TW300879B - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- TW300879B TW300879B TW083106356A TW83106356A TW300879B TW 300879 B TW300879 B TW 300879B TW 083106356 A TW083106356 A TW 083106356A TW 83106356 A TW83106356 A TW 83106356A TW 300879 B TW300879 B TW 300879B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- glass
- item
- brittle
- bumps
- patent application
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8408—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers protecting the magnetic layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/18—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring using absorbing layers on the workpiece, e.g. for marking or protecting purposes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
- B23K26/355—Texturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/40—Removing material taking account of the properties of the material involved
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/0025—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by a laser beam
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/16—Composite materials, e.g. fibre reinforced
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/50—Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26
- B23K2103/52—Ceramics
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Disintegrating Or Milling (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
A7 _B7___ 五、發明説明(/ ) 相闢申謫案之參考 本揭示係因共同發明及主題而與於本文同日申請之共同 由謫專利申請案第08/150,525¾相瞄,名為「使用二極髓 激起雷射於控制構架碟片表面之製程(Procedure Employing A Diode-Puaped Laser for Control lably T e x t u r i n g A D i s k S u r f a c e )」(查讓人權案第 S A 9 - 9 3 - -—m 005) »此文M參考方式完全併入本文中。 發明背最 1. 發明範圍 太發明係翮於一些製程,用K構架資料儲存碟片基板· 而且特定言之係闞於脆性非金羼表面用之高度可控制雷射 構絮方法,例如資料儲存碟Η用之玻璃基板。 2. 相關技藝描述 最近之磁碟櫬設計係使用一般稱為起停間接觸(
Contact Start-Stop,下文中簡稱CSS)糸统*其中"售碟片 固定時*磁頭會輿磁碟表面接觸。當碟片開始旋轉時•磁 頭會沿表面滑動,最後由於在碟片表面滾動之層狀氣體, 磁頭會自表面飛起而完全舉起。 經濟部中央樣準局員工消费合作社印製 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 於此技藝中較佳係使用平滑、銪面吠記錄表面· K允許 磁頭可儘可能地接近、位於此碟片表面上。在CSS期間* 於金矚《Η表面上形成磁頭接躅用之「構架J區* K於此 技蕤中用K克眼在碟Η旋轉開始及停止期間所產生之多餘 接觸睜摩榛及摩擦。此磁頭係藉磁碟控制器於適當次數下 移動至「CSS區域J 。維持此磁片之其餘表面的鏡面平滑 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2ΙΟΧ297公釐) 五、發明説明(>) A7 B7 經濟部中央揉準局員工消費合作社印製 性K進行高密度磁性資料記錄。 本技藝之實踐者已提出幾種有用之技術以構架金颶碟片 表面。例如,已知於此技藝中使用反覆雷射脈衡於一種金 靨表面上生成可再製之坑洞*用Κ應用在片狀金屬黏貼表 面、液《轉移表面Κ及金鼷資料儲存碟片表面上*如上述 共同申請專利申謫案中所討論者。不幸的是,此類技術尚 - 翁 ,_ 未能普遍有用於構架脆性非金廳碟片基板表面,例如於此 技藝中某些資料儲存碟片懕用用之玻璃基板。在此技轚中 金匾碟Η基板之研磨或雷射構架技術期間,雎性非金羼表 面*尤其是玻璃表面*可能會联重破裂或變形。因此*在 例如肥粒辨或玻璃等脆性表面技蓊中,W使用化學表面構 絮技術及其它圖案化沉稹技術較佳。 例如,於美國專利5,079,657及5,162,073中,麥可 (Michael)I.艾瑞諾夫U「onoff)等掲示一種選性化學 蝕刻技術,用以構架磁頭之飛起表面。艾瑞諾夫等'教示一 種降低靜摩擦之方法,可不需在記錄碟片上構架CSS區域 •但只限於特定磁頭表面材料為其缺點。 於美國專利4,985,301中,年則森沙奈(1'〇5114〇「1 Morizane)等揭示一種方法,用以製造一種記錄碟片用之 玻璃基板,包括使基板烴化學蝕刻處理,K於已结晶材料 及非晶質材料間造成不同之蝕刻速率。森沙奈(Mori zane )等教示其方法用以於基板内生成一個已構架化之CSS區 域,可择由後鐮沉積之記鏵材料匾而再製之。其他買踐者 曾建議使用昂貴之化學氣相沉積(cheBicaI Vapor ----------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸張尺度逍用中國國家操準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 300879 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(j) Deposition,下文中簡稱為CVD)製程在沉積磁性記錄膜 層之前•先於玻璃碟片表面上生成粗糙化之區域。 某些實踐者於印刷技藝中教示使用雷射振衝於例如碳化 鎢等糖性材料之表面上生成許多微小•坑洞。例如,於美國 專利5,143,578及5,236,763中,皮耶魯西(卩丨6「1^ Lut hi)揭示一種方法,用以於印_滾筒之液體轉移表面等 固體表面上刻出一連串連鑛微胞或坑洞。魯西建議其技術 可克脲一般用於難刻應用中之陶瓷及金鼸碳化物表面之表 面硬度*但並不考嫌亦不建議於朦性非金饜碟片表面之 CSS區域生成等特別問s上使用溶液•以克服磁顗之靜摩 擦0 其他的人亦曾考嫌使用雷射能量使具玻璃基板之資料記 錄碟片減少靜琛撺等特定之問題。例如,於日本專利 4-311814中所示。前田弘(Maeta Hiroshi)揭示一> 棰技藝 ,用K構架玻璃基板•而不會因自半透明基板之背·'面施加 雷射脈斷,欲使前表面破裂及散射出玻璃之微小顆粒,因 而路低表面之鲥久性。此雷射赈衝將感應得到熱衝擊*而 有效地使前表面破裂成微拥_粒,其後可能會部份退火至 前表面中,造成遴於降低而後再添加至前玻璃基板表面上 之磁性記錄_靨中之靜摩擦之粗梯化外形。弘並未討論其 方法是如何克眼將因未控制表面損傷所形成之問題β 於美國專利5,062,021及5,108,781中*瑞吉夫瑞堅( Rajiv Ran jan)等掲示一種方法,用以於磁性記錄碟片之 金醑表面上形成一連串間隔緊密之坑洞,可用於降低猙摩 -6 - 本紙乐尺度適用中國國家橾隼(CNS ) A4洗格(21〇><297公釐) ~^ ^ I n ~Γ 訂· {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 300879 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 五、發明説明(么) 捧。瑞堅等教示使用閃光燈激起之敎釔鋁深紅色( neodyeiium-yttriuB-a 丨 uainuB-garnet * 下文中簡稱為 Hd:YAG)雷射來生成必須之表面粗糙度。然而,他們既不 考慮亦不建議將其構架方法應用於玻璃碟片基板或其它匾 性非金靨表面上,而且他們的方法確實已普遍認為於腯性 非金靨材料上是不可行的。 » _ I. 此技S之實踐者通常避免使用雷射脈衝於生成腯性非金 嚅表面之外形的控制華化上,此乃因可能生成髮吠裂痕或 表面材料槙傷。此禰損傷,通常為顯微鏡才可観察到之大 小•時常可於例如玻璃等任何一種脆性非金國材料之雷射 熔化後親察得到,此乃因短暫雷射脤衝所造成之快速熔化 及再固化。此種快速熔化及再固化通常會於玻璃中造成多 餘之應力,而迫使表面產生裂痕而破裂。