TW201405159A - 積層體、抗反射物品、圖像顯示裝置以及觸控面板 - Google Patents

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Abstract

本實施形態的目的在於提供一種積層體，其具備可容易地去除污垢的防污性與耐擦傷性優異的表層。本實施形態的積層體具備表層，該表層具有形成有微細凹凸結構的表面，並且上述表層的彈性模量小於250 MPa，且上述表層的摩擦係數的斜率為0.0018以下。

Description

積層體
本實施形態是有關於一種具有微細凹凸結構的積層體及使用其的抗反射物品、圖像顯示裝置、觸控面板(touch panel)。
本申請案主張基於2012年6月15日於日本提出申請的日本專利申請案2012-135981號及日本專利申請案2012-135983號、2012年9月13日於日本提出申請的日本專利申請案2012-201734號、及2012年11月13日於日本提出申請的日本專利申請案2012-249312號的優先權，在此引用其內容。
於各種顯示器、透鏡、櫥窗(show window)等的與空氣接觸的界面(表面)上，由太陽光或照明等在表面上發生反射所致的視認性降低成問題。作為用以減少反射的方法，已知有以下方法：以膜表面上的反射光、與膜和基材的界面上的反射光藉由干涉(interference)而相互抵消的方式，積層折射率不同的多層膜。該些膜通常是藉由濺鍍、蒸鍍、塗佈等方法來製造。然而，此種方法中，即便增加膜的積層數，於降低反射率及反射率的波長相依性的方面亦有極限。另外，為了減少積層數以削減製造成 本，需求具有更低折射率的材料。
為了降低材料的折射率，有效的是利用某些方法於材料中導入空氣。另外，作為降低膜表面的折射率的方法之一，例如於膜的表面上形成微細凹凸結構的方法已廣為人知。根據該些方法，形成有微細凹凸結構的表面的整個層的折射率是由空氣與形成微細凹凸結構的材料之體積比來決定，故可大幅度地降低折射率。結果，即便積層數少，亦可降低反射率。
另外，形成於玻璃基板上的抗反射膜中，已提出有於整個膜上連續地形成棱錐狀凸部的抗反射膜(例如參照專利文獻1)。如專利文獻1所記載，對於形成有棱錐狀凸部(微細凹凸結構)的抗反射膜而言，以與膜表面平行的面切斷微細凹凸結構時的剖面積連續地變化，折射率自空氣側向基板側逐漸增大，故成為有效的抗反射手段。另外，該抗反射膜顯示出優異的光學性能。
如上所述的利用微細凹凸結構的抗反射膜由於與空氣接觸，故較佳為具有防污性。
作為賦予防污性的方法，可列舉以下方法：於微細凹凸結構的表面上形成包含聚四氟乙烯的皮膜的方法(例如參照專利文獻2)；或於由含有含氟化合物的樹脂組成物所形成的層上，壓接具有微細凹凸結構的壓模的方法(例如參照專利文獻3)等。該些方法使表面能量降低而排斥污垢，藉此賦予防污性。
另外，亦提出了以下方法：於基材表面上塗佈具有微細凹凸結構的光觸媒層(氧化鈦等)的方法(例如參照專利文獻4)； 或於基材表面上藉由濺鍍來形成包含矽酸化合物等無機氧化物的親水性皮膜的方法(例如參照專利文獻5)；將無機微粒子溶液旋塗於鈉玻璃(soda glass)的表面上後，進行加熱而使其硬化的方法(例如參照專利文獻6)等。該些方法中，藉由使表面親水化，容易使所附著的污垢於水中浮起並將其擦去。
另外，於專利文獻7中，作為光碟用塗佈材，揭示有一種包含特定的氟系界面活性劑及特定組成的聚合性化合物的光硬化性組成物。
另外，如專利文獻8所記載般，已提出了以下方法：降低形成微細凹凸結構的材料的彈性模量，藉此擠出進入凹部內的污垢。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開昭63-75702號公報
[專利文獻2]日本專利特開2003-172808號公報
[專利文獻3]日本專利特開2005-97371號公報
[專利文獻4]日本專利特開2001-183506號公報
[專利文獻5]日本專利特開2001-315247號公報
[專利文獻6]日本專利特開平11-217560號公報
[專利文獻7]日本專利特開平7-316468號公報
[專利文獻8]日本專利特開2011-76072號公報
若如專利文獻2及專利文獻3所記載般使表面能量降低，則污垢難以附著。然而，有時於使用時污垢進入凹部內，若 一旦污垢附著，則有時難以將該污垢去除。
另外，於如專利文獻4所記載般使用光觸媒的情形時，有時於室內的光下難以進行污垢的分解。另外，若使用樹脂膜等作為基材並於其表面上塗佈光觸媒層，則有時樹脂膜亦分解。
另外，專利文獻5、專利文獻6所記載的藉由利用濺鍍的製造方法所得的具有微細凹凸結構的防污性物品有時難以調節相鄰凸部彼此間的距離、或凸部的高度，有時無法充分獲得抗反射性。
另外，即便將專利文獻7中記載的摻合氟系界面活性劑的方法應用於微細凹凸結構，有時亦未充分賦予防污性。
另外，於微細凹凸結構的間距為250 nm以上的積層體中已確認到專利文獻8中記載的方法的效果，但有時其表層的耐擦傷性差，例如就作為建材或顯示器用途等的抗反射物品的實用性的觀點而言，尚有改善的餘地。
本實施形態的目的在於提供一種積層體，其具備可容易地去除污垢的防污性與耐擦傷性優異的表層。
(1)本發明的一形態為一種積層體，其具備表層，該表層具有形成有微細凹凸結構的表面，並且上述表層的彈性模量小於250 MPa，且上述表層的摩擦係數的斜率(slope)為1.8×10-3以下。
(2)本發明的一形態為如(1)所記載的積層體，其中上述 表層的摩擦係數的斜率為-2.0×10-3以上。
(3)本發明的一形態為如(1)或(2)所記載的積層體，其中上述表層的摩擦係數的斜率為-1.8×10-3以上、1.0×10-3以下。
(4)本發明的一形態為如(1)至(3)中任一項所記載的積層體，其中上述表層的彈性模量小於160 MPa。
(5)本發明的一形態為如(1)至(4)中任一項所記載的積層體，其中上述表層的彈性模量小於100 MPa。
(6)本發明的一形態為如(1)至(5)中任一項所記載的積層體，其中上述表層的水接觸角為25°以下、或130°以上。
(7)本發明的一形態為如(1)至(6)中任一項所記載的積層體，其中上述表層含有包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層。
(8)本發明的一形態為如(7)所記載的積層體，其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物含有1質量份~55質量份的三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)、及10質量份~95質量份的二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)(其中，將上述活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份)。
(9)本發明的一形態為如(8)所記載的積層體，其中上述三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量為5質量份~40質量份，上述二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量為20質量份~80質量份。
(10)本發明的一形態為如(8)所記載的積層體，其 中上述三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量為10質量份~30質量份，上述二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量為30質量份~70質量份。
(11)本發明的一形態為如(8)所記載的積層體，其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物更含有3質量份~85質量份的矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)(其中，將上述活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份，且(A)及(B)中分別將(C)除外)。
(12)本發明的一形態為如(9)所記載的積層體，其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物更含有7質量份~70質量份的矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)(其中，將上述活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份，且(A)及(B)中分別將(C)除外)。
(13)本發明的一形態為如(7)所記載的積層體，其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物含有具有SH基的化合物(D)。
(14)本發明的一形態為如(13)所記載的積層體，其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物含有0質量份~95質量份的二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(E)、0質量份~75質量份的矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)、及1質量份~60質量份的上述具有SH基的化合物(D)(其中，將聚合性成分的合計量設定為100質量份)。
(15)本發明的一形態為如(7)至(14)中任一項所記載的 積層體，其中上述表層是由包含上述活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層所構成。
(16)本發明的一形態為如(7)至(14)中任一項所記載的積層體，其中上述表層是由以下的層所構成：包含上述活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層、及形成於該包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層上的作為最表面層的表面處理層。
(17)本發明的一形態為如(1)至(15)中任一項所記載的積層體，其中上述微細凹凸結構的間距為100 nm以上、250 nm以下。
(18)本發明的一形態為一種抗反射物品，其具備如(1)至(17)中任一項所記載的積層體。
(19)本發明的一形態為一種圖像顯示裝置，其具備如(1)至(17)中任一項所記載的積層體。
(20)本發明的一形態為一種觸控面板，其具備如(1)至(17)中任一項所記載的積層體。
根據本實施形態，可提供一種積層體，其具備可容易地去除污垢的防污性與耐擦傷性優異的表層。另外，根據本實施形態，較佳為可獲得一種防污性良好的積層體，其即便不於表面上使用水或醇亦可容易地去除污垢。另外，根據本實施形態，較佳為可獲得一種耐擦傷性良好的積層體，其於以布等擦去污垢時不 損傷表層。
10、110‧‧‧積層體
11、111‧‧‧基材
12、104‧‧‧表層
13‧‧‧凸部
13a‧‧‧頂端
14‧‧‧凹部
14a‧‧‧底部
d1‧‧‧高度
w1‧‧‧距離
112‧‧‧硬化物層
113‧‧‧表面處理層
圖1為表示本實施形態的積層體的構成的一例的示意性剖面圖。
圖2為表示本實施形態的積層體的構成的一例的示意性剖面圖。
圖3為表示本實施形態的積層體的構成的一例的示意性剖面圖。
圖4為表示本實施形態的積層體的構成的一例的示意性剖面圖。
以下，對本實施形態加以詳細說明。
(實施形態1)
圖1為表示本實施形態的積層體10的構成的一例的示意性剖面圖。於圖1中，於具有透明性的基材11的表面上形成有包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的表層12。於積層體10中，於表層12的表面上形成有微細凹凸結構。
於積層體10中，較佳為於表層的整個表面上形成有微細凹凸結構，亦可於表層的一部分表面上形成有微細凹凸結構。另外，於積層體10具有膜形狀的情形時，亦可於積層體10的兩面上形成有微細凹凸結構。
於本實施形態的積層體中，微細凹凸結構區域的彈性模量、即表層的彈性模量小於250 MPa。另外，表層的彈性模量較佳為小於160 MPa，更佳為50 MPa以上、100 MPa以下。若表層的彈性模量小於250 MPa，則微細凹凸結構柔軟，故可容易地擠出進入凹部內的污垢。另外，若表層的彈性模量小於160 MPa，則微細凹凸結構更柔軟，故可更容易地擠出進入凹部內的污垢。若表層的彈性模量為50 MPa以上，則微細凹凸結構具有充分的硬度，故可有效地防止凸部的凸起合而为一。若表層的彈性模量為100 MPa以下，則微細凹凸結構充分柔軟，故可使微細凹凸結構自由地變形，可更容易地去除進入凹部內的污垢。
於本實施形態的積層體中，微細凹凸結構區域的摩擦係數的斜率、即表層的摩擦係數的斜率為1.8×10-3以下。另外，表層的摩擦係數的斜率較佳為-2.0×10-3以上，更佳為-1.8×10-3以上、1.0×10-3以下。若表層的摩擦係數的斜率為0.0018以下，則以布等擦拭表層時摩擦係數的增加小，故不會引起表層的破壞。若表層的摩擦係數的斜率為-1.8×10-3以上，則以布等擦拭表層時不會發生微細凹凸結構的凸部的合而为一，即便於擦傷後亦可保持與擦傷前同等的抗反射性能。若表層的摩擦係數的斜率為1.0×10-3以下，則以布等擦拭表層時摩擦係數的增加更小，故不會損傷表層。
微細凹凸結構區域的水接觸角、即表層的水接觸角並無特別限定，較佳為25°以下、或130°以上，更佳為15°以下、或135° 以上。於表層的水接觸角為25°以下的情形時，表面為親水性，故可容易地擦去污垢。於表層的水接觸角為130°以上的情形時，表層的表面能量小，故可容易地擦去污垢。於表層的水接觸角為15°以下的情形時，表面的親水性高，故可更容易地擦去污垢。於表層的水接觸角為135°以上的情形時，表層的表面能量充分小，故可抑制污垢的附著。表層的水接觸角的下限並無特別限制，但表層的水接觸角較佳為5°以上，更佳為7°以上。表層的水接觸角的上限並無特別限制，但表層的水接觸角較佳為150°以下，更佳為145°以下。
於本實施形態的積層體中，表層可由活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物構成。另外，如下文將述，表層亦可包含以下的層：包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層、及形成於該包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層上的作為最表面層的表面處理層。
活性能量線硬化性樹脂組成物較佳為含有1質量份~55質量份的三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)、及10質量份~95質量份的二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)(其中，將上述活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份)。
活性能量線硬化性樹脂組成物較佳為更含有3質量份~85質量份的矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)。即，活性能量線硬化性樹脂組成物例如較佳為含有1質量份~55質量份的三官能以上的多官能 (甲基)丙烯酸酯(A)、10質量份~95質量份的二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)、及3質量份~85質量份的矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)(其中，將上述活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份)。再者，自三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)及二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)中將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)除外。
此處，所謂三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯，是指分子內具有至少3個以上的選自丙烯醯基(CH2=CHCO-)及甲基丙烯醯基(CH2=C(CH3)CO-)中的基團的化合物。另外，所謂二官能的(甲基)丙烯酸酯，是指分子內具有2個選自丙烯醯基(CH2=CHCO-)及甲基丙烯醯基(CH2=C(CH3)CO-)中的基團的化合物。
三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)較佳為四官能以上，更佳為五官能以上。三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)例如可列舉：二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇羥基五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、琥珀酸/三羥甲基乙烷/丙烯酸的莫耳比為1：2：4的縮合反應物、丙烯酸胺基甲酸酯類、聚醚丙烯酸酯類、改質環氧丙烯酸酯類、聚酯丙烯酸酯類等。丙烯酸胺基甲酸酯類例如可列舉：大賽璐氰特(Daicel-Cytec)公司製造的「艾白克力(EBECRYL)220」、「艾白克力(EBECRYL)1290」、「艾白克力(EBECRYL)1290K」、「艾 白克力(EBECRYL)5129」、「艾白克力(EBECRYL)8210」、「艾白克力(EBECRYL)8301」、「KRM8200」。聚醚丙烯酸酯類例如可列舉大賽璐氰特(Daicel-Cytec)公司製造的「艾白克力(EBECRYL)81」。改質環氧丙烯酸酯類可列舉大賽璐氰特(Daicel-Cytec)公司製造的「艾白克力(EBECRYL)3416」。聚酯丙烯酸酯類可列舉：大賽璐氰特(Daicel-Cytec)公司製造的「艾白克力(EBECRYL)450」、「艾白克力(EBECRYL)657」、「艾白克力(EBECRYL)800」、「艾白克力(EBECRYL)810」、「艾白克力(EBECRYL)811」、「艾白克力(EBECRYL)812」、「艾白克力(EBECRYL)1830」、「艾白克力(EBECRYL)845」、「艾白克力(EBECRYL)846」、「艾白克力(EBECRYL)1870」。另外，除此以外，三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)亦例如可列舉對上述單體加成環氧乙烷或環氧丙烷所得的單體。該些多官能(甲基)丙烯酸酯(A)可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)較佳為1質量份~55質量份，更佳為5質量份~40質量份，進而佳為設定為10質量份~30質量份。藉由將三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量設定為1質量份以上，可對表層賦予可轉印微細凹凸結構的程度的彈性模量。另外，藉由將三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量設定為55質量份以下，可抑制表層的彈性模量的增加。結果，可容易地自 凹部內擠出污垢，對積層體賦予充分的防污性。另外，藉由將三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量設定為5質量份以上，可對表層賦予良好的彈性模量，可抑制微細凹凸結構中的凸部的凸起合而为一。另外，藉由將三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量設定為40質量份以下，凸部的運動性的降低得到抑制，有效地表現出即便不使用水或醇亦可容易地去除污垢的防污性。再者，於本說明書中，所謂凸起或凸部的凸起合而为一，是指鄰接的凸起或凸部合併而形成為一個凸起或凸部。
二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)較佳為具有聚乙二醇的二官能丙烯酸酯類、具有聚丙二醇的二官能丙烯酸酯類、具有聚丁二醇的二官能丙烯酸酯等具有聚伸烷基二醇的二官能丙烯酸酯。具有聚乙二醇的二官能丙烯酸酯類的具體例可列舉：亞羅尼斯(Aronix)M-240、亞羅尼斯(Aronix)M-260(東亞合成公司製造)，NK Ester AT-20E、NK Ester ATM-35E(新中村化學公司製造)等。具有聚丙二醇的二官能丙烯酸酯類的具體例可列舉APG-400、APG-700(新中村化學公司製造)等。具有聚丁二醇的二官能丙烯酸酯的具體例可列舉A-PTMG-650(新中村化學公司製造)等。藉由使用具有聚伸烷基二醇的二官能丙烯酸酯作為二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)，表層的彈性模量得到抑制，容易自凹部內擠出污垢，有效地表現出防污性。具有聚伸烷基二醇的二官能丙烯酸酯中，就可獲得更良好的防污性的方面而言，可較佳地使用聚乙二醇二丙烯酸酯。藉由使用聚乙二醇二丙烯酸酯作為二 官能的(甲基)丙烯酸酯(B)，表層的樹脂的分子運動性提高，更容易擠出進入凹部內的污垢，表現出良好的防污性。
於聚乙二醇二丙烯酸酯的一分子內存在的聚乙二醇鏈的平均重複單元的合計值較佳為6~40，更佳為9~30，進而佳為12~20。若聚乙二醇鏈的平均重複單元為6以上，則保持分子的運動性，表現出良好的防污性。若聚乙二醇鏈的平均重複單元為40以下，則與三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的相容性變良好。另外，於具有聚伸烷基二醇的二官能丙烯酸酯中，就相容性的方面而言，亦可較佳地使用聚丙二醇二丙烯酸酯、聚丁二醇二丙烯酸酯。藉由使用聚丙二醇二丙烯酸酯或聚丁二醇二丙烯酸酯作為二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)，與親水性低的矽酮二(甲基)丙烯酸酯等矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的相容性提高，可獲得透明的活性能量線硬化性樹脂組成物。該些二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。另外，就兼具防污性與相容性的方面而言，較佳為併用聚乙二醇與聚丙二醇二丙烯酸酯及/或聚丁二醇二丙烯酸酯。
