TW436510B - Liquid crystal polymer film, laminate, method of making them and multi-layered pars-mounted circuit board - Google Patents

Liquid crystal polymer film, laminate, method of making them and multi-layered pars-mounted circuit board Download PDF

Info

Publication number
TW436510B
TW436510B TW88105380A TW88105380A TW436510B TW 436510 B TW436510 B TW 436510B TW 88105380 A TW88105380 A TW 88105380A TW 88105380 A TW88105380 A TW 88105380A TW 436510 B TW436510 B TW 436510B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film
temperature
heat treatment
liquid crystal
adherend
Prior art date
Application number
TW88105380A
Other languages
English (en)
Inventor
Minoru Onodera
Yoshinobu Tanaka
Original Assignee
Kuraray Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kuraray Co filed Critical Kuraray Co
Application granted granted Critical
Publication of TW436510B publication Critical patent/TW436510B/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C71/00After-treatment of articles without altering their shape; Apparatus therefor
    • B29C71/02Thermal after-treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/0036Heat treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/08PCBs, i.e. printed circuit boards
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4673Application methods or materials of intermediate insulating layers not specially adapted to any one of the previous methods of adding a circuit layer
    • H05K3/4676Single layer compositions
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31786Of polyester [e.g., alkyd, etc.]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

436510 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明 (1 ) 1 發 明 所 屬 的 技 術 領 域 1 1 本 發 明 涉 及 由 可 K 形 成 光 學 各 向 異 性 的 熔 融 相 的 聚 合 1 物 ( K 下 稱 為 液 晶 聚 合 物 ) 構 成 的 薄 瞑 > 該 薄 膜 和 黏 附 請 ! 先- 1 Witt» 聘 的 瘤 麴 髑 » 它 們 的 製 造 方 法 及 多 曆 安 裝 電 路 基 板 0 閱 讀 1 •先 前 技 術 背 面' 1 I 之 1 近 年 來 > 因 為 在 電 子 和 電 氣 工 業 領 域 中 > 要 求 減 少 機 注 意 1 I 器 的 尺 寸 和 量 因 此 FPC ( 撓 性 印 刷 配 線 板 ) 的 需 要 事 項 1 I 再 不 斷 增 加 〇 這 種 FPC 的 —* 般 的 製 造 方 法 是 9 在 基 jam 體 材 科 填 寫 本 .J 裝 薄 膜 的 至 少 — 假 表 面 上 9 曆 蠱 上 銅 箔 等 金 覉 箔 後 ] 彤 頁 [ | 成 電 氣 電 路 〇 作 為 基 體 材 料 薄 膜 大 多 採 用 聚 對 苯 二 甲 1 [ 酸 乙 二 酯 薄 膜 等 〇 但 是 > 由 於 這 種 薄 膜 耐 熱 性 差 在 將 I I 零 件 安 裝 在 FPC 上 時 7 在 將 該 FPC 浸 潰 在 軟 焊 料 溶 液 中 訂 的 情 況 下 容 易 產 生 氣 泡 剝 落 和 吳, 彤 等 問 題 0 因 此 t 由 耐 熱 性 好 的 液 晶 聚 合 物 製 成 的 薄 膜 作 為 基 體 材 料 薄 1 I 膜 , 引 起 了 人 們 的 注 意 0 1 1 然 而 9 由 於 液 晶 聚 合 物 * 一 般 耐 埶 r νι\ 性 高 I 因 此 , 在 薄 1 •1 m 化 時 9 必 須 提 高 其 成 型 溫 度 需 要 較 大 的 能 量 並 且 1 r 成 型 時 > 液 晶 聚 合 物 會 產 生 熱 分 解 〇 在 液 晶 聚 合 物 中 1 1 > 有 能 在 較 低 的 溫 度 下 成 型 的 但 由 它 製 成 的 薄 膜 由 1 於 耐 熱 性 低 因 此 9 作 為 耐 熱 的 基 體 材 料 使 用 較 困 難 〇 > 1 1 為 此 > 提 出 了 在 用 成 型 溫 度 低 的 液 晶 聚 合 物 j 形 成 薄 膜 1 後 在 該 聚 合 物 的 熔 點 Tm 下 > 2 0 0 °C Μ上的溫度下, ί i 利 用 在 真 空 下 或 減 壓 下 > 對 該 薄 膜 進 行 熱 處 理 j 提 高 薄 i j 的 附 執 t·.'、 性 的 方 法 ( 特 開 平 3- 1521 32 號 ) 0 1 1 -3 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨OX 297公釐) 436510 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( 2. ) I 但 是 9 用 這 種 方 法 9 必 須 在 真 空 下 或 減 壓 下 長 時 間 1 1 地 進 行 熱 處 理 0 並 且 9 由 於 不 能 採 用 保 持 薄 膜 形 狀 的 裝 1 置 9 使 薄 膜 的 彤 狀 在 熔 點 附 近 受 到 破 壊 > 因 此 很 難 得 請 j 先 i 到 外 觀 良 好 的 薄 膜 〇 另 外 t 當 在 熱 變 彤 溫 度 以 上 的 溫 度 讀 I .下 單 獨 熱 處 理 上 述 薄 膜 時 , 由 於 產 生 變 形 或 歪 扭 f 特 背 面, i I 之 1 別 是 厚 度 較 薄 時 9 變 形 更 顯 著 1 因 此 9 為 了 防 止 這 種 變 注 意 1 形 等 9 必 須 在 熱 交 形 溫 度 下 的 溫 度 範 圍 內 » 對 刖 述 薄 事 項 再 1 1 瞑 進 行 熱 處 理 0 採 用 這 樣 的 熱 處 理 > 為- 了 得 到 必 要 的 耐 § 窝 本 J 裝 熱 性 t 需 要 時 間 長 f 生 產 率 降 低 0 狀 而 9 當 在 薄 m 熔 點 頁 V—-· i f Tin 附 近 , 提 高 溫 度 > 進 行 熱 處 理 時 * m 沒 有 一 種 最 佳 的 I ! 熱 處 理 方 法 9 旣 能 改 善 生 產 率 S 又 能 保 持 薄 膜 彫 狀 不 爱 I 1 形 〇 另 外 I 為 了 發 揮 薄 膜 的 商 品 價 值 和 X 業 利 用 > 必 須 訂 保 持 連 續 的 形 狀 進 行 製 造 > 但 這 種 方 法 現 在 還 沒 有 〇 有 一 種 在 液 晶 聚 合 物 長 絲 熱 處 理 時 > 將 液 晶 聚 合 物 長 1 I 絲 > 在 比 開 始 流 動 的 溫 度 低 大 的 20 的 溫 度 下 > 進 行 熱 1 I 處 理 > 使 其 強 力 改 菩 50¾ 以 上 的 方 法 ( 特 公 昭 55 -20008 1 1 號 ) 〇 [ 另 外 m 有 一 種 方 法 f 它 將 液 晶 聚 合 物 長 綠 , 在 從 構 i I 成 它 的 全 芳 香 族 聚 酯 的 熔 點 開 始 > 至 比 熔 點 低 50 X: 的 溫 1 度 範 園 内 進 行 熱 處 理 得 到 高 強 度 f 高 楊 氏 模 虽 的 長 絲 > I ( 特 開 平 2- 133347 號 ) 0 由 於 伴 隨 著 熱 處 理 的 進 行 r 液 r 晶 聚 合 物 長 絲 熔 點 升 高 9 因 此 » 隨 著 熱 處 理 的 進 行 9 可 [ I 以 提 高 熱 處 理 溫 度 〇 但 是 y 液 晶 聚 合 物 長 m 的 熱 處 理 與 1 I 後 面 敘 述 的 本 發 明 的 薄 膜 熱 處 理 t 即 保 持 平 面 狀 態 形 狀 1 1 -4 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X2.97公釐) d365 1 0 at _._B7_ 五、發明説明(5 ) 的熱處理完全不同。