JP6998944B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置に関する。

ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型及びＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型の液晶表示装置は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型及びＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型のように上下基板間に電界を印加し、液晶性化合物の立ち上がりによって駆動するモードではなく、基板面にほぼ平行な成分を含む電界によって液晶性化合物を基板面内方向に応答させる横電界方式と言われる方式（モード）である。
また、ＩＰＳ型及びＦＦＳ型は、その構造から原理的に視野角への制限が少ない方式であるため、視野角が広い上に色度変移・色調変化が少ないといった特性を持つ駆動方式として知られている。

これらの横電界方式の液晶表示装置に関しては、特許文献１において、黒表示の斜め方向における色味変化を低減するために、偏光板、液晶層、カラーフィルタ、及び、光学補償部材を組み合わせた構成が開示されている。

特開２０１４－１６６４２号公報

液晶表示装置を製造する際には、各種部材を貼り合わせる方式が取られる場合が多い。その際には、例えば、偏光子との吸収軸と光学補償層の面内遅相軸とは所定の角度関係になるように、両者が貼り合される。
本発明者らは特許文献１の液晶表示装置について検討を行ったところ、偏光子の吸収軸と光学補償層の面内遅相軸とのなす角度が所定の範囲を少しでもずれると、黒表示の際の斜め方向における色味変化が大きくなるという問題があることを知見した。上記のような問題があると、液晶表示装置を製造する際に、偏光子と光学補償層との貼り合せ角度が少しでもずれると所望の効果を奏しなくなるため、歩留まりの低下を招きやすい。

本発明は、上記実情に鑑みて、偏光子と光学補償層との貼り合せ角度のずれがあった場合でも、黒表示時に斜め方向から視認した際の色味変化が抑制された液晶表示装置を提供することを課題とする。

本発明は、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、所定の構造の液晶表示装置であれば、上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。

（１） 少なくとも一方が電極を有する対向配置された一対の基板と、一対の基板間に配置され、配向制御された液晶性化合物を含む液晶層とを有し、電極により、電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が形成される液晶セル、及び、
液晶セルを挟持して配置された一対の偏光板、を少なくとも含む、液晶表示装置であって、
液晶性化合物のチルト角が１．０°以下であり、
液晶セルが、第１の画素領域、第２の画素領域、及び、第３の画素領域を少なくとも含み、
一対の偏光板の間に、液晶セルの第１の画素領域上に配置された第１のカラーフィルタと、液晶セルの第２の画素領域上に配置された第２のカラーフィルタと、液晶セルの第３の画素領域上に配置された第３のカラーフィルタとを、液晶セルよりも視認側に含み、
第１のカラーフィルタの最大透過率を示す波長をλ₁、第２のカラーフィルタの最大透過率を示す波長をλ₂、及び、第３のカラーフィルタの最大透過率を示す波長をλ₃としたとき、λ₁＜λ₂＜λ₃の関係を満たし、
第１のカラーフィルタの波長λ₁における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ₁）、第２のカラーフィルタの波長λ₂における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ₂）、及び、第３のカラーフィルタの波長λ₃における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ₃）が、後述する式（１）～（３）の要件を満たし、
一対の偏光板のうち、視認側に配置される偏光板は、液晶セル側から光学補償層及び偏光子を含み、
光学補償層の面内遅相軸と偏光子の吸収軸とは平行であり、
光学補償層の、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）が、後述する式（５）及び（６）の要件を満たす、液晶表示装置。
（２） 後述する式（１－１）の要件を満たす、（１）に記載の液晶表示装置。
（３） 光学補償層が１層であり、
光学補償層の、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ１（５５０）が、後述する式（６）及び（７）の要件を満たす、（１）または（２）に記載の液晶表示装置。
（４） 光学補償層が、液晶セル側から順に、第１光学補償層と第２光学補償層とを含み、
第１光学補償層の、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ１（５５０）が、後述する式（８）及び（９）の要件を満たし、
第２光学補償層の、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ２（５５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）が、後述する式（１０）及び（１１）の要件を満たす、（１）または（２）に記載の液晶表示装置。
（５） 第１光学補償層がポジティブＡプレートであり、第２光学補償層がポジティブＣプレートである、（４）に記載の液晶表示装置。
（６） 第１光学補償層が、λ／４層である、（５）に記載の液晶表示装置。
（７） 第２光学補償層の、波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（４５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）が、後述する式（１２）の要件を満たす、（４）～（６）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（８） 第２光学補償層が、液晶性化合物が配向した状態で固定化したフィルムである、（４）～（７）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（９） 第２光学補償層が、棒状液晶性化合物が基板面に対して垂直方向に配向した状態で固定化したフィルムである、（８）に記載の液晶表示装置。
（１０） 第１光学補償層が、シクロオレフィン系ポリマーフィルムである、（４）～（９）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１１） 液晶セルよりも非視認側にある偏光子と液晶層との間は屈折率が略等方性である、（１）～（１０）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１２） 光学補償層が、ポリビニルアルコール系接着剤を介して偏光子と接着している、（１）～（１１）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１３） 光学補償層が、活性エネルギー線の照射または加熱により硬化する硬化性接着剤組成物を介して、偏光子と接着している、（１）～（１１）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１４） 後述する式（１－２）の要件を満たす、（１）～（１３）のいずれかに記載の液晶表示装置。

本発明によれば、偏光子と光学補償層との貼り合せ角度のずれがあった場合でも、黒表示時に斜め方向から視認した際の色味変化が抑制された液晶表示装置を提供できる。

本発明の実施形態の一例を示す模式図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に制限されるものではない。
本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。

また、本明細書において、偏光板とは、偏光子の少なくとも一方の表面に保護層又は機能層が配置されたものをいい、偏光子と偏光板は区別して用いる。

また、本明細書において、平行及び直交とは、厳密な意味での平行及び直交を意味するのではなく、それぞれ、平行又は直交から±５°の範囲を意味する。

また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートのいずれかを意味する表記であり、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルのいずれかを意味する表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルのいずれかを意味する表記である。

本明細書において、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション及び厚み方向のレターデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
面内遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄが算出される。
また、本発明においてＮｚは、位相差層の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）及び厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）により、Ｎｚファクター＝Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＋０．５と定義される。

本発明において、屈折率ｎｘ、ｎｙ及びｎｚは、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。
また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルタとの組合せで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することもできる。
主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。

以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。
図１に示す液晶表示装置は、液晶セル（７～９）、液晶セルを挟持して配置された上側偏光板１６（１～６）と下側偏光板１７（１０～１３）、及び、下側偏光板１７のさらに外側に、バックライトユニット１４を含む。液晶セル（７～９）は、液晶セル上側基板７と液晶セル下側基板９と、これらに挟持される液晶層８とを含む。下側基板９は、その対向面に、電極層（図１中、不図示）を有し、電極層は、基板９の表面に対して平行な電界を液晶層に供与可能に構成されている。電極層は、通常、透明なインジウムチンオキサイド（ＩＴＯ）からなる。基板９の電極層上及び基板７の対向面には、液晶性化合物８の配向を制御する配向層（図１中不図示）が形成され、液晶性化合物８の配向方向が制御されている。配向層は表示の対称性を保持するために、ＵＶ（ultra violet）配向層であることが好ましい。

