JP2003005368A

JP2003005368A - 表面凹凸形状を有する基板の製造方法

Info

Publication number: JP2003005368A
Application number: JP2001184967A
Authority: JP
Inventors: Yasuo Uchimiya; 康夫内宮; Koichi Fujishiro; 光一藤城; Kenichi Kitamura; 健一北村
Original assignee: Nippon Steel Chemical Co Ltd
Current assignee: Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Priority date: 2001-06-19
Filing date: 2001-06-19
Publication date: 2003-01-08

Abstract

(57)【要約】【課題】反射板、ＴＦＴ上反射膜、導光板用くさび等
に用いられる微細な表面凹凸とヴィア穴を設けた樹脂硬
化膜を有する基板の製造方法の提供。【解決手段】平坦な基板１上に、光重合性モノマー又
はオリゴマーと光重合開始剤を必須成分として含有する
コーティング材を塗布し、紫外線照射、現像、硬化し
て、硬化膜表面に凹凸形状と硬化膜貫通穴4を同時に形
成する基板の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表面凹凸形状と貫
通穴を有する基板及びその製造方法に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、接着性向上、光乱反射等を目的と
して基板上に様々な凹凸形状を形成することが要望され
ている。表面に凹凸形状を有する基板の製造について
は、これまで基板の研磨、樹脂組成物への充填材添加、
光硬化樹脂を使用したフォトリソグラフィー等によるパ
ターンの凹凸形成が行われてきている。しかし、基板の
研磨による方法では精密に凹凸を形成することが困難で
あり、また、微細な硬化膜貫通穴によるヴィア穴を形成
することも困難であった。また、フォトリソグラフィー
可能なコーティング剤を形成する樹脂組成物への充填材
の添加による方法は、製造工程は簡便ではあるが、添加
される充填材の比重が樹脂組成より重い場合は沈殿が発
生し、充填材の粒径が大きな場合には均一な塗膜が得ら
れず、良好な表面凹凸性が得られず、かつ微細なヴィア
穴が形成できないという問題を有していた。

【０００３】表面に凹凸形状を有する基板の製造につい
ては、特開平11−183714号公報に示されたような光硬化
樹脂を使用したフォトリソグラフィーによる方法や、特
開平11−248909号公報に示されたような従来のフォトリ
ソグラフィー法における現像工程を含まない拡散反射板
の製造方法が示されている。

【０００４】しかし、光硬化樹脂を使用したフォトリソ
グラフィーによる方法で、硬化膜表面に微細な凹凸形状
とヴィア穴のような硬化膜貫通穴を形成しようとした場
合、表面凹凸の形成とヴィア穴の形成をそれぞれの目的
に合致したコーティング樹脂を用いて、塗布、紫外線照
射、現像、洗浄、熱硬化の工程を別個に行う必要があ
り、簡便に微細な凹凸と硬化膜貫通穴を同時に形成する
ことができなかった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、表面に微細
な凹凸形状を有すると共に、硬化膜表面の任意の位置に
硬化膜貫通穴を有する基板を簡便に製造する方法を提供
することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、基板上に設けられ
る硬化膜を形成する際に、特定の方法及び条件を採用す
ることで、硬化膜表面の凹凸形状と硬化膜貫通穴を同時
に形成し得ることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。

【０００７】すなわち、本発明は、平坦な基板上に表面
凹凸形状を有する硬化膜を形成する方法において、光重
合性モノマー、オリゴマー及びポリマーからなる群から
選択される少なくとも１種の光重合性成分と光重合開始
剤を必須成分として含有するコーティング材を膜厚０.
５μm以上で塗布し、凹凸形状形成用の光透過部と光遮
断部を有し、且つ、貫通穴形成用の光遮断部を有するマ
スクを介して紫外線を照射後、現像、熱処理を行うこと
により、硬化膜表面に膜厚の凹凸段差が凸部の膜厚の５
〜９０％で、０．０５〜３μｍの範囲である凹凸形状と
硬化膜の所定の位置に少なくとも1つの硬化膜貫通穴と
を同時に形成することを特徴とする表面凹凸形状を有す
る基板の製造方法である。ここで、マスクとしては、凹
凸形状形成のためのパターンを有すると共に硬化膜貫通
穴形成のためのパターンを有し、貫通穴形成用の光遮断
部の径（ｂ1）が、凹凸形状形成のためのパターン幅
（ａ1）よりも大きいことが望ましい。また、表面凹凸
形状を有する基板の凹凸形状の頂点間距離（ａ2）に対
して、硬化膜貫通穴下部の直径（ｂ2）の比（ｂ2／ａ
2）が０．３〜５の範囲にあること、又は紫外線照射
が、光透過部と光遮蔽部を有するマスクを介して３００
〜４５０nmの紫外線を５０〜１００００mJ/cm²照射して
行われ、その後の現像が、ｐＨ１０〜１４のアルカリ水
溶液による現像と純水による洗浄により行われることも
好ましい態様の一つである。