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 另外,在液晶聚合物薄膜的熱處理方面,遷有一種方 法,它是在薄膜與支承體(黏附體)接觸的狀態下,對 薄膜進行焙融熱處理後,又在従大約1 5 0 t至比熱變形 '湄度低30¾的範圍内,在對冷卻,固化的聚合物層進行 熱處理後,將聚合物曆從支承體上分離出來(特開平 8 - 9 0 5 7 0號)。但是,用這種方法的話,則將液晶聚合 物薄膜熔融來進行的前述熱處理,要在液晶聚合物薄膜 的焙點Μ上(與後述的本發明的熱處理溫度不同)來進 行;而冷卻固化後的熱處理,要在比熱變形溫度低3 ο υ 的溫度(後述的本發明的熱處理溫度比熱變形溫度高) 下進行。利用這種方法,得不到高的耐熱性和強度。 發明之揭示 發明所欲解決之課題 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 '本發明者等對由具有各種優越特點的液晶聚合物薄膜 和黏附髖構成的層#體進行了研究,得知下列结果。當. 在熱變彤溫度T d e f Κ上,但比其熔點T in低的溫度範圍内 ,對前述薄膜進行熱處理時,可以縮短熱處理時間,提 高耐熱性,而成本較低。 進一步的研究结果顯示,如果將薄膜與進行該薄膜熱 處珥時,能保持其形狀的黏附體層疊起來,在特定的條 件下進行熱處理,則薄膜上不會產生變形或歪扭。總之 ,通過將薄膜與黏附體層龜成一體,在特定條件下進行熱 處理,不會產生變形等問題。熱處理是在熱變彤溫度Td e f -5- 本紙張尺度適用中國國家摇準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 43 65 1 0 A7 B7 五、發明說明(4 ) 以上,且比該薄膜的熔點Tm低ot°C(«=10〜35°C)的溫 度範圍内開始的,隨箸薄膜熔點的上升,可以逐漸提高 熱處理溫度,這樣,可以縮短熱處理時間。其次,通過 除去黏附體,可以得到薄膜。本發明的目的是要成本低 廉地提供一種在具有液晶聚合物薄膜本來就有的高強力 、高彈性率和耐藥性等同時,還具有優良的耐熱性和耐 磨性的薄膜、薄膜層驀體和使用該層叠體的多層安裝電 路基板。 解決課題之手段 為了達到上逑目的,本發明將液晶聚合物薄膜與該薄 膜熱處理時能保持其形狀的黏附體層®起來,進行多次 下述的熱處理。即: 第一次: 熱處理溫度在由薄膜熱變形溫度Tdef開始,至比該薄 膜熱處理前的熔點Tm低《 °C的溫度範圍(Tdef〜(Tm-α °C)) 内,在用差示掃描量熱器,在氪氣琛境中,以5°C/分的 升溫速度進行測定時的處理中的前述薄膜的融解峰值溫 度T A ,達到比該薄膜熱處理前的熔點T m高彡°C的溫度T A i 之前,進行熱處理。 a=10~35°C,办=5〜30oC 第二次:
熱處理溫度在前逑薄膜熱處理前的熔點Tm以上,融解 峰值溫度TAi以下的溫度範圍内,在前逑融解峰值溫度 T A 1逹到增大y °C的溫度T A 2之前,進行熱處理。 y = 5 〜2 0 °C 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 公釐) III----I I I I i 裝.J 1 — I ! I--Ί 1 I I I I I (諳先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 4365 1 Ο Α7 Β7 五、 f明説明( 箱η次: 熱處理溫度在融解峰值溫度ΤΑη_2.Μ上,ΤΑ •1 溫度範圍内,在TAjjq達到增大7 °C的溫度TAh之前,進1 行熟處理。 骛數n会3, 7 = 5〜2 0 t: 其次,除去黏附體,就製成了液晶聚合物薄膜。 作為本發明用的液晶聚合物薄膜的原料的具體例子,可 杈舉出Μ下例示的0)至⑷分類的化合物,和它的衍生物 導出的眾所周知的向熱性液晶聚酯,和向熱性液晶聚酿 醃胺。當然,為了形成高分子液晶,各種原料的化合物 的銪合是有適當的範圍的。 ❹)芳番族或脂肪族二羥基化合物(代表例子可參見表1 〔表1 ]
芳香族或脂肪族二羥基化合物的代表例的化學结構式 ΗΟ-^-( X
-OH (X為氡原子或鹵素原子, 低级烷基,笨基等基) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .裝. :訂
OH , --V線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印挺 為一◦、一CH2 —、一S-等的基) 〇 OH Η〇
HO οφσ ο
H0(CH2)a0H
OH , (η為2〜;12的整數) 本纸張尺度逋用中國國家標準(CNS)A4規格(210x297公釐) 垒 4365 1 Ο Α7 _Β7^ 五、發明説明(6 ) (2)芳香族或腊肪族二羧酸(代表例子參見表2 ) [表2] 芳番族或脂肪族二羧酸的代表例的化學结構式 HOOC-0-COOH f 乂)^·1 HOOC*
HOOC •COOH , HOOC-^-O-Q-COOH ,
HOOC HO〇C-^^-〇CH2CH2〇-^-COOH , ^y~co〇H · H00C(CH2)nC00H (n 為2〜12的整數) ⑶芳番族羥基羧酸(代表例子見表3 ) [表3] 芳香族羥基羧酸的代表例的化學结構式
HO-^-COOH (X為氣原子或鹵素原子 低级烷基,苯基等基) (请先閲讀背面之注項再填寫本頁) -裝' 訂 線
X
COOH H0
HO
00H , 110b-
COOH ⑷芳番族二胺,芳番族羥基胺或芳番族胺基酸(代表 例子見表4 ) 本紙張尺度適用中國國家揉率(CNS > Α·4規格(210X297公釐) 4365 1 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(7 [表4 ] 芳番族二胺,芳番族羥基胺或芳香族胺基酸 的代表例的化學结構式
H2N-^-NH2, H2N-^-0H, H2N-Q-COOH (5)作為由這呰原料化合物得到的液晶聚合物的代表例 子,可以舉出具有表5所示的结構單位的典聚體(a)〜 (e ) 〇 -9- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐〉 (請先聞讀背1之注意事項再填寫本頁)
4-365 1 0 A7 __B7 五、發明説明(8 ) [表5] 液晶聚合物的代表例 ㈤七 CO+f OCH 2 CH2 O+fOC-0-0+共聚 體 (b)七0-^-CO子 CO-
共聚釋 •OC C0- (c) ^-〇-^-C〇e--e〇C-^-C〇e-~ 乇〇*OO^〇+共聚體 (d) co- ο -e〇c-Q^-c〇e-e〇-Q-NHe- 共聚體 (e) ^-〇_^_c〇-3-^OC-^-C〇9-e〇-^-^-0^ X—^^-0 子共聚體 (X 為一Ο—, —CH2_| —S一 等的基) (讀I閱讀背砒之注意事項再填寫本頁)
經濟部智葸財產局員工消費合作社印製 這些液晶聚合物,從薄膜的附熱性和加工性來看,最 好為具有在200〜400t:,特別是250〜3501C範圍内;向 光學各向異性的熔融相轉移的溫度的聚合物。在不損害 薄膜物理性質的範圍内,也可以加入潤滑劑,氧化抑利 -1 〇 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21 〇 X 297公釐) Α7 Β7 43651 Ο 五、發明説明(9 ) 劑,填充材科等。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 上述液晶聚合物製成的薄膜,可以利用τ塑模法,充 氣法s和這些方法姐合起來的方法等眾所周知的製造方 法成型。恃別是利用充氣法,由於不但在薄膜的機械軸方向 _ ( Μ下簡稱M D方向),而且在與它垂直的方向(Μ下簡 稱TD方向)上,都可加應力,可Μ得到MD方向或TD方向 的機械性質和熱的性質平衡的薄瞑,因此,比較適合採 用0 上述薄膜的厚度沒有特別的限制。在印刷配線板用途 中,在5毫米Μ下較好,最好為0.1〜3毫米。在FPC用 途中,500微米Μ下較好,最好為10〜250微米。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 作為層疊在上逑薄膜上的黏附體的材質,可Μ採用銅 ,鎳,鋁,銀,金等金屬;作為薄膜熱處理時,保持其 形狀的黏附體,使用熔點比玻璃等無機物的液晶聚合物 薄瞑高的材料較合適。作為黏附體,特別是金屬,由於 是熱傳導係數高的材料,因此,熱處理時,可Κ有效而 快速地使液晶聚合物薄瞑的溫度升高至所希望的溫度, 進而可Μ縮短熱處理操作所需的時間。從可Κ防止熱處 捭時液晶聚合物薄膜不良的滾動方面來看,希望黏附體 的彤狀為薄膜、片、板等形狀,或至少是與液晶聚合物 薄膜層#的商,大致為平面肜(有微小的凹凸也坷Μ) 。作為黏附體,特別是使用銅萡等金屬箔較合適。對黏 附體的厚度沒有特別限制,可Κ根據用途選擇;例如, 在作為印刷配線板的F P C用途的情況下,最好為1 0〜 -11- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210 X 297公釐) 4 3 651 Ο Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(、。) 