図１において、液晶セルは、上側偏光板１６と下側偏光板１７との間に配置される。上側偏光板１６は、保護フィルム１と、偏光子２と、光学補償層１５（４～５）とを含む。下側偏光板１７は、偏光子１１と、その両面に配置された保護フィルム１０及び１３を含む。
上側偏光板１６と下側偏光板１７とは、上側偏光板１６中の偏光子２の吸収軸３及び下側偏光板１７中の偏光子１１の吸収軸１２が直交するように、配置される。上側偏光板１６を視認側の偏光板とした場合、上側偏光板１６中の偏光子２の吸収軸３は、電圧無印加時（ＯＦＦ状態）における、液晶セル内の液晶性化合物８の異常光屈折率方向と直交するように積層するのが好ましい。

なお、図１には示さないが、液晶セル上側基板７上（液晶セル上側基板７の視認側（上側偏光子側）の表面上）には、青色カラーフィルタ（以後、「ＢＣＦ」ともいう。）、緑色カラーフィルタ（以後、「ＧＣＦ」ともいう。）、及び、赤色カラーフィルタ（以後、「ＲＣＦ」ともいう。）が配置されている。
また、液晶セルは、上述したＢＣＦ、ＧＣＦ及びＲＣＦがそれぞれ配置される３つの画素領域を含む。
上記ＢＣＦ、ＧＣＦ及びＲＣＦは、本発明の液晶表示装置の第１カラーフィルタ、第２カラーフィルタ、及び、第３カラーフィルタにそれぞれ相当する。また、液晶セル中の３つの画素領域は、本発明の液晶表示装置中の液晶セルに含まれる第１の画素領域、第２の画素領域、及び、第３の画素領域にそれぞれ相当する。

図１において、下側偏光板２２の外側に配置されたバックライトユニット１４から光が入射する場合を考える。電極（図１中不図示）に駆動電圧を印加しない非駆動状態（ＯＦＦ状態）では、液晶層中の液晶性化合物８は、液晶セル上側基板７及び液晶セル下側基板９の面に対して略平行に、且つ、その長軸を偏光子１１の吸収軸１２に対して略平行にして配向している。この状態では、偏光子１１によって所定の偏光状態となった光は、液晶性化合物８の複屈折効果を受けず、その結果、偏光子２の吸収軸３によって吸収される。この時、黒表示となる。これに対して、電極（図１中不図示）に駆動電圧を印加した駆動状態（ＯＮ状態）では、基板に対して平行な成分を含む電界が形成され、液晶性化合物８はその長軸を電界の向きに一致させて配向する。その結果、偏光子１１によって所定の偏光状態となった光は、液晶性化合物８の複屈折効果によって偏光状態が変化し、その結果、偏光子２を通過する。この時、白表示となる。

本発明の液晶表示装置においては、ＢＣＦ、ＧＣＦ及びＲＣＦの厚み方向のレターデーションＲｔｈを画素領域ごとに制御し、かつ、光学補償層の位相差及び波長分散性を所定の範囲にすることで、偏光子と光学補償層との貼り合せ角度のずれがあった場合でも、黒表示時に斜め方向から視認した際の色味変化が抑制されている。
なお、本発明の液晶表示装置においては、偏光子と光学補償層との貼り合せ角度のずれが略無い場合においても、黒表示時に斜め方向から視認した際の色味変化が抑制され、黒表示時に発生する斜め視野の光漏れも抑制される。
以下、上記液晶表示装置に含まれる各部材について詳述する。

＜液晶セル＞
図１に示す液晶表示装置中の液晶セルは、少なくとも一方が電極を有する対向配置された一対の基板と、基板間に配置され、配向制御された液晶性化合物を含む液晶層とを有する。
基板（液晶セル上側基板及び液晶セル下側基板に該当）の内側の対向面の双方に、液晶性化合物を配向させる配向層を配置するのが好ましい。また、２枚の基板間の距離（セルギャップ）を保持するための柱状又は球状のスペーサを、液晶層内に配置するのが一般的である。
その他、反射板、集光レンズ、輝度向上フィルム、発光層、蛍光層、燐光層、反射防止膜、防汚膜、及び、ハードコート膜等を液晶セル内に配置してもよい。

基板としては、透明ガラス基板が好ましい。なお、液晶セル用基板としては、より硬く高温に耐えるシリコンガラス基板、又は、プラスチック基板を用いてもよい。

液晶層を構成する液晶性化合物の種類は、特に制限されない。例えば、液晶性化合物として、ネマチック液晶性化合物（例えば、誘電率異方性Δεが正のネマチック液晶性化合物）を用いてもよい。なお、ネマチック液晶性化合物の誘電率異方性Δεは、その値が大きいほうが、駆動電圧が低減でき、屈折率異方性Δｎは小さいほうが液晶層の厚み（ギャップ）を厚くでき、液晶性化合物の封入時間が短縮され、かつギャップばらつきを少なくできる。
液晶層の厚み（ギャップ）は、２．８μｍ超４．５μｍ未満が好ましい。
液晶層のレターデーション（Δｎ・ｄ）を０．２５μｍ超０．４０μｍ未満とすると、可視光の範囲内で波長依存性が殆どない透過率特性がより容易に得られる。
また、液晶性化合物がもとの配向方向から水平方向に４５°回転したとき、最大透過率が得られる。
なお、液晶層の厚み（ギャップ）は、通常、ポリマービーズで制御できる。ポリマービーズ以外にも、ガラスビーズ、ファイバー、及び、樹脂製の柱状スペーサを用いてもよい。

一般的に、ＩＰＳ方式においては、従来のＴＮ方式に代表される縦電界方式と異なり基板面との界面チルトが原理的に必要なく、界面チルト角が小さいほど視野角特性がよいことが知られている。
本発明の液晶表示装置中の液晶層においては、液晶性化合物のチルト角は１．０°以下である。下限値は特に制限されないが、０°が挙げられる。なお、上記チルト角とは、液晶性化合物の長軸と、基板表面とのなす角度を意図する。
上記チルト角を実現するためには、上述したように、配向層を用いる態様が挙げられる。従来の量産技術においては、ポリイミド等の高分子膜からなる配向制御層上をラビング処理し、液晶配向能（初期配向）を付与し、配向層を形成する。一方で、ラビング用の布は、太さが１０～３０μｍ程度の細い繊維を束ねて構成されており、実質的にはこの細い繊維一本一本が、配向層の局所的な部分に一定方向の剪断力を与えることで液晶配向能を付与する処理がなされる。ＩＰＳ方式での電極間隔も上記繊維の径と同程度の１０～３０μｍ程度であるため、段差近傍のラビングは十分になされず、配向が乱れやすい。この配向の乱れはコントラスト比の低下、及び、輝度や色味の不均一性といった画質の低下を引き起こす。これらのラビング配向処理の問題を解決する方法として、偏光した紫外線等を高分子膜の表面に照射し、ラビング処理をすることなく液晶性化合物を配向させる光配向法が提案されている。例えば、特開２００５－３５１９２４号公報において、光配向法を用いて液晶性化合物のチルト角を１．０°以下にすることが記載されており、本発明においても光配向法を用いることが好ましい。

液晶セルは、上述したように、ＢＣＦ、ＧＣＦ、及び、ＲＣＦがその表面上に配置されて、それぞれのカラーフィルタに対応した画素領域を含む。言い換えれば、液晶セルは、複数の画素領域を含み、各画素領域に対応するように液晶セル上にＢＣＦ、ＧＣＦ、及び、ＲＣＦが配置されている。
なお、通常、カラー表示を行う液晶表示装置では、光の３原色（赤、緑、及び、青）のサブピクセル（画素領域）が１組となり、１画素を形成する。また、３色以上のサブピクセルで１画素を形成する場合もある。

