KR102448670B1 - 전사용 광학 이방성 시트 - Google Patents

전사용 광학 이방성 시트 Download PDF

Info

Publication number
KR102448670B1
KR102448670B1 KR1020150015211A KR20150015211A KR102448670B1 KR 102448670 B1 KR102448670 B1 KR 102448670B1 KR 1020150015211 A KR1020150015211 A KR 1020150015211A KR 20150015211 A KR20150015211 A KR 20150015211A KR 102448670 B1 KR102448670 B1 KR 102448670B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
liquid crystal
film
group
optically anisotropic
cured film
Prior art date
Application number
KR1020150015211A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20150091261A (ko
Inventor
다다히로 고바야시
하루키 오카와
Original Assignee
스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 filed Critical 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
Publication of KR20150091261A publication Critical patent/KR20150091261A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102448670B1 publication Critical patent/KR102448670B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C09K19/3001—Cyclohexane rings
    • C09K19/3066—Cyclohexane rings in which the rings are linked by a chain containing carbon and oxygen atoms, e.g. esters or ethers
    • C09K19/3068—Cyclohexane rings in which the rings are linked by a chain containing carbon and oxygen atoms, e.g. esters or ethers chain containing -COO- or -OCO- groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • C09K19/3491—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having sulfur as hetero atom
    • C09K19/3497—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having sulfur as hetero atom the heterocyclic ring containing sulfur and nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/38—Polymers
    • C09K19/3833—Polymers with mesogenic groups in the side chain
    • C09K19/3842—Polyvinyl derivatives
    • C09K19/3852—Poly(meth)acrylate derivatives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/38—Polymers
    • C09K19/3833—Polymers with mesogenic groups in the side chain
    • C09K19/3842—Polyvinyl derivatives
    • C09K19/3852—Poly(meth)acrylate derivatives
    • C09K19/3861—Poly(meth)acrylate derivatives containing condensed ring systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K2019/0444—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group
    • C09K2019/0448—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group the end chain group being a polymerizable end group, e.g. -Sp-P or acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2219/00—Aspects relating to the form of the liquid crystal [LC] material, or by the technical area in which LC material are used
    • C09K2219/03—Aspects relating to the form of the liquid crystal [LC] material, or by the technical area in which LC material are used in the form of films, e.g. films after polymerisation of LC precursor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/03—Viewing layer characterised by chemical composition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/03—Viewing layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/031—Polarizer or dye

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

본 발명은, 기재와, 액정 경화막을 적층한 전사용 광학 이방성 시트로서, 액정 경화막은 기재로부터 피전사물에 전사되는 것이고, 액정 경화막은, 파장 330 내지 380 ㎚ 의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 중합성 액정 화합물 A 100 몰에 대하여 파장 250 내지 300 ㎚ 의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 중합성 액정 화합물 B 5 ∼ 70 몰을 함유하는 조성물로 형성되는 전사용 광학 이방성 시트에 관한 것이다.