於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)較佳為10質量份~95質量份，更佳為20質量份~80質量份，進而佳為30質量份~70質量份。藉由將二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量設定為10質量份以上，表層的彈性模量的增加得到抑制，容易自凹部內擠出污垢，表現出充分的防污性。藉由將二官能的 (甲基)丙烯酸酯(B)的含量設定為95質量份以下，可於表層中保持可轉印微細凹凸結構的程度的彈性模量。另外，藉由將二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量設定為20質量份以上，可對凸部賦予運動性，有效地表現出防污性。另外，藉由將二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量設定為80質量份以下，彈性模量的降低得到抑制，可抑制凸部的凸起合而为一。
矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)只要為於具有有機矽氧烷結構的化合物的側鏈及/或末端具有至少一個以上的選自丙烯醯基(CH2=CHCO-)及甲基丙烯醯基(CH2=C(CH3)CO-)中的基團的化合物，則並無特別限定。矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)理想的是根據與三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)及二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的相容性的觀點來選擇，矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)較佳為使用具有相容性片段(segment)的化合物，上述相容性片段(segment)有助於與(A)及(B)的相容性。相容性片段例如可列舉聚環氧烷結構、聚酯結構及聚醯胺結構等。該些相容性片段可於矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)中單獨含有一種，另外亦可含有兩種以上。另外，就操作性的方面而言，矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)亦可稀釋後使用。就自硬化物的滲出(bleed out)等方面而言，稀釋劑較佳為具有反應性。另外，藉由將三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)或二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)混入矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)中，可提高矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的操作性。
此種矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)具體而言，例如可較佳 地列舉：智索(Chisso)公司製造的塞拉普蘭(Silaplane)系列，信越化學工業公司製造的矽酮二丙烯酸酯「X-22-164」、矽酮二丙烯酸酯「X-22-1602」，日本畢克化學(BYK Chemie Japan)公司製造的「BYK-UV3500」、「BYK-UV3570」，日本贏創德固賽(Evonik Degussa Japan)公司製造的TEGO Rad系列。該些矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)較佳為3質量份~85質量份，更佳為7質量份~70質量份，進而佳為20質量份~70質量份。藉由將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量設定為3質量份以上，具有微細凹凸結構的表層的水接觸角容易成為130°以上，對積層體賦予防污性。另外，藉由將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量設定為85質量份以下，可對表層賦予可轉印微細凹凸結構的程度的彈性模量。另外，藉由將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量設定為7質量份以上，表層的水接觸角容易成為135°以上，積層體的防污性提高。另外，藉由將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量設定為70質量份以下，活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度得到抑制，操作性提高。另外，藉由將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量設定為20質量份以上，與活性能量線硬化性樹脂組成物中的成分、特別是(A)及(B)的相容性變良好，且表層的撥水性與凸起的柔軟性提高，故表現出優異的防污性。
活性能量線硬化性樹脂組成物中，另外亦可含有單官能 單體。單官能單體理想的是考慮到與三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)及二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的相容性而選擇，就此種觀點而言，例如可較佳地列舉：於酯基上具有聚乙二醇鏈的單官能(甲基)丙烯酸酯類、於(甲基)丙烯酸羥基烷基酯等的酯基上具有羥基的單官能(甲基)丙烯酸酯類、單官能丙烯醯胺類、甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨甲基硫酸鹽或甲基丙烯醯氧基乙基三甲基銨甲基硫酸鹽等陽離子性單體類等親水性單官能單體。單官能單體具體可使用單官能(甲基)丙烯酸酯類的「M-20G」、「M-90G」、「M-230G」(新中村化學公司製造)等。
另外，於活性能量線硬化性樹脂組成物中，亦可添加丙烯醯基嗎啉或乙烯基吡咯烷酮等黏度調整劑、或者提昇對透明基材的密接性的丙烯醯基異氰酸酯類等密接性提昇劑等。
於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，活性能量線硬化性樹脂組成物中的單官能單體的含量例如較佳為0.1質量份~20質量份，更佳為5質量份~15質量份。藉由含有單官能單體，基材與表層(活性能量線硬化樹脂)的密接性提高。藉由將單官能單體的含量設定為20質量份以下，而容易調整三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)及二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量，充分表現出防污性。單官能單體可單獨使用一種或混合使用兩種以上。
另外，於活性能量線硬化性樹脂組成物中，亦可添加將一種或兩種以上的單官能單體聚合而成的低聚合度的聚合物(低 聚物)。此種低聚合度的聚合物具體而言，例如可列舉：於酯基上具有聚乙二醇鏈的單官能(甲基)丙烯酸酯類(例如「M-230G」，新中村化學公司製造)、或甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨甲基硫酸鹽的40/60共聚合低聚物(例如三菱人造絲子公司(MRC Unitec)製造，「MG聚合物」)等。
進而，於活性能量線硬化性樹脂組成物中，除了上述各種單體或低聚合度的聚合物以外，亦可含有抗靜電劑、脫模劑、紫外線吸收劑、膠體二氧化矽(colloidal silica)等的微粒子。
活性能量線硬化性樹脂組成物亦可含有脫模劑。若活性能量線硬化性樹脂組成物中含有脫模劑，則可於連續地製造積層體時維持良好的脫模性。脫模劑例如可列舉(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物。尤其於使用陽極氧化氧化鋁的模具的情形時，(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物與氧化鋁相互作用，由此脫模劑容易吸附於模具的表面。
(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物的市售品例如可列舉：城北化學工業股份有限公司製造的「JP-506H」(商品名)，艾克賽爾(Axel)公司製造的「模維茲(Moldwiz)INT-1856」(商品名)，日光化學股份有限公司製造的「TDP-10」、「TDP-8」、「TDP-6」、「TDP-2」、「DDP-10」、「DDP-8」、「DDP-6」、「DDP-4」、「DDP-2」、「TLP-4」、「TCP-5」、「DLP-10」(商品名)等。
活性能量線硬化性樹脂組成物中所含的脫模劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
相對於聚合性成分100質量份，活性能量線硬化性樹脂組成物所含的脫模劑的含量較佳為0.01質量份~2.0質量份，更佳為0.05質量份~0.2質量份。若脫模劑的含量為0.01質量份以上，則表面上具有微細凹凸結構的物品自模具的脫模性良好。另一方面，若脫模劑的比例為2.0質量份以下，則活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物與基材的密接性良好，另外，硬化物的硬度適當，可充分維持微細凹凸結構。
微細凹凸結構中，微細凹凸結構的相鄰凸部彼此間的距離w1(間距)較佳為可見光的波長以下，更佳為100 nm以上、300 nm以下，進而佳為150 nm以上、250 nm以下，尤佳為170 nm以上、230 nm以下。藉由將上述距離w1設定為100 nm以上，可有效地防止凸部彼此間的凸起合而为一。藉由將上述距離w1設定為300 nm以下，由於充分小於可見光的波長，故有效地抑制可見光的散射，容易賦予優異的抗反射性。
再者，於本實施形態中，所謂「可見光的波長」是指400 nm的波長。
凸部13的高度d1較佳為100 nm以上，更佳為150 nm以上。藉由將高度d1設定為100 nm以上，可防止最低反射率的上昇或特定波長的反射率的上昇，容易賦予良好的抗反射性。
縱橫比(凸部13的高度/相鄰凸部彼此間的間隔)較佳為0.5~5.0，更佳為0.6~2.0，進而佳為0.8~1.2。於縱橫比為0.5以上的情形時，可抑制最低反射率的上昇或特定波長的反射率的 上昇，表現出良好的抗反射性。另外，於縱橫比為5以下的情形時，表層經擦拭時微細凹凸結構的凸部不易彎折，故表現出良好的耐擦傷性或抗反射性。
再者，本實施形態中所謂「凸部的高度」，如圖1所示，是指自凸部13的頂端13a起至鄰接的凹部14的底部14a為止的垂直方向的距離。另外，微細凹凸結構的凸部13的形狀並無特別限定，為了使折射率連續地增大而獲得兼具低反射率與低波長相依性的抗反射功能，較佳為如圖1所示般的大致圓錐形狀或如圖2所示般的吊鐘形狀等般，以與膜表面平行的面切斷時的剖面積的佔有率朝向基材側連續地增大般的結構。另外，亦可使多個更微細的凸部凸起合而为一而形成上述微細凹凸結構。
於積層體的表面上形成微細凹凸結構的方法並無特別限定，例如可列舉：使用形成有微細凹凸結構的壓模，進行射出成形或壓製成形的方法。另外，微細凹凸結構的形成方法例如亦可列舉：於形成有微細凹凸結構的壓模與透明基材之間填充活性能量線硬化性樹脂組成物，藉由活性能量線照射使活性能量線硬化性樹脂組成物硬化而轉印壓模的凹凸形狀後，進行脫模的方法。另外，微細凹凸結構的形成方法亦可列舉：於形成有微細凹凸結構的壓模與透明基材之間填充活性能量線硬化性樹脂組成物，於活性能量線硬化性樹脂組成物上轉印壓模的凹凸形狀後進行脫模，其後照射活性能量線而使活性能量線硬化性樹脂組成物硬化的方法。該等中，若考慮到凹凸結構的轉印性、表面組成的 自由度，可較佳地使用以下方法：於形成有微細凹凸結構的壓模與透明基材之間填充活性能量線硬化性樹脂組成物，藉由活性能量線照射使活性能量線硬化性樹脂組成物硬化而轉印壓模的凹凸形狀後，進行脫模的方法。
基材並無特別限定，較佳為透明基材。透明基材只要可使光透射則並無特別限定。透明基材的材料例如可列舉：甲基丙烯酸甲酯(共)聚合物、聚碳酸酯、苯乙烯(共)聚合物、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚合物、二乙酸纖維素、三乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯基縮醛、聚醚酮、聚胺基甲酸酯、玻璃、水晶等。透明基材可藉由射出成形、擠出成形、澆鑄成形的任一種方法來製作。
透明基材的形狀並無特別限制，可根據用途來適當選擇，例如於用途為抗反射膜的情形時，較佳為片狀或膜狀。另外，為了改良與活性能量線硬化性樹脂組成物的密接性或抗靜電性、耐擦傷性、耐候性等，亦可對透明基材的表面實施例如各種塗佈或電暈放電處理。
製作形成有微細凹凸結構的壓模的方法並無特別限定，例如可列舉電子束微影法或雷射光干涉法等。例如於適當的支撐基板上塗佈適當的光阻膜後，使用紫外線雷射、電子束、X射線等光進行曝光，繼而進行顯影，藉此形成具有微細凹凸結構的模具。亦可將該模具直接用作壓模。另外，亦可介隔光阻層藉 由乾式蝕刻對支撐基板進行選擇性蝕刻後，去除光阻層，藉此於支撐基板本身上直接形成微細凹凸結構。
另外，亦可利用陽極氧化多孔氧化鋁作為壓模。例如，亦可利用藉由以下方法所得的氧化鋁奈米孔陣列(alumina nanohole array)作為壓模，即，如日本專利特開2005-156695號所揭示般，將鋁於草酸、硫酸、磷酸等電解液中於既定的電壓下陽極氧化。根據該方法，將高純度鋁於恆定電壓下長時間陽極氧化後，暫且去除氧化皮膜，再次進行陽極氧化，藉此以自組的方式形成具有非常高的規則性的孔隙。進而，於再次陽極氧化時將陽極氧化處理與孔徑擴大處理組合，藉此除了大致圓錐狀以外，亦可形成凹部為吊鐘形狀的微細凹凸結構。另外，亦可由具有微細凹凸結構的原模藉由電鑄法等來製作複製模具，並將其用作壓模。
如此而製作的壓模的形狀並無特別限定，可為平板狀亦可為輥狀，就可連續地將微細凹凸結構轉印至活性能量線硬化性樹脂組成物上的觀點而言，較佳為輥狀。
本實施形態的活性能量線硬化性樹脂組成物可適當含有分子中具有自由基聚合性及/或陽離子聚合性鍵的單體、低聚合度的聚合物以及反應性聚合物，且藉由後述的聚合起始劑而硬化。另外，活性能量線硬化性樹脂組成物亦可含有非反應性聚合物。
使活性能量線硬化性樹脂組成物硬化時所使用的活性 能量線具體而言，例如可列舉可見光線、紫外線、電子束、電漿、紅外線等。
活性能量線的光照射例如是使用高壓水銀燈來進行。累計光照射能量的量只要為活性能量線硬化性樹脂組成物進行硬化的能量的量，則並無特別限定，例如較佳為100 mJ/cm2~5000 mJ/cm2，更佳為200 mJ/cm2~4000 mJ/cm2，進而佳為400 mJ/cm2~3200 mJ/cm2。活性能量線的累計光照射量有時會影響活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化度，故理想的是適當選擇而照射光。
活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化(光硬化)時所使用的聚合起始劑(光聚合起始劑)並無特別限定，例如可列舉：2,2-二乙氧基乙醯氧基苯酮(2,2-diethoxy acetoxyphenone)、對二甲基苯乙酮、1-羥基二甲基苯基酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-4-甲硫基-2-嗎啉基苯丙酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)丁酮等苯乙酮類；安息香甲醚、安息香甲苯磺酸酯、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚等安息香類；二苯甲酮、2,4-二氯二苯甲酮、4,4-二氯二苯甲酮、對氯二苯甲酮等二苯甲酮類；2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物等膦氧化物類；縮酮類；蒽醌類；噻噸酮類；偶氮化合物；過氧化物；2,3-二烷基二酮化合物；二硫醚化合物；氟胺化合物；芳香族鋶類等。該些光聚合起始劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
另外，活性能量線硬化性樹脂組成物亦可併用光硬化與熱硬化來進行硬化。併用熱硬化的情形時添加的熱聚合起始劑並 無特別限定，例如可列舉：2,2'-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙腈)、2,2'-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1'-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、1-[(1-氰基-1-甲基乙基)偶氮]甲醯胺、2-苯基偶氮-4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈、二甲基2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)等偶氮化合物；過氧化苯甲醯、過氧化新癸酸第三己酯、過氧化二碳酸二(3-甲基-3-甲氧基丁基)酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化-2,4-二氯苯甲醯、過氧化三甲基乙酸第三己酯、過氧化三甲基乙酸第三丁酯、過氧化-3,5,5-三甲基己醯、過氧化辛醯、過氧化癸醯、過氧化月桂醯、過氧化辛酸戊酯、過氧化琥珀酸、過氧化乙醯、過氧化異丁酸第三丁酯、1,1'-雙(第三丁基過氧化)3,3,5-三甲基環己烷、1,1'-雙(第三丁基過氧化)環己烷、過氧化苯甲酸第三丁酯、過氧化二戊基等過氧化物等。該些熱聚合起始劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
本實施形態的積層體例如可用於抗反射膜(包括抗反射薄膜)或抗反射體等抗反射物品、圖像顯示裝置、觸控面板、光波導、凸紋全息圖(relief hologram)、太陽電池、透鏡、偏光分離元件、有機電致發光的提昇光取出率的構件等光學物品、細胞培養片等的用途中。本實施形態的積層體特別適於作為抗反射膜(包括抗反射薄膜)或抗反射體等抗反射物品的用途。
本實施形態的積層體具備可容易地去除污垢的防污性與耐擦傷性優異的表層，故若將本實施形態的積層體設置於抗反射物品、圖像顯示裝置、觸控面板等的最表面，則於使用時所附 著的皮脂等污垢難以附著且容易脫落，可發揮良好的抗反射性能。進而，即便不於表面上使用水或醇亦可容易地去除污垢，故於實用方面可獲得優異的物品。
於抗反射物品為膜形狀的情形時，例如可貼附於如液晶顯示裝置、電漿顯示器面板、電致發光顯示器、陰極管顯示裝置般的圖像顯示裝置、透鏡、櫥窗、汽車儀錶面罩(meter cover)、眼鏡片等對象物的表面上而使用。
於抗反射物品具有立體形狀的情形時，亦可預先使用與用途相對應的形狀的透明基材來製造積層體，並將其用作構成上述對象物的表面的構件。
另外，於對象物為圖像顯示裝置的情形時，不限於其表面，亦可對其前面板貼附抗反射物品，亦可由本實施形態的積層體構成前面板本身。
(實施形態2)
如上所述，表層可由活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物構成，於本實施形態的積層體中，較佳為活性能量線硬化性樹脂組成物含有具有SH基的化合物(D)。所謂SH基，是指硫醇基、氫硫基、巰基或硫氫基(sulfhydryl)。藉由具有SH基的化合物含有於活性能量線硬化性樹脂組成物中，可獲得硫原子與硫原子或碳原子的化學鍵。如此，可於維持硬化物的交聯密度的狀態下降低彈性模量，故可維持凸起的形狀並且對凸起賦予可撓性(flexibility)，可去除蓄積於凹部內的污垢，故防污性提高。
於本實施形態的積層體中，活性能量線硬化性樹脂組成物較佳為含有0質量份~95質量份的二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(E)、0質量份~75質量份的上述矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)、及1質量份~60質量份的具有SH基的化合物(D)(其中，將聚合性成分的合計量設定為100質量份)。再者，自二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(E)中將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)除外。
此處，所謂二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(E)，是指分子內具有至少2個以上的選自丙烯醯基(CH2=CHCO-)及甲基丙烯醯基(CH2=C(CH3)CO-)中的基團的化合物。