＜カラーフィルタ＞
図１に示す液晶表示装置は、一対の偏光板の間に、液晶セルの各画素領域上に配置されたカラーフィルタを含む。より具体的には、液晶セル中の液晶セル上側基板上に、ＢＣＦ、ＧＣＦ、及び、ＲＣＦが配置されている。なお、ＢＣＦ、ＧＣＦ、及び、ＲＣＦは、いずれも視認側（上側偏光板側）に配置される。
なお、ＢＣＦは青色領域（波長４２０～４９０ｎｍ）に最大透過率を示すカラーフィルタであり、ＧＣＦは緑色領域（波長４９５～５７０ｎｍ）に最大透過率を示すカラーフィルタであり、ＲＣＦは青色領域（波長５８０～７００ｎｍ）に最大透過率を示すカラーフィルタである。
なお、本明細書において「最大透過率」とは、可視光領域（４００～７００ｎｍ）における最大の透過率を意味する。

ＢＣＦの最大透過率を示す波長をλ₁（ｎｍ）、ＧＣＦの最大透過率を示す波長をλ₂（ｎｍ）、ＲＣＦの最大透過率を示す波長をλ₃（ｎｍ）とすると、λ₁＜λ₂＜λ₃の関係を満たしている。
また、ＢＣＦの波長λ₁における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ₁）、ＧＣＦの波長λ₂における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ₂）、及び、ＲＣＦの波長λ₃における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ₃）は、式（１）～（３）の要件を満たす。
式（１） （Ｒｔｈ（λ₁）－５ｎｍ）≦Ｒｔｈ（λ₂）≦Ｒｔｈ（λ₃）
式（２） －５ｎｍ≦Ｒｔｈ（λ₂）≦２５ｎｍ
式（３） －１０ｎｍ≦Ｒｔｈ（λ₁）≦２５ｎｍ
なかでも、式（１－１）の要件を満たすことが好ましく、式（１－２）の要件を満たすことがより好ましい。
式（１－１） Ｒｔｈ（λ₁）≦Ｒｔｈ（λ₂）≦Ｒｔｈ（λ₃）
式（１－２） Ｒｔｈ（λ₁）＜Ｒｔｈ（λ₂）＜Ｒｔｈ（λ₃）
また、式（２－１）の要件を満たすことが好ましく、式（２－２）の要件を満たすことが好ましい。
式（２－１） －５ｎｍ≦Ｒｔｈ（λ₂）≦２０ｎｍ
式（２－２） ０ｎｍ≦Ｒｔｈ（λ₂）≦１５ｎｍ
さらに、式（３－１）の要件を満たすことが好ましく、式（３－２）の要件を満たすことが好ましい。
式（３－１） －１０ｎｍ≦Ｒｔｈ（λ₁）≦１５ｎｍ
式（３－２） －５ｎｍ≦Ｒｔｈ（λ₁）≦１０ｎｍ

Ｒｔｈ（λ₃）は、上記式（１）の要件を満たしていれば特に制限されないが、０～３５ｎｍであることが好ましく、１０～２５ｎｍであることがより好ましい。

上記要件を達成する方法は特に制限されないが、例えば、式（１）の要件を満たす方法としては、カラーフィルタの厚みを変化させて、各カラーフィルタのＲｔｈを調整する方法が挙げられる。
また、カラーフィルタのＲｔｈは、カラーフィルタ内にレターデーション上昇剤又は低下剤を添加することにより調整してもよい。
レターデーション上昇剤としては、一般式（Ｘ）で表される化合物及びこれに類似する化合物が挙げられる。

レターデーション低下剤としては、一般式（ＸＩ）で表される化合物が挙げられる。

上記一般式（ＸＩ）中、Ｒ¹¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹²及びＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ¹¹、Ｒ¹²及びＲ¹³の炭素数の総和は、１０以上が好ましい。Ｒ¹¹、Ｒ¹²及びＲ¹³は置換基を有していてもよく、置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基又はスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基又はスルホンアミド基がより好ましい。
また、アルキル基は直鎖状であっても、分岐鎖状であっても、環状であってもよい。アルキル基の炭素数は、１～２５が好ましく、６～２５がより好ましく、６～２０がさらに好ましい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔ－アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビシクロオクチル基、ノニル基、アダマンチル基、デシル基、ｔ－オクチル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、及び、ジデシル基が挙げられる。
アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２４がより好ましい。アリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、又は、トリフェニルフェニル基が好ましい。

カラーフィルタ（ＢＣＦ、ＧＣＦ、ＲＣＦ）の作製方法は特に制限されず、例えば、着色感光性樹脂組成物をスピンコーター等で塗布後、フォトリソ工程でパターニングする着色レジスト法、及び、ラミネート法等が挙げられる。着色レジスト法のような塗布工程を含む形成方法では、塗布量を調整することで、厚みの異なるカラーフィルタを形成できる。また、ラミネート法では、厚みが異なる転写材料を用いることで、厚みの異なるカラーフィルタを形成できる。
なお、各カラーフィルタ間には、必要に応じて、ブラックマトリックスを配置してもよい。ブラックマトリックスを作製する方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。

なお、上記では図１に示す液晶表示装置中に含まれるＢＣＦ、ＧＣＦ及びＲＣＦについて主に詳述したが、この態様には制限されず、ＢＣＦ、ＧＣＦ及びＲＣＦは他の色のカラーフィルタであってもよい。つまり、本発明の液晶表示装置においては、液晶セルの各画素領域（第１の画素領域～第３の画素領域）上に配置された第１のカラーフィルタと、第２のカラーフィルタと、第３のカラーフィルタとが少なくとも含まれており、第１のカラーフィルタの波長λ₁における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ₁）、第２のカラーフィルタの波長λ₂における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ₂）、及び、第３のカラーフィルタの波長λ₃における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ₃）が、式（１）～（３）の要件を満たしていれば、ＢＣＦ、ＧＣＦ及びＲＣＦ以外の他の色のカラーフィルタであってもよい。
式（１） （Ｒｔｈ（λ₁）－５ｎｍ）≦Ｒｔｈ（λ₂）≦Ｒｔｈ（λ₃）
式（２） －５ｎｍ≦Ｒｔｈ（λ₂）≦２５ｎｍ
式（３） －１０ｎｍ≦Ｒｔｈ（λ₁）≦２５ｎｍ

＜偏光板＞
図１に示す液晶表示装置は、一対の偏光板を含む。
一対の偏光板のうち、視認側に配置される偏光板（上側偏光板）は、液晶セル側から光学補償層及び偏光子を含む。なお、偏光子の吸収軸と光学補償層の面内遅相軸とは、平行になるように配置される。
また、上述したように、図１中の上側偏光板は、偏光子の光学補償層と逆側の表面に保護フィルムを含む。なお、保護フィルムの代わりに硬化樹脂層を配置してもよい。
一対の偏光板のうち、視認側とは反対側に配置される偏光板（下側偏光板）は、偏光子と、その両面に配置された保護フィルムとを含む。
なお、上記保護フィルムは、任意の部材であり、液晶表示装置に含まれていなくてもよい。
以下、各部材について詳述する。

（光学補償層）
光学補償層は、１層または２層以上で構成され、後述する式（４）および式（５）で表されるように、略フラットなＲｅ波長分散性を持つ。光学補償層は、互いの吸収軸を直交にして配置されている一対の偏光子のＧ光（５５０ｎｍ）に対する視野角依存性を解消することで、斜めから見たときの光漏れを軽減する作用を持っている。光学補償層は光漏れを軽減する作用を持っていれば、任意の位相差の構成を取ることができる。

