TW201535023A - 光學異向性薄片 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種光學異向性薄片，是將基材和液晶硬化膜層疊而得的光學異向性薄片，基材的1μm2視野中的表面粗糙度為1.0nm以下，基材的水接觸角為70度以上。

Description

光學異向性薄片
本發明涉及一種光學異向性薄片。
在平板顯示裝置(FPD)中，使用包含偏光板、相位差板等光學膜的構件。作為此種光學膜，已知有包含由聚合性液晶形成的液晶硬化膜的光學膜。在日本特表2010-537955號公報中，記載有包含顯示出逆波長分散性的液晶硬化膜的光學膜。
以往的光學膜進行液晶硬化膜的轉印時，存在如下問題，在液晶硬化膜上產生剝離痕等缺陷。
本發明包含以下的方式。
[1]一種光學異向性薄片，是將基材和液晶硬化膜層疊而得的光學異向性薄片，其中，基材的1μm2視野中的表面粗糙度為1.0nm以下，基材的水接觸角為70度以上。
[2]如[1]所記載的光學異向性薄片，其中，基材含有聚對苯二甲酸乙二酯。
[3]如[1]或[2]所記載的光學異向性薄片，其中，在基材與液晶硬化膜之間具有配向膜。
[4]如[1]至[3]中任一項所記載的光學異向性薄片，其中，液晶硬化膜滿足下述式(1)及(2)。
Re(450)/Re(550)≦1.00 (1)
1.00≦Re(650)/Re(550) (2)(Re(450)、Re(550)、Re(650)分別表示對於波長450nm、550nm、650nm的光的正面相位差值。)
[5]如[1]至[4]所任一項記載的光學異向性薄片，其中，液晶硬化膜的厚度為0.5至5μm。
[6]一種層疊體，藉由在[1]至[5]中任一項所記載的光學異向性薄片的液晶硬化膜表面形成黏接劑層並在其上層疊被轉印物後，除去前述光學異向性薄片的基材而得到者。
[7]一種顯示裝置，其具備[6]所記載的層疊體。
本發明的光學異向性薄片使得包含液晶硬化膜的光學異向性膜的轉印變得容易，提供缺陷少的光學異向性膜。
10‧‧‧液晶顯示裝置
12a、12b‧‧‧偏光膜
13a、13b‧‧‧相位差膜
14a、14b‧‧‧基材
15‧‧‧濾色器
16‧‧‧透明電極
17‧‧‧液晶層
18‧‧‧層間絕緣膜
19‧‧‧背光燈單元
20‧‧‧黑矩陣
21‧‧‧薄膜電晶體
22‧‧‧圖元電極
23‧‧‧墊片
30‧‧‧EL顯示裝置
31‧‧‧圓偏光板
32‧‧‧基板
33‧‧‧層間絕緣膜
34‧‧‧圖元電極
35‧‧‧發光層
36‧‧‧陰極電極
37‧‧‧密封層
38‧‧‧薄膜電晶體
39‧‧‧加強筋
第1圖是包含液晶硬化膜的液晶顯示裝置的示意圖。
第2圖(a)及(b)是包含具有液晶硬化膜的圓偏光板的有機EL顯示裝置的示意圖。
[光學異向性薄片]
本實施方式的光學異向性薄片層疊有基材和液晶硬化膜，基材的1μm2視野中的表面粗糙度為1.0nm以下，基 材的水接觸角為70度以上。
<液晶硬化膜>
液晶硬化膜通常是藉由在基材上或形成於基材上的配向膜上塗布含有聚合性液晶化合物的組成物(以下有時稱作液晶硬化膜形成用組成物)，並將聚合性液晶化合物聚合而得到。
液晶硬化膜是在使聚合性液晶化合物配向 的狀態下硬化而得的厚度為5μm以下的膜，較宜為在聚合性液晶化合物相對於基材面內沿水平方向配向的狀態下硬化而得的膜。
液晶硬化膜的厚度較宜為0.5至5μm的範 圍，更宜為1至3μm。液晶硬化膜的厚度可以利用干涉膜厚計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計測定。
液晶硬化膜相對於波長λ nm的光的正面相 位差值Re(λ)較宜為滿足式(1)及式(2)，更宜為滿足式(1)、式(2)及式(3)。
Re(450)/Re(550)≦1.00 (1)
1.00≦Re(650)/Re(550) (2)
100<Re(550)<150 (3)式中，Re(450)、Re(550)、Re(650)分別表示波長450nm、550nm、650nm時的正面相位差值。
液晶硬化膜的正面相位差值可以利用液晶硬化膜的厚度來調整。由於正面相位差值由式(50)決定，因此為了獲得所需的正面相位差值(Re(λ))，只要調整 △n(λ)和膜厚d即可。
Re(λ)=d×△n(λ) (50)式中，Re(λ)表示波長λ nm下的正面相位差值，d表示膜厚，△n(λ)表示波長λ nm下的雙折射率。
雙折射率△n(λ)可以藉由測定正面相位差值，並除以液晶硬化膜的厚度而得到。在實施例中示出具體的測定方法，而此時藉由測定在像玻璃基板那樣在基材本身沒有面內相位差這樣的基材上製膜而得的材料，就可以測定實質的液晶硬化膜的特性。
所謂聚合性液晶化合物，是具有聚合性基、並且具有液晶性的化合物。聚合性基是指參與聚合反應的基，較宜為光聚合性基。此處，所謂光聚合性基，是指可以利用從光聚合引發劑中產生的活性自由基、酸等參與聚合反應的基。
作為聚合性基，可以舉出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基等。其中，較宜為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基，更宜為丙烯醯氧基。液晶性既可以是熱致性液晶也可以是溶致液晶，既可以是熱致液晶中的向列型液晶也可以是近晶型液晶。從製造的容易度的觀點考慮，較宜為熱致性的向列型液晶。
<聚合性液晶化合物>
作為聚合性液晶化合物，可以舉出以式(A)表示的化合物(以下有時稱作化合物(A))等。聚合性液晶化合物既可以 單獨地使用，也可以組合使用。
式中，X1表示氧原子、硫原子或-NR1-。R1表示氫原子或碳原子數1至4的烷基。
Y1表示可以具有取代基的碳原子數6至12的1價的芳香族烴基或可以具有取代基的碳原子數3至12的1價的芳香族雜環式基。
Q3及Q4各自獨立地表示氫原子、可以具有取代基的碳原子數1至20的1價的脂肪族烴基、碳原子數3至20的1價的脂環式烴基、可以具有取代基的碳原子數6至20的1價的芳香族烴基、鹵素原子、氰基、硝基、-NR2R3或-SR2，或者Q3與Q4相互鍵結，它們與所鍵結的碳原子一起形成芳香環或芳香族雜環。R2及R3各自獨立地表示氫原子或碳原子數1至6的烷基。
D1及D2各自獨立地表示單鍵、-C(=O)-O-、-C(=S)-O-、-CR4R5-、-CR4R5-CR6R7-、-O-CR4R5-、-CR4R5-O-CR6R7-、-CO-O-CR4R5-、-O-CO-CR4R5-、-CR4R5-O-CO-CR6R7-、-CR4R5-CO-O-CR6R7-、-NR4-CR5R6-或-CO-NR4-。
R4、R5、R6及R7各自獨立地表示氫原子、氟原子或碳原子數1至4的烷基。
G1及G2各自獨立地表示碳原子數5至8的2價的脂環式烴基，可以將構成該脂環式烴基的亞甲基置換為氧原子、硫原子或-NH-，可以將構成該脂環式烴基的次甲基置換為三級氮原子。
L1及L2各自獨立地表示1價的有機基，L1及L2中的至少一個具有聚合性基。
化合物(A)中的L1較宜為以式(A1)表示的基，L2較宜為以式(A2)表示的基。
P1-F1-(B1-A1)k-E1- (A1)
P2-F2-(B2-A2)l-E2- (A2)式中，B1、B2、E1及E2各自獨立地表示-CR4R5-、-CH2-CH2-、-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CS-O-、-O-CS-O-、-CO-NR1-、-O-CH2-、-S-CH2-或單鍵。
A1及A2各自獨立地表示碳原子數5至8的2價的脂環式烴基或碳原子數6至18的2價的芳香族烴基，可以將構成該脂環式烴基的亞甲基置換為氧原子、硫原子或-NH-，可以將構成該脂環式烴基的次甲基置換為三級氮原子。
k及l各自獨立地表示0至3的整數。
F1及F2各自獨立地表示碳原子數1至12的2價的脂肪族烴基。
P1表示聚合性基。
P2表示氫原子或聚合性基。
R4及R5各自獨立地表示氫原子、氟原子或碳原子數1至4的烷基。
作為較宜為化合物(A)，可以舉出日本特開2011-207765號公報中記載的聚合性液晶化合物。
作為聚合性液晶化合物，還可以舉出包含以式(X)表示的基的化合物(以下有時記作"化合物(X)")等。
P11-B11-E11-B12-A11-B13- (X)式中，P11表示聚合性基。
A11表示2價的脂環式烴基或2價的芳香族烴基。該2價的脂環式烴基及2價的芳香族烴基的氫原子也可以由鹵素原子、碳原子數1至6的烷基、碳原子數1至6烷氧基、氰基或硝基取代，該碳原子數1至6的烷基及該碳原子數1至6烷氧基的氫原子也可以由氟原子取代。
B11表示-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CO-NR16-、-NR16-CO-、-CO-、-CS-或單鍵。R16表示氫原子或碳原子數1至6的烷基。
B12及B13各自獨立地表示-C≡C-、-CH=CH-、-CH2-CH2-、-O-、-S-、-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-、-O-C(=O)-O-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-C(=O)-NR16-、-NR16-C(=O)-、-OCH2-、-OCF2-、-CH2O-、-CF2O-、-CH=CH-C(=O)-O-、-O-C(=O)-CH=CH-或單鍵。
E11表示碳原子數1至12的烷二基，該烷二基的氫原子也可以由碳原子數1至5的烷氧基取代，該烷氧基的氫原子也可以由鹵素原子取代。可以將構成該烷二基的-CH2-置換為-O-或-CO-。
作為聚合性液晶化合物的具體例，可以舉 出液晶便覽(液晶便覽編輯委員會編、丸善(股)平成12年10月30日發行)的"3.8.6 network(完全交聯型)"、"6.5.1液晶材料b.聚合性向列型液晶材料"中記載的化合物中具有聚合性基的化合物、以及日本特開2010-31223號公報、日本特開2010-270108號公報、日本特開2011-6360號公報及日本特開2011-207765號公報記載中記載的聚合性液晶化合物等。
聚合性液晶化合物的含量相對於液晶硬化 膜形成用組成物的固體成分100質量份通常為70至99.5質量份，較宜為80至99質量份，更宜為80至94質量份，進一步較宜為80至90質量份。如果在上述範圍內，則配向性有變高的趨勢。此處，所謂固體成分，是指從液晶硬化膜形成用組成物中除去溶劑的成分的合計量。
液晶硬化膜形成用組成物也可以含有溶劑、聚合引發劑、敏化劑、聚合抑制劑及調平劑。
<溶劑>
作為溶劑，較宜為可以將聚合性液晶化合物溶解的溶劑，較宜為對於聚合性液晶化合物的聚合反應為惰性的溶劑。
作為溶劑，可以舉出甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚及丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯或丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲乙酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮及甲基異丁基酮等 酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯及二甲苯等芳香族烴溶劑、乙腈等腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯仿及氯苯等含有氯的溶劑等。這些溶劑既可以單獨地使用，也可以組合使用。
溶劑的含量相對於液晶硬化膜形成用組成 物100質量份較宜為50至98質量份。液晶硬化膜形成用組成物的固體成分相對於液晶硬化膜形成用組成物100質量份較宜為2至50質量份。如果固體成分為50質量份以下，則液晶硬化膜形成用組成物的黏度降低，因此液晶硬化膜的厚度就變得大致均勻，由此就會有難以在液晶硬化膜中產生不均的趨勢。固體成分可以考慮想要製造的液晶硬化膜的厚度來確定。
<聚合引發劑>
聚合引發劑是可以引發聚合性液晶化合物等的聚合反應的化合物。作為聚合引發劑，較宜為利用光的作用產生活性自由基的光聚合引發劑。
作為聚合引發劑，可以舉出苯偶姻化合物、二苯甲酮化合物、苯烷基酮(alkylphenone)化合物、醯基氧化膦化合物、三化合物、碘鎓鹽及硫鎓鹽等。
作為苯偶姻化合物，可以舉出苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚及苯偶姻異丁醚等。
作為二苯甲酮化合物，可以舉出二苯甲酮、鄰苯甲醯苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲醯基-4’-甲基二苯硫醚、3,3’,4,4’-四(三級丁基過氧化羰基) 二苯甲酮及2,4,6-三甲基二苯甲酮等。
