JPH04311814A - ガラス基板のテクスチャリング方法 - Google Patents
ガラス基板のテクスチャリング方法Info
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- JPH04311814A JPH04311814A JP7760291A JP7760291A JPH04311814A JP H04311814 A JPH04311814 A JP H04311814A JP 7760291 A JP7760291 A JP 7760291A JP 7760291 A JP7760291 A JP 7760291A JP H04311814 A JPH04311814 A JP H04311814A
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Landscapes
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガラス基板のテクスチャ
リング方法に係り、特に磁気ディスク装置に搭載する磁
気ディスクの製造に適用するガラスディスク基板のテク
スチャリング方法に関するものである。
リング方法に係り、特に磁気ディスク装置に搭載する磁
気ディスクの製造に適用するガラスディスク基板のテク
スチャリング方法に関するものである。
【０００２】磁気ディスク装置に搭載する磁気ディスク
の製造に適用するディスク基板としては一般にアルミニ
ウム等からなるディスク基板が用いられているが、近年
、そのようなアルミニウム等からなるディスク基板に比
べて良好な平坦度の基板表面が得られ、かつ剛性の高い
ガラスディスク基板が用いられるようになってきた。
の製造に適用するディスク基板としては一般にアルミニ
ウム等からなるディスク基板が用いられているが、近年
、そのようなアルミニウム等からなるディスク基板に比
べて良好な平坦度の基板表面が得られ、かつ剛性の高い
ガラスディスク基板が用いられるようになってきた。
【０００３】それに伴い該ガラスディスク基板を用いた
平滑な表面状態の磁気ディスクに対して記録再生用の磁
気ヘッドスライダをＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓａｒｔ
Ｓｔｏｐ） 動作させた場合に、吸着が発生し易く、
それに起因して磁気ディスクの回転起動開始を困難にし
たり、また吸着した磁気ヘッドスライダを無理に引き離
すと磁化記録膜を破壊するといった恐れがあった。
平滑な表面状態の磁気ディスクに対して記録再生用の磁
気ヘッドスライダをＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓａｒｔ
Ｓｔｏｐ） 動作させた場合に、吸着が発生し易く、
それに起因して磁気ディスクの回転起動開始を困難にし
たり、また吸着した磁気ヘッドスライダを無理に引き離
すと磁化記録膜を破壊するといった恐れがあった。
【０００４】このため、ガラスディスク基板を用いた磁
気ディスクの製造においては、該ガラスディスク基板の
表面をあらかじめ磁気ヘッドスライダの吸着が生じない
数ｎｍ程度の表面粗さに効率良く加工するテクスチャリ
ング方法が必要とされている。
気ディスクの製造においては、該ガラスディスク基板の
表面をあらかじめ磁気ヘッドスライダの吸着が生じない
数ｎｍ程度の表面粗さに効率良く加工するテクスチャリ
ング方法が必要とされている。
【０００５】
【従来の技術】従来のガラス基板に対するテクスチャリ
ング方法、例えばガラスディスク基板の表面に対するテ
クスチャリング方法は、図５に示すように回転機構１に
装着され、かつ回転するガラスディスク基板２の表面に
加工液噴出管３より加工液を噴出した状態で、研磨材が
コーティングされた研磨テープ４をテープ押し付け治具
５によって所定押圧で押し当てて前記ガラスディスク基
板２の表面を磁気ヘッドスライダが安定に摺動し、かつ
吸着が生じない程度の微小な表面粗さに荒らすテクスチ
ャー加工を施している。
ング方法、例えばガラスディスク基板の表面に対するテ
クスチャリング方法は、図５に示すように回転機構１に
装着され、かつ回転するガラスディスク基板２の表面に
加工液噴出管３より加工液を噴出した状態で、研磨材が
コーティングされた研磨テープ４をテープ押し付け治具
５によって所定押圧で押し当てて前記ガラスディスク基
板２の表面を磁気ヘッドスライダが安定に摺動し、かつ
吸着が生じない程度の微小な表面粗さに荒らすテクスチ
ャー加工を施している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来のテクスチャリング方法では、前記研磨テープ４
