TW555643B - Process for inline producing biaxially oriented releasing film - Google Patents

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biaxially oriented
polysiloxane
release agent
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TW090116481A
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Tomikazu Shibano
Toru Nakamura
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Lintec Corp
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Description

555643 五 、發明說明(1) 發明背景 1.發明範圍 本發明係關於一種離形膜的 製 法, 其 可 作 爲 感 壓 黏 著 產 物及/或黏著產物(諸如感壓性黏著標籤及/或 膠: 帶: )' 感 熱 性 黏著薄片、預漬黏著薄片及可 用 作陶 瓷 綠 片 之 載 體 πϋ 合 成皮及其類似物的離形膜。 2.相關技藝之描述。 大部分的離形膜可用作感壓 黏 著產 物 黏 著 產 物及 可 用 來製造陶瓷綠片、合成皮及其 類 似物 J 而 現 在 每 片 離 形 膜 的製造方法其包括的步驟有: 形 成基 材 薄 膜 f 及 利 用 塗 佈 機器或另一條生產線將聚矽氧 系 離形 劑 塗 佈在 所 產 生 的 薄 膜上。但是,爲了增加產率, 迄 今爲 止 已 屢 屢 建 議 使 用 於 線上製膜(擠壓)步驟時在基材薄膜上塗佈 ί聚 :砂 〖氧 爲 系 離 形 劑 之方法,以製造離形膜。例如 9 已於 曰 本 專 利 甲 請 公 開 公 報案號6724/1982(昭和57)中描 述 ,於 線 上 塗 佈 步 驟 中 將 熱 可硬化的聚矽氧塗佈至雙軸定 向 的聚 丙 烯 薄 膜 以 製 造 離 形 膜的方法,更特別地,其中已 描 述一 種 離 形 膜 的 製 造 方 法 ,包括以T型模頭擠壓聚丙烯、 然 後於 經 擠 壓 的 聚 丙 烯 上 塗 佈聚矽氧、接著單軸或雙軸地 定 向該 聚 丙 烯 % 及於 定向 及退火步驟中加熱硬化聚矽氧。 再 者, 已 於 曰 本 專 利 串 Ξ?主 δ円 公 開公報案號17 1916/1983(昭和58)中描 述 由 雙 軸 定 向 的 聚 丙烯薄膜製得之離形膜的製造 方 法, 該 方 法包括 將 聚 丙 烯 薄膜於機器方向接受定向、將 -3- 該 聚丙 烯 薄 膜 塗 佈 熱 可 硬
555643 五、發明說明(2 ) 化的聚矽氧、接著於橫軸方向定向及在限制的條件下加熱 校定該定向的薄膜。再者,已於U.S.P 4,851,166中描述,雙 軸定向的聚丙烯薄膜及雙軸定向的聚對苯二甲酸乙二酯薄 膜之製造方法,其中該些薄膜可於線上塗佈熱可硬化的聚 矽氧’如於前述的日本專利申請公開公報案號 6724/1 982(Sh〇wa 57)之實例中,但是於製得該建議的不同方 法中,更詳細地限定熱可硬化的聚矽氧,及聚矽氧系離形 劑應該包括反應抑制劑及以鉑爲基礎的觸媒。 