光学補償層の、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）が、式（５）及び（６）の要件を満たす。
式（４） ０．９５≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．１０
式（５） ０．９５≦Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（６５０）≦１．１０

光学補償層は、上述したように、１層から構成されていてもよいし、２層以上で構成されていてもよい。本発明では１層又は２層の光学補償層で構成されていることが好ましい。
１層構成の場合には第１光学補償層のみ、２層構成の場合には第１光学補償層と第２光学補償層とからなる。なお、いずれの層構成の場合でも、光学補償層全体として上記式（４）及び（５）を満足し、光学補償層の面内遅相軸は液晶セルに対して同じ側に配置される偏光子の吸収軸（視認側偏光板中の偏光子の吸収軸）と平行である。

光学補償層としては、製造のしやすさ等の観点から、ポリマーフィルム、又は、液晶性組成物を用いて形成されるフィルムが好ましい。
ポリマーフィルムとしては、セルロースアシレート系フィルム、シクロオレフィン系ポリマーフィルム（シクロオレフィン系ポリマーを用いたポリマーフィルム）、又は、アクリル系ポリマーフィルムが好ましい。アクリル系ポリマーフィルムとしては、ラクトン環単位、無水マレイン酸単位、及び、グルタル酸無水物単位から選ばれる少なくとも１種の単位を含むアクリル系ポリマーを含むことが好ましい。
ポリマーフィルムの厚みは、液晶表示装置の薄型化の点で、光学特性、機械物性、及び、製造適性を損ねない限りは薄いことが好ましく、具体的には、１～１５０μｍが好ましく、１～７０μｍがより好ましく、１～３０μｍがさらに好ましい。

液晶性組成物を用いて形成されるフィルムとは、液晶性化合物を含む組成物を用いて形成されるフィルムであり、液晶性化合物が配向した状態で固定化したフィルムが好ましい。なかでも、重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物を塗布して塗膜を形成し、塗膜中の液晶性化合物を配向させて、硬化処理を施して液晶性化合物の配向を固定化してなるフィルムがより好ましい。
液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物及び円盤状液晶性化合物が挙げられ、配向状態を固定化するために重合性基を有していることが好ましい。
以下、光学補償層の具体的な態様について詳述する。

（光学補償層が１層からなる場合）
光学補償層が１層からなる場合、第１光学補償層のみから形成され、第１光学補償層においては、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ１（５５０）が、式（６）及び（７）の要件を満たすことが好ましい。
式（６） ２００ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦３２０ｎｍ
式（７） －４０ｎｍ≦Ｒｔｈ１（５５０）≦４０ｎｍ

第１光学補償層は、例えば、ｎｚ＞ｎｘとなる特徴を持つポリマーのフィルムを、大きく延伸することで得られる。
製造方法としては、例えば、芳香族アシル基で置換されたセルロースアシレートであるセルロースアセテートベンゾエートを用いたフィルムの場合、セルロースアセテートベンゾエートを溶媒に溶解させたドープを成膜用の金属支持体上に流延し、溶媒を乾燥してフィルムを得て、得られたフィルムを１．３～１．９倍程度の大きな延伸倍率で延伸してセルロース分子鎖を配向させる方法が挙げられる。
また、例えば、特開平５－１５７９１１号公報、及び、特開２００６－７２３０９号公報に記載のように、高分子フィルムの片面又は両面に収縮性フィルムを貼り合わせて、加熱延伸することにより作製することも可能である。
第１光学補償層の厚みは、１～１５０μｍが好ましく、１～７０μｍがより好ましく、１～３０μｍがさらに好ましい。

（光学補償層が２層からなる構成）
光学補償層が２層からなる場合、第１光学補償層がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの２軸フィルム（Ｂ－プレート又は正のＡプレート）、第２光学補償層がｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚの［準］一軸性フィルム（正の［準］Ｃプレート）の２層からなることが好ましい。具体的には、第１光学補償層の、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ１（５５０）が、式（８）及び（９）の要件を満たし、
式（８） ８０ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦２００ｎｍ
式（９） ２０ｎｍ≦Ｒｔｈ１（５５０）≦１５０ｎｍ
第２光学補償層の、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ２（５５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）が、式（１０）及び（１１）の要件を満たすことが好ましい。
式（１０） ０ｎｍ≦Ｒｅ２（５５０）≦４０ｎｍ
式（１１） －１６０ｎｍ≦Ｒｔｈ２（５５０）≦－４０ｎｍ
本態様において、第１光学補償層が液晶セル側、第２光学補償層が偏光子側に配置される。

第１光学補償層は、下記を満たすことがより好ましい。
１００ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦１５０ｎｍ
５０ｎｍ≦Ｒｔｈ１（５５０）≦１２０ｎｍ

第１光学補償層は、溶融成膜方式及び溶液成膜方式等の適宜な方式で製造したポリマーフィルム（例えば、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィンフィルム、及び、ポリカーボネートフィルム）を、例えば、ロールの周速制御による縦延伸方式、テンターによる横延伸方式、及び、二軸延伸方式等により、延伸処理することにより得られる。より具体的には、特開２００５－３３８７６７号公報の記載を参照することができる。また、配向により２軸性を示す重合性基を有する液晶性化合物を含む液晶性組成物から形成されるポリマーを用いることもできる。
光学補償層が２層からなる場合、第１光学補償層の厚みは、１～８０μｍが好ましく、１～４０μｍがより好ましく、１～２５μｍが特に好ましい。

光学補償層が２層からなる場合、第１光学補償層は、ポジティブＡプレートであることが好ましい。
ポジティブＡプレートの製造方法は、例えば、特開２００８－２２５２８１号公報、及び、特開２００８－０２６７３０号公報の記載を参酌できる。
なお、本明細書において、ポジティブＡプレートは以下のように定義する。ポジティブＡプレート（正のＡプレート）は、フィルムの面内遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、式（Ａ１）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示す。
式（Ａ１） ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｙ－ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれる。
また、上記の定義より、ポジティブＡプレートはＮｚ＝Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＋０．５≒１．０を満たす。

上記ポジティブＡプレートは、λ／４層であることが好ましい。
λ／４層は、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）≒λ／４を満たす板（位相差フィルム）のことをいう。
この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよいが、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍの関係を満たすことが好ましく、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５０ｎｍを満たすことがより好ましい。

第２光学補償層は、下記を満たすことがより好ましい。
０ｎｍ≦Ｒｅ２（５５０）≦２０ｎｍ
－１４０ｎｍ≦Ｒｔｈ２（５５０）≦－８０ｎｍ
第２光学補償層の、波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（４５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）は、式（１２）の要件を満たすことが好ましい。
式（１２） Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦１．００
Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）は０．９５未満であることがより好ましく、０．９０以下であることがさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０．７５以上の場合が多い。

第２光学補償層は、ポリマーフィルム（例えば、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィンフィルム、及び、ポリカーボネートフィルム）の面内レターデーションを発現させない様に成膜し、熱収縮フィルム等を用いて厚み（ｎｚ）方向に延伸する方法で得ることができる。
また、液晶性化合物の配向状態を固定して所望の位相差を有する層を形成することも可能である。つまり、第２光学補償層は、液晶性化合物が配向した状態で固定化したフィルムであることが好ましく、棒状液晶性化合物が基板面に対して垂直方向に配向した状態で固定化したフィルムであることがより好ましい。
液晶性化合物としては、逆分散の波長分散性を示す液晶性化合物を用いることも好ましい。例えば、ＷＯ２０１７／０４３４３８号パンフレットに記載される逆分散の波長分散性を示す液晶性化合物が挙げられる。
第２光学補償層の厚みは、１～８０μｍが好ましく、１～４０μｍがより好ましく、１～２５μｍがさらに好ましい。