【０００８】また、本発明は、コーティング材中の光重
合性成分が、フルオレン骨格に不飽和基を有する置換基
が２つ以上置換したモノマー及びオリゴマーからなる群
から選択される少なくとも１種のフルオレン骨格を有す
る光重合性成分である前記の表面凹凸形状を有する基板
の製造方法である。ここで、フルオレン骨格を有する光
重合性成分が、9,9-ビス（フェノール）フルオレンをエ
ポキシ化して得られるフルオレンエポキシ樹脂、該フル
オレンエポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸又はそのアル
キルエステルを反応させて得られるフルオレンアクリレ
ート及び該フルオレンアクリレートに多塩基酸の酸無水
物を反応させて得られるフルオレン酸付加物からなる群
から選択される少なくとも１種のフルオレン骨格を有す
る光重合性成分であり、その割合がフルオレンエポキシ
樹脂１重量部に対し、フルオレンアクリレート０．５〜
５重量部、フルオレン酸付加物０〜５重量部であり、光
重合性成分中のフルオレン骨格を有する光重合性成分が
５０重量％以上であることが有利である。更に、本発明
は、前記のいずれかに記載の基板の製造方法によって製
造された表面凹凸形状を有する基板である。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の製造方法において、基板上への、コーテ
ィング材の塗布は、平坦な基板上に光重合性成分と光重
合開始剤を必須成分として含有するコーティング材を塗
布して行われる。

【００１０】用いられる基板としては、その形態が平坦
である必要がある。基板が平坦（平滑）性を有しない
と、良好なコーティングができず、また、本発明が目的
とする微細な表面凹凸形状を形成することが困難とな
る。ここで、平坦（平滑）性とは、JIS B 0601で規定
されているRaが０．０５μm以下を指す。具体的には、
ガラス基板、金属基板、プラスチック基板等が例示され
る。

【００１１】コーティング材の塗布は、スピンコートに
よる方法など公知の方法で塗布することができる。コー
ティング材の塗布膜厚は、０.５μm以上で塗布すること
が必要である。塗布の膜厚が０．５μmに達しないと、
適した範囲で硬化膜表面に微細な凹凸と硬化膜への穴の
貫通を同時に行うことが困難となる。塗布の膜厚は、好
ましくは１〜１０μmである。塗布されたコーティング
材は、紫外線照射前には通常６０〜１２０℃の温度で１
〜５分程度予備乾燥し、溶媒がある程度除去された後、
次工程の紫外線照射工程に移ることが好ましい。

【００１２】塗布されたコーティング材は、光透過部と
光遮断部を有するマスクを介して紫外線が照射される。
マスクの形状は、光透過部と光遮蔽部を有するものであ
れば特に限定されるものではなく、目的とする表面凹凸
形状と硬化膜貫通穴の形状に応じて適宜設計されるもの
である。したがって、マスクは、凹凸形状形成のための
パターンを有すると共に硬化膜貫通穴形成のためのパタ
ーンを有するが、硬化膜貫通穴形成のための光遮断部
（ｂ1）は、凹凸形状形成のためのパターン幅（ａ1）よ
りも大きいものであることがよく、好ましくは２〜５０
倍程度である。この関係を満たさないと凹凸形状と硬化
膜貫通穴の形成を同時に行うことが困難となる。また、
微細な表面凹凸形状を形成するためには、それに対応す
るマスクは、１００μｍ当りに、２〜１０μmの線幅を
持つ直線又は曲線の光透過部が２〜２５本程度存在する
ことが好ましい。貫通穴形成用の光遮断部（ｂ1）の径
は、通常１０〜５００μｍである。なお、この光遮断部
の形状は、（ｂ1）を直径とする円や（ｂ1）を最大幅と
する方形等があるが、円であることが好ましい。