Description

전사용 광학 이방성 시트{OPTICALLY ANISOTROPIC SHEET FOR TRANSFER}
본 발명은, 전사용 광학 이방성 시트에 관한 것이다.
플랫 패널 표시 장치 (FPD) 에는, 편광판, 위상차판 등의 광학 필름을 포함하는 부재가 사용되고 있다. 이와 같은 광학 필름으로는, 중합성 액정으로 형성되는 액정 경화막을 포함하는 광학 필름이 알려져 있다. 일본 공표특허공보 2010-537955호에는 역파장 분산성을 나타내는 액정 경화막을 포함하는 광학 필름이 기재되어 있다.
종래의 광학 필름은, 액정 경화막을 전사할 때, 액정 경화막에 박리흔 (剝離痕) 등의 결함이 발생한다는 문제가 있었다.
본 발명은 이하의 양태를 포함한다.
[1] 기재와, 액정 경화막을 적층한 전사용 광학 이방성 시트로서, 액정 경화막은 기재로부터 피전사물에 전사되는 것이고, 액정 경화막은, 파장 330 내지 380 ㎚ 의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 중합성 액정 화합물 A 100 몰에 대하여, 파장 250 내지 300 ㎚ 의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 중합성 액정 화합물 B 5 ∼ 70 몰을 적어도 함유하는 조성물로 형성되는 전사용 광학 이방성 시트.
[2] 액정 경화막이 하기 식 (1) 및 식 (2) 를 만족하는 파장 분산 특성을 갖는 [1] 에 기재된 전사용 광학 이방성 시트.
Re(450)/Re(550) ≤ 1.00 (1)
1.00 ≤ Re(650)/Re(550) (2)
Re(450), Re(550), Re(650) 은 각각 파장 450 ㎚, 550 ㎚, 650 ㎚ 에 있어서의 정면 위상차값을 나타낸다.
[3] [1] 또는 [2] 에 기재된 광학 이방성 시트로부터 기재를 제거한 광학 이방성 필름.
[4] [3] 에 기재된 광학 이방성 필름과, 편광판을 적층한 원 편광판.
[5] [3] 에 기재된 광학 이방성 필름을 구비한 표시 장치.
[6] [4] 에 기재된 원 편광판을 구비한 표시 장치.
본 발명의 전사용 광학 이방성 시트는, 액정 경화막을 포함하는 광학 이방성 필름의 전사를 용이하게 하여 결함이 적은 광학 이방성 필름을 부여한다.
도 1 은 액정 경화막을 포함하는 액정 표시 장치의 모식도.
도 2 는 액정 경화막을 갖는 원 편광판을 포함하는 유기 EL 표시 장치의 모식도.
[전사용 광학 이방성 시트]
본 실시형태의 전사용 광학 이방성 시트는, 기재와, 액정 경화막이 적층되어 있다. 액정 경화막은 기재로부터 피전사물에 전사되는 것이다.
<액정 경화막>
본 실시형태에 관련된 액정 경화막은, 파장 330 내지 380 ㎚ 의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 중합성 액정 화합물 A 100 몰에 대하여, 파장 250 내지 300 ㎚ 의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 중합성 액정 화합물 B 5 ∼ 70 몰을 적어도 함유하는 조성물로 형성된다.
상기 조성물로부터 얻어지는 액정 경화막은, 파장 330 내지 380 ㎚ 의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 중합성 액정 화합물 A 에서 유래하는 구조 단위와, 파장 250 내지 300 ㎚ 의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 중합성 액정 화합물 B 에서 유래하는 구조 단위를 포함하고, 그 중합성 액정 화합물 A 에서 유래하는 구조 단위 100 몰에 대한 그 중합성 액정 화합물 B 에서 유래하는 구조 단위의 양이 5 ∼ 70 몰인 액정 경화막이다.
액정 경화막은, 통상적으로 기재 상 또는 기재 상에 형성된 배향막 상에, 중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물 (이하, 액정 경화막 형성용 조성물이라고 하는 경우가 있다) 을 도포하고, 중합성 액정 화합물을 중합함으로써 얻어진다.
액정 경화막은, 중합성 액정 화합물이 배향한 상태에서 경화된 두께가 5 ㎛ 이하의 막이고, 바람직하게는 중합성 액정 화합물이 기재 면내에 대해 수평 방향으로 배향한 상태에서 경화된 막이다.
액정 경화막의 두께는 0.5 ∼ 5 ㎛ 의 범위가 바람직하고, 1 ∼ 3 ㎛ 가 더욱 바람직하다. 액정 경화막의 두께는, 간섭 막후계, 레이저 현미경 또는 촉침식 막후계에 의해 측정할 수 있다.
액정 경화막은, 파장 λ ㎚ 의 광에 대한 정면 위상차값 Re(λ) 가 식 (1) 및 식 (2) 를 만족하는 것이 바람직하다.
Re(450)/Re(550) ≤ 1.00 (1)
1.00 ≤ Re(650)/Re(550) (2)
식 중, Re(450), Re(550), Re(650) 은 각각 파장 450 ㎚, 550 ㎚, 650 ㎚ 에 있어서의 정면 위상차값을 나타낸다.
액정 경화막의 정면 위상차값은, 액정 경화막의 두께에 따라 조정할 수 있다. 정면 위상차값은 식 (50) 에 의해 결정되는 점에서, 원하는 정면 위상차값 (Re(λ)) 을 얻기 위해서는, Δn(λ) 과 막두께 d 를 조정하면 된다.
Re(λ) = d × Δn(λ) (50)
식 중, Re(λ) 는, 파장 λ ㎚ 에 있어서의 정면 위상차값을 나타내고, d 는 막두께를 나타내고, Δn(λ) 은 파장 λ ㎚ 에 있어서의 복굴절률을 나타낸다.
복굴절률 Δn(λ) 은, 정면 위상차값을 측정하고, 액정 경화막의 두께로 나눔으로써 얻어진다. 구체적인 측정 방법은 실시예에 나타내지만, 이 때, 유리 기판과 같이 기재 자체에 면내 위상차가 없는 기재 상에 제막 (製膜) 한 것을 측정함으로써, 실질적인 액정 경화막의 특성을 측정할 수 있다.
중합성 액정 화합물이란, 중합성기를 갖고, 또한 액정성을 갖는 화합물이다. 중합성기는, 중합 반응에 관여하는 기를 의미하고, 광 중합성기인 것이 바람직하다. 여기서, 광 중합성기란, 광 중합 개시제로부터 발생한 활성 라디칼이나 산 등에 의해 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다.
중합성기로는, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다. 액정성은 서모트로픽성 액정이어도 되고 리오트로픽 액정이어도 되고, 서모트로픽 액정에 있어서의 네마틱 액정이어도 되고 스멕틱 액정이어도 된다. 제조의 용이함이라는 관점에서 서모트로픽성의 네마틱 액정이 바람직하다.
<중합성 액정 화합물 A>
중합성 액정 화합물 A 는, 파장 330 내지 380 ㎚ 의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 중합성 액정 화합물이고, 당해 중합성 액정 화합물로는, 식 (A) 로 나타내는 화합물 (이하, 화합물 (A) 라고 하는 경우가 있다) 등을 들 수 있다. 중합성 액정 화합물 A 는, 단독으로 사용해도 되고, 조합해도 된다.
Figure 112015010524383-pat00001
[식 중, X1 은 산소 원자, 황 원자 또는 -NR1- 을 나타낸다. R1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.
Y1 은 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6 ∼ 12 의 1 가의 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 3 ∼ 12 의 1 가의 방향족 복소 고리형기를 나타낸다.
Q3 및 Q4 는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 1 가의 지방족 탄화수소기, 탄소수 3 ∼ 20 의 1 가의 지환식 탄화수소기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6 ∼ 20 의 1 가의 방향족 탄화수소기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, -NR2R3 또는 -SR2 를 나타내거나, 혹은 Q3 과 Q4 가 서로 결합하고, 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 방향 고리 또는 방향족 복소 고리를 형성한다. R2 및 R3 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다.
D1 및 D2 는 각각 독립적으로 단결합, -C(=O)-O-, -C(=S)-O-, -CR4R5-, -CR4R5-CR6R7-, -O-CR4R5-, -CR4R5-O-CR6R7-, -CO-O-CR4R5-, -O-CO-CR4R5-, -CR4R5-O-CO-CR6R7-, -CR4R5-CO-O-CR6R7-, -NR4-CR5R6- 또는 -CO-NR4- 를 나타낸다.
R4, R5, R6 및 R7 은 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.
G1 및 G2 는 각각 독립적으로 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 그 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는, 산소 원자, 황 원자 또는 -NH- 로 치환되어 있어도 되고, 그 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틴기는 제 3 급 질소 원자로 치환되어 있어도 된다.
L1 및 L2 는 각각 독립적으로 1 가의 유기기를 나타내고, L1 및 L2 중 적어도 하나는 중합성기를 갖는다.]
화합물 (A) 에 있어서의 L1 은 식 (A1) 로 나타내는 기이면 바람직하고, L2 는 식 (A2) 로 나타내는 기이면 바람직하다.
P1-F1-(B1-A1)k-E1- (A1)
P2-F2-(B2-A2)l-E2- (A2)
[식 중, B1, B2, E1 및 E2 는 각각 독립적으로 -CR4R5-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-O-, -CS-O-, -O-CS-O-, -CO-NR1-, -O-CH2-, -S-CH2- 또는 단결합을 나타낸다.
A1 및 A2 는 각각 독립적으로 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 ∼ 18 의 2 가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 그 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는, 산소 원자, 황 원자 또는 -NH- 로 치환되어 있어도 되고, 그 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틴기는 제 3 급 질소 원자로 치환되어 있어도 된다.
k 및 l 은 각각 독립적으로 0 ∼ 3 의 정수 (整數) 를 나타낸다.
F1 및 F2 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 12 의 2 가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.
P1 은 중합성기를 나타낸다.
P2 는 수소 원자 또는 중합성기를 나타낸다.
R4 및 R5 는 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.]
바람직한 화합물 (A) 로는, 일본 공개특허공보 2011-207765호에 기재된 중합성 액정 화합물을 들 수 있다.
중합성 액정 화합물 A 의 극대 흡수 파장은, 파장 330 내지 380 ㎚ 의 범위이고, 바람직하게는 파장 330 내지 370 ㎚ 의 범위이고, 보다 바람직하게는 파장 330 내지 360 ㎚ 의 범위이다.
<중합성 액정 화합물 B>
중합성 액정 화합물 B 는, 파장 250 내지 300 ㎚ 의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 중합성 액정 화합물이고, 당해 중합성 액정 화합물로는, 식 (X) 로 나타내는 기를 포함하는 화합물 (이하 「화합물 (X)」 라고 하는 경우가 있다) 등을 들 수 있다. 중합성 액정 화합물 B 는, 단독으로 사용해도 되고, 조합해도 된다.
P11-B11-E11-B12-A11-B13- (X)
[식 중, P11 은 중합성기를 나타낸다.
A11 은 2 가의 지환식 탄화수소기 또는 2 가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 그 2 가의 지환식 탄화수소기 및 2 가의 방향족 탄화수소기의 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 및 그 탄소수 1 ∼ 6 알콕시기의 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.
B11 은 -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR16-, -NR16-CO-, -CO-, -CS- 또는 단결합을 나타낸다. R16 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다.
B12 및 B13 은 각각 독립적으로 -C≡C-, -CH=CH-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -C(=O)-NR16-, -NR16-C(=O)-, -OCH2-, -OCF2-, -CH2O-, -CF2O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH- 또는 단결합을 나타낸다.
E11 은 탄소수 1 ∼ 12 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기의 수소 원자는, 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 되고, 그 알콕시기의 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 그 알칸디일기를 구성하는 -CH2- 는, -O- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 된다.]
중합성 액정 화합물 B 의 극대 흡수 파장은, 파장 250 내지 300 ㎚ 의 범위이고, 바람직하게는 파장 250 내지 290 ㎚ 의 범위이고, 보다 바람직하게는 파장 250 내지 280 ㎚ 의 범위이다. 중합성 액정 화합물 B 의 극대 흡수 파장이 이 범위에 있으면, 액정 경화막을 전사할 때에 발생하는 액정 경화막의 결함이 억제되는 경향이 있다.
중합성 액정 화합물의 구체예로는, 액정 편람 (액정 편람 편집 위원회편, 마루젠 (주) 2000년 10월 30일 발행) 의 「3.8.6 네트워크 (완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」 에 기재된 화합물 중에서 중합성기를 갖는 화합물, 그리고 일본 공개특허공보 2010-31223호, 일본 공개특허공보 2010-270108호, 일본 공개특허공보 2011-6360호, 및 일본 공개특허공보 2011-207765호 기재에 기재된 중합성 액정 화합물 등을 들 수 있다.
중합성 액정 화합물 A 는, 이들에 기재된 중합성 액정 화합물 중에서, 중합성 액정 화합물 A 로서 규정되는 파장 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 화합물을 선택하면 되고, 또, 중합성 액정 화합물 B 는, 이들에 기재된 중합성 액정 화합물 중에서, 중합성 액정 화합물 B 로서 규정되는 파장 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 화합물을 선택하면 된다.
중합성 액정 화합물의 함유량은, 액정 경화막 형성용 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여, 통상적으로 70 ∼ 99.5 질량부이고, 바람직하게는 80 ∼ 99 질량부이고, 보다 바람직하게는 80 ∼ 94 질량부이고, 더욱 바람직하게는 80 ∼ 90 질량부이다. 상기 범위 내이면, 배향성이 높아지는 경향이 있다. 여기서, 고형분이란, 액정 경화막 형성용 조성물로부터 용제를 제외한 성분의 합계량을 말한다.
액정 경화막 형성용 조성물이 함유하는 중합성 액정 화합물 B 의 양은, 중합성 액정 화합물 A 100 몰에 대하여 5 ∼ 70 몰이고, 바람직하게는 5 ∼ 50 몰이고, 보다 바람직하게는 5 ∼ 30 몰이다.
액정 경화막 형성용 조성물은, 용제, 중합 개시제, 증감제, 중합 금지제 및 레벨링제를 함유해도 된다.
<용제>
용제로는, 중합성 액정 화합물을 용해시킬 수 있는 것이 바람직하고, 중합성 액정 화합물의 중합 반응에 불활성인 용제인 것이 바람직하다.
용제로는, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 용제 ; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤 또는 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 및 락트산에틸 등의 에스테르 용제 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 2-헵타논 및 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제 ; 펜탄, 헥산 및 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용제 ; 톨루엔 및 자일렌 등의 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴 용제 ; 테트라하이드로푸란 및 디메톡시에탄 등의 에테르 용제 ; 클로로포름 및 클로로벤젠 등의 염소 함유 용제 ; 등을 들 수 있다. 이들 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 조합해도 된다.
용제의 함유량은, 액정 경화막 형성용 조성물 100 질량부에 대하여 50 ∼ 98 질량부가 바람직하다. 액정 경화막 형성용 조성물의 고형분은, 액정 경화막 형성용 조성물 100 질량부에 대하여 2 ∼ 50 질량부가 바람직하다. 고형분이 50 질량부 이하이면, 액정 경화막 형성용 조성물의 점도가 낮아지기 때문에, 액정 경화막의 두께가 대략 균일해짐으로써, 액정 경화막에 불균일이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있다. 고형분은 제조하고자 하는 액정 경화막의 두께를 고려하여 정할 수 있다.
<중합 개시제>
중합 개시제는, 중합성 액정 화합물 등의 중합 반응을 개시시킬 수 있는 화합물이다. 중합 개시제로는, 광의 작용에 의해 활성 라디칼을 발생시키는 광 중합 개시제가 바람직하다.
중합 개시제로는, 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 알킬페논 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, 트리아진 화합물, 요오드늄염 및 술포늄염 등을 들 수 있다.
벤조인 화합물로는, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 및 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다.
벤조페논 화합물로는, 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논 및 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.
알킬페논 화합물로는, 디에톡시아세토페논, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1,2-디페닐-2,2-디메톡시에탄-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤 및 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다.
아실포스핀옥사이드 화합물로는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 및 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다.
트리아진 화합물로는, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 및 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.
시판되는 중합 개시제로는, "이르가큐어 (Irgacure) (등록상표) 907", "이르가큐어 184", "이르가큐어 651", "이르가큐어 819", "이르가큐어 250", "이르가큐어 369" (BASF 재팬 (주)) ; "세이크올 (등록상표) BZ", "세이크올 Z", "세이크올 BEE" (세이코 화학 (주)) ; "카야큐어 (kayacure) (등록상표) BP100" (닛폰 화약 (주)) ; "UVI-6992" (다우 케미컬사 제조) ; "아데카옵토머 (등록상표) SP-152", "아데카옵토머 SP-170" ((주) ADEKA) ; "TAZ-A", "TAZ-PP" (DKSH 재팬사) ; 및 "TAZ-104" (산와 케미컬사) 등을 들 수 있다.
중합 개시제의 함유량은, 통상적으로 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 0.1 ∼ 30 질량부이고, 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량부이고, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 8 질량부이다. 중합 개시제의 함유량이 이 범위 내이면, 중합성 액정 화합물의 배향을 흐트러트리지 않기 때문에 바람직하다.
<증감제>
증감제에 의하면, 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 보다 촉진시킬 수 있다.
증감제로는, 광 증감제가 바람직하다. 증감제로는, 크산톤 및 티오크산톤 등의 크산톤 화합물 (2,4-디에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤 등) ; 안트라센 및 알콕시기 함유 안트라센 (디부톡시안트라센 등) 등의 안트라센 화합물 ; 페노티아진 및 루브렌 등을 들 수 있다.
증감제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 0.1 ∼ 30 질량부가 바람직하고, 0.5 ∼ 10 질량부가 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 8 질량부가 더욱 바람직하다.
<중합 금지제>
중합 금지제에 의하면, 중합성 액정 화합물의 중합 반응의 진행 정도를 컨트롤할 수 있다.
중합 금지제로는, 페놀계 화합물, 황계 화합물, 및 인계 화합물 등의 라디칼 포착제를 들 수 있다.
페놀계 화합물로는, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-에틸페놀, 부틸하이드록시아니솔, 하이드로퀴논, 알콕시기 함유 하이드로퀴논, 알콕시기 함유 카테콜 (예를 들어, 부틸카테콜 등), 피로갈롤 등을 들 수 있다. 또, 시판품을 사용해도 되고, 예를 들어, 스미라이저 (등록상표) BHT (2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀), 스미라이저 GM (2-tert-부틸-6-(3-tert-부틸-2-하이드록시-5-메틸벤질)-4-메틸페닐아크릴레이트), 스미라이저 GS(F) (2-[1-(2-하이드록시-3,5-디-tert-펜틸페닐)에틸]-4,6-디-tert-펜틸페닐아크릴레이트), 스미라이저 GA-80 (3,9-비스[2-[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시]-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5·5]운데칸) (모두 스미토모 화학 (주) 제조) 등을 들 수 있다.
황계 화합물로는, 디라우릴티오디프로피오네이트, 디미리스틸티오디프로피오네이트, 디스테아릴티오디프로피오네이트 등의 디알킬티오디프로피오네이트 ; 시판품으로서 스미라이저 TPL-R (디라우릴-3,3'-티오디프로피오네이트), 스미라이저 TPM (디미리스틸-3,3'-티오디프로피오네이트) (모두 스미토모 화학 (주) 제조) 등을 들 수 있다.
인계 화합물로는, 트리옥틸포스파이트, 트리라우릴포스파이트, 트리데실포스파이트, (옥틸)디페닐포스파이트 ; 시판품으로서 스미라이저 GP (6-[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-tert-부틸-디벤조[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀) (스미토모 화학 (주) 제조) 등을 들 수 있다.
중합 금지제로는, 액정 경화막의 착색이 적다는 점에서, 페놀계 화합물이 바람직하다.
중합 금지제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 0.1 ∼ 30 질량부가 바람직하고, 0.5 ∼ 10 질량부가 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 8 질량부가 더욱 바람직하다. 상기 범위 내이면, 중합성 액정 화합물의 배향을 흐트러트리지 않고 중합시킬 수 있다. 중합 금지제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
<레벨링제>
레벨링제란, 액정 경화막 형성용 조성물의 유동성을 조정하여, 액정 경화막 형성용 조성물을 도포하여 얻어지는 막을 보다 평탄하게 하는 기능을 갖는 것이고, 계면 활성제를 들 수 있다. 바람직한 레벨링제로는, 폴리아크릴레이트 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제 및 불소 원자 함유 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제를 들 수 있다.
폴리아크릴레이트 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제로는, "BYK-350", "BYK-352", "BYK-353", "BYK-354", "BYK-355", "BYK-358N", "BYK-361N", "BYK-380", "BYK-381" 및 "BYK-392" [BYK Chemie 사] 등을 들 수 있다.