第２光学補償層は、ポジティブＣプレートであることが好ましい。
ポジティブＣプレートの製造方法は、例えば、特開２０１７－１８７７３２号公報、特開２０１６－５３７０９号公報、及び、特開２０１５－２００８６１号公報の記載を参酌できる。
なお、本明細書において、ポジティブＣプレートは以下のように定義する。ポジティブＣプレート（正のＣプレート）は、フィルムの面内遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、式（Ａ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ２） ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。
また、ポジティブＣプレートでは、上記の定義より、Ｒｅ≒０となる。

光学補償層は、シクロオレフィンポリマーフィルムと、ポリマーフィルムに隣接して設けられる液晶性化合物を含む組成物を用いて形成されるフィルムとからなる２層構成であることも好ましい。

（偏光子）
偏光子の種類は特に制限されず、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有するいわゆる直線偏光子であればよい。
偏光子としては、例えば、吸収型偏光子が挙げられ、より具体的には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、及びポリエン系偏光子が挙げられる。
偏光子の厚みは、３～６０μｍが好ましく、５～３０μｍがより好ましく、５～１５μｍがさらに好ましい。

（保護フィルム）
保護フィルムは特に制限されず、例えば、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリル系樹脂フィルム、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム、シクロオレフィン系ポリマーフィルム（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、並びに、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製））が挙げられる。なかでも、セルロースアシレートフィルムが好ましい。

保護フィルムの光学特性は、下記式を満たすことが好ましい。
０ｎｍ≦Ｒｅ３（５５０）≦１０ｎｍ
－４０ｎｍ≦Ｒｔｈ３（５５０）≦４０ｎｍ
また、図１の保護フィルム１０のように、偏光子と液晶セルの間に保護フィルムを配置する場合には、屈折率の略等方性な保護フィルムを用いることが好ましく、具体的には下記式を満たすことがより好ましい。
０ｎｍ≦Ｒｅ３（５５０）≦５ｎｍ
－１０ｎｍ≦Ｒｔｈ３（５５０）≦１０ｎｍ

偏光子と光学補償層との積層、及び、偏光子と保護フィルムとの積層には、接着剤を用いることができる。接着剤層の厚みは、０．０１～３０μｍが好ましく、０．０１～１０μｍがより好ましく、０．０５～５μｍがさらに好ましい。

接着剤として、水系接着剤、すなわち、接着剤成分が水に溶解又は分散している接着剤が挙げられ、ポリビニルアルコール系接着剤が好ましい。ポリビニルアルコール系接着剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる接着剤が好ましい。
ポリビニルアルコール系接着剤中のポリビニルアルコール系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルをケン化処理して得られるビニルアルコールホモポリマーのほか、酢酸ビニルとこれに共重合可能な他の単量体との共重合体をケン化処理して得られるビニルアルコール系共重合体、さらにそれらの水酸基を部分的に変性した変性ポリビニルアルコール系重合体が挙げられる。
ポリビニルアルコール系接着剤には、多価アルデヒド、水溶性エポキシ化合物、メラミン系化合物、ジルコニア化合物、亜鉛化合物、及び、グリオキシル酸塩等が架橋剤として添加されていてもよい。
ポリビニルアルコール系接着剤を用いた場合、それから得られる接着剤層の厚みは通常、１μｍ以下である。

接着剤として、活性エネルギー線の照射又は加熱により硬化する硬化性接着剤組成物が挙げられる。より具体的には、活性エネルギー線の照射又は加熱により硬化する、カチオン重合性化合物を含む硬化性接着剤組成物、及び、ラジカル重合性化合物を含む硬化性接着剤組成物等が挙げられる。カチオン重合性化合物としては、エポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物が挙げられる。エポキシ化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に制限されず、例えば、特開２００４－２４５９２５号公報に詳細に説明されている化合物が挙げられる。
ラジカル重合性化合物としては、（メタ）アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合物であれば特に制限されず、単官能ラジカル重合性化合物、分子内に２個以上の重合性基を有する多官能ラジカル重合性化合物、水酸基を有する（メタ）アクリレート、アクリルアミド、及び、アクリロイルモルフォリン等が挙げられ、これらの化合物を単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。例えば、特開２０１５－１１０９４号公報に詳細に説明されている化合物を用いることができる。また、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを組み合わせて用いることもできる。

硬化性接着剤組成物を用いる場合には、貼合ロールを用いてフィルムを貼合した後、必要に応じて乾燥を行ない、活性エネルギー線を照射するか又は加熱することにより硬化性接着剤組成物を硬化させる。活性エネルギー線の光源は特に制限されないが、波長４００ｎｍ以下に発光分布を有する活性エネルギー線が好ましく、具体的には、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、又は、メタルハライドランプがより好ましい。

また、偏光子と光学補償層又は保護フィルムとを接着剤で貼合するにあたり、接着強度向上、及び、接着剤の濡れ性を改善する目的で、光学補償層又は保護フィルムの、偏光子と対向する面に表面処理（例えばグロー放電処理、コロナ放電処理、ＵＶ処理）を施してもよいし、易接着層を形成してもよい。
易接着層及びその製造方法としては、特開２００７－１２７８９３号公報、及び、特開２００７－１２７８９３号公報の記載を参酌できる。

以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、及び、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明は以下の実施例に制限されるものではない。

＜ＩＰＳモード液晶セルの作製＞
まず、２枚のガラス基板の間に液晶層を有し、基板の間隔（ギャップ；ｄ）が４．０μｍのＩＰＳモード液晶セルを作製した。液晶層中の液晶性化合物のΔｎは０．０８６２５であり、Δｎ・ｄの値は３４５ｎｍであった。なお、液晶セルを形成する際に、ガラス基板に対して特開２００５－３５１９２４号公報の実施例１１を参考にして光配向処理を実施して配向層を形成して、液晶セル内の液晶性化合物を配向させた。液晶性化合物の基板面とのチルト角は、０．１°であった。液晶セルの視認側の基板上に、Ｒｔｈの値が異なる青色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、及び、赤色カラーフィルタを形成し、表１に示す液晶セル１～１２を形成した。青色カラーフィルタの最大透過率を示す波長をλ₁、緑色カラーフィルタの最大透過率を示す波長をλ₂、及び、赤色カラーフィルタの最大透過率を示す波長をλ₃としたところ、各液晶セルにおいて、各波長はλ₁＜λ₂＜λ₃の関係を満たした。また、形成した液晶セル上に配置した各カラーフィルタの各波長におけるＲｔｈを表１にまとめて示す。
なお、各カラーフィルタのＲｔｈの値の調整は、カラーフィルタの厚みを調整したり、カラーフィルタ層の形成材料に、レターデーション上昇剤（例えば上記一般式（Ｘ）の化合物）又は低下剤（例えば、上記一般式（ＸＩ）の化合物）を添加したり、その添加量を調整することで行なった。
なお、液晶セル１２においては、光配向処理の代わりにラビング配向処理を実施したところ、液晶性化合物の基板面とのチルト角が２．０°であった。

