TW201500398A - 光提取膜及其製造方法以及面發光體 - Google Patents

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Naoko Yamada
Yusuke Kurita
Yoshiki Inoue
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Mitsubishi Rayon Co
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Abstract

本發明的光提取膜是有關於一種可充分提高面發光體的法線亮度及充分抑制面發光體的出射光波長的出射角度依存性般的EL用光提取膜，更詳細而言，本發明的光提取膜是有關於一種積層於EL元件的基板上的光提取膜(10)，並且光提取膜(10)於表面上具有凹凸結構(13)，構成光提取膜(10)的材料含有具有茀骨架、聯苯骨架及萘骨架的至少一種骨架的樹脂(X)。

Description

光提取膜及其製造方法以及面發光體
本發明是有關於一種光提取膜及其製造方法、以及含有該光提取膜的面發光體，特別是有關於一種自以有機電致發光(Electroluminescence，EL)元件作為發光源的面發光體的有機EL元件中提取光的技術。
面發光體中，期待將有機EL元件用於平板顯示器(flat panel display)中，進而期待用於代替螢光燈等的下一代照明中。
關於有機EL元件的結構，自僅以2片膜夾持成為發光層的有機薄膜的單一結構至多層化結構為止而經多樣化。後者的多層化結構例如可列舉：於設置於玻璃基板上的陽極上，積層電洞傳輸層、發光層、電子傳輸層及陰極而成者。由陽極與陰極所夾持的層全部是由有機薄膜所構成，各有機薄膜的厚度為幾十奈米(nm)而非常薄。
有機EL元件為薄膜的積層體，根據各薄膜的材料的折射率差來決定薄膜間的光的全反射角。現狀下，發光層中產生的 光的約80%被封閉於有機EL元件內部而無法提取至外部。具體而言，若將玻璃基板的折射率設定為1.5、空氣層的折射率設定為1.0，則臨界角θc為41.8°，入射角小於該臨界角θc的光自玻璃基板向空氣層出射，但入射角大於該臨界角θc的光發生全反射而被封閉於玻璃基板內部。因此，要求實現將有機EL元件表面的被封閉於玻璃基板內部的光提取至玻璃基板外部的光提取功能，即提高光提取效率及法線亮度。
另外，關於進行等向性發光般的有機EL元件，要求提 高光提取效率及法線亮度，並且減小自有機EL元件的出射光波長的出射角度依存性。即，於來自發光層的出射光通過玻璃基板而自玻璃基板出射時，要求由波長所致的出射角度的差異小，換言之，對來自玻璃基板的出射光分佈要求波長依存性儘可能少。
為了解決所述課題，於專利文獻1中提出了一種使用微 透鏡片(光學膜)作為光提取用膜的面發光體，所述微透鏡片(光學膜)具有包含丙烯酸胺基甲酸酯樹脂的微細單元透鏡。
[現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2010-212204號
[專利文獻2]國際公開第2008/096748號
然而，專利文獻1中提出的面發光體雖然改善了面發光 體的法線亮度及出射光波長的出射角度依存性，但不可謂充分改善。
另外，專利文獻1中提出的光提取用膜於膜的表面上具 有凹凸結構，故雖然光提取效率得到改善，但構件的折射率低，故光提取效率的改善效果不充分。
因此，本發明的第1目的在於提供一種EL用光提取膜 以及提供一種面發光體，所述EL用光提取膜可充分提高面發光體的光提取效率及法線亮度，並且可充分抑制面發光體的出射光波長的出射角度依存性，所述面發光體的法線亮度充分提高，且出射光波長的出射角度依存性得到充分抑制。
再者可想到，為了將自發光層出射的光高效地提取至 EL元件外，有效的是將高折射率的材料用於光提取膜。然而，高折射率的樹脂大多具有苯環，故耐光性低，樹脂因長時間的紫外線暴露而發生黃變，導致光提取效率或法線亮度降低。
因此，本發明的第2目的在於提供如下光提取膜及具備 該光提取膜的面發光體，所述光提取膜充分提高面發光體的光提取效率及法線亮度且充分抑制出射光波長的出射角度依存性，並且不易因紫外線暴露而變色，長期穩定性優異。
本發明者為了達成所述目的而進行了努力研究，結果發現，藉由在表面上具有凹凸結構的EL用光提取膜中，於構成該膜的材料中使用具有茀骨架、聯苯骨架及萘骨架的至少一種骨架的 樹脂(X)，可達成面發光體的光提取效率及法線亮度的充分提高以及面發光體的出射光波長的出射角度依存性的充分抑制，從而完成了本發明。
進而，本發明者進行了研究，結果發現，藉由在構成表 面上具有凹凸結構的EL用光提取膜的材料中，除了所述樹脂(X)以外使用紫外線吸收劑及光穩定劑的至少一種，可形成充分提高面發光體的光提取效率及法線亮度且充分抑制出射光波長的出射角度依存性、不易產生由紫外線暴露所致的變色、長期穩定性優異的光提取膜。
即，本發明的光提取膜為積層於EL元件的基板上的光提取膜，且其特徵在於：光提取膜於表面上具有凹凸結構，構成光提取膜的材料含有具有茀骨架、聯苯骨架及萘骨架的至少一種骨架的樹脂(X)。
於本發明的光提取膜的較佳例中，含有紫外線吸收劑及光穩定劑的至少一種。
另外，本發明的面發光體的特徵在於含有所述光提取膜及EL元件。
進而，本發明的光提取膜的製造方法為積層於EL元件的基板上的光提取膜的製造方法，且其特徵在於：於基材與具有凹凸結構的轉印部的模具之間供給單體組成物，並使單體組成物硬化，所述單體組成物含有具有茀骨架、聯 苯骨架及萘骨架的至少一種骨架的單體(x)。
根據本發明的光提取膜，藉由在構成表面上具有凹凸結構的EL用光提取膜的材料中使用具有茀骨架、聯苯骨架及萘骨架的至少一種骨架的樹脂(X)，可提供如下EL用光提取膜，該EL用光提取膜可充分提高面發光體的光提取效率及法線亮度並且充分抑制面發光體的出射光波長的出射角度依存性。另外，藉由使用該光提取膜，可提供一種光提取效率及法線亮度充分提高且出射光波長的出射角度依存性得到充分抑制的面發光體。
根據本發明的光提取膜，藉由除了所述樹脂(X)以外使用紫外線吸收劑及光穩定劑的至少一種，可提供如下光提取膜，該光提取膜充分提高面發光體的光提取效率及法線亮度且充分抑制出射光波長的出射角度依存性，並且不易產生由紫外線暴露所致的變色，長期穩定性優異。
10‧‧‧光提取膜
11‧‧‧凹凸結構層
12‧‧‧基質層
13‧‧‧凹凸結構
14‧‧‧基材
15‧‧‧凹凸結構的底面部
21‧‧‧黏著層
22‧‧‧保護膜
30‧‧‧EL元件
31‧‧‧玻璃基板
32‧‧‧陽極
33‧‧‧發光層
34‧‧‧陰極
50‧‧‧裝置
51‧‧‧單體組成物
52‧‧‧輥模
53‧‧‧夾輥
54‧‧‧活性能量線照射裝置
55‧‧‧罐
56‧‧‧配管
H‧‧‧高度
L‧‧‧最長徑
圖1為表示本發明的光提取膜的剖面的一例的示意圖。
圖2(a)~圖2(f)為自光提取膜的上方觀察本發明的光提取膜的凹凸結構的配置例的示意圖。
圖3為表示本發明的光提取膜的凹凸結構的一例的示意圖。
圖4為自光提取膜的上方觀察本發明的光提取膜的一例的示意圖。
圖5為表示本發明的光提取膜的製造方法的一例的示意圖。
圖6為表示本發明的面發光體的剖面的一例的示意圖。
以下，一面使用圖式一面對本發明的實施形態加以說明，但本發明不限定於該些圖式。
(光提取膜10)
本發明的光提取膜為積層於EL元件的基板上的光提取膜，且例如可列舉圖1所示般的光提取膜10。光提取膜10藉由與作為發光源的EL元件(具體而言為有機EL元件)組合，而發揮自該EL元件中提取光的功能。
光提取膜10於表面上具有凹凸結構13。關於光提取膜10，就可容易地進行連續生產、且光提取膜10的結構穩定性(具體而言維持凹凸結構13的形狀)或操作性優異的方面而言，較佳為於基材14的一個表面(上表面)上依序積層基質層(base layer)12及具有凹凸結構13的凹凸結構層11，形成具有基質層12及凹凸結構層11的光提取膜10。
於本發明的光提取膜中，構成光提取膜的材料需要含有具有茀骨架、聯苯骨架及萘骨架的至少一種骨架的樹脂(X)。藉由使用該樹脂(X)，可達成面發光體的光提取效率及法線亮度的充分提高以及面發光體的出射光波長的出射角度依存性的充分抑制。該些樹脂(X)的折射率高於通常的樹脂，可藉由含有於光提取膜10中而提高面發光體的光提取效率或法線亮度。
於本發明的光提取膜中，就進一步提高面發光體的光提取效率及法線亮度以及進一步抑制面發光體的出射光波長的出射角度依存性的方面而言，構成光提取膜的材料中的樹脂(X)的含有率較佳為30質量%以上，更佳為50質量%以上，進而佳為75質量%~99質量%的範圍。
(樹脂(X))
樹脂(X)具有茀骨架、聯苯骨架及萘骨架的至少一種骨架，此處，於樹脂(X)具有茀骨架的情形時，具有茀骨架的樹脂含有茀結構、即下述式(1)所表示的結構單元。
具有茀骨架的樹脂較佳為可見光波長範圍(大致400nm~700nm)的光透射率高的樹脂。具體而言，就光提取膜10的外觀優異、面發光體的光提取效率或法線亮度優異的方面而言，具有茀骨架的樹脂的光透射率較佳為50%~95%，更佳為60%~90%。
再者，光透射率是設定為依據日本工業標準(Japanese Industrial Standards，JIS)K7361所測定的值。
另外，於樹脂(X)具有聯苯骨架的情形時，具有聯苯 骨架的樹脂含有來源於聯苯的結構單元、即下述式(2)所表示的結構單元。
另一方面，於樹脂(X)具有萘骨架的情形時，具有萘骨架的樹脂含有來源於萘的結構單元、即下述式(3)所表示的結構單元。
再者，樹脂(X)可單獨具有該些骨架的一種，亦可組合具有兩種以上。
