TW543341B - Flexible organic electronic device with improved resistance to oxygen and moisture degradation - Google Patents

Flexible organic electronic device with improved resistance to oxygen and moisture degradation Download PDF

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TW543341B
TW543341B TW089108017A TW89108017A TW543341B TW 543341 B TW543341 B TW 543341B TW 089108017 A TW089108017 A TW 089108017A TW 89108017 A TW89108017 A TW 89108017A TW 543341 B TW543341 B TW 543341B
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Description

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543341 A7 _ B7 五、發明說明(1 ) 發明之背景 發明之領域 本發明係關於其中活性層爲有機材料之有機電子裝置。 更特別地,其有關以可撓性複合障壁結構覆蓋之電子裝置 〇 相關技藝之説明 有機電子裝置包括發射光(如組成顯示器之發光二極體) 或反映輻射能量(如光偵檢器)之裝置。顯示器可含主動基 質定址或被動基質定址。在被動基質顯示器中有電極線路 陣列,以將以行列配置之個別光素定址;在特定之列與行 之間施加電壓可激化具此對應地址之光素。類似主動基質 液晶顯示器,聚合物電子裝置(顯示器)可使用薄膜電晶體 (TFT)裝置在個別光素定址,其切換光素開關。在此组態中 ,各TFT電連接”閘匯流排線路”及,,數據匯流排線路”,其 亦需要連接電驅動電路,因此密封在主動裝置區域外部。 在所有此種裝置中,有機活性層夾在兩個電接觸層之間 。至少一個電接觸層爲透光性使得光可通過電接觸層。有 機活性層可回應通過至少一個透光電接觸層之光產生電信 號’或可在對電接觸層施加電時發射通過透光電接觸声之 光。在後者之情形,有機活性層含電發光材料。 已知在發光二極體中使用有機電發光材料作爲活性材料 。已知如蒽、嘍唑衍生物、及薰草素衍生物之簡單有機分 子顯示電發光性。亦已使用半導體共軛聚合物作爲電發光 材料,例如,如Friend等人之美國專利5 247 19〇、 ------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -4 -
543341 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(2 ) 等人之美國專利5,4〇8,1〇9、及Nakan0等人之公告歐洲專 利申請案443 861所揭示。有機材料適合提供各種波長之 發射。然而,其經常被大氣氣體降解,特別是氧及水蒸氣 。如果未適當地密封材料,此敏感性可嚴重地限制裝置之 作業壽命。 一般而言,裝置在玻璃基材上製造然後以環氧基氣密地 密封至另一片玻璃,在Nakamura等人之美國專利5,427,85 8 ’電發光裝置具有含氟聚合物之保護層,其視情況地以玻 璃遮蔽層覆蓋。在Tang之美國專利5,482,896中,使用如 環氧基或熱熔黏著劑密封堅硬撑體與薄(25-50微米)玻璃 基材間之電發光裝置邊緣。在Scozzafava等人之美國專利 5,073,446中,包括玻璃基材之電發光裝置具有外部封蓋層 ’其包含含至少80%之銦之熔融金屬顆粒,以防止第二電 接觸層氧化。然而,以玻璃作爲基材大爲增加裝置之脆弱 性。.此外,具有玻璃基材之裝置在或低於於室溫不爲可撓 性,因此無法符合彎曲表面。 因此,有改良對環境元素爲敏感的之有機電子裝置中層 之化學安定性之需求。亦有改良此種裝置之耐久性及可撓 性之需求。 發明之概要 本發明係關於一種改良可撓性有機電子裝置對氧及濕氣 降解抗性之方法,及具有大爲改良之環境降解抗性,特別 是氧及濕氣降解,及改良之耐久性之可撓性有機電子裝置 。此裝置包括夾在兩個電接觸層之間之有機活性層,夹層 -5- 表紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 '—---------B7 __ 五、發明說明(3 ) 山封在兩個可撓性複合障壁結構之間。可撓性複合障壁結 /、有較佳爲小於1 〇 cc/平方米/24小時/大氣壓力之氧及 水恶氣運輸速率。 在本發明之具體實施例中,裝置以所列之次序包含; # (a)第一可撓性複合障壁結構,其包含至少一層第一聚合 膜及至少一層第一障壁材料; (b) 至少一個第一電接觸層; (c) 至少一個包含有機活性材料之活性層,該活性層具有 以長度及寬度界定之尺寸; (d) 至少一個第二電接觸層; ()弟一 了捷性複合P早壁結構,其包含至少一層第二聚合 膜及至少一層第二障壁材料; 其中第一及第二複合障壁結構至少之一爲透光性,而且 其中第一及第二複合障壁結構密封在一起以封包活性層。 在第二具體實施例中,此裝置包括延伸超越活性層尺寸 之一邵份第一電接觸層及一部份第二電接觸層,而且進一 步知第一及第二複合障壁結構密封於延伸超越活性層尺寸 之第一電接觸層部份及第二電接觸層部份。 圖式^説-明 圖1爲本發明有機電子裝置之上視圖之略示圖。 圖2爲圖1之裝置在裝置密封前在線2-2之橫切面略示圖 〇 圖3爲圖2所示之裝置在線3-3之上視圖之略示圖。 圖4爲圖1之装置在密封後在線2-2之橫切面略示圖。 -6- 衣紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------參裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 、發明說明(4 障^士 ^ ^封於聚合撑體上之電極圖案之本發明複合 障壁結構剥離時,剥除強度相對距離之圖。 :6爲自撑體及電極材料剝除複合障壁結構之略示圖。 二⑷爲本發明〈聚合物發光裝置在起始時間及在 儲存50曰後之發光圖。 圖7(b)爲無本發明障壁結構之聚合物發光裝置在起始時 間及在周圍儲存50日後之發光圖。 之詳細説! 本發明係關於以所列之次序至少具有第一可撓性複合障 土,第私接觸層,其爲含至少一種有機活性材料之 層第一 %接觸層;及第二可撓性複合障壁結構之裝置。 。應了 %,爲了使裝置作用,將裝置之電接觸層連接外部 電路爲必要的。在大部份之情形,此電路連接可藉由將電 接觸層^伸超越活性層之尺寸以連接而完成。複合障壁結 構然後密封在一起及密封於電接觸層之延伸部份,電接觸 層持續超越密封。然而,亦可使用已知爲通路之導電性路— 徑將電接觸層連接至外部電路。通路開口可在組合裝置時 在各層上形成,或藉由在裝置組合後在所有層鑽孔而形成 。開口然後使用已知之技術電鍍,例如,如sinnadurai之
Handbook of Microelectronic Packaging and Interconnection
Technologies (Electrochemical Publications Ltd,1985)所 述。如果使用通路,開口應在連接電線周圍完全密封,以 保護活性層不暴露於外邵環境。 在此使用之名詞”可撓性”意圖表示平面材料片在室溫不 -----------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7
543341 五、發明說明(5 ) 比具有i毫米厚度之玻璃堅硬,而且較佳爲可由平面彎曲 至少之10。角度而不破裂。名詞"透光性”意圖表示材料在可 見光光譜(400-700 nm)穿透至少50 %之光。名詞,,障壁,,意 圖表示對氧及水蒸氣爲低穿透性。使用名詞”本質上χ”表 示特定材料之組合物主要爲X,而且亦可含不有害地影響 材料之功能性質至材料不再表現其意圖目的之程^之 成份。 在層Α敘述爲”相鄰”層Β之第一表面時,其表示層a較 接近層B之第一表面而非層B之第二表面,此第二表面位 於第一表面之相反面。在此使用之名詞”相鄰”未必表示層A 緊鄰層B之第一表面。因此,層C位於層A與層B之間爲 完全可能的,而且層A相鄰層B之第一表面仍然正確。 圖1 - 4顯示依照本發明之有機電子裝置1 〇之實例。如由 圖2與4所最佳地見到,裝置1 〇包括第一可撓性複合障壁 結構2 0,第一電接觸層3 0,活性層4 0,第二電接觸層5 0 及第二可撓性複合障壁結構60。視意圖之應用而定,裝置 10可直接連接電源1〇〇、120,如由圖1與3所最佳地見 到。或者,裝置10可連接至少一個外部電路(外示),因而 爲全邵電子系統(未示)之一部份。 如由圖2與4所最佳地見到,第一複合障壁結構20具有 内表面24且由兩個在障壁材料層22各側之聚合層2 1A與 2 1B組成。圖案化第一電接觸層3 0相鄰第一複合障壁結構 20之内表面24而安置。如由圖1與3所最佳地見到,第一 電接觸層圖案包括穿越活性層之寬度44且延伸超越活性 -8 - 張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公f ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543341 Α7 —__Β7 五、發明說明(6 ) 層40 I邊緣UA之線路。第一電接觸層3〇在區域31延伸 超越活性層40心尺寸。如由圖2與4所最佳地見到,圖案 化第二電接觸層50相鄰活性層4〇之第二表面48而安置, 其相對於札鄭第一電接觸層3〇之表面46,使得活性層4〇 夹在第二電接觸層50與第一電接觸層3〇之間。如由圖卜 2與4所最佳地見到,第二電接觸層圖案包括穿越活性層 之寬度42且延伸超越活性層4〇之其他邊緣45a、44之線 路。如由圖1與2所最佳地見到,第二電接觸層在區域52 延伸超越活性層之尺寸。如由圖2與4所最佳地見到,第 一可撓性複合卩早壁結構6 0兩個在障壁材料層6 2各侧之聚 合層6 1A與61B組成。在第二障壁結構之内表面64上為 黏著層70。 應了解’視裝置10之設計而定,電接觸層3〇、可延 伸超越活性層邊緣43A、43B、45A、45B、任何之一或更 多。 應了解。圖1-4已繪製表示層之相對次序而誇大其分離, 而未正確地敘述其相對尺寸。 如由圖1、2與4所最佳地見到,第二複合障壁結構6〇 之尺寸65、66比第一複合障壁結構20之尺寸%、27小。 在描述之具體實施例中,為了有效地密封活性層4〇,第二 複合障壁結構60之尺寸65、66比活性層40之尺寸42、 44(未示)大。在其中至少一個電接觸層亦對環境降解敏感 之具體實施例(未示)中,應調整複合障壁結構之尺寸以亦 有效地密封敏感之電接觸層。因此應了解,可改變第二 -9- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公ί! ------------^^裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543341 A7 ______ _ B7 五、發明說明(7 ) 複合障壁結構60之相對尺寸65、66及第一複合障壁結構 20之尺寸26、27,只要複合障壁結構2〇、6〇可對裝置 10提供有效之密封。 如由圖4所最佳地見到,第一與第二可撓性複合障壁結 構20與60在區域102藉活性層40尺寸外部之黏著層7〇密 封在一起。雖然未在圖.式中明確地顯示,第一與第二可撓 性複合障壁結構20與60在所在之邊緣密封,使得活性層 40完全地封包於密封邊緣内。較佳爲,第一與第二可撓性 複合障壁結構20與60以亦封包第一與第二電接觸層3〇 ; 50之所有部份(除了第一電接觸層3〇之區域31及第二電接 觸層50之區域52)之方式密封。 在其中裝置10爲發光二極體之具體實施例中,層3〇可 爲陰極(或陽極),層40爲含電發光材料之發光層,及層5〇 爲各相對電極,即:在此情形爲陽極(或陰極)。 1.可撓性複合障壁結構 可撓性複合障壁結構20與60爲至少一個聚合膜層與至 少一層障壁材料之複合物。