JPH1091947A - 磁気ディスクの表面加工装置 - Google Patents

磁気ディスクの表面加工装置

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JPH1091947A
JPH1091947A JP8266606A JP26660696A JPH1091947A JP H1091947 A JPH1091947 A JP H1091947A JP 8266606 A JP8266606 A JP 8266606A JP 26660696 A JP26660696 A JP 26660696A JP H1091947 A JPH1091947 A JP H1091947A
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JP
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magnetic disk
disk
processing apparatus
surface processing
spindle
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JP8266606A
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Inventor
Noriya Wada
憲也 和田
Hisayoshi Ichikawa
久賀 市川
Takahisa Ishida
貴久 石田
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Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication date
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    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
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    • GPHYSICS
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    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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    • G11B2220/20Disc-shaped record carriers
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ディスク表面に形成されるテクスチャ領域の
位置及び範囲を正確に制御できるようにする。 【構成】 ディスク1の内周側にバンプ4からなるCS
S領域3を形成するために、スピンドル手段6とレーザ
光照射手段7とを有し、スピンドル手段6はディスク1
を、その中心が回転軸10の回転中心と一致する状態で
チャックするために相対向するテーパ面18a,21a
を備えたチャック手段13が設けられ、またレーザ光照
射手段7におけるレーザ光源34から電磁シャッタ39
までの部分は本体部7aに設けられ、反射ミラー40と
対物レンズ41とは可動筐体31に設けられて、可動筐
体31を光軸方向に移動させることによって、ディスク
1の表面へのレーザ光の照射位置を半径方向に移動させ
る構成としている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスクの表
面における限られた領域にレーザパルスによりテクスチ
ャ加工を行う磁気ディスクの表面加工装置に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】磁気ディスクドライブ装置は、磁気ディ
スク(以下、ディスクという)を回転させる間に、磁気
ヘッドをディスク表面に所定の隙間で対面させた状態に
して、情報の書き込みや読み出しを行うものである。デ
ィスクの回転停止時には、磁気ヘッドはディスクの所定
の位置に当接するようになし、ディスクが回転し始める
と、磁気ヘッドはディスクの表面をスライドし、回転速
度が増して定常回転数になる間に、磁気ヘッドとディス
クとの間に空気流を生じさせ、この空気流により磁気ヘ
ッドを浮上させる。このようにして浮上した磁気ヘッド
は、データ記録領域に変位して、情報の書き込みや読み
出しが行われる。また、ディスクの回転停止時には、磁
気ヘッドを再び所定の位置に移行させて、ディスクの回
転速度の低下による浮上力が減少すると、磁気ヘッドは
ディスク表面にスライドして、ディスクの停止時にはそ
の位置で静止状態になる。
【0003】磁気ヘッドの以上の作動方式は、接触起動
停止(CSS)方式と呼ばれるものであり、ディスクの
表面には、情報の書き込み及び読み出しが行われるデー
タ記録領域と、磁気ヘッドが静止状態に保持されるCS
S領域とが形成される。ここで、CSS領域は、通常、
ディスクの内周縁の近傍において、所定の幅を有する円
環状に形成されるが、このCSS領域には、磁気ヘッド
の浮上を低摩擦で、円滑に行わせるために微小凹凸を設
けるようにしている。この微小凹凸を形成する加工が、
テクスチャ加工と呼ばれるものである。
【0004】CSS領域にテクスチャ加工を行うに当っ
ては、微小で均一な形状の凹凸を極めて高精度に形成す
る必要がある。とりわけ、近年においては、磁気記録密
度を向上するために、磁気ヘッドのディスクから極微小
量浮上させるようにしており、従ってテクスチャ加工の
精度をより一層向上させ、凹凸の微細化及び均一化を図
る必要がある。
【0005】テクスチャ加工の手法としては、テープ研
磨により行う方式,化学的なエッチングによる方式等が
あるが、レーザ光を用いたテクスチャ加工も開発されて
いる。特に、CSS領域というように、ディスクの表面
における限られた領域に部分的な加工を行うには、レー
ザテクスチャ方式が最も有利である。
【0006】レーザテクスチャ装置としては、レーザ光