불소 원자 함유 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제로는, "메가팍 (등록상표) R-08", 동(同) "R-30", 동 "R-90", 동 "F-410", 동 "F-411", 동 "F-443", 동 "F-445", 동 "F-470", 동 "F-471", 동 "F-477", 동 "F-479", 동 "F-482" 및 동 "F-483" [DIC (주)] ; "서프론 (등록상표) S-381", 동 "S-382", 동 "S-383", 동 "S-393", 동 "SC-101", 동 "SC-105", "KH-40" 및 "SA-100" [AGC 세이미 케미컬 (주)] ; "E1830", "E5844" [다이킨 공업 (주)] ; "에프톱 (등록상표) EF301", 동 "EF303", 동 "EF351" 및 동 "EF352" [미츠비시 머티리얼 전자 화성 (주)] 등을 들 수 있다.
레벨링제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 0.01 ∼ 5 질량부가 바람직하고, 0.1 ∼ 3 질량부가 더욱 바람직하다. 상기 범위 내이면, 중합성 액정 화합물을 수평 배향시키는 것이 용이하고, 또한 얻어지는 액정 경화막이 보다 평활해지는 경향이 있기 때문에 바람직하다. 액정 경화막 형성용 조성물은, 레벨링제를 2 종류 이상 함유하고 있어도 된다.
<기재>
기재로는, 유리 기재 및 플라스틱 기재를 들 수 있고, 바람직하게는 플라스틱 기재이다. 플라스틱 기재를 구성하는 플라스틱으로는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머 등의 폴리올레핀 ; 고리형 올레핀계 수지 ; 폴리비닐알코올 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트 ; 폴리메타크릴산에스테르 ; 폴리아크릴산에스테르 ; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 및 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르 ; 폴리에틸렌나프탈레이트 ; 폴리카보네이트 ; 폴리술폰 ; 폴리에테르술폰 ; 폴리에테르케톤 ; 폴리페닐렌술파이드 및 폴리페닐렌옥사이드 등의 플라스틱을 들 수 있다. 바람직하게는, 셀룰로오스에스테르, 고리형 올레핀계 수지, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 폴리메타크릴산에스테르이다.
셀룰로오스에스테르는, 셀룰로오스에 함유되는 수산기의 적어도 일부가 에스테르화된 것이며, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다. 셀룰로오스에스테르 기재도 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다. 시판되는 셀룰로오스에스테르 기재로는, "후지택 (등록상표) 필름" (후지 사진 필름 (주)) ; "KC8UX2M", "KC8UY" 및 "KC4UY" (코니카 미놀타 옵토 (주)) 등을 들 수 있다.
고리형 올레핀계 수지란, 노르보르넨이나 다고리 노르보르넨계 모노머 등의 고리형 올레핀의 중합체 또는 공중합체 (고리형 올레핀계 수지) 로 구성되는 것이며, 당해 고리형 올레핀계 수지는 부분적으로 개환부를 함유하고 있어도 된다. 개환부를 함유하는 고리형 올레핀계 수지를 수소 첨가한 것이어도 된다. 또한, 당해 고리형 올레핀계 수지는, 투명성을 현저하게 저해하지 않는 점이나, 현저하게 흡습성을 증대시키지 않는 점에서, 고리형 올레핀과, 사슬형 올레핀이나 비닐화 방향족 화합물 (스티렌 등) 의 공중합체여도 된다. 그 고리형 올레핀계 수지는, 그 분자 내에 극성기가 도입되어 있어도 된다.
고리형 올레핀계 수지가, 고리형 올레핀과, 사슬형 올레핀이나 비닐기를 갖는 방향족 화합물의 공중합체인 경우, 고리형 올레핀에서 유래하는 구조 단위의 함유율은, 공중합체의 전체 구조 단위에 대하여, 통상적으로 50 몰％ 이하, 바람직하게는 15 ∼ 50 몰％ 의 범위이다. 사슬형 올레핀으로는, 에틸렌 및 프로필렌을 들 수 있고, 비닐기를 갖는 방향족 화합물로는, 스티렌, α-메틸스티렌 및 알킬 치환 스티렌을 들 수 있다. 고리형 올레핀계 수지가, 고리형 올레핀과, 사슬형 올레핀과, 비닐기를 갖는 방향족 화합물의 삼원 공중합체인 경우, 사슬형 올레핀에서 유래하는 구조 단위의 함유율은, 공중합체의 전체 구조 단위에 대하여, 통상적으로 5 ∼ 80 몰％ 이고, 비닐기를 갖는 방향족 화합물에서 유래하는 구조 단위의 함유율은, 공중합체의 전체 구조 단위에 대하여, 통상적으로 5 ∼ 80 몰％ 이다. 이와 같은 삼원 공중합체는, 그 제조에 있어서, 고가의 고리형 올레핀의 사용량을 비교적 줄일 수 있다는 이점이 있다.
시판되는 고리형 올레핀계 수지로는, "Topas" (등록상표) [Ticona 사 (독일)], "아톤" (등록상표) [JSR (주)], "제오노아 (ZEONOR)" (등록상표) [닛폰 제온 (주)], "제오넥스 (ZEONEX)" (등록상표) [닛폰 제온 (주)] 및 "아펠" (등록상표) [미츠이 화학 (주) 제조] 을 들 수 있다. 이와 같은 고리형 올레핀계 수지를 용제 캐스트법, 용융 압출법 등의 공지된 수단에 의해 제막하여 기재로 할 수 있다. 시판되고 있는 고리형 올레핀계 수지 기재를 사용할 수도 있다. 시판되는 고리형 올레핀계 수지 기재로는, "에스시나" (등록상표) [세키스이 화학 공업 (주)], "SCA40" (등록상표) [세키스이 화학 공업 (주)], "제오노아 필름" (등록상표) [옵테스 (주)] 및 "아톤 필름" (등록상표) [JSR (주)] 을 들 수 있다.
기재의 두께는, 실용적인 취급을 할 수 있을 정도의 중량인 점에서는 얇은 것이 바람직하지만, 지나치게 얇으면 강도가 저하되어, 가공성이 떨어지는 경향이 있다. 기재의 두께는, 통상적으로 5 ∼ 300 ㎛ 이고, 바람직하게는 20 ∼ 200 ㎛ 이다.
<배향막>
기재 상에는 배향막이 형성되어 있어도 된다. 배향막은, 통상적으로 고분자 화합물로 이루어지는 두께가 500 ㎚ 이하의 막이고, 중합성 액정 화합물을 원하는 방향으로 액정 배향시키는 배향 규제력을 갖는 것이다.
배향막은 중합성 액정 화합물의 액정 배향을 용이하게 한다. 수평 배향, 수직 배향, 하이브리드 배향, 경사 배향 등의 액정 배향의 상태는, 배향막 및 중합성 액정 화합물의 성질에 의해 변화하고, 그 조합은 임의로 선택할 수 있다. 배향막이 배향 규제력으로서 수평 배향을 발현시키는 재료이면, 중합성 액정 화합물은 수평 배향 또는 하이브리드 배향을 형성할 수 있고, 수직 배향을 발현시키는 재료이면, 중합성 액정 화합물은 수직 배향 또는 경사 배향을 형성할 수 있다. 수평, 수직 등의 표현은, 액정 경화막 평면을 기준으로 했을 경우, 배향한 중합성 액정 화합물의 장축의 방향을 나타낸다. 수직 배향이란 액정 경화막 평면에 대해 수직인 방향으로 배향한 중합성 액정 화합물의 장축을 갖는 것이다. 여기서 말하는 수직이란, 액정 경화막 평면에 대하여 90°± 20°를 의미한다.
배향 규제력은, 배향막층이 배향성 폴리머로 형성되어 있는 경우에는, 표면 상태나 러빙 조건에 의해 임의로 조정하는 것이 가능하고, 광 배향성 폴리머로 형성되어 있는 경우에는, 편광 조사 조건 등에 의해 임의로 조정하는 것이 가능하다. 중합성 액정 화합물의 표면 장력이나 액정성 등의 물성을 선택함으로써, 액정 배향을 제어할 수도 있다.
기재와 액정 경화막 사이에 형성되는 배향막으로는, 배향막 상에 액정 경화막을 형성할 때에 사용되는 용제에 불용이고, 용제의 제거나 액정의 배향을 위한 가열 처리에 있어서의 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 배향막으로는, 배향성 폴리머로 이루어지는 배향막, 광 배향막 및 그루브 배향막 등을 들 수 있다.
배향막의 두께는, 통상적으로 10 ∼ 500 ㎚ 의 범위이고, 바람직하게는 10 ∼ 200 ㎚ 의 범위이다.
<배향성 폴리머로 이루어지는 배향막>
배향성 폴리머로는, 분자 내에 아미드 결합을 갖는 폴리아미드나 젤라틴류, 분자 내에 이미드 결합을 갖는 폴리이미드 및 그 가수분해물인 폴리아믹산, 폴리비닐알코올, 알킬 변성 폴리비닐알코올, 폴리아크릴아미드, 폴리옥사졸, 폴리에틸렌이민, 폴리스티렌, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아크릴산 및 폴리아크릴산에스테르류 등을 들 수 있고, 폴리비닐알코올이 바람직하다. 이들 배향성 폴리머는, 단독으로 사용해도 되고, 조합해도 된다.
배향성 폴리머로 이루어지는 배향막은, 통상적으로 배향성 폴리머가 용제에 용해된 조성물 (이하, 배향성 폴리머 조성물이라고 하는 경우가 있다) 을 기재에 도포하고, 용제를 제거하여 도포막을 형성하거나, 또는 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거하여 도포막을 형성하고, 그 도포막을 러빙함 (러빙법) 으로써 얻어진다.
용제로는, 물 ; 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 용제 ; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 및 락트산에틸 등의 에스테르 용제 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤 및 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제 ; 펜탄, 헥산 및 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용제 ; 톨루엔 및 자일렌 등의 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴 용매 ; 테트라하이드로푸란 및 디메톡시에탄 등의 에테르 용매 ; 클로로포름 및 클로로벤젠 등의 염소 치환 탄화수소 용매 ; 등을 들 수 있다. 이들 용제는, 단독이어도 되고, 조합하여 사용해도 된다.
배향성 폴리머 조성물 중의 배향성 폴리머의 농도는, 배향성 폴리머 재료가 용제에 완전히 용해될 수 있는 범위이면 되지만, 용액에 대하여 고형분 환산으로 0.1 ∼ 20 ％ 가 바람직하고, 0.1 ∼ 10 ％ 가 더욱 바람직하다.
시판되는 배향성 폴리머 조성물로는, 선에버 (등록상표, 닛산 화학 공업 (주) 제조) 또는 옵티머 (등록상표, JSR (주) 제조) 등을 들 수 있다.
배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하는 방법으로는, 스핀 코팅법, 익스트루전법, 그라비아 코팅법, 다이 코팅법, 바 코팅법 및 애플리케이터법 등의 도포법이나, 플렉소법 등의 인쇄법 등의 공지된 방법을 들 수 있다.
배향성 폴리머 조성물에 함유되는 용제를 제거함으로써, 배향성 폴리머의 건조 피막이 형성된다. 용제의 제거 방법으로는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조법 및 감압 건조법 등을 들 수 있다.
러빙하는 방법으로는, 러빙포가 권취되고, 회전하고 있는 러빙 롤에 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하고 어닐함으로써 기재 표면에 형성된 배향성 폴리머의 막을 접촉시키는 방법을 들 수 있다.
<광 배향막>
광 배향막은, 통상적으로 광 반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머와 용제를 함유하는 조성물 (이하, 「광 배향막 형성용 조성물」 이라고 하는 경우가 있다) 을 기재에 도포하고, 편광 (바람직하게는 편광 UV) 을 조사함으로써 얻어진다. 광 배향막은, 조사하는 편광의 편광 방향을 선택함으로써, 배향 규제력의 방향을 임의로 제어할 수 있는 점에서 보다 바람직하다.
광 반응성기란, 광을 조사함으로써 액정 배향능을 일으키는 기를 말한다. 구체적으로는, 광을 조사함으로써 발생하는 분자의 배향 야기 또는 이성화 반응, 이량화 반응, 광 가교 반응, 혹은 광 분해 반응과 같은 액정 배향능의 기원이 되는 광 반응을 일으키는 것이다. 상기 반응을 일으킬 수 있는 광 반응성기로는, 불포화 결합, 특히 이중 결합을 갖는 것이 바람직하고, 탄소-탄소 이중 결합 (C=C 결합), 탄소-질소 이중 결합 (C=N 결합), 질소-질소 이중 결합 (N=N 결합), 및 탄소-산소 이중 결합 (C=O 결합) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 갖는 기가 특히 바람직하다.
C=C 결합을 갖는 광 반응성기로는, 비닐기, 폴리엔기, 스틸벤기, 스틸바졸기, 스틸바조륨기, 칼콘기 및 신나모일기 등을 들 수 있다. C=N 결합을 갖는 광 반응성기로는, 방향족 시프염기 및 방향족 하이드라존 등의 구조를 갖는 기를 들 수 있다. N=N 결합을 갖는 광 반응성기로는, 아조벤젠기, 아조나프탈렌기, 방향족 복소 고리 아조기, 비스아조기 및 포르마잔기 등이나, 아족시벤젠을 기본 구조로 하는 것을 들 수 있다. C=O 결합을 갖는 광 반응성기로는, 벤조페논기, 쿠마린기, 안트라퀴논기 및 말레이미드기 등을 들 수 있다. 이들 기는, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 알릴옥시기, 시아노기, 알콕시카르보닐기, 하이드록실기, 술폰산기 및 할로겐화알킬기 등의 치환기를 가지고 있어도 된다.
광 반응성기로는, 광이량화 반응 또는 광 가교 반응에 관여하는 기가 배향성이 우수한 점에서 바람직하다. 그 중에서도, 광이량화 반응에 관여하는 광 반응성기가 바람직하고, 광 배향에 필요한 편광 조사량이 비교적 적고, 또한 열안정성이나 시간 경과적 안정성이 우수한 광 배향층을 얻기 쉽다는 점에서, 신나모일기 및 칼콘기가 바람직하다. 광 반응성기를 갖는 폴리머로는, 당해 폴리머 측사슬의 말단부가 계피산 구조가 되는 신나모일기를 갖는 것이 특히 바람직하다.
광 배향막 형성용 조성물의 용제로는, 광 반응성기를 갖는 폴리머 및 모노머를 용해하는 것이 바람직하고, 그 용제로는, 배향성 폴리머 조성물의 용제로서 예시한 용제 등을 들 수 있다.
광 배향막 형성용 조성물에 대한 광 반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 함유량은, 0.2 질량％ 이상이 바람직하고, 0.3 ∼ 10 질량％ 의 범위가 특히 바람직하다. 광 배향막의 특성이 현저하게 저해되지 않는 범위에서, 폴리비닐알코올이나 폴리이미드 등의 고분자 재료나 광 증감제가 함유되어 있어도 된다.
광 배향막 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법으로는, 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다. 도포된 광 배향막 형성용 조성물로부터 용제를 제거하는 방법으로는, 배향성 폴리머 조성물로부터 용제를 제거하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다.
편광을 조사하려면, 기판 상에 도포된 광 배향막 형성용 조성물로부터 용제를 제거한 것에 직접 편광을 조사하는 형식이어도 되고, 기재측으로부터 편광을 조사하여 편광을 투과시켜 조사하는 형식이어도 된다. 당해 편광은, 실질적으로 평행광이면 특히 바람직하다. 조사하는 편광의 파장은, 광 반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 광 반응성기가 광 에너지를 흡수할 수 있는 파장 영역의 것이 좋다. 구체적으로는, 파장 250 ∼ 400 ㎚ 의 범위의 UV (자외선) 가 특히 바람직하다. 당해 편광 조사에 사용하는 광원으로는, 크세논 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, KrF, ArF 등의 자외광 레이저 등을 들 수 있고, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프가 보다 바람직하다. 이들 램프는, 파장 313 ㎚ 의 자외선의 발광 강도가 크기 때문에 바람직하다. 광원으로부터의 광을 적당한 편광자를 통과시켜 조사함으로써, 편광을 조사할 수 있다. 이러한 편광자로는, 편광 필터나 글랜 톰슨, 글랜 테일러 등의 편광 프리즘이나 와이어 그리드 타입의 편광자를 사용할 수 있다.
또한, 러빙 또는 편광 조사는, 러빙 또는 편광 조사를 실시할 때에 마스킹을 실시하면, 액정 배향의 방향이 상이한 복수의 영역 (패턴) 을 형성할 수도 있다.
<그루브 배향막>
그루브 (groove) 배향막은, 막표면에 요철 패턴 또는 복수의 그루브 (홈) 를 갖는 막이다. 등간격으로 나열된 복수의 직선상의 그루브를 갖는 막에 액정 화합물을 두었을 경우, 그 홈에 따른 방향으로 액정 분자가 배향한다.
그루브 배향막을 얻는 방법으로는, 감광성 폴리이미드막 표면에 패턴 형상의 슬릿을 갖는 노광용 마스크를 개재하여 노광 후, 현상 및 린스 처리를 실시하여 요철 패턴을 형성하는 방법, 표면에 홈을 갖는 판상의 원반에 경화 전의 UV 경화 수지층을 형성하고, 수지층을 기재에 옮기고 나서 경화하는 방법, 및 기재 상에 형성한 경화 전의 UV 경화 수지막에 복수의 홈을 갖는 롤상의 원반을 꽉 눌러 요철을 형성하고, 그 후 경화하는 방법 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 일본 공개특허공보 평6-34976호, 및 일본 공개특허공보 2011-242743호에 기재된 방법 등을 들 수 있다.
상기 방법 중에서도, 기재 상에 형성한 경화 전의 UV 경화 수지막에 복수의 홈을 갖는 롤상의 원반을 꽉 눌러 요철을 형성하고, 그 후 경화하는 방법이 바람직하다. 롤상 원반으로는, 내구성의 관점에서 스테인리스 (SUS) 강이 바람직하다.
UV 경화 수지로는, 단관능 아크릴레이트의 중합체, 다관능 아크릴레이트의 중합체 또는 이들 혼합물의 중합체를 들 수 있다.
단관능 아크릴레이트란, 아크릴로일옥시기 (CH2=CH-COO-) 및 메타크릴로일옥시기 (CH2=C(CH3)-COO-) 로 이루어지는 군에서 선택되는 기 (이하, (메트)아크릴로일옥시기라고 기재하는 경우도 있다) 를 1 개 갖는 화합물이다. (메트)아크릴레이트란, 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 의미한다.
(메트)아크릴로일옥시기를 1 개 갖는 단관능 아크릴레이트로는, 탄소수 4 내지 16 의 알킬(메트)아크릴레이트, 탄소수 2 내지 14 의 β 카르복시알킬(메트)아크릴레이트, 탄소수 2 내지 14 의 알킬화페닐(메트)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트 및 이소보닐(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
다관능 아크릴레이트란, 2 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물이고, (메트)아크릴로일옥시기를 2 내지 6 개 갖는 화합물이 바람직하다.
(메트)아크릴로일옥시기를 2 개 갖는 다관능 아크릴레이트로는, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트 ; 1,3-부탄디올(메트)아크릴레이트 ; 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트 ; 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 ; 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 ; 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 ; 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 ; 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 ; 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트 ; 비스페놀 A 의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르 ; 에톡시화비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트 ; 프로폭시화네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 ; 에톡시화네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 및 3-메틸펜탄디올디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
(메트)아크릴로일옥시기를 3 ∼ 6 개 갖는 다관능 아크릴레이트로는, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 ; 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트 ; 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트 ; 에톡시화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 ; 프로폭시화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 ; 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트 ; 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 ; 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 ; 트리펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트 ; 트리펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 ; 트리펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 ; 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트 ; 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트 ; 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물 ; 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물 ; 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물 ; 카프로락톤 변성 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물 ; 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물, 및 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물 등을 들 수 있다.
카프로락톤 변성이란, (메트)아크릴레이트 화합물의 알코올 유래 부위와 (메트)아크릴로일옥시기 사이에 카프로락톤의 개환체, 또는 개환 중합체가 도입되어 있는 것을 의미한다.
다관능 아크릴레이트의 시판품으로는, A-DOD-N, A-HD-N, A-NOD-N, APG-100, APG-200, APG-400, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMPT, AD-TMP, ATM-35E, A-TMMT, A-9550, A-DPH, HD-N, NOD-N, NPG, TMPT [신나카무라 화학 (주)], "ARONIX M-220", 동 "M-325", 동 "M-240", 동 "M-270", 동 "M-309", 동 "M-310", 동 "M-321", 동 "M-350", 동 "M-360", 동 "M-305", 동 "M-306", 동 "M-450", 동 "M-451", 동 "M-408", 동 "M-400", 동 "M-402", 동 "M-403", 동 "M-404", 동 "M-405", 동 "M-406" [토아 합성 (주)], "EBECRYL11", 동 "145", 동 "150", 동 "40", 동 "140", 동 "180", DPGDA, HDDA, TPGDA, HPNDA, PETIA, PETRA, TMPTA, TMPEOTA, DPHA, EBECRYL 시리즈 [다이셀·올넥스 (주)] 등을 들 수 있다.
그루브 배향막의 볼록부의 폭은, 배향 흐트러짐이 작은 배향을 얻기 위해, 0.05 ∼ 5 ㎛ 인 것이 바람직하고, 오목부의 폭은 0.1 ∼ 5 ㎛ 인 것이 바람직하고, 요철의 단차의 깊이는 2 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.01 ∼ 1 ㎛ 인 것이 바람직하다.
<광학 이방성 필름>
본 실시형태의 전사용 광학 이방성 시트로부터 기재를 제거함으로써, 액정 경화막, 또는 배향막과 액정 경화막을 포함하는 광학 이방성 필름을 얻을 수 있다.
<전사>
본 실시형태의 전사용 광학 이방성 시트가 갖는 액정 경화막을 전사하는 방법으로는, 당해 액정 경화막을 점접착제층을 개재하여 피전사물에 첩합 (貼合) 하여, 전사용 광학 이방성 시트가 갖는 기재를 제거하는 방법을 들 수 있다.
점접착제층은, 액정 경화막 상에 형성되어도 되고, 피전사물 상에 형성되어도 된다. 기재와 액정 경화막 사이에 배향막이 있는 경우에는, 기재와 함께 배향막도 제거해도 된다.
액정 경화막 또는 배향막 등과 화학 결합을 형성하는 관능기를 표면에 갖는 기재는, 액정 경화막 또는 배향막 등과 화학 결합을 형성하여 제거하기 어려워지는 경향이 있다. 따라서 기재를 박리하여 제거하는 경우에는, 표면의 관능기가 적은 기재가 바람직하고, 표면에 관능기를 형성하는 표면 처리를 실시하지 않은 기재가 바람직하다.
기재와 화학 결합을 형성하는 관능기를 갖는 배향막은, 기재와 배향막의 밀착력이 커지는 경향이 있기 때문에, 기재를 박리하여 제거하는 경우에는, 기재와 화학 결합을 형성하는 관능기가 적은 배향막이 바람직하다. 기재와 배향막을 가교하는 시약이 함유되지 않는 것이 바람직하고, 또한 배향성 폴리머 조성물 및 광 배향막 형성용 조성물 등의 용액에는 기재를 용해시키는 용제 등의 성분이 함유되지 않는 것이 바람직하다.