此種雷射脈衝於 龙文中被稱為使脆性非金饜表面材料造成超過「熱街擊臨 界點」之_力。的確*上述弘之專利係因其熱衝擊 '顯微破 裂現象而使其申謅專利之發明具有用處。低於此一臨界點 之雷射赈衝能量咸信於改變脆性非金屬表面之外形上是無 用的。 因此*於此技薛中很清楚的可知道,脆性非金颺表面構 5?技術是需要如本技驕中其它金鼷表面已知之雷射構架技 Si之可控制性及其它儍點的。本技g中相鬮之未解決問題 及:不足將可因於以下所述之本發明而淸楚地感货到及解決 之。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ,\s°* 本紙張尺度適用中國圉家橾準(CNS ) M規格(21〇x:297公釐) 經濟部中央樣準局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(〆) 發明摘述 太發明《著使用可κ具精確控制能量流最之單一雷射脈 衝於玻逋碟Η表面上生成高度可再製性凸塊之不經意發現 夾解決上述之問題。必須控制溁量Μ利用一個正好位於腯 性非金鼷材料之燒蝕熱衝擊滾量臨界點之下之相當窄小的 操作區域。潦量之控制係轉雷射波長、昵銜寬度及配合適 當凸塊間隔之重覆速率的選擇组合,Μ避免雷射照射區之 過應力化。本發明之窄小操作流量區域係限制於熱衝擊臨 界點Μ上,及材料之熔點或軟化點Κ下。 本發明之一個目的為於玻璃、陶瓷,或其它脆性非金靨 基板表面之所需CSS區域中形成許多微小凸塊,以改春此 種表面之睜摩擦、磨耗、摩擦或被覆性•或將此表面製備 成再製負版用之「黏貼表面」模具。本發明之此種方法的 镘點為可於一樺表面之選定區域上,以毈衝雷射控制形成 高可再製之微小凸塊。 太發明之此棰方法之另一個目的為避免脆性非金屬表面 因霄射賑衝加熱造成微碕裂之損傷。本發明之此種方法的 一個特色及優點為可精密地控制霣射脈衝流鼉在正好位於 發生此玻逋表而之fc種髮狀破裂及材料曄出之熱衝擊流霣 鹿界黏之下的適當區域内。此一特色係來自完全偶然發現 的一個燒蝕轉移能量流最臨界點(該「熱衝擊臨界點j ), 於此黏Μ下雷射!K衝能董潦鼉不是沒有效應產生*就是僅 僅生成一沒有損锔之凸塊。就具有加壓表面懕力之玻璃 碟Η而言,可將此種凸搜不绳意地突出幾乎整個表面上, n' m ^^^1 —^ϋ m^i l^n ν^ϋ n (^1 m m / 、T· (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS〉A4規格(210X297公釐) A7 B7 經濟部中夬標準局員工消费合作社印製 五、發明説明(/ ) 這對降低資料儲存碟片之靜摩擦而言非常有用。 太發明之前述及其它目的、特色及優點於參考下列專利 說明窨、申請專利輯圍及附蹰時,將爱得更明顯。 圈形簡述 為了更檄底了解本發明,現在參考如附顧舉例說明之下 列具轉實施例的詳细描述,其中: 鬮1為一種實例儀器之功能示意圃*用K構架根撺本發 明之方法之玻璃或其它腱性非金靨表面; 鬮2 A至2C顯示一種使用本發明之方法所獲得之典型表面 凸塊踺列及凸塊外形; 矚3 A至3D_示根據本發明之方法製成之玻璃基板之表面 «桀,具有4種不同流最大小,其中兩種可造成表面之微 破裂; ♦ 圖4為一種可旋轉磁性記錄碟片及磁頭之平面視圔,包 括在磁頭及記錄碟片之間接觸用之起停間接觸(CSS·)區域 ,.·~~ .一« —( > 鬭5為匾4之磁碟之放大截面視圖;Μ及 鬮6為直接存取儲存装置(Direct Access Storage Device,下文中簡稱DASD)之功能方塊躧,應用本發明之 樺架記錄確片之一儷具體實施例。 較佳具體實施例詳述 A發明之方法係來自不择意發琨可使用單一雷射睡衝於 玻SJ確片表面可控制地、不昂貴地及快速地製成高度可再 製微小凸塊,此雷射赈衡具有逋當之波長;脈衝寬度及配 • 9 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐〉 ^--- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消费合作杜印装 A7 B7___五、發明説明(7) 合碟Η表面之適當移酏的重覆速率。鬮1顯示一個遘於完 成本發明之方法之實例儀器的功能示意圖。此一揭示主要 是Μ於玻璃儲存碟片基板之構架*以降低靜摩擦,雖然圖 1之儀器亦可用Κ於玻璃、陶瓷或其它脆性非金羼基板表 面生成所需之顯案化區域,Κ降低靜摩擦、改菩磨耗性及 被覆性,或於Μ黏貼圖案之負版甶刻之其它表面的量產中 作為「黏貼表面j 。因此,可了解雖然本掲示係SS於資料 儲存之玻璃碟片的構架,但本發明之方法仍具有相當之懕 用性。 於圖]中,選擇脈衝雷射10,Κ使射入玻瑪碟片基板 12之照射的光學穿透度大於1〇奄微米且少於1奄米,以使 玻璃基板產生有效之「近表面」加熱。選擇脈衝寬度大於 1毫微米秒且少於100毫秒,以提供反應部分有效之加熱 ,而未因熱擴散(大於1〇〇奄秒)造成多餘之熱衝擊(低於 ί· 1毫擞秒)或體積加熱。選擇位於玻璃碟片12之兩假表面 14及16上之雷射最大功率及聚焦點尺寸,以產生足以於短 暫時間內提供媛和之表面軟化或熔化之「能量密度j或「 滾鼉J ,而未造成於較高流最值時自表面14及16所產生之 粉碎及材料唓出。 雷射10係由賑衝化高_率(radio frequency,下文中簡 稱rf)檄發之信號18所控制,Μ提供一種脈衝重覆頻率, 於與玻璀苒板12之適當移動及旋轉配合時,在每次雷射啟 動時於表面14及16之新目檷區内形成單一雷射脈衝動作。 此一要求對本發明之方法是必需的,此乃因其將於發生表 ϋ imfl ϋαϋ nn ϋ^ϋ ^—Bv— dm fluff · 、\f (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -10 - 本紙浪尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) ___B7___ 五、發明说明(步) 面破裂及材料嗶出之r熱衝擊臨界點j以下產生較寬之流 最之操作範圍。雖然較喜於此一「隔開」之目檷區要求内 進行,但是本發明之方法亦可用於重覆照射目標點,但於 熱衝擊潦量臨界點K下具有較窄之可接受的流量操作範圍 〇 現在開始描述圖1內儀器之揲作。利用馬達22於軸20上 旋轉礤Η基板12,而且整個馬達-軸心姐合物係藉f個有 用之移動装置(未顯示)徑向移動。在碟片旋轉及移動之同 時,Μ信號18晻加脈衝給雷射1〇,以產生输出脈銜24。輸 出脈衝24可藉可移動之耪面26分裂成至上方固定鏡面28或 下方固定鏑面30°脈衝24沿著上方路徑行進,撞擊鏡面 28反彈通過ZnSe聚焦透鏡32至固定鏡面34,並自此至玻通 基板確H12之上表面14。相同地,脈銜24沿著下方路徑搐 擊鏡面30反彈通過ZnSe聚焦透鏡36至鏑面38,且自此至碟 片12之下表面16。因此,藉著通當之鏡面26的機械尨制, 1 4及1 <5兩遲可同時構絮。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央樣準局貝工消费合作社印裝 、之,為能括最至 寸率長素之包流面 尺速波元上現量表 點動射要16發能璃 、 移雷主至地的玻 嫌片擇涸14意峭此 能碟選 I 面經陡-, 銜及亦之表不當上 賑 W , 法制因相 K 由率外方控乃個點 係速之明地此一界 架轉素發確-有臨 構旋要本精的具此 之片制。法要面於 16碟控熱方重表。 至、些加之很_ J 14度這面例是金小 面寘了表舉求非大 表衝除近所要性點 » 脈。之 1 一睹界 中、制述匾此多臨 1 垄控上面。許擊 圖速所得上鼉之衝 於新合拷著溁逋熱 脈姐只箱最披厂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210 X 297公釐) A7 B7 五、發明説明(,) 少會羥部分粉碎,而晡出材料。於熱衝擊流量臨界點以下 大部分之能最流量區域中,能量並不足κ使脆性非金鼷表 面產生任何外形上之改羑。本發明之方法利用正好位於熱 衝轚臨界點以下至今尚未知,且相當狹窄之流量區域,κ 於脆性非金鼷材料内生成有用之.表面構架。 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 1^1 In tin n ϋ· ,心々 n·^ m I— 一 * (請先閱讀背面之注意事項再填寫本f ) 圖2A顯示玻璃表面上之構架,盔得自發明者使用之製程 參數的實驗姐合,於玻璃記錄碟片基板上生成CSS區。國 2A之多俩凸塊將本發明之構架特徴化,每倨凸澳與其郯近 凸塊間隔所褥之分雠距雠D*。圖2B所示為沿切過圈2C所示 望一凸瑰之路徑鼉得之原子力顯微耪(Atomic Force Microseooe,下文中簡稱AFM)圖形。可看出鬮2B之圖形具 有一髑蜱乎等於β〇(90減30)微米之最大直徑〇β,及一儸高 於周圍基板表面平面幾乎100毫微米之最大高度hd。這些 凸埤都非常平滑,且理想上通合用於降低資料儲卑碟片 CSS區域内之靜g擦。即使凸塊具有1〇〇毫微米之变出高 度hd,在玻璃表面上亦未觀察到裂痕或粉碎現象。較低之 凸埤高度,亦邸h(4=[3 4〇]毫微米,更適合於css區域構 絮。這些較矮之凸塊可以較1〇〇奄微米凸塊所餺之雷射涑 最更低之能最製成。在這些較矮凸瑰之生成期間亦未產生 破裂或粉碎。 龙文中所揭示之下列製程參數為提供低於坡璃表面熱衝 18臨界點之能最滾最之可接受搡作範圍之一個實例: 雷射波長,λΡ = 10.6微米; 雷射哌衝寬度,t.p = 60微秒; -12 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 300879 A7 B7 經濟部中央標隼局貝工消费合作社印轚 五、發明説明(θ) 雷射蘄衝最大功率,p»»=】2瓦; 聚焦目標點直徑* 〇Ρ = 2〇〇微米; 昵衝重覆速率,F *> = 1 5 0 0赫茲; 碟片旋轉速度,ω=4ττ徑度/秒; 碟片移動速度,Vr = 200徴米/秒,以及 公稱徑向凸塊間隔,7 · = 100微米。 應可了解,雖然目檷區域點尺寸1^為200微米,{g〜是凸 瑰尺寸Dd則只有30微米。此一關係舉例說明本發明之雷射 構絮方法之「臨界點」特徵為生成比直徑點尺寸小得多之 _案尺寸。雖無有力之佐證,發明者假設不欲發生之「完 全突出J凹陷效果可能係由於.表面應力在當表面低於軟化 點冷卻時冷凍住,而後因雷射感應表面软化或雷射感應熱 除脹造成釋放所產生。 可藉太發明之此技藝產生自數奄微米至幾微米之凸塊高 度hd。太筲之發明者已展示遇,若任何一涸賑衝均-未超過 熟衝擊臨界潦量大小,則可經由相同目檷區域點之重覆瓶 斯而形成不含裂痕之較大凸塊高度。 國3A至3D舉例說明於玻璃表面中超遇熱銜擊流量臨界點 之效磨,亦屏示可接受流量搡作區之陡峭上限。鬮3/\至 3D中之每倜表面除了重覆速率(FP = 2000赫茲,而非1500赫 茲)反睬衝寬度之外,其餘之搡作參數均與上述圈2A所 討論者相同。由於重罹速率較大,故鬮3A至3D之凸塊間 隔較圖2A小。 圈3D所示為睬衔寛度等於60微秒所得之表面構架。圖 -13 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
