TW202045652A - 黏著片材、黏著片材之製造方法、中間積層體之製造方法及中間積層體 - Google Patents

黏著片材、黏著片材之製造方法、中間積層體之製造方法及中間積層體 Download PDF

Info

Publication number
TW202045652A
TW202045652A TW109103194A TW109103194A TW202045652A TW 202045652 A TW202045652 A TW 202045652A TW 109103194 A TW109103194 A TW 109103194A TW 109103194 A TW109103194 A TW 109103194A TW 202045652 A TW202045652 A TW 202045652A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
active light
adhesive layer
irradiation
irradiated
light
Prior art date
Application number
TW109103194A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI790418B (zh
Inventor
仲野武史
本田哲士
尾﨑真由
舟木千尋
Original Assignee
日商日東電工股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2019162986A external-priority patent/JP7241648B2/ja
Application filed by 日商日東電工股份有限公司 filed Critical 日商日東電工股份有限公司
Publication of TW202045652A publication Critical patent/TW202045652A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI790418B publication Critical patent/TWI790418B/zh

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02—Non-macromolecular additives
    • C09J11/06—Non-macromolecular additives organic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J201/00—Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
    • C09J7/24—Plastics; Metallised plastics based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
    • C09J7/25—Plastics; Metallised plastics based on macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/312—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/40—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
    • C09J2301/416—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components use of irradiation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)

Abstract

本發明之黏著片材1具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3。黏著層2包含可藉由活性光線之照射而降低波長550 nm下之可見光透過率之黏著性組合物。活性光線吸收層3之活性光線之平均透過率為15%以下。

Description

黏著片材、黏著片材之製造方法、中間積層體之製造方法及中間積層體
本發明係關於一種黏著片材、黏著片材之製造方法、中間積層體之製造方法及中間積層體，詳細而言關於一種黏著片材、該黏著片材之製造方法、使用該黏著片材所獲得之中間積層體之製造方法、及藉由該中間積層體之製造方法所獲得之中間積層體。
近年來，已知搭載有有機EL(Electroluminescence，電致發光)面板之顯示器。有機EL面板具有反射性較高之電極層，因此容易產生外界光反射或背景之映入等。
並且，已知為了防止外界光反射或背景之映入而於電極層之反射面設置具有吸收光之功能之層。
作為此種層，提出有包含碳黑顏料及染料之光吸收層(例如參照專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2017-203810公報
[發明所欲解決之問題]
另一方面，於具有吸收光之功能之層為黏著層之情形時，就檢查等之觀點而言，有時要求透明性。
於此種情形時，對使黏著層中包含藉由酸著色之化合物、及光酸產生劑之方法進行了研究。
若對此種黏著層照射活性光線，則自光酸產生劑產生酸，化合物藉由該酸著色。
即，於該黏著層中，可藉由於任意時點照射活性光線而使黏著層著色，藉此可賦予吸收光之功能。
但是，於此種黏著層中，視目的及用途存在欲使著色部分以外透明地殘留之情形、或欲使其著色量少於著色部分之情形。
於此種情形時，若著色部分以外暴露於外界光(活性光線)下，則有欲使之透明地殘留之部分著色，又，欲使著色量少於著色部分之部分之著色量增多之不良情況。
本發明提供一種可藉由於任意時點照射活性光線而使黏著層著色，且可抑制著色部分以外由外界光(活性光線)著色之黏著片材、該黏著片材之製造方法、使用該黏著片材所獲得之中間積層體之製造方法、及藉由該中間積層體之製造方法所獲得之中間積層體。 [解決問題之技術手段]
本發明[1]係一種黏著片材，其具備黏著層、及配置於上述黏著層之一面之活性光線吸收層，
上述黏著層包含可藉由活性光線之照射而降低波長550 nm下之可見光透過率之黏著性組合物，且上述活性光線吸收層之活性光線之平均透過率為15%以下。
本發明[2]包括如上述[1]記載之黏著片材，其中上述黏著層包含可藉由紫外線之照射而降低波長550 nm下之可見光透過率之黏著性組合物，上述活性光線吸收層為紫外線吸收層，且上述紫外線吸收層之波長300 nm以上且400 nm以下之平均透過率為15%以下。
本發明[3]包括如上述[2]記載之黏著片材，其中上述紫外線吸收層之波長400 nm以上且700 nm以下之平均透過率為50%以上。
本發明[4]包括如上述[2]或[3]記載之黏著片材，其中上述紫外線吸收層包含紫外線吸收劑。
本發明[5]包括如上述[1]至[4]中任一項記載之黏著片材，其中上述黏著性組合物包含作為單體成分之聚合物之黏著性聚合物、藉由酸著色之化合物、及光酸產生劑。
本發明[6]包括一種黏著片材之製造方法，其包括如下步驟：黏著層準備步驟，其係準備包含可藉由活性光線之照射而降低波長550 nm下之可見光透過率之黏著性組合物的黏著層；及配置步驟，其係於上述黏著層之一面配置活性光線之平均透過率為15%以下之活性光線吸收層。
本發明[7]包括如上述[6]記載之黏著片材之製造方法，其中於上述黏著層準備步驟後且上述配置步驟前對上述黏著層照射活性光線。
本發明[8]包括如上述[6]記載之黏著片材之製造方法，其特徵在於：於上述配置步驟後照射活性光線。
本發明[9]包括一種中間積層體之製造方法，其包括如下步驟：準備步驟，其係準備藉由如上述[8]記載之黏著片材之製造方法所製造之黏著片材；照射步驟，其係對上述黏著層照射活性光線而於上述黏著層形成活性光線之照射量相對較高之高照射部分、及活性光線之照射量相對較低或未照射到活性光線之未照射/低照射部分，藉此使上述高照射部分之波長550 nm下之可見光透過率小於上述未照射/低照射部分之波長550 nm下之可見光透過率；及貼合步驟，其係將上述黏著片材之另一面貼合於被黏著體。
本發明[10]包括如上述[9]記載之中間積層體之製造方法，其中於上述準備步驟後實施上述照射步驟，且於上述照射步驟後實施上述貼合步驟。
本發明[11]包括如上述[9]記載之中間積層體之製造方法，其中於上述準備步驟後實施上述貼合步驟，且於上述貼合步驟後實施上述照射步驟。
本發明[12]包括如上述[10]記載之中間積層體之製造方法，其中於上述照射步驟中，自上述活性光線吸收層之表面側對上述黏著層照射活性光線。
本發明[13]包括如上述[11]記載之中間積層體之製造方法，其特徵在於：於上述照射步驟中，自上述活性光線吸收層之表面側對上述黏著層照射活性光線。
本發明[14]包括如上述[10]記載之中間積層體之製造方法，其中於上述照射步驟中，自上述黏著層之表面側對上述黏著層照射活性光線。
本發明[15]包括如上述[11]記載之中間積層體之製造方法，其中於上述照射步驟中，自上述被黏著體之表面側對上述黏著層照射活性光線。
本發明[16]包括如上述[15]記載之中間積層體之製造方法，其中上述被黏著體之活性光線之平均透過率為60%以上，且於上述照射步驟中，於在上述被黏著體側之另一面之一部分配置遮斷活性光線之遮罩後，對上述黏著層照射活性光線。
本發明[17]包括如上述[15]記載之中間積層體之製造方法，其中上述被黏著體遮斷活性光線，且於上述貼合步驟中，將上述被黏著體配置於上述黏著片材之另一面之一部分。
本發明[18]包括如上述[9]至[17]中任一項記載之中間積層體之製造方法，其中上述未照射/低照射部分為未照射到活性光線之未照射部分，且上述未照射部分之波長550 nm下之可見光透過率為80%以上。
本發明[19]包括如上述[9]至[16]中任一項記載之中間積層體之製造方法，其中上述未照射/低照射部分為活性光線之照射量低之低照射部分，上述照射步驟包括：第1照射步驟，其係藉由於配置遮斷活性光線之第1遮罩後對上述黏著層照射活性光線，而於上述黏著層形成照射到活性光線之第1照射部分、及未照射到活性光線之暫未照射部分；及第2照射步驟，其係藉由於在上述第1照射部分配置遮斷活性光線之第2遮罩後對上述黏著層中之上述暫未照射部分照射活性光線，而使上述暫未照射部分形成為第2照射部分；且上述第1照射部分及上述第2照射部分中之任一者為上述高照射部分，另一者為上述低照射部分。
本發明[20]包括如上述[9]至[16]中任一項記載之中間積層體之製造方法，其中上述未照射/低照射部分為活性光線之照射量低之低照射部分，上述照射步驟包括：第3照射步驟，其係藉由對上述黏著層之全部照射活性光線，而使上述黏著層之全部形成為照射到活性光線之第3照射部分；及第4照射步驟，其係藉由於在上述第3照射部分之一部分配置遮斷活性光線之遮罩後對上述第3照射部分之其餘部分照射活性光線，而使上述第3照射部分之其餘部分形成為第4照射部分；且上述第3照射部分為上述低照射部分，上述第4照射部分為上述高照射部分。
本發明[21]包括如上述[19]記載之中間積層體之製造方法，其中上述高照射部分之波長550 nm下之可見光透過率未達20%，且上述低照射部分之波長550 nm下之可見光透過率為20%以上且70%以下。
本發明[22]係一種中間積層體，其具備：黏著片材，其具備黏著層、及配置於上述黏著層之一面之活性光線吸收層；及被黏著體，其配置於上述黏著片材之另一面；上述黏著層具備波長550 nm下之可見光透過率相對較大之高光透過率部分、及波長550 nm下之可見光透過率相對較小之低光透過率部分，且上述活性光線吸收層之活性光線之平均透過率為15%以下。
本發明[23]包括如上述[22]記載之中間積層體，其特徵在於：上述低光透過率部分具有圖案形狀。
本發明[24]包括如上述[22]或[23]記載之中間積層體，其中上述高光透過率部分之波長550 nm下之可見光透過率為80%以上。
本發明[25]包括如上述[22]或[23]記載之中間積層體，其中上述低光透過率部分之波長550 nm下之可見光透過率未達20%，且上述高光透過率部分之波長550 nm下之可見光透過率為20%以上且70%以下。 [發明之效果]
於本發明之黏著片材中，黏著層包含可藉由活性光線之照射而降低波長550 nm下之可見光透過率之黏著性組合物。
因此，可藉由於任意時點照射活性光線而使黏著層著色，藉此可賦予吸收光之功能。
又，於該黏著片材中，活性光線吸收層之活性光線之平均透過率為15%以下。
因此，於欲使黏著層中之著色部分以外透明地殘留之情形、或欲使其著色量少於著色部分之情形時，可抑制著色部分以外由外界光(活性光線)著色。
本發明之黏著片材之製造方法包括於黏著層之一面配置活性光線吸收層之配置步驟。
因此，於欲使黏著層中之著色部分以外透明地殘留之情形、或欲使其著色量少於著色部分之情形時，可抑制著色部分以外由外界光(活性光線)著色。
本發明之中間積層體之製造方法包括準備本發明之黏著片材之準備步驟。
因此，藉由該中間積層體之製造方法所獲得之中間積層體可抑制著色部分以外(未照射/低照射部分)由外界光(活性光線)著色。
於本發明之中間積層體中，活性光線吸收層之活性光線之平均透過率為15%以下。
因此，可抑制著色部分以外(低光透過率部分)由外界光(活性光線)著色。
1.黏著片材 如圖1所示，黏著片材1具有具特定厚度之膜形狀(包括片材形狀)，於與厚度方向正交之方向(面方向)上延伸，且具有平坦之上表面及平坦之下表面。
具體而言，黏著片材1具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3。
以下對構成黏著片材1之各層進行說明。
1-1.黏著層 黏著層2係黏著片材1之上層。
黏著層2係用以使黏著片材1與被黏著體4(下述)接著之感壓接著層。
黏著層2具有於面方向上延伸之膜形狀，且具有平坦之平面及平坦之下表面。
黏著層2包含可藉由活性光線之照射而降低波長550 nm下之可見光透過率之黏著性組合物。
因此，可藉由於任意時點對黏著層2照射活性光線而使黏著層2著色，藉此可賦予吸收光之功能。
作為活性光線，可列舉紫外線、可見光、紅外線、X射線、α射線、β射線、γ射線，就使用設備之多樣性及操作容易性之觀點而言，較佳可例舉紫外線。
又，紫外線意指1 nm以上且400 nm以下之波長範圍之電磁波。
即，黏著層2包含可藉由紫外線之照射而降低波長550 nm下之可見光透過率之黏著性組合物。
再者，可使黏著性組合物之波長550 nm下之可見光透過率降低之活性光線之種類係由下述光酸產生劑之種類(具體而言為光酸產生劑產生酸之活性光線之波長)決定。
黏著性組合物包含黏著性聚合物、藉由酸著色之化合物、及光酸產生劑。
若黏著性組合物包含黏著性聚合物、藉由酸著色之化合物、及光酸產生劑，則可藉由活性光線(較佳為紫外線)之照射確實地使黏著層2之波長550 nm下之可見光透過率降低。
黏著性聚合物係為了賦予黏著性所調配。
黏著性聚合物係單體成分(下述)之聚合物，例如可列舉丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、橡膠系聚合物等，就光學透明性、接著性、及儲存模數之控制之觀點而言，較佳可例舉丙烯酸系聚合物。
丙烯酸系聚合物係藉由包含(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分之單體成分之聚合所獲得。
(甲基)丙烯酸烷基酯係丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，例如可列舉(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸新戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸異三-十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸異十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸異十八烷基酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、(甲基)丙烯酸二十烷基酯等直鏈狀或支鏈狀之(甲基)丙烯酸C1-20烷基酯等，較佳可例舉(甲基)丙烯酸C4-12烷基酯，更佳可例舉丙烯酸丁酯。
(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用或將2種以上併用。
關於(甲基)丙烯酸烷基酯之調配比率，相對於單體成分，例如為50質量%以上，較佳為60質量%以上，又，例如為99質量%以下。
又，單體成分較佳為包含具有陰離子性基之酸性乙烯基單體。
若單體成分包含具有陰離子性基之酸性乙烯基單體，則藉由自光酸產生劑(下述)產生之強酸促進背離，色調變強，著色穩定性優異。
作為具有陰離子性基之酸性乙烯基單體，例如可列舉：含羧基乙烯基單體、含磺基乙烯基單體、含磷酸基乙烯基單體等。
作為含羧基乙烯基單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羧基乙酯、羧基戊基(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、馬來酸、富馬酸、丁烯酸等。
又，作為含羧基乙烯基單體，例如亦可列舉馬來酸酐、伊康酸酐等含酸酐基單體。
作為含磺基乙烯基單體，例如可列舉苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸等。
作為含磷酸基乙烯基單體，例如可列舉丙烯醯基磷酸2-羥基乙酯等。
作為具有陰離子性基之酸性乙烯基單體，較佳可例舉含羧基乙烯基單體，更佳可例舉(甲基)丙烯酸，進而較佳可例舉丙烯酸。
具有陰離子性基之酸性乙烯基單體可單獨使用或將2種以上併用。
關於具有陰離子性基之酸性乙烯基單體之調配比率，相對於(甲基)丙烯酸烷基酯100質量份，例如為3質量份以上，且例如為10質量份以下，又，相對於單體成分，例如為1質量%以上，又，例如為8質量%以下。
又，單體成分較佳為實質上不包含能夠與(甲基)丙烯酸烷基酯共聚之具有孤電子對之鹼性乙烯基單體。
具體而言，關於具有孤電子對之鹼性乙烯基單體之調配比率，相對於單體成分，例如為3質量%以下，較佳為1質量%以下，進而較佳為0.5質量%以下，尤佳為0質量%以下。換言之，尤佳為單體成分不包含具有孤電子對之鹼性乙烯基單體。
若單體成分實質上不包含具有孤電子對之鹼性乙烯基單體，則可抑制各單體成分之溶出，可提高著色穩定性。
作為具有孤電子對之鹼性乙烯基單體，為於雜環具有氮之含雜環鹼性乙烯基單體，例如可列舉：N-乙烯基吡咯啶酮、甲基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌𠯤、乙烯基吡𠯤、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基㗁唑、乙烯基𠰌啉、N-丙烯醯基𠰌啉、N-乙烯基己內醯胺等。
又，單體成分視需要包含能夠與(甲基)丙烯酸烷基酯共聚之含官能基乙烯基單體(上述具有陰離子性基之酸性乙烯基單體及具有孤電子對之鹼性乙烯基單體除外)。
作為含官能基乙烯基單體，可列舉：含羥基乙烯基單體、含氰基乙烯基單體、含縮水甘油基乙烯基單體、芳香族乙烯基單體、乙烯酯單體、乙烯醚單體等。
作為含羥基乙烯基單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯、(甲基)丙烯酸4-(羥甲基)環己基甲酯等，較佳可例舉(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯，更佳可例舉丙烯酸2-羥基乙酯。
作為含氰基乙烯基單體，例如可列舉(甲基)丙烯腈等。
作為含縮水甘油基乙烯基單體，例如可列舉(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等。
作為芳香族乙烯基單體，例如可列舉苯乙烯、對甲基苯乙烯、鄰甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯等。
作為乙烯酯單體，例如可列舉乙酸乙酯、丙酸乙烯酯等。
作為乙烯醚單體，例如可列舉甲基乙烯基醚等。
含官能基乙烯基單體可單獨使用或將2種以上併用。於調配交聯劑(下述)之情形時，就向聚合物中導入交聯結構之觀點而言，較佳可例舉含羥基乙烯基單體。
關於含官能基乙烯基單體之調配比率，相對於(甲基)丙烯酸烷基酯100質量份，例如為3質量份以上，較佳為5質量份以上，更佳為15質量份以上，又，例如為20質量份以下，又，相對於單體成分，例如為4質量%以上，較佳為10質量%以上，又，例如為30質量%以下，較佳為20質量%以下。
並且，丙烯酸系聚合物係使上述單體成分聚合而成之聚合物。
於使單體成分聚合時，例如調配(甲基)丙烯酸烷基酯、以及視需要之具有陰離子性基之酸性乙烯基單體及含官能基乙烯基單體而製備單體成分，例如藉由溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合等公知之聚合方法製備丙烯酸系聚合物。
作為聚合方法，較佳可例舉溶液聚合。
於溶液聚合中，例如向公知之有機溶劑中調配單體成分、及聚合起始劑而製備單體溶液，其後對單體溶液進行加熱。
作為聚合起始劑，例如可列舉過氧化物系聚合起始劑、偶氮系聚合起始劑等。
作為過氧化物系聚合起始劑，例如可列舉過氧化碳酸酯、過氧化酮、過氧縮酮、氫過氧化物、二烷基過氧化物、二醯基過氧化物、過氧酯等有機過氧化物。
作為偶氮系聚合起始劑，例如可列舉2,2'-偶氮二異丁腈、2,2'-偶氮雙(2-甲基丁腈)、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮二異丁酸二甲酯等偶氮化合物。
作為聚合起始劑，較佳可例舉偶氮系聚合起始劑，更佳可例舉2,2'-偶氮二異丁腈。
聚合起始劑可單獨使用或將2種以上併用。
關於聚合起始劑之調配比率，相對於單體成分100質量份，例如為0.05質量份以上，較佳為0.1質量份以上，又，例如為1質量份以下，較佳為0.5質量份以下。
加熱溫度例如為50℃以上且80℃以下，加熱時間例如為1小時以上且8小時以下。
藉此，使單體成分聚合而獲得包含丙烯酸系聚合物之丙烯酸系聚合物溶液。
丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分濃度例如為20質量%以上，又，例如為80質量%以下。
丙烯酸系聚合物之重量平均分子量例如為100000以上，較佳為300000以上，更佳為500000以上，又，例如為5000000以下，較佳為3000000以下，更佳為2000000以下。
再者，上述之重量平均分子量係藉由GPC(凝膠滲透層析法)進行測定並藉由聚苯乙烯換算所算出之值。
黏著性聚合物之玻璃轉移溫度例如為0℃以下，較佳為-20℃以下，又，通常為-70℃以上。
若黏著性聚合物之玻璃轉移溫度為上述上限以下，則階差追隨性優異。
再者，玻璃轉移溫度係藉由根據FOX之式之計算所獲得。
藉由酸著色之化合物係藉由酸自無色(透明)變為有色之化合物，例如可列舉隱色系色素、例如p,p',p''-三-二甲胺基三苯基甲烷等三芳基甲烷系色素、例如4,4-雙-二甲胺基苯基二苯甲基苄醚等二苯甲烷系色素、例如3-二乙胺基-6-甲基-7-氯螢光黃母體等螢光黃母體系色素、例如3-甲基螺二萘并吡喃等螺吡喃系色素、例如玫瑰紅-B-苯胺基內醯胺等玫瑰紅系色素等，較佳可例舉隱色系色素。
藉由酸著色之化合物可單獨使用或將2種以上併用。
關於藉由酸著色之化合物之調配比率，相對於黏著性聚合物100質量份，例如為0.5質量份以上，又，例如為5質量份以下，較佳為2質量份以下。
光酸產生劑係藉由活性光線之照射產生酸之化合物。
作為此種光酸產生劑中之藉由紫外線之照射產生酸之化合物(紫外線酸產生劑)，例如可列舉鎓化合物等。
作為鎓化合物，例如可列舉包含錪及鋶等鎓陽離子、及Cl- 、Br- 、I- 、ZnCl3 - 、HSO3 - 、BF4 - 、PF6 - 、AsF6 - 、SbF6 - 、CH3 SO3 - 、CF3 SO3 - 、(C6 F5 )4 B- 、(C4 H9 )4 B- 等陰離子之鹽等。
作為此種鎓化合物，較佳可例舉包含鋶(鎓陽離子)、及(C6 F5 )4 B- (陰離子)之鹽。
又，作為紫外線酸產生劑，亦可使用市售品，例如可列舉CPI-310B(包含鋶、及(C6 F5 )4 B- 之鹽，San-Apro公司製造)等。
光酸產生劑可單獨使用或將2種以上併用。
關於光酸產生劑之調配比率，相對於黏著性聚合物100質量份，例如為1質量份以上，又，例如為20質量份以下，較佳為15質量份以下。
並且，黏著性組合物係藉由將黏著性聚合物(於藉由溶液聚合製備黏著性聚合物之情形時為聚合物溶液)、藉由酸著色之化合物、及光酸產生劑以上述比率調配並混合所製備(於使用聚合物溶液作為黏著性聚合物之情形時，製備成黏著性組合物之溶液)。
就向黏著性聚合物中導入交聯結構之觀點而言，較佳為向黏著性組合物中調配交聯劑。
作為交聯劑，例如可列舉：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑等。
作為異氰酸酯系交聯劑，可列舉：例如伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族二異氰酸酯；例如伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯等脂環族二異氰酸酯；例如2,4-甲伸苯基二異氰酸酯、4,4'-二苯甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯。
又，作為異氰酸酯系交聯劑，亦可列舉上述異氰酸酯之衍生物(例如異氰尿酸酯改性體、多元醇改性體等)。
作為異氰酸酯系交聯劑，亦可使用市售品，例如可列舉：Coronate L(甲伸苯基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物，Tosoh製造)、Coronate HL(六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物，Tosoh製造)、Coronate HX(六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體，Tosoh製造)、Takenate D110N(苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物，三井化學製造)等。
作為異氰酸酯系交聯劑，較佳可例舉六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物、苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物。
作為環氧系交聯劑，例如可列舉二縮水甘油基苯胺、1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺基甲基)環己烷等。
作為環氧系交聯劑，亦可使用市售品，例如可列舉Tetrad C(三菱瓦斯化學製造)等。
作為環氧系交聯劑，較佳可例舉1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺基甲基)環己烷。
作為交聯劑，較佳可例舉異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑，更佳可例舉環氧系交聯劑。
交聯劑可單獨使用或將2種以上併用。
若向黏著性組合物中調配交聯劑，則聚合物中之羥基等官能基與交聯劑發生反應而向聚合物中導入交聯結構。
關於交聯劑之調配比率，相對於黏著性聚合物100質量份，例如為0.01質量份以上，較佳為0.1質量份以上，且例如為10質量份以下，較佳為5質量份以下，更佳為4質量份以下，進而較佳為3質量份以下，尤佳為1質量份以下。
又，於向黏著性組合物中調配交聯劑之情形時，為了促進交聯反應，亦可調配交聯觸媒。
作為交聯觸媒，例如可列舉鈦酸四正丁酯、鈦酸四異丙酯、乙醯丙酮鐵、氧化丁基錫、二月桂酸二辛基錫等金屬系交聯觸媒等。
交聯觸媒可單獨使用或將2種以上併用。
關於交聯觸媒之調配比率，相對於黏著性聚合物100質量份，例如為0.001質量份以上，較佳為0.01質量份以上，又，例如為0.05質量份以下。
又，可視需要於不損及本發明之效果之範圍內使黏著性組合物含有例如矽烷偶合劑、黏著性賦予劑、塑化劑、軟化劑、防劣化劑、填充劑、著色劑、界面活性劑、抗靜電劑、就螢光燈下或自然光下之穩定化之觀點而言之紫外線吸收劑、抗氧化劑等添加劑等各種添加劑。
藉此獲得黏著性組合物(於使用聚合物溶液作為黏著性聚合物之情形時為黏著性組合物之溶液)。
該黏著性組合物(固形物成分)之20℃～50℃下之剪切儲存模數G'例如為1.0×104 Pa以上，較佳為2.0×104 Pa以上，更佳為4.0×104 Pa以上，又，例如為1.0×106 Pa以下，較佳為5.0×105 Pa以下。
若上述剪切儲存模數G'為上述範圍內，則密接性優異，於剪切儲存模數G'更低之情形時，階差追隨性亦優異。
再者，上述剪切儲存模數G'係藉由頻率1 Hz、升溫速度5℃/分鐘、溫度範圍-70℃～250℃之條件下之動態黏彈性測定所測得。
並且，藉由下述方法由黏著性組合物形成黏著層2。
由於黏著層2包含黏著性組合物，故而藉由活性光線(較佳為紫外線)照射自光酸產生劑產生酸，藉由酸著色之化合物藉由該酸著色，藉此，黏著層2自無色(透明)變為有色。即，於活性光線(較佳為紫外線)照射前，黏著層2為無色(透明)。
又，無色(透明)意指波長400 nm以上且700 nm以下之平均透過率例如為60%以上，較佳為70%以上，更佳為90%以上，又，例如為100%以下。
又，有色意指波長400 nm以上且700 nm以下之平均透過率例如為0%以上，又，例如未達60%，較佳為50%以下。
黏著層2之厚度例如為3 μm以上，較佳為10 μm以上，又，例如為50 μm以下，較佳為30 μm以下。
1-2.活性光線吸收層 活性光線吸收層3配置於黏著層2之一整面，活性光線吸收層3係黏著片材1之下層。
活性光線吸收層3具有於面方向上延伸之膜形狀，且具有平坦之平面及平坦之下表面。
活性光線吸收層3具備活性光線吸收性。
具體而言，活性光線吸收層3之活性光線之平均透過率為15%以下，較佳為10%以下，更佳為9%以下，進而較佳為8%以下，尤佳為7%以下，最佳為3%以下，進而為1%以下。
若上述平均透過率為上述上限以下，則於欲使該黏著層2中之著色部分以外透明地殘留之情形、或欲使其著色量少於著色部分之情形時，可抑制著色部分以外由外界光(紫外線)著色。
另一方面，若上述平均透過率超過上述上限，則無法抑制著色部分以外由外界光(活性光線)著色。
再者，平均透過率之測定方法於下述實施例中進行詳述。
又，活性光線吸收層3較佳為具備紫外線吸收性。
即，活性光線吸收層3較佳為紫外線吸收層。
若活性光線吸收層3為紫外線吸收層，則有反射控制或可使用之材料之選擇範圍較廣之優點。
作為紫外線吸收層，例如可列舉調配有紫外線吸收劑之樹脂膜、調配有紫外線吸收劑之膠帶等。即，此種紫外線吸收層包含紫外線吸收劑。若紫外線吸收層包含紫外線吸收劑，則可確實地降低紫外線吸收層之波長300 nm以上且400 nm以下之平均透過率。
構成樹脂膜之材料為若不調配紫外線吸收劑則不具有紫外線吸收性之材料，可列舉例如三乙酸纖維素(TAC)等纖維素樹脂、例如環烯烴聚合物等環狀聚烯烴樹脂、例如丙烯酸系樹脂、苯基馬來醯亞胺樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚苯乙烯樹脂等，較佳可例舉纖維素樹脂，更佳可例舉三乙酸纖維素(TAC)。
該等材料可單獨使用或將2種以上併用。
作為紫外線吸收劑，例如可列舉：苯并三唑系化合物、羥基苯基三𠯤系化合物、二苯甲酮系化合物、水楊酸酯系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等。
紫外線吸收劑可單獨使用或將2種以上併用。
作為調配有紫外線吸收劑之樹脂膜，亦可使用市售品，例如可列舉KC2UA(TAC膜，Konica Minolta公司製造)等。
又，作為調配有紫外線吸收劑之膠帶，亦可使用市售品，例如可列舉CS9934U(日東電工公司製造)等。
又，作為紫外線吸收層，亦可列舉由即便不調配紫外線吸收劑亦具有紫外線吸收性之材料所形成之膜、例如聚醯亞胺膜等。
作為聚醯亞胺膜，亦可使用市售品，例如可列舉Kapton 200H(TORAY-DUPONT公司製造)等。
紫外線吸收層之波長300 nm以上且400 nm以下之平均透過率例如為15%以下，較佳為10%以下，更佳為9%以下，進而較佳為8%以下，尤佳為7%以下，最佳為3%以下，進而為1%以下。
若上述平均透過率為上述上限以下，則於欲使該黏著層2中之著色部分以外透明地殘留之情形、或欲使其著色量少於著色部分之情形時，可抑制著色部分以外由外界光(紫外線)著色。
又，紫外線吸收層之波長400 nm以上且700 nm以下之平均透過率例如為40%以上，較佳為50%以上，更佳為70%以上，進而較佳為80%以上，尤佳為85%以上，最佳為90%以上。
若上述平均透過率為上述下限以上，則紫外線吸收層之透明性優異。
因此，可較佳地將該黏著片材1用於要求透明性之光器件及其構成零件。
活性光線吸收層3之厚度為可獲得上述平均透過率之厚度，例如為10 μm以上，較佳為20 μm以上，又，例如為200 μm以下，較佳為120 μm以下，更佳為50 μm以下。
活性光線吸收層3可為1層，亦可為複數層。
於活性光線吸收層3為複數層之情形時，以上述平均透過率及上述厚度成為上述範圍之方式積層複數層同種或不同種之活性光線吸收層3。
又，可視需要對活性光線吸收層3實施表面處理(例如硬塗處理)。
1-3.黏著片材之製造方法 接下來，參照圖2對製造黏著片材1之方法進行說明。
黏著片材1之製造方法包括如下步驟：黏著層準備步驟，其係準備黏著層2；及配置步驟，其係於黏著層2之一面配置活性光線吸收層3。
於黏著層準備步驟中，如圖2A所示，準備黏著層2。
於準備黏著層2時，首先準備剝離膜5。
作為剝離膜5，例如可列舉聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯膜等可撓性塑膠膜。
剝離膜5之厚度例如為3 μm以上，較佳為10 μm以上，又，例如為200 μm以下，較佳為100 μm以下，更佳為50 μm以下。
較佳為對剝離膜5實施利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系、脂肪醯胺系等之脫模劑之脫模處理、或利用二氧化矽粉末之脫模處理。
繼而，於剝離膜5之一面塗佈上述黏著性組合物(黏著性組合物之溶液)，並視需要將溶劑乾燥去除。
作為黏著性組合物之塗佈方法，例如可列舉輥式塗佈、接觸輥式塗佈、凹版塗佈、反向塗佈、輥刷、噴塗、浸漬輥式塗佈、棒式塗佈、刮塗、氣刀塗佈、淋幕式塗佈、模唇塗佈、模嘴塗佈等。
作為乾燥條件，乾燥溫度例如為50℃以上，較佳為70℃以上，更佳為100℃以上，又，例如為200℃以下，較佳為180℃以下，更佳為150℃以下，乾燥時間例如為5秒以上，較佳為10秒以上，又，例如為20分鐘以下，較佳為15分鐘以下，更佳為10分鐘以下。
藉此，於剝離膜5之一面配置(準備)黏著層2。
再者，於黏著性組合物包含交聯劑之情形時，於乾燥去除之同時、或溶劑之乾燥後(視需要於黏著層2之一面積層剝離膜5後)，較佳為藉由老化進行交聯。
老化條件根據交聯劑之種類適當地設定，老化溫度例如為20℃以上，又，例如為160℃以下，較佳為50℃以下，又，老化時間為1分鐘以上，較佳為12小時以上，更佳為1天以上，又，例如為7天以下。
於配置步驟中，如圖2B所示，於黏著層2之一面配置活性光線吸收層3。
其後，視需要將剝離膜5剝離。
藉此，獲得具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3之黏著片材1。又，於未將剝離膜5剝離之情形時，獲得具備剝離膜5、配置於剝離膜5之一面之黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3的黏著片材1。
又，於上述說明中，將黏著層2配置於剝離膜5之一面，但就操作性之觀點而言，亦可將黏著層2配置於透明基材之一面。
透明基材具有於面方向上延伸之膜形狀，且具有平坦之平面及平坦之下表面。
透明基材包含可撓性之塑膠材料。
作為此種塑膠材料，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；例如聚甲基丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸系樹脂(丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂)；例如聚乙烯、聚丙烯、環烯烴聚合物(COP)等聚烯烴樹脂；例如聚碳酸酯樹脂；例如聚醚碸樹脂；例如聚芳酯樹脂；例如三聚氰胺樹脂；例如聚醯胺樹脂；例如聚醯亞胺樹脂；例如纖維素樹脂；例如聚苯乙烯樹脂；例如降𦯉烯樹脂之合成樹脂等。
於自透明基材側照射活性光線(較佳為紫外線)而使黏著層2著色之情形時，較佳為基材5具有對光之透明性。具體而言，透明基材之全光線透過率(JIS K 7375-2008)例如為80%以上，較佳為85%以上。
就兼具對光之透明性及機械強度之觀點而言，作為塑膠材料，較佳可例舉聚酯樹脂，更佳可例舉聚對苯二甲酸乙二酯(PET)。
透明基材之厚度例如為4 μm以上，較佳為20 μm以上，更佳為30 μm以上，進而較佳為45 μm以上，又，例如為500 μm以下，就可撓性及操作性之觀點而言，較佳為300 μm以下，更佳為200 μm以下，進而較佳為100 μm以下。
於將黏著層2配置於透明基材之一面時，與上述同樣地於透明基材之一面塗佈上述黏著性組合物(黏著性組合物之溶液)，並視需要將溶劑乾燥去除。
並且，對於黏著片材1，可於製造下述中間積層體6時、或製造下述中間積層體6前對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)。
於在製造中間積層體6時對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)之情形時，具體而言，於配置步驟後照射活性光線(較佳為紫外線)。
具體而言，於下述中間積層體6之製造方法中之照射步驟中照射活性光線(較佳為紫外線)。
又，於在製造下述中間積層體6前對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)之情形時，具體而言，於黏著層準備步驟後且配置步驟前照射活性光線(較佳為紫外線)。
參照圖3對在黏著層準備步驟後且配置步驟前照射活性光線(較佳為紫外線)之情形進行說明。
於黏著層準備步驟中，如圖3A所示，與上述方法同樣地於剝離膜5之一面準備黏著層2。
繼而，於黏著層準備步驟後，如圖3B所示，自剝離膜5之表面側對黏著層2之全部照射活性光線(較佳為紫外線)。
繼而，於配置步驟中，如圖3C所示，於黏著層2之一面配置活性光線吸收層3。
根據該方法，可預先使黏著層2之全部變色，又，可抑制該著色部分由外界光(活性光線)進一步著色。
又，於上述說明中，於配置步驟中，於黏著層2之一面配置活性光線吸收層3，但亦可如圖3D所示，將黏著層2之另一面之剝離膜5(於在透明基材之一面準備黏著層2之情形時為透明基材)更換貼附為活性光線吸收層3。
又，於上述說明中，使黏著層2之全部變色，但亦可使黏著層2之一部分變色。
於此種情形時，如圖3E所示，於將照射活性光線(較佳為紫外線)之部分51(詳細而言為配置於將照射活性光線(較佳為紫外線)之部分51之另一面之剝離膜5的另一面)不配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，於不照射活性光線(較佳為紫外線)之部分52(詳細而言為配置於不照射活性光線(較佳為紫外線)之部分52之另一面之剝離膜5的另一面)配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，自剝離膜5之表面側照射活性光線(較佳為紫外線)。
並且，於配置步驟中，如圖3F所示，於黏著層2之一面配置活性光線吸收層3。
藉此，可預先使黏著層2之一部分變色，又，可抑制該著色部分以外由外界光(活性光線)著色。
又，於此種情形時，亦可將黏著層2之另一面之剝離膜5(於在透明基材之一面準備黏著層2之情形時為透明基材)更換貼附為活性光線吸收層3。
具體而言，可如圖3G所示，將剝離膜5之全部更換貼附為活性光線吸收層3，又，亦可如圖3H所示，將配置於不照射活性光線(較佳為紫外線)之部分52之另一面之剝離膜5(於在透明基材之一面準備黏著層2之情形時為透明基材)更換貼附為活性光線吸收層3。
又，於上述說明中，黏著片材1包含黏著層2、及活性光線吸收層3，但亦可使上述透明基材等中間層介存於黏著層2與活性光線吸收層3之間。
2.中間積層體 如圖4所示，中間積層體6具有具特定厚度之膜形狀(包括片材形狀)，於與厚度方向正交之方向(面方向)上延伸，且具有平坦之上表面及平坦之下表面。
具體而言，中間積層體6具備：黏著片材1，其具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3；及被黏著體4，其配置於黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)。
詳細內容將於下文進行敍述，中間積層體6係藉由將上述黏著片材1貼附於被黏著體4所獲得。
由於中間積層體6具備活性光線吸收層3，故而可抑制黏著層2中之未照射/低照射部分21(下述)由外界光(活性光線)著色。
2-1.黏著片材 如上所述，黏著片材1具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3。
又，如上所述，黏著片材1視需要亦可於黏著層2之另一面積層剝離膜5。
於此種情形時，黏著片材1依序具備剝離膜5、黏著層2、及活性光線吸收層3。
於以下之說明中，對使用具備剝離膜5之黏著片材1之情形進行詳述。
又，黏著片材1中之黏著層2具備波長550 nm下之可見光透過率相對較大之高光透過率部分10、及波長550 nm下之可見光透過率相對較小之低光透過率部分11。
再者，詳細內容將於下文進行敍述，高光透過率部分10及低光透過率部分11之波長550 nm下之可見光透過率係由下述中間積層體6之製造方法決定。
2-2.被黏著體 被黏著體4係藉由黏著片材1被補強之被補強體，例如可列舉光學器件、電子器件及其構成零件等。
再者，於圖4中被黏著體4具有平板形狀，但被黏著體4之形狀並無特別限定，根據光學器件、電子器件及其構造零件之種類選擇各種形狀。
又，詳細內容將於下文進行敍述，於中間積層體6之製造方法中，於自被黏著體4之表面側對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)之情形時(下述第2A實施形態)，根據被黏著體4使活性光線(較佳為紫外線)透過、抑或將活性光線(較佳為紫外線)遮斷決定中間積層體6之製造方法。
作為此種被黏著體4中之使活性光線透過之被黏著體4(以下設為第1被黏著體30)，較佳可例舉使紫外線透過之第1被黏著體30。
作為使紫外線透過之第1被黏著體30，例如可列舉無鹼玻璃、PET膜等。
使活性光線透過之第1被黏著體30之活性光線之平均透過率例如為60%以上，較佳為65%以上，尤其，於使活性光線透過之第1被黏著體30為使紫外線透過之第1被黏著體30之情形時，使紫外線透過之第1被黏著體30之波長300 nm以上且400 nm以下之平均透過率例如為60%以上，較佳為65%以上。
若上述平均透過率為上述下限以上，則活性光線(較佳為紫外線)透過第1被黏著體30，從而可對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)。
又，作為此種被黏著體4中之將活性光線(較佳為紫外線)遮斷之被黏著體4(以下設為第2被黏著體31)，可列舉吸收活性光線之第2被黏著體31、將活性光線反射(不使活性光線透過)之第2被黏著體31。
作為吸收活性光線之第2被黏著體31，較佳可例舉吸收紫外線之第2被黏著體31。
作為吸收紫外線之第2被黏著體31，例如可列舉聚醯亞胺膜、塗佈有上述紫外線吸收劑之玻璃板等。
吸收活性光線之第2被黏著體31之活性光線之平均透過率例如為15%以下，較佳為10%以下，尤其，於吸收活性光線之第2被黏著體31為吸收紫外線之第2被黏著體31之情形時，吸收紫外線之第2被黏著體31之波長300 nm以上且400 nm以下之平均透過率例如為15%以下，較佳為10%以下。
若上述平均透過率為上述下限以上，則第2被黏著體31可吸收活性光線(較佳為紫外線)。
作為將活性光線反射之第2被黏著體31，較佳可例舉將紫外線反射之第2被黏著體31。
作為將紫外線反射之第2被黏著體31，例如可列舉銅板等金屬基板等。
2-3.中間積層體之製造方法 中間積層體6之製造方法包括如下步驟：準備步驟，其係準備上述黏著片材1；照射步驟，其係對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)而於黏著層2形成活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較高之高照射部分20、及活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較低、或未照射到活性光線(較佳為紫外線)之未照射/低照射部分21，藉此使高照射部分20之波長550 nm下之可見光透過率小於未照射/低照射部分21之波長550 nm下之可見光透過率；及貼合步驟，其係將黏著片材1之另一面貼合於被黏著體4。
即，由於該中間積層體6之製造方法中使用黏著片材1，故而藉由該中間積層體6之製造方法所獲得之中間積層體6可抑制著色部分以外(未照射/低照射部分21)由外界光(活性光線)著色。
以下，根據各步驟之順序及活性光線(較佳為紫外線)之照射方向分別對中間積層體6之製造方法進行說明。
詳細而言，作為各步驟之順序，於準備步驟後實施照射步驟，且於照射步驟後實施貼合步驟(以下設為第1實施形態)，或者，於準備步驟後實施貼合步驟，且於貼合步驟後實施照射步驟(以下設為第2實施形態)。
又，作為活性光線(較佳為紫外線)之照射方向，於第1實施形態中，自剝離膜5之表面側(黏著層2之表面側)對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)(以下設為第1A實施形態)，或者，自活性光線吸收層3之表面側對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)(以下設為第1B實施形態)。又，於第2實施形態中，自被黏著體4之表面側對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)(以下設為第2A實施形態)，或者，自活性光線吸收層3之表面側對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)(以下設為第2B實施形態)。
以下對各實施形態進行詳述。
再者，於該中間積層體6之製造方法中，根據活性光線(較佳為紫外線)之照射量決定未照射/低照射部分21成為未照射部分22抑或成為低照射部分23，但於以下之說明中，對未照射/低照射部分21為未照射部分22之情形進行詳述。
又，未照射部分22為未照射到活性光線(較佳為紫外線)之部分，未照射部分22之波長550 nm下之可見光透過率例如為80%以上，較佳為90%以上。
若上述可見光透過率為上述下限以上，則未照射部分22具有透明性。
2-3-1.第1A實施形態 於第1A實施形態中，於準備步驟後實施照射步驟，且於照射步驟後實施貼合步驟。
又，於第1A實施形態中，於照射步驟中，自黏著層2之表面側對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)。
參照圖5對第1A實施形態進行說明。
於準備步驟中，如圖5A所示，準備黏著片材1。
於照射步驟中，如圖5B所示，對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)而於黏著層2形成活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較高之高照射部分20、及未照射到活性光線(較佳為紫外線)之未照射部分22。
再者，於以下之說明中，對於對黏著片材1(黏著層2)之一部分照射活性光線(較佳為紫外線)之情形進行說明，具體而言，將黏著片材1於面方向上分割為3個部分，對其中之兩端部分2處照射活性光線(較佳為紫外線)，將照射活性光線(較佳為紫外線)之黏著片材1(黏著層2)之一部分設為高照射部分20(換言之，將黏著片材1於面方向上分割為3個部分，僅其中之中央部分1處為未照射部分22)。
具體而言，於照射步驟中，於黏著片材1中，對於高照射部分20，自剝離膜5之表面側(黏著層2之表面側)照射活性光線(較佳為紫外線)，對於未照射部分22，不照射活性光線(較佳為紫外線)。
詳細而言，於高照射部分20(詳細而言為配置於高照射部分20之另一面之剝離膜5之另一面)不配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，於未照射部分22(詳細而言為配置於未照射部分22之另一面之剝離膜5之另一面)配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，自剝離膜5之表面側(黏著層2之表面側)照射活性光線(較佳為紫外線)。
藉此，僅對高照射部分20照射活性光線(較佳為紫外線)。
並且，於高照射部分20中之黏著層2中，自光酸產生劑產生酸，藉由酸著色之化合物藉由該酸著色(具體而言為黑色)。其結果，高照射部分20中之黏著層2自無色(透明)變為有色(波長550 nm下之可見光透過率變低)。如此，高照射部分20之波長550 nm下之可見光透過率小於未照射部分22之波長550 nm下之可見光透過率(具體而言，高照射部分20與未照射部分22相比變黑)。
即，形成波長550 nm下之可見光透過率相對較小之高照射部分20、及波長550 nm下之可見光透過率相對較大之未照射部分22。
如此，高照射部分20成為低光透過率部分11，未照射部分22成為高光透過率部分10。
於貼合步驟中，如圖5C所示，將黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)貼附於被黏著體4。
具體而言，自黏著片材1將剝離膜5剝離，並於黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)配置被黏著體4。
藉此獲得中間積層體6，其具備：黏著片材1，其具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3；及被黏著體4，其配置於黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)。
又，於中間積層體6中，黏著層2具備波長550 nm下之可見光透過率相對較大之高光透過率部分10、及波長550 nm下之可見光透過率相對較小之低光透過率部分11。
並且，於該中間積層體6中，低光透過率部分11之波長550 nm下之可見光透過率例如未達20%，較佳為10%以下，又，例如為0.01%以上，又，高光透過率部分10之波長550 nm下之可見光透過率例如為80%以上，較佳為90%以上。
若低光透過率部分11之上述可見光透過率未達上述上限，則可確實地賦予低光透過率部分11吸收光之功能。
又，若高光透過率部分10之上述可見光透過率為上述下限以上，則高光透過率部分10具有透明性。
根據第1A實施形態，發揮上述中間積層體6之製造方法之效果，並且，由於在準備步驟後實施照射步驟，並在照射步驟後實施貼合步驟，故而，照射步驟中所形成之透過率不同之區域之圖案形狀即便於暴露於外界光下之情形時，亦容易維持。
又，根據第1A實施形態，由於在照射步驟中自剝離膜5之表面側(黏著層2之表面側)對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)，故而可確實地使黏著層2著色。
又，尤其，若被黏著體4為第2被黏著體31，則可抑制未照射部分22由來自第2被黏著體31之表面側之外界光(活性光線)著色。
2-3-2.第1B實施形態 於第1B實施形態中，於準備步驟後實施照射步驟，且於照射步驟後實施貼合步驟。
又，於第1B實施形態中，於照射步驟中，自活性光線吸收層3之表面側對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)。
具體而言，於照射步驟中，藉由自活性光線吸收層3之表面側對活性光線吸收層3照射超過活性光線吸收層3之吸收量之光量之活性光線(較佳為紫外線)而使黏著層2變色。
參照圖6對第1B實施形態進行說明。
於準備步驟中，如圖6A所示，與上述第1A實施形態同樣地準備黏著片材1。
於照射步驟中，如圖6B所示，對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)而於黏著層2形成活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較高之高照射部分20、及未照射到活性光線(較佳為紫外線)之未照射部分22。
具體而言，於照射步驟中，於黏著片材1中，對於高照射部分20，自活性光線吸收層3側照射活性光線(較佳為紫外線)(超過活性光線吸收層3之吸收量之光量之活性光線(較佳為紫外線))，對於未照射部分22，不照射活性光線(較佳為紫外線)。
詳細而言，於高照射部分20(詳細而言為配置於高照射部分20之一面之活性光線吸收層3之一面)不配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，於未照射部分22(詳細而言為配置於未照射部分22之一面之活性光線吸收層3之一面)配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，自活性光線吸收層3之表面側照射活性光線(較佳為紫外線)(超過活性光線吸收層3之吸收量之光量之活性光線(較佳為紫外線))。
藉此，僅對高照射部分20照射活性光線(較佳為紫外線)，可與上述第1A實施形態同樣地形成高照射部分20(低光透過率部分11)及未照射部分22(高光透過率部分10)。
於貼合步驟中，如圖6C所示，與上述第1A實施形態同樣地將黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)貼附於被黏著體4。
藉此獲得中間積層體6，其具備：黏著片材1，其具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3；及被黏著體4，其配置於黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)。
又，於中間積層體6中，黏著層2具備波長550 nm下之可見光透過率相對較大之高光透過率部分10、及波長550 nm下之可見光透過率相對較小之低光透過率部分11。
並且，於該中間積層體6中，低光透過率部分11之波長550 nm下之可見光透過率例如未達20%，較佳為10%以下，又，例如為0.01%以上，又，高光透過率部分10之波長550 nm下之可見光透過率例如為80%以上，較佳為90%以上。
若低光透過率部分11之上述可見光透過率未達上述上限，則可確實地賦予低光透過率部分11吸收光之功能。
又，若高光透過率部分10之上述可見光透過率為上述下限以上，則高光透過率部分10具有透明性。
根據第1B實施形態，發揮上述中間積層體6之製造方法之效果，並且，由於在準備步驟後實施照射步驟，並在照射步驟後實施貼合步驟，故而於在照射步驟(黏著層2與活性光線吸收層3之貼合)中產生不良情況之情形時，可事先停止下一步驟(照射步驟)，其結果，效率性提高。
又，根據第1B實施形態，由於在照射步驟中自活性光線吸收層3之表面側對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)，故而必須照射對於活性光線吸收層3而言光量較大之活性光線(較佳為紫外線)，藉此容易控制高照射部分20之透過率。
又，尤其，若被黏著體4為第2被黏著體31，則可抑制未照射部分22由來自第2被黏著體31之表面側之外界光(活性光線)著色。
2-3-3.第2A實施形態 於第2A實施形態中，於準備步驟後實施貼合步驟，且於貼合步驟後實施照射步驟。
又，於第2A實施形態中，於照射步驟中，自被黏著體4之表面側對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)。
於第2A實施形態中，根據被黏著體4使活性光線(較佳為紫外線)透過抑或將活性光線(較佳為紫外線)遮斷(具體而言根據被黏著體4為第1被黏著體30抑或第2被黏著體31)決定中間積層體6之製造方法。
以下，分為被黏著體4為第1被黏著體30之情形與被黏著體4為第2被黏著體31之情形進行說明。
參照圖7對被黏著體4為第1被黏著體30之情形時之第2A實施形態進行說明。
於準備步驟中，如圖7A所示，與上述第1A實施形態同樣地準備黏著片材1。
於貼合步驟中，如圖7B所示，與上述第1A實施形態同樣地將黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)貼附於第1被黏著體30。
於照射步驟中，如圖7C所示，對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)而於黏著層2形成活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較高之高照射部分20、及未照射到活性光線(較佳為紫外線)之未照射部分22。
具體而言，於照射步驟中，於黏著片材1中，對於高照射部分20，自第1被黏著體30側照射活性光線(較佳為紫外線)，對於未照射部分22，不照射活性光線(較佳為紫外線)。
詳細而言，於在第1被黏著體30之另一面之一部分配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7後，對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)。
更詳細而言，於高照射部分20(詳細而言為配置於高照射部分20之另一面之第1被黏著體30之另一面)不配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，於未照射部分22(詳細而言為配置於未照射部分22之另一面之第1被黏著體30之另一面)配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，自第1被黏著體30之表面側照射活性光線(較佳為紫外線)。
此時，由於第1被黏著體30使活性光線(較佳為紫外線)透過，故而可僅對高照射部分20照射活性光線(較佳為紫外線)。
藉此，可與上述第1A實施形態同樣地形成高照射部分20(低光透過率部分11)、及未照射部分22(高光透過率部分10)。
藉由以上，如圖7D所示，獲得中間積層體6，其具備：黏著片材1，其具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3；及被黏著體4(第1被黏著體30)，其配置於黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)。
又，於中間積層體6中，黏著層2具備波長550 nm下之可見光透過率相對較大之高光透過率部分10、及波長550 nm下之可見光透過率相對較小之低光透過率部分11。
並且，於該中間積層體6中，低光透過率部分11之波長550 nm下之可見光透過率例如未達20%，較佳為10%以下，又，例如為0.01%以上，又，高光透過率部分10之波長550 nm下之可見光透過率例如為80%以上，較佳為90%以上。
若低光透過率部分11之上述可見光透過率未達上述上限，則可確實地賦予低光透過率部分11吸收光之功能。
又，若高光透過率部分10之上述可見光透過率為上述下限以上，則高光透過率部分10具有透明性。
根據第2A實施形態(被黏著體4為第1被黏著體30之情形)，發揮上述中間積層體6之製造方法之效果，並且由於在準備步驟後實施貼合步驟，並在貼合步驟後實施照射步驟，故而於貼合步驟時可對異物或氣泡進行確認。
又，根據第2A實施形態(被黏著體4為第1被黏著體30之情形)，由於在照射步驟中自被黏著體4(第1被黏著體30)之表面側對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)，故而欲著色之部位之位置對準精度提高。
又，根據第2A實施形態(被黏著體4為第1被黏著體30之情形)，由於使用第1被黏著體4，故而可自被黏著體4(第1被黏著體30)之表面側確實地對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)。
接下來，參照圖8對被黏著體4為第2被黏著體31之情形時之第2B實施形態進行說明。
於準備步驟中，如圖8A所示，與上述第1A實施形態同樣地準備黏著片材1。
於貼合步驟中，如圖8B所示，於黏著片材1之另一面之一部分(黏著層2之另一面之一部分)配置第2被黏著體31。
具體而言，自黏著片材1將剝離膜5剝離，於黏著片材1之另一面之一部分(黏著層2之另一面之一部分)配置第2被黏著體31。
再者，於以下之說明中，對如下情形進行說明，即，如圖8B所示，將黏著片材1於面方向上分割為3個部分，於其中之中央部分1處配置第2被黏著體31。
於照射步驟中，如圖8C所示，對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)而於黏著層2形成活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較高之高照射部分20、及未照射到活性光線(較佳為紫外線)之未照射部分22。
具體而言，於照射步驟中，於黏著片材1中，對於高照射部分20，自第2被黏著體31之表面側照射活性光線(較佳為紫外線)，對於未照射部分22，不照射活性光線(較佳為紫外線)。
詳細而言，與上述第1A實施形態、第1B實施形態及第2A實施形態(被黏著體4為第1被黏著體30之情形)不同，不使用遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7而直接自第2被黏著體31之表面側照射活性光線(較佳為紫外線)。
此時，由於第2被黏著體31將活性光線(較佳為紫外線)遮斷，故而第2被黏著體31可代替遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，可防止配置有第2被黏著體31之未照射部分22照射到活性光線(較佳為紫外線)，另一方面，可僅對未配置第2被黏著體31之高照射部分20照射活性光線(較佳為紫外線)。
藉此，可與上述第1A實施形態同樣地形成高照射部分20(低光透過率部分11)、及未照射部分22(高光透過率部分10)。
藉由以上，如圖8D所示，獲得中間積層體6，其具備：黏著片材1，其具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3；及被黏著體4(第2被黏著體31)，其配置於黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)。
又，於中間積層體6中，黏著層2具備波長550 nm下之可見光透過率相對較大之高光透過率部分10、及波長550 nm下之可見光透過率相對較小之低光透過率部分11。
並且，於該中間積層體6中，低光透過率部分11之波長550 nm下之可見光透過率例如未達20%，較佳為10%以下，又，例如為0.01%以上，又，高光透過率部分10之波長550 nm下之可見光透過率例如為80%以上，較佳為90%以上。
若低光透過率部分11之上述可見光透過率未達上述上限，則可確實地賦予低光透過率部分11吸收光之功能。
又，若高光透過率部分10之上述可見光透過率為上述下限以上，則高光透過率部分10具有透明性。
根據第2A實施形態(被黏著體4為第2被黏著體31之情形)，發揮上述中間積層體6之製造方法之效果，並且由於在準備步驟後實施貼合步驟，並在貼合步驟後實施照射步驟，故而於貼合步驟時可對異物或氣泡進行確認。
又，根據第2A實施形態(被黏著體4為第2被黏著體31之情形)，由於在照射步驟中自被黏著體4(第2被黏著體31)之表面側對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)，故而欲著色之部位之位置對準精度提高。
又，根據第2A實施形態(被黏著體4為第2被黏著體31之情形)，可確實地使配置有第2被黏著體4之部分(未照射部分22)不照射到活性光線(較佳為紫外線)。
2-3-4.第2B實施形態 於第2B實施形態中，於準備步驟後實施貼合步驟，且於貼合步驟後實施照射步驟。
又，於第2B實施形態中，於照射步驟中，自活性光線吸收層3側對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)。
具體而言，與第1B實施形態同樣地，藉由於照射步驟中自活性光線吸收層3之表面側對活性光線吸收層3照射超過活性光線吸收層3之吸收量之光量之活性光線(較佳為紫外線)而使黏著層2變色。
參照圖9對第2B實施形態進行說明。
於準備步驟中，如圖9A所示，與上述第1A實施形態同樣地準備黏著片材1。
於貼合步驟中，如圖9B所示，與上述第1A實施形態同樣地將黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)貼附於被黏著體4。
於照射步驟中，如圖9C所示，對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)而於黏著層2形成活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較高之高照射部分20、及未照射到活性光線(較佳為紫外線)之未照射部分22。
具體而言，於照射步驟中，於黏著片材1中，對於高照射部分20，自活性光線吸收層3之表面側照射活性光線(較佳為紫外線)(超過活性光線吸收層3之吸收量之光量之活性光線(較佳為紫外線))，對於未照射部分22，不照射活性光線(較佳為紫外線)。
詳細而言，於高照射部分20(詳細而言為配置於高照射部分20之一面之活性光線吸收層3之一面)不配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，於未照射部分22(詳細而言為配置於未照射部分22之一面之活性光線吸收層3之一面)配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，自活性光線吸收層3之表面側照射活性光線(較佳為紫外線)。
藉此，可僅對高照射部分20照射活性光線(較佳為紫外線)，可與上述第1A實施形態同樣地形成高照射部分20(低光透過率部分11)、及未照射部分22(高光透過率部分10)。
藉由以上，如圖9D所示，獲得中間積層體6，其具備：黏著片材1，其具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3；及被黏著體4，其配置於黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)。
又，於中間積層體6中，黏著層2具備波長550 nm下之可見光透過率相對較大之高光透過率部分10、及波長550 nm下之可見光透過率相對較小之低光透過率部分11。
並且，於該中間積層體6中，低光透過率部分11之波長550 nm下之可見光透過率例如未達20%，較佳為10%以下，又，例如為0.01%以上，又，高光透過率部分10之波長550 nm下之可見光透過率例如為80%以上，較佳為90%以上。
若低光透過率部分11之上述可見光透過率未達上述上限，則可確實地賦予低光透過率部分11吸收光之功能。
又，若高光透過率部分10之上述可見光透過率為上述下限以上，則高光透過率部分10具有透明性。
根據第2B實施形態，發揮上述中間積層體6之製造方法之效果，並且由於在準備步驟後實施貼合步驟，並在貼合步驟後實施照射步驟，故而於貼合步驟時可對異物或氣泡進行確認。
又，根據第2B實施形態，由於在照射步驟中自活性光線吸收層3之表面側對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)，故而必須照射對於活性光線吸收層3而言光量較大之活性光線(較佳為紫外線)，藉此容易控制高照射部分20之透過率。
又，尤其，若被黏著體4為第2被黏著體31，則可抑制未照射部分22由來自第2被黏著體31之表面側之外界光(活性光線)著色。
2-3-5.變化例 於上述說明中，對未照射/低照射部分21為未照射部分22之情形進行了說明，於以下之說明中，亦可將未照射/低照射部分21設為低照射部分23。
於未照射/低照射部分21為低照射部分23之情形時，照射步驟包括：第1照射步驟，其係藉由於配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之第1遮罩8後對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)，而於黏著層2形成照射到活性光線(較佳為紫外線)之第1照射部分40、及未照射到活性光線(較佳為紫外線)之暫未照射部分41；及第2照射步驟，其係藉由於在第1照射部分40配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之第2遮罩9後對黏著層2中之暫未照射部分41照射活性光線(較佳為紫外線)，而使暫未照射部分41成為第2照射部分42。
並且，詳細內容將於下文進行敍述，由於第1照射步驟中之活性光線(較佳為紫外線)之照射量與第2照射步驟中之活性光線(較佳為紫外線)之照射量不同，故而第1照射部分40及第2照射部分42中之任一者成為高照射部分20，另一者成為低照射部分23。
於以下之說明中，參照圖10對在第1A實施形態中未照射/低照射部分21為低照射部分23之情形(以下設為第1A實施形態之第1變化例)進行說明。
於準備步驟中，如圖10A所示，與上述第1A實施形態同樣地準備黏著片材1。
於照射步驟中，對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)而於黏著層2形成活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較高之高照射部分20、及活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較低之低照射部分23。
具體而言，於照射步驟中之第1照射步驟中，形成第1照射部分40及暫未照射部分41，於照射步驟中之第2照射步驟中，使暫未照射部分41成為第2照射部分42。
於第1照射步驟中，如圖10B所示，對於第1照射部分40，自剝離膜5之表面側(黏著層2之表面側)照射活性光線(較佳為紫外線)，對於暫未照射部分41，不照射活性光線(較佳為紫外線)。
再者，於以下之說明中，將黏著片材1於面方向上分割為3個部分，將其中之兩端部分2處設為第1照射部分40(換言之，將黏著片材1於面方向上分割為3個部分，僅其中之中央部分1處為暫未照射部分41)而進行說明。
更詳細而言，於第1照射部分40(詳細而言為配置於第1照射部分40之另一面之剝離膜5之另一面)不配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之第1遮罩8，於暫未照射部分41(詳細而言為配置於暫未照射部分41之另一面之剝離膜5之另一面)配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之第1遮罩8，自黏著層2之表面側照射活性光線(較佳為紫外線)。
藉此，可僅對第1照射部分40照射活性光線(較佳為紫外線)。
並且，於第1照射部分40中之黏著層2中，自光酸產生劑產生酸，藉由酸著色之化合物藉由該酸著色(具體而言為黑色)。其結果，第1照射部分40中之黏著層2自無色(透明)變為有色(波長550 nm下之可見光透過率變低)。
繼而，於第2照射步驟中，使暫未照射部分41成為第2照射部分42。
詳細而言，於第2照射步驟中，對於暫未照射部分41，自黏著層2之表面側照射與第1照射步驟不同之光量之活性光線(較佳為紫外線)，另一方面，對於第1照射部分40，不照射活性光線(較佳為紫外線)。
更詳細而言，於暫未照射部分41(詳細而言為配置於暫未照射部分41之另一面之剝離膜5之另一面)不配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之第2遮罩9，於第1照射部分40(詳細而言為配置於第1照射部分40之另一面之剝離膜5之另一面)配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之第2遮罩9，自黏著層2之表面側照射活性光線(較佳為紫外線)。
藉此，可僅對暫未照射部分41照射活性光線(較佳為紫外線)，暫未照射部分41成為第2照射部分42。
並且，於第2照射部分42中之黏著層2中，自光酸產生劑產生酸，藉由酸著色之化合物藉由該酸著色(具體而言為黑色)。其結果，第2照射部分42中之黏著層2自無色(透明)變為有色(波長550 nm下之可見光透過率變低)。
藉此，於黏著層2形成第1照射部分40及第2照射部分42。
並且，如上所述，於第2照射步驟中，照射與第1照射步驟不同之光量之活性光線(較佳為紫外線)。
即，第1照射部分40及第2照射部分42之活性光線(較佳為紫外線)之照射量互不相同。
因此，第1照射部分40及第2照射部分42中之任一者成為活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較高之高照射部分20(換言之，為波長550 nm下之可見光透過率相對較低之低光透過率部分11)，另一者成為活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較低之低照射部分23(換言之，為波長550 nm下之可見光透過率相對較高之高光透過率部分10)。
再者，於圖10中，設為第1照射部分40為高照射部分20(低光透過率部分11)，第2照射部分42為低照射部分21(高光透過率部分10)者而進行說明。
詳細而言，高照射部分20之波長550 nm下之可見光透過率例如未達20%，較佳為10%以下，又，例如為0.01%以上，又，低照射部分23之波長550 nm下之可見光透過率例如為20%以上，較佳為40%以上，又，例如為70%以下。
並且，於貼合步驟中，如圖10D所示，與上述第1A實施形態同樣地將黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)貼附於被黏著體4。
藉此獲得中間積層體6，其具備：黏著片材1，其具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3；及被黏著體4，其配置於黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)。
又，於中間積層體6中，黏著層2具備波長550 nm下之可見光透過率相對較大之高光透過率部分10、及波長550 nm下之可見光透過率相對較小之低光透過率部分11。
並且，於該中間積層體6中，低光透過率部分11之波長550 nm下之可見光透過率例如未達20%，較佳為10%以下，又，例如為0.01%以上，又，高光透過率部分10之波長550 nm下之可見光透過率例如為20%以上，較佳為40%以上，又，例如為70%以下。
若低光透過率部分11之上述可見光透過率為上述範圍內，且高光透過率部分10之上述可見光透過率為上述範圍內，則可確實地改變光透過率部分11及高光透過率部分10之色調。
根據第1A實施形態之第1變化例，發揮上述中間積層體6之製造方法之效果，並且由於藉由第1照射步驟及第2照射步驟形成高照射部分20(低光透過率部分11)及低照射部分23(高光透過率部分10)，故而可製造具備具有色調不同之區域之黏著層2之中間積層體6。
又，尤其，若被黏著體4為第2被黏著體31，則可抑制低照射部分23由來自第2被黏著體31之表面側之外界光(活性光線)著色。
又，於未照射/低照射部分21為低照射部分23之情形時，照射步驟包括：第3照射步驟，其係藉由對黏著層2之全部照射活性光線(較佳為紫外線)，而使黏著層2之全部形成為照射到活性光線(較佳為紫外線)之第3照射部分43；及第4照射步驟，其係藉由於在第3照射部分43之一部分45配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7後對第3照射部分之其餘部分46照射活性光線(較佳為紫外線)，而使第3照射部分43之其餘部分46成為第4照射部分44。
於以下之說明中，參照圖11對在第1A實施形態中未照射/低照射部分21為低照射部分23之情形(以下設為第1A實施形態之第2變化例)進行說明。
於準備步驟中，如圖11A所示，與上述第1A實施形態同樣地準備黏著片材1。
於照射步驟中，對黏著層2照射活性光線(較佳為紫外線)而於黏著層2形成活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較高之高照射部分20、及活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較低之低照射部分23。
具體而言，於照射步驟中之第3照射步驟中，形成第3照射部分43，於照射步驟中之第4照射步驟中，使第3照射部分43之其餘部分46(下述)成為第4照射部分44。
於第3照射步驟中，如圖11B所示，自剝離膜5之表面側(黏著層2之表面側)對黏著層2之全部照射活性光線(較佳為紫外線)。
藉此，黏著層2之全部形成為第3照射部分43。
又，於黏著層2(第3照射部分43)中，自光酸產生劑產生酸，藉由酸著色之化合物藉由該酸著色(具體而言為黑色)。其結果，黏著層2之全部(第3照射部分43)自無色(透明)變為有色(波長550 nm下之可見光透過率變低)。
繼而，於第4照射步驟中，如圖11C所示，藉由於在第3照射部分43之一部分45配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7後對第3照射部分之其餘部分46照射活性光線(較佳為紫外線)，而使第3照射部分43之其餘部分46成為第4照射部分44。
再者，於以下之說明中，將黏著片材1於面方向上分割為3個部分，將其中之兩端部分2處設為第3照射部分43之其餘部分46(換言之，將黏著片材1於面方向上分割為3個部分，僅其中之中央部分1處為第3照射部分43之一部分45)而進行說明。
詳細而言，於第4照射步驟中，對於第3照射部分43之其餘部分46，自黏著層2之表面側照射活性光線(較佳為紫外線)，另一方面，對於第3照射部分43之其餘部分，不照射活性光線(較佳為紫外線)。
更詳細而言，於第3照射部分43之其餘部分46(詳細而言為配置於第3照射部分43之其餘部分46之另一面之剝離膜5之另一面)不配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，於第3照射部分43之一部分45(詳細而言為配置於第3照射部分43之一部分45之另一面之剝離膜5之另一面)配置遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，自黏著層2之表面側照射活性光線(較佳為紫外線)。
藉此，可僅對第3照射部分43之其餘部分46照射活性光線(較佳為紫外線)，第3照射部分43之其餘部分46成為第4照射部分44。
並且，於第4照射部分44中之黏著層2中，自光酸產生劑產生酸，藉由酸著色之化合物藉由該酸著色(具體而言為黑色)。其結果，第4照射部分44中之黏著層2自無色(透明)變為有色(波長550 nm下之可見光透過率變低)。
藉此，第4照射部分44與第3照射部分43相比波長550 nm下之可見光透過率變低。
即，第3照射部分43成為活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較低之低照射部分23(換言之，為波長550 nm下之可見光透過率相對較高之高光透過率部分10)，第4照射部分44成為活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較高之高照射部分20(換言之，為波長550 nm下之可見光透過率相對較低之低光透過率部分11)。
詳細而言，高照射部分20之波長550 nm下之可見光透過率例如未達20%，較佳為10%以下，又，例如為0.01%以上，又，低照射部分23之波長550 nm下之可見光透過率例如為20%以上，較佳為40%以上，又，例如為70%以下。
並且，於貼合步驟中，如圖11D所示，與上述第1A實施形態同樣地將黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)貼附於被黏著體4。
藉此獲得中間積層體6，其具備：黏著片材1，其具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3；及被黏著體4，其配置於黏著片材1之另一面(黏著層2之另一面)。
又，於中間積層體6中，黏著層2具備波長550 nm下之可見光透過率相對較大之高光透過率部分10、及波長550 nm下之可見光透過率相對較小之低光透過率部分11。
並且，於該中間積層體6中，低光透過率部分11之波長550 nm下之可見光透過率例如未達20%，較佳為10%以下，又，例如為0.01%以上，又，高光透過率部分10之波長550 nm下之可見光透過率例如為20%以上，較佳為40%以上，又，例如為70%以下。
若低光透過率部分11之上述可見光透過率為上述範圍內，且高光透過率部分10之上述可見光透過率為上述範圍內，則可確實地改變光透過率部分11及高光透過率部分10之色調。
根據第1A實施形態之第2變化例，發揮上述中間積層體6之製造方法之效果，並且由於藉由第3照射步驟及第4照射步驟形成高照射部分20(低光透過率部分11)及低照射部分23(高光透過率部分10)，故而可製造具備具有色調不同之區域之黏著層2之中間積層體6。
又，尤其，若被黏著體4為第2被黏著體31，則可抑制低照射部分23由來自第2被黏著體31之表面側之外界光(活性光線)著色。
於上述說明中，對在第1A實施形態中將未照射/低照射部分21設為低照射部分23之情形進行了說明，於第1B實施形態、第2A實施形態(使用第1被黏著體之情形)及第2B實施形態中，亦可基於與上述第1A實施形態之第1變化例或第2變化例中之照射步驟相同之程序將未照射/低照射部分21設為低照射部分23。
又，亦可藉由使用複數個遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，而獲得黏著層2中之低光透過率部分11具有圖案形狀之中間積層體6。
具體而言，於第1A實施形態之照射步驟中，如圖12A所示，於剝離膜5之另一面配置複數個遮斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7(詳細而言，相互隔開間隔地配置4個)。
並且，藉由與上述第1A實施形態同樣地實施準備步驟、照射步驟及貼合步驟，可如圖12B所示獲得黏著層2中之低光透過率部分11具有圖案形狀之中間積層體6。
於中間積層體6中，若低光透過率部分11具有圖案形狀，則可自由地設計圖案形狀。 [實施例]
以下揭示實施例及比較例，更加具體地對本發明進行說明。再者，本發明不受實施例及比較例任何限定。又，以下記載中所使用之調配比率(含有比率)、物性值、參數等具體數值可替代為上述「實施方式」中所記載之與其等對應之調配比率(含有比率)、物性值、參數等相應記載之上限值(以「以下」、「未達」定義之數值)或下限值(以「以上」、「超過」定義之數值)。
再者，「份」及「%」只要未特別言及，則為質量基準。
1.成分之詳細內容 以下記載各實施例及各比較例中所使用之各成分。 BA：丙烯酸丁酯 AA：丙烯酸 Tetrad C：商品名：1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺基甲基)環己烷(環氧系交聯劑)，三菱瓦斯化學製造 BLACK ND1：隱色染料，山田化學工業製造 CPI-310B：包含鋶及(C6 F5 )4 B- 之鹽，光酸產生劑，San-Apro製造 Kapton 200H：聚醯亞胺膜，厚度25 μm，TORAY-DUPONT公司製造 KC2UA：TAC膜，厚度25 μm，Konica Minolta股份有限公司製造 UVA(ultraviolet-A，紫外線A)-TAC：依序具備KC2UA及硬塗層之膜(藉由利用硬塗處理於KC2UA(厚度：25 μm)之一面形成硬塗層(厚度：7 μm)所獲得)，厚度32 μm UVA-TAC×1：1片UVA-TAC UVA-TAC×2：2片UVA-TAC UVA-TAC×4：4片UVA-TAC UVA-TAC×8：8片UVA-TAC UVA-OCA(Optically Clear Adhesive，光學透明黏著劑)：具有紫外線吸收功能之膠帶，商品名「CS9934U」，厚度100 μm，日東電工公司製造
2.黏著性聚合物之製備 合成例1 向具備溫度計、攪拌機、回流冷卻管及氮氣導入管之反應容器中投入作為單體成分之丙烯酸丁酯95質量份、丙烯酸5質量份、作為聚合起始劑之偶氮二異丁腈0.2質量份、作為溶劑之乙酸乙酯233質量份，通入氮氣，一面攪拌一面進行約1小時氮氣置換。其後，加熱至60℃，使之反應7小時，獲得重量平均分子量(Mw)為600000之黏著性聚合物之溶液。
3.黏著片材之製造 實施例1 向合成例1之黏著性聚合物之溶液中添加相對於黏著性聚合物之溶液中之黏著性聚合物100質量份為0.075質量份之作為交聯劑之Tetrad C、相對於黏著性聚合物之溶液中之黏著性聚合物100質量份為2質量份之作為藉由酸著色之化合物之BLACK ND1(隱色染料)、相對於黏著性聚合物之溶液中之黏著性聚合物100質量份為10質量份之作為酸產生劑之CP-310B(光酸產生劑)，均一地混合而製備黏著性組合物。
繼而，利用槽輥以乾燥後之厚度成為25 μm之方式於表面經脫模處理之厚度50 μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(以下設為剝離膜A)之一面塗佈合成例1之黏著性組合物，於130℃下乾燥1分鐘而將溶劑去除。藉此形成於另一面具備剝離膜A之黏著層。繼而，將剝離膜B(表面經聚矽氧脫模處理之厚度25 μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜)之脫模處理面貼合於黏著層之一面。其後，於25℃之環境下進行4天老化處理，使之進行交聯反應。藉此製造(準備)黏著層。
繼而，將配置於黏著層之一面之剝離膜B剝離，於黏著層之一面依序配置玻璃基板、包含公知之黏著劑之低黏著劑層、PET膜、包含公知之黏著劑之高黏著劑層、及作為紫外線吸收層之Kapton 200H。
再者，低黏著劑層具有可將玻璃基板與PET膜剝離之程度之黏著力。
又，低黏著劑層及高黏著劑層之紫外線之平均透過率為50%以上。
藉此獲得具備剝離膜A、黏著層、玻璃基板、低黏著劑層、PET膜、高黏著劑層、及紫外線吸收層(Kapton 200H)之黏著片材。
實施例2 使用UVA-TAC×1作為紫外線吸收層，除此以外，以與實施例1相同之方式製造黏著片材。
實施例3 使用UVA-TAC×2作為紫外線吸收層，除此以外，以與實施例1相同之方式製造黏著片材。
實施例4 使用UVA-TAC×4作為紫外線吸收層，除此以外，以與實施例1相同之方式製造黏著片材。
實施例5 使用UVA-TAC×8作為紫外線吸收層，除此以外，以與實施例1相同之方式製造黏著片材。
實施例6 使用UVA-OCA作為紫外線吸收層，除此以外，以與實施例1相同之方式製造黏著片材。
實施例7 使用UVA-TAC及UVA-OCA作為紫外線吸收層，除此以外，以與實施例1相同之方式製造黏著片材。
具體而言，獲得依序具備剝離膜A、黏著層、玻璃基板、低黏著劑層、PET膜、高黏著劑層、UVA-TAC、及UVA-OCA之黏著片材。
比較例1 使用PET膜(厚度25 μm)作為紫外線吸收層，除此以外，以與實施例1相同之方式製造黏著片材。
4.評價 (LED(Light Emitting Diode，發光二極體)照射前之黏著層之平均透過率) 將配置於實施例1之黏著層之一面之剝離膜B剝離，將黏著層之一面貼合於玻璃基板。
其後，將配置於黏著層之另一面之剝離膜A剝離。藉此製備平均透過率測定用樣品。
將該平均透過率測定用樣品以黏著層配置於光源側之方式設置於透過率測定裝置(U4100型分光光度計，日本High-Technologies公司製造)中，測定波長400 nm～700 nm下之平均透過率。
再者，將僅以玻璃基板所測得之資料設為基準線。
將其結果示於表1。
(LED照射後之黏著層之平均透過率) 對上述平均透過率測定用樣品中之黏著層照射LED(365 nm，8000 mJ/□)之光後，藉由與上述相同之方法測定波長400 nm～700 nm下之平均透過率。
將其結果示於表1。
(紫外線吸收層之平均透過率) 將各紫外線吸收層設置於透過率測定裝置(U4100型分光光度計，日本High-Technologies公司製造)中，測定波長300 nm～400 nm下之平均透過率及波長400 nm～700 nm下之平均透過率。
再者，將於測定裝置內未設置任何東西之狀態下所測得之資料設為基準線。
將其結果示於表1。
(外界光穩定性) 以自各實施例及各比較例之黏著片材中之紫外線吸收層側照射螢光燈之光之方式放置各實施例及各比較例之黏著片材。
並且，測定放置開始時、及放置開始後經過一定時間後(24小時後、48小時後、120小時後、144小時後)之波長400 nm～700 nm下之平均透過率。
具體而言，自黏著片材將配置於玻璃基板之一面之低黏著劑層、PET膜、高黏著劑層、及紫外線吸收層剝離，又，將配置於黏著層之另一面之剝離膜A剝離。
藉此製備依序具備黏著層、及玻璃基板之外界光穩定性測定用樣品。
並且，將該外界光穩定性測定用樣品以黏著層配置於光源側之方式設置於透過率測定裝置(U4100型分光光度計，日本High-Technologies公司製造)中，測定波長400 nm～700 nm下之平均透過率。
再者，將僅以玻璃基板所測得之資料設為基準線。
又，藉由下述式(1)求出經過各時間後之變化率。 經過各時間後之變化率＝(放置開始時之平均透過率－經過各時間後之平均透過率)/(放置開始時之平均透過率)      (1)
將其結果示於表2。
5.探討 於平均透過率之評價中，黏著層包含可藉由紫外線之照射而降低波長550 nm下之可見光透過率之黏著性組合物之實施例1的黏著片材於照射LED前後之波長400 nm～700 nm下之平均透過率降低。
由此可知：若使用具備上述黏著層之黏著片材，則可藉由於任意時點照射紫外線而使黏著層著色。
於外界光穩定性之評價中，使用波長300 nm以上且400 nm以下之平均透過率為15%以下之紫外線吸收層之實施例1～實施例7於放置開始後經過120小時後變化率為5.72%以下。
另一方面，使用波長300 nm以上且400 nm以下之平均透過率為69%之PET膜之比較例1於放置開始後經過120小時後變化率為64.02%。
由此可知：若使用波長300 nm以上且400 nm以下之平均透過率為15%以下之紫外線吸收層，則外界光穩定性優異。
並且可知：由於外界光穩定性優異，故而於欲使黏著層中之著色部分以外透明地殘留之情形、或欲使其著色量少於著色部分之情形時，可抑制著色部分以外由外界光(紫外線)著色。 [表1]
表1
實施例 平均透過率
LED光照射前 LED光照射後
實施例1 95.64 16.92
[表2]
表2
實施例・比較例No. 紫外線吸收層 外界光穩定性
波長400～700 nm下之平均透過率(經過各時間後之變化率(%))
種類 波長300～400 nm下之平均透過率 波長400～700 nm下之平均透過率 放置開始時 24小時後 48小時後 120小時後 144小時後
比較例1 PET膜 69.00 87.00 95.64 75.65 (20.9%) 55.92 (41.53%) 34.41 (64.02%) -
實施例1 Kapton 200H 0.01 48.45 95.64 93.88 (1.84%) 94.03 (1.68%) 93.78 (1.94%) -
實施例2 UVA-TAC×1 11.91 90.21 95.64 94.22 (1.48%) 93.49 (2.25%) 90.17 (5.72%) -
實施例3 UVA-TAC×2 7.11 88.41 95.64 94.84 (0.84%) 94.37 (1.33%) 91.93 (3.88%) -
實施例4 UVA-TAC×4 3.74 84.75 95.64 94.90 (0.77%) 94.52 (1.17%) 92.36 (3.43%) -
實施例5 UVA-TAC×8 1.48 78.44 95.64 94.84 (0.84%) 94.43 (1.27%) 92.66 (3.12%) -
實施例6 UVA-OCA1 9.54 87.50 95.64 94.87 (0.81%) 93.96 (1.76%) 90.4 (5.48%) 86.22 (9.85%)
實施例7 UVA-OCA1/UVA-TAC 8.07 91.90 95.64 94.89 (0.78%) 94.11 (1.60%) 91.08 (4.77%) -
再者，上述發明係作為本發明之例示之實施形態所提供，但其僅為例示，不能限定性地進行解釋。對於該技術領域之業者而言明顯之本發明之變化例包含於下述申請專利範圍中。 [產業上之可利用性]
本發明之黏著片材、黏著片材之製造方法、中間積層體之製造方法及中間積層體可較佳地於光學器件、電子器件及其構成零件中使用。
1:黏著片材 2:黏著層 3:紫外線吸收層 4:被黏著體 5:剝離膜 6:中間積層體 7:遮罩 8:第1遮罩 9:第2遮罩 10:高光透過率部分 11:低光透過率部分 20:高照射部分 21:未照射/低照射部分 22:未照射部分 23:低照射部分 30:第1被黏著體 31:第2被黏著體 40:第1照射部分 41:暫未照射部分 42:第2照射部分 43:第3照射部分 44:第4照射部分 45:一部分 46:其餘部分 51:將照射活性光線(較佳為紫外線)之部分 52:不照射活性光線(較佳為紫外線)之部分
圖1係表示本發明之黏著片材之一實施形態之概略圖。 圖2係表示黏著片材之製造方法之一實施形態之概略圖，圖2A表示準備黏著層之黏著層準備步驟，圖2B表示於黏著層之一面積層活性光線吸收層側之配置步驟。 圖3係表示黏著片材之製造方法之一實施形態之概略圖，圖3A表示準備黏著層之黏著層準備步驟，圖3B表示自剝離膜之表面側對黏著層之全部照射活性光線之步驟，圖3C表示於黏著層之一面積層活性光線吸收層之配置步驟，圖3D表示於對黏著層之全部照射活性光線之情形時將剝離膜更換貼附為活性光線吸收層之步驟，圖3E表示自剝離膜之表面側對黏著層之一部分照射活性光線之步驟，圖3F表示於黏著層之一面積層活性光線吸收層之配置步驟，圖3G表示於對黏著層之一部分照射活性光線之情形時，將剝離膜之全部更換貼附為活性光線吸收層之步驟，圖3H表示於對黏著層之一部分照射活性光線之情形時將剝離膜之一部分更換貼附為活性光線吸收層之步驟。 圖4係表示本發明之中間積層體之一實施形態之概略圖。 圖5係表示本發明之中間積層體之製造方法之第1A實施形態的概略圖，圖5A表示準備黏著片材之準備步驟，圖5B表示自剝離膜之表面側(黏著層之表面側)對黏著層照射活性光線之照射步驟，圖5C表示將黏著片材貼合於被黏著體之貼合步驟。 圖6係表示本發明之中間積層體之製造方法之第1B實施形態的概略圖，圖6A表示準備黏著片材之準備步驟，圖6B表示自活性光線吸收層之表面側對黏著層照射活性光線之照射步驟，圖6C表示將黏著片材貼合於被黏著體之貼合步驟。 圖7係表示本發明之中間積層體之製造方法之第2A實施形態(被黏著體為第1被黏著體之情形)的概略圖，圖7A表示準備黏著片材之準備步驟，圖7B表示將黏著片材貼合於第1被黏著體之貼合步驟，圖7C表示自第1被黏著體之表面側對黏著層照射活性光線之照射步驟，圖7D表示第2A實施形態(被黏著體為第1被黏著體之情形)中所製造之中間積層體。 圖8係表示本發明之中間積層體之製造方法之第2A實施形態(被黏著體為第2被黏著體之情形)的概略圖，圖8A表示準備黏著片材之準備步驟，圖8B表示將黏著片材貼合於第2被黏著體之貼合步驟，圖8C表示自第2被黏著體之表面側對黏著層照射活性光線之照射步驟，圖8D表示第2A實施形態(被黏著體為第2被黏著體之情形)中所製造之中間積層體。 圖9係表示本發明之中間積層體之製造方法之第2B實施形態的概略圖，圖9A表示準備黏著片材之準備步驟，圖9B表示將黏著片材貼合於被黏著體之貼合步驟，圖9C表示自活性光線吸收層之表面側對黏著層照射活性光線之照射步驟，圖9D表示第2B實施形態中所製造之中間積層體。 圖10係表示本發明之中間積層體之製造方法之第1A實施形態之第1變化例的概略圖，圖10A表示準備黏著片材之準備步驟，圖10B表示藉由照射活性光線而形成第1照射部分、及暫未照射部分之第1照射步驟，圖10C表示藉由對暫未照射部分照射活性光線而使暫未照射部分形成為第2照射部分之第2照射步驟，圖10D表示將黏著片材貼合於被黏著體之貼合步驟。 圖11係表示本發明之中間積層體之製造方法之第1A實施形態之第2變化例的概略圖，圖11A表示準備黏著片材之準備步驟，圖11B表示藉由對黏著層之全部照射活性光線而使黏著層之全部形成為第3照射部分之第3照射步驟，圖11C表示藉由於在第3照射部分之一部分配置遮斷活性光線之遮罩後對第3照射部分之其餘部分照射活性光線，而使第3照射部分之其餘部分形成為第4照射部分之第4照射步驟，圖11D表示將黏著片材貼合於被黏著體之貼合步驟。 圖12係表示黏著層中之低光透過率部分具有圖案形狀之中間積層體之製造方法的概略圖，圖12A表示配置複數個遮斷活性光線之遮罩之照射步驟，圖12B表示黏著層中之低光透過率部分具有圖案形狀之中間積層體。
1:黏著片材
2:黏著層
3:紫外線吸收層

Claims (25)

  1. 一種黏著片材，其特徵在於具備黏著層、及配置於上述黏著層之一面之活性光線吸收層， 上述黏著層包含可藉由活性光線之照射而降低波長550 nm下之可見光透過率之黏著性組合物，且 上述活性光線吸收層之活性光線之平均透過率為15%以下。
  2. 如請求項1之黏著片材，其中上述黏著層包含可藉由紫外線之照射而降低波長550 nm下之可見光透過率之黏著性組合物， 上述活性光線吸收層為紫外線吸收層，且 上述紫外線吸收層之波長300 nm以上且400 nm以下之平均透過率為15%以下。
  3. 如請求項2之黏著片材，其中上述紫外線吸收層之波長400 nm以上且700 nm以下之平均透過率為50%以上。
  4. 如請求項2之黏著片材，其中上述紫外線吸收層包含紫外線吸收劑。
  5. 如請求項1至4中任一項之黏著片材，其中上述黏著性組合物包含作為單體成分之聚合物之黏著性聚合物、藉由酸著色之化合物、及光酸產生劑。
  6. 一種黏著片材之製造方法，其特徵在於包括如下步驟：黏著層準備步驟，其係準備包含可藉由活性光線之照射而降低波長550 nm下之可見光透過率之黏著性組合物的黏著層；及 配置步驟，其係於上述黏著層之一面配置活性光線之平均透過率為15%以下之活性光線吸收層。
  7. 如請求項6之黏著片材之製造方法，其中於上述黏著層準備步驟後且上述配置步驟前， 對上述黏著層照射活性光線。
  8. 如請求項6之黏著片材之製造方法，其中於上述配置步驟後照射活性光線。
  9. 一種中間積層體之製造方法，其特徵在於包括如下步驟：準備步驟，其係準備藉由如請求項8之黏著片材之製造方法所製造之黏著片材； 照射步驟，其係對上述黏著層照射活性光線而於上述黏著層形成活性光線之照射量相對較高之高照射部分、及活性光線之照射量相對較低或未照射到活性光線之未照射/低照射部分，藉此使上述高照射部分之波長550 nm下之可見光透過率小於上述未照射/低照射部分之波長550 nm下之可見光透過率；及 貼合步驟，其係將上述黏著片材之另一面貼合於被黏著體。
  10. 如請求項9之中間積層體之製造方法，其中於上述準備步驟後實施上述照射步驟，且 於上述照射步驟後實施上述貼合步驟。
  11. 如請求項9之中間積層體之製造方法，其中於上述準備步驟後實施上述貼合步驟，且 於上述貼合步驟後實施上述照射步驟。
  12. 如請求項10之中間積層體之製造方法，其中於上述照射步驟中，自上述活性光線吸收層之表面側對上述黏著層照射活性光線。
  13. 如請求項11之中間積層體之製造方法，其中於上述照射步驟中，自上述活性光線吸收層之表面側對上述黏著層照射活性光線。
  14. 如請求項10之中間積層體之製造方法，其中於上述照射步驟中，自上述黏著層之表面側對上述黏著層照射活性光線。
  15. 如請求項11之中間積層體之製造方法，其中於上述照射步驟中，自上述被黏著體之表面側對上述黏著層照射活性光線。
  16. 如請求項15之中間積層體之製造方法，其中上述被黏著體之活性光線之平均透過率為60%以上，且 於上述照射步驟中，於在上述被黏著體側之另一面之一部分配置遮斷活性光線之遮罩後，對上述黏著層照射活性光線。
  17. 如請求項15之中間積層體之製造方法，其中上述被黏著體遮斷活性光線，且 於上述貼合步驟中，將上述被黏著體配置於上述黏著片材之另一面之一部分。
  18. 如請求項9至17中任一項之中間積層體之製造方法，其中上述未照射/低照射部分為未照射到活性光線之未照射部分，且 上述未照射部分之波長550 nm下之可見光透過率為80%以上。
  19. 如請求項9至16中任一項之中間積層體之製造方法，其中上述未照射/低照射部分為活性光線之照射量低之低照射部分， 上述照射步驟包括：第1照射步驟，其係藉由於配置遮斷活性光線之第1遮罩後對上述黏著層照射活性光線，而於上述黏著層形成照射到活性光線之第1照射部分、及未照射到活性光線之暫未照射部分；及 第2照射步驟，其係藉由於在上述第1照射部分配置遮斷活性光線之第2遮罩後對上述黏著層中之上述暫未照射部分照射活性光線，而使上述暫未照射部分形成為第2照射部分；且 上述第1照射部分及上述第2照射部分中之任一者為上述高照射部分，另一者為上述低照射部分。
  20. 如請求項9至16中任一項之中間積層體之製造方法，其中上述未照射/低照射部分為活性光線之照射量低之低照射部分， 上述照射步驟包括：第3照射步驟，其係藉由對上述黏著層之全部照射活性光線，而使上述黏著層之全部形成為照射到活性光線之第3照射部分；及 第4照射步驟，其係藉由於在上述第3照射部分之一部分配置遮斷活性光線之遮罩後對上述第3照射部分之其餘部分照射活性光線，而使上述第3照射部分之其餘部分形成為第4照射部分；且 上述第3照射部分為上述低照射部分， 上述第4照射部分為上述高照射部分。
  21. 如請求項19之中間積層體之製造方法，其中上述高照射部分之波長550 nm下之可見光透過率未達20%， 上述低照射部分之波長550 nm下之可見光透過率為20%以上且70%以下。
  22. 一種中間積層體，其特徵在於具備：黏著片材，其具備黏著層、及配置於上述黏著層之一面之活性光線吸收層；及被黏著體，其配置於上述黏著片材之另一面； 上述黏著層具備波長550 nm下之可見光透過率相對較大之高光透過率部分、及波長550 nm下之可見光透過率相對較小之低光透過率部分，且 上述活性光線吸收層之活性光線之平均透過率為15%以下。
  23. 如請求項22之中間積層體，其中上述低光透過率部分具有圖案形狀。
  24. 如請求項22或23之中間積層體，其中上述高光透過率部分之波長550 nm下之可見光透過率為80%以上。
  25. 如請求項22或23之中間積層體，其中上述低光透過率部分之波長550 nm下之可見光透過率未達20%，且 上述高光透過率部分之波長550 nm下之可見光透過率為20%以上且70%以下。
TW109103194A 2019-03-15 2020-02-03 黏著片材、黏著片材之製造方法、中間積層體之製造方法及中間積層體 TWI790418B (zh)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019-048221 2019-03-15
JP2019-048841 2019-03-15
JP2019048841 2019-03-15
JP2019048221 2019-03-15
JP2019162986A JP7241648B2 (ja) 2019-03-15 2019-09-06 光学デバイス用粘着シート、光学デバイス用粘着シートの製造方法、中間積層体の製造方法および中間積層体
JP2019-162986 2019-09-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202045652A true TW202045652A (zh) 2020-12-16
TWI790418B TWI790418B (zh) 2023-01-21

Family

ID=74201239

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109103195A TWI781371B (zh) 2019-03-15 2020-02-03 黏著片材、黏著片材之製造方法、中間積層體之製造方法及中間積層體
TW109103194A TWI790418B (zh) 2019-03-15 2020-02-03 黏著片材、黏著片材之製造方法、中間積層體之製造方法及中間積層體
TW109103193A TWI832965B (zh) 2019-03-15 2020-02-03 黏著劑、中間積層體之製造方法及中間積層體

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109103195A TWI781371B (zh) 2019-03-15 2020-02-03 黏著片材、黏著片材之製造方法、中間積層體之製造方法及中間積層體

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109103193A TWI832965B (zh) 2019-03-15 2020-02-03 黏著劑、中間積層體之製造方法及中間積層體

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR102419776B1 (zh)
CN (3) CN113613894B (zh)
TW (3) TWI781371B (zh)

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02107681A (ja) * 1988-10-18 1990-04-19 Tomoegawa Paper Co Ltd 光感受性粘着シート
JPH08240908A (ja) * 1994-12-29 1996-09-17 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂組成物、それを用いた感光性平版印刷版、および平版印刷用版材の製造方法
JP2002156454A (ja) * 2000-11-15 2002-05-31 Japan Atom Power Co Ltd:The 放射線吸収線量測定材料およびシート成形体
US20090004419A1 (en) * 2007-06-29 2009-01-01 Cok Ronald S Multi-layer masking film
KR100951044B1 (ko) * 2007-10-17 2010-04-05 삼성코닝정밀유리 주식회사 디스플레이 장치용 외광 차폐 필름의 제조 방법
JP4602450B2 (ja) * 2008-12-02 2010-12-22 日東電工株式会社 半導体装置製造用フィルム及びその製造方法
JP5952013B2 (ja) * 2011-03-23 2016-07-13 三菱樹脂株式会社 画像表示装置用透明両面粘着シートおよび画像表示装置
JP5522280B2 (ja) * 2013-02-13 2014-06-18 旭硝子株式会社 車両合わせガラス用中間膜の製造方法および車両合わせガラス用中間膜並びに車両合わせガラス
TWI638874B (zh) * 2014-06-11 2018-10-21 日本化藥股份有限公司 觸控面板用紫外線硬化型樹脂組成物、使用其之貼合方法及物品
JP6504346B2 (ja) * 2015-02-13 2019-04-24 株式会社スリーボンド 隣接電極間の短絡を抑制する光硬化性樹脂組成物
JP6523715B2 (ja) * 2015-03-05 2019-06-05 大王製紙株式会社 粘着シートおよびこれを備える電気電子機器
JP6557043B2 (ja) * 2015-04-02 2019-08-07 山本化成株式会社 活性線硬化型接着剤用液状樹脂組成物
JP6654362B2 (ja) * 2015-06-04 2020-02-26 日東電工株式会社 粘着剤付き光学フィルム、および画像表示装置の製造方法
CN112680119A (zh) * 2016-02-08 2021-04-20 三菱化学株式会社 透明两面粘合片及粘合片层叠体
JP2017203810A (ja) 2016-05-09 2017-11-16 日本化薬株式会社 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ用カラーフィルタに含有される光吸収層、及びそれを用いたシート
US11011707B2 (en) * 2016-12-01 2021-05-18 Toray Industries, Inc. Organic EL display device
JP2018159070A (ja) * 2017-03-22 2018-10-11 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 接着剤、積層体及びその製造方法
JP7088838B2 (ja) * 2017-08-18 2022-06-21 積水化学工業株式会社 湿気硬化型樹脂組成物、電子部品用接着剤、及び、表示素子用接着剤
JP2019044024A (ja) * 2017-08-30 2019-03-22 リンテック株式会社 粘着シート、表示体および表示体の製造方法
CN112154167B (zh) * 2018-07-27 2023-08-22 株式会社艾迪科 组合物、固化物、光学滤波器及固化物的制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210120108A (ko) 2021-10-06
TW202045673A (zh) 2020-12-16
KR102419776B1 (ko) 2022-07-11
CN113613894A (zh) 2021-11-05
TW202039748A (zh) 2020-11-01
TWI781371B (zh) 2022-10-21
TWI790418B (zh) 2023-01-21
TWI832965B (zh) 2024-02-21
CN113646167A (zh) 2021-11-12
CN113613894B (zh) 2022-12-30
CN113573894A (zh) 2021-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2020188985A1 (ja) 粘着シート、粘着シートの製造方法、中間積層体の製造方法および中間積層体
WO2020188984A1 (ja) 粘着剤、中間積層体の製造方法および中間積層体
WO2020188986A1 (ja) 粘着シート、粘着シートの製造方法、中間積層体の製造方法および中間積層体
WO2021075401A1 (ja) 粘着シートおよび中間積層体
JP7111672B2 (ja) 粘着シート、粘着シートの製造方法、中間積層体の製造方法および中間積層体
TW202045652A (zh) 黏著片材、黏著片材之製造方法、中間積層體之製造方法及中間積層體
WO2022054637A1 (ja) 粘着シート貼付品の製造方法
TW202111048A (zh) 黏著片材、中間積層體、中間積層體之製造方法及製品積層體之製造方法
TW202223036A (zh) 可變色黏著片材
JP2022046421A (ja) 可変色粘着シート
TW202120650A (zh) 光硬化性黏著劑組合物、雙面黏著片材及其製造方法、以及光學裝置及其製造方法
TW202122530A (zh) 黏著片及中間積層體
WO2022176383A1 (ja) 可変色粘着シート
JP7505921B2 (ja) 粘着シート、および粘着シート貼付品の製造方法
WO2022054635A1 (ja) 可変色粘着シート
WO2021054374A1 (ja) 粘着シートおよび粘着シート付き部材の製造方法
WO2022054634A1 (ja) 可変色粘着シート
TW202120640A (zh) 黏著片材及附有黏著片材之構件之製造方法
JP2022126585A (ja) 可変色粘着シート
CN116323191A (zh) 带分隔件的光学粘合片