TW222615B - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- TW222615B TW222615B TW080107299A TW80107299A TW222615B TW 222615 B TW222615 B TW 222615B TW 080107299 A TW080107299 A TW 080107299A TW 80107299 A TW80107299 A TW 80107299A TW 222615 B TW222615 B TW 222615B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- glass
- percentage
- weight percent
- weight
- ceramic
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4803—Insulating or insulated parts, e.g. mountings, containers, diamond heatsinks
- H01L21/4807—Ceramic parts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/16—Compositions for glass with special properties for dielectric glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/22—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions containing two or more distinct frits having different compositions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
- H01L23/14—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the material or its electrical properties
- H01L23/15—Ceramic or glass substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/095—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
- H01L2924/097—Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
- H01L2924/09701—Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
Description
C ^ ^ 5 A 6 B 6 經濟部中央櫺準局β工消#合作社印製 五、發明説明(1 ) 本發明涤翮於介電组合物。更特定言之•本發明係關於 玻璃和陶瓷物質,其可在低溫下燒结而產生具有低熱膨張 係數和低於4.2介電常數之稠密物體。 習知地•氧化鋁(auo3)可使用做為微電子封裝的介電 物質。其具有優異電的(絕緣)、熱的和櫧械的(特別是 強度)特性。Μ氧化鋁為基礎之封装通常含有4_ 10重量 百分比玻璃,並需要1 5 0 0 C Μ上境结溫度,此將必需使 用耐火金靨如鉬或鎢作為電的互連•如此該金靨才能與封 装共-燒。這些金靨若與高導電性金屬如銅比較時有較差 的電導性•第二,彼等在所需的共一燒期間則需使甩強的 還氧氣層,及昂貴熔爐糸统。 多層陶瓷電路板的發展已_向-於較高頻率、較高密度和 較高速之装置。AU〇3有相當高介電數約9.9 ,會引起高 的訊號傳播延遲及低的訊號一對-噪音比(漏話現象)。 在陶瓷基材上訊號傳播延遲(t)是受基材的有效介電常 數(k')所影響•如下列等式:t = ( k 7 ) °-5κ c 其中C表示光速。頃發現訊號傳播延遲可羥由基材有效 介電常數的減少而顯著地減低。-舉例說明,如果物質的介 電常數由1Q (約為A 1 2 0 3之k ’)減低成5 ,則訊號傳播延遲 可減少30百分比。對於基材使用密樂橫體電路,例如超大 型續體電路(VLSI)來架構(housing)測定板(chip)時
TP (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) c,c c λ r -0' 4' 0 j. 〇 A 6 B6 經濟部屮央標準局A工消费合作社印製 五、發明説明(2 ) 小的訊號延遲特別重要。 再者,氧化鋁的熱膨脹係數與矽的3.4 10_βυ比較時 為約7.4 X 1〇-3/^〇 (在20 — 2001:範圍)。此熱膨脹的不 相配當把矽膠封於該基材上時會導致設計上的束縛和可信 度的事情。 迄今,大部份使用於多層電路的介電物質習知地都是厚 膜姐合物。典型的電路是藉由在通常為32 — 3S重量百分比 AU03的陶瓷基材上以連續地印刷、乾烽和具燃燒功能的 學膜層而装配成的。所需的多步驟因大量的加工步琛而使 此技術程序更密集,並由於高成本而產生損失。雖然如此 厚膜技術在電子工業中遨是有很重要的需求,並且在可預 見的未來將持續如此。 ^ 最近,具低介電常數之介電厚膜姐合物已引進了。然而 具有小於4 . 5之低介電常數和等於矽(3 . 4 p p m / t )之熱 膨脹係數的陶瓷基材尚未有可行性。 近來,低溫共一燃(LTCF)技術已被引用為製造多層電路 的方法。此技術提供了 HTCF技術之加工利益和厚膜技術之 物質利益的结合,這些LTCF線帶系统具有低於lOOOt:之燃 燒溫度並允許高専電性金屬如銀、金、銀/鈀和铜(然而 ,飼需在還原氣層)之使用。大部份的這些膠帶糸统具有 6到8之間的介電常數並包含有~ 一熱膨脹係數(T C E )範 圍。 