作為苯烷基酮化合物，可以舉出二乙氧基 苯乙酮、2-甲基-2-嗎啉基-1-(4-甲基硫基苯基)-1-丙酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-1-丁酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基-1-乙酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-1-丙酮、1-羥基環己基苯基酮及2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]-1-丙酮的低聚物等。
作為醯基氧化膦化合物，可以舉出2,4,6-三 甲基苯甲醯基二苯基氧化膦及雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦等。
作為三化合物，可以舉出2,4-雙(三氯甲 基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(4-二乙基胺基-2-甲基苯基)乙烯基]-1,3,5-三及2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-1,3,5-三等。
作為市售的聚合引發劑，可以舉出"Irgacure (注冊商標)907"、"Irgacure 184"、"Irgacure 651"、"Irgacure 819"、"Irgacure 250"、"Irgacure 369"(BASF Japan(股))；"Seikuol(注冊商標)BZ"、"Seikuol Z"、"Seikuol BEE"(精工化學(股))；"kayacure(注冊商標)BP100"(日本化藥(股))； "UVI-6992"(Dow chemical公司製)；"Adeka Optomer(注冊商標)SP-152"、"Adeka OptomerSP-170"((股)ADEKA)；"TAZ-A"、"TAZ-PP"(日本DKSH公司)；及"TAZ-104"(三和化學公司)等。
聚合引發劑的含量通常相對於聚合性液晶 化合物100質量份為0.1至30質量份，較宜為0.5至10質量份，更宜為0.5至8質量份。如果聚合引發劑的含量在該範圍內，則不會擾亂聚合性液晶化合物的配向，因此較佳。
<敏化劑>
如果利用敏化劑，則可以進一步促進聚合性液晶化合物的聚合反應。
作為敏化劑，較宜為光敏化劑。作為敏化劑，可以舉出呫噸酮及噻噸酮等呫噸酮化合物(2,4-二乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮等)；蒽及含有烷氧基的蒽(二丁氧基蒽等)等蒽化合物；啡噻及紅螢烯等。
敏化劑的含量相對於聚合性液晶化合物100質量份較宜為0.1至30質量份，更宜為0.5至10質量份，進一步較宜為0.5至8質量份。
<聚合抑制劑>
如果利用聚合抑制劑，則可以控制聚合性液晶化合物的聚合反應的進行程度。
作為聚合抑制劑，可以舉出酚系化合物、硫系化合物及磷系化合物等自由基捕捉劑。
作為酚系化合物，可以舉出2,6-二-三級丁 基-4-甲基苯酚、2,6-二-三級丁基-4-乙基苯酚、丁基羥基苯甲醚、氫醌、含有烷氧基的氫醌、含有烷氧基的鄰苯二酚(例如丁基鄰苯二酚等)、鄰苯三酚等。另外，可以使用市售品，例如可以舉出Sumilizer(注冊商標)BHT(2,6-二-三級丁基-4-甲基苯酚)、Sumilizer GM(2-三級丁基-6-(3-三級丁基-2-羥基-5-甲基苄基)-4-甲基苯基丙烯酸酯)、Sumilizer GS(F)(2-[1-(2-羥基-3,5-二-三級戊基苯基)乙基]-4,6-二-三級戊基苯基丙烯酸酯)、Sumilizer GA-80(3,9-雙[2-[3-(3-三級丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙醯氧基]-1,1-二甲基乙基]-2,4,8,10-四氧雜螺[5‧5]十一烷)(全都是住友化學(股)製)等。
作為硫系化合物，可以舉出硫代二丙酸二 月桂酯、硫代二丙酸二肉豆蔻基酯、硫代二丙酸二硬脂基酯等硫代二丙酸二烷基酯；作為市售品，可以舉出Sumilizer TPL-R(3,3’-硫代二丙酸二月桂酯)、Sumilizer TPM(3,3’-硫代二丙酸二肉豆蔻基酯)(全都是住友化學(股)製)等。
作為磷系化合物，可以舉出亞磷酸三辛 酯、亞磷酸三月桂酯、亞磷酸三癸基酯、亞磷酸(辛基)二苯基酯；作為市售品，可以舉出Sumilizer GP(6-[3-(3-三級丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙氧基]-2,4,8,10-四-三級丁基-二苯並[d,f][1,3,2]二氧雜磷雜環庚烷)(住友化學(股)製)等。
作為聚合抑制劑，從液晶硬化膜的著色少 的方面考慮，較宜為酚系化合物。
聚合抑制劑的含量相對於聚合性液晶化合 物100質量份較宜為0.1至30質量份，更宜為0.5至10質量份，進一步較宜為0.5至8質量份。如果在上述範圍內，則可以不擾亂聚合性液晶化合物的配向地使之聚合。聚合抑制劑既可以單獨地使用，也可以並用2種以上。
<調平劑>
所謂調平劑，是具有調整液晶硬化膜形成用組成物的流動性、使得塗布液晶硬化膜形成用組成物而得的膜更加平坦的功能的物質，可以舉出表面活性劑。作為較宜為調平劑，可以舉出以聚丙烯酸酯化合物作為主成分的調平劑及以含有氟原子的化合物作為主成分的調平劑。
作為以聚丙烯酸酯化合物作為主成分的調 平劑，可以舉出"BYK-350"、"BYK-352"、"BYK-353"、"BYK-354"、"BYK-355"、"BYK-358N"、"BYK-361N"、"BYK-380"、"BYK-381"及"BYK-392"[BYK Chemie公司]等。
作為以含有氟原子的化合物作為主成分的 調平劑，可以舉出"Megafac(注冊商標)R-08"、Megafac"R-30"、Megafac"R-90"、Megafac"F-410"、Megafac"F-411"、Megafac"F-443"、Megafac"F-445"、Megafac"F-470"、Megafac"F-471"、Megafac"F-477"、Megafac"F-479"、Megafac"F-482"及Megafac"F-483"[DIC(股)]；"Surflon(注冊商標)S-381"、Surflon"S-382"、Surflon"S-383"、Surflon"S-393"、Surflon"SC-101"、Surflon"SC-105"、"KH-40"及"SA-100"[AGC SEMICHEMICAL(股)]；"E1830"、"E5844"[Daikin工業(股)]；"Eftop(注冊商標)EF301"、 Eftop"EF303"、Eftop"EF351"及Eftop"EF352"[三菱材料電子化成(股)]等。
調平劑的含量相對於聚合性液晶化合物 100質量份較宜為0.01至5質量份，更宜為0.1至3質量份。如果在上述範圍內，則容易使得聚合性液晶化合物水平配向，並且所得的液晶硬化膜有更加平滑的趨勢，因此較佳。液晶硬化膜形成用組成物也可以含有2種以上的調平劑。
<基材>
本實施方式的基材的1μm2視野中的表面粗糙度為1.0nm以下，水接觸角為70度以上。
作為基材，可以舉出玻璃基材及塑膠基材，較宜為塑膠基材。作為構成塑膠基材的塑膠，可以舉出聚乙烯、聚丙烯、降冰片烯系聚合物等聚烯烴；環狀烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙醯纖維素、二乙醯纖維素及纖維素乙酸酯丙酸酯等纖維素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚等塑膠。較宜為纖維素酯、環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯或聚甲基丙烯酸酯，更宜為聚對苯二甲酸乙二酯。本實施方式的基材較宜為含有聚對苯二甲酸乙二酯。
纖維素酯是將纖維素中所含的羥基的至少 一部分酯化而得的物質，可以從市場中容易地獲得。
所謂環狀烯烴系樹脂，是包含降冰片烯、 多環降冰片烯系單體等環狀烯烴的聚合物或共聚物(環狀烯烴系樹脂)構成的樹脂，該環狀烯烴系樹脂也可以部分地含有開環部。也可以是將含有開環部的環狀烯烴系樹脂氫化而得的樹脂。此外，從不顯著地損害透明性的方面、或不顯著地增大吸濕性的方面考慮，該環狀烯烴系樹脂也可以是環狀烯烴與鏈狀烯烴、乙烯基化芳香族化合物(苯乙烯等)的共聚物。該環狀烯烴系樹脂也可以在其分子內導入極性基。
在環狀烯烴系樹脂是環狀烯烴與鏈狀烯 烴、具有乙烯基的芳香族化合物的共聚物的情況下，來自於環狀烯烴的結構單元的含有率相對於共聚物的全部結構單元通常為50莫耳%以下，較宜為15至50莫耳%的範圍。作為鏈狀烯烴，可以舉出乙烯及丙烯，作為具有乙烯基的芳香族化合物，可以舉出苯乙烯、α-甲基苯乙烯及烷基取代苯乙烯。在環狀烯烴系樹脂是環狀烯烴、鏈狀烯烴和具有乙烯基的芳香族化合物的三元共聚物的情況下，來自於鏈狀烯烴的結構單元的含有率相對於共聚物的全部結構單元通常為5至80莫耳%，來自於具有乙烯基的芳香族化合物的結構單元的含有率相對於共聚物的全部結構單元通常為5至80莫耳%。此種三元共聚物具有在其製造中可以使價格高的環狀烯烴的使用量較少的優點。
本實施方式的基材的水接觸角為70度以 上。較宜為70至90度，更宜為75至80度。
如果基材的水接觸角為70度以上，則光學異向性膜的 轉印就會變得容易，此外，後述的液晶硬化膜形成用組成物、配向性聚合物組成物及光配向膜形成用組成物等的塗布性提高，因此較佳。
水接觸角可以使用市售的裝置測定。本實施方式的水接觸角是利用液滴法測定的值。作為該裝置，可以舉出協和界面科學股份有限公司製DropMaster 700。作為接觸角測定時的液量，只要如JIS R 3257(1999)《基板玻璃表面的潤濕性試驗方法》中記載的那樣，在1μL以上、4μL以下的範圍內實施即可。
本實施方式的基材的1μm2視野中的表面 粗糙度為1.0nm以下。較宜為1.0至0.1nm，更宜為1.0至0.2nm。
如果基材的1μm2視野中的表面粗糙度為1.0nm以下，則光學異向性膜的轉印就會變得容易，此外，還可以減少轉印時的缺陷，因此較佳。
表面粗糙度可以使用市售的掃描型觸針顯微鏡(SPM)測定。本實施方式中的表面粗糙度是依照JIS R 1683(2014)《基於原子力顯微鏡的精細陶瓷薄膜的表面粗糙度測定方法》測定的值。作為該裝置，例如可以舉出日立HitecScience公司製的SPA-300HV及SPI4000，可以對1μm2視野的3點的平均使用懸臂SI-DF20(背面有Al塗層)進行測定。
此種基材可以從市場中買到。作為市售的 基材，例如可以舉出三菱樹脂股份有限公司製DIAFOIL(注冊商標)T140E25等。
對於基材的厚度，在可以進行實用的操作 的程度的重量的方面，越薄越好，然而如果過薄，則有強度降低、加工性變差的趨勢。基材的厚度通常為5至300μm，較宜為20至200μm。
<配向膜>
本實施方式的光學異向性薄片較宜為在基材與液晶硬化膜之間具有配向膜。
配向膜是包含高分子化合物的厚度為500nm以下的膜，是使聚合性液晶化合物沿所需的方向進行液晶配向的、具有配向限制力的膜。
配向膜使得聚合性液晶化合物的液晶配向變得容易。 水平配向、垂直配向、混合配向、傾斜配向等液晶配向的狀態隨著配向膜及聚合性液晶化合物的性質而變化，其組合可以任意地選擇。如果配向膜是作為配向限制力表現出水平配向的材料，則聚合性液晶化合物就可以形成水平配向或混合配向，如果是表現出垂直配向的材料，則聚合性液晶化合物就可以形成垂直配向或傾斜配向。水平、垂直等表現在以液晶硬化膜平面作為基準的情況下，表示已配向的聚合性液晶化合物的長軸的方向。所謂垂直配向，是在與液晶硬化膜平面垂直的方向上具有已配向的聚合性液晶化合物的長軸。此處所說的垂直是指相對於液晶硬化膜平面為90°±20°。
在配向膜層由配向性聚合物形成的情況下，能藉由表面狀態、摩擦條件任意地調整配向限制力，在由光配向性 聚合物形成的情況下，可以利用偏光照射條件等任意地調整配向限制力。也可以藉由選擇聚合性液晶化合物的表面張力、液晶性等物性來控制液晶配向。
作為形成於基材與液晶硬化膜之間的配向 膜，較宜為如下的配向膜，即，不溶於在配向膜上形成液晶硬化膜時所使用的溶劑，在用於溶劑的除去、液晶的配向的加熱處理中具有耐熱性。作為配向膜，可以舉出包含配向性聚合物的配向膜、光配向膜及溝槽配向膜等。
配向膜的厚度通常為10至500nm的範圍， 較宜為10至200nm的範圍。
<包含配向性聚合物的配向膜>