액정 경화막과 화학 결합을 형성하는 관능기를 갖는 배향막은, 액정 경화막과 배향막의 밀착력이 커지는 경향이 있다. 따라서 기재와 함께 배향막을 제거하는 경우에는, 액정 경화막과 화학 결합을 형성하는 관능기가 적은 배향막이 바람직하다. 액정 경화막 및 배향막에는 액정 경화막과 배향막을 가교하는 시약이 함유되지 않는 것이 바람직하다.
기재 또는 배향막과 화학 결합을 형성하는 관능기를 갖는 액정 경화막은, 배향막과 액정 경화막의 밀착력이 커지는 경향이 있다. 따라서 기재를 제거하는 경우, 또는 기재와 함께 배향막을 제거하는 경우에는, 기재 또는 배향막과 화학 결합을 형성하는 관능기가 적은 액정 경화막이 바람직하다. 중합성 액정 조성물은, 바람직하게는 기재 또는 배향막과 액정 경화막을 가교하는 시약을 함유하지 않는다.
<점접착제층>
점접착제층은 점접착제로 형성된다.
점접착제로는, 예를 들어 점착제, 건조 고화형 접착제 및 화학 반응형 접착제를 들 수 있다. 화학 반응형 접착제로는, 예를 들어 활성 에너지선 경화형 접착제를 들 수 있다.
<점착제>
점착제는, 통상적으로 폴리머를 함유하고, 용제를 함유해도 된다.
폴리머로는, 아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 또는 폴리에테르 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴계 폴리머를 함유하는 아크릴계의 점착제는, 광학적인 투명성이 우수하고, 적당한 젖음성이나 응집력을 가지며, 접착성이 우수하고, 나아가서는 내후성이나 내열성 등이 높고, 가열이나 가습의 조건하에서 들뜸이나 박리 등이 잘 발생하지 않기 때문에 바람직하다.
아크릴계 폴리머로는, 에스테르 부분의 알킬기가 메틸기, 에틸기 또는 부틸기 등의 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기인 (메트)아크릴레이트 (이하, 아크릴레이트, 메타크릴레이트를 총칭하여 (메트)아크릴레이트, 아크릴산과 메타크릴산을 총칭하여 (메트)아크릴산이라고 하는 경우가 있다) 와, (메트)아크릴산이나 하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 등의 관능기를 갖는 (메트)아크릴계 모노머의 공중합체가 바람직하다.
이와 같은 공중합체를 함유하는 점착제는, 점착성이 우수하고, 표시 장치에 첩합한 후에 제거할 때에도, 표시 장치에 점착제 잔류 등을 생기게 하지 않고, 비교적 용이하게 제거하는 것이 가능하기 때문에 바람직하다. 아크릴계 폴리머의 유리 전이 온도는, 25 ℃ 이하가 바람직하고, 0 ℃ 이하가 보다 바람직하다. 이와 같은 아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 10만 이상인 것이 바람직하다.
용제로는, 배향성 폴리머 조성물의 용제로서 예시한 용제 등을 들 수 있다.
점착제는, 광 확산제를 함유해도 된다. 광 확산제는, 점착제에 광 확산성을 부여하기 위한 것이며, 점착제가 함유하는 폴리머와 상이한 굴절률을 갖는 미립자이면 되고, 광 확산제로는, 무기 화합물로 이루어지는 미립자 및 유기 화합물 (폴리머) 로 이루어지는 미립자를 들 수 있다. 아크릴계 폴리머를 포함하여, 점착제가 유효 성분으로서 함유하는 폴리머의 상당수는 1.4 정도의 굴절률을 갖기 때문에, 광 확산제로는 그 굴절률이 1 ∼ 2 인 것에서 적절히 선택하면 된다.
점착제가 유효 성분으로서 함유하는 폴리머와 광 확산제의 굴절률차는, 통상적으로 0.01 이상이고, 표시 장치의 밝기와 표시성의 관점에서는, 0.01 ∼ 0.5 로 하는 것이 바람직하다. 광 확산제로서 사용하는 미립자는, 구형의 것, 그것도 단분산에 가까운 것이 바람직하고, 평균 입경이 2 ∼ 6 ㎛ 의 범위에 있는 미립자가 바람직하다.
굴절률은 일반적인 최소 편각법 또는 압베 굴절계에 의해 측정된다.
무기 화합물로 이루어지는 미립자로는, 산화알루미늄 (굴절률 1.76) 및 산화규소 (굴절률 1.45) 등을 들 수 있다.
유기 화합물 (폴리머) 인 미립자로는, 멜라민 비드 (굴절률 1.57), 폴리메타크릴산메틸 비드 (굴절률 1.49), 메타크릴산메틸/스티렌 공중합체 수지 비드 (굴절률 1.50 ∼ 1.59), 폴리카보네이트 비드 (굴절률 1.55), 폴리에틸렌 비드 (굴절률 1.53), 폴리스티렌 비드 (굴절률 1.6), 폴리염화비닐 비드 (굴절률 1.46), 및 실리콘 수지 비드 (굴절률 1.46) 등을 들 수 있다.
광 확산제의 함유량은, 통상적으로 폴리머 100 질량부에 대하여 3 ∼ 30 질량부이다.
광 확산제가 분산된 점착제로 형성되는 점접착제층의 헤이즈값은, 표시 장치의 밝기를 확보함과 함께, 표시 이미지의 번짐이나 흐려짐을 잘 발생하지 않게 하는 관점에서, 20 ∼ 80 ％ 의 범위가 되도록 하는 것이 바람직하다. 헤이즈값은, (확산 투과율/전광선 투과율) × 100 (％) 으로 나타내는 값이고, JIS K 7105 에 준하여 측정된다.
점착제로 형성되는 점접착제층의 두께는, 그 밀착력 등에 따라 결정되는 것이지만, 통상적으로 1 ∼ 40 ㎛ 이다. 가공성이나 내구성 등의 점에서 당해 두께는 3 ∼ 25 ㎛ 가 바람직하다. 점착제로 형성되는 점접착제층의 두께를 3 ∼ 15 ㎛ 로 함으로써, 표시 장치를 정면에서 보았을 경우나 경사져서 보았을 경우의 밝기를 유지하고, 표시 이미지의 번짐이나 흐려짐이 잘 발생하지 않게 할 수 있다.
<건조 고화형 접착제>
건조 고화형 접착제는 용제를 함유해도 된다.
건조 고화형 접착제로는, 수산기, 카르복실기 또는 아미노기 등의 프로톤성 관능기와 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노머의 중합체, 또는 우레탄 수지를 주성분으로서 함유하고, 또한 다가 알데히드, 에폭시 화합물, 에폭시 수지, 멜라민 화합물, 지르코니아 화합물, 및 아연 화합물 등의 가교제 또는 경화성 화합물을 함유하는 조성물 등을 들 수 있다.
수산기, 카르복실기 또는 아미노기 등의 프로톤성 관능기와 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노머의 중합체로는, 에틸렌-말레산 공중합체, 이타콘산 공중합체, 아크릴산 공중합체, 아크릴아미드 공중합체, 폴리아세트산비닐의 비누화물, 및 폴리비닐알코올계 수지 등을 들 수 있다.
폴리비닐알코올계 수지로는, 폴리비닐알코올, 부분 비누화 폴리비닐알코올, 완전 비누화 폴리비닐알코올, 카르복실기 변성 폴리비닐알코올, 아세토아세틸기 변성 폴리비닐알코올, 메틸올기 변성 폴리비닐알코올, 및 아미노기 변성 폴리비닐알코올 등을 들 수 있다. 수계 접착제에 있어서의 폴리비닐알코올계 수지의 함유량은, 물 100 질량부에 대하여, 통상적으로 1 ∼ 10 질량부이고, 바람직하게는 1 ∼ 5 질량부이다.
우레탄 수지로는, 폴리에스테르계 아이오노머형 우레탄 수지 등을 들 수 있다. 여기서 말하는 폴리에스테르계 아이오노머형 우레탄 수지란, 폴리에스테르 골격을 갖는 우레탄 수지로서, 그 중에 소량의 이온성 성분 (친수 성분) 이 도입된 것이다. 이러한 아이오노머형 우레탄 수지는, 유화제를 사용하지 않고, 수중에서 유화되어 에멀션이 되기 때문에, 수계의 접착제로 할 수 있다. 폴리에스테르계 아이오노머형 우레탄 수지를 사용하는 경우에는, 가교제로서 수용성의 에폭시화합물을 배합하는 것이 유효하다.
에폭시 수지로는, 디에틸렌트리아민 또는 트리에틸렌테트라민 등의 폴리알킬렌폴리아민과 아디프산 등의 디카르복실산의 반응으로 얻어지는 폴리아미드폴리아민에, 에피클로로하이드린을 반응시켜 얻어지는 폴리아미드에폭시 수지 등을 들 수 있다. 이러한 폴리아미드에폭시 수지의 시판품으로는, 스미카 켐텍스 (주) 제조 "스미레즈 레진 (등록상표) 650" 및 "스미레즈 레진 675", 닛폰 PMC (주) 제조 "WS-525" 등을 들 수 있다. 에폭시 수지를 배합하는 경우, 그 첨가량은, 폴리비닐알코올계 수지 100 질량부에 대하여, 통상적으로 1 ∼ 100 질량부이고, 바람직하게는 1 ∼ 50 질량부이다.
건조 고화형 접착제로 형성되는 점접착제층의 두께는, 통상적으로 0.001 ∼ 5 ㎛ 이고, 바람직하게는 0.01 ∼ 2 ㎛ 이고, 더욱 바람직하게는 1 ㎛ 이하이다. 건조 고화형 접착제로 형성되는 점접착제층이 지나치게 두꺼우면, 광학 이방성 필름의 외관 불량이 되기 쉽다.
<활성 에너지선 경화형 접착제>
활성 에너지선 경화형 접착제는 용제를 함유해도 된다.
활성 에너지선 경화형 접착제란, 활성 에너지선의 조사를 받아 경화하는 접착제이다.
활성 에너지선 경화형 접착제로는, 에폭시 화합물과 카티온 중합 개시제를 함유하는 카티온 중합성의 것, 아크릴계 경화 성분과 라디칼 중합 개시제를 함유하는 라디칼 중합성의 것, 에폭시 화합물 등의 카티온 중합성의 경화 성분 및 아크릴계 화합물 등의 라디칼 중합성의 경화 성분의 양자를 함유하고, 또한 카티온 중합 개시제 및 라디칼 중합 개시제를 함유하는 것, 및 중합 개시제를 함유하지 않고 전자빔을 조사함으로써 경화되는 것 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 아크릴계 경화 성분과 라디칼 중합 개시제를 함유하는 라디칼 중합성의 활성 에너지선 경화형 접착제이다. 실질적으로 무용제로 사용할 수 있는, 에폭시 화합물과 카티온 중합 개시제를 함유하는 카티온 중합성의 활성 에너지선 경화형 접착제가 바람직하다.
에폭시 화합물로는, 수산기를 갖는 방향족 화합물 또는 사슬형 화합물의 글리시딜에테르화물, 아미노기를 갖는 화합물의 글리시딜아미노화물, C-C 이중 결합을 갖는 사슬형 화합물의 에폭시화물, 포화 탄소 고리에 직접 혹은 알킬렌을 개재하여 글리시딜옥시기 혹은 에폭시에틸기가 결합되어 있거나, 또는 포화 탄소 고리에 직접 에폭시기가 결합되어 있는 지환식 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 이들 에폭시 화합물은, 각각 단독으로 사용해도 되고, 조합해도 된다. 그 중에서도 지환식 에폭시 화합물은, 카티온 중합성이 우수하기 때문에 바람직하다.
에폭시 화합물의 시판품으로는, 미츠비시 화학 (주) 제조 "jER" 시리즈, DIC (주) 제조 "에피크론 (등록상표)", 토토 화성 (주) 제조 "에포토토 (등록상표)", (주) ADEKA 제조 "아데카레진 (등록상표)", 나가세 켐텍스 (주) 제조 "데나콜 (등록상표)", 다우 케미컬사 제조 "다우 에폭시", 닛산 화학 공업 (주) 제조 "테픽 (등록상표)" 등을 들 수 있다. 지환식 에폭시 화합물로는, (주) 다이셀 제조 "셀록사이드 (등록상표)" 시리즈 및 "사이크로머 (등록상표)", 다우 케미컬사 제조 "사이라큐어 (등록상표) UVR" 시리즈 등을 들 수 있다.
에폭시 화합물을 함유하는 활성 에너지선 경화형 접착제는, 추가로 에폭시 화합물 이외의 화합물을 함유해도 된다. 에폭시 화합물 이외의 화합물로는, 옥세탄 화합물이나 아크릴 화합물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 카티온 중합에 있어서 경화 속도를 촉진시킬 수 있을 가능성이 있는 점에서, 옥세탄 화합물을 병용하는 것이 바람직하다.
옥세탄 화합물로는, 토아 합성 (주) 제조 "아론 옥세탄 (등록상표)" 시리즈, 우베 흥산 (주) 제조 "ETERNACOLL (등록상표)" 시리즈 등을 들 수 있다.
에폭시 화합물이나 옥세탄 화합물을 함유하는 활성 에너지선 경화형 접착제는, 무용제로 사용하는 것이 바람직하다.
카티온 중합 개시제란, 자외선 등의 활성 에너지선의 조사를 받아 카티온종을 발생시키는 화합물이고, 방향족 디아조늄염 ; 방향족 요오드늄염, 및 방향족 술포늄염 등의 오늄염 그리고 ; 철-아렌 착물을 들 수 있다. 이들 카티온 중합 개시제는, 각각 단독으로 사용해도 되고, 조합해도 된다.
카티온 중합 개시제의 시판품으로는, 닛폰 화약 (주) 제조 "카야라드 (등록상표)" 시리즈, 다우 케미컬사 제조 "사이라큐어 UVI" 시리즈, 산아프로 (주) 제조"CPI" 시리즈, 미도리 화학 (주) 제조 "TAZ", "BBI" 및 "DTS", (주) ADEKA 제조 "아데카옵토머" 시리즈, 로디아사 제조 "RHODORSIL (등록상표)" 등을 들 수 있다.
카티온 중합 개시제의 함유량은, 활성 에너지선 경화형 접착제 100 질량부에 대하여, 통상적으로 0.5 ∼ 20 질량부이고, 바람직하게는 1 ∼ 15 질량부이다.
아크릴계 경화 성분으로는, 메틸(메트)아크릴레이트, 하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴레이트 및 (메트)아크릴산 등을 들 수 있다.
라디칼 중합 개시제로는, 수소 인발형 광 라디칼 발생제, 및 개열형 광 라디칼 발생제 등을 들 수 있다.
수소 인발형 광 라디칼 발생제로는, 1-메틸나프탈렌 등의 나프탈렌 유도체, 안트라센 유도체, 피렌 유도체, 카르바졸 유도체, 벤조페논 유도체, 티오크산톤 유도체 및 쿠마린 유도체 등을 들 수 있다.
개열형 광 라디칼 발생제로는, 벤조인에테르 유도체, 아세토페논 유도체 등의 아릴알킬케톤류, 옥심케톤류, 아실포스핀옥사이드류, 티오벤조산S-페닐류, 티타노센류, 및 그것들을 고분자량화한 유도체 등을 들 수 있다.
개열형 광 라디칼 발생제 중에서도 아실포스핀옥사이드류가 바람직하고, 구체적으로는, 트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 (상품명 「DAROCURE TPO」 ; BASF 재팬 (주)), 비스(2,6-디메톡시-벤조일)-(2,4,4-트리메틸-펜틸)-포스핀옥사이드 (상품명 「CGI 403」 ; BASF 재팬 (주)), 또는 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디펜톡시페닐포스핀옥사이드 (상품명 「Irgacure819」 ; BASF 재팬 (주)) 가 바람직하다.
활성 에너지선 경화형 접착제는 증감제를 함유해도 된다.
증감제의 함유량은, 활성 에너지선 경화형 접착제 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 ∼ 20 질량부이다.
활성 에너지선 경화형 접착제에는, 추가로 이온 트랩제, 산화 방지제, 연쇄 이동제, 점착 부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 조정제, 가소제 및 소포제 등이 함유되어도 된다.
본 실시형태에 있어서의 활성 에너지선이란, 활성종을 발생시키는 화합물을 분해하여 활성종을 발생시킬 수 있는 에너지선으로 정의된다. 이와 같은 활성 에너지선으로는, 가시광, 자외선, 적외선, X 선, α 선, β 선, γ 선 및 전자선 등을 들 수 있고, 자외선 및 전자선이 바람직하다.
전자선 조사의 가속 전압은, 통상적으로 5 ∼ 300 ㎸ 이고, 바람직하게는 10 ∼ 250 ㎸ 이다. 조사선량은, 통상적으로 5 ∼ 100 kGy 이고, 바람직하게는 10 ∼ 75 kGy 이다.
전자선 조사는, 통상적으로 불활성 가스 중에서 실시하지만, 대기 중이나 산소를 조금 도입한 조건에서 실시해도 된다.
자외선 조사 강도는, 통상적으로 10 ∼ 5000 mW/㎠ 이다. 자외선 조사 강도는, 바람직하게는 카티온 중합 개시제 또는 라디칼 중합 개시제의 활성화에 유효한 파장 영역에 있어서의 강도이다. 이와 같은 광 조사 강도로 1 회 또는 복수회 조사하여, 그 적산 광량이 10 mJ/㎠ 이상, 바람직하게는 10 ∼ 5,000 mJ/㎠ 가 되도록 하는 것이 바람직하다.
자외선의 광원으로는, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 할로겐 램프, 카본 아크등, 텅스텐 램프, 갈륨 램프, 엑시머 레이저, 파장 범위 380 ∼ 440 ㎚ 를 발광하는 LED 광원, 케미컬 램프, 블랙 라이트 램프, 마이크로 웨이브 여기 수은등, 메탈 할라이드 램프를 들 수 있다.
용제로는, 물 ; 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 1-부탄올, 2-부탄올, sec-부틸알코올, tert-부틸알코올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올 등의 알코올 ; 프로필에테르, 이소프로필에테르, 부틸에테르, 이소부틸에테르, n-아밀에테르, 이소아밀에테르, 메틸부틸에테르, 메틸이소부틸에테르, 메틸n-아밀에테르, 메틸이소아밀에테르, 에틸프로필에테르, 에틸이소프로필에테르, 에틸부틸에테르, 에틸이소부틸에테르, 에틸n-아밀에테르, 에틸이소아밀에테르 등의 포화 지방족 에테르 화합물 ; 알릴에테르, 에틸알릴에테르 등의 불포화 지방족 에테르 화합물 ; 아니솔, 페네톨, 페닐에테르, 벤질에테르 등의 방향족 에테르 화합물 ; 테트라하이드로푸란, 테트라하이드로피란, 디옥산 등의 고리형 에테르 화합물 ; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜에테르 화합물 ; 포름산, 아세트산, 무수 아세트산, 아크릴산, 시트르산, 프로피온산, 부티르산 등의 모노카르복실산 화합물 ; 포름산부틸, 포름산아밀, 아세트산프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산부틸, 아세트산 제 2 부틸, 아세트산아밀, 아세트산이소아밀, 아세트산2-에틸헥실, 아세트산시클로헥실, 아세트산부틸시클로헥실, 프로피온산에틸, 프로피온산부틸, 프로피온산아밀, 부티르산부틸, 탄산디에틸, 옥살산디에틸, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산부틸, 인산트리에틸 등의 유기산 에스테르 화합물 ; 아세톤, 에틸케톤, 프로필케톤, 부틸케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 디이소부틸케톤, 아세틸아세톤, 디아세톤알코올, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 메틸시클로헥사논, 시클로헵타논 등의 케톤 화합물 ; 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 운데칸이산, 피루브산, 시트라콘산 등의 디카르복실산 화합물 ; 1,4-디옥산, 푸르푸랄, N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있다.
그 중에서도, 물 및 알코올이 바람직하고, 탄소수는 1 ∼ 4 의 알코올이 보다 바람직하고, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 1-부탄올, 2-부탄올, sec-부틸알코올, tert-부틸알코올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 및 부탄디올로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 알코올이 더욱 바람직하고, 이소프로필알코올 및/또는 1-부탄올이 더욱 더 바람직하다.
물은 순수여도 되고, 수돗물 정도로 불순물을 함유하고 있어도 된다.
활성 에너지선 경화형 접착제로 형성되는 점접착제층의 두께는, 통상적으로 0.001 ∼ 5 ㎛ 이고, 바람직하게는 0.01 ㎛ 이상이고, 바람직하게는 2 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 1 ㎛ 이하이다. 활성 에너지선 경화형 접착제로 형성되는 점접착제층이 지나치게 두꺼우면, 광학 이방성 필름의 외관 불량이 되기 쉽다.
<피전사물>
피전사물로는, 상기 기재와 동일한 것, 편광자, 편광판, 및 표시 장치 등을 들 수 있다.
<편광자 및 편광판>
편광자는 편광 기능을 갖는다. 편광자로는, 흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름, 또는 흡수 이방성을 갖는 색소를 도포한 필름 등을 들 수 있다. 흡수 이방성을 갖는 색소로는, 이색성 색소를 들 수 있다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름은 통상적으로 폴리비닐알코올계 수지 필름을 1 축 연신하는 공정, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 이색성 색소로 염색함으로써, 그 이색성 색소를 흡착시키는 공정, 이색성 색소가 흡착된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정, 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 거쳐 제조된다.
폴리비닐알코올계 수지는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 얻어진다. 폴리아세트산비닐계 수지로는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐, 아세트산비닐과 그것에 공중합 가능한 다른 단량체의 공중합체를 들 수 있다. 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체로는, 불포화 카르복실산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 술폰산류, 암모늄기를 갖는 아크릴아미드류 등을 들 수 있다.
폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는, 통상적으로 85 ∼ 100 몰％ 이고, 바람직하게는 98 몰％ 이상이다. 폴리비닐알코올계 수지는 변성되어 있어도 되고, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈도 사용할 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지의 중합도는, 통상적으로 1,000 ∼ 10,000 이고, 바람직하게는 1,500 ∼ 5,000 의 범위이다.
이와 같은 폴리비닐알코올계 수지를 제막하여 편광자의 원반 (原反) 필름이 얻어진다. 폴리비닐알코올계 수지는, 공지된 방법으로 제막할 수 있다. 폴리비닐알코올계 원반 필름의 두께는, 10 ∼ 150 ㎛ 가 바람직하다.
폴리비닐알코올계 수지 필름의 1 축 연신은, 이색성 색소에 의한 염색 전, 염색과 동시, 또는 염색 후에 실시할 수 있다. 1 축 연신을 염색 후에 실시하는 경우, 이 1 축 연신은 붕산 처리 전에 실시해도 되고, 붕산 처리 중에 실시해도 된다. 이들 복수의 단계에서 1 축 연신을 실시하는 것도 가능하다. 1 축 연신에 있어서는, 주속이 상이한 롤 사이에서 1 축으로 연신해도 되고, 열롤을 사용하여 1 축으로 연신해도 된다. 1 축 연신은, 대기 중에서 연신을 실시하는 건식 연신이어도 되고, 용제를 사용하여 폴리비닐알코올계 수지 필름을 팽윤시킨 상태에서 연신을 실시하는 습식 연신이어도 된다. 연신 배율은, 통상적으로 3 ∼ 8 배이다.
폴리비닐알코올계 수지 필름의 이색성 색소에 의한 염색은, 이색성 색소를 함유하는 수용액에 폴리비닐알코올계 수지 필름을 침지하는 방법에 의해 실시된다.
이색성 색소로서 요오드나 이색성의 유기 염료를 들 수 있다. 이색성의 유기 염료로는, C.I. DIRECT RED 39 등의 디스아조 화합물로 이루어지는 이색성 직접 염료, 및 트리스아조, 테트라키스아조 등의 화합물로 이루어지는 이색성 직접 염료 등을 들 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지 필름은, 염색 처리 전에 물에 대한 침지 처리를 실시해 두는 것이 바람직하다.
이색성 색소가 요오드인 경우에는 통상적으로 요오드 및 요오드화칼륨을 함유하는 수용액에, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 침지하여 염색하는 방법이 채용된다. 수용액에 있어서의 요오드의 함유량은, 물 100 질량부당, 통상적으로 0.01 ∼ 1 질량부이다. 요오드화칼륨의 함유량은, 물 100 질량부당, 통상적으로 0.5 ∼ 20 질량부이다. 염색에 사용하는 수용액의 온도는, 통상적으로 20 ∼ 40 ℃ 이다. 이 수용액에 대한 침지 시간 (염색 시간) 은, 통상적으로 20 ∼ 1,800 초이다.
이색성 색소가 이색성의 유기 염료인 경우에는 통상적으로 수용성 이색성 염료를 함유하는 수용액에 폴리비닐알코올계 수지 필름을 침지하여 염색하는 방법이 채용된다. 수용액에 있어서의 이색성 유기 염료의 함유량은, 물 100 질량부당, 통상적으로 1 × 10-4 ∼ 10 질량부이고, 바람직하게는 1 × 10-3 ∼ 1 질량부이고, 더욱 바람직하게는 1 × 10-3 ∼ 1 × 10-2 질량부이다. 이 수용액은 황산나트륨과 같은 무기염을 염색 보조제로서 함유하고 있어도 된다. 수용액의 온도는, 통상적으로 20 ∼ 80 ℃ 이다. 이 수용액에 대한 침지 시간 (염색 시간) 은, 통상적으로 10 ∼ 1,800 초이다.
이색성 색소에 의한 염색 후의 붕산 처리는 통상적으로 염색된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 수용액에 침지하는 방법에 의해 실시할 수 있다. 붕산 수용액에 있어서의 붕산의 함유량은, 물 100 질량부당, 통상적으로 2 ∼ 15 질량부이고, 바람직하게는 5 ∼ 12 질량부이다. 이색성 색소로서 요오드를 사용한 경우에는, 이 붕산 수용액은 요오드화칼륨을 함유하는 것이 바람직하고, 요오드화칼륨의 함유량은, 물 100 질량부당, 통상적으로 0.1 ∼ 15 질량부이고, 바람직하게는 5 ∼ 12 질량부이다. 붕산 수용액에 대한 침지 시간은, 통상적으로 60 ∼ 1,200 초이고, 바람직하게는 150 ∼ 600 초, 더욱 바람직하게는 200 ∼ 400 초이다. 붕산 처리의 온도는, 통상적으로 50 ℃ 이상이고, 바람직하게는 50 ∼ 85 ℃, 더욱 바람직하게는 60 ∼ 80 ℃ 이다.
붕산 처리 후의 폴리비닐알코올계 수지 필름은 통상적으로 수세 처리된다. 수세 처리는, 붕산 처리된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 물에 침지하는 방법에 의해 실시할 수 있다. 수세 처리에 있어서의 물의 온도는, 통상적으로 5 ∼ 40 ℃ 이다. 침지 시간은, 통상적으로 1 ∼ 120 초이다.