二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(E)可列舉：乙二 醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改質二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,5-戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)苯基)丙烷、1,2-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)乙烷、1,4-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)丁烷、二羥甲基三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙烯基苯、亞甲基雙丙烯醯胺等二官能性單體，季 戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷改質三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧丙烷改質三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷改質三丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改質三(甲基)丙烯酸酯等三官能單體，琥珀酸/三羥甲基乙烷/丙烯酸的縮合反應混合物、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯等多官能的單體，二官能以上的丙烯酸胺基甲酸酯，二官能以上的聚酯丙烯酸酯等。該些化合物可單獨使用一種，亦可組合使用兩種以上。
於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(E)較佳為0質量份~95質量份，更佳為25質量份~90質量份，尤佳為40質量份~90質量份。若二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(E)的含量為0質量份以上、95質量份以下，則可抑制彈性模量的過度降低，維持凸起的形狀。另外，藉由將二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(E)添加至組成物中，即若其含量超過0質量份，則容易抑制彈性模量，容易維持凸起的形狀。另外，於二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(E)的含量為40質量份以上的情形時，可抑制彈性模量的降低，更有效地防止凸起的合而为一。另外，於二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(E)的含量為95質量份以下的情形時，彈性模量降低，可更有效地去除污垢。另外，於二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(E)的含 量為90質量份以下的情形時，彈性模量充分降低，可更有效地去除蓄積於凹部內的污垢。結果容易自凹部內擠出污垢，可對積層體賦予充分的防污性。
於本實施形態中，於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)較佳為0質量份~75質量份，更佳為5質量份~70質量份。若矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量為0質量份以上、75質量份以下，則賦予撥水性，防污性進一步提高。另外，藉由將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)添加至組成物中，即若其含量超過0質量份，則更有效地賦予撥水性，防污性提高。另外，於矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量為5質量份以上的情形時，表層的表面能量降低，相對於水的接觸角成為130°以上，故防污性進一步提高。另外，於矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量為75質量份以下的情形時，與其他成分的相容性變良好，故透明性提高。另外，於矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量為70質量份以下的情形時，活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度得到抑制，操作性提高。
含有SH基的化合物(D)只要為含有SH基的化合物，則並無特別限定，為了提高表層的交聯密度、維持強度，較佳為含有2個以上的SH基的化合物，就活性能量線硬化性樹脂組成物的儲存穩定性的觀點而言，SH基更佳為二級硫醇。
具有2個以上的SH基的化合物例如可列舉：1,2-乙二硫醇、1,2-丙二硫醇、1,3-丙二硫醇、1,4-丁二硫醇、1,6-己二硫醇、 1,7-庚二硫醇、1,8-辛二硫醇、1,9-壬二硫醇、1,10-癸二硫醇、1,12-十二烷二硫醇、2,2-二甲基-1,3-丙二硫醇、3-甲基-1,5-戊二硫醇、2-甲基-1,8-辛二硫醇、1,4-環己二硫醇、1,4-雙(巰基甲基)環己烷、1,1-環己二硫醇、1,2-環己二硫醇、雙環[2,2,1]庚-外向型-順式-2,3-二硫醇、1,1-雙(巰基甲基)環己烷、雙(2-巰基乙基)醚、乙二醇雙(2-巰基乙酸酯)、乙二醇雙(3-巰基丙酸酯)等二硫醇化合物；1,1,1-三(巰基甲基)乙烷、2-乙基-2-巰基甲基-1,3-丙二硫醇、1,2,3-丙三硫醇、三羥甲基丙烷三(2-巰基乙酸酯)、三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、異三聚氰酸三((巰基丙醯氧基)-乙基)酯等三硫醇化合物；季戊四醇四(2-巰基乙酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丁酸酯)、二季戊四醇六-3-巰基丙酸酯等具有4個以上的SH基的硫醇化合物。
具有二級硫醇的化合物可列舉：卡蘭茨(Karenz)MT PE1、卡蘭茨(Karenz)MT NR1、卡蘭茨(Karenz)MT BD1(商品名，昭和電工公司製造)。
此種含有SH基的化合物(D)具體而言可較佳地列舉昭和電工公司製造的「卡蘭茨(Karenz)MT PE1」、「卡蘭茨(Karenz)MT BD1」、「卡蘭茨(Karenz)MT NR1」(均為商品名)。
於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，含有SH基的化合物(D)較佳為1質量份~60質量份，更佳為1質量份~15質量份。若含有SH基的化合物(D)的含量為1質量份以上，則可於維持交聯密 度的狀態下降低表層的彈性模量，故容易自凹部內擠出污垢，結果可對積層體賦予充分的防污性，且可維持凸部的形狀的恢復力。另外，若含有SH基的化合物(D)的含量為60質量份以下，則可維持活性能量線硬化性樹脂組成物的儲存穩定性。另外，於含有SH基的化合物(D)的含量為15質量份以下的情形時，可更有效地抑制表層的彈性模量的降低，防止凸部的合而为一。
於活性能量線硬化性樹脂組成物中，另外亦可含有單官能單體。單官能單體理想的是考慮到與二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(E)及矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的相容性而選擇，就此種觀點而言，單官能單體例如可較佳地列舉：於酯基上具有聚乙二醇鏈的單官能(甲基)丙烯酸酯類、於(甲基)丙烯酸羥基烷基酯等的酯基上具有羥基的單官能(甲基)丙烯酸酯類、單官能丙烯醯胺類、甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨甲基硫酸鹽或甲基丙烯醯氧基乙基三甲基銨甲基硫酸鹽等陽離子性單體類等親水性單官能單體。單官能單體具體可使用單官能(甲基)丙烯酸酯類的「M-20G」、「M-90G」、「M-230G」(新中村化學公司製造，均為商品名)等。另外，就提高防污性的觀點而言，可較佳地使用單(甲基)丙烯酸烷基酯、矽酮(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸氟化烷基酯。此種單官能單體具體可使用：日油公司製造的「布蘭莫(Blemmer)LA」、「布蘭莫(Blemmer)CA」、「布蘭莫(Blemmer)SA」(均為商品名)，信越化學工業公司製造的「X-24-8201」、「X-22-174DX」(均為商品名)，埃克斯弗洛研究(Exfluor Research)公司製造的 「C10GACRY」(商品名)等。
(實施形態3)
表層亦可由以下的層所構成：包含上述活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層、及形成於該包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層上的作為最表面層的表面處理層。
圖3為表示本實施形態的積層體110的構成的一例的示意性剖面圖。於圖3中，於具有透明性的基材111上形成有包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層(以下亦稱為硬化物層)112，於該硬化物層112上形成有表面處理層113作為最表面層。於積層體110中，硬化物層112於表面側形成有微細凹凸結構，表面處理層113是沿著該微細凹凸結構而形成。表層104是由硬化物層112及表面處理層113所構成。微細凹凸結構的形狀不限於圖3所示的形狀，亦可為如圖4所示般的形狀，亦可為其他形狀。
於本實施形態的積層體中，微細凹凸結構區域的水接觸角、即表面處理層的水接觸角較佳為130°以上，更佳為135°以上。於表面處理層的水接觸角為130°以上的情形時，表面能量充分小，故可容易地擦去污垢。另外，於表面處理層的水接觸角為135°以上的情形時，表面能量充分小，故可抑制污垢的附著。表面處理層的水接觸角的上限並無特別限制，但較佳為150°以下，更佳為145°以下。顯示出此種撥水性的表面處理層的材料可較佳地使用具有烷基、聚二甲基矽氧烷結構或氟化烷基的化合物。另外， 就與微細凹凸結構的密接性的觀點而言，表面處理層的材料較佳為矽烷、烷氧基矽烷、矽氮烷、(甲基)丙烯酸酯等具有反應性基的化合物。此種化合物具體而言可較佳地列舉：信越化學工業公司製造的「KBM」系列、「KBE」系列、「X」系列，日本畢克化學(BYK Chemie Japan)公司製造的「BYK」系列，日本贏創德固賽(Evonik Degussa Japan)公司製造「TEGO Rad」系列，氟科技(FluoroTechnology)公司製造的「FG」系列、「FS」系列等。
表面處理層的材料可藉由浸漬、噴霧、刷塗、旋塗等通常的方法來塗佈於硬化物上。另外，為了提高表面處理層與具有微細凹凸結構的硬化物層的密接性，較佳為進行微細凹凸結構區域的前處理。前處理可列舉：藉由二氧化矽蒸鍍或電漿等來對微細凹凸結構表面導入官能基，塗佈含有與表面處理層的反應性良好的化合物的底漆(primer)等。就維持微細凹凸結構的抗反射性能的觀點而言，表面處理層的厚度較佳為100 nm以下。表面處理層的存在可根據以下情況來確認：於角度可變衰減全反射(Attenuated Total Reflectance，ATR)測定中光譜視入射角而變化，或利用穿透式電子顯微鏡(Transmission Electron Microscopy，TEM)進行剖面觀察。
(實施形態4)
以下，對本實施形態加以詳細說明。
本實施形態的積層體具備於表面上具有微細凹凸結構的表層，並且上述表層的彈性模量小於200 MPa，上述表層的水接觸 角為25°以下。
較佳為上述表層含有活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物，上述活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物含有聚合性成分的聚合物，上述聚合性成分含有5質量份~55質量份的三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯、及45質量份~95質量份的聚乙二醇二丙烯酸酯(乙二醇的平均重複單元為6~40)(其中，將聚合性成分的合計量設定為100質量份)。本實施形態的積層體即便不於表面上使用水或醇等亦可容易地去除污垢，防污性優異。
圖1為表示本實施形態的積層體的一例的縱剖面圖。圖1所示的積層體10於後述的透明基材11上形成有表層12。於表層12的表面上形成有微細凹凸結構。另外，表層12含有活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物。
於本實施形態的微細凹凸結構中，圖1中的相鄰凸部13彼此的間隔(間距)w1較佳為可見光的波長以下，更佳為100 nm以上、300 nm以下，進而佳為150 nm以上、250 nm以下，尤佳為170 nm以上、230 nm以下。尤其於上述間距為150 nm以上的情形時，即便表層的彈性模量小於200 MPa，亦可進一步防止凸部13彼此的凸起合而为一。另外，尤其於上述間距為250 nm以下的情形時，由於充分小於可見光的波長，故可進一步抑制可見光的散射而可較佳地用作抗反射物品。再者，本實施形態中所謂「可見光的波長」，是指400 nm的波長。另外，所謂相鄰凸部彼此間的間隔，於圖1中表示自凸部的頂端13a起至鄰接凸部的頂 端13a為止的間隔w1。
於本實施形態的微細凹凸結構中，圖1的凸部13的高度d1較佳為100 nm以上，更佳為120 nm以上，進而佳為150 nm以上，尤佳為170 nm以上。藉由凸部13的高度d1為100 nm以上，不會發生最低反射率上昇、或特定波長的反射率上昇的情況，於將積層體用作抗反射物品的情形時，亦可獲得充分的抗反射性。凸部13的高度d1的上限並無特別限定，例如可設定為1 μm以下。再者，所謂凸部的高度，於圖1中表示自凸部的頂端13a起至鄰接的凹部的底部14a為止的垂直距離d1。
縱橫比(凸部13的高度d1/相鄰凸部13彼此的間隔w1)較佳為0.5~5.0，更佳為0.6~2.0，進而佳為0.7~1.5，尤佳為0.8~1.2。於縱橫比大於0.5的情形時，不會發生最低反射率上昇、或特定波長的反射率上昇的情況，於將積層體用作抗反射物品的情形時，亦可獲得充分的抗反射性。另外，於縱橫比小於5.0的情形時，擦拭時凸部亦不易彎折，故耐擦傷性提高，顯示出充分的抗反射性。
再者，相鄰凸部彼此間的間隔及凸部的高度為於微細凹凸結構上蒸鍍鉑(platina)10分鐘後，使用掃描電子顯微鏡(商品名：「JSM-7400F」，日本電子(股)製造)，於加速電壓為3.00 kv的條件下進行觀察，藉此分別各測定10點所得的平均值。
本實施形態的表層的彈性模量小於200 MPa。若彈性模量為200 MPa以上，則表層的微細凹凸結構變硬，無法充分擠出 進入凹部內的污垢，防污性差。表層的彈性模量較佳為40 MPa以上、180 MPa以下，更佳為60 MPa以上、170 MPa以下，進而佳為90 MPa以上、160 MPa以下，尤佳為100 MPa以上、150 MPa以下。若表層的彈性模量為40 MPa以上，則可防止微細凹凸結構的凸部的凸起合而为一。尤其於表層的彈性模量為90 MPa以上的情形時，微細凹凸結構充分硬，故可進一步防止凸部的凸起合而为一。另外，尤其於表層的彈性模量為150 MPa以下的情形時，微細凹凸結構充分柔軟，故可使微細凹凸結構自由地變形，可更簡便地去除進入凹部內的污垢，防污性變良好。
再者，表層的彈性模量為藉由以下方法測定的值。使用「費舍爾斯高普(FISCHERSCOPE)(R)HM2000」(商品名，費舍爾(FISCHER)公司製造)，對表層的照射面一面以50 mN/10 s的條件使負載增加一面施加負載，以50 mN保持60秒鐘後，以與增加負載相同的條件卸載。使用此時受到65%與95%的負載的點，藉由外推法來計算彈性模量。或者亦可使用厚度為500 μm的鐵氟龍(Teflon)片作為間隔件(spacer)，由2片玻璃來夾持作為表層的材料的活性能量線硬化性樹脂組成物，以累計光照射量為3000 mJ/cm2的能量來照射紫外線，使活性能量線硬化性樹脂組成物進行光硬化，製作厚度為500 μm的活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物，對該硬化物的照射面與上述同樣地進行測定，計算彈性模量。
本實施形態的表層的水接觸角為25°以下，較佳為20° 以下，更佳為15°以下，進而佳為10°以下。於表層的水接觸角為25°以下的情形時，可使積層體的表面親水化，如日本專利4689718號所記載般使所附著的污垢於水中浮起並將其擦去。表層的水接觸角越低越好，其下限並無特別限定，例如可設定為1°以上，較佳為3°以上。
再者，表層的水接觸角為使用自動接觸角測定裝置(克呂士(KRUSS)公司製造)，於表層的表面上滴加1 μl的水，利用θ/2法算出7秒後的接觸角所得的值。
本實施形態的積層體可具備基材。例如，可如圖1所示的積層體10般與表層12鄰接而具備基材11。
本實施形態的活性能量線硬化性樹脂組成物可適當含有分子內具有自由基聚合性及/或陽離子聚合性鍵的單體、低聚合度的聚合物以及反應性聚合物，且藉由後述的聚合起始劑而硬化。另外，本實施形態的活性能量線硬化性樹脂組成物亦可含有非反應性聚合物。
本實施形態的活性能量線硬化性樹脂組成物較佳為含有聚合性成分，該聚合性成分包含5質量份~55質量份的三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯、及45質量份~95質量份的聚乙二醇二丙烯酸酯(乙二醇的平均重複單元為6~40)(其中，將聚合性成分的合計量設定為100質量份)。藉此，可將表層的彈性模量設定為小於200 MPa。再者，於本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸酯，表示丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。另外，所謂聚合性成分，表示具有聚 合性官能基的化合物。
三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯並無特別限定，較佳為四官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯，更佳為五官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯。例如可列舉：二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇羥基五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(例如卡亞拉得(Kayarad)DPEA(商品名，日本化藥(股)製造))、琥珀酸/三羥甲基乙烷/丙烯酸的莫耳比為1：2：4的縮合反應混合物、丙烯酸胺基甲酸酯類(例如艾白克力(EBECRYL)220、艾白克力(EBECRYL)1290、艾白克力(EBECRYL)1290K、艾白克力(EBECRYL)5129、艾白克力(EBECRYL)8210、艾白克力(EBECRYL)8301、KRM8200(以上為商品名，大賽璐氰特(Daicel-Cytec)(股)製造))、聚醚丙烯酸酯類(例如艾白克力(EBECRYL)81(商品名，大賽璐氰特(Daicel-Cytec)(股)製造))、改質環氧丙烯酸酯類(例如艾白克力(EBECRYL)3416(商品名，大賽璐氰特(Daicel-Cytec)(股)製造))、聚酯丙烯酸酯類(例如艾白克力(EBECRYL)450、艾白克力(EBECRYL)657、艾白克力(EBECRYL)800、艾白克力(EBECRYL)810、艾白克力(EBECRYL)811、艾白克力(EBECRYL)812、艾白克力(EBECRYL)1830、艾白克力(EBECRYL)845、艾白克力(EBECRYL)846、艾白克力(EBECRYL)1870(以上為商品名，大賽璐氰特(Daicel-Cytec)(股)製造))、環氧乙烷改質二季戊 四醇六丙烯酸酯(例如卡亞拉得(Kayarad)DPEA-12(商品名，日本化藥(股)製造)、DPEA-18(商品名，第一工業製藥(股)製造))等對上述單體加成環氧乙烷或環氧丙烷而成的單體等。該些化合物可單獨使用，亦可併用兩種以上。
於將聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，聚合性成分所含的三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯較佳為5質量份~55質量份，更佳為10質量份~50質量份，進而佳為20質量份~45質量份，尤佳為25質量份~40質量份。於聚合性成分所含的三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯小於5質量份的情形時，有時無法對表層賦予可轉印微細凹凸結構的程度的彈性模量。另外，於聚合性成分所含的三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯超過55質量份的情形時，無法使表層的彈性模量小於200 MPa，有時變硬而無法擠出污垢。另一方面，尤其於聚合性成分所含的三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯為25質量份以上的情形時，可對表層賦予充分的彈性模量，進一步抑制微細凹凸結構的凸部的凸起合而为一。另外，尤其於聚合性成分所含的三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯為45質量份以下的情形時，凸部的運動性降低進一步得到抑制，表現出高的防污性。
作為二官能(甲基)丙烯酸酯的聚乙二醇二丙烯酸酯(乙 二醇的平均重複單元為6~40)可列舉：亞羅尼斯(Aronix)M-260(東亞合成(股)製造，乙二醇的平均重複單元：13)、A-400(乙二醇的平均重複單元：9)、A-600(乙二醇的平均重複單元：14)、 A-1000(乙二醇的平均重複單元：23)(以上為商品名，新中村化學工業(股)製造)等。該些化合物可單獨使用，亦可併用兩種以上。藉由聚合物含有聚乙二醇二丙烯酸酯單元，可提高表層所含的硬化物的分子運動性，擠出進入凹部內的污垢。
