TW526148B

TW526148B - Photo definable polyimide film used as an embossing surface

Info

Publication number: TW526148B
Application number: TW090125979A
Authority: TW
Inventors: Ken Harris
Original assignee: Illinois Tool Works
Priority date: 2000-10-19
Filing date: 2001-10-19
Publication date: 2003-04-01
Also published as: AU7826401A; BR0104531A; MXPA01010531A; EP1199602A3; EP1199602A2; CA2359385C; CN100462871C; KR20020033405A; JP2002182403A; NZ514835A; KR100967185B1; KR20080077951A; CA2359385A1; US7923173B1; CN1357802A; AU765124B2

Description

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 526148 A7 ^~^ _______B7____ 五、發明説明（）鸯1明領域: 本發明係關於凸浮（Embossing)光可界定（Ph〇t〇_ Profiled)之數據，特別有關於針對利用實驗材料來減少光可界定與凸浮步驟之材料與方法。 1明背景：凸浮工具廣泛應用於將數據從一個介質轉移到另一個介質。其中一個例子是大量生產全像攝影圖 (Hologram)，係利用凸浮工具來生產信用卡之全像攝影圖的部份。全像攝影圖也可用來製作大量的其他產品，包括周期性的廣告、包裝紙以及其他裝潢品、範圍廣泛的保全裝置、包裝材料及藝術品。要大量生產這樣的全像攝影圖，係以含有全像攝影圖的凸版印刷（Relief)圖案之凸浮印膜（Die)，來印在薄膜上。凸浮印膜或凸浮工具是這個製程的重要特徵，而且在其製造過程中，為了順利產生大量高品質的全像攝影圖，需要有咼度的準確性。習知上，這樣的工具是由一些步驟來生產出來的。第一步驟係將光阻板曝光出全像攝影的干涉圖案’用以形成’’原版（Master)’’的全像攝影圖。在全像攝影的光圖案曝光後使光阻顯影，以在光阻中形成相當於全像攝影的干涉（Interference)圖案之表面凸版印刷圖案。之後電鑄鎳的薄膜到光阻之凸版印刷表面，以轉移干涉圖案。然後將此鎳層從光阻上剝除。這個鎳層就變成原第4頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) ............ 1« » .1® ,........—訂— ........線·、--- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 526148 五、發明説明（）版，而第二鎳層就作為第一鎳層之複本。第二錄層當作打印器（Stamper)並藉由捲於圓筒或固定於形成有印膜的平板，以夾在基材上。每一層就是所謂的夾鐵（shim)，一般會用到二個夾鐵，一個放在旁邊作為原版，而另一個當作打印器。稍後金屬印膜就用來打印或壓製透明冑，藉由產生出生產全像攝影圖。這個製程係使用在各種不同的全像攝影圖，包括以雷射光觀看的半透明薄膜、散射（Defracti〇n) 圖案2D 3D全像攝影圖、以及實施上任何其他可大量生產用之全像攝影圖案。可惜的是這些習知技術中有些限制。舉例來說，用來產生凸浮工具以轉移全像攝影的干涉圖案時，鎳為較佳的金屬，因此只有比鎳軟的材料可以藉由印膜來壓印。例如鎳可以用來在聚酯薄膜、軟性塑膠等等上打印。然而在連續使用以致於在進行幾千次的凸浮之後，即使連這樣軟性材料，還是會使鎳變形，而且凸浮工具會退化到不能再用來轉印出複本的程度。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製遂有，當印膜捲在印刷圓筒或滾筒上，接縫處幾乎平行於圓筒的軸向。為了正確性的目的，全像攝影的圖案不能在靠近接縫處的任何位置。特別是大型的印刷圓筒，會用到多種的夾鐵，因為通常不太容易使夾鐵大到足以讓一些凸浮滾筒來使用。這種情況主要的問題是，由於每一次滾筒在轉動時接缝處就跟著環繞，在材料中會有一個記號。因此大量的滾筒表面會喪失其實用性，而且能印出全像攝影圖的大小會十分受限。由於在金屬沉積製程中，例第5頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐' 526148 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（）如電化學電鍍，製造堅固的圓柱形滾筒不太容易，而用習知技術並不能解決這個問題，因為習知技術不太適用於產生無接縫的滾筒。其他比較硬的材料已用於嘗試生產凸浮工具。例如銘可以用來作為全像攝影轉移用的凸浮印膜。不過製作銘印膜的製程中，在化學蝕刻製程中非常受限，當蚀刻深度增加時，蝕刻圖案的正確性就迅速降低。還有在非常高的壓力下，例如用在產生凸浮之全像攝影圖時，鋁不是特別好的材料。尚有使用其他較硬的材料。例如工具鋼鐵、金剛鑽或鉻，則利用離子碾磨或蝕刻，產生全像攝影圖案。這樣的技術其中一個例子在美國專利編號第5,521，〇3〇號由 McGrew所發明的專利中可以找到。這份專利揭露以非等向性反應性離子蝕刻（Reactive-I〇n Etching)法，將全像攝影的干涉圖案從光阻轉移到可用來作為凸浮工具之持久的材料上。遺憾的是要用這種技術在持久的材料上形成全像攝影的干涉圖案，是極其昂貴，而且實行起來也很複雜。當大量正確的全像攝影圖要進行凸浮時，這種技術只能用來佐證。否則，這項技術的花費無法證明。再者，習知技術中沒有任何可以提供用於無接縫的凸浮，也沒有與此任何相關的優點。因此，實在有必要提供價錢低廉又能在硬性材料產生凸浮工具，以用來在高壓情況下進行全像攝影的干涉圖案之轉移，即使在後續的生產運作下，也不會使作第6頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) Ϊ I 訂---------線·*--- (請先閲讀背面之注意事項、再填寫本頁} 526148 Α7

