TW201706638A - 雙面附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題係有關一種在設於影像顯示裝置中最靠觀視側之偏光薄膜雙面具有黏著劑層的雙面附黏著劑層之偏光薄膜，並使用單面保護偏光薄膜作為偏光薄膜以圖薄型化，同時要抑制捲曲發生並提升重工(rework)性。 解決手段上，一種雙面附黏著劑層之偏光薄膜，具有設於影像顯示裝置中最靠觀視側之偏光薄膜以及配置在該偏光薄膜之觀視側的黏著劑層A及配置在前述黏著劑層A之相反側的黏著劑層B，且於前述黏著劑層A上設有分隔件SA，於前述黏著劑層B上設有分隔件SB；前述偏光薄膜係一僅於厚度15μm以下之偏光件單側具有透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜，且於前述偏光件之側配置有黏著劑層B；前述黏著劑層A之厚度為25μm以上，前述黏著劑層B之厚度為25μm以下。

Description

雙面附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置 發明領域
本發明係有關一種在設於影像顯示裝置中最靠觀視側之偏光薄膜雙面具有黏著劑層的雙面附黏著劑層之偏光薄膜。又，本發明係有關一種於觀視側配置有前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置。影像顯示裝置可列舉液晶顯示裝置、有機EL(電致發光)顯示裝置、PDP(電漿顯示器面板)、電子紙等。
本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜於偏光薄膜雙面具有黏著劑層，觀視側之黏著劑層是可適合應用於例如應用在影像顯示裝置之觀視側的觸控面板等輸入裝置、覆蓋玻璃、塑膠蓋等透明基體等之構件。另外，觀視側之相反側的黏著劑層可應用於前述影像顯示裝置之顯示部。前述觸控面板適合用作光學式、超音波式、電容式、阻抗膜式等之觸控面板。尤其適合用作電容式觸控面板。上述觸控面板並無特別限定，例如可使用於行動電話、平板電腦、可攜式資料終端等。
發明背景
對液晶顯示裝置等而言，不可欠缺地必須從其 影像形成方式於液晶晶胞兩側設置偏光元件，一般係貼附偏光薄膜。將前述偏光薄膜貼附於液晶晶胞等之顯示部側通常會使用黏著劑。此時，因為具有不需要使偏光薄膜固著的乾燥步驟等優點，所以一般係使用已在偏光薄膜之單側事先設有黏著劑作為黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。前述附黏著劑層之偏光薄膜已有數種提議(專利文獻1、2)。該等附黏著劑層之偏光薄膜係將黏著劑層側應用於液晶晶胞等之顯示部。此外，若從薄型化觀點而言，針對附黏著劑層之偏光薄膜有文獻提議使用總厚度100μm以下的偏光薄膜(專利文獻3)。
另外，可在偏光薄膜之觀視側設置觸控面板等之輸入裝置、覆蓋玻璃、塑膠蓋等之透明基體等構件。就前述構件而言，一般也是利用黏著劑層貼合(專利文獻4)。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2004-170907號公報
專利文獻2：日本特開2006-053531號公報
專利文獻3：日本特開2014-178364號公報
專利文獻4：日本特開2002-348150號公報
發明概要
如上述專利文獻1至3，設於影像顯示裝置中最靠觀視側的附黏著劑層之偏光薄膜係將該附黏著劑層之偏 光薄膜之黏著劑層貼合於顯示部。另一方面，要在前述附黏著劑層之偏光薄膜(設在最靠觀視側者)之觀視側設置透明基體等構件時，會像專利文獻4另外調製出中間膜用的黏著片並將之貼合於前述附黏著劑層之偏光薄膜的偏光薄膜上作為黏著劑層後，再於該黏著劑層貼合透明基體等構件。如此一來，要在影像顯示裝置之最靠觀視側的偏光薄膜進一步貼合透明基體等構件就需要多重步驟。
專利文獻1至3中，就前述附黏著劑層之偏光薄膜揭示了一種在偏光薄膜雙面具有黏著劑層者(全貼合技術(full lamination)：雙面附黏著劑層之偏光薄膜)。但，針對前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜，雖然要求在將之貼合於被附著體(在觀視側為透明基體等構件，在其相反側則為顯示部)時具有高溫、高濕環境下的耐久性(可靠性)，然而專利文獻1至3中揭示之附黏著劑層之偏光薄膜並無預設以透明基體等構件作為被附著體。所以將透明基體等構件貼合於專利文獻1至3中揭示之雙面附黏著劑層之偏光薄膜時，前述黏著劑層(貼合透明基體等構件之側)不滿足耐久性。
此外，從薄型化觀點來看，可使用薄型偏光件，或使用僅於偏光件單側具有透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜。但因單面保護偏光薄膜僅於單側具有透明保護薄膜，所以有容易發生捲曲、貼合時位移或貼合時混入氣泡等問題。這種單面保護偏光薄膜與雙面保護偏光薄膜相較下有強度顯著降低的問題，所以以前就有不良狀況發生 時重工性大幅降低的問題。
此外，將單面保護偏光薄膜應用在觀視側時，為了避免偏光件裸露在觀視側，一般會於觀視側配置透明保護薄膜。
爰此，本發明之目的在於提供一種雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其係一於設在影像顯示裝置中最靠觀視側之偏光薄膜雙面具有黏著劑層的雙面附黏著劑層之偏光薄膜，可使用單面保護偏光薄膜作為偏光薄膜以圖薄型化，同時可抑制捲曲發生且提升重工性。
此外，本發明之目的在於提供一種具有前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置。
本發明人等為了解決前述課題反覆精闢研討的結果發現下述雙面附黏著劑層之偏光薄膜，方至完成本發明。
即，本發明係關於一種雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其特徵在於：具有設於影像顯示裝置中最靠觀視側之偏光薄膜以及配置在該偏光薄膜之觀視側的黏著劑層A及配置在前述黏著劑層A之相反側的黏著劑層B，且於前述黏著劑層A設有分隔件SA，於前述黏著劑層B設有分隔件SB；並且， 前述偏光薄膜係一僅於厚度15μm以下之偏光件單側具有透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜，且於前述偏光件之側配置有黏著劑層B； 前述黏著劑層A之厚度為25μm以上；前述黏著劑層B之厚度為25μm以下。
在前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜中，前述黏著劑層B可直接貼合於前述單面保護偏光薄膜之偏光件。
在前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜中，前述黏著劑層B宜隔著15μm以下之機能層貼合於前述單面保護偏光薄膜之偏光件。
在前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜中，前述黏著劑層A在23℃下之儲存彈性模數宜為0.05MPa以上。
在前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜中，前述黏著劑層A之端部至少有一部分比前述單面保護偏光薄膜面的端邊位於更內側為宜。
在前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜中，前述分隔件SA之剝離力比前述分隔件SB之剝離力高為宜。
在前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜中，前述分隔件SA之厚度為40μm以上且分隔件剝離力為0.1N/50mm以上為宜。
要積層前述黏著劑層A之前述單面保護偏光薄膜的表面保護薄膜業經易接著處理為宜。
在前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜中，前述黏著劑層A及前述黏著劑層B宜皆由以(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之丙烯酸系黏著劑形成，該(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元；前述黏著劑層A之(甲基)丙烯酸系聚合物含有30重量% 以上之丙烯酸2-乙基己酯作為單體單元；前述黏著劑層B之(甲基)丙烯酸系聚合物則含有最多丙烯酸丁酯作為單體單元。
在前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜中，前述黏著劑層A及前述黏著劑層B宜皆由以(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之丙烯酸系黏著劑形成，該(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元；前述黏著劑層A及前述黏著劑層B之(甲基)丙烯酸系聚合物中之至少一者含有(甲基)丙烯酸及環狀含氮單體中之至少一種作為單體單元為宜。
在前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜中，前述黏著劑層A可使用藉由活性能量線會增大儲存彈性模數者。
在前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜中，前述黏著劑層A宜含有紫外線吸收劑。
此外，本發明關於一種影像顯示裝置，其具有至少1片雙面附黏著劑層之偏光薄膜，該影像顯示裝置之特徵在於：設於影像顯示裝置中最靠觀視側之雙面附黏著劑層之偏光薄膜為前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜；並且，前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層A係配置在觀視側，黏著劑層B則配置在顯示部側。
前述影像顯示裝置可適合應用在內置(in-cell)型或表面(on-cell)型的內嵌觸控感測器之液晶顯示裝置。
在影像顯示裝置中有時會在比觀視側之偏光薄膜更靠觀視側配置覆蓋玻璃等透明基體等之構件。以往係於偏光薄膜之觀視側積層黏著劑層再積層前述構件，但本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜係一於偏光薄膜之單面具有要貼合於透明基體等構件之黏著劑層A且於其相反側具有要貼合於顯示部之黏著劑層B的雙面附黏著劑層之偏光薄膜，因為於偏光薄膜之觀視側也具有黏著劑層A，所以在製作影像顯示裝置時可圖步驟的簡略。此外，利用已於雙面預先設置黏著劑層之偏光薄膜，藉由將其加工成預定尺寸，可達成生產性提升及品質提升。
又，在本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜中，觀視側之黏著劑層A的厚度在其相反側之黏著劑層B的厚度以上，且於前述黏著劑層A設有分隔件SA，於前述黏著劑層B則設有分隔件SB。此外，根據此構成，利用本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜不僅可藉由單面保護偏光薄膜許以薄型化，還可抑制捲曲發生。又，本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜就算在為了貼合至顯示部表面而被剝離了黏著劑層B側之分隔件SB時，也可利用黏著劑層A本身的強度及黏著劑層A所附帶之分隔件SA的強度補強，從而可抑制捲曲發生。此外，就算在隔著黏著劑層B將本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜貼合至顯示部表面後需要進行重工，本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜也可利用黏著劑層A本身的強度及黏著劑層A所附帶之分隔件SA的強度補強，所以可良好地實施重工。
1‧‧‧偏光薄膜
1a‧‧‧偏光件
1b‧‧‧透明保護薄膜
1c‧‧‧機能層
A‧‧‧黏著劑層A(觀視側)
B‧‧‧黏著劑層B(觀視側之相反側)
SA‧‧‧黏著劑層A(觀視側)之分隔件
SB‧‧‧黏著劑層B(觀視側之相反側)之分隔件
C‧‧‧構件(觸控面板或透明基體)
D‧‧‧影像顯示裝置
2‧‧‧黏著劑層(黏著劑層B)
3‧‧‧透明導電層(抗靜電層)
4‧‧‧玻璃基板
5‧‧‧液晶層
6‧‧‧驅動電極
7‧‧‧抗靜電層兼感測器層
8‧‧‧驅動電極兼感測器層
9‧‧‧感測器層
圖1a係示意顯示本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜之一實施形態的截面圖。
圖1b係示意顯示本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜之一實施形態的截面圖。
圖2係一截面圖之擴大圖，其示意顯示本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層A之一實施形態。
圖3係一概念圖，其示意顯示隔著本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜將影像顯示裝置與透明基體等構件予以貼合之狀態。
圖4a係示意顯示影像顯示裝置之一實施形態的截面圖。
圖4b係示意顯示影像顯示裝置之一實施形態的截面圖。
圖4c係示意顯示影像顯示裝置之一實施形態的截面圖。
用以實施發明之形態
以下，利用圖式詳細說明本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜等的實施形態。惟，本發明不受圖式之實施形態限定。
如圖1a、圖1b所示，本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜具有單面保護偏光薄膜1，且於該單面保護偏光薄膜1之雙面具有黏著劑層A及黏著劑層B。此外，本發 明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜於前述黏著劑層A設有分隔件SA，於前述黏著劑層B設有分隔件SB。前述單面保護偏光薄膜1係僅於偏光件1a之單側具有透明保護薄膜1b者。並且於前述偏光件1a之側配置有黏著劑層B。圖1a係於前述單面保護偏光薄膜1之偏光件1a直接貼合有前述黏著劑層B之情況。圖1b係於前述單面保護偏光薄膜1之偏光件1a隔著機能層1c貼合有前述黏著劑層B之情況。
圖1係舉例顯示黏著劑層A為1層之情況，不過前述黏著劑層A亦可設為例如從最表面之側(觀視側)起，按第1黏著劑層(a)及第2黏著劑層(b)之順序具有該等的多重黏著劑層。前述黏著劑層A雖列舉出2層之多重層的情況，惟前述黏著劑層A之多重黏著劑層的層數並無限制，通常可設至多5層左右。多重黏著劑層之層數以2~4層為宜，更以2~3層為宜。前述多重黏著劑層係各層直接密接而設置。