存在於聚乙二醇二丙烯酸酯內的乙二醇的平均重複單元較佳為6~40，更佳為9~30，進而佳為10~25，尤佳為12~20。於乙二醇的平均重複單元小於6的情形時，無法使表層的水接觸角為25°以下，有時無法獲得充分的防污性。另一方面，於乙二醇的平均重複單元超過40的情形時，有時與三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯的相容性不充分。
於將聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，聚合性成分所含的上述聚乙二醇二丙烯酸酯較佳為45質量份~95質量份，更佳為50質量份~85質量份，進而佳為53質量份~80質量份，尤佳為55質量份~75質量份。於聚合性成分所含的上述聚乙二醇二丙烯酸酯小於45質量份的情形時，有時無法使表層的彈性模量小於200 MPa。另外，於聚合性成分所含的上述聚乙二醇二丙烯酸酯超過95質量份的情形時，有時無法於表層中保持可轉印微細凹凸結構的程度的彈性模量。另一方面，尤其於聚合性成分所含的上述聚乙二醇二丙烯酸酯為55質量份以上的情形時，對凸部賦予充分的運動性，表現出充分的防污性。另外，尤其於聚合性成分所含的上述聚乙二醇二丙烯酸酯為75質量份以下的情形時，彈性模量的降低進一步得到抑制，可進一步抑制凸部的凸 起合而为一。
聚合性成分中亦可更含有單官能單體。單官能單體只要與上述三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯及上述聚乙二醇二丙烯酸酯相容，則並無特別限定。單官能單體例如較佳為M-20G、M-90G、M-230G(以上為商品名，新中村化學工業(股)製造)等在酯基上具有聚乙二醇鏈的單官能(甲基)丙烯酸酯類，在(甲基)丙烯酸羥基烷基酯等的酯基上具有羥基的單官能(甲基)丙烯酸酯類，單官能丙烯醯胺類，甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨甲基硫酸鹽、甲基丙烯醯氧基乙基三甲基銨甲基硫酸鹽等陽離子性單體類等親水性單官能單體。該些單體可僅使用一種，亦可併用兩種以上。
於將聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，聚合性成分所含的上述單官能單體較佳為0質量份~20質量份，更佳為5質量份~15質量份。藉由在聚合物中導入單官能單體單元，基材與表層的密接性提高。藉由將上述單官能單體的含量設定為20質量份以下，聚合物中的上述三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯單元及上述聚乙二醇二丙烯酸酯單元的含量不會不足，表現出充分的防污性。
另外，亦可將使一種或兩種以上的上述單官能單體進行(共)聚合所得的低聚合度的聚合物調配於活性能量線硬化性樹脂組成物中。於將聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，可於活性能量線硬化性樹脂組成物中調配例如0質量份~35質量份的該低聚合度的聚合物。該低聚合度的聚合物例如可列舉：於 酯基上具有聚乙二醇鏈的單官能(甲基)丙烯酸酯類、與甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨甲基硫酸鹽的40/60共聚合低聚物(商品名：「MG聚合物」，三菱人造絲子公司(MRC Unitec)(股)製造)等。
另外，活性能量線硬化性樹脂組成物除了含有上述各種單體或低聚合度的聚合物以外，亦可含有抗靜電劑、脫模劑、紫外線吸收劑、膠體二氧化矽等的微粒子。進而，活性能量線硬化性樹脂組成物亦可含有丙烯醯基嗎啉或乙烯基吡咯烷酮等黏度調整劑、提昇與基材的密接性的丙烯醯基異氰酸酯類等密接性提昇劑等。
若活性能量線硬化性樹脂組成物中含有脫模劑，則可於連續地製造本實施形態的積層體時維持良好的脫模性。尤其於使用陽極氧化氧化鋁的模具的情形時，(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物與氧化鋁相互作用，由此脫模劑容易吸附於模具的表面。
(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物的市售品例如可列舉：城北化學工業股份有限公司製造的「JP-506H」，艾克賽爾(Axel)公司製造的「模維茲(Moldwiz)INT-1856」，日光化學股份有限公司製造的「TDP-10」、「TDP-8」、「TDP-6」、「TDP-2」、「DDP-10」、「DDP-8」、「DDP-6」、「DDP-4」、「DDP-2」、「TLP-4」、「TCP-5」、「DLP-10」(以上為商品名)等。活性能量線硬化性樹脂組成物中所含的脫模劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
相對於聚合性成分100質量份，活性能量線硬化性樹脂組成物中所含的脫模劑的比例較佳為0.01質量份~2.0質量份，更 佳為0.05質量份~0.2質量份。若脫模劑的比例為0.01質量份以上，則表面上具有微細凹凸結構的物品自模具的脫模性良好。另一方面，若脫模劑的比例為2.0質量%以下，則活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物與基材的密接性良好，另外，硬化物的硬度適當，可充分維持微細凹凸結構。
使活性能量線硬化性樹脂組成物硬化時所使用的活性能量線具體可列舉可見光線、紫外線、電子束、電漿、紅外線等熱線等。
另外，活性能量線硬化性樹脂組成物亦可併用光硬化與熱硬化來進行硬化。
如此，本實施形態的積層體具備於表面上具有微細凹凸結構的含有活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的表層，該表層的彈性模量小於200 MPa，由於該表層包含特定的樹脂組成，故防污性優異。另外，於微細凹凸結構的相鄰凸部彼此間的間隔為可見光的波長(400 nm)以下的情形時，抗反射性更優異，故本實施形態的積層體可尤佳地用於抗反射物品。另外，於凸部的高度為100 nm以上的情形時，抗反射性更優異。
進而，本實施形態的抗反射物品、影像裝置及觸控面板由於具備本實施形態的積層體，故抗反射性能與防污性優異。尤其若將本實施形態的積層體設置於抗反射物品、影像裝置及觸控面板的最表面，則於使用時附著的皮脂等污垢難以附著且容易脫落，故可發揮良好的抗反射性能。
(實施形態5)
以下，對本實施形態加以詳細說明。
圖1為表示本實施形態的積層體10的構成的一例的示意性剖面圖。於圖1中，於具有透明性的基材11的表面上形成有包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的表層12。於積層體10中，於表層12的表面上形成有微細凹凸結構。
於本實施形態的積層體中，形成有微細凹凸結構的部分的表層的水接觸角為130°以上，較佳為135°以上。於表層的水接觸角為130°以上的情形時，表面能量充分小，故可容易地擦去污垢。另外，於表層的水接觸角進一步為135°以上的情形時，表面能量充分小，故可抑制污垢的附著。表層的水接觸角的上限並無特別限制，較佳為150°以下，更佳為145°以下。
於本實施形態的積層體中，微細凹凸結構的表面的彈性模量、即表層的彈性模量小於200 MPa，較佳為50 MPa~100 MPa。若表層的彈性模量小於200 MPa，則微細凹凸結構柔軟，故可擠出進入凹部內的污垢。另外，若表層的彈性模量為50 MPa以上，則微細凹凸結構充分硬，故可有效地防止凸部的凸起合而为一。若表層的彈性模量為100 MPa以下，則微細凹凸結構充分柔軟，故可使微細凹凸結構自由地變形，可容易地去除進入凹部內的污垢。
於本實施形態的積層體中，表層是由活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物所構成。另外，活性能量線硬化性樹脂組成 物較佳為含有1質量份~55質量份的三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)、10質量份~95質量份的二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)、及3質量份~85質量份的矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)。再者，自三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)及二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)中將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)除外。
此處，所謂三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯，是指於分子內具有至少3個以上的選自丙烯醯基(CH2=CHCO-)及甲基丙烯醯基(CH2=C(CH3)CO-)中的基團的化合物。另外，所謂二官能的(甲基)丙烯酸酯，是指於分子內具有2個選自丙烯醯基(CH2=CHCO-)及甲基丙烯醯基(CH2=C(CH3)CO-)中的基團的化合物。
三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)較佳為四官能以上，更佳為五官能以上。三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)例如可列舉：二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇羥基五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、琥珀酸/三羥甲基乙烷/丙烯酸的莫耳比為1：2：4的縮合反應物、丙烯酸胺基甲酸酯類、聚醚丙烯酸酯類、改質環氧丙烯酸酯類、聚酯丙烯酸酯類等。丙烯酸胺基甲酸酯類例如可列舉：大賽璐氰特(Daicel-Cytec)公司製造的「艾白克力(EBECRYL)220」、「艾白克力(EBECRYL)1290」、「艾白克力(EBECRYL)1290K」、「艾白克力(EBECRYL)5129」、「艾白克力(EBECRYL)8210」、「艾 白克力(EBECRYL)8301」、「KRM8200」。聚醚丙烯酸酯類例如可列舉大賽璐氰特(Daicel-Cytec)公司製造的「艾白克力(EBECRYL)81」。改質環氧丙烯酸酯類可列舉大賽璐氰特(Daicel-Cytec)公司製造的「艾白克力(EBECRYL)3416」。聚酯丙烯酸酯類可列舉大賽璐氰特(Daicel-Cytec)公司製造的「艾白克力(EBECRYL)450」、「艾白克力(EBECRYL)657」、「艾白克力(EBECRYL)800」、「艾白克力(EBECRYL)810」、「艾白克力(EBECRYL)811」、「艾白克力(EBECRYL)812」、「艾白克力(EBECRYL)1830」、「艾白克力(EBECRYL)845」、「艾白克力(EBECRYL)846」、「艾白克力(EBECRYL)1870」。另外，除此以外，三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)亦例如可列舉對上述單體加成環氧乙烷或環氧丙烷而成的單體。該些多官能(甲基)丙烯酸酯(A)可單獨使用，亦可併用兩種以上。
於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)較佳為1質量份~55質量份，更佳為11質量份~30質量份。藉由將三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量設定為1質量份以上，可對表層賦予可轉印微細凹凸結構的程度的彈性模量。另外，藉由將三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量設定為55質量份以下，可抑制表層的彈性模量的增加。結果，可容易地自凹部內擠出污垢，對積層體賦予充分的防污性。另外，藉由將三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的 含量設定為11質量份以上，可對表層賦予良好的彈性模量，可抑制微細凹凸結構中的凸部的凸起合而为一。另外，藉由將三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量設定為30質量份以下，凸部的運動性的降低得到抑制，有效地表現出即便不使用水或醇亦可容易地去除污垢的防污性。再者，於本說明書中，所謂凸起或凸部的凸起合而为一，是指鄰接的凸起或凸部合併而形成為一個凸起或凸部。
二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)較佳為具有聚乙二醇的二官能丙烯酸酯類、具有聚丙二醇的二官能丙烯酸酯類、具有聚丁二醇的二官能丙烯酸酯等具有聚伸烷基二醇的二官能丙烯酸酯。具有聚乙二醇的二官能丙烯酸酯類的具體例可列舉：亞羅尼斯(Aronix)M-240、亞羅尼斯(Aronix)M-260(東亞合成公司製造)，NK Ester AT-20E、NK Ester ATM-35E(新中村化學公司製造)等。具有聚丙二醇的二官能丙烯酸酯類的具體例可列舉APG-400、APG-700(新中村化學公司製造)等。具有聚丁二醇的二官能丙烯酸酯的具體例可列舉A-PTMG-650(新中村化學公司製造)等。藉由使用具有聚伸烷基二醇的二官能丙烯酸酯作為二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)，表層的彈性模量得到抑制，容易自凹部內擠出污垢，有效地表現出防污性。具有聚伸烷基二醇的二官能丙烯酸酯中，就可獲得更良好的防污性的方面而言，可較佳地使用聚乙二醇二丙烯酸酯。藉由使用聚乙二醇二丙烯酸酯作為二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)，表層的樹脂的分子運動性提高，更 容易擠出進入凹部內的污垢，表現出良好的防污性。
於聚乙二醇二丙烯酸酯的一分子內存在的聚乙二醇鏈的平均重複單元的合計量較佳為6~40，更佳為9~30，進而佳為12~20。若聚乙二醇鏈的平均重複單元為6以上，則保持分子的運動性，表現出良好的防污性。若聚乙二醇鏈的平均重複單元為40以下，則與三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的相容性變良好。另外，具有聚伸烷基二醇的二官能丙烯酸酯中，就相容性的方面而言，亦可較佳地使用聚丙二醇二丙烯酸酯、聚丁二醇二丙烯酸酯。藉由使用聚丙二醇二丙烯酸酯或聚丁二醇二丙烯酸酯作為二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)，與親水性低的矽酮二(甲基)丙烯酸酯等矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的相容性提高，可獲得透明的活性能量線硬化性樹脂組成物。該些二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)可單獨使用，亦可併用兩種以上。另外，就兼具防污性與相容性的方面而言，較佳為併用聚乙二醇與聚丙二醇二丙烯酸酯及/或聚丁二醇二丙烯酸酯。
於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)較佳為10質量份~95質量份，更佳為20質量份~70質量份。藉由將二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量設定為10質量份以上，表層的彈性模量的增加得到抑制，容易自凹部內擠出污垢，表現出充分的防污性。藉由將二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量設定為95質量份以下，可於表層中保持可轉印微細凹凸結構的程度 的彈性模量。另外，藉由將二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量設定為20質量份以上，可對凸部賦予運動性，有效地表現出防污性。另外，藉由將二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量設定為70質量份以下，彈性模量的降低得到抑制，可抑制凸部的凸起合而为一。
矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)只要為於具有有機矽氧烷結構的化合物的側鏈及/或末端具有至少一個以上的選自丙烯醯基(CH2=CHCO-)及甲基丙烯醯基(CH2=C(CH3)CO-)中的基團的化合物，則並無特別限定。矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)理想的是根據與三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)及二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的相容性的觀點來選擇，矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)較佳為使用具有相容性片段的化合物，上述相容性片段有助於與(A)及(B)的相容性。相容性片段例如可列舉聚環氧烷結構、聚酯結構及聚醯胺結構等。該些相容性片段可於矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)中單獨含有，另外亦可含有兩種以上。另外，就操作性的方面而言，矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)亦可稀釋後使用。就自硬化物的滲出等方面而言，稀釋劑較佳為具有反應性。另外，藉由使三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)或二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)混入矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)中，可提高矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的操作性。
此種矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)具體而言，例如可較佳地列舉：智索(Chisso)公司製造的塞拉普蘭(Silaplane)系列， 信越化學工業公司製造的矽酮二丙烯酸酯「X-22-164」、矽酮二丙烯酸酯「X-22-1602」，日本畢克化學(BYK Chemie Japan)公司製造的「BYK-3500」、「BYK-3570」，日本贏創德固賽(Evonik Degussa Japan)公司製造的TEGO Rad系列。該些矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)可單獨使用，亦可併用兩種以上。
於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)較佳為3質量份~85質量份，更佳為5質量份~70質量份，進而佳為45質量份~70質量份，尤佳為45質量份~65質量份。藉由將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量設定為3質量份以上，具有微細凹凸結構的表層的水接觸角容易成為130°以上，而對積層體賦予防污性。另外，藉由將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量設定為85質量份以下，可對表層賦予可轉印微細凹凸結構的程度的彈性模量。另外，藉由將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量設定為5質量份以上，表層的水接觸角容易成為135°以上，積層體的防污性提高。另外，藉由將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量設定為70質量份以下，活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度得到抑制，操作性提高。另外，藉由將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量設定為45質量份以上，相對於活性能量線硬化性樹脂組成物中的成分、特別是(A)及(B)的相容性變良好，且表層的撥水性與凸起的柔軟性提高，故表現出優異的防污性。另外，藉由將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量設定為65質量份以下，可抑制表層的彈性模量 的降低，抑制微細凹凸結構的凸部的凸起合而为一。
活性能量線硬化性樹脂組成物中，另外亦可含有單官能單體。單官能單體理想的是考慮到與三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)及二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的相容性而選擇，就此種觀點而言，例如可較佳地列舉：於酯基上具有聚乙二醇鏈的單官能(甲基)丙烯酸酯類、於(甲基)丙烯酸羥基烷基酯等的酯基上具有羥基的單官能(甲基)丙烯酸酯類、單官能丙烯醯胺類、甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨甲基硫酸鹽或甲基丙烯醯氧基乙基三甲基銨甲基硫酸鹽等陽離子性單體類等親水性單官能單體。單官能單體具體可使用單官能(甲基)丙烯酸酯類的「M-20G」、「M-90G」、「M-230G」(新中村化學公司製造)等。
另外，於活性能量線硬化性樹脂組成物中，亦可添加丙烯醯基嗎啉或乙烯基吡咯烷酮等黏度調整劑、或提高與透明基材的密接性的丙烯醯基異氰酸酯類等密接性提昇劑等。