J 乂· 訂 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 B7 五、發明说明() 3C所示為tP增加33%至80微秒所得之表面構架。圖3C中之 表面仍然看不到微裂痕及破片。然而*脈衝寬度1只要再 增加12.5¾:至90微秒,圖3B中即可看見明顯的微裂痕。這 個不杀望有的脆性非金靨表面之陡峭熱衡擊流量臨界特激 就是精密地控制本文中所描述構架方法之元素之動機。最 後,鬮3A所示即為本技藝中已知畲射構架脃性非金屬表面 之嚴重表面損傷及材料哦出。圖3A係由臌衝寬度tp = 150微 秒所生成*為圖3D所使用數值的250S:。 - 踴4及5所示為一個磁性儲存碟片40,具有一個鏡面外表 面42及磁頭46起停間接觸(CSS)循環用之構架環吠區44。 磁頭46係安裝在臂状物48上,再與將磁頭46定位於旋轉碟 片40徑向方向之装置(未顯示)連接。特定言之,無論確片 40開始旋轉或停止,磁頭46都位於構架環狀區域44上。 碟H40之鏡面外表面42(圈5)可蓋住幾層中間材料。例 如,玻璃基板12可先依照本發明之方法形成及構架〃,然後 再沉積後績之磁性記錄層50及保謂屬52。玻璃基板12之__ 絮表面的外形特色在每一層後缅沉積層表面上均可再製, 藉此於外表面42上CSS區域44内形成欲得之構架。或者, 可先沉積玻璃基板12上之任何一層,然後再依照本發明之 方法或此技莓中已知之任何其它有用方法構架之。因此, 「外表面」26在本文中係用於展示層12、50或52依_本發 明方法加K外形修改之表面。最後,對資料儲存碟片應用 而舌’保謂曙52之表面在具有構架之環狀區域44之CSS區 域内具有所需之構架。 - -14 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4说格(210X297公釐) ----------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 'π· A7 B7 五、發明説明(β) 圖6所示為直接存取儲存装置54(DASD)之功能方塊圈· 此装置像使用具本發明之玻璃基板12之構架碟片40。 DASD 54包括一涸控制單元56,將所有元素之操作輿旋轉 碟H40整合在一起。控制單元56提供一個馬達控制信號 58给驅動馬達60,經由軸心62旋轉碟片40 °控制單元56亦 經由位置控制埭路66操作磁頭致動器64°致動器64係透遇 兩飼具彈性構成分子68及70分別與兩涸磁頭72及74機械耦 合。磁頭72係放置成可於碟片40之上表面上譁出及寫入 資料,而且磁頭74'亦類似地放置成可於旋轉碟片40之下表 面7 β上iS出及寫入資料。磁頭7 2及7 4係透過讀出/寫入頻 道78而與控制星元56耦合,藉此將歟位資料傳送至旋轉碟 H40或自其傳入。 很明顯地,熟諸此技藝者在參考這些教示之後將可輕易 進行本發明之其它具艚實拖例及修改。因此’本發.明將不 僅限於下洲申請專利範圍,當參考上述專利說明害'及附圖 之後,将包栝所有此類具賴蓠施例及修改。 ------------ (請先閲讀背面之注意^項再填寫本頁) 經濟部中失樣準局貝工消費合作社印裝 -15 - 本紙張尺度遙用中固國家標準(CNS ) A4規格(210x297公釐)
Claims (1)
- 2 月 ° 8 8 8 8 ABCD 圍 範 法滾 方界 之臨 面此 表於 性, 脆小 之大 成量 構流 所界 璃臨 玻搫 性衝 脆熱 由個 要 一 主有 架具 構璃 W玻 用種 種此 個上 每置 -E 位j 域開一 區隔. 標間 目個 面每 表該 性於 XB 1UI AST 該.射 變輻 改該 以 , , 形 上外 置之 位置 之位 開開 隔隔 間間 個該 臨 擊 衡 熱 該 之 璃 玻- 性 脆 該 於 低 係 α f 量 流 該 P f 黃 流 。 有點 具界 1 為 含寸 包尺 能徑 射直 輻大 該最 中及 其J ’ 間 法時 方過 之經 項有 1 具 第 , 圍E .範衝 利脈 專最 請能 由射 0 雷 根種 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -i 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 D „之聚焦點,其中選擇E P、t P及D P W限制該流量f P值低 於該熟衝擊臨界點,藉此於每個目榑區域形成一個凸遒 ,該每個凸塊具有最大直徑尺寸DP及於該脆性表面凸出 昜大高度。 3. 根撺审請專利範閜第2項之方法,其中該脈if筲過時間 t D係位於[1 0 - 9 , 1 0 - Μ秒區間内,而且該最大點直徑尺 寸DP大於Dd係位於[1, 500]微米區間中。 4. 根撺申請專利範圍第3項之方法,其中該雷射能量脈衝 之液長為人《» ,可使該脆性玻璃表面内該雷射能量脈衝 之光學穿透最係位於[1〇-8, 10_3]米區間内。 5. 根據申請專利範圍第4項之方法*其中該最大凸塊高度 h d偽位於[1,1 0 0 0 ]毫微米區間内。 6. 根據申請專利範圍第4項之方法*其中該脆性玻璃表面 強列地吸收第一涸鏡面區域内之雷射能量,而且波長 -16 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) ( 210X297公釐)申請專利範圍 A8 B8 CS 係位於第一個鏡面區域内,而且該雷射赈衝係由二 氧化碳(co2)雷射所產生。 1'根撺申請專利範圍第2項之方法,其中每僩該間隔開位 置與最鄰近之該間隔開位置間隔De 2 Dd之分離距離。 8'根據由讅專利範圍第2項之方法,其中每個該間隔開位 置與其最鄰近之該間隔開位置間隔分離距離匕,基本上 小於該最大直徑尺寸Dd,藉此使數涠該凸塊與其郯近凸 塊-合併’ Μ於該膀性表面上形成幾乎連績之脊狀物。 9·—種用W製造一種具脃性玻.通表面之資料記錄碟片基板 之方法,此表面具有一個熱衝擊臨界流鼉大小,大於此 流量該脆性玻璃將破碎,該方法包含下列步驟: 概光該雎性玻璃表面至預定平滑性; 選擇性地將輻射能集中在該脆性玻璃表面之處理區域 ·«««► 上的數偁間隔開位置上,以改變每個該間隔网位置上該 晩性玻璃表面之外形,其中該每個間隔開位置.上之該輻 射能滾量f Ρ係限制在該熱衝擊臨界點;Κ及 在該脆性玻璃表面上沉積一層磁性資料記鏵材料膜, ___ Μ生成一囑資料記錄囑。 10,根撺由請專利範圍第9項之方法,其中該賑衝烴過時間 “煤位於[1〇-«, 1〇-1]秒區間内,而且該最大點直徑尺 寸DP大於Dh係位於[1, 500]微米區間内。 11.根撺申請專利範圍第10項之方法,其中該雷射能量脈衝 之波長為λΡ ,可使該脆性玻璃表面内該雷射能量脈衝 之光學穿透量係位於[1〇-e,i ο-3]米區間内。 -17 - 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) ---------{衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂·· 經濟部中央橾率局貝工消費合作杜_製 、申請專利範圍 <請先閲讀背面之注意事項存填寫本寅) 12_根埔申請專利範圍第11項之方法,其中該最大凸塊高度 h係位於[1,1000]毫微米區間内。 13. 根據申請專利範圍第9項之方法,其中每個該間隔開位 置係放置成與其最鄰近之該間隔開位置間隔一個最小之 分離距雛^。 14. 根據申謓專利範圍第9項之方法,其中每個該間隔開位 置與其最鄰近之該間隔開位置間隔一個分離距雔D·,基 太上小於該最大直徑尺寸Dd,籍此數個.該凸塊與其鄰近 凸塊合併Μ於該脆性表面形.成幾乎連續之脊狀物。 15·—種磁性資料儲存碟片,具有檁稱表面平板之外表面, 用Κ儲存可磁性讖取之資料,該碟Η包含: ~層玻璃基板材料暦,具有基本上平坦之基板表面; W及 —層可磁化瞑層,位於該玻璃基板表面•具^有幾乎均 勻厚度及幾乎平坦之記錄表面, , 其中該外表面包括數個間隔開凸塊,每個該凸塊具有 最大之直徑尺寸Dd*並自此類平坦記錄表面升起最大高 度 經濟部中央揉隼局員工消費合作社印製 1ft·根埔由請專利範圍第15項之磁性資料儲存碟Η,其中該 最大直徑尺寸Dd<D·係位於[1 , 200]微米區間内•而且 該凸塊高度h係位於[1,1000]毫微米區間内。 17·椐撺由謫專利範圍第16項之磁性資料儲存碟Η,其中該 數個凸塊悔與彼此間隔一個最小分離距雔D»>Dd ,係位 於[1 . 