近來·尚未具可行的低溫共溫一燃介電媒帶系统•其是 使用有低介電常數(小於4.5 )和膠封在矽土之TCE ( ΤΡ - 4 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 線. 太板诙尺沧这m中困03 ί:过淮iCNS) 痴格(2丨0乂297公帒) 5 經濟部屮央標準Λ,Ιβ工消費合作社印製 A 6 _Bj6 五、發明説明(3 ) 3.4 ppm/υ)的玻璃加陶瓷方式。 使用铜導體之多層陶瓷電路板之製法乃描述於美國專利 第4,642, 148號,由古利哈拉(Kuriha「a)等人所公佈。 其揭示陶瓷组合物含有1Q— 75重量百分比α —氧化鋁、5 —7〇 %重量百分比非一晶形石英(熔化二氧化矽)、20 — S0重量百分比硼矽酸鹽玻璃。所得之燃燒物質的介電常數 在4 . 8到9 . 6範圍内。 由許諾哈拉(ShUohara)等人公佈之美國專利第 4,672,152號描述了多層陶瓷電路板,其中該陶瓷是由50 一 95重量百分比可结晶玻璃和5 —5Q重量百分比陶瓷填充 劑之混合物所製得。該物質有一介電常數在5.1和6.0之 間並具有撓曲強度大於150 MPa』該可结晶玻璃是由5 — 2〇重量百分比氧化鋰、SO -SQ重量百分比二氧化矽、1 _ 10重量百分比氧化鋁和1 — 5重量百分比鹼金鼷氧化物而 非氧化鋰所姐成。該陶瓷填充劑則選自包含二氧化矽、召 —鋰霞石(L i M S i 0 4 )和氧化鋁。 由迪拉薩羅(DiLazzaro)等人所公佈之美國專利第 4,7 5 5,490號描述具有介電常數在4. 5和6.1間的低燃馆 溫度陶瓷物質。該物質具有3.9和4.2公分/公分/1〇 X 1〇_0間的熱膨脹係數。霣例11顯示k’=4.5和TCE = 3.9 。 該物質是由10 — Μ重量百分比化鋁、0 — 3Q重量百分比 熔化二氧化矽和別一 SQ重最百分比(約SQ — 7Q體撗百分比 )由約4重量百分比CaO ,約12重量百分比MgO 、約23重 量百分比B203和約42重量百分比Si02所組成之玻璃料的混 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) TP - 5 - 太敁泷尺疳读用中因因它坻旅(CNS)甲4插格(210乂297公烽) 222615 五、發明説明()- ------------ (請先閎讀背面之注意事項再填寫本页) 合物所形成。該姐合物可在低於1000 π下燃燒。 由巴鈴格(Barringer)等人所公佈之美國專利第 4,788,046號描述了用於積《霣路之具有低燒结溫度之玻 璃-陶瓷封裝。該焼结姐合物是藉由用玻璃塗覆陶瓷粒子 ,把該已塗覆粒子和玻璃分開及接著把該已塗覆粒子製成 半成品緊密盒而形成·。使用石英則可得具最低介電常數 (4.5)物質。此物霣具有大於5.5之熱膨脹係數。 由伯恩(Burn)所公佈之美國專利第4,879,261描述介 電體小於5.0之低介罨物質。該物質是由實質上含70-85 重量百分比二氧化矽和15-3〇重量百分比画砂鋅助熔劑之 细碎粒子混合物所形成·其可於氧化氣層中在10651 下 燃燒。該姐合物可用來製造具有内部鋦導賭之半成品線帶 和多層装置如多餍霣容器和多層互連器。 由上所述•可看出對低溫共一堍線帶介罨體有實質上的 需求•此介電體⑴有低介電常數(小於4 . 5 ί⑵具有非常 接近矽值(3.4 ΡΡΒ/υ )之熱膨脹係數*及⑶可在低溫下 (小於950 υ )空氣宁燃焴*因而允許高導電性治金如金 、銀和銀/鈀之使用。 本發明主要目的是提供可燒结成具有低於4.2介電常數 、低於4.0 ΡΡΒ/υ熱暌脹係數,及可在小於9501C 下空氣 中燃燒的胚體物質。· 本發明之另一目的是’提供在_低寧下燒结Μ產生具低熱膨 脹係數和低於4.2介電常數及低於體積百分比玻璃含量 之稠密胚體(大於95百分比理,論密度)的陶瓷物質。減小 甲 4(210Χ 297公沒) -82:A6 B6 ^、發明説研「—y 該燒结胚體之玻璃含量是非常需要,因為該玻璃相在共-熗期間是負責形狀扭曲或翹曲。若該燒结胚體欲使用於電 子封裝*則和高體積百分比玻璃含量有瞄的形狀扭曲會引 起孔洞(v i a h 〇丨es )在金靨和陶瓷共燒期間無法排成一線 。玻璃含量低於50體積百分比將可減小翹曲發生。 發明摘诚 本發明係鼷於用於製造具有介電常數小於4.2之陶瓷介 電電物體的陶瓷组合物,該姐合物可與高導電性金屬如金 、銀和銀/鈀共一燒。該組合物25 — 50體積百分比硼矽酸 鹽玻璃和5〇 - 75體積百分比高二氧化矽玻璃之细碎粒子混 合物。 t請先《讀背面之注意事項再填寫本頁) -¾.. 合 聚 於 散 分 物 合 組 述 上 有- 含 0 於帶 翮線 係品 明成 發半 本燒 ’燃 念未 觀之 個中 二劑 第合 黏 間形 其燒 和燃 層被 物已 合;物 姐合 述集 上該 有, 含板 於基 關瓷 係陶 明層 發多 本之。 ,層構 念體結 觀導的 步銅封 一 之密 進連密 再互稠 有成 具成 並燒 層燃 物被 合已 組物 述合 上集 有該 含 , 於器 關容 係電 明瓷 發陶 本層 . 多 念之 觀間。 個其構 一 在结 另層封明 有體密説 尚導密明 銅稠發 之分 份百 組份 要姐 主一 植毎 兩 。 有璃 含破 是矽 物化I 合氧- 姐二 瓷高 陶和 加璃 璃玻 玻鹽 的酸 佳矽 較硼 明 : 發物 本合 is 终溫 最低 之及 質術 物技 瓷造 燒規 燃正 該 0 視可 乃體 ,物 化瓷 變陶 内的 圍密 0 稠 述。 所定 下而 如性 在持 可需 比所 •打· •if. 甲 4(210X 297乂沒) 經濟部屮央樑準局β工消费合作杜印製 A6 _B_6 五、發明説明(6 ) (即850-1000¾)燒结由此组合物而製得。在本發明較佳 應用中 > 此一混合物可製成薄線帶、在所需位置上把該線 帶穿孔所得孔洞(via hole)、及在該已穿孔線帶上形成 一種以上金靨導體路徑。用於導體路徑之合適金饜包括飼 、銀、金、鉑/金和鈀/銀。隨後典型地是在二個以上斷 面(section)被層合在一起Μ形成多層電路基材之後·再 把該線帶在低溫下燒结。 令人驚奇地,頃發現低燃燒溫度之玻璃加陶瓷姐合物可 由含小於5ϋ體積百分比硼矽酸鹽玻璃之混合物製成。