブラックマトリクスでほぼ格子状に閉じられているため、ラミネート時に気泡を巻き込み易いという問題があるが、後にブラックマトリックスを形成すれば、かかる問題は生じないので好ましい。

黒色感光性樹脂の感光波長域に対する着色画素の光透過率が２％を超える場合は、予め着色画素の中に光吸収剤等を加え、その透過率を２％以下にすることが好ましい。この際使用する光吸収剤としては公知の種々の化合物を用いることができる。例えば、ベンゾフェノン誘導体（ミヒラーズケトン等）、メロシアニン系化合物、金属酸化物、ベンゾトリアゾール系化合物、クマリン系化合物等を挙げることができる。その中でも、光吸収性が良好で、かつ２００℃以上の熱処理の後でも２５％以上の光吸収性能を保持するものが好ましく、具体的には酸化チタン、酸化亜鉛、ベンゾトリアゾール系化合物、クマリン系化合物が挙げられる。これらの中では、クマリン系化合物が耐熱性、光吸収性の両観点から特に好ましい。尚、上述の２００℃以上の熱処理は、各画素を形成後、一層硬化させるために行われるものである。

次に、画素パターンを覆って透明基板全面に黒色感光性樹脂層を設けるが、これも黒色感光性樹脂液をスピンコーターやロールコーターで塗布する方法、また、予め黒色感光性樹脂液を仮支持体上に塗布することにより画像形成材料を作成し、画素パターン上にこの黒色感光性樹脂層を転写する方法等が利用できる。

次に、フォトマスクを介して黒色感光性樹脂層側から露光し、着色画素が存在しない遮光部（ブラックマトリックス）の黒色感光性樹脂層を硬化させる。着色画素は、露光機のアライメント誤差や基板の熱膨張の影響を受けて多少の位置ずれがあり、画素自体の太りや細りがあって、設計寸法通りの間隔や大きさで配置されてはいないのが普通である。特に大サイズの基板ではこの傾向が強くなる。したがって、設計画素間隔通りのフォトマスクで露光した場合、ブラックマトリックスが画素と重なる部分や、逆に画素との間に隙間ができる部分が発生する。重なった部分は突起になり、隙間ができた部分は光漏れになるので何れも好ましくない。

カラーフィルタのレタデーションは、例えば、カラーフィルタを転写材料を用いて作製する場合は、転写材料の構成層である感光層や着色層にレタデーション上昇剤や低下剤を添加することにより調整してもよい。
レタデーション上昇剤の代表例としては、例えば特開２０００−１１１９１４号公報に記載の添加剤を用いることができる、レターデーション低減剤としては例えば特開２００６−３０９３７号公報に記載の添加剤等を好ましく用いることができる。

以下本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図１に示す液晶表示装置は、液晶セル（９〜１３）、液晶セルを挟持して配置された上側偏光板２１（１〜６）と下側偏光板２２（１４〜１９）、及び下側偏光板２２のさらに外側に、光源となるランプ２０ａを含むバックライトユニット２０を有する。液晶セル（９〜１３）は、液晶セル上側基板９と液晶セル下側基板１２と、これらに挟持される液晶層１１とを含む。下側基板１２は、その対向面に、電極層（図１中、不図示）を有し、該電極層は、基板１２の表面に対して平行な電界を液晶層に供与可能に構成されている。電極層は通常透明なインヂウムチンオキサイド（ＩＴＯ）からなる。基板１２の電極層上及び基板９の対向面には、液晶性分子１１の配向を制御する配向層（図１中不図示）が形成され、駆動電圧非印加時においては、その表面に施されたラビング処理の方向１０及び１３によって、液晶性分子１１の配向方向が制御されている。

電極の形状、構成等については特に制限されず、液晶セルの基板に対して平行な電界を形成可能である限り、いずれであってもよい。一般的に、ＩＰＳモード及びＦＦＳモードの液晶表示装置に用いられている電極構成を利用することができる。例えば、層を異にして配置された画素電極と対向電極によって構成してもよいし、層を異にして配置された少なくとも一方が透明な一対の電極と、電圧が印加されない電極とで構成してもよい。

