JP5786878B2 - 誘電体磁器組成物、電子部品および複合電子部品 - Google Patents
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Description
主成分が、SiO2−K2O−B2O3系ガラスを40〜65重量%、石英を35〜50重量%含有し、残部がアモルファスシリカで構成されており、
前記主成分100重量%に対して、副成分として、アルミナ1.5〜4重量%、K2O−MO−SiO2−B2O3系ガラス(MOは、CaOまたはSrOの少なくともいずれか一方である)を5〜20重量%含有することを特徴とする。
非磁性体層を有し、
前記非磁性体層が上記いずれかの誘電体磁器組成物で構成されている。
コイル用導体および非磁性体層で構成されるフィルタ部と、
磁性体層を含む外装部と、を有し、
前記コイル用導体が、導電材としてAgを含んでおり、
前記非磁性体層が上記いずれかの誘電体磁器組成物で構成されている
図1Aに示すように、本発明の一実施形態に係る積層複合電子部品としての積層コモンモードフィルタ1は、本体積層部10に、外部電極2〜9が形成されている。積層コモンモードフィルタ1の形状に特に制限はないが、通常、直方体状とされる。また、その寸法にも特に制限はなく、用途に応じて適当な寸法とすればよいが、通常、2.0〜0.4mm×1.0〜0.3mm×0.7〜0.3mm程度である。まず、本実施形態に係る積層コモンモードフィルタの構造について説明する。
本実施形態の積層コモンモードフィルタは、従来の積層コモンモードフィルタと同様に、非磁性体グリーンシートおよび磁性体グリーンシートを作製し、グリーン状態の本体積層部10、10a、10bを形成し、これを焼成した後、外部電極1〜9、2a〜5a、61、71を形成することにより製造される。以下、製造方法について具体的に説明する。
まず、非磁性体層を構成することとなる非磁性材料の原料を準備する。本実施形態では、非磁性体材料の原料として、本発明の誘電体磁器組成物の原料を用いる。
まず、磁性体層および芯体用磁性体を構成することとなる磁性体材料の主成分原料を塗料化して、磁性体層用ペーストを調製する。磁性体層用ペーストは、上記の磁性体層用ペーストと同様に調製すればよい。
次に、上記にて作製した各非磁性体グリーンシートおよび磁性体グリーンシートを、順に積層し、グリーン状態の本体積層部10を形成する。
次に、磁性体グリーンシートおよび非磁性体グリーンシートを順次積層することにより作製したグリーン状態の本体積層部を焼成する。焼成条件としては、昇温速度を好ましくは50〜500℃/時間、さらに好ましくは200〜300℃/時間、保持温度を好ましくは840〜900℃、温度保持時間を好ましくは0.5〜8時間、さらに好ましくは1〜3時間、冷却速度を好ましくは50〜500℃/時間、さらに好ましくは200〜300℃/時間とする。
まず、本発明に係る誘電体磁器組成物原料を構成する主成分原料として、SiO2−K2O−B2O3系ガラス(ガラス1;ガラス転移点510℃、平均粒径3.3μm)、石英およびアモルファスシリカを準備した。また、副成分原料として、アルミナおよびK2O−CaO−SiO2−B2O3系ガラス(ガラス2;線膨張係数118×10−7/℃、軟化点650℃、平均粒径0.8μm)を準備した。なお、SiO2−K2O−B2O3系ガラスおよびK2O−CaO−SiO2−B2O3系ガラスとしては、市販のガラスを用いた。
得られた誘電体磁器組成物に、アクリル樹脂系バインダーを添加して顆粒とした後、加圧成形し、直径12mm、厚み6mmの円板状成形体を得た。この成形体を、空気中、900℃にて、2時間焼成して焼結体を得た。得られた焼結体に対し、以下の評価を行った。
得られた焼結体について、焼成後の焼結体の寸法および重量から、焼結体密度を算出し、理論密度に対する焼結体密度を相対密度として算出した。相対密度は90%以上を良好とした。結果を表1に示す。
得られた焼結体に対し、ネットワークアナライザー(HEWLETT PACKARD社製8510C)を使用して、共振法(JIS R 1627)により、比誘電率(単位なし)を算出した。評価基準は、4.9以下を良好とした。結果を表1および2に示す。
まず、電極を形成した焼結体に対し、絶縁抵抗計(HEWLETT PACKARD社製4329A)を使用して、25℃においてDC25Vを30秒間印加した後の抵抗値を測定した。そして、この測定値と、焼結体の電極面積および厚みとから、絶縁抵抗ρ(Ω・m)を算出した。本実施例では、20個の試料について測定を行い、その平均を求めることにより評価した。評価基準は、1.0×1010Ω・m以上を良好とした。結果を表1に示す。
得られた焼結体に対し、熱膨張計(BRUKER AXS社製TD5000SA)を使用して、25℃から700℃までの熱膨張を測定し、熱膨張係数α(10−7/℃)を算出した。評価基準は、95×10−7/℃〜115×10−7/℃以上を良好とした。結果を表1に示す。
得られた焼結体に対し、X線回折装置(スペクトリス社製PANalytical−MPD)を使用してX線回折を行った。X線源としてCu−Kα線を用い、測定条件は、電圧45kV、電流40mAで、2θ=20°〜60°の範囲を、ステップ幅0.033°、計数時間0.20secとした。評価基準は、クリストバライトに由来する結晶ピークの有無で判断し、クリストバライトの生成が「ない」ものを良好とした。結果を表1に示す。
得られた誘電体磁器組成物(平均粒径3μm)100重量%に対して、バインダー(アクリル樹脂)を15重量%、溶剤(アセトン メチルエチルケトン混合物)を60重量%、可塑剤(フタル酸ベンジルブチル)を7.5重量%追加して混合し、非磁性体層ペーストを得た。
焼結品を樹脂埋め込み後、鏡面研磨し、Ag内部導体部付近を、EPMA(日本電子社製 JXA8800)で観察し、Agのマッピング分析を行った。評価基準は、図3の(a)のように素体へのAgの拡散が抑制されており、印刷時の形状が保たれているものを拡散なし、(b)のように素体へAgが拡散し、印刷時の形状が保たれていないものを拡散あり、と判断し、Agの拡散が「ない」ものを良好とした。結果を表1に示す。
10、10a、10b…本体積層部
1〜9、61、72…外部電極
12〜19、12a〜15a…コイル用導体
20…内装部
21〜25…内層側非磁性体層
26、26a、26b…外層側非磁性体層
30、30a〜30c…外装部
31、32…磁性体層
33、34…芯体用磁性体
41〜44、41a、43a…スルーホール電極
51〜55…ESD用導体層
Claims (8)
- 主成分が、SiO2−K2O−B2O3系ガラスを40〜65重量%、石英を35〜50重量%含有し、残部がアモルファスシリカで構成されており、
前記主成分100重量%に対して、副成分として、アルミナ1.5〜4重量%、K2O−MO−SiO2−B2O3系ガラス(MOは、CaOまたはSrOの少なくともいずれか一方である)を5〜20重量%含有することを特徴とする誘電体磁器組成物。 - 前記SiO2−K2O−B2O3系ガラスは、ガラス転移点が480〜520℃であることを特徴とする請求項1に記載の誘電体磁器組成物。
- 前記K2O−MO−SiO2−B2O3系ガラスは、線膨張係数が105×10−7/℃〜125×10−7/℃であることを特徴とする請求項1または2に記載の誘電体磁器組成物。
- 前記K2O−MO−SiO2−B2O3系ガラスは、軟化点が580〜680℃であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の誘電体磁器組成物。
- 非磁性体層を有する電子部品であって、
前記非磁性体層が請求項1〜4のいずれかに記載の誘電体磁器組成物で構成されていることを特徴とする電子部品。 - コイル用導体および非磁性体層で構成されるフィルタ部と、
磁性体層を含む外装部と、を有し、
前記コイル用導体が、導電材としてAgを含んでおり、
前記非磁性体層が請求項1〜4のいずれかに記載の誘電体磁器組成物で構成されていることを特徴とする積層複合電子部品。 - 前記積層複合電子部品が、積層コモンモードフィルタである特徴とする請求項6に記載の積層複合電子部品。
- 前記積層コモンモードフィルタが、ESD機能を付加するためのESD用導体層を有することを特徴とする請求項7に記載の積層複合電子部品。
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