源と、光学系として、少なくともレーザ光を平行光束化
する平行光束化手段及び対物レンズとを含むレーザ光照
射手段と、先端にディスクをクランプ・保持するための
保持部材を設けた回転軸及びモータ等の駆動手段とを含
むスピンドル手段とから概略構成される。レーザ光照射
手段のレーザ光源からは、レーザパルスを繰り返し出射
するが、対物レンズは、このレーザ光源からのレーザ光
を所定のスポット径となるように絞った状態で、ディス
ク表面に照射する。これによって、ディスクの表面に、
バンプと呼ばれるクレータ状の凹凸が形成される。
【0007】CSS領域は、ディスク表面において、限
定された幅にわたって形成されるものであり、このため
に加工中においては、ディスクを回転させると共に、レ
ーザ光の照射位置をディスクの半径方向に所定の範囲だ
け移動させて、渦巻き状のバンプを形成する。スピンド
ル手段は、ディスクを保持して回転駆動し、この間にレ
ーザ光照射手段をディスクの半径方向に動かすようにす
る。従って、レーザ光照射手段を構成する少なくとも対
物レンズをディスクの表面と平行に相対的に移動させ
る。このように、ディスクを回転させながら、レーザ光
の照射位置を半径方向に変位させることによって、ディ
スクの表面に所定幅のテクスチャゾーンが形成される。
従って、ディスクをスピンドル手段により回転させる間
に、対物レンズ等を動かして、このディスクと対物レン
ズとにおけるCSS領域の内周側の端部(出射始端位
置)に対面した時に、レーザパルスの出射を開始して、
外周側の端部(出射終端位置)に至るまでの間、レーザ
パルスを所定の間隔で照射することによって、ディスク
の内周側に限定された所定の幅のテクスチャ加工が行わ
れる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ここで、テクスチャに
よる加工精度は磁気ヘッドの浮上動作に極めて大きな影
響を与える。特に、近年においては、磁気ディスクの磁
気記憶密度は著しく高められ、このような高密度の磁気
ディスクにおいては、情報の書き込み及び読み出しを行
うための磁気ヘッドの浮上高さは極微小なものとしなけ
ればならない。このために、バンプの直径寸法、円周方
向及び半径方向のピッチ間隔を例えば数μm〜数十μm
程度の極めて微細に、しかも高精度に形成する必要があ
る。
【0009】ディスクをスピンドル手段に装着して回転
駆動し、かつレーザ光照射手段の少なくとも一部をディ
スクの表面と平行に動かすというように、テクスチャ加
工を行う際には、機械的な駆動が必要である。ディスク
の製造時における寸法管理は厳格に行われるが、それで
も個々のディスクにおける内径には、±25μm程度の
寸法公差があり、従って最小径のものと、最大径のもの
とでは、ほぼ50μmの径差が生じる。そして、ディス
クを保持部材に装着するには、その内周縁部をクランプ
部材で保持しなければならず、この保持部材の外径は、
ディスクの内径の寸法公差を勘案して、最小のディスク
内径よりさらに小さい寸法としなければ、ディスクを保
持部材に装着できない場合が生じる。
【0010】このために、保持部材にディスクを装着し
た状態では、ディスクの内径寸法公差及びディスク内径
と保持部外径との寸法差に起因して、回転軸の中心とデ
ィスクの中心との間に多少のずれが生じるのを防止でき
ない。従って、スピンドル手段にディスクを装着して、
レーザ光照射手段を出射始端位置となる位置に配置した
場合に、回転軸の回転中心とディスクの中心とのずれ分
だけレーザ光の出射始端位置にばらつきが生じ、このば
らつきは出射終端位置まで補正されない。ここで、ディ
スクの内径側から数mm程度の幅分は、ディスクドライ
ブ装置のスピンドルに連結される部位であるから、CS
S領域を構成するテクスチャゾーンにおいて、ディスク
の内周側に多少のずれがあっても格別問題とはならな
い。一方、CSS領域の外周側はデータ記録領域との間
の境界部となり、CSS領域とデータ記録領域との境界
は厳格に設定する必要がある。ディスクの中心とスピン
ドルの回転中心との間がずれていると、CSS領域とデ
ータ記録領域との間の境界部の均一性が確保されないこ
とになる。また、このずれに起因してバンプのピッチ間
隔も微妙に変化するという事態も発生する。
【0011】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、ディスク表面に形成
されるテクスチャ領域の位置及び範囲を正確に制御でき
るようにすることにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明は、ディスクの保持部材を設けた回転軸
及びこの回転軸の駆動手段とを含むスピンドル手段と、
このスピンドル手段に装架された磁気ディスクの少なく
とも一側表面に対向配設され、この磁気ディスクの所定
の領域に向けて繰り返しレーザパルスを出射するため
に、レーザ光源と、レーザ光の平行光束化手段及び対物
レンズを含む光学系とを備えたレーザ光照射手段とから
なる磁気ディスクの表面加工装置において、前記保持部
材は、それに装着された磁気ディスクの中心を回転軸の
回転中心と一致するように調芯する調芯機構を備え、ま
た前記光学系のうち、平行光束化されたレーザ光の光路
を曲折する反射ミラー及びディスクの表面に所定のスポ
ット径で集光させる対物レンズを、前記回転軸の中心を
通り、磁気ディスクの表面の半径方向に移動させる駆動
手段とを備える構成としたことをその特徴とするもので
ある。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施の一形態を説明する。図1には、磁気ディスクの表面
加工装置の全体構成を示す。
【0014】図中において、1は表面にテクスチャ加工
が行われるディスクを示し、このディスク1には、図2
にも示したように、データ記録領域2と、磁気ヘッド
(図示せず)が静止するCSS領域3とが形成される。
CSS領域3は、図2に斜線で示したように、ディスク
1の内周に近い部位に円環状に形成される。レーザテク
スチャ加工が施されるのは、このCSS領域3である。
レーザテクスチャによって、CSS領域3には、例えば
図3に示したように、レーザパルスの照射によって、微
小ピッチ間隔でクレータ状の窪みを形成するものである
