TW201407209A - 偏光板及有機ｅｌ面板 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種視角特性優異且抑制顯示特性之變化之偏光板。本發明之偏光板係用於有機EL面板，具備偏光元件10、第1相位差層30、及第2相位差層40。第1相位差層30顯示出nx＞ny≧nz之折射率特性，滿足Re(450)＜Re(550)之關係，其吸水率為3%以下。第2相位差層40顯示出nz＞nx≧ny之折射率特性。第1相位差層30與第2相位差層40之積層體之Re(550)為120 nm~160 nm，Rth(550)為40 nm~100 nm。

Description

偏光板及有機EL面板
本發明係關於一種偏光板及有機EL面板。
近年來，隨著薄型顯示器之普及，提出有搭載有機EL面板之顯示器。已知有機EL面板具有反射性較高之金屬層，因此容易產生外部光反射或背景之映入等問題。因此，藉由將圓偏光板設置於視認側而防止該等問題。作為通常之圓偏光板，已知有將以環烯烴(COP)系樹脂膜為代表之相位差膜(代表性的是λ/4板)以其遲相軸相對於偏光元件之吸收軸成為約45°之角度之方式積層而成者。已知COP系樹脂之相位差膜具有相位差值不依存於測定光之波長而大致固定即所謂之平緩之波長分散特性。於將包含此種具有平緩之波長分散特性之相位差膜的圓偏光板用於有機EL面板之情形時，有無法獲得優異之反射色相之問題。
為了解決如上所述之問題，而提出有包含具有相位差值隨測定光之波長而增大即所謂之逆分散之波長依存性(逆分散波長特性)之相位差膜的圓偏光板(例如專利文獻1)。於將此種圓偏光板用於有機EL面板之情形時，正面方向上之外部光反射及反射色相得以大幅度改善。但是，於自斜向觀察面板之情形時，獲得與正面方向之色相不同之色相，該色相差會成為較大問題。又，亦確認到面板之顯示特性經時性地變化之問題。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第3325560號公報
本發明係為了解決上述先前之課題而完成者，其主要目的在於提供一種視角特性優異且抑制顯示特性之變化之偏光板。
本發明之偏光板係用於有機EL面板，具備偏光元件、第1相位差層、及第2相位差層，該第1相位差層顯示出nx>ny≧nz之折射率特性，滿足Re(450)<Re(550)之關係，該第2相位差層顯示出nz>nx≧ny之折射率特性，該第1相位差層與該第2相位差層之積層體之Re(550)為120nm~160nm，Rth(550)為40nm~100nm，該第1相位差層之吸水率為3%以下。
於較佳之實施形態中，於上述偏光元件與上述第1相位差層或上述第2相位差層之間不含光學各向異性層。
於較佳之實施形態中，上述第1相位差層由含有源自下述通式(1)所表示之二羥基化合物之結構單元之聚碳酸酯樹脂所形成。
(上述通式(1)中，R1~R4分別獨立地表示氫原子、經取代或未經 取代之碳數1~碳數20之烷基、經取代或未經取代之碳數6~碳數20之環烷基、或者經取代或未經取代之碳數6~碳數20之芳基，X表示經取代或未經取代之碳數2~碳數10之伸烷基、經取代或未經取代之碳數6~碳數20之伸環烷基、或者經取代或未經取代之碳數6~碳數20之伸芳基，m及n分別獨立為0~5之整數)
於較佳之實施形態中，上述第1相位差層由含有源自下述通式(2)所表示之二羥基化合物之結構單元之聚碳酸酯樹脂所形成。
於較佳之實施形態中，上述第1相位差層由含有源自下述通式(5)所表示之二羥基化合物之結構單元之聚碳酸酯樹脂所形成。
[化3]H-(O-R7)p-OH (5)
(上述通式(5)中，R7表示經取代或未經取代之碳數2~碳數10之伸烷基，p為2至100之整數)
於較佳之實施形態中，上述第1相位差層為進行斜向延伸而獲得之相位差膜。
根據本發明之另一態樣，可提供一種有機EL面板。該有機EL面板具備上述偏光板。
根據本發明，藉由使用滿足上述之光學特性及吸水率之第1相位差層與第2相位差層，可提高視角特性且可抑制顯示特性之變化。
10‧‧‧偏光元件
20‧‧‧保護膜
21‧‧‧第1保護膜
22‧‧‧第2保護膜
30‧‧‧第1相位差層
40‧‧‧第2相位差層
100‧‧‧偏光板
100'‧‧‧偏光板
圖1(a)係本發明之較佳之實施形態之偏光板的概略剖面圖，圖1(b)係本發明之另一較佳之實施形態之偏光板的概略剖面圖。
以下，對本發明之較佳之實施形態進行說明，但本發明並不限定於該等實施形態。
(用語及符號之定義)
本說明書中之用語及符號之定義如下所述。
(1)折射率(nx、ny、nz)
「nx」為面內之折射率成為最大之方向(即，遲相軸方向)之折射率，「ny」為於面內與遲相軸正交之方向(即，進相軸方向)之折射率，「nz」為厚度方向之折射率。
(2)面內相位差(Re)
「Re(550)」為23℃下利用波長550nm之光測定之面內相位差。關於Re(550)，於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，可根據式：Re=(nx-ny)×d而求出。再者，「Re(450)」為23℃下利用波長450nm之光測定之面內相位差。
(3)厚度方向之相位差(Rth)
「Rth(550)」為23℃下利用波長550nm之光測定之厚度方向之相位差。關於Rth(550)，於將層(膜)之厚度設為d(nm)時，可根據式：Rth=(nx-nz)×d而求出。再者，「Rth(450)」為23℃下利用波長450nm之光測定之厚度方向之相位差。
(4)Nz係數
Nz係數可藉由Nz=Rth/Re而求出。
A.偏光板
本發明之偏光板具備偏光元件、第1相位差層、及第2相位差層，於偏光元件之單側積層有第1相位差層及第2相位差層。較佳為偏光板於偏光元件與第1相位差層或第2相位差層之間不含光學各向異性層(例如，液晶層或相位差膜)。以下，對具體例進行說明。
圖1(a)係本發明之較佳之實施形態之偏光板的概略剖面圖。本實施形態之偏光板100具備偏光元件10、配置於偏光元件10之單側之保護膜20、及配置於偏光元件10之另一側之第1相位差層30及第2相位差層40。於圖示例中，以使第1相位差層30成為較第2相位差層40更靠偏光元件10側之方式進行配置，但亦可將第2相位差層40配置於偏光元件10側。於本實施形態中，第1相位差層30(第2相位差層40)亦可作為偏光元件10之保護層而發揮功能。又，如此藉由將偏光元件與第1相位差層(第2相位差層)直接貼合，可達成更優異之反射色相(尤其是視角特性)，抑制顯示特性之變化。
圖1(b)係本發明之另一較佳之實施形態之偏光板的概略剖面圖。偏光板100'具備偏光元件10、配置於偏光元件10之單側之第1保護膜21、配置於偏光元件10之另一側之第1相位差層30及第2相位差層40、及配置於偏光元件10與第1相位差層30之間之第2保護膜22。較佳為第2保護膜22為光學各向同性。藉由使第2保護膜為光學各向同性，可達成更優異之反射色相(尤其是視角特性)。再者，於圖示例中，以使第1相位差層30成為較第2相位差層40更靠偏光元件10側之方式進行配置，但亦可將第2相位差層40配置於偏光元件10側。
第1相位差層30之折射率特性顯示出nx>ny≧nz之關係，具有遲相軸。偏光元件10與第1相位差層30係以使偏光元件10之吸收軸與第1相位差層30之遲相軸成為特定之角度之方式積層。偏光元件10之吸收 軸與第1相位差層30之遲相軸所成之角度θ較佳為滿足35°≦θ≦55°之關係，更佳為38°≦θ≦52°，進而較佳為39°≦θ≦51°。若不在上述範圍內，則正面反射率上升，無法充分獲得偏光板之抗反射功能。
A-1.偏光元件
作為上述偏光元件，可採用任意適當之偏光元件。作為具體例，可列舉：對聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施利用碘或二色性染料等二色性物質之染色處理及延伸處理而成者，聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。就光學特性優異而言，較佳為使用將聚乙烯醇系膜利用碘進行染色並進行單軸延伸而獲得之偏光元件。
上述利用碘之染色例如可藉由將聚乙烯醇系膜浸漬於碘水溶液而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3~7倍。延伸可於染色處理後進行，亦可一面染色一面進行。又，亦可延伸後進行染色。視需要對聚乙烯醇系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如於染色之前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中進行水洗，藉此不僅可將聚乙烯醇系膜表面之污垢或抗黏連劑洗淨，而且可使聚乙烯醇系膜膨潤而防止染色不均等。
偏光元件之厚度代表性的是1μm~80μm左右。
A-2.第1相位差層
上述第1相位差層如上所述折射率特性顯示出nx>ny≧nz之關係。第1相位差層之面內相位差Re(550)較佳為80nm~200nm，更佳為100nm~180nm，進而較佳為110nm~170nm。
第1相位差層顯示出所謂之逆分散之波長依存性。具體而言，其面內相位差滿足Re(450)<Re(550)之關係。藉由滿足此種關係，可達成優異之反射色相。Re(450)/Re(550)較佳為0.8以上且未達1，更佳為 0.8以上且0.95以下。
第1相位差層之Nz係數較佳為1~3，更佳為1~2.5，進而較佳為1~1.5，尤佳為1~1.3。藉由滿足此種關係，可達成更優異之反射色相。
第1相位差層之吸水率為3%以下，較佳為2.5%以下，更佳為2%以下。藉由滿足此種吸水率，可抑制顯示特性之經時變化。再者，吸水率可依據JIS K 7209而求出。
第1相位差層代表性的是由任意適當之樹脂形成之相位差膜。作為形成該相位差膜之樹脂，較佳為使用聚碳酸酯樹脂。
於較佳之實施形態中，上述聚碳酸酯樹脂含有源自下述通式(1)所表示之二羥基化合物之結構單元，源自下述通式(2)所表示之二羥基化合物之結構單元，及源自選自由下述通式(3)所表示之二羥基化合物、下述通式(4)所表示之二羥基化合物、下述通式(5)所表示之二羥基化合物及下述通式(6)所表示之二羥基化合物所組成之群中之一種以上之二羥基化合物的結構單元。