與上述所提及的三個方案之每個因素一樣,於雙軸定 向的薄膜製造步驟中塗佈聚矽氧系離形劑之塗佈物,及使 聚矽氧系離形劑接受加熱硬化。但是,於任何三個方案中 所建議的製造方法皆無法保証於雙軸定向設備中通過該定 向步驟時用來加熱硬化聚矽氧所需的能源量或於退火步驟 中通過加熱處理步驟時所需的能源量,其中部分的聚矽氧 更傾向於仍然未反應。爲了能足夠地加熱硬化聚矽氧的目 的,可藉由擴大退火爐或減少薄膜的形成速率來保証所需 要的能量,但是此會極度地降低產率。若塗層中部分的聚 矽氧離形劑仍然未反應,則該離形膜難以提供離形性質的 目標,有時會製造出無離形能力的離形膜。再者於使用此 離形膜來製備感壓黏著標籤及/或膠帶的實例中,未反應的 聚矽氧會遷移至感壓黏著層,因而顯著地降低感壓黏著性 質。也就是說,對任何前述的建議來說並無法保証離形膜 所需的極重要之離形性質及不遷移性。 555643 五、發明說明(3) 發明槪述 於此情況中,本發明之目標爲提供一種雙軸定向離形 膜的線上製造方法,該方法能足夠地硬化塗佈至薄膜之聚 矽氧系離形劑,因此無不合適的離形性質或伴隨著未反應 的聚矽氧之存在而發生的聚矽氧遷移。 本發明的其它目標將從此後所揭示的專利說明書本文 中明瞭。 爲了解決上述所提的問題,由本發明家累積之密集大 量的硏究及調查結果發現,高度有效的方法包括於雙軸定 向薄膜的製造步驟中將聚矽氧系離形劑塗佈至雙軸定向的 薄膜,及利用紫外線照射和退火的組合硬化所產生的薄 膜。本發明已根據上述所提及的硏究結果及訊息而達成。 也就是說,本發明提供: (1) 一種雙軸定向離形膜的線上製造方法,其利用連續地將 未定向的薄膜在機器及橫軸方向逐一地定向,其包括在 雙軸定向前的狀態下於薄膜的至少一面上塗佈以加成反 應型聚矽氧系離形劑;雙軸地定向該薄膜;其後加熱退 火該薄膜;及隨後地進行紫外線照射; (2) 如於進行項目(1)中提出的該雙軸定向離形膜之線上製造 方法,其中該加成反應型聚矽氧系離形劑係倂有感光 劑; (3) 如於進行項目(1)或(2)中提出的雙軸定向離形膜之線上製 造方法,其中在塗佈該離形劑之前使該薄膜接受表面活 555643 五、發明說明(4 ) 化處理; (4) 如於進行項目(1)至(3)中的任何一項提出的雙軸定向離形 膜之線上製造方法,其中該薄膜包括聚對苯二甲酸乙二 酯或聚丙烯; (5) 如於進行項目(1)中提出的雙軸定向離形膜之線上製造方 法,其中以加成反應型聚矽氧系離形劑的塗佈物先於機 器方向進行定向,接著於橫軸方向定向; (6) 如於進行項目(1)中提出的雙軸定向離形膜之線上製造方 法,其中加成反應型聚矽氧系離形劑更包括至少一種選 自於加成反應抑制劑、離形改質劑、黏著改良劑及溶劑 者;及 (7) 如於進行項目(1)中提出的雙軸定向離形膜之線上製造方 法,其中以至少一個無電極紫外線燈進行紫外線照射。 圖式簡單說明 第1圖示意地表示根據本發明之離形膜的製造方法之一 實施例,其中符號各具有下列意義= 1 :擠壓製膜步驟(步驟1) 2 :機器方向之定向步驟(步驟2) 3:表面活化處理(電暈放電處理)步驟 4 :離形劑塗佈步驟(步驟3) 5 :橫軸方向之定向步驟(步驟4) 6 :加熱退火步驟(步驟5) 7 :紫外線照射步驟(步驟6) 555643 五、發明說明(5) 8 :薄膜捲繞步驟(步驟7) 較佳的實施例之說明 於下列,將詳細地參考生產線實例而提供本發明之說 明。