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 l明目的及概i ：本發明之第一目的係排除太蔡日肖 > 批 ’、自知數據凸浮之缺點。本發明夂罘二目的係提供一在凸涑嗜饩P古4、、種凸浮工具係避免習^ 在凸汙滾疴上有接縫之限制。白夕本發明之另一目的係在轉浮製程有效率。轉移先可界定的數據時，使纟之J發明之又一目的係減少在轉移光可界定的數據Β 本發明之再一目的係省略畜知於凸浮光可界定的J 據之步驟。專本發明之另-目的係限制用於凸浮操作中之材料讀量，其中凸浮操作係用來轉移光可界定區域的數據及其+ 材料。本發明之又一目的係提供一種凸浮製程，其中凸浮^ 面可選自於各種不同的硬度。本發明之再一目的係提供一種凸浮工具，係避免習决在凸浮滚筒上接縫之限制。本發明之還有又一目的係提供一種容易製造之凸月表面’係能在持久的高壓下作後續的生產運作。本發明之另一目的係提供一種凸浮系統，係使用具肩良好選擇性之光可界定的材料。本發明之又一目的係提供一種凸浮系統，係具有不脅訂線·，— (請先閲讀背面之注意事項、再填、寫本頁} 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) 526148 A7

面，能適用於鑄造（Casting)操作經濟部智慧財產局員工消費合作社印製被蚀刻之光可界定的材料。本發明之又一目的係提供一種凸心固化薄膜性質之光可界定的材料。H ’係具有㈣本發明之再一目的係提供一、,.^ , '、凸浮系統，係使用JL肩高解析度及高曝光敏感度之光可係使用… 士技nH、义S域的材料。本發月芡又一目的係提供一種屄—的姑撼工η 〇 /手系統，係使用光可界疋的材枓，而且凸浮表面為單一實體。本發明之另一目的係提供一種系統，係使用正向作用（Positive Acting)之光可界定的材料。本發明之另一目的係提供一凸，予系統，係具有光可界足的材料，其中光可界定的材、何行此以正光阻顯影劑處理’並知:供正光调（positive T〇ne)。本發明之另一目的係提供一種 < 、 ^ 汙乐統，其中凸浮系統中凸浮表面之硬度可輕易改變。本發明之再-目的❹ 本發明之又一目的係提供一種塗佈性材料，其中塗饰性材料具有光可界定區域之裝飾。本發明之另一目的係提供一種光可界定之數據轉杉材料’係能轉移廣泛的全像攝影之數據，包捂以雷射光勸看的半透明薄膜、散射圖案、” 2D ” ” 3 D ”立體攝影圖、虛揭 ’’3D”全像攝影圖或者實際上任何其他可用來轉移的全傷攝影圖案。本發明之另一目的係提供一種凸浮系統，藉以排除名第8頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X 297公釐) 訂線··" (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 526148