(上述通式(1)中，R1~R4分別獨立地表示氫原子、經取代或未經取代之碳數1~碳數20之烷基、經取代或未經取代之碳數6~碳數20之環烷基、或者經取代或未經取代之碳數6~碳數20之芳基，X表示經 取代或未經取代之碳數2~碳數10之伸烷基、經取代或未經取代之碳數6~碳數20之伸環烷基、或者經取代或未經取代之碳數6~碳數20之伸芳基，m及n分別獨立為0~5之整數)
[化6]HO-R5-OH (3)
(上述通式(3)中，R5表示碳數4至碳數20之經取代或未經取代之單環結構之伸環烷基)
[化7]HO-CH2-R6-CH2-OH (4)
(上述通式(4)中，R6表示碳數4至碳數20之經取代或未經取代之單環結構之伸環烷基)
[化8]H-(O-R7)p-OH (5)
(上述通式(5)中，R7表示經取代或未經取代之碳數2~碳數10之伸烷基，p為2至100之整數)
[化9]HO-R11-OH (6)
(上述通式(6)中，R11表示碳數2至碳數20之烷基或下述式(7)所表示之基)
<上述通式(1)所表示之二羥基化合物>
作為上述通式(1)所表示之二羥基化合物，具體而言，可例示：9,9-雙(4-羥基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-乙基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-正丙基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-異丙基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-正丁基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-第二丁基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-第三丙基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-環己基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-苯基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-異丙基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-異丁基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-第三丁基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-環己基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-苯基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3,5-二甲基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧 基)-3-第三丁基-6-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-(3-羥基-2,2-二甲基丙氧基)苯基)茀等，較佳為9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-甲基苯基)茀，尤佳為9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)苯基)茀。
<上述通式(2)所表示之二羥基化合物>
作為上述通式(2)所表示之二羥基化合物，例如可列舉處於立體異構物之關係之異山梨糖醇(Isosorbide)、異甘露糖醇(1,4：3,6-雙脫水甘露糖醇)(Isomannide)及Isoidide(1,4：3,6-雙脫水艾杜糖醇)。該等可單獨使用1種，亦可組合2種以上而使用。該等二羥基化合物之中，就獲取及製造之容易性、光學特性、成形性之方面而言，最佳為可使由資源豐富存在且可容易地獲取之各種澱粉製造之山梨糖醇進行脫水縮合而獲得之異山梨糖醇。
<上述通式(3)所表示之二羥基化合物>
作為上述通式(3)所表示之二羥基化合物，可列舉含有單環結構之伸環烷基之化合物(脂環式二羥基化合物)。藉由形成單環結構，可改良將所獲得之聚碳酸酯樹脂製成膜時之韌性。作為脂環式二羥基化合物之代表例，可列舉含有5員環結構或6員環結構之化合物。藉由為5員環結構或6員環結構，可提高所獲得之聚碳酸酯樹脂之耐熱性。6員環結構亦可利用共價鍵而固定為椅式或船式。具體而言，可列舉：1,2-環戊二醇、1,3-環戊二醇、1,2-環己二醇、1,3-環己二醇、1,4-環己二醇、2-甲基-1,4-環己二醇等。通式(3)所表示之二羥基化合物可單獨使用，亦可組合2種以上而使用。
<上述通式(4)所表示之二羥基化合物>
作為上述通式(4)所表示之二羥基化合物，可列舉含有單環結構之伸環烷基之化合物(脂環式二羥基化合物)。藉由形成單環結構，可改良將所獲得之聚碳酸酯樹脂製成膜時之韌性。作為脂環式二羥基化 合物之代表例，可列舉上述通式(4)中之R6以下述通式(Ia)(式中，R3表示氫原子、或者經取代或未經取代之碳數1~碳數12之烷基)表示之各種異構物。作為此種異構物之較佳之具體例，可列舉：1,2-環己烷二甲醇、1,3-環己烷二甲醇、1,4-環己烷二甲醇等。該等容易獲取且操作性優異。通式(4)所表示之二羥基化合物可單獨使用，亦可組合2種以上而使用。
再者，上述關於通式(3)及(4)所表示之二羥基化合物所例示之化合物為可使用之脂環式二羥基化合物之一例，並不受該等任何限定。
<上述通式(5)所表示之二羥基化合物>
作為上述通式(5)所表示之二羥基化合物，具體而言，可列舉：二乙二醇、三乙二醇、聚乙二醇(分子量150~2000)等。
<上述通式(6)所表示之二羥基化合物>
作為上述通式(6)所表示之二羥基化合物，具體而言，可列舉：乙二醇、丙二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇或下述式(8)所表示之螺二醇等，其中較佳為丙二醇、1,4-丁二醇、螺二醇。
源自上述通式(3)所表示之二羥基化合物之結構單元、源自上述通式(4)所表示之二羥基化合物之結構單元、源自上述通式(5)所表示之二羥基化合物之結構單元及源自上述通式(6)所表示之二羥基化合物之結構單元中，較佳為含有源自上述通式(4)所表示之二羥基化合物之結構單元及/或源自上述通式(5)所表示之二羥基化合物之結構單元，更佳為含有源自上述通式(5)所表示之二羥基化合物之結構單元。藉由含有源自上述通式(5)所表示之二羥基化合物之結構單元，可實現延伸性之提高。
本實施形態之聚碳酸酯樹脂亦可進而含有源自其他二羥基化合物之結構單元。
<其他二羥基化合物>
作為其他二羥基化合物，例如可列舉雙酚類等。作為雙酚類，例如可列舉：2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷[=雙酚A]、2,2-雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3,5-二乙基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-(3,5-二苯基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3,5-二溴苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基苯基)戊烷、2,4'-二羥基-二苯基甲烷、雙(4-羥基苯基)甲烷、雙(4-羥基-5-硝基苯基)甲烷、1,1-雙(4-羥基苯基)乙烷、3,3-雙(4-羥基苯基)戊烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷、雙(4-羥基苯基)碸、2,4'-二羥基二苯基碸、雙(4-羥基苯基)硫醚、4,4'-二羥基二苯醚、4,4'-二羥基-3,3'-二氯二苯醚、4,4'-二羥基-2,5-二乙氧基二苯醚等。
上述聚碳酸酯樹脂中，源自上述通式(1)所表示之二羥基化合物之結構單元為18莫耳%以上，較佳為20莫耳%以上，進而較佳為25莫耳%以上。若該結構單元過少，則有無法獲得逆分散之波長依存性之情況。
源自選自由上述通式(3)所表示之二羥基化合物、上述通式(4)所 表示之二羥基化合物、上述通式(5)所表示之二羥基化合物及上述通式(6)所表示之二羥基化合物所組成之群中之一種以上之二羥基化合物的結構單元於上述聚碳酸酯樹脂中較佳為25莫耳%以上，更佳為30莫耳%以上，進而較佳為35莫耳%以上。若該結構單元過少，則有製成膜時之韌性不足之情況。
上述聚碳酸酯樹脂之玻璃轉移溫度較佳為110℃以上且150℃以下，更佳為120℃以上且140℃以下。若玻璃轉移溫度過低，則有耐熱性變差之傾向，有於膜成形後引起尺寸變化之可能性，又，有使所獲得之有機EL面板之圖像品質下降之情況。若玻璃轉移溫度過高，則有膜成形時之成形穩定性變差之情況，又，有使膜之透明性受損之情況。再者，玻璃轉移溫度可依據JIS K 7121(1987)而求出。
上述聚碳酸酯樹脂之分子量可以還原黏度來表示。還原黏度係使用二氯甲烷作為溶劑，將聚碳酸酯濃度精確地製備成0.6g/dL，於溫度20.0℃±0.1℃下使用烏式黏度管而測定。還原黏度之下限通常較佳為0.30dL/g，更佳為0.35dL/g以上。還原黏度之上限通常較佳為1.20dL/g，更佳為1.00dL/g，進而較佳為0.80dL/g。若還原黏度小於上述下限值，則有產生成形品之機械強度變小之問題之情況。另一方面，若還原黏度大於上述上限值，則有產生成形時之流動性降低，生產性或成形性降低之問題之情況。
相位差膜代表性的是藉由將樹脂膜沿至少一方向上延伸而製作。
作為上述樹脂膜之形成方法，可採用任意適當之方法。例如可列舉：熔融擠出法(例如，T型模頭成形法)、澆鑄塗敷法(例如，流延法)、壓延成形法、熱壓法、共擠出法、共熔融法、多層擠出、吹出成形法等。較佳為使用T型模頭成形法、流延法及吹出成形法。
樹脂膜(未延伸膜)之厚度可根據所需之光學特性、後述之延伸條 件等而設定為任意適當之值。較佳為50μm~300μm。