＜光学補償層１（２層構成）の作製＞
未延伸シクロレオレフィンポリマーフィルム（ＪＳＲ（株）製 商品名：アートンフィルム）の一軸延伸を行い、Ｒｅ１（５５０）＝１１０ｎｍ、Ｒｔｈ１（５５０）＝５５ｎｍ、及び、膜厚２４μｍのシクロオレフィンポリマーフィルム（第１光学補償層）を作製した。
このポリマーフィルムの片面に対して放電量１２５Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²でコロナ処理を行い、コロナ処理を行った面に下記の組成物Ａをバー塗布して、塗膜を形成した。次いで、組成物中の溶媒の乾燥及び液晶性化合物の配向熟成のために、塗膜を７０℃の温風で９０秒間加熱した。窒素パージ下、酸素濃度０．１％の条件にして、塗膜に対して、４０℃にて紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ²）を行い、液晶性化合物の配向を固定化して、光学補償層１を作製した。なお、光学補償層１は、上記シクロオレフィンポリマーフィルム（第１光学補償層）と、組成物Ａを用いて形成された層（第２光学補償層）との２層構成であった。

（組成物Ａの調製）
下記成分を混合して混合液を調製し、得られた混合液を２５℃において１時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過して、組成物Ａを調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物Ａ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶性化合物Ｒ１ ７０．０質量部
液晶性化合物Ｒ２ ２０．０質量部
液晶性化合物Ｒ３ １０．０質量部
配向助剤Ａ１ ２．０質量部
化合物Ｂ１ ４．５質量部
単量体Ｋ１ ４．０質量部
重合開始剤Ｐ１ ５．０質量部
重合開始剤Ｐ２ ２．０質量部
界面活性剤Ｓ１ ０．４質量部
界面活性剤Ｓ２ ０．５質量部
アセトン ３８６．４質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７１．０質量部
メタノール １４．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

・液晶性化合物Ｒ１
下記液晶性化合物（ＲＡ）、（ＲＢ）及び（ＲＣ）の８３：１５：２（質量比）の混合物

・液晶性化合物Ｒ２

・液晶性化合物Ｒ３

・配向助剤Ａ１

・化合物Ｂ１

・単量体Ｋ１：Ａ－ＴＭＭＴ（新中村化学工業株式会社）

・重合開始剤Ｐ１

・重合開始剤Ｐ２

・界面活性剤Ｓ１（重量平均分子量１５０００、構造式中の各繰り返し単位中の数値は、質量％を表す。）

・界面活性剤Ｓ２（重量平均分子量：１１，２００）
構造式中の各繰り返し単位中の数値は、質量％を表す。

光学補償層１の位相差をＡｘｏＳｃａｎで測定した結果、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．００、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（６５０）＝１．００であった。

次に、未延伸シクロレオレフィンポリマーフィルム（ＪＳＲ（株）製 商品名：アートンフィルム、Ｒｅ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１ｎｍ）上に同様の手順で第２光学補償層を作製し、ＡｘｏＳｃａｎで測定することにより、上記作製した第２光学補償層の位相差を見積もった結果、Ｒｅ２（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ２（５５０）＝－１００ｎｍであり、第２光学補償層がポジティブＣプレートであることを確認した。また、Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）＝１．０４であった。

＜光学補償層２Ａ～２Ｇ（２層構成）の作製＞
組成物Ａの代わりに組成物Ｂを用いた以外は、＜光学補償層１（２層構成）の作製＞と同様の手順に従って、光学補償層２Ａを作製した。なお、光学補償層２Ａは、上記シクロオレフィンポリマーフィルム（第１光学補償層）と、組成物Ｂを用いて形成された層（第２光学補償層）との２層構成であった。
（組成物Ｂの調製）
下記成分を混合して混合液を調製し、得られた混合液を２５℃において１時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過して、組成物Ｂを調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物Ｂ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶性化合物Ｒ１ ５０．０質量部
液晶性化合物Ｒ２ ３３．３質量部
液晶性化合物Ｒ３ １６．７質量部
化合物Ｂ１ １．５質量部
単量体Ｋ１ ４．０質量部
重合開始剤Ｐ１ ５．０質量部
重合開始剤Ｐ２ ２．０質量部
界面活性剤Ｓ１ ０．４質量部
界面活性剤Ｓ２ ０．５質量部
アセトン ２００．０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ５０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（光学補償層２Ａの評価）
光学補償層２Ａの位相差を、ＡｘｏＳｃａｎで測定した結果、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．００、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（６５０）＝１．００であることを確認した。

次に、上記記載の方法で第２光学補償層の位相差を見積もった結果、Ｒｅ２（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ２（５５０）＝－１００ｎｍであり、第２光学補償層がポジティブＣプレートであることを確認した。また、Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）＝０．９０であった。

第１光学補償層の厚み、第２光学補償層の厚み、及び、組成物Ｂ中の液晶性化合物の組成比を適宜調整して、上述した光学補償層２Ａと同様の手順に従って、光学補償層２Ｂ～２Ｇを製造した。
光学補償層２Ｂ～２ＧのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）及びＲｅ（５５０）／Ｒｅ（６５０）は、いずれも１．００であった。
光学補償層２Ｂ中の第１光学補償層の位相差は、Ｒｅ１（５５０）＝１２０ｎｍ、Ｒｔｈ１（５５０）＝６０ｎｍであった。光学補償層２Ｂ中の第２光学補償層の位相差は、Ｒｅ２（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ２（５５０）＝－１００ｎｍ、及び、Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）＝０．９０であり、第２光学補償層はポジティブＣプレートであった。
光学補償層２Ｃ中の第１光学補償層の位相差は、Ｒｅ１（５５０）＝１３０ｎｍ、Ｒｔｈ１（５５０）＝６５ｎｍであった。光学補償層２Ｃ中の第２光学補償層の位相差は、Ｒｅ２（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ２（５５０）＝－１００ｎｍ、及び、Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）＝０．９０であり、第２光学補償層はポジティブＣプレートであった。
光学補償層２Ｄ中の第１光学補償層の位相差は、Ｒｅ１（５５０）＝１２０ｎｍ、Ｒｔｈ１（５５０）＝６０ｎｍであった。光学補償層２Ｄ中の第２光学補償層の位相差は、Ｒｅ２（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ２（５５０）＝－１００ｎｍ、及び、Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）＝０．８０であり、第２光学補償層はポジティブＣプレートであった。
光学補償層２Ｅ中の第１光学補償層の位相差は、Ｒｅ１（５５０）＝１１０ｎｍ、Ｒｔｈ１（５５０）＝５５ｎｍであった。光学補償層２Ｅ中の第２光学補償層の位相差は、Ｒｅ２（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ２（５５０）＝－１００ｎｍ、及び、Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）＝０．８０であり、第２光学補償層はポジティブＣプレートであった。
光学補償層２Ｆ中の第１光学補償層の位相差は、Ｒｅ１（５５０）＝１１０ｎｍ、Ｒｔｈ１（５５０）＝５５ｎｍであった。光学補償層２Ｆ中の第２光学補償層の位相差は、Ｒｅ２（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ２（５５０）＝－９０ｎｍ、及び、Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）＝０．８０であり、第２光学補償層はポジティブＣプレートであった。
光学補償層２Ｇ中の第１光学補償層の位相差は、Ｒｅ１（５５０）＝１００ｎｍ、Ｒｔｈ１（５５０）＝５０ｎｍであった。光学補償層２Ｇ中の第２光学補償層の位相差は、Ｒｅ２（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ２（５５０）＝－１００ｎｍ、及び、Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）＝０．９０であり、第２光学補償層はポジティブＣプレートであった。

＜光学補償層３（１層構成）の作製＞
特開２００６－７２３０９号公報の実施例１に示されるサンプルに対して、膜厚調整を行い、光学補償層３を作製した。
光学補償層３の位相差をＡｘｏＳｃａｎで測定した結果、Ｒｅ１（５５０）＝２３０ｎｍ、Ｒｔｈ１（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．００、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（６５０）＝１．００であった。