1000微米。在使用薄膜黏附體層,作為將半導體動作時, 由電力損失産生的熱有效地放出的散熱板的絶緣體時, 散熱板的厚度最好為0.1〜5毫米迕右。另外,作為剝離 黏附體,得到薄膜的用途,最好為0.03〜1毫米左右。 使用(例如)熱壓機,熱滾子等熱壓黏接方法進行上 逑薄膜和黏附體的黏接比較合適。壓接的溫度,根據所 使用的液晶聚合物薄膜的種類而不同,最好在升溫條件 下,從比轉移為液晶相的溫度低80°C的溫度,至比轉移 為該向液晶相的溫度髙2 D °C的溫度範圍内c 在前述特定條件下,對上述薄膜和黏附體的層®體, 進行多次熱處理、 當熱處理條件超出上逑範圍時,黏附體會變色,得不 到所期望的耐熱性和彎曲性。顯著超出上述範圍,則從 層疊體剝離下來的薄膜會産生變形等不好的結果。特別 是,最初將薄膜和黏附體黏接在一起,進行熱處理(即 第一次熱處理)時,由於薄膜容易産生變形,因此,必 須在從熱變形溫度Tdef開始,至比聚合物熔點Tm低a °C 〜35°C)的溫度範圍内,進行熱處理。當α在10°C 以下時,由於熱處理溫度接近熱處理前的熔點Tm,薄膜 會部分熔融。當α超過35 "C時,熱處理溫度降低,熱處 理時間過長,實用上不好。 在第二次熱處理中,由於不像第一次那樣,薄膜不容 易變形,因此,可以在聚合物熔點Tm以上,和第一次熱 處理時増加的融解峰值溫度TAi以下的溫度範圍内,進 -1 2 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 〈請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衷--------:訂1,1------線 43651 Ο Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明( 11 ) 行 熱 處 理 0 希 望 熱 處 理 能 使 薄 膜 的 熔 點 快 速 増 高 〇 但 是 > 當 第 .二 次 熱 處 理 的 溫 度 > 比 第 次 增 高 的 T A 1 還 高 時 r 由 於 液 PR 聚 合 物 的 耐 熱 性 又 回 復 到 熱 處 理 月丨J 的 聚 合 物 熔 點 Τπ * 7T3 全 失 去 了 第 一 次 熱 處 理 的 效 果 * 因 此 , 必 須 • m 免 比 ΤΑ 1 高 的 熱 處 理 溫 度 〇 在 kk 後 進 行 的 第 η 次 熱 處 理 的 情 祝 f 也 與 第 二 次 熱 處 理 同 樣 0 第 1 圖 中 表 示 了 本 發 明 的 熱 處 理 溫 度 與 融 解 峰 值 溫 度 的 關 係 0 從 第 1 _ 中 可 看 出 > 熱 處 理 溫 度 經 常 是 比 融 解 峰 值 溫 度 TA低 的 〇 融 解 峰 值 溫 度 TA & 1 過 第 一 次 熱 處 理 後 9 如 曲 線 T1所 示 那 樣 上 升 i 經 過 第 二 次 r 第 三 次 和 第 四 次 熱 廣 理 後 # 分 別 如 曲 線 T2 T3 和 T4所 示 那 樣 上 升 0 因 為 第 一 次 熱 處 理 造 成 的 TA上 升 幅 度 β 不 到 5V , 因此, 熱 處 理 婼 的 溫 度 控 制 困 難 0 當 β 超 過 30 V 時 9 如 第 1 圖 中 的 雙 點 划 線 Μ 所 示 那 樣 t 第 二 次 熱 處 理 的 開 始 延 遲 了 > 因 此 > 丁/\的 上 升 在 時 間 上 也 延 遲 了 i 结 果 達 到 同 樣 的 耐 熱 溫 度 需 要 增 加 時 間 Ο 根 據 同 一 理 由 , 第 二 次 Μ 後 的 熱 處 理 造 成 的 TA上 升 幅 度 7 也 取 為 5〜20它。 此 外 % 上 述 熱 處 理 是 在 大 氣 中 的 活 性 氣 氛 下 進 行 的 , 然 而 > 為 了 防 止 金 屬 萡 Se' 色 * 希 望 在 不 活 性 的 氣 氛 下 進 行 熱 處 理 0 上 述 不 活 性 的 氣 氛 意 味 著 在 氮 y 等 惰 性 氣 體 中 或 在 減 m 下 t 氧 等 活 性 氣 體 在 0 . 1 體 積 % 以 下 0 特 別 是 t 作 為 惰 件. 氣 體 > 使 用 純 度 在 99 .9¾ Μ 上 的 加 熱 氮 氣 較 奸 〇 在 上 條 件 下 進 行 熱 處 理 後 y 通 過 從 層 蠱 體 上 剝 離 薄 -1 3~ 本紙張尺度適用中國國家捸準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 請 先 閱 背 面· 之 注 意 事 項 再 奢 Α7 4365 1 Ο _._Β7 五、發明說明(…) 膜,可以得到在液晶聚合物薄膜原本所具有的高強力和高 彈性率及耐藥性等性質的同時,還具有優良的耐熱性和 耐磨性的薄膜。特別是薄膜的耐熱性,可高達35ETC以 上。因此,例如,在將零件安裝在FPC(撓性印刷配線 板)上的情況下,即使將該FPC浸漬在軟焊料浴中,也 不會産生氣泡,剝離和變形等問題。總之,當薄膜的耐 熱性逹到35(3-0以上,而且通過使用35(TC以上的材料作 為金靥箔等黏附體,刖也不會産生變形等問題,可以很 好地進行安裝。 另外,可以不剝離薄膜,在將黏附體層簦在一起的狀 態下,作為層昼體來使用。這時,黏附體使黏接強度很 高,並可得到尺寸穩定性良好的層叠體。這種層ft體適 合作為多層安裝電路基板等使用。 上逑融解峰值溫度TA,熔點Tb,可以利用差示掃描童 熱器,觀察薄膜的熱品質來測定。這時,可將以5°C /分 的速度,使薄膜升溫時,所表現的吸熱峰值的熱處理前 的位置定為T®,而將熱處理中和熱處理後的位置定為TA。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .·, '裝--------:訂 i--------線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 有 * 份米 升形 張 股毫度著變 緊 機5 溫隨熱 在 電寬出出為 以 學在做求度 可 理加,,溫 , 用載溫上個 同 使負升線這 不 C 的度曲取 的 出lg速該, 目 得將的在度 據 果,分。溫 根4-結置C/線的 ,7 定裝5°曲大 時 測析用}增 體 的分,U 劇 0 面械上率急 層 下機膜化率 逑 從熱薄變化 上 以的的寸變 理 可製米尺寸 處 e 司毫? 尺 c 熱 Td公20C),度在 限長(°溫溫 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公釐) d 3 65 1 Ο a7 _^_._B7_ 五、發明說明(Θ ) 情況下或不緊張情況下進行。另外,熱處理可以滾子狀 (没有間隙,防止相互接觸),枷銬狀(例如,用氣體 透過性良好的褥墊,可與吸收熱處理時的伸縮的聚乙烯 纖維織布製成的褥墊一起卷成)或趾狀(安放在鐵絲網 上),成枇地進行;或者在薄膜狀,枷銬狀或趾狀的狀 態下,用多個滾筒連續地移動來進行。在成批式地進行 的情況下,通過分階段地提高熱處理裝置的溫度,可以 分階段地進行本發明的熱處理。另外,在連鑛進行熱處 理的情況下,可在熱處理設備内設置多個熱處理區段, 單値地分別控制各個熱處理區段的溫度,這樣,通過將 上逑層盤體順次通過熱處理溫度分階段地提髙的熱處理 區段,可以進行本發明的分階段的熱處理》 如上所述,通過從經過熱處理的層曼體上剝離,可以 得到所期望的薄膜,但,為了更好地進行穩定的剝離, 希望對所用的黏附體進行剝離處理。這種剝離處理是塗 覆矽糸聚合物,經過乾燥,形成塗膜而逹到的。這時, 塗膜熱處理前的黏接力在D.GSkg/cia以上,熱處理後的 黏接力在(K4kg/cm以下,特別希望在0.2kg/cm以下。這 個黏接力熱處理前的值越高,薄膜形狀的穩定性越好; 當該值低時,熱處理時會産生剝離,破損等不好影響。 另外,熱處理後的黏接力越低,薄膜的剝離穩定性越好 :當該值高時,在稍徹有傷痕等的地方,剝離時就會斷 裂。 在優選實施例中,該黏附體由具有最大粒槌度 -1 5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之没意事項再填寫本頁) 裝--------:訂 I--------線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 43 65 1 Ο Α7 __^_Β7__ 五、發明説明(14) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (Rnax: JIS Β0601)為1.0〜10微米的有凹凸表面的金 属箔(鋼,銅,鋁,鎳,銀,金等)製成。在其表面上 ,使用塗有0.〗〜1微米厚的矽糸聚合物的黏附體,作為 分型劑。這時,當最大的凹凸粗糙度在1.0微米K下時 ',在加熱處理時,聚合物有時會流出。另外,當最大粗 _糙度超過10微米時,特別是在薄的薄膜時,薄膜沿厚度 方向容易破損,在剝離黏附體的工序中,會造成薄膜斷 裂◊因此,前逑最大凹凸粗糙度取K上的範圍。因此, 要在使薄膜的至少一個面與前述黏附體接觸的狀態下, 利用(例如)壓接方法進行層盤。在進行了前述多次熱 處理後,將熔融軟化的薄膜冷卻,再從前述黏附體上, 剝離除去囿化的薄膜曆。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 這時,前述凹凸的形狀可K為圓錐狀突靼,火山口狀 凹陷,傷痕狀線狀凹凸;沒有特別指定矽糸聚合物充分 附著的形狀。另外,作為與前述金屬箔的薄膜接觸的表 面彤狀,可以為滾子表面形狀那樣的曲面形,但從容易 防ih熔融處理時聚合物流動,和容易從支承體上釗離薄 瞋這兩點看,最好為薄膜形,或片狀,或板狀等實質上 為平面形的彤狀。 前述矽糸聚合物化學结構的基本骨架可Μ爲 -(ch3)2 si- ,這種聚合物具有與金靥的结合力非常 強,而與樹脂的親和力非常小的性質。瑄種矽系聚合物 ,當其厚度小於0 . 1微米時,黏附體與薄膜的钊離很困 難。當厚度超過1微米時,二者容易剝離,不但浪費聚 -16- 本紙張尺度適用中國國家操準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 43 65 1 Ο Α7 Β7 五、發明説明(15) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁〕 合物,而且聚合物附著在液晶聚合物薄膜上,從黏附體 上剝離,不可能再利用該黏附體。因此,前述矽糸聚合 物的層厚要在Μ上範圍内。 如上所述,在金屬箔表面上彤成最大粗糙度為1.0〜 _ 10微米的凹凸,通過在這些凹凸上,再塗上一層0.1〜 1微米厚的矽系聚合物,可使薄膜和支承體熱處理前的 黏接力達到〇 · 〇 5 kg / C πι Μ上,熱處理後的黏接力達到 0 . 4 k g / c m Κ下。這樣,熱處理時,不會產生剝離,破損 等不奸的影響,可以保持薄膜穰定的彩狀。另外,熱處 理後,薄膜不會斷裂,用手等就可Μ穩定而容易地剝雛。 阖式之簡單說明 第〗圖為表示本發明的熱處理溫度與液晶聚合物薄膜 的融解峰值溫度的特性圖; 第2圖為使用本發明的疊體的多層安裝電路基板的 截而阖。 發明實施態樣 Κ下,根據附鬪來說明本發明的一個實胞例。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第2阖表示多層層凝電路基板1 。該基板1由兩塊層 韃體2 , 2構成。該廢巖體2是將作為黏附體的銅箔4 ,黏接在作為電氣絕緣層的液晶聚合物薄膜3的至少一 個表面上形成的。在上述各個層蠱體2上,通過腐蝕處 理該銅箔4 ,圼相對狀地形成導電圖形4 1 , 4 1。在上述 各個贋疊體2之間安裝著片狀物5 ,它用於阻止各個導 電阖形4 1 , 4 1接觸,它是由液晶聚合物薄膜製成的。另 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐} A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 .五、發明説明 (18 ) Γ 外 , 在 片 狀 物 5 中 r 也 可 K 含 有 玻 璃 纖 維 織 布 等 增 強 材 1 I 料 〇 在 設 在 上 述 層 蠱 體 2 的 薄 膜 3 上 的 配 線 導 體42上 t 1 1 安 裝 著 1C '晶片 j 電 容 器 1 電 阻 等 電 子 元 件 6 彤 成 多 層 請 i 先‘ [ 安 裝 電 路 基 板 7 〇 另 外 在 各 個 導 電 圖 形 41不 相 對 的 情 聞 ik [ .況 下 7 不 —_ 定 要 設 置 片 狀 物 5 〇 背 ® I I 之 l .實 施 例 注 意 1 1 Μ 下 舉 出 —_ 些 實 施 例 來 說 明 9 但 本 發 明 並 不 受 這 些 事 項 1 I 再 J 實 施 例 的 限 制 0 填 寫 本 裝 實 例 1 頁 1 | 首 % I 利 用 單 軸 擠 歷 機 9 在 280- -300 ¾ 下 9 加 熱 混 1 i 揉 27 莫 耳 % 的 6 - 羥 基 -2 -萘酸單元, 由73箅耳3; 的Ρ -羥 1 I 基 安 息 香 酸 tau 元 構 成 的 向 熱 性 液 晶 聚 酷 $ 使 它 們 從 直 徑 1 - 訂 為 40 毫 米 狹 綫 間 隔 為 0 . 6 毫 米 的 充 氣 模 型 中 擠 出 • 得 到 厚 度 為 50 微 的 薄 膜 0 這 個 薄 膜 的 熔 點 Tm 為 28 0°C, 1 I 熱 m 形 滔 度 Td e f為 23 0 °C ) 1 | ⑵ 用 厚 度 為 18 微 米 的 銅 箔 ( 由 電 解 法 製 出 的 1/2 盎 司 1 \ 的 銅 箔 ) 作 為 黏 附 體 > 將 該 銅 m 在 260。〇 下, 加熱壓接 | 在 上 述 薄 瞑 上 9 形 成 層 m 體 0 1 1 (3) 為 了 測 定 由 熱 處 理 引 起 的 該 層 摄 體 熔 點 的 變 化 9 在 1 氮 氣 中 t 在 2fi〇t下進行熱處理- -小時, 然後用DSC C 差 I 示 掃 描 量 熱 器 ) 測 定 薄 膜 層 的 融 解 峰 值 溫 度 TA 〇 结 果 t 1 未 處 理 時 為 278¾ ; 處理1 小時上升至285 °C 處 理 2 小 1 1 時 , 上 升 至 2 9 6 t:; 處理4 小庐 上升至306 TC 〇 進 行 4 1 I 小 時 的 熱 處 理 後 t 薄 膜 的 熱 m 形 溫 度 為 27 5 t。 這樣, 1 i -1 8- 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X:«7公釐) 4 3 65 1 Ο Α7 Β7
五、發明說明(Q 可熱 , 在 點定 這固 據地 根平 〇 水 > 上體 序。® 順高層 TA提的 其以到 , 可得 間ef中 時Td(2) 理度逑 處溫上 熱形將 的變, 膜熱次 薄解其 長理⑷ 加以 1 5 機僳 燥Ξ 乾 _ 熱® * ί gIKsl 層Mrs® 氮纟這二 € Γ P 2 銅 ο IJ 6 為 ,2 度層至 溫上高 風為升 ί: 理 處 度 面U再 0 ^ > 0 ^ ^ 漠 持U 。二 I , i^MJ 中再 4 理至 處溫 熱降 ,度 Ρ 速 5 丨 8 的 2 Γ 分 至Μ 溫 Ρ 升20 體 疊 層 的 後 m: 理 處 熱 〇 時 小
出 取 中 機 燥 乾 風 熱 從 V 體 蠱 層 的 變 的 豊 »SD 昼 層 定 測 ,耐 法料 方焊 蝕軟 腐行 學進 化 , 用膜 對薄 再的 0 至 性得 到定 , 得穩箔 所的屬 和除性 度上熱 強體耐 接® ί 黏層度 ,該溫 色從熱 對寸金 。尺去 (諳先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 中 6 表 在 示 表 果 結 0 驗 試 性 磨 耐 2 和例 度施 強實 例 施 實為 將度 了 溫 除風 熱 在 定 固 地 平 水 瞪 Hsn 叠 層 的 到 得 中 ⑵ 的 面 表 膜 薄 將 中 機 燥 乾 風 熱 的 氣 氮 的 ρ ο 6 後樣 然同 > 時例 小施 4 實 理與 處 , 熱後 下以 度時 溫小 個 6 這 理 在處 *熱 P , 60°c 2 ο 至30 高至 升溫 度升 溫再 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 膜 薄 6 和表 體在 蠱示 層表 的果 到結 得 。 所驗 對試 〇 的 膜樣 薄同 和 1 體例 蠱施 層實 3 到述例 得上施 ,與實 中 行 進 在 定 固 地 平 水 體 蠱 層 的 到 得 中 ⑵ 面後 表然 膜 , 薄時 將小 » 2 中理 機處 燥熱 乾下 風度 熱溫 的値 氣這 氮在 , 1 c C 例0°0° nD flD 施 2 2 實為至 將度髙 了溫升 除風度 熱溫 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 4365 1 Ο Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
五、發明説明 ( 18 ) 丨 再 升 溻 至 2 90 , 熱ί 電理e 小時K後f 與實施例1 同樣 1 1 1 9 得 到 層 ITtftr m 和 薄 膜 〇 對 所 得 到的 層 疊體和 薄 膜 9 進 行 1 i 與 上 述 實 施 例 1 同 樣 的 試 驗 〇 结果 表 示在表 6 中 0 讀 1 先 ί 實 施 例 4 聞— 1 I 在 實 施 例 1 中 7 取 熱 處 理 氣 氛為 氧 濃度為 15S的 活 性 氣 背 面- 1 I 之 1 .氛 利 用 厚 度 為 50 微 米 的 鋁 箔 (壓 延 製造, 最 大 粗 糙 度 注 意 1 微 事 1 為 1 微 米 ) 作 為 黏 附 體 5 在 苴 粗槠 表 面上, 塗 上 0 . 1 項 再 1 张 厚 的 矽 糸 聚 合 物 > 進 行 乾 燥 。除 此 Μ外, 在 與 實 施 例 % 寫 ΐ 1 相 同 的 條 件 下 9 進 行 熱 處 理 ,剝 離 黏附體 9 即 得 到 薄 頁 1 I 瞑 〇 黏 附 m 表 而 不 變 色 在 曆 鮝體 狀 態下的 黏 接 力 為 1 1 0 . 2kg/ cm i 薄 膜 不 破 裂 t 用 手 可Μ 容 晃地剝 離 〇 對 所 得 1 i 到 的 層 m 和 薄 膜 > 進 行 與 上 述實 腌 例1同 樣 的 試 驗 0 '! 訂 结 果 表 示 在 表 6 中 〇 實 施 例 5 1 1 實 施例 1 的 (2) '得 到 的層 蜃 體, 作 為 第 — [ 1 水 平 地 固 定 在 熱 風 溫 度 為 260 υ的衰 Ϊ氣的熱風乾燥機中, l 將 薄 膜 表 面 溫 度 升 高 至 2 6 0 °C , 在該溫度下熱處理2 小 .λ l 時 0 這 時 , 薄 膜 層 的 融 解 峰 值 溫度 Τή 1 為 296υ。 然後, 1 1 作 為 第 二 次 » 升 溫 至 28 5 °C , 熱處理3 小時 >這時, 薄 1 m 層 的 TA 2 為 310 ( >當作為第三次, 升镏至295 熱 1 處 m .3 小 時 ΤΑ 3 為 320 T: ^ 作為第四次,升滔至3 0 0 [ > 執 m 理 2 小 時 , 這 峙 TA 4 為 325 t。 這時, 黏附體表 1 i 面 不 樂 色 t 茌 層 體 狀 態 下 9 黏接 力 為 1 . 2k g/ c m 〇 與 實 1 I 例 1 同 樣 > 利 用 化 學 腐 蝕 法 除去_ 金 屬箔, 得 到 薄 膜 〇 1 1 I -20- 1 1 1 I 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) 4 3 6 5 10 a? B7 五、發明説明(19 ) 對所得到的曆橇體和薄膜,進行與上述實施例1同樣的 試驗。结果表不在表6中° 實施例6 除了在實胞例4中,取熱處理氣氛為氧濃度為1¾的活 性氣氛,使用在厚度為5 〇微米的壓延鋁箔的表面粗糙度 為1微米的表面上,塗覆厚度為0.4微米的矽糸聚合物 ,乾燥後形成的黏附體,作為所使用的黏附體以外,在 全部與實施例4相同的條件下,進行熱處理,剝雛黏附 體而得到薄膜。黏附體表面不變色,在層蠱體狀態下的 鲇接力為〇 . 1 5 k g / c m,搏膜不破裂,容易剝雛。對所得 到的層#髖和薄膜,進行與上逑實胞例1同樣的試驗。 结果表示在表β中。 比較例丨 對實施例1的⑵中得到的層疊體,不進行熱處理,而 是與實陁例1同樣,用化學腐蝕方法除去金屬箔,得到 薄膜。對層凝贖和薄膜,進行與實施例1同樣的試驗。 结果列在表6中。 比較例2 將賀胞例1的⑵中得到的層疊體,在2 6 0 1C下,在空 氣中熱處理4小時,其次,在熱處理前的熔融溫度2 8 0 °C 下的2 7 0 下,熱處理4小時。與實陁例1同樣,用化 學腐蝕方法,除去金屬箔,得到薄膜。對層蠱體和薄膜 ,進行與上述實胞例1同樣的試驗。結果列在表6中。 -2 1- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) ,裝·
、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4365 1 Ο Α7 Β7 五、發明説明(2〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 [表6] 層鳧體 除去層疊體的金屬萡的薄膜 變色 黏接強度 (kg /cm) 尺寸穩定性 軟輝料耐熱性 (°C) 強度 (kg/mm 2 ) 耐磨性 實施例1 〇 1.2 +0.10 360 65 〇 實施例2 〇 1.3 +0.05 350 63 〇 實施例3 〇 1.2 +0.10 350 65 〇 實施例4 〇 0.2 — 360 65 〇 實施例5 〇 1.2 +0.10 370 68 〇 實腌例6 〇 0.15 — 370 68 〇 比較例1 〇 0.7 +0.20 220 30 Δ 比較例2 X 0.7 +0.20 240 38 Δ 讀 閲 讀 背 面. 之 注 意 事 項 再 本紙張尺度適用中國國家棹準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) Α7 4 3 6 5 1 〇 _._Β7_ 五、發明說明(d ) 作為上逑試驗結果所表示的變色,是指用肉眼觀察熱 處理後的層蠱體的黏附體的變色。在表6中,完全不變 色者,用〇號表示,變色程度劇烈的,用X號表示。 黏接強度是指,將1.5厘米寬的層叠體的薄膜固定在 平板上,利用18D°法測定以50毫米/分的速度剝離黏附 體時的強度。 尺寸穩定性以JIS C 6471為標準,進行試驗。 軟焊料耐熱溫度,以J I S C 5 01 6為標準,利用研究薄 膜表面,在保持在所定溫度的熔融軟焊料浴中,保持其 當初形狀的時間的方法,進行測定。即:首先將層昼板 在260 °C的軟焊料浴上,放置5〜60秒,用肉眼觀察薄膜 表面的氣泡、變形等形狀變化的情況。然後,在以lfl°C 為刻度,逐次提高溫度的軟焊料中,同樣觀察在5〜30 秒期間的外觀變化,測定不産生氣泡不變形的最高溫度 強度是指,以A S T H D 8 8 2為標準,測定的拉伸斷裂強 度。 耐磨性是將用布蓋住表面的10Χ 15毫米大小的磨耗件 放置在薄膜表面上,一邊加上500g的負載,同時,在30 毫米的距離内作1小時的往復連缠運動,利用附箸在磨 耗件上的薄膜的量來評價。薄膜量多時,用X號表示; 完全没有時,用〇號表示;中間情況用A表示。 從上逑表6中可看出,在比較例1中,由於不進行熱 處理,不能對銅箔的變色進行評價;而在比較例2中 ,銅箔産生變色。另外,茌各櫥tb較例中,由於軟焊料 -23- 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) .裝--------^訂 i--------線 1 (請先閲讀背面之注意事項再填窝本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5 1 Ο Α7 Β7 五、發明說明(π) 耐熱溫度在351TC以下,當例如在FPC上安裝零件時, 在將該FPC浸漬在軟焊料浴中的情況下,會産生氣泡, 剝離和變形等。又,在各値比較例中,由於耐磨性不好 ,當作為FPC等使用時,在鬻折處,容易産生摩擦疲勞。 對以上的比較例子,通過進行實施例1〜6的多次熱 處理,可得到銅箔或鋁箔不變色,而且耐熱性和耐磨性 好,黏接強度和尺寸穩定性都好的層昼體。特別是,薄 糢的耐熱溫度,相對於熱處理前(比較例1 ),由100°C 以上提高至350 eC以上。因此,當在FPC上安裝零件時, 印使在將該FPC浸漬在軟焊料浴中的情況下,也本會産 生變形等問題,可以很好地進行安裝。 利用本發明,可以在具有液晶聚合物薄膜原本具備的 高強力和高彈性率及耐藥性等的同時,低成本地得到耐 熱性和耐磨性優良的薄膜,它的層叠體,和使用該層曼 體的多層安裝電路基板。 符號之説明 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) .裝--------:訂i--------線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 .......多層層餐電路基板 2 .......層蠱體 3 .......液晶聚合物薄膜 4 .......銅箔 5 .......片狀物 8.......電子元件 7.......多層安裝電路基板 4 1......導電圔形 42......配線導體 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. Α8 Β8 C8 D8 Α3_6,5ηί 〇 公告:$、 六、申請專利範圍 第8810 53 80號「液晶聚合物薄膜和層疊體及其製法和多層 安裝電路基板」專利案 (89年1〇月20日修正) (請先闊讀背面之注意事項再填寫本頁) 六申請專利範圍: 1.—種液晶聚合物薄膜的製造方法,其特徵爲將可形成 光學各向異性的熔融相聚合物(以下稱爲液晶聚合物) 構成之薄膜’與該薄膜熱處理時可保持其形狀的黏附 體層疊起來,其中液晶聚合物係選自 (a) 七00-^~00+七〇CH2CH2〇+*e〇C-^~〇+共聚體 V * (b) 七ο^-co子 共聚體 4:〇 / •OC C0- (c) -fO-0-CO-3-e〇C~^-CO-> 乇〇-〇~0^〇+共聚髖 V*!·, \ J
    -e〇c^^-c〇e-e〇~^-NHe- 共聚體 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 ⑹于~e〇c-^-co+乇 ^〇Ό~Χ—Ο~〇+ 共聚體 (X 為一0—,一CH2—,一s_ 等的基), 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X29"?公釐) 43 65 1 Ο Α8 Βδ C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範園 且黏附體係選自銅、錬、鋁'銀、金及玻璃;以下述 熱處理方法進行多次後,除去該黏附體,得到晶體聚 合物薄膜; 第一次:. 熱處理溫度爲從薄膜熱變形溫度Tdef開始,至比 該薄膜熱處理前的熔點Tm低aeC的溫度範圍(Tdef〜 (Tm-o:°C))內,在用差示掃描量熱器,在氮氣環境中, 以5 °C/分的升溫速度進行測定時的處理中的前述薄膜 的融解峰値溫度TA,達到比該薄膜熱處理前的溶點Tm 高冷乞的溫度TA:之前,進行熱處理; α=10 〜35°C,泠=5 〜301C 第二次: 熱處理溫度在前述薄膜熱處理前的熔點以上,融 解峰値溫度TAi以下的溫度範圍內,在前述融解峰値 溫度丁41達到增大r°c的溫度ta2之前,進行熱處理; r = 5 〜2 〇。。 第η次: 熱處理溫度在融解峰値溫度ΤΑη.2以上,TAn i以τ 的溫度範圍內,在ΤΑ。」達到增大的溫度TAa之前, 進行熱處理。 整數 n23, r=5 〜20°C。 2_—種液晶聚合物薄膜的製造方法,其特徵爲在申請專 利範圍第1項中,使前述薄膜與黏附體層疊起來;利 用由具有最大粗糖度(Rmax: JIS b 0601 )爲i.〇〜1〇 -2- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4^格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