にコーティングされた研磨材の鋭利な微小突起部分によ
り、ガラスディスク基板２のテクスチャー加工面に鋭利
な傷が多数に発生し、該ガラスディスク基板２の耐久性
が低下する恐れがある。
た従来のテクスチャリング方法では、前記研磨テープ４
にコーティングされた研磨材の鋭利な微小突起部分によ
り、ガラスディスク基板２のテクスチャー加工面に鋭利
な傷が多数に発生し、該ガラスディスク基板２の耐久性
が低下する恐れがある。
【０００７】また、加工毎のガラスディスク基板２の表
面を常に一定の表面粗さに仕上げるためには、多くの研
磨テープ４を必要とし、しかも加工液を用いた湿式のテ
クスチャー加工であるがためにその加工後の洗浄工程が
煩雑となるという欠点があった。
面を常に一定の表面粗さに仕上げるためには、多くの研
磨テープ４を必要とし、しかも加工液を用いた湿式のテ
クスチャー加工であるがためにその加工後の洗浄工程が
煩雑となるという欠点があった。
【０００８】更に、加工すべきガラスディスク基板２の
大きさが変わるとテクスチャー加工領域も変わるため、
そのようなガラスディスク基板に対応する基板保持治具
やテープ押し付け治具を複数種も容易しておく必要があ
り、多品種少量のガラスディスク基板のテクスチャー加
工が容易でないという問題があった。
大きさが変わるとテクスチャー加工領域も変わるため、
そのようなガラスディスク基板に対応する基板保持治具
やテープ押し付け治具を複数種も容易しておく必要があ
り、多品種少量のガラスディスク基板のテクスチャー加
工が容易でないという問題があった。
【０００９】本発明は上記した従来の問題点に鑑み、耐
久性を低下させることく、種々の大きさのガラス基板の
加工領域へのテクスチャー加工とその加工後の洗浄工程
を簡単、かつ容易にした新規なガラス基板のテクスチャ
リング方法を提供することを目的とするものである。
久性を低下させることく、種々の大きさのガラス基板の
加工領域へのテクスチャー加工とその加工後の洗浄工程
を簡単、かつ容易にした新規なガラス基板のテクスチャ
リング方法を提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成するため、図１の原理図に示すようにバックプレー
ト１１に対してガラス基板１２の加工面を所定間隔を隔
てて平行に配置し、該ガラス基板１２の背面側よりレー
ザビーム１３を入射し透過させて前記バックプレート１
１に照射し、その照射部分より溶融飛散する微細粒子１
５を対向する前記ガラス基板１２の加工面に衝突させる
ことにより、該加工面を粗面に加工する構成とする。
達成するため、図１の原理図に示すようにバックプレー
ト１１に対してガラス基板１２の加工面を所定間隔を隔
てて平行に配置し、該ガラス基板１２の背面側よりレー
ザビーム１３を入射し透過させて前記バックプレート１
１に照射し、その照射部分より溶融飛散する微細粒子１
５を対向する前記ガラス基板１２の加工面に衝突させる
ことにより、該加工面を粗面に加工する構成とする。
【００１１】
【作用】本発明のテクスチャリング方法では、前記ガラ
ス基板１２の背面側より集光レンズ１４を介してレーザ
ビーム１３を入射し透過させ、前記所定間隔を隔てて平
行に対向するバックプレート１１に照射した際に、その
照射部分が瞬時に溶融飛散し、その飛散する微細粒子１
５が対向する前記ガラス基板１２の加工面に衝突する。
ス基板１２の背面側より集光レンズ１４を介してレーザ
ビーム１３を入射し透過させ、前記所定間隔を隔てて平
行に対向するバックプレート１１に照射した際に、その
照射部分が瞬時に溶融飛散し、その飛散する微細粒子１
５が対向する前記ガラス基板１２の加工面に衝突する。
【００１２】その時の熱により加工面の微小部分が凹凸
状に軟化変形する現象を利用することによって該ガラス
基板１２の加工面を粗面に加工することが可能となる。
状に軟化変形する現象を利用することによって該ガラス
基板１２の加工面を粗面に加工することが可能となる。
【００１３】
【実施例】以下図面を用いて本発明の実施例について詳
細に説明する。図２は本発明に係るガラス基板のテクス
チャリング方法の一実施例を説明するための概略構成図
である。
細に説明する。図２は本発明に係るガラス基板のテクス
チャリング方法の一実施例を説明するための概略構成図
である。
【００１４】図において、２１は矢印方向に移動可能な
移動テーブルであり、該移動テーブル２１上には回転機
構２２が設置され、その回転機構２２には、例えばアル
ミナ・セラミックからなるバックプレート２３が装着さ
れ、そのバックプレート２３上にテクスチャー加工すべ
きガラス基板、例えば磁気ディスクの製造に用いるガラ
スからなるディスク基板２４を、所定間隔を隔ててその
加工面を平行に対向配置する。
移動テーブルであり、該移動テーブル２１上には回転機
