TW202120640A - 黏著片材及附有黏著片材之構件之製造方法 - Google Patents

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舟木千尋
尾﨑真由
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種黏著片材、及附有黏著片材之構件之製造方法，該黏著片材適於在貼合於被黏著體後使可見光透過性降低，並且適於抑制該被黏著體之金屬腐蝕。 本發明之黏著片材X具備黏著劑層，該黏著劑層含有：基礎聚合物、酸產生劑、藉由與酸之反應而顯色之顯色性化合物、及防銹材料。於黏著劑層中，相對於顯色性化合物100質量份，防銹劑之含量未達100質量份。本發明之附有黏著片材之構件之製造方法包括：使黏著片材X貼合於構件之步驟；及對構件上之黏著片材X之黏著劑層賦予外部刺激而使顯色性化合物顯色之步驟。

Description

黏著片材及附有黏著片材之構件之製造方法
本發明係關於一種黏著片材及附有黏著片材之構件之製造方法。
於作為顯示器用面板而被實用化之有機電致發光(EL)面板中，設置反射性較高之金屬電極層作為用以使有機EL元件進行自發光之一對電極中之一者或兩者。以包含此種金屬電極層之元件構成顯示畫面之方式排列之有機EL面板容易產生外界光反射。
作為用以防止有機EL面板之外界光反射之方法，提出有於有機EL面板中之有機EL元件之光出射側設置具有能夠抑制外界光反射之程度之可見光吸收能力之層(光吸收層)。例如下述專利文獻1中記載有此種技術。於專利文獻1中，具體而言，記載有設置含有碳黑顏料及染料而著色之黏著片材作為上述光吸收層。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2017-203810號公報
[發明所欲解決之問題]
然而，若利用藉由含有成分而預先著色之黏著片材，則例如於有機EL面板之製造過程中，在將該黏著片材貼合於特定表面後，不易對該黏著片材與其被黏著面之間有無異物或氣泡進行檢查。對於黏著片材對電子零件或光學零件之貼合，要求可在貼合後適當地對黏著片材與其被黏著面之間有無異物或氣泡進行檢查。
另一方面，對於貼合於電子零件或光學零件之黏著片材，要求於其被黏著體之黏著片材貼合部位或其附近例如具有金屬配線之情形時，不使該配線產生金屬腐蝕。
本發明提供一種黏著片材、及附有黏著片材之構件之製造方法，該黏著片材適於在貼合於被黏著體後使可見光透過性降低，並且適於抑制該被黏著體之金屬腐蝕。 [解決問題之技術手段]
本發明[1]包括一種黏著片材，其具備黏著劑層，該黏著劑層含有：基礎聚合物、酸產生劑、藉由與酸之反應而顯色之顯色性化合物、及相對於該顯色性化合物100質量份為未達100質量份之防銹劑。
本發明[2]包含如上述[1]所記載之黏著片材，其中上述顯色性化合物為隱色染料。
本發明[3]包含如上述[1]或[2]所記載之黏著片材，其中上述防銹劑為苯并三唑系化合物。
本發明[4]包含如上述[1]至[3]中任一項所記載之黏著片材，其中上述基礎聚合物為丙烯酸系聚合物。
本發明[5]包含如上述[1]至[4]中任一項所記載之黏著片材，其中上述黏著劑層之霧度為3%以下。
本發明[6]包含一種附有黏著片材之構件之製造方法，其包括：使如上述[1]至[5]中任一項所記載之黏著片材貼合於構件之步驟；及對上述構件上之上述黏著片材之上述黏著劑層賦予外部刺激而使上述顯色性化合物顯色之步驟。 [發明之效果]
黏著片材之黏著劑層共同含有藉由與酸之反應而顯色之顯色性化合物、與酸產生劑。此種構成適於如下情況：於貼合於被黏著體後之黏著劑層中，自酸產生劑產生酸而使顯色性化合物顯色，藉此使可見光透過性降低。
又，黏著劑層含有防銹劑。此種構成適於如下情況：於貼合有黏著片材之被黏著體之黏著片材貼合部位或其附近具有金屬配線之情形時，抑制因黏著劑層內之酸產生劑所產生之酸導致該配線產生金屬腐蝕。
此外，相對於顯色性化合物100質量份，黏著劑層中之防銹劑之含量未達100質量份。此種構成適於在貼合於被黏著體之前之黏著劑層中，抑制因防銹劑之作用而使顯色性化合物顯色，因此，適於在貼合被黏著體後使黏著劑層之可見光透過性降低。
如上所述之黏著片材適於在貼合於被黏著體後使可見光透過性降低，並且適於抑制該被黏著體中之金屬腐蝕。
又，使用此種黏著片材之附有黏著片材之構件之製造方法適於如下情況：即便於構件中之黏著片材貼合部位或其附近例如具有金屬配線之情形時，亦抑制該配線之金屬腐蝕，並且使零件上之黏著片材之可見光透過性於所需時點降低。
圖1係作為本發明之一實施方式之黏著片材X之剖面模式圖。黏著片材X具備黏著劑層10。黏著片材X或黏著劑層10具有特定厚度之片狀，且具有在與厚度方向正交之方向(面方向)上延伸之上表面及下表面。
黏著劑層10係由黏著性組合物所形成之具有透明性(可見光透過性)之感壓接著劑層，上述黏著性組合物含有基礎聚合物、藉由與酸之反應而顯色之顯色性化合物、酸產生劑、及防銹劑。又，黏著劑層10之透明性可事後降低。具體而言，於黏著劑層10中，藉由所需時點所賦予之下述外部刺激而自酸產生劑產生酸，藉由該酸使顯色性化合物顯色，從而可使透明性自較高之狀態變為較低之狀態(例如可使其著色)。
基礎聚合物係用以於黏著劑層10中使黏著性表現之黏著成分。作為基礎聚合物，例如可例舉丙烯酸系聚合物、橡膠系聚合物、聚酯系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、聚醚系聚合物、矽酮系聚合物、聚醯胺系聚合物、氟系聚合物等在室溫範圍內表現橡膠彈性之聚合物。就確保黏著劑層10之良好之透明性及黏著性之觀點而言，較佳為使用丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物。