五、發明説明( 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製屬性微量元素。本發明（另—目的係提供—種凸浮系統，纟中光可界定的材料可如正向作用一樣進行負向作用(Negative

Actlng)，同時可如同水性溶劑-樣藉由非水性溶劑加以顯影。本發明之又一目的係提供—種數據轉移系統，係使用聚醯亞胺（Polyimide)鏵造材料。本發明逆些及其他目標與目的，係提供配置為轉移數據至其他表面之凸浮表面，其中凸浮表面係由光可界定之聚醯亞胺材料所組成。本發明之第二實施例係顯示凸浮數據從凸浮表面至其他表面之方法。此方法係由數個步驟所組成，係將光可界定區域的材料曝光於電磁場（Electr〇magnetic Fie丨d ; EMF)輻射中，以定義出數據。之後，將光可界定區域的材料固化以達成選定硬度之凸浮表面。然後，凸浮表面就用來將數據凸浮於其他表面上。圖式簡單說明：本發明以上所列舉之内容，將於往後之說明文字中輔以下列實施例之圖形做更詳細的闡述。其中：乐1(a)圖所繪示為將聚酿亞胺材料放在凸浮滚筒上之透視圖；第1(b)圖所繪示為聚醯亞胺材料於前固化階段之透視圖；第9頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) ....................、玎：.......$·----- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 526148 A7

五、發明説明（）第1(c)圖所繪示為聚醯亞胺材料在滚筒上進行光定義之透視圖；以及第1 (d)圖所繪示為在凸浮之前的硬化階段之透視圖。凰號對照說明: 1 聚醯亞胺材料 2 塗佈器 3 塗佈用滾筒 4 塗佈層 5固化爐 6雷射 7 固化爐登j月詳細說明：本發明包括光可界定區域或光可界定、以及正向作用 (正光碉）之聚醯亞胺作為凸浮表面。依第l(a)圖至第Hd) 圖所繪示來處理聚醯亞胺，而且以下描述為本發明。聚酷亞胺材料係放置在適當的表面上，經過熱處理，於EMF 輕射（例如同調光）中曝光，以及硬化成凸浮表面。然後利用凸浮表面以將EMF輻射呈現之數據轉移到另一表面。這項技術利用聚醯亞胺材料，對於產生全像攝影母版作為凸浮表面，是格外有效的。由於聚醯亞胺材料的特性，使得它也適用於作為凹版印刷（Gravure)的表面。產生這種表面要利用到光偵測技術’以及金屬的閃光應用，藉以提供印製的表面。聚醯亞胺材料的正光阻特性，沒有習知凹版印刷製程的困難，例第10頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) Ϊ — (請先閱讀背面之法意事項#填寫本頁) 訂線經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 526148 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（）如蝕刻，使第二個凸浮實施例成為可能。事實上聚醯亞胺材料可塗佈於任何表面、形成輪廓、然後硬化作為裝飾性或展示性的表面。因為目前現有的材料沒有那麼容易塑形的，並仍經得起清洗與紫外線輻射，對藝術家而言這是使用這種材料的一項優點。因此，在任何表面上可使用實驗之聚醯亞胺材料，而它也經得起所需之固化溫度。聚醯亞胺材料也可用於铸造操作，係將現存的全像攝影圖之溝纹轉移到聚醯亞胺材料上。然後在鑄造的聚醯亞胺中的圖案可以應用在其他表面。事實上，任何種類的缚造技術可用於聚醯亞胺材料，其舉例詳見後述。聚醯亞胺類可作為立即應用中的新穎性使用，原本是由杜邦（DuPont)公司所發展出來於高溫工程之聚合物。當與大部分其他有機或聚合物材料相比較時，聚醯亞胺類卓越結合了熱穩定性（> 500 t )、機械韌性與化學抗性。此外’聚醯亞胺類也具有極佳之介電性質。習知聚醯亞胺薄膜常作為半導體的”應力緩衝層 (Stress Buffer)”或保護性外膜。典型的聚醯亞胺應力緩衝層厚度在約4微米至約6微米之間，能保護晶片表面之金屬層與氧化層的易碎薄膜免於處理時受損，並免於在封入塑膠製模化合物之後因所引起的壓力造成受損。在使用作為光可界定區域之材科時，其圖案化簡單且易作。因為聚醯亞胺薄膜之缺陷密度低，而且本身具有堅固的電漿蝕刻抗性，所以可以執行”單光罩，，的製程。第11頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) ' ----- ...........!0r........訂.........線_τ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) A7