前述多重黏著劑層可於鄰接之黏著劑層使用組成不同的黏著劑層，未鄰接之黏著劑層可使用組成相同的黏著劑層。例如，前述例示之第1黏著劑層(a)與第2黏著劑層(b)為不同的組成。就黏著劑層A而言，從最表面之側(觀視側)起使用第1黏著劑層(a)、第2黏著劑層(b)及第3黏著劑層(c)時，第1黏著劑層(a)與第2黏著劑層(b)為不同的組成，第2黏著劑層(b)與第3黏著劑層(c)為不同的組成。
第1黏著劑層(a)、第2黏著劑層(b)及第3黏著劑層(c)可各自為不同的組成，亦可第1黏著劑層(a)與第3黏著劑層(c) 為相同組成。
前述黏著劑層A之端部至少有一部分比前述單面保護偏光薄膜1面的端邊位於更內側(為凹入結構)為宜。對於黏著劑層A，藉由採用該構成，可良好維持黏著劑層A之端部外觀，處置性佳。例如，可防止輸送雙面附黏著劑層之偏光薄膜時的黏結，又如圖3表示，可抑制隔著黏著劑層A將雙面附黏著劑層之偏光薄膜應用於構件C時的糊料沾染發生。此外，在顯示部D之顯示區為極度接近框體尺寸的設計時，藉由將黏著劑層A加工成比單面保護偏光薄膜1之端部更靠內側，可讓黏著劑層A既不會附著於周圍的框體上也可進行組裝。再者，即使透明基體等構件為其表面具有高低差之構件，也可跟隨前述高低差無空隙地進行貼合。
前述黏著劑層A之凹入結構可形成在單面保護偏光薄膜1(黏著劑層A)之端邊的整邊上，亦可形成在一部分之邊上。例如，當單面保護偏光薄膜為矩形時，可採用有1邊至4邊比端邊位於更內側之黏著劑層A的凹入結構。
圖2係一截面圖之擴大圖，其示意顯示圖1中所示雙面附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層A之一實施形態。如圖2所示，前述黏著劑層A之凹入結構的加工可以前述單面保護偏光薄膜1面的端邊Y與距離X表示，該距離X係從端邊Y至比前述單面保護偏光薄膜1面之端邊Y位於更內側之黏著劑層A端部為止的凹入量。
例如假設為對角長度10mm~500mm之尺寸的偏 光薄膜時，前述黏著劑層A之距離X以0.01~1.5mm為宜，更以0.02~1mm為宜。至於，前述距離X之測定可利用顯微鏡進行。此外，如圖2所示，黏著劑層A之端部呈曲狀時，係測定中央部的距離。
前述黏著劑層A之凹入結構例如可採用設計成在塗佈或轉印黏著劑時，從業經衝孔之光學薄膜的端部起按既定量將黏著劑層形成於內側部分的方法。此外，可採用於塗佈或轉印黏著劑層後僅除去黏著層部分的(半裁切)方法。又，積層黏著劑層A時，亦可採用在面積比形成黏著劑層A之單面保護偏光薄膜1更小的分隔件上適度形成黏著劑層，接著依序積層於單面保護偏光薄膜1，最終再貼合分隔件SA的方法。此外，可利用加壓使黏著劑層成為從單面保護偏光薄膜端部滲出之狀態後，將滲出部分予以裁切加工。
如圖3所示，本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜可應用在影像顯示裝置。本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜的單面保護偏光薄膜在影像顯示裝置中可應用為設置在最靠觀視側的偏光薄膜。本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜的前述黏著劑層A係配置在影像顯示裝置之觀視側且與透明基體等構件C貼合。黏著劑層B在單面保護偏光薄膜1係配置在黏著劑層A之相反側且與顯示部D貼合。
構件C可列舉可應用在影像顯示裝置之觀視側的觸控面板等輸入裝置、覆蓋玻璃、塑膠蓋等透明基體等。
顯示部D與至少1片單面保護偏光薄膜1一起形成影像顯示裝置之一部分，可列舉液晶顯示裝置、有機EL(電致發光)顯示裝置、PDP(電漿顯示器面板)、電子紙等。顯示部D很適合使用與單面保護偏光薄膜1一起使用且具有液晶層5的液晶顯示裝置。圖4a至圖4c中顯示示意顯示應用本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置(液晶顯示裝置)之代表性實施形態的截面圖。在圖4a至圖4c之影像顯示裝置(液晶顯示裝置)，上方的單面保護偏光薄膜1位在最靠觀視側。
圖4a所示之影像顯示裝置(液晶顯示裝置)具有覆蓋玻璃C/黏著劑層A/單面保護偏光薄膜1(觀視側)/黏著劑層2(B)/抗靜電層3/玻璃基板4/液晶層5/驅動電極6/玻璃基板4/黏著劑層2/偏光薄膜1′之構成。抗靜電層3、驅動電極6可由透明導電層形成。此外，抗靜電層3可任意形成。
圖4b所示之影像顯示裝置(液晶顯示裝置)係將透明導電層作為觸控面板(內置(in-cell)型觸控面板)之電極用途使用的情況，具有覆蓋玻璃C/黏著劑層A/單面保護偏光薄膜1(觀視側)/黏著劑層2(B)/抗靜電層兼感測器層7/玻璃基板4/液晶層5/驅動電極兼感測器層8/玻璃基板4/黏著劑層2/偏光薄膜1′之構成。抗靜電層兼感測器層7、驅動電極兼感測器層8可由透明導電層形成。
圖4c所示之影像顯示裝置(液晶顯示裝置)係將透明導電層作為觸控面板(表面(on-cell)型觸控面板)之電極用途使用的情況，具有覆蓋玻璃C/黏著劑層A/單面保護偏 光薄膜1/黏著劑層2(B)/抗靜電層兼感測器層7/感測器層9/玻璃基板4/液晶層5/驅動電極6/玻璃基板4/黏著劑層2/偏光薄膜1′之構成。抗靜電層兼感測器層7、感測器層9、驅動電極6可由透明導電層形成。
另外，用來形成液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等影像顯示裝置的光學薄膜很適合使用於影像顯示裝置。又，光學薄膜可舉如：可用於形成諸如反射板或半透射板、相位差板(包含1/2或1/4等波長板)、光學補償薄膜、視覺補償薄膜、亮度提升薄膜等之液晶顯示裝置等而成為光學層者。該等除了可單獨作為光學薄膜使用以外，亦可在實際使用時於前述單面保護偏光薄膜上積層1層或2層以上來使用。
此外，在圖4a至圖4c中，為了與液晶晶胞(玻璃基板)等其他構件接著，揭示有一黏著劑層2。比液晶晶胞更靠觀視側(上側)的黏著劑層2可作為黏著劑層B應用。例如，黏著劑層2可將丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸乙酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等之聚合物用作基底聚合物，並適當選擇各種黏著劑來使用。尤以像丙烯酸系黏著劑，光學透明性佳、顯示適度的濡溼性、凝聚性及接著性的黏著特性且耐候性及耐熱性等優異者為宜。
一般而言，液晶顯示裝置係以下述方式形成：將液晶晶胞(玻璃基板/液晶層/玻璃基板之構成)、已配置在其兩側之偏光薄膜及因應需求的照明系統等構成零件予 以適當組裝，再組入驅動電路等。液晶晶胞可使用諸如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等任意類型。又，可形成諸如在照明系統使用了背光或反射板等的適當的液晶顯示裝置。另外，在形成液晶顯示裝置時，可在適當的位置上配置1層或2層以上適當的零件例如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光等。
構件C可使用觸控面板。觸控面板C為電容式觸控面板，可依序積層有透明基體、黏著劑層2、透明導電性薄膜。此外，透明導電性薄膜可積層2層以上。透明基體可具有感測器層。此外，透明基體可作為覆蓋玻璃或塑膠蓋等，將之單獨應用在影像顯示裝置(液晶顯示裝置)。除此以外，可在與觸控面板C之透明基體為相反側的透明導電性薄膜上設置硬塗膜。
至於，透明基體可列舉玻璃板或透明壓克力板(PMMA板)。透明基體即所謂的覆蓋玻璃，可作為裝飾面板使用。透明導電性薄膜以玻璃板或透明塑膠薄膜(尤其PET薄膜)上設有透明導電膜者為宜。透明導電膜可列舉由金屬、金屬氧化物或該等之混合物所構成的薄膜，舉例如ITO(氧化銦錫)、ZnO、SnO、CTO(氧化鎘錫)之薄膜。透明導電膜之厚度並無特別限定，在10~200nm左右。上述透明導電性薄膜以PET薄膜上設有ITO膜的ITO薄膜為代表例。透明導電膜可隔著底塗層設置。另，底塗層可設置多數層。於透明塑膠薄膜基材與黏著劑層之間可設置寡聚物 遷移防止層。硬塗膜以PET薄膜等透明塑膠薄膜業經硬塗處理者為宜。
<偏光薄膜>
於本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜採用的單面保護偏光薄膜可使用僅在偏光件單側具有透明保護薄膜者。於前述單面保護偏光薄膜之透明保護薄膜可設置硬塗層、抗反射層、抗黏層、擴散層或防眩層等機能層。另，上述硬塗層、抗反射層、抗黏層、擴散層或防眩層等機能層除了可設置在透明保護薄膜其本身以外，還可另外設置成與透明保護薄膜分開的個體。至於，就圖4a至圖4c中所示偏光薄膜1′而言，一般常使用在偏光件單面或兩面具有透明保護薄膜者。
<偏光件>
偏光件並無特別限定，可使用各種物質。偏光件可舉如於聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯‧乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料之二色性物質並予以單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。該等中，又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等之二色性物質所構成的偏光件為宜。
以碘將聚乙烯醇系薄膜染色且經單軸延伸的偏光件，例如可將聚乙烯醇薄膜浸漬於碘水溶液中使其染色並延伸成原長之3~7倍來製作。可因應需求浸漬在可含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等的碘化鉀等水溶液中。更可因應 需求於染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中予以水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的汙垢及抗黏結劑，除此以外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤以防止染色斑點等不均的效果。延伸可在以碘染色後進行，可一邊染色一邊進行延伸，或可延伸後再以碘染色。在硼酸或碘化鉀等水溶液或水浴中亦可進行延伸。
前述偏光件係使用厚度15μm以下的薄型偏光件。從薄型化及對熱震(thermal shock)之抗裂性觀點來看，偏光件的厚度在12μm以下為宜，較宜為10μm以下，更宜為8μm以下，又更宜為7μm以下，更以6μm以下為宜。另一方面，偏光件的厚度為2μm以上，宜為3μm以上，更宜為4μm以上。這種薄型偏光件的厚度參差少，視辨性佳且尺寸變化少，所以相對於熱震的耐久性優異。
就厚度15μm以下之薄型偏光件，代表性可列舉專利第4751486號說明書、專利第4751481號說明書、專利第4815544號說明書、專利第5048120號說明書、專利第5587517號說明書、國際公開第2014/077599號手冊、國際公開第2014/077636號手冊等中記載之薄型偏光膜(偏光件)或由該等記載之製造方法製得的薄型偏光膜(偏光件)。
前述偏光件以單體透射率T及偏光度P表示之光學特性滿足下式P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟，T<42.3)及P≧99.9(惟、T≧42.3)之條件而構成為宜。一言以蔽之，滿足前述條件而構成的偏光膜具有使用大型顯示元件之液晶電 視用顯示器所要求的性能。具體上為對比1000：1以上且最大亮度500cd/m2以上。就其他用途，則例如可貼合於有機EL顯示裝置之觀視側。
在包含以積層體之狀態進行延伸之步驟及染色步驟的製法中可以高倍率延伸並提升偏光性能的觀點來看，前述薄型偏光膜以諸如專利第4751486號說明書、專利第4751481號說明書、專利4815544號說明書中記載以包含在硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法製得者為宜，尤以如專利第4751481號說明書、專利4815544號說明書中記載以包含在硼酸水溶液中進行延伸之前先輔助性地予以空中延伸之步驟的製法製得者為宜。該等薄型偏光膜可藉由包含將聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材以積層體之狀態進行延伸之步驟及染色步驟的製法製得。在該製法，即使PVA系樹脂層很薄，也可利用延伸用樹脂基材的支持而延伸，且不會因延伸造成破斷等不良狀況。
<透明保護薄膜>
構成前述透明保護薄膜之材料宜具有優異的透明性、機械強度、熱穩定性、水分隔絕性、等向性等。可舉例如：聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物、二乙醯纖維素及三乙醯纖維素等纖維素系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯及丙烯腈‧苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。此外，形成上述透明保護薄膜之聚合物的範 例還可列舉：諸如聚乙烯、聚丙烯、環系或具有降莰烯結構之聚烯烴、乙烯‧丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、二氯亞乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚氧亞甲基系聚合物、環氧系聚合物、或上述聚合物之混合物等。
另，透明保護薄膜中可含有1種以上任意且適當的添加劑。添加劑可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、脫模劑、著色防止劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂含量宜為50~100重量%，較宜為50~99重量%，更宜為60~98重量%，尤宜為70~97重量%。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂含量在50重量%以下時，可能無法充分顯現熱可塑性樹脂與生俱來的高透明性等。
可使用相位差薄膜作為前述透明保護薄膜。相位差薄膜可舉如具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差者。正面相位差通常係控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常係控制在80~300nm之範圍。使用相位差薄膜作為透明保護薄膜時，該相位差薄膜亦可作為偏光件保護薄膜使用，所以可謀求薄型化。
相位差薄膜可列舉將熱可塑性樹脂薄膜予以單 軸或雙軸延伸處理而形成的雙折射性薄膜。上述延伸之溫度、延伸倍率等可按相位差值、薄膜材料、厚度適宜設定。
透明保護薄膜之厚度可適當決定，一般按照強度或處置性等作業性、薄層性等觀點約1~100μm左右。尤以5~50μm為宜，更以10~40μm為宜。