수세 후에 건조 처리가 실시되어 편광자가 얻어진다. 건조 처리는, 열풍 건조기나 원적외선 히터를 사용하여 실시할 수 있다. 건조 처리의 온도는, 통상적으로 30 ∼ 100 ℃ 이고, 바람직하게는 50 ∼ 80 ℃ 이다. 건조 처리의 시간은, 통상적으로 60 ∼ 600 초이고, 바람직하게는 120 ∼ 600 초이다. 건조 처리에 의해, 편광자의 수분율은 실용 정도까지 저감된다. 그 수분율은, 통상적으로 5 ∼ 20 질량％ 이고, 바람직하게는 8 ∼ 15 질량％ 이다. 수분율이 5 질량％ 를 하회하면, 편광자의 가요성이 없어져, 편광자가 그 건조 후에 손상되거나, 파단되는 경우가 있다. 수분율이 20 질량％ 를 상회하면, 편광자의 열안정성이 나빠질 가능성이 있다.
이렇게 하여 폴리비닐알코올계 수지 필름에, 1 축 연신, 이색성 색소에 의한 염색, 붕산 처리, 수세 및 건조시켜 얻어지는 편광자의 두께는 바람직하게는 5 ∼ 40 ㎛ 이다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 도포한 필름으로는, 액정성을 갖는 이색성 색소를 함유하는 조성물, 또는 이색성 색소와 중합성 액정을 함유하는 조성물을 도포하여 얻어지는 필름 등을 들 수 있다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 도포한 필름은 얇은 것이 바람직하지만, 지나치게 얇으면 강도가 저하되고, 가공성이 떨어지는 경향이 있다. 당해 필름의 두께는, 통상적으로 20 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 5 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 3 ㎛ 이다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 도포한 필름으로는, 구체적으로는, 일본 공개특허공보 2012-33249호 등에 기재된 필름을 들 수 있다.
편광자의 적어도 일방의 면에, 접착제를 개재하여 투명 보호 필름을 적층함으로써 편광판이 얻어진다. 투명 보호 필름으로는, 전술한 기재와 동일한 투명 필름이 바람직하다.
<전사용 광학 이방성 시트의 제조 방법>
기재 표면, 또는 기재에 형성된 배향막 표면에 액정 경화막 형성용 조성물을 도포한다. 도포하는 방법으로는, 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하는 방법으로서 예시한 것과 동일한 방법을 들 수 있다. 도포하는 액정 경화막 형성용 조성물의 두께는, 얻어지는 액정 경화막의 두께를 고려하여 정해진다.
다음으로, 중합성 액정 화합물이 중합하지 않는 조건으로 액정 경화막 형성용 조성물에 함유되는 용제를 제거함으로써, 기재 또는 배향막 표면에 액정 경화막 형성용 조성물의 건조 피막이 형성된다. 용제의 제거 방법으로는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조 및 감압 건조법 등을 들 수 있다.
건조 피막을 가열하거나 하여, 건조 피막에 함유되는 중합성 액정 화합물을 액정 배향시킨 후, 이 액정 배향을 유지한 채로, 건조 피막에 에너지를 조사함으로써, 중합성 액정 화합물을 중합시킨다. 액정 경화막 형성용 조성물이 중합 개시제를 함유하고 있는 경우에는, 중합 개시제가 활성화되는 조건의 에너지를 조사하는 것이 바람직하다. 중합 개시제가 광 중합 개시제인 경우에는, 에너지는 광이면 바람직하다. 조사하는 광은, 건조 피막에 함유되는 중합 개시제의 종류, 또는 중합성 액정 화합물의 종류 (특히, 그 중합성 액정 화합물이 갖는 중합기의 종류) 및 그 양에 따라 적절히 선택된다. 이러한 광으로는, 가시광, 자외광 및 레이저광으로 이루어지는 군에서 선택되는 광이나 활성 전자선 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 중합 반응의 진행을 컨트롤하기 쉬운 점이나, 중합에 관련된 장치로서 당 분야에서 광범위하게 사용되고 있는 것을 사용할 수 있는 점에서, 자외광이 바람직하다. 따라서, 자외광에 의해, 중합할 수 있도록, 액정 경화막 형성용 조성물에 함유되는 중합성 액정 화합물 및 중합 개시제의 종류를 선택해 두면 바람직하다. 중합시킬 때에는, 자외광 조사와 함께 적당한 냉각 수단에 의해, 건조 피막을 냉각시킴으로써 중합 온도를 컨트롤하는 것이 바람직하다. 이와 같은 냉각에 의해, 보다 저온에서 중합성 액정 화합물을 중합하면, 기재에 내열성이 낮은 것을 사용하였다고 하더라도 적절히 액정 경화막을 제조할 수 있다.
이렇게 하여, 액정 배향을 갖는 액정 경화막이 기재 또는 배향막 표면에 형성된다.
<프라이머층>
얻어진 액정 경화막의 표면에 프라이머층을 형성해도 된다. 프라이머층은, 통상적으로 투명 수지를 함유하는 것이고, 투명 수지 용액으로 형성된다. 프라이머층은, 점접착제층을 형성할 때에 액정 경화막의 결함을 억제할 수 있다. 투명 수지로는, 도공성이 우수하고, 프라이머층 형성 후의 투명성 및 밀착성이 우수한 것이 바람직하다.
투명 수지 용액의 용제는, 투명 수지의 용해성에 따라 선택된다. 용제로는, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소 용매 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용매 ; 아세트산에틸, 아세트산이소부틸 등의 에스테르 용매 ; 염화메틸렌, 트리클로로에틸렌, 클로로포름 등의 염소화탄화수소 용매 ; 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올 등의 알코올 용매 등을 들 수 있다. 유기 용매를 함유하는 투명 수지 용액을 사용하여 프라이머층을 형성하면, 액정 경화막의 광학 특성에 영향을 미치는 경우가 있기 때문에 물이 바람직하다.
투명 수지로는, 에폭시 수지를 들 수 있다. 에폭시 수지는, 1 액 경화형의 것이어도 되고, 2 액 경화형의 것이어도 된다. 수용성의 에폭시 수지가 특히 바람직하다. 수용성의 에폭시 수지로는, 디에틸렌트리아민이나 트리에틸렌테트라민과 같은 폴리알킬렌폴리아민과 아디프산과 같은 디카르복실산의 반응으로 얻어지는 폴리아미드폴리아민에, 에피클로로하이드린을 반응시켜 얻어지는 폴리아미드에폭시 수지를 들 수 있다. 이러한 폴리아미드에폭시 수지의 시판품으로는, 스미카 켐텍스 (주) 로부터 판매되고 있는 스미레즈 레진 650(30) 이나, 스미레즈 레진 675 등을 들 수 있다.
투명 수지가 수용성의 에폭시 수지인 경우에는, 더욱 도포성을 향상시키기 위해, 폴리비닐알코올계 수지 등의 다른 수용성 수지를 병용하는 것이 바람직하다. 폴리비닐알코올계 수지는, 부분 비누화 폴리비닐알코올, 완전 비누화 폴리비닐알코올, 카르복실기 변성 폴리비닐알코올, 아세토아세틸기 변성 폴리비닐알코올, 메틸올기 변성 폴리비닐알코올, 아미노기 변성 폴리비닐알코올과 같은 변성된 폴리비닐알코올계 수지여도 된다. 적당한 폴리비닐알코올계 수지의 시판품으로는, (주) 쿠라레로부터 판매되고 있는 아니온성기 함유 폴리비닐알코올인 KL-318 (상품명) 등을 들 수 있다.
수용성의 에폭시 수지를 함유하는 용액으로부터 프라이머층을 형성하는 경우, 에폭시 수지의 함유량은, 물 100 질량부에 대하여, 0.2 ∼ 1.5 질량부가 바람직하다. 용액에 폴리비닐알코올계 수지를 배합하는 경우, 그 양은, 물 100 질량부에 대하여 1 ∼ 6 질량부가 바람직하다. 프라이머층의 두께는 0.1 ∼ 10 ㎛ 가 바람직하다.
프라이머층의 형성 방법은 제한되지 않고, 다이렉트·그라비아법, 리버스·그라비아법, 다이 코트법, 콤마 코트법, 바 코트법 등의 공지된 각종 코팅법을 사용할 수 있다.
<점접착제층>
얻어진 액정 경화막, 또는 프라이머층의 표면에 점접착제층을 형성해도 된다. 점접착제층은, 점접착제를 액정 경화막 또는 프라이머층의 표면에 도포함으로써 형성된다. 점접착제가 용제를 함유하는 경우에는, 점접착제를 액정 경화막 또는 프라이머층의 표면에 도포하고, 용제를 제거함으로써 형성된다. 점착제로 형성되는 점접착제층은, 이형 처리가 실시된 필름의 이형 처리면에 점착제를 도포하고, 용제를 제거함으로써 이형 처리가 실시된 필름의 이형 처리면에 점접착제층을 형성한 후, 이 점접착제층이 부착된 필름을 점접착제층측이 첩합면이 되도록 액정 경화막 또는 프라이머층의 표면에 첩합하는 방법에 의해서도 형성할 수 있다. 코로나 처리에 의해, 액정 경화막 또는 프라이머층과 점접착제층의 밀착성을 더욱 향상시킬 수 있다.
점접착제를 도포하는 방법으로는, 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하는 방법으로서 예시한 것과 동일한 방법을 들 수 있다. 도포된 점접착제로부터 용제를 제거하는 방법으로는, 배향성 폴리머 조성물로부터 용제를 제거하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다.
<원 편광판>
피전사물이 편광자 또는 편광판이고, 본 실시형태의 전사용 광학 이방성 시트로부터 기재를 제거한 광학 이방성 필름을 피전사물에 전사함으로써 원 편광판이 얻어진다.
<용도>
광학 이방성 필름 및 원 편광판은 여러 표시 장치에 사용할 수 있다. 표시 장치란, 표시 소자를 갖는 장치로, 발광원으로서 발광 소자 또는 발광 장치를 포함한다. 표시 장치로는, 액정 표시 장치, 유기 일렉트로 루미네선스 (EL) 표시 장치, 무기 일렉트로 루미네선스 (EL) 표시 장치, 터치 패널 표시 장치, 전자 방출 표시 장치 (전기장 방출 표시 장치 (FED 등), 표면 전계 방출 표시 장치 (SED)), 전자 페이퍼 (전자 잉크나 전기 영동 소자를 사용한 표시 장치), 플라즈마 표시 장치, 투사형 표시 장치 (그레이팅 라이트 밸브 (GLV) 표시 장치, 디지털 마이크로 미러 디바이스 (DMD) 를 갖는 표시 장치 등) 및 압전 세라믹 디스플레이 등을 들 수 있다. 액정 표시 장치는, 투과형 액정 표시 장치, 반투과형 액정 표시 장치, 반사형 액정 표시 장치, 직시형 액정 표시 장치 및 투사형 액정 표시 장치 등 중 어느 것이나 포함한다. 이들 표시 장치는, 2 차원 화상을 표시하는 표시 장치여도 되고, 3 차원 화상을 표시하는 입체 표시 장치여도 된다. 특히 원 편광판은 유기 일렉트로 루미네선스 (EL) 표시 장치 및 무기 일렉트로 루미네선스 (EL) 표시 장치에 유효하게 사용할 수 있고, 본 광학 보상 편광판은 액정 표시 장치 및 터치 패널 표시 장치에 유효하게 사용할 수 있다.
도 1 은 광학 이방성 필름을 포함하는 액정 표시 장치 (10) 의 단면 구성을 나타내는 모식도이다. 액정층 (17) 은, 2 장의 기재 (14a) 및 기재 (14b) 사이에 끼워져 있다. 기재 (14a) 의 액정층 (17) 측에는 컬러 필터 (15) 가 배치되어 있다. 컬러 필터 (15) 가 액정층 (17) 을 사이에 두고 화소 전극 (22) 에 대향하는 위치에 배치되고, 블랙 매트릭스 (20) 가 화소 전극 사이의 경계에 대향하는 위치에 배치되어 있다. 투명 전극 (16) 이 컬러 필터 (15) 및 블랙 매트릭스 (20) 를 덮도록 액정층 (17) 측에 배치되어 있다. 또한, 컬러 필터 (15) 와 투명 전극 (16) 사이에 오버코트층 (도시 생략) 을 가지고 있어도 된다.
기재 (14b) 의 액정층 (17) 측에는, 박막 트랜지스터 (21) 와 화소 전극 (22) 이 규칙적으로 배치되어 있다. 화소 전극 (22) 은, 액정층 (17) 을 사이에 두고 컬러 필터 (15) 에 대향하는 위치에 배치되어 있다. 박막 트랜지스터 (21) 와 화소 전극 (22) 사이에는 접속공 (接續孔) (도시 생략) 을 갖는 층간 절연막 (18) 이 배치되어 있다.
기재 (14a) 및 기재 (14b) 로는, 유리 기재 및 플라스틱 기재가 사용된다. 이러한 유리 기재나 플라스틱 기재로는, 상기의 기재로서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다. 기재 상에 형성되는 컬러 필터 (15) 나 박막 트랜지스터 (21) 를 제조할 때, 고온으로 가열하는 공정이 필요한 경우에는, 유리 기재나 석영 기재가 바람직하다.
박막 트랜지스터는, 기재 (14b) 의 재질에 따라 최적인 것을 채용할 수 있다. 박막 트랜지스터 (21) 로는, 석영 기재 상에 형성하는 고온 폴리실리콘 트랜지스터, 유리 기재 상에 형성하는 저온 폴리실리콘 트랜지스터, 유리 기재 또는 플라스틱 기재 상에 형성하는 아모르퍼스 실리콘 트랜지스터를 들 수 있다. 액정 표시 장치를 보다 소형화하기 위해, 드라이버 IC 가 기재 (14b) 상에 형성되어 있어도 된다.
투명 전극 (16) 과 화소 전극 (22) 사이에는 액정층 (17) 이 배치되어 있다. 액정층 (17) 에는, 기재 (14a) 및 기재 (14b) 사이의 거리를 일정하게 유지하기 위해, 스페이서 (23) 가 배치되어 있다. 또한, 기둥상의 스페이서로 도시하지만, 당해 스페이서는 기둥상에 한정되는 것은 아니며, 기재 (14a) 및 기재 (14b) 사이의 거리를 일정하게 유지할 수 있으면, 그 형상은 임의이다.
각 부재는, 기재 (14a), 컬러 필터 (15) 및 블랙 매트릭스 (20), 투명 전극 (16), 액정층 (17), 화소 전극 (22), 층간 절연막 (18) 및 박막 트랜지스터 (21), 그리고 기재 (14b) 의 차례로 적층되어 있다.
이와 같은 액정층 (17) 을 사이에 두고 있는 기재 (14a) 및 기재 (14b) 중, 기재 (14a) 및 기재 (14b) 의 외측에는 편광막 (12a 및 12b) 이 형성되어 있다. 또한, 위상차막 (예를 들어, 1/4 파장판이나 광학 보상 필름) (13a 및 13b) 이 적층되어 있고, 이들 중, 적어도 1 개의 위상차막에 광학 이방성 필름이 사용된다. 이들 위상차막에 의해, 입사광을 직선 편광으로 변환하는 기능을 액정 표시 장치 (10) 에 부여할 수 있다. 또한, 위상차막 (13a 및 13b) 은, 액정 표시 장치의 구조나, 액정층 (17) 에 함유되는 액정 화합물의 종류에 따라서는 배치되어 있지 않아도 된다.
액정 경화막을 위상차막 (13a 및/또는 13b) 에 사용함으로써, 액정 표시 장치 (10) 의 추가적인 박형화를 달성할 수 있다.
편광막 (12b) 의 외측에는, 발광원인 백라이트 유닛 (19) 이 배치되어 있다. 백라이트 유닛 (19) 은, 광원, 도광체, 반사판, 확산 시트 및 시야각 조정 시트를 포함한다. 광원으로는, 일렉트로 루미네선스, 냉음극관, 열음극관, 발광 다이오드 (LED), 레이저 광원 및 수은 램프 등을 들 수 있다.
액정 표시 장치 (10) 가 투과형 액정 표시 장치인 경우, 백라이트 유닛 (19) 중의 광원으로부터 발해진 백색광은 도광체에 입사하고, 반사판에 의해 진로가 변경되어 확산 시트에서 확산되고 있다. 확산광은 시야각 조정 시트에 의해 원하는 지향성을 갖도록 조정된 후에 백라이트 유닛 (19) 으로부터 편광막 (12b) 에 입사한다.
무편광인 입사광 중, 어느 일방의 직선 편광만이 액정 패널의 편광자 (12b) 를 투과한다. 이 직선 편광은, 기재 (14b), 화소 전극 (22) 등을 순차 투과하여 액정층 (17) 에 도달한다.
여기서 화소 전극 (22) 과 대향하는 투명 전극 (16) 사이의 전위차의 유무에 의해, 액정층 (17) 에 함유되는 액정 분자의 배향 상태가 변화하여, 액정 표시 장치 (10) 로부터 출사되는 광의 휘도가 제어된다. 액정층 (17) 이 편광을 그대로 투과시키는 배향 상태인 경우, 액정층 (17), 투명 전극 (16) 및 컬러 필터 (15) 를 투과한 광은 편광막 (12a) 에 흡수된다. 이로써, 이 화소는 흑색을 표시한다.
반대로, 액정층 (17) 이 편광을 변환하여 투과시키는 배향 상태인 경우, 그 편광은 액정층 (17), 투명 전극 (16) 을 투과하고, 어느 특정한 파장 범위의 광이 컬러 필터 (15) 를 투과하여 편광막 (12a) 에 도달하여, 액정 표시 장치는 컬러 필터에 의해 정해지는 색을 가장 밝게 표시한다. 이들 2 개의 상태의 중간의 배향 상태에서는, 액정 표시 장치 (10) 로부터 출사되는 광의 휘도도 상기 양자의 중간이 되기 때문에, 이 화소는 중간색을 표시한다.
도 2 는 유기 EL 표시 장치 (30) 를 나타내는 개략도이다. 도 2 의 (a) 에서 나타내는 유기 EL 표시 장치 (30) 는, 원 편광판 (31) 을 구비하고 있고, 층간 절연막 (33) 을 개재하여, 화소 전극 (34) 이 형성된 기판 (32) 상에, 발광층 (35), 및 캐소드 전극 (36) 이 적층된 것이다. 기판 (32) 을 사이에 두고 발광층 (35) 과 반대측에 원 편광판 (31) 이 배치된다. 화소 전극 (34) 에 플러스의 전압, 캐소드 전극 (36) 에 마이너스의 전압을 가하여, 화소 전극 (34) 및 캐소드 전극 (36) 사이에 직류 전류를 인가함으로써, 발광층 (35) 이 발광한다. 발광층 (35) 은, 전자 수송층, 발광층 및 정공 수송층 등으로 이루어진다. 발광층 (35) 으로부터 출사한 광은, 화소 전극 (34), 층간 절연막 (33), 기판 (32), 원 편광판 (31) 을 통과한다.
유기 EL 표시 장치 (30) 를 제조하려면, 먼저, 기판 (32) 상에 박막 트랜지스터 (38) 를 원하는 형상으로 형성한다. 그리고 층간 절연막 (33) 을 성막하고, 이어서 화소 전극 (34) 을 스퍼터법으로 성막하고, 패터닝한다. 그 후, 발광층 (35) 을 적층한다.
이어서, 기판 (32) 의 박막 트랜지스터 (38) 가 형성되어 있는 면의 반대의 면에 원 편광판 (31) 을 형성한다. 그 경우에는, 원 편광판 (31) 에 있어서의 편광판이 외측 (기판 (32) 의 반대측) 이 되도록 배치된다.
기판 (32) 으로는, 사파이어 유리 기판, 석영 유리 기판, 소다 유리 기판 및 알루미나 등의 세라믹 기판 ; 구리 등의 금속 기판 ; 플라스틱 기판 등을 들 수 있다. 도시하지는 않지만, 기판 (32) 상에 열전도성막을 형성해도 된다. 열전도성막으로는, 다이아몬드 박막 (DLC 등) 등을 들 수 있다. 화소 전극 (34) 을 반사형으로 하는 경우에는, 기판 (32) 과는 반대 방향으로 광이 출사된다. 따라서, 투명 재료뿐만 아니라, 스테인리스 등의 비투과 재료를 사용할 수 있다. 기판은 단일로 형성되어 있어도 되고, 복수의 기판을 접착제로 첩합하여 적층 기판으로서 형성되어 있어도 된다. 이들 기판은, 판상의 것이어도 되고, 필름이어도 된다.
박막 트랜지스터 (38) 로는, 다결정 실리콘 트랜지스터 등을 사용하면 된다. 박막 트랜지스터 (38) 는, 화소 전극 (34) 의 단부에 형성되고, 그 크기는 10 ∼ 30 ㎛ 이다. 또한, 화소 전극 (34) 의 크기는 20 ㎛ × 20 ㎛ ∼ 300 ㎛ × 300 ㎛ 이다.
기판 (32) 상에는, 박막 트랜지스터 (38) 의 배선 전극이 형성되어 있다. 배선 전극은 저항이 낮아, 화소 전극 (34) 과 전기적으로 접속하여 저항값을 낮게 억제하는 기능이 있고, 일반적으로는 그 배선 전극은, Al, Al 및 천이 금속 (단, Ti 를 제외한다), Ti 또는 질화티탄 (TiN) 중 어느 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 것이 사용된다.
박막 트랜지스터 (38) 와 화소 전극 (34) 사이에는 층간 절연막 (33) 이 형성된다. 층간 절연막 (33) 은, SiO2 등의 산화규소, 질화규소 등의 무기계 재료를 스퍼터나 진공 증착으로 성막한 것, SOG (스핀·온·글래스) 로 형성한 산화규소층, 포토레지스트, 폴리이미드 및 아크릴 수지 등의 수지계 재료의 도막 등, 절연성을 갖는 것이면 어느 것이어도 된다.
층간 절연막 (33) 상에 리브 (39) 를 형성한다. 리브 (39) 는, 화소 전극 (34) 의 주변부 (인접 화소 사이) 에 배치되어 있다. 리브 (39) 의 재료로는, 아크릴 수지 및 폴리이미드 수지 등을 들 수 있다. 리브 (39) 의 두께는, 바람직하게는 1.0 ∼ 3.5 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 1.5 ∼ 2.5 ㎛ 이다.
다음으로, 화소 전극 (34) 과, 발광층 (35) 과, 캐소드 전극 (36) 으로 이루어지는 EL 소자에 대해 설명한다. 발광층 (35) 은, 각각 적어도 1 층의 홀 수송층 및 발광층을 갖고, 전자 주입 수송층, 발광층, 정공 수송층 및 정공 주입층을 순차 갖는다.
화소 전극 (34) 으로는, ITO (주석 도프 산화인듐), IZO (아연 도프 산화인듐), IGZO, ZnO, SnO2 및 In2O3 등을 들 수 있지만, 특히 ITO 나 IZO 가 바람직하다. 화소 전극 (35) 의 두께는, 홀 주입을 충분히 실시할 수 있는 일정 이상의 두께를 가지면 되고, 10 ∼ 500 ㎚ 가 바람직하다.
화소 전극 (34) 은, 증착법 (바람직하게는 스퍼터법) 에 의해 형성할 수 있다. 스퍼터 가스로는, Ar, He, Ne, Kr 및 Xe 등의 불활성 가스, 또는 이들의 혼합 가스를 들 수 있다.
캐소드 전극 (36) 의 구성 재료로는, K, Li, Na, Mg, La, Ce, Ca, Sr, Ba, Al, Ag, In, Sn, Zn 및 Zr 등의 금속 원소를 들 수 있고, 전극의 작동 안정성을 향상시키기 위해서는, 예시한 금속 원소에서 선택되는 2 성분 또는 3 성분의 합금계가 바람직하다. 합금계로는, Ag·Mg (Ag : 1 ∼ 20 at％), Al·Li (Li : 0.3 ∼ 14 at％), In·Mg (Mg : 50 ∼ 80 at％) 및 Al·Ca (Ca : 5 ∼ 20 at％) 등이 바람직하다.
캐소드 전극 (36) 은, 증착법 및 스퍼터법 등에 의해 형성된다. 캐소드 전극 (36) 의 두께는, 통상적으로 0.1 ㎚ 이상, 바람직하게는 1 ∼ 500 ㎚ 이다.
정공 주입층은, 화소 전극 (34) 으로부터의 정공의 주입을 용이하게 하는 기능을 갖고, 정공 수송층은, 정공을 수송하는 기능 및 전자를 방해하는 기능을 갖고, 전하 주입층이나 전하 수송층이라고도 칭해진다.
발광층의 두께, 정공 주입층과 정공 수송층을 합한 두께, 및 전자 주입 수송층의 두께는, 5 ∼ 100 ㎚ 가 바람직하다. 정공 주입층이나 정공 수송층에는, 각종 유기 화합물을 사용할 수 있다. 정공 주입 수송층, 발광층 및 전자 주입 수송층의 형성 방법으로는, 균질한 박막을 형성할 수 있는 점에서 진공 증착법이 바람직하다.
발광층 (35) 으로는, 1 중항 여기자로부터의 발광 (형광) 을 이용하는 것, 3 중항 여기자로부터의 발광 (인광) 을 이용하는 것, 1 중항 여기자로부터의 발광 (형광) 을 이용하는 것과 3 중항 여기자로부터의 발광 (인광) 을 이용하는 것을 함유하는 것, 유기물에 의해 형성된 것, 유기물에 의해 형성된 것과 무기물에 의해 형성된 것을 함유하는 것, 고분자의 재료, 저분자의 재료, 고분자의 재료와 저분자의 재료를 함유하는 것 등을 사용할 수 있고, EL 소자용으로서 공지된 여러 가지 것을 사용한 발광층 (35) 을 유기 EL 표시 장치 (30) 에 사용할 수 있다.
캐소드 전극 (36) 과 봉지층 (封止層) (37) 의 공간에는 건조제 (도시 생략) 를 배치한다. 건조제에 의해 수분을 흡수하여 발광층 (35) 의 열화를 방지한다.
도 2 의 (b) 에서 나타낸 본 실시형태의 유기 EL 표시 장치 (30) 는, 원 편광판 (31) 을 구비하고 있고, 층간 절연막 (33) 을 개재하여, 화소 전극 (34) 이 형성된 기판 (32) 상에, 발광층 (35), 및 캐소드 전극 (36) 이 적층된 것이다. 캐소드 전극 상에 봉지층 (37) 이 형성되고, 기판 (32) 과 반대측에 원 편광판 (31) 이 배치된다. 발광층 (35) 으로부터 출사한 광은, 캐소드 전극 (36), 봉지층 (37), 원 편광판 (31) 을 통과한다.
[실시예]
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 예 중의 「％」 및 「부」 는, 특별히 기재하지 않는 한, 질량％ 및 질량부이다.
예 중의 코로나 처리의 조건은 다음과 같다 (기기 : 카스가 전기 주식회사 제조의 AGF-B10, 출력 : 0.3 kW, 처리 속도 : 3 m/분, 횟수 : 1 회).
[광 배향막 형성용 조성물의 조제]
하기 성분을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써, 광 배향막 형성용 조성물 (1) 을 얻었다. 하기 광 반응성기를 갖는 폴리머는, 일본 공개특허공보 2013-33248호에 기재된 방법으로 합성하였다.
광 반응성기를 갖는 폴리머 : 1 부
Figure 112015010524383-pat00002
용제 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르 99 부
[액정 경화막 형성용 조성물 (1) 의 조제]
하기의 성분을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써, 액정 경화막 형성용 조성물 (1) 을 얻었다. 하기 중합성 액정 화합물 A1 은, 일본 공개특허공보 2010-31223호에 기재된 방법으로 합성하였다. 하기 중합성 액정 화합물 B1 은, 일본 공개특허공보 2010-24438호에 기재된 방법으로 합성하였다. 또한, 당해 조성물 (1) 에 있어서, 하기 중합성 액정 화합물 B1 은, 하기 중합성 액정 화합물 A1 100 몰에 대하여 27 몰이었다.
중합성 액정 화합물 A1 : 86 부
Figure 112015010524383-pat00003
중합성 액정 화합물 B1 : 14 부
Figure 112015010524383-pat00004
중합 개시제 : 2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 (이르가큐어 (등록상표) 369 ; BASF 재팬 (주)) 6 부
레벨링제 : 폴리아크릴레이트 화합물 (BYK-361N ; BYK-Chemie 사 제조) 0.1 부
중합 금지제 : 디부틸하이드록시톨루엔 (와코우 순약 공업 주식회사 제조) 1 부
용제 : N-메틸-2-피롤리디논 160 부, 시클로펜타논 240 부
[액정 경화막 형성용 조성물 (2) 의 조제]
액정 경화막 형성용 조성물 (1) 의 중합성 액정 화합물 B1 을 A2 로 치환한 것 이외에는, 액정 경화막 형성용 조성물 (1) 과 동일하게 하여 액정 경화막 형성용 조성물 (2) 을 얻었다. 중합성 액정 화합물 A2 는, 일본 공개특허공보 2010-31223호에 기재된 방법으로 합성하였다. 당해 조성물 (2) 에 있어서, 하기 중합성 액정 화합물 A2 는, 중합성 액정 화합물 A1 100 몰에 대하여 16 몰이었다.
중합성 액정 화합물 A2 : 14 부
Figure 112015010524383-pat00005