就適當地表現基礎聚合物在黏著劑層10中之功能而言，黏著劑層10中之基礎聚合物之含有比率較佳為50質量%以上，更佳為60質量%以上，進而較佳為70質量%以上。
丙烯酸系聚合物例如係藉由使以50質量%以上之比率包含(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分聚合而獲得之聚合物。「(甲基)丙烯酸」係指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。
作為(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可例舉：具有直鏈狀或支鏈狀之碳數1～20之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。作為此種(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可例舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸新戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸異十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸異十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸異十八烷基酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、及(甲基)丙烯酸二十烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用，亦可併用兩種以上。作為(甲基)丙烯酸烷基酯，較佳為使用具有碳數2～10之烷基之丙烯酸烷基酯，更佳為使用丙烯酸丁酯。
就於黏著劑層10中適當地表現黏著性等基本特性之觀點而言，單體成分中之(甲基)丙烯酸烷基酯之比率較佳為60質量%以上，更佳為70質量%以上，進而較佳為80質量%以上，尤佳為90質量%以上。上述單體成分中之(甲基)丙烯酸烷基酯之比率例如為99質量%以下。
單體成分可包含能夠與(甲基)丙烯酸烷基酯進行共聚之一種或兩種以上之含官能基之乙烯基單體。含官能基之乙烯基單體有助於丙烯酸系聚合物之改質，如向丙烯酸系聚合物導入交聯點、確保丙烯酸系聚合物之凝集力等。就確保藉由使用含官能基之乙烯基單體所產生之效果之觀點而言，單體成分中之含官能基之乙烯基單體之比率較佳為0.1質量%以上，更佳為1質量%以上，進而較佳為3質量%以上。上述單體成分中之含官能基之乙烯基單體之比率較佳為40質量%以下，更佳為30質量%以下，進而較佳為20質量%以下，尤佳為10質量%以下。
作為含官能基之乙烯基單體，例如可例舉：含羧基之乙烯基單體、酸酐基乙烯基單體、含羥基之乙烯基單體、含磺基之乙烯基單體、含磷酸基之乙烯基單體、含氰基之乙烯基單體、含縮水甘油基之乙烯基單體、芳香族乙烯基單體、乙烯酯單體、及乙烯醚單體。含官能基之乙烯基單體可單獨使用，亦可併用兩種以上。
作為含羧基之乙烯基單體，例如可例舉：丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、馬來酸、富馬酸、及丁烯酸。
作為酸酐基乙烯基單體，例如可例舉：馬來酸酐及伊康酸酐。
作為含羥基之乙烯基單體，例如可例舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯、及(甲基)丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯。
作為含磺基之乙烯基單體，例如可例舉：苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、乙烯基磺酸鈉、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、及(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸。
作為含磷酸基之乙烯基單體，例如可例舉：磷酸2-羥基乙基丙烯醯酯。
作為含氰基之乙烯基單體，例如可例舉：丙烯腈及甲基丙烯腈。
作為含縮水甘油基之乙烯基單體，例如可例舉：(甲基)丙烯酸縮水甘油酯及(甲基)丙烯酸2-乙基縮水甘油醚。
作為芳香族乙烯基單體，例如可例舉：苯乙烯、對甲基苯乙烯、鄰甲基苯乙烯、及α-甲基苯乙烯。
作為乙烯酯單體，例如可例舉：乙酸乙烯酯及丙酸乙烯酯。
作為乙烯醚單體，例如可例舉：甲基乙烯基醚及乙基乙烯基醚。
單體成分較佳為包含具有陰離子性基之酸性乙烯基單體。作為具有陰離子性基之酸性乙烯基單體，例如可例舉上述含羧基之乙烯基單體、含磺基之乙烯基單體、及含磷酸基之乙烯基單體。於單體成分包含具有陰離子性基之酸性乙烯基單體之情形時，有促進因外部刺激而自酸產生劑產生之強酸之背離之傾向，該酸產生劑與由該單體成分所形成之丙烯酸系聚合物一併包含於黏著劑層10中。因此，有黏著劑層10中之顯色性化合物之顯色增強之傾向，又，有使黏著劑層10之透明性降低狀態穩定之傾向。就獲得此種效果之觀點而言，單體成分中之具有陰離子性基之酸性乙烯基單體之比率較佳為1質量%以上，更佳為3質量%以上。又，上述單體成分中之具有陰離子性基之酸性乙烯基單體之比率例如為10質量%以下，較佳為8質量%以下。