が、この窪みにより、凸部4aと凹部4bとからなるバ
ンプ4が形成される。そして、バンプ4における凸部4
aの高さ及び隣接する凸部4aとの間隔はできるだけ均
一になるように加工される。また、図4に示したよう
に、凸部を有するバンプ5を形成するようにも加工でき
る。
【0015】レーザテクスチャ加工を行う装置は、ディ
スク1を着脱可能にチャックして回転駆動するスピンド
ル手段6と、レーザパルスをディスク1に照射するレー
ザ光照射手段7とを備えている。スピンドル手段6はデ
ィスク1を鉛直状態に保持して、その回転中心を通る軸
線が水平に向くようにして回転駆動するようになし、レ
ーザパルス照射手段7からはレーザ光が水平方向に出射
される。また、8はスピンドル手段6の上部に配置され
たクリーンエア吹き出し部、9はスピンドル手段6の下
方に配置されたエア回収ダクトをそれぞれ示し、テクス
チャ加工を行う際には、上方からのクリーンエアのダウ
ンフローの中でテクスチャ加工が行われ、ディスク1の
表面に塵埃その他の異物等が付着しないようにしてい
る。
【0016】次に、図5に加工装置の全体構成を示し、
また図6及び図7にスピンドル手段8の構成を示す。こ
こで、図6はディスク1のチャック状態、図7はチャッ
ク解除状態を示す。
【0017】以上の図において、10は回転軸であっ
て、この回転軸10は立壁11に軸受12により回転自
在に支承されている。回転軸10は中空の部材からな
り、その先端側には保持手段を構成するチャック部材1
3が装着され、また基端側には中空のスピンドルモータ
14が連結されており、このスピンドルモータ14によ
り回転軸10が回転駆動される。ここで、スピンドルモ
ータ14は可変速モータが用いられる。
【0018】チャック部材13は、スライドロッド15
を有し、このスライドロッド15は回転軸10内に設け
たスラスト軸受16に沿って摺動可能に設けられてお
り、このスライドロッド15の先端部分にはカップ部1
7が連設されている。図8及び図9からも明らかなよう
に、このカップ部17は、先端側から途中位置までの部
位に切り欠き17aが120°間隔で3箇所形成されて
おり、さらにこの切り欠き17a,17a間の部位に
は、カップ部17の先端面からそれぞれ2箇所、合計6
箇所の位置決め突起18が設けられ、これら各位置決め
突起18の先端面は外径側から内径側に向けて傾斜する
テーパ面18aとなっている。
【0019】カップ部17の各切り欠き17aの部位に
は、回転軸10の内面に設けた支持部10aが配置され
ており、この支持部10aには先端キャップ19がボル
ト20で連結されている。先端キャップ19には、その
中心部に凹部19aが形成されており、また一端が外周
面に開口し、他端が凹部19a内に開口する開口部19
bが半径方向に向けて3箇所形成されている。そして、
開口部19b内には保持部片21が半径方向に移動可能
に装着されており、この保持部片21は、先端部が位置
決め突起18のテーパ面18aに対向する方向に傾斜し
たテーパ面21aとなり、位置決め突起18は保持部片
21の両側に位置している。また、保持部片21の中間
部にはその移動方向に向けた長孔からなる透孔21bが
形成されており、この透孔21bにピン22が挿通され
ている。ピン22と透孔21bの端部との間には、保持
部片21を開口部19b内に引き込む方向にばね23が
作用し、常時には各保持部片21の先端部を結ぶ円はデ
ィスク1の内径寸法より小さくなっている。
【0020】回転軸10の先端面は精度良く加工され
て、この回転軸10の軸線と正確に直交する円環状の面
となっており、ディスク1はこの回転軸10の先端面に
当接させて位置決めされる。また、保持部片21をばね
23に抗して突出させると、そのテーパ面21aがディ
スク1の半径方向に変位して、その内縁部と当接して、
ディスク1はスピンドル手段6にチャックされる。そし
て、この状態から、突起18を前方に押し出すと、テー
パ面18aがディスク1の板面方向に変位して、その内
周に当接して、ディスク1の内周は相対向するテーパ面
18a,21a間で挾持され、これによりディスク1の
中心が回転軸10の回転中心と一致する。ここで、テー
パ面18a及び21aはそれぞれ円錐の一部を形成する
面であって、各々の円錐の頂点は回転軸10の中心軸線
上になるように設定されている。これにより、テーパ面
18a,21aがディスク1の中心を回転軸10の回転
中心と一致するように調芯する調芯機構として機能する
ことになる。好ましくは、図10に示したように、両テ
ーパ面18a,21aはディスク1の内周縁部に形成し
たチャンファと呼ばれる面取り部と当接するようにな
し、ディスク1の内径寸法が実線のものと、仮想線のも
のというように、寸法公差Δdがあっても、テーパ面1
8aの突出量が変化することになって、確実にディスク
1の中心が回転軸10の中心軸線Aと一致するように調
芯された状態でチャックされる。
【0021】次に、このチャック及びチャック解除の動
きを行わせる駆動手段としては、スライドロッド15の
基端部に相対回転可能に連結したシリンダ等からなる駆
動手段24を有し、この駆動手段24には、カップリン
グ部材24aが設けられ、このカップリング部材24a
はスライドロッド15に連結した連結棒25が相対回転
可能に連結されている。この連結棒25はスピンドルモ
ータ14を貫通しており、駆動手段24により押し引き
されて、スライドロッド15をその軸線方向に変位させ
るようになっている。
【0022】常時においては、ばね26によりスライド
ロッド15は突出する方向、即ち突起18が回転軸10
から前方に突出する方向に付勢されている。また、スラ
イドロッド15の先端には、その先端面側から軸線方向
に向けて凹部15aが形成され、この凹部15a内には
押動ロッド27が挿入されている。押動ロッド27は、
凹部15a内に設けた軸受28により摺動可能となって
おり、また押動ロッド27には連結ピン29が連結さ
れ、この連結ピン29はスライドロッド15に設けた長
孔15bに挿通されている。従って、押動ロッド27の
軸線方向の動きはこの長孔15bの範囲に規制される。
押動ロッド27の先端は太径化されて、先端がテーパ部
となった押動部27aが連設され、この押動部27aは
