TW300879B - - Google Patents

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A7 _B7___ 五、發明説明(/ ) 相闢申謫案之參考 本揭示係因共同發明及主題而與於本文同日申請之共同 由謫專利申請案第08/150,525¾相瞄,名為「使用二極髓 激起雷射於控制構架碟片表面之製程(Procedure Employing A Diode-Puaped Laser for Control lably T e x t u r i n g A D i s k S u r f a c e )」(查讓人權案第 S A 9 - 9 3 - -—m 005) »此文M參考方式完全併入本文中。 發明背最 1. 發明範圍 太發明係翮於一些製程,用K構架資料儲存碟片基板· 而且特定言之係闞於脆性非金羼表面用之高度可控制雷射 構絮方法,例如資料儲存碟Η用之玻璃基板。 2. 相關技藝描述 最近之磁碟櫬設計係使用一般稱為起停間接觸(
Contact Start-Stop,下文中簡稱CSS)糸统*其中"售碟片 固定時*磁頭會輿磁碟表面接觸。當碟片開始旋轉時•磁 頭會沿表面滑動,最後由於在碟片表面滾動之層狀氣體, 磁頭會自表面飛起而完全舉起。 經濟部中央樣準局員工消费合作社印製 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 於此技藝中較佳係使用平滑、銪面吠記錄表面· K允許 磁頭可儘可能地接近、位於此碟片表面上。在CSS期間* 於金矚《Η表面上形成磁頭接躅用之「構架J區* K於此 技蕤中用K克眼在碟Η旋轉開始及停止期間所產生之多餘 接觸睜摩榛及摩擦。此磁頭係藉磁碟控制器於適當次數下 移動至「CSS區域J 。維持此磁片之其餘表面的鏡面平滑 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2ΙΟΧ297公釐) 五、發明説明(>) A7 B7 經濟部中央揉準局員工消費合作社印製 性K進行高密度磁性資料記錄。 本技藝之實踐者已提出幾種有用之技術以構架金颶碟片 表面。例如,已知於此技藝中使用反覆雷射脈衡於一種金 靨表面上生成可再製之坑洞*用Κ應用在片狀金屬黏貼表 面、液《轉移表面Κ及金鼷資料儲存碟片表面上*如上述 共同申請專利申謫案中所討論者。不幸的是,此類技術尚 - 翁 ,_ 未能普遍有用於構架脆性非金廳碟片基板表面,例如於此 技藝中某些資料儲存碟片懕用用之玻璃基板。在此技轚中 金匾碟Η基板之研磨或雷射構架技術期間,雎性非金羼表 面*尤其是玻璃表面*可能會联重破裂或變形。因此*在 例如肥粒辨或玻璃等脆性表面技蓊中,W使用化學表面構 絮技術及其它圖案化沉稹技術較佳。 例如,於美國專利5,079,657及5,162,073中,麥可 (Michael)I.艾瑞諾夫U「onoff)等掲示一種選性化學 蝕刻技術,用以構架磁頭之飛起表面。艾瑞諾夫等'教示一 種降低靜摩擦之方法,可不需在記錄碟片上構架CSS區域 •但只限於特定磁頭表面材料為其缺點。 於美國專利4,985,301中,年則森沙奈(1'〇5114〇「1 Morizane)等揭示一種方法,用以製造一種記錄碟片用之 玻璃基板,包括使基板烴化學蝕刻處理,K於已结晶材料 及非晶質材料間造成不同之蝕刻速率。森沙奈(Mori zane )等教示其方法用以於基板内生成一個已構架化之CSS區 域,可择由後鐮沉積之記鏵材料匾而再製之。其他買踐者 曾建議使用昂貴之化學氣相沉積(cheBicaI Vapor ----------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸張尺度逍用中國國家操準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 300879 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(j) Deposition,下文中簡稱為CVD)製程在沉積磁性記錄膜 層之前•先於玻璃碟片表面上生成粗糙化之區域。 某些實踐者於印刷技藝中教示使用雷射振衝於例如碳化 鎢等糖性材料之表面上生成許多微小•坑洞。例如,於美國 專利5,143,578及5,236,763中,皮耶魯西(卩丨6「1^ Lut hi)揭示一種方法,用以於印_滾筒之液體轉移表面等 固體表面上刻出一連串連鑛微胞或坑洞。魯西建議其技術 可克脲一般用於難刻應用中之陶瓷及金鼸碳化物表面之表 面硬度*但並不考嫌亦不建議於朦性非金饜碟片表面之 CSS區域生成等特別問s上使用溶液•以克服磁顗之靜摩 擦0 其他的人亦曾考嫌使用雷射能量使具玻璃基板之資料記 錄碟片減少靜琛撺等特定之問題。例如,於日本專利 4-311814中所示。前田弘(Maeta Hiroshi)揭示一> 棰技藝 ,用K構架玻璃基板•而不會因自半透明基板之背·'面施加 雷射脈斷,欲使前表面破裂及散射出玻璃之微小顆粒,因 而路低表面之鲥久性。此雷射赈衝將感應得到熱衝擊*而 有效地使前表面破裂成微拥_粒,其後可能會部份退火至 前表面中,造成遴於降低而後再添加至前玻璃基板表面上 之磁性記錄_靨中之靜摩擦之粗梯化外形。弘並未討論其 方法是如何克眼將因未控制表面損傷所形成之問題β 於美國專利5,062,021及5,108,781中*瑞吉夫瑞堅( Rajiv Ran jan)等掲示一種方法,用以於磁性記錄碟片之 金醑表面上形成一連串間隔緊密之坑洞,可用於降低猙摩 -6 - 本紙乐尺度適用中國國家橾隼(CNS ) A4洗格(21〇><297公釐) ~^ ^ I n ~Γ 訂· {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 300879 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 五、發明説明(么) 捧。瑞堅等教示使用閃光燈激起之敎釔鋁深紅色( neodyeiium-yttriuB-a 丨 uainuB-garnet * 下文中簡稱為 Hd:YAG)雷射來生成必須之表面粗糙度。然而,他們既不 考慮亦不建議將其構架方法應用於玻璃碟片基板或其它匾 性非金靨表面上,而且他們的方法確實已普遍認為於腯性 非金靨材料上是不可行的。 » _ I. 此技S之實踐者通常避免使用雷射脈衝於生成腯性非金 嚅表面之外形的控制華化上,此乃因可能生成髮吠裂痕或 表面材料槙傷。此禰損傷,通常為顯微鏡才可観察到之大 小•時常可於例如玻璃等任何一種脆性非金國材料之雷射 熔化後親察得到,此乃因短暫雷射脤衝所造成之快速熔化 及再固化。此種快速熔化及再固化通常會於玻璃中造成多 餘之應力,而迫使表面產生裂痕而破裂。此種雷射脈衝於 龙文中被稱為使脆性非金饜表面材料造成超過「熱街擊臨 界點」之_力。的確*上述弘之專利係因其熱衝擊 '顯微破 裂現象而使其申謅專利之發明具有用處。低於此一臨界點 之雷射赈衝能量咸信於改變脆性非金屬表面之外形上是無 用的。 因此*於此技薛中很清楚的可知道,脆性非金颺表面構 5?技術是需要如本技驕中其它金鼷表面已知之雷射構架技 Si之可控制性及其它儍點的。本技g中相鬮之未解決問題 及:不足將可因於以下所述之本發明而淸楚地感货到及解決 之。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ,\s°* 本紙張尺度適用中國圉家橾準(CNS ) M規格(21〇x:297公釐) 經濟部中央樣準局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(〆) 發明摘述 太發明《著使用可κ具精確控制能量流最之單一雷射脈 衝於玻逋碟Η表面上生成高度可再製性凸塊之不經意發現 夾解決上述之問題。必須控制溁量Μ利用一個正好位於腯 性非金鼷材料之燒蝕熱衝擊滾量臨界點之下之相當窄小的 操作區域。潦量之控制係轉雷射波長、昵銜寬度及配合適 當凸塊間隔之重覆速率的選擇组合,Μ避免雷射照射區之 過應力化。本發明之窄小操作流量區域係限制於熱衝擊臨 界點Μ上,及材料之熔點或軟化點Κ下。 本發明之一個目的為於玻璃、陶瓷,或其它脆性非金靨 基板表面之所需CSS區域中形成許多微小凸塊,以改春此 種表面之睜摩擦、磨耗、摩擦或被覆性•或將此表面製備 成再製負版用之「黏貼表面」模具。