＜光学補償層４（２層構成）の作製＞
特開２０１０－７９２８８号公報の実施例４のセルロースアシレートフィルム（ｈ）を参考に膜厚調整等を行い、セルロースアシレートフィルム（第１光学補償層）を作製した。第１光学補償層の位相差を、ＡｘｏＳｃａｎで測定した結果、Ｒｅ１（５５０）＝１１０ｎｍ、Ｒｔｈ１（５５０）＝５５ｎｍであり、ポジティブＡプレートになっていることを確認した。
このポリマーフィルムの片面を放電量１２５Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²でコロナ処理を行い、コロナ処理を行った面に前述の組成物Ａをバー塗布して、塗膜を形成した。続いて、組成物の溶媒の乾燥及び液晶性化合物の配向熟成のために、塗膜を７０℃の温風で９０秒間加熱した。窒素パージ下、酸素濃度０．１％の条件にして、塗膜に対して、４０℃にて紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ²）を行い、液晶性化合物の配向を固定化して、光学補償層４を作製した。なお、光学補償層４は、上記セルロースアシレートフィルム（第１光学補償層）と、組成物Ａを用いて形成された層（第２光学補償層）との２層構成であった。

（光学補償層４の評価）
光学補償層４の位相差を、ＡｘｏＳｃａｎで測定した結果、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．２０、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（６５０）＝１．０５であることを確認した。

次に、上記記載の方法で第２光学補償層の位相差を見積もった結果、Ｒｅ２（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ２（５５０）＝－１００ｎｍであり、ポジティブＣプレートになっていることを確認した。また、Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）＝１．０４であった。

＜保護フィルム１の作製＞
下記の各成分をミキシングタンクに投入し、攪拌して、コア層セルロースアシレートドープ１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ１
――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
下記エステルオリゴマーＡ １０質量部
下記偏光子耐久性改良剤 ４質量部
下記紫外線吸収剤 ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
メタノール（第２溶剤） ６４質量部
――――――――――――――――――――――――――――――

・エステルオリゴマーＡ（重量平均分子量７５０）

・偏光子耐久性改良剤

・紫外線吸収剤

上記のコア層セルロースアシレートドープ１の９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープ１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶剤） １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ１ １質量部
――――――――――――――――――――――――――――――

上記コア層セルロースアシレートドープ１とその両側に外層セルロースアシレートドープ１とを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。ドラム上のフィルムの溶剤含有率が略２０質量％の状態で、ドラム上からフィルムを剥ぎ取り、得られたフィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、フィルム中の残留溶剤が３～１５％の状態で、フィルムを横方向に１．１倍延伸しつつ、乾燥した。その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍのセルロースアシレートフィルム１を作製し、保護フィルム１とした。保護フィルム１の位相差を測定した結果、Ｒｅ（５５０）＝２ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝７ｎｍであった。

＜保護フィルム２の作製＞
下記の各成分をミキシングタンクに投入し、攪拌して、コア層セルロースアシレートドープ２を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ２
――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
下記ポリエステル １２質量部
上記偏光子耐久性改良剤 ４質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
メタノール（第２溶剤） ６４質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

・ポリエステル（数平均分子量８００）

上記のコア層セルロースアシレートドープ２の９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープ２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶剤） １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――

上記コア層セルロースアシレートドープ２と上記外層セルロースアシレートドープ２を平均孔径３４μｍのろ紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでそれぞれろ過した後、コア層セルロースアシレートドープ２とその両側に外層セルロースアシレートドープ２とを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、ドラム上のフィルムの溶剤含有率が略２０質量％の状態でドラム上からフィルムを剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、フィルムを横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍのセルロースアシレートフィルム２を作製し、保護フィルム２とした。保護フィルム２の位相差を測定した結果、Ｒｅ（５５０）＝１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝－５ｎｍであった。

＜保護フィルムのけん化処理＞
上記作製した保護フィルム１及び２を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。浸漬した保護フィルム１及び２を取り出して、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、得られた保護フィルム１及び２を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥し、保護フィルム１及び２の表面のけん化処理を行った。

＜実施例１＞
（偏光板の作製）
上記作製したけん化処理した保護フィルム１、ポリビニルアルコール系偏光子、光学補償層１を、偏光子の吸収軸と光学補償層の面内遅相軸とが平行な方向（０°）になるように、接着剤を用いて貼り合わせ、上側偏光板Ａを作製した。接着剤としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）（（株）クラレ製、ＰＶＡ－１１７Ｈ）３質量％水溶液を用いた。なお、光学補償層１中の第２光学補償層が偏光子側となるように、上側偏光板Ａを作製した。つまり、上側偏光板Ａにおいては、保護フィルム１、偏光子、第２光学補償層、及び、第１光学補償層の順に配置されている。
また、けん化処理した保護フィルム１、ポリビニルアルコール系偏光子、及び、けん化処理した保護フィルム２をこの順で上記接着剤を用いて貼り合わせて、下側偏光板を作製した。
また、このとき偏光子の吸収軸と光学補償層の面内遅相軸とが平行な方向（０°）に対して０．５°ずれた上側偏光板Ｂも作製した。つまり、上側偏光板Ｂにおいては、偏光子の吸収軸と光学補償層の面内遅相軸とのなす角度は、０．５°である。

（液晶表示装置の作製）
上記作製した液晶セル１に、上記上側偏光板Ａ及び下側偏光板を、それぞれ光学補償層１、保護フィルム２が液晶セル側になるように総研科学社製ＳＫ２０５７を用いて貼り合わせ、液晶表示装置Ａを作製した。このとき、液晶セル内の液晶層の遅相軸と上側偏光板Ａ中の偏光子の吸収軸とが直交な方向、液晶セル内の液晶層の遅相軸と下側偏光板中の偏光子の吸収軸とが平行な方向になるように貼り合わせた。
また、上側偏光板Ａの代わりに上側偏光板Ｂを用いて、同様に液晶表示装置Ｂを作製した。

＜実施例２～１８、比較例１～９＞
光学補償層及び液晶セルの種類を表２のように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、液晶表示装置を作製した。
なお、光学補償層が２層構造である場合、実施例１と同様に、光学補償層１中の第２光学補償層が偏光子側となるように、上側偏光板Ａを作製した。

＜評価＞
（黒表示の色味変化及び光漏れの測定）
作製した液晶表示装置Ａ及びＢを下偏光板が拡散光源側になるように、拡散光源の上に配置し、測定機“ＥＺ－Ｃｏｎｔｒａｓｔ ＸＬ８８”（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、極角６０°で固定して、方位角０°（水平方向）から反時計方向に３５９°まで１°刻みの黒表示における色味変化及び光漏れを測定した。
液晶表示装置Ａ及びＢを用いた際の黒色味の変化を下記の評価基準で評価した。
Ａ：色味変化が非常に少なく、特に優れている
Ｂ：色味変化が少なく、優れている
Ｃ：色味変化がやや多いが、実用上問題ない
Ｄ：色味変化が多く、許容できない
液晶表示装置Ｂを用いた評価が、偏光子と光学補償層との貼り合せ角度をずらした際、黒表示時に斜め方向から視認した際の色味変化評価（軸ずれ色味変化）に該当する。

また、液晶表示装置Ａを用いた際の極角６０°における光漏れを下記の評価基準で評価した。
Ａ：光漏れが非常に少なく、特に優れている
Ｂ：光漏れが少なく、優れている
Ｃ：光漏れがやや多いが、実用上問題ない
Ｄ：光漏れが多く、許容できない