先端キャップ19の内部に挿脱されるものである。押動
ロッド27は、常時には、ばね30により押動部27a
が先端キャップ19の内部に入り込んで、保持部片21
の端部をばね26に抗して突出する方向に押動するよう
になっている。駆動手段24によりスライドロッド15
が回転軸10内に引き込まれると、その動作の途中か
ら、連結ピン29の作用により押動ロッド27が連動し
て移動する結果、押動部27aが先端キャップ19から
脱出する方向に移動する。これによって、押動部27a
による保持部片21の規制が解除されるから、保持部片
21は開口19a内に退入することになる。
【0023】以上のように構成されるチャック部材13
は、図6のチャック状態に保持され、駆動手段24を駆
動することによって、図7のチャック解除状態に変位さ
せることができる。チャック解除を行うには、駆動手段
24によりスライドロッド15を引っ張る。これによ
り、突起18が回転軸10内に退入し、次いでこのスラ
イドロッド15の移動により長孔15bの端部に連結ピ
ン28が当接した後に、押動ロッド27も回転軸10の
内部に引き込まれる方向に変位して、押動部27aによ
る保持部片21への係合が解除されて、保持部片21が
ばね23の作用により先端キャップ20の開口部19b
内に入り込む。
【0024】そこで、適宜のディスクハンドリング手段
で、ディスク1を回転軸10の端面に当接させるように
なし、次いで駆動手段24によるスライドロッド15の
引っ張り力を解除する。これによって、スライドロッド
15及び押動ロッド27は、それぞればね26,30の
作用によって、回転軸10から突出する方向に変位す
る。この時に、まず押動ロッド27が先に動いて、その
押動部27aで保持部片21が突出し、これによりディ
スク1は脱落しないように保持される。次いで、スライ
ドロッド15の先端に設けた突起18が前進して、ディ
スク1の内周部が保持部片21のテーパ面21aと突起
18のテーパ面18aとの間で挾持されるよにして、デ
ィスク1の調芯が行われる。
【0025】次に、レーザ光照射手段7は、その本体部
7aと、本体部7aに対して近接離間する方向に移動可
能な可動筒31とを有し、本体部7aと可動筒31との
間には、ボールねじ32aとモータ32bとからなる往
復動手段32によって所定の方向に往復移動させる構成
となっている。また、この往復動手段32のボールねじ
32aの回転による可動筒31の動きは、エンコーダ3
3により検出されるようになっている。
【0026】図5において、34はレーザ光源であっ
て、このレーザ光源34は所定の時間間隔で繰り返しレ
ーザパルスが出射されるものである。35はアイソレー
タであり、このアイソレータ35は1/4波長板を備
え、ディスク1からの反射光がレーザ光源34に戻るの
を防止するためのものである。アイソレータ35からの
レーザ光は反射ミラー36に反射させることによって、
光路を90°曲折させる。そして、この光路には平行光
束化手段37が設けられている。ここで、平行光束化手
段37はレーザ光源34からのレーザ光を所望のスポッ
ト径の平行光束とするためのものであって、ディオプタ
補正付きのエキスパンダ等からなる光学部材で構成され
ている。さらに、38はNDフィルタであって、平行光
束化手段37で平行光束化されたレーザ光は、このND
フィルタ38により光量の調整が行われる。そして、3
9は電磁シャッタであり、この電磁シャッタ39はレー
ザ光源34からのレーザ光路を開閉するためのものであ
る。
【0027】40はレーザ光路を再び90°曲折するた
めの反射ミラー、41はレーザ光をディスク1の表面に
所定のスポット径で照射するための対物レンズである。
対物レンズ40は自動焦点付きのものである。ここで、
レーザ光源34から電磁シャッタ39までの部分は本体
部7aに設けられ、反射ミラー40と対物レンズ41と
は可動筐体31に設けられている。従って、可動筐体3
1を光軸方向に移動させることによって、ディスク1の
表面へのレーザ光の照射位置を半径方向に移動させるこ
とができるようになる。
【0028】本体部7aには位置調整手段42が設けら
れており、この位置調整手段42はディスク1の半径方
向(X方向)と、それと直交する方向(Y方向)との2
つの方向に位置を微調整するためのものである。この位
置微調整手段42は、X軸ガイド42XとY軸ガイド4
2Yとを有し、図示しないボールねじ送り手段等のよう
に微小位置決めが可能な駆動手段で駆動されて、レーザ
光照射手段7全体を、ディスク1の表面と平行な面内
で、X軸方向及びY軸方向の位置微調整を行えるように
なっている。
【0029】さらに、スピンドル手段6を駆動するスピ
ンドルモータ14の回転数は回転数検出手段43により
検出されるようになっており、また回転軸10には、そ
の回転角度検出用のエンコーダ44が設けられている。
そして、これら回転数検出手段43及びエンコーダ4
4、さらに可動筒31の動きを検出するエンコーダ33
からの信号は制御手段45に入力される。制御手段45
はマイクロコンピュータ等から構成され、この制御手段
45は、スピンドルモータ14を作動させるサーボ回路
46及び往復動手段32を作動させるサーボ回路47に
駆動信号を供給し、さらに電磁シャッタ39の開閉動
作、位置調整手段42の駆動等の制御を行うものであ
る。
【0030】以上のように構成することによって、スピ
ンドル手段6にディスク1を装架して、ディスク1を回
転させる間に、レーザ光照射手段7によりレーザパルス
を照射しながら照射スポットをディスク1の半径方向に
移動させることによって、CSS領域3にテクスチャ加
工を施す。テクスチャ加工の実行はスピンドル手段6に
よりディスク1を回転させると共に、レーザ光照射手段
7によりレーザパルスのスポット位置をディスク1の半
径方向に移動させる。
【0031】このような構成を採用することによって、
ディスク1の内径の寸法公差等に拘らず、ディスク1に
は常にCSS領域3とデータ記録領域2との境界部にず
れがないように、正確にテクスチャ加工を施すことがで
きる。テクスチャ加工の実行は、レーザ光照射手段7の
うち、少なくとも対物レンズ40をディスク1における
所定の位置に対面させると共に、レーザパルスのスポッ