    4365 1 Ο ABCD
    六、申請專利範圍 微米的凹凸表面之金屬箔製成,其表面上塗覆一層厚 度爲0.1〜1微米的矽系聚合物之黏附體,再使前述 薄膜的至少一表面,與該黏附體之塗層表面接觸的狀 態下,將薄膜層疊起來;另外,在前述熱處理後,除 去黏附體,同時使熔融軟化的薄膜冷卻,且從前述 黏附體上剝離固化後得到的薄膜層。 .3.—種依申請專利範圍第1項所述方法製得的薄膜。 4. 一種依申請專利範圍第2項所述方法製得的薄膜。 5·—種層疊體的製造方法,該層疊體是由薄膜和黏附體 所構成,其特徵爲將液晶聚合物薄膜,與該薄膜熱 處理時可以保持其形狀的黏附體層疊起來,進行申請 專利範圍第1項所述的多次熱處理。 6_ —種依申請專利範圍第5項所述方法製得的層疊體。 7.—種多層安裝電路基板,其係將兩層以上的申請專利 範圍第6項所述之層疊體予以疊合,根據需要,在 層疊體之間夾入片狀物並疊合之,且在其上安裝電子 零件而構成者。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4规格(2Ι0Χ297公釐)
TW88105380A 1998-04-06 1999-04-03 Liquid crystal polymer film, laminate, method of making them and multi-layered pars-mounted circuit board TW436510B (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9329998 1998-04-06
JP4814199A JP2000044797A (ja) 1998-04-06 1999-02-25 液晶ポリマ―フィルムと積層体及びそれらの製造方法並びに多層実装回路基板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW436510B true TW436510B (en) 2001-05-28

Family

ID=26388366

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW88105380A TW436510B (en) 1998-04-06 1999-04-03 Liquid crystal polymer film, laminate, method of making them and multi-layered pars-mounted circuit board

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6274242B1 (zh)
EP (1) EP0951206B1 (zh)
JP (1) JP2000044797A (zh)
KR (1) KR100349952B1 (zh)
CN (1) CN1206317C (zh)
DE (1) DE69935277T2 (zh)
HK (1) HK1023256A1 (zh)
TW (1) TW436510B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI396486B (zh) * 2005-07-27 2013-05-11 Kuraray Co 以熱可塑性液晶聚合物薄膜被覆之配線板之製法
US9742009B2 (en) 2012-02-28 2017-08-22 Uacj Corporation Aluminum foil for a current collector and method of manufacturing the same
US10807352B2 (en) 2016-03-08 2020-10-20 Kuraray Co., Ltd. Method for producing metal-clad laminate, and metal-clad laminate

Families Citing this family (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5254901B2 (ja) * 1998-04-06 2013-08-07 株式会社クラレ 液晶ポリマーフィルムと積層体及びそれらの製造方法並びに多層実装回路基板
JP2000044797A (ja) * 1998-04-06 2000-02-15 Kuraray Co Ltd 液晶ポリマ―フィルムと積層体及びそれらの製造方法並びに多層実装回路基板
JP2001081215A (ja) * 1999-09-17 2001-03-27 Kuraray Co Ltd 高耐熱性フィルムおよびその製造方法
WO2002049405A2 (en) 2000-08-15 2002-06-20 World Properties, Inc. Multi-layer circuits and methods of manufacture thereof
US20020064701A1 (en) * 2000-09-11 2002-05-30 Hand Doris I. Conductive liquid crystalline polymer film and method of manufacture thereof
AU2001292823A1 (en) 2000-09-20 2002-04-02 World Properties Inc. Electrostatic deposition of high temperature, high performance thermoplastics
US6602583B2 (en) 2000-12-14 2003-08-05 World Properties, Inc. Liquid crystalline polymer bond plies and circuits formed therefrom
TW528676B (en) * 2001-03-07 2003-04-21 Kuraray Co Method for producing metal laminate
US6797345B2 (en) 2001-04-27 2004-09-28 Sumitomo Chemical Company, Limited Aromatic liquid-crystalline polyester metal laminate
US6611046B2 (en) 2001-06-05 2003-08-26 3M Innovative Properties Company Flexible polyimide circuits having predetermined via angles
JP2003046259A (ja) * 2001-07-27 2003-02-14 Kyocera Corp 多層配線基板
US20050208278A1 (en) * 2001-08-22 2005-09-22 Landi Vincent R Method for improving bonding of circuit substrates to metal and articles formed thereby
US6826830B2 (en) * 2002-02-05 2004-12-07 International Business Machines Corporation Multi-layered interconnect structure using liquid crystalline polymer dielectric
JP3958629B2 (ja) * 2002-05-30 2007-08-15 ジャパンゴアテックス株式会社 液晶ポリマーフィルム及びその製造方法
WO2004026009A1 (en) * 2002-09-16 2004-03-25 World Properties, Inc. Liquid crystalline polymer composites, method of manufacture thereof, and articles formed therefrom
US6819373B2 (en) * 2002-10-03 2004-11-16 International Business Machines Corporation Lamination of liquid crystal polymer dielectric films
JP2004273744A (ja) * 2003-03-07 2004-09-30 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 熱可塑性樹脂材料およびプリント配線板の製造方法
US6764748B1 (en) * 2003-03-18 2004-07-20 International Business Machines Corporation Z-interconnections with liquid crystal polymer dielectric films
JP4245969B2 (ja) * 2003-04-24 2009-04-02 ポリプラスチックス株式会社 非晶質全芳香族ポリエステルアミド及びその組成物
JP5041652B2 (ja) * 2003-05-21 2012-10-03 株式会社クラレ フィルムの製造方法
JP3968068B2 (ja) * 2003-09-30 2007-08-29 株式会社クラレ 液晶ポリマーフィルムの製造方法
US7549220B2 (en) * 2003-12-17 2009-06-23 World Properties, Inc. Method for making a multilayer circuit
WO2006014368A2 (en) 2004-07-02 2006-02-09 Discus Dental Impressions, Inc. Automatic control for dental applications
EP3730088B1 (en) 2004-07-02 2022-08-10 Discus Dental, LLC Illumination system for dentistry applications
JP2008513139A (ja) 2004-09-21 2008-05-01 ディスカス デンタル インプレッションズ インコーポレーテッド 歯科用装置
JP2006137011A (ja) * 2004-11-10 2006-06-01 Kuraray Co Ltd 金属張積層体およびその製造方法
JP2006182847A (ja) * 2004-12-27 2006-07-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 全芳香族ポリエステル膜およびその製造方法
KR100722626B1 (ko) * 2005-05-10 2007-05-28 삼성전기주식회사 인쇄회로기판용 수지적층판 및 그 제조방법
WO2007130748A1 (en) 2006-05-03 2007-11-15 Discus Dental Impressions, Inc. Dental instruments having anti-microbial coating
TWI355394B (en) * 2006-12-15 2012-01-01 Chang Chun Plastics Co Ltd Process for preparing all-aromatic polyester compo
US8508036B2 (en) * 2007-05-11 2013-08-13 Tessera, Inc. Ultra-thin near-hermetic package based on rainier
EP2568919A1 (en) 2010-05-12 2013-03-20 Discus Dental, LLC Dental light device with identification means
US9358089B2 (en) 2010-06-19 2016-06-07 Perimetrics, Llc System and method for determining structural characteristics of an object
US9869606B2 (en) 2011-06-18 2018-01-16 Perimetrics, Llc System and method for determining structural characteristics of an object
JP6133782B2 (ja) 2011-10-31 2017-05-24 株式会社クラレ 熱可塑性液晶ポリマーフィルムならびにこれを用いた積層体および回路基板
CN104114991A (zh) 2011-12-16 2014-10-22 佩里梅特里克斯有限责任公司 用于确定对象的结构特性的系统和方法
JP6309451B2 (ja) 2012-09-20 2018-04-11 株式会社クラレ 回路基板およびその製造方法
CN106415903B (zh) 2014-06-06 2019-10-25 株式会社Uacj 集电体用金属箔、集电体及集电体用金属箔的制造方法
CN105197344A (zh) 2014-06-25 2015-12-30 艾尔戴克斯国际公司 承载结构
TWI699145B (zh) * 2015-01-13 2020-07-11 日商宇部愛科喜模股份有限公司 可撓性積層板與多層電路基板
JP6656231B2 (ja) 2015-04-20 2020-03-04 株式会社クラレ 金属張積層板の製造方法およびこれを用いた金属張積層板
JPWO2016174868A1 (ja) * 2015-04-27 2018-02-15 株式会社クラレ 熱可塑性液晶ポリマーフィルム及び回路基板
MY193282A (en) 2015-12-16 2022-09-30 Airdex Corp Load bearing structure
CA3048985A1 (en) * 2016-12-30 2018-07-05 Perimetrics, Llc System and method for determining structural characteristics of an object
KR102593814B1 (ko) 2017-12-30 2023-10-25 페리메트릭스 아이엔씨. 객체의 구조적 특징의 결정
TWI647261B (zh) * 2018-02-06 2019-01-11 佳勝科技股份有限公司 液晶聚合物薄膜及具有液晶聚合物薄膜之軟性銅箔基板的製造方法
WO2020095988A1 (ja) 2018-11-08 2020-05-14 株式会社クラレ 熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよびそれを用いた回路基板
CN111196050B (zh) 2018-11-16 2021-09-14 佳胜科技股份有限公司 液晶聚合物薄膜的加工方法及其装置
CN111808616A (zh) * 2019-04-12 2020-10-23 佳胜科技股份有限公司 改质液晶高分子的制作方法、液晶高分子组合物及改变液晶高分子的熔点的方法
EP3990886A4 (en) 2019-06-30 2023-06-28 Perimetrics, Inc. Determination of structural characteristics of an object
CN110760310B (zh) * 2019-09-27 2021-08-10 深圳市信维通信股份有限公司 一种改善液晶聚合物制品机械性能的方法
TWI740515B (zh) 2019-12-23 2021-09-21 長春人造樹脂廠股份有限公司 液晶高分子膜及包含其之積層板
CN111654803A (zh) * 2020-04-22 2020-09-11 深圳市信维通信股份有限公司 液晶薄膜、液晶薄膜及耳机振膜的制备方法
CN117183347B (zh) * 2023-11-06 2024-02-20 紫晶电子材料(杭州)有限公司 液晶聚合物薄膜及其制造方法及柔性电路板

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61148030A (ja) * 1984-12-24 1986-07-05 Teijin Ltd ポリエステル成形品の熱処理方法
JPS6232029A (ja) * 1985-08-06 1987-02-12 Asahi Chem Ind Co Ltd ポリエステルフイルム及びその製造法
DE3625263A1 (de) * 1986-07-25 1988-02-04 Basf Ag Mikroelektronische bauelemente sowie dickschicht-hybridschaltungen
US4851503A (en) 1986-12-29 1989-07-25 Kuraray Company, Ltd. Wholly aromatic thermotropic liquid crystal polyester
JP2506352B2 (ja) 1986-12-29 1996-06-12 株式会社クラレ 全芳香族ポリエステル及びそれを用いた射出成形品の製造法
JP2710779B2 (ja) 1987-06-03 1998-02-10 株式会社クラレ 高分子液晶化合物への電場印加方法
JPH0639533B2 (ja) 1988-06-17 1994-05-25 株式会社クラレ 全芳香族ポリエステルフイルム及びその製造方法
JPH03152132A (ja) * 1989-11-09 1991-06-28 Unitika Ltd 液晶ポリマーフィルムおよびその製造法
US5326848A (en) 1990-07-09 1994-07-05 Kuraray Co., Ltd. Thermotropic liquid crystal polyester
US5347154A (en) * 1990-11-15 1994-09-13 Seiko Instruments Inc. Light valve device using semiconductive composite substrate
JP3090706B2 (ja) * 1991-04-08 2000-09-25 株式会社クラレ 液晶高分子よりなるフィルムの製造方法
US5843562A (en) 1992-12-22 1998-12-01 Hoechst Celanese Corporation LCP films having roughened surface and process therefor