單體成分較佳為實質上不包含能夠與(甲基)丙烯酸烷基酯進行共聚，且具有孤電子對之鹼性乙烯基單體。單體成分中之具有孤電子對之鹼性乙烯基單體之比率例如為3質量%以下，較佳為1質量%以下，進而較佳為0.5質量%以下，尤佳為0質量%。於單體成分實質上不包含具有孤電子對之鹼性乙烯基單體之情形時，有使黏著劑層10之透明性降低狀態穩定之傾向。
作為具有孤電子對之鹼性乙烯基單體，例如可例舉雜環上具有氮之含雜環之鹼性乙烯基單體，具體而言，可例舉：N-乙烯基吡咯啶酮、甲基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌𠯤、乙烯基吡𠯤、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基㗁唑、乙烯基𠰌啉、N-丙烯醯𠰌啉、及N-乙烯基己內醯胺。
丙烯酸系聚合物可藉由使上述單體成分聚合而形成。作為聚合方法，例如可例舉溶液聚合、塊狀聚合、及乳化聚合，較佳可例舉溶液聚合。於溶液聚合中，例如將單體成分與聚合起始劑調配至溶劑中而製備反應溶液後，對該反應溶液進行加熱。然後，經由反應溶液中之單體成分之聚合反應，藉此可獲得包含丙烯酸系聚合物之丙烯酸系聚合物溶液。作為聚合起始劑，可根據聚合方法而使用熱聚合起始劑及光聚合起始劑。聚合起始劑之使用量相對於單體成分100質量份，例如為0.05質量份以上，又，例如為1質量份以下。
作為熱聚合起始劑，例如可例舉偶氮系聚合起始劑及過氧化物系聚合起始劑。作為偶氮系聚合起始劑，例如可例舉：2,2'-偶氮二異丁腈、2,2'-偶氮雙-2-甲基丁腈、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4'-偶氮雙-4-氰基戊酸、偶氮二異戊腈、2,2'-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、及2,2'-偶氮雙(N,N'-二亞甲基異丁基脒)二鹽酸鹽。作為過氧化物系聚合起始劑，例如可例舉：過氧化二苯甲醯、過氧化順丁烯二酸第三丁酯、及過氧化月桂醯基。
作為光聚合起始劑，例如可例舉：安息香醚系光聚合起始劑、苯乙酮系光聚合起始劑、α-酮醇系光聚合起始劑、芳香族磺醯氯系光聚合起始劑、光活性肟系光聚合起始劑、安息香系光聚合起始劑、苄基系光聚合起始劑、二苯甲酮系光聚合起始劑、縮酮系光聚合起始劑、9-氧硫𠮿
Figure 109132333-0000-3
系光聚合起始劑、及醯基氧化膦系光聚合起始劑。
就確保黏著劑層10之凝集力之觀點而言，丙烯酸系聚合物之重量平均分子量較佳為100000以上，更佳為300000以上，進而較佳為500000以上。上述丙烯酸系聚合物之重量平均分子量較佳為5000000以下，更佳為3000000以下，進而較佳為2000000以下。丙烯酸系聚合物之重量平均分子量係利用凝膠滲透層析儀(GPC)進行測定，藉由聚苯乙烯換算而算出。
基礎聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)較佳為0℃以下，更佳為-10℃以下，進而較佳為-20℃以下。上述基礎聚合物之玻璃轉移溫度例如為-80℃以上。
關於聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)，可使用基於下述Fox之式而求出之玻璃轉移溫度(理論值)。Fox之式係聚合物之玻璃轉移溫度Tg、與構成該聚合物之單體之均聚物之玻璃轉移溫度Tgi之關係式。於下述Fox之式中，Tg表示聚合物之玻璃轉移溫度(℃)，Wi表示構成該聚合物之單體i之重量分率，Tgi表示由單體i所形成之均聚物之玻璃轉移溫度(℃)。關於均聚物之玻璃轉移溫度，可使用文獻值，例如於「Polymer Handbook」(第4版，John Wiley & Sons, Inc., 1999年)及「新高分子文庫7 塗料用合成樹脂入門」(北岡協三 著，高分子出版協會，1995年)中，可例舉各種均聚物之玻璃轉移溫度。另一方面，關於單體之均聚物之玻璃轉移溫度，可藉由日本專利特開2007-51271號公報中具體記載之方法而求出。
Fox之式      1/(273＋Tg)＝Σ[Wi/(273＋Tgi)]
就向基礎聚合物導入交聯結構之觀點而言，黏著性組合物亦可含有交聯劑。作為於基礎聚合物具有交聯點之情形時用以與該交聯點反應而形成交聯結構之交聯劑，例如可例舉：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、及金屬螯合物系交聯劑。交聯劑可單獨使用，亦可併用兩種以上。
作為異氰酸酯系交聯劑，例如可例舉：甲苯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、四甲基苯二甲基二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯、及聚亞甲基聚苯基異氰酸酯。又，作為異氰酸酯系交聯劑，亦可例舉該等異氰酸酯之衍生物(例如異氰尿酸酯改性物及多元醇改性物等)。作為異氰酸酯系交聯劑之市售品，例如可例舉：Coronate L(甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物，東曹製造)、Coronate HL(六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物，東曹製造)、Coronate HX(六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體，東曹製造)、及Takenate D110N(苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物，三井化學製造)。