5 0 0 1徵米區間内。 -18 - 本紙張尺度逍用中國國家標準(CNS } A4规格(210X297公釐) A8 BS C8 D8 ___ ___ '申請專利範圍 18.根埔申請專利範圍第15項之磁性資料儲存碟片,其中該 數饀凸塊係與彼此間隔一個最小分離距難De>D^ ’係位 於U , 500]微米區間内。 根據申謫專利範圍第〗5項之磁性資料儲存碟Η ’其中每 俩該間隔開位置係與其最鄰近之該間隔開位窠間隔—個 分雜距離D·,基本上小於該最大直徑尺寸Dd,t此使數 個該凸塊與其郯近凸塊合併K於該脆性表面形成幾乎連 _之脊狀物。 20. —種直接存取儲存元件(DAS.D),用K黷取及餘存資料’ 該DASD包含: 一磁性記錄碟Η,具有標稱表面平板之外表窗’ 儲存可磁性譎取之資料;Μ及 —磁頭及装置,用Μ支撐該磁頭於選定之方向’ &用〜 W控制相對於該碟片徑向方向之移動, 其中該外表面包括數個間隔開凸塊,每涸該β塊具有 昜大之直徑尺寸Da,並自此類平坦記錄表面升钱®大高 度hd。 經濟部中央標隼局貝工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 21. 根撺申請專利範圍第20項之DASD,其中該最大直徑尺寸 D“D,係位於[1 , 200]微米區間内,而且該凸塊高度 he皞位於[〗,1〇〇〇]奄微米區間内。 22. 根撺申請專利範圍第21項之D AS D,其中該數涠凸塊係與 彼此間隔一個最小分離距離D«>Dd ,係位於[1, 500]徴 米區間内。 23. 根撺申請專利範圍第20項之DASD,其中該數涸凸塊係與 -19 - 本紙張尺度遑用中國國家標準(CNS ) Μ規格(210X297公釐) A8 B8300879 dI 六、申請專利範圍 離 距 離 分 \ 最 個 1 ο 開内 分間 此區 彼米 於 位 微 位 ’ 開D* 隔離 間距 該離 個分 每個 中一 其隔 , 間 SD置 DA位 之開 項隔 20間 第該 圍之 範近 利鄭 專最 請其 申與 撺係 根置 其物 與狀 塊脊 凸之 該績 個連 數乎 使幾 此成 藉形 , 上 Ddffi 寸表 尺性 徑脆 直該 大於 最 Μ 該併 於合 \ mat 上凸 本近 基郯 ---------{农— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14985193A | 1993-11-10 | 1993-11-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW300879B true TW300879B (zh) | 1997-03-21 |
Family
ID=22532059
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW083106356A TW300879B (zh) | 1993-11-10 | 1994-07-13 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US5595791A (zh) |
EP (1) | EP0652554B1 (zh) |
JP (1) | JP2745480B2 (zh) |
KR (1) | KR100187827B1 (zh) |
CN (1) | CN1056009C (zh) |
AT (1) | ATE185015T1 (zh) |
DE (1) | DE69420812T2 (zh) |
MY (1) | MY111612A (zh) |
SG (2) | SG87048A1 (zh) |
TW (1) | TW300879B (zh) |
Families Citing this family (107)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5768076A (en) * | 1993-11-10 | 1998-06-16 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording disk having a laser-textured surface |
US5981902A (en) * | 1994-12-15 | 1999-11-09 | Mitsubishi Chemical Corporation | Texturing apparatus for magnetic recording medium and magnetic recording medium process thereby |
US5582878A (en) * | 1995-03-24 | 1996-12-10 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Process for producing magnetic recording medium |
EP1124219A1 (en) * | 1995-06-21 | 2001-08-16 | Ngk Insulators, Ltd. | Substrates for magnetic discs, magnetic discs and process for producing magnetic discs |
JP3199266B2 (ja) * | 1995-08-22 | 2001-08-13 | シーゲート テクノロジー,インコーポレッテッド | 磁気記録媒体のレーザ表面処理 |
US5723033A (en) * | 1995-09-06 | 1998-03-03 | Akashic Memories Corporation | Discrete track media produced by underlayer laser ablation |
US6287663B1 (en) * | 1995-10-31 | 2001-09-11 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium |
TW445243B (en) * | 1995-10-31 | 2001-07-11 | Ohara Kabushiki Kaisha | A glass-ceramic substrate for a magnetic disk and a method for manufacturing the same |
US5595768A (en) * | 1995-11-02 | 1997-01-21 | Komag, Incorporated | Laser disk texturing apparatus |
JP4071309B2 (ja) * | 1995-11-14 | 2008-04-02 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板及びその製造方法、並びに磁気ディスクメディアの製造方法 |
US5718811A (en) * | 1996-02-28 | 1998-02-17 | Seagate Technology, Inc. | Sputter textured magnetic recording medium |
JPH09237419A (ja) * | 1996-02-29 | 1997-09-09 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法 |
US5658475A (en) * | 1996-03-11 | 1997-08-19 | International Business Machines Corporation | Apparatus for laser texturing disks |
DE69607218T2 (de) * | 1996-05-09 | 2000-07-13 | Seagate Technology, Inc. | Laserstrukturierung eines magnetischen aufzeichnungsmediums unter verwendung einer mehrfachlinsenfokussierung |
EP0962916A1 (en) * | 1996-05-09 | 1999-12-08 | Seagate Technology, Inc. | Laser texturing of magnetic recording medium using multiple lens focusing |
WO1997042629A1 (en) * | 1996-05-09 | 1997-11-13 | Seagate Technology, Inc. | Magnetic recording medium with laser textured glass or glass-ceramic substrate |
EP0810586B1 (en) * | 1996-05-28 | 2006-03-01 | Kabushiki Kaisha Ohara | A glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium and a method for manufacturing the same |
US5948288A (en) * | 1996-05-28 | 1999-09-07 | Komag, Incorporated | Laser disk texturing apparatus |
US6103404A (en) * | 1996-06-03 | 2000-08-15 | Komag, Inc. | Laser textured magnetic disk comprising NiNb |