構２２が設置され、その回転機構２２には、例えばアル
ミナ・セラミックからなるバックプレート２３が装着さ
れ、そのバックプレート２３上にテクスチャー加工すべ
きガラス基板、例えば磁気ディスクの製造に用いるガラ
スからなるディスク基板２４を、所定間隔を隔ててその
加工面を平行に対向配置する。
【００１５】そして該ディスク基板２４を対向配置した
バックプレート２３を回転機構２２により例えば１００
ｒｐｍ以下の回転速度で低速回転させると共に、前記移
動テーブル２１を矢印で示す方向に往復移動させた状態
で、固定台２５に設置された例えばガラスを透過する赤
外波長領域のレーザ装置、本実施例では１．０６μｍの
発振波長と数十Ｗの発振出力を有するＹＡＧレーザ装置
２６より出射し、反射ミラー２７で９０度反射し、集光
レンズ２８を介して放射したレーザビーム２９を前記デ
ィスク基板２４の背面側より入射し透過させて前記所定
間隔を隔てて平行に対向するバックプレート２３に照射
する。
バックプレート２３を回転機構２２により例えば１００
ｒｐｍ以下の回転速度で低速回転させると共に、前記移
動テーブル２１を矢印で示す方向に往復移動させた状態
で、固定台２５に設置された例えばガラスを透過する赤
外波長領域のレーザ装置、本実施例では１．０６μｍの
発振波長と数十Ｗの発振出力を有するＹＡＧレーザ装置
２６より出射し、反射ミラー２７で９０度反射し、集光
レンズ２８を介して放射したレーザビーム２９を前記デ
ィスク基板２４の背面側より入射し透過させて前記所定
間隔を隔てて平行に対向するバックプレート２３に照射
する。
【００１６】このレーザビーム２９が集光したバックプ
レート２３の照射部分は瞬間的に溶融飛散し、図３（ａ
） に示すようにその飛散する高温な微細粒子３０は対
向する前記ディスク基板２４の加工面に衝突する。この
ように前記バックプレート２３の照射部分より次々に飛
散する高温な微細粒子３０の衝突を受けた前記ディスク
基板２４の加工面における各微小部分では、図３（ｂ）
に示すようにその衝突時の熱によりＡで示すように凹
凸状に軟化変形が生じ、この凹凸状に軟化変形が前記バ
ックプレート２３の回転と移動テーブル２１の移動動作
により該ディスク基板２４の加工面全域に形成されて適
度な粗面状に容易にテクスチャー加工することが可能と
なる。
レート２３の照射部分は瞬間的に溶融飛散し、図３（ａ
） に示すようにその飛散する高温な微細粒子３０は対
向する前記ディスク基板２４の加工面に衝突する。この
ように前記バックプレート２３の照射部分より次々に飛
散する高温な微細粒子３０の衝突を受けた前記ディスク
基板２４の加工面における各微小部分では、図３（ｂ）
に示すようにその衝突時の熱によりＡで示すように凹
凸状に軟化変形が生じ、この凹凸状に軟化変形が前記バ
ックプレート２３の回転と移動テーブル２１の移動動作
により該ディスク基板２４の加工面全域に形成されて適
度な粗面状に容易にテクスチャー加工することが可能と
なる。
【００１７】なお、上記テクスチャー加工によるディス
ク基板２４の加工面の表面粗さは、レーザビーム２９の
出力、バックプレート２３とディスク基板２４間の間隔
の制御及びバックプレート２３の材質の選択等によって
種々に変化させることができる。
ク基板２４の加工面の表面粗さは、レーザビーム２９の
出力、バックプレート２３とディスク基板２４間の間隔
の制御及びバックプレート２３の材質の選択等によって
種々に変化させることができる。
【００１８】また、バックプレートはテクスチャー加工
するガラス基板よりも高い融点の材料が好ましく、消耗
材であるため、その材質を選択して使用する場合には図
４に示すように通常用いるバックプレート、或いは前記
バックプレート２３と同形状に形成したプレート支持台
３１上に取替用バックプレート３２を配置する構成とす
ることが得策である。
するガラス基板よりも高い融点の材料が好ましく、消耗
材であるため、その材質を選択して使用する場合には図
４に示すように通常用いるバックプレート、或いは前記
バックプレート２３と同形状に形成したプレート支持台
３１上に取替用バックプレート３２を配置する構成とす
ることが得策である。
【００１９】更に、以上の実施例では回転するバックプ
レートを一方向に往復移動させた状態で該バックプレー
トにレーザビームを照射する方法の例で説明したが、そ
のような例の他に、例えばレーザ装置より出射したレー
ザビームを反射ミラーの反射角度移動や回転ミラーの回
転駆動等により回転するバックプレートの一方向に往復
移動走査して照射するか、或いはレーザ装置より出射し
たレーザビームを光ファイバ内に伝送し、そのレーザビ
ームが放射される光ファイバ先端部を回転するバックプ
レートに対して一方向に往復移動走査して照射する方法