作為配向性聚合物，可以舉出在分子內具有醯胺鍵的聚醯胺或明膠類、在分子內具有醯亞胺鍵的聚醯亞胺及作為其水解物的聚醯胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚唑、聚伸乙基亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯基吡咯啶酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯類等，較宜為聚乙烯醇。這些配向性聚合物既可以單獨地使用，也可以組合使用。
包含配向性聚合物的配向膜通常可以藉由 如下操作來獲得，即，將在溶劑中溶解有配向性聚合物的組成物(以下有時稱作配向性聚合物組成物)塗布在基材上，除去溶劑而形成塗布膜，或者將配向性聚合物組成物塗布在基材上，除去溶劑而形成塗布膜，摩擦該塗布膜(摩擦法)而得到。
作為溶劑，可以舉出水；甲醇、乙醇、乙 二醇、異丙醇、丙二醇、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑及丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲乙酮、環戊酮、環己酮、甲基戊基酮及甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯及二甲苯等芳香族烴溶劑、乙腈等腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯仿及氯苯等氯取代烴溶劑等。這些溶劑既可以單獨使用，也可以組合使用。
配向性聚合物組成物中的配向性聚合物的 濃度只要是配向性聚合物材料可以完全溶解於溶劑中的範圍即可，然而相對於溶液以固體成分換算較宜為0.1至20%，更宜為0.1至10%。
作為市售的配向性聚合物組成物，可以舉 出Sunever(注冊商標、日產化學工業(股)製)或Optomer(注冊商標、JSR(股)製)等。
作為將配向性聚合物組成物塗布在基材上 的方法，可以舉出旋塗法、擠壓法、凹版塗布法、模塗法、棒塗法及塗膠機法等塗布法、或柔版法等印刷法等公知的方法。
藉由除去配向性聚合物組成物中所含的溶 劑，而形成配向性聚合物的乾燥被膜。作為溶劑的除去方法，可以舉出自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥法及減壓乾燥法等。
作為摩擦的方法，可以舉出如下的方法， 即，使藉由將配向性聚合物組成物塗布在基材上並退火而形成於基材表面的配向性聚合物的膜接觸捲繞有摩擦布並旋轉著的摩擦輥。
<光配向膜>
光配向膜通常是藉由將包含具有光反應性基的聚合物或單體和溶劑的組成物(以下有時稱作"光配向膜形成用組成物")塗布在基材上、並照射偏光(較宜為偏光UV)而得到。光配向膜可以藉由選擇所照射的偏光的偏光方向，而任意地控制配向限制力的方向，從這一點考慮更佳。
所謂光反應性基，是指藉由照射光而產生 液晶配向能力的基。具體而言，是發生藉由照射光而發生的分子的配向誘發或異構化反應、二聚化反應、光交聯反應、或光分解反應之類的成為液晶配向能力的起源的光反應的基。作為可以發生上述反應的光反應性基，較宜為具有不飽和鍵、特別是雙鍵的基，特別較宜為具有選自碳-碳雙鍵(C=C鍵)、碳-氮雙鍵(C=N鍵)、氮-氮雙鍵(N=N鍵)、及碳-氧雙鍵(C=O鍵)所組成之群中的至少一個的基。
作為具有C=C鍵的光反應性基，可以舉出 乙烯基、多烯基、茋基、茋唑基、茋唑鎓基(stilbazolium)、查耳酮基及肉桂醯基等。作為具有C=N鍵的光反應性基，可以舉出具有芳香族席夫鹼及芳香族腙等結構的基。作為具有N=N鍵的光反應性基，可以舉出偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基及甲臢基(formazane)等、 或以氧化偶氮苯作為基本結構的基。作為具有C=O鍵的光反應性基，可以舉出二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基及馬來醯亞胺基等。這些基也可以具有烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、氰基、烷氧基羰基、羥基、磺酸基及鹵化烷基等取代基。
作為光反應性基，從配向性優異的方面考 慮，較宜為參與光二聚化反應或光交聯反應的基。其中，較宜為參與光二聚化反應的光反應性基，從光配向中所必需的偏光照射量較少、並且容易得到熱穩定性、經時穩定性優異的光配向層的方面考慮，較宜為肉桂醯基及查耳酮基。作為具有光反應性基的聚合物，特別較宜為具有使該聚合物側鏈的末端部變為肉桂酸結構的肉桂醯基的聚合物。
作為光配向膜形成用組成物的溶劑，較宜 為將具有光反應性基的聚合物及單體溶解的溶劑，作為該溶劑，可以舉出作為配向性聚合物組成物的溶劑舉出的溶劑等。
具有光反應性基的聚合物或單體相對於光 配向膜形成用組成物的含量較宜為0.2質量%以上，特別較宜為0.3至10質量%的範圍。也可以在不顯著損害光配向膜的特性的範圍內，含有聚乙烯醇、聚醯亞胺等高分子材料、光敏化劑。
作為將光配向膜形成用組成物塗布在基材 上的方法，可以舉出與將配向性聚合物組成物塗布在基材 上的方法相同的方法。作為從所塗布的光配向膜形成用組成物中除去溶劑的方法，可以舉出與從配向性聚合物組成物中除去溶劑的方法相同的方法。
在照射偏光時，既可以是對從塗布於基板 上的光配向膜形成用組成物中除去了溶劑的材料直接照射偏光的形式，也可以是從基材側照射偏光、使偏光透射地照射的形式。該偏光特別較宜為實質上為平行光。所照射的偏光的波長最好是具有光反應性基的聚合物或單體的光反應性基可以吸收光能的波長區域的波長。具體而言，特別較宜為波長250至400nm的範圍的UV(紫外線)。作為該偏光照射中所用的光源，可以舉出氙燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、金屬鹵化物燈、KrF、ArF等紫外光雷射器等，更宜為高壓汞燈、超高壓汞燈及金屬鹵化物燈。這些燈由於波長313nm的紫外線的發光強度大，因此較佳。藉由將來自光源的光穿過適當的偏光片後照射，就可以照射偏光。 作為該偏光片，可以使用偏光濾片或Gran-Thompson、Gran-Taylor等偏光棱鏡或線柵型的偏光片。
而且，就摩擦或偏光照射而言，如果在進 行摩擦或偏光照射時，進行掩模處理，則還可以形成液晶配向的方向不同的多個區域(圖案)。
<溝槽配向膜>
溝槽(groove)配向膜是在膜表面具有凹凸圖案或多個溝槽(groove)的膜。在具有等間隔地排列的多個直線狀的槽的膜上放置液晶化合物的情況下，液晶分子就會在沿著該 槽的方向上配向。
作為獲得溝槽配向膜的方法，可以舉出： 在感光性聚醯亞胺膜表面隔著具有圖案形狀的狹縫的曝光用掩模曝光後，進行顯影及漂洗處理而形成凹凸圖案的方法；在表面具有槽的板狀的原盤上形成硬化前的UV硬化樹脂的層，並在將樹脂層向基材轉移後硬化的方法；及將具有多個槽的捲筒狀的原盤向形成於基材上的硬化前的UV硬化樹脂的膜按壓而形成凹凸，其後進行硬化的方法等。具體而言，可以舉出日本特開平6-34976號公報及日本特開2011-242743號公報記載的方法等。
上述方法中，較宜為將具有多個槽的捲筒 狀的原盤向形成於基材上的硬化前的UV硬化樹脂的膜按壓而形成凹凸、其後進行硬化的方法。作為捲筒狀原盤，從耐久性的觀點考慮，較宜為不銹鋼(SUS)。
作為UV硬化樹脂，可以舉出單官能丙烯酸 酯的聚合物、多官能丙烯酸酯的聚合物或它們的混合物的聚合物。
所謂單官能丙烯酸酯，是具有1個選自丙烯醯氧基(CH2=CH-COO-)及甲基丙烯醯氧基(CH2=C(CH3)-COO-)所組成之群中的基(以下有時也記作(甲基)丙烯醯氧基)的化合物。所謂(甲基)丙烯酸酯，是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
作為具有1個(甲基)丙烯醯氧基的單官能丙 烯酸酯，可以舉出(甲基)丙烯酸碳原子數4到16的烷基酯、(甲基)丙烯酸碳原子數2到14的β羧基烷基酯、(甲 基)丙烯酸碳原子數2到14的烷基化苯基酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸異冰片基酯等。
所謂多官能丙烯酸酯，是具有2個以上的 (甲基)丙烯醯氧基的化合物，較宜為具有2到6個(甲基)丙烯醯氧基的化合物。
作為具有2個(甲基)丙烯醯氧基的多官能丙 烯酸酯，可以舉出1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯；1,3-丁二醇(甲基)丙烯酸酯；1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯；乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯；三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；聚乙二醇二丙烯酸酯；雙酚A的雙(丙烯醯氧基乙基)醚；乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯；丙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯；乙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯及3-甲基戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
作為具有3至6個(甲基)丙烯醯氧基的多官 能丙烯酸酯，可以舉出三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯；三(2-羥基乙基)異氰尿酸酯三(甲基)丙烯酸酯；乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；丙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；三新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；三新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；三新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；三新戊四醇七(甲基)丙烯酸酯；三新戊四醇八(甲基) 丙烯酸酯；新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯與酸酐的反應物；二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯與酸酐的反應物；三新戊四醇七(甲基)丙烯酸酯與酸酐的反應物；己內酯改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三(2-羥基乙基)異氰尿酸酯三(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三新戊四醇七(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三新戊四醇八(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯與酸酐的反應物；己內酯改性二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯與酸酐的反應物、及己內酯改性三新戊四醇七(甲基)丙烯酸酯與酸酐的反應物等。
所謂己內酯改性，是指在(甲基)丙烯酸酯化 合物的來自於醇的部位與(甲基)丙烯醯氧基之間導入己內酯的開環體、或開環聚合物。
作為多官能丙烯酸酯的市售品，可以舉出 A-DOD-N、A-HD-N、A-NOD-N、APG-100、APG-200、APG-400、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMPT、AD-TMP、ATM-35E、A-TMMT、A-9550、A-DPH、HD-N、NOD-N、NPG、TMPT[新中村化學(股)]、"ARONIX M-220"、ARONIX"M-325"、ARONIX"M-240"、ARONIX"M-270"、 ARONIX"M-309"、ARONIX"M-310"、ARONIX"M-321"、ARONIX"M-350"、ARONIX"M-360"、ARONIX"M-305"、ARONIX"M-306"、ARONIX"M-450"、ARONIX"M-451"、ARONIX"M-408"、ARONIX"M-400"、ARONIX"M-402"、ARONIX"M-403"、ARONIX"M-404"、ARONIX"M-405"、ARONIX"M-406"[東亞合成(股)]、"EBECRYL11"、EBECRYL"145"、EBECRYL"150"、EBECRYL"40"、EBECRYL"140"、EBECRYL"180"、DPGDA、HDDA、TPGDA、HPNDA、PETIA、PETRA、TMPTA、TMPEOTA、DPHA、EBECRYL系列[Daicel-allnex(股)]等。
對於溝槽配向膜的凸部的寬度，為了獲得 配向混亂小的配向，較宜為0.05至5μm，凹部的寬度較宜為0.1至5μm，凹凸的高低差的深度較宜為2μm以下，更宜為0.01至1μm。
<光學異向性膜>
藉由從本實施方式的光學異向性薄片中除去基材，就可以得到包含液晶硬化膜、或包含配向膜和液晶硬化膜的光學異向性膜。
<轉印>
本實施方式的光學異向性薄片所具有的液晶硬化膜可以向被轉印物轉印。作為轉印該液晶硬化膜的方法，可以舉出將該液晶硬化膜隔著黏接劑層貼合在被轉印物上，並除去光學異向性薄片所具有的基材的方法。具體而言，在本實施方式的光學異向性薄片的液晶硬化膜表面形成黏接 劑層，在其上層疊被轉印物，除去本實施方式的光學異向性薄片的基材，由此轉印。
黏接劑層既可以形成於液晶硬化膜上，也 可以形成於被轉印物上。在基材與液晶硬化膜之間具有配向膜的情況下，也可以與基材一起將配向膜除去。
在表面具有與液晶硬化膜或配向膜等形成 化學鍵的官能基的基材與液晶硬化膜或配向膜等形成化學鍵，從而有難以除去的趨勢。由此，在將基材剝離除去的情況下，較宜為表面的官能基少的基材，較宜為沒有對表面實施形成官能基的表面處理的基材。
具有與基材形成化學鍵的官能基的配向膜由於基材與配向膜的密合力有變大的趨勢，因此在將基材剝離除去的情況下，較宜為與基材形成化學鍵的官能基少的配向膜。 較宜為不含有使基材與配向膜交聯的試劑，此外，較宜為在配向性聚合物組成物及光配向膜形成用組成物等的溶液中不含有溶解基材的溶劑等成分。
具有與液晶硬化膜形成化學鍵的官能基的配向膜存在有液晶硬化膜與配向膜的密合力變大的趨勢。由此，在與基材一起地將配向膜除去的情況下，較宜為與液晶硬化膜形成化學鍵的官能基少的配向膜。較宜為在液晶硬化膜及配向膜中不含有使液晶硬化膜與配向膜交聯的試劑。
具有與基材或配向膜形成化學鍵的官能基的液晶硬化膜存在有配向膜與液晶硬化膜的密合力變大的趨勢。由此，在除去基材的情況下或與基材一起除去配向膜的情況 下，較宜為與基材或配向膜形成化學鍵的官能基少的液晶硬化膜。聚合性液晶組成物較宜為不含有使基材或配向膜與液晶硬化膜交聯的試劑。
<黏接劑層>
黏接劑層由黏接劑形成。
作為黏接劑者，例如可以舉出黏合劑、乾燥固化型接著劑及化學反應型接著劑。作為化學反應型接著劑，例如可以舉出活性能量射線硬化型接著劑。
<黏合劑>
黏合劑通常含有聚合物，也可以含有溶劑。
作為聚合物，可以舉出丙烯酸系聚合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺酯(polyurethane)、或聚醚等。其中，含有丙烯酸系聚合物的丙烯酸系的黏合劑由於光學的透明性優異，具有適度的潤濕性、凝聚力，接著性優異，此外耐候性、耐熱性等高，在加熱、加濕的條件下難以產生浮起、剝離等，因此較佳。
作為丙烯酸系聚合物，較宜為酯部分的烷 基為甲基、乙基或丁基等碳原子數1至20的烷基的(甲基)丙烯酸酯(以下有時將丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯統稱為(甲基)丙烯酸酯、將丙烯酸和甲基丙烯酸統稱為(甲基)丙烯酸)、與(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羥基乙酯等具有官能基的(甲基)丙烯酸系單體的共聚物。
此種含有共聚物的黏合劑由於黏著性優異， 在貼合在顯示裝置上後，在除去時也不會在顯示裝置中產 生殘膠等，可以比較容易地除去，因此較佳。丙烯酸系聚合物的玻璃化轉變溫度較宜為25℃以下，更宜為0℃以下。此種丙烯酸系聚合物的重均分子量較宜為10萬以上。
作為溶劑，可以舉出作為配向性聚合物組成物的溶劑舉出的溶劑等。
黏合劑也可以含有光擴散劑。光擴散劑是 用於對黏合劑賦予光擴散性的物質，只要是具有與黏合劑所含的聚合物不同的折射率的微粒即可，作為光擴散劑，可以舉出包含無機化合物的微粒及包含有機化合物(聚合物)的微粒。包括丙烯酸系聚合物在內，黏合劑作為有效成分含有的聚合物的大部分具有1.4左右的折射率，因此只要從其折射率為1至2的材料中適當地選擇來作為光擴散劑即可。黏合劑作為有效成分含有的聚合物與光擴散劑的折射率差通常為0.01以上，從顯示裝置的亮度和顯示性的觀點考慮，適合設為0.01至0.5。作為光擴散劑使用的微粒較宜為球形的微粒、且接近單分散的微粒，較宜為平均粒徑處於2至6μm的範圍的微粒。
折射率利用通常的最小偏角法或阿貝折射儀測定。
作為包含無機化合物的微粒，可以舉出氧化鋁(折射率1.76)及氧化矽(折射率1.45)等。
作為包含有機化合物(聚合物)的微粒，可以舉出密胺珠(折射率1.57)、聚甲基丙烯酸甲酯珠(折射率1.49)、甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物樹脂珠(折射率1.50至1.59)、聚碳酸酯珠(折射率1.55)、聚乙烯珠(折射率1.53)、聚苯乙烯 珠(折射率1.6)、聚氯乙烯珠(折射率1.46)、及矽酮樹脂珠(折射率1.46)等。
光擴散劑的含量通常相對於聚合物100質 量份為3至30質量份。
對於由分散有光擴散劑的黏合劑形成的黏 接劑層的霧度值，從確保顯示裝置的亮度、並且難以產生顯示圖像的拖尾、模糊的觀點考慮，較宜為設為20至80%的範圍。霧度值是以(擴散透射率/總光線透射率)×100(%)表示的值，依照JIS K 7105測定。
由黏合劑形成的黏接劑層的厚度是根據其 密合力等決定的值，然而通常為1至40μm。從加工性、耐久性等方面考慮該厚度較宜為3至25μm。藉由將由黏合劑形成的黏接劑層的厚度設為3至15μm，可以確保從正面看到顯示裝置時或從斜向看到顯示裝置時的亮度，難以產生顯示圖像的拖尾、模糊。
<乾燥固化型接著劑>
乾燥固化型接著劑也可以含有溶劑。
作為乾燥固化型接著劑，可以舉出具有羥基、羧基或胺基等質子性官能基和烯性不飽和基的單體的聚合物；或含有聚胺酯樹脂作為主成分、此外還含有多元醛、環氧化合物、環氧樹脂、密胺化合物、氧化鋯化合物、及鋅化合物等交聯劑或硬化性化合物的組成物等。
作為具有羥基、羧基或胺基等質子性官能 基和烯性不飽和基的單體的聚合物，可以舉出乙烯-馬來酸 共聚物、衣康酸共聚物、丙烯酸共聚物、丙烯醯胺共聚物、聚乙酸乙烯酯的皂化物及聚乙烯醇系樹脂等。
作為聚乙烯醇系樹脂，可以舉出聚乙烯醇、 部分皂化聚乙烯醇、完全皂化聚乙烯醇、羧基改性聚乙烯醇、乙醯乙醯基改性聚乙烯醇、羥甲基改性聚乙烯醇、及胺基改性聚乙烯醇等。水系接著劑中的聚乙烯醇系樹脂的含量相對於水100質量份通常為1至10質量份，較宜為1至5質量份。
作為聚胺酯樹脂，可以舉出聚酯系離聚物 型聚胺酯樹脂等。此處所說的聚酯系離聚物型聚胺酯樹脂，是具有聚酯骨架的聚胺酯樹脂，是在其中導入了少量的離子性成分(親水成分)的聚胺酯樹脂。該離聚物型聚胺酯樹脂不使用乳化劑，在水中乳化而成為乳液，因此可以作為水系的接著劑。在使用聚酯系離聚物型聚胺酯樹脂的情況下，有效的做法是作為交聯劑調配水溶性的環氧化合物。
作為環氧樹脂，可以舉出使表氯醇與利用 二伸乙基三胺或三伸乙基四胺等聚伸烷基聚胺與己二酸等二羧酸的反應得到的聚醯胺聚胺反應而得的聚醯胺環氧樹脂等。作為該聚醯胺環氧樹脂的市售品，可以舉出住化ChemteX(股)製"Sumirez Resin(注冊商標)650"及"Sumirez Resin 675"、日本PMC(股)製"WS-525"等。在調配環氧樹脂的情況下，其添加量相對於聚乙烯醇系樹脂100質量份通常為1至100質量份，較宜為1至50質量份。
由乾燥固化型接著劑形成的黏接劑層的厚 度通常為0.001至5μm，較宜為0.01至2μm，更宜為1μm以下。如果由乾燥固化型接著劑形成的黏接劑層過厚，則容易導致光學異向性膜的外觀不良。
<活性能量射線硬化型接著劑>
活性能量射線硬化型接著劑也可以含有溶劑。
所謂活性能量射線硬化型接著劑是受到活性能量射線的照射而硬化的接著劑。
作為活性能量射線硬化型接著劑，可以舉出含有環氧化合物和陽離子聚合引發劑的陽離子聚合性的接著劑；含有丙烯酸系硬化成分和自由基聚合引發劑的自由基聚合性的接著劑；含有環氧化合物等陽離子聚合性的硬化成分及丙烯酸系化合物等自由基聚合性的硬化成分兩者、且還含有陽離子聚合引發劑及自由基聚合引發劑的接著劑；及不含有聚合引發劑而是藉由照射電子束而被硬化的接著劑等。較宜為含有丙烯酸系硬化成分和自由基聚合引發劑的自由基聚合性的活性能量射線硬化型接著劑。較宜為可以實質無溶劑地使用的含有環氧化合物和陽離子聚合引發劑的陽離子聚合性的活性能量射線硬化型接著劑。
作為環氧化合物，可以舉出具有羥基的芳香族化合物或鏈狀化合物的縮水甘油醚化物、具有胺基的化合物的縮水甘油基胺基化物、具有C-C雙鍵的鏈狀化合物的環氧化物、在飽和碳環上直接或隔著伸烷基鍵結有縮水甘油氧基或環氧乙基、或在飽和碳環上直接鍵結有環氧 基的脂環式環氧化合物等。這些環氧化合物既可以分別單獨使用，也可以組合使用。其中脂環式環氧化合物由於陽離子聚合性優異，因此較佳。
作為環氧化合物的市售品，可以舉出三菱 化學(股)製"jER"系列、DIC(股)製"Epiclon(注冊商標)"、東都化成(股)製"Epototo(注冊商標)"、(股)ADEKA製"ADEKA RESIN(注冊商標)"、Nagase chemteX(股)製"Denacol(注冊商標)"、Dow Chemical公司製"Dow Epoxy"、日產化學工業(股)製"TEPIC(注冊商標)"等。作為脂環式環氧化合物，可以舉出(股)Daicel製"Celloxide(注冊商標)"系列及"Cyclomer(注冊商標)"、Dow Chemical公司製"CYRACURE(注冊商標)UVR"系列等。
含有環氧化合物的活性能量射線硬化型接 著劑也可以還含有環氧化合物以外的化合物。作為環氧化合物以外的化合物，可以舉出氧雜環丁烷化合物、丙烯酸化合物等。其中，由於有可能在陽離子聚合中促進硬化速度，因此較宜為併用氧雜環丁烷化合物。
作為氧雜環丁烷化合物，可以舉出東亞合 成(股)製"Aron Oxetane(注冊商標)"系列、宇部興產(股)製"ETERNACOLL(注冊商標)"系列等。
含有環氧化合物、氧雜環丁烷化合物的活 性能量射線硬化型接著劑較宜為無溶劑地使用。
所謂陽離子聚合引發劑，是受到紫外線等 活性能量射線的照射而產生陽離子種的化合物，可以舉出 芳香族重氮鹽；芳香族碘鎓鹽及芳香族硫鎓鹽等鎓鹽；以及鐵-芳烴錯合物。這些陽離子聚合引發劑既可以分別單獨使用，也可以組合使用。
作為陽離子聚合引發劑的市售品，可以舉 出日本化藥(股)製"Kayarad(注冊商標)"系列、Dow Chemical公司製"Cyracure UVI"系列、San-apro(股)製"CPI"系列、綠化學(股)製"TAZ"、"BBI"及"DTS"、(股)ADEKA製"Adeka Optomer"系列、Rhodia公司製"RHODORSIL(注冊商標)"等。
陽離子聚合引發劑的含量相對於活性能量 射線硬化型接著劑100質量份通常為0.5至20質量份，較宜為1至15質量份。
作為丙烯酸系硬化成分，可以舉出(甲基) 丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯等(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸等。
作為自由基聚合引發劑，可以舉出奪氫型 光自由基產生劑、及裂解型光自由基產生劑等。
作為奪氫型光自由基產生劑，可以舉出1- 甲基萘等萘衍生物、蒽衍生物、芘衍生物、咔唑衍生物、二苯甲酮衍生物、噻噸酮衍生物及香豆素衍生物等。
作為裂解型光自由基產生劑，可以舉出苯 偶姻醚衍生物、苯乙酮衍生物等芳基烷基酮類、肟酮類、醯基氧化膦類、硫代苯甲酸S-苯酯類、二茂鈦類、及已將它們高分子量化的衍生物等。
在裂解型光自由基產生劑中較宜為醯基氧 化膦類，具體而言，較宜為三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦(商品名"DAROCURE TPO"；BASF Japan(股))、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-(2,4,4-三甲基戊基)-氧化膦(商品名"CGI 403"；BASF Japan(股))、或雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二戊氧基苯基氧化膦(商品名"Irgacure 819"；BASF Japan(股))。
活性能量射線硬化型接著劑也可以含有敏 化劑。
敏化劑的含量相對於活性能量射線硬化型接著劑100質量份較宜為0.1至20質量份。
在活性能量射線硬化型接著劑中，也可以 還含有離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增黏劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調節劑、塑化劑及消泡劑等。
本實施方式的所謂活性能量射線，被定義 為可以將產生活性種的化合物分解而使之產生活性種的能量射線。作為此種活性能量射線，可以舉出可見光、紫外線、紅外線、X射線、α射線、β射線、γ射線及電子束等，較宜為紫外線及電子束。
電子束照射的加速電壓通常為5至300kV， 較宜為10至250kV。照射劑量通常為5至100kGy，較宜為10至75kGy。
電子束照射通常在惰性氣體中進行，然而 也可以在大氣中或導入少量氧的條件下進行。
紫外線照射強度通常為10至5000mW/cm2。 紫外線照射強度較宜為對於陽離子聚合引發劑或自由基聚 合引發劑的活化有效的波長區域的強度。較宜為以此種光照射強度照射1次或多次，使得其累計光量為10mJ/cm2以上，較宜為10至5,000mJ/cm2。
作為紫外線的光源，可以舉出低壓汞燈、 中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射器、發出波長範圍380至440nm的光的LED光源、化學燈、黑光燈、微波激發汞燈、金屬鹵化物燈。
作為溶劑，可以舉出水；甲醇、乙醇、異 丙醇、1-丁醇、2-丁醇、二級丁醇、三級丁醇、乙二醇、丙二醇、丁二醇等醇；丙醚、異丙醚、丁醚、異丁醚、正戊醚、異戊醚、甲基丁醚、甲基異丁醚、甲基正戊醚、甲基異戊醚、乙基丙醚、乙基異丙醚、乙基丁醚、乙基異丁醚、乙基正戊醚、乙基異戊醚等飽和脂肪族醚化合物；烯丙醚、乙基烯丙醚等不飽和脂肪族醚化合物；苯甲醚、苯乙醚、苯醚、苄醚等芳香族醚化合物；四氫呋喃、四氫吡喃、二烷等環狀醚化合物；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚等乙二醇醚化合物；甲酸、乙酸、乙酸酐、丙烯酸、檸檬酸、丙酸、丁酸等單羧酸化合物；甲酸丁酯、甲酸戊酯、乙酸丙酯、乙酸異丙酯、乙酸丁酯、乙酸二級丁酯、乙酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸2-乙基己酯、乙酸環己酯、乙酸丁基環己酯、丙酸乙酯、丙酸丁酯、丙酸戊酯、丁酸丁酯、碳酸二乙酯、草酸二乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙 酯、乳酸丁酯、磷酸三乙酯等有機酸酯化合物；丙酮、乙基酮、丙基酮、丁基酮、甲基異丙基酮、甲基異丁基酮、二異丁基酮、乙醯丙酮、二丙酮醇、環己酮、環戊酮、甲基環己酮、環庚酮等酮化合物；琥珀酸、戊二酸、己二酸、十一烷二酸、丙酮酸、檸康酸等二羧酸化合物；1,4-二烷、糠醛、N-甲基吡咯啶酮等。
其中，較宜為水及醇，更宜為碳原子數為1至4的醇，進一步較宜為選自甲醇、乙醇、異丙醇、1-丁醇、2-丁醇、二級丁醇、三級丁醇、乙二醇、丙二醇及丁二醇所組成之群中的至少1種醇，更進一步較宜為異丙醇和/或1-丁醇。
水既可以是純水，也可以以自來水程度含有雜質。
由活性能量射線硬化型接著劑形成的黏接 劑層的厚度通常為0.001至5μm，較宜為0.01μm以上，較宜為4μm以下，更宜為3μm以下。如果由活性能量射線硬化型接著劑形成的黏接劑層過厚，則容易導致光學異向性膜的外觀不良。
<被轉印物>
作為被轉印物，可以舉出與上述基材相同的材料、偏光片、偏光板及顯示裝置等。藉由向被轉印物轉印本實施方式的光學異向性薄片的液晶硬化膜，就可以得到層疊體。
<偏光片及偏光板>
偏光片具有偏光功能。作為偏光片，可以舉出吸附了具有吸收異向性的色素的拉伸膜、或塗布了具有吸收異向性的色素的膜等。作為具有吸收異向性的色素，可以舉出 二色性色素。
吸附了具有吸收異向性的色素的拉伸膜通 常是經過將聚乙烯醇系樹脂膜單軸拉伸的工序、藉由將聚乙烯醇系樹脂膜使用二色性色素染色而吸附該二色性色素的工序、將吸附了二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜使用硼酸水溶液處理的工序、及在借助硼酸水溶液的處理後水洗的工序來製造。
聚乙烯醇系樹脂是藉由將聚乙酸乙烯酯系 樹脂皂化而得到。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，可以舉出作為乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯、乙酸乙烯酯與可以與之共聚的其他的單體的共聚物。作為可以與乙酸乙烯酯共聚的其他的單體，可以舉出不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、具有銨基的丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85至100 莫耳%，較宜為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂也可以被改性，可以使用已用醛類改性的聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯醇縮乙醛。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1,000至10,000，較宜為1,500至5,000的範圍。
將此種聚乙烯醇系樹脂製膜，就可以得到 偏光片的原材膜。聚乙烯醇系樹脂可以利用公知的方法製膜。聚乙烯醇系原材膜的厚度較宜為10至150μm。
聚乙烯醇系樹脂膜的單軸拉伸可以在借助二色性色素的染色之前、與染色同時、或染色之後進行。在染色之後進行單軸拉伸的情況下，該單軸拉伸既可以在 硼酸處理前進行，也可以在硼酸處理中進行。也可以在這些的多個階段中進行單軸拉伸。在單軸拉伸時，既可以在圓周速度不同的輥間單軸地拉伸，也可以使用熱輥單軸地拉伸。單軸拉伸既可以是在大氣中進行拉伸的乾式拉伸，也可以是使用溶劑、在使聚乙烯醇系樹脂膜溶脹的狀態下進行拉伸的濕式拉伸。拉伸倍率通常為3至8倍。
聚乙烯醇系樹脂膜的借助二色性色素的染 色可以利用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有二色性色素的水溶液中的方法來進行。
作為二色性色素，可以舉出碘、二色性的有機染料。 作為二色性的有機染料，可以舉出C.I.DIRECT RED 39等包含雙偶氮化合物的二色性直接染料及包含三偶氮、四偶氮等化合物的二色性直接染料等。聚乙烯醇系樹脂膜較宜為在染色處理前先實施在水中的浸漬處理。
在二色性色素為碘的情況下，通常採用將 聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有碘及碘化鉀的水溶液中而染色的方法。水溶液中的碘的含量是每100質量份水中通常為0.01至1質量份。碘化鉀的含量是每100質量份水中通常為0.5至20質量份。染色中所用的水溶液的溫度通常為20至40℃。在該水溶液中的浸漬時間(染色時間)通常為20至1,800秒。
在二色性色素為二色性的有機染料的情況 下，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有水溶性二色性染料的水溶液中而染色的方法。水溶液中的二色性有機 染料的含量是每100質量份水中通常為1×10-4至10質量份，較宜為1×10-3至1質量份，更宜為1×10-3至1×10-2質量份。該水溶液也可以作為染色助劑含有硫酸鈉之類的無機鹽。水溶液的溫度通常為20至80℃。在該水溶液中的浸漬時間(染色時間)通常為10至1,800秒。
借助二色性色素的染色後的硼酸處理通常 可以利用將已被染色的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在硼酸水溶液中的方法來進行。硼酸水溶液中的硼酸的含量是每100質量份水中通常為2至15質量份，較宜為5至12質量份。 在作為二色性色素使用碘的情況下，該硼酸水溶液較宜為含有碘化鉀，碘化鉀的含量是每100質量份水中通常為0.1至15質量份，較宜為5至12質量份。在硼酸水溶液中的浸漬時間通常為60至1,200秒，較宜為150至600秒，更宜為200至400秒。硼酸處理的溫度通常為50℃以上，較宜為50至85℃，更宜為60至80℃。
硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜通常被進 行水洗處理。水洗處理可以利用將進行了硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在水中的方法來進行。水洗處理中的水的溫度通常為5至40℃。浸漬時間通常為1至120秒。
在水洗後實施乾燥處理，就可以得到偏光片。乾燥處理可以使用熱風乾燥機、遠紅外線加熱器進行。乾燥處理的溫度通常為30至100℃，較宜為50至80℃。乾燥處理的時間通常為60至600秒，較宜為120至600秒。利用乾燥處理，將偏光片的水分率降低到實用程度。該水 分率通常為5至20質量%，較宜為8至15質量%。如果水分率在5質量%以下，則會喪失偏光片的可撓性，偏光片在該乾燥後會有損傷、或斷裂的情況。如果水分率超過20質量%，則偏光片的熱穩定性有可能變差。
像這樣對聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉 伸、借助二色性色素的染色、硼酸處理、水洗及乾燥而得的偏光片的厚度較宜為5至40μm。
作為塗布了具有吸收異向性的色素的膜， 可以舉出塗布含有具有液晶性的二色性色素的組成物或含有二色性色素和聚合性液晶的組成物而得的膜等。
雖然塗布了具有吸收異向性的色素的膜越薄越好，然而如果過薄則強度降低，有加工性變差的趨勢。該膜的厚度通常為20μm以下，較宜為5μm以下，更宜為0.5至3μm。
作為塗布了具有吸收異向性的色素的膜，具體而言，可以舉出日本特開2012-33249號公報等中記載的膜。
藉由在偏光片的至少一個面隔著接著劑層疊透明保護膜就可以得到偏光板。作為透明保護膜，較宜為與前述的基材相同的透明膜。
<光學異向性薄片的製造方法>
在基材表面或形成於基材上的配向膜表面塗布液晶硬化膜形成用組成物。作為塗布的方法，可以舉出與作為將配向性聚合物組成物塗布在基材上的方法例示的方法相同 的方法。所塗布的液晶硬化膜形成用組成物的厚度可以考慮所得的液晶硬化膜的厚度來確定。
然後，藉由在聚合性液晶化合物不聚合的 條件下將液晶硬化膜形成用組成物中所含的溶劑除去，就可以在基材或配向膜表面形成液晶硬化膜形成用組成物的乾燥被膜。作為溶劑的除去方法，可以舉出自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。
在對乾燥被膜進行加熱等而使乾燥被膜中 所含的聚合性液晶化合物進行液晶配向後，在保持該液晶配向的狀態下，對乾燥被膜照射能量，由此使聚合性液晶化合物聚合。在液晶硬化膜形成用組成物含有聚合引發劑的情況下，較宜為照射可以將聚合引發劑活化的條件的能量。在聚合引發劑為光聚合引發劑的情況下，能量較宜為光。所照射的光可以根據乾燥被膜中所含的聚合引發劑的種類、或聚合性液晶化合物的種類(特別是該聚合性液晶化合物所具有的聚合基的種類)及其量適當地選擇。作為該光，可以舉出選自可見光、紫外光及雷射光所組成之群中的光或活性電子束等。其中，從容易控制聚合反應的進行的方面、作為聚合的裝置可以使用該領域中廣泛地使用的裝置的方面考慮，較宜為紫外光。由此，較宜為以可以利用紫外光聚合的方式，預先選擇液晶硬化膜形成用組成物中所含的聚合性液晶化合物及聚合引發劑的種類。在使之聚合時，較宜為在紫外光照射的同時，還利用適當的冷卻機構將乾燥被膜冷卻，由此來控制聚合溫度。如果利用此 種冷卻，在更低溫度下將聚合性液晶化合物聚合，則即使在基材中使用耐熱性低的材料，也可以適宜地製造液晶硬化膜。
像這樣就在基材或配向膜表面形成具有液晶配向的液晶硬化膜。
<底塗層>
也可以在所得的液晶硬化膜的表面設置底塗層。
底塗層通常是含有透明樹脂的層，由透明樹脂溶液形成。底塗層可以在形成黏接劑層時抑制液晶硬化膜的缺陷。作為透明樹脂，較宜為塗布性優異、底塗層形成後的透明性及密合性優異的樹脂。