於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，活性能量線硬化性樹脂組成物中的單官能單體的含量例如較佳為0.1質量份~20質量份，更佳為5質量份~15質量份。藉由含有單官能單體，基材與表層(活性能量線硬化樹脂)的密接性提高。藉由將單官能單體的含量設定為20質量份以下，而容易調整三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)及二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量，充分表現出防污性。單官能單體可單獨使用一種或混合使用兩種以上。
另外，於活性能量線硬化性樹脂組成物中，亦可添加使一種或兩種以上的單官能單體進行聚合而成的低聚合度的聚合物(低聚物)。此種低聚合度的聚合物具體而言，例如可列舉：於酯基上具有聚乙二醇鏈的單官能(甲基)丙烯酸酯類(例如「M-230G」，新中村化學公司製造)、或甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨甲基硫酸鹽的40/60共聚合低聚物(例如三菱人造絲子公司(MRC Unitec)製造，「MG聚合物」)等。
進而，於活性能量線硬化性組成物中，除了上述各種單體或低聚合度的聚合物以外，亦可含有抗靜電劑、脫模劑、紫外線吸收劑、膠體二氧化矽等的微粒子。
活性能量線硬化性樹脂組成物亦可含有脫模劑。若活性能量線硬化性樹脂組成物中含有脫模劑，則可於連續地製造積層體時維持良好的脫模性。脫模劑例如可列舉(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物。尤其於使用陽極氧化氧化鋁的模具的情形時，(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物與氧化鋁相互作用，由此脫模劑容易吸附於模具的表面上。
(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物的市售品例如可列舉：城北化學工業股份有限公司製造的「JP-506H」(商品名)，艾克賽爾(Axel)公司製造的「模維茲(Moldwiz)INT-1856」(商品名)，日光化學股份有限公司製造的「TDP-10」、「TDP-8」、「TDP-6」、「TDP-2」、「DDP-10」、「DDP-8」、「DDP-6」、「DDP-4」、「DDP-2」、「TLP-4」、「TCP-5」、「DLP-10」(商品名)等。
活性能量線硬化性樹脂組成物中所含的脫模劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
相對於聚合性成分100質量份，活性能量線硬化性樹脂組成物所含的脫模劑的含量較佳為0.01質量份~2.0質量份，更佳為0.05質量份~0.2質量份。若脫模劑的含量為0.01質量份以上，則表面上具有微細凹凸結構的物品自模具的脫模性良好。另一方面，若脫模劑的比例為2.0質量份以下，則活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物與基材的密接性良好，另外，硬化物的硬度適當，可充分維持微細凹凸結構。
本實施形態的活性能量線硬化性樹脂組成物可適當含有分子中具有自由基聚合性及/或陽離子聚合性鍵的單體、低聚合度的聚合物以及反應性聚合物，且藉由後述的聚合起始劑而硬化。另外，活性能量線硬化性樹脂組成物亦可含有非反應性聚合物。
本實施形態的積層體具備可容易地去除污垢的防污性優異的表層，故若將本實施形態的積層體設置於抗反射物品、圖像顯示裝置、觸控面板等的最表面，則於使用時附著的皮脂等污垢難以附著且容易脫落，可發揮良好的抗反射性能。進而，即便不於表面上使用水或醇亦可容易地去除污垢，故於實用方面亦可獲得優異的物品。
(實施形態6)
以下，對本實施形態加以詳細說明。
圖1為表示本實施形態的積層體10的構成的一例的示意性剖面圖。於圖1中，於具有透明性的基材11的表面上形成有包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的表層12，於表層12的表面上具有表面處理層13。
於本實施形態的積層體中，積層體的表面的彈性模量、即包含表面處理層與表層的微細凹凸結構層的彈性模量為2000 MPa以下，較佳為200 MPa以下，更佳為50 MPa~100 MPa。若微細凹凸結構層的彈性模量為2000 MPa以下，則微細凹凸結構柔軟，故可藉由少的外力使進入凹部內的污垢移動。若微細凹凸結構層的彈性模量為200 MPa以下，則微細凹凸結構更為柔軟，故可藉由極少的外力來擠出進入凹部內的污垢。另外，若微細凹凸結構層的彈性模量為50 MPa以上，則可有效地防止微細凹凸結構的凸部的合而为一。若表層的彈性模量為100 MPa以下，則微細凹凸結構充分柔軟，故可藉由極少的外力使微細凹凸結構自由地變形，可容易地去除進入凹部內的污垢。再者，於本說明書中，所謂凸起或凸部的合而为一，是指鄰接的凸起或凸部合併而形成為一個凸起或凸部。
於本實施形態的積層體中，表層是由活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物所構成。另外，活性能量線硬化性樹脂組成物含有25質量份~70質量份的三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)、及30質量份~75質量份的二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)(其中，將聚合性成分的合計量設定為100質量份)。
此處，所謂三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯，是指分子內具有至少3個以上的選自丙烯醯基(CH2=CHCO-)及甲基丙烯醯基(CH2=C(CH3)CO-)中的基團的化合物。另外，所謂二官能的(甲基)丙烯酸酯，是指分子內具有2個選自丙烯醯基(CH2=CHCO-)及甲基丙烯醯基(CH2=C(CH3)CO-)中的基團的化合物。
三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)較佳為四官能以上，更佳為五官能以上。三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)例如可列舉：二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇羥基五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、琥珀酸/三羥甲基乙烷/(甲基)丙烯酸的莫耳比為1：2：4的縮合反應物、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類、聚醚(甲基)丙烯酸酯類、改質環氧(甲基)丙烯酸酯類、聚酯(甲基)丙烯酸酯類、矽酮(甲基)丙烯酸酯類等。(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類例如可列舉：大賽璐氰特(Daicel-Cytec)公司製造的「艾白克力(EBECRYL)220」、「艾白克力(EBECRYL)1290」、「艾白克力(EBECRYL)1290K」、「艾白克力(EBECRYL)5129」、「艾白克力(EBECRYL)8210」、「艾白克力(EBECRYL)8301」、「KRM8200」。聚醚(甲基)丙烯酸酯類例如可列舉大賽璐氰特(Daicel-Cytec)公司製造的「艾白克力(EBECRYL)81」。改質環氧(甲基)丙烯酸酯類可列舉大賽璐氰特(Daicel-Cytec)公司製造的「艾白克力(EBECRYL)3416」。聚 酯(甲基)丙烯酸酯類可列舉：大賽璐氰特(Daicel-Cytec)公司製造的「艾白克力(EBECRYL)450」、「艾白克力(EBECRYL)657」、「艾白克力(EBECRYL)800」、「艾白克力(EBECRYL)810」、「艾白克力(EBECRYL)811」、「艾白克力(EBECRYL)812」、「艾白克力(EBECRYL)1830」、「艾白克力(EBECRYL)845」、「艾白克力(EBECRYL)846」、「艾白克力(EBECRYL)1870」。矽酮(甲基)丙烯酸酯類可較佳地列舉：日本畢克化學(BYK Chemie Japan)公司製造的「BYK-3570」、日本贏創德固賽(Evonik Degussa Japan)公司製造的TEGO Rad系列。另外，除此以外，三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)例如亦可列舉對上述單體加成環氧乙烷或環氧丙烷而成的單體。該些多官能(甲基)丙烯酸酯(A)可單獨使用，亦可併用兩種以上。
於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)為25質量份~70質量份。藉由將三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量設定為25質量份以上，可對表層賦予可轉印微細凹凸結構的程度的彈性模量。另外，藉由將三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量設定為70質量份以下，可抑制表層的彈性模量的增加。結果，容易自凹部內擠出污垢，可對積層體賦予充分的防污性。
二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)較佳為具有聚乙二醇的二官能丙烯酸酯類、具有聚丙二醇的二官能丙烯酸酯類、具有聚 丁二醇的二官能丙烯酸酯等具有聚伸烷基二醇的二官能丙烯酸酯。具有聚乙二醇的二官能丙烯酸酯類的具體例可列舉：亞羅尼斯(Aronix)M-240、亞羅尼斯(Aronix)M-260(東亞合成公司製造)，NK Ester AT-20E、NK Ester ATM-35E(新中村化學公司製造)等。具有聚丙二醇的二官能丙烯酸酯類的具體例可列舉APG-400、APG-700(新中村化學公司製造)等。具有聚丁二醇的二官能丙烯酸酯的具體例可列舉A-PTMG-650(新中村化學公司製造)等。藉由使用具有聚伸烷基二醇的二官能丙烯酸酯作為二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)，表層的彈性模量得到抑制，容易自凹部內擠出污垢，有效地表現出防污性。具有聚伸烷基二醇的二官能丙烯酸酯中，就可獲得更良好的防污性的方面而言，可較佳地使用聚乙二醇二丙烯酸酯。藉由使用聚乙二醇二丙烯酸酯作為二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)，表層的樹脂的分子運動性提高，更容易擠出進入凹部內的污垢，表現出良好的防污性。
於聚乙二醇二丙烯酸酯的一分子內存在的聚乙二醇鏈的平均重複單元的合計量較佳為6~40，更佳為9~30，進而佳為12~20。若聚乙二醇鏈的平均重複單元為6以上，則保持分子的運動性，表現出良好的防污性。若聚乙二醇鏈的平均重複單元為40以下，則與三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的相容性變良好。另外，具有聚伸烷基二醇的二官能丙烯酸酯中，就相容性的方面而言，亦可較佳地使用聚丙二醇二丙烯酸酯、聚丁二醇二丙烯酸酯。藉由使用聚丙二醇二丙烯酸酯或聚丁二醇二丙烯酸 酯作為二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)，與後述的親水性低的矽酮二(甲基)丙烯酸酯等矽酮(甲基)丙烯酸酯的相容性提高，可獲得透明的活性能量線硬化性樹脂組成物。該些二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)可單獨使用，亦可併用兩種以上。另外，就兼具防污性與相容性的方面而言，較佳為併用聚乙二醇與聚丙二醇二丙烯酸酯及/或聚丁二醇二丙烯酸酯。
另外，就表面自由能量小而具有提高防污性的效果的觀點而言，二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)可較佳地使用矽酮(甲基)丙烯酸酯。矽酮(甲基)丙烯酸酯具體而言，例如可較佳地列舉：智索(Chisso)公司製造的塞拉普蘭(Silaplane)系列，信越化學工業公司製造的矽酮二丙烯酸酯「X-22-164」、矽酮二丙烯酸酯「X-22-1602」，日本畢克化學(BYK Chemie Japan)公司製造的「BYK-3500」，日本贏創德固賽(Evonik Degussa Japan)公司製造的TEGO Rad系列。該些二官能(甲基)丙烯酸酯(B)可單獨使用，亦可併用兩種以上。
於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)為30質量份~75質量份。藉由將二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量設定為30質量份以上，表層的彈性模量的增加得到抑制，容易自凹部內擠出污垢，表現出充分的防污性。藉由將二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量設定為75質量份以下，彈性模量的降低得到抑制，可抑制凸部的合而为一。
於活性能量線硬化性樹脂組成物中，另外亦可含有單官能單體。單官能單體理想的是考慮到與三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)及二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的相容性而選擇，就此種觀點而言，例如可較佳地列舉：於酯基上具有聚乙二醇鏈的單官能(甲基)丙烯酸酯類、於(甲基)丙烯酸羥基烷基酯等的酯基上具有羥基的單官能(甲基)丙烯酸酯類、單官能丙烯醯胺類、甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨甲基硫酸鹽或甲基丙烯醯氧基乙基三甲基銨甲基硫酸鹽等陽離子性單體類等親水性單官能單體。單官能單體具體可使用「M-20G」、「M-90G」、「M-230G」(新中村化學公司製造)等。另外，就提高防污性的觀點而言，可較佳地使用單(甲基)丙烯酸烷基酯、矽酮(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸氟化烷基酯。此種單官能單體具體可使用：日油公司製造的「布蘭莫(Blemmer)LA」、「布蘭莫(Blemmer)CA」、「布蘭莫(Blemmer)SA」，信越化學工業公司製造的「X-24-8201」、「X-22-174DX」，埃克斯弗洛研究(Exfluor Research)公司製造的「C10GACRY」等。
另外，於活性能量線硬化性樹脂組成物中，亦可添加丙烯醯基嗎啉或乙烯基吡咯烷酮等黏度調整劑、或提高與透明基材的密接性的丙烯醯基異氰酸酯類等密接性提昇劑等。
於將活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，活性能量線硬化性樹脂組成物中的單官能單體的含量例如較佳為0.1質量份~20質量份，更 佳為5質量份~15質量份。藉由含有單官能單體，基材與表層(活性能量線硬化樹脂)的密接性提高。藉由將單官能單體的含量設定為20質量份以下，而容易調整三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)及二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量，充分表現出防污性。單官能單體可單獨使用一種或混合使用兩種以上。
另外，於活性能量線硬化性樹脂組成物中，亦可添加使一種或兩種以上的單官能單體聚合而成的低聚合度的聚合物(低聚物)。此種低聚合度的聚合物具體而言，例如可列舉：於酯基上具有聚乙二醇鏈的單官能(甲基)丙烯酸酯類(例如「M-230G」，新中村化學公司製造)、或甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨甲基硫酸鹽的40/60共聚合低聚物(例如三菱人造絲子公司(MRC Unitec)製造，「MG聚合物」)等。
進而，於活性能量線硬化性組成物中，除了上述各種單體或低聚合度的聚合物以外，亦可含有抗靜電劑、脫模劑、紫外線吸收劑、膠體二氧化矽等的微粒子。
活性能量線硬化性樹脂組成物亦可含有脫模劑。若於活性能量線硬化性樹脂組成物中含有脫模劑，則可於連續地製造積層體時維持良好的脫模性。脫模劑例如可列舉(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物。尤其於使用陽極氧化氧化鋁的模具的情形時，(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物與氧化鋁相互作用，由此脫模劑容易吸附於模具的表面上。
(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物的市售品例如可列舉：城 北化學工業公司製造的「JP-506H」(商品名)，艾克賽爾(Axel)公司製造的「模維茲(Moldwiz)INT-1856」(商品名)，日光化學公司製造的「TDP-10」、「TDP-8」、「TDP-6」、「TDP-2」、「DDP-10」、「DDP-8」、「DDP-6」、「DDP-4」、「DDP-2」、「TLP-4」、「TCP-5」、「DLP-10」(商品名)等。
活性能量線硬化性樹脂組成物所含的脫模劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
相對於聚合性成分100質量份，活性能量線硬化性樹脂組成物所含的脫模劑的含量較佳為0.01質量份~2.0質量份，更佳為0.05質量份~0.2質量份。若脫模劑的含量為0.01質量份以上，則表面上具有微細凹凸結構的物品自模具的脫模性良好。另一方面，若脫模劑的比例為2.0質量份以下，則活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物與基材的密接性良好，另外，硬化物的硬度適當，可充分維持微細凹凸結構。
於本實施形態的積層體中，表面處理層的水接觸角較佳為120°以上，更佳為130°以上。於表面處理層的水接觸角為120°以上的情形時，表面能量充分小，故可容易地擦去污垢。另外，於表面處理層的水接觸角為130°以上的情形時，表面能量充分小，故可抑制污垢的附著。表面處理層的水接觸角的上限並無特別限制，較佳為150°以下，更佳為145°以下。顯示出此種撥水性的表面處理層可較佳地使用具有烷基、聚二甲基矽氧烷結構、氟化烷基的化合物，就對微細凹凸結構的密接性的觀點而言，較佳 為具有矽烷、烷氧基矽烷、矽氮烷、(甲基)丙烯酸酯等反應性基。此種化合物具體而言可較佳地列舉：信越化學工業公司製造的「KBM」系列、「KBE」系列、「X」系列，日本畢克化學(BYK Chemie Japan)公司製造的「BYK」系列，日本贏創德固賽(Evonik Degussa Japan)公司製造的「TEGO Rad」系列，氟科技(FluoroTechnology)公司製造的「FG」系列、「FS」系列等。
表面處理層可藉由浸漬、噴霧、毛刷、旋塗等通常的方法來塗佈。另外，為了提高表面處理層與微細凹凸結構表面的密接性，較佳為對微細凹凸結構進行前處理。前處理可列舉：藉由二氧化矽蒸鍍或電漿等對表面導入官能基，塗佈含有與表面處理層的反應性良好的化合物的底漆等。就維持微細凹凸形狀的抗反射性能的觀點而言，表面處理層的厚度較佳為100 nm以下。表面處理層可根據藉由角度可變ATR測定而光譜伴隨著入射角變化、或利用TEM的剖面觀察來確認其存在。
本實施形態的活性能量線硬化性樹脂組成物可適當含有分子中具有自由基聚合性及/或陽離子聚合性鍵的單體、低聚合度的聚合物以及反應性聚合物，且藉由後述的聚合起始劑而硬化。另外，活性能量線硬化性樹脂組成物亦可含有非反應性聚合物。
本實施形態的積層體具備可容易地去除污垢的防污性優異的表層，故若將本實施形態的積層體設置於抗反射物品、圖像顯示裝置、觸控面板等的最表面，則於使用時附著的皮脂等污 垢難以附著且容易脫落，可發揮良好的抗反射性能。進而，即便不於表面使用水或醇亦可容易地去除污垢，故於實用方面亦可獲得優異的物品。
(實施形態7)
以下，對本實施形態加以詳細說明。
圖1為表示本實施形態的積層體10的構成的一例的示意性剖面圖。於圖1中，於具有透明性的基材11的表面上形成有包含活性能量線硬化性組成物的硬化物的表層12。於積層體10中，於表層12的表面上形成有微細凹凸結構。
本實施形態的積層體中，表層為活性能量線硬化性組成物的硬化物，上述活性能量線硬化性組成物含有具有SH基的化合物(D)。所謂SH基是指硫醇基、氫硫基、巰基或硫氫基。藉由具有SH基的化合物(D)含有於活性能量線硬化性組成物中，可獲得硫原子與硫原子或碳原子的化學鍵。如此，可於維持硬化物的交聯密度的狀態下降低彈性模量，故可維持凸起的形狀並且對凸起賦予可撓性，可將蓄積於凹部內的污垢去除，故防污性提高。
於本實施形態的積層體中，較佳為表層為活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物，且上述活性能量線硬化性樹脂組成物含有0質量份~95質量份的二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)、0質量份~75質量份的矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)、及1質量份~60質量份的具有SH基的化合物(D)(其中，將聚合性成分的合計量設定為100質量份)。再者，自二官能以上的多官能(甲 基)丙烯酸酯(A)中將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)除外。
此處，所謂二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)，是指分子內具有至少2個以上選自丙烯醯基(CH2=CHCO-)及甲基丙烯醯基(CH2=C(CH3)CO-)中的基團的化合物。