【００１３】コーティング材への紫外線照射は、前記マ
スクを介して行われるが、紫外線としては、３００〜４
５０nmの範囲にあるものを、５０〜１００００mJ/cm²照
射して行うことが好ましい。コーティング材の塗布厚み
で、前記凹凸形状や貫通穴の形成の制御方法が異なって
くるが、本発明においては、主にこの紫外線照射条件を
この範囲で調整することで、凹凸形状や貫通穴の形成を
同時に行うことができる。なお、紫外線の照射には、超
高圧水銀ランプやメタルハライドランプなどのランプを
用いることができる。

【００１４】紫外線照射後には、現像、洗浄、熱硬化を
順次行うことで硬化膜の形成が行われる。現像及び洗浄
の条件としては、例えば炭酸ナトリウム等のアルカリ金
属炭酸塩、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、
テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド等の有機塩な
どのｐＨが１０〜１４のアルカリ性水溶液を用いて、１
５〜３０℃の温度で４０〜１２０秒間シャワリングし未
露光部分を溶解させ、次に純水を３〜３０kg/cm²の高圧
で２０〜１２０秒間シャワリングし、リンスを行なうこ
とが好ましい。貫通穴の形成については未露光部分をア
ルカリ水溶液により溶解させ、穴を開けるが、この時に
表面の凹凸については未露光部を完全に溶解させないこ
とが必要である。

【００１５】上記、紫外線照射の条件がこの範囲以下で
は、光による硬化が不十分となり目的とする凹凸が形成
できず、この範囲以上では光の回折による遮蔽部への光
の回り込みが大きくなり十分な凹凸が形成できなくなる
ので好ましくない。また、現像条件がこの範囲以下では
十分なヴィア穴が形成できず、この範囲以上では良好な
表面の凹凸が形成できない。凹凸部形成のためのパター
ン幅（ａ1）は、貫通穴形成のための光遮断部の径（ｂ
１）より十分に小さいと、光の回折が凹凸部形成部位に
多少起こり全体的に現像性が低下するが、貫通穴形成部
位の光の回折は相対的に低く、特に中心部は低く、中心
部の現像性の低下はあまり生じない。

【００１６】硬化のための熱処理条件としては、１２０
〜２５０℃で１５〜６０分の範囲で行なうことが好まし
い。熱処理の条件がこの範囲以下では、十分な熱硬化が
行われず十分な凹凸が形成できなくなり、この範囲以上
では熱処理による樹脂劣化が認められるので好ましくな
い。

【００１７】このようにして成膜された塗膜は、微細な
表面凹凸形状と微細な硬化膜貫通穴を有するものとな
る。硬化膜は透明性を有していることが好ましく、その
光線透過率は６０％以上であることが好ましい。また、
硬化膜の表面に形成された凹凸形状部は、凹凸段差が膜
厚の５〜９０％で０．０５〜３μｍの範囲にあることが
必要である。また、この凹凸形状は、マスクによる露光
部（膜厚Ｘ）と未露光部(膜厚Ｙ)からなるが、各部の厚
さの比（Ｙ／Ｘ）が０．０５〜０．９０の範囲にあるこ
とが好ましい。ここで、成膜された塗膜表面の凹凸形状
は、上記したマスクを介した紫外線照射の際の用いられ
るマスク（露光部）の形状や紫外線照射条件、及び熱処
理条件等を適宜調整することにより制御することができ
る。すなわち、上記条件を制御することにより、露光部
も一部現像可能としたり、あるいは非露光部も光の回折
又は拡散で一部現像不能としたり、熱処理による露光部
と非露光部（現像されずに残った部分）の硬化収縮差を
調整する。

【００１８】また、硬化膜の所定の位置には、少なくと
も1つの硬化膜貫通穴を有するが、この硬化膜貫通穴
は、硬化膜表面に形成される凹凸形状の頂点間距離（ａ
2）に対して、硬化膜貫通穴下部の直径（ｂ2）の比（ｂ
2／ａ2）が０．３〜５の範囲とすることが好ましい。硬
化膜貫通穴の形状も、マスク（未露光部）の形状や紫外
線照射条件、現像液のアルカリ濃度、現像時間、現像温
度により適宜調整することにより制御することができ
る。理論的には、光が回折せず直進するのであれば、ｂ
1とｂ2は等しくなるが、通常は貫通穴は円錐状となり底
部の径ｂ2がｂ１より小さくなる。したがって、ｂ2がａ
2より小さくなる場合が生じる。

【００１９】本発明に用いられるコーティング材は、光
重合性成分と光重合開始剤を必須成分として含有するも
のであれば特に制限されるものではない。コーティング
材には、光重合性成分、光重合開始剤の他、エポキシ樹
脂硬化剤、熱重合開始剤、溶媒、その他添加剤等を含ん
でもよい。

【００２０】光重合性成分は、モノマー又はオリゴマー
又は重合性ポリマーから選択される少なくとも１種から
なる。光重合性基としては、ビニル基等の不飽和結合が
好ましい。好ましい光重合性成分としては、フルオレン
骨格にビニル基等の不飽和基を有する置換基が２つ以上
置換したモノマー又はオリゴマーが好ましく挙げられ
る。

【００２１】有利には、フルオレン骨格を有するモノマ
ー、オリゴマー又はこれらの混合物からなる光重合性成
分が挙げられる。なお、本発明でオリゴマーという場合
には、平均の重合度又は繰返し数が５０以下のものを指
す。フルオレン骨格を有する光重合性成分としては、フ
ルオレンエポキシ樹脂、フルオレンアクリレート及びフ
ルオレン酸付加物がある。フルオレンエポキシ樹脂、フ
ルオレンアクリレート及びフルオレン酸付加物の一例を
下記式１〜３に示す。下記式１、２、３において、Ｒは
水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表わし、ｎは
０〜２０の整数を表わす。また、Ｙ及びＺは多塩基酸の
残基を表わす。ここで、好ましくは、Ｒは水素原子であ
り、ｎの平均（平均の繰返し数）は０〜１である。

【００２２】

【化１】

【００２３】なお、式２で表わされる化合物は、例えば
式３で表わされるエポキシ化合物と（メタ）アクリル酸
との反応で得ることができる。式１で表わされる化合物
は、例えば式２で表わされる化合物と二塩基酸又は四塩
基酸の無水物との反応で得ることができ、二塩基酸及び
四塩基酸の使用割合は0：100〜100：0の範囲であるが、
式１のｍとｎを存在モル比とするとき、ｍ：ｎは1：99
〜99：1、好ましくは10：90〜90：1の範囲であることが
よい。

【００２４】上記二塩基酸及び四塩基酸又はその無水物
としては、格別な制限はないが、例えば、無水フタル
酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ピロメリット酸、ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる
他、無水トリメリット酸等も好ましく挙げられる。

【００２５】上記したフルオレン骨格を有する光重合性
成分の採用により、樹脂マトリックスの耐熱性を高くす
ることができ、耐熱性の必要な用途に適する凹凸基板が
得られる。この場合、フルオレン骨格を有する光重合性
成分の割合は、全樹脂及び樹脂形成成分の４０重量％以
上、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは７０重
量％以上であることがよい。フルオレン骨格を有する光
重合性成分を使用する場合、フルオレンエポキシ樹脂１
重量部に対し、フルオレンアクリレート０．５〜５重量
部、フルオレン酸付加物０〜５重量部の使用割合とする
ことがよい。また、全光重合性成分中のフルオレン骨格
を有する光重合性成分が５０重量％以上であることが有
利である。

【００２６】フルオレン骨格を有する光重合性成分を使
用する場合、コーティング剤中に含まれる光重合性成分
には、他の光重合性成分を含有させることができる。好
ましくは、フルオレン骨格を有する光重合性成分以外の
多官能アクリレートが樹脂形成成分（樹脂と重合、硬化
により樹脂となる成分の合計）中に１０〜４０重量％含
まれることが有利である。

【００２７】更に、本発明のコーティング材には、フル
オレン骨格を有する光重合性成分と多官能アクリレート
を含む場合であっても他の重合性成分を含むことができ
る。好ましい重合性成分としては、アクリル樹脂系やエ
ポキシ樹脂系が挙げられる。

【００２８】アクリル樹脂系としては、アクリル酸、メ
タクリル酸等の置換アクリル酸、これらのメチルエステ
ル等のアクリレート類から選択されるアクリル系のモノ
マー、オリゴマー又はポリマーが挙げられるが、重合性
のモノマー又はオリゴマーが好ましい。また、アクリル
樹脂系を例示すると、メタクリル酸メチル、アクリル酸
メチル等の汎用のアクリレートや、多官能アルコールや
多官能エポキシ化合物から導かれる多官能アクリレート
が挙げられる他、ポリ（メタ）アクリル酸のようなポリ
マー、そのオリゴマー等が挙げられる。

【００２９】また、エポキシ樹脂系としては、ビスフェ
ノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ
樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ジヒドロ
キシビフェニル型エポキシ樹脂等が挙げられる。本発明
でいうエポキシ樹脂には、エポキシ化合物が含まれる。
これらのアクリル樹脂成分やエポキシ樹脂成分などは、
それぞれ単独で又は２種以上併用して用いてもよい。な
お、エポキシ樹脂系は光重合性である必要はなく、現像
後に行われる熱処理により硬化するものでもよい。エポ
キシ樹脂系を配合する場合、必要により硬化剤、硬化触
媒が使用される。

【００３０】また、必須成分の一つである光重合開始剤
としては、樹脂形成成分の光重合を開始又は促進するも
のであればよく、光重合開始剤としてはカルボニル化合
物、イオウ化合物、アゾ化合物、トリアジン化合物、有
機過酸化物等を適宜調整して使用することができる。そ
の配合量は公知の範囲から採用できるが、通常０．０１
〜１０重量％である。

【００３１】本発明で用いるコーティング材料には、本
発明の効果を損なわない範囲であれば、他の成分を含有
してもよい。例えば、コーティング特性を向上させる溶
剤や界面活性剤が、熱重合を促進する熱重合開始剤が、
密着性向上のためにはカップリング剤が、光透過性を変
化させるためには顔料が使用できる。その他、本発明の
効果を損なわない範囲であれば、溶剤可溶な樹脂を含有
することができる。

【００３２】溶剤としては、溶解性、コーティング性の
面からエチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
トやプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、シクロヘキサノン、エチルエトキシプロピオネー
ト、酢酸ブチル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、γ-ブチロラクトン等がよく、またこれらの溶剤の
混合物でもよい。

【００３３】また、本発明で用いるコーティング材料に
は、熱重合開始剤を用いることもでき、この場合アクリ
ル樹脂系又は他の熱重合性樹脂成分の熱重合を開始又は
促進するものであればよく、有機アミン化合物、イミダ
ゾール化合物、酸無水物、有機ホスフィン等が挙げられ
るが、保存安定性の面から最も好ましいものは有機アミ
ン化合物やイミダゾール化合物であり、また、これらの
数種類を混合して使用することができる。有機アミンと
しては、ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、イミ
ダゾール化合物としては2メチルイミダゾールが硬化性
と保存安定性の面から好ましい。これらの多くは、エポ
キシ樹脂の硬化剤又は硬化促進剤として作用する成分で
もあるので、エポキシ樹脂が含まれる場合は、硬化剤又
は硬化促進剤ともなるが、本発明では硬化剤は、樹脂形
成成分と、硬化促進剤は熱重合開始剤という。

【００３４】コーティング材の好ましい配合割合は、樹
脂及び樹脂形成成分の合計１００重量部に対し、光重合
開始剤１〜１５重量部、熱重合開始剤０．５〜１０重量
部、溶媒１００〜５００重量部である。

【００３５】コーティング材を調製する方法は特に限定
はないが、樹脂形成成分、光重合開始剤、溶剤、熱重合
開始剤、界面活性剤、カップリング剤等の種類、配合量
を適宜調整した後、ロールミル、ボールミル、サンドミ
ル、プラネタリミキサーなどの分散、混合装置を用い、
５〜７０℃で１〜５０時間程度撹拌混合を行ない、均一
な組成となるように分散させる方法を採用することがで
きる。

【００３６】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。各種の特性の評価は以下の方法で測定した。（１）耐熱性：成膜した塗膜を260℃, 3時間オーブンに
入れ、塗膜の状態を評価した。評価のランクは次の通り
である。 ○：塗膜の外観に異常なし。 ×：塗膜の外観にわれ、剥離、着色あり。（２）基板との密着性：塗膜を塗布した後に、少なくと
も100個の碁盤目を作るようにクロスカットを入れ、次
いでJIS Ｚ1522によるセロハン粘着テープを用いてピ
ーリング試験を行ない、碁盤目の剥離の状態を目視によ
って評価した。評価のランクは次の通りである。 ○：全く剥離が認められないもの。 ×：剥離が少しでも認められるもの。

【００３７】（３）塗膜硬度：JIS-K5400の試験法に準
じた鉛筆硬度試験機を用い、荷重1kgの条件で、塗膜に
キズが付かない鉛筆硬度を塗膜硬度とした。使用した鉛
筆は「三菱ハイユニ（登録商標）」である。評価のラン
クは次の通りである。 ○：４Ｈ以上。 ×：４Ｈ未満。（４）耐薬品性：成膜した塗膜を、下記の薬品に下記の
条件で浸漬し、浸漬後の外観及び密着性を評価した。評価のランクは次の通りである。 ○：塗膜の外観に異常なし。 ×：塗膜の外観にわれ、剥離、着色あり。

【００３８】（５）凹凸段差：表面粗さ計を用いて凹凸
を形成した凸部（膜厚Ｘ）と凹部 (膜厚Ｙ)の膜厚を測
定し、その差（Ｘ−Ｙ）を段差とした。また、凹凸段差
の比は各部の厚さの比（Ｙ／Ｘ）を計算で求めた。ま
た、凹凸段差の頂点間距離は凹凸部の凸部頂点から次の
凸部頂点までの距離を測定した。これを、図１を参照し
て説明すると、凸部Ｘ（塗膜の露光部：膜厚Ｘ）と凹部
Ｙ（未露光部：膜厚Ｙ）の差が段差Ｚとして得られる。
頂点間距離はａ2として得られ、貫通穴下部の直径はｂ2
として得られる。なお、図中、１は基板、２は硬化膜、
３は露光部と非露光部を形成するためのマスク、４は硬
化膜貫通穴（ヴィア穴）であり、ＵＶは紫外線を示す。
また、凹凸段差の平均値及び凹凸段差の比の平均値は、
上記方法によりランダムに測定した凹凸段差１０点の平
均値とした。

【００３９】（６）ヴィア穴径：表面粗さ形を用いてヴ
ィア穴の直径を測定する。ヴィア穴と凹凸頂点間距離の
比（ｂ2/ａ2）を計算で求めた。（７）硬化膜光線透過率：平均膜厚３．０μmの凹凸を
形成しない硬化膜を日立分光透過率計UBEST-400を用い
て、500nmでの透過率を測定した。

【００４０】（コーティング材料の調製）表１に示した
配合割合で、コーティング剤を調製した。

【表１】

【００４１】表中の各成分は次に示すものである。フルオレン酸付加物：前記式１の化合物（新日鐵化学社
製：Ｖ−２５９）多官能アクリレート：ジペンタエリストールヘキサアク
リレートフルオレンエポキシ樹脂：一般式１の化合物光重合開始剤：チバガイギ社製イルガキュア907 溶媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ートシランカップリング剤：γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン熱重合開始剤：ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン

【００４２】実施例１表１に示す光重合開始剤を含み光及び熱によって硬化す
る上記コーティング剤を、脱脂洗浄した厚さ１．１ｍｍ
の平坦なガラス基板上にスピンコーティングで約３．０
μmの厚さに塗布して、８０℃の温度で２分間予備乾燥
した後、凹凸を形成するための石英マスク（クロム蒸着
により６μm間隔の幅６μmの光透過するラインと共に直
径１８μmの不透過する部分をランダムに配置したも
の）を通して５００wの高圧水銀ランプを用いて波長３
６５nmの照度が１０mW/cm²の紫外線を５０秒間照射し
た。その後０．１５％の炭酸ナトリウム水溶液を用い
て、２３℃の温度で８０秒間シャワリングし未露光部分
を溶解させ、次に純水を５kg/cm²の高圧で３０秒間シャ
ワリングし、リンスを行った。次に熱風乾燥機を用いて
２００℃で３０分間加熱乾燥処理を行ない、サンプルを
作成した。

【００４３】このサンプルの凹凸部段差の平均は１．２
μmであり、露光部（膜厚Ｘ）と未露光部の膜厚(膜厚
Ｙ)の比率の平均は（Ｙ／Ｘ）が０．４８となった。ま
た、ヴィア穴径は１０μｍであり頂点間距離とヴィア穴
径の比（ｂ2／ａ2）が０．６となった。そして凹凸基板
について、上記各種試験（耐熱性、密着性、硬度、耐薬
品性）を行ったところ、いずれも優れた結果（〇）であ
った。

【００４４】

【発明の効果】本発明によれば、硬化膜表面に微細な凹
凸形状を有すると伴に、硬化膜の任意の位置に硬化膜を
貫通する穴を同時に形成することができ産業上の有用性
が極めて高いものである。そして、この貫通穴は、ヴィ
ア穴として利用することができることから、本発明の製
造方法により得られた基板は、電機、電子分野を始めと
する微細な表面凹凸形状が必要とされる用途に広く使用
することができる。特に、反射板、ＴＦＴ上の反射膜等
に適している。

【図面の簡単な説明】

【図１】マスク及び凹凸段差を有する基板の断面図

【符号の説明】

１基材２硬化膜３マスク４貫通穴

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ０５Ｄ 7/24 ３０２Ｂ０５Ｄ 7/24 ３０２Ｌ３０２Ｕ (72)発明者北村健一千葉県木更津市築地１番地新日鐵化学株式会社電子材料研究所内Ｆターム(参考） 2H025 AB20 AC01 AD01 BC14 BC32 BC42 BC74 CA01 CA18 CA23 CA28 CA30 FA03 FA17 FA29 4D075 AD05 BB42 BB46 CB21 DA06 DB13 DC21 EB16 EB22 EC37

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】平坦な基板上に表面凹凸形状を有する硬
化膜を形成する方法において、光重合性モノマー、オリ
ゴマー及びポリマーからなる群から選択される少なくと
も１種の光重合性成分と光重合開始剤を必須成分として
含有するコーティング材を膜厚０.５μm以上で塗布し、
凹凸形状形成用の光透過部と光遮断部とを有し、且つ、
貫通穴形成用の光遮断部を有するマスクを介して紫外線
を照射後、現像、熱処理を行うことにより、硬化膜表面
に膜厚の凹凸段差が凸部の膜厚の５〜９０％で０．０５
〜３μｍの範囲である凹凸形状と、硬化膜の所定の位置
に少なくとも1つの硬化膜貫通穴とを同時に形成するこ
とを特徴とする表面凹凸形状を有する基板の製造方法。
【請求項２】マスクが凹凸形状形成のためのパターン
を有すると共に硬化膜貫通穴形成のためのパターンを有
し、貫通穴形成用の光遮断部の径（ｂ1）が、凹凸形状
形成のためのパターン幅（ａ1）よりも大きい請求項１
記載の表面凹凸形状を有する基板の製造方法。
【請求項３】凹凸形状の頂点間距離（ａ2）に対し
て、貫通穴下部の径（ｂ2）の比（ｂ2／ａ2）が０．３
〜５の範囲にある表面凹凸形状を有する請求項１記載の
表面凹凸形状を有する基板の製造方法。
【請求項４】紫外線照射が、光透過部と光遮蔽部を有
するマスクを介して３００〜４５０nmの紫外線を５０〜
１００００mJ/cm²照射して行われ、その後の現像が、ｐ
Ｈ１０〜１４のアルカリ水溶液による現像と純水による
洗浄により行われる請求項１〜３のいずれかに記載の表
面凹凸形状を有する基板の製造方法。
【請求項５】コーティング材中の光重合性成分が、フ
ルオレン骨格に不飽和基を有する置換基が２つ以上置換
したモノマー及びオリゴマーからなる群から選択される
少なくとも１種のフルオレン骨格を有する光重合性成分
である請求項１記載の表面凹凸形状を有する基板の製造
方法。
【請求項６】フルオレン骨格を有する光重合性成分
が、9,9-ビス（フェノール）フルオレンをエポキシ化し
て得られるフルオレンエポキシ樹脂、該フルオレンエポ
キシ樹脂に（メタ）アクリル酸又はそのアルキルエステ
ルを反応させて得られるフルオレンアクリレート及び該
フルオレンアクリレートに多塩基酸の酸無水物を反応さ
せて得られるフルオレン酸付加物からなる群から選択さ
れる少なくとも１種のフルオレン骨格を有する光重合性
成分であり、その割合がフルオレンエポキシ樹脂１重量
部に対し、フルオレンアクリレート０．５〜５重量部、
フルオレン酸付加物０〜５重量部であり、光重合性成分
中のフルオレン骨格を有する光重合性成分が５０重量％
以上である請求項５記載の表面に表面凹凸形状を有する
基板の製造方法。
【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載の基板の
製造方法によって製造された表面凹凸形状を有する基
板。