首先於1中:擠壓製膜步驟(步驟1),於此將可伸張的熱 塑性樹脂諸如聚對苯二甲酸乙二酯或聚丙烯從T型模頭擠壓 器中擠壓成薄膜形式。於2中:機器方向之定向步驟(步驟 2),該薄膜利用變更加熱滾筒的體表速度於機器方向定 向。於4中:離形劑塗佈步驟(步驟3),塗佈以加成反應型聚 矽氧系離形劑作爲塗佈物。於5中:橫軸方向之定向步驟 (步驟4),該薄膜以橫軸定向機器諸如張布機於橫軸方向定 向,同時加熱。隨後於6中:加熱退火步驟(步驟5),將該定 向的薄膜接受加熱退火處理。於7中:紫外線照射步驟(步 驟6),將處理的薄膜以紫外線照射燈輻照。於8中:薄膜捲 繞步驟(步驟7),利用捲繞該薄膜而製造目標離形膜。 至於定向的順序,可先任意於機器方向及橫軸方向進 行定向再於另一個方向定向,但是根據第1圖的具體實施例 從設備結構及其類似的觀點來說,較佳地先於機器方向進 行定向(步驟2),接著再於橫軸方向定向(步驟4)。 在前述的各自步驟之製造條件中,薄膜的溫度及拉抽 比率視熱塑性樹脂的型式而變化。於聚對苯二甲酸乙二酯 的實例中,於步驟1中的擠壓溫度範圍從約280至300°C ;於 步驟2中在機器方向定向時的溫度範圍從70至120°C,較佳 地從80至110°C及該薄膜的拉抽比率範圍從2至7,較佳地從 555643 五、發明說明(6 ) 2.5至5;於步驟4中於橫軸方向定向時的溫度範圍從70至150 °C,較佳地90至130°C及其拉抽比率範圍從2至7,較佳地從 3至5;及於退火步驟(步驟5)中加熱處理的溫度範圍從130至 250°C,較佳地從150至240°C,及其加熱處理時間範圍從1 至5秒。 加成反應型聚矽氧系離形劑可在雙軸定向前(亦即,於 無定向狀態),或在第一次軸定向後塗佈作爲塗佈物。但 是,根據第1圖之具體實施例,於進行的離形膜狀態下從利 用塗佈量及拉抽比率二者來調整塗佈量的能力之觀點來 說,較佳地爲將該藥劑在第一次軸定向後塗佈。 加成反應型聚矽氧系離形劑塗佈系統可視需要合適地 選自傳統熟知的系統,諸如照相凹版式塗敷法、桿式塗敷 法及多滾筒塗敷法。就在雙軸定向接著硬化處理後之進行 的離形膜狀態之固體成分而論,適合的塗佈重量範圍從0.01 至2.0克/平方公尺,較佳地從0.02至0.2克/平方公尺。 在步驟5之加熱退火後,合適地於熱的薄膜狀態下進行 步驟6的紫外線照射。若在薄膜冷卻後進行照射則較無效。 以加成反應型聚矽氧系離形劑可有效地硬化,及藉由連續 地以此順序進行步驟5的加熱處理及步驟6的紫外線照射則 會有殘留較少的未反應聚矽氧之傾向。 可於紫外線照射中使用的紫外線燈可從先前熟知的燈 諸如高壓汞蒸氣燈、金屬鹵化物燈、高能量金屬鹵化物 燈、無電極紫外燈中獲得。在這些燈中,從聚矽氧系離形 555643 五、發明說明(7) 劑之硬化性能的觀點來說無電極紫外線燈較佳。可視需要 合適地選擇輸出的紫外線照射能量,較佳地範圍從1 〇〇至 360瓦/公分。雖然有考慮以電子束(EB)照射來取代紫外線照 射,但此是不可行的,因爲幾乎全部的聚矽氧表面易因過 多的EB照射而損傷,因此顯著地減弱離形劑的離形能力。 於此方法中,可冷卻經塗佈加成反應型式聚矽氧、加 熱硬化及紫外輻照的薄膜及可利用步驟7的捲繞而取出該離 形膜。 爲了進一步增加聚矽氧的黏性,可在第1圖的步驟2及步 驟3之間插入由符號3所表示之步驟,即表面活化處理步驟 諸如電暈處理、臭氧處理及火焰處理。 可視需要合適地選擇在定向製程後之離形膜厚度,其 範圍從5至150微米,較佳地從10至120微米。 