表２中、「軸ずれ色味変化」は、液晶表示装置Ｂを用いた際の色味変化の評価結果を表す。「色味変化」は、液晶表示装置Ａを用いた場合の色味変化の評価結果を表す。

表２に示すように、本発明の液晶表示装置であれば、所望の効果が得られることが確認された。
なかでも、実施例１と３との比較より、式（１２）の要件を満たす場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例２と５との比較より、Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）が０．９０未満の場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例４と１１～１３との比較より、式（１－１）の要件を満たす場合、より効果が優れることが確認された。

なお、上記実施例１～１８の態様において、下記に記載の方法で偏光子と光学補償層を接着した場合も、良好な接着性が得られ、前述のＰＶＡ３％水溶液で接着した場合と同様の表示性能が得られた。
（接着剤液Ａの調製）
下記化合物を記載の比率で混合し、接着剤液Ａを調製した。
アロニックスＭ－２２０（東亜合成株式会社製）：２０質量部
４－ヒドロキシブチルアクリレート（日本化成株式会社製）：４０質量部
アクリル酸－２－エチルヘキシル（三菱化学株式会社製）：４０質量部
Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ製）：１．５質量部
ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ－Ｓ（日本化薬株式会社製）：０．５質量部

光学補償層の偏光子貼合面を放電量１２５Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２でコロナ処理してから、接着剤液Ａを、厚み０．５μｍになるように塗設した。その後、接着剤塗布面を偏光子と貼り合わせ、大気雰囲気下４０℃にて光学補償層側から紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ^２照射した。その後、６０℃で３分間乾燥した。なお、第２光学補償層が液晶層である場合には、第２光学補償層を窒素パージ下ではなく大気雰囲気下で硬化し、その後、上記の方法で偏光子と接着した。

１ 上側保護フィルム
２ 偏光子
３ 偏光子の吸収軸
４ 第２光学補償層
５ 第１光学補償層
６ 第１光学補償層の面内遅相軸
７ 液晶セル上側基板
８ 液晶性化合物（液晶層）
９ 液晶セル下側基板
１０ 保護フィルム
１１ 偏光子
１２ 偏光子の吸収軸
１３ 保護フィルム
１４ バックライトユニット
１５ 光学補償層
１６ 上側偏光板
１７ 下側偏光板

Claims (12)

1. 少なくとも一方が電極を有する対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間に配置され、配向制御された液晶性化合物を含む液晶層とを有し、前記電極により、前記電極を有する基板に対し平行な成分を持つ電界が形成される液晶セル、及び、
   前記液晶セルを挟持して配置された一対の偏光板、を少なくとも含む、液晶表示装置であって、
   前記液晶性化合物のチルト角が１．０°以下であり、
   前記液晶セルが、第１の画素領域、第２の画素領域、及び、第３の画素領域を少なくとも含み、
   前記一対の偏光板の間に、前記液晶セルの前記第１の画素領域上に配置された第１のカラーフィルタと、前記液晶セルの前記第２の画素領域上に配置された第２のカラーフィルタと、前記液晶セルの前記第３の画素領域上に配置された第３のカラーフィルタとを、前記液晶セルよりも視認側に含み、
   前記第１のカラーフィルタの最大透過率を示す波長をλ₁、前記第２のカラーフィルタの最大透過率を示す波長をλ₂、及び、前記第３のカラーフィルタの最大透過率を示す波長をλ₃としたとき、λ₁＜λ₂＜λ₃の関係を満たし、
   前記第１のカラーフィルタの波長λ₁における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ₁）、前記第２のカラーフィルタの波長λ₂における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ₂）、及び、前記第３のカラーフィルタの波長λ₃における厚み方向のレターデーションＲｔｈ（λ₃）が、式（１）～（３）の要件を満たし、
   式（１） （Ｒｔｈ（λ₁）－５ｎｍ）≦Ｒｔｈ（λ₂）≦Ｒｔｈ（λ₃）
   式（２） －５ｎｍ≦Ｒｔｈ（λ₂）≦２５ｎｍ
   式（３） －１０ｎｍ≦Ｒｔｈ（λ₁）≦２５ｎｍ
   前記一対の偏光板のうち、視認側に配置される偏光板は、前記液晶セル側から光学補償層及び偏光子を含み、
   前記光学補償層の面内遅相軸と前記偏光子の吸収軸とは平行であり、
   前記光学補償層の、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）が、式（５）及び（６）の要件を満たし、
   式（４） ０．９５≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．１０
   式（５） ０．９５≦Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（６５０）≦１．１０
   前記液晶層のレターデーション（Δｎ・ｄ）が０．２５μｍ超０．４０μｍ未満であり、
   要件Ａおよび要件Ｂのいずれか一方を満たす、液晶表示装置。
   要件Ａ：前記光学補償層が１層であり、
   前記光学補償層の、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ１（５５０）が、式（６）及び（７）の要件を満たす。
   式（６） ２００ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦３２０ｎｍ
   式（７） －４０ｎｍ≦Ｒｔｈ１（５５０）≦４０ｎｍ
   要件Ｂ：前記光学補償層が、前記液晶セル側から順に、第１光学補償層と第２光学補償層とを含み、
   前記第１光学補償層の、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ１（５５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ１（５５０）が、式（８）及び（９）の要件を満たし、
   式（８） ８０ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦２００ｎｍ
   式（９） ２０ｎｍ≦Ｒｔｈ１（５５０）≦１５０ｎｍ
   前記第２光学補償層の、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ２（５５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）が、式（１０）及び（１１）の要件を満たす。
   式（１０） ０ｎｍ≦Ｒｅ２（５５０）≦４０ｎｍ
   式（１１） －１６０ｎｍ≦Ｒｔｈ２（５５０）≦－４０ｎｍ
2. 式（１－１）の要件を満たす、請求項１に記載の液晶表示装置。
   式（１－１） Ｒｔｈ（λ₁）≦Ｒｔｈ（λ₂）≦Ｒｔｈ（λ₃）
3. 前記要件Ｂを満たし、
   前記第１光学補償層がポジティブＡプレートであり、前記第２光学補償層がポジティブＣプレートである、請求項１または２に記載の液晶表示装置。
4. 前記第１光学補償層が、λ／４層である、請求項３に記載の液晶表示装置。
5. 前記要件Ｂを満たし、
   前記第２光学補償層の、波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（４５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ２（５５０）が、式（１２）の要件を満たす、請求項１～４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
   式（１２） Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦１．００
6. 前記要件Ｂを満たし、
   前記第２光学補償層が、液晶性化合物が配向した状態で固定化したフィルムである、請求項１～５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
7. 前記第２光学補償層が、棒状液晶性化合物が基板面に対して垂直方向に配向した状態で固定化したフィルムである、請求項６に記載の液晶表示装置。
8. 前記要件Ｂを満たし、
   前記第１光学補償層が、シクロオレフィン系ポリマーフィルムである、請求項１～７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
9. 前記液晶セルよりも非視認側にある前記偏光板が偏光子を含み、
   前記偏光子と前記液晶層との間は屈折率が略等方性である、請求項１～８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
10. 前記光学補償層が、ポリビニルアルコール系接着剤を介して前記偏光子と接着している、請求項１～９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
11. 前記光学補償層が、活性エネルギー線の照射または加熱により硬化する硬化性接着剤組成物を介して、前記偏光子と接着している、請求項１～９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
12. 式（１－２）の要件を満たす、請求項１～１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
    式（１－２） Ｒｔｈ（λ₁）＜Ｒｔｈ（λ₂）＜Ｒｔｈ（λ₃）

Images