ト位置を、ディスク1の回転中心から半径方向に移動さ
せ、かつディスク1を回転駆動する。
【0032】スピンドル手段6における回転軸10の中
心と、このスピンドル手段6のチャック部材13にチャ
ックされるディスク1の中心とを一致させる。
【0033】スピンドル手段6を、図7に示したチャッ
ク解除状態となし、ディスク1の外径をハンドリングす
る手段によって、ディスク1を回転軸10の端面に当接
させて、図6に示したチャック状態にシフトさせると、
ディスク1は回転軸10の端面と保持部片21のテーパ
面21aとの間で挾持され、次いでスライドロッド15
の先端を構成する突起18のテーパ面18aがディスク
1に当接して、ディスク1は保持部片21のテーパ面2
1aと突起18のテーパ面18aとからなるV字状の面
でチャックされて、ディスク1にたとえ内径側に寸法公
差があるにしても、その中心が回転軸10の回転中心と
一致する。
【0034】次に、レーザ光照射手段7から出射される
レーザパルスが、回転軸10の中心から半径方向に変位
させながらディスク1の表面に照射させる。このために
は、このレーザパルスの位置を変えるための可動筒31
の移動方向を回転軸10の半径方向と一致させる。可動
筒31が連結したレーザ光照射手段7の本体部7aが装
着されている位置調整手段42で位置調整を行う。これ
によって、レーザパルスをディスク1の中心から半径方
向に向けて正確に移動させることができる。
【0035】以上のように調整した上で、レーザ光源3
4からレーザパルスを出射させた状態にして、スピンド
ル手段6に装架されたディスク1を回転駆動し、電磁シ
ャッタ39を開放させることによって、レーザ光照射手
段7からディスク1の表面の半径方向における所定の位
置からレーザパルスの照射を開始し、可動筒31をディ
スク1の半径方向外方に移動させることによって、CS
S領域3にバンプが形成される。ここで、このレーザ光
源34からの光学系のうち、反射ミラー40と対物レン
ズ41のみを可動筒31に設けているので、この可動筒
31がコンパクトで軽量なものとなり、その移動の制御
を容易に、しかも正確に行える。また、反射ミラー40
に入射されるのは、平行光束化手段37で平行光束とし
たレーザパルスであるから、反射ミラー40を光軸方向
に移動させても、ディスク1に照射されるレーザパルス
のスポット径が変化するおそれはない。
【0036】ここで、レーザパルスの出射始端位置は、
回転軸10の中心軸線の位置から所定の位置だけ離れた
位置とする。ディスク1の内径には寸法公差があるが、
ディスク1の内周側のエッジ部分はデータ記録領域とし
てはもとより、CSS領域としても利用されず、ディス
クドライブ装置に装着した時に、スピンドルに取り付け
られる部位であるから、内周側境界部ID(図2参照)
が多少変化しても格別問題ではない。これに対して、外
周側境界部ODはデータ記録領域2との境界部であるか
ら、この外周側境界部ODがずれることは許されない。
ディスク1は、その内径に寸法公差等があるが、チャッ
ク部材13に保持させた時には、このディスク1の中心
は回転軸10の回転中心と一致しており、しかも対物レ
ンズ41は確実に回転軸10の半径方向に移動すること
から、外周側境界部ODがずれるおそれはない。
【0037】スピンドル手段6によりディスク1を回転
させ、かつレーザ光照射手段7における可動筒31を移
動させながら、レーザパルスを所定間隔で出射させて、
ディスク1の表面に内周側から外周側に向けて渦巻き状
にバンプを形成するが、このバンプの円周方向のピッチ
間隔を一定にするのが好ましい。バンプは渦巻き状に形
成するために、渦巻きの内周側のバンプのピッチ間隔と
外周側のバンプのピッチ間隔とでは、外周側の方が広く
なってしまう。そこで、ピッチ間隔を一定化するには、
半径方向の位置に応じてレーザ光源34から出射される
レーザパルスのパルス間隔を変えるようにすれば良い
が、パルスを得るために、Qスイッチ付きのレーザ光源
を用いる場合には、パルス間隔を変えることはできな
い。
【0038】以上のことから、レーザパルスの照射位置
に応じて、ディスク1の回転速度を変化させることによ
り、バンプのピッチ間隔を一定化する。可動筒31の移
動をエンコーダ33で検出しており、またスピンドルモ
ータ14の回転数は回転検出手段43で検出して、これ
らの信号は制御手段45に取り込まれるようになってい
る。従って、この制御手段45で、ディスク1の半径方
向におけるレーザパルスの照射位置に基づいて、ディス
ク1の適正な回転速度を演算して求め、この演算結果に
基づいてサーボ回路46にサーボ信号を供給して、可動
筒31の位置に応じてスピンドルモータ14の回転速度
を変える。これによって、レーザパルス間隔が一定にな
る。具体的には、スピンドルモータ14によるディスク
1の回転速度を、内周側にバンプを形成している時よ
り、外周側の方が遅くする。
【0039】また、CSS領域3とデータ記録領域2と
の間を正確に区画形成するためには、最外周のバンプは
略円形に形成する。このためには、バンプの最外周の前
の周のバンプが形成された後に、可動筒31の動きを停
止させる。この状態でスピンドル手段6によりディスク
1を略1回転させて、電磁シャッタ39を閉じるように
する。ただし、完全に1回転させると、バンプとバンプ
とが重なり合ってしまう。エンコーダ44により回転軸
10の回転角が検出されているから、可動筒31を停止
した後に、電磁シャッタ39を開いたまま保持して、デ
ィスク1を所定の角度だけ回転させるまでバンプを形成
する。これによって、CSS領域3を正確に円環状に形
成できる。
【0040】さらに、CSS領域3には所定の幅にわた
ってバンプが形成されるが、必ずしもその幅の全体にわ
たって均一なバンプを必要とする訳ではない。CSS領
域3の幅は磁気ヘッドの幅よりかなり広くなっている。
磁気ヘッドの浮上量を極微小量とした場合には、データ
記録領域2からCSS領域3への移行部に大きな段差が
あると、磁気ヘッドがデータ記録領域2からCSS領域
3に移行する際に、バンプと衝突する可能性もある。そ
こで、バンプは内周側から所定の位置まで均等な高さで
形成し、データ記録領域2への移行部近傍になると、バ
ンプ高さを低くする。このためには、レーザパワーを低