を用いるようにしてもよく、同様の効果が得られる。
レートを一方向に往復移動させた状態で該バックプレー
トにレーザビームを照射する方法の例で説明したが、そ
のような例の他に、例えばレーザ装置より出射したレー
ザビームを反射ミラーの反射角度移動や回転ミラーの回
転駆動等により回転するバックプレートの一方向に往復
移動走査して照射するか、或いはレーザ装置より出射し
たレーザビームを光ファイバ内に伝送し、そのレーザビ
ームが放射される光ファイバ先端部を回転するバックプ
レートに対して一方向に往復移動走査して照射する方法
を用いるようにしてもよく、同様の効果が得られる。
【００２０】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係るガラス基板のテクスチャリング方法によれば、乾
式のテクスチャー加工であるので、その加工操作及び加
工後の洗浄工程が簡単化され、また、加工すべきガラス
基板の大きさに対応する複数種の基板保持治具やテープ
押し付け治具も用意する必要がなく、種々の大きさのガ
ラス基板のテクスチャー加工をその耐久性を低下させる
ことなく容易に実現することができる。
に係るガラス基板のテクスチャリング方法によれば、乾
式のテクスチャー加工であるので、その加工操作及び加
工後の洗浄工程が簡単化され、また、加工すべきガラス
基板の大きさに対応する複数種の基板保持治具やテープ
押し付け治具も用意する必要がなく、種々の大きさのガ
ラス基板のテクスチャー加工をその耐久性を低下させる
ことなく容易に実現することができる。
【００２１】従って、磁気ディスク装置に実装する磁気
ディスクの製造に用いるガラスディスク基板のテクスチ
ャー加工に適用して優れた効果を奏する。
ディスクの製造に用いるガラスディスク基板のテクスチ
ャー加工に適用して優れた効果を奏する。
【図１】 本発明のガラス基板のテクスチャリング方
法の原理を説明するための図である。
法の原理を説明するための図である。
【図２】 本発明に係るガラス基板のテクスチャリン
グ方法の一実施例を説明するための概略構成図である。
グ方法の一実施例を説明するための概略構成図である。
【図３】 本発明に係るガラス基板のテクスチャー加
工時の現象を説明するための図である。
工時の現象を説明するための図である。
【図４】 本発明に係るガラス基板のテクスチャリン
グ方法に用いるバックプレートの他の実施例を示す概略
構成図である。
グ方法に用いるバックプレートの他の実施例を示す概略
構成図である。
【図５】 従来のガラス基板のテクスチャリング方法
を説明するための概略構成図である。
を説明するための概略構成図である。
１１，２３ バックプレート
１２ ガラス基板
１３，２９ レーザビーム
１４，２８ 集光レンズ
１５，３０ 微細粒子
２１ 移動テーブル
２２ 回転機構
２４ ディスク基板
２５ 固定台
２６ ＹＡＧレーザ装置
２７ 反射ミラー
３１ プレート支持台
３２ 取替用バックプレート
Claims (1)
- 【請求項１】 バックプレート（１１）に対してガラ
ス基板（１２）の加工面を所定間隔を隔てて平行に配置
し、該ガラス基板（１２）の背面側よりレーザビーム（
１３）を入射し透過させて前記バックプレート（１１）
に照射し、その照射部分より溶融飛散する微細粒子（１
５）を対向する前記ガラス基板（１２）の加工面に衝突
させることにより、該加工面を粗面に加工することを特
徴とするガラス基板のテクスチャリング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7760291A JPH04311814A (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | ガラス基板のテクスチャリング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7760291A JPH04311814A (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | ガラス基板のテクスチャリング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04311814A true JPH04311814A (ja) | 1992-11-04 |
Family