可伸張的熱塑性樹脂可用作根據本發明之離形膜的基 材材料,可使用迄今爲止用作離形膜的基材材料之樹脂作 爲根據本發明之離形膜的基材材料。特別地,從柔滑、厚 度均勻性、熱阻抗、強度及成本觀點來說,合適的實例有 聚對苯二甲酸乙二酯及聚丙烯。 此外,熱塑性樹脂可視需要摻入傳統熟知的添加劑, 諸如二氧化矽、高嶺土、碳酸鈣、氧化鋁、氧化鈦的粉末 狀顆粒;有機顆粒及沉積的顆粒;安定劑;抗氧化劑及抗 靜電劑。 接著下來,將詳細說明欲於本發明中使用之聚矽氧系 555643 五、發明說明(8 ) 離形劑。 於離形紙及離形膜中使用之聚矽氧系離形劑型式之實 例包括加成反應型式、縮合反應型式、自由基加成型式(酼_ 聚砂氧型式)、自由基聚合反應型式(聚砂氧丙儲酸酯型 式)、陽離子聚合反應型式(含環氧基的聚矽氧型式)及其類 似物。在這些實例中,從離形能力及聚矽氧的遷移觀點來 說,於本發明使用加成反應型式之聚矽氧。 特別地,聚矽氧系自由基加成型式及陽離子聚合反應 型式之離形劑(已熟知爲紫外線可硬化的型式),其易於造成 包含在聚矽氧中的每個反應性官能基團組分或反應殘餘基 團和諸如用於感壓黏著劑及合成皮的樹脂之組分間的交互 作用,因此變成難以獲得優良的離形能力。再者,聚矽氧 系自由基聚合反應型式之離形劑(其包含丙烯酸酯基團爲官 能基團),其易於與丙烯酸感壓黏著劑產生強烈的交互作 用,因此變成難以獲得好的離形能力。此外,聚矽氧系自 由基加成型式之離形劑(已熟知爲電子束可硬化的型式),其 會引起難以控制欲輻照的電子束,因此時常對聚矽氧表面 造成嚴重的損害而損害離形能力。基於先前描述的理由, 於本發明中使用以加成反應型聚矽氧系離形劑作爲聚矽氧 系離形劑。 以加成反應型聚矽氧系離形劑(其可合適及視需要地從 傳統熟知的離形劑中選擇來使用),可由至少一種以含雙鍵 的聚矽氧爲基礎之聚合物及交聯劑組成,及利用加入觸媒 -10- 555643 五、發明說明(9 ) 而進行加成反應。較佳地,離形劑可摻入所需的離形控制 劑、抑制劑、黏著改良劑(與"錨狀促進劑”相同)、溶劑(有 機溶劑、水等等)及其它添加劑(諸如二氧化矽)。附隨地, 可從市場購得之以加成反應型聚矽氧系離形劑已預先摻入 除了觸媒外的主要原料。因此一般的程序爲在塗佈操作之 前立即地向該離形劑加入觸媒。 聚矽氧系離形劑之形式可爲溶劑型式、乳化劑型式及 無溶劑型式,其限制條件爲該聚矽氧樹脂應爲加成反應型 式。在這些型式中,從品質及容易處理的觀點來說,溶劑 型式之聚矽氧系離形劑特別合適。 前述之以含雙鍵的聚矽氧爲基礎的聚合物並無特別限 制,但是可選擇迄今爲止習慣上用作離形劑而由熱可硬化 的加成反應型式之聚矽氧組成的那些,其例子有至少其中 一部分選自於分子中具有烯烴基爲官能基團的聚有機矽氧 烷。該於分子中具有烯烴基爲官能基團的聚有機矽氧烷之 較佳的實例包括具有乙烯基或己烯基爲官能基團之聚二甲 基矽氧烷(聚合程度於約100至10,000的範圍),及這二種 之混合物。 交聯劑之例子有含至少二個氫原子且每個皆鍵結至矽 原子之聚有機矽氧烷分子,特別是末端以二甲基矽氧烷基 爲位阻的二甲基矽氧烷/甲基氫-矽氧烷共聚物、末端以三甲 基矽氧烷基爲位阻的二甲基矽氧烷/甲基氫-矽氧烷共聚物、 末端以三甲基矽氧烷基爲位阻的聚(甲基氫-矽氧烷)及聚(氫 -11- 555643 五、發明說明(1 〇) 矽喹氧烷)。所選擇的例示交聯劑之使用量以1 〇〇個重量份 之以含雙鍵的聚矽氧爲基礎之聚合物爲準,在0.1至100個重 量份的範圍,較佳地從〇·3至50個重量份。 