下させるが、その手法としては、対物レンズ41は自動
焦点機構を持っているから、この自動焦点機構により、
デフォーカスすると、単位面積当りのエネルギが減少す
ることになり、この結果バンプ高さが低くなる。
【0041】そこで、回転検出手段43でディスク1の
回転数を検出しているから、CSS領域3の半径方向に
おける所定の位置から対物レンズ41の自動焦点機構を
制御して段階的または連続的にデフォーカスさせる。こ
れによって、図11に示したように、CSS領域3を均
等なバンプ高さを有する均一領域3aと、連続的にバン
プ高さが低くなる移行領域3bとを形成できる。これに
よって、磁気ヘッドのCSS領域3への移行を円滑に行
えるようになる。
【0042】ここで、ディスク1に対しては、表裏両面
を同時にテクスチャ加工を行うことができる。そのため
には、レーザ光照射手段を図12に示したように構成す
る。図13に示したレーザ光照射手段50は、図5に示
したものと同様、レーザ光源34,アイソレータ35,
平行光束化手段37,NDフィルタ38,電磁シャッタ
39,反射ミラー40及び対物レンズ41を備え、アイ
ソレータ35からのレーザ光の光路を引き回すための反
射ミラーを設けている。これら各部材のうち、レーザ光
源34及びアイソレータ35はディスク1の表裏両面を
加工するためのものとして共用されるが、平行光束化手
段37,電磁シャッタ39,反射ミラー40及び対物レ
ンズ41はディスク1の表面加工用と裏面加工用とで独
立のものとして構成される。
【0043】レーザ光照射手段50の本体部50aに
は、レーザ光源34とアイソレータ35とを設けると共
に、アイソレータ35の前方にビームスプリッタ51を
設けて、表面加工用光路と裏面加工用光路とに分光す
る。そして、表面加工用の光学系及び裏面加工用の光学
系のうち、それぞれ反射ミラー39と対物レンズ41は
可動筒52a,52bに装着して、それぞれ図5に示し
たと同様の往復動手段(図示は省略)により移動可能な
構成とする。なお、ビームスプリッタ51から両平行光
束化手段37に至る光路の引き回しを行うに当って、一
方側の平行光束化手段37への光路には1個の反射ミラ
ー36を設ければ良いが、他方の光路には、反射ミラー
36a,36bが設けられる。
【0044】ここで、テクスチャ加工を効率的に行うに
は、ディスク1のスピンドル手段6への着脱部と、テク
スチャ加工部とを分ける必要がある。このためには、図
13に示したように、スピンドル手段が装着される基台
として、180°反転可能な作業テーブル60を設け、
この作業テーブル60にスピンドル手段6を2箇所設け
る。そして、作業テーブル60を180°反転させるよ
うになし、反転の一方側の位置にはディスク1をハンド
リングしてスピンドル手段6に供給したり、スピンドル
手段6から取り出したりする移載手段としてのロボット
61を設けたロード・アンロード部62となし、また他
方側の位置にはレーザ光照射手段7を配置した加工部6
3とする。これによって、加工部63でテクスチャ加工
を行っている間に、ロード・アンロード部62で加工済
のディスク1を取り出して、新たなディスク1を装架す
る作業を行う。このように、テクスチャ加工とディスク
1のロード・アンロード作業を同時に行うことができ
る。
【0045】ここで、作業テーブル60に2箇所のスピ
ンドル手段6を設け、レーザ光照射手段7を作業テーブ
ル60以外の部位に設けると、加工部63で両スピンド
ル手段6に対して個別的に位置調整を行わなければなら
ない。そこで、一方のスピンドル手段がレーザ光照射手
段7に対面する位置に配置された時と、他方のスピンド
ル手段が配置された時とで、位置調整手段42によりレ
ーザ光照射手段7全体の位置を変える。これによって、
作業テーブル60における両スピンドル手段6の組み付
け誤差等を吸収して、各スピンドル手段6に装架させた
ディスク1のCSS領域3に対して正確なテクスチャ加
工を行うことができる。
【0046】ここで、ディスク1に対しては、表裏両面
にテクスチャ加工を施す必要がある。従って、加工部6
3には、表面側だけを加工するレーザ光照射手段7に代
えて、表裏両面を同時に加工するレーザ光照射手段50
を装着すれば、極めて効率的に加工できる。ただし、図
14に示したように、2箇所に作業テーブル60F,6
0R及びロボット61F,61Rを設けて、一方の作業
テーブル60Fでは表面側の加工を、また他方の作業テ
ーブル60Rでは裏面側の加工を行う構成とすることも
できる。
【0047】この場合には、作業テーブル60F,60
R間の部位にディスク反転部64を設ける。このディス
ク反転部64は、図15及び図16に示したように、一
対からなる反転用アーム70,70にそれぞれ2箇所に
チャック駒71を設けて、反転軸70aに設けたアクチ
ュエータ70bにより反転用アーム70,70を近接・
離間する方向に移動可能に装着する。反転支持部72
は、駆動シリンダ73によってガイドロッド73aに沿
って昇降する昇降ユニット74に装着されている。この
昇降ユニット74には反転用のモータ75が装着されて
おり、このモータ75の出力軸に設けたプーリ76と、
反転軸70aに設けたプーリ77との間にタイミングベ
ルト78を巻回して設ける構成としたものである。
【0048】このように構成すれば、作業テーブル60
Fでディスク1をスピンドル手段6に装着して、作業テ
ーブル60Fを180°回転させて、レーザ光照射手段
7によりディスク1の表面側のCSS領域3にテクスチ
ャ加工を行うことができる。また、加工終了後に、ディ
スク1を取り出して、ディスク反転部64に移行さえ
て、ディスク1の反転を行う。勿論、この時には新たな
ディスク1を加工済のディスク1と交換してスピンドル
手段6に装着する。
【0049】ディスク反転部64に移行したディスク1
は反転用アーム70,70のチャック駒71にチャック
されて、昇降ユニット74を上昇させて、モータ75を
作動させることによって、反転支持部72を反転させる
ことによって、反転用アーム70,70に支持されてい
るディスク1が反転する。このディスク1の反転後に、
それを作業テーブル60Rに位置するスピンドル手段6
に装着して、作業テーブル60Rを反転させて、ディス
ク1の裏面側におけるCSS領域3のテクスチャ加工を
行うことができる。そして、再度作業テーブル60Rを
反転させると、両面にテクスチャ加工を施されたディス
ク1が取り出される。
【0050】ところで、テクスチャ加工は極めて微小な
加工であり、ディスク1に異物が付着したり、油汚れ等
の汚れがあると、加工精度が低下することから、その表
面が極めて清浄な状態になっていなければならない。こ
のために、テクスチャ加工装置には、ディスク1の洗浄
装置を付設し、テクスチャ加工の前工程として、ディス
ク1の洗浄を行うのが好ましい。このためには、図17
に示した洗浄装置を用いる。
【0051】図中において、80は洗浄装置を示し、こ
の洗浄装置80は、ディスク1をチャックする手段と、
洗浄液を供給する手段及びディスク1をスクラブする手
段とを備えている。ディスク1をチャックする手段とし
ては、固定のチャック部材81aと、可動のチャック部
材81b,81bとから構成され、可動のチャック部材
81b,81bは支持アーム82,82に連結されてお
り、これら支持アーム82は洗浄液が飛散するのを防止
するためのフード83から垂設されている。洗浄液を供
給するために、複数の洗浄液ノズル84,84が設けら
れており、これら洗浄液ノズル84はチャック部材81
a,81b,81bによりチャックされたディスク1に
向けて洗浄液を噴射させるようになっている。チャック
部材81bと洗浄液ノズル84とはフード83と共に上
下動するようになっており、従ってシリンダ等の駆動手
段(図示せず)によりフード83を上昇させた状態で、
ディスク1を固定側のチャック部材81aに係合させ
て、フード83を低下させることによって、ディスク1
がチャックされることになる。
【0052】ディスク1をスクラブする手段としては、
一対のロールぶらし85(図面には、一方のロールぶら
しのみを示す)が用いられる。ロールぶらし85は、デ
ィスク1の両面と摺接するようになっており、両ロール
ぶらし85はL字状をした支持アーム86に回転自在に
取り付けられ、支持アーム86は、軸87を中心として
揺動可能となっている。また、支持アーム86には、モ
ータ88が設けられており、このモータ88の出力軸に
設けたプーリ89と、ロールぶらし85の回転軸85a
に設けたプーリ90との間には伝達ベルト91が巻回し
て設けられている。ここで、ロールぶらし85はその回
転によりディスク1を追従回転させるものであり、この
ためにチャック部材81a,81b,81bは回転自在
に設けられている。
【0053】以上のように構成することによって、支持
アーム86を図17に仮想線で示した退避位置に保持し
た状態で、ディスク1をチャック部材81a,81b,
81bによりチャックさせた後に、支持アーム86を実
線の位置にまで揺動させると、ディスク1の表裏両面は
ロールぶらし85,85により挾持された状態になる。
この状態で、洗浄液ノズル84から洗浄液をディスク1
に向けて供給すると共に、モータ87を駆動して、ロー
ルぶらし85を回転させる。これによって、ロールぶら
し85によりディスク1の表裏両面がブラッシングさ
れ、かつロールぶらし85の回転によりディスク1が追
従回転するから、ディスク1の全体をむらなく洗浄でき
る。
【0054】このように、ディスク1を洗浄した後に
は、リンス及び乾燥を行う必要がある。リンスは、洗浄
装置と同じ構成であって、ディスク1に供給されるの
は、洗浄液に代えて、純水等のように、異物を含まない
水である。また、ディスク1の乾燥は、高速スピン乾燥
により行う。このために、ディスク1を高速回転スピン
ドルに装着する。ここで、高速回転スピンドルは、テク
スチャ加工を行うために用いられるスピンドル手段6と
同じ構成のものを使用できる。
【0055】以上のように、テクスチャ加工を行う直前
の段階でディスク1の表裏両面を洗浄して、異物や汚れ
を洗い流すことによって、微細なバンプを形成するテク
スチャ加工をより高精度に行うことができる。また、前
述した洗浄装置は、テクスチャ加工の前工程だけでな
く、後工程においても洗浄を行うように構成することも
できる。
【0056】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ディス
クを保持部材に保持させるに当って、磁気ディスクの中
心が回転軸の回転中心と一致するように調芯させるよう
になし、かつレーザ光源からの光路に設けられる光学系
のうち、平行光束化されたレーザ光の光路を曲折する反
射ミラー及びディスクの表面に所定のスポット径で集光
させる対物レンズを、駆動手段により回転軸の中心を通
り、磁気ディスクの表面と平行に所定の範囲移動させる
ように構成したから、ディスク表面に形成されるテクス
チャ領域の位置及び範囲を正確に制御できる等の効果を
奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態を示す表面加工装置の概
略構成図である。
【図2】磁気ディスクの加工領域を示す説明図である。
【図3】テクスチャ加工により形成されるバンプの一例
を示す説明図である。
【図4】テクスチャ加工により形成されるバンプの他の
例を示す説明図である。
【図5】時期ディスクの表面加工装置の全体構成図であ
る。
【図6】ディスクをチャックした状態のスピンドル手段
の断面図である。
【図7】ディスクのチャック解除状態のスピンドル手段
の先端部分の断面図である。
【図8】図6のX−X断面図である。
【図9】スライドロッドに連設したカップ部の正面図で
ある。
【図10】チャック部材によるディスクの調芯機構の作
動説明図である。
【図11】ディスクに形成されるバンプの高さを変化さ
せた状態を示す説明図である。
【図12】ディスクの表裏両面をテクスチャ加工する場
合に用いられるレーザ光照射手段の構成説明図である。
【図13】ディスクの表面加工装置の他の構成例を示す
構成説明図である。
【図14】ディスクの表面加工装置のさらに別の構成例
を示す構成説明図である。
【図15】ディスクの反転手段の平面図である。
【図16】図15の正面図である。
【図17】ディスクの洗浄装置の概略構成図である。
【符号の説明】
1 ディスク 2 データ記録領域
3 CSS領域 4,5 バンプ 6 スピンドル手段 7,50 レーザビーム照射手段 8 クリー