作為環氧系交聯劑，可例舉：雙酚A、表氯醇型之環氧系樹脂、乙烯縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、甘油二縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚、1,6-己二醇縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、二縮水甘油基苯胺、二胺縮水甘油基胺、N,N,N',N'-四縮水甘油基間苯二甲胺、及1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷。
就確保黏著劑層10之凝集力之觀點而言，交聯劑之調配量相對於基礎聚合物100質量份，例如為0.01質量份以上，較佳為0.05質量份以上，更佳為0.07質量份以上。就於黏著劑層10中確保良好之黏性之觀點而言，相對於基礎聚合物100質量份，交聯劑之調配量例如為10質量份以下，較佳為5質量份以下，更佳為3質量份以下。
於向基礎聚合物導入交聯結構之情形時，為了使交聯反應有效率地進行，亦可使用交聯觸媒。作為交聯觸媒，例如可例舉鈦酸四正丁酯、鈦酸四異丙酯、三乙醯丙酮鐵、氧化二丁基錫、二月桂酸二辛基錫等金屬系交聯觸媒。交聯觸媒之使用量相對於基礎聚合物100質量份，例如為0.0001質量份以上，又，為1質量份以下。
顯色性化合物係藉由與酸之反應而自無色(透明)變化(顯色)為有色之化合物，例如可例舉：隱色系色素、p,p',p"-三-二甲基胺基三苯基甲烷等三芳基甲烷系色素、4,4-雙-二甲基胺基苯基二苯甲基苄醚等二苯基甲烷系色素、3-二乙基胺基-6-甲基-7-氯螢烷等螢烷系色素、3-甲基螺二萘并哌喃等螺哌喃系色素、及玫瑰紅B苯胺基內醯胺等玫瑰紅系色素。顯色性化合物可單獨使用，亦可併用兩種以上。就於黏著劑層10中確保良好之著色性之觀點而言，黏著性組合物較佳為包含隱色系色素作為顯色性化合物。
相對於基礎聚合物100質量份，顯色性化合物之調配量較佳為0.5質量份以上，更佳為1質量份以上。上述顯色性化合物之調配量較佳為10質量份以下，更佳為7質量份以下。
作為酸產生劑，可例舉藉由照射活性光線而產生酸之光酸產生劑、及藉由加熱而產生酸之熱酸產生劑。於使用光酸產生劑作為酸產生劑之情形時，用以降低黏著劑層10之可見光透過性之外部刺激為活性光線之照射。作為外部刺激之活性光線之種類係根據光酸產生劑之種類(具體而言為使光酸產生劑產生酸之活性光線之波長)而決定。作為活性光線，例如可例舉紫外線、可見光、紅外線、X射線、α射線、β射線、γ射線，就使用設備之多樣性及易操作性之觀點而言，較佳可例舉紫外線。另一方面，於使用熱酸產生劑作為酸產生劑之情形時，用以降低黏著劑層10之可見光透過性之外部刺激為加熱。
作為光酸產生劑，例如可例舉藉由照射紫外線而產生酸之鎓化合物。鎓化合物例如以鎓陽離子與陰離子之鎓鹽之形態提供。作為鎓陽離子，可例舉：錪及鋶。作為形成鎓鹽之陰離子，例如可例舉：Cl- 、Br- 、I- 、ZnCl3 - 、HSO3 - 、BF4 - 、PF6 - 、AsF6 - 、SbF6 - 、CH3 SO3 - 、CF3 SO3 - 、(C6 F5 )4 B- 、(C4 H9 )4 B- 。光酸產生劑可單獨使用，亦可併用兩種以上。黏著劑層10較佳為包含由鋶及(C6 F5 )4 B- 所組成之鎓鹽作為鎓化合物。作為光酸產生劑之市售品，例如可例舉：San-Apro公司製造之CPI-310B(鋶與(C6 F5 )4 B- 之鎓鹽)。
作為熱酸產生劑，例如可例舉：芳基鋶鹽及芳基錪鹽。
相對於基礎聚合物100質量份，酸產生劑之調配量較佳為1質量份以上，更佳為2質量份以上，進而較佳為5質量份以上，尤佳為7質量份以上。上述酸產生劑之調配量較佳為20質量份以下，更佳為15質量份以下，進而較佳為10質量份以下。
又，相對於顯色性化合物100質量份，酸產生劑之調配量例如為100質量份以上，較佳為200質量份以上，更佳為300質量份以上，進而較佳為350質量份以上，又，例如為1000質量份以下，較佳為700質量份以下，更佳為500質量份以下。即，相對於顯色性化合物2質量份，酸產生劑之調配量例如為2質量份以上，較佳為4質量份以上，更佳為6質量份以上，進而較佳為7質量份以上，又，例如為20質量份以下，較佳為14質量份以下，更佳為10質量份以下。
作為防銹劑，例如可例舉：三唑系化合物、苯并三唑系化合物、噻唑系化合物、苯并噻唑系化合物、咪唑系化合物、苯并咪唑系化合物、具有羥基之唑系化合物、磷系化合物、胺系化合物、及亞硝酸鹽系化合物。防銹劑可單獨使用，亦可併用兩種以上。
就抑制被黏著體中之金屬腐蝕之觀點而言，作為防銹材料，較佳為使用苯并三唑系化合物，更佳為使用具有下述式(1)所表示之結構之苯并三唑系化合物。
[化1]
Figure 02_image001
於上述式(1)中，R為苯環上之取代基，可選自碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、碳數6～14之芳基、羧基、碳數2～6之羧基烷基、胺基、單或二-C1-10 烷基胺基、胺基-C1-6 烷基、單或二-C1-10 烷基胺基-C1-6 烷基、巰基、碳數1～6之烷氧基羰基等取代基。式(1)中之n為0～4之整數，於n為2以上之情形時，n個R可彼此相同，亦可不同。作為式(1)所表示之苯并三唑系化合物之較佳之例，可例舉：1,2,3-苯并三唑、5-甲基苯并三唑、4-甲基苯并三唑、及羧基苯并三唑。