上述延伸可採用任意適當之延伸方法、延伸條件(例如，延伸溫度、延伸倍率、延伸方向)。具體而言，可單獨使用亦可同時或逐次使用自由端延伸、固定端延伸、自由端收縮、固定端收縮等各種延伸方法。關於延伸方向，可沿水平方向、垂直方向、厚度方向、對角方向等各種方向或維度而進行。延伸之溫度相對於樹脂膜之玻璃轉移溫度(Tg)，較佳為Tg-30℃~Tg+60℃，更佳為Tg-10℃~Tg+50℃。
藉由適當選擇上述延伸方法、延伸條件，可獲得具有上述所需之光學特性(例如，折射率特性、面內相位差、Nz係數)之相位差膜。
於一實施形態中，相位差膜係藉由對樹脂膜進行單軸延伸或固定端單軸延伸而製作。作為固定端單軸延伸之具體例，可列舉使樹脂膜一面沿長度方向移行一面沿寬度方向(橫向)延伸之方法。延伸倍率較佳為1.1倍~3.5倍。
於另一實施形態中，相位差膜係藉由將長條狀之樹脂膜沿相對於長度方向為角度θ之方向連續地進行斜向延伸而製作。藉由採用斜向延伸，可獲得具有相對於膜之長度方向為角度θ之配向角(於角度θ之方向上具有遲相軸)之長條狀之延伸膜，例如於與偏光元件之積層時可利用卷對卷，可將製造步驟簡化。
作為斜向延伸中所使用之延伸機，例如可列舉：可沿橫向及/或縱向附加左右不同之速度之進給力或拉伸力或拉取力之拉幅式延伸機。拉幅式延伸機有橫向單軸延伸機、同時雙軸延伸機等，只要可對長條狀之樹脂膜連續地進行斜向延伸，則可使用任意適當之延伸機。
相位差膜(延伸膜)之厚度較佳為20μm~100μm，更佳為30μm~80μm，進而較佳為30μm~65μm。
A-3.第2相位差層
上述第2相位差層40如上所述折射率特性顯示出nz>nx≧ny之關係。第2相位差層之厚度方向之相位差Rth(550)較佳為-260nm~-10nm，更佳為-230nm~-15nm，進而較佳為-215nm~-20nm。
於一實施形態中，第2相位差層之折射率顯示出nx=ny之關係。此處，「nx=ny」不僅包含nx與ny嚴格相等之情形，而且包含nx與ny實質上相等之情形。具體而言，係指Re(550)未達10nm。於另一實施形態中，第2相位差層之折射率顯示出nx>ny之關係。於此情形時，第2相位差層之面內相位差Re(550)較佳為10~150，更佳為10~80。
上述第2相位差層可由任意適當之材料形成。較佳為固定為垂直配向之液晶層。可進行垂直配向之液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體，亦可為液晶聚合物。作為該液晶化合物及該液晶層之形成方法之具體例，可列舉日本專利特開2002-333642號公報之[0020]~[0042]中所記載之液晶化合物及形成方法。於此情形時，厚度較佳為0.1μm~5μm，更佳為0.2μm~3μm。
作為另一較佳之具體例，第2相位差層亦可為日本專利特開2012-32784號公報中所記載之由反丁烯二酸二酯系樹脂形成之相位差膜。於此情形時，厚度較佳為5μm~50μm，更佳為10μm~35μm。
A-4.積層體
上述第1相位差層與第2相位差層之積層體之面內相位差Re(550)為120nm~160nm，較佳為130nm~150nm。該積層體之厚度方向之相位差Rth(550)為40nm~100nm，較佳為60nm~80nm。藉由如此設定積層體之光學特性，可提高視角特性，抑制顯示特性之變化。再者，積層體可藉由將第1相位差層與第2相位差層經由任意適當之黏著劑層或接著劑層積層而獲得。
A-5.保護膜
上述保護膜可由可用作偏光元件之保護層之任意適當之膜形 成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例，可列舉：三乙酸纖維素(TAC)等纖維素系樹脂，或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等之透明樹脂等。又，亦可列舉：(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等之熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。此外，例如亦可列舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜。作為該膜之材料，例如可使用含有側鏈上具有經取代或未經取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂、及側鏈上具有經取代或未經取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物，例如可列舉含有包含異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物、及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，Tg(玻璃轉移溫度)較佳為115℃以上，更佳為120℃以上，進而較佳為125℃以上，尤佳為130℃以上。其原因在於可使耐久性優異。上述(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之上限值並無特別限定，但就成形性等觀點而言，較佳為170℃以下。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，於無損本發明之效果之範圍內，可採用任意適當之(甲基)丙烯酸系樹脂。例如可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降基酯共聚物等)。可較佳地列舉聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯。可更佳地列舉以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50~100重量%，較佳為70~100重量 %)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例，例如可列舉：三菱麗陽(Mitsubishi Rayon)公司製造之ACRYPET VH或ACRYPET VRL20A、日本專利特開2004-70296號公報中所記載之分子內具有環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂、藉由分子內交聯或分子內環化反應而獲得之高Tg(甲基)丙烯酸系樹脂。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，就具有較高之耐熱性、較高之透明性、較高之機械強度之方面而言，尤佳為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。
作為上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，可列舉：日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特開2001-151814號公報、日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特開2005-146084號公報等中所記載的具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。
上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之質量平均分子量(亦有稱為重量平均分子量之情況)較佳為1000~2000000，更佳為5000~1000000，進而較佳為10000~500000，尤佳為50000~500000。
上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg(玻璃轉移溫度)較佳為115℃以上，更佳為125℃以上，進而較佳為130℃以上，尤佳為135℃，最佳為140℃以上。其原因在於可使耐久性優異。上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之上限值並無特別限定，但就成形性等觀點而言，較佳為170℃以下。
再者，於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸系」，係指丙烯酸系及/或甲基丙烯酸系。
對相對於偏光元件配置於與各相位差層相反側之保護膜20(第1保 護膜21)亦可視需要實施硬塗處理、抗反射處理、抗黏處理、防眩處理等表面處理。保護膜(第1保護膜)之厚度代表性的是5mm以下，較佳為1mm以下，更佳為1μm~500μm，進而較佳為5μm~150μm。
配置於偏光元件10與第1相位差層30之間之第2保護膜22如上所述較佳為光學各向同性。於本說明書中，所謂「為光學各向同性」，係指面內相位差Re(550)為0nm~10nm，厚度方向之相位差Rth(550)為-10nm~+10nm。又，上述光學各向異性層係指例如面內相位差Re(550)超過10nm及/或厚度方向之相位差Rth(550)未達-10nm或超過10nm之層。
第2保護膜之厚度較佳為5μm~200μm，更佳為10μm~100μm，進而較佳為15μm~95μm。
A-6.其他
於構成本發明之偏光板之各層之積層時，可使用任意適當之黏著劑層或接著劑層。黏著劑層代表性的是由丙烯酸系黏著劑形成。接著劑層代表性的是由聚乙烯醇系接著劑形成。
雖未圖示，但亦可於偏光板100、100'之第2相位差層40側設置黏著劑層。藉由預先設置黏著劑層，可容易地貼合於其他光學構件(例如，有機EL面板)。再者，較佳為於供於使用之前於該黏著劑層之表面貼合剝離膜。
B.製造方法
作為上述偏光板之製造方法，可採用任意適當之方法。於一較佳之實施形態中，係藉由包括如下步驟之方法而製造：將長條狀且於長度方向上具有吸收軸之偏光元件及長條狀之第1或第2相位差層分別一面沿長度方向搬送一面以使偏光元件之長度方向與相位差層之長度方向對齊之方式進行積層而獲得積層膜的步驟、及將該積層膜及長條狀之第2或第1相位差層分別一面沿長度方向搬送一面以使積層膜之長 度方向與相位差層之長度方向對齊之方式進行積層的步驟。再者，亦可藉由將長條狀之第1相位差層與長條狀之第2相位差層積層而製作積層相位差膜，將該積層相位差膜與長條狀之偏光元件積層而製造。此處，偏光元件10之吸收軸與第1相位差層30之遲相軸所成之角度θ如上所述較佳為滿足35°≦θ≦55°之關係，更佳為38°≦θ≦52°，進而較佳為39°≦θ≦51°。