526148 五、發明説明（）在€知微兒子元件之製造過程中，一般係將光可界定區域之聚醯亞胺類液體塗在基材㈣，然後經㈣化為平滑、堅固、強韌的聚合物薄膜或是如下所述之結構層。可以利用微〜（攝影）製程結合液態光阻，將薄膜圖案化。” 光可界定區域之聚醯亞胺類不需使用光阻，為感光性且立即圖案化，如此更簡化製造過程。為證明本發明之有效性的目的，光可界定區域、正向作用之聚醯亞胺係選擇HD_8000，而HD 8000是HD微系統（HD MiCrosystems™)之產品，其中11〇微系統為日立化學（Hitachi Chemicals)與杜邦電子（Dup〇nt Electr〇nics)之聯合企業。HD-8000為正光調、水性顯影、光可界定區域之聚醯亞胺，係用於應力緩衝層與晶片結合之應用。hd_ 8000包括以聚醯胺酸（Polyamic ^丨幻為骨架之前驅物，係由芳香族二酐（Aromatic Dianhydrides)與芳香族二胺 (Aromatic Diamines)反應而成。在處理時也包括感光物質 (Photosensitizer)，以提供正光調微影性質。同樣也包括溶劑。這種材料大幅超越早期水性顯影產品，且可達到圖案定義。上述之聚醯亞胺材料為正光調或正向作用的，並且能以水性溶液加以顯影。然而這僅為本發明所使用聚酿亞胺材料的一個例子。舉例來說，負光調或負向作用的聚酿亞胺也能用於準確將數據轉移至欲放置的材料上。還有為了本發明的目的，聚醯亞胺材料也可以藉由非水性溶液顯影。第12頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210Χ297公董) ............ί ........、町.........---- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 526148 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（在第1 (a)圖中聚醯亞胺材料1係利用塗佈器2安置於可移動之表面上，例如塗佈用滾筒3。在塗佈用滾筒3上塗佈聚醯亞胺材料1以形成塗佈層4。請注意雖然塗佈用滚筒3用於第1 (a)圖中，然而在光定義以及雷射凸浮操作時，其他的表面也可以用來塗佈聚醯亞胺材料1q 在大部分微電子塗佈聚醯亞胺之塗佈層時，一般係以旋轉塗佈於基材上。相同製程與基本工具組也用於塗佈液態光阻。為了達到對矽、氧化物以及大部分金屬較佳的附著，需要用到附著促進劑。一些聚醯亞胺具有内建的附著促進劑，然而另一些在塗佈聚醯亞胺之前，需要先塗佈個別的附著促進劑或聯結劑。附著促進劑也可藉由旋塗式 (Spin Coating)塗佈。旋塗式確保極佳的均勻性與塗佈品質，其他已使用之塗佈技術尚包括拉曳式、f塗式、擠壓式、滾筒式、浸滴塗佈式。雖然已使用塗佈用滾筒3來形成塗佈層4，不過其他外形的凸浮表面也可以使用。例#，可以使用壓盤以兩個万向移動於平坦的表面，或者壓盤於一個方向移動時，甚至用EMF輻射源同時以一或多個方向移動。凊〉王意依據本發明來轉移數據，可以表現於各、石的配置中。舉例來說，對於特別有興、5 ,.^ 1豕攝影圖，藉由本發明可以輕易促進全像攝影圖之轉移。影圖可以包括以雷射光觀看的半透明薄膜、散攝 ”2D”’’3D”全像攝影圖、虛擬，，3D"全像攝影圖，以及利用本第13頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐） I ........訂.........線·Γ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 526148 A7 五、發明説明（）發明在實施上任何其他可用來轉移的全像攝影形式。另外請注意本發明並不限於全像攝影材料之轉移。更確切的說，實際上任何其他型式可藉由凸浮的方式轉移之數據，可以利用本發明之系統以快速並正確的方式轉移。在第1(b)圖中，I有聚醯亞胺之塗佈之塗佈用滾筒3置於固化爐5中。而塗佈之基材可以選擇加熱或軟烤；在加熱板上以約12〇。〇:烘烤約130秒至約26〇秒。藉以達到目標約10微米之固定厚度。然而，不同之目標厚度也需要不同的烘烤時間。在預固化操作中將塗佈層4轉變為預定厚度與堅硬度之後，塗佈層4就準備好藉由電磁 EMF輻射，例如光，來改變或描繪出輪廓。在曝光於EMF之前，應將已塗佈的基材冷卻至室溫。在加熱處理後，建議用冷卻板來進行冷卻。為要改善控制，在曝光之前，晶圓應至少保持約2〇分鐘。在曝光與顯影前’在無塵室的條件下把已塗佈的基材放入晶圓卡式盒中’可以存放至約72小時。在第1(e)圖中雷射6提供單色光。請注意在第1(〇圖中所输示一較佳實施例係使用雷射光源，亦可使用其他形式的電磁輻射，例如具有複數個頻率成份的光、x_射線、無線電波、紫外光、電子束以及紅外光。可感光的聚醯亞胺類可以進行較精細特徵的圖案化。在完全固化的薄膜中可以達到深寬比約1 : 1。從雷射6發出的光呈現出數據（圖未繪示出數據的來源），並且可用來形成輪廓或是定義或修改在塗佈用滾筒3 第u頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) 訂線·* (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 526148 A7