前述的觸媒之例子有以鉑爲基礎的觸媒、以鈀爲基礎 觸媒及以铑爲基礎的觸媒,而使用適合的量用以加速聚合 反應。例如,將使用的觸媒量以100個重量份的主要原料 (亦即,以含雙鍵的聚矽氧爲基礎之聚合物及交聯劑的總量) 爲準,選擇在0.1至10個重量份的範圍,較佳地從0.4至5個 重量份。 於此使用之離形控制劑的例子有二甲基聚矽氧烷及以 聚矽氧爲基礎的聚合物。 前述之使用抑制劑組分的目的爲,其可授予聚矽氧系 離形劑於室溫下具有穩定的閑置壽命,及特別的例子有3,5-二甲基-1·己炔-3-醇;3-甲基-1-戊烯-3-醇;3-甲基-3-戊烯-1-in ; 3,5-二甲基-3-己烯-Ι-in ;環狀的四乙烯基矽氧烷;及 苯并三唑。 根據本發明之方法,甚至在沒將感光劑加入至以加成 反應型聚矽氧系離形劑實例中都有效。但是,較佳的是加 入感光劑,因爲可因此顯著地提高其硬化性能。 欲於加成反應型式的聚矽氧中使用的感光劑並無特別 限制’但是可視需要合適地選擇迄今爲止習慣使用在紫外 光可硬化的樹脂那些。其實例包括苯偶姻類、二苯甲酮 類、乙醯苯類、α-羥基酮類、α-胺基酮類、α_二酮類、α_ -12- 555643 五、發明說明(11) 二酮二烷基乙縮醛類、蒽醌類、硫蒽酮類及其它化合物 類。 苯偶姻類之例子有苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙 醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻正丁醚、苯偶姻異丁醚及利用 醚連結而鍵結至聚二甲基矽氧烷二個末端之苯偶姻化合 物。二苯甲酮類的例子有二苯甲酮、對-苯基二苯甲酮、 4,4’-二乙基胺基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、三甲基矽基二 苯甲酮及4-曱氧基二苯甲酮。乙醯苯類之例子有乙醯苯、 二甲基胺基乙醯苯、3-甲基乙醯苯、4-甲基乙醯苯、4-烯丙 基乙醯苯、3-戊基乙醯苯及丙醯苯。α-羥基酮類之例子有2-羥基-1-(4-異丙基)苯基-2-甲基-1-丙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯 基-1·丙酮、1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙 酮及1-羥基環己基苯基-酮。α-胺基酮類之例子有2-甲基-1-[4-(甲硫基)-苯基]-2-嗎啉基-卜丙酮及2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-1-丁酮。α-二酮類之例子有苄基及二乙醯 基。α-二酮二烷基乙縮醛類之例子有苄基二甲基乙縮醛及 苄基二乙基乙縮醛。蒽醌類之例子有2-甲基蒽醌、2-乙基蒽 醌、2-第三丁基蒽醌及2-胺基蒽醌。硫蒽酮類之例子有2-甲 基-硫蒽酮、2-乙基硫蒽酮、2-氯硫蒽酮、2,4-二甲基硫蒽酮 及2,4·二乙基硫蒽酮。其它化合物類之例子有三級胺類諸如 三苯基胺及安息香酸對-二甲基胺酯;及偶氮化合物類諸如 偶氮雙(異丁基膪)。 任何上述之感光劑例子可單獨地使用或與至少一種其 -13- 五、發明說明(12) 它的感光劑組合著使用。欲使用的量以100個重量份的加成 反應型式聚矽氧及交聯劑之總量爲準,可選擇在0.01至30個 重量份的範圍,較佳地從0.05至20個重量份。 