就確保黏著劑層10中之腐蝕抑制效果之觀點而言，相對於顯色性化合物100質量份，防銹劑之調配量較佳為1質量份以上，更佳為3質量份以上，進而較佳為5質量份以上。即，相對於顯色性化合物2質量份，防銹劑之調配量較佳為0.02質量份以上，更佳為0.06質量份以上，進而較佳為0.1質量份以上。又，就於黏著劑層10中抑制因防銹劑之作用而使顯色性化合物顯色之觀點而言，相對於顯色性化合物100質量份，防銹劑之調配量未達100質量份，較佳為90質量份以下，更佳為85質量份以下，進而較佳為50質量份以下，尤佳為30質量份以下，特佳為10質量份以下。即，相對於顯色性化合物2質量份，防銹劑之調配量較佳為未達2質量份，較佳為1.8質量份以下，更佳為1.7質量份以下，進而較佳為1質量份以下，尤佳為0.6質量份以下，特佳為0.2質量份以下。
相對於基礎聚合物100質量份，防銹劑之調配量較佳為0.02質量份以上，更佳為0.06質量份以上，進而較佳為0.1質量份以上。又，相對於基礎聚合物100質量份，防銹劑之調配量較佳為未達2質量份，更佳為1.8質量份以下，進而較佳為1.7質量份以下。
黏著性組合物亦可視需要含有其他成分。作為其他成分，例如可例舉：矽烷偶合劑、黏著性賦予劑、塑化劑、軟化劑、防劣化劑、填充劑、抗氧化劑、界面活性劑、及抗靜電劑。
就確保對被黏著體之充分之黏著性之觀點而言，黏著劑層10之厚度例如為3 μm以上，較佳為10 μm以上，更佳為15 μm以上。就黏著片材X之操作性之觀點而言，黏著劑層10之厚度例如為100 μm以下，較佳為50 μm以下，更佳為30 μm以下。
黏著劑層10之霧度較佳為3%以下，更佳為2%以下，進而較佳為1%以下，進而更佳為0.8%以下，尤佳為0.6%以下。此種構成適於：在將黏著片材X貼合於特定表面後對黏著片材X與其被黏著面之間有無異物或氣泡進行檢查。黏著劑層10之霧度可依據JIS K7136(2000年)，使用霧度計進行測定。作為霧度計，例如可例舉：日本電色工業公司製造之「NDH2000」、及村上色彩技術研究所公司製造之「HM−150型」。
黏著劑層10在波長400～700 nm下之平均透過率(對黏著劑層10施予上述外部刺激之前之平均透過率)例如為80%以上，較佳為85%以上，更佳為90%以上，進而較佳為92%以上。此種構成適於：在將黏著片材X貼合於特定表面後對黏著片材X與其被黏著面之間有無異物或氣泡進行檢查。
黏著劑層10受到上述外部刺激後之波長400～700 nm下之平均透過率例如為70%以下，較佳為40%以下，更佳為20%以下，進而較佳為17%以下。此種構成適於：對貼合有黏著片材X之被黏著面中之上述外界光反射進行防止、抑制。
黏著片材X例如可藉由如下方式而製造：將含有用以構成黏著劑層10之各種成分之黏著性組合物塗佈於剝離膜(第1剝離膜)上而形成塗膜，視需要將溶劑自塗膜中乾燥去除。
作為剝離膜，例如可例舉：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚酯膜等可撓性塑膠膜。剝離膜之厚度例如為3 μm以上，又，例如為200 μm以下。對於剝離膜之表面，較佳為施加了利用矽酮系、氟系、長鏈烷基系、脂肪酸醯胺系等脫模劑進行之脫模處理，或利用矽粉進行之脫模處理。
作為黏著性組合物之塗佈方法，例如可例舉：輥塗、接觸輥式塗佈、凹版塗佈、反向塗佈、輥刷、噴塗、浸漬輥塗佈、棒式塗佈、刮塗、氣刀塗佈、淋幕式塗佈、模唇塗佈、及模嘴塗佈。用以去除溶劑之乾燥溫度例如為50℃～200℃。其乾燥時間例如為5秒～20分鐘。
於所使用之黏著性組合物包含交聯劑之情形時，與上述乾燥同時或藉由其後之老化而進行黏著性組合物中之交聯劑所參與之交聯反應。老化條件係根據交聯劑之種類而適宜設定。老化溫度例如為20℃～160℃。老化時間例如為1分鐘至7天。
又，亦可於老化之前或後在第1剝離膜上之黏著劑層10上進而積層剝離膜(第2剝離膜)。第2剝離膜係被施加了表面脫模處理之可撓性塑膠膜，可使用上文中關於第1剝離膜所述之可撓性塑膠膜相同者。
藉由以上方式，可製造藉由剝離膜使得黏著面得到被覆保護之黏著片材X。各剝離膜可於使用黏著片材X時視需要自黏著片材X剝離。
如圖2所示，黏著片材X亦可為除黏著劑層10以外還具備基材20之附有基材之單面黏著片材。此時，黏著片材X具體而言具備黏著劑層10、及配置於其一面側之基材20，較佳為具備基材10及以與其一面接觸之方式配置之黏著劑層10。此種黏著片材X可作為用於保護構件表面或賦予耐衝擊性等之補強用黏著片材而使用。
基材20係作為透明支持體而發揮功能之元件。基材20例如為具有可撓性之塑膠膜。作為塑膠膜之構成材料，例如可例舉：聚烯烴、聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、纖維素、聚苯乙烯、及聚碳酸酯。作為聚烯烴，例如可例舉：聚乙烯、聚丙烯、聚-1-丁烯、聚-4-甲基-1-戊烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-1-丁烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、及乙烯-乙烯醇共聚物。作為聚酯，例如可例舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、及聚對苯二甲酸丁二酯。作為聚醯胺，例如可例舉：尼龍6、尼龍6,6、及部分芳香族聚醯胺。基材20可包含一種材料，亦可包含兩種以上之材料。基材20可具有單層結構，亦可具有多層結構。基材20可為無延伸膜，亦可為單軸延伸膜，亦可為雙軸延伸膜。關於基材20，就兼顧其透明性與機械強度之觀點而言，基材20構成用之塑膠材料較佳為聚酯，更佳為聚對苯二甲酸乙二酯。
基材20具有透明性。基材20之霧度例如為10%以下，較佳為5%以下，更佳為3%以下。基材20之霧度可依據JIS K7136(2000年)，使用霧度計進行測定。
對於基材20中之黏著劑層10側之面11，亦可實施用以提高與黏著劑層10之密接性之物理處理、化學處理、或底塗處理。作為物理處理，例如可例舉電暈處理及電漿處理。作為化學處理，例如可例舉酸處理及鹼處理。
就確保用以供基材20作為支持體發揮功能之強度，基材20之厚度較佳為5 μm以上，更佳為10 μm以上，更佳為20 μm以上。又，就於黏著片材X中實現適度之可撓性之觀點而言，基材20之厚度較佳為200 μm以下，更佳為150 μm以下，更佳為100 μm以下。
關於圖2所示之黏著片材X，例如除使用基材20代替第1剝離膜以外，可與上述製造方法同樣地進行而製造。
如上所述，黏著片材X之黏著劑層10共同含有藉由與酸之反應而顯色之顯色性化合物與酸產生劑。此種構成適於如下情況：於貼合於被黏著體後之黏著劑層10中，自酸產生劑產生酸而使顯色性化合物顯色，藉此使可見光透過性降低。例如黏著片材X，可於將黏著片材X貼合於特定表面後，在黏著片材X之透明性(可見光透過性)相對較高之狀態下對該黏著片材X與被黏著面之間有無異物或氣泡進行檢查，該檢查通過後，對該黏著片材X之黏著劑層10施予外部刺激而使該黏著片材X之透明性變為相對較低之狀態。
又，如上所述，黏著劑層10含有防銹劑。此種構成適於如下情況：於貼合有黏著片材X之被黏著體之黏著片材貼合部位或其附近有金屬配線之情形時，抑制因黏著劑層10內之酸產生劑所產生之酸導致該配線產生金屬腐蝕。
此外，如上所述，黏著劑層10中之防銹劑之含量相對於顯色性化合物100質量份為未達100質量份，較佳為90質量份以下，更佳為85質量份以下，進而較佳為50質量份以下，尤佳為30質量份以下，特佳為10質量份以下。此種構成適於：在貼合於被黏著體之前之黏著劑層10中，抑制因防銹劑之作用而使顯色性化合物顯色。例如於將具有活性氫之苯并三唑系化合物用作防銹劑之情形時，關於防銹劑之含量之上述構成適於對因苯并三唑系化合物之活性氫而使顯色性化合物顯色進行抑制。適於對因防銹劑之作用而使顯色性化合物顯色進行抑制之構成，適於在貼合被黏著體後使黏著劑層10之可見光透過性降低。
如上所述，黏著片材X適於在貼合於被黏著體後使可見光透過性降低，並且適於抑制該被黏著體中之金屬腐蝕。此種黏著片材X例如可較佳地用作組裝於有機EL面板之抗外界光反射材料。
圖3係附有黏著片材之構件Y之剖面模式圖。附有黏著片材之構件Y具備：構件31(第1構件)、構件32(第2構件)、及黏著片材X。
構件31例如為光學器件、電子器件、或其等之構成零件。構件32例如為透明基材。作為透明基材，可例舉透明塑膠基材及透明玻璃基材。黏著片材X介存於構件31、32之間而將其等接合在一起。具體而言，黏著片材X係以與構件31之厚度方向上之一面接觸之方式而配置，構件32係以與該黏著片材X之厚度方向上之一面接觸之方式而配置。
圖4表示附有黏著片材之構件Y之製造方法。該製造方法包括：準備步驟、第1貼合步驟、及降低透明性之步驟，於本實施方式中，進而包括第2貼合步驟。
如圖4A所示，於準備步驟中準備上述構件31。
如圖4B所示，於第1貼合步驟中使黏著片材X貼合於構件31。
於第1貼合步驟之後，視需要對構件31中之黏著片材被黏著面31a與黏著片材X之間有無異物或氣泡進行檢查。
關於通過了檢查之貼合體，繼而於降低透明性之步驟中對構件31上之黏著劑層10施予外部刺激，如圖4C所示，使黏著劑層10之可見光透過率降低。於黏著劑層10包含光酸產生劑作為酸產生劑之情形時，外部刺激為活性光線照射。活性光線例如自與構件31相反側對黏著片材X之黏著劑層10進行照射。於黏著劑層10包含熱酸產生劑作為酸產生劑之情形時，外部刺激為加熱。於上述降低透明性之步驟中，藉由對黏著劑層10賦予外部刺激，而於黏著劑層10中自酸產生劑產生酸，藉由與該酸之反應使得顯色性化合物顯色。
繼而，於第2貼合步驟中，如圖4C所示，將上述構件32貼合於構件31上之黏著片材X。關於上述降低透明性之步驟，除於此種第2貼合步驟之前實施以外，亦可於第2貼合步驟之後實施。
例如可藉由以上方式而製造附有黏著片材之構件Y。
於如上所述之附有黏著片材之構件之製造方法中，使用上述黏著片材X。因此，於該製造方法中，發揮與上文中關於黏著片材X所述之技術效果相同之技術效果。 [實施例]
[實施例1] 〈基礎聚合物之製備〉 於具備攪拌機、溫度計、回流冷卻管、及氮氣導入管之反應容器內，將包含丙烯酸丁酯(BA)95質量份、丙烯酸(AA)5質量份、作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈(AIBN)0.2質量份、及作為溶劑之乙酸乙酯233質量份之混合物(含有單體成分之反應溶液)以60℃於氮氣氛圍下攪拌7小時(聚合反應)。藉此獲得含有丙烯酸系聚合物之聚合物溶液。該聚合物溶液中之丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)為600000。
〈黏著性組合物之製備〉 向含有丙烯酸系聚合物之上述聚合物溶液中，以丙烯酸系聚合物每100質量份為單位添加環氧系交聯劑(商品名「Tetrad C」，1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷，三菱瓦斯化學公司製造)0.075質量份、光酸產生劑(商品名：CPI-310B，鋶與(C6 F5 )4 B- 之鎓鹽，San-Apro公司製造)7質量份、作為顯色性化合物之隱色系色素(商品名「BLACK ND1」，山田化學工業公司製造)2質量份、及作為防銹劑之1,2,3-苯并三唑(商品名「BT-120」，城北化學工業公司製造)0.1質量份並進行混合而獲得黏著性組合物。