兩個複合障壁結構可由相同或 不同之材料組成。兩個複合層至少之一應爲透光性,其較 佳爲在可見光區域穿透至少8〇 %。 用於本發明之聚合膜21A、21B、61A、61B在裝置之 操作條件下爲尺寸及物理安定的。適合聚合物之實例包括 本質上含聚烯烴,如聚乙烯與聚丙烯;聚酯,如聚對酞酸 伸乙酯與聚莕酸伸乙酯;聚醯亞胺;聚醯胺;聚丙晞腈與 聚甲基丙缔腈;全氟化與部份氟化聚合物,如聚四氟乙缔 -10- 本紙張尺度適用中關轉準(CNS)A4規格⑵Q χ 297公复) ------------^^裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 543341 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明(8 及四氟乙烯與2,夂二甲基-1,3·二唑之共聚物;聚苯乙埽; 聚碳酸酯;聚氣乙缔;聚胺基甲酸酯;聚丙烯樹脂,其包 括丙烯酸及/或甲基丙烯酸之酯之均聚物與共聚物;環氧樹 脂;及酚醛清漆樹脂之材料。可使用超過一層聚合膜且可 使用膜與不同組合物之組合。多層可以適合之黏著劑或藉 i知層製造方法結合在一起,如塗覆及/或共擠製法。聚合 膜通常具有約〇·5_1〇 mils (12 7_254微米)範圍之厚度。在 存在超過一個膜層時,個別厚度可大爲較小。 應了解,雖然聚合膜21A、21B、61A、61B本質上含 上述聚合物,這些膜亦可包括習知添加物。例如。許多商 業可得I合膜含滑動劑或粗面劑,以防止膜層在如大型捆 儲存時黏附在一起。在一些情形,此添加物之大小可造成 障壁材料接合層之不規則反缺陷;此不規則可有害地影響 複合障壁結構之障壁性質。在添加物有害地影響複合障壁 結構之處,無滑動與粗面劑,或其中此種試劑少或相對障 壁材料層22、62之所需厚度爲不明顯的之聚合膜較佳。 在一些情形,可使用滑動塗層。 在本發明之複合結構2〇、6〇中,較佳爲具有夾在聚合 膜21A、2ib、6ia、61B至少兩層之間之至少一層障壁 材料22、62,如圖4所最佳地見到。此複合結構20、60 可使障壁材料層非常薄且爲可撓性,其然後以外部聚合膜 層保護以免損壞。可有超過一層障壁材料(未示),各層可 位於兩個聚合層之間。障壁層可藉以下所述方法之一塗佈 於第一聚合膜層。然後可藉層合或塗覆,鑄製或擠製法塗 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} ▼壯衣·-------訂·-------.·. 11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543341 Α7 ____ ___________ Β7 五、發明說明(9 ) 佈第二聚合膜層。第二聚合膜層可具有與第一相同或不同 之組合物。例如,l-2nnlS(25.4-50.8微米)厚度聚酯膜可使 用電漿增強化學蒸氣沈積塗覆2-500 nm厚之氮化珍(siNx) 層。此層然後可丙烯樹脂(其可乾燥)或環氧基或酚醛清漆 树脂(繼而硬化)之溶液塗面。或者,塗覆氮化矽層聚酯膜 可層合至第二聚酯膜層。複合結構之總厚度通常爲約〇 5_ 10 mils (12.3-254 微米)’較佳爲 is (25.4_203·2 微米) 之範圍。此總厚度受用以塗佈或鋪設複合結構之方法影響 〇 如由圖2與4所最佳地見到。黏著劑7〇通常塗佈於複合 結構20、60之至少一個表面。複合障壁結構2〇、6〇藉由 使結構20、60之内表面24、64在一起而以黏著劑密封。 黏著劑70應可不僅將兩個複合結構密封在一起,亦將至少 私接觸層ο 1、52延伸超越活性層40尺寸之部份密封。應 了解’除了或取代黏著劑層7 〇,黏著劑(未示)可緊鄰第一 複合障壁結構20之内表面24放置。 在另一個具體實施例中,除了或取代分離黏著劑層70, 黏著劑成份可加入相鄰活性層4〇之聚合膜2丨A、6 1Β至少 I 一。在此情形,以分離黏著劑層7〇將複合障壁結構2〇 、60密封在一起爲不必要的。 可作爲分離層(如層70)及/或作爲聚合膜層2 ΙΑ、61Β之 一(成份之適合黏著劑包括本質上含聚合物黏著樹脂、非 晶聚醋、共聚酯、聚酯摻合物、耐綸、聚胺基甲酸酯及聚 婦文二之材料’其包括聚乙晞、聚丙婦、聚乙晞乙稀醇、乙 -12- 本紙張尺度^中國?^^似4規格⑽χ 297公爱) --------------------1--------- (請先閒讀背面之注意事項再填寫本頁) 543341 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(1〇 ) 烯乙酸乙烯酯共聚物、離聚物與酸之共聚物。應了解,在 黏耆層相砷透光層之處’黏著層亦應爲透光性。類似地, 加入透光聚合膜層中之黏著劑成份不應有害地影響聚合膜 層之透光性質。 用於本發明障壁層22、62之障壁材料可爲在形成厚度 1000 A之連續膜時,具有小於1.〇 cc/平方米/24小時/大氣 壓力,較佳爲小於〇·2 cc/平方米/24小時/大氣壓力之氧與 水游氣運輸速率之物質。適合之障壁材料包括可彎曲之展 性及抗裂解性材料。此種材料之實例包本括本質上含金屬 者,如鋁、鎳、銅、錫與不銹鋼,及合金。障壁材料亦可 爲任何對水與氧爲化學安定之無機材料,其包括如矽、鋁 、銦、鈦、鎂、铪、姮、與锆之無機氧化物、氮化物、氟 化物、與碳化物,及其組合。 各障壁層22、62應爲含最少缺陷之連續層,因爲缺陷 增加材料I氧與水蒸氣穿透力特徵,使得其不再作用如障 壁。因此,例如,如針孔或裂縫之缺陷爲不希望的。應了 解,除了缺陷之大小,缺陷之面積密度(即,每單位面積之 缺陷數量)亦影響障壁材料之功能特徵。爲了維持撓性:障 壁材料層通常具有不大於i微米,較佳爲不大於5〇〇nmt 厚度。通常,障壁層可具有2_500 nm範圍之厚度。然而, 在些可撓性金屬膜,如A1箔,可使用比較佳範圍厚之障 壁層。 本發明之障壁層爲含非常薄之具有非常低穿透力之材料 層之複合物。 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -------------------^---------^^1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 543341