US5980997A (en) * | 1996-06-03 | 1999-11-09 | Komag, Incorporated | Method for preparing a substrate for a magnetic disk |
JP2002513493A (ja) | 1996-06-05 | 2002-05-08 | シーゲイト テクノロジー エルエルシー | 遷移ゾーンをそなえるテクスチャリングされた磁気記録媒体 |
US6020045A (en) * | 1996-06-05 | 2000-02-01 | Seagate Technology, Inc. | Textured magnetic recording medium having a transition zone |
JPH1097715A (ja) * | 1996-07-31 | 1998-04-14 | Asahi Komagu Kk | 磁気記録媒体用基板および磁気記録媒体 |
JP3930113B2 (ja) * | 1996-08-30 | 2007-06-13 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板 |
US6059555A (en) * | 1996-09-04 | 2000-05-09 | International Business Machines Corporation | Optical apparatus for dual-beam laser texturing |
US5830514A (en) * | 1996-09-04 | 1998-11-03 | International Business Machines Corporation | Controlling pulses in a laser texturing tool |
US5790433A (en) * | 1996-09-05 | 1998-08-04 | International Business Machines Corporation | Method for controlling laser power in a texturing process |
JP2001500467A (ja) * | 1996-09-17 | 2001-01-16 | コーニング インコーポレイテッド | きめのある表面およびきめを出す方法 |
JPH1091947A (ja) * | 1996-09-18 | 1998-04-10 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 磁気ディスクの表面加工装置 |
MY119299A (en) * | 1996-10-04 | 2005-04-30 | Showa Denko Kk | Magnetic recording medium and process for producing same |
US5822211A (en) * | 1996-11-13 | 1998-10-13 | International Business Machines Corporation | Laser texturing apparatus with dual laser paths having an independently adjusted parameter |
JP3219705B2 (ja) * | 1996-11-14 | 2001-10-15 | 株式会社オハラ | 磁気情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板 |
US6132843A (en) * | 1996-11-14 | 2000-10-17 | Nippon Sheet Glass Do., Ltd. | Glass substrate for magnetic disks |
US5965215A (en) | 1997-01-15 | 1999-10-12 | Seagate Technology, Inc. | Method for laser texturing a landing zone and a data zone of a magnetic recording medium |
US6021032A (en) | 1997-01-15 | 2000-02-01 | Seagate Technology, Inc. | Magnetic recording medium with laser textured data zone |
US6207926B1 (en) | 1997-01-15 | 2001-03-27 | Seagate Technology Llc | Fiber optic laser texturing with optical probe feedback control |
US5952058A (en) | 1997-01-15 | 1999-09-14 | Seagate Technology, Inc. | Laser texturing magnetic recording medium using fiber optics |
US5910262A (en) * | 1997-02-06 | 1999-06-08 | International Business Machines Corporation | Method and tool for laser texturing of glass substrates |
US5714207A (en) * | 1997-02-07 | 1998-02-03 | Seagate Technology, Inc. | Method of laser texturing glass or glass-ceramic substrates for magnetic recording media |
US6013894A (en) * | 1997-02-10 | 2000-01-11 | Laserway, Inc. | Method and apparatus for laser texturing a magnetic recording disk substrate |
US6151338A (en) * | 1997-02-19 | 2000-11-21 | Sdl, Inc. | High power laser optical amplifier system |
US5951891A (en) * | 1997-03-24 | 1999-09-14 | International Business Machines Corporation | Optical apparatus for monitoring profiles of textured spots during a disk texturing process |
US5963569A (en) * | 1997-03-28 | 1999-10-05 | International Business Machines Corporation | Multiple channel acousto-optic modulators |
US5981903A (en) * | 1997-03-28 | 1999-11-09 | International Business Machines Corporation | Laser system for simultaneous texturing of two sides of a substrate |
US6120922A (en) * | 1997-04-28 | 2000-09-19 | Goto; Naoyuki | Glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium |
US5847823A (en) * | 1997-04-28 | 1998-12-08 | International Business Machines Corporation | Surface inspection tool |
US5897798A (en) * | 1997-06-04 | 1999-04-27 | Hmt Technology Corporation | Laser texturing apparatus employing a rotating mirror |
US6205002B1 (en) * | 1997-06-13 | 2001-03-20 | International Business Machines Corporation | Disk drive with textured slider contact region |
US5853820A (en) * | 1997-06-23 | 1998-12-29 | Seagate Technology, Inc. | Controlled laser texturing glass-ceramic substrates for magnetic recording media |
US6577472B2 (en) | 1997-07-24 | 2003-06-10 | Hitachi, Ltd. | Glass substrate for a magnetic disk, a magnetic disk which can be formed with a stable texture |
JP3701106B2 (ja) * | 1997-08-07 | 2005-09-28 | 松下電器産業株式会社 | プレス成形用金型及び磁気ディスク用ガラス基板 |
US6068891A (en) * | 1997-08-15 | 2000-05-30 | Komag, Inc. | Method for laser texturing a glass ceramic substrate and the resulting substrate |
US6068728A (en) * | 1997-08-28 | 2000-05-30 | Seagate Technology, Inc. | Laser texturing with reverse lens focusing system |
US5956217A (en) * | 1997-08-28 | 1999-09-21 | Seagate Technology, Inc. | Reference disk for determining glide height |
US5837330A (en) | 1997-08-28 | 1998-11-17 | Seagate Technology, Inc. | Dual fiber optic laser texturing |
US5877858A (en) * | 1997-09-19 | 1999-03-02 | International Business Machines Corporation | Textured surface monitoring and control apparatus |
US5861196A (en) * | 1997-09-25 | 1999-01-19 | Seagate Technology, Inc. | Laser texturing a glass or glass-ceramic substrate |
US5945197A (en) * | 1997-10-27 | 1999-08-31 | Seagate Technology | Laser texturing of magnetic recording medium using multiple lens focusing |
US6519114B1 (en) * | 1998-03-19 | 2003-02-11 | Seagate Technology, Inc. | Magnetic storage medium having a textured zone |
US5978091A (en) * | 1998-06-26 | 1999-11-02 | Hmt Technology Corporation | Laser-bump sensor method and apparatus |
US6103990A (en) * | 1998-09-21 | 2000-08-15 | International Business Machines Corporation | Laser texturing system providing even heating of textured spots on a rotating disk |
JP3012926B1 (ja) * | 1998-09-21 | 2000-02-28 | 工業技術院長 | 透明材料のレーザー微細加工法 |
KR20000025408A (ko) | 1998-10-12 | 2000-05-06 | 윤종용 | 텍스처구조를 지닌 광디스크 |
US6143375A (en) * | 1999-01-28 | 2000-11-07 | Komag, Incorporated | Method for preparing a substrate for a magnetic disk |
US6395349B1 (en) | 1999-05-25 | 2002-05-28 | Komag, Inc. | Method of marking disks |
US6093472A (en) * | 1999-06-23 | 2000-07-25 | Seagate Technology, Inc. | Magnetic recording medium with laser textured glass or glass-ceramic substrate |
US6468596B1 (en) | 1999-07-15 | 2002-10-22 | Seagate Technology Llc | Laser-assisted in-situ fractionated lubricant and a new process for surface of magnetic recording media |
US6388229B1 (en) | 1999-08-13 | 2002-05-14 | International Business Machines Corporation | Method for laser texturing magnetic recording disk |
US6342707B1 (en) | 2000-06-20 | 2002-01-29 | Katsina Optics, Inc. | Laser scatterometer with adjustable beam block |
JP4034056B2 (ja) | 2000-09-13 | 2008-01-16 | 日本板硝子株式会社 | 非晶質材料の加工方法 |
US6627254B1 (en) * | 2000-09-20 | 2003-09-30 | Seagate Technology Llc | Method of manufacturing a recording media with mechanically patterned landing zone |
US6530258B2 (en) * | 2001-07-23 | 2003-03-11 | International Business Machines Corporation | Disk drive laser melt bump disk for accurate glide calibration and certification processing |
JP4185266B2 (ja) | 2001-07-25 | 2008-11-26 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用基板の製造方法 |
US8357454B2 (en) | 2001-08-02 | 2013-01-22 | Siemens Energy, Inc. | Segmented thermal barrier coating |
US6703137B2 (en) | 2001-08-02 | 2004-03-09 | Siemens Westinghouse Power Corporation | Segmented thermal barrier coating and method of manufacturing the same |
US20030136505A1 (en) * | 2002-01-18 | 2003-07-24 | Wimmer Phillip L. | Method of preparing a surface for adhesion |
US6821472B2 (en) * | 2002-04-10 | 2004-11-23 | Siemens Dematic Electronics Assembly Systems, Inc. | Method of laser machining materials with minimal thermal loading |
US9453251B2 (en) | 2002-10-08 | 2016-09-27 | Pfenex Inc. | Expression of mammalian proteins in Pseudomonas fluorescens |
KR100497820B1 (ko) * | 2003-01-06 | 2005-07-01 | 로체 시스템즈(주) | 유리판절단장치 |
DE10304371A1 (de) * | 2003-02-04 | 2004-08-12 | Magna Naturstein Gmbh | Verfahren zur Bearbeitung der Oberflächen transparenter Werkstoffe mittels Laserstrahl und nach diesem Verfahren hergestellte Produkte |
WO2004078668A1 (ja) * | 2003-03-03 | 2004-09-16 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | 凹凸のある表面を有する物品の製造方法 |
AU2005269527B2 (en) | 2004-07-26 | 2011-12-01 | Pfenex Inc. | Process for improved protein expression by strain engineering |
KR100666502B1 (ko) * | 2005-07-15 | 2007-01-09 | 학교법인 포항공과대학교 | 유리 나노 가공 방법 |
KR100682031B1 (ko) * | 2005-08-23 | 2007-02-12 | 학교법인 포항공과대학교 | 유리 가공 방법 |
US8307672B2 (en) | 2005-11-22 | 2012-11-13 | Olympus Corporation | Glass substrate processing method and glass component |
US7613869B2 (en) * | 2006-11-27 | 2009-11-03 | Brigham Young University | Long-term digital data storage |
JP5154814B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2013-02-27 | 東ソー・クォーツ株式会社 | 石英ガラス材料の製造方法 |
US9580719B2 (en) | 2007-04-27 | 2017-02-28 | Pfenex, Inc. | Method for rapidly screening microbial hosts to identify certain strains with improved yield and/or quality in the expression of heterologous proteins |
CA2685326A1 (en) | 2007-04-27 | 2008-11-06 | Dow Global Technologies Inc. | Method for rapidly screening microbial hosts to identify certain strains with improved yield and/or quality in the expression of heterologous proteins |
CN101784497A (zh) * | 2007-07-16 | 2010-07-21 | 康宁股份有限公司 | 用于局部可逆玻璃膨胀的方法 |
CN103936299A (zh) * | 2007-07-16 | 2014-07-23 | 康宁股份有限公司 | 用于局部可逆玻璃膨胀的方法 |
US7724992B2 (en) * | 2007-10-29 | 2010-05-25 | Corning Incorporated | Glass-based micropositioning systems and methods |
JP5080233B2 (ja) * | 2007-12-14 | 2012-11-21 | 東ソー・クォーツ株式会社 | 石英ガラスの表面改質方法 |
US20110100058A1 (en) * | 2009-10-30 | 2011-05-05 | Dickinson Jr James Edward | Formation of glass bumps with increased height using thermal annealing |
US9837108B2 (en) | 2010-11-18 | 2017-12-05 | Seagate Technology Llc | Magnetic sensor and a method and device for mapping the magnetic field or magnetic field sensitivity of a recording head |
US9725669B2 (en) | 2012-05-07 | 2017-08-08 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Synergistic mixtures of ionic liquids with other ionic liquids and/or with ashless thiophosphates for antiwear and/or friction reduction applications |
DE102014110920C5 (de) | 2014-07-31 | 2023-08-03 | Schott Ag | Geformter Glasartikel mit vorbestimmter Geometrie |
EP3276042B1 (en) * | 2015-03-24 | 2024-01-31 | OM Sangyo Co., Ltd. | Method for producing plated article |
RU2624989C1 (ru) * | 2016-02-09 | 2017-07-11 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА") | Способ лазерной обработки неметаллических пластин |
RU2630197C1 (ru) * | 2016-06-24 | 2017-09-05 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА") | Способ лазерного отжига неметаллических пластин |
RU2624998C1 (ru) * | 2016-06-24 | 2017-07-11 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА") | Способ лазерной обработки неметаллических пластин |
RU2649054C1 (ru) * | 2017-02-03 | 2018-03-29 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА") | Способ лазерной обработки неметаллических пластин |
RU2649238C1 (ru) * | 2017-02-03 | 2018-03-30 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА") | Способ лазерной обработки неметаллических пластин |
RU2708935C1 (ru) * | 2018-08-21 | 2019-12-12 | Александр Михайлович Григорьев | Лазерный способ изменения структуры прозрачных материалов с запрещенной зоной |
RU2695440C1 (ru) * | 2018-12-06 | 2019-07-23 | Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Всероссийский Научно-Исследовательский Институт Автоматики Им.Н.Л.Духова" (Фгуп "Внииа") | Способ лазерной обработки неметаллических материалов |
DE102019116456A1 (de) * | 2019-06-18 | 2020-12-24 | Gerresheimer Regensburg Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Struktur in der Oberfläche eines rotationssymmetrischen Glaskörpers |
CN111138090A (zh) * | 2019-11-27 | 2020-05-12 | 深圳市裕展精密科技有限公司 | 玻璃制品,玻璃制品的制备方法及制备玻璃制品的设备 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5001035A (en) * | 1988-01-06 | 1991-03-19 | U.S. Philips Corporation | Method of recording information, recording element manufactured according to the method and method of producing a metal matrix |
JPH0692263B2 (ja) * | 1989-02-16 | 1994-11-16 | 伊藤忠商事株式会社 | 記録ディスク基板及びその製造方法 |
JP2635197B2 (ja) * | 1990-03-02 | 1997-07-30 | 株式会社日立製作所 | 磁気デイスク装置と磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
US5162073A (en) * | 1990-02-15 | 1992-11-10 | Applied Magnetics Corporation | Textured air bearing surface |
US5079657A (en) * | 1990-02-15 | 1992-01-07 | Applied Magnetics Corporation | Textured air bearing surface |
US5108781A (en) * | 1990-03-12 | 1992-04-28 | Magnetic Peripherals Inc. | Process for manufacturing selectively textured magnetic recording media |
US5062021A (en) * | 1990-03-12 | 1991-10-29 | Magnetic Peripherals Inc. | Selectively textured magnetic recording media |
JP3125792B2 (ja) * | 1990-05-23 | 2001-01-22 | 株式会社日立製作所 | 磁気ディスク及びその製造方法並びに磁気ディスク装置 |
US5143578A (en) * | 1990-08-07 | 1992-09-01 | Union Carbide Coatings Service Technology Corporation | Method for engraving solid articles with laser beams |
US5236763A (en) * | 1990-08-07 | 1993-08-17 | Praxair S. T. Technology, Inc. | Method for engraving solid articles with laser beams and the articles produced |
JPH04311814A (ja) * | 1991-04-10 | 1992-11-04 | Fujitsu Ltd | ガラス基板のテクスチャリング方法 |
JPH0512648A (ja) * | 1991-05-01 | 1993-01-22 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気デイスク |
DE4125165A1 (de) * | 1991-07-30 | 1993-02-04 | Hoechst Ceram Tec Ag | Gebranntes, keramisches erzeugnis mit strukturierter oberflaeche und verfahren zu seiner herstellung |
-
1994
- 1994-07-13 TW TW083106356A patent/TW300879B/zh active
- 1994-09-27 JP JP6230850A patent/JP2745480B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-10-07 CN CN94116848A patent/CN1056009C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1994-10-07 MY MYPI94002670A patent/MY111612A/en unknown
- 1994-10-08 KR KR1019940025939A patent/KR100187827B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-11-01 SG SG9904432A patent/SG87048A1/en unknown
- 1994-11-01 AT AT94308034T patent/ATE185015T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-11-01 SG SG1996000145A patent/SG44398A1/en unknown
- 1994-11-01 DE DE69420812T patent/DE69420812T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-11-01 EP EP94308034A patent/EP0652554B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-05-31 US US08/455,171 patent/US5595791A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-05-31 US US08/455,861 patent/US5567484A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-09-17 US US08/714,831 patent/US6246543B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1118920A (zh) | 1996-03-20 |
ATE185015T1 (de) | 1999-10-15 |
JPH07182655A (ja) | 1995-07-21 |
SG87048A1 (en) | 2002-03-19 |
EP0652554B1 (en) | 1999-09-22 |
CN1056009C (zh) | 2000-08-30 |
MY111612A (en) | 2000-09-27 |
US6246543B1 (en) | 2001-06-12 |
EP0652554A1 (en) | 1995-05-10 |
KR950014014A (ko) | 1995-06-15 |
DE69420812T2 (de) | 2000-04-27 |
US5595791A (en) | 1997-01-21 |
SG44398A1 (en) | 1997-12-19 |
US5567484A (en) | 1996-10-22 |
JP2745480B2 (ja) | 1998-04-28 |
DE69420812D1 (de) | 1999-10-28 |
KR100187827B1 (ko) | 1999-06-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW300879B (zh) | ||
US6068891A (en) | Method for laser texturing a glass ceramic substrate and the resulting substrate | |
US5861196A (en) | Laser texturing a glass or glass-ceramic substrate | |
US6288876B1 (en) | Melting and refreezing method for smothing and load/unloading lift tab for disk drive smoothed lift tab and gimbal assembly and data storage device incorporating smoothed lift tab | |
US6350506B2 (en) | Textured surface and method | |
US6147322A (en) | Laser texturing magnetic recording medium with ultra-fine texture pattern | |
Teng et al. | Laser zone texture on alternative substrate disks | |
US5955154A (en) | Magnetic recording medium with laser textured glass or glass-ceramic substrate | |
US6299429B1 (en) | Dual fiber optic laser texturing | |
JP3199266B2 (ja) | 磁気記録媒体のレーザ表面処理 | |
US6589609B1 (en) | Crystal zone texture of glass-ceramic substrates for magnetic recording disks | |
US5968608A (en) | Laser texturing of magnetic recording medium using multiple lens focusing | |
US6093472A (en) | Magnetic recording medium with laser textured glass or glass-ceramic substrate | |
US5945197A (en) | Laser texturing of magnetic recording medium using multiple lens focusing | |
JPH05159357A (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
JP2506771B2 (ja) | 光学情報記録媒体 | |
KR100378496B1 (ko) | 다수렌즈포커싱시스템을이용한텍스춰링된표면을갖는자기기록매체및그제조방법 | |
EP0962916A1 (en) | Laser texturing of magnetic recording medium using multiple lens focusing | |
JPH09231562A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JPH0316783A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH09167342A (ja) | 磁気記録媒体の突起形成方法及び磁気記録媒体 | |
JPH09180180A (ja) | 磁気ディスク |