本發明之此種方法的 镘點為可於一樺表面之選定區域上,以毈衝雷射控制形成 高可再製之微小凸塊。 太發明之此棰方法之另一個目的為避免脆性非金屬表面 因霄射賑衝加熱造成微碕裂之損傷。本發明之此種方法的 一個特色及優點為可精密地控制霣射脈衝流鼉在正好位於 發生此玻逋表而之fc種髮狀破裂及材料曄出之熱衝擊流霣 鹿界黏之下的適當區域内。此一特色係來自完全偶然發現 的一個燒蝕轉移能量流最臨界點(該「熱衝擊臨界點j ), 於此黏Μ下雷射!K衝能董潦鼉不是沒有效應產生*就是僅 僅生成一沒有損锔之凸塊。就具有加壓表面懕力之玻璃 碟Η而言,可將此種凸搜不绳意地突出幾乎整個表面上, n' m ^^^1 —^ϋ m^i l^n ν^ϋ n (^1 m m / 、T· (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS〉A4規格(210X297公釐) A7 B7 經濟部中夬標準局員工消费合作社印製 五、發明説明(/ ) 這對降低資料儲存碟片之靜摩擦而言非常有用。 太發明之前述及其它目的、特色及優點於參考下列專利 說明窨、申請專利輯圍及附蹰時,將爱得更明顯。 圈形簡述 為了更檄底了解本發明,現在參考如附顧舉例說明之下 列具轉實施例的詳细描述,其中: 鬮1為一種實例儀器之功能示意圃*用K構架根撺本發 明之方法之玻璃或其它腱性非金靨表面; 鬮2 A至2C顯示一種使用本發明之方法所獲得之典型表面 凸塊踺列及凸塊外形; 矚3 A至3D_示根據本發明之方法製成之玻璃基板之表面 «桀,具有4種不同流最大小,其中兩種可造成表面之微 破裂; ♦ 圖4為一種可旋轉磁性記錄碟片及磁頭之平面視圔,包 括在磁頭及記錄碟片之間接觸用之起停間接觸(CSS·)區域 ,.·~~ .一« —( > 鬭5為匾4之磁碟之放大截面視圖;Μ及 鬮6為直接存取儲存装置(Direct Access Storage Device,下文中簡稱DASD)之功能方塊躧,應用本發明之 樺架記錄確片之一儷具體實施例。 較佳具體實施例詳述 A發明之方法係來自不择意發琨可使用單一雷射睡衝於 玻SJ確片表面可控制地、不昂貴地及快速地製成高度可再 製微小凸塊,此雷射赈衡具有逋當之波長;脈衝寬度及配 • 9 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐〉 ^--- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消费合作杜印装 A7 B7___五、發明説明(7) 合碟Η表面之適當移酏的重覆速率。鬮1顯示一個遘於完 成本發明之方法之實例儀器的功能示意圖。此一揭示主要 是Μ於玻璃儲存碟片基板之構架*以降低靜摩擦,雖然圖 1之儀器亦可用Κ於玻璃、陶瓷或其它脆性非金羼基板表 面生成所需之顯案化區域,Κ降低靜摩擦、改菩磨耗性及 被覆性,或於Μ黏貼圖案之負版甶刻之其它表面的量產中 作為「黏貼表面j 。因此,可了解雖然本掲示係SS於資料 儲存之玻璃碟片的構架,但本發明之方法仍具有相當之懕 用性。 於圖]中,選擇脈衝雷射10,Κ使射入玻瑪碟片基板 12之照射的光學穿透度大於1〇奄微米且少於1奄米,以使 玻璃基板產生有效之「近表面」加熱。選擇脈衝寬度大於 1毫微米秒且少於100毫秒,以提供反應部分有效之加熱 ,而未因熱擴散(大於1〇〇奄秒)造成多餘之熱衝擊(低於 ί· 1毫擞秒)或體積加熱。選擇位於玻璃碟片12之兩假表面 14及16上之雷射最大功率及聚焦點尺寸,以產生足以於短 暫時間內提供媛和之表面軟化或熔化之「能量密度j或「 滾鼉J ,而未造成於較高流最值時自表面14及16所產生之 粉碎及材料唓出。 雷射10係由賑衝化高_率(radio frequency,下文中簡 稱rf)檄發之信號18所控制,Μ提供一種脈衝重覆頻率, 於與玻璀苒板12之適當移動及旋轉配合時,在每次雷射啟 動時於表面14及16之新目檷區内形成單一雷射脈衝動作。 此一要求對本發明之方法是必需的,此乃因其將於發生表 ϋ imfl ϋαϋ nn ϋ^ϋ ^—Bv— dm fluff · 、\f (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -10 - 本紙浪尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) ___B7___ 五、發明说明(步) 面破裂及材料嗶出之r熱衝擊臨界點j以下產生較寬之流 最之操作範圍。雖然較喜於此一「隔開」之目檷區要求内 進行,但是本發明之方法亦可用於重覆照射目標點,但於 熱衝擊潦量臨界點K下具有較窄之可接受的流量操作範圍 〇 現在開始描述圖1內儀器之揲作。利用馬達22於軸20上 旋轉礤Η基板12,而且整個馬達-軸心姐合物係藉f個有 用之移動装置(未顯示)徑向移動。在碟片旋轉及移動之同 時,Μ信號18晻加脈衝給雷射1〇,以產生输出脈銜24。輸 出脈衝24可藉可移動之耪面26分裂成至上方固定鏡面28或 下方固定鏑面30°脈衝24沿著上方路徑行進,撞擊鏡面 28反彈通過ZnSe聚焦透鏡32至固定鏡面34,並自此至玻通 基板確H12之上表面14。相同地,脈銜24沿著下方路徑搐 擊鏡面30反彈通過ZnSe聚焦透鏡36至鏑面38,且自此至碟 片12之下表面16。因此,藉著通當之鏡面26的機械尨制, 1 4及1 <5兩遲可同時構絮。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央樣準局貝工消费合作社印裝 、之,為能括最至 寸率長素之包流面 尺速波元上現量表 點動射要16發能璃 、 移雷主至地的玻 嫌片擇涸14意峭此 能碟選 I 面經陡-, 銜及亦之表不當上 賑 W , 法制因相 K 由率外方控乃個點 係速之明地此一界 架轉素發確-有臨 構旋要本精的具此 之片制。法要面於 16碟控熱方重表。 至、些加之很_ J 14度這面例是金小 面寘了表舉求非大 表衝除近所要性點 » 脈。之 1 一睹界 中、制述匾此多臨 1 垄控上面。許擊 圖速所得上鼉之衝 於新合拷著溁逋熱 脈姐只箱最披厂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210 X 297公釐) A7 B7 五、發明説明(,) 少會羥部分粉碎,而晡出材料。於熱衝擊流量臨界點以下 大部分之能最流量區域中,能量並不足κ使脆性非金鼷表 面產生任何外形上之改羑。本發明之方法利用正好位於熱 衝轚臨界點以下至今尚未知,且相當狹窄之流量區域,κ 於脆性非金鼷材料内生成有用之.表面構架。 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 1^1 In tin n ϋ· ,心々 n·^ m I— 一 * (請先閱讀背面之注意事項再填寫本f ) 圖2A顯示玻璃表面上之構架,盔得自發明者使用之製程 參數的實驗姐合,於玻璃記錄碟片基板上生成CSS區。國 2A之多俩凸塊將本發明之構架特徴化,每倨凸澳與其郯近 凸塊間隔所褥之分雠距雠D*。圖2B所示為沿切過圈2C所示 望一凸瑰之路徑鼉得之原子力顯微耪(Atomic Force Microseooe,下文中簡稱AFM)圖形。可看出鬮2B之圖形具 有一髑蜱乎等於β〇(90減30)微米之最大直徑〇β,及一儸高 於周圍基板表面平面幾乎100毫微米之最大高度hd。這些 凸埤都非常平滑,且理想上通合用於降低資料儲卑碟片 CSS區域内之靜g擦。即使凸塊具有1〇〇毫微米之变出高 度hd,在玻璃表面上亦未觀察到裂痕或粉碎現象。較低之 凸埤高度,亦邸h(4=[3 4〇]毫微米,更適合於css區域構 絮。這些較矮之凸塊可以較1〇〇奄微米凸塊所餺之雷射涑 最更低之能最製成。在這些較矮凸瑰之生成期間亦未產生 破裂或粉碎。 龙文中所揭示之下列製程參數為提供低於坡璃表面熱衝 18臨界點之能最滾最之可接受搡作範圍之一個實例: 雷射波長,λΡ = 10.6微米; 雷射哌衝寬度,t.p = 60微秒; -12 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 300879 A7 B7 經濟部中央標隼局貝工消费合作社印轚 五、發明説明(θ) 雷射蘄衝最大功率,p»»=】2瓦; 聚焦目標點直徑* 〇Ρ = 2〇〇微米; 昵衝重覆速率,F *> = 1 5 0 0赫茲; 碟片旋轉速度,ω=4ττ徑度/秒; 碟片移動速度,Vr = 200徴米/秒,以及 公稱徑向凸塊間隔,7 · = 100微米。 