如上 所述•減少該燒结物體之玻璃含量是非常需要的·因為該 玻璃相在共一燒期間是負責形狀扭曲或翹曲。玻璃合量低 於50體積百分比將可減少翹曲及_孔洞(ν ί a h ο 1 e )無法 "排成一槔之發生。本發明之低燃燒溫度玻璃加陶瓷姐合物 可藉由提供含25 — 5Q體積百分化硼矽酸鹽玻璃和50 — 75體 積百分比高二氧化矽玻璃之粉狀成份的混合物而製得•該 硼砂酸鹽玻璃是由 Al2〇3、 B2〇3、 CaO、 K20、 Li20、 Na20 、S i 0 2姐成,如此該混合物則具有钦化點7 9 3 1C 。然後把 多量該混合物以習知步琢製成所需形狀,並在至少85010 ,較佳為850-950C ,最佳為900-9501下燒结。此燒结 可在氧化,中性或遇原氣層下執行。 本文所用之”玻璃加陶瓷”一~詞是表示由结晶陶瓷和玻 璃之混合物所形成的燒结陶瓷组合物。該”玻瑀加陶瓷" 组合物之陶瓷和玻璃相在燃燒後運是很不同。在”玻璃加 陶瓷”系统中之玻璃在燃燒後遇保持其玻璃特激•並且在 (請先閱讀背面之注意事項再塡寫本頁) 装< 訂‘· 線. ΤΡ - 8 太板银β飧ii用Φ a « V4梅焓(210x297公修) 經濟部屮央標準局Μ工消#合作社印製 rw、ί' λ / 产 “ w i 5 A 6 _ B 6_ 五、發明説明(7 ) 該姐合物中是非一結晶玻璃。本文所用之”玻璃加陶瓷 一詞是在辨別含非-结晶玻璃與”玻璃-陶瓷”系统(其 中玻璃在燃燒時,受到支配而變得不透明並變成结晶形) 〇 本文所用之”硼矽酸鹽玻璃”玻璃表示含20-35重量百 分比氧化硼(B 2 0 3 )和SQ - 8Q重量百分比二氧化矽之玻璃族 〇 本文所用之”高二氧化矽玻璃”玻璃表示含大於S5重量 百分比二氧化矽(Si02)和含3 - 4重量百分比B2〇3 & 0 — 1重量百分比Al2〇3之玻璃族。”高二氧化矽玻璃”有一 軟化點大於15001C,並且當使用在低於1000T:下燃燒的陶 瓷姐合物時不會變得不透明。所”高二氧化碳玻璃”之 作為像S结晶形的填充劑,因為其和該物質的其他陶瓷姐 份還是明顯不同。 ”高二氧化矽玻璃”和”熔化二氧化矽玻璃”是不同的 ,由於”熔化二氧化矽玻璃”確實含有100百分比Si02。為 了本發明之故”高二氧化矽玻璃”和”熔化二氧化矽玻璃 ”之間的差異是有些嚴苛。”熔化二氧化矽玻璃”在提高 溫度下比”高二氧化矽玻璃”更易變得不透明而形成白矽 石结晶形。在燃堍期間所形成之白矽石相冷卻時仍保留在 該物質内並且因存在該已燃馈產~品中而提高了 TCE及降低 產品之機械強度。機械強度的損失乃由於和相赛換(其會 產生微裂)有關的體橫改變所致。”高二氧化矽玻璃”在 低於10001下將不會结晶成白矽石。
TP (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. ,\气· 線· δ
AB 明説 明 發 f五 碎 细 用 所 文 本 尺 米 微 5 於 \ d 至 磨 研 是 質 物 示 表 詞 寸 需所 該中 把替 例此 比如 需。 所得 Μ製 巧而 技物 造融 製熔 _ 成 璃形 玻使 知之 習熱 由加 藉再 可合 璃混 玻份 等姐 該之 要 物 融 熔 該 使Μ 間 時 段! 行 進 度 〇 溫性 的質 高均 最具 在並 要體 熱液 加成 ’ 變 知全 熟完 特。 是故 璃之 述數 上常 該電 ’ 介 言低 而有 用而 應因 SI及 VL度 如強 ’ 化 装極 封低 子其 電為 在因 用’ 使的 於要 對需 別 大矽 加化 添氧 需二 必高 Μο 所點 ’ 化 點钦 化加 軟增 低來 於璃 向玻 趨之 身度 本濃 璃02 玻si 翮高 酸有 矽具 硼他 於其 由量 ο ο 久約 耐含 更包 者璃 度玻 濃鹽 03酸 ”矽 高硼 具的 比佳 璃較 玻 比 分 百 量 S 畫 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· B0 比、 分 Q 百K2 量比 30百 1 量 5 重 2 3 C 〇 比、 VT 2 分 ο 百Li 量比 1 百 I 量 ο 重 1 百 - 量 ο 重 訂 比 比 分分 百若 量 〇 重度 75溫 I 结 65燒 及響 03影 Bz可 ο 量 zn璃 比玻 分鹽 百酸 量矽 S 租 5 之 ο 用 - 所 ο 該 中到 例達 施法 宵無 體而 具高 此太 在會 ’ 將 明度 說溫 例结 舉燏 .nu 貝 璃 ’ 玻} 鹽比 酸分 矽百 硼積 的體 小25 太於 用小 使為 經濟部屮央橾準XJA工消t合作社印製 在 璃 玻 鹽 酸 矽 硼 持 结 益。 利的 些需 這必 到是 得内 了比 為分 〇 百 益積 利體 之50 明| 發25 本約 虽 S 3 、 0 化 丨氧 寧 康 以 是 -物 合 姐ο 瑀有 玻含 砂其 化 ’ 氧售 二販 高名 的品 佳商 較13
比 分 百 量 置 S 比 分 百 量 &B 9 Γ ο 圃 範 份 姐 佳 較 之 物 〇 . 合 N 姐 wo^ 5陶 加 璃 玻 明 發 6本 9銳 、解 03例 B2實 比列 分下 百 ο 11 太 Λ iiffl 甲 4 捣格(210x297 公货) 經濟部+央樑準扁员工消费合作社印製 A 6 B 6_ 五、發明説明(9 ) 。在每一實例中I該硼矽酸鹽玻瑀包含有0.98重量百分 比六12〇3、26.7重量百分比8203、0.11重量百分比〇3〇、 0.84重量百分比K2〇、0.78重量百分比LU0、0.2重量百分 比Na20和69.8重量百分比SiO,而該高二氧化矽玻璃是康 寧的7913 。 在此實例中,起始物質之姐成S宵上為75體積百分比高 二氧化矽玻璃25體積百分比硼矽酸鹽玻璃。把該硼矽酸鹽 玻璃和高二氧化矽玻璃個別地放在1.3加侖球磨機内研磨 1S小時使達到2 — 4微米的粒子大小。因為硼矽酸鹽玻璃 和高二氧化矽玻璃的密度幾乎相词|所Μ體積百分比可約 略地相等於重量百分比。在此實例中該混合物的實際重量 百分比是75.2重最百分比高二氧化矽玻璃和24.8重量百分 比硼矽酸鹽玻璃。把此無機物質混合與5重量百分比聚乙 二酵黏合劑和SQ重量百分比1 _丙酵姐合並在管狀混合器 中混合2小時。然後在8〇°〇下把該物質過乾2小時並篩分 。接著藉由在一13,OOOps丨(910公斤/平方公分)模子中 壓縮此研磨過混合物使其乾壓成直徑1.9公分、高0.3公 分丸粒。把此丸粒在空氣中燃燒•此燃燒分成兩步猱。第 一步驟先把鲇合劑焴出。此乃ΙΓ由加熱該等丸粒至500t 並維持1小時而成。接續在各棰溫度範圍860 ¾ 到1 000 t 等溫地燒结該等丸粒4小時。此已燒结物質之馏结密度是 藉由根據ASTM程序C373-72水置換法測得。熱膨脹係數( TP - 11 - 裝· 訂· 線- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部屮央標準沿β工消费合作社印製 A 6 B 6 五、發明説明(10 ) TCE )是使用膨脹計並在室溫至200C 溫度範圍測得。介 電常數和介電損失是藉由在1MHz下由HP 4192 AC阻抗測得 。該物質之燒结密度如表I所報告。頃發現該所得燒结陶 瓷物質之密度為大於35百分比的9501C 理論密度(T.P.)。 而該物質之介電常數(k'),散逸因數(D.F.)和線性 熱膨脹係數(TCE)如表2所記錄。 鬣例_.2·. 除了無機姐合物是7Q體積百分比高二氧化矽玻璃、30體 積百分比硼矽酸鹽玻璃(分別是70.2重量百分比和29.8重 量百分比)外,重覆實例ί步驟。該物質之燒结密度如表 I所報告。該所得之燒结陶瓷物-質之密度經測量具為大於 35百分比之高於900C溫度理論密度(T.D.)。該物質之介 電常數(k'),散逸因數(D.F.)和線性熱膨脹偽數 (TCE )記錄於表2中。 啻例3 除了無機姐合物是SQ體積百分比高二氧化矽玻璃、4Q體 積百分比硼矽酸鹽玻璃(分別是60.2重量百分比和39.8重 量百分比)。該物質之燒结密度報告於表I中。該所得之 熵结陶瓷物質之密度經測量具為~大於95百分比之高於850 t理論密度(T.D.)。該物宵之介電常數(k'),敗逸 因數(D.F.)和線性熱膨脹涤數(TCE)記錄於表2中。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 装- 線_ A 6 B 6 五、發明説明(11) 苜例4 除了無機组合物是5Q體積百分比高二氧化矽玻璃、50體 積百分比硼矽酸鹽玻璃(分別是50.3重量百分比和49.7重 量百分比)外,重覆S例1步驟。該物質之燒结密度如表 I所報告。該所得之燒结陶瓷物質之密度經測量為具大於 95百分比之高於800t理論密度(T.D.)。該物質之介電常 數(k' ) ·散逸因數(D.F.)和線性熱膨脹涤數(TCE) 記錄於表2中。Μ_L_ — 溫摩 (V ) 姐合物(髑穑百分fch ) 800 850 9QQ 95Q BSG HSG _密麻 (% T . D .) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部屮央櫺準Αβ工消费合作社印製 25 75 68 . .2 78.7 9 1 , ‘4 98.2 30 70 Ί2 . .0 93.5 99 . ,9 99.9 40 60 95 .2 99 . 9 99 _ ,9 99.9 50 50 99 ,9 99.9 99 . .9 98.2 TP 13 疳这用ΦΒΗϊυ*迆(CNS)申4甩棋(210x297公资) ^^Gi5 A 6 B 6 五、發明説明(2 ) 2 組合 m (m m W ^ hh ) BSG HSG V, k, D.F. (¾ 25 75 950 3 .9-4.0 0.1-0. 30 70 90 0 3 .8-4.0 0.1-0. 40 60 900 3 .9-4.1 0.1-0. 50 50 900 3 .9-4.0 0.3-0. TC.F. (ppm/c.) 3.0- 3.2 3.0- 4.0 3.0- 4.0 3.4-3.6 (請先閱讀背面之注意事項再塡寫本頁) 經濟部屮央櫺準局β工消费合作社印製 茛例 體積百 玻瑀含 扭曲。 高燒结 貴金靨 组合物 再者 介電損 可減少 實例 了要形 1 - 4 分比) 量是非 S例1 密度( 如金( 使用於 •實例 失(在 在陶瓷 1-4 成用於 的產品 運少的 常需要 一 4的 含有比 玻璃含 的,因 產品具 那些文獻上所報告者(大於so 量(25 — 5Q體積百分比)。低 為其可避免在共 有在 800-950 t: 大於95百分比理論密度)。此 Au)和銀-鈀(Ag-Pd)者相容 共一燒的陶瓷/金靨電子封装 1 一 4之物質有低介電常數( 1 Μ Η Z下0 . 1 - 0 · 4百''分比)是非 基材中之信號傳播延遲。 之物質可用來製造多層高頻率 多層高頻率電路封裝之介電靨 -燒時形狀的 空氣中所得之 燒结溫度可與 ,其將能使該 系統中。 3 . 8 - 4 . 1 )和低 常需要的,其 電路封装。為 ,該起始物質
TP 14 太/»沾期 甲4«Μί210χ297公货)
五、發明説明() (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本页) 需在球磨機中研磨直至具2 - 4微米的平均粒子大小。然 後藉由把细磨粉末與合適溶劑和其他慣用添加劑,如增塑 劑和黏合劑Μ此藝中習知方法姐合,即可形成泥漿。使用 一習知之定厚器壓平程序把該泥漿薄造成具有約75到400 微米厚的”半成品”(未燃燒)薄板,其後再把該半成品 薄板平伏(blanked)成個別的(25毫米正方形薄板或線帶 。接著使用鑄模穿孔程序可在半成品薄板中形成孔洞( via hole)。合逋的孔洞是約125微米直徑。使用網版印 刷程序把導體漿Μ所需之圓樣(pattern)塗覆在該已穿孔 之薄板上。同時該導體漿也塗覆在該孔洞(via hole)內 Μ形成在導體圖樣之間之連接。該導體的主要金靥姐份為 金、銀、銅、銀/鈀合金、金/鉑合金、或其他合適物質 。然後把該印刷半成品薄板Μ所需序列使用準線孔Μ確定 正確排位,並在35.和2 5 0公斤/平方公分間之壓力及在 50-100¾下使之層合在一起。最後在不超過1000¾溫度內 燃燒該已層合半成品薄板而形成稠密、燒结陶瓷多層電路 基板。如果該導體金學在燃燒溫度下不會對氧化作用敏感 ,則此燃馍可在空氣中完成。舉例說明,除了飼是箱要在 遨氧或中性氣層外,其他前面所指金覇都是這種情況。依 此方法所製成之薄板具有低玻璃含量(25 - 5〇體積百分比 ),所以有較低傾向的杻曲和翹曲。 本發明姐合物同時可用於以賁f上習知之技巧所製成之 硬式、非孔狀陶瓷物體。舉例說明,任一先前簧例的批次 成份可用水和有機黏合劑組合·,並以球磨約2〇小時之久, -15 - 甲 4(21〇X 297 7^) S22615 A 6 B 6 五、發明説明(14 ) 末各適 他英,其 做本修 粉造合 其石者時 中背和 子製的 但信再 P 陁違變 粒來亡 ,咸。00實不改 狀壓00述而故10體要類 球靜10。 描然之過 具只此 圓等過體來。E 高 述-M 為或超物眼中TC度 上果所 乎堞不瓷字明高溫 在結。。 幾乾在陶為發其至 可的圍中 到如體的璃本為焴 是當-ig.圍 得,胚结玻於因燃 即相利範 可巧該燏矽用-當 ,或專利 ,技把、化使的, 的同請專 缲形後密氧蓋用矽 明相申請 乾成然稠二涵使化 顯到之申 孩準。得高可能氧 當達文列 唄標體可以也不二 相 K 本下 纆由胚刖都矽是化。者正和在 漿藉的,明化石熔明 g 修理蓋 泥可狀燏發氧矽用透此或原涵 得末形燃本二白使不譜變述於 所粉需下然之或能得热改所欲 該該所度雖式 \ 不變對種明將 。。種溫 形和也會 各發正 ...............! .......裝....訂· . .線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部屮央標準局貝工消费合作杜印¾
Claims (1)
- 222615 ’ Y 修 u: 六1 ^|_專:利範la~種由细碎粒子所形成之陶瓷姐合物,該姐合物具有介 電常數小於4.2及热膨脹係數小於4.0 PPi/t,該姐合 物賁質上包含有: m 25 一 5D«稹百分比硼矽酸鹽玻璃,其含有20 _ 3$重 最百分比B2〇3和B0 _8〇重量百分比Si〇2 ; Μ及 ^ 50 — π «稹百分比之實質上由 0.5— 1重最百分比氧化鋁 一 5重最百分比Β2〇 和 (請先閱讀背面之注意事項再填鸾本页) 2 a 郎一μ重量百分比si〇2m姐成之玻璃。 根據申辅専利範圈第i項之陶瓷姐合物,其中該硼矽酸 鹽玻璃之姐成份為: 〇 一 3簠董百分比氧化鋁、_2〇 — 30重量百分比Β2〇3、 〇_3重量百分比〇3〇2、0 — 3重量百分|(2〇、0-3重悬百分比LU0、0 — 3重量百分比NaO,及60-8〇重最百分比Si02。 根據申請専利範圃第1項之陶瓷姐合物,其中該所製成 之陶瓷介電物體具有熱膨脹係數在3.0-4.0 ppm/C範团 内。 經濟部中央標準局印装 粒介溶 碎機機 细有有 該 該 該ί 中 中 中性 其 其。其和 , *劑 * 調 物 物合物鑄 合 合黏合可 姐 姐合姐有 瓷。瓷聚瓷具 陶中陶5L陶液 之質之中之散 _ 項介項琊項分 1機4溶5其 1 第有第拥第且 _ 醒於園有園並 範敗範於範劑 利分利溶利溶 專乃専一専性 諝物請括請發 申合申包申揮 據混據是據為 根子根質根劑 4.US cdTP f 4(210X297 公廣) 經濟部中央揉準局印製 222615 at B7 C7 _D7 六、申請專利範面 Castable Consistency) 0 7.—種可鑄型之陶瓷姐合物,其實質上含有: ») 實際上由20 -35重量百分比B20s# SO — 8〇重量百分 比Si 02所姐成之砸矽酸鹽玻璃25- 50嫌稹百分比 及50 - 75體稹百分比實質上由, 0.5— 1重量百分比氧化鋁 1 一 5重最百分比B2〇3,和 95 — 98重量百分比Si〇2所姐成之玻璃的混合物;Μ 及 (b) 15 - 3D重量百分比含有聚合黏合劑溶解於有桷溶劑 中之有機介質。 TP - 2 - 甲4(210X297 公瀠) ...................................................«-..............................^ (請先W讀背面之注*事項再填寫本页)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/571,203 US5071793A (en) | 1990-08-23 | 1990-08-23 | Low dielectric inorganic composition for multilayer ceramic package |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW222615B true TW222615B (zh) | 1994-04-21 |
Family
ID=24282739
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW080107299A TW222615B (zh) | 1990-08-23 | 1991-09-16 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5071793A (zh) |
EP (1) | EP0472165A1 (zh) |
JP (1) | JPH04243962A (zh) |
KR (1) | KR920004304A (zh) |
CA (1) | CA2048558A1 (zh) |
TW (1) | TW222615B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107026018A (zh) * | 2017-03-08 | 2017-08-08 | 同济大学 | 一种具有自修复功能的固态薄膜电容器及其制备方法 |
Families Citing this family (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5141899A (en) * | 1991-08-26 | 1992-08-25 | Aluminum Company Of America | Low dielectric inorganic composition for multilayer ceramic package containing titanium silicate glass and crystal inhibitor |
US5316985A (en) * | 1991-12-09 | 1994-05-31 | Aluminum Company Of America | Suppression of crystal growth in low dielectric inorganic composition using ultrafine alumina |
US5226959A (en) * | 1992-03-16 | 1993-07-13 | Aluminum Company Of America | Gallium-containing glassy low dielectric ceramic compositions |
US5264399A (en) * | 1992-04-28 | 1993-11-23 | International Business Machines Corporation | Ceramic composite body |
US5312784A (en) * | 1992-08-07 | 1994-05-17 | Aluminum Company Of America | Devitrification inhibitor in low dielectric borosilicate glass |
US5270268A (en) * | 1992-09-23 | 1993-12-14 | Aluminum Company Of America | Aluminum borate devitrification inhibitor in low dielectric borosilicate glass |
US5302562A (en) * | 1992-10-28 | 1994-04-12 | International Business Machines Corporation | Method of controlling the densification behavior of a metallic feature in a ceramic material |
GB9222986D0 (en) * | 1992-11-03 | 1992-12-16 | Johnson Matthey Plc | Dielectric powder composition |
US6017835A (en) * | 1993-11-05 | 2000-01-25 | Owens Corning Fiberglas Technology, Inc. | Glass compositions for producing dual-glass fibers |
US5728470A (en) * | 1994-05-13 | 1998-03-17 | Nec Corporation | Multi-layer wiring substrate, and process for producing the same |
US5980680A (en) * | 1994-09-21 | 1999-11-09 | Owens Corning Fiberglas Technology, Inc. | Method of forming an insulation product |
US5885390A (en) * | 1994-09-21 | 1999-03-23 | Owens-Corning Fiberglas Technology Inc. | Processing methods and products for irregularly shaped bicomponent glass fibers |
US5627113A (en) * | 1995-02-22 | 1997-05-06 | Council Of Scientific & Industrial Research | Copper activated thermoluminescence dosimeter and method |
CN1130315C (zh) * | 1995-09-22 | 2003-12-10 | 株式会社村田制作所 | 用于高频电路的具有低介电常数的玻璃组合物 |
JPH0986955A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-03-31 | Murata Mfg Co Ltd | 絶縁体用ガラス組成物、絶縁体ペースト、および厚膜印刷回路 |
DE10010461A1 (de) * | 2000-03-03 | 2001-09-13 | Infineon Technologies Ag | Vorrichtung zum Verpacken elektronischer Bauteile mittels Spritzgußtechnik |
US7257281B2 (en) * | 2003-06-16 | 2007-08-14 | Lucent Technologies Inc. | Method for fabricating thick film alumina structures used in high frequency, low loss applications and a structure resulting therefrom |
US20070123410A1 (en) * | 2005-11-30 | 2007-05-31 | Morena Robert M | Crystallization-free glass frit compositions and frits made therefrom for microreactor devices |