上述長條狀之第1相位差層於相對於其長度方向為角度θ之方向上具有遲相軸。根據此種構成，如上所述，於偏光板之製造中可利用卷對卷，可顯著縮短製造步驟。
C.有機EL面板
本發明之有機EL面板於其視認側具備上述偏光板。偏光板係以使各相位差層成為有機EL面板側之方式(以使偏光元件成為視認側之方式)進行積層。
[實施例]
以下，藉由實施例具體地說明本發明，但本發明並不限定於該等實施例。再者，各特性之測定方法如下所述。
(1)厚度
使用針盤量規(dial gauge)(PEACOCK公司製造，製品名「DG-205」，針盤量規支架(dial gauge stand)(製品名「pds-2」))進行測定。
(2)相位差
自各相位差層切取50mm×50mm之樣品，使用測定樣品、及Axometrics公司製造之Axoscan進行測定。測定波長為450nm、550nm，測定溫度為23℃。
又，使用Atago公司製造之阿貝折射率計測定平均折射率，根據所獲得之相位差值算出折射率nx、ny、nz。
(3)利用環境試驗獲得之相位差變動
自相位差膜切取50mm×50mm之樣品，藉由Axoscan測定相位差。其後，將樣品於40℃、90%RH之恆溫恆濕機中靜置100小時後，測定相位差，求出環境試驗前後之相位差之差，藉此進行評價。
(4)吸水率
依據JIS K 7209中所記載之「塑膠之吸水率及沸騰吸水率試驗方法」進行測定。試片之大小為邊長50mm之正方形，於水溫25℃之水中使試片浸水24小時後，測定浸水前後之重量變化，藉此而求出。單位為%。
(5)反射色相
使所獲得之有機EL面板顯示黑圖像，使用Auoronic-MERCHERS公司製造之視角測定評價裝置Conoscope測定反射色相。
[實施例1] (聚碳酸酯樹脂膜之製作)
將異山梨糖醇(ISB)37.5質量份、9,9-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]茀(BHEPF)91.5質量份、平均分子量400之聚乙二醇(PEG)8.4質量份、碳酸二苯酯(DPC)105.7質量份、及作為觸媒之碳酸銫(0.2質量%水溶液)0.594質量份分別投入至反應容器中，於氮氣環境下，作為反應之第1階段之步驟，使反應容器之熱媒溫度成為150℃，視需要一面攪拌一面使原料溶解(約15分鐘)。
其次，使反應容器內之壓力自常壓變為13.3kPa，一面使反應容器之熱媒溫度以1小時上升至190℃，一面將所產生之苯酚抽出至反應容器外。
使反應容器內溫度於190℃下保持15分鐘後，作為第2階段之步驟，將反應容器內之壓力設為6.67kPa，使反應容器之熱媒溫度以15分鐘上升至230℃，將所產生之苯酚抽出至反應容器外。由於攪拌機之攪拌轉矩逐步上升，故而以8分鐘升溫至250℃，進而為了將所產生 之苯酚去除，而將反應容器內之壓力減壓至0.200kPa以下。達到特定之攪拌轉矩後，結束反應，將所生成之反應物擠出至水中後，進行顆粒化，以BHEPF/ISB/PEG=42.9莫耳%/52.8莫耳%/4.3莫耳%之比率獲得含有源自二羥基化合物之結構單元之聚碳酸酯樹脂A。
所獲得之聚碳酸酯樹脂A之玻璃轉移溫度為126℃，還原黏度為0.372dL/g。
將所獲得之聚碳酸酯樹脂A於80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠出機(五十鈴化工機公司製造，螺桿直徑25mm，料缸設定溫度：220℃)、T型模頭(寬度300mm，設定溫度：220℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之膜製膜裝置，製作長度3m、寬度300mm、厚度120μm之聚碳酸酯樹脂膜。
所獲得之聚碳酸酯樹脂膜之吸水率為1.2%。
(第1相位差層之製作)
將所獲得之聚碳酸酯樹脂膜切成長度300mm、寬度300mm，使用Labo Stretching KARO IV(Bruckner公司製造)，於溫度136℃、倍率2倍下進行縱向延伸，獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為141nm，Rth(550)為141nm(nx：1.5969，ny：1.5942，nz：1.5942)，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
將下述化學式(I)(式中之數字65及35係表示單體單元之莫耳%，方便起見以嵌段聚合物體表示：重量平均分子量5000)所表示之側鏈型液晶聚合物20重量份、顯示出向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製造：商品名PaliocolorLC242)80重量份及光聚合起始劑(Ciba Specialty Chemicals公司製造：商品名Irgacure 907)5重量份溶解於環 戊酮200重量份中而製備液晶塗敷液。然後，藉由棒式塗佈機將該塗敷液塗敷於基材膜(降烯系樹脂膜：日本ZEON股份有限公司製造，商品名「ZEONEX」)上後，於80℃下加熱乾燥4分鐘，藉此使液晶配向。對該液晶層照射紫外線，使液晶層硬化，藉此於基材上形成成為第2相位差層之液晶固化層(厚度：0.58μm)。該層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-71nm(nx：1.5326，ny：1.5326，nz：1.6550)，顯示出nz>nx=ny之折射率特性。
(積層體之製作)
於上述相位差膜(第1相位差層)上經由丙烯酸系黏著劑貼合上述液晶固化層(第2相位差層)後，將上述基材膜去除，獲得相位差膜上轉印有液晶固化層之積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為141nm，Rth(550)為70nm。
(偏光元件之製作)
將聚乙烯醇膜於含有碘之水溶液中進行染色後，於含有硼酸之水溶液中於速比不同之輥間單軸延伸成6倍而獲得偏光元件。
(偏光板之製作)
於上述偏光元件之一側經由聚乙烯醇系接著劑貼合三乙酸纖維素膜(厚度40μm，Konica Minolta公司製造，商品名「KC4UYW」)。 於偏光元件之另一側經由聚乙烯醇系接著劑貼合上述相位差膜。此處，以使相位差膜之遲相軸相對於偏光元件之吸收軸沿逆時針方向成為45°之方式進行貼合。其次，於相位差膜側經由丙烯酸系黏著劑貼合上述液晶固化層後，將上述基材膜去除而獲得偏光板。
(有機EL面板之製作)
於所獲得之偏光板之液晶固化層(第2相位差層)側以丙烯酸系黏著劑形成黏著劑層，切成尺寸50mm×50mm。
自有機EL顯示器(LG公司製造，製品名「15EL9500」)中取出有機EL面板，將貼附於該有機EL面板之偏光膜剝離，取而代之，貼合所切取之偏光板而獲得有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。再者，表1中，「視角特性」係表示CIE表色系統之xy色度圖上的正面方向之反射色相與斜向之反射色相(極角45°下之最大值或最小值)之2點間距離△xy。又，「正面色相之變化△xy」及「斜向色相之變化△xy」係表示環境試驗投入前後之反射色相之變化。
[實施例2]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.85倍，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為120nm，Rth(550)為120nm(nx：1.5967，ny：1.5944，nz：1.5944)，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：0.66μm，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-80nm(nx：1.5339，ny：1.5339，nz：1.6551)，顯示出nz>nx=ny之折射率特性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為40nm。
[實施例3]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將延伸倍率設為2.1倍，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為160nm，Rth(550)為160nm(nx：1.5971，ny：1.5940，nz：1.5940)，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：0.49μm，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-60nm(nx：1.5325，ny：1.5325，nz：1.6549)，顯示出nz>nx=ny之折射率特 性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為160nm，Rth(550)為100nm。
[實施例4]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層)
直接使用市售之相位差膜(帝人公司製造，商品名「PURE-ACE WR(EWF)」)。該膜之Re(550)為147nm，Rth(550)為147nm(nx：1.5970，ny：1.5942，nz：1.5942)，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，吸水率為0.5%，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為147nm，Rth(550)為76nm。
[實施例5]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層)
按照依據實施例1之工序，以BHEPF/ISB/PEG(平均分子量1000)=45莫耳%/51莫耳%/4莫耳%之比率獲得含有源自二羥基化合物之結 構單元之聚碳酸酯樹脂B。所獲得之聚碳酸酯樹脂B之玻璃轉移溫度為134.1℃。使用該聚碳酸酯樹脂B，除此以外，以與實施例1相同之方式製作聚碳酸酯樹脂膜。所獲得之聚碳酸酯樹脂膜之吸水率為2.1%。
使用該聚碳酸酯樹脂膜、及以延伸倍率1.5倍進行縱向延伸，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜(第1相位差層)。所獲得之相位差膜之Re(550)為141nm，Rth(550)為141nm，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.98。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為141nm，Rth(550)為70nm。
[比較例1]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶硬化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層)
使用Labo Stretching KARO IV(Bruckner公司製造)將日本專利特開2005-42039號公報之實施例1之纖維素酯膜(吸水率：3.2%)於溫度100℃下以倍率1.3倍進行同時雙軸延伸，獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為0nm，Rth(550)為141nm(nx：1.4912，ny：1.4912，nz：1.4877)，顯示出nx=ny>nz之折射率特性。又，吸水率為3.2%，利用環境試驗獲得之相位差變動為15nm。
(第2相位差層之製作)
將混合有液晶化合物[大日本油墨化學工業股份有限公司製造， 商品名「UCL-001」]100重量份、光聚合起始劑[Ciba Specialty Chemicals股份有限公司製造，商品名「Irgacure 907」]3重量份、及調平劑[BYK-Chemie公司製造，商品名「BYK361」]0.05重量份之液晶性組合物溶解於環戊酮(沸點131℃)200重量份中而製備溶液。繼而，使用桿式塗佈機將市售之聚乙烯醇[日本合成化學股份有限公司製造，商品名「NH-18」]沿一方向均勻地塗敷於市售之聚對苯二甲酸乙二酯膜[東麗股份有限公司製造，商品名「S-27E」(厚度：75μm)]之表面，於80℃70℃±1℃之空氣循環式恆溫烘箱內乾燥5分鐘後，使用貼附有具有尼龍之絨頭紗線之摩擦布之圓柱形之滾筒進行摩擦處理(轉數1000r.p.m.，壓入量0.30mm，移動速度60mm/秒)，獲得配向基材。於所獲得之配向基材之表面使用桿式塗佈機塗敷所製備之液晶溶液，於90℃±1℃之空氣循環式恆溫烘箱內乾燥3分鐘而塗敷、乾燥後，進行UV照射，藉此使之硬化，形成沿著沿面排列配向之液晶性組合物之硬化層。
所獲得之硬化層之Re(550)為141nm，Rth(550)為141nm(nx：1.4916，ny：1.4893，nz：1.4893)，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶硬化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為141nm，Rth(550)為282nm。
[比較例2]
不使用第2相位差層，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
[比較例3]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將於105℃下乾燥2小時之聚合度1800之PVA(polyvinyl alcohol，聚乙烯醇)(日本合成化學，NH-18)5.0g溶解於DMSO(dimethyl sulfoxide，二甲基亞碸)95ml中。於其中添加2,4,6-三甲基苯甲醛3.78g、丙醛1.81g及對甲苯碸酸．一水合物1.77g，於40℃下4小時攪拌。於溶解有碳酸氫鈉2.35g之水/甲醇=2/1溶液中進行再沈澱。將過濾所得之聚合物溶解於THF(tetrahydrofuran，四氫呋喃)中，於二乙醚中再沈澱。過濾並乾燥後，獲得白色聚合物7.89g。於上述測定條件下測定所獲得之聚合物，結果乙烯甲縮醛、乙烯丙醛、乙烯醇之各部位之莫耳比為22：46：32，獲得下述化學式(II)所表示之結構之聚合物。又，該聚合物之玻璃轉移溫度為102℃。將所獲得之聚合物溶解於DMF(Dimethylformamide，二甲基甲醯胺)中，使用敷料器進行製膜。使用延伸機於110℃下對乾燥所得之膜進行1.8倍延伸，獲得厚度85μm之單軸延伸膜。
所獲得之膜之Re(550)為141nm，Rth(550)為141nm(nx：1.5969，ny：1.5942，nz：1.5942)，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，吸水率為4.9%，利用環境試驗獲得之相位差變動為20nm。
[化14]
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為141nm，Rth(550)為70nm。
[比較例4]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.82倍，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為115nm，Rth(550)為115nm(nx：1.5966，ny：1.5944，nz：1.5944)，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：0.7μm，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-85nm(nx：1.5338，ny：1.5338，nz：1.6552)，顯示出nz>nx=ny之折射率特 性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為115nm，Rth(550)為30nm。
[比較例5]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將延伸倍率設為2.13倍，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為170nm，Rth(550)為170nm(nx：1.5972，ny：1.5939，nz：1.5939)，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：0.49μm，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-60nm(nx：1.5325，ny：1.5325，nz：1.6549)，顯示出nz>nx=ny之折射率特性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為170nm，Rth(550)為110nm。
[實施例6]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.7倍，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為100nm，Rth(550)為100nm，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
於30升之高壓釜中添加含有部分皂化聚乙烯醇0.2重量%之蒸餾水18kg、反丁烯二酸二異丙酯3kg、作為聚合起始劑之2,2'-偶氮雙異丁酸二甲酯7g，於聚合溫度50℃、聚合時間24小時之條件下進行懸浮自由基聚合反應。將所獲得之粒子過濾後，利用甲醇充分洗淨後，於80℃下進行乾燥，獲得反丁烯二酸二異丙酯均聚物。將所獲得之反丁烯二酸二異丙酯均聚物溶解於THF溶液而製成22%溶液，進而相對於反丁烯二酸二異丙酯均聚物100重量份，添加作為受阻酚系抗氧化劑之亞磷酸三(2,4-二-第三丁基苯基)酯0.35重量份及作為磷系抗氧化劑之季戊四醇四(3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯)0.15重量份、作為紫外線吸收劑之2-(2H-苯并三唑-2-基)對甲酚1重量份後，藉由T型模頭法使之於溶液流延裝置之支持基板上流延，於40℃、80℃及120℃下分別乾燥15分鐘，獲得厚度20.7μm之膜。
將所獲得之膜切成長度300mm、寬度300mm，使用Labo Stretching KARO IV(Bruckner公司製造)，於溫度150℃下以倍率1.05 倍進行自由端縱向延伸，獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為20nm，Rth(550)為-60nm，顯示出nz>nx>ny之折射率特性。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸成為大致平行之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為40nm。
[實施例7]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層)
使用實施例1中所製作之相位差膜。
(第2相位差層之製作)
將厚度設為14.8μm，除此以外，以與實施例6相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之Re(550)為20nm，Rth(550)為-40nm，顯示出nz>nx>ny之折射率特性。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸大致正交之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為100nm。
[實施例8]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層)
使用實施例1中所製作之相位差膜。
(第2相位差層之製作)