五、發明説明（）經濟部智慧財產局員工消費合作社印製上之聚醯亞胺的塗佑風你、上j 1 、曰4。像24樣光足義之技術的例子係為一個圖素一個圖紊Ό η. “ 京的（P1Xel-By-Plxel)方法，已揭露於 1998 年 10 月 13 日 n ·仏士、士、 a DaVls所申請的美國專利案編號第 5,822,092號中，於本發明中列為參考文獻。塗佈層4之光可界定的部分，係藉由入射的電磁輕射’例如同凋光’將材料曝光或用別的方法輪靡化，再將材料予以顯影。在第1(a)圖至第1⑷圖所緣示一較佳實施例中係使用已知形式之水溶液來顯影經過曝光之塗佈層 4這可以使用弄多不同的技術達成。例如，整個塗佈用 /袞请了乂 ’又/包在虹（圖未繪示）中。或者利用類似於熱處理室I顯影罜（圖未繪示），來塗佈顯影液。不過任何用來顯w的技術，所使用的不論是水性或非水性的顯影液，本發明均適用。結合任何已知對所有聚醯亞胺有效的輻射曝光以及顯影，均適用於第1(c)圖中塗佈層4之光可界定的操作。安排在塗佈用滾筒3上的聚醯亞胺之塗佈層4藉由雷射6發出的光進行輪廓與顯影之後，例如在另一個固化爐 7中’進行熱固化。發生固化反應係依據HD微系統之產品初步報告中、標題為光可界定區域之影像HD-8〇〇〇系列正光調、水性可顯影之聚醯亞胺中所列之參數值。固化聚醯亞胺薄膜涉及從聚醯亞胺薄膜去除溶劑载劑或其他揮發物，以及將聚合物進行亞醯胺化（Imidizati〇n) 或硬化而成為強韌的聚醯亞胺薄膜。固化製程一般是以數個步驟完成。在塗佈聚醯亞胺之後，加熱板一般係用於開第15頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) ............. . ........、可......... (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 526148 A7 B7 五、發明説明（）始的熱處理或烘烤(第1(b)圖）。剛開始在一或多個同軸的加熱板上的使用範圍可從約5〇{ί(：至 15〇。奸長取終固化 I ..^w · I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 時（第1(d)圖）可使用爐管或可程式烤爐。最終固化通常介於約28〇°C至約4〇(TC，係依據應用而定。吊；丨適當固化計畫表的目標係為：1}去除殘餘溶劑，”完成亞醯胺化製程，3)完成附著製程。因為這三個作用係同步於-預定溫度下發生，而固化計晝表可影響固化的薄膜品質及其相關的機械性質，因此是非常重要 J少驟。在固化聚醯亞胺薄膜時，需要考慮下列的變數：固化的工具；氣壓；載入溫度；緩升速率；浸泡（維持的溫度）；最後固化溫度；以及，緩降。固化反應典型係利用可程式烤爐或爐管進行批次製程。（利用一系列之加熱板之單晶圓固化工具，已用於進行同軸製程。非光可界定區域之聚醯亞胺類已頻繁使用這項技術。）線一固化反應應於一氮氣壓下進行（氧濃度少於約1〇〇 ppm)。一些可程式烤爐是設計在真空進行固化。在部分真空中可使用氮氣壓。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製載入溫度、緩升速率、浸泡（中間維持的溫度）、最後固化溫度、以及緩降速率可以較有效的調整至較佳生產量及固化薄膜的性質。基本的固化計畫表係設定於典型，，單光罩"應力緩衝層使用：在約低於15〇t時載入烤爐或爐管；從載入溫度緩升至約35(TC，期間超過6〇分鐘；維持在約350°C約30分鐘；以及，基材可以立即載出或提供冷第16頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) 526148 五經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 發明説明（）部。請注意不需特定氣壓也可以在烤爐中進行固化。烤爐氣壓的選擇係依據一些因素而定，例如聚醯亞胺固化區域的大小、最終聚醯亞胺之塗佈層的厚度、以及其他固化的因素。儘管已經描述聚龜亞胺的一種型式，並且證明可以實施’但這只是許多光可界定區域的聚醯亞胺材料的例子之一’聚醯亞胺材料可用於構成本發明之凸浮系統。再者，像這種材料特別適用於轉移點矩陣全像攝影圖。根據前述之說明書，聚醯亞胺在塗佈用滾筒3上可以固化至預定硬度與厚度。因為聚醯亞胺材料形成塗佈層4 可以固化至預定硬度，所以可利用聚醯亞胺之塗佈層4作為凸浮表面。因此，本發明不需形成習知之金屬凸浮表面作為轉移全像攝影圖用。其結果的確節省時間與費用。因為用於較佳實施例之聚醯亞胺可用來作為正向曝光的物質，這材料也可以用於凹版印刷，其中印製材料在非輪廓化光阻之四周形成凹陷（Depressi〇n)。印墨放在溝、’文中，以構成文字或圖像，而迫使紙或其他的轉移表面在輪廓化的表面，藉以使得在凹陷中的印墨得以受力而移至轉移表面。聚醯亞胺材料可以固化至一硬度以使用壓力進订凹版印刷操作。請注意在這種製程中並不使用繪示於圖中之塗佈用滾筒3，而是使用平坦的壓板。然而請再注意大部分印製係以滾動印製，因此塗佈用滾筒3很適合用在這型系統作為較佳的表面。聚醯亞胺用於凹版印刷時，需要在聚醯亞胺之塗佈層第m 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公爱) I ---------訂---------^ Awr (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 526148