應可了解,雖然目檷區域點尺寸1^為200微米,{g〜是凸 瑰尺寸Dd則只有30微米。此一關係舉例說明本發明之雷射 構絮方法之「臨界點」特徵為生成比直徑點尺寸小得多之 _案尺寸。雖無有力之佐證,發明者假設不欲發生之「完 全突出J凹陷效果可能係由於.表面應力在當表面低於軟化 點冷卻時冷凍住,而後因雷射感應表面软化或雷射感應熱 除脹造成釋放所產生。 可藉太發明之此技藝產生自數奄微米至幾微米之凸塊高 度hd。太筲之發明者已展示遇,若任何一涸賑衝均-未超過 熟衝擊臨界潦量大小,則可經由相同目檷區域點之重覆瓶 斯而形成不含裂痕之較大凸塊高度。 國3A至3D舉例說明於玻璃表面中超遇熱銜擊流量臨界點 之效磨,亦屏示可接受流量搡作區之陡峭上限。鬮3/\至 3D中之每倜表面除了重覆速率(FP = 2000赫茲,而非1500赫 茲)反睬衝寬度之外,其餘之搡作參數均與上述圈2A所 討論者相同。由於重罹速率較大,故鬮3A至3D之凸塊間 隔較圖2A小。 圈3D所示為睬衔寛度等於60微秒所得之表面構架。圖 -13 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
J 乂· 訂 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 B7 五、發明说明() 3C所示為tP增加33%至80微秒所得之表面構架。圖3C中之 表面仍然看不到微裂痕及破片。然而*脈衝寬度1只要再 增加12.5¾:至90微秒,圖3B中即可看見明顯的微裂痕。這 個不杀望有的脆性非金靨表面之陡峭熱衡擊流量臨界特激 就是精密地控制本文中所描述構架方法之元素之動機。最 後,鬮3A所示即為本技藝中已知畲射構架脃性非金屬表面 之嚴重表面損傷及材料哦出。圖3A係由臌衝寬度tp = 150微 秒所生成*為圖3D所使用數值的250S:。 - 踴4及5所示為一個磁性儲存碟片40,具有一個鏡面外表 面42及磁頭46起停間接觸(CSS)循環用之構架環吠區44。 磁頭46係安裝在臂状物48上,再與將磁頭46定位於旋轉碟 片40徑向方向之装置(未顯示)連接。特定言之,無論確片 40開始旋轉或停止,磁頭46都位於構架環狀區域44上。 碟H40之鏡面外表面42(圈5)可蓋住幾層中間材料。例 如,玻璃基板12可先依照本發明之方法形成及構架〃,然後 再沉積後績之磁性記錄層50及保謂屬52。玻璃基板12之__ 絮表面的外形特色在每一層後缅沉積層表面上均可再製, 藉此於外表面42上CSS區域44内形成欲得之構架。或者, 可先沉積玻璃基板12上之任何一層,然後再依照本發明之 方法或此技莓中已知之任何其它有用方法構架之。因此, 「外表面」26在本文中係用於展示層12、50或52依_本發 明方法加K外形修改之表面。最後,對資料儲存碟片應用 而舌’保謂曙52之表面在具有構架之環狀區域44之CSS區 域内具有所需之構架。 - -14 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4说格(210X297公釐) ----------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 'π· A7 B7 五、發明説明(β) 圖6所示為直接存取儲存装置54(DASD)之功能方塊圈· 此装置像使用具本發明之玻璃基板12之構架碟片40。 DASD 54包括一涸控制單元56,將所有元素之操作輿旋轉 碟H40整合在一起。控制單元56提供一個馬達控制信號 58给驅動馬達60,經由軸心62旋轉碟片40 °控制單元56亦 經由位置控制埭路66操作磁頭致動器64°致動器64係透遇 兩飼具彈性構成分子68及70分別與兩涸磁頭72及74機械耦 合。磁頭72係放置成可於碟片40之上表面上譁出及寫入 資料,而且磁頭74'亦類似地放置成可於旋轉碟片40之下表 面7 β上iS出及寫入資料。磁頭7 2及7 4係透過讀出/寫入頻 道78而與控制星元56耦合,藉此將歟位資料傳送至旋轉碟 H40或自其傳入。 很明顯地,熟諸此技藝者在參考這些教示之後將可輕易 進行本發明之其它具艚實拖例及修改。因此’本發.明將不 僅限於下洲申請專利範圍,當參考上述專利說明害'及附圖 之後,将包栝所有此類具賴蓠施例及修改。 ------------ (請先閲讀背面之注意^項再填寫本頁) 經濟部中失樣準局貝工消費合作社印裝 -15 - 本紙張尺度遙用中固國家標準(CNS ) A4規格(210x297公釐)