五、發明說明(11 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
聚合膜及障壁材料之特定選擇視複合結構暴露之處理 件及透光需求而定。在使用複合結構20或60作為其上建 置額外層之撐體時’其可進行各種處理條件,包括蒸氣沈 積處理及/或濕化學蝕刻。在一些情形,聚合膜為複合結構 (外層,其暴露以進一步處理。如果其接受化學蝕刻條件, 如聚酯、聚醯亞胺及氟化聚合物之材料為較佳之聚合材 料。在處理涉及蒸氣沈積步驟時,較佳為聚合膜為^ 玻璃轉移溫度(Tg)之聚醯亞胺(例如,100它至35〇它之τ 或聚醋’更佳為聚茶酸乙缔醋。在一些情形,障壁材料^ 複合結構之外層’其暴露以進—步處理。應選擇障壁材料 以承受這些條件。在加人複合結構2G或6G作為最後—層 時,其經常不進行任何進一步處理。因此,安置作為最^ -層之複合障壁結構20或60中成份之組合物之選
較廣泛。 A 在複合結構20 ’或60相鄰透光電接觸層時,複合障壁結 構亦應為透光性以使光穿透至裝置中或使裝置產生之^ 透。在此情形可使用任何障壁材料透光層,其包括帶間= 大於2.5 eV之玻璃及無機氧化物、氮化物、氟化物、盥碳 化物。特佳之透光障壁材料為玻璃,如本質上由具有下^ ⑴,氮化矽製造;具有丁式(11)之氧化矽;具有下式_ (氧化銘;具有下式IV之氮化鋁之材料:
SiNw,其中W為0.8至1.2(含) 式⑴
Si〇x,其中x為i.5至2 〇(含) 式⑴) A1〇y,其中y為1至1.5(含) 式(ΙΠ) -14- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------1--------- -n - 本紙張尺度賴中國國家標準(CNS)A4規格(21G χ 297公釐 543341 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(12 )
AlNz,其中z為0.8至1.2(含) 式(IV) 亦可仗用適合材料之組合。 在複合結構相鄰不透明電接觸層時,無需透光複合障壁 結構。 總之,有至少以下四型之可視裝置中結構之安置而使用 之複合障壁結構:⑴使用複合障壁結構作為撐體,其上處 理額外層且相鄰透光電接觸層;(Π)使用複合障壁結構作為 撐體,其上處理額外層且相鄰不透明電接觸層;(出)複合 障壁結構為塗佈之最後一層且相鄰透光電接觸層;及(iv) 複合障壁結構為塗佈之最後一層且相鄰不透明電接觸層。 用於複合障壁結構之成份層之材料選擇部份地視複合結構 之型式而定。 聚合膜層21A、21B、61A、61B及障壁材料22、62可使 用產生所需厚度及均句度之任何已知應用技術組合在一 起,其包括塗覆法,如旋塗與噴塗,擠製塗覆,鑄製,網 印’及悉氣沈積法。較佳之方法為藉蒸氣沈積法將障壁材 料22、62各塗佈於聚合膜21A或21B,61A或61B。此方 法包括化學蒸氣沈積及電漿增強化學蒸氣沈積,及物理沈 積法’如蒸發、離子電鍍與噴鍍。電漿增強化學蒸氣沈積 特佳’因為其造成較少之基材(在此情形為聚合膜層2 1A、 21B、61A、或61B)加熱,而且塗覆通量較均勻。因而提供 本質上無缺陷層。 2.第一電接觸層 第 %接觸層3 〇塗佈於第一可撓性複合障壁結構之一 -------------9^--------訂---------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -15 A7
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
543341 五、發明說明(13 ) 個面立匕弘接觸層丨包括任何可將電荷載體注射(或收集 )或(或視情形自)活性層40之材料。 ,雖Λ、:未不於圖式中,第一電接觸層可由一個單層材料組 成或I爲多層第-電接觸層材料之複合物。在第一電接觸 層爲陽極(即,對於〉王射或收集正電荷載體特別有效之電極 )之處,例如,其可爲含金屬、混合金屬、合金、金屬氧化 物或W 口至屬氧化物之材料,或者其可導電聚合物。適合 之,屬包括第ΙΒ族金屬,第IV、▽、與…族中之金屬, 及第VIII族過渡金屬。如果第一電接觸層爲透光性,可使 用第π ηι與1V族之混合金屬氧化物,如銦-錫-氧化物 ’或導電聚合物,如聚苯胺。 雖然第一電接觸層30顯示爲具有延伸部份3 i以將裝置 連接至外邯電路,應了解,加入其他電路連接器具(如通路 裝置(未示)不需要此種延伸部份31。更應了解,第一電 接觸層30之組合物可橫越複合障壁層2〇、6〇之尺寸26私 63而改變。例如,在第一電接觸層30包括延伸部份3 !之 處,部份之位於密封複合障壁層2〇、6〇外部之延伸部份 可本質上含比與活性層40共延伸之第一電接觸層較抗環 降解或爲較佳導體之材料(如鋁)。因此,可選擇與活性層 40共延伸之第一電接觸層組合物以提供較佳之電子帶-間 隙符合。同時,可選擇延伸部份31中之第—電接觸層組| 物以提供較大導電度及增加之密封裝置外部環境降解抗^ 。可藉由使用分離之第一電接觸層材料層,或藉由調^第 一電接觸層内之合金組合物,而提供不同之組合物。 -16- ------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 私紙張尺度翻中關家標準(CNS)A4規格(21G X 297公爱) " --------- 543341 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明(14 ) 第一電接觸層30通常藉物理蒸氣沈積法塗佈。名詞"物 理蒸氣沈積”指各種在眞空進行之沈積方法。因此 物 物理蒸氣沈積包括所有形式之嘴錢,其包括離子束嘴贫, 及所有形式之蒸氣沈積,如e-束蒸發。用於本發明之ς 形式之物理蒸氣沈積爲rf磁控管噴鍍。 疋 通知第-電觸層圖案化。應了解,圖案可如所 改變、。第-電接觸層可藉由,例如,在塗佈第一電接:層 材料前將圖案化遮罩或光阻劑置於第一可撓性複合障壁結 構上而圖案化。