<中介層>
前述透明保護薄膜與偏光件可隔著接著劑層、黏著劑層、底塗層(primer layer)等中介層來積層。此時希望可藉由中介層將兩者無空氣間隙地積層。
接著劑層係由接著劑形成。接著劑之種類並無特別限制，可使用各種物質。前述接著劑層只要在光學上呈透明即無特別限制，接著劑可使用水系、溶劑系、熱熔系、活性能量線硬化型等各種形態的物質，以水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑為宜。
至於，積層偏光件與保護薄膜時，可在透明保護薄膜與接著劑層之間設置一易接著層。易接著層可藉由具有例如聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸乙酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等之各種樹脂來形成。該等聚合物樹脂可單獨使用1種或可將2種以上組合使用。又，亦可於形成易接著層時添加其他的添加劑。具體上可使用賦黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等之穩定劑等。
<機能層>
機能層可滿足單面保護偏光薄膜之薄型化，並且可抑制發生在偏光件上的貫穿性裂縫及奈米狹縫(nanoslit)之生成。機能層可由各種形成材料形成。機能層例如可將樹脂材料塗佈於偏光件上而形成，亦可將SiO2等無機氧化物利用濺鍍法等蒸鍍於偏光件上而形成。從可簡便形成的觀點來看，機能層宜由樹脂材料形成。
形成機能層之樹脂材料可列舉如聚酯系樹脂、聚醚系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚胺甲酸乙酯系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、PVA系樹脂、丙烯酸系樹脂等。該等樹脂材料可單獨使用1種或可將2種以上組合使用，該等中又以選自於由聚胺甲酸乙酯系樹脂、聚乙烯醇(PVA)系樹脂所構成群組中之1種以上為宜，且以PVA系樹脂較佳。又，前述樹脂之形態為水系或溶劑系皆可。前述樹脂之形態以水系樹脂為宜，且以PVA系樹脂為宜。另，水系樹脂可使用丙烯酸樹脂水溶液或胺甲酸乙酯樹脂水溶液。
機能層太厚會造成光學可靠性及耐水性降低，因此機能層之厚度在15μm以下為宜，10μm以下較宜，8μm以下更佳，更宜為6μm以下，又更宜為5μm以下，且以3μm以下尤佳。另一方面，機能層之厚度為0.2μm以上為宜。利用這種厚度的機能層可抑制裂痕發生。前述機能層的厚度為0.5μm以上為宜，更宜為0.7μm以上。
基於薄型化觀點，前述單面保護偏光薄膜的總厚度(除偏光件、透明保護薄膜以外還包含中介層、機能 層)以3~115μm為宜，較宜為43~60μm，更宜為14~48μ
<黏著劑層>
以下針對本發明之黏著劑層A及黏著劑層B加以說明。另，黏著劑層A及黏著劑層B皆呈「透明」，在度厚25μm下測定之霧度值為2%以下即可滿足。前述霧度值為0~1.5%為宜，更宜為0~1%。
<黏著劑層厚度>
又，前述黏著劑層A之厚度為25μm以上。基於高低差吸收性及耐久性，厚度在25μm以上為宜。為了與觸控面板、透明基體等構件(尤其是帶有印墨高低差之透明覆蓋材料)貼合，黏著劑層A之厚度偏厚較佳。例如，為了無氣泡地掩蓋印墨高低差，黏著劑層A以偏厚為佳宜。黏著劑層A之厚度為50μm以上為宜，更宜為100μm以上。另外，由於影像顯示裝置之材料厚度要求薄型化，所以針對黏著劑層A亦講求能夠掩蓋前述印墨高低差的最薄厚度。基於加工性、成本觀點，黏著劑層A之厚度在1mm以下為宜，較宜為500μm以下，更宜為300μm以下。
另外，前述黏著劑層B之厚度為厚25μm以下。基於重工性、成本，厚度在25μm以下為宜。黏著劑層B必須確保重工性，所以在使用時不致引起剝離的範圍內以厚度偏薄者為宜。黏著劑層B之厚度為22μm以下為宜，更宜為20μm以下。另一方面，基於耐久性觀點，黏著劑層A之厚度在1μm以上為宜，較宜為5μm以上，更宜為10 μm以上。
<黏著劑層之儲存彈性模數及凝膠分率>
前述黏著劑層A在23℃下之儲存彈性模數為0.05MPa以上為宜。較宜為0.05~1MPa，在滿足高低差吸收性之前提下，以0.05~0.7MPa更佳，0.07~0.5MPa尤佳。前述黏著劑層A的凝膠分率為40~98重量%為宜，從可抑制從被接體剝離等觀點來看，以45~85重量%較佳，50~75重量%更佳。
前述黏著劑層A可含活性能量線硬化型黏著劑層。前述黏著劑層A含有活性能量線硬化型黏著劑層時，對活性能量線硬化型黏著劑照射活性能量線(第1硬化：照射)便可形成黏著劑層A。另一方面，對活性能量線硬化型黏著劑施行加熱、乾燥(第1硬化：加熱)也可形成黏著劑層A。若從高低差吸收性觀點來看，對活性能量線硬化型黏著劑施行前述第1硬化(照射或加熱、乾燥)而形成的黏著劑層A，其儲存彈性模數為0.05~0.6MPa為宜且較宜為0.05~0.6MPa，其凝膠分率為40~80重量%為宜且較宜為45~70重量%。
再者，藉由施行前述第1硬化(照射或加熱、乾燥)而形成的黏著劑層A可被貼合至前述構件C(例如覆蓋玻璃等透明基體)，並且可對貼合後的前述黏著劑層A進一步照射活性能量線(第2硬化)。已實施前述第2硬化的黏著劑層A′(活性能量線硬化型黏著劑層)可利用前述第2硬化，使凝膠分率及儲存彈性模數比第1硬化之黏著劑層A更有變化 (提升)，提高加熱可靠性。已施行第2硬化的黏著劑層A′之儲存彈性模數為0.05~1MPa為宜且更宜為0.08~0.8MPa，凝膠分率為60~98重量%為宜且更宜為70~95重量%。
如前述藉由對活性能量線硬化型黏著劑進行第1硬化(照射或加熱、乾燥)而形成的黏著劑層A可藉由照射活性能量線(第2硬化)來增大儲存彈性模數。前述第2硬化後與第1硬化後之儲存彈性模數之差(第2硬化後-第1硬化後)在0.01MPa以上為宜且更宜為0.03MPa以上，凝膠分率之差(第2硬化後-第1硬化後)在5重量%以上為宜且更宜為10重量%以上。至於，關於伴隨前述第2硬化所產生之儲存彈性模數差的儲存彈性模數之測定溫度係定為50℃。
前述黏著劑層B通常不使用含活性能量線硬化型黏著劑層。前述黏著劑層B在23℃下之儲存彈性模數為0.01~1.0MPa為宜，在滿足加工性、保管性、耐久性之前提下，以0.05~0.7MPa較佳，0.07~0.5MPa更佳。前述黏著劑層B的凝膠分率為40~95重量%為宜，從可抑制從被接體剝離等觀點來看，以45~90重量%較佳，60~85重量%更佳。
<黏著劑層之剝離力>
前述黏著劑層A設有分隔件SA，前述黏著劑層B則設有分隔件SB。本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜首先會將黏著劑層B之側貼合至顯示部(面板)，不過如果分隔件SA之剝離力太小，重工時分隔件SA與黏著劑層A可能會剝離而無法進行重工。所以若從重工的觀點來看，前述分隔 件SA相對於前述黏著劑層A之剝離力在0.1N/50mm以上為宜。且以0.1~5N/50mm較宜，0.1~2N/50mm更佳，0.1~1N/50mm尤佳。又，前述分隔件SB相對於前述黏著劑層B之剝離力以剝離力為0.01~1N/50mm為宜，較宜為0.03~0.2N/50mm，更宜為0.05~0.2N/50mm，尤宜為0.07~0.15N/50mm。黏著劑層包含活性能量線硬化型黏著劑層時，分隔件SA之剝離力指第1硬化後的測定值。
此外，若從先貼合至面板的觀點來看，宜將前述分隔件SA之剝離力調整為高於前述分隔件SB之剝離力。為了防止剝離不良，前述分隔件SA之剝離力與前述分隔件SB之剝離力之差為0.01~2N/50mm為宜，且以0.02~1N/50mm較佳。
前述儲存彈性模數、凝膠分率、剝離力之測定如實施例中所記載。此外，前述黏著劑層A可從多數個黏著劑層形成，此時亦按照實施例之記載，以動態黏彈性測定機進行儲存彈性模數之測定，凝膠分率則以網目法進行。
<黏著劑層之材料>
又，本發明之黏著劑層A、黏著劑層B之形成材料可使用含有各種基底聚合物之物質。基底聚合物之種類並無特別限制，可舉如橡膠系聚合物、(甲基)丙烯醯系聚合物、聚矽氧系聚合物、胺甲酸乙酯系聚合物、乙烯基烷基醚系聚合物、聚乙烯醇系聚合物、聚乙烯吡咯啶酮系聚合物、聚丙烯醯胺系聚合物、纖維素系聚合物等各種聚合 物。
該等基底聚合物中，又適宜使用光學透明性佳、顯示適度的濡溼性、凝聚性及接著性的黏著特性且耐候性及耐熱性等優異者。就顯示此種特徵者，適宜使用(甲基)丙烯酸系聚合物。以下，針對黏著劑層A、黏著劑層B之形成材料之以含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元之(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物的丙烯酸系黏著劑加以說明。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物可藉由使含有在酯基末端具有碳數4~24之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯的單體成分進行聚合而製得。至於，(甲基)丙烯酸烷基酯意指丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯，本發明之(甲基)表相同意思。
(甲基)丙烯酸烷基酯可列舉具有直鏈狀或支鏈狀之碳數4~24之烷基者。(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用1種或可將2種以上組合使用。
前述(甲基)丙烯酸烷基酯可舉如前述碳數4~9之具有支鏈的(甲基)丙烯酸烷基酯。在容易取得黏著特性均衡的觀點下，以該(甲基)丙烯酸烷基酯為宜。該等可舉如(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸異庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯等。
又，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分的總量，前述黏著劑層A之(甲基)丙烯酸系聚合物含有30重量%以上之丙烯酸2-乙基己酯作為單體單元，可控制儲存彈性模數，從高低差吸收性的觀點來看相當適宜。另，前述黏著劑層A為至少具有第1黏著劑層(a)及第2黏著劑層(b)之多重黏著劑層時，以多重黏著劑層計(各層合計)，相對於單官能性單體成分總量，(甲基)丙烯酸系聚合物宜含有30重量%以上之丙烯酸2-乙基己酯作為單體單元。另一方面，前述黏著劑層B之(甲基)丙烯酸系聚合物含有最多的丙烯酸丁酯作為單體單元可控制儲存彈性模數，基於加工性、保管性、耐久性觀點相當適宜。
在本發明中，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分的總量，前述在酯末端具有碳數4~24之烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯為40重量%以上，宜為50重量%以上，更宜為60重量%以上。在容易取得黏著特性均衡的觀點下，宜使用40重量%以上。
形成本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物的單體成分可含有前述(甲基)丙烯酸烷基酯以外之共聚單體作為單官能性單體成分。共聚單體可作為單體成分之前述(甲基)丙烯酸烷基酯的剩餘部分使用。
共聚單體例如可包含環狀含氮單體。上述環狀含氮單體可無特別限制地使用具有具(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有環狀氮結構者。環狀氮結構以環狀結構內具有氮原子者為宜。環狀含氮單 體可列舉如N-乙烯吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺、甲基乙烯吡咯啶酮等內醯胺系乙烯基單體；乙烯吡啶、乙烯哌啶酮、乙烯嘧啶、乙烯哌、乙烯吡、乙烯吡咯、乙烯咪唑、乙烯唑、乙烯嗎福林等具有含氮之雜環的乙烯基系單體等。此外，可列舉含有嗎福林環、哌啶環、吡咯啶環、哌環等之雜環的(甲基)丙烯酸單體。具體上，可列舉N-丙烯醯嗎福林、N-丙烯醯哌啶、N-甲基丙烯醯哌啶、N-丙烯醯吡咯啶等。前述環狀含氮單體中，從介電係數及凝聚性之觀點來看，以內醯胺系乙烯基單體為宜。
在本發明中，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體成分，環狀含氮單體在40重量%以下為宜，較宜為0.5~40重量%，更宜為0.5~30重量%。在前述範圍內使用環狀含氮單體，對於表面電阻值之控制相當適宜，尤其在使用離子性化合物時與離子性化合物之相溶性及抗靜電機能之耐久性等方面相當適宜。
此外，形成本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物的單體成分可含有其他的含官能基單體作為單官能性單體，舉例如含羥基單體、含羧基單體、具環狀醚基之單體。
含羥基單體可無特別限制地使用具有具(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有羥基者。含羥基單體可舉如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基) 丙烯酸12-羥月桂酯等等的(甲基)丙烯酸羥烷基酯；(4-羥甲基環己基)甲基(甲基)丙烯酸酯等的羥烷基環烷(甲基)丙烯酸酯。其他，可列舉羥乙基(甲基)丙烯醯胺、烯丙醇、2-羥乙基乙烯基醚、4-羥丁基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚等。該等可單獨使用或可組合使用。該等中又以(甲基)丙烯酸羥烷基酯為宜。
含羧基單體可無特別限制地使用具有具(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有羧基者。含羧基單體可列舉如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸、異巴豆酸等，該等可單獨使用或可組合使用。伊康酸、馬來酸可使用該等之酐。該等中又以丙烯酸、甲基丙烯酸為宜，丙烯酸尤宜。另，在用來製造本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物的單體成分中可任意使用含羧基單體，但也可以不使用含羧基單體。含有從不含含羧基單體之單體成分製得之(甲基)丙烯酸系聚合物的黏著劑可形成得減低因羧基造成之金屬腐蝕等的黏著劑層。