[액정 경화막 형성용 조성물 (3) 의 조제]
액정 경화막 형성용 조성물 (1) 의 N-메틸-2-피롤리디논 160 부를 아니솔 160 부로 치환한 것 이외에는, 액정 경화막 형성용 조성물 (1) 과 동일하게 하여 액정 경화막 형성용 조성물 (3) 을 얻었다.
[활성 에너지선 경화형 접착제의 조제]
이하의 각 성분을 혼합하여, 활성 에너지선 경화형 접착제 (1) 를 조제하였다.
3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트 40 부
비스페놀 A 의 디글리시딜에테르 60 부
디페닐(4-페닐티오페닐)술포늄헥사플루오로안티모네이트 (광 카티온 중합 개시제) 4 부
[극대 흡수 파장의 측정]
중합성 액정 화합물 A1, B1 및 A2 에 대해, 10-4 M 클로로포름 용액을 조제하고, 분광 광도계 (시마즈 제작소 제조, UV-3150) 를 사용하여 흡광도를 측정하였다. 얻어진 극대 흡수 파장을 표 1 에 나타낸다.
Figure 112015010524383-pat00006
실시예 1
[전사용 광학 이방성 시트의 제조]
1. 광 배향막의 형성
기재로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (미츠비시 수지 주식회사 제조, 다이아호일 T140E25) 을 사용하였다. 그 기재 상에, 광 배향막 형성용 조성물 (1) 을 바 코트법에 의해 도포하고, 60 ℃ 의 오븐 중에서 1 분간 가열 건조시켰다. 얻어진 건조 피막에 편광 UV 조사 처리를 실시하여 기재 표면에 광 배향막 (1) 을 형성하였다. 편광 UV 처리는, UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-7 ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 파장 313 ㎚ 로 측정한 강도가 100 mJ 인 조건으로 실시하였다. 얻어진 광 배향막 (1) 의 막두께는 100 ㎚ 였다.
2. 액정 경화막의 형성
얻어진 광 배향막 (1) 의 표면에, 액정 경화막 형성용 조성물 (1) 을 바 코트법에 의해 도포하고, 120 ℃ 의 오븐에서 1 분간 가열 건조시킨 후, 실온까지 냉각시켜 건조 피막을 얻었다. 얻어진 건조 피막에 UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-7 ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 노광량 1000 mJ/㎠ (365 ㎚ 기준) 의 자외선을 조사하여 중합성 액정 화합물이 기재 면내에 대해 수평 방향으로 배향한 상태에서 경화된 액정 경화막 (1) 을 형성하였다. 형성된 액정 경화막의 두께를 레이저 현미경 (올림푸스 주식회사 제조 OLS3000) 에 의해 측정한 결과, 2.1 ㎛ 였다.
3. 액정 경화막의 전사
얻어진 액정 경화막 (1) 의 표면을 코로나 처리한 후, 거기에 활성 에너지선 경화형 접착제 (1) 를 바 코트법에 의해 도포하여, 전사용 광학 이방성 시트 (1) 를 얻었다. 전사용 광학 이방성 시트 (1) 의 접착제측의 표면에, 표면을 코로나 처리한 Zeonor 필름을 압착하고, 그 Zeonor 필름측으로부터 UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-7 ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 노광량 1000 mJ/㎠ (365 ㎚ 기준) 의 자외선을 조사하였다. 전사용 광학 이방성 시트 (3) 로부터 기재를 제거함으로써, Zeonor 필름 상에, 액정 경화막 (1) 을 포함하는 광학 이방성 필름 (1) 이 전사된 광학 이방성 필름 (1) 을 갖는 Zeonor 필름 (1) 을 얻었다. 이 때의 접착제층을 포함하는 광학 이방성 필름 (1) 의 두께는 4.6 ㎛ 였다.
4. 리타데이션 측정
얻어진 광학 이방성 필름 (1) 을 갖는 Zeonor 필름 (1) 의 위상차값을 측정기 (KOBRA-WR, 오지 계측 기기사 제조) 를 사용하여, 450 ㎚ 내지 700 ㎚ 의 파장 범위에 있어서 측정하고, 장치 부속 프로그램으로 파장 450 ㎚ 의 위상차값 Re(450), 파장 550 ㎚ 의 위상차값 Re(550), 파장 650 ㎚ 의 위상차값 Re(650) 을 산출한 결과, 이하에 나타내는 값이었다.
Re(450) = 119 ㎚
Re(550) = 137 ㎚
Re(650) = 141 ㎚
Re(450)/Re(550) = 0.87
Re(650)/Re(550) = 1.03
즉, 액정 경화막 (1) 은 하기 식 (1) 및 (2) 로 나타내는 광학 특성을 가졌다. 또한, Zeonor 필름의 파장 550 ㎚ 에 있어서의 위상차값은 대략 0 이기 때문에, 당해 정면 위상차값의 관계에는 영향을 미치지 않는다.
Re(450)/Re(550) ≤ 1.00 (1)
1.00 ≤ Re(650)/Re(550) (2)
실시예 2
[전사용 광학 이방성 시트 (2) 의 제조]
1. 배향막의 형성
기재로서, 비누화한 트리아세틸셀룰로오스 필름을 사용하였다. 그 기재 상에, 폴리비닐알코올 (폴리비닐알코올 1000 완전 비누화형, 와코우 순약 공업 주식회사 제조) 의 2 질량％ 수용액을 바 코트법에 의해 도포하고, 100 ℃ 의 오븐 중에서 1 분간 가열 건조시켰다. 계속해서, 막의 표면에 러빙 처리를 실시하여 배향막을 형성하였다. 얻어진 배향막의 막두께는 245 ㎚ 였다.
2. 액정 경화막의 형성
얻어진 배향막의 표면에 액정 경화막 형성용 조성물 (3) 을 바 코트법에 의해 도포하고, 120 ℃ 의 오븐에서 1 분간 가열 건조시킨 후, 실온까지 냉각시켜 건조 피막을 얻었다. 얻어진 건조 피막에 UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-7 ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 노광량 1000 mJ/㎠ (365 ㎚ 기준) 의 자외선을 조사하여 중합성 액정 화합물이 기재 면내에 대해 수평 방향으로 배향한 상태에서 경화된 액정 경화막 (3) 을 형성하였다. 형성된 액정 경화막의 두께를 레이저 현미경 (올림푸스 주식회사 제조 OLS3000) 에 의해 측정한 결과, 2.0 ㎛ 였다.
3. 액정 경화막의 전사
얻어진 액정 경화막 (3) 의 표면을 코로나 처리한 후, 거기에 활성 에너지선 경화형 접착제 (1) 를 도포하여, 전사용 광학 이방성 시트 (3) 를 얻었다. 전사용 광학 이방성 시트 (3) 의 접착제측의 표면에, 표면을 코로나 처리한 Zeonor 필름을 압착하고, 그 Zeonor 필름측으로부터 UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-7 ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 노광량 1000 mJ/㎠ (365 ㎚ 기준) 의 자외선을 조사하였다. 전사용 광학 이방성 시트 (3) 로부터 기재를 제거함으로써, Zeonor 필름 상에, 액정 경화막 (3) 을 포함하는 광학 이방성 필름 (3) 이 전사된 광학 이방성 필름 (3) 을 갖는 Zeonor 필름 (3) 을 얻었다. 이 때의 접착제층을 포함하는 광학 이방성 필름 (3) 의 두께는 4.5 ㎛ 였다.
4. 리타데이션 측정
얻어진 광학 이방성 필름 (3) 을 갖는 Zeonor 필름 (3) 의 위상차값을 측정기 (KOBRA-WR, 오지 계측 기기사 제조) 를 사용하여, 450 ㎚ 내지 700 ㎚ 의 파장 범위에 있어서 측정하고, 장치 부속 프로그램으로 파장 450 ㎚ 의 위상차값 Re(450), 파장 550 ㎚ 의 위상차값 Re(550), 파장 650 ㎚ 의 위상차값 Re(650) 을 산출한 결과, 이하에 나타내는 값이었다.
Re(450) = 111 ㎚
Re(550) = 128 ㎚
Re(650) = 132 ㎚
Re(450)/Re(550) = 0.87
Re(650)/Re(550) = 1.03
즉, 액정 경화막 (3) 은 하기 식 (1) 및 (2) 로 나타내는 광학 특성을 가졌다. 또한, Zeonor 필름의 파장 550 ㎚ 에 있어서의 위상차값은 대략 0 이기 때문에, 당해 정면 위상차값의 관계에는 영향을 미치지 않는다.
Re(450)/Re(550) ≤ 1.00 (1)
1.00 ≤ Re(650)/Re(550) (2)
참고예 1
1. 액정 경화막의 형성
실시예 1 과 동일하게, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (미츠비시 수지 주식회사 제조, 다이아호일 T140E25) 상에 광 배향막을 형성하였다. 그 광 배향막 상에, 액정 경화막 형성용 조성물 (2) 을 바 코트법에 의해 도포하고, 120 ℃ 의 오븐에서 1 분간 가열 건조시킨 후, 실온까지 냉각시켜 건조 피막을 얻었다. 얻어진 건조 피막에 UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-7 ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 노광량 1000 mJ/㎠ (365 ㎚ 기준) 의 자외선을 조사하여 중합성 액정 화합물이 기재 면내에 대해 수평 방향으로 배향한 상태에서 경화된 액정 경화막 (2) 을 형성하였다. 형성된 액정 경화막 (2) 의 두께를 레이저 현미경 (올림푸스 주식회사 제조 OLS3000) 에 의해 측정한 결과, 2.1 ㎛ 였다.
2. 액정 경화막의 전사
얻어진 액정 경화막 (2) 의 표면을 코로나 처리한 후, 거기에 활성 에너지선 경화형 접착제 (1) 를 바 코트법에 의해 도포하여, 전사용 광학 이방성 시트 (2) 를 얻었다. 전사용 광학 이방성 시트 (2) 의 접착제측의 표면에, 표면을 코로나 처리한 Zeonor 필름을 압착하고, 그 Zeonor 필름측으로부터 UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-7 ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 노광량 1000 mJ/㎠ (365 ㎚ 기준) 의 자외선을 조사하였다. 전사용 광학 이방성 시트 (2) 로부터 기재를 제거함으로써, Zeonor 필름 상에, 액정 경화막 (2) 을 포함하는 광학 이방성 필름 (2) 이 전사된 광학 이방성 필름 (2) 을 갖는 Zeonor 필름 (2) 을 얻었다. 기재를 제거할 때, 액정 경화막 (2) 의 표면에 줄무늬가 생기는 것이 확인되었다. 접착제층을 포함하는 광학 이방성 필름 (2) 의 두께는 4.6 ㎛ 였다.
4. 리타데이션 측정
광학 이방성 필름 (2) 을 갖는 Zeonor 필름 (2) 의 위상차값을, 측정기 (KOBRA-WR, 오지 계측 기기사 제조) 를 사용하여, 450 ㎚ 내지 700 ㎚ 의 파장 범위에 있어서 측정하고, 장치 부속 프로그램으로 파장 450 ㎚ 의 위상차값 Re(450), 파장 550 ㎚ 의 위상차값 Re(550), 파장 650 ㎚ 의 위상차값 Re(650) 을 산출한 결과, 이하에 나타내는 값이었다.
Re(450) = 120 ㎚
Re(550) = 137 ㎚
Re(650) = 141 ㎚
Re(450)/Re(550) = 0.88
Re(650)/Re(550) = 1.03
즉, 액정 경화막 (2) 은 하기 식 (1) 및 (2) 로 나타내는 광학 특성을 가졌다. 또한, Zeonor 필름의 파장 550 ㎚ 에 있어서의 위상차값은 대략 0 이기 때문에, 당해 정면 위상차값의 관계에는 영향을 미치지 않는다.
Re(450)/Re(550) ≤ 1.00 (1)
1.00 ≤ Re(650)/Re(550) (2)
[투명성 평가]
스가 시험기 주식회사 제조 헤이즈미터 (형식 HZ-2) 를 사용하여, 더블빔법으로, 기재인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름과 액정 경화막 (1) 의 적층체, 기재인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름과 액정 경화막 (2) 의 적층체, 광학 이방성 필름 (1) 을 갖는 Zeonor 필름 (1), 및 광학 이방성 필름 (2) 을 갖는 Zeonor 필름 (2) 의 헤이즈값을 측정하였다. 헤이즈값이 작을수록 투명성이 우수하다. 또한 육안에 의해 결함의 유무를 확인하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.
Figure 112015010524383-pat00007
본 발명의 전사용 광학 이방성 시트로부터 얻어지는 전사된 광학 이방성 필름은, 투명성이 높고, 또한 결함이 적은 것이 확인되었다.
실시예 1 과 참고예 1 에서, 전사 전의 투명성 및 결함에는 차이가 없었다. 즉, 본 발명의 전사용 광학 이방성 시트는, 전사 용도에 있어서 우수한 특성을 발현하는 것을 알 수 있었다.
본 발명의 전사용 광학 이방성 필름은, 액정 경화막의 전사가 용이하고, 결함이 적은 광학 이방성 필름을 제공할 수 있다. 이 광학 이방성 필름에 의해, 이것을 적용한 광학 필름의 박육화가 가능해진다.
10 … 액정 표시 장치,
12a, 12b … 편광막,
13a, 13b … 위상차막,
14a, 14b … 기재,
15 … 컬러 필터,
16 … 투명 전극,
17 … 액정층,
18 … 층간 절연막,
19 … 백라이트 유닛,
20 … 블랙 매트릭스,
21 … 박막 트랜지스터,
22 … 화소 전극,
23 … 스페이서,
30 … EL 표시 장치,
31 … 원 편광판,
32 … 기판,
33 … 층간 절연막,
34 … 화소 전극,
35 … 발광층,
36 … 캐소드 전극,
37 … 봉지층,
38 … 박막 트랜지스터,
39 … 리브.