US6027771A (en) * 1993-02-25 2000-02-22 Moriya; Akira Liquid crystal polymer film and a method for manufacturing the same
EP0617111B1 (en) * 1993-03-25 1997-09-17 Sumitomo Chemical Company Limited Optically anisotropic material, process for producing it, and retardation plate and liquid crystal display device using same
DE69413746T2 (de) * 1993-06-02 1999-02-25 Nippon Oil Co Ltd Flüssigkristallpolymerfilm, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung
TW289769B (zh) * 1994-04-22 1996-11-01 Sumitomo Chemical Co
US5529740A (en) 1994-09-16 1996-06-25 Jester; Randy D. Process for treating liquid crystal polymer film
US5719354A (en) 1994-09-16 1998-02-17 Hoechst Celanese Corp. Monolithic LCP polymer microelectronic wiring modules
DE69514745T2 (de) * 1994-09-26 2000-09-07 Sumitomo Chemical Co Optisch anisotroper Film
TW327208B (en) * 1994-11-10 1998-02-21 Sumitomo Chemical Co Optically anisotropic film and process for producing the same and liquid crystal display device
JPH08217894A (ja) * 1995-02-16 1996-08-27 Polyplastics Co 透明な液晶性ポリエステル樹脂フィルム、シート及びその製造法
JP2000044797A (ja) * 1998-04-06 2000-02-15 Kuraray Co Ltd 液晶ポリマ―フィルムと積層体及びそれらの製造方法並びに多層実装回路基板

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI396486B (zh) * 2005-07-27 2013-05-11 Kuraray Co 以熱可塑性液晶聚合物薄膜被覆之配線板之製法
US8771458B2 (en) 2005-07-27 2014-07-08 Kuraray Co., Ltd. Method of making wiring boards covered by thermotropic liquid crystal polymer film
US9742009B2 (en) 2012-02-28 2017-08-22 Uacj Corporation Aluminum foil for a current collector and method of manufacturing the same
TWI603529B (zh) * 2012-02-28 2017-10-21 Sumitomo Light Metal Industries Ltd Aluminum foil for current collector and its manufacturing method
US10807352B2 (en) 2016-03-08 2020-10-20 Kuraray Co., Ltd. Method for producing metal-clad laminate, and metal-clad laminate
TWI729080B (zh) * 2016-03-08 2021-06-01 日商可樂麗股份有限公司 覆金屬積層板之製造方法及覆金屬積層板

Also Published As

Publication number Publication date
CN1232860A (zh) 1999-10-27
EP0951206B1 (en) 2007-02-28
HK1023256A1 (en) 2000-09-01
KR100349952B1 (ko) 2002-08-22
KR19990082889A (ko) 1999-11-25
CN1206317C (zh) 2005-06-15
DE69935277D1 (de) 2007-04-12
EP0951206A2 (en) 1999-10-20
US6274242B1 (en) 2001-08-14
EP0951206A3 (en) 1999-11-17
JP2000044797A (ja) 2000-02-15
DE69935277T2 (de) 2007-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW436510B (en) Liquid crystal polymer film, laminate, method of making them and multi-layered pars-mounted circuit board
TWI284093B (en) Aromatic polyimide laminate
KR101723254B1 (ko) 유리/수지 적층체 및 그것을 사용한 전자 디바이스
TWI231807B (en) Polymer-clad thin sheet glass film substrates
JP4216433B2 (ja) 回路基板用金属張積層板の製造方法
JP6133782B2 (ja) 熱可塑性液晶ポリマーフィルムならびにこれを用いた積層体および回路基板
TW200911894A (en) Polyimide film having smoothness on one surface
US8771458B2 (en) Method of making wiring boards covered by thermotropic liquid crystal polymer film
EP3327731A1 (en) Method for fabricating flexible substrate
TW200815499A (en) Thermoplastic polyimide, Laminate polyimide film using it and metal foil laminated polyimide film
US20080107833A1 (en) Metal-Clad Laminate And Method For Production Thereof
TW576791B (en) Laminate and process for producing the same
TW200810921A (en) Polyimide film for metallization and polyimide film laminated with metal
TW201702067A (zh) 熱塑性液晶聚合物薄膜及電路基板
JP5254901B2 (ja) 液晶ポリマーフィルムと積層体及びそれらの製造方法並びに多層実装回路基板
TWI408202B (zh) Followed by sheet and copper foil laminated board
TW201233715A (en) Method for producing co-extruded multi-layer polyimide film
JPWO2017199829A1 (ja) 金属張積層板の製造方法、電子回路基板の製造方法、剛体振り子型粘弾性測定装置
US7052574B2 (en) Method for producing metal laminate
JP4893240B2 (ja) 耐熱離型シート
TW200416128A (en) Manufacturing method of heat resistant flexible laminated sheet and heat resistant flexible laminated sheet manufactured by the manufacturing method
TW201114806A (en) Polyimide films, producing method thereof and metal laminated polyimide film
JP2004358677A (ja) 積層体の製造方法
TW202035167A (zh) 兩面覆金屬積層體及其製造方法、絕緣薄膜及電子電路基板
JP3858892B2 (ja) ポリイミドフィルム

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MK4A Expiration of patent term of an invention patent