ID=13638491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7760291A Withdrawn JPH04311814A (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | ガラス基板のテクスチャリング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04311814A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5567484A (en) * | 1993-11-10 | 1996-10-22 | International Business Machines Corporation | Process for texturing brittle nonmetallic surfaces |
| US5631408A (en) * | 1994-12-27 | 1997-05-20 | International Business Machines Corporation | Method of making disk bumps with laser pulses |
| US5902665A (en) * | 1996-08-30 | 1999-05-11 | Onda Techno | Glass substrate for magnetic disks |
| US6132843A (en) * | 1996-11-14 | 2000-10-17 | Nippon Sheet Glass Do., Ltd. | Glass substrate for magnetic disks |
| US20110100058A1 (en) * | 2009-10-30 | 2011-05-05 | Dickinson Jr James Edward | Formation of glass bumps with increased height using thermal annealing |
-
1991
- 1991-04-10 JP JP7760291A patent/JPH04311814A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5567484A (en) * | 1993-11-10 | 1996-10-22 | International Business Machines Corporation | Process for texturing brittle nonmetallic surfaces |
| US5595791A (en) * | 1993-11-10 | 1997-01-21 | International Business Machines Corporation | Process for texturing brittle glass disks |
| US6246543B1 (en) | 1993-11-10 | 2001-06-12 | International Business Machines Corporation | Textured data storage disk having a brittle nonmetallic substrate |
| US5631408A (en) * | 1994-12-27 | 1997-05-20 | International Business Machines Corporation | Method of making disk bumps with laser pulses |
| US5689057A (en) * | 1994-12-27 | 1997-11-18 | International Business Machines Corporation | Calibration disk with disk bumps for calibrating PZT sliders |
| US5902665A (en) * | 1996-08-30 | 1999-05-11 | Onda Techno | Glass substrate for magnetic disks |
| US6132843A (en) * | 1996-11-14 | 2000-10-17 | Nippon Sheet Glass Do., Ltd. | Glass substrate for magnetic disks |
| US20110100058A1 (en) * | 2009-10-30 | 2011-05-05 | Dickinson Jr James Edward | Formation of glass bumps with increased height using thermal annealing |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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