Claims (8)

  1. 기재와, 액정 경화막을 적층한 전사용 광학 이방성 시트로서,
    상기 기재와 상기 액정 경화막 사이에 형성되는 배향막을 갖고,
    액정 경화막과 배향막은 기재로부터 피전사물에 전사되는 것이고,
    액정 경화막은, 파장 330 내지 380 ㎚ 의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 중합성 액정 화합물 A 100 몰에 대하여 파장 250 내지 300 ㎚ 의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 중합성 액정 화합물 B 5 ~ 70 몰을 함유하는 조성물로 형성되고,
    상기 기재는 플라스틱 기재이고, 상기 플라스틱은 셀룰로오스에스테르, 고리형 올레핀계 수지, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 폴리메타크릴산에스테르이고,
    상기 배향막은, 아크릴로일옥시기 (CH2=CH-COO-) 및 메타크릴로일옥시기 (CH2=C(CH3)-COO-) 로 이루어지는 군에서 선택되는 기를 1 개 갖는 화합물로 이루어지고,
    상기 기재의 두께는 20 ~ 200 ㎛ 이고,
    상기 중합성 액정 화합물 A 가, 하기 식 (A1) 으로 나타내는 기를 포함하고,
    상기 중합성 액정 화합물 B 가, 하기 식 (X) 로 나타내는 기를 포함하고,
    헤이즈값이 1.16 % 이하인, 전사용 광학 이방성 시트.
    P1-F1-(B1-A1)k-E1- (A1)
    [식 (A1) 중, E1 은 -O- 를 나타내고, A1 은 탄소수 6 의 2 가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, B1 은 -O- 를 나타내고, k 는 1 의 정수 (整數) 를 나타내고, F1 은 탄소수 6 의 2 가의 지방족 탄화수소기를 나타내고, P1 은 아크릴로일옥시기를 나타낸다.]
    P11-B11-E11-B12-A11-B13- (X)
    [식 (X) 중, B13 은 -O- 를 나타내고, A11 은 탄소수 6 의 2 가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, B12 는 -O- 를 나타내고, E11 은 탄소수 6 의 알칸디일기를 나타내고, B11 은 단결합을 나타내고, P11 은 아크릴로일옥시기를 나타낸다.]
  2. 제 1 항에 있어서,
    액정 경화막이 하기 식 (1) 및 식 (2) 를 만족하는 파장 분산 특성을 갖는, 전사용 광학 이방성 시트.
    Re(450)/Re(550) ≤ 1.00 (1)
    1.00 ≤ Re(650)/Re(550) (2)
    Re(450), Re(550), Re(650) 은 각각 파장 450 ㎚, 550 ㎚, 650 ㎚ 에 있어서의 정면 위상차값을 나타낸다.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재 상에 광 배향막이 형성되어 있는, 전사용 광학 이방성 시트.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 광 배향막은 신나모일기 또는 칼콘기를 갖는 광 반응성기를 갖는 폴리머와 용제를 포함하는 조성물로부터 형성되는, 전사용 광학 이방성 시트.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 이방성 시트로부터 기재를 제거한, 광학 이방성 필름.
  6. 제 5 항에 기재된 광학 이방성 필름과, 편광판을 적층한, 원 편광판.
  7. 제 5 항에 기재된 광학 이방성 필름을 구비한, 표시 장치.
  8. 제 6 항에 기재된 원 편광판을 구비한, 표시 장치.
KR1020150015211A 2014-01-31 2015-01-30 전사용 광학 이방성 시트 KR102448670B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2014-017305 2014-01-31
JP2014017305A JP2015143789A (ja) 2014-01-31 2014-01-31 転写用光学異方性シート