將厚度設為14.8μm，除此以外，以與實施例6相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之Re(550)為20nm，Rth(550)為-40nm，顯示出nz>nx>ny之折射率特性。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸成為大致平行之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為160nm，Rth(550)為100nm。
[實施例9]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將延伸倍率設為2.2倍，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為170nm，Rth(550)為170nm，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.025倍、及將厚度設為40μm，除此以外，以與實施例6相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之Re(550)為10 nm，Rth(550)為-130nm，顯示出nz>nx>ny之折射率特性。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸大致正交之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為160nm，Rth(550)為40nm。
[實施例10]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將實施例4中所使用之市售之相位差膜於延伸溫度190℃下進行固定端延伸(MD(Machine Direction，縱向)延伸倍率0.85倍，TD(Transverse Direction，橫向)延伸倍率1.1倍)，獲得第1相位差層用相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為100nm，Rth(550)為100nm，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層)
使用實施例6中所製作之相位差膜。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸成為大致平行之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為40nm。
[實施例11]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將實施例4中所使用之市售之相位差膜於延伸溫度190℃下以延伸倍率1.2倍進行延伸，獲得第1相位差層用相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為170nm，Rth(550)為170nm，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.025倍、及將厚度設為40μm，除此以外，以與實施例6相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之Re(550)為10nm，Rth(550)為-130nm，顯示出nz>nx>ny之折射率特性。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸大致正交之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為160nm，Rth(550)為40nm。
[比較例6]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.6倍，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得 相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為90nm，Rth(550)為90nm，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層)
使用實施例6中所製作之相位差膜。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸成為大致平行之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為110nm，Rth(550)為30nm。
[比較例7]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將延伸倍率設為2.3倍，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為180nm，Rth(550)為180nm，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.025倍、及將厚度設為40μm，除此以外，以與實施例6相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之Re(550)為10 nm，Rth(550)為-130nm，顯示出nz>nx>ny之折射率特性。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸大致正交之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為170nm，Rth(550)為50nm。
[比較例8]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
進行延伸倍率1.2倍之自由端延伸，除此以外，以與比較例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為100nm，Rth(550)為100nm，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之吸水率為3.2%，利用環境試驗獲得之相位差變動為15nm。
(第2相位差層)
使用實施例6中所製作之相位差膜。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸成為大致平行之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為40nm。
[比較例9]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.28倍，除此以外，以與比較例3相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為100nm，Rth(550)為100nm，顯示出nx>ny=nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之吸水率為4.9%，利用環境試驗獲得之相位差變動為20nm。
(第2相位差層)
使用實施例6中所製作之相位差膜。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸成為大致平行之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為40nm。
[實施例12]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將延伸倍率設為2.2倍，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為120nm，Rth(550)為130nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：0.75μm，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-90nm，顯示出nz>nx=ny之折射率特性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為40nm。
[實施例13]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層)
使用實施例12中所製作之相位差膜。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：0.25μm，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-30nm，顯示出nz>nx=ny之折射率特性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為100nm。
[實施例14]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
以MD延伸倍率3.2倍進行自由端延伸後，以TD延伸倍率1.5倍進行固定端延伸，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為160nm，Rth(550)為380nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：2.31μm，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-280nm，顯示出nz>nx=ny之折射率特性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為160nm，Rth(550)為100nm。
[實施例15]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將延伸倍率設為2.6倍，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為160nm，Rth(550)為170nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之 Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：1.07μm，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-130nm，顯示出nz>nx=ny之折射率特性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為160nm，Rth(550)為40nm。
[實施例16]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將實施例4中所使用之市售之相位差膜於延伸溫度190℃下進行同時雙軸延伸(MD延伸倍率0.85倍，TD延伸倍率1.1倍)後，進行固定端延伸(MD延伸倍率1.1倍)，獲得第1相位差層用相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為120nm，Rth(550)為130nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：0.75μm，除此以外，以與實施例4相同之方式獲得液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-90nm，顯示出nz>nx=ny之折射率特性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為40nm。
[實施例17]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將實施例4中所使用之市售之相位差膜於延伸溫度190℃下進行固定端延伸(延伸倍率1.2倍)，獲得第1相位差層用相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為160nm，Rth(550)為170nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：1.07μm，除此以外，以與實施例4相同之方式獲得液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-130nm，顯示出nz>nx=ny之折射率特性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為160nm，Rth(550)為40nm。
[比較例10]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將延伸倍率設為2.25倍，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為130nm，Rth(550)為141nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：0.25μm，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-30nm，顯示出nz>nx=ny之折射率特性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為130nm，Rth(550)為111nm。
[比較例11]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將延伸倍率設為2.5倍，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得 相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為150nm，Rth(550)為181nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：1.33μm，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-160nm，顯示出nz>nx=ny之折射率特性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為150nm，Rth(550)為21nm。
[比較例12]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
進行MD延伸倍率1.3倍之固定端延伸，除此以外，以與比較例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為120nm，Rth(550)為130nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之吸水率為3.2%，利用環境試驗獲得之相位差變動為15nm。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：0.75μm，除此以外，以與比較例1相同之方式獲得 液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-90nm，顯示出nz>nx=ny之折射率特性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為40nm。
[比較例13]
使用以下之相位差膜(第1相位差層)及液晶固化層(第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
進行MD延伸倍率2.3倍之固定端延伸，除此以外，以與比較例3相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為120nm，Rth(550)為130nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之吸水率為4.9%，利用環境試驗獲得之相位差變動為20nm。
(第2相位差層之製作)
調整為厚度：0.75μm，除此以外，以與比較例3相同之方式獲得液晶固化層。
所獲得之液晶固化層之Re(550)為0nm，Rth(550)為-90nm，顯示出nz>nx=ny之折射率特性。
(積層體之製作)
使用上述之相位差膜與液晶固化層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為40nm。
[實施例18]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
進行逐次雙軸延伸(以MD延伸倍率1.6倍進行固定端延伸之後，以TD延伸倍率1.26倍進行橫向延伸)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為40nm，Rth(550)為100nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.2倍、及將厚度設為41μm，除此以外，以與實施例6相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之Re(550)為80nm，Rth(550)為-60nm，顯示出nz>nx>ny之折射率特性。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸成為大致平行之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為40nm。
[實施例19]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
進行逐次雙軸延伸(以MD延伸倍率2.7倍進行固定端延伸之後，以TD延伸倍率1.1倍進行橫向延伸)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為160nm，Rth(550)為180nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.1倍、及將厚度設為35μm，除此以外，以與實施例6相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之Re(550)為40nm，Rth(550)為-80nm，顯示出nz>nx>ny之折射率特性。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸大致正交之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為100nm。
[實施例20]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
進行逐次雙軸延伸(以MD延伸倍率1.65倍進行固定端延伸之後，以TD延伸倍率1.31倍進行橫向延伸)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為40nm，Rth(550)為120nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之 Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.3倍、及將厚度設為41μm，除此以外，以與實施例6相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之Re(550)為120nm，Rth(550)為-20nm，顯示出nz>nx>ny之折射率特性。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸成為大致平行之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為160nm，Rth(550)為100nm。
[實施例21]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
以MD延伸倍率2.75倍進行固定端延伸，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為170nm，Rth(550)為180nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.025倍、及將厚度設為45.5μm，除此以外，以與實施例6相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之Re(550)為10nm，Rth(550)為-140nm，顯示出nz>nx>ny之折射率特性。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸大致正交之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為160nm，Rth(550)為40nm。
[實施例22]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將實施例4中所使用之市售之相位差膜於延伸溫度190℃下進行同時雙軸延伸(MD延伸倍率0.85倍，TD延伸倍率1.2倍)，獲得第1相位差層用相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為40nm，Rth(550)為100nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層)
使用實施例18中所製作之相位差膜。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸成為大致平行之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為40nm。
[實施例23]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外， 以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
將實施例4中所使用之市售之相位差膜以延伸倍率1.25倍進行固定端延伸，獲得第1相位差層用相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為170nm，Rth(550)為180nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層)
使用實施例21中所製作之相位差膜。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸大致正交之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為160nm，Rth(550)為40nm。
[比較例14]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
進行逐次雙軸延伸(以MD延伸倍率1.65倍進行固定端延伸之後，以TD延伸倍率1.3倍進行橫向延伸)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為50nm，Rth(550)為125nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之 Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.2倍、及將厚度設為50μm，除此以外，以與實施例6相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之Re(550)為80nm，Rth(550)為-90nm，顯示出nz>nx>ny之折射率特性。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸成為大致平行之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為130nm，Rth(550)為35nm。
[比較例15]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
以MD延伸倍率2.8倍進行固定端延伸，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為180nm，Rth(550)為190nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.89。進而，利用環境試驗獲得之相位差變動為5nm。
(第2相位差層之製作)
將延伸倍率設為1.025倍、及將厚度設為26.6μm，除此以外，以與實施例6相同之方式獲得相位差膜。所獲得之相位差膜之Re(550)為10nm，Rth(550)為-80nm，顯示出nz>nx>ny之折射率特性。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸大致正交之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為170nm，Rth(550)為110nm。
[比較例16]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
進行逐次雙軸延伸(以MD延伸倍率1.18倍進行自由端延伸之後，以TD延伸倍率1.08倍進行橫向延伸)，除此以外，以與比較例1相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為40nm，Rth(550)為100nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之吸水率為3.2%，利用環境試驗獲得之相位差變動為15nm。
(第2相位差層)
使用實施例18中所製作之相位差膜。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸成為大致平行之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為40nm。
[比較例17]
使用以下之相位差膜(第1相位差層及第2相位差層)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。
將該有機EL面板之反射色相之測定結果示於表1。
(第1相位差層之製作)
進行逐次雙軸延伸(以MD延伸倍率1.96倍進行固定端延伸之後，以TD延伸倍率1.37倍進行橫向延伸)，除此以外，以與比較例3相同之方式獲得相位差膜。
所獲得之相位差膜之Re(550)為40nm，Rth(550)為100nm，顯示出nx>ny>nz之折射率特性。又，所獲得之相位差膜之吸水率為4.9%，利用環境試驗獲得之相位差變動為20nm。
(第2相位差層)
使用實施例18中所製作之相位差膜。
(積層體之製作)
分別使用上述之相位差膜、及以使第1相位差層之遲相軸與第2相位差層之遲相軸成為大致平行之方式進行配置，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得積層體。
所獲得之積層體之Re(550)為120nm，Rth(550)為40nm。
於各實施例中，均係視角特性低於0.07而良好，正面及斜向之任一色相變化△xy均低於0.07而良好。於第1相位差層之吸水率、或第1相位差層與第2相位差層之積層體之Re(550)或Rth(550)在本發明之範圍外之比較例中，視角特性、正面色相之變化△xy及斜向色相之變化△xy中至少一者不充分。
[產業上之可利用性]
本發明之偏光板可較佳地用於有機EL裝置。
10‧‧‧偏光元件
20‧‧‧保護膜
21‧‧‧第1保護膜
22‧‧‧第2保護膜
30‧‧‧第1相位差層
40‧‧‧第2相位差層
100‧‧‧偏光板
100'‧‧‧偏光板

Claims (7)

  1. 一種偏光板，其具備偏光元件、第1相位差層、及第2相位差層，該第1相位差層顯示出nx>ny≧nz之折射率特性，滿足Re(450)<Re(550)之關係，該第2相位差層顯示出nz>nx≧ny之折射率特性，該第1相位差層與該第2相位差層之積層體之Re(550)為120nm~160nm，Rth(550)為40nm~100nm，該第1相位差層之吸水率為3%以下，且該偏光板係用於有機EL面板，此處，Re(450)及Re(550)分別表示23℃下利用波長450nm及550nm之光測定之面內相位差，Rth(550)表示23℃下利用波長550nm之光測定之厚度方向之相位差。
  2. 如請求項1之偏光板，其中於上述偏光元件與上述第1相位差層或上述第2相位差層之間不含光學各向異性層。
  3. 如請求項1之偏光板，其中上述第1相位差層由含有源自下述通式(1)所表示之二羥基化合物之結構單元之聚碳酸酯樹脂所形成， (上述通式(1)中，R1~R4分別獨立地表示氫原子、經取代或未經取代之碳數1~碳數20之烷基、經取代或未經取代之碳數6~碳數20之環烷基、或者經取代或未經取代之碳數6~碳數20之芳基，X表示經取代或未經取代之碳數2~碳數10之伸烷基、經取代或未經取代之碳數6~碳數20之伸環烷基、或者經取代或未經取代之碳數6~碳數20之伸芳基，m及n分別獨立為0~5之整數)。
  4. 如請求項3之偏光板，其中上述第1相位差層由含有源自下述通式(2)所表示之二羥基化合物之結構單元之聚碳酸酯樹脂所形成，
  5. 如請求項4之偏光板，其中上述第1相位差層由含有源自下述通式(5)所表示之二羥基化合物之結構單元之聚碳酸酯樹脂所形成，[化3]H-(O-R7)p-OH (5)(上述通式(5)中，R7表示經取代或未經取代之碳數2~碳數10之伸烷基，p為2至100之整數)。
  6. 如請求項1之偏光板，其中上述第1相位差層為進行斜向延伸而獲得之相位差膜。
  7. 一種有機EL面板，其具備如請求項1之偏光板。
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