Claims (1)

  1. 2 月 ° 8 8 8 8 ABCD 圍 範 法滾 方界 之臨 面此 表於 性, 脆小 之大 成量 構流 所界 璃臨 玻搫 性衝 脆熱 由個 要 一 主有 架具 構璃 W玻 用種 種此 個上 每置 -E 位j 域開一 區隔. 標間 目個 面每 表該 性於 XB 1UI AST 該.射 變輻 改該 以 , , 形 上外 置之 位置 之位 開開 隔隔 間間 個該 臨 擊 衡 熱 該 之 璃 玻- 性 脆 該 於 低 係 α f 量 流 該 P f 黃 流 。 有點 具界 1 為 含寸 包尺 能徑 射直 輻大 該最 中及 其J ’ 間 法時 方過 之經 項有 1 具 第 , 圍E .範衝 利脈 專最 請能 由射 0 雷 根種 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -i 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 D „之聚焦點,其中選擇E P、t P及D P W限制該流量f P值低 於該熟衝擊臨界點,藉此於每個目榑區域形成一個凸遒 ,該每個凸塊具有最大直徑尺寸DP及於該脆性表面凸出 昜大高度。 3. 根撺审請專利範閜第2項之方法,其中該脈if筲過時間 t D係位於[1 0 - 9 , 1 0 - Μ秒區間内,而且該最大點直徑尺 寸DP大於Dd係位於[1, 500]微米區間中。 4. 根撺申請專利範圍第3項之方法,其中該雷射能量脈衝 之液長為人《» ,可使該脆性玻璃表面内該雷射能量脈衝 之光學穿透最係位於[1〇-8, 10_3]米區間内。 5. 根據申請專利範圍第4項之方法*其中該最大凸塊高度 h d偽位於[1,1 0 0 0 ]毫微米區間内。 6. 根據申請專利範圍第4項之方法*其中該脆性玻璃表面 強列地吸收第一涸鏡面區域内之雷射能量,而且波長 -16 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) ( 210X297公釐)
    申請專利範圍 A8 B8 CS 係位於第一個鏡面區域内,而且該雷射赈衝係由二 氧化碳(co2)雷射所產生。 1'根撺申請專利範圍第2項之方法,其中每僩該間隔開位 置與最鄰近之該間隔開位置間隔De 2 Dd之分離距離。 8'根據由讅專利範圍第2項之方法,其中每個該間隔開位 置與其最鄰近之該間隔開位置間隔分離距離匕,基本上 小於該最大直徑尺寸Dd,藉此使數涠該凸塊與其郯近凸 塊-合併’ Μ於該膀性表面上形成幾乎連績之脊狀物。 9·—種用W製造一種具脃性玻.通表面之資料記錄碟片基板 之方法,此表面具有一個熱衝擊臨界流鼉大小,大於此 流量該脆性玻璃將破碎,該方法包含下列步驟: 概光該雎性玻璃表面至預定平滑性; 選擇性地將輻射能集中在該脆性玻璃表面之處理區域 ·«««► 上的數偁間隔開位置上,以改變每個該間隔网位置上該 晩性玻璃表面之外形,其中該每個間隔開位置.上之該輻 射能滾量f Ρ係限制在該熱衝擊臨界點;Κ及 在該脆性玻璃表面上沉積一層磁性資料記鏵材料膜, ___ Μ生成一囑資料記錄囑。 10,根撺由請專利範圍第9項之方法,其中該賑衝烴過時間 “煤位於[1〇-«, 1〇-1]秒區間内,而且該最大點直徑尺 寸DP大於Dh係位於[1, 500]微米區間内。 11.根撺申請專利範圍第10項之方法,其中該雷射能量脈衝 之波長為λΡ ,可使該脆性玻璃表面内該雷射能量脈衝 之光學穿透量係位於[1〇-e,i ο-3]米區間内。 -17 - 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) ---------{衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂·· 經濟部中央橾率局貝工消費合作杜_製 、申請專利範圍 <請先閲讀背面之注意事項存填寫本寅) 12_根埔申請專利範圍第11項之方法,其中該最大凸塊高度 h係位於[1,1000]毫微米區間内。 13. 根據申請專利範圍第9項之方法,其中每個該間隔開位 置係放置成與其最鄰近之該間隔開位置間隔一個最小之 分離距雛^。 14. 根據申謓專利範圍第9項之方法,其中每個該間隔開位 置與其最鄰近之該間隔開位置間隔一個分離距雔D·,基 太上小於該最大直徑尺寸Dd,籍此數個.該凸塊與其鄰近 凸塊合併Μ於該脆性表面形.成幾乎連續之脊狀物。 15·—種磁性資料儲存碟片,具有檁稱表面平板之外表面, 用Κ儲存可磁性讖取之資料,該碟Η包含: ~層玻璃基板材料暦,具有基本上平坦之基板表面; W及 —層可磁化瞑層,位於該玻璃基板表面•具^有幾乎均 勻厚度及幾乎平坦之記錄表面, , 其中該外表面包括數個間隔開凸塊,每個該凸塊具有 最大之直徑尺寸Dd*並自此類平坦記錄表面升起最大高 度 經濟部中央揉隼局員工消費合作社印製 1ft·根埔由請專利範圍第15項之磁性資料儲存碟Η,其中該 最大直徑尺寸Dd<D·係位於[1 , 200]微米區間内•而且 該凸塊高度h係位於[1,1000]毫微米區間内。 17·椐撺由謫專利範圍第16項之磁性資料儲存碟Η,其中該 數個凸塊悔與彼此間隔一個最小分離距雔D»>Dd ,係位 於[1 . 5 0 0 1徵米區間内。 -18 - 本紙張尺度逍用中國國家標準(CNS } A4规格(210X297公釐) A8 BS C8 D8 ___ ___ '申請專利範圍 18.根埔申請專利範圍第15項之磁性資料儲存碟片,其中該 數饀凸塊係與彼此間隔一個最小分離距難De>D^ ’係位 於U , 500]微米區間内。 根據申謫專利範圍第〗5項之磁性資料儲存碟Η ’其中每 俩該間隔開位置係與其最鄰近之該間隔開位窠間隔—個 分雜距離D·,基本上小於該最大直徑尺寸Dd,t此使數 個該凸塊與其郯近凸塊合併K於該脆性表面形成幾乎連 _之脊狀物。 20. —種直接存取儲存元件(DAS.D),用K黷取及餘存資料’ 該DASD包含: 一磁性記錄碟Η,具有標稱表面平板之外表窗’ 儲存可磁性譎取之資料;Μ及 —磁頭及装置,用Μ支撐該磁頭於選定之方向’ &用〜 W控制相對於該碟片徑向方向之移動, 其中該外表面包括數個間隔開凸塊,每涸該β塊具有 昜大之直徑尺寸Da,並自此類平坦記錄表面升钱®大高 度hd。 經濟部中央標隼局貝工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 21. 根撺申請專利範圍第20項之DASD,其中該最大直徑尺寸 D“D,係位於[1 , 200]微米區間内,而且該凸塊高度 he皞位於[〗,1〇〇〇]奄微米區間内。 22. 根撺申請專利範圍第21項之D AS D,其中該數涠凸塊係與 彼此間隔一個最小分離距離D«>Dd ,係位於[1, 500]徴 米區間内。 23. 根撺申請專利範圍第20項之DASD,其中該數涸凸塊係與 -19 - 本紙張尺度遑用中國國家標準(CNS ) Μ規格(210X297公釐) A8 B8300879 dI 六、申請專利範圍 離 距 離 分 \ 最 個 1 ο 開内 分間 此區 彼米 於 位 微 位 ’ 開D* 隔離 間距 該離 個分 每個 中一 其隔 , 間 SD置 DA位 之開 項隔 20間 第該 圍之 範近 利鄭 專最 請其 申與 撺係 根置 其物 與狀 塊脊 凸之 該績 個連 數乎 使幾 此成 藉形 , 上 Ddffi 寸表 尺性 徑脆 直該 大於 最 Μ 該併 於合 \ mat 上凸 本近 基郯 ---------{农— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
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