〈黏著片材之製作〉 使用槽輥將黏著性組合物塗佈於表面經脫模處理之厚度50 μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(第1剝離膜)上而形成塗膜。繼而，將該塗膜以130℃加熱1分鐘而使其乾燥，於第1剝離膜上形成厚度25 μm之黏著劑層。繼而，將一面經脫模處理之厚度25 μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(第2剝離膜)之脫模處理面貼合於第1剝離膜上之黏著劑層。然後，以25℃老化4天，進行黏著劑層中之交聯反應。藉由以上方式而製作實施例1之黏著片材。將黏著片材之黏著劑層之組成揭於表1中(於表1中，表示組成之各數值之單位為「質量份」)。
[實施例2～4] 於黏著性組合物之製備中，將防銹劑之調配量從0.1質量份設為0.05質量份(實施例2)、0.5質量份(實施例3)、或1質量份(實施例4)，除此以外，與實施例1之黏著片材同樣地進行而製作實施例2～4之各黏著片材。
[比較例1] 於黏著性組合物之製備中不使用防銹劑，除此以外，與實施例1之黏著片材同樣地進行而製作比較例1之黏著片材。
[比較例2] 於黏著性組合物之製備中將防銹劑之調配量從0.1質量份設為2質量份，除此以外，與實施例1之黏著片材同樣地進行而製作比較例2之黏著片材。
〈平均透過率〉 對於實施例1～4及比較例1、2之各黏著片材，測定波長400～700 nm下之平均透過率。
上述測定用之樣品係如下製作而成。首先，將第2剝離膜自黏著片材剝離。繼而，將黏著片材之因該剝離而露出之側之面貼合於載玻片。於該貼合中，使2 kg之手壓輥於載玻片上之黏著片材(帶有第1剝離膜)上往返1次。繼而，將第1剝離膜自載玻片上之黏著片材剝離。
使用日立高新技術公司製造之分光光度計U4100，對如此製作之測定用樣品在波長400～700 nm下之平均透過率進行測定(測定UV(Ultraviolet，紫外線)照射前之狀態下之第1平均透過率)。於上述測定中，在如下狀態下實施透過率測定：於具備光源與檢測器之透過率測定裝置內，以測定用樣品之黏著片材位於光源側且該測定用樣品之載玻片位於檢測器側之方式配置測定用樣品。又，於本測定中，將於相同條件下僅測定載玻片所獲得之透過率光譜用作基準線。將測定結果(UV照射前之波長400～700 nm下之平均透過率)揭於表1中。
又，對於實施例1～4及比較例1、2之各黏著片材，測定紫外線(UV)照射後之波長400～700 nm下之平均透過率。上述測定用之樣品係與第1平均透過率測定用之樣品同樣地製作。對該測定用樣品照射紫外線。於照射紫外線時，使用UV-LED燈作為光源，將照射波長設為365 nm，將照射光量設為8000 mJ/cm2 。繼而，使用日立高新技術公司製造之分光光度計U4100，對本測定用樣品在波長400～700 nm下之平均透過率進行測定(測定UV照射後之狀態下之第2平均透過率)。測定條件與第1平均透過率測定相同。將其測定結果(UV照射後之波長400～700 nm下之平均透過率)揭於表1中。
〈霧度〉 對實施例1～4及比較例1、2之各黏著片材測定霧度。具體而言，首先，與上述平均透過率測定用之樣品同樣地製作霧度測定用之樣品。繼而，使用村上色彩技術研究所公司製造之霧度計「HM-150N」，依據JIS K7136(2000年)對測定用樣品進行霧度測定。將測定結果揭於表1中。
〈色差〉 對於實施例1～4及比較例1、2之各黏著片材，基於被貼合黏著片材之金屬表面之色差而調查在紫外線照射前之狀態下對金屬表面產生之變色作用。
色差測定用之樣品(第1色差測定用樣品)係如下製作而成。首先，將第2剝離膜自黏著片材剝離。繼而，將黏著片材之因該剝離而露出之側之面貼合於附有Cu膜之被黏著體(附有Cu膜之被黏著體係表面形成有Cu蒸鍍膜之聚對苯二甲酸乙二酯膜)。於該貼合中，使2 kg之手壓輥於附有Cu膜之被黏著體上之黏著片材(帶有第1剝離膜)上往返1次。繼而，將第1剝離膜自附有Cu膜之被黏著體上之黏著片材剝離。
對於如此製作而成之色差測定用樣品，繼而，使用日立高新技術公司製造之分光光度計U4100而測定L＊ a＊ b＊ 表色系統中之L＊ 、a＊ 及b＊ 之各值(第1顏色測定)。
然後，將測定用樣品於高溫、高濕環境下保管48小時。保管溫度為60℃，保管濕度為相對濕度90%。繼而，對於經過了此種高溫、高濕環境之測定用樣品，使用日立高新技術公司製造之分光光度計U4100而測定L＊ a＊ b＊ 表色系統中之L＊ 、a＊ 及b＊ 之各值(第2顏色測定)。任一測定用樣品均為第2顏色測定時之色調較第1顏色測定時之色調強烈。
繼而，基於第1顏色測定及第2顏色測定之測定資料，根據下述式求出色差ΔE＊ ab (於下述式中，ΔL＊ 為第1顏色測定中之L＊ 與第2顏色測定中之L＊ 之差，Δa＊ 為第1顏色測定中之a＊ 與第2顏色測定中之a＊ 之差，Δb＊ 為第1顏色測定中之b＊ 與第2顏色測定中之b＊ 之差)。上述第1及第2顏色測定中之色差越小，越可評價為於金屬表面(Cu膜表面)誘發變色之腐蝕得到抑制。將基於UV照射前之狀態之黏著片材中之第1顏色測定及第2顏色測定之測定資料所求出之ΔE＊ ab 設為色差ΔE1 並揭於表1中。
ΔE＊ ab ＝[(ΔL＊ )2 ＋(Δa＊ )2 ＋(Δb＊ )2 ]1/2
又，對於實施例1～4及比較例1、2之各黏著片材，基於被貼合黏著片材之金屬表面中之色差而調查於紫外線照射後之狀態下對金屬表面產生之變色作用。
色差測定用之樣品(第2色差測定用樣品)係如下製作而成。首先，對黏著片材照射紫外線。於照射紫外線時，使用UV-LED燈作為光源，將照射波長設為365 nm，將照射光量設為8000 mJ/cm2 。繼而，將第2剝離膜自黏著片材剝離。繼而，將黏著片材之因該剝離而露出之側之面貼合於附有Cu膜之被黏著體(附有Cu膜之被黏著體係表面形成有Cu蒸鍍膜之聚對苯二甲酸乙二酯膜)。於該貼合中，使2 kg之手壓輥於附有Cu膜之被黏著體上之黏著片材(帶有第1剝離膜)上往返1次。繼而，將第1剝離膜自附有Cu膜之被黏著體上之黏著片材剝離。
使用如此製作而成之第2色差測定用樣品代替上述第1色差測定用樣品，除此以外，對第1色差測定用樣品進行上述第1顏色測定；於高溫、高濕環境下之保管；及第2顏色測定。將基於第2色差測定用樣品中之第1顏色測定及第2顏色測定之測定資料所求出之ΔE＊ ab 設為關於UV照射後之狀態下之黏著片材之色差ΔE2 並揭於表1中。
[評價] 關於實施例1～4之各黏著片材(於黏著劑層中包含酸產生劑、藉由與酸之反應而顯色之顯色性化合物、及防銹劑，且相對於顯色性化合物含量，防銹劑含量以質量基準計未達當量)，波長400～700 nm下之平均透過率於受到紫外線照射之前較高，為94.2%(實施例1)、94.0%(實施例2)、92.9%(實施例3)及93.1%(實施例4)，藉由受到紫外線照射而降低至12.3%(實施例1)、14.4%(實施例2)、14.8%(實施例3)及16.4%(實施例4)。由此可知：實施例1～4之各黏著片材適於在貼合於被黏著體後使可見光透過性降低。
又，於實施例1～4之各黏著片材中，不論是紫外線照射前之狀態下之上述色差ΔE1 ，亦或是紫外線照射後之狀態下之上述色差ΔE2 ，均取得5以下之較小之值(色差越小，越可評價為於金屬表面誘發變色之腐蝕得到抑制)。相對於此，於黏著劑層中不包含防銹劑之比較例1之黏著片材中，紫外線照射前之狀態下之色差ΔE1 為18.6，且紫外線照射後之狀態下之色差ΔE2 為23.4，均遠高於5。又，於黏著劑層中包含相對於顯色性化合物以質量基準計為同量之防銹劑之比較例2之黏著片材中，在受到紫外線照射之前之狀態下波長400～700 nm下之平均透過率為73.7%，較低，且紫外線照射後之狀態下之色差ΔE2 為7.3，有意義地高於5。根據比較例2之黏著片材，而認為於紫外線照射前，顯色性化合物亦因防銹劑之作用而顯色，又，認為因高溫、高濕環境下之防銹劑與顯色性化合物之相互作用增強，進行顯色而導致色差ΔE2 上升。基於上述內容可知：實施例1～4之各黏著片材適於抑制被黏著體中之金屬腐蝕。
[表1]
表1
   實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 比較例1 比較例2
丙烯酸系聚合物 100 100 100 100 100 100
交聯劑(Tetrad C) 0.075 0.075 0.075 0.075 0.075 0.075
光酸產生劑(CPI-310B) 7 7 7 7 7 7
隱色系色索(BLACK ND1) 2 2 2 2 2 2
防銹劑(BT-120) 0.1 0.05 0.5 1 - 2
400～700 nm下之平均透過率(%) UV照射前 94.2 94.0 92.9 93.1 95.3 73.7
UV照射後 12.3 14.4 14.8 16.4 15.5 11.1
霧度(%) 0.2 0.6 0.5 0.6 0.1 0.5
∆E1 (UV照射前之色差) 3.1 3.6 3.9 3.8 18.6 1.2
∆E2 (UV照射後之色差) 0.5 0.6 0.4 1.0 23.4 7.3
10:黏著劑層 20:基材 31:構件 32:構件 31a:黏著片材被黏著面 X:黏著片材 Y:附有黏著片材之構件
圖1係本發明之黏著片材之一實施方式之剖面模式圖。 圖2係本發明之黏著片材之變化例(黏著片材為附有基材之單面黏著片材之情形)之剖面模式圖。 圖3係附有黏著片材之構件之剖面模式圖。 圖4表示本發明之附有黏著片材之構件之製造方法之一實施方式。圖4A表示準備第1構件之步驟，圖4B表示將黏著片材貼合於第1構件之步驟，圖4C表示使黏著片材之可見光透過性降低之步驟，圖4D表示將第2構件貼合於第1構件上之黏著片材之步驟。
10:黏著劑層
X:黏著片材

Claims (10)

  1. 一種黏著片材，其特徵在於具備黏著劑層，該黏著劑層含有：基礎聚合物、酸產生劑、藉由與酸之反應而顯色之顯色性化合物、及相對於該顯色性化合物100質量份為未達100質量份之防銹劑。
  2. 如請求項1之黏著片材，其中上述顯色性化合物為隱色染料。
  3. 如請求項1或2之黏著片材，其中上述防銹劑為苯并三唑系化合物。
  4. 如請求項1或2之黏著片材，其中上述基礎聚合物為丙烯酸系聚合物。
  5. 如請求項3之黏著片材，其中上述基礎聚合物為丙烯酸系聚合物。
  6. 如請求項1或2之黏著片材，其中上述黏著劑層之霧度為3%以下。
  7. 如請求項3之黏著片材，其中上述黏著劑層之霧度為3%以下。
  8. 如請求項4之黏著片材，其中上述黏著劑層之霧度為3%以下。
  9. 如請求項5之黏著片材，其中上述黏著劑層之霧度為3%以下。
  10. 一種附有黏著片材之構件之製造方法，其特徵在於包括： 使如請求項1至9中任一項之黏著片材貼合於構件之步驟；及 對上述構件上之上述黏著片材之上述黏著劑層賦予外部刺激而使上述顯色性化合物顯色之步驟。
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