二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改質二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,5-戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)苯基)丙烷、1,2-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)乙烷、1,4-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)丁烷、二羥甲基三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙烯基苯、亞甲基雙丙烯醯胺等二官能性單體，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷改質三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧丙烷改質三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷改質三丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改質三(甲基)丙烯酸酯等三官能單體，琥珀酸/三羥甲基乙烷/丙烯酸的縮合反應混合物、二季戊四醇六(甲 基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯等多官能的單體，二官能以上的丙烯酸胺基甲酸酯，二官能以上的聚酯丙烯酸酯等。該些化合物可單獨使用，亦可組合使用兩種以上。
於將活性能量線硬化性組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)較佳為0質量份~95質量份，更佳為25質量份~90質量份，尤佳為40質量份~90質量份。若二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量為0質量份以上、95質量份以下，則可抑制彈性模量的過度降低，維持凸起的形狀。另外，藉由將二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)添加至組成物中，即若其含量超過0質量份，則容易抑制彈性模量，容易維持凸起的形狀。另外，於二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量為40質量份以上的情形時，可抑制彈性模量的降低，更有效地防止凸起的合而为一。另外，於二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量為95質量份以下的情形時，彈性模量降低，可更有效地去除污垢。另外，於二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量為90質量份以下的情形時，彈性模量充分降低，可更有效地去除蓄積於凹部內的污垢。結果，容易自凹部內擠出污垢，可對積層體賦予充分的防污性。
矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)為於具有有機矽氧烷結構的化合物的側鏈及/或末端具有至少一個以上的選自丙烯醯基 (CH2=CHCO-)及甲基丙烯醯基(CH2=C(CH3)CO-)中的基團的化合物。矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)理想的是根據與二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的相容性的觀點來選擇，矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)較佳為使用具有相容性片段的化合物，上述相容性片段有助於與(A)的相容性。相容性片段例如可列舉聚環氧烷結構、聚酯結構及聚醯胺結構等。該些相容性片段可於矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)中單獨含有，另外亦可含有兩種以上。另外，就操作性的方面而言，矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)亦可稀釋後使用。就自硬化物的滲出等方面而言，稀釋劑較佳為具有反應性。另外，藉由將二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)混入矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)中，亦可提高矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的操作性。
此種矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)具體而言，例如可較佳地列舉：智索(Chisso)公司製造的塞拉普蘭(Silaplane)系列(商品名)，信越化學工業公司製造的矽酮二丙烯酸酯「X-22-164」、矽酮二丙烯酸酯「X-22-1602」(均為商品名)，日本畢克化學(BYK Chemie Japan)公司製造的「BYK-3500」、「BYK-3570」(均為商品名)，日本贏創德固賽(Evonik Degussa Japan)公司製造的TEGO Rad系列(商品名)。該些矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)可單獨使用，亦可併用兩種以上。
於將活性能量線硬化性組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)較佳為0質量份~75質量份，更佳為5質量份~70質量份。若矽酮(甲基) 丙烯酸酯(C)的含量為0質量份以上、75質量份以下，則賦予撥水性，防污性進一步提高。另外，藉由將矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)添加至組成物中，即若其含量超過0質量份，則更有效地賦予撥水性，防污性提高。另外，於矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量為5質量份以上的情形時，表層的表面能量降低，對水的接觸角成為130°以上，故防污性進一步提高。另外，於矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量為75質量份以下的情形時，與其他成分的相容性變良好，故透明性提高。另外，於矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量為70質量份以下的情形時，活性能量線硬化性組成物的黏度得到抑制，操作性提高。
含有SH基的化合物(D)只要為含有SH基的化合物，則並無特別限定，為了提高表層的交聯密度、維持強度，較佳為含有2個以上的SH基的化合物，就活性能量線硬化性組成物的儲存穩定性的觀點而言，SH基更佳為二級硫醇。
具有2個以上的SH基的化合物可列舉：1,2-乙二硫醇、1,2-丙二硫醇、1,3-丙二硫醇、1,4-丁二硫醇、1,6-己二硫醇、1,7-庚二硫醇、1,8-辛二硫醇、1,9-壬二硫醇、1,10-癸二硫醇、1,12-十二烷二硫醇、2,2-二甲基-1,3-丙二硫醇、3-甲基-1,5-戊二硫醇、2-甲基-1,8-辛二硫醇、1,4-環己二硫醇、1,4-雙(巰基甲基)環己烷、1,1-環己二硫醇、1,2-環己二硫醇、雙環[2,2,1]庚-外向型-順式-2,3-二硫醇、1,1-雙(巰基甲基)環己烷、雙(2-巰基乙基)醚、乙二醇雙(2-巰基乙酸酯)、乙二醇雙(3-巰基丙酸酯)等二硫醇化合物；1,1,1-三 (巰基甲基)乙烷、2-乙基-2-巰基甲基-1,3-丙二硫醇、1,2,3-丙三硫醇、三羥甲基丙烷三(2-巰基乙酸酯)、三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、異三聚氰酸三((巰基丙醯氧基)-乙基)酯等三硫醇化合物；季戊四醇四(2-巰基乙酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丁酸酯)、二季戊四醇六-3-巰基丙酸酯等具有4個以上的SH基的硫醇化合物。
具有二級硫醇的化合物可列舉：卡蘭茨(Karenz)MT PE1、卡蘭茨(Karenz)MT NR1、卡蘭茨(Karenz)MT BD1(商品名，昭和電工公司製造)。
此種含有SH基的化合物(D)具體可較佳地列舉：昭和電工公司製造的「卡蘭茨(Karenz)MT PE1」、「卡蘭茨(Karenz)MT BD1」、「卡蘭茨(Karenz)MT NR1」(均為商品名)。
於將活性能量線硬化性組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，含有SH基的化合物(D)較佳為1質量份~60質量份，更佳為1質量份~15質量份。若含有SH基的化合物(D)的含量為1質量份以上，則可於維持交聯密度的狀態下降低表層的彈性模量，故容易自凹部內擠出污垢，結果可對積層體賦予充分的防污性，且可維持凸部的形狀的恢復力。另外，若含有SH基的化合物(D)的含量為60質量份以下，則可維持活性能量線硬化性組成物的儲存穩定性。另外，於含有SH基的化合物(D)的含量為15質量份以下的情形時，可更有效地抑制表層的彈性模量的降低，防止凸部的合而为一。
於活性能量線硬化性組成物中，另外亦可含有單官能單體。單官能單體理想的是考慮到與二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)及矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)的相容性而選擇，就此種觀點而言，單官能單體例如可較佳地列舉：於酯基上具有聚乙二醇鏈的單官能(甲基)丙烯酸酯類、於(甲基)丙烯酸羥基烷基酯等的酯基上具有羥基的單官能(甲基)丙烯酸酯類、單官能丙烯醯胺類、甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨甲基硫酸鹽或甲基丙烯醯氧基乙基三甲基銨甲基硫酸鹽等陽離子性單體類等親水性單官能單體。單官能單體具體可使用單官能(甲基)丙烯酸酯類的「M-20G」、「M-90G」、「M-230G」(新中村化學公司製造，均為商品名)等。另外，就提高防污性的觀點而言，可較佳地使用單(甲基)丙烯酸烷基酯、矽酮(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸氟化烷基酯。此種單官能單體具體可使用：日油公司製造的「布蘭莫(Blemmer)LA」、「布蘭莫(Blemmer)CA」、「布蘭莫(Blemmer)SA」(均為商品名)，信越化學工業公司製造的「X-24-8201」、「X-22-174DX」(均為商品名)，埃克斯弗洛研究(Exfluor Research)公司製造的「C10GACRY」(商品名)等。
另外，於活性能量線硬化性組成物中，亦可添加丙烯醯基嗎啉或乙烯基吡咯烷酮等黏度調整劑、或提高與透明基材的密接性的丙烯醯基異氰酸酯類等密接性提昇劑等。
於含有單官能單體的情況下，於將活性能量線硬化性組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份的情形時，例如 單官能單體較佳為0.1質量份~20質量份，更佳為5質量份~15質量份。藉由含有單官能單體，可使基材與表層(活性能量線硬化性組成物)的密接性提高。於單官能單體的含量為20質量份以下的情形時，容易調整二官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)、矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)、及含有SH基的化合物(D)的含量，充分表現出防污性。單官能單體可單獨使用一種或混合使用兩種以上。
另外，於活性能量線硬化性組成物中，亦可添加使一種或兩種以上的單官能單體聚合而成的低聚合度的聚合物(低聚物)。此種低聚合度的聚合物具體而言，例如可列舉：於酯基上具有聚乙二醇鏈的單官能(甲基)丙烯酸酯類(例如「M-230G」(商品名)，新中村化學公司製造)、或甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨甲基硫酸鹽的40/60共聚合低聚物(例如三菱人造絲子公司(MRC Unitec)製造，「MG聚合物」(商品名))等。
進而，於活性能量線硬化性組成物中，除了上述各種單體或低聚合度的聚合物以外，亦可含有抗靜電劑、脫模劑、紫外線吸收劑、膠體二氧化矽等的微粒子。
活性能量線硬化性組成物亦可含有脫模劑。若於活性能量線硬化性組成物中含有脫模劑，則可於連續地製造積層體時維持良好的脫模性。脫模劑例如可列舉(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物。尤其於使用陽極氧化氧化鋁的模具的情形時，(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物與氧化鋁相互作用，由此脫模劑容易吸附於模具的 表面。
(聚)氧伸烷基烷基磷酸化合物的市售品例如可列舉：城北化學工業股份有限公司製造的「JP-506H」(商品名)，艾克賽爾(Axel)公司製造的「模維茲(Moldwiz)INT-1856」(商品名)，日光化學股份有限公司製造的「TDP-10」、「TDP-8」、「TDP-6」、「TDP-2」、「DDP-10」、「DDP-8」、「DDP-6」、「DDP-4」、「DDP-2」、「TLP-4」、「TCP-5」、「DLP-10」(均為商品名)等。
活性能量線硬化性組成物中所含的脫模劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
相對於聚合性成分100質量份，活性能量線硬化性組成物中所含的脫模劑的含量較佳為0.01質量份~2.0質量份，更佳為0.05質量份~0.2質量份。若脫模劑的含量為0.01質量份以上，則表面上具有微細凹凸結構的物品自模具的脫模性良好。另一方面，若脫模劑的比例為2.0質量份以下，則活性能量線硬化性組成物的硬化物與基材的密接性良好，另外，硬化物的硬度適當，可充分維持微細凹凸結構。
於本實施形態的積層體中，微細凹凸結構的表面的彈性模量、即表層的壓入彈性模量較佳為500 MPa以下，更佳為50 MPa~100 MPa。若表層的彈性模量為50 MPa以上，則微細凹凸結構充分硬，故可有效地防止凸部的凸起合而为一。若表層的彈性模量為500 MPa以下，則微細凹凸結構柔軟，故可擠出進入凹部內的污垢。若表層的彈性模量為100 MPa以下，則微細凹凸結構充 分柔軟，故可使微細凹凸結構自由地變形，可容易地去除進入凹部內的污垢。
於本實施形態的積層體中，形成有微細凹凸結構的部分的表層的水接觸角並無特別限定，較佳為130°以上。於表層的水接觸角為130°以上的情形時，表面能量充分小，故可容易地擦去污垢。表層的水接觸角的上限並無特別限制，較佳為150°以下，更佳為145°以下。
本實施形態的活性能量線硬化性組成物可適當含有分子中具有自由基聚合性及/或陽離子聚合性鍵的單體、低聚合度的聚合物以及反應性聚合物。另外，活性能量線硬化性組成物可藉由後述的聚合起始劑而硬化。另外，活性能量線硬化性組成物亦可含有非反應性聚合物。
本實施形態的積層體具備可容易地去除污垢的防污性優異的表層，故若將本實施形態的積層體設置於抗反射物品、圖像顯示裝置、觸控面板等的最表面，則於使用時附著的皮脂等污垢難以附著且容易脫落，可發揮良好的抗反射性能。進而，即便不於表面上使用水或醇亦可容易地去除污垢，故於實用方面亦可獲得優異的物品。
(實施例A)
以下，藉由實施例A對本實施形態加以具體說明，但本發明不限定於該些實施例。
<各種評價及測定方法>
(硬化液相容性的判定)
作為相容性的評價，於螢光燈下目測觀察活性能量線硬化性樹脂組成物(硬化前的狀態)的透明性。
A：透明(相容性良好)
B：於室溫下白濁，但若將活性能量線硬化性樹脂組成物加熱至50度則變透明。
C：於室溫及50度下白濁(相容性不良)
(水接觸角的判定)
使用自動接觸角測定裝置(克呂士(KRUSS)公司製造)，於後述實施例A及比較例A中製作的活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化樹脂(活性能量線硬化樹脂)的表面上滴加1 μL的水，利用θ/2法來算出自滴加起經過7秒後的水滴的接觸角。
(彈性模量的測定)
使用「費舍爾斯高普(FISCHERSCOPE)(R)HM2000」(商品名，費舍爾(FISCHER)公司製造)，對表層的表面一面以50 mN/10 s的條件使負載增加一面施加負載，以50 mN保持60秒鐘後，一面以50 mN/10 s的條件使負載減少一面卸載。使用此時受到65%與95%的負載的點，藉由外推法來計算彈性模量。再者，亦可使用厚度為500 μm的鐵氟龍(Teflon)片作為間隔件，由2片玻璃板夾持活性能量線硬化性樹脂組成物，以累計光照射量為3000 mJ/cm2的能量照射紫外線，使活性能量線硬化性樹脂組成物進行光硬化，製作厚度為500 μm的活性能量線硬化樹脂，對該硬 化樹脂的照射面(表面)與上述同樣地進行測定而計算彈性模量。
(防污性試驗)
首先，利用日本專利特開2006-147149號公報中記載的方法使人工指紋液(日本工業標準(Japanese Industrial Standards，JIS)K2246，伊勢久公司製造)附著，對積層體於表面上轉印模擬指紋。於該方法中，首先，一面利用磁力攪拌器(magnetic stirrer)充分攪拌模擬指紋(pseudo fingerprint)成分一面採取約1 mL，藉由旋塗法將該模擬指紋成分塗佈於聚碳酸酯製基板(直徑為120 mm，厚度為1.2 mm)上。將該基板於60℃下加熱3分鐘，藉此將作為不需要的稀釋劑的甲氧基丙醇完全去除。將其作為模擬指紋轉印用的原版。繼而，利用#240的研磨紙將NO.1的矽酮橡膠塞的較小端面(直徑為12 mm)均一地研磨，將所得物品作為模擬指紋轉印材，將該經研磨的端面以29 N的負載抵接於上述原版10秒鐘，使模擬指紋成分轉移至轉印材的端面上。繼而，將上述轉印材端面以29 N的負載抵接於上述各樣品的透光性基體表面10秒鐘，轉印模擬指紋成分。再者，指紋圖案是轉印至介質的半徑40 mm附近的位置。
繼而，使用紙巾(prowipe)(商品名：超柔紙巾(soft super wiper)S132，大王製紙(股)製造)以39 KPa的壓力往返擦拭6次，藉此將人工指紋液擦去後，於螢光燈下目測觀察積層體上是否殘留污垢。評價是按以下基準來進行。
A：目測確認不到污垢。
B：目測確認到稍許污垢。
C：模擬指紋擴展，污垢未被擦去。
(凸起合而为一的評價)
自膜端面側(側面側)入射LED光並自入射方向進行觀測時，目測觀察是否可見白色亮斑。評價是按以下基準來進行。
A：傾斜觀察時未見白色亮斑。
B：傾斜觀察時可見白色亮斑，但自正面觀察時未見白色亮斑。
C：傾斜及自正面觀察時可見白色亮斑。
(摩擦係數的斜率)
測定摩擦係數時，使用摩擦試驗機(商品名：海頓特里伯格(HEIDON TRIBOGEAR)HHS-2000，浸透科學公司製造)。對放置於積層體的表面上的2 cm見方的本科特(BEMCOT)M-3II(商品名，旭化成纖維公司製造)施加1000 g的負載，於往返距離為30 mm、頭速度(head speed)為30 mm/s的條件下進行50次往返磨損。將第1次摩擦時的動摩擦係數的值設定為μ1、將第50次摩擦時的動摩擦係數的值設定為μ50，由下述式來算出摩擦係數的斜率。
μs=(μ50-μ1)/(50-1)
(耐擦傷性)
於評價耐擦傷性時，使用上述方法進行1000次往返磨損。評價外觀時，於透明的2.0 mm厚的黑色壓克力板(商品名：壓克力特(Acrylate)，三菱麗陽公司製造)的mp單面上貼附該光透射性 物品，於室內放置於螢光燈下目測評價。評價是按以下基準來進行。
A：目測未確認到傷痕
B：目測確認到幾條傷痕。
C：目測確認到大量的傷痕。
(利用電子顯微鏡的樣品表面的觀察)
使用掃描電子顯微鏡(日本電子公司製造，「JSM-7400F」)，於加速電壓為3.00 kV的條件下觀察形成於壓模及積層體的表面上的微細凹凸結構。再者，關於積層體的觀察，蒸鍍鉑10分鐘後進行觀察。根據所得的圖像來測定相鄰凸部彼此間的距離及凸部的高度。分別測定各10點，求出平均值。
<壓模的製作>
使用經電解研磨的鋁圓盤(純度為99.99質量%，厚度為2 mm，φ 65 mm)作為鋁基材。使鋁基材浸漬於經調整為15℃的0.3 M草酸水溶液中，反覆進行直流穩定裝置的電源的開/關(ON/OFF)，由此對鋁基材間歇地流通電流，藉此使鋁基材陽極氧化。繼而，每隔30秒鐘施加80 V的恆定電壓5秒鐘，將此操作重複60次，形成具有孔隙的氧化皮膜。繼而，將形成有氧化皮膜的鋁基材於將6質量%的磷酸與1.8質量%的鉻酸混合而成的70℃的水溶液中浸漬6小時，將氧化皮膜溶解去除。將溶解去除了氧化皮膜的鋁基材浸漬於經調整為16℃的0.05 M的草酸水溶液中，於80 V下實施7秒鐘陽極氧化。繼而，使鋁基材於經調整為 32℃的5質量%磷酸水溶液中浸漬20分鐘，實施擴大氧化皮膜的孔隙的孔徑擴大處理。如此般交替重複進行陽極氧化處理與孔徑擴大處理。陽極氧化處理與孔徑擴大處理是分別進行各5次。使所得的壓模於TDP-8(日光化學股份有限公司製造)的0.1質量%水溶液中浸漬10分鐘後，提起並乾燥一夜，藉此實施脫模處理。
利用電子顯微鏡來觀察所得的多孔氧化鋁的表面，結果形成了微細凹凸結構，該微細凹凸結構包含相鄰凹部彼此的距離為180 nm、深度為180 nm的大致圓錐狀的錐狀凹部。
[實施例A1]
<積層體的製造>
將以下材料混合而製備活性能量線硬化性樹脂組成物。
．環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯(「卡亞拉得(Kayarad)DPEA-12」，一分子內的環氧乙烷結構單元數n=12，日本化藥公司製造)40質量份
．亞羅尼斯(Aronix)M-260(商品名，東亞合成公司製造，聚乙二醇鏈的平均重複單元為13)60質量份
．伊魯卡(Irgacure)184(商品名，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)1質量份