另外，就光提取膜10的生產性優異、進一步提高面發光體的光提取效率及法線亮度並且進一步抑制面發光體的出射光波長的出射角度依存性的方面而言，樹脂(X)較佳為含有下述式 (4)所表示的結構單元的樹脂。
(式中，R1及R2分別獨立地為氫原子或甲基，a及b分別獨立地為0~4的整數)
就進一步提高面發光體的光提取效率及法線亮度並且進一步抑制面發光體的出射光波長的出射角度依存性的方面而言，樹脂(X)中的式(4)所表示的結構單元的含有率較佳為30質量%~99質量%，更佳為50質量%~95質量%。
茀骨架、聯苯骨架及萘骨架、即來源於茀的結構單元、來源於聯苯的結構單元及來源於萘的結構單元可組入至各種樹脂中。各種樹脂例如可列舉：丙烯酸系樹脂；聚碳酸酯樹脂；聚酯樹脂；聚乙烯醇樹脂等。該些各種樹脂可使用一種，亦可併用兩種以上。該些各種樹脂中，就可見光波長範圍的光透射率高，耐熱性、力學特性、成形加工性優異的方面而言，較佳為丙烯酸系樹脂。
樹脂(X)中，除了來源於茀的結構單元、來源於聯苯的結構單元及來源於萘的結構單元以外，亦可於不損及光提取膜10的性能的範圍內含有其他結構單元。
其他結構單元例如可列舉：聚氧伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯單元、聚酯多元醇二(甲基)丙烯酸酯單元及芳香族酯二醇二(甲基)丙烯酸酯單元等，樹脂(X)可單獨含有該些結構單元的一種或組合含有兩種以上。
再者，就提高光提取膜10的柔軟性的觀點而言，較佳為聚氧伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯單元、聚酯多元醇二(甲基)丙烯酸酯單元及芳香族酯二醇二(甲基)丙烯酸酯單元，更佳為聚氧伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯單元。
就光提取膜10的柔軟性提高的方面而言，樹脂(X)中的聚氧伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯單元、聚酯多元醇二(甲基)丙烯酸酯單元及芳香族酯二醇二(甲基)丙烯酸酯單元的含有率(含有多種單元的情形時為其合計含量)較佳為1質量%~70質量%，更佳為5質量%~50質量%。
於本發明的光提取膜中，構成光提取膜的材料較佳為更含有紫外線吸收劑及光穩定劑的至少一種。藉由使用紫外線吸收劑或光穩定劑，可提供不易產生由紫外線暴露所致的變色、長期穩定性優異的光提取膜。
此處，本發明的光提取膜中，就可抑制紫外線暴露下的變色而長期穩定性優異的方面而言，構成光提取膜的材料中的紫外線吸收劑的含有率較佳為0.1質量%以上，更佳為0.5質量%以上，進而佳為1質量%以上。再者，構成光提取膜的材料中的紫外線吸收劑的含有率的上限較佳為20質量%，更佳為16質量%。
另外，於本發明的光提取膜中，就可抑制紫外線暴露下的變色而長期穩定性優異的方面而言，構成光提取膜的材料中的光穩定劑的含有率較佳為0.1質量%以上，更佳為0.5質量%以上，進而佳為1質量%以上。再者，構成光提取膜的材料中的光穩定劑的含有率的上限較佳為20質量%，更佳為9質量%。
(紫外線吸收劑)
紫外線吸收劑具有吸收紫外線的功能，藉由吸收由太陽光等所致的自外部入射的紫外線，可抑制光提取膜10的紫外線暴露下的變色，光提取膜10的長期穩定性優異。
紫外線吸收劑例如可列舉：2-(2-羥基-5-第三丁基苯基)-2H-苯并三唑、苯丙酸-3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-(1,1-二甲基乙基)-4-羥基碳數7~9側鏈及直鏈烷基酯、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚等苯并三唑系化合物；2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基)-5-羥基苯基與氧雜環丙烷(例如((碳數10~16烷氧基)甲基)氧雜環丙烷)的反應產物、2-(2,4-二羥基苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪與(2-乙基己基)-縮水甘油酸酯的反應產物、2,4-雙(2-羥基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪等羥基苯酚三嗪等羥基苯酚三嗪系化合物；2,4-二羥基二苯甲酮、2,2-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2,2'-二羥基-4,4'-二甲氧基二苯甲酮、2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基-4'-甲基二苯甲 酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸鹽、4-苯基二苯甲酮、2-乙基己基-4'-苯基-二苯甲酮-2-羧酸酯、2-羥基-4-正辛氧基二苯甲酮、4-羥基-3-羧基二苯甲酮等二苯甲酮系化合物等。該些紫外線吸收劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。該些紫外線吸收劑中，就可抑制樹脂(X)的變色的方面而言，較佳為苯并三唑系化合物、羥基苯酚三嗪系化合物，於使用後述活性能量線硬化性組成物的情形時，就因吸收波長的差異而聚合起始劑有效地裂解(cleavage)、硬化性優異的方面而言，更佳為苯并三唑系化合物。
(光穩定劑)
光穩定劑具有捕捉自由基的功能，藉由捕捉由太陽光等紫外線的入射所產生的自由基，可抑制光提取膜10的由化學結構變化所致的變色，光提取膜10的長期穩定性優異。
光穩定劑例如可列舉：四(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)丁烷-1,2,3,4-四羧酸酯、四(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)丁烷-1,2,3,4-四羧酸酯、雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)((3,5-雙(1,1-二甲基乙基)-4-羥基苯基)甲基)丁基丙二酸酯、雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基癸二酸酯、癸二酸雙(2,2,6,6-四甲基-1-(辛氧基)-4-哌啶基)酯、1,1-二甲基乙基氫過氧化物與辛烷的反應產物、N,N',N",N'''-四-(4,6-雙(丁基(N-甲基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)胺基)三嗪-2-基)-4,7-二氮雜癸烷-1,10-二胺等受阻胺系化合物等。該些光穩定劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。該些光穩定劑中，就自由基捕捉能力優異的方面而言，較佳為受阻 胺系化合物，更佳為具有硝氧基(nitroxy)醚基的化合物，進而佳為癸二酸雙(2,2,6,6-四甲基-1-(辛氧基)-4-哌啶基)酯、1,1-二甲基乙基氫過氧化物與辛烷的反應產物。
於本發明的光提取膜中，於構成光提取膜的材料中，除了樹脂(X)、紫外線吸收劑及光穩定劑以外，亦可於不損及光提取膜10的性能的範圍內含有其他成分。
其他成分例如可列舉：光擴散微粒子、柔軟性提昇劑、黏度調整劑、塑化劑、填充劑、阻燃劑、抗靜電劑、抗氧化劑、染料及顏料等著色劑、脫模劑、勻平劑、防污性提昇劑、分散穩定劑等各種添加劑等。
再者，於本發明的光提取膜中，就抑制光提取膜10的翹曲的方面而言，構成光提取膜的材料中的光擴散微粒子的含有率較佳為20質量%以下，更佳為10質量%以下，進而佳為0質量%。
(單體組成物)
於本發明的光提取膜中，構成所述光提取膜的材料較佳為由單體組成物所形成，所述單體組成物含有具有茀骨架、聯苯骨架及萘骨架的至少一種骨架的單體(x)。再者，單體(x)可單獨使用，亦可組合使用兩種以上。另外，於本發明中，可藉由單體組成物中所含的單體(x)、與視需要可含有的單體(x)以外的單體的聚合而合成樹脂(X)。
關於單體組成物，就可容易地形成光提取膜10的凹凸結構、可容易地進行連續生產的方面而言，較佳為可照射活性能 量線而硬化的活性能量線硬化性單體組成物。
活性能量線例如可列舉紫外線、電子束、X射線、紅外 線、可見光線等。該些活性能量線中，就活性能量線硬化性單體組成物的硬化性優異、可抑制光提取膜10的劣化的方面而言，較佳為紫外線、電子束，更佳為紫外線。
活性能量線硬化性單體組成物只要可藉由活性能量線 而硬化，則並無特別限定，就操作性或硬化性優異，且光提取膜10的柔軟性、耐熱性、耐殺傷性、耐溶劑性、耐光性、光透射性等各種物性優異的方面而言，活性能量線硬化性單體組成物較佳為含有單體(x)、單體(x)以外的單體(交聯性單體(a)及非交聯性單體(b))及聚合起始劑(c)，更佳為含有紫外線吸收劑及光穩定劑的至少一種。
單體(x)中，具有茀骨架的單體含有茀結構、即下述 式(1)所表示的結構單元。
另外，具有聯苯骨架的單體含有來源於聯苯的結構單元、即 下述式(2)所表示的結構單元。
另一方面，具有萘骨架的單體含有來源於萘的結構單元、即下述式(3)所表示的結構單元。
再者，單體(x)可單獨含有該些骨架的一種，亦可組合含有兩種以上。
單體(x)可列舉：茀二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷(ethylene oxide)改質茀二(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改質茀二(甲基)丙烯酸酯、2-羥基環氧丙烷改質茀二(甲基)丙烯酸酯、環氧丁烷改質茀二(甲基)丙烯酸酯、雙酚茀二(甲基)丙烯酸酯、雙苯氧基乙醇茀(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質雙酚茀二(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改質雙酚茀二(甲基)丙烯酸酯、2-羥基環氧丙烷改質雙酚 茀二(甲基)丙烯酸酯、環氧丁烷改質雙酚茀二(甲基)丙烯酸酯、雙萘酚茀二(甲基)丙烯酸酯、雙萘氧基乙醇茀(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質雙萘酚茀二(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改質雙萘酚茀二(甲基)丙烯酸酯、2-羥基環氧丙烷改質雙萘酚茀二(甲基)丙烯酸酯、環氧丁烷改質雙萘酚茀二(甲基)丙烯酸酯等茀丙烯酸酯系單體等。該些單體(x)可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。該些單體(x)中，就活性能量線硬化性單體組成物的操作性或硬化性優異，光提取膜10的耐熱性、耐殺傷性、耐溶劑性、耐光性、光透射性等各種物性優異，且面發光體的光提取效率或法線亮度優異的方面而言，較佳為茀丙烯酸酯系單體，更佳為雙酚茀二(甲基)丙烯酸酯類、雙萘酚茀二(甲基)丙烯酸酯類。
再者，於本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸酯，是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
另外，就光提取膜的生產性優異，進一步提高面發光體 的光提取效率及法線亮度並且進一步抑制面發光體的出射光波長的出射角度依存性的方面而言，單體(x)較佳為下述式(5)所表示的單體。
(式中，R1及R2分別獨立地為氫原子或甲基，a及b分別獨立地為0~4的整數)
交聯性單體(a)例如可列舉：二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等六(甲基)丙烯酸酯類；二季戊四醇羥基五(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二季戊四醇羥基五(甲基)丙烯酸酯等五(甲基)丙烯酸酯類；二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基改質四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯等四(甲基)丙烯酸酯類；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三乙氧基化(ethoxylated)三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸三(2-(甲基)丙烯醯氧基乙基)酯、碳數2~5的脂肪族烴改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改質三(甲基)丙烯酸酯等三(甲基)丙烯酸酯類；三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,5-戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、甲基戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙基戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯 氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)苯基)丙烷、1,2-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)乙烷、1,4-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)丁烷、雙(2-(甲基)丙烯醯氧基乙基)-2-羥基乙基異三聚氰酸酯、環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙氧基化環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙氧基化環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、聚丙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、氫化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、聚乙氧基化氫化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、聚丙氧基化氫化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改質三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇的ε-己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇的γ-丁內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、環己烷二甲醇的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、二環戊二醇的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧乙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧丙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、氫化雙酚A的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改質二(甲基)丙烯酸酯等二(甲基)丙烯酸酯類；鄰苯二甲酸二烯丙酯、對苯二甲酸二烯丙酯、間苯二甲酸二烯丙酯、 二乙二醇二烯丙基碳酸酯等二烯丙基類；(甲基)丙烯酸烯丙酯；二乙烯基苯；亞甲基雙丙烯醯胺；由多元酸(鄰苯二甲酸、琥珀酸、六氫鄰苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、壬二酸、己二酸等)、與多元醇(乙二醇、己二醇、聚乙二醇、聚四亞甲基二醇等)及(甲基)丙烯酸或其衍生物的反應所得的化合物等聚酯二(甲基)丙烯酸酯類；使二異氰酸酯化合物(甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等)、與含羥基的(甲基)丙烯酸酯((甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥基丁酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等多官能(甲基)丙烯酸酯等)反應而成的化合物，於醇類(烷烴二醇、聚醚二醇、聚酯二醇、螺二醇化合物等的一種或兩種以上)的羥基上加成二異氰酸酯化合物並使含羥基的(甲基)丙烯酸酯與殘留的異氰酸基反應而成的化合物等胺基甲酸酯多官能(甲基)丙烯酸酯類；二乙二醇二乙烯基醚、三乙二醇二乙烯基醚等二乙烯基醚類；丁二烯、異戊二烯、二甲基丁二烯等二烯類等。該些交聯性單體(a)可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。該些交聯性單體(a)中，就光提取膜10的柔軟性、耐熱性、耐殺傷性、耐溶劑性、光透射性等各種物性優異的方面而言，較佳為六(甲基)丙烯酸酯類、五(甲基)丙烯酸酯類、四(甲基)丙烯酸酯類、三(甲基)丙烯酸酯類、二(甲基)丙烯酸酯類、二烯丙基類、(甲基)丙烯酸烯丙酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯類、胺基甲酸酯多官能(甲基)丙烯酸酯類，更佳為六(甲基)丙烯酸 酯類、五(甲基)丙烯酸酯類、四(甲基)丙烯酸酯類、三(甲基)丙烯酸酯類、二(甲基)丙烯酸酯類、聚酯二(甲基)丙烯酸酯類、胺基甲酸酯多官能(甲基)丙烯酸酯類。
再者，交聯性單體(a)中將單體(x)除外。
非交聯性單體(b)例如可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸十二烷基(dodecyl)酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、乙氧基苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸降冰片酯、(甲基)丙烯酸金剛烷基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸四環十二烷基(dodecanyl)酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二丙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基) 丙烯醯氧基甲基-2-甲基雙環庚烷、4-(甲基)丙烯醯氧基甲基-2-甲基-2-乙基-1,3-二氧雜環戊烷、4-(甲基)丙烯醯氧基甲基-2-甲基-2-異丁基-1,3-二氧雜環戊烷、三羥甲基丙烷甲醛(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質磷酸(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質磷酸(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯類；(甲基)丙烯酸；(甲基)丙烯腈；(甲基)丙烯醯胺、N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯基嗎啉、羥基乙基(甲基)丙烯醯胺、亞甲基雙(甲基)丙烯醯胺等(甲基)丙烯醯胺類；使(甲基)丙烯酸或其衍生物，與由雙酚類(雙酚A、雙酚F、雙酚S、四溴雙酚A等)與表氯醇的縮合反應所得的雙酚型環氧樹脂進行反應而成的化合物等環氧(甲基)丙烯酸酯類；苯乙烯、α-甲基苯乙烯等芳香族乙烯基類；乙烯基甲醚、乙烯基乙醚、2-羥基乙基乙烯基醚等乙烯基醚類；乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯等羧酸乙烯酯類；乙烯、丙烯、丁烯、異丁烯等烯烴類等。該些非交聯性單體(b)可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。該些非交聯性單體(b)中，就活性能量線硬化性單體組成物的操作性或硬化性優異，光提取膜10的柔軟性、耐熱性、耐殺傷性、耐溶劑性、光透射性等各種物性優異的方面而言，較佳為(甲基)丙烯酸酯類、環氧(甲基)丙烯酸酯類、芳香族乙烯基類、烯烴類，更佳為(甲基)丙烯酸酯類、環氧(甲基)丙烯酸酯類。
再者，非交聯性單體(b)中，將單體(x)及交聯性單體(a)除外。
聚合起始劑(c)例如可列舉：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、乙醯甲基甲醇(acetoin)、苯偶醯、二苯甲酮、對甲氧基二苯甲酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮、苯偶醯二甲基縮酮、苯甲醯甲酸甲酯(methyl phenyl glyoxylate)、苯甲醯甲酸乙酯、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、1-羥基環己基苯基酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、2-乙基蒽醌等羰基化合物；一硫化四甲基秋蘭姆、二硫化四甲基秋蘭姆等硫化合物類；2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物、苯甲醯基二乙氧基膦氧化物等醯基膦氧化物類等。該些聚合起始劑(c)可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。該些聚合起始劑(c)中，就活性能量線硬化性單體組成物的操作性或硬化性、光提取膜10的光透射性優異的方面而言，較佳為羰基化合物、醯基膦氧化物類，於紫外線吸收劑使用苯并三唑系化合物的情形時，苯并三唑系化合物吸收400nm以下的光，就可利用400nm以上的光使活性能量線硬化性單體組成物高效地硬化的方面而言，更佳為醯基膦氧化物類。
活性能量線硬化性單體組成物除了含有單體(x)、單體(x)以外的單體(交聯性單體(a)及非交聯性單體(b))、聚合起始劑(c)、紫外線吸收劑及光穩定劑以外，亦可於不損及光提取膜10的性能的範圍內含有其他成分。
其他成分例如可列舉：光擴散微粒子、柔軟性提昇劑、黏度調整劑、塑化劑、填充劑、阻燃劑、抗靜電劑、抗氧化劑、染料及顏料等著色劑、脫模劑、勻平劑、防污性提昇劑、分散穩定劑等各種添加劑等。
於單體組成物總量中，活性能量線硬化性單體組成物中的單體(x)的含有率較佳為20質量%~93質量%，更佳為25質量%~89質量%，進而佳為30質量%~86質量%。若單體(x)的含有率為20質量%以上，則面發光體的光提取效率或法線亮度優異。另外，若單體(x)的含有率為30質量%以上，則面發光體的光提取效率或法線亮度更優異。進而，若單體(x)的含有率為93質量%以下，則活性能量線硬化組成物的操作性優異。
於單體組成物總量中，活性能量線硬化性單體組成物中的交聯性單體(a)的含有率較佳為5質量%~60質量%，更佳為8質量%~55質量%，進而佳為10質量%~50質量%。若交聯性單體(a)的含有率為5質量%以上，則單體組成物的交聯性優異，光提取膜10的柔軟性優異。另外，若交聯性單體(a)的含有率為60質量%以下，則光提取膜10與基材14的密接性優異，面發光體的光提取效率或法線亮度優異。
於單體組成物總量中，活性能量線硬化性單體組成物中的非交聯性單體(b)的含有率較佳為1質量%~60質量%，更佳為2質量%~55質量%，進而佳為3質量%~50質量%。若非交聯性單體(b)的含有率為1質量%以上，則單體組成物的操作性優 異。另外，若非交聯性單體(b)的含有率為60質量%以下，則單體組成物的交聯性或硬化性優異，光提取膜10的耐溶劑性優異。
於單體組成物總量中，活性能量線硬化性單體組成物中 的聚合起始劑(c)的含有率較佳為0.1質量%~10質量%，更佳為0.5質量%~8質量%，進而佳為1質量%~5質量%。若聚合起始劑(c)的含有率為0.1質量%以上，則單體組成物的操作性或硬化性優異。另外，若聚合起始劑(c)的含有率為10質量%以下，則光提取膜10的光透射性優異。
於單體組成物總量中，活性能量線硬化性單體組成物中 的紫外線吸收劑的含有率較佳為0.1質量%~20質量%，更佳為0.3質量%~15質量%，進而佳為0.5質量%~10質量%。若紫外線吸收劑的含有率為0.1質量%以上，則可抑制光提取膜10的紫外線暴露下的變色而長期穩定性優異。另外，若紫外線吸收劑的含有率為20質量%以下，則光提取膜10的光透射性優異。
於單體組成物總量中，活性能量線硬化性單體組成物中 的光穩定劑的含有率較佳為0.1質量%~9質量%，更佳為0.3質量%~7質量%，進而佳為0.5質量%~5質量%。若光穩定劑的含有率為0.1質量%以上，則可抑制光提取膜10的紫外線暴露下的變色而長期穩定性優異。另外，若光穩定劑的含有率為9質量%以下，則光提取膜10的光透射性優異。
於本發明的光提取膜中，就光提取膜10的光透射性優 異、面發光體的光提取效率或法線亮度優異的方面而言，光提取 膜的折射率較佳為1.55~1.65。
再者，折射率是設定為於20℃下使用鈉D線所測定的值。
於本發明的光提取膜中，利用13C-核磁共振(Nuclear Magnetic Resonance，NMR)對光提取膜測定所得的來源於芳香族的峰值面積(A1)相對於來源於芳香族以外的部分的峰值面積(A2)之比(A1/A2)較佳為0.1以上，更佳為0.3~3.0。若峰值面積比A1/A2為0.1以上，則單體(x)單元的含有率高，可達成面發光體的光提取效率及法線亮度的充分提高以及面發光體的出射光波長的出射角依存性的充分抑制。
再者，來源於光提取膜的顯示芳香族性的部分的碳的峰值面積(A1)及來源於光提取膜的顯示芳香族性的部分以外的部分的碳的峰值面積(A2)可使用固體13C-NMR來求出。於固體13C-NMR中，將位於碳的化學位移115ppm~160ppm的範圍內的峰值視為來源於顯示芳香族性的部分的碳的峰值，將位於除此以外的位置的峰值視為來源於顯示芳香族性的部分以外的部分的碳的峰值。
光提取膜10只要可高效地提取來自EL元件的光，則並無特別限定，就光提取膜10的結構穩定性優異、面發光體的光提取效率或法線亮度優異的方面而言，較佳為具有凹凸結構層11及基質層12。
對於光提取膜10而言，就達成面發光體的光提取效率及法線亮度的充分提高以及出射光波長的出射角度依存性的充分 抑制，進而藉由抑制光提取膜10的紫外線暴露下的變色而亦可提高長期穩定性的方面而言，較佳為構成該光提取膜的材料是由所述單體組成物所形成。
凹凸結構層11與基質層12的樹脂組成可相同亦可不 同，就光提取膜10的生產性優異的方面而言，較佳為樹脂組成相同。
(凹凸結構層11)
凹凸結構層11具有凹凸結構13。藉此具有以下作用：提高藉由與EL元件組合而構成的面發光體的光提取效率及法線亮度。
凹凸結構13可為凸起亦可為凹陷，就光提取膜10的生產性優異的方面而言，較佳為凸起。
凹凸結構13的形狀例如可列舉：球截形狀(spherical segment)、球截梯形狀、橢圓體球截形狀(以1個平面切取旋轉橢圓體所得的形狀)、橢圓體球截梯形狀(以相互平行的2個平面切取旋轉橢圓體所得的形狀)、角錐形狀、角錐梯形狀、圓錐形狀、圓錐梯形狀、與該些形狀有關的屋頂型形狀(球截形狀、球截梯形狀、橢圓體球截形狀、橢圓體球截梯形狀、角錐形狀、角錐梯形狀、圓錐形狀或圓錐梯形狀沿著底面部伸長般的形狀)等。該些凹凸結構13的形狀可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。該些凹凸結構13的形狀中，就面發光體的光提取效率或法線亮度優異的方面而言，較佳為球截形狀、球截梯形狀、橢圓體球截形狀、橢圓體球截梯形狀、角錐形狀、角錐梯形狀，更佳為球截形狀、 橢圓體球截形狀、角錐形狀，進而佳為球截形狀、橢圓體球截形狀，進而更佳為球截形狀。
將凹凸結構13的配置例示於圖2(a)~圖2(f)中。 凹凸結構13的配置例如可列舉：六方排列(圖2(a))、矩形排列(圖2(b))、菱形排列(圖2(c))、直線狀排列(圖2(d))、圓狀排列(圖2(e))、隨機配置(圖2(f))等。該些凹凸結構13的配置中，就面發光體的光提取效率或法線亮度優異的方面而言，較佳為六方排列、矩形排列、菱形排列，更佳為六方排列、矩形排列。
將凹凸結構13的一例示於圖3中。
於本說明書中，所謂凹凸結構13的底面部15，是指由凹凸結構13的底部(於具有基質層12的情形，是指與基質層12的接面)的外周緣所包圍的假想面狀部分。
另外，於本說明書中，所謂凹凸結構13的底面部15的最長徑L，是指凹凸結構13的底面部15中的最長部分的長度，所謂凹凸結構13的底面部15的平均最長徑Lave，是指利用掃描式顯微鏡來拍攝光提取膜10的具有凹凸結構13的表面，於5處測定凹凸結構13的底面部15的最長徑L，取其平均值。
進而，於本說明書中，所謂凹凸結構13的高度H，於凸起結構的情況下是指自凹凸結構13的底面部15至最高部位為止的高度，於凹陷結構的情況下是指自凹凸結構13的底面部15至最低部位為止的高度，凹凸結構13的平均高度Have是利用掃描式顯微 鏡來拍攝光提取10的剖面，於5處測定凹凸結構13的高度H,取其平均值。
就進一步提高面發光體的光提取效率或法線亮度的方 面而言，凹凸結構13的底面部15的平均最長徑Lave較佳為0.5μm~150μm，更佳為1μm~130μm，進而佳為2μm~100μm。
就進一步提高面發光體的光提取效率或法線亮度的方 面而言，凹凸結構13的平均高度Have較佳為0.25μm~75μm，更佳為0.5μm~65μm，進而佳為1μm~50μm。
就進一步提高面發光體的光提取效率或法線亮度的方 面而言，凹凸結構13的縱橫比較佳為0.3~1.4，更佳為0.35~1.3，進而佳為0.4~1.0。
再者，凹凸結構13的縱橫比是根據凹凸結構13的平均高度Have/凹凸結構13的底面部15的平均最長徑Lave而算出。
凹凸結構13的底面部15的形狀例如可列舉：三角形、 四角形等多角形；正圓形、橢圓形等圓形；不定形狀等。該些凹凸結構13的底面部15的形狀可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。該些凹凸結構13的底面部15的形狀中，就進一步提高面發光體的光提取效率或法線亮度的方面而言，較佳為多角形、圓形，更佳為圓形。
將自上方觀察的光提取膜的一例示於圖4中。
就進一步提高面發光體的光提取效率或法線亮度的方面而言，凹凸結構13的底面部15的面積(圖4中由點線包圍的面積) 相對於光提取膜10的面積(圖4中由實線包圍的面積)之比例較佳為20%~99%，更佳為25%~95%，進而佳為30%~93%，進而更佳為70%~90%。於本說明書中，將凹凸結構13的底面部15的面積相對於光提取膜10的面積之比例稱為「凹凸結構的佔有率」。
再者，於凹凸結構13的底面部15全部為相同大小的圓形的情形時，凹凸結構13的底面部15的面積相對於光提取膜10的面積之比例的最大值達到91%左右。
(基質層12)
就支持凹凸結構層11的凹凸結構13的方面而言，較佳為設置基質層12。基質層12具有以下作用：使伴隨著單體組成物的硬化時的聚合收縮等的應力緩和，維持凹凸結構13的形狀。
就光提取膜10的柔軟性、與後述基材14的密接性優異的方面而言，基質層12的厚度較佳為3μm~60μm，更佳為5μm~50μm，進而佳為10μm~40μm。若基質層12的厚度為3μm以上，則進一步抑制面發光體的出射光波長的出射角度依存性。另外，若基質層12的厚度為60μm以下，則進一步提高面發光體的光提取效率或法線亮度。
(基材14)
如後述，本發明的光提取膜與EL元件組合而構成面發光體，此處為了保持光提取膜10的形狀，亦可於光提取膜10的並無凹凸結構13的面上、換言之於光提取膜10與EL元件之間設置基材 14。
於光提取膜10含有基質層12的情形時，將基材14賦予至附有凹凸結構層11的基質層12的面(圖1中為上表面)的相反側的面(圖1中為下表面)上。
如後述，於製作凹凸結構層11及基質層12時，可介隔 基材14對活性能量線硬化性單體組成物照射活性能量線。因此，就活性能量線硬化性單體組成物的硬化性優異的方面而言，基材14較佳為透射活性能量線的基材。
另外，基材14的折射率較佳為1.55~1.65。
基材14的材料例如可列舉：丙烯酸系樹脂；聚碳酸酯樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚苯乙烯、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(Acrylonitrile Butadiene Styrene，ABS)樹脂等苯乙烯樹脂；氯乙烯樹脂；二乙醯纖維素、三乙醯纖維素等纖維素樹脂；聚醯亞胺、聚醯亞胺醯胺等醯亞胺樹脂；玻璃；金屬。該些基材14的材料中，就柔軟性優異、活性能量線的透射性優異的方面而言，較佳為丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、苯乙烯樹脂、纖維素樹脂、醯亞胺樹脂，更佳為丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、醯亞胺樹脂，進而佳為聚酯樹脂。
就光提取膜10的操作性優異、活性能量線硬化性單體組成物的硬化性優異的方面而言，基材14的厚度較佳為10μm~1000μm，更佳為20μm~500μm，進而佳為25μm~300μm。
對於基材14而言，為了提高與光提取膜10的密接性，視需要亦可對基材14的表面實施易接著處理。
易接著處理的方法例如可列舉：於基材14的表面上形成包含聚酯樹脂、丙烯酸系樹脂、胺基甲酸酯樹脂等的易接著層的方法；對基材14的表面進行粗面化處理的方法等。
基材14除了易接著處理以外，視需要亦可實施抗靜電、抗反射、防止基材彼此的密接等的表面處理。
就對EL元件的安裝容易性及光提取膜的操作性優異的方面而言，本發明的光提取膜例如亦可如圖1所示般，於基材14的形成有光提取膜10的一面的相反側的表面(下表面)上依序積層黏著層21及保護膜22。
(黏著層21)
本發明的光提取膜於光入射面側的表面上接著於EL元件30，故亦可如圖1所示般設置黏著層21。於在光提取膜10上附有基材14的情形時，只要如圖1所示般於基材14的表面上設置黏著層21即可。
黏著層21例如可列舉公知的黏著劑等。
另外，黏著層21的折射率較佳為1.48~1.58。
(保護膜22)
於黏著層21的表面上，為了提高光提取膜10的操作性，亦可如圖1所示般設置保護膜22。保護膜22只要於在EL元件30的表面上貼合光提取膜10等時自光提取膜10等上剝下即可。
保護膜22例如可列舉公知的保護膜等。
(光提取膜10的製造方法)
本發明的光提取膜的製造方法為積層於EL元件的基板上的光提取膜的製造方法，且其特徵在於：於基材與具有凹凸結構的轉印部的模具之間供給單體組成物，並使單體組成物硬化，所述單體組成物含有具有茀骨架、聯苯骨架及萘骨架的至少一種骨架的單體(x)，該單體組成物中的單體(x)的含量較佳為30質量%以上，更佳為30質量%~86質量%。再者，可藉由單體組成物的硬化來引起單體(x)與視需要可含有的單體(x)以外的單體的聚合，合成樹脂(X)。
光提取膜10的製造方法例如可列舉使用圖5所示般的裝置50的方法等。
以下，對使用圖5所示的裝置50的光提取膜10的製造方法加以說明，但不限定於使用圖5所示的裝置50的製造方法。
藉由常法來製備用以形成構成光提取膜10的材料的單 體組成物51，將該單體組成物51預先加入至儲存罐55中。再者，此處的單體組成物51為活性能量線硬化性單體組成物。
於具有凹凸結構的轉印部的圓筒形的輥模52與橡膠製的夾輥53之間，導入基材14。於該狀態下，於旋轉的輥模52與基材14之間，自罐55通過於前端安裝有噴嘴的配管56來供給單體組成物51。
夾持於旋轉的輥模52與基材14之間的單體組成物51是於活 性能量線照射裝置54附近藉由活性能量線而硬化。將所得的硬化物自輥模52脫模，由此獲得附有基材14的光提取膜10。
就光提取膜10的製造時的操作性優異的方面而言，單 體組成物51的黏度較佳為10mPa．s~3000mPa．s，更佳為20mPa．s~2500mPa．s，進而佳為30mPa．s~2000mPa．s。
輥模52例如可列舉：鋁、黃銅、鋼等的金屬模具；矽 酮樹脂、胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂、ABS樹脂、氟樹脂、聚甲基戊烯樹脂等樹脂模具；對樹脂實施了鍍敷的模具；由在樹脂中混合各種金屬粉所得的材料製作的模具等。該些輥模52中，就耐熱性或機械強度優異、適於連續生產的方面而言，較佳為金屬模具。具體而言，金屬模具於對聚合放熱的耐受性強、不易變形、不易受到損傷、可控制溫度、適於精密成形等多方面而言較佳。
輥模52上，必須形成用以形成光提取膜10的凹凸結構 13的具有凸起或凹陷的轉印面、即凹凸結構的轉印部。
轉印面的製作方法例如可列舉：利用金剛石鑽頭(diamond bit)的切削、國際公開第2008/069324號中記載般的蝕刻等。該些轉印面的製作方法中，就容易形成具有曲面的凸起或凹陷的方面而言，較佳為國際公開第2008/069324號中記載般的蝕刻。
另外，轉印面的製作方法可使用以下方法：將以下金屬薄膜捲繞於卷芯構件上而製造圓筒形的輥模52，所述金屬薄膜是由具有使轉印面的凸起或凹陷反轉而成的凹陷或凸起的母模(master mold)使用電鑄法而製作。
於輥模52的內部或外部，為了維持表面溫度，視需要亦可設置護套加熱器(sheathed heater)或溫水夾套等熱源設備。
由活性能量線照射裝置54所產生的活性能量線例如可 列舉紫外線、電子束、X射線、紅外線、可見光線等。該些活性能量線中，就活性能量線硬化性單體組成物的硬化性優異，可抑制光提取膜10的劣化的方面而言，較佳為紫外線、電子束，更佳為紫外線。
活性能量線照射裝置54的活性能量線的發光光源例如可列舉：化學燈、低壓水銀燈、高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、無電極紫外線燈、可見光鹵素燈、氙氣燈等。
活性能量線照射裝置54的活性能量線的累計光量並無特別限定，就活性能量線硬化性組成物的硬化性優異，抑制光提取膜10的劣化的方面而言，較佳為0.01J/cm2~10J/cm2，更佳為0.5J/cm2~8J/cm2。
於罐55的內部或外部，為了維持單體組成物51的保管 溫度，視需要亦可設置護套加熱器或溫水夾套等熱源設備。
(面發光體)
本發明的面發光體的特徵在於含有本發明的光提取膜及EL元件，較佳為於光提取膜與EL元件之間具有基材(較佳為聚酯樹脂基材)或黏著層。本發明的面發光體例如可列舉圖6所示般的面發光體。
以下，對圖6的面發光體加以說明，但本發明的面發光體不 限定於圖6的面發光體。
圖6所示的面發光體於將玻璃基板31、陽極32、發光 層33、陰極34依序積層而成的EL元件30的玻璃基板31的表面上，介隔黏著層21及基材14而設有光提取膜10。再者，本發明的面發光體中，EL元件的基板較佳為折射率為1.45~1.55。
於EL元件30上設有光提取膜10的面發光體的光提取效率或法線亮度優異，且可抑制出射光波長的出射角度依存性。
本發明的面發光體較佳為色度變化量為0.03以下，更佳 為0.01以下。另外，面發光體的色度變化量越小越佳，本發明的面發光體的色度變化量的下限為0.0001左右。再者，色度變化量為藉由亮度計所測定的xy表色系的色度的變化量，若該色度變化量為0.01以下，則可充分抑制面發光體的出射光波長的出射角度依存性。
[實施例]
以下，藉由實施例對本發明加以具體說明，但本發明不限定於該些實施例。
再者，實施例中的「份」及「%」表示「質量份」及「質量%」。
(長期穩定性試驗)
對實施例及比較例中所得的光提取膜使用超促進耐候性試驗機(機種名「金屬耐候機(Metal Weather)」，戴普拉-溫特斯(Daipla Wintes)(股)製造)，於照度為140mW、濾光片為「KF-2」、溫度為30℃、濕度為70%RH、時間為24小時的條件下，進行由紫 外線所致的加速劣化試驗。
(光提取效率的測定)
於實施例、比較例及參考例中所得的面發光體上配置開有直徑為10mm的孔的厚度為0.1mm的遮光片，將其配置於積分球(藍菲光學(Labsphere)公司製造，大小為6吋)的樣本開口部中。於該狀態下，於EL元件中流通10mA的電流而點燈，利用分光測量器(分光器：機種名「PMA-12」(濱松光子學公司製造)，軟體：軟體名「PMA用基本軟體U6039-01ver.3.3.1」)，來測定此時自遮光片的直徑為10mm的孔出射的光，進行標準視感度曲線的修正，算出面發光體的光子數。
將參考例中所得的面發光體的光子數設定為100%時，將實施例及比較例中所得的面發光體的光子數的比例作為光提取效率。
(法線亮度的測定)
於實施例、比較例及參考例中所得的面發光體上配置開有直徑為10mm的孔的厚度為0.1mm的遮光片。於該狀態下於EL元件中流通1.5A的電流而點燈，利用亮度計(機種名「BM-7」，拓普康(Topcon)公司製造)自面發光體的法線方向測定此時自遮光片的直徑為10mm的孔出射的光，獲得面發光體的亮度值。
將參考例中所得的面發光體的亮度值設定為100%時，將實施例及比較例中所得的面發光體的亮度值的比例作為法線亮度。
(色度變化量的測定)
於實施例、比較例及參考例中所得的面發光體上配置開有直 徑為10mm的孔的厚度為0.1mm的遮光片。於該狀態下，於EL元件中流通1.5A的電流而點燈，利用亮度計(機種名「BM-7」，拓普康(Topcon)公司製造)，自以下方向對此時自遮光片的直徑為10mm的孔出射的光分別測定xy表色系的色度u'、v'：面發光體的法線方向(0°)、自面發光體的法線方向傾斜10°的方向、自面發光體的法線方向傾斜20°的方向、自面發光體的法線方向傾斜30°的方向、自面發光體的法線方向傾斜40°的方向、自面發光體的法線方向傾斜50°的方向、自面發光體的法線方向傾斜60°的方向、自面發光體的法線方向傾斜70°的方向、自面發光體的法線方向傾斜75°的方向、自面發光體的法線方向傾斜80°的方向。將各角度的u'的值及u'的平均值描繪於橫軸上，將各角度的v'的值及v'的平均值描繪於縱軸上，算出自描繪u'及v'的平均值所得的點至描繪各角度的u'及v'的值所得的點為止的距離，將該距離達到最長時的值作為色度變化量。
再者，色度變化量越小，意味著面發光體的出射光波長的出射角度依存性越得到抑制。
(13C-NMR的峰值面積比)
利用固體13C-NMR來測定光提取膜的13C-NMR的峰值面積比。首先，將樹脂(X)細細地切碎，放入至內徑為2.5mm的樣本管內。然後，利用偶極去耦-魔角旋轉(Dipolar Decoupling-Magic Angle Spinning，DD-MAS)法於90°、脈波寬度為3微秒(μs)、樣本轉速為16kHz、累計數為4096次、反覆等待時間為60秒的 條件下進行測定。於所得的光譜中，求出來源於位於碳的化學位移115ppm~160ppm的範圍內的芳香族的峰值面積(A1)、及來源於位於除此以外的範圍內的芳香族以外的部分的峰值面積(A2)，算出峰值面積比(A1/A2)。
[製造例1] (活性能量線硬化性單體組成物A的製造)
將下述式(6)所表示的茀二丙烯酸酯50份、下述式(7)所表示的丙烯酸酯(商品名「NK酯(NK Ester)A-LEN-10」、新中村化學工業(股)製造)50份及1-羥基環己基苯基酮(商品名「豔佳固(Irgacure)184」，巴斯夫(BASF)公司製造)1.6份混合，獲得活性能量線硬化性單體組成物A。
再者，單體組成物A的硬化物的折射率為1.61。
[製造例2] (活性能量線硬化性單體組成物B的製造)
將所述式(6)所表示的茀二丙烯酸酯50份、下述式(8)所表示的二甲基丙烯酸酯20份(商品名「丙烯酸酯(Acryl ester)PBOM2000」，三菱麗陽(股)製造)、下述式(9)所表示的二丙烯酸酯20份(商品名「ABE-300」，新中村化學工業(股)製造)、下述式(10)所表示的丙烯酸酯10份(商品名「新前沿(New Frontier)PHE」，第一工業製藥(股)製造)及1-羥基環己基苯基酮(商品名「豔佳固(Irgacure)184」，巴斯夫(BASF)公司製造)1.6份混合，獲得活性能量線硬化性樹脂單體組成物B。
再者，單體組成物B的硬化物的折射率為1.59。
[製造例3] (活性能量線硬化性單體組成物C的製造)
將所述式(6)所表示的茀二丙烯酸酯40份、所述式(7)所表示的丙烯酸酯40份、所述式(8)所表示的二甲基丙烯酸酯20份及1-羥基環己基苯基酮(商品名「豔佳固(Irgacure)184」，巴斯夫(BASF)公司製造)1.6份混合，獲得活性能量線硬化性單體組成物C。
再者，單體組成物C的硬化物的折射率為1.58。
[製造例4] (活性能量線硬化性單體組成物D的製造)
將所述式(6)所表示的茀二丙烯酸酯70份、所述式(10)所表示的丙烯酸酯30份及1-羥基環己基苯基酮(商品名「豔佳固(Irgacure)184」，巴斯夫(BASF)公司製造)1.6份混合，獲得活性能量線硬化性單體組成物D。
再者，單體組成物D的硬化物的折射率為1.59。
[製造例5] (活性能量線硬化性單體組成物E的製造)
將所述式(6)所表示的茀二丙烯酸酯70份、所述式(8)所表示的二甲基丙烯酸酯30份及1-羥基環己基苯基酮(商品名「豔佳固(Irgacure)184」，巴斯夫(BASF)公司製造)1.6份混合，獲得活性能量線硬化性單體組成物E。
再者，單體組成物E的硬化物的折射率為1.58。
[製造例6] (活性能量線硬化性單體組成物F的製造)
將所述式(6)所表示的茀二丙烯酸酯36份、所述式(7)所表示的丙烯酸酯36份、所述式(8)所表示的二甲基丙烯酸酯18份、矽酮樹脂球狀微粒子(商品名「TSR9000」，邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)公司製造，10份，折射率：1.42，體積平均粒徑：2μm)及1-羥基環己基苯基酮(商品名「豔佳固(Irgacure)184」，巴斯夫(BASF)公司製造)1.6份混合，獲得活性能量線硬化性單體組成物F。
再者，單體組成物F的硬化物的折射率為1.58。
[製造例7] (活性能量線硬化性單體組成物G的製造)
將所述式(6)所表示的茀二丙烯酸酯32份、所述式(7)所表示的丙烯酸酯32份、所述式(8)所表示的二甲基丙烯酸酯16份、矽酮樹脂球狀微粒子(商品名「TSR9000」，邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)公司製造，20份，折射率：1.42，體積平均粒徑：2μm)及1-羥基環己基苯基酮(商品名「豔佳固(Irgacure)184」，巴斯夫(BASF)公司製造)1.6份混合，獲得活性能量線硬化性單體組成物G。
再者，單體組成物G的硬化物的折射率為1.58。
[製造例8] (活性能量線硬化性單體組成物H的製造)
將所述式(6)所表示的茀二丙烯酸酯10份、所述式(7)所 表示的丙烯酸酯60份、所述式(8)所表示的二甲基丙烯酸酯30份及1-羥基環己基苯基酮(商品名「豔佳固(Irgacure)184」，巴斯夫(BASF)公司製造)1.6份混合，獲得活性能量線硬化性單體組成物H。
再者，單體組成物H的硬化物的折射率為1.51。
[製造例9] (活性能量線硬化性單體組成物I的製造)
將下述式(11)所表示的丙烯酸胺基甲酸酯(商品名「M-315」，日本化藥(股)製造)100份及1-羥基環己基苯基酮(商品名「豔佳固(Irgacure)184」，巴斯夫(BASF)公司製造)1.6份混合，獲得活性能量線硬化性單體組成物I。
再者，單體組成物I的硬化物的折射率為1.50。
[製造例10] (具備球截形狀的轉印部的輥模的製造)
於外徑為200mm、軸方向的長度為320mm的鋼製輥的外周 面上實施厚度為200μm、維氏硬度為230Hv的鍍銅。於鍍銅層的表面上塗佈感光劑，進行雷射曝光、顯影及蝕刻，獲得於鍍銅層中形成有以下轉印部的模具，所述轉印部是直徑為50μm、深度為25μm的半球狀凹陷以最小間隔3μm排成六方排列而成。於所得的模具的表面上，為了賦予防鏽性及耐久性而實施鍍鉻，獲得輥模。
[製造例11] (具備橢圓球截形狀的轉印部的輥模的製造)
於外徑為200mm、軸方向的長度為320mm的鋼製輥的外周面上實施厚度為200μm、維氏硬度為230Hv的鍍銅。一面利用空氣主軸(air spindle)使具有橢圓輪廓的球端銑刀(ball end mill)旋轉，一面於鍍銅層中進行切削，由此獲得於鍍銅層中形成有以下轉印部的模具，所述轉印部是直徑為30μm、深度為18μm的半球狀凹陷以最小間隔1μm排成六方排列而成。於所得的模具的表面上，為了賦予防鏽性及耐久性而實施鍍鉻，獲得輥模。
另外，利用同樣的方法獲得於鍍銅層上具有以下轉印部的模具，所述轉印部是直徑為30μm、深度為18μm的半球狀凹陷以最小間隔2μm排成六方排列而成。
[製造例12] (具備角錐形狀的轉印部的輥模的製造)
於外徑為200mm、軸方向的長度為320mm的鋼製輥的外周面上實施厚度為200μm、維氏硬度為230Hv的鍍銅。使用前端角 為90°的單晶金剛石工具於鍍銅層中進行切削，由此獲得於鍍銅層中形成有以下轉印部的模具，所述轉印部是一邊為50μm、深度為25μm的正方錐(square pyramid)狀凹陷無間隙地排列而成(佔有率為100%)。於所得的模具的表面上，為了賦予防鏽性及耐久性而實施鍍鉻，獲得輥模。
[參考例1]
將剝離Symfos OLED-010K(柯尼卡美能達(Konica Minolta)公司製造，白色有機發光二極體(Organic Light Emitting Diode，OLED)元件)的光出射面側的表面的光提取膜所得的EL元件A直接作為面發光體。
再者，EL元件A的玻璃基板的折射率為1.50。
[實施例1]
於製造例10中所得的輥模上塗佈活性能量線硬化性單體組成物A，於其上放置厚度為125μm的聚對苯二甲酸乙二酯基材(商品名「帶亞芬(Diyafoil)T910E125」，三菱樹脂(股)製造，折射率：1.60)，以基質層的厚度成為20μm的方式利用夾輥將活性能量線硬化性單體組成物A均勻展開。其後，自基材的上方照射紫外線，使由輥模與基材所夾持的活性能量線硬化性單體組成物A硬化，將所得的硬化物與基材的接合體自輥模剝離，獲得附有基材的光提取膜。
如表1的「折射率」欄所記載般，硬化的活性能量線硬化性單體組成物A的折射率為1.61。
關於根據所得的光提取膜的由掃描式顯微鏡拍攝的圖像所算出的光提取膜的凹凸結構的大小，平均最長徑Lave為48.2μm，平均高度Have為26.0μm，獲得了包含大致與輥模的凹陷的大小相對應的球截形狀的凸起的凹凸結構。另外，根據所得的光提取膜的由掃描式顯微鏡拍攝的圖像，所得的光提取膜的凹凸結構是以與輥模相對應的最小間隔3μm而排成六方排列，且凹凸結構的底面部的總面積相對於光提取膜的面積之比例(凹凸結構的佔有率)為76%。
於所述EL元件A的光出射面上塗佈嘉吉(Cargill)標準折射液(折射率為1.52，茉麗特(Moritex)(股)製造)作為黏著層。使附於所述光提取膜上的基材的面光學密接於該黏著層，獲得面發光體。將所得的面發光體的光提取效率、法線亮度及色度變化量的測定結果與硬化的活性能量線硬化性單體組成物的折射率一併示於表1中。
[實施例2~實施例12、比較例1]
將製造光提取膜時所用的活性能量線硬化性單體組成物變更為表1的「組成」欄中記載者，將輥模的轉印部變更為表1的「凹凸結構形狀」的欄中記載者，除此以外，與實施例1同樣地進行操作，獲得面發光體。再者，實施例9中，使用具備半球狀凹陷的最小間隔為1μm的轉印部的模具，於實施例10中，使用具備半球狀凹陷的最小間隔為2μm的轉印部的模具。將所得的面發光體的光提取效率、法線亮度及色度變化量的測定結果與硬化的活 性能量線硬化性單體組成物的折射率一併示於表1中。
[比較例2]
於厚度為125μm的聚對苯二甲酸乙二酯基材(商品名「帶亞芬(Diyafoil)T910E125」，三菱樹脂(股)製造，折射率：1.60)上塗佈活性能量線硬化性單體組成物C，於其上放置厚度為125μm的聚對苯二甲酸乙二酯基材(商品名「帶亞芬(Diyafoil)T910E125」，三菱樹脂(股)製造，折射率：1.60)，以基質層的厚度成為20μm的方式利用夾輥將活性能量線硬化性單體組成物C均勻展開。其後，自基材的上方照射紫外線，使夾持於基材間的活性能量線硬化性單體組成物C硬化，將一片基材自所得的硬化物剝離，獲得附有另一基材的光提取膜。
繼而，於所述EL元件A的光出射面上塗佈嘉吉(Cargill)標準折射液(折射率為1.52，茉麗特(Moritex)(股)製造)作為黏著層。使附於所述光提取膜上的基材的面光學密接於所述黏著層，獲得面發光體。將所得的面發光體的光提取效率、法線亮度及色度變化量的測定結果與硬化的活性能量線硬化性單體組成物的折射率一併示於表1中。
含有本發明的光提取膜的實施例1~實施例12中所得的面發光體的光提取效率及法線亮度優異，出射光波長的出射角度依存性的抑制優異。
另一方面，使用利用不含單體(x)的單體組成物所製造的光提取膜的比較例1中所得的面發光體，其光提取效率及法線亮度的提高不充分。
再者，比較例2中所得的面發光體於光提取膜的表面上不具有凹凸結構，故光提取效率及法線亮度的提高不充分。
[實施例13] (活性能量線硬化性單體組成物J的製造)
將下述式(12)所表示的茀二丙烯酸酯(商品名「EA-0100」，大阪瓦斯化學(股)製造)40份、下述式(8)所表示的二甲基丙烯酸酯(商品名「壓克力酯(Acryester)PBOM2000」，三菱麗陽(股)製造)10份、下述式(9)所表示的二甲基丙烯酸酯(商品名「ABE-300」，新中村化學工業(股)製造)20份、下述式(13)所表示的丙烯酸酯(商品名「新前沿(New Frontier)PHE」，第一工業製藥(股)製造)30份及聚合起始劑(商品名「盧塞林(Lucirin)TPO」，巴斯夫(BASF)公司製造)1份混合，獲得預備單體組成物。
再者，所得的預備單體組成物的硬化物的折射率為1.58，由13C-NMR測定的來源於芳香族的峰值面積(A1)相對於來源於芳香族以外的部分的峰值面積(A2)之比(A1/A2)為0.70。
將所得的預備單體組成物95%與作為紫外線吸收劑的羥基苯基三嗪系化合物(商品名「地奴彬(Tinuvin)479」，巴斯夫(BASF)公司製造)5%混合，獲得活性能量線硬化性單體組成物J。
(輥模的製造)
於外徑為200mm、軸方向的長度為320mm的鋼製輥的外周面上實施厚度為200μm、維氏硬度為230Hv的鍍銅。於鍍銅層的表面上塗佈感光劑，進行雷射曝光、顯影及蝕刻，獲得於鍍銅層中形成有以下轉印部的模具，所述轉印部是直徑為50μm、深度為25μm的半球狀凹陷以最小間隔5μm排成六方排列而成。於所得的模具的表面上，為了賦予防鏽性及耐久性而實施鍍鉻，獲得輥 模。
(光提取膜的製造)
於所得的輥模上塗佈所得的活性能量線硬化性單體組成物J，於其上放置厚度為125μm的聚對苯二甲酸乙二酯基材(商品名「帶亞芬(Diyafoil)T910E125」，三菱樹脂(股)製造，折射率：1.60)，利用夾輥均勻展開。其後，自基材的上方照射紫外線，使由輥模與基材所夾持的活性能量線硬化性單體組成物J硬化，自輥模將單體組成物J的硬化物剝離，獲得附有基材的光提取膜。於硬化時，可藉由控制輥模的按壓來控制基質層的厚度，於實施例13中以基質層的厚度成為30μm的方式進行設定。
關於根據所得的光提取膜的由掃描式顯微鏡拍攝的圖像所算出的光提取膜的凹凸結構的大小，平均最長徑Lave為48.0μm，平均高度Have為27.1μm，獲得了大致與輥模的凹陷的大小相對應的球截形狀的凸起。另外，根據由掃描式顯微鏡拍攝的圖像，所得的光提取膜的凹凸結構是以與輥模相對應的最小間隔10μm排成六方排列，球狀凸起的底面部的面積相對於光提取膜的面積之比例(凹凸結構的佔有率)為73%。
(面發光體的製造)
於EL元件的光出射面側塗佈嘉吉(Cargill)標準折射液(折射率為1.52，茉麗特(Moritex)(股)製造)作為黏著層，使附於所得的光提取膜上的基材的面光學密接於所述黏著層，獲得面發光體。將所得的面發光體的光提取效率、法線亮度、色度變化量 示於表2中。
再者，作為EL元件，使用剝離Symfos OLED-010K(柯尼卡美能達(Konica Minolta)公司製造，白色OLED元件)的光出射面側的表面的光提取膜所得的EL元件。
[實施例14~實施例18]
除了如表2般變更紫外線吸收劑的含有率及光穩定劑的含有率以外，與實施例13同樣地進行操作，獲得光提取膜及面發光體。將所得的面發光體的評價結果示於表2中。
再者，作為光穩定劑，使用受阻胺系化合物(商品名「地奴彬(Tinuvin)123」，巴斯夫(BASF)公司製造)。
[參考例2]
將實施例13中所用的EL元件、即剝離Symfos OLED-010K(柯尼卡美能達(Konica Minolta)公司製造，白色OLED元件)的光出射面側的表面的光提取膜所得的EL元件直接作為面發光體。
再者，EL元件的玻璃基板的折射率為1.50。
實施例13~實施例18中所得的面發光體的光提取效率或法線亮度提高，且可抑制出射光波長的出射角度依存性。另外得知，實施例13~實施例18中所得的面發光體可抑制紫外線照射前後(加速劣化試驗前後)的光學特性的變化，長期穩定性優異。
[產業上之可利用性]
藉由本發明的光提取膜，可獲得光提取效率及法線亮度優異、出射光波長的出射角度依存性的抑制優異的面發光體，該面發光體例如可較佳地用於照明、顯示器、螢幕(screen)等。
另外，本發明的光提取膜藉由使用紫外線吸收劑及光穩定劑的至少一種，可充分提高面發光體的光提取效率及法線亮度且充分抑制出射光波長的出射角度依存性，並且由抑制紫外線暴下的變色所得的長期穩定性優異，故使用本發明的光提取膜的面發光體例如可較佳地用於照明、顯示器、螢幕等。
10‧‧‧光提取膜
11‧‧‧凹凸結構層
12‧‧‧基質層
13‧‧‧凹凸結構
14‧‧‧基材
21‧‧‧黏著層
22‧‧‧保護膜

Claims (19)

  1. 一種光提取膜，其為積層於電致發光元件的基板上的光提取膜，並且所述光提取膜於表面上具有凹凸結構，構成所述光提取膜的材料含有具有茀骨架、聯苯骨架及萘骨架的至少一種骨架的樹脂(X)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的光提取膜，其中所述樹脂(X)含有下述式(1)所表示的結構單元，
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的光提取膜，其中所述樹脂(X)含有下述式(4)所表示的結構單元， (式中，R1及R2分別獨立地為氫原子或甲基，a及b分別獨立地為0~4的整數)。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的光提取膜，其中構成所述光提取膜的材料中的所述樹脂(X)的含有率為50質量%以上。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的光提取膜，其中利用13C-NMR對所述光提取膜測定所得的來源於芳香族的峰值面積(A1)相對於來源於芳香族以外的部分的峰值面積(A2)之比(A1/A2)為0.1以上。
  6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述的光提取膜，其中所述光提取膜的折射率為1.55~1.65。
  7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的光提取膜，其中所述樹脂(X)含有聚氧伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯單元、聚酯多元醇二(甲基)丙烯酸酯單元及芳香族酯二醇二(甲基)丙烯酸酯單元的至少一種結構單元。
  8. 如申請專利範圍第1項至第7項中任一項所述的光提取膜，其中所述凹凸結構的形狀為球截形狀、球截梯形狀、橢圓體球截形狀、橢圓體球截梯形狀、角錐形狀及角錐梯形狀的至少一種。
  9. 如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述的光提取膜，其中所述凹凸結構的形狀為球截形狀及橢圓體球截形狀的至少一種，所述凹凸結構的佔有率為70%~90%。
  10. 如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述的光提取膜，其中構成所述光提取膜的材料中的光擴散微粒子的含有率為20質量%以下。
  11. 如申請專利範圍第1項至第10項中任一項所述的光提取膜，其中構成所述光提取膜的材料含有紫外線吸收劑。
  12. 如申請專利範圍第1項至第11項中任一項所述的光提取膜，其中構成所述光提取膜的材料含有光穩定劑。
  13. 一種面發光體，其含有如申請專利範圍第1項至第12項中任一項所述的光提取膜及電致發光元件。
  14. 如申請專利範圍第13項所述的面發光體，其中於所述光提取膜與所述電致發光元件之間具有聚酯樹脂基材。
  15. 如申請專利範圍第13項或第14項所述的面發光體，其中所述電致發光元件的基板為折射率為1.45~1.55的玻璃。
  16. 如申請專利範圍第13項至第15項中任一項所述的面發光體，其中於所述光提取膜與所述電致發光元件之間具有黏著層，所述黏著層的折射率為1.48~1.58。
  17. 如申請專利範圍第13項至第16項中任一項所述的面發光體，其中所述面發光體的色度變化量為0.01以下。
  18. 一種光提取膜的製造方法，其為積層於電致發光元件的基板上的光提取膜的製造方法，並且於基材與具有凹凸結構的轉印部的模具之間供給單體組成物，並使單體組成物硬化，所述單體組成物含有具有茀骨架、聯 苯骨架及萘骨架的至少一種骨架的單體(x)。
  19. 如申請專利範圍第18項所述的光提取膜的製造方法，其中所述單體組成物中的所述單體(x)的含有率為30質量%以上。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105185813A (zh) * 2015-09-09 2015-12-23 京东方科技集团股份有限公司 Oled显示装置及其制备方法
JP6702530B2 (ja) * 2016-03-09 2020-06-03 大日本印刷株式会社 有機ｅｌ表示装置
US10386567B2 (en) 2016-05-16 2019-08-20 Keiwa Inc. Optical sheet for liquid crystal display device, backlight unit for liquid crystal display device and production method of optical sheet for liquid crystal display device
JP2017207736A (ja) * 2016-05-16 2017-11-24 恵和株式会社 液晶表示装置用光学シート、液晶表示装置用バックライトユニット及び液晶表示装置用光学シートの製造方法
JP2018039988A (ja) * 2016-08-23 2018-03-15 三洋化成工業株式会社 光硬化性組成物
CN106410059A (zh) * 2016-09-19 2017-02-15 张家港康得新光电材料有限公司 一种取出膜的结构与制备方法及其应用
US10153461B1 (en) * 2017-09-13 2018-12-11 Int Tech Co., Ltd. Display panel and method for manufacturing the same
CN107958921A (zh) * 2017-11-24 2018-04-24 深圳市华星光电技术有限公司 一种柔性基板及其制备方法、显示器
CN116841080A (zh) * 2022-03-24 2023-10-03 咏巨科技有限公司 光学膜及应用其的发光模块

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003005368A (ja) * 2001-06-19 2003-01-08 Nippon Steel Chem Co Ltd 表面凹凸形状を有する基板の製造方法
JP2008081726A (ja) * 2006-08-30 2008-04-10 Sanyo Electric Co Ltd 有機無機複合体形成用材料及び有機無機複合体並びにそれを用いた光学素子
CN101134818A (zh) * 2006-08-30 2008-03-05 三洋电机株式会社 有机无机复合体形成用材料、有机无机复合体和使用该复合体的光学元件
JPWO2008069324A1 (ja) 2006-12-08 2010-03-25 三菱レイヨン株式会社 光拡散性光学フィルム及びその製造方法、プリズムシート、並びに面光源装置
JPWO2008096748A1 (ja) 2007-02-07 2010-05-20 株式会社カネカ 平面発光装置
JP2010153091A (ja) * 2008-12-24 2010-07-08 Sumitomo Chemical Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2010212204A (ja) 2009-03-12 2010-09-24 Toppan Printing Co Ltd Ｅｌ素子、表示装置、ディスプレイ装置及び液晶ディスプレイ装置
JP2011039375A (ja) * 2009-08-17 2011-02-24 Konica Minolta Holdings Inc 光散乱基板、光散乱基板の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2011048937A (ja) * 2009-08-25 2011-03-10 Panasonic Electric Works Co Ltd 有機ｅｌ発光素子
TWI490194B (zh) * 2009-09-18 2015-07-01 Eternal Chemical Co Ltd 可聚合組合物及其用途
JP5698993B2 (ja) * 2011-01-27 2015-04-08 富士フイルム株式会社 光拡散層形成材料、及び光取り出し部材、並びに有機電界発光装置及びその製造方法
TWI472076B (zh) * 2012-07-31 2015-02-01 Mitsubishi Rayon Co Ｅｌ元件用光取出膜、面發光體及ｅｌ元件用光取出膜的製造方法

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