或者,可塗佈第一電接觸層作爲全部層,口 繼而使用,例如,光阻劑及濕化學蝕刻而圖案化。第:電 接觸層一般具有50-500 nm範圍之厚度。可使用此技藝已 知之第一電接觸層材料及圖案化方法。 .衣 3.有機活性層 視裝置10之應用而定,活性層4〇可爲藉由施加電壓而 活化心透光層(如發光二極體),回應輻射能量且有或無施 加偏位電壓而產生信號之材料層(如光偵檢器)。光偵檢器― 之實例包括光導電池、光電阻、光開關、光電晶體、與光 電官,及光電伏打電池,這些名詞敘述於Markus,J〇hn Electronics and Nucleonics Dictionary , 47〇 與 476 (McGraw-Hill,Inc· 1966) o 在活性層爲透光性之處,層在足夠偏位電壓施加於電接 觸層時發光。發光活性層可含任何有機電發光或其他之有 機發光$料。此種材料可爲小分子材料,例如,如Tang之 美國專利4,356,429、VanSlyke等人之美國專利4,539,5〇7 -17 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) . 裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 543341 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(15 ) 所述,其相關部份在此併入作為參考。或者,此種材料可 j聚合材料,如Fnend等人(美國專利5,247,19〇)、 等人(美國專利5,4〇8,1〇9)、Nakan〇等人(美國專利 5,3 17,169)所述,其相關於部份在此併入作為參考。較佳之 私發光材料為半導體共軛聚合物。此聚合物之實例為稱 ppv 4聚(對·伸苯伸乙婦基)。發光材料可分散於其他材料 i基質中,有或無添加物,但是較佳為僅形成一層。活性 有機層通常具有50-500 nm範圍之厚度。 在活性層40加入光偵檢器中之處,層回應輻射能量且有 或無偏位電壓而產生信號。回應輻射能量且以偏位電壓產 生信號之材料(如在光導電池、光電阻、光開關、光電晶體、 光電管之情形)包括,例如,許多共軛聚合物及電伋光材 料。回應輻射能量且無偏位電壓而產生信號之材料(如在光 導電池或光電伏打電池之情形)包括化學地反應光因而產 生信號之材料。此種光敏感化學反應性材料包括,例如, 許多種共軛聚合物及電-與光-發光材料。特定實例包括但 不限於 MEH-PPV (,,Optocoupler made from semiconducting polymers" ’ G. Yu,K. Pakbaz 與 A. J. Heeger,Journal of Electronic Materials,第 23 卷,第 925-928 頁(1994);及 具 CN-PPV 之 MEH-PPV 複合物("Efficient Photodiodes from Interpenetrating Polymer Networks”,J. J· M. Halls 等 人(Cambridge group),Nature,第 376 卷,第 498-500 頁, 1995)。 含活性有機材料之層40可藉任何習知方法由溶液塗佈 18 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 543341 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 " -------- B7_______五、發明說明(16 ) 於第一電接觸層3〇,其包括旋塗、鑄製、及印刷。活性有 機材料可視材料之本性藉蒸氣沈積法直接塗佈。亦可塗佈 活f生聚合物先質然後一般藉加熱轉化成聚合物。活性層40塗佈於第一電接觸層30上,但是一般不覆蓋 ^層。如由圖2所最佳地見到,有延伸超越活性層尺寸之第私接觸層部份31以使其連接最終裝置中之驅動及/或 偵檢電路。 4.第二電接觸層 第一思接觸層50塗佈於活性層4〇之另一側。雖然未示 於圖式中,第二電接觸層可由一個單層材料組成或可爲多 層材料之複合物。 第一 %接觸層可爲本質上含任何可將電荷載體注射(或Ϊ集)至/或視情形自)活性層4〇之金屬或非金屬之材料。通 书,在第二電接觸層爲陰極(即,對於注射或收集電子或負 電荷載體特別有效之電極)之處,陰櫪可爲任何具有比第二電接觸層(在此情形爲陽極)低之作業功能之金屬或非金屬。用於第二電接觸層之材料可選自第I族鹼金屬(例如,τ· 、外第ΠΑ族(驗土族)金屬,第„族金屬,其(二稀: 族與鑭系',及射系。可使用如無、銦、舞、相、料,及其組合。 、,、秩义材雖然第二電接觸層50顯示爲具有延伸部份52以將裝冒連接至外部電路,應了解,加入其他電路連接器具(如通:)之裝置(未示)不需要此種延伸部份52。更應了解,第一—接觸層50之組合物可橫越複合障壁層2〇、 ^ 一電 〇υ I尺寸27、 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ---- 訂i 線Ψ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543341 A7 -—^ B7 五、發明說明(17 ) 66而改變。例如,在第二電接觸層5〇包括延伸部份u之 處,邵份之位於密封複合障壁層20、60外部之延伸部份 可本質上含比與活性層4〇共延伸之第二電接觸層較抗環 境降解及/或爲較佳導體之材料(如鋁)。因此,可選擇與活 性層40共延伸之第二電接觸層組合物以提供較佳之電子 帶-間隙符合。同時,可選擇延伸部份52中之第二電接觸 層組合物以提供較大導電度及增加之密封裝置外部環境降 解抗性。可藉分離之第二電接觸層材料層,或可在第二電 接觸層内合金,而提供不同之組合物。 第二電接觸層通常藉物理蒸氣沈積法塗佈。通常,第二 電接觸層參考以上第二電接觸層3〇所討論而圖案化。可使 用類似之處理技術將第二電接觸層圖案化。第二電接觸層 一般具有30-5 00 nm範圍之厚度。可使用此技藝已知之第 一電接觸層材料及圖案化方法。 第二電接觸層部份52延伸超越發光層4〇之尺寸。如同 第一電接觸層30,此延伸部份52可連接至最終裝置中之 驅動及/或偵檢電路。 5.其他用層 已知有機電子裝置中具有其他層。例如.,可在第—電接 觸層30與活性層40之間有—層(未示)以利於層3〇、仂之 電荷運輸及/或電子帶-間隙符合,或降低活性層4〇與第一 電接觸層30之間之化學反應性。類似地,一層(未示)可置 於活性層40及第二電接觸層5〇之間以利於層4〇、5〇之間 之電荷運輸及/或電子帶-間隙符合,或降低活性層4〇與第 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) r裝--- 訂---------線泰 543341 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(18 -電接觸層50疋間之化學反應性。可使用此技藝已知之層 。此外,任何上述之層可由多層組成。或者,帛一電接觸 層30、活性層40、及第二電接觸層%中之一些可表面處 理以增加電荷載體運輸效率。此外,料載體層(未示)亦 可置於層 20、30、40、so ^ ^ ^ 4r , 5〇、6〇必一或更多組以保護免 受負面處理條件。 各成份層 21A、22、22B、30、40、50、61A、62 、6 ΙΒι材料選擇較佳爲由平衡提供具有高電光效率之裝 置之目的決定。 在許多情形,本發明之有機電子裝置可藉由首先塗佈第 一電接觸層且由其建造裝置而製造。應了解,亦可由第二 電接觸層建造層。 以下之實例描述本發明之特定特點及優點。 實例 以下之實例描述本發明而非限制之。 實例1 以I醋膜及S iNx之薄膜障壁形成可撓性複合障壁結構。 使用微波電子迴旋加速共振(ECR)電漿將SiNx塗覆於e. L du Pont de Nemours and Company,lnc.(德接瓦州 Wilmington)提供之 Mylar® 200D,0.002 英吋(50.8 微米) 厚之聚對酞酸伸乙酯(PET)膜上。在沈積前,以渦輪分子栗 將槽抽具空至1.5 X 107托耳之壓力。在沈積時,將2標準 立方公分(seem)之 SiH4、98sccmtAr、&2〇sccmtN2 送入槽中。電漿在2.455 GHz使用150W之微波電力支持, -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543341 A7 B7 五、發明說明(19) 同時磁場調整至約900高斯,其相當於電漿中電子運動之 共振條件。一小時之沈積製造約840人厚之SiNx膜,如原 子力顯微鏡(AFM)所測定。X-射線光電子光譜(XPS)畫出 之化學深度顯示膜本質上爲具有一些氧(〜10%)及推論之氫 (XPS無法測量)之SiNx (X〜1.15)。以商業儀器(明尼蘇達州 Minneapolis 之 Mocon 公司製造之 MOCON Oxtran 2/20)評 估在50%相對濕度通過塗覆之PET膜之氧運輸速率(OTR) ,而且測定爲0.012 cc (02)/平方米/曰/大氣壓力。爲了參 考,Myar® 200D未塗覆膜具有約24 cc (02)/平方米/日/大 氣壓力之OTR。因此,SiNx塗層提供2000X之障壁改良倍 數。 實例2 以20〇A厚之SiNx之障壁膜形成第二可撓性複合障壁結 構。使用微波ECR電漿將SiNx塗覆於0.002英吋(50.8微米 )厚之Mylar® 200D PET膜上。在沈積時之氣流條件爲在 100W之微波電力之2 seem之SiH4、98 seem之Ar、及20 seem之Ν2。沈積持續30分鐘。繼而測定塗覆SiNx之PET 之OTR爲0.12 cc (02)/平方米/曰/大氣壓力。 實例3
此實例描述具有層合物結構之可撓性複合障壁結構之 OTR。塗覆SiNxi PET之層合保護SiNx塗層免於機械損壞 ,其損及障壁性質。藉微波電漿化學蒸氣沈積(CVD)製造 之具有約1000 A之SiNx塗層之0.0〇2英吋(50·8微米)厚PET 使用得自3M公司(明尼蘇達州St. Paul)之商業黏著劑3M -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543341 Α7 __ _ Β7 五、發明說明(20 ) 8142層合至亦爲0.002英叫-(50.8微米)厚之未塗覆pet。 層合器具有單橡膠輥且在48 °C及35 psi操作。層合膜之最 終結構爲PET/1000 A/SiNx黏著劑/PET。繼而測定此層合 結構之OTR爲0.00825 cc(02)/平方米/日/大氣壓力。 實例4 此實例描述具有兩個層合SiNx層之可撓性複合障壁結構 。使用實例3之條件,藉微波電漿增強CVD以黏著劑將兩 個各塗覆約1000人之SiNxi PET膜層合在一起,使得SiNx 膜在結構之内部,並且測量OTR。即,結構爲PET/SiNx/ 黏著劑/ SiNx/PET。在層合前,測定個別之塗覆siNxt PET 膜具有約0.0075 cc(〇2)/平方米/日/大氣壓力之〇TR。層合 結構之OTR爲0.005 CC(〇2)/平方米/曰/大氣壓力,其爲 MOCON儀器之測量下限。 實例5 此實例描述使用(使用蒸氣沈積鋁及障壁聚合物層之組 合提供氧及濕氣障壁)鋁作爲障壁材料形成不透明複合障 壁結構。 以聚氣亞乙烯共聚物-聚酯-鋁-聚氯亞乙晞共聚物製備第 一金屬化膜。SiNx之耐捆Mylar®LB雙軸定向聚酯膜置於 眞空槽中,其在此解開且暴露於蒸發之鋁中,其在膜表面 上冷凝成400 A之厚度(或2.8之光學密度(OD))。金屬化膜 然後以本質上爲氯亞乙烯/氣乙烯/曱基丙烯酸曱酯/丙烯腈 之共聚物之組合物溶劑塗覆於膜之兩側上。在塗覆兩側上 之乾燥塗層重量爲1·6克/平方米。 -23- 木紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) --------------------^---------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543341 A7 ___ B7 五、發明說明(21 ) 藉由以聚伸乙亞胺底塗劑由其在水中之1 %溶液塗覆 Mylar®LB而製備第二金屬化膜。乾燥塗層重量爲0.02至 0 · 2克/平方米。塗底聚酯膜然後在第二塗覆站以聚乙烯醇 塗面。無水聚乙烯醇使用95-98 °C水稀釋成1〇%且蒸汽噴 氣以製造塗浴。冷卻後,使用逆相凹版塗覆技術塗佈塗層 。乾燥塗層重量爲0.4-1.0克/平方米。產物然後如上所述 在聚乙烯醇侧鋁眞空金屬化成400 A之厚度(或2.8之OD) 〇 以本質上聚(對酞酸/壬二酸/乙二醇)共聚物混合物之17 %固體四氫呋喃溶液第三”素面”或非金屬聚酯膜塗覆在一 側上。其爲可熱封層。塗層藉逆相計量塗覆塗佈成6克/平 方米之乾燥塗層重量。 弟 及弟一·金屬化膜經溶劑爲主聚胺基甲酸g旨黏著劑層 合在一起,使得第一膜之聚氣亞乙烯層(其在鋁上)相鄰第 二膜之鋁層。第三聚酯膜然後經溶劑爲主聚胺基甲酸酯黏 著赞彳層合至前兩個膜之組合,使得組合之前兩個膜之素面 聚醋表面相鄰第三膜之素面聚酯膜表面。基本之總層合結 構省略黏著劑及底塗劑層:聚氣亞乙晞共聚物—聚自旨―銘-_ 聚氣亞乙烯共聚物一鋁--聚乙烯醇—聚酯―聚酯-溶劑塗覆 之聚酯可熱封層。由外部實驗室測量〇TR爲0.00062 cc(〇2)/ 平方米/日/大氣壓力。 實例6 此實例描述熱封合障壁結構之結合強度。 將實例5之複合障壁結構熱封至以下之第二材料,其代 -24 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------------------------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 543341 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7___ 五、發明說明(22 ) 表第二障壁結構: 實例 6-A : 0.004 英吋(5 0.8 微米)厚 PEt(4〇〇d) 實例6-B : 0.004英吋(50.8微米)厚Pet(4〇〇D),其塗以 厚度15〇0·2〇ΟΟΑ之未圖案化,電導ιτο膜 實例6-C : 0.004英吋(50.8微米)厚PET(400D),其塗以 厚度1500-2000又之圖案化ITO線路(1毫米線路寬度/〇 75 毫米間隔) 安置複合障壁結構及第二材料,得可熱封層相鄰第二材 料,而且相鄰第二材料之ΙΤ0層(在存在時)。切割兩個4 X 4英吋(10.2 X 1〇_2公分)片且放袅一起。其使用具可調 整溫度與計時器控制Sentinel Brand Machine #12Α8-0型( 麻州 Hyannis 之 Packaging Group,Inc·製造)熱封。施加 30 psi之壓力,在下示之溫度及停留時間得到一英吋(2 54公 分)密封。 爲了在完成熱封後測定結合強度,將密封結構切成一英 吋(2.54公分)寬之條。視膜厚度而定,將Sc〇tchRedc〇1〇red Cellophane Tape (650型)塗佈在密封基材之較薄處以防止 密封線破裂。然後在 Instron Universal Testing lnstrument 1 122型(得自Instron公司)測定剝除強度。使用5磅全規模 負載極限,而且十字頭速度設爲以每分鐘2英吋(5 · 1公分) 行進。以4個樣品之平均報告剝除強度。 垂直(丄)及平行(//)IT0線路測量對圖案化ITO之黏附試 驗。在12 0 °C或14 0 °C 0.5至1.0秒後密封後測量結合強 度。結果歸納於以下表1。 -25- 本紙張又度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) I —--------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543341 A7 _B7 五、發明說明(23 ) 表1 實例 120 °C 140 °C 0.5 s 1.0 s 0.5 s 1.0 s 6-A 667 g/in. 766 g/in. 864 g/in. 881 g/in. 6-B 1276 g/in. 913 g/in. 515 g/in. 358 g/in. 6-C(P-丄) 554 g/in. 668 g/in. 624 g/in. —— 6-c(P-//) 659 g/in. 923 g/in. 916 g/in. 988 g/in. 這些剝除試驗顯示,比較對PET單獨之結合,聚酯可熱封 層對透明導電ITO同等良好地結合,而且在一些條件下更 堅固。 複合障壁結構對電極材料及撑體之黏附描述於圖5與6 。如圖5所示,繪製剝除樣品6-C(P-丄)時之剝除強度相對 距離。剝除強度隨對應自其剝除障壁結構之不同材料(電極 材料或聚合撑體)之規則峰及谷變化。如圖6所示,複合障 壁結構300交替地自電極材料200及聚合撑體400剝除。如 果障壁結構300僅結合至撑體材料400,預期剝除強度之 繪圖具有單一連續値而無峰及谷。 圖例7 此實例描述具複合障壁結構之聚合物發光二極體(PLED) 裝置壽命,其具有氮化矽障壁層(樣品7),將其比較無氮化 矽障壁層之裝置(比較樣品Y)。製備及試驗十個樣品7裝 置及十個比較Y裝置。 -26- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 543341 A7 B7 ---— —----------—----- 五、發明說明(24 ) 樣品7及比較樣品Y之基本PLED裝置結構包括具銦錫 氧化物透明導電陽極層之玻璃基材,其各面塗約100 nm之 聚合物電洞注射層及黃色發光聚合物層。其然後塗覆薄低 作業功能金屬層(〜20 nm)且覆蓋一微米厚鋁層。 進一步如下製造實例7裝置:約6英吋平方之單層2 mil 厚PET(聚對酞酸伸乙酯)在兩側連續地塗覆約80 nm厚之氮 化矽障壁層。氮化矽層藉微波電漿增強(電子迴旋加速共振 (ECR))化學蒸氣沈積(CVD)沈積。沈積時之條件爲150瓦微 波電力,2.7 seem之矽烷(SiH4),約1〇〇 sccm之Ar,及20 seem之N2。塗覆氮化矽之PET然後使用2 mil厚之商業黏 著劑,如以上實例3所述,層合至其他之2 mil厚未塗覆PET 片,以形成複合障壁結構。然後切割35毫米x25毫米之層 合複合障壁結構切片,而且用以使用商業紫外線可硬化環 氧基密封大約相同面積之PLED裝置。良好之障壁可防止 裝置因滲透裝置之大氣氣體造成之降解。 進一步如下製備比較樣品Y裝置:類似之PLED裝置亦 以類似之PET層合物以環氧基密封,但是無氮化碎障壁層 〇 在裝置造後四(4)日(在周圍條件儲存),測量樣品7及比 較樣品Y裝置之發光4次,然後在裝置製造後裝置在周圍 條件儲存五十(50)日後再度測量。 圖7 (a)顯示樣品7光二極體起初之發光(5〇〇),然後在 五十(50)日後之樣品7發光(502)之緣圖。這些裝置之發光 本質上無變化。 _ _2厂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21Q X 297公餐)------ f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線| 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 543341 A7 五、發明說明(25 ,‘:=::2品”置顯著地不同。® 7(b)顯示比較 樣σΡ γ光一極體起初之發光(6〇〇),然後在5〇曰後之樣品γ 發光(602)U會圖。在周圍儲存五十(5〇)日後發光大爲降低 ------------i,------------------ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -28- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. 543341
    六、申請專利範圍 1· 一種可撓性有機電子裝置(1 〇),其以所列之次序包含· (a) 第一可繞性複合障壁結構(20),其包含至少/廣 (21A,21B)第一聚合膜及至少一層(22)第一障壁材料’ 第一障壁結構具有第一内表面(24); (b) 至少一個第一電接觸層(30); (c) 至少一個包含有機活性材料之活性層(40),该法 性層具有以長度及寬度界定之尺寸; (d) 至少一個第二電接觸層(50); (e) 第二可撓性複合障壁結構(60),其包含至少/層 (61A,61B)第二聚合膜及至少一層(62)第二障壁材料’ 第二障壁結構具有第二内表面(64); 其中第一(20)及第二(60)複合障壁結構至少之一為 透光性; 其中第一(20)及第二(60)複合障壁結構密封在一起 以封包至少一個活性層(40)。 2·根據申請專利範圍第1項之裝置,其中一部份之第一電 接觸層及一部份之第二電接觸層延伸超越活性層之尺 寸,其中第一及第二複合障壁結構亦密封於第一及第二 電接觸層之延伸部份。 3·根據申請專利範圍第1項之裝置,其中第一及第二複合 P早壁結構之第一及第二聚合膜選自聚缔烴、聚酯、聚酶 亞胺、聚醯胺、聚丙烯腈與聚甲基丙歸腈;全氟化與部 份氟化聚合物、聚碳酸酯、聚氯乙缔、聚胺基甲酸醋、 聚丙稀樹脂、環氧樹脂、及驗酸清漆樹脂。 -29- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) C請先閱讀背面之漆意事頊再填寫本頁) i :------訂·--------▲ ¾濟部智慧財產局員工消費合作社印製 )43341
    、申請專利範圍 層包括共輕聚合物 4.根據申請專利範圍第i項之裝置,其中第一及第二障壁 材料獨互地選自金屬、金屬合金、無機氧化物、無機氮 化物、無機碳化物、無機氟化物、及其組合。 A 5’根據申請專利範圍第i项之裝置,其中·· 第一可撓性複合障壁結構及第一電接觸層爲透光性; 第一複合障壁材料中之第一及第二聚合膜選自聚對 酞酸伸乙酯、聚莕酸伸乙酯、聚醯亞胺、及其組合。 根據申清專利範圍第丨項之裝置,其中障壁材料選自鋁 、鎳、鉻、銅、錫、不銹鋼、其合金、無機氧化物、無 機氮化物、無機氟化物、無機碳化物、及其組合。 7·根據申請專利範圍第K6項任何一項之裝置,其中活性 8. 一種電發光顯示器,其含根據申請專利範圍第丨_6項任 何一項之裝置。 、 9·種光偵檢器,其含根據申請專利範圍第υ項任何_ 項或更多項之裝置。 〃 ίο. 一種改良可撓性有機電予裝置之氧及濕氣降解抗性之 万法:此裝置包含至少—個具有第一電接觸層外表面與 相對(第一電接觸層内表面之第一電接觸層,至少一個 相鄰第一電接觸層内表面之活性層,此活性層包本有機 活性材料,該活性層具有—组尺寸,及至少—個:有第 二電接觸層夕卜表面與相冑之第=電接觸層_表面之第 二電接觸層,其中第二電接觸層内表面相鄰活性層,此 方法包含步驟: 曰 私紙張尺度賴巾關家鮮(CNS)A4規格(2l〇T^ C請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} ----广------訂---------線! 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -30- 543341 A8 B8 C8 D8 t、申請專利範圍 相鄰至少一個第一電接觸層外表面安置第一可撓性 複合障壁結構,此第一可撓性複合障壁結構包含至少一 層第一聚合膜及至少一層第一障壁材料,第一障壁結構 具有第一内表面; 相鄰至少一個第二電接觸層外表面安置第二可撓性 複合障壁結構,此第二可撓性複合障壁結構包含至少一 層第二聚合膜及至少一層第二障壁材料,第二障壁結構 具有第二内表面; 其中第一及第二複合障壁結構至少之一爲透光性, 在活性層尺寸之外將第一内表面及第二内表面密封 在一起以封包活性層; 因而得到根據申請專利範圍第1-6項任何一項或更多 項之裝置。 ----------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -31 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
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