TW201520155A - 薄板移送裝置及薄板清掃系統 - Google Patents

Abstract

以提供可有效率地翻轉薄板的薄板移送裝置作為課題。 本發明的薄板移送裝置，係具備：吸附部，係於第1收授區域中吸附於薄板的下面，於第2收授區域中解放前述薄板；機械臂，係一端側附設有該吸附部；及旋轉部，係支持該機械臂的另一端側，能以位於與被前述吸附部吸附時的前述薄板平行之平面上的旋轉軸為中心，360°旋轉。

Description

薄板移送裝置及薄板清掃系統

本發明係關於薄板移送裝置及薄板清掃系統。

於使用於液晶顯示裝置等之如玻璃的薄板的表背面，形成光學被膜等。因為薄板髒污的話，會有無法適當形成光學被膜等之狀況，需要清掃薄板的系統。

提案有於鋪在皮帶輸送機上之清淨的布上載置薄板，以散布了乙醇之無塵布來擦拭薄板的上面整體的污垢的清掃裝置(中國專利公開第102698988號)。在此種構造中，無關於薄板的尺寸，可清掃薄板表面。然而，在此裝置中，只能清掃薄板的單面。因此，清掃薄板的單面之後，需要翻過來，利用該清掃裝置清掃另一方之面。

在此，於日本特開平08-89910號公報的圖10，記載有握持兩端而使薄板翻轉的構造及清掃薄板之一面的構造。在該構造中，清掃薄板的一面後，使薄板翻轉，清掃另一方的面。

〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕

[專利文獻1]中國專利公開第102698988號

[專利文獻2]日本特開平8-89910號公報

在日本特開平08-89910號公報的圖10所記載之構造中，於吸盤的外側配置有電動機等，故無法超越電動機等來打開吸盤。所以，無法對應較大尺寸的薄板。又，在該構造中，因為握持薄板的兩端，用以握持的吸盤的一部分會接觸已經清掃過之處。因此，難以完全清掃薄板的兩端。

因此，本發明的課題，係提供可一邊有效率地使薄板翻轉一邊移送的薄板移送裝置，及利用具備該薄板移送裝置，可有效率容易且確實地清掃薄板之兩面的薄板清掃系統。

為了解決前述課題所進行的發明是一種薄板移送裝置，係具備：吸附部，係於第1收授區域中吸附於薄板的下面，於第2收授區域中解放前述薄板；機械臂，係一端側附設有該吸附部；及旋轉部，係支持該機械臂的另一端側，能以位於與被前述吸附部吸附時的前述薄板平 行之平面上的旋轉軸為中心，360°旋轉。

該薄板移送裝置，係藉由於旋轉部，藉由設 置於支持前述另一端側之機械臂的前述一端側的吸附部，吸附薄板的下面，利用以與被吸附部吸附之薄板實質上平行的旋轉軸為中心，使旋轉部旋轉來讓機械臂旋回，以描繪圓弧之方式使薄板移動，並且可使薄板的上面及下面翻轉。藉此，可不接觸薄板的上面而移送及翻轉薄板。

於該薄板移送裝置中，複數前述吸附部及前 述機械臂，係以前述旋轉部為中心，略旋轉對稱地配置；前述第1收授區域與前述第2收授區域，係位於以前述旋轉軸為中心，略旋轉對稱的位置為佳。依據該構造，於第1收授區域中一方的吸附部吸附薄板時，另一方的吸附部會被配置於第2收授區域，故與第1收授區域之1個薄板的吸附同時，可進行第2收授區域之其他薄板的解放。因此，該薄板移送裝置可有效率地移送薄板。再者，所謂「略旋轉對稱」係不僅完全旋轉對稱之狀況，也包含以可同時進行第1收授區域之1個薄板的吸附與第2收授區域之其他薄板的解放程度地配置之狀況。例如，即使是成為略旋轉對稱之一對的收授區域(或機械臂或吸附部)的一方與旋轉軸的距離，為另一方與旋轉軸的距離的90%以上110%以下之狀況，收授區域彼此也為略旋轉對稱。再者，對於旋轉軸的角度差也相同，具體來說，例如連結成為略旋轉對稱之一對的收授區域(或機械臂或吸附部)的一方與旋轉軸的虛擬直線，與連接另一方與旋轉軸的虛擬 直線，未滿10°之狀況，收授區域彼此也為略旋轉對稱。

該薄板移送裝置，係設置在前述旋轉部與前 述機械臂之間，對於前述旋轉部，使前述機械臂往前述吸附部的吸引方向突出或後退為佳。依據該構造，利用於前述第1收授區域中前述突出機構使前述機械臂後退，前述吸附部從薄板退避，利用使前述突出機構使前述機械臂突出，使前述吸附部接近薄板。藉此，即使假設是維持旋轉部的旋轉停止狀態，也可藉由突出機構所致之機械臂的突出，使吸附部接近薄板。

本案發明中，作為機械臂不能伸縮亦可，作 為機械臂可伸縮亦可。藉此，即使尺寸不同的薄板，也可藉由機械臂的伸縮，容易且確實地一邊進行翻轉一邊移送。具體來說，例如在較小尺寸的薄板時，可在使機械臂伸長之狀態下利用吸附部吸附薄板，一邊進行翻轉一邊移送，另一方面，在較大尺寸的薄板時，可在使機械臂收縮之狀態下利用吸附部吸附薄板，一邊進行翻轉一邊移送。

於該薄板搬送裝置中，前述機械臂，係具有 被前述旋轉部支持的固定構件，與對於該固定構件可滑動地設置的滑動構件，於該滑動構件附設有前述吸附部為佳。利用設為藉由滑動而讓機械臂伸縮之簡單的構造，不會讓該薄板搬送裝置過度複雜化。

該薄板搬送裝置，係具備：複數暫時承受構 件，係於前述第1收授區域中從下支持一個前述薄板；該複數暫時承受構件，係以前述機械臂可通過該複數暫時承 受構件之間之方式配設為佳。因為可一度利用暫時承受構件來支持薄板，例如從對該薄板搬送裝置之薄板的供給裝置，依序利用暫時承受構件來接收薄板，難受到供給裝置的作動狀況等的影響。

該薄板移送裝置，係如上所述，在複數前述 吸附部、前述機械臂及收授區域分別以旋轉部為中心而略旋轉對稱地配置時，具備：控制裝置，係控制前述吸附部及前述旋轉體的動作；前述控制裝置，係具有：吸附控制要素，係以於前述第1收授區域中前述吸附部吸附前述薄板之方式進行控制；解放控制要素，係以於前述第2收授區域中前述吸附部解放前述薄板之方式進行控制；及旋轉控制要素，係以在前述第1收授區域之一個吸附部所致之一個薄板的吸附，與前述第2收授區域之其他吸附部所致之其他薄板的解放都完成之後，前述旋轉部旋轉之方式進行控制為佳。如此，藉由具有吸附控制要素、解放控制要素及旋轉控制要素，可有效率地進行第1收授區域之薄板的吸附、第2收授區域之薄板的解放、從第1收授區域至第2收授區域之薄板的移送。

進而，於該薄板移送裝置中，前述吸附控制 要素，係以與前述第2收授區域之前述薄板的解放，同時於前述第1收授區域中前述吸附部吸附前述薄板之方式進行控制為佳。第1收授區域之薄板的吸附時機與第2收授區域之薄板的解放時機相同的話，可縮短薄板的移送循環。

該薄板搬送裝置，係如上所述，在機械臂可 伸縮時，具備：控制裝置，係控制前述吸附部、前述機械臂及前述旋轉體的動作；及第1感測器及第2感測器，係分別檢測出前述薄板的有無，並將檢測訊號發送至前述控制裝置；前述第1感測器，係於前述第1收授區域中在伸長前述機械臂時之前述吸附部的附近，檢測前述薄板的有無；前述第2感測器，係於前述第1收授區域中在前述機械臂被前述旋轉部支持之側的前述另一端的附近，檢測前述薄板的有無為佳。如此，利用使用兩個感測器，能以簡單的控制，進行尺寸不同之薄板的確實吸附。

該薄板搬送裝置，係前述控制裝置設置為可 切換：第1控制狀態，係以在前述第1感測器不檢測前述薄板時，在前述機械臂的伸長狀態下，前述吸附部吸附前述薄板之方式進行控制；及第2控制狀態，係以在前述第2感測器檢測出前述薄板時，在前述機械臂收縮之狀態下，前述吸附部吸附前述薄板之方式進行控制為佳。藉此，在吸附尺寸較小的薄板時，利用設為前述第1控制狀態，可伸長機械臂而使用前述第1感測器，另一方面，在吸附尺寸較大的薄板時，利用設為前述第2控制狀態，可收縮機械臂而使用前述第2感測器，藉此，能以簡單的控制，進行尺寸不同之薄板得更確實吸附。

於該薄板搬送裝置中，具備：控制裝置，係 控制前述吸附部、前述機械臂及前述旋轉部的動作；前述控制裝置，係以於前述第2收授區域中在前述機械臂伸長 之狀態下，前述吸附部解放前述薄板之後，前述旋轉部旋轉之前，使前述機械臂收縮之方式進行控制為佳。例如，藉由該薄板裝置，與下游側的其他裝置收授薄板時，伸長機械臂，在從旋轉部的旋轉中心離開的位置中與下游側的其他裝置收授薄板，進而，收授薄板之後，利用收縮機械臂，在旋轉部的旋轉時機械臂比較難干擾到下游側的其他裝置及該裝置所保持的薄板。因此，無關於下游側的其他裝置的狀態，旋轉部容易旋轉。

為了解決前述課題所進行之其他發明是一種 薄板清掃系統，具備：該薄板移送裝置；第1清洗裝置，係清掃前述薄板的上面，並對前述薄板移送裝置供給薄板；及第2清洗裝置，係前述薄板藉由薄板移送裝置翻轉且供給，清掃該薄板的上面，具有第2清掃部。

該薄板移送裝置，係不接觸利用第1清洗裝 置已清掃過之薄板的上面而保持薄板，可有效率地使薄板翻轉，並可供給至清掃被翻轉之未清掃之面(上面)的第2清洗裝置，所以，清掃薄板清掃系統可容易且確實地薄板的兩面。

本發明的薄板移送裝置，係可有效率地一邊反轉一邊移送薄板，又，該薄板清掃系統系可有效率地容易且確實清掃薄板的兩面。

10‧‧‧第1清洗裝置

11‧‧‧第1搬送部

12‧‧‧第1清掃部

20‧‧‧第2清洗裝置

21‧‧‧第2搬送部

22‧‧‧第2清掃部

23‧‧‧皮帶輸送機

30‧‧‧薄板移送裝置

30a‧‧‧薄板移送裝置

31‧‧‧暫時承受構件

31a‧‧‧滑輪

32‧‧‧吸附部

33‧‧‧機械臂

34‧‧‧突出機構

35‧‧‧旋轉部

35a‧‧‧旋轉部

38‧‧‧固定構件

38a‧‧‧滑動管

38b‧‧‧殼體

39‧‧‧滑動構件

39a‧‧‧滑動台

39b‧‧‧厚板狀的構件

41‧‧‧上游側感測器(第1感測器)

42‧‧‧下游側感測器(第2感測器)

43‧‧‧解放側感測器

44‧‧‧控制裝置

46‧‧‧吸附控制要素

47‧‧‧解放控制要素

48‧‧‧旋轉控制要素

A3‧‧‧第1收授區域

A4‧‧‧第2收授區域

P‧‧‧薄板

[圖1]揭示本發明一實施形態之薄板清掃系統的模式側視圖。

[圖2]揭示圖1的薄板清掃系統之薄板移送裝置的模式俯視圖。

[圖3]圖2的薄板移送裝置的模式側視圖。

[圖4]揭示薄板移送裝置之構造的區塊圖。

[圖5]例示移送短薄板時的薄板移送裝置之待機狀態的模式側視圖。

[圖6]例示圖5的下個狀態之薄板移送裝置的模式側視圖。

[圖7]例示圖6的下個狀態之薄板移送裝置的模式側視圖。

[圖8]例示圖7的下個狀態之薄板移送裝置的模式側視圖。

[圖9]例示移送長薄板時的薄板移送裝置之待機狀態的模式側視圖。

[圖10]例示圖9的下個狀態之薄板移送裝置的模式側視圖。

[圖11]例示圖10的下個狀態之薄板移送裝置的模式側視圖。

[圖12]揭示與圖1不同之實施形態的薄板清掃系統相關之薄板移送裝置的模式俯視圖。

以下，一邊參照圖面一邊詳細說明本發明的實施形態。參照，一邊參照圖1至圖11，一邊針對本發明的第一實施形態的薄板清掃系統進行說明。

[第一實施形態]

圖1的薄板清掃系統1，係具備由下支持透明的薄板P並清掃上面的第1清洗裝置10、由下支持薄板P並清掃上面(第1清洗裝置10之下面)的第2清洗裝置20、一邊翻轉薄板P一邊從第1清洗裝置10移送至第2清洗裝置20的薄板移送裝置30。在此，於薄板P，例如包含使用於液晶顯示裝置等的玻璃或樹脂素材的基板。再者，如圖1等所示，第1清洗裝置10之薄板P的搬送方向(往薄板移送裝置30之薄板P的供給方向)，與第2清洗裝置20之薄板P的搬送方向(往薄板移送裝置30之薄板P的供給方向)，係相同方向(在側視圖之圖1的右往左(紙面上的上往下)的方向)。

<第1清洗裝置>

第1清洗裝置10係具有第1搬送部11，與第1清掃部12。第1搬送部11係由以下面接觸之方式從載置薄板P的薄板供給區域A1，透過清掃薄板P的第1清掃區域A2，將薄板P與薄板移送裝置30進行收授的第1收授區 域A3為止，搬送薄板P的皮帶輸送機所成。第1清掃部12係於第1清掃區域A2中清掃被載置於第1搬送部11上之薄板P的上面。

第1清掃部12係如以下所述，以擦拭附著於薄板P的上面之污垢之方是構成。首先，對以不產生塵埃之方式形成的清淨的長條布13，藉由未圖示的散布裝置，散布乙醇。然後，藉由以垂直的偏心軸為中心旋轉的圓盤14，長條布13被押抵載置於第1搬送部11上的薄板P。藉此，長條布13係在薄板P上描繪圓之方式移動，擦拭薄板P的上面的污垢。

<第2清洗裝置>

第2清洗裝置20係第1清洗裝置10之第1收授區域A3的薄板P藉由薄板移送裝置30進行翻轉並供給。該第2清洗裝置20係具有第2搬送部21，與第2清掃部22。第2搬送部21係從接收薄板P的第2收授區域A4，透過清掃薄板P的第2清掃區域A5，將薄板P搬送至排出薄板P的薄板排出區域A6為止。第2清掃部22係於第2清掃區域A5中，清掃薄板P的上面(第1清洗裝置10之薄板P的下面(翻轉前的下面))。

第2搬送部21係具有皮帶輸送機23，與供給至皮帶輸送機23上，以與皮帶輸送機23相同的速度移動之清淨的載置用長條布24。薄板P係以於經常被重新供給的載置用長條布24上，與藉由第1清洗裝置10清掃下 面(翻轉前的上面)接觸之方式載置。又，第2清洗裝置20的第2搬送部21接觸薄板P的高度，係未滿第1清洗裝置10的第1搬送部11接面於薄板P的高度。

第2清掃部22係如以下所述，以擦拭薄板P 的上面(翻轉前的下面)之污垢之方是構成。首先，對以不產生塵埃之方式形成之清淨的長條布25，藉由未圖示的散布裝置，散布乙醇。然後，藉由以垂直的偏心軸為中心旋轉的圓盤26，長條布25被押抵載置於第2搬送部21上的薄板P。藉此，長條布25係在薄板P上描繪圓之方式移動，擦拭薄板P的上面的污垢。

<薄板移送裝置>

圖2係圖示薄板移送裝置30的平面，圖3係圖示薄板移送裝置30的平面。薄板移送裝置30係將從上游的供給裝置(前述第1清洗裝置10)依序供給至第1收授區域A3的薄板P，於第2收授區域A4中與下游的裝置(前述第2清洗裝置20)進行收授的裝置，前述第2清洗裝置20係將收授的薄板P依序搬送至下游側。該薄板移送裝置30係如圖2及圖3的詳示，具備於第1收授區域A3中吸附薄板P的下面，於第2收授區域A4中解放前述薄板P的吸附部32、該吸附部32附設於一端側的機械臂33、支持該機械臂33之另一端側的旋轉部35。

進而，薄板移送裝置30係具備配設於第1收授區域A3的暫時承受構件31，與對於旋轉部35，使前述 機械臂33往前述吸附部32的吸引方向突出或後退的突出機構34。薄板移送裝置30係具備於第1收授區域A3中下側支持1個薄板P的暫時承受構件31。具體來說，暫時承受構件31係於第1收授區域A3中暫時性支持從第1清洗裝置10(參照圖1)排出之薄板P的下面。吸附部32係吸附被暫時承受構件31支持之薄板P的下面。機械臂33可伸縮。具體來說，機械臂33係可於從被旋轉部35支持之前述另一端，朝向附設吸附部32的前述一端的方向伸縮。突出機構34係設置於旋轉部35與機械臂33之間，如上所述，是對於旋轉部35使機械臂33往吸附部32的吸引方向突出或後退的機構。具體來說，突出機構34係由支持機械臂33的前述另一端側的空氣汽缸所成。 旋轉部35係固定突出機構34，藉此，如上述般支持機械臂33。旋轉部35係能以位於與被吸附部32吸附之薄板P平行的平面上的旋轉軸為中心旋轉。該旋轉軸係與吸附部32的吸引方向垂直，又，設置於水平方向(與第1搬送部11搬送薄板P之方向垂直的方向)。薄板搬送裝置30係具備複數前述吸附部32、前述機械臂33及前述突出機構34，該等複數前述吸附部32、前述機械臂33及前述突出機構34分別成對，一對的前述吸附部32、前述機械臂33及前述突出機構34係分別以旋轉部35的旋轉軸為中心旋轉對稱地配設。

薄板搬送裝置30係如圖2等所示，具備複數前述暫時承受構件31。該複數暫時承受構件31係與第1 搬送部11的搬送方向平行地配設，以機械臂33可通過該複數暫時承受構件31之間之方式配設。各暫時承受構件31係由並排配置於第1搬送部11的搬送方向之複數滑輪31a所成。暫時承受構件31係上游側(圖1之第1清洗裝置10側)比下游側，於第1搬送部11的搬送方向以較小的間隔配置。又，暫時承受構件31係以機械臂33可通過之方式，於與第1搬送部11的搬送方向正交之橫跨方向中以比機械臂33的寬度還寬的間隔排列。然後，暫時承受構件31係在上游側以可支持寬度較小之薄板P之方式，於與第1搬送部11的搬送方向正交之橫跨方向以較小的間隔排列，在下游側以可支持寬度較大之薄板P之方式，於橫跨方向以較大的間隔排列。

前述吸附部32係具有安裝於機械臂33的真 空吸盤36。在此，於各機械臂33，分別安裝複數前述真空吸盤36。於機械臂33，連通於連接未圖示之眞空源的流路，形成可安裝真空吸盤36的複數吸引孔37。真空吸盤36係吸附並支持薄板P。該等真空吸盤36係因應應吸附之薄板P的大小，安裝於適當的位置。未安裝真空吸盤36的吸引孔37以栓柱封止。

前述機械臂33係吸附部32如圖3等所示， 能以接近‧離開旋轉部35的旋轉軸之方式伸縮，具體來說，可往與吸附部32的吸引方向垂直之方向(如圖3所示，與吸附於吸附部32的薄板P平行的方向)，且將吸附部32配置於第1收授區域A3時與第1搬送部11的搬 送方向D平行的水平方向伸縮。機械臂33係具有利用固定於前述突出機構34，被旋轉部34支持的固定構件38，與可滑動地設置於該固定構件38的滑動構件39，於該滑動構件39附設有前述吸附部32。具體來說，固定構件38係包含無桿氣壓缸的滑動管38a及殼體38b，滑動構件39係包含無桿氣壓缸的滑動台39a、從該滑動台39a延長設置於無桿氣壓缸的動作方向，於與滑動台39a相反側附設吸附部32之細長的厚板狀的構件39b。

前述突出機構34係如上所述，使機械臂33 往與吸附部32的吸引方向平行，突出(離開旋轉部35)或後退(接近旋轉部35)。於第1收授區域A3中將機械臂33水平配置，將突出機構34設為機械臂33的後退狀態的話，吸附部32的真空吸盤36整體會位於比暫時承受構件31支持薄板P的高度還下方，之後，藉由突出機構34將機械臂33設為突出狀態的話，真空吸盤36的吸附面會位於比暫時承受構件31支持薄板P的高度還上方。 亦即，吸附部32係於第1收授區域A3中，藉由突出機構34使機械臂33後退，退避至比薄板P還下方，藉由突出機構34使機械臂33突出，抬高薄板P。藉此，於第1收授位置A3中可藉由吸附部32從下側保持薄板P。

前述旋轉部35係藉由電動機40以旋轉軸為 中心360°旋轉。再者，所謂360°旋轉係不是代表旋轉部35只能旋轉1圈，而是代表可往一方向連續旋轉。該旋轉部35的旋轉軸係配設於第1收授區域A3的高度位置與 第2收授區域A4的高度位置之間的高度。亦即，該旋轉軸係配設於第1搬送部11與薄板P接觸的部分和第2搬送部21與薄板P接觸的部分之間的高度。旋轉部35旋轉的話，機械臂33係以通過暫時承受構件31之間而旋回之方式移動。

又，薄板移送裝置30係具備分別檢測薄板的 有無，並將檢測訊號發送至後述之控制裝置的上游側感測器41(第1感測器)、下游側感測器42(第2感測器)及解放側感測器43。

上游側感測器41及下游側感測器42係配設 於第1收授區域A3，亦即，薄板移送裝置30係於第1收授區域A3中，於薄板P的供給方向，配設有複數感測器41、42。上游側感測器41係於第1收授區域A3中在伸長機械臂33時之前述吸附部32的附近，檢測前述薄板P的有無。具體來說，上游側感測器41係在前述吸附部32的附近且比吸附部32更靠伸長側(上游側)檢測薄板P的有無。更具體來說，上游側感測器41係以可檢測出薄板P離開第1清洗裝置10之狀況之方式配置。下游側感測器42係於第1收授區域A3中在機械臂33被旋轉部35支持之側的前述另一端附近，檢測前述薄板P的有無。具體來說，下游側感測器42係在收縮機械臂33時之吸附部32的附近且比吸附部32更靠收縮側(下游側)檢測薄板P的有無。

解放側感測器43係配設於第2收授區域 A4。解放側感測器43係於第2收授區域A4中在伸長機械臂33時之吸附部32的附近且比吸附部32更靠伸長側(下游側)，檢測薄板P的有無。上游側感測器41、下游側感測器42及解放側感測器43係理想為光電感測器等之非接觸型的感測器，藉由旋轉部35的旋轉，而固定於不會干擾其他構成要素的位置。

進而，薄板移送裝置30係具備控制上述之各 構成要素的動作的控制裝置44。控制裝置44係理想為藉由可程式化的微電腦等所構成。

於圖4的區塊圖，揭示薄板移送裝置30的控 制相關之各構成要素的關係。對控制裝置44，透過設定輸入部45預先輸入移送之薄板P的尺寸等的條件設定。 又，對控制裝置44，輸入上游側感測器41、下游側感測器42及解放側感測器43的檢測訊號。控制裝置44係依據該等輸入，控制吸附部32的吸引動作、機械臂33的伸縮動作、突出機構34的突出後退動作及旋轉部35的旋轉動作。薄板移送裝置30係如上所述，一對的吸附部32、機械臂33及突出機構34以旋轉部35的旋轉軸為中心旋轉對稱地配置。因為各構成要素被個別控制，故因應必要，將該等構成要件冠上「第1」或「第2」的號碼來區別。

控制裝置44係具有吸附控制要素46、解放控 制要素47、旋轉控制要素48。吸附控制要素46係控制第1收授區域A3中吸附部32用以吸附薄板P的動作。解放 控制要素47係控制第2收授區域A4中吸附部32用以解放薄板P，且與第2清洗裝置20進行收授的動作。旋轉控制要素48係控制使旋轉部35旋轉，用以將薄板P從第1收授區域A3移送至第2收授區域A4的動作。該等吸附控制要素46、解放控制要素47及旋轉控制要素48係控制裝置44的電路或程式的一部分，如電路模組或副常式，可與其他部分區別地構成為佳。

吸附控制要素46係以在預先於設定輸入部45 中設定之薄板P的長度(機械臂33的伸縮方向(第1搬送部11的搬送方向D)的長度)為所定基準長度L以下時，於第1收授區域A3中機械臂33伸長，且突出機構34使機械臂33網下方後退之狀態下待機，在上游側感測器41未檢測出薄板P時，突出機構34使機械臂33往上方突出，並且吸附部32吸附薄板P之方式進行控制(第1控制狀態)。吸附控制要素46係以在被設定之薄板P的長度超過基準長度L時，於第1收授區域A3中機械臂33收縮之狀態下待機，在下游側感測器42檢測出薄板P時，突出機構34使機械臂33往上方突出，並且吸附部32吸附薄板P之方式進行控制(第2控制狀態)。亦即，控制裝置44係可因應薄板P的尺寸，來切換前述第1控制狀態與第2控制狀態地設置。

解放控制要素47係以於第2收授區域A4中 突出機構34使機械臂33往下方突出之狀態下待機，因應解放側感測器43的檢測訊號(確認訊號)，停止吸附部 32的吸引而解放吸附的薄板P，將薄板P載置於第2清洗裝置20之第2搬送部21上之方式進行控制吸附部32。 更詳細來說，控制要素47係在之前的控制循環中吸附部32解放薄板P之後，從一度解放側感測器43檢測出薄板P，到再次未檢測出薄板P時，判斷薄板P從第2收授區域A4被移送至第2清掃區域A5，在第2收授區域A4並無薄板P。又，解放控制要素47係在吸附部32解放薄板P之後，使第2收授區域A4側的突出機構34讓機械臂33往上方後退，並且使該第2收授區域A4側的機械臂33收縮。

旋轉控制要素48係以在第1收授區域A3之 一個吸附部32所致之一個薄板P的吸附，與第2收授區域A4之其他吸附部32所致之其他薄板P的解放都完成之後，旋轉部35旋轉之方式進行控制。更具體來說，該旋轉控制要素48係以在第1收授區域A3之薄板P的吸附，與第2收授區域A4之薄板P的解放完成，且機械臂33的解放完成之後，前述旋轉部35旋轉之方式進行控制。因此，控制裝置44係以於第2收授區域A4中機械臂33伸長之狀態下，吸附部32解放薄板P之後，旋轉部35旋轉之前，讓機械臂33收縮之方式進行控制。再者，前述吸附控制要素46係能以與第2收授區域A4之薄板P的解放同時，於第1收授區域A3中吸附部32吸附薄板P之方式進行控制。

<動作>

以下，一邊參照依序揭示薄板移送裝置30之狀態變化的圖5至圖11，一邊依序說明該薄板清掃系統的動作。再者，以下之動作的控制係藉由前述控制裝置進行。

薄板清掃系統開始動作之前，使用者預先利用操作面板輸入玻璃板的大小。如上所述，第1清洗裝置10(參照圖1)係一邊將薄板P載置於第1搬送部11上來進行搬送，一邊藉由第1清掃部12，清掃被載置於第1搬送部11上之薄板P的上面。然後，如圖5所示，第1搬送部11係於第1收授區域A3中將薄板P排出至薄板移送裝置30的暫時承受構件31上。

此時，薄板移送裝置30係在藉由突出機構34使機械臂33後退，使吸附部32退避至暫時承受構件31下之狀態下，等待薄板P供給至暫時承受構件31上。圖5係揭示薄板P的搬送方向之長度為基準長度L以下，在伸長機械臂33之狀態下等待薄板P的供給的樣子。

藉由第1搬送部11，薄板P開始搬入至第1收授區域A3時，上游側感測器41會檢測出薄板P。然後，在薄板P的整體從第1搬送部11被暫時承受構件31收授之後，薄板P的後端緣會通過上游側感測器41，所以，上游側感測器41無法再次檢測出薄板P。此瞬間，如圖6所示，第1收授區域A3側的突出機構34使機械臂33突出，並使吸附部32的真空吸盤36突出至比暫時承受構件31還上方。然後，一併第1收授區域A3之吸附部 32連接眞空源，產生吸引力。藉此，位於第1收授區域A3的吸附部32係將薄板P從暫時承受構件31抬高，並且吸附並保持下面。在此，在真空吸盤36吸附薄板P之前，薄板P正在移動。因此，在薄板P正在移動之狀態下真空吸盤36吸附於薄板P。

於第1收授區域A3中吸附部32吸附保持薄 板P後，如圖7所示，旋轉部35於圖7中往逆時針方向旋轉180°。亦即，旋轉部35係以第1收授區域A3側的機械臂33的上游側前端往上方移動，第2收授區域A4側的機械臂33的下游側前端往下方移動之方式旋轉。

旋轉旋轉部35之後，如圖7所示，機械臂33 保持的薄板P被配置於第2清洗裝置20的第2搬送部21上。因此，機械臂33係成為如果有來自第2清洗裝置20的要求的話，馬上可將薄板P載置於第2搬送部21上的狀態。另一方面，第1收授區域A3側的機械臂33伸長，如針對圖5所說明般，作為於第1收授區域A3中可吸附薄板P之狀態。

在此狀態下，在先將下個薄板P供給至第1 收授區域A3時，如圖8所示，第1收授區域A3側的突出機構34使機械臂33突出，並且吸附部32吸附薄板P。然後，第2收授區域A4側的機械臂33維持伸長，可將薄板P載置於第2搬送部21上的狀態。

藉由解放側感測器43，可確認上次控制循環 中第2搬送部21將被供給至第2收授區域A4之薄板P 移送至第2清掃區域A5，換句話說，成為可將薄板P供給至第2收授區域A4之狀態時，第2收授區域A4側的吸附部32從眞空源被隔離，因為喪失吸附力而解放薄板P。在第2收授區域A4側的吸附部32解放薄板P之後，第2收授區域A4側的突出機構34使機械臂33後退，該機械臂33收縮而在旋轉部35的旋轉時不會干擾第2搬送部21。

於圖7的狀態中，在對第1收授區域A3供給 薄板P之前，藉由解放側感測器43確認第2收授區域A4沒有薄板P時，馬上第2收授區域A4側的吸附部32會解放薄板P，進行第2收授區域A4側的機械臂33的收縮及突出機構34所致之後退(上升)，在圖5所示之狀態下，等待對第1收授區域A3之薄板P的供給。在投入電源後進行之薄板P的清掃或搬送等沒有障礙時，以第1收授區域A3之薄板P的吸附，與第2收授區域之薄板P解放同時進行之方式設定。

如此，旋轉部35的旋轉係以在第1收授區域 A3之薄板P的吸附、第2收授區域A4之薄板P的解放及機械臂33的收縮都完成後進行。

以上之由圖5至圖8的動作，係薄板P的長 度為基準長度L以下之狀況。薄板P的長度超過基準長度L時，成為如圖9~圖11所示之動作。

薄板P的長度超過基準長度L時，第1收授 區域A3之薄板P的吸附，係如圖9所示，在收縮機械臂 33之狀態下，等待薄板P的供給，在下游側感測器42檢測出薄板P的前端緣時，使機械臂33往上方突出，並且利用吸附部32吸附薄板P。在此，在真空吸盤36吸附薄板P之前，薄板P正在移動。因此，在薄板P正在移動之狀態下真空吸盤36吸附於薄板P。

於薄板移送裝置30中，在薄板P較長時，薄板P以從吸附部32突出於上游側之狀態下被吸附保持。假設，在伸長機械臂33之狀態下藉由吸附部32吸附較長的薄板P的話，薄板P之上游側的部分還位於第1搬送部11上之間，需要藉由吸附部32來抬高薄板P。然而，因為第1搬送部11與薄板P的抵接面積較大，欲將位於第1搬送部11上的薄板P，於該面垂直抬高的話，第1搬送部11與薄板P之間會產生真空(氣壓降低)而成為較大的阻抗。因此，利用設為收縮機械臂33之狀態，薄板P完全從第1搬送部11脫離後，吸附部32可一邊抬高薄板P一邊進行吸附。

吸附部32吸附薄板P之後，如圖10所示，旋轉部35會旋轉。然後，如圖11所示，機械臂33伸長，薄板P被配置於第2收授區域A4。在該伸長之前，可藉由突出機構34將機械臂33設為退避狀態，藉此，伸長時可迴避薄板P與第2搬送部21的不小心抵接。進而，之後，藉由解放側感測器43確認第2收授區域A4沒有薄板P時，吸附部32會解放薄板P。在該解放之前，可藉由突出機構34將機械臂33設為突出狀態，藉此，可 將薄板P與第2搬送部21確實地進行收授。之後，將機械臂33設為收縮狀態之後，旋轉部35會旋轉。

<優點>

該薄板清掃系統係藉由第1清洗裝置10清掃薄板P的上面整體，藉由薄板移送裝置30不接觸已清掃過的上面來移送及翻轉薄板P，藉由第2清洗裝置20清掃未清掃之薄板P的上面(翻轉前的下面)整體。因此，該薄板清掃系統係不需要人員在其中，可短時間地容易且確實清掃薄板P的雙面。

又，因為旋轉部360°旋轉，可連續性進行從第1收授區域A3到第2收授區域A4為止之透明板的移送，尤其，具備分別附設吸附部32的複數機械臂33，可一邊利用1個機械臂33進行從第1收授區域A3到第2收授區域A4為止之薄板P的移送，一邊將已收授薄板P之其他機械臂33從第2收授區域A4移動至收授準備位置(第1收授區域A3)為止，因此，可有效地進行薄板P的連續移送。

於該薄板清掃系統中，薄板移送裝置30係在第1收授區域A3中安裝於一方的機械臂33之吸附部32吸附薄板P時，配置於以旋轉軸為中心的旋轉對稱位置之另一方的機械臂33之吸附部32被配置於第2收授區域A4。因此，與第1收授區域A3之薄板P的吸附同時可進行第2收授區域A4之薄板P的解放。所以，相較於第1 收授區域A3之薄板P的吸附與行第2收授區域A4之薄板P的解放之時機不同之狀況，效率更好。

於該薄板清掃系統中，薄板移送裝置30係在 藉由吸附部32吸附薄板P時，不使旋轉部35旋轉，使用突出機構34使機械臂33突出而抬高薄板P。因此，不一定需要同步進行第1收授區域A3之第1清洗裝置10的薄板P的接收，與第2收授區域A4之第2清洗裝置20之薄板P的收授，可利用不同時機來進行。亦即，該薄板清掃系統，係第1清洗裝置10及第2清洗裝置20可不等待相互的動作而獨立作動，即使發生第1清洗裝置10及第2清洗裝置20的搬送速度的遲延或搬送中的障礙之狀況，也可柔軟地對應，具有高處理能力。

於該薄板清掃系統中，第1搬送部11與薄板 P接觸的高度位置為旋轉部35的高度以上，第2搬送部21與薄板P接觸的高度位置為旋轉部35的高度以下。藉此，薄板移送裝置30係因為能以俯視重疊旋轉部35之方式保持薄板P，可將第1收授區域A3與第2收授區域A4接近地設定，可縮小該薄板清掃系統的專有面積。

於薄板移送裝置30中，控制裝置44的解放 控制要素47係於第2收授區域A4中在吸附部32解放薄板P之後使機械臂33收縮。藉此，旋轉部35的旋轉時機械臂33不會干擾第2搬送部21。

因為機械臂33可伸縮，利用配合薄板P的尺 寸來伸縮機械臂33，即使是尺寸不同的薄板P，也可一邊 容易且確實地翻轉一邊移送。亦即，在較小之尺寸的薄板P時，在使機械臂33伸長之狀態下吸附部32吸附薄板P而旋轉的話，相較於在機械臂33收縮之狀態下吸附薄板P之狀況，薄板P的搬送距離變短，且可藉由旋轉部35的旋轉，將薄板P搬送至較遠距離為止。另一方面，在較大之尺寸的薄板P時(於搬送方向中薄板P較長時)，因為在收縮機械臂33之狀態下接收薄板P，薄板P係完全從第1搬送部11脫離後，藉由吸附部32一邊抬高邊吸附。亦即，在第1搬送部11與薄板P接觸之狀態下抬高薄板P時，薄板P的一部分還留在第1搬送部11，故有吸附需要較大之力道之虞，又，需要伸長機械臂33，確保用以使薄板P旋轉的空間。相對於此，如上所述，利用在收縮機械臂33之狀態下接收薄板P，可減低吸附部32的吸引負荷。因此，在薄板移送裝置30中，可一邊確實搬送多種尺寸的薄板P一邊進行翻轉。進而，於第1收授區域A3中在收縮機械臂33之狀態下接收薄板P，旋轉之後，伸長機械臂33，解放薄板P，故相較於第1收授區域A3中，伸長機械臂33來接收薄板P之狀況，可將薄板P搬送至更接近第2清掃區域A5的位置為止。因此，可提升搬送速度。

於薄板移送裝置30中，機械臂33係由固定 構件38及滑動構件39所成，與吸附部32吸附之薄板P平行地伸縮。因此，於第2收授區域A4中，可選擇將薄板P解放於第2搬送部21上的位置。

於薄板移送裝置30中，控制裝置44的吸附 控制要素46係在薄板P的搬送方向長度超過基準長度L時，可僅藉由上游側感測器41決定第1收授區域之薄板P的吸附的時機，在薄板P的搬送方向長度為基準長度L以下時，可僅藉由下游側感測器42決定第1收授區域之薄板P的吸附的時機。因此，可利用簡單的控制來吸附多種尺寸的薄板P。

薄板移送裝置30係因為具備暫時承受構件 31，到離開第1搬送部11為止可完全支持薄板P。亦即，為了利用吸附部32吸附薄板P而突出機構34使機械臂33突出時，不需要硬從第1搬送部11剝離薄板P。因此，可不對於吸附部32造成過大的負擔，可進行薄板P的確實吸附。

[第二實施形態]

本發明的第二實施形態的薄板清掃系統，係與第一實施形態吸同，具有第1清洗裝置10及第2清洗裝置20、圖12所示之薄板移送裝置30a。關於本實施形態，對於與第一實施形態相同構成要素附加相同符號，並省略重複的說明。

在圖12的薄板清掃系統中，第1清洗裝置10 與第2清洗裝置20在俯視中平行並排配置。詳細來說，第1清洗裝置10及第2清洗裝置20係以第1清洗裝置10的第1搬送部11所致之薄板P的搬送方向D1與第2 清洗裝置20的第2搬送部21所致之薄板P的搬送方向D2成為相反朝向之方式配置。

<薄板移送裝置>

薄板移送裝置30a係具備以與位於被吸附部32吸附時的薄板P平行之平面上的旋轉軸為中心旋轉的旋轉部35a，該旋轉部35a係以水平且與第1搬送部11的搬送方向D1及第2搬送部21的搬送方向D2平行的旋轉軸為中心旋轉。該旋轉部35a的旋轉軸係配置在第1清洗裝置10與第2清洗裝置20之間。該旋轉部35a係與旋轉軸垂直延伸之腕狀的構件，配置於比第1收授區域A3更靠第1搬送部11的搬送方向D1的下游側，且比第2收授區域A4更靠第2搬送部21的搬送方向D2的上游側。然後，旋轉部35a係於兩端部的第1清洗裝置10及第2清洗裝置20側的側部，支持突出機構34。

具有此種構造的該薄板清掃系統，係因為全長較短，可容易確保設置場所。

[其他實施形態]

本次所揭示的實施形態全部為例示，並不是有所限制者。本發明的範圍係不限前述實施形態的構造，藉由申請專利範圍所揭示，包含與申請專利範圍均等的意圖及範圍內之所有變更(構造的置換、附加及刪除)。

例如，吸附控制要素及解放控制要素不進行 機械臂的收縮，旋轉控制要素在旋轉部的旋轉前進行機械臂的收縮亦可。

又，本發明不一定需要作為機械臂33可伸縮的構造。但是，在具備無法伸縮之機械臂的薄板移送裝置之狀況中，不管是哪種尺寸的薄板，在薄板移動於吸附部上的時間點，旋轉部旋轉而移送薄板。然而，此種構造之狀況中，根據薄板的尺寸，存在有沒有效率的狀況。例如，配合較小薄板的搬送，將機械臂設定為較長之狀況中，搬送較大薄板時，以旋轉部為中心，較大的薄板會旋轉，故需要大空間。另一方面，配合較大薄板的搬送，設定為較短的機械臂之狀況中，搬送較小的薄板時，到機械臂的吸附部所位在的位置為止，需要搬送薄板的機構。因此，如上所述，機械臂33可伸縮為佳。

又，於第2收授區域設置收授薄板的其他機構，例如將第2搬送部設為滑邊型輸送機的話，薄板移送裝置係可在收縮機械臂之狀態下將薄板與第2清洗裝置進行收授。

在前述實施形態中，已針對第1清洗裝置10及第2清洗裝置20分別具有第1清掃部12及第2清掃部22的構造進行說明，但是，本發明並不限於此，例如，作為第1清洗裝置10具有兩個第1清掃部12，第2清洗裝置20具有兩個第2清掃部22的構造亦可。又，第1清掃部12及第2清掃部22具備不同的清掃機構亦可。

在前述的實施形態中，已針對具備於第1收 授區域A3中吸附薄板P時吸附部32可對於薄板P從退避狀態突出的突出機構34者進行說明，但是，本發明並不限於此，作為未具有突出機構34的構造亦可。又，於本發明中，在前述薄板P的吸附時應從退避狀態使吸附部32突出，也可在機械臂33與吸附部32之間設置出退機構，藉由該出退機構可使吸附部32對於薄板P出退。但是，在機械臂33與吸附部32之間難以設置前述出退機構，因為有導致裝置整體的成本提高之虞，如前述的實施形態，在旋轉部35與機械臂33之間設置前述突出機構34為佳。

在前述的實施形態中，已針對機械臂33僅可變化成伸長及收縮之兩個狀態的構造進行說明，但是，本發明並不限於此，作為具備可變化成3階段或其以上之階段的機械臂的構造亦可。此時，可比前述的實施形態更對應多種尺寸的薄板。

在前述的構造中，於第1清洗裝置10，並未配置相當於第2清洗裝置20的載置用長條布24的構造，但是，本發明並不限於此，於第1清洗裝置10也設置相當於第2清洗裝置20的載置用長條布24的構造亦可。

在前述的實施形態中，使用利用藉由吸附部32吸附薄板P來進行保持的構造，但是，本發明並不限於吸附的構造，作為利用黏著力等其他方法來保持薄板P的構造亦可。

又，作為訂定第2收授區域之薄板P的解放 時機的確認訊號，使用為了從第2清洗裝置20要求薄板P的供給而被輸入至薄板移送裝置30的外部訊號亦可。

又，在前述第二實施形態中，旋轉部35a與旋轉軸平行地支持機械臂33，但是，利用不同角度支持機械臂33，能以第1清洗裝置10的第1搬送部11所致之薄板P的搬送方向D1與第2清洗裝置20的第2搬送部21所致之薄板P的搬送方向D2成為所希望角度之方是配置。

於前述的實施形態中，薄板移送裝置30係用於將薄板P從第1清洗裝置10移送至第2清洗裝置20，但是，本發明並不限於此。具備一端安裝有吸附部的機械臂，與安裝於機械臂的另一端的旋轉部的裝置，也可用於將薄板P供給至第1清洗裝置，也可用於從第2清洗裝置20將已清洗過的薄板P移送至收納盒。

在前述的實施形態中，薄板移送裝置30具備兩個機械臂33，但是，本發明並不限於此。作為具備兩個以上，例如4個機械臂的薄板移送裝置亦可。

〔產業上之利用可能性〕

本發明的薄板清掃系統係可適切利用於行動機器的顯示裝置所用之玻璃基板等的薄板的清掃。

11‧‧‧第1搬送部

21‧‧‧第2搬送部

30‧‧‧薄板移送裝置

31‧‧‧暫時承受構件

31a‧‧‧滑輪

32‧‧‧吸附部

33‧‧‧機械臂

34‧‧‧突出機構

35‧‧‧旋轉部

36‧‧‧真空吸盤

38‧‧‧固定構件

38a‧‧‧滑動管

38b‧‧‧殼體

39‧‧‧滑動構件

39a‧‧‧滑動台

39b‧‧‧厚板狀的構件

41‧‧‧上游側感測器

42‧‧‧下游側感測器

43‧‧‧解放側感測器

A3‧‧‧第1收授區域

A4‧‧‧第2收授區域

P‧‧‧薄板

Claims (12)

1. 一種薄板移送裝置，其特徵為具備：吸附部，係於第1收授區域中吸附薄板的下面，於第2收授區域中解放前述薄板；機械臂，係一端側附設有該吸附部；及旋轉部，係支持該機械臂的另一端側，能以位於與被前述吸附部吸附時的前述薄板平行之平面上的旋轉軸為中心，360°旋轉。
2. 如申請專利範圍第1項所記載之薄板移送裝置，其中，複數前述吸附部及前述機械臂，係以前述旋轉部為中心，略旋轉對稱地配置；前述第1收授區域與前述第2收授區域，係位於以前述旋轉軸為中心，略旋轉對稱的位置。
3. 如申請專利範圍第1項所記載之薄板移送裝置，其中，具備：突出機構，係設置在前述旋轉部與前述機械臂之間，對於前述旋轉部，使前述機械臂往前述吸附部的吸引方向突出或後退。
4. 如申請專利範圍第1項所記載之薄板移送裝置，其中，前述機械臂可伸縮。
5. 如申請專利範圍第4項所記載之薄板移送裝置， 其中，前述機械臂，係具有被前述旋轉部支持的固定構件，與可滑動地設置於該固定構件的滑動構件，於該滑動構件附設有前述吸附部。
6. 如申請專利範圍第1項所記載之薄板移送裝置，其中，具備：複數暫時承受構件，係於前述第1收授區域中從下支持一個前述薄板；該複數暫時承受構件，係以前述機械臂可通過該複數暫時承受構件之間之方式配設。
7. 如申請專利範圍第2項所記載之薄板移送裝置，其中，具備：控制裝置，係控制前述吸附部及前述旋轉體的動作；前述控制裝置，係具有：吸附控制要素，係以於前述第1收授區域中前述吸附部吸附前述薄板之方式進行控制；解放控制要素，係以於前述第2收授區域中前述吸附部解放前述薄板之方式進行控制；及旋轉控制要素，係以在前述第1收授區域之一個吸附部所致之一個薄板的吸附，與前述第2收授區域之其他吸附部所致之其他薄板的解放都完成之後，前述旋轉部旋轉之方式進行控制。
8. 如申請專利範圍第7項所記載之薄板移送裝置， 其中，前述吸附控制要素，係以與前述第2收授區域之前述薄板的解放，同時於前述第1收授區域中前述吸附部吸附前述薄板之方式進行控制。
9. 如申請專利範圍第4項所記載之薄板移送裝置，其中，具備：控制裝置，係控制前述吸附部、前述機械臂及前述旋轉體的動作；及第1感測器及第2感測器，係分別檢測出前述薄板的有無，並將檢測訊號發送至前述控制裝置；前述第1感測器，係於前述第1收授區域中在伸長前述機械臂時之前述吸附部的附近，檢測前述薄板的有無；前述第2感測器，係於前述第1收授區域中在前述機械臂被前述旋轉部支持之側的前述另一端的附近，檢測前述薄板的有無。
10. 如申請專利範圍第9項所記載之薄板移送裝置，其中，前述控制裝置，係設置為可切換：第1控制狀態，係以在前述第1感測器不檢測前述薄板時，在前述機械臂的伸長狀態下，前述吸附部吸附前述薄板之方式進行控制；及第2控制狀態，係以在前述第2感測器檢測出前述薄板時，在前述機械臂收縮之狀態下，前述吸附部吸附前述 薄板之方式進行控制。
11. 如申請專利範圍第4項所記載之薄板移送裝置，其中，具備：控制裝置，係控制前述吸附部、前述機械臂及前述旋轉部的動作；前述控制裝置，係以於前述第2收授區域中在前述機械臂伸長之狀態下，前述吸附部解放前述薄板之後，前述旋轉部旋轉之前，使前述機械臂收縮之方式進行控制。
12. 一種薄板清掃系統，其特徵為具備：申請專利範圍第1項所記載之薄板移送裝置；第1清洗裝置，係清掃前述薄板的上面，並對前述薄板移送裝置供給薄板；及第2清洗裝置，係前述薄板藉由薄板移送裝置翻轉且供給，清掃該薄板的上面，具有第2清掃部。