總結本發明之加工效應及優點有,其可容易地獲得具 優良的離形能力之離形膜,其特徵有減少以聚矽氧爲基礎 的聚合物之遷移性;及利用於雙軸定向薄膜之生產步驟中 線上塗佈聚矽氧系離形劑,於定向退火步驟中隨後的加熱 處理,接著紫外線照射步驟而最大化其產率。 根據本發明之聚矽氧系離形膜可相當適合地作爲感壓 黏著產物及黏著劑產物,及可用來製造陶瓷綠片、合成皮 及其類似物。 於下列,本發明將參考比較的實例及可作用的實例而 更詳細地描述,但是不應該視爲本發明之限制。 根據下列描述的評估程序對可作用的實例及比較的實 例評估所獲得的每個離形膜之不同特徵。 (1)硬化性能 根據下列標準評估硬化性能,其方法包括以手指強烈 地磨擦於離形膜上已硬化的塗佈表面十次,及觀察於該離 形塗佈物上的污跡及脫落。 ◎:全無觀察到污跡或脫落。 〇:觀察到輕微的污跡(不會產生實際的問題) □:觀察到一些污跡及脫落(有時會產生實際的問題) X :觀察到明顯的污跡及相當大的脫落(會產生實際的問題) -14- 555643 五、發明說明(13) (2) 剝除力量 藉由在離形膜上以丙烯酸感壓黏著劑(由Toyo Ink Mfg. Co. Ltd.製造,商品名稱爲nBPS-5127n)塗佈一層硬化的塗 佈物而製備感壓性黏著薄片,利用熱空氣循環型式的烘箱 於100 °C下乾燥該塗佈物2分鐘及於薄膜上積層一表面基材 (無木質紙),所以該乾燥的塗佈物厚度變成40微米。將所產 生的樣品保持在23°C及65% R.H.下24小時,及切割成每片具 有20毫米寬的塊狀。使用張力測試裝置測試每個離形膜樣 品,其以180度的角度以每分鐘300公尺的速度剝除,以測 量剝除所需的力量以評估剝除力量。 (3) 無聚矽氧遷移性 根據下列標準評估無聚矽氧遷移性,其方法包括於離 形膜上以聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(PET薄膜)積層一層硬化 的塗佈物,對因此形成的薄層板施加1.97牛頓/平方毫米的 負載,將該薄層板保持24小時,然後從該薄層板上剝除PET 薄膜,以毛氈-尖端的標識器於積層的表面塗上油狀墨水, 及觀察其排斥程度以檢查聚矽氧遷移的程度。 ◎:因全無觀察到排斥故不產生遷移 〇:因觀察到些微的排斥故輕微地產生遷移(不產生實際的 問題) □:因觀察到一些排斥故產生稍微遷移(有時會產生實際的 問題) X :因明顯地觀察到相當大地排斥故產生遷移(會產生實際 -1 5-
555643 五、發明說明(14) 的問題) (4)連續的附著力 評估連續的附著力之方法包括以感壓黏著膠帶(由Nitto Denko Corporation製造,商品名稱爲"PET 31B膠帶”)於離形 膜上積層一層硬化的塗佈物,對因此形成的薄層板施加 9.81x10-3牛頓/平方毫米的負載,將該薄層板保持在70°C下 24小時,進一步在23°C及65% R.H.的條件下24小時,其後從 該薄層板上剝掉感壓黏著膠帶,於不銹鋼片上黏上該膠 帶,從該不銹鋼片上以180度的角度以每分鐘300公尺的速 度剝除該膠帶以測量剝除附著力,及以從未與離形膜接觸 的新鮮感壓黏著膠帶之固有的剝除附著力爲準,以測量的 剝除附著力之百分比表達。 實例1 根據於第1圖中顯示的具體實施例製備離形膜。首先, 將聚對苯二甲酸乙二酯(PET)以熔化擠壓器於290°C下熔化 擠壓,及利用冷卻滾筒冷卻固化成薄片形式(步驟1)。隨後 地,將產生的薄片於85 °C下以拉抽比率3.2於機器方向定向 (步驟2)。其後,將塗佈溶液透過照相凹版式塗敷方法均勻 地塗佈至單軸定向的PET薄片(步驟3),其中該溶液可利用 將2個重量份的以鉑爲基礎之觸媒(1〇〇個重量%之固體成 分,由Dow Corning Tor ay Silicone Corporation 製造,商品名 稱爲”SRX_212”)及一個(1)重量份的1-羥基環己基苯基酮(作 爲感光劑),加入至100個重量份的溶劑型式之加成反應型 -16- 555643 五、發明說明(15) 式聚矽氧離形劑(30個重量%的固體成分,由Dow Corning Toray Silicone Corporation製造,商品名稱爲"SRX-211··)而 製備,其中該離形劑包括的主要原料有含乙烯基爲官能基 團的聚二甲基矽氧烷及交聯劑(聚甲基氫矽氧烷),同時以含 甲苯的有機溶劑稀釋因此製備的混合物而作爲主要原料。 隨後地,利用張布機於100°C下以拉抽比率3.2於橫軸方向定 向該塗佈的PET薄片(步驟4)。然後將該PET薄片於230 °C下 接受加熱退火(步驟5)。其後,立即地使用配備著二個具240 瓦/公分的Η電子管(由Fusion Corp.製造)之紫外線輻照機器 對PET薄片進行紫外線輻照(步驟6)。將因此輻照的PET薄片 冷卻,及利用200公尺/分鐘的製程速度捲繞而拿取該薄片 (步驟7),以製備含聚矽氧系離形劑之離形膜,其塗佈量爲 〇·〇3克/平方公尺及全部厚度爲25微米。因此,所產生的離 形膜之不同特徵則提供於表1。 實例2 重覆實例1之程序以製備離形膜,除了使用無溶劑型式 之加成反應型式聚矽氧離形劑(1〇〇個重量%的固體成分,由 Dow Corning Toray Silicone Corporation製造,商品名稱爲 “BY24-482”)’該離形劑包括的主要原料有含乙烯基爲官能 基團的聚二甲基矽氧烷及交聯劑(聚甲基氫矽氧烷);以1〇〇 個重量份的離形劑爲準,以鉑爲基礎的觸媒(,,SRX-212")之 使用量爲1.5個重量份;省略使用感光劑及溶劑;及利用多 滾筒(5組)塗佈方法取代照相凹版式塗敷方法來進行塗佈。 -17- 555643 五、發明說明(16) 因此,所產生的離形膜之不同特徵則提供於表1 ° 實例3
重覆實例1之程序以製備離形膜,除了使用乳化劑型式 之加成反應型式聚矽氧離形劑(由Shin-Etsu Chemical Co. Ltd 製造,商品名稱爲“乳化劑ΚΜ768Π),其包括的主要原料有 含乙烯基爲官能基團的聚二甲基矽氧烷及交聯劑(聚甲基氫 矽氧烷);以100個重量份的離形劑爲準,以鉑爲基礎的觸 媒(由Shin-Etsu Chemical Co·,Ltd·製造,商品名稱各別地爲 •71^-6人”及"PM-6B")之使用量各別地爲1·2個重量份及1.8個 重量份;及在以水稀釋之後,將一個重量份的1-[4-(2-羥基 乙氧基)-苯基]2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮(作爲感光劑)加入 至離形劑以製備塗佈溶液。所產生的離形膜之不同特徵則 提供於表1。 實例4