五、發明説明（）表面快速塗佈金屬層，例如鎳或鉻。然而，在多數習知用於準備凹版印刷之光界定時會用到的酸洗，在此是不需要的。由於酸用在這類清洗中，並不會使要轉移金屬定義之數據降解。於是’本發明避免了損失明晰度或正確性，以及習知凹版印刷系統中的尺寸限制。因此，係依照本發明將聚醯亞胺用於凹版印刷時，實施上會比習知系統更容易也更便宜’並且可以得到更好的產品。聚醯亞胺材料可用於其他實施例中，來複製全像攝影圖之干涉圖案，或任何其他在凸版印刷圖案中的數據。這可藉由在全像攝影之原版上，形成聚醯亞胺材料之鑄造物。於是，在鑄造的材料上就作出衍射柵攔圖案之壓痕。接著铸造物就用來從全像攝影之原版轉移數據至其他表面。在這麼做當中，從聚醯亞胺之錡造物做出的複本中，可以達到前述有關於聚醯亞胺材料的優點。儘管透過例子描述了一些實施例，但本發明不限於此。如熟悉此技術之人員所瞭解的，凡其它等效改變、修飾殳更、改寫、以及熟悉此技術之人員曾透過本發明所教導的實施例，均應包括在本發明下述之申請專利範中。 (請先閲ΐιί,背面之注意事項再填、寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製第18頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) ' ^ ^