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150091261A KR20150091261A (ko) 2015-08-10
KR102448670B1 true KR102448670B1 (ko) 2022-09-29

Family

ID=53754295

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150015211A KR102448670B1 (ko) 2014-01-31 2015-01-30 전사용 광학 이방성 시트

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20150218454A1 (ko)
JP (1) JP2015143789A (ko)
KR (1) KR102448670B1 (ko)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6237934B2 (ja) * 2015-01-16 2017-11-29 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
WO2016114252A1 (ja) 2015-01-16 2016-07-21 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
KR102635854B1 (ko) * 2015-01-16 2024-02-14 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 조성물 및 그것을 사용한 광학 이방체
US20170145312A1 (en) * 2015-11-25 2017-05-25 Sumitomo Chemical Company, Limited Liquid crystal composition
KR20170077817A (ko) * 2015-12-28 2017-07-06 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 광학 적층체
CN106918862B (zh) * 2015-12-28 2021-05-25 住友化学株式会社 相位差膜
JP2017181530A (ja) * 2016-03-28 2017-10-05 大日本印刷株式会社 機能層付部材の製造方法および表示装置用部材の製造方法
US20190071604A1 (en) * 2016-03-28 2019-03-07 Zeon Corporation Liquid crystal cured film and method for manufacturing same
KR102167466B1 (ko) * 2016-03-29 2020-10-19 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 액정 조성물
JP7203027B2 (ja) * 2016-12-22 2023-01-12 三星電子株式会社 フォルダブル円偏光板および表示装置
JP2018180218A (ja) * 2017-04-11 2018-11-15 大日本印刷株式会社 位相差フィルム、転写用位相差フィルム、及び表示装置
JP7009703B2 (ja) 2017-07-10 2022-01-26 エルジー・ケム・リミテッド 円偏光板
JP7302954B2 (ja) * 2018-08-23 2023-07-04 住友化学株式会社 水平配向液晶硬化膜を含む積層体

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011207765A (ja) * 2009-03-16 2011-10-20 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4168922B2 (ja) * 2003-12-12 2008-10-22 ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社 液晶フィルム形成用組成物、光学異方性フィルム及びそれらの製造方法
JP5652011B2 (ja) * 2010-06-10 2015-01-14 住友化学株式会社 光学フィルム
KR101933220B1 (ko) * 2011-07-07 2018-12-27 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광 소자, 원편광판 및 이들의 제조 방법
TWI653149B (zh) * 2013-08-09 2019-03-11 住友化學股份有限公司 Optical film

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011207765A (ja) * 2009-03-16 2011-10-20 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150091261A (ko) 2015-08-10
JP2015143789A (ja) 2015-08-06
US20150218454A1 (en) 2015-08-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102448670B1 (ko) 전사용 광학 이방성 시트
KR102301453B1 (ko) 광학 이방성 시트
US11402560B2 (en) Method for producing laminated body
KR102389525B1 (ko) 광학 필름
KR102407297B1 (ko) 전사용 광학 이방성 시트
KR102453716B1 (ko) 위상차 필름
KR102658083B1 (ko) 액정 경화막, 액정 경화막을 포함하는 광학 필름, 및 표시 장치
KR102368381B1 (ko) 광학 필름
TWI637197B (zh) Optical film
TWI634353B (zh) Elliptical polarizer
JP2023157978A (ja) 光学異方性シート
CN104820254B (zh) 一种层叠体和显示装置
KR102641042B1 (ko) 적층체, 적층체를 포함하는 원 편광판 및 적층체를 구비하는 표시 장치
JP2015143787A (ja) 液晶硬化膜形成用組成物
JP2018124576A (ja) 液晶硬化膜
JP7122266B2 (ja) 転写用光学異方性シート
JP2018146980A (ja) 転写用光学異方性シート

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E90F Notification of reason for final refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant