TW201441023A - 光學膜的製造方法、光學膜、面發光體及光學膜的製造裝置 - Google Patents

光學膜的製造方法、光學膜、面發光體及光學膜的製造裝置 Download PDF

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Abstract

本發明是有關於一種抑制氣泡在微透鏡內殘存的光學膜的製造方法，更詳細而言，是有關於包括如下步驟的光學膜的製造方法：使具有配置有多個凹形狀的微透鏡轉印部的外周面的輥模(51)旋轉，使基材(22)朝著其旋轉方向行進的步驟；在與輥模的外周面鄰接配置的塗佈輥(53)上供給活性能量線硬化性組成物β，藉由平坦化機構將其平坦化，並塗佈於輥模的外周面的步驟；在基材上供給活性能量線硬化性組成物α，並將其塗佈於基材的表面的步驟；在輥模與基材的會合部，將組成物α及β會合，並形成儲液的步驟；及於在輥模的外周面與基材的表面之間夾持組成物α及β的狀態下，對輥模的外周面與基材的表面之間的區域照射活性能量線，而使組成物α及β硬化的步驟。

Description

光學膜的製造方法、光學膜、面發光體及光學膜的製造裝置
本發明是有關於一種配置有多個凸形狀的微透鏡的光學膜的製造方法、藉由該製造方法而得的光學膜、包含該光學膜的面發光體、及排列有多個凸形狀的微透鏡的光學膜的製造裝置。
有機電致發光(electroluminescence，EL)發光元件期待用於成為平板顯示器或螢光燈等的替代品的下一代照明。
通常，有機EL發光元件為薄膜的積層體，根據各薄膜的材料的折射率的差，而決定薄膜間的光的全反射角。現狀是在發光層產生的光的約80%被封閉在有機EL發光元件內部，無法出射至外部。具體而言，若將玻璃基板的折射率設為1.5、將空氣層的折射率設為1.0，則臨界角θc為41.8°，入射角小於該臨界角θc的光會自玻璃基板出射至空氣層，但入射角大於該臨界角θc的光會全反射而被封閉在玻璃基板內部。因此，要求將被封閉在有機EL發光元件表面的玻璃基板內部的光出射至玻璃基板外部，即提高光出射效率。
作為提高有機EL發光元件的光出射效率的方法，已知在有機EL發光元件的出射面設置配置有多個微透鏡的光學膜。作為此種光學膜的製造方法，在專利文獻1或專利文獻2中提出：將活性能量線硬化性組成物直接滴加於輥模並塗佈於整個輥模而進行硬化的方法。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]國際公開第98/23978號說明書
[專利文獻2]日本專利特開2008-58494號公報
在專利文獻1或專利文獻2所提出的光學膜的製造方法中，氣泡容易殘存在所得的光學膜的微透鏡內。特別是在微透鏡的形狀複雜時例如為球截形狀、角錐形狀、圓錐形狀等時，或活性能量線硬化性組成物相對於輥模的材料的接觸角大時，氣泡在所得的光學膜的微透鏡內的殘存變得顯著。
氣泡在光學膜的微透鏡內的殘存是指在微透鏡中具有與空氣的界面，在該界面根據斯奈爾定律(Snell's law)而產生光的全反射。因此，若氣泡殘存在光學膜的微透鏡內，則導致將該光學膜設置於有機EL發光元件等發光元件的發光面而成的面發光體的光出射效率惡化。
另外，由於光學膜的微透鏡內的氣泡，而無法獲得所期望的透鏡形狀的光學膜，而導致基於所期望的透鏡形狀而發揮的光學膜的光學特性惡化。
本發明的目的在於提供一種抑制氣泡在微透鏡內殘存的光學膜的製造方法。
另外，本發明的目的在於提供一種抑制了氣泡在微透鏡內殘存的光學膜。
另外，本發明的目的在於提供一種光出射效率優異的面發光體。
而且，本發明的目的在於提供一種抑制氣泡在微透鏡內殘存的光學膜的製造裝置。
本發明是有關於一種光學膜的製造方法，上述光學膜配置有多個凸形狀的微透鏡，上述光學膜的製造方法包括下述步驟A~步驟F。
步驟A：使具有配置有多個凹形狀的微透鏡轉印部的外周面的輥模旋轉，使基材沿著上述輥模的外周面而朝上述輥模的旋轉方向行進的步驟；步驟B：在與上述輥模的外周面鄰接而配置的塗佈輥上供給活性能量線硬化性組成物β，在上述塗佈輥上藉由平坦化機構將上述活性能量線硬化性組成物β平坦化，並在上述輥模的外周面塗佈經平坦化的上述活性能量線硬化性組成物β的步驟；步驟C：在上述基材上供給活性能量線硬化性組成物α，並在上述基材的表面塗佈上述活性能量線硬化性組成物α的步驟；步驟D：在上述輥模與上述基材的會合部，將在上述步驟C 中塗佈於上述基材的表面的上述活性能量線硬化性組成物α及在上述步驟B中塗佈於上述輥模的外周面的上述活性能量線硬化性組成物β會合，而形成儲液的步驟；步驟E：於在上述輥模的外周面與上述基材的表面之間，夾持上述步驟D中所會合的上述活性能量線硬化性組成物α及上述活性能量線硬化性組成物β的狀態下，對上述輥模的外周面與上述基材的表面之間的區域照射活性能量線，而將上述活性能量線硬化性組成物α及上述活性能量線硬化性組成物β硬化的步驟；以及步驟F：將上述步驟E中所得的硬化物自上述輥模剝離的步驟。
另外，本發明是有關於一種藉由上述光學膜的製造方法而得的光學膜。
另外，本發明是有關於一種包含上述光學膜的面發光體。
而且，本發明是有關於一種光學膜的製造裝置，上述光學膜排列有多個凸形狀的微透鏡，上述光學膜的製造裝置具備：具有排列有多個凹形狀的微透鏡轉印部的外周面的輥模；與上述輥模的外周面鄰接而配置的塗佈輥；在上述塗佈輥上供給活性能量線硬化性組成物β的第1供給源；配置於上述塗佈輥上的平坦化機構；以及在基材的表面供給活性能量線硬化性組成物α的第2供給源。
藉由本發明的製造方法或製造裝置，可連續地獲得抑制了氣泡在微透鏡內殘存的光學膜，並且使用所得的光學膜的面發光體的光出射效率優異。
10‧‧‧微透鏡
11‧‧‧底面部
20‧‧‧光學膜
21‧‧‧基底層
22‧‧‧基材
30‧‧‧黏著層
40‧‧‧有機EL發光元件
41‧‧‧玻璃基板
42‧‧‧陽極
43‧‧‧發光層
44‧‧‧陰極
50‧‧‧光學膜的製造裝置
51‧‧‧輥模
52‧‧‧噴嘴
52'‧‧‧噴嘴
53‧‧‧塗佈輥
53'‧‧‧塗佈輥
54‧‧‧刮刀片
54'‧‧‧刮刀片
55‧‧‧夾輥
56‧‧‧夾輥
57‧‧‧活性能量線照射裝置
H‧‧‧高度
L‧‧‧最長徑
圖1是表示藉由本發明的製造方法而得的光學膜中的凸形狀的微透鏡的一例的示意圖。
圖2是自光學膜的上方觀察藉由本發明的製造方法而得的光學膜的一例的示意圖。
圖3(a)~圖3(f)是自光學膜的上方觀察藉由本發明的製造方法而得的光學膜的微透鏡的排列例的示意圖。
圖4是表示本發明的光學膜的製造方法的一例的示意性剖面圖。
圖5是表示本發明的面發光體的一例的示意性剖面圖。
圖6是藉由光學顯微鏡拍攝實施例2中所得的光學膜的表面的圖像。
圖7是藉由光學顯微鏡拍攝實施例4中所得的光學膜的表面的圖像。
圖8是藉由光學顯微鏡拍攝比較例1中所得的光學膜的表面的圖像。
以下，一邊使用圖式一邊對本發明的實施形態進行說明，但本發明並不限定於該些圖式及實施形態。
在藉由本發明的製造方法而得的光學膜中，配置有多個凸形狀的微透鏡。
(微透鏡的凸形狀)
將凸形狀的微透鏡的一例表示於圖1。在圖1中，圖1(a)是示意性剖面圖，圖1(b)是示意性立體圖。在圖1中，符號11表示微透鏡10的底面部。
在本說明書中，所謂微透鏡10的底面部11，是指由微透鏡10的底部的外周緣包圍的假想的面狀部分。在光學膜具有後述的基底層(緩和層或應力緩和層)時，微透鏡10的底面部對應於微透鏡10與基底層的界面。
另外，在本說明書中，所謂微透鏡10的底面部11的最長徑L，是指微透鏡10的底面部11中的最長部分的長度，微透鏡10的底面部11的平均最長徑Lave是藉由掃描型顯微鏡拍攝光學膜的具有微透鏡10的表面，測定5個部位的微透鏡10的底面部11的最長徑L，求出其平均值。
另外，在本說明書中，所謂微透鏡10的高度H，是指自微透鏡10的底面部11至微透鏡10的最高部位為止的高度，微透鏡10的平均高度Have是藉由掃描型顯微鏡拍攝光學膜的剖面，測定5個部位的微透鏡10的高度H，求出其平均值。
作為微透鏡10的凸形狀，例如可列舉：球截形狀、球 截梯形狀、橢圓體球截形狀(以1個平面切取旋轉橢圓體而成的形狀)、橢圓體球截梯形狀(以相互平行的2個平面切取旋轉橢圓體而成的形狀)、角錐形狀、角錐梯形狀、圓錐形狀、圓錐梯形狀、與該些相關的屋頂型形狀(如球截形狀、球截梯形狀、橢圓體球截形狀、橢圓體球截梯形狀、角錐形狀、角錐梯形狀、圓錐形狀或圓錐梯形狀沿著底面部伸長的形狀)等。該些微透鏡10的凸形狀根據多個微透鏡10，可單獨使用1種，亦可併用2種以上。在該些微透鏡10的凸形狀中，就使用光學膜的面發光體的光出射效率優異的方面而言，較佳為球截形狀、球截梯形狀、橢圓體球截形狀、橢圓體球截梯形狀，更佳為球截形狀、橢圓體球截形狀。
微透鏡10的底面部11的平均最長徑Lave較佳為2μm~400μm，更佳為10μm~200μm，尤佳為20μm~100μm。若微透鏡10的底面部11的平均最長徑Lave為2μm以上，使用光學膜的面發光體的光出射效率優異。另外，若微透鏡10的底面部11的平均最長徑Lave為400μm以下，則無法視覺辨認微透鏡，而光學膜的外觀優異。
微透鏡10的平均高度Have較佳為1μm~200μm，更佳為5μm~100μm，尤佳為10μm~50μm。若微透鏡10的平均高度Have為1μm以上，則使用光學膜的面發光體的光出射效率優異。另外，若微透鏡10的平均高度Have為200μm以下，則光學膜的柔軟性優異。
微透鏡10的縱橫比較佳為0.3~1.4，更佳為0.35~1.3， 尤佳為0.4~1.0。若微透鏡10的縱橫比為0.3以上，則使用光學膜的面發光體的光出射效率優異。另外，若微透鏡10的縱橫比為1.4以下，則輥模的微透鏡轉印部容易形成，而光學膜的製造變得容易。
另外，微透鏡10的縱橫比是藉由「微透鏡10的平均高度Have/微透鏡10的底面部11的平均最長徑Lave」而算出。
(微透鏡的底面部)
作為微透鏡10的底面部11的形狀，例如可列舉圓形、橢圓形等。該些凸形狀的微透鏡10的底面部11的形狀根據多個微透鏡，可單獨使用1種，亦可併用2種以上。該些微透鏡10的底面部11的形狀中，就使用光學膜的面發光體的光出射效率優異的方面而言，亦較佳為圓形、橢圓形，更佳為圓形。
將自上方(即具有微透鏡10的表面之側)觀察的光學膜20的一例表示於圖2。
相對於光學膜20的面積(圖2的由實線包圍的面積)，微透鏡10的底面部11的面積(圖2的由虛線包圍的面積)的合計的比例，較佳為20%~99%，更佳為30%~95%，尤佳為50%~93%。若微透鏡10的底面部11的面積的合計相對於光學膜20的面積的比例為20%以上，則使用光學膜的面發光體的光出射效率優異。另外，若微透鏡10的底面部11的面積的合計相對於光學膜20的面積的比例為99%以下，則輥模的轉印部容易形成，而光學膜的製造變得容易。
另外，在微透鏡10的底面部11全部為相同大小的圓形時，微透鏡10的底面部11的合計的面積相對於光學膜20的面積的比例的最大值為91%左右。
(微透鏡的排列)
將微透鏡10的排列例表示於圖3(a)~圖3(f)。
作為微透鏡10的排列，例如可列舉：六方排列(圖3(a))、矩形排列(圖3(b))、菱形排列(圖3(c))、直線狀排列(圖3(d))、圓狀排列(圖3(e))、隨機排列(圖3(f))等。該些微透鏡10的排列中，就使用光學膜的面發光體的光出射效率優異的方面而言，較佳為六方排列、矩形排列、菱形排列，更佳為六方排列、矩形排列。
本發明的製造方法包括下述步驟A~步驟F。
步驟A：使具有配置有多個凹形狀的微透鏡轉印部的外周面的輥模旋轉，使基材沿著上述輥模的外周面而朝上述輥模的旋轉方向行進的步驟；步驟B：在與上述輥模的外周面鄰接而配置的塗佈輥上供給活性能量線硬化性組成物β，在上述塗佈輥上藉由平坦化機構將上述活性能量線硬化性組成物β平坦化，並在上述輥模的外周面塗佈經平坦化的上述活性能量線硬化性組成物β的步驟；步驟C：在上述基材上供給活性能量線硬化性組成物α，並在上述基材的表面塗佈上述活性能量線硬化性組成物α的步驟；步驟D：在上述輥模與上述基材的會合部，將在上述步驟C 中塗佈於上述基材的表面的上述活性能量線硬化性組成物α及在上述步驟B中塗佈於上述輥模的外周面的上述活性能量線硬化性組成物β會合，而形成儲液的步驟；步驟E：於在上述輥模的外周面與上述基材的表面之間，夾持上述步驟D中所會合的上述活性能量線硬化性組成物α及上述活性能量線硬化性組成物β的狀態下，對上述輥模的外周面與上述基材的表面之間的區域照射活性能量線，並將上述活性能量線硬化性組成物α及上述活性能量線硬化性組成物β硬化的步驟；以及步驟F：將上述步驟E中所得的硬化物自上述輥模剝離的步驟。
包括步驟A~步驟F的製造方法例如可藉由使用圖4所示的製造裝置而實現。另外，圖4中的輥模51或基材22等的旋轉、行進方向為圖4的箭頭的方向。
以下，對使用圖4所示的製造裝置製造本發明的光學膜的方法進行說明，但本發明的光學膜的製造方法並不限定於使用圖4所示的光學膜的製造裝置50的方法。
(步驟A)
步驟A是使具有配置有多個凹形狀的微透鏡轉印部的外周面的輥模51驅動旋轉，使基材22沿著輥模51的外周面而朝輥模51的旋轉方向行進的步驟。在該基材行進時，藉由與輥模51的外周面鄰接而與該輥模平行配置的自由旋轉的夾輥55、夾棍56，將基 材22按壓於輥模51的表面。即，基材22捲繞於夾輥55，進而捲繞於輥模51，進而捲繞於夾輥56，並依序行進。
作為輥模51，例如可列舉：鋁、黃銅、鋼等的金屬模具；矽酮樹脂、胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(Acrylonitrile Butadiene Styrene，ABS)樹脂、氟樹脂、聚甲基戊烯樹脂等的樹脂模；對樹脂實施鍍敷而成的模；由在樹脂中混合各種金屬粉而成的材料製作的模等。該些輥模51中，就耐熱性及機械強度優異、適於連續生產的方面而言，較佳為金屬模具。具體而言，金屬模具在對聚合發熱的耐久性高、難以變形、難以損傷、可控制溫度、適於精密成形等的多數方面較佳。
為了轉印形成光學膜的凸形狀的微透鏡10，輥模51具有與上述凸形狀對應的凹形狀的轉印部。
作為轉印部的製造方法，例如可列舉：藉由金剛石車刀的切削、如國際公開第2008/69324號說明書所記載的蝕刻等。該些轉印部的製造方法中，在形成球截形狀等具有曲面的凹形狀時，就輥模51的生產性優異的方面而言，較佳為如國際公開第2008/69324號說明書所記載的蝕刻，在形成不具有角錐形狀等曲面的凹形狀時，就輥模51的生產性優異的方面而言，較佳為藉由金剛石車刀的切削。
另外，作為轉印部的製造方法，可使用：由具有使轉印部的凹形狀反轉的凸形狀的原模，使用電鑄法製作金屬薄膜，將該金屬薄膜捲繞於輥芯構件，而製造圓筒形輥模的方法。
就光學膜的成形性及生產性優異的方面而言，輥模51的旋轉速度即輥模外周面的行進速度，較佳為0.1m/分鐘~50m/分鐘，更佳為0.3m/分鐘~40m/分鐘，尤佳為0.5m/分鐘~30m/分鐘。
(步驟B)
步驟B是在與輥模51的外周面鄰接而與該輥模平行配置的自由旋轉的塗佈輥53上供給活性能量線硬化性組成物β，在塗佈輥53上藉由平坦化機構將活性能量線硬化性組成物β平坦化，並在輥模51的外周面塗佈經平坦化的活性能量線硬化性組成物β的步驟。
作為平坦化機構，例如可列舉：刮刀片(doctor blade)、氣刀片(air blade)、氣刀(air knife)等。該些平坦化機構中，就進一步平坦化的方面而言，較佳為刮刀片。以下，藉由使用刮刀片作為平坦化機構的機構進行說明。
活性能量線硬化性組成物β自發揮出作為第1供給源的功能的噴嘴52供給至塗佈輥53的外周面，在該塗佈輥上藉由刮刀片54進行平坦化，並塗佈於輥模51的外周面。
若使用將活性能量線硬化性組成物β直接滴加於輥模51的外周面進行塗佈的方法，則氣泡會進入至輥模51的凹形狀的轉印部內，而難以抑制氣泡在光學膜的微透鏡內殘存。相對於此，在藉由刮刀片54將活性能量線硬化性組成物β在塗佈輥53上一次性平坦化後塗佈於輥模51的外周面，從而抑制氣泡進入至輥模51 的凹形狀的轉印部內，並抑制氣泡在光學膜的微透鏡內殘存。
噴嘴52可為單個(1點)，亦可為多個，但就可均勻地供給活性能量線硬化性組成物β的方面而言，較佳為單個(1點)。
作為塗佈輥53的材料，可列舉：鋁、不鏽鋼、黃銅等金屬；在上述金屬的表面具有橡膠層者等。該些塗佈輥53的材料中，較佳為在金屬的表面具有橡膠層者。
作為橡膠層的橡膠的材料，例如可列舉：乙烯丙烯橡膠、丁二烯橡膠、胺基甲酸酯橡膠、腈橡膠、矽酮橡膠。該些橡膠層的橡膠的材料中，就對活性能量線的耐性優異的方面而言，較佳為乙烯丙烯橡膠、矽酮橡膠。
塗佈輥53的表面的橡膠層較佳為由JIS-K-6253規定的橡膠硬度為20度~90度，更佳為40度~85度，尤佳為50度~80度。若橡膠層的橡膠硬度為20度以上，則可進一步抑制氣泡在光學膜內殘存。另外，若橡膠層的橡膠硬度為90度以下，則施加於基材22的應變變小，而抑制基材22的破損。
就可均勻地塗佈活性能量線硬化性組成物β的方面而言，塗佈輥53較佳為向輥模51進行按壓。進行按壓的壓力的值較佳為5N~200N，更佳為10N~100N。
作為刮刀片54的材料，例如可列舉：聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚酯樹脂等樹脂；鋁、不鏽鋼等金屬等。該些刮刀片54的材料中，就柔軟性優異、抑制對塗佈輥53的損傷的方面而言，較佳為樹脂，其中較佳為聚酯樹脂。
刮刀片54的形狀並無特別限定，可使用公知的形狀的刮刀片54。
作為塗佈輥53與刮刀片54之間的距離的開口寬度，較佳為0.01mm~0.4mm，更佳為0.02mm~0.3mm。若塗佈輥53與刮刀片54之間的開口寬度為0.01mm以上，則可抑制活性能量線硬化性組成物β朝著輥模51的寬度方向過於延伸而溢出。另外，若塗佈輥53與刮刀片54之間的開口寬度為0.4mm以下，則活性能量線硬化性組成物β朝著輥模51的寬度方向充分延伸，並進一步抑制氣泡在光學膜的微透鏡內殘存。
(步驟C)
步驟C是在基材22上供給活性能量線硬化性組成物α，並在基材22的表面塗佈活性能量線硬化性組成物α的步驟。
作為基材22的材料，若為透射活性能量線的材料，則並無特別限定，例如可列舉：丙烯酸系樹脂；聚碳酸酯樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚苯乙烯、ABS樹脂等苯乙烯樹脂；氯乙烯樹脂；二乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素等纖維素樹脂；聚醯亞胺、聚醯亞胺醯胺等醯亞胺樹脂；玻璃；金屬。該些基材22的材料中，就柔軟性優異、活性能量線的透射性優異的方面而言，較佳為丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、苯乙烯樹脂、纖維素樹脂、醯亞胺樹脂，更佳為丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、醯亞胺樹脂。
基材22的厚度較佳為10μm~500μm，更佳為20μm~400μm，尤佳為50μm~300μm。若基材22的厚度為10μm以上，則光學膜的操作性優異。另外，若基材22的厚度為500μm以下，則活性能量線硬化組成物的硬化性優異，在包含基材22而構成光學膜時，使用該光學膜的面發光體的光出射效率更優異。
就光學膜的成形性及生產性優異的方面而言，基材22的行進速度較佳為0.1m/分鐘~50m/分鐘，更佳為0.3m/分鐘~40m/分鐘，尤佳為0.5m/分鐘~30m/分鐘。
就光學膜的成形性優異的方面而言，輥模51的旋轉速度與基材22的行進速度較佳為同等程度的速度。
活性能量線硬化性組成物α自噴嘴52'供給，並塗佈於基材22的表面。此時，就可減少活性能量線硬化性組成物α的塗佈不均，並抑制基底層的厚度的不均的方面而言，較佳為：在介置基材22而與夾輥55的外周面鄰接並與該夾輥平行配置的自由旋轉的塗佈輥53'上，自噴嘴52'供給活性能量線硬化性組成物α，在塗佈輥上藉由刮刀片54'進行平坦化後，塗佈於基材22的表面；或者自噴嘴52'在基材22上供給活性能量線硬化性組成物α，藉由棒塗機進行平坦化而塗佈。其中，更佳為前者的方法：自噴嘴52'在塗佈輥53'上供給活性能量線硬化性組成物α，在塗佈輥上藉由刮刀片54'進行平坦化後，塗佈於基材22的表面。另外，在後者的方法中，噴嘴52'發揮出作為第2供給源的功能，在前者的方法中，噴嘴52'、塗佈輥53'及刮刀片54'發揮出作為第2供給源的功 能。
塗佈輥53'可使用與上述塗佈輥53相同的材料。
就可均勻地塗佈活性能量線硬化性組成物α的方面而言，塗佈輥53'較佳為向夾輥55進行按壓。
刮刀片54'可使用與上述刮刀片54相同的材料或形狀。
作為塗佈輥53'與刮刀片54'之間的距離的開口寬度，較佳為0.01mm~0.4mm，更佳為0.02mm~0.3mm。若塗佈輥53'與刮刀片54'之間的開口寬度為0.01mm以上，則可抑制活性能量線硬化性組成物α朝著基材22的寬度方向過度延伸而溢出。另外，若塗佈輥53'與刮刀片54'之間的開口寬度為0.4mm以下，則活性能量線硬化性組成物α朝著基材22的寬度方向充分延伸，並可進一步抑制氣泡在光學膜的微透鏡內殘存。
(步驟D)
步驟D是在輥模51與基材22的會合部，將在步驟C中塗佈於基材22的表面的活性能量線硬化性組成物α及在步驟B中塗佈於輥模51的外周面的活性能量線硬化性組成物β會合，並形成儲液的步驟。
活性能量線硬化性組成物α及活性能量線硬化性組成物β可為相同的組成，亦可為不同的組成，根據光學膜的用途或功能而適當選擇即可。
在活性能量線硬化性組成物α與活性能量線硬化性組成物β中組成相同時，可獲得微透鏡10及基底層21(參照後述的圖5) 為相同的組成的光學膜20。另一方面，在活性能量線硬化性組成物α與活性能量線硬化性組成物β中組成不同時，可獲得如以微透鏡10附近為中心，活性能量線硬化性組成物β的硬化物偏於一側的光學膜，並獲得如以基底層21附近為中心，活性能量線硬化性組成物α的硬化物偏於一側的光學膜。
活性能量線硬化性組成物α及活性能量線硬化性組成物β若可藉由活性能量線而硬化，則並無特別限定，就活性能量線硬化性組成物的操作性及硬化性優異，光學膜的柔軟性、耐熱性、耐損傷性、耐溶劑性、透光性等各物性優異的方面而言，較佳為包含聚合性單體(A)、交聯性單體(B)及活性能量線聚合起始劑(C)的活性能量線硬化性組成物。
作為聚合性單體(A)，例如可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸降冰片酯、(甲基)丙烯酸金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸四環十二烷基酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸 酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二丙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基甲基-2-甲基雙環庚烷、4-(甲基)丙烯醯氧基甲基-2-甲基-2-乙基-1,3-二氧戊環、4-(甲基)丙烯醯氧基甲基-2-甲基-2-異丁基-1,3-二氧戊環、三羥甲基丙烷甲醛(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質磷酸(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質磷酸(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯類；(甲基)丙烯酸；(甲基)丙烯腈；(甲基)丙烯醯胺、N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯基嗎啉、羥基乙基(甲基)丙烯醯胺、亞甲基雙(甲基)丙烯醯胺等(甲基)丙烯醯胺類；使藉由雙酚類(雙酚A、雙酚F、雙酚S、四溴雙酚A等)與表氯醇的縮合反應而得的雙酚型環氧樹脂，與(甲基)丙烯酸或其衍生物反應而得的化合物等環氧(甲基)丙烯酸酯類；苯乙烯、α-甲基苯乙烯等芳香族乙烯系類；乙烯基甲醚、乙烯基乙醚、2-羥基乙基乙烯醚等乙烯醚類；乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯等羧酸乙烯酯類；乙烯、丙烯、丁烯、異丁烯等烯烴類等。該些聚合性單體(A)可單獨使用1種，亦可併用2種以上。在該些聚合性單體(A)中， 就活性能量線硬化性組成物的操作性、硬化性優異，光學膜的柔軟性、耐熱性、耐損傷性、耐溶劑性、透光性等各物性優異的方面而言，較佳為(甲基)丙烯酸酯類、環氧(甲基)丙烯酸酯類、芳香族乙烯系類、烯烴類，更佳為(甲基)丙烯酸酯類、環氧(甲基)丙烯酸酯類。
在本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸酯，是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
在活性能量線硬化性組成物總量中，活性能量線硬化性組成物中的聚合性單體(A)的含有率，較佳為0.5質量%~60質量%，更佳為1質量%~57質量%，尤佳為2質量%~55質量%。若聚合性單體(A)的含有率為0.5質量%以上，則活性能量線硬化性組成物的操作性優異，光學膜的基材密接性更優異。另外，若聚合性單體(A)的含有率為60質量%以下，則活性能量線硬化性組成物的交聯性及硬化性優異，光學膜的耐溶劑性優異。
作為交聯性單體(B)，例如可列舉：二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等六(甲基)丙烯酸酯類；二季戊四醇羥基五(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二季戊四醇羥基五(甲基)丙烯酸酯等五(甲基)丙烯酸酯類；二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基改質四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯等四(甲基)丙烯酸酯類；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三乙氧基化三 羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三(2-(甲基)丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯、碳數2~5的脂肪族烴改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改質三(甲基)丙烯酸酯等三(甲基)丙烯酸酯類；三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,5-戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、甲基戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙基戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)苯基)丙烷、1,2-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)乙烷、1,4-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)丁烷、雙(2-(甲基)丙烯醯氧基乙基)-2-羥基乙基異三聚氰酸酯、環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙氧基化環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙氧基化環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、聚丙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、氫化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、聚乙氧基化氫化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、聚丙氧基化氫化雙酚A二(甲基)丙烯 酸酯、雙苯氧基茀乙醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改質三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇的ε-己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇的γ-丁內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、環己烷二甲醇的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、二環戊二醇的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧乙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧丙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、氫化雙酚A的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改質二(甲基)丙烯酸酯等二(甲基)丙烯酸酯類；鄰苯二甲酸二烯丙酯、對苯二甲酸二烯丙酯、間苯二甲酸二烯丙酯、二乙二醇碳酸二烯丙酯等二烯丙基類；(甲基)丙烯酸烯丙酯；二乙烯苯；亞甲基雙丙烯醯胺；多元酸(鄰苯二甲酸、琥珀酸、六氫鄰苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、壬二酸、己二酸等)、與多元醇(乙二醇、己二醇、聚乙二醇、聚四亞甲基二醇等)及(甲基)丙烯酸或其衍生物的反應而得的化合物等聚酯二(甲基)丙烯酸酯類；二異氰酸酯化合物(甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等)、與含有羥基的(甲基)丙烯酸酯((甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等多官能(甲基)丙烯酸酯 等)反應而得的化合物，在醇類(烷烴二醇、聚醚二醇、聚酯二醇、螺二醇化合物等的1種或2種以上)的羥基上加成二異氰酸酯化合物，並使其餘的異氰酸基與含有羥基的(甲基)丙烯酸酯反應而得的化合物等多官能(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類；二乙二醇二乙烯醚、三乙二醇二乙烯醚等二乙烯醚類；丁二烯、異戊二烯、二甲基丁二烯等二烯類等。該些交聯性單體(B)可單獨使用1種，亦可併用2種以上。該些交聯性單體(B)中，就光學膜的柔軟性、耐熱性、耐損傷性、耐溶劑性、透光性等各物性優異的方面而言，較佳為六(甲基)丙烯酸酯類、五(甲基)丙烯酸酯類、四(甲基)丙烯酸酯類、三(甲基)丙烯酸酯類、二(甲基)丙烯酸酯類、二烯丙基類、(甲基)丙烯酸烯丙酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯類、多官能(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類，更佳為六(甲基)丙烯酸酯類、五(甲基)丙烯酸酯類、四(甲基)丙烯酸酯類、三(甲基)丙烯酸酯類、二(甲基)丙烯酸酯類、聚酯二(甲基)丙烯酸酯類、多官能(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類。
在活性能量線硬化性組成物總量中，活性能量線硬化性組成物中的交聯性單體(B)的含有率，較佳為30質量%~98質量%，更佳為35質量%~97質量%，尤佳為40質量%~96質量%。若交聯性單體(B)的含有率為30質量%以上，則活性能量線硬化性組成物的交聯性及硬化性優異，光學膜的耐溶劑性優異。另外，若交聯性單體(B)的含有率為98質量%以下，則光學膜的柔軟性優異。
作為活性能量線聚合起始劑(C)，例如可列舉：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、3-羥基-2-丁酮(acetoin)、苯偶醯、二苯甲酮、對甲氧基二苯甲酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮、苯偶醯二甲基縮酮、苯甲醯甲酸甲酯(methyl phenyl glyoxylate)、苯甲醯甲酸乙酯、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、1-羥基環己基苯基酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、2-乙基蒽醌等羰基化合物；一硫化四甲基秋蘭姆(tetramethylthiuram monosulfide)、二硫化四甲基秋蘭姆等硫化合物類；2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、苯甲醯基二乙氧基氧化膦等醯基氧化膦類等。該些活性能量線聚合起始劑(C)可單獨使用1種，亦可併用2種以上。該些活性能量線聚合起始劑(C)中，就活性能量線硬化性組成物的操作性及硬化性、光學膜的透光性優異的方面而言，較佳為羰基化合物、醯基氧化膦類，更佳為羰基化合物。
在活性能量線硬化性組成物總量中，活性能量線硬化性組成物中的活性能量線聚合起始劑(C)的含有率，較佳為0.1質量%~10質量%，更佳為0.5質量%~8質量%，尤佳為1質量%~5質量%。若活性能量線聚合起始劑(C)的含有率為0.1質量%以上，則活性能量線硬化性組成物的操作性及硬化性優異。另外，若活性能量線聚合起始劑(C)的含有率為10質量%以下，則光學膜的透光性優異。
為了使光散射，活性能量線硬化性組成物α及活性能量 線硬化性組成物β根據需要可包含微粒子。
微粒子若為具有可見光波長區域(大致為400nm~700nm)的光擴散效果的微粒子，則並無特別限定，可使用公知的微粒子。微粒子可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
作為微粒子的材料，例如可列舉：金、銀、矽、鋁、鎂、鋯、鈦、鋅、鍺、銦、錫、銻、鈰等金屬；氧化矽、氧化鋁、氧化鎂、氧化鋯、氧化鈦、氧化鋅、氧化鍺、氧化銦、氧化錫、銦錫氧化物、氧化銻、氧化鈰等金屬氧化物；氫氧化鋁等金屬氫氧化物；碳酸鎂等金屬碳酸化物；氮化矽等金屬氮化物；丙烯酸系樹脂、苯乙烯樹脂、矽酮樹脂、胺基甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂、環氧樹脂等樹脂等。該些微粒子的材料可單獨使用1種，亦可併用2種以上。在該些微粒子的材料中，就光學膜的製造時的操作性優異的方面而言，較佳為矽、鋁、鎂、氧化矽、氧化鋁、氧化鎂、氫氧化鋁、碳酸鎂、丙烯酸系樹脂、苯乙烯樹脂、矽酮樹脂、胺基甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂、環氧樹脂，更佳為氧化矽、氧化鋁、氫氧化鋁、碳酸鎂、丙烯酸系樹脂、苯乙烯樹脂、矽酮樹脂、胺基甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂、環氧樹脂。
微粒子的體積平均粒徑較佳為0.5μm~20μm，更佳為0.7μm~15μm，尤佳為0.8μm~10μm。若微粒子的體積平均粒徑為0.5μm以上，則可有效地散射可見光波長區域的光。另外，若微粒子的體積平均粒徑為20μm以下，則與活性能量線硬化性組成物混合時的流動性優異。
作為微粒子的形狀，例如可列舉：球狀、圓柱狀、立方體狀、長方體狀、角錐狀、圓錐狀、星型狀、環狀、繋成一串狀、粉劑狀、不定形狀。該些微粒子的形狀可單獨使用1種，亦可併用2種以上。該些微粒子的形狀中，就可有效地散射可見光波長區域的光的方面而言，較佳為球狀、立方體狀、長方體狀、角錐狀、星型狀，更佳為球狀。
就可有效地散射可見光波長區域的光的方面而言，在活性能量線硬化性組成物100質量%中，活性能量線硬化性組成物α及活性能量線硬化性組成物β中的微粒子的含有率，較佳為1質量%~50質量%，更佳為5質量%~40質量%。
在活性能量線硬化性組成物α及活性能量線硬化性組成物β中，根據需要可包含：消泡劑、脫模劑、抗靜電劑、勻平劑、防污性提高劑、分散穩定劑、黏度調整劑等各種添加劑等其他成分。
就光學膜的製造時的操作性優異的方面而言，活性能量線硬化性組成物α及活性能量線硬化性組成物β的黏度，較佳為10mPa．s~3000mPa．s，更佳為20mPa．s~2500mPa．s，尤佳為30mPa．s~2000mPa．s。
就光學膜的厚度變得均勻的方面而言，夾輥55較佳為以一定壓力向輥模51進行按壓。進行按壓的壓力的值較佳為5N~200N，更佳為10N~100N。
在輥模51與基材22的會合部、即藉由夾輥55與輥模51夾 持基材22的部分，在步驟C中塗佈於基材22的表面的活性能量線硬化性組成物α碰到在步驟B中塗佈於輥模51的外周面的活性能量線硬化性組成物β並會合，形成儲液。就抑制氣泡的產生的方面而言，此時的會合的程度較佳為活性能量線硬化性組成物β與活性能量線硬化性組成物α的質量比為β：α=5~50：50~95，更佳為β：α=10~40：60~90。
藉由作為輥模51與夾輥55之間的距離的開口寬度及自夾輥55向輥模51的壓力，可控制基底層21的厚度。
基底層21主要具有緩和硬化時的聚合收縮等所伴有的應力，而維持微透鏡10的凸形狀的作用。
基底層21的厚度較佳為1μm~60μm，更佳為3μm~40μm，尤佳為5μm~30μm。若基底層21的厚度為1μm以上，則光學膜的操作性優異。另外，若基底層21的厚度為60μm以下，則使用光學膜的面發光體的光出射效率更優異。
(步驟E)
步驟E是於在輥模51的外周面與基材22的表面之間夾持步驟D中所會合的活性能量線硬化性組成物α及活性能量線硬化性組成物β的狀態下，對輥模51的外周面與基材22的表面之間的區域照射活性能量線，將活性能量線硬化性組成物α及活性能量線硬化性組成物β硬化的步驟。
作為活性能量線，例如可列舉：紫外線、電子束、X射線、紅外線、可見光線等。該些活性能量線中，就活性能量線硬 化性組成物的硬化性優異，並可抑制光學膜的劣化的方面而言，較佳為紫外線、電子束，更佳為紫外線。
(步驟F)
步驟F是將步驟E中所得的硬化物自輥模51剝離的步驟。
在步驟F中為了容易自輥模51將硬化物剝離，而可對輥模51實施剝離處理，或在活性能量線硬化性組成物α及活性能量線硬化性組成物β中包含脫模劑。
如以上方式而得的硬化物可用作配置有多個凸形狀的微透鏡的光學膜，並可較佳地用於各種用途、特別是構成面發光體的用途。此時，可利用將硬化物與基材22接合而成為一體者作為光學膜，亦可利用剝離除去了基材22的硬化物作為光學膜。
利用將硬化物與基材22接合而成為一體者作為光學膜的前者，就製造方法上的觀點而言，由於無基材22的剝離步驟，因此具有將步驟簡化的優點。
(面發光體)
本發明的面發光體包含本發明的光學膜。
作為本發明的面發光體，例如可列舉如圖5所示的面發光體。
以下，對圖5所示的面發光體進行說明，但本發明的面發光體並不限定於圖5所示的面發光體。
圖5所示的面發光體在依序積層玻璃基板41、陽極42、發光層43及陰極44而成的有機EL發光元件40的玻璃基板41的表面，經由黏著層30設置光學膜20。光學膜20包含含有活性能 量線硬化性組成物的微透鏡10及基底層21、與基材22的積層體。
在有機EL發光元件40中設置有本發明的光學膜20的面發光體的光出射效率優異。
[實施例]
以下，藉由實施例進一步對本發明進行具體地說明，但本發明並不限定於該些實施例。
另外，實施例中的「份」及「%」分別表示「質量份」及「質量%」。
(氣泡在微透鏡內殘存的有無的評價)
藉由光學顯微鏡(機種名「VHX-900」、基恩士(KEYENCE)(股)製造)，觀察實施例及比較例中所得的光學膜的具有微透鏡的面，並根據以下基準進行評價。
A：整體上未發現氣泡殘存
B：部分地發現氣泡殘存
C：整體上發現氣泡殘存
(面發光體的光出射效率的測定)
在實施例及比較例中所得的面發光體的發光面上，配置開有直徑為10mm的孔的厚度為0.1mm的遮光片，將其配置於積分球(藍菲光學(Labsphere)公司製造、大小為6英吋)的樣品開口部。在該狀態下，藉由分光計測器(分光器：機種名「PMA-12」(濱松光子(Hamamatsu Photonics)(股)製造)、軟體：軟體名「PMA用基本軟體U6039-01ver.3.3.1」)，測定對構成面發光體的 有機EL發光元件通電10mA的電流而點亮時的自遮光片的直徑為10mm的孔出射的光，進行藉由標準能見度曲線的修正，而算出面發光體的光子數。
在將藉由無光學膜而得的面發光體的光子數設為100%時，將實施例及比較例中所得的面發光體的光子數的比例設為光出射效率。
(活性能量線硬化性組成物的製造)
在玻璃製燒瓶中，投入六亞甲基二異氰酸酯117.6g(0.7莫耳)及異三聚氰酸酯型六亞甲基二異氰酸酯三聚物151.2g(0.3莫耳)、作為含有羥基的(甲基)丙烯酸酯的丙烯酸2-羥基丙酯128.7g(0.99莫耳)及季戊四醇三丙烯酸酯693g(1.54莫耳)、作為觸媒的二月桂酸二-正丁基錫22.1g、以及作為聚合抑制劑的對苯二酚單甲醚0.55g，並升溫至75℃，在保持為75℃的狀態持續攪拌，反應至燒瓶內的殘存異氰酸酯化合物的濃度為0.1莫耳/L以下為止，並冷卻至室溫，而獲得多官能丙烯酸胺基甲酸酯。
將所得的多官能丙烯酸胺基甲酸酯34.6份、聚丁二醇二甲基丙烯酸酯(商品名「Acryl Ester PBOM」、三菱麗陽(Mitsubishi Rayon)(股)製造)24.7份、環氧乙烷改質雙酚A二甲基丙烯酸酯(商品名「NEW FRONTIER BPEM-10」、第一工業製藥(股)製造)39.5份及1-羥基環己基苯基酮(商品名「Irgacure184」、汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)(股)製造)1.2份混合，而獲得活性能量線硬化性樹脂組成物。
使用所得的活性能量線硬化性樹脂組成物作為活性能量線硬化性組成物α及活性能量線硬化性組成物β。
(輥模的製造)
在外徑為200mm、軸方向的長度為320mm的鋼製輥的外周面，實施厚度為200μm、維氏硬度(Vickers hardness)為230Hv的鍍銅。在鍍銅層的表面塗佈感光劑，進行雷射曝光、顯影及蝕刻，而獲得在鍍銅層形成有轉印部的模，該轉印部是直徑為50μm、深度為25μm的半球的凹形狀以最小間隔為3μm的六方排列方式排列而得。為了賦予防銹性及耐久性，而在所得的模的表面實施鉻鍍敷，而獲得輥模。
另外，輥模中的凹形狀的轉印部所存在的區域的寬度為280mm，該區域配置於輥模的軸方向的長度為320mm的中央，輥模的軸方向的兩端設為鏡面區域。
(光學膜的製造)
使用上述的活性能量線硬化性組成物及上述的輥模，藉由圖4所示的製造裝置實行步驟A~步驟F，而製造光學膜。
另外，使用聚酯膜(商品名「Diafoil T910E125」、三菱樹脂(股)製造、寬度為340mm、厚度為125μm)作為基材22，使用橡膠輥(商品名「GRANPAUL UV」、宮川輥(MIYAKAWA ROLLER)(股)製造、表面的橡膠硬度為60度)作為塗佈輥53及塗佈輥53'以及夾輥55及夾輥56，使用塑膠刮刀片(商品名「Maniveil」、艾科布萊德(ECO BLADE)(股)製造、厚度為0.35 mm、刀尖形狀錐形狀)作為刮刀片54及刮刀片54'，使用紫外線照射裝置(機種名「Light Hammer 6」、輻深紫外系統(Fusion UV Systems)公司製造)作為活性能量線照射裝置57。
將基材22的行進速度設為3m/分鐘，將輥模51的外周面的行進速度設為3m/分鐘，將輥模51的表面溫度設為60℃，將活性能量線硬化性組成物α及活性能量線硬化性組成物β的溫度設為60℃，將活性能量線硬化性組成物α及活性能量線硬化性組成物β的黏度設為300mPa．s，自活性能量線照射裝置57照射0.9J/cm2的累計光量的紫外線。
[實施例1]
作為活性能量線硬化性組成物β的塗佈方法，是使用在塗佈輥53上供給活性能量線硬化性組成物β，在塗佈輥53上藉由刮刀片54將該活性能量線硬化性組成物β平坦化後塗佈於輥模51的外周面的方法，並將塗佈輥53與刮刀片54之間的開口寬度設為0.03mm，作為活性能量線硬化性組成物α的塗佈方法，是使用不利用塗佈輥53'及刮刀片54'而將活性能量線硬化性組成物α直接供給至基材22上進行塗佈的方法，而獲得光學膜。
[實施例2~實施例4]
如表1所示般變更塗佈輥53與刮刀片54之間的開口寬度，除此以外，以與實施例1相同的方式進行操作，而獲得光學膜。
[實施例5]
作為活性能量線硬化性組成物α的塗佈方法，是使用在基材 22上供給活性能量線硬化性組成物α，藉由棒塗機進行平坦化而進行塗佈的方法，除此以外，以與實施例2相同的方式進行操作，而獲得光學膜。
[實施例6]
作為活性能量線硬化性組成物α的塗佈方法，是使用在塗佈輥53'上供給活性能量線硬化性組成物α，在塗佈輥53'上藉由刮刀片54'將活性能量線硬化性組成物α平坦化後塗佈於基材22上的方法，並將塗佈輥53'與刮刀片54'之間的開口寬度設為0.1mm，除此以外，以與實施例2相同的方式進行操作，而獲得光學膜。
[比較例1]
作為活性能量線硬化性組成物β的塗佈方法，是使用不利用塗佈輥53及刮刀片54而將活性能量線硬化性組成物β直接滴加於輥模51的外周面進行塗佈的方法，除此以外，以與實施例2相同的方式進行操作，而獲得光學膜。
將以上實施例1~實施例6及比較例1中所得的光學膜的微透鏡有無氣泡殘存的評價表示於表1。另外，將藉由光學顯微鏡對實施例2、實施例4及比較例1中所得的光學膜的表面即形成有微透鏡的面進行拍攝而得的圖像分別表示於圖6~圖8。
[表1]
在比較例1中所得的光學膜中，在微透鏡整體上發現氣泡殘存，相對於此，在實施例1~實施例6中所得的光學膜中，微透鏡上的氣泡殘存雖然多但為部分，特別是實施例1~實施例2及實施例5~實施例6中所得的光學膜中，微透鏡整體上未發現氣泡的殘存。
[實施例7]
在有機EL發光元件(將柯尼卡美能達(Konica Minolta)公司製造的白色有機發光二極體(Organic Light-Emitting Diode，OLED)裝置「Symfos OLED-010K」的光出射面(發光面)側的表面的光學膜剝離者)的光出射面側，塗佈黏著層(折射率為1.52的折射液、嘉吉(Cargill)公司製造)，使實施例2中所得的光學膜的基材的面進行光學密接，而獲得面發光體。
[比較例2]
將實施例2中所得的光學膜變更為比較例1中所得的光學膜，除此以外，以與實施例7相同的方式進行操作，而獲得面發 光體。
將所得的面發光體的光出射效率表示於表2。
與比較例2中所得的面發光體相比，確認到實施例7中所得的面發光體的光出射效率優異。
藉由本發明的製造方法而得的光學膜由於可抑制氣泡在微透鏡內殘存，因此藉由使用該光學膜而可獲得光出射效率優異的面發光體。該面發光體例如可較佳地用於照明、顯示器及螢幕(screen)等。
10‧‧‧微透鏡
11‧‧‧底面部
H‧‧‧高度
L‧‧‧最長徑

Claims (10)

  1. 一種光學膜的製造方法，上述光學膜配置有多個凸形狀的微透鏡，上述光學膜的製造方法包括下述步驟A~步驟F：步驟A：使具有配置有多個凹形狀的微透鏡轉印部的外周面的輥模旋轉，使基材沿著上述輥模的外周面而朝上述輥模的旋轉方向行進的步驟；步驟B：在與上述輥模的外周面鄰接而配置的塗佈輥上供給活性能量線硬化性組成物β，在上述塗佈輥上藉由平坦化機構將上述活性能量線硬化性組成物β平坦化，並在上述輥模的外周面塗佈經平坦化的上述活性能量線硬化性組成物β的步驟；步驟C：在上述基材上供給活性能量線硬化性組成物α，並在上述基材的表面塗佈上述活性能量線硬化性組成物α的步驟；步驟D：在上述輥模與上述基材的會合部，將在上述步驟C中塗佈於上述基材的表面的上述活性能量線硬化性組成物α及在上述步驟B中塗佈於上述輥模的外周面的上述活性能量線硬化性組成物β會合，而形成儲液的步驟；步驟E：於在上述輥模的外周面與上述基材的表面之間，夾持上述步驟D中所會合的上述活性能量線硬化性組成物α及上述活性能量線硬化性組成物β的狀態下，對上述輥模的外周面與上述基材的表面之間的區域照射活性能量線，而將上述活性能量線硬化性組成物α及上述活性能量線硬化性組成物β硬化的步驟；以及 步驟F：將上述步驟E中所得的硬化物自上述輥模剝離的步驟。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜的製造方法，其中在上述步驟B中，藉由上述塗佈輥以5N~200N的壓力對上述輥模進行按壓。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光學膜的製造方法，其中在上述步驟B中，將上述塗佈輥與上述平坦化機構之間的開口寬度維持在0.01mm~0.4mm的範圍內。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之光學膜的製造方法，其中在上述步驟C中，在供給上述活性能量線硬化性組成物α後，將上述活性能量線硬化性組成物α平坦化。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之光學膜的製造方法，其中上述微透鏡的凸形狀為球截形狀、球截梯形狀、橢圓體球截形狀、橢圓體球截梯形狀、角錐形狀、角錐梯形狀、圓錐形狀及圓錐梯形狀的至少1種。
  6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述之光學膜的製造方法，其中上述活性能量線硬化性組成物β的黏度為10mPa．s~3000mPa．s。
  7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之光學膜的製造方法，其中上述活性能量線硬化性組成物α的黏度為10mPa．s~3000mPa．s。
  8. 一種光學膜，其藉由如申請專利範圍第1項至第7項中任 一項所述之光學膜的製造方法而得。
  9. 一種面發光體，其包含如申請專利範圍第8項所述之光學膜。
  10. 一種光學膜的製造裝置，上述光學膜排列有多個凸形狀的微透鏡，上述光學膜的製造裝置包括：具有排列有多個凹形狀的微透鏡轉印部的外周面的輥模；與上述輥模的外周面鄰接而配置的塗佈輥；在上述塗佈輥上供給活性能量線硬化性組成物β的第1供給源；配置於上述塗佈輥上的平坦化機構；以及在基材的表面供給活性能量線硬化性組成物α的第2供給源。
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