具環狀醚基之單體可無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有環氧基或氧環丁烷基等環狀醚基者。含環氧基之單體可列舉如環氧丙基(甲基)丙烯酸酯、3,4-環氧環己基甲基(甲基)丙烯酸酯、4-羥丁基(甲基)丙烯酸酯環氧丙基醚等。含氧環丁烷基單體可列舉如3-氧雜環丁烷基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-氧雜環丁烷基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-乙基- 氧雜環丁烷基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-丁基-氧雜環丁烷基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-己基-氧雜環丁烷基甲基(甲基)丙烯酸酯等。該等可單獨使用或可組合使用。
在本發明中，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分的總量，前述含羥基單體、含羧基單體、具環狀醚基之單體在30重量%以下為宜，較宜為27重量%以下，更宜為25重量%以下。
針對形成本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物的單體成分，就共聚單體可列舉如以CH2=C(R1)COOR2(前述R1表示氫或甲基，R2表示碳數1~3之無取代烷基或經取代烷基、環狀之環烷基)表示之(甲基)丙烯酸烷基酯。
在此，作為R2之碳數1~3之無取代烷基或經取代烷基表示直鏈或支鏈烷基。為經取代之烷基時，取代基宜為碳數3~8個芳基或碳數3-8個芳氧基。芳基未有限定，惟以苯基為宜。
此種以CH2=C(R1)COOR2表示之單體之例可列舉(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸環己酯、3,3,5-三甲基環己基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異莰酯等。該等可單獨使用或可組合使用。
在本發明中，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分的總量，前述以CH2=C(R1)COOR2表示之(甲基)丙烯酸酯可在40重量%以下作使用，且以35重量%以下為宜。更以30重量%以下為宜。
其他的共聚單體亦可使用乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯；(甲基)丙烯酸聚乙二醇、(甲基)丙烯酸聚丙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯及丙烯酸2-甲氧乙酯等丙烯酸酯系單體；含醯胺基單體、含胺基單體、含醯亞胺基單體、N-丙烯醯基嗎福林、乙烯基醚單體等。此外，共聚單體可使用萜(甲基)丙烯酸酯、二環戊烷(甲基)丙烯酸酯等具有環狀結構之單體。前述共聚單體中，在凝聚力、接著力提升的觀點下又以乙酸乙烯酯為宜。
進一步又可列舉含矽原子之矽烷系單體等。矽烷系單體可列舉如3-丙烯醯氧基丙基三乙氧矽烷、乙烯基三甲氧矽烷、乙烯基三乙氧矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三乙氧矽烷等。
前述共聚單體在形成黏著劑層A、黏著劑層B時，可於調製基底聚合物之(甲基)丙烯酸系聚合物時適當選擇。就前述共聚單體而言，在利用丙烯酸系黏著劑形成前述黏著劑層A及前述黏著劑層B時，從凝聚力及接著力提升的觀點來看，以該等中之至少一者含有(甲基)丙烯酸 及含氮單體中之至少一種作為單體單元為宜。
形成本發明之(甲基)丙烯酸系黏著劑的單體成分中，除了前述例示之單官能性單體以外，為了調整黏著劑的凝聚力，可因應需求含有多官能性單體。
多官能性單體係至少具有2個(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和雙鍵之聚合性官能基的單體，可舉例如(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙氧化新戊四醇三丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2-乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,12-十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯等之多元醇與(甲基)丙烯酸之酯化合物；(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯基苯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、胺甲酸乙酯丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸丁酯、二(甲基)丙烯酸己酯等。其中，又適宜使用三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。多官能性單體可單獨使用1種或可將2種以上組合使用。
多官能性單體之使用量依其分子量及官能基數等而異，不過相對於單官能性單體之合計100重量份，在3重量份以下作使用為宜，且以2重量份以下較佳，1重量份以下更佳。此外，下限值並無特別限定，惟以0重量份以 上為佳，0.001重量份以上較佳。藉由使多官能性單體之使用量在前述範圍內，可提升接著力。
此種(甲基)丙烯酸系聚合物之製造適合選擇溶液聚合、紫外線聚合等放射線聚合、塊狀聚合、乳化聚合等各種自由基聚合等的公知製造方法。此外，所得(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等中之任一者。
可用於自由基聚合之聚合引發劑、鏈轉移劑及乳化劑等並無特別限定，可適當選擇使用。另，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合引發劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件來控制，可按該等之種類來適度調整其使用量。
例如，在溶液聚合等過程中，聚合溶媒可使用例如乙酸乙酯、甲苯等。就具體的溶液聚合例而言，如反應係在氮等惰性氣體之氣流下添加聚合引發劑，並且通常在50~70℃左右、5~30小時左右之反應條件下進行。
可用於溶液聚合等之熱聚合引發劑可列舉如2,2'-偶氮雙異丁腈、2,2'-偶氮雙-2-甲基丁腈、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲基、4,4’-偶氮雙-4-氰基吉草酸、偶氮雙異戊腈、2,2'-偶氮雙(2-甲脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2'-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁基脒)、2,2'-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純藥公司製、VA-057)等偶氮系引發劑、過硫酸鉀、過硫酸 銨等過硫酸鹽、二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯、二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯、二-二級丁基過氧二碳酸酯、三級丁基過氧化新癸酸酯、三級己基過氧化三甲基乙酸酯、三級丁基過氧化三甲基乙酸酯、過氧化二月桂醯、過氧化二正辛醯、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯基)、過氧化二苯甲醯、三級丁基過氧異丁酸酯、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷、三級丁基氫過氧化物、過氧化氫等過氧化物系引發劑、過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉之組合等的將過氧化物與還原劑組合而成的氧化還原系引發劑等，惟不受該等限定。
前述聚合引發劑可單獨使用或可將2種以上混合使用，惟全體的含量相對於單體100重量份佔0.005~1重量份左右為佳，佔0.02~0.5重量份左右較佳。
另，聚合引發劑可使用例如2,2'-偶氮雙異丁腈，在製造下述重量平均分子量之(甲基)丙烯酸系聚合物時，相對於單體成分之總量100重量份將聚合引發劑之使用量設定為0.06~0.2重量份左右為宜，設定為0.08~0.175重量份左右更佳。
鏈轉移劑可列舉如月桂基硫醇、環氧丙基硫醇、巰基乙酸、2-巰基乙醇、巰乙酸、巰乙酸2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用或可將2種以上混合使用，惟整體的含量相對於單體成分之總量100重量份佔0.1重量份左右以下。
此外，乳化聚合時使用的乳化劑可列舉如月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二烷基苯磺酸鈉、聚氧伸乙基烷基醚硫酸銨、聚氧伸乙基烷基苯基醚硫酸鈉等陰離子系乳化劑；聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基烷基苯基醚、聚氧伸乙基脂肪酸酯、聚氧伸乙基-聚氧伸丙基嵌段聚合物等非離子系乳化劑等。該等乳化劑可單獨使用亦可將2種以上併用。
再者，就反應性乳化劑而言已導入丙烯基、烯丙基醚基等自由基聚合性官能基之乳化劑，具體上例如有Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上皆為第一工業製藥公司製)、Adeka Reasoap SE10N(ADEKA公司製)等。由於反應性乳化劑會在聚合後被納入聚合物鏈中，所以耐水性會變佳，甚為理想。乳化劑之使用量相對於單體成分之總量100重量份為0.3~5重量份，若從聚合穩定性及機械穩定性來看則以0.5~1重量份較佳。
此外，以活性能量線聚合製造(甲基)丙烯酸系聚合物時，可藉由照射電子線、紫外線等活性能量線使前述單體成分聚合來製造。以電子線進行前述活性能量線聚合時，無須特別使前述單體成分含有光聚合引發劑，但以紫外線聚合進行前述活性能量線聚合時，若特別從可縮短聚合時間的優點等而言，可使單體成分含有光聚合引發劑。光聚合引發劑可單獨使用1種或可將2種以上組合使用。前述單體成分在照射放射線時，可使用已事先使一部 分聚合製成漿料(syrup)者。
光聚合引發劑並無特別限制，只要是可引發聚合者即無特別限制，可使用一般使用的光聚合引發劑。可使用例如苯偶姻醚系光聚合引發劑、苯乙酮系光聚合引發劑、α-酮醇系光聚合引發劑、芳香族磺醯氯系光聚合引發劑、光活性肟系光聚合引發劑、苯偶姻系光聚合引發劑、苯甲基系光聚合引發劑、二苯基酮系光聚合引發劑、縮酮系光聚合引發劑、9-氧硫系光聚合引發劑、醯基膦氧化物系光聚合引發劑等。
具體上，苯偶姻醚系光聚合引發劑可列舉如苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻丙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻異丁基醚、2,2-二甲氧-1,2-二苯基乙烷-1-酮[商品名：IRGACURE 651，BASF公司製]、大茴香醚甲基醚等。苯乙酮系光聚合引發劑可列舉如1-羥環己基苯基酮[商品名：IRGACURE 184，BASF公司製]、4-苯氧基二氯苯乙酮、4-三級丁基-二氯苯乙酮、1-[4-(2-羥乙氧基)-苯基]-2-羥-2-甲基-1-丙烷-1-酮[商品名：IRGACURE 2959、BASF公司製]、2-羥-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮[商品名：DAROCUR 1173、BASF公司製]、甲氧苯乙酮等。α-酮醇系光聚合引發劑可列舉如2-甲基-2-羥苯丙酮、1-[4-(2-羥乙基)-苯基]-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮等。芳香族磺醯氯系光聚合引發劑可列舉如2-萘磺醯氯等。光活性肟系光聚合引發劑可列舉如1-苯基-1,1-丙二酮-2-(鄰乙氧羰基)-肟等。
另，苯偶姻系光聚合引發劑包含例如苯偶姻 等。苯甲基系光聚合引發劑包含例如苯甲基等。二苯基酮系光聚合引發劑包含例如二苯基酮、苯甲醯基安息香酸、3,3′-二甲基-4-甲氧二苯基酮、聚乙烯基二苯基酮、α-羥環己基苯基酮等。縮酮系光聚合引發劑包含例如苯甲基二甲基縮酮等。9-氧硫系光聚合引發劑包含例如9-氧硫、2-氯9-氧硫、2-甲基9-氧硫、2,4-二甲基9-氧硫、異丙基9-氧硫、2,4-二氯9-氧硫、2,4-二乙基9-氧硫、異丙基9-氧硫、2,4-二異丙基9-氧硫、十二烷基9-氧硫等。
醯基膦系光聚合引發劑可列舉如雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)(2,4,4-三甲基戊基)膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)正丁基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)-(2-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)-(1-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)-三級丁基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)環己基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)辛基膦氧化物、雙(2-甲氧苯甲醯基)(2-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2-甲氧苯甲醯基)(1-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二乙氧苯甲醯基)(2-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二乙氧苯甲醯基)(1-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二丁氧苯甲醯基)(2-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,4-二甲氧苯甲醯基)(2-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)(2,4-二戊氧苯基)膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)苯甲基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)-2-苯 基丙基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)-2-苯基乙基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)苯甲基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)-2-苯基丙基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)-2-苯基乙基膦氧化物、2,6-二甲氧苯甲醯基苯甲基丁基膦氧化物、2,6-二甲氧苯甲醯基苯甲基辛基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,5-二異丙基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2-甲基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-4-甲基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,5-二乙基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,3,5,6-四甲基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二-正丁氧苯基膦氧化物、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)異丁基膦氧化物、2,6-二甲氧基苯甲醯基-2,4,6-三甲基苯甲醯基-正丁基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二丁氧苯基膦氧化物、1,10-雙[雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)膦氧化物]癸烷、三(2-甲基苯甲醯基)膦氧化物等。
光聚合引發劑之使用量無特別限制，例如相對於前述單體成分100重量份為0.01~5重量份，宜為0.05~3重量份，較宜為0.05~1.5重量份，更宜為0.1~1重量份。
光聚合引發劑之使用量少於0.01重量份時，會有聚合反應不夠充分的情況。光聚合引發劑之使用量若超過5重量份，可能會因為光聚合引發劑吸收紫外線而有紫 外線無法到達黏著劑層內部的情況。此時，聚合率會降低或所生成的聚合物分子量縮小。而且，因而使所形成之黏著劑層的凝聚力降低，進而在將黏著劑層從薄膜剝離時，會有黏著劑層一部分殘留於薄膜上而無法將薄膜再次利用的情況。另，光聚合引發劑可單獨使用1種或可將2種以上組合使用。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物的重量平均分子量在40萬~250萬為宜，較宜在60萬~220萬。令重量平均分子量大於40萬，可滿足黏著劑層的耐久性，或可抑制黏著劑層之凝聚力縮小而產生殘膠的情形。另一方面，重量平均分子量一旦大於250萬，貼合性、黏著力有降低之傾向。此外，黏著劑在溶液系中黏度可能會變得太高而難以塗敷。另，重量平均分子量係指以GPC(凝膠滲透層析術)測定且利用聚苯乙烯換算所算出之值。至於，利用放射線聚合所得之(甲基)丙烯酸系聚合物很難進行分子量測定。
<重量平均分子量之測定>
以GPC(凝膠滲透層析術)測定所得之(甲基)丙烯酸系聚合物的重量平均分子量。試樣係使用將試料溶解於四氫呋喃製成0.1重量%之溶液並將之靜置一晚後以0.45μm之膜濾器加以過濾所得的濾液。．分析裝置：東曹公司製、HLC-8120GPC
．管柱：東曹公司製、(甲基)丙烯酸系聚合物：GM7000HXL+GMHXL+GMHXL
芳香族系聚合物：G3000HXL+2000HXL+G1000HXL
．管柱尺寸：各7.8mmφ×30cm計90cm
．溶析液：四氫呋喃(濃度0.1重量%)
．流量：0.8ml/min
．入口壓力：1.6MPa
．檢測器：示差折射計(RI)
．管柱溫度：40℃
注入量：100μl
溶析液：四氫呋喃
檢測器：示差折射計
標準試料：聚苯乙烯
形成本發明之黏著劑層A、黏著劑B的黏著劑可含有交聯劑。交聯劑包含異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、聚矽氧系交聯劑、唑啉系交聯劑、吖環丙烷系交聯劑、矽烷系交聯劑、烷基醚化三聚氰胺系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、過氧化物等交聯劑。交聯劑可單獨使用1種或可將2種以上組合使用。前述交聯劑適宜使用異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑。
上述交聯劑可單獨使用1種，或可將2種以上混合使用，惟以整體含量而言，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，在0.01~5重量份之範圍內含有前述交聯劑為宜。交聯劑之含量含有0.01~4重量份為宜，含有0.02~3重量份較佳。
異氰酸酯系交聯劑係指1分子中具有2個以上異氰酸酯基(包含以封端劑或低聚化等暫時保護異氰酸酯基 的異氰酸酯再生型官能基)之化合物。
異氰酸酯系交聯劑可列舉甲伸苯基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯；異佛酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯；以及六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族異氰酸酯等。
更具體上可列舉如伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類；環伸戊基二異氰酸酯、環伸己基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯類；2,4-甲伸苯基二異氰酸酯、4,4’-二苯甲烷二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯、聚亞甲基聚苯基異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯類；三羥甲基丙烷/甲伸苯基二異氰酸酯三聚物加成物(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.製，商品名Coronate L)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯三聚物加成物(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.製，商品名Coronate HL)、六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.製，商品名Coronate HX)等異氰酸酯加成物、伸茬基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(三井化學公司製，商品名D110N)、六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(三井化學公司製，商品名D160N)；聚醚聚異氰酸酯、聚酯聚異氰酸酯、以及該等與各種多元醇之加成物、三聚異氰酸酯鍵結、縮二脲鍵結、脲甲酸酯鍵結等而多官能化之聚異氰酸酯等。
該等中，使用脂肪族異氰酸酯的反應速度較快，故為適宜。
上述異氰酸酯系交聯劑可單獨使用1種或可將2種以上混合使用，惟以整體含量來說，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，含有前述異氰酸酯系交聯劑0.01~5重量份為宜，較宜含有0.01~4重量份，更宜含有0.02~3重量份。可考慮凝聚力及阻止耐久性試驗時之剝離等而適宜含有交聯劑。
至於，以乳化聚合製成之改質(甲基)丙烯酸系聚合物的水分散液可不使用異氰酸酯系交聯劑，不過必要時，為了利於與水反應，亦可使用經封端化之異氰酸酯系交聯劑。
上述環氧系交聯劑係指1分子中具有2個以上環氧基之多官能環氧化合物。環氧系交聯劑可列舉如雙酚A、環氧氯丙烷型之環氧系樹脂、伸乙基環氧丙基醚、N,N,N’,N’-四環氧丙基-間二甲苯二胺、二環氧丙基苯胺、二胺環氧丙基胺、1,3-雙(N,N-二環氧丙基胺甲基)環己烷、1,6-己二醇二環氧丙基醚、新戊二醇二環氧丙基醚、乙二醇二環氧丙基醚、丙二醇二環氧丙基醚、聚乙二醇二環氧丙基醚、聚丙二醇二環氧丙基醚、山梨糖醇聚環氧丙基醚、丙三醇聚環氧丙基醚、新戊四醇聚環氧丙基醚、甘油二環氧丙基醚、甘油三環氧丙基醚、聚丙三醇聚環氧丙基醚、去水山梨糖醇聚環氧丙基醚、三羥甲基丙烷聚環氧丙基醚、己二酸二環氧丙酯、鄰酞酸二環氧丙酯、三環氧丙基-參(2-羥乙基)三聚異氰酸酯、間苯二酚二環氧丙基醚、雙酚-S-二環氧丙基醚，除此以外還可列舉分子內具 有2個以上環氧基之環氧系樹脂等。上述環氧系交聯劑也可列舉如三菱氣體化學公司製商品名「TETRAD C」、「TETRAD X」等市售品。
上述環氧系交聯劑可單獨使用1種或可將2種以上混合使用，惟以整體含量來說，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，含有前述環氧系交聯劑0.01~5重量份為宜，較宜含有0.01~4重量份，更宜含有0.02~3重量份。可考慮凝聚力及阻止耐久性試驗時之剝離等而適宜含有交聯劑。
過氧化物之交聯劑只要是可藉由加熱產生自由基活性種而使黏著劑之基底聚合物進行交聯者即適宜使用，惟如慮及作業性及穩定性，宜使用1分鐘半衰期溫度為80℃~160℃之過氧化物，且較宜使用90℃~140℃之過氧化物。
可使用之過氧化物可列舉如：二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二-二級丁基過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、三級丁基過氧化新癸酸酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、三級己基過氧化三甲基乙酸酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、三級丁基過氧化三甲基乙酸酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、過氧化二月桂醯(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、過氧化二正辛醯(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、過氧 化二(4-甲基苯甲醯基)(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、過氧化二苯甲醯(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、三級丁基過氧異丁酸酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，從交聯反應效率優異的觀點來看，尤宜使用二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧化二月桂醯(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、過氧化二苯甲醯(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等。
至於，過氧化物之半衰期係顯示過氧化物之分解速度的指標，意指過氧化物之殘存量變成一半時的時間。關於在任意時間內獲得半衰期之分解溫度或任意溫度下的半衰期時間則記載於廠商型錄等之中，例如記載在日本油脂股份有限公司之「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等。
上述過氧化物可單獨使用1種，或可將2種以上混合使用，惟以整體含量而言，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，前述過氧化物為0.02~2重量份，且宜含有0.05~1重量份。為了調整加工性、重工性、交聯穩定性、剝離性等，可在該範圍內適當選則。
至於，反應處理後殘存之過氧化物分解量的測定方法，例如可利用HPLC(高速液體層析術)來進行測定。
更具體而言，例如可將反應處理後之黏著劑逐次取出約0.2g浸漬於乙酸乙酯10ml中，以振盪機在25℃下以120rpm振盪3小時進行萃取後，於室溫下靜置3日。接 著，添加乙腈10ml，在25℃下以120rpm振盪30分，再利用膜濾器(0.45μm)過濾並將所得萃取液約10μl注入HPLC，進行分析而獲得反應處理後之過氧化物量。
此外，交聯劑亦可與有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物併用。多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物呈共價鍵結或配位鍵結者。多價金屬原子可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。有機化合物中可行共價鍵結或配位鍵結之原子可舉如氧原子等，就有機化合物則可列舉烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
形成本發明之黏著劑層A、黏著劑層B的黏著劑可含有多官能性單體作為交聯劑。多官能性單體係至少具有2個具(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基的單體，可列舉與形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中所列舉之相同物。
作為交聯劑之多官能性單體可單獨使用1種或可將2種以上混合使用，惟以整體含量而言，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，在0.001~5重量份之範圍內含有前述交聯劑(多官能性單體)為宜。前述交聯劑(多官能性單體)之含量含有0.005~3重量份為宜，且較宜含有0.01~1重量份。
摻混有前述交聯劑(多官能性單體)之黏著劑中可摻混光聚合引發劑。光聚合引發劑可列舉與調製(甲基) 丙烯酸系聚合物時所使用之相同物。光聚合引發劑之使用量無特別限制，通常相對於前述交聯劑(多官能性單體)100重量份為0.01~5重量份，宜為0.05~3重量份，較宜為0.05~1.5重量份，更宜為0.1~1重量份。摻混有前述交聯劑(多官能性單體)之黏著劑可藉由照射活性能量線而硬化形成黏著劑層(活性能量線硬化型黏著劑層)。
基於高低差吸收性，前述黏著劑層A之多重黏著劑層宜至少有一黏著劑層為藉由照射活性能量線而形成之活性能量線硬化型黏著劑層。尤以第1黏著劑層(a)及/或第2黏著劑層(b)為活性能量線硬化型黏著劑層為宜。
為了提升接著力，可使形成本發明之黏著劑層A、黏著劑層B的黏著劑含有(甲基)丙烯酸系寡聚物。(甲基)丙烯酸系寡聚物宜使用相較於本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物Tg較高且重量平均分子量較小的聚合物。此種(甲基)丙烯酸系寡聚物可作為賦黏樹脂發揮功效，且具有不使介電係數上升即可增加接著力的優點。
前述(甲基)丙烯酸系寡聚物之Tg約0℃以上且300℃以下，宜為約20℃以上且300℃以下，較宜為約40℃以上且300℃以下。Tg若低於約0℃，則黏著劑層在室溫以上的凝聚力降低，會有保持特性或高溫下之接著性下降之情況。至於，(甲基)丙烯酸系寡聚物之Tg與(甲基)丙烯酸系聚合物之Tg相同，皆係以Fox算式計算而得之理論值。
(甲基)丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量為1000以上且低於30000，宜為1500以上且低於20000，較宜 為2000以上且低於10000。重量平均分子量若在30000以上，會有無法充分獲得接著力之提升效果的情況。此外，若低於1000，因為變成低分子量，所以可能會引起接著力或保持特性降低。在本發明中，(甲基)丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量的測定可利用GPC法以聚苯乙烯換算求得。具體上係以東曹股份有限公司製HPLC8020，使用TSKgelGMH-H(20)×2管作為管柱，以四氫呋喃溶劑在流速約0.5ml/分的條件下進行測定。
構成前述(甲基)丙烯酸系寡聚物之單體可列舉如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷酯、(甲基)丙烯酸十二烷酯等之(甲基)丙烯酸烷基酯；(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、二環戊烷(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸與脂環族醇之酯；(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯等之(甲基)丙烯酸芳基酯；得自萜化合物衍生物醇之(甲基)丙烯酸酯等。
這種(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或可將2種以上組合使用。
(甲基)丙烯酸系寡聚物以含有相對下具有龐大結構之丙烯酸系單體為宜，這種丙烯酸系單體代表上如：像(甲基)丙烯酸異丁酯或(甲基)丙烯酸三級丁酯等之烷基具有分支結構的(甲基)丙烯酸烷基酯；像(甲基)丙烯酸環己酯或(甲基)丙烯酸異莰酯二環戊烷(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸與脂環式醇之酯；以及像(甲基)丙烯酸苯酯或(甲基)丙烯酸苯甲酯等之(甲基)丙烯酸芳基酯等具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯。使(甲基)丙烯酸系寡聚物具有這種龐大結構，可進一步提升黏著劑層之接著性。在結構龐大的觀點下，具有環狀結構者效果尤高，含有多數環者效果更高。此外，在合成(甲基)丙烯酸系寡聚物時或製作黏著劑層時若採用紫外線便不易阻礙聚合，在此觀點下以具有飽和鍵者為宜，且適合以烷基具有分支結構之(甲基)丙烯酸烷基酯或是與脂環式醇之酯作為構成(甲基)丙烯酸系寡聚物之單體使用。
基於此點，適宜的(甲基)丙烯酸系寡聚物可列舉如：甲基丙烯酸環己酯(CHMA)與甲基丙烯酸異丁酯(IBMA)之共聚物、甲基丙烯酸環己酯(CHMA)與甲基丙烯酸異莰酯(IBXMA)之共聚物、甲基丙烯酸環己酯(CHMA)與丙烯醯基嗎福林(ACMO)之共聚物、甲基丙烯酸環己酯(CHMA)與二乙基丙烯醯胺(DEAA)之共聚物、1-金剛烷基丙烯酸酯(ADA)與甲基丙烯酸甲酯(MMA)之共聚物、二環戊烷甲基丙烯酸酯(DCPMA)與甲基丙烯酸異莰酯(IBXMA)之共聚物、二環戊烷甲基丙烯酸酯(DCPMA)、甲基丙烯酸 環己酯(CHMA)、甲基丙烯酸異莰酯(IBXMA)、丙烯酸異莰酯(IBXA)、環戊烷甲基丙烯酸酯(DCPMA)與甲基丙烯酸甲酯(MMA)之共聚物、二環戊烷丙烯酸酯(DCPA)、1-金剛烷基甲基丙烯酸酯(ADMA)、1-金剛烷基丙烯酸酯(ADA)之各均聚物等。
尤以含有CHMA作為主成分之寡聚物為宜。
在形成本發明之黏著劑層A、黏著劑B之黏著劑使用前述(甲基)丙烯酸系寡聚物時，其含量並無特別限定，惟相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份在70重量份以下為宜，較宜為1~70重量份，更宜為2~50重量份，又更宜為3~40重量份。(甲基)丙烯酸系寡聚物之添加量若超過70重量份，會有彈性係數變高、低溫下之接著性變差等不良狀況。另，若從接著力之提升效果來看，摻混1重量份以上之(甲基)丙烯酸系寡聚物即有效。
再者，在將黏著劑層應用於玻璃等親水性被附著體時，為了提高界面之耐水性，可使形成本發明之黏著劑層A、黏著劑層B的黏著劑中含有矽烷耦合劑。在本發明中，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，矽烷耦合劑之摻混量在1重量份以下為宜，較宜為0.01~1重量份，更宜為0.02~0.6重量份。矽烷耦合劑之摻混太多時，對於玻璃之接著力會增大而有不良的再剝離性；太少則耐久性降低，故不適宜。
適宜使用的矽烷耦合劑可列舉3-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧矽烷、3-環氧丙 氧基丙基甲基二乙氧矽烷、2-(3,4環氧環己基)乙基三甲氧矽烷等含環氧基之矽烷耦合劑；3-胺丙基三甲氧矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧矽烷、3-三乙氧矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙基胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧矽烷等含胺基之矽烷耦合劑；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷耦合劑；及3-異氰酸酯丙基三乙氧矽烷等含異氰酸酯基之矽烷耦合劑等。
再者，形成本發明之黏著劑層A、黏著劑層B的黏著劑中可含有其他的公知添加劑，例如可依使用用途適度添加聚丙二醇等聚伸烷基二醇之聚醚化合物、著色劑、顏料等粉體、染料、界面活性劑、可塑劑、賦黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機充填劑、金屬粉、粒狀、箔狀物等。另，亦可在可控制之範圍內採用添加還原劑之氧化還原系。
前述黏著劑層A、黏著劑層B例如可將前述黏著劑塗佈於單面保護偏光薄膜上後將聚合溶劑等乾燥除去而形成。前述形成材料之塗佈可適度地另外添加聚合溶劑以外之一種以上溶劑。
前述黏著劑之塗佈方法可採用各種方法。具體上，可舉如輥塗法、接觸輥塗(kiss-roll coating)法、凹版塗佈法、反向塗佈法、輥刷法、噴塗法、浸漬輥塗法、棒塗法、刮刀塗佈法、氣動刮刀塗佈法、簾幕式塗佈法、唇 塗法(lip coating)、利用模塗機等之擠壓塗佈法等方法。
前述加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更宜為50℃~180℃，尤宜為70℃~170℃。將加熱溫度設定在上述範圍內，可獲得具有優異的黏著特性之黏著劑層A或黏著劑層B。乾燥時間可適當採用適宜的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分，更宜為5秒~10分，尤宜為10秒~5分。
又，前述形成材料(黏著劑)為活性能量線硬化型黏著劑時，可藉由照射紫外線等活性能量線使其聚合來形成前述黏著劑層A、黏著劑層B。紫外線照射可使用高壓水銀燈、低壓水銀燈、金屬鹵素燈等。
又，前述黏著劑層A、黏著劑層B形成於支持體上以後便可轉印至單面保護偏光薄膜。前述支持體例如可使用經剝離處理的片材。經剝離處理的片材適合使用聚矽氧剝離襯墊。另，當前述黏著劑層A為多重黏著劑層時，可將經剝離處理之片材上依序形成有第1黏著劑層(a)、第2黏著劑層(b)等者貼合於單面保護偏光薄膜，或可將個別形成的第1黏著劑層(a)、第2黏著劑層(b)等以第1黏著劑層(a)作為最表面的方式依序貼合於單面保護偏光薄膜。
經剝離處理之片材上形成有黏著劑層A或黏著劑層B之黏著片材中前述黏著劑層A或黏著劑層B露出時，在供於實際使用前，可先以經剝離處理之片材(分隔件)保護黏著劑層A或黏著劑層B。
供於實際使用時，前述經剝離處理之片材會被剝離。
分隔件之構成材料可列舉如聚乙烯、聚丙烯、 聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物、發泡片材、金屬箔及該等之層合體等適宜的薄片材等，若基於表面平滑性優異的觀點，則適宜使用塑膠薄膜。
其塑膠薄膜只要是可保護前述黏著劑層A或黏著劑層B之薄膜即無特別限定，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸乙酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述分隔件以前述塑膠薄膜作為基材薄膜使用時，亦可因應需求以聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系之脫模劑及二氧化矽粉等實施脫模及防污處理，或可施行塗佈型、揉合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分隔件表面適度施行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可進一步提高從前述黏著劑層A、黏著劑層B剝離的剝離性。
聚矽氧系脫模層可列舉如加成反應型聚矽氧樹脂。舉例如信越化學工業製KS-774、KS-775、KS-778、KS-779H、KS-847H、KS-847T；Toshiba Silicones製TPR-6700、TPR-6710、TPR-6721；Dow Corning Toray製SD7220、SD7226等。聚矽氧系脫模層之塗佈量(乾燥後)為0.01~2g/m2，宜為0.01~1g/m2，更宜為0.01~0.5g/m2之範圍。
脫模層之形成例如可將上述材料以反向凹版塗佈法、棒塗法、模塗法等既有的公知塗佈方式塗佈於寡聚物防止層上後，以一般120~200℃左右施行熱處理使其硬化來進行。又，亦可因應需求併用熱處理與紫外線照射等活性能量線照射。
前述分隔件之厚度(含脫模層)通常為5~200μm左右。分隔件之厚度與其剝離力相關，因此宜採用與分隔件應對的厚度。為了剝離力之觀點及防止凹痕，前述分隔件SA之厚度皆以40μm以上為宜，更宜為50μm以上。較詳細來說，前述分隔件SA之厚度為40~130μm為宜，更宜為50~80μm。又，前述分隔件SB之厚度為10~80μm為宜，較宜為20~50μm，更宜為30~50μm，又更宜為30~40μm。又，在雙面附黏著劑層之偏光薄膜的構成中，從剝離力之觀點及防止凹痕之方面來看，前述分隔件之厚度以前述分隔件SA厚度50μm以上及分隔件SB厚度為30~50μm的組合尤佳。
另外，於前述單面保護偏光薄膜設置黏著劑層A及黏著劑層B時，可對單面保護偏光薄膜之透明保護薄膜施行易接著處理。易接著處理可列舉電暈處理、電漿處理、準分子處理、硬塗處理等。又，亦可對黏著劑層表面施行易接著處理。本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜若從剝離、抑制發泡的觀點來看，會積層前述黏著劑層A之單面保護偏光薄膜的透明保護薄膜有施行易接著處理為宜。
另，可將本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜調製成某部位具有抗靜電機能。抗靜電機能例如可藉由使單面保護偏光薄膜或黏著劑層中含有抗靜電劑或另外設置一抗靜電層而賦予雙面附黏著劑層之偏光薄膜。抗靜電層例如可採用下列方法來形成：使用含有聚噻吩等導電性高分子及黏結劑之組成物於單面保護偏光薄膜及黏著劑層之間形成一抗靜電層。
本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜在影像顯示裝置(例如液晶顯示裝置)中係被配置在最靠觀視側。所以，可大幅降低在觀視側之單面保護偏光薄膜與液晶面板之間設置抗靜電層(低表面電阻層)時可能會產生的消偏光或因雜質而產生亮點等光學特性降低等的問題，也不會損害設置在最靠觀視側之單面保護偏光薄膜的可靠性。如此一來，既可賦予抗靜電機能又不會損害影像顯示裝置之性能。
尤其，將偏光板上設置抗靜電層應用在內置(in-cell)型或表面(on-cell型)等內嵌觸控感測器之液晶顯示裝置時，可有效防止靜電所帶來的影像雜訊，可使內置(in-cell)型或表面(on-cell)型等內嵌觸控感測器之液晶顯示裝置高品質化。
要對形成本發明之黏著劑層A、黏著劑層B的黏著劑賦予抗靜電機能，除了基底聚合物以外，可使其含有離子性化合物作為抗靜電劑。就離子性化合物而言，可適當使用鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。鹼金屬鹽可 使用鹼金屬之有機鹽及無機鹽。另，本發明中所謂的「有機陽離子-陰離子鹽」為有機鹽，意指其陽離子部分係以有機物構成，陰離子部分可為有機物亦可為無機物。「有機陽離子-陰離子鹽」亦稱為離子性液體、離子性固體。
又，離子性化合物除了前述的鹼金屬鹽、有機陽離子-陰離子鹽以外，還可列舉氯化銨、氯化鋁、氯化銅、氯化亞鐵、氯化鐵、硫酸銨等無機鹽。該等離子性化合物可單獨使用或可將多數種併用。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，離子性化合物在形成本發明之黏著劑層A、黏著劑層B之黏著劑中所佔比率為0.0001~5重量份為宜。
前述離子性化合物低於0.0001重量份時，抗靜電性能的提升效果有時會不足。前述離子性化合物在0.01重量份以上為宜，更宜為0.1重量份以上。另一方面，前述離子性化合物若超過5重量份，耐久性有時會不足。前述離子性化合物在3重量份以下為宜，更宜為1重量份以下。前述離子性化合物之比率可採用前述上限值或下限值來設定適當範圍。
又，在本發明之雙面附黏著劑層之偏光薄膜中，可使比前述單面保護偏光薄膜之偏光件配置在更靠觀視側之構件至少有1個含有紫外線吸收劑。配置在觀視側之構件可列舉黏著劑層A、分隔件SA、透明保護薄膜。對前述構件摻混紫外線吸收劑在黏著劑層A為紫外線硬化型丙烯酸系黏著劑組成物時尤其有效。在利用紫外線照射之 聚合方法來形成具有紫外線吸收機能之黏著劑層時，也可藉由賦予紫外線吸收機能並將該黏著劑層用在影像顯示裝置上，來抑制包含液晶面板、有機EL元件、偏光件等的光學構件劣化。
紫外線吸收劑並無特別限定，可列舉三吖系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯基酮系紫外線吸收劑、氧二苯基酮系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑等，該等可單獨使用1種或可將2種以上組合使用。該等中又以三吖系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑為宜，身為選自於由1分子中具有2個以下羥基之三吖系紫外線吸收劑以及1分子中具有1個苯并三唑骨架之苯并三唑系紫外線吸收劑所構成群組中之至少1種紫外線吸收劑，對於用來形成紫外線硬化型丙烯酸系黏著劑組成物之單體的溶解性良好，且在波長380nm附近的紫外線吸收能力很高，所以尤為適宜。
1分子中具有2個以下羥基之三吖系紫外線吸收劑具體上可使用：2,4-雙-[{4-(4-乙基己基氧基)-4-羥}-苯基]-6-(4-甲氧苯基)-1,3,5-三吖(Tinosorb S、BASF製)、2,4-雙[2-羥-4-丁氧苯基]-6-(2,4-二丁氧苯基)-1,3,5-三吖(TINUVIN 460、BASF製)、2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三吖-2-基)-5-羥苯基與[(C10-C16(主要為C12-C13)烷基氧基)甲基]環氧乙烷之反應生成物(TINUVIN400、BASF製)、2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯 基)-1,3,5-三吖-2-基]-5-[3-(十二烷基氧基)-2-羥丙氧基]酚)、2-(2,4-二羥苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三吖與(2-乙基己基)-去水甘油酸酯之反應生成物(TINUVIN405、BASF製)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三吖-2-基)-5-[(己基)氧基]-酚(TINUVIN1577、BASF製)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三吖-2-基)-5-[2-(2-乙基己醯氧基)乙氧基]-酚(ADK STAB LA46、ADEKA製)、2-(2-羥-4-[1-辛基氧基羰基乙氧基]苯基)-4,6-雙(4-苯基苯基)-1,3,5-三吖(TINUVIN479、BASF公司製)等。
另，1分子中具有1個苯并三唑骨架之苯并三唑系紫外線吸收劑可使用：2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)酚(TINUVIN 928、BASF製)、2-(2-羥-5-三級丁基苯基)-2H-苯并三唑(TINUVIN PS、BASF製)、苯丙酸及3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-(1,1-二甲基乙基)-4-羥(C7-9側鏈及直鏈烷基)之酯化合物(TINUVIN384-2、BASF製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)酚(TINUVIN900、BASF製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)酚(TINUVIN928、BASF製)、甲基-3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-三級丁基-4-羥苯基)丙酸酯/聚乙二醇300之反應生成物(TINUVIN1130、BASF製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-對甲酚(TINUVIN P、BASF製)、2(2H-苯并三唑-2-基)-4-6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)酚(TINUVIN234、BASF製)、2-〔5-氯(2H)-苯并三唑-2-基〕-4- 甲基-6-(三級丁基)酚(TINUVIN326、BASF製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-二-三級戊基酚(TINUVIN328、BASF製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)酚(TINUVIN329、BASF製)、甲基3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-三級丁基-4-羥苯基)丙酸酯與聚乙二醇300之反應生成物(TINUVIN213、BASF製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-十二烷基-4-甲基酚(TINUVIN571、BASF製)、2-[2-羥-3-(3,4,5,6-四氫酞醯亞胺-甲基)-5-甲基苯基]苯并三唑(Sumisorb250、住友化學工業(股)製)等。
再者，前述二苯基酮系紫外線吸收劑(二苯基酮系化合物)、氧二苯基酮系紫外線吸收劑(氧二苯基酮系化合物)可列舉如2,4-二羥二苯基酮、2-羥-4-甲氧二苯基酮、2-羥-4-甲氧二苯基酮-5-硫酸(酐及三水合物)、2-羥-4-辛基氧基二苯基酮、4-十二烷基氧基-2-羥二苯基酮、4-苯甲基氧基-2-羥二苯基酮、2,2′,4,4′-四羥二苯基酮、2,2′-二羥-4,4-二甲氧二苯基酮等。
又，前述水楊酸酯系紫外線吸收劑(水楊酸酯系化合物)可列舉如苯基-2-丙烯醯氧基苯甲酸酯、苯基-2-丙烯醯氧基-3-甲基苯甲酸酯、苯基-2-丙烯醯氧基-4-甲基苯甲酸酯、苯基-2-丙烯醯氧基-5-甲基苯甲酸酯、苯基-2-丙烯醯氧基-3-甲氧苯甲酸酯、苯基-2-羥苯甲酸酯、苯基-2-羥-3-甲基苯甲酸酯、苯基-2-羥-4甲基苯甲酸酯、苯基-2-羥-5-甲基苯甲酸酯、苯基2-羥-3-甲氧苯甲酸酯、2,4-二-三級丁基苯基-3,5-二-三級丁基-4-羥苯甲酸酯 (TINUVIN120、BASF製)等。
前述氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑(氰基丙烯酸酯系化合物)可列舉如烷基-2-氰基丙烯酸酯、環烷基-2-氰基丙烯酸酯、烷氧基烷基-2-氰基丙烯酸酯、烯基-2-氰基丙烯酸酯、炔基-2-氰基丙烯酸酯等。
紫外線吸收劑以含在黏著劑層A中之態樣為宜。前述紫外線吸收劑可單獨使用或可將2種以上混合使用，以整體的含量來說，例如相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分100重量份，佔0.1~5重量份左右為宜，佔0.5~3重量份左右較佳。藉由將紫外線吸收劑之添加量設定在前述範圍內，可充分發揮黏著劑層之紫外線吸收機能，且不會阻礙紫外線聚合，故為適宜。
實施例
以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。至於，各例中之份及%皆為重量基準。實施例等之評估項目係以下述方式進行測定。
<製作偏光件(a-1)：厚5μm>
為了製作薄型偏光膜，首先，將非晶性聚對苯二甲酸乙二酯(PET)基材上製膜有一厚9μm之聚乙烯醇(PVA)層的積層體，在延伸溫度130℃下利用空中輔助延伸生成延伸積層體，接著將延伸積層體利用染色生成著色積層體後，再將著色積層體在延伸溫度65℃下利用硼酸水中延伸以總延伸倍率為5.94倍的方式生成出一含有與非晶性PET基材一體延伸之厚4μm之PVA層的光學薄膜積層體。利用這種 2段延伸，可構成一製膜於非晶性PET基材上之PVA層的PVA分子呈高維配向，且利用染色而吸附之碘以多碘離子錯合物的形式朝同一方向高維配向之高機能偏光膜，而生成出一含有厚5μm之PVA層的光學薄膜積層體。
<製作偏光件(a-2)：厚12μm>
將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%且厚30μm之聚乙烯醇薄膜浸漬於30℃之溫水中，使其膨潤並同時進行單軸延伸使PVA系樹脂薄膜之長度成為原長度之2.0倍。接著，浸漬於0.3重量%(重量比：碘/碘化鉀=0.5/8)之30℃之碘溶液中染色並同時進行單軸延伸使PVA系樹脂薄膜之長度成為原長度之3.0倍。然後在6硼酸4重量%、碘化鉀5重量%之水溶液中進行延伸令PVA系樹脂薄膜之長度成為原長度之6倍。再來，在碘化鉀3重量%之水溶液(碘浸滲浴)中進行碘離子浸滲處理後，以60℃之烘箱乾燥4分鐘而獲得一厚12μm之偏光件。
<透明保護薄膜>
薄膜b-1：使用一已施行電暈處理之厚20μm且具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸樹脂薄膜。
薄膜b-2：使用一已施行電暈處理之厚13μm之環狀聚烯烴薄膜(日本ZEON公司製：ZEONOR)。
<製作單面保護偏光薄膜>
於上述偏光件(a-1)之上述光學薄膜積層體的偏光膜(厚5μm)表面上以接著劑層之厚度為0.1μm的方式塗佈聚乙烯醇系接著劑，並於貼合表2所示透明保護薄膜後，在 50℃下進行5分鐘的乾燥。接著將非晶性PET基材剝離，製造出一使用薄型偏光膜之單面保護偏光薄膜。
但，在實施例8係使用一附機能層之單面保護偏光薄，其係於上述單面保護偏光薄膜之偏光膜(偏光件)之面(未設置透明保護薄膜之偏光件面)上，以乾燥後之厚度為2μm的方式以線棒塗佈機塗佈已調整成25℃之聚乙烯醇系形成材後，在60℃下熱風乾燥1分鐘而製作。
<製作單面保護偏光薄膜>
另一方面，為了替代上述光學薄膜積層體之偏光膜(厚5μm)而使用上述偏光件(厚12μm：a-2)時，於該偏光件之單面上以接著劑層厚度成為0.1μm的方式塗佈上述聚乙烯醇系接著劑，並於貼合表2所示透明保護薄膜後，在50℃下進行5分鐘乾燥而製造出一單面保護偏光薄膜。
<製作黏著劑層A>
黏著劑層A係以下述方式按表1記載所調製。
製造例1(A-1)
<調製預聚物>
於具備溫度計、攪拌機、還流冷卻管及氮氣導入管之分離式燒瓶內，作為單體成分摻合了丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)40份、丙烯酸異硬脂酯40份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)18份及丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)2份、光聚合引發劑(商品名「IRGACURE 184」，BASF公司製)0.2份後，照射紫外線直至黏度(計測條件：BH黏度計No.轉子，10rpm，測定溫度30℃)成為約20Pa．s，而獲得上述單體成分之一部 分完成聚合的預聚物組成物。
<調製丙烯酸系黏著劑>
接著，於該預聚物組成物100份添加混合己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.2份、矽烷耦合劑(商品名「KBM-403」，信越化學工業股份有限公司製)0.3份作為多官能性單體，而獲得紫外線硬化型丙烯酸系黏著劑。
製造例2、3、5(A-2、A-3、A-5)
如表1所示變更製造例1中<調製預聚物>之單體成分、光聚合引發劑之使用量，以及變更<調製丙烯酸系黏著劑>之多官能性單體之種類、使用量，除此以外以與製造例1同樣的方式調製預聚物而獲得紫外線硬化型丙烯酸系黏著劑。另，在製造例3調製紫外線硬化型丙烯酸系黏著劑時係摻合1份之Tinosorb S。
<形成黏著劑層A>
於單面經聚矽氧剝離處理之厚50μm的聚酯薄膜(剝離襯墊)之剝離處理面上塗佈上述製造例1~3、5中所製得之紫外線硬化型丙烯酸系黏著劑(A-1、2、3、5)，形成如表2所示厚度之塗佈層(黏著劑層)。接著，於經塗佈之黏著劑層表面以該薄膜之剝離處理面成為塗佈層側(黏著劑層)的方式貼合單面經聚矽氧剝離處理之厚75μm的聚酯薄膜(剝離襯墊)。藉此，使單體成分之塗佈層與氧氣隔絕。利用業經位置調節使照燈正下方之照射面的照射強度成為5mW/cm2的不可見光燈，對著具有以上述方法製得之塗佈層的片材從厚50μm之聚酯薄膜之面上進行紫外線照射直 至累積光量成為3000mJ/cm2為止，以使塗佈層硬化(第1硬化)而形成黏著劑層A。藉此製作出一黏著劑層A雙面具有剝離襯墊的黏著片材。
製造例4(A-4)
<調製丙烯酸系聚合物>
於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之4口燒瓶內投入丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)70份、N-乙烯吡咯啶酮(NVP)15份及丙烯酸2-羥乙酯(2HEA)15份，並將作為熱聚合引發劑之2,2’-偶氮雙異丁腈(AIBN)0.3份與乙酸乙酯150份一起投入。接著，在23℃下於氮氣環境下攪拌1小時後，使其在58℃下反應4小時，接著使其在70℃下反應2小時而調製出丙烯酸系聚合物溶液。
接下來於上述製得之丙烯酸系聚合物溶液中相對於該聚合物之固形成分100份添加作為多官能性單體之三羥甲丙烷三丙烯酸酯0.2份、光聚合引發劑(商品名：IRGACURE 184、BASF公司製)0.2份、作為矽烷耦合劑之3-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷(商品名：KBM403、信越化學工業(股)製)0.3重量份及作為交聯劑之二甲苯二異氰酸酯之三羥甲丙烷加成物(商品名：TAKENATE D110N、三井化學(股)製)0.4份後，將該等均勻混合，調製出紫外線硬化型丙烯酸系黏著劑。
製造例6(A-6)
如表1所示變更製造例4中<調製丙烯酸系黏著劑>之交聯劑之使用量，除此以外以與製造例4同樣的方式調製丙 烯酸系聚合物而製得紫外線硬化型丙烯酸系黏著劑。
<形成黏著劑層A>
於單面經聚矽氧剝離處理之厚50μm的聚酯薄膜(剝離襯墊)之剝離處理面上塗佈上述製造例4、6中所製得之紫外線硬化型丙烯酸系黏著劑(A-4、6)之溶液，在100℃下加熱3分鐘(第1硬化)而形成表2所示厚度之黏著劑層。接著，於經塗佈之黏著劑層表面以該薄膜之剝離處理面成為塗佈層側的方式貼合單面經聚矽氧剝離處理之厚75μm的聚酯薄膜(剝離襯墊)，製出黏著劑層A雙面具有剝離襯墊之黏著片材。
[表1]
表1中，下列記號分別表示：2EHA：丙烯酸2-乙基己酯；ISTA：丙烯酸異硬脂酯；NVP：N--2-乙烯吡咯啶酮；2HBA：丙烯酸2-羥丁酯；HDAA：己二醇二丙烯酸酯；TMPTA：三羥甲丙烷三丙烯酸酯；KBM-403：矽烷耦合劑(商品名「KBM-403」，信越化學工業股份有限公司製)；TAKENATE D110N：三羥甲丙烷伸茬基二異氰酸酯(三井化學(股)製「TAKENATE D110N」)；IRGACURE 184：光聚合引發劑(商品名「IRGACURE 184」，BASF公司製)；AIBN：2,2’-偶氮雙異丁腈；Tinosorb S：2,4-雙-[{4-(4-乙基己基氧基)-4-羥}-苯基]-6-(4-甲氧苯基)-1,3,5-三吖(BASF公司製)。
<製作黏著劑層B>
於具備溫度計、攪拌機、還流冷卻管及氮氣導入管之分離式燒瓶投入作為單體成分之丙烯酸丁酯(BA)99份、丙烯酸4羥丁酯(4HBA)1份、作為聚合引發劑之偶氮雙異丁腈0.2份及令固形成分成為20%之作為聚合溶劑之乙酸乙酯後，倒入氮氣，一邊攪拌一邊進行約1小時的氮取代。其後，將燒瓶加熱至60℃使其反應7小時而獲得重量平均分子量(Mw)110萬之丙烯酸系聚合物。於上述丙烯酸系聚合 物溶液(固形成分100份)添加作為異氰酸酯系交聯劑之三羥甲丙烷甲伸苯基二異氰酸酯(Nippon Polyurethane Industry(股)製「Coronate L」)0.8份、矽烷耦合劑(信越化學(股)製「KBM-403」)0.1份，來調製黏著劑組成物(溶液)。將前述調製出的黏著劑溶液以乾燥後之厚度為20μm的方式塗佈於具有厚38μm或50μm之聚對苯二甲酸乙二酯系剝離襯墊上，在常壓下以60℃加熱乾燥1分鐘及以150℃加熱乾燥1分鐘後，製作出黏著劑層。將上述黏著劑層作為黏著劑層B使用。
實施例1
<製作雙面附黏著劑層之偏光薄膜>
將黏著劑層B轉印至以表2所示構成製作之單面保護偏光薄膜(尺寸：縱150mm×橫70mm)之單面(偏光件側)上。厚38μm之剝離襯墊係作為分隔件殘留。
另外，如表2所示將厚25μm之黏著劑層(A-1)轉印至單面保護偏光薄膜之另一單面(透明保護薄膜側)上。在轉印黏著劑層(A-1)時，有將黏著片材之其中一剝離襯墊(厚50μm)剝去。另一個剝離襯墊(厚75μm)則作為分隔件殘留。
此外，在轉印黏著劑層A時，為了使從前述單面保護偏光薄膜部起至深入黏著劑層A之最內側之部位的距離(凹入量)成為50μm，係利用加壓使黏著劑層A成為從單面保護偏光薄膜端部滲出之狀態後，將滲出部分裁切並加工來控制。
實施例2~17、比較例1~3
除了將實施例1中之單面保護偏光薄膜之種類、黏著劑層A之種類或厚度、距離X、黏著劑層A之分隔件SA的厚度、在單面保護偏光薄膜中對設置黏著劑層A之面實施之易接著層的有無及種類、黏著劑層B之分隔件SB的厚度如表2所示予以變更以外，進行與實施例1相同的操作，而製出雙面附黏著劑層之偏光薄膜。另，在實施例14係對單面保護偏光薄膜之透明保護薄膜面施行電暈處理後，才轉印黏著劑層A。
針對上述製造例、實施例及比較例中所得黏著劑層A、黏著劑層B及雙面附黏著劑層之偏光薄膜(測定試樣：附分隔件(剝離襯墊))進行以下評估。評估結果顯示於表1或表2。
<測定剪切儲存彈性模數>
23℃下之剪切儲存彈性模數係利用動態黏彈性測定求得。使用動態黏彈性測定裝置(裝置名「ARES」、(TA Instruments公司製)，在頻率1Hz之條件下，在-20~100℃之溫度範圍且升溫速度5℃/分下測定上述測定試樣之黏著劑層A、黏著劑層B，算出在23℃下的剪切儲存彈性模數。
另，針對製造例4(A-4)、製造例6(A-6)中所得黏著劑層A，將其貼合於覆蓋玻璃後，隔著覆蓋玻璃進行UV照射(3000mJ/m2)，並且也對已提升黏著劑層A之交聯度後的黏著劑層A′進行測定。針對該黏著劑層A、黏著劑層A′，除了將上述方法中之測定溫度改成50℃以外，以同樣 方法測定剪切儲存彈性模數。結果顯示於表1。
<測定分隔件的剝離力>
將實施例、比較例中所得附分隔件(剝離襯墊)之測定試樣裁切成寬50mm、長100mm以後，以抗拉試驗機在剝離角度180°、剝離速度300mm/min的條件下測出將分隔件(剝離襯墊)從試樣剝去時的剝離力(N/50mm)。分隔件SB(厚38μm、50μm)之剝離力為0.10N/50mm。
分隔件SA(厚50μm、75μm)之剝離力則顯示於表1。
<捲曲>
針對已將雙面附黏著劑層之偏光薄膜裁切成70mm×40mm之矩形物進行。捲曲量之測定係針對前述裁切瞬後之矩形物(初始)，以及將前述矩形物投入25℃、98%RH之環境試驗室內28小時後取出，再以雙面附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層A側作為上側，在25℃、50%RH之環境下於試驗台上保管2小時後者進行。
雙面附黏著劑層之偏光薄膜之捲曲量測定係以捲曲呈凸狀之面朝下側的方式置於水平面上來測定。另，捲曲量之測定係以符號「+」表示將雙面附黏著劑層之偏光薄膜的分隔件SB側朝下側的方式置於水平面上所測得的捲曲量，並以符號「-」表示將前述分隔件SA側朝下側的方式置於水平面上所測得的捲曲量。捲曲量係前述矩形物之四方形之4點中離水平面最長之該點的距離(mm)。
又，前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜的捲曲量測定係投入前述環境試驗室並在試驗台上作保管。對已剝 離分隔件SB(黏著劑層B側)者亦如是進行。
前述捲曲量從作業性、成品性的觀點來看，控制在-8mm~+8mm為宜，較宜為+5mm~+5mm，更宜為+2mm~+2mm。又更宜為+1mm~+1mm。
<耐久性：剝離、發泡>
將上述各例中所製得之雙面附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑B之分隔件SB(剝離襯墊)剝去後，使用貼合機貼黏於覆蓋玻璃：厚0.7mm之無鹼玻璃(康寧公司製、1737)。接著，在50℃且0.5MPa之條件下進行15分鐘之高壓釜處理，使上述雙面附黏著劑層之偏光薄膜完全密接於無鹼玻璃。接下來，剝去分隔件SA(剝離襯墊)，以黏著劑層A與玻璃板(松浪硝子工業股份有限公司製、長100mm、寬50mm、厚0.7mm)相接的方式使用真空貼合裝置在真空度100Pa、面壓0.2MPa之貼合壓力下進行貼合。從而獲得具有玻璃/雙面附黏著劑層之偏光薄膜/玻璃之構成的評估用試樣。針對經過該處理之試樣在85℃之氣體環境下施行240小時處理後(加熱試驗)，又在60℃/95%RH之各氣體環境下施行240小時處理(加濕試驗)，然後以1循環為1小時之條件下將85℃與-40℃之環境實施100循環後(熱震試驗：HS試驗)，以下述基準目視評估單面保護偏光薄膜與玻璃之間的外觀。
(評估基準)
◎：使用20倍放大鏡進行確認的結果，未因剝離、發泡導致外觀變差。
○：以目視確認的結果，未因剝離、發泡導致外觀變差。
×：以目視確認的結果，有因剝離、發泡導致外觀變差。
另，在比較例2、3不具黏著劑層A，所以無評估結果。
<耐久性：UV測試>
將上述各例中所得雙面附黏著劑層之偏光薄膜之兩面的分隔件SA及SB剝離後，將兩面的黏著劑層貼合於玻璃(商品名「S200200」、厚度1.3mm×45mm×50mm、松浪硝子工業(股)公司製)，然後在氣壓0.5MPa、溫度50℃之條件下實施15分鐘的高壓釜處理並以該處理物作為試樣。
分別測出該試樣之透射率(初始)以及針對該試樣在環境溫度(60~65℃)且環境濕度(50%RH)之條件下利用氙氣燈照射照度(500W/cm2：300~700nm)之紫外線100小時後之透射率(可靠性試驗後)後，求出前述透射率之差(ΔT)並以下述基準評估。
透射率之測定係使用紫外可視近紅外分光光度計(製品名「V7100」，日本分光股份有限公司製)。
ΔT=透射率(初始)-透射率(可靠性試驗後)
○：ΔT為3%以下。
△：ΔT超過3%且在5%以下。
×：ΔT超過5%。
<高低差吸收性之評估方法>
從製造例中所調製之各黏著劑層另外調製表2所示黏著劑層A，製作測定試樣。將前述測定試樣裁切成寬50mm、長100mm後，以手墨輥將黏著劑層A側貼合於厚0.7mm之無鹼玻璃(康寧公司製、1737)。
接著從已貼合於無鹼玻璃之上述測定試樣剝去剝離襯墊。將帶有印刷高低差之玻璃板以該玻璃板之施有印刷高低差之面與前述玻璃板上之黏著劑層A相接的方式，使用真空貼合裝置，在真空度100Pa、面壓0.22MPa之貼合壓力下予以貼合。從而獲得具有玻璃/黏著劑層A/帶有印刷高低差之玻璃板之構成的評估用試樣。
另，上述帶有印刷高低差之玻璃板係使用玻璃板(松浪硝子工業股份有限公司製、長100mm、寬50mm、厚0.7mm)之其中一面在印刷部分之厚度有施行(印刷高低差之高度)40μm之印刷的玻璃板。
表示高低差吸收性之指標的(高低差/黏著劑層厚度)×100(%)分別得50%、80%。
接著，將評估用試樣投入高壓釜內，在壓力5atm、溫度50℃之條件下進行高壓釜處理15分鐘。高壓釜處理後取出評估用試樣，並以目視觀察黏著劑層與帶有印刷高低差之玻璃板的貼著狀態，測定殘存氣泡的數量。
另，在比較例2、3不具黏著劑層A，所以無評估結果。
<重工性>
針對上述各例所製得之雙面附黏著劑層之偏光薄膜， 以長邊作為吸收軸的方式裁切成140mm×80mm後，剝去黏著劑層B(觀視側之相反側)之分隔件SB(剝離襯墊)，並使用貼合機貼著於厚0.7mm之無鹼玻璃(康寧公司製、1737)。接著在50℃、5氣壓之條件下進行15分鐘的高壓釜處理並將該處理物作為試樣。針對該試樣，以90℃之剝離角度從其中一隅角朝向對角線上之隅角在300mm/分之速度下進行剝離。顯示5個試樣的剝離成功率。
<端部外觀>
○：對雙面附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層A側進行製造(加工)後，在30℃下經過24小時後黏著劑沒有從偏光薄膜端部滲出。
×：對雙面附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層A進行製造(加工)後，在30℃下經過24小時後黏著劑有從偏光薄膜端部滲出。
[表2]
1‧‧‧偏光薄膜
1a‧‧‧偏光件
1b‧‧‧透明保護薄膜
1c‧‧‧機能層
A‧‧‧黏著劑層A(觀視側)
B‧‧‧黏著劑層B(觀視側之相反側)
SA‧‧‧黏著劑層A(觀視側)之分隔件
SB‧‧‧黏著劑層B(觀視側之相反側)之分隔件

Claims (14)

  1. 一種雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其特徵在於：具有設於影像顯示裝置中最靠觀視側之偏光薄膜以及配置在該偏光薄膜之觀視側的黏著劑層A及配置在前述黏著劑層A之相反側的黏著劑層B，且於前述黏著劑層A上設有分隔件SA，於前述黏著劑層B上設有分隔件SB；並且，前述偏光薄膜係一僅於厚度15μm以下之偏光件單側具有透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜，且於前述偏光件之側配置有黏著劑層B；前述黏著劑層A之厚度為25μm以上，前述黏著劑層B之厚度為25μm以下。
  2. 如請求項1之雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層B係直接貼合於前述單面保護偏光薄膜之偏光件上。
  3. 如請求項1之雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層B係隔著15μ μm以下之機能層貼合於前述單面保護偏光薄膜之偏光件上。
  4. 如請求項1至3中任一項之雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層A在23℃下之儲存彈性模數為0.05MPa以上。
  5. 如請求項1至4中任一項之雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層A之端部至少有一部分比前述單面保護偏光薄膜面的端邊位於更內側。
  6. 如請求項1至5中任一項之雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述分隔件SA之剝離力比前述分隔件SB之剝離力高。
  7. 如請求項1至6中任一項之雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述分隔件SA之厚度為40μm以上，且分隔件剝離力為0.1N/50mm以上。
  8. 如請求項1至7中任一項之雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其中要積層前述黏著劑層A之前述單面保護偏光薄膜的透明保護薄膜業經易接著處理。
  9. 如請求項1至8中任一項之雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層A及前述黏著劑層B皆由以(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物的丙烯酸系黏著劑形成，該(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元；前述黏著劑層A之(甲基)丙烯酸系聚合物含有30重量%以上之丙烯酸2-乙基己酯作為單體單元；前述黏著劑層B之(甲基)丙烯酸系聚合物則含有最多的丙烯酸丁酯作為單體單元。
  10. 如請求項1至9中任一項之雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層A及前述黏著劑層B皆由以(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物的丙烯酸系黏著劑形成，該(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元；前述黏著劑層A及前述黏著劑層B之(甲基)丙烯酸 系聚合物中之至少一者含有(甲基)丙烯酸及環狀含氮單體中之至少一種作為單體單元。
  11. 如請求項1至10中任一項之雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層A的儲存彈性模數會因照射活性能量線而變大。
  12. 如請求項1至11中任一項之雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層A含有紫外線吸收劑。
  13. 一種影像顯示裝置，具有至少1片雙面附黏著劑層之偏光薄膜，其特徵在於：設於影像顯示裝置中最靠觀視側之雙面附黏著劑層之偏光薄膜係如請求項1至12中任一項之雙面附黏著劑層之偏光薄膜；並且，前述雙面附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層A係配置在觀視側，黏著劑層B則配置在顯示部側。
  14. 如請求項13之影像顯示裝置，其應用於內置(in-cell)型或表面(on-cell)型的內嵌觸控感測器之液晶顯示裝置。
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