ンエア吹き出し部 9 エア回収ダクト 10 回転軸
13 チャック部材 14 スピンドルモータ 15 スライドロッド
18 位置決め突起 18a テーパ面 19 先端キャップ
21 保持部片 21a テーパ面 27 押動ロッド
27a 押動部 31,52a,52b 可動筒 32 往復
動手段 33,44 エンコーダ 34 レーザ光源
37 平行光束化手段 39 電磁シャッタ 40 反射ミラー
41 対物レンズ 42 位置調整手段 43 回転角度検出手段
45 制御手段 51 ビームスプリッタ 60,60F,60R
作業テーブル 61,61F,61R ロボット 64 ディ
スク反転部 70 反転用アーム 71 チャック駒
80 洗浄装置 84 洗浄液ノズル 85 ロールぶらし

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ディスクの保持部材を設けた回転軸及び
    この回転軸の駆動手段とを含むスピンドル手段と、この
    スピンドル手段に装架された磁気ディスクの少なくとも
    一側表面に対向配設され、この磁気ディスクの所定の領
    域に向けて繰り返しレーザパルスを出射するために、レ
    ーザ光源と、レーザ光の平行光束化手段及び対物レンズ
    を含む光学系とを備えたレーザ光照射手段とからなる磁
    気ディスクの表面加工装置において、前記保持部材は、
    それに装着された磁気ディスクの中心を回転軸の回転中
    心と一致するように調芯する調芯機構を備え、また前記
    光学系のうち、平行光束化されたレーザ光の光路を曲折
    する反射ミラー及び磁気ディスクの表面に所定のスポッ
    ト径で集光させる対物レンズを、前記回転軸の中心を通
    り、磁気ディスクの表面の半径方向に移動させる駆動手
    段とを備える構成としたことを特徴とする磁気ディスク
    の表面加工装置。
  2. 【請求項2】 前記スピンドル手段の中心軸線を水平方
    向に配置し、このスピンドル手段に磁気ディスクを鉛直
    状態に保持させる構成としたことを特徴とする請求項1
    記載の磁気ディスクの表面加工装置。
  3. 【請求項3】 前記スピンドル手段の上部位置から下方
    に向けてクリーンエアを流通させる構成としたことを特
    徴とする請求項2記載の磁気ディスクの表面加工装置。
  4. 【請求項4】 前記保持手段における調芯機構は、前記
    磁気ディスクの内径部を相対向するテーパ面で保持する
    構成としたことを特徴とする請求項1記載の磁気ディス
    クの表面加工装置。
  5. 【請求項5】 前記両テーパ面のうち、一方のテーパ面
    を前記磁気ディスクの半径方向に変位可能とし、他方の
    テーパ面は前記回転軸の軸線方向に変位可能な構成とし
    たことを特徴とする請求項4記載の磁気ディスクの表面
    加工装置。
  6. 【請求項6】 前記駆動手段は可変速モータから構成
    し、前記対物レンズを磁気ディスクの内周側から外周側
    に向けて移動させるに応じて、駆動手段による回転軸の
    回転速度を低速化させるようにしたことを特徴とする請
    求項1記載の磁気ディスクの表面加工装置。
  7. 【請求項7】 前記レーザ光照射手段により前記磁気デ
    ィスク表面のレーザパルスが照射される領域のうち、最
    外周側は略円形になるようにしたことを特徴とする請求
    項1記載の磁気ディスクの表面加工装置。
  8. 【請求項8】 前記レーザ光照射手段からのレーザパル
    スによる前記磁気ディスク表面の凹凸の高さを所定の幅
    は均一な高さとし、外周側では凹凸の高さを連続的また
    は段階的に低くする構成としたことを特徴とする請求項
    1記載の磁気ディスクの表面加工装置。
  9. 【請求項9】 前記対物レンズに自動焦点調整機構を設
    けて、加工領域の外周側では、対物レンズをデフォーカ
    スさせることによって、前記凹凸の高さを変化させる構
    成としたことを特徴とする請求項8記載の磁気ディスク
    の表面加工装置。
  10. 【請求項10】 前記レーザ光照射手段は、レーザ光源
    からのレーザ光を分光して、相対向する一対の対物レン
    ズからレーザパルスを照射可能な構成とすることによっ
    て、前記磁気ディスクの表裏両面を同時に加工できるよ
    うにしたことを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク
    の表面加工装置。
  11. 【請求項11】 前記レーザ光照射手段は、その対物レ
    ンズが前記磁気ディスクの表面と平行な面で位置調整可
    能にする位置調整手段に設ける構成としたことを特徴と
    する請求項1記載の磁気ディスクの表面加工装置。
  12. 【請求項12】 180°反転可能な作業テーブルの2
    箇所に前記スピンドル手段を設けて、一方のスピンドル
    手段が前記レーザ光照射手段に対面する状態では、他方
    のスピンドル手段は前記磁気ディスク移載用の移載手段
    により磁気ディスクのロード・アンロードを行うように
    したことを特徴とする請求項1記載の磁気ディスクの表
    面加工装置。
  13. 【請求項13】 前記作業テーブルを2箇所設けて、一
    方の作業テーブルでは、前記磁気ディスクの表面側を加
    工し、他方の作業テーブルでは、磁気ディスクの裏面側
    を加工するように構成したことを特徴とする請求項12
    記載の磁気ディスクの表面加工装置。
  14. 【請求項14】 前記両作業テーブル間の位置に、前記
    磁気ディスクを反転させる反転機構を設ける構成とした
    ことを特徴とする請求項13記載の磁気ディスクの表面
    加工装置。
  15. 【請求項15】 前記磁気ディスクの加工前の工程で、
    この磁気ディスクを洗浄する洗浄装置を設ける構成とし
    たことを特徴とする請求項1記載の磁気ディスクの表面
    加工装置。
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