透明樹脂溶液的溶劑可以根據透明樹脂的 溶解性來選擇。作為溶劑，可以舉出苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴溶劑；丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮等酮溶劑；乙酸乙酯、乙酸異丁酯等酯溶劑；二氯甲烷、三氯乙烯、氯仿等氯化烴溶劑；乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇等醇溶劑等。如果使用含有有機溶劑的透明樹脂溶液形成底塗層，則會對液晶硬化膜的光學特性造成影響，因此較宜為水。
作為透明樹脂，可以舉出環氧樹脂。環氧 樹脂既可以是單組分硬化型，也可以是雙組分硬化型。特別較宜為水溶性的環氧樹脂。作為水溶性的環氧樹脂，可以舉出使表氯醇與利用二伸乙基三胺、三伸乙基四胺之類的聚伸烷基聚胺與己二酸之類的二羧酸的反得到的聚醯胺 聚胺反應而得的聚醯胺環氧樹脂。作為該聚醯胺環氧樹脂的市售品，可以舉出由住化ChemteX(股)所售的Sumirez Resin 650(30)、Sumirez Resin 675等。
在透明樹脂為水溶性的環氧樹脂的情況 下，為了進一步提高塗布性，較宜為併用聚乙烯醇系樹脂等其他的水溶性樹脂。聚乙烯醇系樹脂也可以是部分皂化聚乙烯醇、完全皂化聚乙烯醇、羧基改性聚乙烯醇、乙醯乙醯基改性聚乙烯醇、羥甲基改性聚乙烯醇、胺基改性聚乙烯醇之類的已被改性的聚乙烯醇系樹脂。作為適當的聚乙烯醇系樹脂的市售品，可以舉出由(股)Kuraray所售的作為含有陰離子性基的聚乙烯醇的KL-318(商品名)等。
在由含有水溶性的環氧樹脂的溶液形成底 塗層的情況下，環氧樹脂的含量相對於水100質量份較宜為0.2至1.5質量份。在溶液中調配聚乙烯醇系樹脂的情況下，其量相對於水100質量份較宜為1至6質量份。底塗層的厚度較宜為0.1至10μm。
底塗層的形成方法沒有限制，可以使用直 接凹版法、反轉凹版法、模塗法、逗號塗布法、棒塗法等公知的各種塗布法。
<黏接劑層>
也可以在所得的液晶硬化膜或底塗層的表面形成黏接劑層。黏接劑層是藉由將黏接劑塗布在液晶硬化膜或底塗層的表面而形成。在黏接劑含有溶劑的情況下，藉由將黏接劑塗布在液晶硬化膜或底塗層的表面，並除去溶劑而形 成。由黏合劑形成的黏接劑層也可以利用如下的方法來形成，即，藉由在實施了脫模處理的膜的脫模處理面塗布黏合劑，並除去溶劑而在被實施了脫模處理的膜的脫模處理面形成黏接劑層後，將該帶有黏接劑層的膜以使黏接劑層側成為貼合面的方式貼合在液晶硬化膜或底塗層的表面。 可以利用電暈處理，進一步提高液晶硬化膜或底塗層與黏接劑層的密合性。
作為塗布黏接劑的方法，可以舉出與作為 將配向性聚合物組成物塗布在基材上的方法例示的方法相同的方法。作為從所塗布的黏接劑中除去溶劑的方法，可以舉出與作為從配向性聚合物組成物中除去溶劑的方法相同的方法。
<圓偏光板>
被轉印物為偏光片或偏光板，藉由將從本實施方式的光學異向性薄片中除去基材而得的光學異向性膜在被轉印物上轉印，就能以層疊體的形式得到圓偏光板。
<用途>
光學異向性膜及圓偏光板可以用於各種各樣的顯示裝置中。所謂顯示裝置，是具有顯示元件的裝置，作為發光源包含發光元件或發光裝置。作為顯示裝置，可以舉出液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、無機電致發光(EL)顯示裝置、觸摸面板顯示裝置、電子發射顯示裝置(場發射顯示裝置(FED等)、表面傳導電子發射顯示裝置(SED))、電子紙(使用了電子墨液、電泳元件的顯示裝置)、 電漿顯示裝置、投射型顯示裝置(光柵閥(GLV)顯示裝置、具有數位微鏡器件(DMD)的顯示裝置等)及壓電陶瓷顯示器等。液晶顯示裝置也包括透射型液晶顯示裝置、半透射型液晶顯示裝置、反射型液晶顯示裝置、直視型液晶顯示裝置及投影型液晶顯示裝置等的任意一種。這些顯示裝置既可以是顯示二維圖像的顯示裝置，也可以是顯示三維圖像的立體顯示裝置。特別是圓偏光板可以有效地用於有機電致發光(EL)顯示裝置及無機電致發光(EL)顯示裝置中，光學補償偏光板可以有效地用於液晶顯示裝置及觸摸面板顯示裝置中。
第1圖是表示包含光學異向性膜的液晶顯 示裝置10的剖面構成的示意圖。液晶層17由2片基材14a及基材14b夾持。在基材14a的液晶層17側，配置有濾色器15。濾色器15被配置在夾著液晶層17與圖元電極22相面對的位置，在與圖元電極間的交界相面對的位置配置有黑矩陣20。覆蓋濾色器15及黑矩陣20地在液晶層17側配置有透明電極16。而且，也可以在濾色器15與透明電極16之間具有覆蓋層(overcoat layer)(未圖示)。
在基材14b的液晶層17側，有規律地配置 著薄膜電晶體21和圖元電極22。圖元電極22被配置在夾著液晶層17與濾色器15相面對的位置。在薄膜電晶體21與圖元電極22之間，配置有具有連接孔(未圖示)的層間絕緣膜18。
作為基材14a及基材14b，使用玻璃基材及 塑膠基材。作為該玻璃基材、塑膠基材，可以舉出與上述的作為基材例示的材料相同的材料。在製造形成於基材上的濾色器15、薄膜電晶體21時需要在高溫下加熱的工序的情況下，較宜為玻璃基材或石英基材。
薄膜電晶體可以根據基材14b的材質採用 最佳的電晶體。作為薄膜電晶體21，可以舉出形成於石英基材上的高溫多晶矽電晶體、形成於玻璃基材上的低溫多晶矽電晶體、形成於玻璃基材或塑膠基材上的無定形矽電晶體。為了將液晶顯示裝置進一步小型化，也可以在基材14b上形成驅動IC。
在透明電極16與圖元電極22之間，配置有 液晶層17。在液晶層17中，為了將基材14a與基材14b間的距離保持一定，配置有墊片(spacer)23。而且，雖然以柱狀的墊片圖示，然而該墊片並不限定為柱狀，只要可以將基材14a與基材14b間的距離保持一定，則其形狀可以是任意形狀。
各構件被依照基材14a、濾色器15及黑矩 陣20、透明電極16、液晶層17、圖元電極22、層間絕緣膜18及薄膜電晶體21、以及基材14b的順序層疊。
在此種夾持著液晶層17的基材14a及基材 14b中的基材14a及基材14b的外側，設有偏光膜12a及12b。此外，還層疊有相位差膜(例如1/4波長板或光學補償膜)13a及13b，它們中，在至少1個相位差膜中使用光學異向性膜。利用這些相位差膜，可以對液晶顯示裝置10 賦予將入射光變換為直線偏光的功能。而且，也可以根據液晶顯示裝置的結構、液晶層17中所含的液晶化合物的種類，而不配置相位差膜13a及13b。
藉由在相位差膜13a和/或13b中使用液晶 硬化膜，就可以實現液晶顯示裝置10的進一步的薄型化。
在偏光膜12b的外側，配置有作為發光源的 背光燈單元19。背光燈單元19包括光源、導光體、反射板、擴散片及視角調整片。作為光源，可以舉出電致發光、冷陰極管、熱陰極管、發光二極體(LED)、雷射源及汞燈等。
在液晶顯示裝置10為透射型液晶顯示裝置 的情況下，從背光燈單元19中的光源發出的白色光射入導光體，由反射板改變前進路線後由擴散片擴散。擴散光在由視角調整片調整為具有所需的指向性後從背光燈單元19射入偏光膜12b。
作為非偏光的入射光中僅某一條直線偏光 從液晶面板的偏光片12b透射。該直線偏光依次從基材14b、圖元電極22等透射而到達液晶層17。
此處利用圖元電極22與相面對的透明電極 16之間的電位差的有無，改變液晶層17中所含的液晶分子的配向狀態，控制從液晶顯示裝置10中射出的光的亮度。在液晶層17為使偏光直接透射的配向狀態的情況下，從液晶層17、透明電極16及濾色器15透射的光由偏光膜12a吸收。由於該原因，該圖元顯示出黑色。
相反，在液晶層17為將偏光變換而使之透 射的配向狀態的情況下，該偏光從液晶層17、透明電極16透射，某個特定的波長範圍的光從濾色器15透射而到達偏光膜12a，液晶顯示裝置最亮地顯示出由濾色器決定的顏色。在這2個狀態的中間的配向狀態下，從液晶顯示裝置10中射出的光的亮度也處於上述兩者的中間，因此該圖元顯示出中間色。
第2圖是表示有機EL顯示裝置30的概略 圖。第2圖的(a)中所示的有機EL顯示裝置30具備圓偏光板31，在隔著層間絕緣膜33形成有圖元電極34的基板32上，層疊有發光層35、及陰極電極36。在夾著基板32與發光層35相反的一側，配置圓偏光板31。對圖元電極34施加正的電壓，對陰極電極36施加負的電壓，對圖元電極34與陰極電極36間施加直流電流，由此發光層35就會發光。發光層35包含電子傳輸層、發光層及電洞傳輸層等。 從發光層35中射出的光從圖元電極34、層間絕緣膜33、基板32、圓偏光板31通過。
為了製造有機EL顯示裝置30，首先，在基 板32上以所需的形狀形成薄膜電晶體38。此後形成層間絕緣膜33，然後利用濺射法形成圖元電極34並形成圖案。 其後，層疊發光層35。
然後，在基板32的設有薄膜電晶體38的一 面的相反一面，設置圓偏光板31。該情況下，以使圓偏光板31的偏光板處於外側(基板32的相反一側)的方式配置。
作為基板32，可以舉出藍寶石玻璃基板、 石英玻璃基板、鈉玻璃基板及氧化鋁等陶瓷基板；銅等金屬基板；塑膠基板等。雖然未圖示，然而也可以在基板32上形成導熱性膜。作為導熱性膜，可以舉出金剛石薄膜(DLC等)等。在將圖元電極34設為反射型的情況下，向與基板32相反的方向射出光。因而，不僅可以使用透明材料，還可以使用不銹鋼等非透射材料。既可以單一地形成基板，也可以用接著劑將多個基板貼合而以層疊基板的形式形成基板。這些基板既可以是板狀，也可以是膜。
作為薄膜電晶體38，只要使用多晶矽電晶 體等即可。薄膜電晶體38設於圖元電極34的端部，其大小為10至30μm。而且，圖元電極34的大小為20μm×20μm至300μm×300μm。
在基板32上，設有薄膜電晶體38的佈線電 極。佈線電極的電阻低，與圖元電極34電連接而具有將電阻值抑制得較低的功能，一般而言該佈線電極使用含有Al、Al及過渡金屬(其中除去Ti)、Ti或氮化鈦(TiN)的任意1種或2種以上的電極。
在薄膜電晶體38與圖元電極34之間設有層 間絕緣膜33。層間絕緣膜33只要是利用濺射、真空蒸鍍將SiO2等氧化矽、氮化矽等無機系材料成膜而得的膜、利用SOG(Spin-On-Glass)形成的氧化矽層、光阻劑(photoresist)、聚醯亞胺及丙烯酸樹脂等樹脂系材料的塗膜等具有絕緣性的膜，則無論是哪一種都可以。
在層間絕緣膜33上，形成加強筋(rib)39。 加強筋39被配置於圖元電極34的周邊部(相鄰圖元間)。 作為加強筋39的材料，可以舉出丙烯酸樹脂及聚醯亞胺樹脂等。加強筋39的厚度較宜為1.0至3.5μm，更宜為1.5至2.5μm。
下面，對包含圖元電極34、發光層35、和 陰極電極36的EL元件進行說明。發光層35具有分別至少為1層的電洞傳輸層及發光層，依次具有電子注入傳輸層、發光層、電洞傳輸層及電洞注入層。
作為圖元電極34，可以舉出ITO(摻錫氧化 銦)、IZO(摻鋅氧化銦)、IGZO、ZnO、SnO2及In2O3等，然而特別較宜為ITO、IZO。圖元電極35的厚度只要具有足夠進行電洞注入的一定以上的厚度即可，較宜為10至500nm。
圖元電極34可以利用蒸鍍法(較宜為濺射 法)形成。作為濺射氣體，可以舉出Ar、He、Ne、Kr及Xe等惰性氣體、或它們的混合氣體。
作為陰極電極36的構成材料，可以舉出K、 Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn及Zr等金屬元素，為了提高電極的運作穩定性，較宜為選自例示的金屬元素中的2個成分或3個成分的合金系。作為合金系，較宜為Ag‧Mg(Ag：1至20at%)、Al‧Li(Li：0.3至14at%)、In‧Mg(Mg：50至80at%)及Al‧Ca(Ca：5至20at%)等。
利用蒸鍍法及濺射法等形成陰極電極36。 陰極電極36的厚度通常為0.1nm以上，較宜為1至500nm。
電洞注入層具有使得來自圖元電極34的電洞的注入變得容易的功能，電洞傳輸層具有輸送電洞的功能及阻礙電子的功能，也被稱作電荷注入層、電荷傳輸層。
發光層的厚度、電洞注入層與電洞傳輸層的總厚度、及電子注入傳輸層的厚度較宜為5至100nm。在電洞注入層、電洞傳輸層中，可以使用各種有機化合物。作為電洞注入傳輸層、發光層及電子注入傳輸層的形成方法，從可以形成均勻的薄膜的方面考慮，較宜為真空蒸鍍法。
作為發光層35，可以使用利用來自單線態激子的發光(螢光)的物質、利用來自三線態激子的發光(磷光)的物質、含有利用來自單線態激子的發光(螢光)的物質和利用來自三線態激子的發光(磷光)的物質的混合物、由有機物形成的物質、含有由有機物形成的物質和由無機物形成的物質的混合物、高分子的材料、低分子的材料、含有高分子的材料和低分子的材料的混合物等，可以將使用了作為EL元件用途所公知的各種物質的發光層35用於有機EL顯示裝置30中。
在陰極電極36與密封層37的空間中，配置乾燥劑(未圖示)。利用乾燥劑吸收水分而防止發光層35的劣化。
第2圖的(b)中所示的本實施方式的有機EL顯示裝置30具備圓偏光板31，是在隔著層間絕緣膜33形 成有圖元電極34的基板32上層疊發光層35、及陰極電極36的裝置。在陰極電極上形成密封層37，在與基板32相反的一側，配置圓偏光板31。從發光層35中射出的光穿過陰極電極36、密封層37、圓偏光板31。
[實施例]
以下，利用實施例對本發明進行更詳細的說明。例中的"%"及"份"只要沒有特別指出，就是質量%及質量份。
例中的電暈處理的條件如下所示(機器：春日電機股份有限公司製的AGF-B10、功率：0.3kW、處理速度：3m/分鐘、次數：1次)。
[光配向膜形成用組成物的製備]
將下述成分混合，將所得的混合物在80℃攪拌1小時，由此得到光配向膜形成用組成物(1)。下述具有光反應性基的聚合物以日本特開2013-33248號公報記載的方法合成。
具有光反應性基的聚合物：1份
溶劑：丙二醇單甲醚 99份
[液晶硬化膜形成用組成物(1)的製備]
將下述的成分混合，將所得的混合物在80℃攪拌1小時，由此得到液晶硬化膜形成用組成物(1)。聚合性液晶化合物A1利用日本特開2010-31223號公報記載的方法合 成。聚合性液晶化合物A2利用日本特開2010-24438號公報記載的方法合成。
聚合性液晶化合物A1：86份
聚合性液晶化合物A2：14份
[活性能量射線硬化型接著劑的製備]
將以下的各成分混合，製備出活性能量射線硬化型接著劑(1)。
3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧環己基甲酸酯 40份
[聚對苯二甲酸乙二酯膜]
在聚對苯二甲酸乙二酯膜(1)(以下記作PET膜(1))中，使用了三菱樹脂(股)製的"Diafoil(注冊商標)T140E25"。
在聚對苯二甲酸乙二酯膜(2)(以下記作PET膜(2))中，使用了東洋紡(股)製的製品"E5000"。
[水接觸角的測定]
使用協和界面科學股份有限公司製DropMaster700，利用液滴法(液量：1.2μL)測定PET膜(1)及(2)的卷外面的水接觸角。將結果表示於表1中。
[表面粗糙度的測定]
使用SPM(日立Hitec Science公司製、SPA-300HV及SPI4000)測定PET膜(1)及(2)的卷外面的表面粗糙度。使用懸臂SI-DF20(背面有Al塗層)測定該PET膜的1μm2視野的3點的平均。將結果表示於表1中。
實施例1 [光學異向性膜的製造] 1.光配向膜的形成
在PET膜(1)的卷外面，利用棒塗法塗布光配向膜形成用組成物(1)，在60℃的烘箱中加熱乾燥1分鐘。對所得的乾燥被膜實施偏光UV照射處理而在PET膜(1)表面形成光配向膜(1)。就偏光UV處理而言，使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；Ushio電機股份有限公司製)以100mJ/cm2的累計光量實施偏光UV曝光。所得的光配向膜(1)的膜厚為160nm。
2.液晶硬化膜的形成
在光配向膜(1)的表面，利用棒塗法塗布液晶硬化膜形成用組成物(1)，在120℃的烘箱中加熱乾燥1分鐘後，冷卻到室溫而得到乾燥被膜。對所得的乾燥被膜，使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；Ushio電機股份有限公司製)，照射曝光量1000mJ/cm2(365nm基準)的紫外線，形成使聚合性液晶化合物在相對於基材面內沿水平方向配向的狀態下硬化了的液晶硬化膜(1)，得到光學異向性薄片(1)。利用雷射顯微鏡(奧林巴斯股份有限公司製OLS3000)測定所形成的液晶硬化膜的厚度，其結果是2.3μm。
3.液晶硬化膜的轉印
對所得的液晶硬化膜(1)的表面進行電暈處理後，利用棒塗法在其上塗布活性能量射線硬化型接著劑(1)，在其上壓接電暈處理過的Zeonor膜，從該Zeonor膜側使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；Ushio電機股份有限公司製)，照射曝光量1000mJ/cm2(365nm基準)的紫外線。藉由同時除 去PET膜(1)及光配向膜(1)，由此在Zeonor膜上轉印液晶硬化膜，得到包含液晶硬化膜(1)、接著劑層及Zeonor膜的層疊體(1)。此時的接著劑層與液晶硬化膜(1)的合計的厚度為4.8μm。
4.延遲測定
使用測定機(KOBRA-WR、王子計測機器公司製)，在450nm到700nm的波長範圍內測定層疊體(1)的相位差值，利用裝置附屬程式算出波長450nm的相位差值Re(450)、波長550nm的相位差值Re(550)、波長650nm的相位差值Re(650)，其結果是以下所示的值。
Re(450)=126nm
Re(550)=145nm
Re(650)=149nm
Re(450)/Re(550)=0.87
Re(650)/Re(550)=1.03
即，液晶硬化膜(1)具有以下述式(1)及(2)表示的光學特性。而且，由於Zeonor膜的波長550nm處的相位差值大致為0，因此對該正面相位差值的關係沒有影響。
Re(450)/Re(550)≦1.00 (1)
1.00≦Re(650)/Re(550) (2)
參考例1 1.液晶硬化膜的形成
除了代替PET膜(1)而使用PET膜(2)以外，與實施例1相同地形成液晶硬化膜(1)，得到光學異向性薄片(2)。利用 雷射顯微鏡(奧林巴斯股份有限公司製OLS3000)測定所形成的液晶硬化膜的厚度，其結果是2.2μm。
2.液晶硬化膜的轉印
對所得的液晶硬化膜(1)的表面進行電暈處理後，利用棒塗法在其上塗布活性能量射線硬化型接著劑(1)，在其上壓接電暈處理過的Zeonor膜，從該Zeonor膜側使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；Ushio電機股份有限公司製)，照射曝光量1000mJ/cm2(365nm基準)的紫外線。同時除去PET膜(2)及光配向膜，在Zeonor膜上轉印液晶硬化膜，得到包含液晶硬化膜(1)、接著劑層及Zeonor膜的層疊體(2)。在除去PET膜(2)及光配向膜時，在液晶硬化膜表面產生了條紋及凸狀缺陷。接著劑層與液晶硬化膜(1)的厚度的合計為4.8μm。
3.延遲測定
與實施例1相同地測定層疊體(2)的相位差值，其結果是以下所示的值。
Re(450)=118nm
Re(550)=136nm
Re(650)=140nm
Re(450)/Re(550)=0.87
Re(650)/Re(550)=1.03
即，液晶硬化膜(1)具有以下述式(1)及(2)表示的光學特性。而且，由於Zeonor膜的波長550nm處的相位差值大致為0，因此對該正面相位差值的關係沒有影響。
Re(450)/Re(550)≦1.00 (1)
1.00≦Re(650)/Re(550) (2)
[評價]
使用Suga試驗機股份有限公司製霧度計(型號HZ-2)，利用雙光束法，測定出PET膜(1)及PET膜(2)、光學異向性薄片(1)、光學異向性薄片(2)、層疊體(1)及層疊體(2)的霧度值。霧度值越小，則透明性越優異。
將結果表示於表2中。另外，利用目視確認了缺陷的有無。
可以確認，由本發明的光學異向性薄片得 到的層疊體的透明性高，另外，缺陷少。在轉印前的光學異向性薄片(1)和光學異向性薄片(2)中，透明性及缺陷沒有大的差別，因此可知，本發明的光學異向性薄片在轉印用途中表現出優異的特性。
本發明的光學異向性薄片可以轉印缺陷少 的光學異向性膜，因而有用。
10‧‧‧液晶顯示裝置
12a、12b‧‧‧偏光膜
13a、13b‧‧‧相位差膜
14a、14b‧‧‧基材
15‧‧‧濾色器
16‧‧‧透明電極
17‧‧‧液晶層
18‧‧‧層間絕緣膜
19‧‧‧背光燈單元
20‧‧‧黑矩陣
21‧‧‧薄膜電晶體
22‧‧‧圖元電極
23‧‧‧墊片

Claims (7)

  1. 一種光學異向性薄片，是將基材和液晶硬化膜層疊而得的光學異向性薄片，其中，基材的1μm2視野中的表面粗糙度為1.0nm以下，基材的水接觸角為70度以上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的光學異向性薄片，其中，基材含有聚對苯二甲酸乙二酯。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述的光學異向性薄片，其中，在基材與液晶硬化膜之間具有配向膜。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的光學異向性薄片，其中，液晶硬化膜滿足下述式(1)及(2)：Re(450)/Re(550)1.00 (1) 1.00Re(650)/Re(550) (2)Re(450)、Re(550)、Re(650)分別表示對於波長450nm、550nm、650nm的光的正面相位差值。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的光學異向性薄片，其中，液晶硬化膜的厚度為0.5至5μm。
  6. 一種層疊體，藉由在申請專利範圍第1至5項中任一項所述的光學異向性薄片的液晶硬化膜表面形成黏接劑層，在黏接劑層上層疊被轉印物後，除去前述光學異向性薄片的基材而得到者。
  7. 一種顯示裝置，其具備申請專利範圍第6項所述的層疊體。
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6172556B2 (ja) * 2015-01-16 2017-08-02 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
CN107108775B (zh) * 2015-01-16 2019-12-13 Dic株式会社 聚合性组合物和使用该聚合性组合物的光学各向异性体
US11186669B2 (en) 2015-01-16 2021-11-30 Dic Corporation Polymerizable composition and optically anisotropic body using same
US20170145312A1 (en) * 2015-11-25 2017-05-25 Sumitomo Chemical Company, Limited Liquid crystal composition
KR102167466B1 (ko) * 2016-03-29 2020-10-19 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 액정 조성물
JP6718503B2 (ja) * 2016-04-28 2020-07-08 富士フイルム株式会社 偏光板、偏光板の製造方法、液晶表示装置
JP6294536B2 (ja) * 2016-05-23 2018-03-14 住友化学株式会社 液晶組成物
WO2018003416A1 (ja) * 2016-06-30 2018-01-04 住友化学株式会社 位相差フィルム
JP6363252B1 (ja) * 2017-04-24 2018-07-25 日東電工株式会社 ホメオトロピック配向液晶フィルムの製造方法
KR102383293B1 (ko) * 2018-01-25 2022-04-05 주식회사 엘지화학 다층 액정 필름, 편광판 및 편광판의 제조방법
JP7122168B2 (ja) * 2018-06-14 2022-08-19 住友化学株式会社 接着層付き積層体、積層体、液晶層積層体、液晶フィルムの製造方法、及び、光学積層体の製造方法
WO2020116174A1 (ja) * 2018-12-04 2020-06-11 富士フイルム株式会社 光学積層体および偏光板

Family Cites Families (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5061042A (en) 1987-02-02 1991-10-29 Sumitomo Chemical Co., Ltd. Phase retarder and liquid crystal display using the same
US4977013A (en) 1988-06-03 1990-12-11 Andus Corporation Tranparent conductive coatings
JPH0634976A (ja) 1992-07-21 1994-02-10 Toshiba Corp 液晶表示素子
EP0617111B1 (en) * 1993-03-25 1997-09-17 Sumitomo Chemical Company Limited Optically anisotropic material, process for producing it, and retardation plate and liquid crystal display device using same
WO2000018504A1 (fr) 1998-09-30 2000-04-06 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Article photocatalyseur, article protege contre l'encrassement et le voilement, et procede de production d'un article protege contre l'encrassement et le voilement
JP4562227B2 (ja) * 2000-01-31 2010-10-13 日東電工株式会社 光学用樹脂基板の製造方法
JP3668439B2 (ja) * 2001-06-14 2005-07-06 ソニーケミカル株式会社 接着フィルム
JP4266289B2 (ja) * 2002-01-16 2009-05-20 日東電工株式会社 ホメオトロピック配向液晶フィルムの製造方法、ホメオトロピック配向液晶フィルムおよび光学フィルム
JP4213616B2 (ja) 2004-03-31 2009-01-21 大日本印刷株式会社 液晶パネル用ベースフィルム、液晶パネル用機能フィルム、機能フィルムの製造方法、および機能フィルムの製造装置
JP2005309290A (ja) * 2004-04-26 2005-11-04 Sumitomo Chemical Co Ltd 複合偏光板、その製造方法及び液晶表示装置
JP2005338215A (ja) * 2004-05-25 2005-12-08 Sumitomo Chemical Co Ltd 複合位相差板及び複合光学部材の製造方法
DE602005006508D1 (de) 2004-12-07 2008-06-19 Merck Patent Gmbh Polymerisierbare Flüssigkristallzusammensetzungen und Polarisator
JP2006267625A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Nitto Denko Corp 液晶パネル、液晶テレビおよび液晶表示装置
JP4772528B2 (ja) * 2005-03-29 2011-09-14 富士フイルム株式会社 転写材料、それを用いた液晶セル用基板の製造方法及びカラーフィルタ、ならびに液晶表示装置
KR101247827B1 (ko) * 2005-03-31 2013-03-26 가부시키가이샤 가네카 위상차 필름 및 그의 제조 방법
CN101283040B (zh) 2005-10-07 2010-12-22 旭化成电子材料株式会社 光学材料用树脂组合物
JP4651101B2 (ja) 2005-10-21 2011-03-16 日東電工株式会社 粘着型位相差層付偏光板、その製造方法、光学フィルムおよび画像表示装置
TW200804476A (en) 2005-11-25 2008-01-16 Fujifilm Corp Cellulose acylate film, method of producing the same, cellulose derivative film, optically compensatory film using the same, optically-compensatory film incorporating polarizing plate, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2007272211A (ja) * 2006-03-07 2007-10-18 Mitsubishi Chemicals Corp 光学素子、及び光学素子の製造方法
JP2007251080A (ja) * 2006-03-20 2007-09-27 Fujifilm Corp プラスチック基板の固定方法、回路基板およびその製造方法
JP2007271942A (ja) 2006-03-31 2007-10-18 Konica Minolta Opto Inc 光学フィルム
KR101437703B1 (ko) 2006-06-21 2014-09-03 코니카 미놀타 어드밴스드 레이어즈 인코포레이티드 편광판 보호 필름, 편광판, 액정 표시 장치
JP4805785B2 (ja) 2006-10-24 2011-11-02 Ｍｇｃフィルシート株式会社 防眩性積層体、塗膜防眩性積層体、防眩性材料、及び該防眩性材料の製造方法
JP2008292978A (ja) * 2007-04-26 2008-12-04 Mitsubishi Chemicals Corp 位相差膜および光学素子、並びに位相差膜の製造方法
JP2007304620A (ja) 2007-07-11 2007-11-22 Konica Minolta Holdings Inc 光学異方体の製造方法とそれを用いた偏光板及び液晶表示装置
CN101790429A (zh) * 2007-08-31 2010-07-28 旭硝子株式会社 液晶聚合物层压体的制造方法
EP2183337B1 (en) 2007-09-03 2011-07-20 Merck Patent GmbH Fluorene derivatives
JP4610601B2 (ja) * 2007-12-10 2011-01-12 三菱電機株式会社 天吊形空気調和機
JP5391682B2 (ja) 2007-12-28 2014-01-15 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP5317162B2 (ja) * 2008-03-18 2013-10-16 学校法人中部大学 プラズマ装置、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP5451176B2 (ja) 2008-05-20 2014-03-26 住友化学株式会社 光学フィルム、偏光板、表示装置及び光学フィルムの製造方法
JP5899607B2 (ja) * 2009-03-16 2016-04-06 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
KR101677764B1 (ko) 2009-04-21 2016-11-18 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 화합물
KR101097431B1 (ko) * 2009-04-28 2011-12-23 제일모직주식회사 디스플레이 패널용 플렉서블 기판 및 그 제조 방법
JP5361536B2 (ja) * 2009-05-26 2013-12-04 富士フイルム株式会社 複屈折パターン認証用ビューワ、複屈折パターン認証用キット、真正性認証媒体、および真正性認証方法
JP2011006360A (ja) * 2009-06-26 2011-01-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP5451235B2 (ja) 2009-07-31 2014-03-26 富士フイルム株式会社 複屈折パターンを有する物品の製造方法及び複屈折パターン作製材料
WO2011024683A1 (ja) 2009-08-31 2011-03-03 コニカミノルタオプト株式会社 光学補償フィルム、偏光板及び液晶表示装置
JP4645772B1 (ja) 2009-10-09 2011-03-09 ソニー株式会社 位相差素子用配向膜およびその製造方法、位相差素子およびその製造方法、表示装置
JP2011201983A (ja) * 2010-03-25 2011-10-13 Nitto Denko Corp 表面保護シート用基材および表面保護シート
JP2012033249A (ja) 2010-07-08 2012-02-16 Fuji Electric Co Ltd 磁気転写用マスター基板、それを用いた磁気転写方法および磁気転写媒体
JP5729933B2 (ja) 2010-07-28 2015-06-03 富士フイルム株式会社 複屈折パターン作製材料
JP5414738B2 (ja) * 2010-09-03 2014-02-12 日東電工株式会社 薄型偏光膜の製造方法
JP2012077056A (ja) * 2010-10-06 2012-04-19 Sumitomo Chemical Co Ltd ジヒドロキシベンゼン化合物の製造方法
JP2012113000A (ja) 2010-11-19 2012-06-14 Fujifilm Corp 複屈折パターン転写箔
CN103238089B (zh) * 2010-12-02 2015-08-26 日东电工株式会社 偏振片的制造方法
KR101676894B1 (ko) * 2011-01-25 2016-11-29 주식회사 엘지화학 액정 필름
CN103443162B (zh) * 2011-03-28 2016-09-21 富士胶片株式会社 导电性组合物、使用该组合物的导电性膜及其制备方法
KR101945053B1 (ko) 2011-07-07 2019-02-01 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 광반응성 액정 배향제, 및 액정 배향 소자 및 그의 제조 방법
JP2013071956A (ja) * 2011-09-27 2013-04-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 組成物及び光学フィルム
JP5796449B2 (ja) * 2011-10-12 2015-10-21 旭硝子株式会社 電子デバイスの製造方法、樹脂層付きキャリア基板の製造方法
JP2013092707A (ja) 2011-10-27 2013-05-16 Fujifilm Corp 調光用偏光板、及びシャッター用偏光板
KR101499900B1 (ko) * 2011-12-28 2015-03-09 삼성전자 주식회사 광학필름 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
JP5413538B1 (ja) * 2012-01-31 2014-02-12 東レ株式会社 透明導電積層体、その製造方法、それを用いた電子ペーパーおよびそれを用いたタッチパネル
KR101515527B1 (ko) * 2012-08-21 2015-04-27 주식회사 엘지화학 광학 이방성 필름
EP3018164B1 (en) 2013-07-05 2019-03-06 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Polyimide resin
KR102368381B1 (ko) 2013-08-09 2022-02-28 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 광학 필름
TWI645962B (zh) 2013-08-09 2019-01-01 住友化學股份有限公司 光學異向性薄片
JP2015079230A (ja) 2013-09-10 2015-04-23 住友化学株式会社 積層体の製造方法
KR20150065600A (ko) 2013-12-05 2015-06-15 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 광학 이방성 막의 제조 방법
JP6342791B2 (ja) 2013-12-27 2018-06-13 住友化学株式会社 偏光板用保護フィルム及びそれを用いた偏光板
JP2015143786A (ja) 2014-01-31 2015-08-06 住友化学株式会社 液晶硬化膜
KR20180044882A (ko) * 2015-08-28 2018-05-03 히타치가세이가부시끼가이샤 피단열체의 제조 방법 및 피단열체

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