重覆實例1之程序以製備離形膜,除了使用無溶劑型式 之加成反應型式聚矽氧離形劑(1〇〇個重量%的固體成分,由 Dow Corning Toray Silicone Corporation製造,商品名稱爲 "ΒΥ24-482Π) ’該離形劑包括的主要原料有含乙烯基爲官能 基團的聚二甲基矽氧烷及交聯劑(聚甲基氫矽氧烷);以1〇〇 個重量份的離形劑爲準,以鉑爲基礎的觸媒(”SRX-212")之 使用量爲1.5個重量份;省略使用感光劑及溶劑;利用多滾 筒(5組)塗佈方法取代照相凹版式塗敷方法進行塗佈,及將 製程速度設定在1〇〇公尺/分鐘取代200公尺/分鐘。因此,所 -18- 555643 五、發明說明(17) 產生的離形膜之不同特徵則提供於表1。 實例5 根據於第1圖中顯示的具體實施例製備離形膜。首先, 以熔化擠壓器於290°C下熔化擠壓聚丙烯,及利用冷卻滾筒 冷卻固化成薄片形式(步驟1)。隨後地,以拉抽比率5.0於機 器方向對產生的薄片定向(步驟2)。其後,進行電暈放電處 理。然後如於實例1般,利用照相凹版式塗敷方法將塗佈溶 液均勻地塗佈至單軸定向的聚丙烯薄片(步驟3)。隨後地, 將塗佈的聚丙烯薄片於160°C下以拉抽比率10於橫軸方向利 用張布機定向(步驟4)。然後於170t下將該聚丙烯薄片接受 加熱退火(步驟5)。其後,立即地使用配備著二個具240瓦/ 公分的Η電子管(由Fusion Corp.製造)之紫外輻照機器對聚丙 烯薄片進行紫外線輻照(步驟6)。將因此輻照的聚丙烯薄片 冷卻,及利用300公尺/分鐘的製程速度捲繞而拿取該薄片 (步驟7),以製備具有聚矽氧系離形劑之離形膜,其塗佈量 爲0.03克/平方公尺及全部厚度爲25微米。因此,所產生的 離形膜之不同特徵則提供於表1。 比較例1 重覆實例1之程序以製備離形膜,除了省略紫外線照 射。因此,所產生的離形膜之不同特徵則提供於表1。
-19- 555643 五、發明說明(18)表1 硬化性能 剝除力量(毫牛頓/20毫米) 無聚矽氧遷移性 連續的附著力 實例1 ◎ 110 ◎ 100 實例2 ◎ 100 ◎ 99 實例3 ◎ 90 ◎ 95 實例4 〇 150 〇 90 實例5 ◎ 150 ◎ 92 比較例1 X 200 X 80 -20-

Claims (1)

  1. 六、Tlf專利範圍
    第 9 0 1 1 6 4 8 1 號 」專利案 A申請專利範圍: 1 · 一種雙軸定向離形膜的線上製造方法, 门取 其利用連續地 將未定向的薄膜於機器及橫軸方向逐一地定向,其包 括在雙軸定向前之狀態下於薄膜的至少〜面上塗佈以 加成反應型聚矽氧系離形劑;雙軸地定向該薄膜;其 後加熱退火該薄膜;及隨後地進行紫外線照射。 2 ·如申請專利範圍第1項之雙軸定向離形膜的線上製造方 法’其中該加成反應型聚矽氧系離形劑係倂有感光 劑。 3. 如申請專利範圍第1或2項之雙軸定向離形膜的線上製 造方法,其中在塗佈以加成反應型聚矽氧系離形劑 前,使該薄膜接受表面活化處理。 4. 如申請專利範圍第丨項之雙軸定向離形膜的線上製造方 法,其/中該薄膜包括聚對苯二甲酸乙二酯或聚丙烯。 5. 如申請專利範圍第1項之雙軸定向離形膜的線上製造方 法,其中將該離形劑塗佈物於機器方向進行定向,接 著於橫軸方向定向。 6 ·如申請專利範圍第1項之雙軸定向離形膜的線上製造方 法,其中該加成反應型聚矽氧系離形劑更包括至少一 種選自於抑制劑、離形控制劑、黏著改良劑及溶劑 555643 t、申請專利範圍 者。 7.如申請專利範圍第1項之雙軸定向離形膜的線上製造 方法,其中該紫外線照射以最少一個無電極紫外線燈 進行。
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