．伊魯卡(Irgacure)819(商品名，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)0.5質量份
．TDP-2(商品名，日光化學股份有限公司製造)0.1質量份
將該活性能量線硬化性樹脂組成物於壓模上滴落幾 滴，利用三乙醯纖維素膜(FTTD80ULM(商品名)，富士軟片公司製造)一面擴展開一面被覆壓模。繼而，自膜側以累計光照射量為1000 mJ/cm2的能量照射紫外線，使活性能量線硬化性樹脂組成物進行光硬化。其後，將膜與壓模剝離，獲得如圖1所示的積層體，該積層體具有相鄰凸部彼此間的距離w1為180 nm、凸部的高度d1為180 nm的微細凹凸結構。
<評價>
進行活性能量線硬化性樹脂組成物中的成分的相容性及與所得的積層體相關的水接觸角、彈性模量、防污性、摩擦係數的斜率(μs)、耐擦傷性、凸起合而为一的各評價。將結果示於表2中。
表1中的簡稱如下。
DPHA：二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥公司製造，「卡亞拉得(Kayarad)DPHA」)
DPEA-12：環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥公司製造，「卡亞拉得(Kayarad)DPEA-12」，一分子內的環氧乙 烷結構單元數n=12)
DPEA-18(第一工業製藥公司製造，「商品名DPHA-18EO改質」，一分子內的環氧乙烷結構單元數n=18)
M-260：聚乙二醇二丙烯酸酯(「亞羅尼斯(Aronix)M-260」，東亞合成公司製造，聚乙二醇鏈的平均重複單元為13)
APG-700：聚丙二醇二丙烯酸酯(新中村化學公司製造，聚丙二醇鏈的平均重複單元為12)
BYK-UV3570：矽酮丙烯酸酯 環氧丙烷改質新戊二醇二丙烯酸酯稀釋品(日本畢克化學公司製造)
PE1：卡蘭茨(Karenz)MT PE1(商品名，昭和電工公司製造，具有4個SH基的化合物)
IRG.184：羥基環己基苯基酮(「伊魯卡(Irgacure)184」，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)
IRG.819：苯基雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-膦氧化物(「伊魯卡(Irgacure)819」，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)
TDP-2：聚氧伸乙基烷基醚磷酸(商品名，日光化學股份有限公司製造)
[實施例A2~實施例A19]
除了使用表1所示的組成的活性能量線硬化性樹脂組成物以外，與實施例A1同樣地獲得積層體。將結果示於表2中。
[實施例A20]
除了使用表1所示的組成的活性能量線硬化性樹脂組成物以外，與實施例A1同樣地獲得具有硬化物層的積層體。藉由旋塗將作為底漆的PC-3B(商品名，氟科技(FluoroTechnology)公司製造)塗佈於所得的具有微細凹凸結構的硬化物層上。其後，於常溫下乾燥90分鐘後，旋塗FG5070S135-0.1(商品名，氟科技(FluoroTechnology)公司製造)，於60℃下乾燥3小時，獲得具有表面處理層的積層體。將結果示於表2中。
[比較例A1~比較例A3]
除了使用表1所示的組成的活性能量線硬化性樹脂組成物以外，與實施例A1同樣地獲得積層體。將結果示於表2中。
實施例A1~實施例A20中所得的積層體由於表層的彈性模量小於250 MPa，且摩擦係數的斜率為1.8×10-3以下，故顯示出可容易地去除污垢的防污性與優異的耐擦傷性。
對於表層的彈性模量為45 MPa~65 MPa、且表層的水接觸角為135°以上的實施例A11~實施例A13及實施例A19中所得的積層體而言，相容性及防污性特別優異。
尤其對於表層的彈性模量為50 MPa~65 MPa、且表層的水接觸角為140°以上的實施例A12及實施例A20中所得的積層體而言，可獲得相容性、防污性及耐擦傷性非常優異的積層體。
比較例A1~比較例A3中所得的積層體的防污性不充分。
比較例A3由於耐擦傷性差，故於評價中途於表層產生大量的傷痕，表層被破壞而剝離，故中斷評價。
(實施例B)
以下，藉由實施例B對本實施形態加以具體說明，但本發明不限定於該些實施例。
<各種評價及測定方法>
(水接觸角的測定)
使用自動接觸角測定裝置(克呂士(KRUSS)公司製造)，將1 μl的水滴加於後述實施例B及比較例B中製作的積層體的表層的表面上。利用θ/2法算出7秒後的接觸角。
(彈性模量的測定)
使用厚度為500 μm的鐵氟龍(Teflon)片作為間隔件，由2片玻璃夾持活性能量線硬化性樹脂組成物，以3000 mJ/cm2的能量照射紫外線。藉此，使活性能量線硬化性樹脂組成物進行光硬化，製作厚度為500 μm的活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物。使用「費舍爾斯高普(FISCHERSCOPE)(R)HM2000」(商品名，費舍爾(FISCHER)公司製造)，對該硬化物的照射面以50 mN/10 s的條件使負載增加，保持60秒鐘後，以與增加負載相同的條件卸載。使用此時受到65%與95%的負載的點，藉由外推法計算彈性模量。
(防污性試驗)
利用日本專利特開2006-147149號公報中記載的方法使人工指紋液(JIS K2246，伊勢久公司製造)附著，於積層體的表面上轉印模擬指紋。具體而言，對模擬指紋成分一面利用磁力攪拌器 充分攪拌一面採取約1 mL，藉由旋塗法而塗佈於聚碳酸酯製基板(直徑為120 mm，厚度為1.2 mm)上。將該基板於60℃下加熱3分鐘，藉此將作為不需要的稀釋劑的甲氧基丙醇完全去除。將其作為模擬指紋轉印用的原版。繼而，利用#240的研磨紙將NO.1的矽酮橡膠塞的較小端面(直徑為12 mm)均一地研磨，將所得物品作為模擬指紋轉印材，將該經研磨的端面以29 N的負載抵接於上述原版10秒鐘，使模擬指紋成分轉移至轉印材的端面上。繼而，將上述轉印材端面以29 N的負載抵接於上述各樣品的透光性基體表面10秒鐘，轉印模擬指紋成分。再者，指紋圖案是轉印至介質的半徑40 mm附近的位置。繼而，使用紙巾(商品名：超柔紙巾S132，大王製紙(股)製造)以98 KPa的壓力往返擦拭6次，藉此擦去人工指紋液後，於螢光燈下目測觀察積層體中是否殘留污垢。評價是按以下基準來進行。
○：目測確認不到污垢。
×：模擬指紋擴展，污垢未被擦去。
(利用電子顯微鏡的樣品表面的觀察)
使用掃描電子顯微鏡(商品名：「JSM-7400F」，日本電子(股)製造)，於加速電壓為3.00 kv的條件下觀察形成於壓模及積層體的表層的表面上的微細凹凸結構。再者，關於積層體的表層的觀察，蒸鍍鉑10分鐘後進行觀察。根據所得的圖像來測定相鄰凸部彼此間的距離及凸部的高度。
(凸起合而为一的評價)
自積層體的膜端面側(側面側)入射LED光並自入射方向進行觀測時，目測觀察是否可見白色亮斑。評價是按以下基準來進行。
○：傾斜觀察時未見白色亮斑。
△：自正面觀察時未見白色亮斑。
×：自正面觀察時可見白色亮斑。
<壓模的製作>
使用純度為99.99質量%、經電解研磨的厚度為2 mm的φ 65 mm的鋁圓盤作為鋁基材。將0.3 M草酸水溶液調整為15℃，浸漬該鋁基材，反覆進行直流穩定裝置的電源的開/關(ON/OFF)。藉此對鋁基材間歇地流通電流，進行陽極氧化。每隔30秒鐘施加80 V的恆定電壓5秒鐘，將此操作重複60次，形成具有孔隙的氧化皮膜。繼而，將形成有氧化皮膜的鋁基材於將6質量%磷酸與1.8質量%鉻酸混合而成的70℃的水溶液中浸漬6小時，將氧化皮膜溶解去除。將溶解去除了氧化皮膜的鋁基材浸漬於經調整為16℃的0.05 M的草酸水溶液中，於80 V下實施7秒鐘陽極氧化。繼而，將其於經調整為32℃的5質量%磷酸水溶液中浸漬20分鐘，實施擴大氧化皮膜的孔隙的孔徑擴大處理。如此般交替重複進行陽極氧化與孔徑擴大處理，各實施合計5次。將所得的壓模於TDP-8(商品名，日光化學(股)製造)的0.1質量%水溶液中浸漬10分鐘，提起並風乾一夜，藉此實施脫模處理。
利用電子顯微鏡來觀察所得的壓模的表面，結果形成了微細 凹凸結構，該微細凹凸結構是由相鄰凹部彼此的間隔為180 nm、深度為180 nm的大致圓錐狀的錐狀凹部所構成。
[實施例B1]
<積層體的製造>
使用環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名：卡亞拉得(Kayarad)DPEA-12，日本化藥(股)製造，一分子內的環氧乙烷結構單元數n=12)40質量份、亞羅尼斯(Aronix)M-260(商品名，東亞合成(股)製造，乙二醇的平均重複單元為13)60質量份作為聚合性成分。於該聚合性成分中溶解伊魯卡(Irgacure)184(商品名，巴斯夫(BASF)公司製造)1質量份、伊魯卡(Irgacure)819(商品名，巴斯夫(BASF)公司製造)0.5質量份、TDP-2(商品名，日光化學(股)製造)0.1質量份。藉此獲得活性能量線硬化性樹脂組成物。將該活性能量線硬化性樹脂組成物於上述壓模上滴落幾滴，一面利用三乙醯纖維素膜(商品名：FTTD80ULM，富士軟片(股)製造、以下亦示作膜)擴展開，一面於膜上被覆該活性能量線硬化性樹脂組成物。其後，自膜側以1000 mJ/cm2的能量照射紫外線，使活性能量線硬化性樹脂組成物進行光硬化。自活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物剝離壓模，獲得圖1所示的積層體10，該積層體10於表層12的表面上具有相鄰凸部彼此間的間隔為180 nm、凸部的高度d1為180 nm的微細凹凸結構。
<評價>
根據上文所述的各種評價及測定方法，進行水接觸角、彈性模量、防污性及凸起合而为一的各評價。將結果示於表3中。
[實施例B2~實施例B6、比較例B1~比較例B3]
於活性能量線硬化性樹脂組成物的製備中，如表1所示般變更所使用的聚合性成分、聚合起始劑等的種類及調配量，除此以外，與實施例B1同樣地製造積層體。將結果示於表3中。
表3中的簡稱如下。
DPHA：二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名：卡亞拉得(Kayarad)DPHA，日本化藥(股)製造)
DPEA-12：環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名：卡亞拉得(Kayarad)DPEA-12，日本化藥(股)製造，一分子內的環氧乙烷結構單元數n=12)
DPEA-18：環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名：DPEA-18，第一工業製藥(股)製造，一分子內的環氧乙烷結構單元數n=18)
M-260：聚乙二醇二丙烯酸酯(東亞合成(股)製造，乙二醇的平均重複單元為13)
APG700：聚丙二醇二丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製造，丙二醇的平均重複單元為12)
IRG.184：伊魯卡(Irgacure)184(商品名，巴斯夫(BASF)公司製造，羥基環己基苯基酮)
IRG.819：伊魯卡(Irgacure)819(商品名，巴斯夫(BASF)公司製造，苯基雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-膦氧化物)
TDP-2：TDP-2(商品名，日光化學(股)製造，聚氧伸乙基烷基醚磷酸)。
再者，於表3中，實施例1~實施例6及比較例1~比較例3分別表示實施例B1~實施例B6及比較例B1~比較例B3。
實施例B1~實施例B6中，彈性模量小於200 MPa，故 防污性優異，即便不使用水或醇亦可容易地去除污垢。尤其於實施例B1、實施例B2及實施例B5中，彈性模量為90 MPa~150 MPa的範圍，故微細凹凸結構的凸部亦不凸起合而为一，且防污性優異。
另一方面，於比較例B1及比較例B2中，彈性模量為200 MPa以上，故防污性不充分，無法在不使用水或醇的情況下容易地去除污垢。另外，於比較例B3中使用聚丙二醇二丙烯酸酯代替聚乙二醇二丙烯酸酯，故分子的運動性低，防污性不充分，無法在不使用水或醇的情況下容易地去除污垢。
(實施例C)
以下，藉由實施例C對本實施形態加以具體說明，但本發明不限定於該些實施例。
<各種評價及測定方法>
(硬化液相容性的判定)
作為相容性的評價，於螢光燈下目測觀察活性能量線硬化性樹脂組成物(硬化前的狀態)的透明性。
○：透明(相容性良好)
△：於室溫下白濁，但若將活性能量線硬化性樹脂組成物加熱至50度則變透明。
×：於室溫及50度下白濁(相容性不良)
(水接觸角的判定)
使用自動接觸角測定裝置(克呂士(KRUSS)公司製造)，將 1 μl的水於後述實施例C及比較例C中製作的活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化樹脂(活性能量線硬化樹脂)的表面上滴加水，利用θ/2法來算出自滴加起經過7秒鐘後的水滴的接觸角。
(彈性模量的測定)
使用「費舍爾斯高普(FISCHERSCOPE)(R)HM2000」(商品名，費舍爾(FISCHER)公司製造)，對表層的照射面一面以50 mN/10 s的條件使負載增加一面施加負載，以50 mN保持60秒鐘後，以50 mN/10 s的條件一面使負載減少一面卸載。使用此時受到65%與95%的負載的點，藉由外推法來計算彈性模量。再者，亦可使用厚度為500 μm的鐵氟龍(Teflon)片作為間隔件，由2片玻璃板夾持活性能量線硬化性組成物，以累計光照射量為3000 mJ/cm2的能量來照射紫外線，使活性能量線硬化性樹脂組成物進行光硬化，製作厚度為500 μm的活性能量線硬化樹脂，對該硬化樹脂的照射面與上述同樣地進行測定而計算彈性模量。
(防污性試驗)
利用日本專利特開2006-147149號公報中記載的方法使人工指紋液(JIS K2246伊勢久公司製造)附著，對積層體於表面上轉印模擬指紋(對於模擬指紋成分，一面利用磁力攪拌器充分攪拌一面採取約1 mL，藉由旋塗法塗佈於聚碳酸酯製基板(直徑為120 mm，厚度為1.2 mm)上。將該基板於60℃下加熱3分鐘，藉此將作為不需要的稀釋劑的甲氧基丙醇完全去除。將其作為模擬指紋轉印用的原版。繼而，利用#240的研磨紙將NO.1的矽酮橡 膠塞的較小端面(直徑為12 mm)均一地研磨，將所得物品作為模擬指紋轉印材，將該經研磨的端面以29 N的負載抵接於上述原版10秒鐘，使模擬指紋成分轉移至轉印材的端面上。繼而，將上述轉印材端面以29 N的負載抵接於上述各樣品的透光性基體表面10秒鐘，轉印模擬指紋成分。再者，指紋圖案是轉印至介質的半徑40 mm附近的位置)。繼而，使用紙巾(商品名：超柔紙巾S132，大王製紙(股)製造)以98 KPa的壓力往返擦拭6次，藉此擦去人工指紋液後，於螢光燈下目測觀察積層體中是否殘留污垢。評價是按以下基準來進行。
◎：目測確認不到污垢。
○：目測確認到稍許污垢。
×：模擬指紋擴展，污垢未被擦去。
(凸起合而为一的評價)
自膜端面側(側面側)入射LED光自入射方向進行觀測時，目測觀察是否可見白色亮斑。評價是按以下基準來進行。
○：傾斜觀察時未見白色亮斑。
△：傾斜觀察時可見白色亮斑，但自正面觀察時未見白色亮斑。
×：傾斜及自正面觀察時可見白色亮斑。
(利用電子顯微鏡的樣品表面的觀察)
使用掃描電子顯微鏡(日本電子公司製造，「JSM-7400F」)，於加速電壓為3.00 kV的條件下觀察形成於壓模及積層體的表面 上的微細凹凸結構。再者，關於積層體的觀察，蒸鍍鉑10分鐘後進行觀察。根據所得的圖像來測定相鄰凸部彼此間的距離及凸部的高度。分別測定各10點，求出平均值。
<壓模的製作>
使用經電解研磨的鋁圓盤(純度為99.99質量%，厚度為2 mm，φ 65 mm)作為鋁基材。使鋁基材浸漬於經調整為15℃的0.3 M草酸水溶液中，反覆進行直流穩定裝置的電源的開/關(ON/OFF)，由此對鋁基材間歇地流通電流，藉此使鋁基材陽極氧化。繼而，每隔30秒鐘施加80 V的恆定電壓5秒鐘，將此操作重複60次，形成具有孔隙的氧化皮膜。繼而，將形成有氧化皮膜的鋁基材於將6質量%的磷酸與1.8質量%的鉻酸混合而成的70℃的水溶液中浸漬6小時，將氧化皮膜溶解去除。將溶解去除了氧化皮膜的鋁基材浸漬於經調整為16℃的0.05 M的草酸水溶液中，於80 V下實施7秒鐘陽極氧化。繼而，使鋁基材於經調整為32℃的5質量%磷酸水溶液中浸漬20分鐘，實施擴大氧化皮膜的孔隙的孔徑擴大處理。如此般交替重複進行陽極氧化處理與孔徑擴大處理。陽極氧化處理與孔徑擴大處理是分別進行各5次。使所得的壓模於TDP-8(日光化學股份有限公司製造)的0.1質量%水溶液中浸漬10分鐘後，提起並乾燥一夜，藉此實施脫模處理。
利用電子顯微鏡來觀察所得的多孔氧化鋁的表面，結果形成了微細凹凸結構，該微細凹凸結構包含相鄰凹部彼此的距離為180 nm、深度為180 nm的大致圓錐狀的錐狀凹部。
[實施例C1]
<積層體的製造>
將以下材料混合而製備活性能量線硬化性樹脂組成物。
．環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯(「卡亞拉得(Kayarad)DPEA-12」，一分子內的環氧乙烷結構單元數n=12，日本化藥公司製造)27質量份、
．亞羅尼斯(Aronix)M-260(商品名，東亞合成公司製造，聚乙二醇鏈的平均重複單元為13)64質量份
．BYK-3570(商品名，日本畢克化學公司製造，四官能矽酮丙烯酸酯/環氧丙烷改質新戊二醇二丙烯酸酯=7/3)9質量份
．伊魯卡(Irgacure)184(商品名，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)1質量份
．伊魯卡(Irgacure)819(商品名，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)0.5質量份
．TDP-2(商品名，日光化學股份有限公司製造)0.1質量份將該活性能量線硬化性樹脂組成物於壓模上滴落幾滴，利用三乙醯纖維素膜(FTTD80ULM(商品名)，富士軟片公司製造)一面擴展開一面被覆。繼而，自膜側以累計光照射量為1000 mJ/cm2的能量來照射紫外線，使活性能量線硬化性樹脂組成物進行光硬化。其後，將膜與壓模剝離，獲得如圖1所示的積層體，該積層體具有相鄰凸部彼此間的距離w1為180 nm、凸部的高度d1為180 nm的微細凹凸結構。
<評價>
進行活性能量線硬化性樹脂組成物中的成分的相容性及與所得的積層體有關的水接觸角、彈性模量、防污性、凸起的合而为一性的各評價。將結果示於表4中。
表4中的簡稱如下。
DPEA-12：環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥公司製造，「卡亞拉得(Kayarad)DPEA-12」，一分子內的環氧乙烷結構單元數n=12)
M-260：聚乙二醇二丙烯酸酯(「亞羅尼斯(Aronix)M-260」，東亞合成公司製造，聚乙二醇鏈的平均重複單元為13)
APG-700：聚丙二醇二丙烯酸酯(新中村化學公司製造，聚丙二醇鏈的平均重複單元為12)
BYK-3570：矽酮丙烯酸酯 環氧丙烷改質新戊二醇二丙烯酸酯稀釋品(日本畢克化學公司製造)
IRG.184：羥基環己基苯基酮(「伊魯卡(Irgacure)184」，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)
IRG.819：苯基雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-膦氧化物(「伊魯卡(Irgacure)819」，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)
TDP-2：聚氧伸乙基烷基醚磷酸(商品名，日光化學股份有限公司製造)
再者，於表4中，實施例1~實施例8及比較例1分別表示實施例C1~實施例C8及比較例C1。
[實施例C2~實施例C8]
除了變更為表4所示的組成以外，與實施例C1同樣地獲得積層體。將結果示於表4中。
[比較例C1]
除了變更為表4所示的組成以外，與實施例C1同樣地獲得積層體。將結果示於表4中。
於實施例C1~實施例C8中所得的積層體中，表層的水接觸角為130°以上，顯示出即便不使用水或醇亦可容易地去除污垢的防污性。於實施例C5~實施例C7中所得的積層體中，矽酮丙烯酸酯為45質量份以上，故顯示出非常良好的防污性。進而，實施例C5、實施例C6中所得的積層體由於矽酮丙烯酸酯為45質量份~65質量份，故活性能量線硬化性樹脂組成物的相容性良好，凸起的合而为一得到抑制，且顯示出非常良好的防污性。
比較例C1中所得的積層體的防污性不充分。
(實施例D)
以下，藉由實施例D對本實施形態加以具體說明，但本發明不限定於該些實施例。
<各種評價及測定方法>
(水接觸角的判定)
使用自動接觸角測定裝置(克呂士(KRUSS)公司製造)，將1 μl的水於後述實施例D及比較例D中製作的積層體的表面上滴加水，利用θ/2法來算出自滴加起經過7秒鐘後的水滴的接觸角。
(彈性模量的測定)
使用厚度為500 μm的經鐵氟龍(Teflon)(註冊商標)塗佈的片作為間隔件，由2片玻璃板夾持活性能量線硬化性組成物，以 3000 mJ/cm2的能量照射紫外線，使活性能量線硬化性樹脂組成物進行光硬化，製作厚度為500 μm的活性能量線硬化樹脂，於照射面側塗佈表面處理層而獲得積層體。使用費舍爾(FISCHER)公司製造「費舍爾斯高普(FISCHERSCOPE)(R)HM2000」，對所製作的積層體的表面處理層面一面以50 mN/10 s的條件使負載增加一面施加負載，以50 mN保持60秒鐘後，一面以50 mN/10 s的條件使負載減少一面卸載。使用此時受到65%與95%的負載的點，藉由外推法來計算硬化樹脂的彈性模量(壓入彈性模量)。再者，亦可使用厚度為500 μm的經鐵氟龍(Teflon)(註冊商標)塗佈的片作為間隔件，由2片玻璃板夾持活性能量線硬化性組成物，以累計光照射量為3000 mJ/cm2的能量照射紫外線，使活性能量線硬化性樹脂組成物進行光硬化，製作厚度為500 μm的活性能量線硬化樹脂，對該硬化樹脂的照射面與上述同樣地進行測定而計算彈性模量。
(防污性試驗)