US20110053119A1 (en) * | 2009-08-28 | 2011-03-03 | Antonio Colon | Non-Pyrotechnic Explosive Apparatus Simulator |
JP5786878B2 (ja) * | 2013-02-06 | 2015-09-30 | Tdk株式会社 | 誘電体磁器組成物、電子部品および複合電子部品 |
US10453786B2 (en) * | 2016-01-19 | 2019-10-22 | General Electric Company | Power electronics package and method of manufacturing thereof |
WO2018195257A1 (en) * | 2017-04-21 | 2018-10-25 | Lantec Products, Inc. | Low bake ceramic material |
CN107459368A (zh) * | 2017-07-21 | 2017-12-12 | 常州易能科技有限公司 | 陶粒泡沫植生混凝土及其制备方法 |
CN108751972B (zh) * | 2018-05-28 | 2021-02-05 | 上海安费诺永亿通讯电子有限公司 | 一种应用于nfmi的软磁铁氧体材料及其磁芯制备方法 |
CN108774058B (zh) * | 2018-06-28 | 2021-10-22 | 武汉迈瑞科技有限公司 | 人工骨、生物陶瓷及生物陶瓷制备方法 |
CN108793948B (zh) * | 2018-06-29 | 2021-05-11 | 界首市东城群海彩陶工作室 | 一种彩陶制品的加工方法 |
CN108727022B (zh) * | 2018-07-04 | 2020-11-27 | 电子科技大学 | 一种超低损耗铌酸镁锂体系微波介质陶瓷材料及其制备方法 |
CN108751980A (zh) * | 2018-07-10 | 2018-11-06 | 芜湖市元奎新材料科技有限公司 | 氧化锌压敏电阻陶瓷及其制备方法 |
CN108975916B (zh) * | 2018-08-01 | 2021-01-15 | 渤海大学 | 一种高导电性陶瓷材料的制备方法 |
CN110563481B (zh) * | 2019-09-30 | 2021-11-09 | 恒美科技有限公司 | 一种泡沫混凝土浆料及其制备方法、轻质墙板及其制备方法 |
CN111943672B (zh) * | 2020-08-28 | 2021-08-31 | 昆明理工大学 | 一种成分连续变化的氧化铝增韧铌酸铝陶瓷涂层的制备方法 |
CN112723911B (zh) * | 2021-01-19 | 2021-07-27 | 河北工业大学 | 再生粉末基的无机胶凝材料增韧减裂发泡剂及应用 |
CN113372103B (zh) * | 2021-07-13 | 2023-01-20 | 中国振华集团云科电子有限公司 | 一种低介电低高频损耗ltcc陶瓷材料及其制备方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3380846A (en) * | 1965-05-27 | 1968-04-30 | B F Drakenfeld & Company Inc | Matte surface vitreous enamels and articles made therefrom |
DE3140971A1 (de) * | 1980-10-17 | 1982-06-16 | RCA Corp., 10020 New York, N.Y. | "kreuzungsisolierfarbe" |
JPS57191253A (en) * | 1981-05-20 | 1982-11-25 | Toshiba Glass Co Ltd | Colored frit glass for coating |
JPS599992A (ja) * | 1982-07-08 | 1984-01-19 | 株式会社日立製作所 | 多層配線基板の製造方法 |
JPS5911700A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-21 | 株式会社日立製作所 | セラミツク多層配線回路板 |
JPS60178695A (ja) * | 1984-02-17 | 1985-09-12 | インタ−ナシヨナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−シヨン | 電気的相互接続パツケ−ジ |
JPS60254697A (ja) * | 1984-05-31 | 1985-12-16 | 富士通株式会社 | 多層セラミック回路基板および製法 |
JPH0634452B2 (ja) * | 1985-08-05 | 1994-05-02 | 株式会社日立製作所 | セラミツクス回路基板 |
US4755490A (en) * | 1986-04-18 | 1988-07-05 | Tektronix, Inc. | Low firing temperature ceramic materials |
JPS63107095A (ja) * | 1986-10-23 | 1988-05-12 | 富士通株式会社 | 多層セラミツク回路基板 |
US4879261A (en) * | 1987-01-13 | 1989-11-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Low Dielectric constant compositions |
US4788046A (en) * | 1987-08-13 | 1988-11-29 | Ceramics Process Systems Corporation | Method for producing materials for co-sintering |
US4849380A (en) * | 1988-01-28 | 1989-07-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dielectric composition |
US5024975A (en) * | 1989-10-19 | 1991-06-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Co., Inc. | Crystallizable, low dielectric constant, low dielectric loss composition |
US5070046A (en) * | 1989-10-19 | 1991-12-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dielectric compositions |
-
1990
- 1990-08-23 US US07/571,203 patent/US5071793A/en not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-08-07 CA CA002048558A patent/CA2048558A1/en not_active Abandoned
- 1991-08-19 JP JP3206679A patent/JPH04243962A/ja active Pending
- 1991-08-20 EP EP91113939A patent/EP0472165A1/en not_active Withdrawn
- 1991-08-23 KR KR1019910014609A patent/KR920004304A/ko not_active Application Discontinuation
- 1991-09-16 TW TW080107299A patent/TW222615B/zh active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107026018A (zh) * | 2017-03-08 | 2017-08-08 | 同济大学 | 一种具有自修复功能的固态薄膜电容器及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04243962A (ja) | 1992-09-01 |
CA2048558A1 (en) | 1992-02-24 |
KR920004304A (ko) | 1992-03-27 |
US5071793A (en) | 1991-12-10 |
EP0472165A1 (en) | 1992-02-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW222615B (zh) | ||
EP0697725B1 (en) | Ceramic composition for circuit substrat and its fabrication | |
JP3426926B2 (ja) | 配線基板およびその実装構造 | |
JP2002226259A (ja) | セラミック電子部品の基体用組成物、セラミック電子部品および積層型セラミック電子部品の製造方法 | |
JPH04231363A (ja) | 菫青石とガラスを含む誘電性組成物 | |
JPH04275975A (ja) | ガラス−セラミックス複合体 | |
JPH05211005A (ja) | 誘電体組成物 | |
JPH02189813A (ja) | 金属化支持体を含む電気部品および金属化ペースト | |
TW200525555A (en) | Thick film conductor paste compositions for LTCC tape | |
US5260119A (en) | Low dielectric inorganic composition for multilayer ceramic package | |
JP2006074008A (ja) | 高熱サイクル導体系 | |
US4963187A (en) | Metallizing paste for circuit board having low thermal expansion coefficient | |
US5270268A (en) | Aluminum borate devitrification inhibitor in low dielectric borosilicate glass | |
JP2872273B2 (ja) | セラミツク基板材料 | |
JPH10167822A (ja) | 低温焼成セラミックス、該セラミックスから成る配線基板 | |
US5312784A (en) | Devitrification inhibitor in low dielectric borosilicate glass | |
JPH07157363A (ja) | ガラスセラミックス組成物 | |
JPH04130052A (ja) | セラミック基板用原料組成物およびそれを用いた基板の製造方法 | |
US5226959A (en) | Gallium-containing glassy low dielectric ceramic compositions | |
JPS61205658A (ja) | 回路基板用組成物 | |
JPH0828558B2 (ja) | セラミツク基板及びその製造方法 | |
JP2002020162A (ja) | ガラスセラミック焼結体およびそれを用いた配線基板 | |
JPH04321258A (ja) | 結晶性ガラスフリット、多層回路基板用組成物及び多層回路基板 | |
JPS60227311A (ja) | 絶縁性磁器組成物 | |
JP3748315B2 (ja) | 配線基板、半導体素子収納用パッケージおよび実装構造 |