図２に、ＩＰＳモードの液晶標示装置の一例についての、ＯＦＦ状態及びＯＮ状態を模式的に示す。なお、図２は、液晶表示装置の一画素の一部分を示しているものであり、各部材の相対的な大きさ等は、実際のものと必ずしも一致していない。後述する図３においても同様である。また、図２中、図１中の部材に対応する部材には同一の符号を付した。後述する図３においても同様である。
図２中、基板１２の対向面に形成された複数の線状電極層２４は、電圧印加時に基板１２の平面に平行な電界成分を含む電界２３を形成する。電圧無印加時又は低電圧印加時（ＯＦＦ状態）には、液晶性分子１１は、基板９及び１２の対向面のラビング軸（図１において１０及び１３）によって、線状電極層２４の長手方向に対して若干の角度を持つように配向制御されている。なお、この場合の液晶の誘電異方性は正を想定している。線状電極層２４に電圧を印加した状態（ＯＮ状態）では、基板９及び１２に平行な成分を含む電界２３が形成され、液晶性分子１１はその長軸を電界方向と一致させて配向する。なお、基板１２の表面に対する電界方向２３のなす角は、好ましくは２０度以下で、より好ましくは１０度以下で、すなわち、実質的に平行であることが望ましい。以下、本発明では２０度以下のものを総称して平行電界と表現する。また、線状電極層２４を上下基板に分けて形成しても、一方の基板にのみ形成してもその効果は変わらない。

図３に、ＦＦＳモードの液晶標示装置の一例についての、ＯＦＦ状態及びＯＮ状態を模式的に示す。なお、図２中と同一の部材には同一の番号を付し、詳細な説明は省略する。
図３では、電極は、上層の電極層２４と下層の電極層２６との２層構造となっていて、絶縁層２５を介して層を異にして配置されている。電極層２６は、パターニングされていない電極層であっても、線状などにパターニングされた電極層であってもよい。上層の電極層２４は線状であるのが好ましいが、下層電極層２６からの電界が通過できる形状であれば、網目状、スパイラル状及び点状などいずれでもよい。電位が中立なフローティング電極をさらに追加してもよい。また絶縁層２５はＳｉＯや窒化膜などの無機材料からなる層であっても、アクリルやエポキシ系等の有機材料からなる層であってもよい。上層の電極層２４と下層の電極層２６とに電圧を印加することによって、基板８に対して平行な成分を含む電界２３’が形成される。ＯＦＦ状態においては、ＩＰＳモードと同様、液晶性分子１１は、基板９及び１２の対向面のラビング軸（図１において１０及び１３）にその長軸を一致させて配向する。それに対し、ＯＮ状態では、基板９及び２に平行な成分を含む電界２３’が形成され、液晶性分子１１はその長軸を電界方向と一致させて配向する。

なお、図１には詳細な構造は示さないが、液晶セルの上側基板９又は下側基板１２の対向面には、ＲＧＢカラーフィルタが配置され、液晶セルはＲ層、Ｇ層及びＢ層が配置された３つの絵素領域を含んでいる。本実施態様では、これらの３つの着色層のうち、少なくとも２つの着色層、例えば、Ｇ層とＲ層、又はＧ層とＢ層、の厚さ方向のＲｔｈが互いに異なっていることが好ましい。３つの着色層のＲｔｈがそれぞれ互いに異なっているのがより好ましい。ＲＧＢカラーフィルタでは、絵素領域の最大透過率をとる主波長は、小さい順に、青色光波長λ_Ｂ、緑色光波長λ_Ｇ及び赤色光波長λ_Ｒになる。Ｒ、Ｇ及びＢ層におけるカラーフィルタの厚み方向のレタデーションをＲｔｈ（λ_Ｂ）、Ｒｔｈ（λ_Ｇ）及びＲｔｈ（λ_Ｒ）とすると、本実施形態では、ＲＧＢカラーフィルタのＲｔｈ（λ_Ｂ）は、下記関係式（９）を満足することが好ましい。さらに、ＲＧＢカラーフィルタのＲｔｈ（λ_Ｇ）及びＲｔｈ（λ_Ｒ）の少なくとも一方が、下記式（１０）及び（１１）のそれぞれを満足しているのが好ましく、双方が、下記式（III）及び（IV）を満足しているのがより好ましい。
（９）：Ｒｔｈ（λ_Ｂ）≦ ５ｎｍ
（１０）： −３５ｎｍ ≦Ｒｔｈ（λ_Ｇ）≦ ２５ｎｍ
（１１)： −４５ｎｍ ≦Ｒｔｈ（λ_Ｒ）≦ ０ｎｍ

かかる関係式を満足するため、例えば、Ｒ層の厚み（ｄ_ｒ）、Ｇ層の厚み（ｄ_ｇ）、及びＢ層の厚み（ｄ_ｂ）が互いに異なるカラーフィルタを用いてもよい。

再び図１において、液晶セルは、上側偏光板２１と下側偏光板２２との間に配置され、上側偏光板２１及び下側偏光板２２は互いにその吸収軸４及び１７を直交にして配置される。上側偏光板２１を視認側偏光板とした場合、上側偏光板２１の吸収軸４は、電圧無印加時（ＯＦＦ状態）における、液晶セル内の液晶性分子１１の異常光屈折率方向と直交するように積層するのが好ましい。上側偏光板２１は、偏光フィルム３と、その表面に配置された保護フィルム１及び５とを有し、下側偏光板２２は、偏光フィルム１６と、その表面に配置された保護フィルム１４及び１８とを有する。

図１において、下側偏光板２２の外側に配置されたバックライトユニット２０から光が入射する場合を考える。電極（図１中不図示）に駆動電圧を印加しない非駆動状態（ＯＦＦ状態）では、液晶層中の液晶性分子１１は、基板９及び１２の面に対して概略平行に、且つその長軸をラビング軸１０及び１３に略平行にして配向している。この状態では、偏光フィルム１６によって所定の偏光状態となった光は、液晶性分子１１の複屈折効果を受けず、その結果、偏光フィルム３の吸収軸４によってブロックされる。この時、黒表示となる。これに対して、電極（図１中不図示）に駆動電圧を印加した駆動状態（ＯＮ状態）では、基板に対して平行な成分を含む電界が形成され、液晶性分子１１はその長軸を電界の向きに一致させて配向する。その結果、偏光フィルム１８によって所定の偏光状態となった光は、液晶性分子１１の複屈折効果によって偏光状態が変化し、その結果、偏光フィルム３を通過する。この時白表示となる。本発明では、カラーフィルタの厚み方向のレタデーションＲｔｈを各絵素領域ごとに異ならせているので、広い視野角で良好な色再現性が得られ、且つ黒表示時の着色、いわゆるカラーシフトが軽減されている。

図２のＩＰＳモードの液晶表示装置では、液晶層の配向制御方向（図１中、ラビング軸１０及び１３）を、表示装置の上下方向、１２時−６時方向、として配置するのが好ましく、上側偏光板と下側偏光板の吸収軸４及び１７も、１２時−６時方向に配置して、直交させるのが好ましい。さらに、偏光フィルム３及び１６と、液晶層との間に配置される保護フィルム５及び１４の遅相軸６及び１５も、１２時−６時で配置して、より近い位置に配置された液晶セル用基板のラビング軸と平行にして配置するのが好ましい。かかる配置は、黒表示時の漏れ光の低減や視角方向での着色の解消に有効である。

さらに、図１に示す様に、上側偏光板２１の液晶セル側保護フィルム５と液晶層１１との間に光学異方性層７を配置してもよい。光学異方性層７のレタデーションの値は、液晶層１１のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。なお、図１では、光学異方性層７を、上側偏光板２１の保護フィルム５と液晶層１１との間に配置した構成を示したが、下側偏光板２２の保護フィルム１４と液晶層１１との間に配置してもよいし、また、双方に配置してもよい。また、上側偏光フィルム３の保護フィルム５のレタデーションは、下側偏光フィルム１６の保護フィルム１４のレタデーションより、Ｒｔｈが２０ｎｍ以上大きいと、黒表示時の漏れ光の低減や視角方向での着色の解消に有効である。

図３に示すＦＦＳ方式液晶表示装置では、液晶層の配向制御方向（図１中、ラビング軸１０及び１３）を、表示装置の左右方向、３時−９時方向として配置するのが好ましく、上側偏光板と下側偏光板の吸収軸４及び１７も、３時−９時方向に配置して、直交させるのが好ましい。さらに、偏光フィルム３及び１６と、液晶層との間に配置される保護フィルム５及び１４の遅相軸６及び１１も、３時−９時で配置して、より近い位置に配置された液晶セル用基板のラビング軸と平行にして配置するのが好ましい。かかる配置は、黒表示時の漏れ光の低減や視角方向での着色の解消に有効である。さらに、図１に示す様に、上側偏光板２１の液晶セル側保護フィルム５と液晶層１１との間に光学異方性層７を配置してもよい。光学異方性層７のレタデーションの値は、液晶層１１のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。なお、図１では、光学異方性層７を、上側偏光板２１の保護フィルム５と液晶層１１との間に配置した構成を示したが、下側偏光板２２の保護フィルム１４と液晶層１１との間に配置してもよいし、また、双方に配置してもよい。

電極の形状及び配置については図２及び３に示す構成に限定されず、従来、ＩＰＳモード及びＦＦＳモードに利用されているいずれの形状の電極及びその構成を利用することができる。例えば、より広視野角を得るために、線状電極（「くし歯電極」という場合がある）をジグザグの形状に配置してもよい。ただしこの場合は、電極の屈曲部で液晶層中の液晶性分子の配向が乱れ、表示装置のコントラストが低下する場合がある。このコントラストの低下を軽減するのに、偏光フィルム（図１中３及び１６）のセルロースアシレートフィルム等からなる保護フィルム（図１中５及び１４）の遅相軸（図１中、６及び１５）を、液晶層１１の平均配向制御方向（図１中１０及び１３）と１０°以内で交差させるのが有効である。この様に配置すると、この配向乱れによる液晶層の位相差ムラを補償することができ、表示の均一性を向上させることができる。さらにラビング処理による液晶分子の配向乱れによる黒表示時の輝度ムラも、保護フィルムを、その遅相軸をラビング軸に対して交差させて配置することで、レタデーションムラを自己補償して、輝度ムラを軽減できる。
これら液晶分子の配向乱れの平均の方向は元々の配向制御方向から概略５〜１５°程度ずれている。保護フィルムの遅相軸をその平均配向軸に交差させて，レタデーションを補償することで表示ムラが軽減できる。なお、上記した様に、保護フィルムをその遅相軸を交差させて配置する場合は、保護フィルムのＲｅ値が大きいと、ムラは軽減できても、黒輝度絶対値が上昇し，コントラスト低下が発生してしまう場合があるので、例えば、特開２００５−１３８３７５号公報に記載のセルロースアシレートフィルム等の、Ｒｅが小さい、ほぼ０のフィルムを用いるのが好ましい。
さらに上記した通り、光学異方性層を配置し、その遅相軸や配向制御方向、平均の配向方向を、液晶層の平均配向制御方向と１０°以内で交差させることでも同様にムラを低減することができる。

また、ＦＦＳモードは、視野角がＩＰＳモードより狭くなる傾向があり、また、電極端で高電界が印加されるため液晶配向乱れが大きいという特徴がる。これらのことから、セルロースアシレートフィルム等からなる保護フィルム（図１中５及び１４）の遅相軸（図１中６及び１５）を液晶層１１の平均配向制御方向（図１中１０及び１３）と１０°以内で交差させることによるムラ低減の効果はより大きくなる。
なお、ＩＰＳモード及びＦＦＳモードのいずれの態様の液晶表示装置においても、視認側及びバックライト側の偏光板の双方又はいずれか一方について、保護フィルムの遅相軸と偏光フィルムとの吸収軸とが前記範囲でずれているのが好ましく、いずれか一方のみについて、保護フィルムの遅相軸と偏光フィルムとの吸収軸とが前記範囲でずれているのがより好ましい。

［バックライト］
液晶表示装置は液晶セルを通過する光のＯＮ、ＯＦＦ遮断で表示を行うが、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することがで、明るく鮮やかな表示装置となる。
バックライトには、携帯端末やノートパソコンに使用される表示装置に使われるサイドエッジ型バックライトと、テレビなどの表示装置に使われる直下型バックライトがある。サイドエッジ型は導光板の端部に蛍光灯が１本あるいは２本配置された形状で、バックライトの装置厚さを小さくできる長所がある。一方直下型バックライトでは、必要輝度に応じて蛍光灯の数を増やすことが可能であり、高輝度を得やすい。サイドエッジ型及び直下型バックライトにおいて蛍光灯に代えて、発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子等を使用した構造や，これらの不ｋ数光源の組み合わせも有効である。
さらにバックライトの発光効率を高めるために、プリズム状やレンズ状の集光型輝度向上シート（フィルム）を積層したり、偏光板の吸収による光ロスを改善する偏光反射型の輝度向上シート（フィルム）をバックライトと液晶セルの間に積層したりしてもよい。また、バックライトの光源を均一化させるための拡散シート（フィルム）を積層してもよく、逆に光源に面内分布をもたせるための反射、拡散パターンを印刷などで形成したシート（フィルム）を積層してもよい。バックライトは常時点灯するもの以外にも、間欠点灯するもの、バックライトを複数の領域に分割して発光させるものがある。また発光方法を画像イメージと関連づけて調光すること可能である。バックライトが複数の領域に分かれ、おのおのが異なった発光（輝度及び色）をする構造であってもよい。

［アプリケーション］
本発明の液晶表示装置は、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。画像直視型にはノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、テレビなどのマルチメディア用ディスプレイ、カーナビゲーション、携帯電話、携帯端末、時計型端末、ウェアラブルディスプレイ等の小型表示装置に有効である。さらにはアミューズメント機器の表示装置や会議用の縦置きや床置きの大型表示装置にも有効である。
画像投影型はスクリーンに直接投影するフロントプロジェクター型とスクリーンの背面から投影するリヤプロジェクター型がある。またＬＥＤ光源等を用いた携帯型のプロジェクターにも有効である。
光変調型は、３次元ディスプレイや高臨場感型ディスプレイとよばれる表示装置に有効である。例えば液晶セルを２枚用いた３次元ディスプレイや複数のリヤプロジェクターからなる円筒型３次元ディスプレイに有効である。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。

（セルロースアセテートフィルム０１〜０３の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液０１を調製した。

置換度２．８６のセルロースアセテート１００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）３．９質量部
下記化（２）の化合物０．８質量部
下記化（３）の化合物０．２質量部
メチレンクロライド（第一溶媒）
メタノール（第二溶媒）

化（２）：

化（３）：

調整したセルロースアシレート溶液０１を流延部、テンター部、乾燥部から構成されるバンド流延機を用いて流延した。作製後の膜厚が７０μｍになるように流量を調整しながら、流延部の連続した金属支持体上にセルロースアシレート溶液０１を流延し、残留溶剤量が約５５％の状態で金属支持体から剥離した。剥離した後、クリップ方式のテンターで剥離したウェブの両端を把持しながら搬送し、１００〜１４０℃で乾燥させた。さらに、残留溶剤量が約２０％のところでテンターから離脱し、クリップ跡のある両端を切り落とした後、複数のロールからなる乾燥部でさらに乾燥させて残留溶剤量を０．１％巻き取った。このようにしてセルロースアセテートフィルム０１を作成した。
また、フィルムの膜厚を６０μｍ、および４０μｍにしたこと以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルム０２、０３を作製した。

（セルロースアシレートフィルム０４〜０６の作製）
以下の成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液０２を調製した。
置換度２．８６のセルロースアセテート１００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）３．９質量部
前記化（２）の化合物０．８質量部
前記化（３）の化合物０．２質量部
メチレンクロライド４９４．８質量部
メタノール９３．３質量部
ブタノール３．６質量部

セルロースアシレート溶液０２を２３．５％の濃度まで濃縮した後、−１０℃に冷却したドラム流延機を用いて流延した。流延後の膜厚は７０μｍになるように調製し、セルロースアセテートフィルム０４を作成した。
フィルムの膜厚を６０μｍ、および４０μｍにしたこと以外は実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルム０５、０６を作製した。

（セルロースアシレートフィルム０７の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。

〔セルロースアシレート溶液Ｂ組成〕
・酢化度２．９４のセルロースアシレート１００．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）４０２．０質量部
・メタノール（第２溶媒）６０．０質量部

（マット剤溶液の調製）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（AEROSIL R972、日本アエロジル（株）製）２０質量部と、メタノール８０質量部とを３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液Ａを調製した。
〔マット剤溶液の組成〕
・平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液１０．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）７６．３質量部
・メタノール（第２溶媒）３．４質量部
・セルロースアシレート溶液Ｂ１０．３質量部

（添加剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。光学的異方性を低下する化合物および波長分散調整剤は下記の化合物を用いた。

（添加剤溶液組成）
・下記レターデーション低下化合物（化（４））４９．３質量部
・下記波長分散調整剤（化（５））７．６質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）５８．４質量部
・メタノール（第２溶媒）８．７質量部
・セルロースアシレート溶液Ｂ１２．８質量部

化（４）
レターデーション低下化合物

化（５）
波長分散調整剤

前記セルロースアシレート溶液Ｂを９４．６質量部と、マット剤溶液を１．３質量部と、添加剤溶液３．８質量部とをそれぞれ濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。前記組成でレターデーション低下化合物および波長分散調整剤のセルロースアシレートに対する質量比はそれぞれ１１．１％、１．１％であった。また、膜厚は７０μｍとした。

（セルロースアシレートフィルム０８の作製）
添加剤溶液の量を調製し、レターデーション低下化合物および波長分散調整剤のセルロースアシレートに対する質量比を１１．７％および１．２％にし、膜厚を６５μmにしたこと以外は実施例３と同様にしてセルロースアシレートフィルム０８を作製した。

（セルロースアシレートフィルム０９、１０の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Cを調製した。
・酢化度２．９４のセルロースアシレート１００．０質量部
・前記化（３）の化合物８．８質量部
・前記化（４）のレタデーション低下化合物０．８質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）５３０．０質量部
・メタノール（第２溶媒）８０．０質量部

調製したセルロースアシレート溶液Cをバンド流延機を用いて流延した。膜厚は６０μｍ、４０μｍになるように調製し、セルロースアシレートフィルム０９、１０を作製した。

〔セルロースアセテートフィルム11の作製〕
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ｄを調製した。
・酢化度２．８６のセルロースアシレート１００．０質量部
・上記化（３）の化合物８．８質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）５１２．０質量部
・メタノール（第２溶媒）７７．０質量部
調製したセルロースアシレート溶液Cをバンド流延機を用いて流延した。膜厚は８０μｍになるように調製し、セルロースアシレートフィルム１１を作製した。

得られたセルロースアセテートフィルム０１〜１１について、エリプソメーター（Ｍ−１５０：日本分光（株）製）を用いて光学性能を求めた。得られた結果を表１にまとめた。

（偏光板の作製）
上記のセルロースアセテートフィルム０１〜１１を１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにしてフィルムの両表面をケン化処理した。

同様にして市販のセルロースアセテートフィルム３種（ＴＤ８０ＵＬ、ＴＦＹ８０ＵＬ、ＺＲＦ８０Ｓ、いずれも富士フィルム（株）製、膜厚８０μｍ）についてもけん化処理を行った。

次に厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して偏光子を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、けん化処理したセルロースアセテートフィルムを下表のような組み合わせで用い、偏光子と貼り合わせて偏光板を作成した。

〔実施例１〕
（液晶表示装置の作製）
ＩＰＳ型液晶セルを使用した市販の液晶表示装置（東芝（株）製、２６Ｃ１０００、２６インチサイズ）に設けられている偏光板を剥がし、液晶セルを取り出した。液晶セルの視認側（上側）とバックライト側（下側）に、作製した偏光板を以下の組み合わせでアクリル系の粘着材を用いて貼りあわせた。このとき、偏光子の吸収軸の方向は、従来設けられていた偏光板の吸収軸と合わせて貼り合せた。このようにして作成した液晶パネルを元通りに組み立て直して液晶表示装置を作成した。

作製した液晶表示装置について、EZ-Contrast １６０Ｄを用いて黒輝度、方位角４５°、極角６０°の色み、極角６０°で方位角全方位を測定した時の色み変化を測定した。その結果、いずれの液晶ハ゜ネルも光モレ、色み変化が小さく、色みもニュートラルグレイに近しく、良好な表示品位であった。また、液晶表示装置を６０℃９０％Ｒ．Ｈ．の温湿度下に４８時間静置した後、２５℃、６０％Ｒ．Ｈ．の環境に取り出して点灯したところ、液晶表示装置１〜８については表示部の周辺部に光モレはごく僅かしか観測されなかったが、液晶表示装置９においては表示部の周辺部に光モレが観測された。

〔実施例２〕
（液晶表示装置の作製）
２枚のガラス基板の間に液晶層を注入し、基板の間隔（ギャップ；ｄ）が３．４μｍのＩＰＳモード液晶セルを作製した。液晶層のΔｎは０．０８７６５とし、液晶層のｄ・Δｎの値は２９８ｎｍとした。なお、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるように設定した。
実施例１と同様にして上側偏光板として偏光板２、下側偏光板として偏光板１０を貼り合せて液晶表示装置１０を作製した。得られた液晶表示装置の表示性能評価を行った結果、実施例１と同様の表示品位であった。

〔比較例１〕
（液晶表示装置の作製）
実施例１の液晶セルを用いて、実施例１と同様にして以下の組み合わせで偏光板を貼り合せた。液晶パネルを元通りに組み立て直して液晶表示装置を作成した。

作製した液晶表示装置について、実施例１と同様にして表示品位を調べたところ、液晶表示装置１１では黄色に着色しており、色み変化が大きかった。また、液晶表示装置１２では黒輝度の透過率が高く、光モレが大きかった。また、液晶表示装置１１、１２のいずれも、実施例１と同様に湿熱処理を施した後のハ゜ネル周囲の光モレが現れることが確認できた。

本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。本発明の液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。本発明の液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。

符号の説明

１上側偏光板保護フィルム
２上側偏光板保護フィルムＭＤ方向
３上側偏光板偏光フィルム
４上側偏光板偏光フィルム吸収軸
５上側偏光板液晶セル側保護フィルム
６上側偏光板液晶セル側保護フィルムＭＤ方向（遅相軸方向）
７光学異方性フィルム
８光学異方性フィルム遅相軸
９液晶セル上側基板
１０上側基板液晶配向用ラビング方向
１１液晶分子（液晶層）
１２液晶セル下側基板
１３下側基板液晶配向用ラビング方向
１４下側偏光板液晶セル側保護フィルム
１５下側偏光板液晶セル側保護フィルムＭＤ方向（遅相軸方向）
１６下側偏光板偏光フィルム
１７下側偏光板偏光フィルムの吸収軸
１８下側偏光板保護フィルム
１９下側偏光板保護フィルムＭＤ方向
２０バックライトユニット
２０ａ光源ランプ
２１上側偏光板
２２下側偏光板
２３、２３’ 印加電界方向
２４線状電極
２５絶縁層
２６電極

Claims

少なくとも一方が電極を有する対向配置された一対の基板と、該基板間に配置され、配向制御された液晶層とを有し、前記電極により、該電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が形成される液晶セル、前記液晶セルを挟持して配置された一対の偏光膜、及びバックライトを少なくとも有する液晶表示装置であって、
前記一対の偏光膜のうち前記液晶セルに対して視認側にある偏光膜と前記液晶セルとの間に位相差層（Ａ）、前記一対の偏光膜のうち前記液晶セルに対して前記バックライト側にある偏光膜と前記液晶セルとの間に位相差層（Ｂ）をさらに有し、該位相差層（Ａ）の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向の位相差（ＲｔｈＵ）、および位相差層（Ｂ）の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向の位相差（ＲｔｈＤ）が下記式（１）〜（３）の全てを満たし、かつ前記位相差層（Ａ）の厚みおよび位相差層（Ｂ）の厚みがいずれも７０μｍ以下である液晶表示装置。
式（１）：ＲｔｈＵ＞ＲｔｈＤ
式（２）： −２０ｎｍ ≦ ＲｔｈＤ ≦ ２０ｎｍ
式（３）：２０ｎｍ＜ＲｔｈＵ ≦ ６０ｎｍ
前記位相差層（Ａ）の波長５５０ｎｍにおける面内の位相差（ＲeＵ）、および前記位相差層（Ｂ）の波長５５０ｎｍにおける面内の位相差（ＲeＤ）が下記式（４）および（５）を満たす請求項１に記載の液晶表示装置。
式（４）： −１０ｎｍ ≦ ＲｅＵ ≦ １０ｎｍ
式（５）： −１０ｎｍ ≦ ＲｅＤ ≦ １０ｎｍ
前記位相差層（Ａ）および（Ｂ）がいずれもセルロースアシレートフィルムからなる請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
前記偏光膜のそれぞれにこれを挟持して保護フィルムが配置され、該保護フィルムのうち最も薄い保護フィルムと最も厚い保護フィルムの膜厚の差が２０μｍ以下である請求項３記載の液晶表示装置。
前記電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が、層を異にして配置された画素電極と対向電極によって発生する請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
前記電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が、層を異にして配置された少なくとも一方が透明な一対の電極と、電圧が印加されない電極とによって発生する請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。