利用日本專利特開2006-147149號公報中記載的方法使人工指紋液(JIS K2246，伊勢久公司製造)附著，對積層體於表面上轉印模擬指紋(關於模擬指紋成分，一面利用磁力攪拌器充分攪拌一面採取約1 mL，藉由旋塗法塗佈於聚碳酸酯製基板(直徑為120 mm，厚度為1.2 mm)上。將該基板於60℃下加熱3分鐘，藉此將作為不需要的稀釋劑的甲氧基丙醇完全去除。將其作為模擬指紋轉印用的原版。繼而，利用#240的研磨紙將NO.1的矽酮橡 膠塞的較小端面(直徑為12 mm)均一地研磨，將所得物品作為模擬指紋轉印材，將該經研磨的端面以29 N的負載抵接於上述原版10秒鐘，使模擬指紋成分轉移至轉印材的端面上。繼而，將上述轉印材端面以29 N的負載抵接於上述各樣品的透光性基體表面10秒鐘，轉印模擬指紋成分。再者，指紋圖案是轉印至介質的半徑40 mm附近的位置)。繼而，使用紙巾(商品名：超柔紙巾S132，大王製紙公司製造)以98 KPa的壓力往返擦拭6次，藉此將人工指紋液擦去後，於螢光燈下目測觀察積層體中是否殘留污垢。評價是按以下基準來進行。
◎：目測確認不到污垢。
○：目測確認到稍許污垢。
×：模擬指紋擴展，污垢未被擦去。
(利用電子顯微鏡的積層體表面的觀察)
使用掃描電子顯微鏡(日本電子公司製造，「JSM-7400F」)，於加速電壓為3.00 kV的條件下觀察形成於壓模及積層體的表面上的微細凹凸結構。再者，關於積層體的觀察，蒸鍍鉑10分鐘後進行觀察。根據所得的圖像來測定相鄰凸部彼此間的距離及凸部的高度。分別測定各10點，求出平均值。
<壓模的製作>
使用經電解研磨的鋁圓盤(純度為99.99質量%，厚度為2 mm，φ 65 mm)作為鋁基材。使鋁基材浸漬於經調整為15℃的0.3 M草酸水溶液中，反覆進行直流穩定裝置的電源的開/關 (ON/OFF)，由此對鋁基材間歇地流通電流，藉此使鋁基材陽極氧化。繼而，每隔30秒鐘施加80 V的恆定電壓5秒鐘，將此操作重複60次，形成具有孔隙的氧化皮膜。繼而，將形成有氧化皮膜的鋁基材於將6質量%的磷酸與1.8質量%的鉻酸混合而成的70℃的水溶液中浸漬6小時，將氧化皮膜溶解去除。將溶解去除了氧化皮膜的鋁基材浸漬於經調整為16℃的0.05 M的草酸水溶液中，於80 V下實施7秒鐘陽極氧化。繼而，使鋁基材於經調整為32℃的5質量%磷酸水溶液中浸漬20分鐘，實施擴大氧化皮膜的孔隙的孔徑擴大處理。如此般交替重複進行陽極氧化處理與孔徑擴大處理。陽極氧化處理與孔徑擴大處理是分別進行各5次。將所得的壓模於TDP-8(日光化學公司製造)的0.1質量%水溶液中浸漬10分鐘後，提起並乾燥一夜，藉此實施脫模處理。
利用電子顯微鏡來觀察所得的多孔氧化鋁的表面，結果形成了微細凹凸結構，該微細凹凸結構包含相鄰凹部彼此的距離為180 nm、深度為180 nm的大致圓錐狀的錐狀凹部。
[實施例D1]
<積層體的製造>
將以下材料混合而製備活性能量線硬化性樹脂組成物。
．環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯(「卡亞拉得(Kayarad)DPEA-12」，一分子內的環氧乙烷結構單元數n=12，日本化藥公司製造)30質量份，．亞羅尼斯(Aronix)M-260(商品名，東亞合成公司製造，聚 乙二醇鏈的平均重複單元為13)70質量份，．伊魯卡(Irgacure)184(商品名，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)1質量份
．伊魯卡(Irgacure)819(商品名，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)0.5質量份
．TDP-2(商品名，日光化學公司製造)0.1質量份
將該活性能量線硬化性樹脂組成物於壓模上滴落幾滴，利用三乙醯纖維素膜(FTTD80ULM(商品名)，富士軟片公司製造)一面擴展開一面被覆。繼而，自膜側以1000 mJ/cm2的能量來照射紫外線，使活性能量線硬化性樹脂組成物進行光硬化。其後，將膜與壓模剝離，對於所得的具有微細凹凸結構的表層，利用本科特(BEMCOT)M-3II(旭化成纖維公司製造)將作為底漆的PC-3B(商品名，氟科技(FluoroTechnology)公司製造)刷塗於微細凹凸結構表面上，於常溫下乾燥90分鐘後，利用本科特(BEMCOT)刷塗FG5070S135-0.1(商品名，氟科技(FluoroTechnology)公司製造)，於60℃下乾燥3小時。繼而，自膜側以累計光照射量為1000 mJ/cm2的能量來照射紫外線，使活性能量線硬化性樹脂組成物進行光硬化，形成表面處理層。其後，將膜與壓模剝離，獲得如圖3所示的積層體，該積層體具有相鄰凸部彼此間的距離w1為180 nm、凸部的高度d1為180 nm的微細凹凸結構。
<評價>
進行與所得的積層體有關的水接觸角、彈性模量、防污性的各評價。將結果示於表4中。
表5中的簡稱如下。
DPEA-12：環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥公司製造，「卡亞拉得(Kayarad)DPEA-12」，一分子內的環氧乙烷結構單元數n=12)
BYK-3570：矽酮丙烯酸酯 環氧丙烷改質新戊二醇二丙烯酸酯稀釋品(日本畢克化學公司製造)
TAS：使三羥甲基乙烷/丙烯酸/琥珀酸酐(succinic anhydride)以2/4/1進行縮合反應所得的混合物(大阪有機化學工業公司製造)
M-260：聚乙二醇二丙烯酸酯(「亞羅尼斯(Aronix)M-260」，東亞合成公司製造，聚乙二醇鏈的平均重複單元為13)
X-22-1602：矽酮丙烯酸酯(信越化學工業公司製造)
C6DA：1,6-己二醇二丙烯酸酯(大阪有機化學工業公司製造)
IRG.184：羥基環己基苯基酮(「伊魯卡(Irgacure)184」，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)
IRG.819：苯基雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-膦氧化物(「伊魯卡(Irgacure)819」，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)
TDP-2：聚氧伸乙基烷基醚磷酸(商品名，日光化學股份有限公司製造)
PC-3B：底漆(商品名，氟科技(FluoroTechnology)公司製造)
FG5070S135：氟塗佈劑(商品名，氟科技(FluoroTechnology)公司製造)
再者，於表5中，實施例1~實施例2及比較例1~比較例2分別表示實施例D1~實施例D2及比較例D1~比較例D2。
[實施例D2]
除了變更為表5所示的組成以外，與實施例D1同樣地獲得積層體。將結果示於表5中。
[比較例D1~比較例D2]
除了變更為表5所示的組成以外，與實施例D1同樣地獲得積層體。將結果示於表5中。
實施例D1~實施例D2中所得的積層體中，表層的水接觸角為120°以上，顯示出即便不使用水或醇亦可容易地去除污垢的防污性。實施例D2中所得的積層體中，彈性模量為100 MPa以下，且水接觸角為130°以上，故顯示出非常良好的防污性。
比較例D1~比較例D2中所得的積層體的防污性不充分。
(實施例E)
以下，藉由實施例E對本實施形態加以具體說明，但本發明不限定於該些實施例。
<各種評價及測定方法>
(水接觸角的判定)
使用自動接觸角測定裝置(克呂士(KRUSS)公司製造)，於 後述實施例E及比較例E中製作的活性能量線硬化性組成物的硬化物(活性能量線硬化樹脂)的表面上滴加1 μl的水，利用θ/2法來算出自滴加起經過7秒鐘後的水滴的接觸角。
(壓入彈性模量的測定)
使用「費舍爾斯高普(FISCHERSCOPE)(R)HM2000」(商品名，費舍爾(FISCHER)公司製造)，對積層體的表層的照射面一面以100 mN/10 s的條件使負載增加一面施加負載，以100 mN保持60秒鐘後，一面以100 mN/10 s的條件使負載減少一面卸載。使用此時受到65%與95%的負載的點，藉由外推法來計算彈性模量。再者，亦可使用厚度為500 μm的鐵氟龍(Teflon)片作為間隔件，由2片玻璃板夾持活性能量線硬化性組成物，以累計光照射量為3000 mJ/cm2的能量來照射紫外線，使活性能量線硬化性組成物進行光硬化，製作厚度為500 μm的活性能量線硬化樹脂，對該硬化樹脂的照射面與上述同樣地進行測定，由此計算彈性模量。
(防污性試驗)
依照日本專利特開2006-147149號公報中記載的方法來進行防污性試驗。首先，對於模擬指紋成分，一面利用磁力攪拌器充分攪拌一面採取約1 mL，藉由旋塗法塗佈於聚碳酸酯製基板(直徑為120 mm，厚度為1.2 mm)上。將該基板於60℃下加熱3分鐘，藉此將作為不需要的稀釋劑的甲氧基丙醇完全去除。將其作為模擬指紋轉印用的原版。
繼而，利用#240的研磨紙將NO.1的矽酮橡膠塞的較小 端面(直徑為12 mm)均一地研磨，將所得物品作為模擬指紋轉印材，將該經研磨的端面以29 N的負載抵接於上述原版10秒鐘，使模擬指紋成分轉移至轉印材的端面上。繼而，將上述轉印材端面以29 N的負載抵接於上述各樣品的積層體表面10秒鐘，轉印模擬指紋成分。再者，指紋圖案是轉印至介質的半徑40 mm附近的位置。
繼而，使用紙巾(商品名：超柔紙巾S132，大王製紙公司製造)以98 KPa的壓力往返擦拭6次，藉此擦去模擬指紋成分後，於螢光燈下目測觀察積層體中是否殘留污垢。評價是按以下基準來進行。
◎：目測確認不到污垢。
○：目測確認到稍許污垢。
×：模擬指紋擴展，污垢未被擦去。
(凸起合而为一的評價)
自膜端面側(側面側)入射LED光並自入射方向進行觀測時，目測觀察是否可見白色亮斑。評價是按以下基準來進行。
○：傾斜觀察時未見白色亮斑。
△：傾斜觀察時可見白色亮斑，但自正面觀察時未見白色亮斑。
×：傾斜及自正面觀察時可見白色亮斑。
(利用電子顯微鏡的樣品表面的觀察)
使用掃描電子顯微鏡(日本電子公司製造，「JSM-7400F」)， 於加速電壓為3.00 kV的條件下觀察形成於壓模及積層體的表面上的微細凹凸結構。再者，關於積層體的觀察，蒸鍍鉑10分鐘後進行觀察。根據所得的圖像來測定相鄰凸部彼此間的距離及凸部的高度。分別測定各10點，求出平均值。
<壓模的製作>
使用經電解研磨的鋁圓盤(純度為99.99質量%，厚度為2 mm，φ 65 mm)作為鋁基材。使鋁基材浸漬於經調整為15℃的0.3 M草酸水溶液中，反覆進行直流穩定裝置的電源的開/關(ON/OFF)，由此對鋁基材間歇地流通電流，藉此使鋁基材陽極氧化。繼而，每隔30秒鐘施加80 V的恆定電壓5秒鐘，將此操作重複60次，形成具有孔隙的氧化皮膜。繼而，將形成有氧化皮膜的鋁基材於將6質量%的磷酸與1.8質量%的鉻酸混合而成的70℃的水溶液中浸漬6小時，將氧化皮膜溶解去除。將溶解去除了氧化皮膜的鋁基材浸漬於經調整為16℃的0.05 M的草酸水溶液中，於80 V下實施5秒鐘陽極氧化。繼而，使鋁基材於經調整為32℃的5質量%磷酸水溶液中浸漬20分鐘，實施擴大氧化皮膜的孔隙的孔徑擴大處理。如此般交替重複進行陽極氧化處理與孔徑擴大處理。陽極氧化處理與孔徑擴大處理是分別進行各5次。使所得的壓模於TDP-8(日光化學股份有限公司製造)的0.1質量%水溶液中浸漬10分鐘後，提起並乾燥一夜，藉此實施脫模處理。
利用電子顯微鏡來觀察所得的多孔氧化鋁的表面，結果形成了微細凹凸結構，該微細凹凸結構包含相鄰凹部彼此的距離 為180 nm、深度為150 nm的大致圓錐狀的錐狀凹部。
[實施例E1]
<積層體的製造>
將以下材料混合而製備活性能量線硬化性組成物。
．環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯(「卡亞拉得(Kayarad)DPEA-12」，一分子內的環氧乙烷結構單元數n=12，日本化藥公司製造)22質量份
．亞羅尼斯(Aronix)M-260(商品名，東亞合成公司製造，聚乙二醇鏈的平均重複單元為13)32質量份
．APG-700(商品名，新中村化學公司製造，聚丙二醇鏈的平均重複單元為12)32質量份
．BYK-3570(商品名，日本畢克化學公司製造，矽酮丙烯酸酯環氧丙烷改質新戊二醇二丙烯酸酯稀釋品)9質量份
．卡蘭茨(Karenz)MT PE1(商品名，昭和電工公司製造，具有4個SH基的化合物)5質量份
．伊魯卡(Irgacure)184(商品名，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)1質量份
．伊魯卡(Irgacure)819(商品名，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)0.5質量份
．TDP-2(商品名，日光化學股份有限公司製造)0.1質量份
將該活性能量線硬化性組成物於壓模上滴落幾滴，利用三乙醯纖維素膜(FTTD80ULM(商品名)，富士軟片公司製造) 一面擴展開一面被覆。繼而，自膜側以累計光照射量為1000 mJ/cm2的能量來照射紫外線，使活性能量線硬化性組成物進行光硬化。獲得如圖1所示般的積層體，該積層體具有相鄰凸部彼此間的距離w1為180 nm、凸部的高度d1為150 nm的微細凹凸結構。
<評價>
進行與所得的積層體有關的水接觸角、彈性模量、防污性、凸起合而为一的各評價。所得的積層體由於彈性模量充分低至60 MPa，且水接觸角亦為130°以上，故可藉由乾擦來充分去除污垢，亦無凸起合而为一且防污性優異。將結果示於表7中。
表6中的簡稱如下。
DPHA：二季戊四醇六丙烯酸酯(第一工業製藥公司製造)
DPEA-12：環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥公司製造，「卡亞拉得(Kayarad)DPEA-12」，一分子內的環氧乙烷結構單元數n=12)
DPHA-30EO：環氧乙烷改質二季戊四醇六丙烯酸酯(第一工業製藥公司製造，一分子內的環氧乙烷結構單元數n=30)
M-260：聚乙二醇二丙烯酸酯(「亞羅尼斯(Aronix)M-260」，東亞合成公司製造，聚乙二醇鏈的平均重複單元為13)
APG-700(商品名，新中村化學公司製造，聚丙二醇鏈的平均 重複單元為12)
C6DA：1,6-己二醇二丙烯酸酯(大阪有機化學工業公司製造)
BYK-3570：矽酮丙烯酸酯 環氧丙烷改質新戊二醇二丙烯酸酯稀釋品(日本畢克化學公司製造)
X-22-1602：矽酮丙烯酸酯(信越化學工業公司製造)
PE1：卡蘭茨(Karenz)MT PE1(商品名，昭和電工公司製造，具有4個SH基的化合物)
NR1：卡蘭茨(Karenz)MT NR1(商品名，昭和電工公司製造，具有3個SH基的化合物)
BD1：卡蘭茨(Karenz)MT BD1(商品名，昭和電工公司製造，具有2個SH基的化合物)
nOM：正辛基硫醇(日本埃爾夫阿托化學(Elf Atochem Japan)公司製造，具有1個SH基的化合物)
IRG184：羥基環己基苯基酮(「伊魯卡(Irgacure)184」，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)
IRG819：苯基雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-膦氧化物(「伊魯卡(Irgacure)819」，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造)
TDP-2：聚氧伸乙基烷基醚磷酸(商品名，日光化學股份有限公司製造)
再者，於表6及表7中，實施例1~實施例13及比較例1分別表示實施例E1~實施例E13及比較例E1。
[實施例E2~實施例E13、比較例E1]
除了變更為表6所示的組成以外，與實施例E1同樣地獲得積層體。將結果示於表7中。
實施例E2~實施例E13中所得的積層體顯示出即便不使用水或醇亦可容易地去除污垢的防污性。
實施例E2~實施例E11由於壓入彈性模量為500 MPa以下，水接觸角為130°以上，故顯示出良好的防污性。其中，實施例1~實施例6、實施例8、實施例10由於壓入彈性模量為100 MPa以下，故顯示出特別良好的防污性。實施例E12、實施例E13中，具有SH基的化合物的添加量多，故儘管水接觸角為130°以下，亦顯示出良好的防污性。
[產業上之可利用性]
本實施形態的積層體可維持優異的光學性能，並且容易地去除污垢，故可用於電視、行動電話、可攜式遊戲機等的各種顯示器、觸控面板、展示櫃(show case)、外飾蓋(exterior cover)等，於工業上極為有用。
10‧‧‧積層體
11‧‧‧基材
12‧‧‧表層
13‧‧‧凸部
13a‧‧‧頂端
14‧‧‧凹部
14a‧‧‧底部
d1‧‧‧高度
w1‧‧‧距離

Claims (20)

  1. 一種積層體，其包括表層，上述表層具有形成有微細凹凸結構的表面，並且上述表層的彈性模量小於250 MPa，且上述表層的摩擦係數的斜率為1.8×10-3以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中上述表層的摩擦係數的斜率為-2.0×10-3以上。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的積層體，其中上述表層的摩擦係數的斜率為-1.8×10-3以上、1.0×10-3以下。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的積層體，其中上述表層的彈性模量小於160 MPa。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的積層體，其中上述表層的彈性模量小於100 MPa。
  6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述的積層體，其中上述表層的水接觸角為25°以下、或130°以上。
  7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的積層體，其中上述表層含有活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的積層體，其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物含有1質量份~55質量份的三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)、以及10質量份~95質量份的二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)(其中，將上述活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份)。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的積層體，其中上述三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量為5質量份~40質量份，上述二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量為20質量份~80質量份。
  10. 如申請專利範圍第8項所述的積層體，其中上述三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)的含量為10質量份~30質量份，上述二官能的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量為30質量份~70質量份。
  11. 如申請專利範圍第8項所述的積層體，其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物更含有3質量份~85質量份的矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)(其中，將上述活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份，(A)及(B)中分別將(C)除外)。
  12. 如申請專利範圍第9項所述的積層體，其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物更含有7質量份~70質量份的矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)(其中，將上述活性能量線硬化性樹脂組成物中的聚合性成分的合計量設定為100質量份，(A)及(B)中分別將(C)除外)。
  13. 如申請專利範圍第7項所述的積層體，其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物含有具有SH基的化合物(D)。
  14. 如申請專利範圍第13項所述的積層體，其中上述活性能量線硬化性樹脂組成物含有0質量份~95質量份的二官能以上的 多官能(甲基)丙烯酸酯(E)、0質量份~75質量份的矽酮(甲基)丙烯酸酯(C)、以及1質量份~60質量份的上述具有SH基的化合物(D)(其中，將聚合性成分的合計量設定為100質量份)。
  15. 如申請專利範圍第7項至第14項中任一項所述的積層體，其中上述表層是由上述活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層所構成。
  16. 如申請專利範圍第7項至第14項中任一項所述的積層體，其中上述表層是由上述活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層、以及表面處理層所構成，此表面處理層作為最表面層形成於上述活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層上。
  17. 如申請專利範圍第1項至第15項中任一項所述的積層體，其中上述微細凹凸結構的間距為100 nm以上、250 nm以下。
  18. 一種抗反射物品，其包括如申請專利範圍第1項至第17項中任一項所述的積層體。
  19. 一種圖像顯示裝置，其包括如申請專利範圍第1項至第17項中任一項所述的積層體。
  20. 一種觸控面板，其包括如申請專利範圍第1項至第17項中任一項所述的積層體。
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