TW202028857A - 一種掩模元件以及一種顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本申請提供的一種掩模元件和顯示裝置，其中顯示裝置包括顯示區和至少一個非顯示區，該顯示區圍繞該非顯示區設置；還包括過渡顯示區，該過渡顯示區與該非顯示區和該顯示區分別鄰接，該顯示區和該過渡顯示區均用於顯示靜態或動態畫面；該過渡顯示區的第一電極的厚度小於等於該顯示區的第一電極的厚度。由於過渡顯示區的存在避免了顯示裝置中的因蒸鍍材料未全面覆蓋而導致的不完整顯示，例如連橋所在區域形成黑邊顯示等，提高了顯示的完整性。

Description

一種掩模元件以及一種顯示裝置

本發明涉及顯示技術領域，具體涉及一種掩模元件以及一種顯示裝置。

在顯示面板的製作工藝中，通常採用蒸鍍工藝形成顯示面板的各個膜層，如薄膜電晶體的柵極層、源漏極層，有機發光元件的發光層、陰極層，以及絕緣層、緩衝層等無機層。當在待蒸鍍基板上形成某一膜層時，利用一張掩膜板對待蒸鍍基板中不需要蒸鍍的區域進行遮擋，以形成具有特定圖案的膜層。

現有技術中的顯示裝置為了預留其他電子器件，例如攝像頭、揚聲器、話筒等的安裝空間，需要在顯示區域挖設安裝相應器件的開口部分，而部分材料層的材料不容易去除，因此在蒸鍍前需要對開口部分進行遮擋，因此蒸鍍用的掩膜中需要設置包括遮擋開口部分的遮擋部，而通常開口部分並不緊挨著顯示幕邊緣設置，其通常距離顯示幕邊緣一定的距離，因此，現有技術中的遮擋部通過懸臂(支撐條)連接至掩模的邊框，由於懸臂的存在導致了在蒸鍍過程中對正常顯示區造成的遮擋，從而使蒸鍍材料無法成形在懸臂遮擋的區域，形成黑色線條，影響了顯示幕的正常顯示效果。

因此本申請要解決的技術問題在於克服現有技術中的顯示面板由於其製作工藝中對帶有遮擋部的掩膜板的使用而在正常顯示區形成黑色線條的缺陷，從而提供一種掩範本以及一種顯示裝置。

為達上述之目的，本發明所設之一種掩模組件，包括一掩模邊框、複數個孤島遮擋部及一連橋，其中該掩模邊框支撐於基底表面，該掩模邊框內形成開口區，該複數個孤島遮擋部位於上述之開口區內，該孤島遮擋部與上述之基底表面接觸，上述之孤島遮擋部通過該連橋與該掩模邊框或相鄰之孤島遮擋部連接，且該連橋不與該基底表面接觸。

實施時，該連橋懸空架設於該基底表面上方，以在該連橋與該基底表面之間留有空隙。

實施時，該連橋的厚度小於該孤島遮擋部的厚度。

實施時，該連橋為直條形，該連橋所在直線經過所述孤島遮擋部的中心。

實施時，該連橋設置有至少兩個。

本發明還提供了一種顯示裝置，其包括一顯示區、至少一個非顯示區以及一過渡顯示區，該顯示區圍繞該非顯示區設置，該過渡顯示區與該非顯示區和該顯示區分別鄰接，該顯示區和該過渡顯示區均用於顯示靜態或動態畫面，且該過渡顯示區的第一電極的厚度小於等於該顯示區的第一電極的厚度。

實施時，該過渡顯示區的第一電極存在厚度差，該過渡顯示區邊緣的第一電極的厚度大於該過渡顯示區中間部分的第一電極的厚度， 該過渡顯示區的第一電極的厚度h

50nm，該顯示區的第一電極的厚度為100nm

H

180nm。

實施時，該過渡顯示區的第二電極的厚度小於等於該顯示區的第二電極的厚度，該過渡顯示區的第二電極存在厚度差，該過渡顯示區邊緣的第二電極的厚度大於該過渡顯示區中間部分的第二電極的厚度。

實施時，更包括一器件單元，該器件單元包括挖設於該非顯示區內的安裝孔和設於該安裝孔中的功能元件，該功能元件包括感光元件、攝像頭、聽筒中的任意一種或幾種。

本發明還提供了一種製作上述顯示裝置的方法，包括以下步驟：

步驟1：提供襯底基板，在襯底基板上依次製作形成陣列電路、陽極層和發光層；

步驟2：在發光層上採用陰極材料蒸鍍形成第一陰極層；

步驟3：在非顯示區刻蝕形成安裝孔；

步驟4：採用申請專利範圍第1-5項中任一項所述的掩模元件，對安裝孔所在區域進行遮擋，並採用陰極材料蒸鍍形成第二陰極層，其中第二陰極層覆蓋過渡顯示區和顯示區；

其中，步驟2中得到的第一陰極層和步驟4中得到的第二陰極層共同構成顯示裝置的陰極層，且步驟2中得到的第一陰極層的厚度

50nm。

為進一步了解本發明，以下舉較佳之實施例，配合圖式、圖號，將本發明之具體構成內容及其所達成的功效詳細說明如下。

1:掩範本

11:掩模邊框

12:孤島遮擋部

13:連橋

14:開口區

2:安裝孔

3:顯示區

4:非顯示區

5:過渡顯示區

6:基板

7:發光層

8:陽極層

9:陰極層

91:第一陰極層

92:第二陰極層

10:陣列電路

第1圖係為本發明實施例掩模元件的結構示意圖。

第2圖係為第1圖所示的A-A剖視圖。

第3圖係為第1圖所示的B-B剖視圖。

第4-7圖係為本發明實施例顯示裝置的加工過程示意圖。

第8圖係為本發明實施例顯示裝置的結構示意圖。

第9圖係為第8圖中顯示裝置C-C陰極層的剖示圖

第10圖係為另一個掩模元件的結構示意圖。

實施例1；請參閱第1圖，本實施例記載了一種掩模元件，具體為一種用於蒸鍍的掩範本1，其包括掩模邊框11、若干孤島遮擋部12和連橋13，該孤島遮擋部12通過該連橋13與該掩模邊框11或相鄰孤島遮擋部12連接。其中掩模邊框11支撐於基底的周邊表面，即該掩模邊框11不用於進行蒸鍍材料的遮擋，該掩模邊框11內形成有允許材料進入並沉積的開口區14，該孤島遮擋部12設於開口區14內，用於遮擋蒸鍍材料形成遮擋區；其中基底指待被蒸鍍的基材，本實施例中的掩模邊框11為方框支撐板，方框支撐板內形成有開口區14和由孤島遮擋部12與連橋13構成的遮擋區。

本實施例的孤島遮擋部12位於該開口區14內且被該開口區14圍繞設置，該孤島遮擋部12與該基底表面接觸；該孤島遮擋部12包括圓形遮擋和/或方形遮擋。本實施例中設有一個形成圓形遮擋的孤島遮擋部12，其設置於掩模邊框11內的開口區14中，該孤島遮擋部12通過連橋13與掩模邊框11連接，通過連橋13支撐孤島遮擋部12使其能夠懸設於掩模邊框11內。當 然，該孤島遮擋部12不限於僅設置為矩形或者圓形，其也可以為橢圓形、菱形、六邊形等形狀；該掩模邊框11也不限於設置為方框，可以為圓框、橢圓形框、菱形框、六邊形框等形狀。

當然，也不限於只設有一個孤島遮擋部12，也可設置有兩個或多個孤島遮擋部12，當方框中還設有其他孤島遮擋部12或者其他遮擋圖形時，若干孤島遮擋部12之間可通過連橋13連接；該孤島遮擋部12也可通過連橋13與其他遮擋圖形或者其他孤島遮擋部連接。如第9圖所示為設置有兩個孤島遮擋部12的情形，兩個孤島遮擋部12之間通過一個連橋13連接，其中一個或者兩個孤島遮擋部12通過連橋與掩模邊框11連接。

本實施例中的連橋13為直條形，且該連橋13所在直線經過所述孤島遮擋部12的中心。其中由於本實施例中的孤島遮擋部12為圓形，因此該連橋13可沿經過圓形孤島遮擋部12圓心所在直線佈置；通過將連橋13設置為經過孤島遮擋部的中心佈置，可提高連橋13對孤島遮擋部的支撐強度。

請參見第1圖，本實施例中的連橋13設置有兩個，其沿不同方向設置於孤島遮擋部12的周邊，以將孤島遮擋部12連接至掩模邊框11的不同部位，本實施例中的兩個連橋13互呈90°夾角佈置，當然，兩個連橋13之間的夾角不限於設置為互呈90°。設置兩個連橋13能夠穩固的將孤島遮擋部12支撐於掩模邊框11內，當然連橋13也可以設置為多個，每個連橋13均經過孤島遮擋部12的中心，由此進一步提高對孤島遮擋部12的支撐強度。

請參見第2、3圖，其中該連橋13不與所述基底表面接觸；本實施例中該連橋13的厚度小於該孤島遮擋部12的厚度，同時該連橋13的厚度也小於該掩模邊框11的厚度，即該連橋13為懸空架設於基底上的，本實施例 中連橋13的寬度L滿足0.1mm

L

0.5mm，通過將連橋13架空設置，在蒸鍍過程中蒸鍍材料沉積時連橋13的兩側的沉積層會通過連橋13下方的間隙擴散連接到一起，使得連橋13下方的沉積層的厚度滿足基本要求，即蒸鍍材料從連橋13兩側進入其下方與基底之間的空隙，由此連通位於連橋兩側開口區內的蒸鍍材料，由此避免了因設置有連橋而使得連橋下方區域未被蒸鍍材料覆蓋並因此導致為確保顯示的完整性而需要對連橋遮蔽區域進行二次蒸鍍。

實施例2；請參見第7、8圖，本實施例記載了一種顯示裝置，其包括顯示區3、至少一個非顯示區4和過渡顯示區5，其中該顯示區3圍繞該非顯示區4設置；該過渡顯示區5與該非顯示區4和所述顯示區3分別鄰接，其中該過渡顯示區5連接該非顯示區4與該顯示區3的邊緣。當非顯示區4設置不止一個時，過渡顯示區5也可連接相鄰的兩個非顯示區4。

本實施例中所述之過渡顯示區5的第一電極的厚度小於等於該顯示區3的第一電極的厚度，且該顯示區3的第一電極與該過渡顯示區5的第一電極連接形成面電極。

其中該顯示區3和該過渡顯示區5均包括：基板6、依次堆疊設於該基板6上的陣列電路10、陽極層8、OLED發光層7和陰極層9；即該顯示區3和該過渡顯示區5均用於顯示靜態或動態畫面，不同之處在於該過渡顯示區5的第一電極的厚度小於等於顯示區的第一電極層的厚度，本實施例的過渡顯示區5內的第一電極存在厚度差，其中位於該過渡顯示區5邊緣的第一電極的厚度大於位於該過渡顯示區5中間部分的第一電極的厚度，例如過渡顯示區5與顯示區3連接部分的第一電極的厚度大於位於過渡顯示區5 中間部分的第一電極的厚度，過渡顯示區5的第一電極的邊緣厚度小於或者等於顯示區3的第一電極的厚度。如第7、8圖所示，其中本實施例中的第一電極為陰極，即過渡顯示區5陰極層9的厚度小於等於顯示區3陰極層的厚度，且過渡顯示區5內的陰極層9存在厚度差。當然過渡顯示區5的第二電極，例如陽極層的厚度同樣也可設置為小於等於顯示區3陽極層的厚度，且存在厚度差。

如第7、8圖所示，其中本實施例中所述之過渡顯示區5為長條狀，該過渡顯示區5與該顯示區3連接部分的陰極層厚度大於該過渡顯示區5中間部分的陰極層厚度。如第9圖所示為條狀過渡顯示區5的陰極層9在過渡顯示區5的寬度方向(寬度方向指平行於過渡顯示區長度較短的一邊方向)存在厚度差。由於過渡顯示區的存在避免了顯示裝置中的因蒸鍍材料未全面覆蓋而導致的不完整顯示，例如連橋所在區域形成黑邊顯示等，提高了顯示的完整性。

其中本實施例2中的陰極層9通過採用實施例1中的掩模元件蒸鍍成型。其中顯示區3對應於掩模元件上的開口區14，即蒸鍍材料通過掩模元件的開口區14沉積於發光層7上形成如第7圖所示的陰極層9，非顯示區4對應於掩模組件上的孤島遮擋部12覆蓋的區域，過渡顯示區5對應於掩模組件上的連橋13覆蓋的區域，由於本申請中的連橋13底部不與基材接觸，即在陰極材料蒸鍍過程中，陰極蒸鍍材料沉積時可通過連橋13下方的空隙擴散連接到一起，使得連橋13下方的仍能夠附著沉積層，使得蒸鍍材料從連橋13兩側進入其下方與發光層7之間的空隙，由此連通位於連橋兩側開口區14內的蒸鍍材料，由此避免因設置有連橋13而使得連橋13下方區域未被蒸鍍材 料覆蓋。

如第9圖所示，為過渡顯示區5沿其寬度方向的陰極層的截面顯示，該過渡顯示區5的陰極層9的表面呈下凹的柱面，柱面的兩端對應與該過渡顯示區5寬度方向兩側的顯示區3連接，該過渡顯示區5中部下凹區域與形成陰極層的掩膜元件的連橋13對應。

該過渡顯示區5的陰極層9向靠近基板6方向凹陷，其中凹陷兩側與顯示區3連接部分的厚度大於凹陷中間部分的厚度，即第9圖中左右兩側邊的厚度大於凹陷中間部位的厚度。具體地，該過渡顯示區5的陰極層的厚度為h，該顯示區3的陰極層的厚度為H，則滿足：50nm

h

H，同時100nm

H

180nm。

本實施例的顯示裝置還包括器件單元，其中器件單元包括挖設於非顯示區4內的安裝孔2和設於該安裝孔2中的功能元件，該功能元件包括感光元件、攝像頭、聽筒、光線感應器、光線發射器中的任意一種或幾種。

本實施例中的顯示裝置的製作過程為：

步驟1：如第4圖所示，提供襯底基板6，在襯底基板6上依次製作形成陣列電路10、陽極層8和OLED發光層7；

步驟2：如第5圖所示，在發光層7上採用陰極層材料蒸鍍形成第一陰極層91，其中第一陰極層91的厚度小於h的最小值，即第一陰極層91的厚度小於過渡顯示區5的陰極層的最小厚度；

步驟3：如第6圖所示，在非顯示區4刻蝕形成安裝孔2；

步驟4：如第7圖所示，採用如實施例1中的掩模元件，對安裝孔2所在區 域進行遮擋，並採用陰極材料蒸鍍形成第二陰極層92，其中第二陰極層92覆蓋過渡顯示區5和顯示區3；

其中步驟2中的第一陰極層91和步驟4中的第二陰極層92共同構成顯示裝置的陰極層9。

通過採用兩個步驟形成陰極層，可確保過渡顯示區5至少存在第一陰極層91，即確保過渡顯示區5是導通的，其中由於過渡顯示區5的陰極層9厚度不均，為避免對正常顯示造成影響，確保過渡顯示區5的亮度均勻性以及正常顯示，後期可通過外部的驅動電路對過渡顯示區顯示模組進行外部光學補償，例如光學抽取式Demura光學補償以提高顯示裝置整體亮度的均勻性，避免產生殘像。

因此，透過上述之設計，本發明具有以下之優點：

1.本發明所提供的一種掩模元件，其包括：掩模邊框，支撐於基底表面，所述掩模邊框內形成開口區；若干孤島遮擋部，位於所述開口區內，所述孤島遮擋部與所述基底表面接觸；以及連橋，所述孤島遮擋部通過所述連橋與所述掩模邊框或相鄰孤島遮擋部連接，所述連橋不與所述基底表面接觸；具體地，所述連橋懸空架設於所述基底表面上方，以在所述連橋與所述基底表面之間留有空隙；進一步地，所述連橋的厚度小於所述孤島遮擋部的厚度。通過將連橋架空設置，在蒸鍍過程中蒸鍍材料沉積時連橋的兩側的沉積層會通過連橋下方的間隙擴散連接到一起，使得連橋下方的沉積層的厚度滿足基本要求，即蒸鍍材料從連橋兩側進入其下方與基底之間的空隙，由此連通位於連橋兩側開口區內的蒸鍍材料，由此避免了因設置有連橋而使得連橋下方區域 未被蒸鍍材料覆蓋並因此導致為確保顯示的完整性而需要對連橋遮蔽區域進行二次蒸鍍。

2.本發明提供的掩模元件，所述連橋為直條形；所述連橋所在直線經過所述孤島遮擋部的中心；所述連橋設置有至少兩個。設置兩個連橋能夠穩固的將孤島遮擋部支撐於掩模邊框內，每個連橋均經過孤島遮擋部的中心，由此進一步提高對孤島遮擋部的支撐強度。

3.本發明提供的顯示裝置，其包括顯示區和至少一個非顯示區，所述顯示區圍繞所述非顯示區設置；還包括過渡顯示區，所述過渡顯示區與所述非顯示區和所述顯示區分別鄰接，所述顯示區和所述過渡顯示區均用於顯示靜態或動態畫面；所述過渡顯示區的第一電極的厚度小於等於所述顯示區的第一電極的厚度。由於過渡顯示區的存在避免了顯示裝置中的因蒸鍍材料未全面覆蓋而導致的不完整顯示，例如連橋所在區域形成黑邊顯示等，提高了顯示的完整性。

4.本發明提供的顯示裝置的製作方法包括：步驟1：提供襯底基板，在襯底基板上依次製作形成陣列電路、陽極層和發光層；步驟2：在發光層上採用陰極材料蒸鍍形成第一陰極層；步驟3：在非顯示區刻蝕形成安裝孔；步驟4：採用本發明提供的掩模元件，對安裝孔所在區域進行遮擋，並採用陰極材料蒸鍍形成第二陰極層，其中第二陰極層覆蓋過渡顯示區和顯示區；其中，步驟2中得到的所述第一陰極層和步驟4中得到的所述第二陰極層共同構成顯示裝置的陰極層。通過採用步驟2、步驟4兩個步驟共同形成陰極層，可確保過渡顯示區至少 存在第一陰極層，即確保過渡顯示區是導通的，從而確保了所製作的顯示裝置的正常顯示。

以上所述乃是本發明之具體實施例及所運用之技術手段，根據本文的揭露或教導可衍生推導出許多的變更與修正，仍可視為本發明之構想所作之等效改變，其所產生之作用仍未超出說明書及圖式所涵蓋之實質精神，均應視為在本發明之技術範疇之內，合先陳明。

綜上所述，依上文所揭示之內容，本發明確可達到發明之預期目的，提供一種掩模元件以及一種顯示裝置，極具產業上利用之價值，爰依法提出發明專利申請。

2:安裝孔

3:顯示區

4:非顯示區

5:過渡顯示區

6:基板

7:發光層

8:陽極層

9:陰極層

91:第一陰極層

92:第二陰極層

10:陣列電路

Claims (10)

1. 一種掩模組件，包括：

   一掩模邊框，支撐於基底表面，該掩模邊框內形成開口區；

   複數個孤島遮擋部，位於上述之開口區內，該孤島遮擋部與上述之基底表面接觸；以及

   一連橋，上述之孤島遮擋部通過該連橋與該掩模邊框或相鄰之孤島遮擋部連接，且該連橋不與該基底表面接觸。
2. 如申請專利範圍第1項所述之掩模組件，其中該連橋懸空架設於該基底表面上方，以在該連橋與該基底表面之間留有空隙。
3. 如申請專利範圍第1項所述之掩模組件，其中該連橋的厚度小於該孤島遮擋部的厚度。
4. 如申請專利範圍第3項所述之掩模組件，其中該連橋為直條形，該連橋所在直線經過所述孤島遮擋部的中心。
5. 如申請專利範圍第1、2、3或4項所述之掩模組件，其中該連橋設置有至少兩個。
6. 一種顯示裝置，包括：

   一顯示區；

   至少一個非顯示區，上述之顯示區係圍繞該非顯示區設置；以及

   一過渡顯示區，該過渡顯示區與該非顯示區和該顯示區分別鄰接，該顯示區和該過渡顯示區均用於顯示靜態或動態畫面，且該過渡顯示區的第一電極的厚度小於等於該顯示區的第一電極的厚度。
7. 如申請專利範圍第6項所述之顯示裝置，其中該過渡顯示區的第一電極存 在厚度差，該過渡顯示區邊緣的第一電極的厚度大於該過渡顯示區中間部分的第一電極的厚度，該過渡顯示區的第一電極的厚度h

   

   50nm，該顯示區的第一電極的厚度為100nm

   

   H

   

   180nm。
8. 如申請專利範圍第6項所述之顯示裝置，其中該過渡顯示區的第二電極的厚度小於等於該顯示區的第二電極的厚度，該過渡顯示區的第二電極存在厚度差，該過渡顯示區邊緣的第二電極的厚度大於該過渡顯示區中間部分的第二電極的厚度。
9. 如申請專利範圍第6、7或8項所述之顯示裝置，其中更包括一器件單元，該器件單元包括挖設於該非顯示區內的安裝孔和設於該安裝孔中的功能元件，該功能元件包括感光元件、攝像頭、聽筒中的任意一種或幾種。
10. 一種製作顯示裝置的方法，該顯示裝置為上述申請專利範圍第6-9項中任一項所述的顯示裝置，其包括以下步驟：

    步驟1：提供襯底基板，在襯底基板上依次製作形成陣列電路、陽極層和發光層；

    步驟2：在發光層上採用陰極材料蒸鍍形成第一陰極層；

    步驟3：在非顯示區刻蝕形成安裝孔；

    步驟4：採用申請專利範圍第1-5項中任一項所述的掩模元件，對安裝孔所在區域進行遮擋，並採用陰極材料蒸鍍形成第二陰極層，其中第二陰極層覆蓋過渡顯示區和顯示區；

    其中，步驟2中得到的第一陰極層和步驟4中得到的第二陰極層共同構成顯示裝置的陰極層，且步驟2中得到的第一陰極層的厚度

    

    50nm。

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