Claims

526148 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1. 一種配置來轉移一數據奚其他表面之凸浮表面，該凸浮表面係由光可界定之聚酿亞胺材料所組成。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 2. 如申請專利範圍第1項所述之凸浮表面，其中該聚醯亞胺為可水性顯影的。 3 .如申請專利範圍第2項所述之凸浮表面，其中該數據係藉由一光偵測來轉移至該凸浮表面。 4 ·如申請專利範圍第3項所述之凸浮表面，其中該數據係為文字。 5.如申請專利範圍第3項所述之凸浮表面，其中該數據係為影像數據。 6·如申請專利範圍第3項所述之凸浮表面，其中該聚醯亞胺係藉由烘烤而硬化。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 7·如申請專利範圍第3項所述之凸浮表面，其中該聚酿亞胺係定義為正光調。 8.如申請專利範圍第7項所述之凸浮表面，其中在該聚酿亞胺上更包括一快速塗佈之金屬薄膜。第19頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) 申請專利範圍所述之凸浮表面，其中該凸浮表 9.如_請專利範園第8项面係適用於凹版印刷。 10· —種將數據從一凸淫矣 H，土凸斤表面凸浮到複數個其他表面的方彳k万法係由下列步驟所組成·· 中 ⑷將一光可界定區域之材料曝光於以定義該數據，· 福射 (b)固化該光可界定F坫之、介疋£域心材料以達到一選定硬产該凸浮表面；以及 & 上 ⑷利用該凸浮表面以凸浮該數據至該些其他表面 11.如申請專利範圍第10項所述之方法，其中在該步中更包括一後續子步驟係為： 1 ^ (i)以一溶劑來顯影該光可界定區域之材料。驟（a) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 12·如申請專利範圍第丨1項所述之方法，其中在中更包括一後續子步驟係為·· (Π)塗佈該光可界定區域之材料至一滾筒。該步驟（a) 1 3 ·如申請專利範圍第1 2項所述之方电其中在該步驟（a) 中更包括一後續子步驟係為·· (iii)藉由加熱來前固彳匕該光可界僉丨疋^域又材料。第20頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) 526148 A8B8C8D8 六、申請專利範圍 14·如申請專利範圍第1 〇項所述之方法，其中該光可界定區域之材料係為一聚酿亞胺。 1 5 ·如申請專利範圍第！〇項所述之方法，其中在固化該光可界定區域之材料之該步驟（c)中’包括加熱該光可界定區域之材料。 16.如申請專利範圍第1〇項所述之方法，其中該EMF輻射係至少包括光。 1 7·如申請專利範圍第1 6項所述之方法，其中該光為單色的並且由一雷射所產生。 1 8 ·如申請專利範圍第1 5項所述之方法，其中該步驟（c)包括一後續子步驟係為： (11)塗佈一金屬塗佈層覆蓋該聚醯亞胺。 ........... (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 9 ·如申请專利範園第1 8項所述之方法，其中在該步驟（c) 中係利用該凸浮表面以凸浮該數據，以在該其他表面上執行凹版印刷。 20_如申請專利範圍第19項所述之方法，其中該光可界定區域之材料係藉由電鑄利用鎳來進行複製。第21頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) J^〇l48 ABCD 丨·如申請專利範園第19項所述之方法，其中該光可界定區域之材料係藉&電鑄利用路來進行複製。力申明專利範圍第！〇项所述之方法，#中該數據係選、；由5V像#製的文字、凸版印刷以及全像攝影圖所組成之一族群。 .如申请專利範圍第22項所述之方法，纟中該數據係以全像攝影的點矩陣格式存在。 ............'變-·· (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •如甲請專利範圍第區域之材料係塗佈在一平坦表面上訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Μ·如申請專利範圍帛10㉟所述之方法，纟中該光可界定區域之材料係塗佈為一裝飾塗钸層於一目標上。 26.—種從一第一表面轉移數據至一轉移介質之複數個其他表面上的方法，其係由下列步驟所組成： ⑷铸造該轉移介質在一含有該數據之表面上；以及 (b)利用該轉移介質以凸浮該些其他表面。 27·如申請專利範圍第26項所述之方法，其中該轉移介質係為一聚醯亞胺。第22頁本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐)