TW201302326A - 粒狀體分選裝置 - Google Patents

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Shigeaki Yamahara
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Kubota Kk
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Abstract

提供一種:成為能夠在作業之繁雜性為少的狀態下,而以良好精確度來進行對於是否為成為分離對象之粒狀體一事作判別的粒狀體判別處理之粒狀體分選裝置。具備有:在從粒狀體之移送方向作觀察時,相對於計測對象場所而位置於其中一側處並且受光反射光之其中一側之反射光受光手段(5A)、和相對於計測對象場所(J)而位置於另外一側處並且受光反射光之另外一側之反射光受光手段(5B)、和位置在計測對象場所(J)之另外一側處並且受光透過光之透過光受光手段(5C)、和對於反射光計測場所(J1)進行照明之其中一側照明手段(4A)、以及在從粒狀體之移送方向作觀察時,相對於計測對象場所(J)而位置於另外一側處並且對於反射光計測場所進行照明之另外一側照明手段(4B),根據其中一側之反射光受光手段(5A)、另外一側之反射光受光手段(5B)、以及透過光受光手段(5C),該些之各別的檢測資訊,來實行粒狀體判別處理。

Description

粒狀體分選裝置
本發明,係有關於一種粒狀體分選裝置,其係設置有:移送手段,係將粒狀體群以通過計測對象場所的方式來作移送;和受光手段,係受光在前述計測對象場所處之從粒狀體而來之光;和照明手段,係對於前述計測對象場所進行照明;和評價處理手段,係實行根據前述受光手段之受光資訊來判別其是否為成為分離對象之粒狀體的粒狀體判別處理。
作為上述粒狀體分選裝置,在先前技術中,係存在有如同下述一般之構成者。
亦即是,作為前述照明手段,係構成為具備有:在從粒狀體之移送方向來作觀察時,相對於計測對象場所而位置於其中一側(具體而言,相對於計測對象場所而靠裝置前部側)處之其中一側照明手段、和在從粒狀體之移送方向來作觀察時,相對於計測對象場所而位置於與前述其中一側之場所相差180度的另外一側(具體而言,相對於計測對象場所而靠裝置後部側)處之另外一側照明手段,作為前述受光手段,係具備有:在從粒狀體之移送方向來作觀察時,相對於計測對象場所而位置於其中一側(裝置前部側)處並受光從粒狀體而來之反射光的其中一側之受光手段、和在從粒狀體之移送方向來作觀察時,相對於計測 對象場所而位置於與前述其中一側之場所相差180度的另外一側(裝置後部側)處並受光反射光的另外一側之受光手段,又,該粒狀體分選裝置,係構成為能夠在第1計測狀態和第2計測狀態之間作切換,該第1計測狀態,係設為使其中一側照明手段和另外一方照明手段一同動作之狀態,並在其中一側受光裝置以及另外一側受光裝置之各個處,受光被位置於計測對象場所處之粒狀體所反射了的光,再根據該受光資訊來實行粒狀體判別處理,該第2計測狀態,係設為將其中一側照明手段和另外一側照明手段中之其中一者設為非動作狀態,並藉由其中一側受光裝置和另外一側受光裝置中之其中一者的受光裝置,來受光透過了粒狀體之透過光,且藉由另外一者之受光裝置,來受光粒狀體所反射了的反射光,再根據該些之受光資訊,來實行粒狀體判別處理(例如,參考日本特開2007-330880號公報)。
上述構成,在第1計測狀態下,係能夠作為成為分離對象之粒狀體,而將光反射率落於適當範圍以外之粒狀體檢測出來,在第2計測狀態下,係能夠作為成為分離對象之粒狀體,而將光透過率落於適當範圍以外之粒狀體檢測出來。
在上述先前技術之構成中,為了如同上述一般地將光 反射率落於適當範圍外之粒狀體或者是光透過率落於適當範圍外之粒狀體檢測出來,係需要進行對於如同上述一般之相異之2個的計測狀態分別作切換並且各別一面藉由移送手段來將粒狀體群作移送一面實行粒狀體判別處理之作業,而有著導致作業效率之低下的缺點。
若是更進一步作說明,則例如,係切換至第1計測狀態,並藉由以其中一側受光裝置以及另外一側受光裝置之各個來受光被粒狀體所反射之光而實行粒狀體判別處理,來將光反射率落於適當範圍外之粒狀體檢測出來。之後,接著,係成為切換至第2計測狀態,並以在第1計測狀態下而光反射率並未落於適當範圍外之粒狀體群作為對象,來藉由以其中一者之受光裝置而受光透過了粒狀體之透過光並實行粒狀體判別處理,而將光透過率落於適當範圍外之粒狀體檢測出來。
如此這般,係有必要在第1計測狀態和第2計測狀態間作切換來進行粒狀體判別處理,而有著導致作業效率之低下的缺點。
另外,代替上述一般之構成,例如,亦可考慮有下述之構成:亦即是作為照明手段,而僅具備其中一側照明手段和另外一側照明手段中之其中一者,並設為使其中一側受光裝置和另外一側受光裝置中之其中一者,受光被位置在計測對象場所處之粒狀體所反射之光,而使另外一方受光透過了位置在計測對象場所處之粒狀體之光,再根據其中一側受光裝置和另外一側受光裝置之各別的受光資訊, 來實行粒狀體判別處理,但是,在此構成中,由於係成為僅有其中一側受光裝置和另外一側受光裝置中之其中一者會對於從粒狀體而來之反射光作計測,因此,在粒狀體之表面中從移送方向觀察時的相對於計測對象場所之其中一側的表面或者是另外一側的表面中之其中一側處,會成為無法得到從該側而來之反射光的資訊,而有著無法以良好精確度來進行對於是否身為分離對象之粒狀體一事作判別的粒狀體判別處理之缺點。
本發明之目的,係在於提供一種:成為能夠在不會導致作業效率之低下的狀態下,而以良好精確度來進行對於是否為成為分離對象之粒狀體一事作判別的粒狀體判別處理之粒狀體分選裝置。
本發明之粒狀體分選裝置,係設置有:移送手段,係將粒狀體群以通過計測對象場所的方式來作移送;和受光手段,係受光在前述計測對象場所處之從粒狀體而來之光;和照明手段,係對於前述計測對象場所進行照明;和評價處理手段,係實行根據前述受光手段之受光資訊來判別其是否為成為分離對象之粒狀體的粒狀體判別處理,該粒狀體分選裝置,係構成為:作為前述計測對象場所,係以在粒狀體之移送方向上而位置互為相異的狀態,來分別設定有用以計測在粒狀體之表面所反射了的反射光之反射光計測場所、和用以受光透過了粒狀體之透過光的透過光計 測場所,前述受光手段,係構成為具備有:在從粒狀體之移送方向來作觀察時,相對於前述計測對象場所而位置於其中一側處並受光前述反射光之其中一側之反射光受光手段、和在從粒狀體之移送方向來作觀察時,相對於前述計測對象場所而位置於與前述其中一側之場所相差180度的另外一側處並受光前述反射光之另外一側之反射光受光手段、以及位置在前述計測對象場所之其中一側或者是另外一側的其中一側處並受光前述透過光之透過光受光手段,前述照明手段,係構成為具備有:在從粒狀體之移送方向來作觀察時,相對於前述計測對象場所而位置於前述其中一側處並對於前述反射光計測場所進行照明之其中一側照明手段、和在從粒狀體之移送方向來作觀察時,相對於前述計測對象場所而位置於與前述另外一側處並對於前述反射光計測場所進行照明之另外一側照明手段、以及位置在前述計測對象場所之其中一側或者是另外一側的與前述透過光受光裝置相反側處並對於透過光計測場所進行照明之透過光照明手段,前述評價處理手段,係構成為根據前述其中一側之反射光受光手段、前述另外一側之反射光受光手段、以及前述透過光受光手段,該些之各別的檢測資訊,來實行前述粒狀體判別處理。
亦即是,由於係成為將其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之與存在有透過光受光手段之側相反側者,作為透過光照明手段來對於透過光計測場所進行照明,並使透過光受光手段受光從透過光計測場所而來之光,並且 ,經由遮光構件之遮光作用,而對於當由於使其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之存在有透過光受光手段之側者對於反射光計測場所進行照明而使從反射光計測場所之粒狀體所反射之光被透過光受光手段所受光的情況、或者是其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之存在有透過光受光手段之側者的照明光到達透過光計測場所處的情況作阻止,故而,係成為能夠在將反射光計測場所和透過光計測場所設為靠近於粒狀體群之移送方向的狀態下,來進行由反射光或透過光所致之粒狀體判別處理。
亦即是,其中一側照明手段之照明光或者是另外一側照明手段之照明光,係被投射為使沿著粒狀體群之移送方向的寬幅成為越接近反射光計測場所則變得越狹窄之光束狀,而成為對於反射光計測場所以良好效率來作照明,但是,亦設為使在其中一側照明手段之照明光或者是另外一側照明手段之照明光的投射區域內,除了位置有反射光計測場所之外,亦位置有透過光計測場所,而能夠在使反射光計測場所和透過光計測場所近接於粒狀體群之移送方向的狀態下,來進行由反射光或透過光所致之粒狀體判別處理。
若是更進一步作說明,則在進行由反射光或透過光所致之粒狀體判別處理時,若是將反射光計測場所和透過光計測場所沿著粒狀體群之移送方向來相互離開充分大的距離,則係能夠避免其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之與存在有透過光受光手段之側相反側者對於透過光 計測場所作照明的情況,又,藉由使其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之存在於透過光受光手段之側者者對於反射光計測場所進行照明,係成為能夠避免從反射光計測場所之粒狀體所反射的光被透過光受光手段所受光或者是其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之存在有透過光受光手段之側者的照明光到達透過光計測場所處。
然而,於此情況,不僅是會有難以謀求裝置之緊緻化的缺點,在設置從粒狀體群來將成為分離對象的粒狀體分離之分離手段時,亦會成為需要各別設置與反射光計測場所相對應之分離手段和與透過光計測場所相對應之分離手段等,而有使裝置構成變得複雜之虞,因此,係成為期望能夠將反射光計測場所和透過光計測場所在粒狀體群之移送方向上而更相互靠近。
故而,若依據上述構成,則係成為能夠在使反射光計測場所和透過光計測場所於粒狀體群之移送方向上而相互靠近的狀態下,來進行由反射光或透過光所致之粒狀體判別處理。
在上述構成中,較理想,係構成為:為了阻止前述其中一側照明手段以及前述另外一側照明手段中之位於存在有前述透過光受光手段之側者所對於前述反射光計測場所作照明並從粒狀體而反射了的反射光被前述透過光受光手段而受光,並且為了阻止前述其中一側照明手段以及前述另外一側照明手段中之位於存在有前述透過光受光手段之側者的照明光到達前述透過光計測場所處,而設置有將前 述反射光以及前述照明光作遮光之遮光構件,前述其中一側照明手段以及前述另外一側照明手段中之位於與存在有前述透過光受光手段之側相反側者,係構成為作為前述透過光照明手段而對於前述透過光計測場所作照明。
亦即是,由於係為了阻止其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之存在有透過光受光手段之側者所對於反射光計測場所作照明並從粒狀體而反射了的反射光被透過光受光手段而受光,並且為了阻止其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之存在有前述透過光受光手段之側者的照明光到達前述透過光計測場所處,而設為設置有將前述反射光以及前述照明光作遮光之遮光構件,因此,就算是將反射光計測場所以及透過光計測場所,以位置在其中一側照明手段以及另外一側照明手段之投射區域內的方式,來設定為沿著粒狀體之移送方向而相互靠近的狀態,亦能夠對於其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之存在有透過光受光手段之側者的照明光被投射至透過光計測場所處的情況、或者是其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之存在有透過光受光手段之側者所對於反射光計測場所進行照明並被粒狀體反射了的反射光在透過光受光手段處而被受光的情況作阻止。
若是更進一步作說明,則其中一側照明手段以及另外一側照明手段,雖然係為了僅對於反射光計測場所進行投射,而以不會使所投射之光的光束沿著粒狀體之移送方向而擴廣地來極力作集中的方式而作了調整,但是,由於要 以僅對於反射光計測場所作投射的方式來集中光束一事,係為困難,作為光的投射區域,係成為以沿著粒狀體之移送方向而具備有特定之寬幅的狀態來作擴廣者,因此,若是要設定為使反射光計測場所和透過光計測場所沿著粒狀體之移送方向而儘量相互接近的狀態,則反射光計測場所和透過光計測場所,會成為位置在其中一側照明手段以及另外一側照明手段之投射區域內的狀態。
而,就算是在如同上述一般之將反射光計測場所和透過光計測場所設定為位置在其中一側照明手段以及另外一側照明手段之投射區域內的狀態之情況時,藉由設置遮光構件,係能夠對於其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之存在有透過光受光手段之側者所對於反射光計測場所進行照明並被粒狀體反射了的反射光在透過光受光手段處而被受光的情況作阻止,並且亦能夠對於其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之存在有透過光受光手段之側者的照明光到達透過光計測場所處的情況作阻止。
另外,作為係以使反射光計測場所和透過光計測場所沿著粒狀體之移送方向而相互靠近的狀態為較理想的理由,係有著如同下述一般之理由。
亦即是,以通過計測對象場所的方式來藉由移送手段而作移送的粒狀體群,係成為在通過了計測對象場所之後,例如在位置於較計測對象場所而更靠粒狀體之移送方向的下游側之分離場所處,而被進行將成為分離對象之粒狀體與其他粒狀體作分離之分離處理,但是,由於若是反射 光計測場所和透過光計測場所沿著粒狀體之移送方向而相互分離,則會有成為無法適當地進行根據粒狀體判別處理之判別結果所進行的分離處理之虞,因此,為了成為能夠良好地進行此種分離處理,係以使反射光計測場所和透過光計測場所沿著粒狀體之移送方向而盡可能地相互接近為理想。又,為了謀求沿著粒狀體群之移送方向的裝置之緊緻化,亦係以使反射光計測場所和透過光計測場所沿著粒狀體之移送方向而盡可能地相互接近為理想。
又,其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之與存在有透過光受光手段之側相反側者,係對於透過光計測場所進行照明,透過了位置在透過光計測場所處之粒狀體的透過光,係藉由透過光受光手段而被受光。亦即是,藉由其中一側照明手段以及另外一側照明手段中之與存在有透過光受光手段之側相反側者,亦作為透過光照明手段來作兼用,係成為能夠藉由構件之兼用化來謀求構成之簡單化。
故而,若依據上述構成,則係成為能夠以使反射光計測場所和透過光計測場所位置在其中一側照明手段以及另外一側照明手段之投射區域內的方式,來使反射光計測場所和透過光計測場所沿著由移送手段所致之粒狀體之移送方向來相互靠近,並且,係成為能夠藉由構件之兼用化來謀求構成之簡單化。
在上述構成中,若是設為下述構成,則為理想:亦即是,在位於較前述計測對象場所而更靠粒狀體之移送方向 下游側的分離場所處,係具備有將成為分離對象之粒狀體分離至與其他之粒狀體群相異之路徑處的分離手段,前述評價處理手段,係構成為:若是藉由前述粒狀體判別處理而根據前述其中一側之反射光受光手段以及前述另外一側之反射光受光手段的檢測資訊來判別出成為分離對象之粒狀體,則係在經過了從前述反射光計測場所來到達前述分離場所處所需要的第1延遲時間之後,使前述分離手段動作,並且,若是根據前述透過光受光裝置之檢測資訊而判別出成為分離對象之粒狀體,則係在經過了從前述透過光計測場所來到達前述分離場所處所需要的第2延遲時間之後,使前述分離手段動作。
亦即是,評價處理手段,若是根據其中一側之反射光受光手段以及另外一側之反射光受光手段的檢測資訊而判別出其係為成為分離對象之粒狀體,則係在經過了第1延遲時間之後,使分離手段動作。第1延遲時間,由於係為粒狀體之從反射光計測場所起直到到達分離場所為止所需要的時間,因此,光反射率落於適當範圍之外並且被判別為分離對象之粒狀體,係成為在被移送至分離場所處之時序處而被確實地作分離。
又,評價處理手段,若是根據透過光受光手段的檢測資訊而判別出其係為成為分離對象之粒狀體,則係在經過了第2延遲時間之後,使分離手段動作。第2延遲時間,由於係為粒狀體之從透過光計測場所起直到到達分離場所為止所需要的時間,因此,光透過率落於適當範圍之外並 且被判別為分離對象之粒狀體,係成為在被移送至分離場所處之時序處而被確實地作分離。
亦即是,係能夠將光反射率落於適當範圍外而被判別為分離對象之粒狀體、以及光透過率落於適當範圍外而被判別為分離對象之粒狀體,分別藉由1個的分離手段來進行分離。
另外,當以使反射光計測場所和透過光計測場所在粒狀體之移送方向上而相互靠近了的狀態來作設定的情況時,由於藉由移送手段而被作移送之粒狀體群的流速變化係為少,因此,係成為能夠藉由1個的分離手段來作分離,並且亦能夠適當地作分離。
故而,若依據上述構成,則係成為能夠將光反射率落於適當範圍外之粒狀體以及光透過率落於適當範圍外之粒狀體,分別確實地作分離。
在上述構成中,若是設為下述之構成,則為理想:亦即是,前述移送手段,係構成為以在將粒狀體群在橫寬幅方向上作了分散的狀態下來通過沿著該橫寬幅方向而形成為廣寬幅之前述計測對象場所的方式,來將粒狀體群作移送,前述其中一側之反射光受光手段和前述另外一側之反射光受光手段以及前述透過光受光手段之各個,係以將受光從前述計測對象場所而來之光之複數個的單位受光部沿著前述計測對象場所之橫寬幅方向來並排配置的方式而被構成,前述評價處理手段,係作為前述粒狀體判別處理,而根據前述單位受光部所受光之光量值是否超出於適當光 量範圍一事,來判別出是否為成為分離對象之粒狀體,並且,以在前述複數之單位受光部的每一者處而實行前述粒狀體判別處理的方式,而被構成。
亦即是,係將粒狀體群以在橫寬幅方向上作了擴廣的狀態來作移送,並使其中一側之反射光受光手段以及另外一側之反射光受光手段藉由沿著計測對象場所之橫寬幅方向來作了並排配置的複數之單位受光部而受光反射光,且使透過光受光手段藉由沿著計測對象場所之橫寬幅方向而作了並排配置的複數之單位受光部來受光反射光,而評價處理手段,係根據其中一側之反射光受光手段、另外一側之反射光受光手段以及透過光受光手段之各別的檢測資訊,來在複數之單位受光部的每一者處而實行粒狀體判別處理。
亦即是,係能夠針對以在橫寬幅方向上作了擴廣的狀態而被作移送的粒狀體群中之沿著計測對象場所之橫寬幅方向而並排的複數之粒狀體群,來整批地判別其是否身為成為分離對象之粒狀體。
故而,若依據上述構成,則係能夠一面將粒狀體群以在橫寬幅方向上作了擴廣的狀態來一次移送大量之粒狀體群,一面整批地判別其是否身為成為分離對象之粒狀體,而能夠謀求作業效率之提升。
在上述構成中,若是採用下述構成,則為理想:亦即是,前述移送手段,係構成為具備有一面使粒狀體群以沿著粒狀體移送方向而縱長延伸的狀態來流下一面進行移送 之傾斜姿勢的流下導引板,前述透過光受光手段、和前述其中一側之反射光受光手段以及前述另外一側之反射光受光手段中的其中一者,係在前述流下導引板之下方側並且當俯視時為與前述流下導引板相重複或者是略重複的場所處,而以使該些作上下並排的狀態來作配備。
亦即是,由於係具備有使粒狀體群一面藉由自身重量而流下一面作移送之傾斜姿勢的流下導引板,並且,透過光受光手段、和其中一側之反射光受光手段以及另外一側之反射光受光手段中的其中一者,係在流下導引板之下方側並且當俯視時為與流下導引板相重複或者是略重複的場所處,而以使該些作上下並排的狀態來作配備,因此,係能夠利用傾斜姿勢之流下導引板的下方側之空間,而在不會使俯視時之沿著粒狀體移送方向的粉粒體分選裝置之外形大型化的狀態下,來配備透過光受光手段、和其中一側之反射光受光手段以及另外一側之反射光受光手段中的其中一者。
故而,若依據上述構成,則係能夠在並不使粉立體分選裝置之外形大型化的狀態下,而配備透過光受光手段、和其中一側之反射光受光手段以及另外一側之反射光受光手段中的其中一者。
以下,針對本發明之粒狀體分選裝置的實施形態,根據圖面來對於適用在作為粒狀體群之其中一例而一面對糙 米或精米等之米粒群作流下導引一面進行分選之粒狀體分選裝置中的情況作說明。
如圖1以及圖2中所示一般,係構成為:具備有以通過計測對象場所J的方式來將米粒群k以一層且作了寬幅擴廣的狀態而流下的流動狀態來作載置並朝向計測對象場所J作導引的傾斜姿勢之射出部(shooter)3C(流下導引體之其中一例),並能夠一面使從被設置在此傾斗3C之上部側處的儲存漏斗3A來經由振動送料器3B所被搬送並供給之米粒群k從射出部3C之上面而流下,一面對光反射率為落於適當範圍外或者是光透過率為落於適當範圍外一般之不良粒與良品之米粒群作分選而將不良粒分離。
以下,針對各部之構成作說明。
如圖3中所示一般,振動送料器3B,係具備有:承接從儲存漏斗3A之下部所排出之米粒群的承接載置部25、和對於承接載置部25賦予振動之振動產生器26,並構成為藉由振動產生器26來對於承接載置器25賦予振動而使米粒群k從其之一端部來送出至射出部3C處。而,射出部3C,係如圖7中所示一般,藉由以使直線狀之溝m沿著橫寬幅方向來作複數列並排的狀態所形成的附有溝之板而構成,並構成為使經由振動送料器3B來沿著射出部3C之橫寬幅方向而以擴廣為廣寬幅狀態的狀態作供給之米粒群k,在複數列之溝m內被以一列來作流下導引。
故而,藉由儲存漏斗3A、振動送料器3B以及射出部3C等,而構成將米粒群k以一層狀態且在橫寬幅方向上 作了擴廣的狀態來通過計測對象場所J的方式而進行移送之移送手段3。
又,振動送料器3B,係藉由以振動產生器26之振動來使米粒群k之搬送速度改變,而構成為能夠對於送出至射出部3C處之米粒群k的供給量(亦即是由射出部3C所致之米粒群k的移送流量)作變更調節。
如圖3以及圖6中所示一般,係在米粒群k之從射出部3C的下端部而移動落下的路徑中,設定有對於米粒群k之計測對象場所J,並且,作為計測對象場所J,係將用以計測在米粒之表面而反射了的反射光之反射光計測場所J1、和用以受光透過了米粒的透過光之透過光計測場所J2,以在米粒群之移送方向上而位置互為相異的狀態來作了設定。具體而言,透過光計測場所J2,係被設定為位置在較反射光計測場所J1而更靠米粒群之移送方向的下游側處之狀態。
進而,如圖6中所示一般,係具備有:對計測對象場所J進行照明之照明手段4、和受光從計測對象場所J處之米粒群k而來的光之受光手段5、和在較計測對象場所J而更靠米粒之移送方向下游側的分離場所處而將分離對象粒和其他的米粒群作分離之作為分離手段的空氣吹拂裝置6。
前述照明手段4,係如圖6中所示一般,具備有對於在米粒群之移送方向視線上相對於計測對象場所而位置在其中一側(具體而言,裝置前部側)處並對反射光計測場所 J1作照明之作為其中一側照明手段的前部側照明手段4A、和對於在米粒群k之移送方向視線上相對於計測對象場所J而位置在與其中一側之場所相異180度的另外一側(具體而言,裝置後部側)處並對反射光計測場所J1作照明之作為另外一側照明手段的後部側照明手段4B,而構成之。
又,係以位置在計測對象場所J之裝置前部側的狀態下,而具備有透過光用之背景光量調整器4C,並以位置在較計測對象場所J而更靠裝置前部側的狀態下,而被設置有背景光形成用之前部側反射板4D,且以位置在較計測對象場所J而更靠裝置後部側的狀態下,而被設置有背景光形成用之後部側反射板4E。
如圖6中所示一般,後部側照明手段4B,係在較計測對象場所J而更靠裝置後部側處,具備有對於反射光計測場所J1而涵蓋裝置橫寬幅方向之全寬幅地來進行直接照明之將2根的圓柱狀之螢光燈作並排所構成的作為光投射體之線狀光源30B、和將該線狀光源30B所發出之光作反射並藉由該作了反射之光來從與線狀光源3B所致之照明方向相異的照明方向而對於反射光計測場所J1來涵蓋裝置橫寬幅方向之全寬幅地進行照明之作為光投射體的光反射構件31B,而構成為對於反射光計測場所J1之米粒來從移送方向上游側以及移送方向下游側之互為相異的照明方向而分別對於反射光計測場所J1進行照明。
又,在線狀光源30B之背部處,係被配置有對於內面 施加有消光澤之白色塗裝的被彎折成略ㄈ字狀之擴散反射板32,又,雖並未圖示,但是,在線狀光源30B之近旁處,係具備有將光導引至光反射構件31B處並且將朝向反射光計測場所J2之光束沿著米粒之移送方向而以將寬幅作了縮窄的狀態來作導引之投射光調整機構(參考圖12)。
而,光反射構件31B,係相對於米粒群之移送方向而為窄寬幅並且沿著線狀光源30B之長邊方向而構成為長條之矩形狀,反射面係藉由鏡面所構成。另外,係以使藉由線狀光源30B所照明之光量和藉由光反射構件31B所照明之光量成為相同或者是略相同的方式,來以使光反射構件31B之傾斜角度成為適當之角度地而在位置固定狀態下作安裝,並構成為朝向反射光計測場所J1而投射光。
如圖6以及圖11中所示一般,前部側照明手段4A,係與後部側照明手段4B相同的,具備有:對位置於位在反射光計測場所處之米粒群k的移送方向上游側處之上游側外面部分進行直接照明之將2根的圓柱狀之螢光燈作並排所構成的作為光投射體之線狀光源30A、和被設置在線狀光源30A之背部處的擴散反射板32、和將線狀光源30A所發出之光作反射並藉由該作了反射之光來對位置於位在反射光計測場所J1處之米粒群k的移送方向下游側處之下游側外面部分進行照明的作為光投射體之光反射構件31A,而構成為對於反射光計測場所J1之米粒來從移送方向上游側以及移送方向下游側之互為相異的照明方向而分別對於反射光計測場所J1進行照明。
又,雖並未圖示,但是,在線狀光源30B之近旁處,係具備有將光導引至光反射構件31B處並且將朝向反射光計測場所J2之光束沿著米粒之移送方向而以將寬幅作了縮窄的狀態來作導引之投射光調整機構(參考圖12)。
針對由照明手段4所進行之對於計測對象場所J的照明之狀態作說明。
如圖12中所示一般,前部側照明手段4A,係將從線狀光源30A而來之光朝向反射光計測場所J2而直接作投射,從線狀光源30A而來之光,係被導引至光反射構件31A處,藉由該光反射構件31A而被作了反射之光,係成為被朝向反射光計測場所J2作投射。
而,從線狀光源30A而被朝向反射光計測場所J2作直接投射之照明光,係以使沿著米粒之移送方向的寬幅越接近反射光計測場所J2則變得越窄的方式來投射為光束狀,並構成為僅對於反射光計測場所J1作照明。另一方面,被光反射構件31A所反射了的照明光,雖係以使沿著米粒之移送方向的寬幅越接近反射光計測場所J2則變得越窄的方式來投射為光束狀,但是,其之集中程度,相較於線狀光源30A,係為較寬鬆,而構成為不僅是對於反射光計測場所J1作照明且亦對於透過光計測場所J2作照明。
如同上述一般,前部側照明手段4A,由於係成為從裝置前部側來對於位置在透過光計測場所J2處之粒狀體作照明的構成。因此,係成為兼用為透過光照明手段之構 成。
另一方面,後部側照明手段4B,亦與前部側照明手段4A相同的,如圖12中所示一般,將從線狀光源30B而來之光朝向反射光計測場所J2而直接作投射,又,從線狀光源30B而來之光,係被導引至光反射構件31B處,藉由該光反射構件31A而被作了反射之光,係成為被朝向反射光計測場所J2作投射。而,從線狀光源30A而被朝向反射光計測場所J2作直接投射之照明光,係以使沿著米粒之移送方向的寬幅越接近反射光計測場所J2則變得越窄的方式來投射為光束狀,並構成為僅對於反射光計測場所J1作照明。另一方面,被光反射構件31A所反射了的光,雖係以使沿著米粒之移送方向的寬幅越接近反射光計測場所J2則變得越窄的方式來投射為光束狀,但是,其之集中程度,相較於線狀光源30A,係為較寬鬆,而構成為不僅是對於反射光計測場所J1作投射且亦對於透過光計測場所J2作投射。
另外,在圖12所例示之例中,被從線狀光源30A、30B而直接作投射之光,雖係成為僅對於反射光計測場所J1作照明,但是,被從線狀光源30A、30B而直接作投射之光,亦可構成為並非僅對於反射光計測場所J1作照明而亦對於透過光計測場所J2作照明。
但是,在從後部側照明手段4B而來之照明光中,被朝向透過光計測場所J2而投射之光,係成為經由後述之遮光構件38而以不會到達透過光計測場所J2處的方式來 作了遮光之構成。
如圖6中所示一般,背景光量調整器4C,係在當從後述之透過光受光裝置5C來對於透過光計測場所J2作觀察時而相當於背景之場所處被作設置,並具備有沿著透過光計測場所J2之裝置橫寬幅方向來以密狀態而作並排設置之複數的LED發光元件33、和被配置在設置有該些之複數的LED發光元件33的區域之光投射側處的使複數之LED發光元件33所發出之光作擴散的擴散板34,而構成之。
又,如圖14中所示一般,係具備有能夠對於複數之LED發光元件33的發光輸出作自由變更調整之調光裝置35,並構成為以使藉由透過光受光裝置5C所受光之背景的光量成為後述之適當光量範圍內之光量值的方式來作調整。
如圖6中所示一般,背景光形成用之前部側反射板4D,係在當從後述之後部側反射光受光裝置5B來對於反射光計測場所J1作觀察時而相當於背景之場所處被作設置,並藉由具備有特定之光反射率的表面為白色之板體所構成,而將從線狀光源30A而來之光反射,並以使藉由後部側反射光受光裝置5B所受光之背景的光量成為後述之適當光量範圍內之光量值的方式來構成之。
如圖6中所示一般,背景光形成用之後部側反射板4E,係在當從後述之前部側反射光受光裝置5A來對於反射光計測場所J1作觀察時而相當於背景之場所處被作設 置,並藉由具備有特定之光反射率的表面為白色之板體所構成,而將從線狀光源30B而來之光反射,並以使藉由前部側反射光受光裝置5A所受光之背景的光量成為後述之適當光量範圍內之光量值的方式來構成之。
以下,針對受光手段5作說明。
如圖6中所示一般,受光手段5,係具備有位置在米粒群之移送方向視線上的作為相對於計測對象場所J之其中一側的裝置前部側處並受光反射光之前部側反射光受光裝置5A、和位置在米粒群之移送方向視線上的作為相對於計測對象場所J而與其中一側之場所相異180度的另外一側之裝置後部側處並受光反射光之另外一側之反射光受光手段的後部側反射光受光裝置5B、以及位置在米粒群之移送方向視線上的相對於計測對象場所J之裝置後部側並受光透過光之作為透過光受光手段的透過光受光裝置5C,而構成之。
進而,若是更進一步作說明,則前部側反射光受光裝置5A,係構成為受光在反射光計測場所J1處而被前部側照明手段4A所照明並在米粒之表面而反射了的光,後部側反射光受光裝置5B,係構成為受光在反射光計測場所J1處而被後部側照明手段4B所照明並在米粒之表面而反射了的光。又,透過光受光裝置5C,係構成為受光在透過光計測場所J2處而被前部側照明手段4A所照明並透過了米粒的光。
如圖6中所示一般,前述各受光裝置5A、5B、5C, 係將受光從反射光計測場所J1或透過光計測場所J2而來的光之複數個的單位受光部5a,以沿著裝置橫寬幅方向而作了並排設置的狀態來具備,並構成為以將較米粒之大小而更小的範圍作為單位受光對象範圍之解析度狀態來受光從反射光計測場所J1或透過光計測場所J2而來之檢測光。
亦即是,前述各受光裝置5A、5B、5C,係分別具備有:將較米粒群之各米粒的大小而更小之範圍p(例如較米粒之大小的十分之一而更小的範圍)作為各別之受光對象範圍,並將身為與該些複數之受光對象範圍相對應的受光對象範圍之複數個的單位受光部5a,與廣寬幅之計測對象場所J相對應地而並排為線狀的狀態來作了並排設置的單色形態之CCD感測部36、和將以在裝置橫寬幅方向上具備有視角的狀態下所受光了的光導引至複數之單位受光部5a處的集光透鏡37,而構成之。
又,各受光裝置5A、5B、5C,係以將計測對象場所J之裝置橫寬幅方向的全寬幅作為對象並將位置在計測對象場所J處之米粒群k的像在CCD感測部36之各單位受光部5a上作結像的狀態而被設置,並例如構成為在圖15中從計測對象場所J之右端側起朝向左端側地來從各單位受光部5a逐次取出各受光資訊。
並且,如圖6中所示一般,為了阻止後部側照明手段4B對於反射光計測場所J1作照明並從米粒而反射了的反射光被透過光受光裝置5C所受光,並且阻止後部側照明 手段4B之照明光到達透過光計測場所J2處,而設置有將前述反射光以及前述照明光作遮光之遮光構件38。
如圖9、圖10、圖12以及圖13中所示一般,遮光構件38,係具備有以使長邊方向沿著裝置橫寬幅方向來延伸的狀態而設置之由略帶板狀的構件所成之遮光作用部38A、和使長邊方向之兩側部在裝置前後方向視線下而彎折為略ㄈ字形的安裝部38B,而構成之。遮光作用部38A,係成為以具備有上面部38A和彎折部38b的狀態下而將帶板彎折為略ㄑ字狀的形狀,上面部38a,係以在接近透過光計測場所J2之側而位於較高位置且越靠從透過光計測場所J2而遠離之裝置後部側則越位置於下方之傾斜姿勢而被作設置,而構成為並不將米粒群k載置在該上部面38a處地來使米粒群朝向下方流動。此遮光構件38,係以盡量接近於透過光計測場所J2狀態而被作配備。另外,關於遮光構件38之安裝構造,係於後再述。
如上所述,如圖12中所示一般,在後部側照明手段4B處,從線狀光源30B而朝向反射光計測場所J2所直接作投射之光,係將光束以沿著米粒之移送方向而使寬幅縮窄的方式來作了集中,但是,在光反射構件31B處所作了反射的光,係成為並非僅朝向反射光計測場所J1作投射,而亦朝向透過光計測場所J2作投射。而,藉由設置上述一般之遮光構件38,從後部側照明手段4B所投射之光中的朝向透過光計測場所J2而投射之光,係成為被作遮光。
又,遮光構件38,係使上面部38a在相對於米粒之移送方向而相交叉的方向上而廣寬幅地作設置,並構成為能夠對於從後部側照明手段4B而來之光所被位置在反射光計測場所J1之米粒群k反射的光被導引至透過光受光裝置5C處的情形作阻止。
係具備有:從反射光計測場所J1而以相對於前部側反射光受光裝置5A來使光軸作了彎折的狀態來將光作導引之彎折光路形成手段39A。
此彎折光路形成手段39A,係如圖6中所示一般,具備有:將從反射光計測場所J1起沿著相對於米粒群之移送方向而略正交的方向所朝向裝置前部側之光反射至斜下方前方的第1反射體40A、和將被該第1反射體40A所反射之光與米粒群之移送方向略平行地而反射至上方並導引至前部側反射光受光裝置5A處的第2反射體41A,而構成之。第1反射體40A以及第2反射體41A之各個,係將其之反射面以鏡面來構成,並形成為略長方形之板狀。
前部側反射光受光裝置5A,由於係如同上述一般為具備有集光透鏡37並將從計測對象場所J而來之光集光且受光者,因此,例如,如圖21中所示一般,由於係於裝置橫寬幅方向上具備有視角,故而係能夠將沿著裝置橫寬幅方向之寬幅設為較計測對象場所J之寬幅(射出部3C之寬幅)更狹窄的寬幅。關於此點,針對其他之受光裝置5B、5C,亦為相同。
相對於後部側反射光受光裝置5B之彎折光路形成手 段39B,係與相對於前部側反射光受光裝置5A之彎折光路形成手段39A相同的,具備有第1反射體40B和第2反射體41B,且除了配置構成為前後對稱之外,係成為相同之構成,因此係省略其說明。
如圖6中所示一般,前部側反射光受光裝置5A所受光之反射光的光軸CL1、和後部側反射光受光裝置5B所受光之反射光的光軸CL2,係成為些許地朝向上下方向作了傾斜的狀態,但是,係以成為沿著相對於米粒群之移送方向而略正交的方向之狀態的方式而被作設定。
相對於透過光受光裝置5C之彎折光路形成手段39C,係具備有:將從前部側照明手段4A所投射並通過了透過光計測場所J2之光以沿著與米粒群之移送方向略平行的方向而朝向上方的方式來作反射之第1反射體40C、和將被該第1反射體40C所反射之光朝向與米粒群之移送方向略正交之方向而反射並導引至透過光受光裝置5C處的第2反射體41C,而構成之。第1反射體40C以及第2反射體41C之各個,係將其之反射面以鏡面來構成,並形成為略長方形之板狀。
分離場所,係被設定為位置於較透過光計測場所J2而更靠米粒群之移送方向之下游側的狀態,並構成為使空氣吹拂裝置6對於被判定為應作分離者的分離對象物而吹拂空氣。
此空氣吹拂裝置6,係將作為空氣噴出部之噴出噴嘴6a的複數個,以與將計測對象場所J之裝置橫寬幅方向的 全寬幅分割形成為複數個之區塊後的各區塊相對應的狀態而被作並排配置,並構成為使存在有分離對象物之區塊處的噴出噴嘴6a動作。
如圖14中所示一般,空氣吹拂裝置6,係具備有對於複數之噴出噴嘴6a而將空氣作分歧供給之空氣岐管42,並對於空氣岐管42,而藉由在裝置外部處所具備之作為空氣供給源的空氣壓縮機44,來透過塵埃除去用之濾網47而藉由壓力供給路徑43來供給空氣。又,係使從空氣岐管42所對於複數之噴出噴嘴6a之各個的空氣之供給分別斷續地進行,而設置有能夠自由地對於並不使空氣噴出之非作用狀態和使空氣噴出之作用狀態作切換的作為控制閥之電磁閥45,從該些各電磁閥45,經由形成對於各噴出噴嘴6a之流路的配管,來從空氣岐管42而對於各噴出噴嘴6a來將空氣作分歧供給。又,如圖14中所示一般,係設置有作為檢測出壓力供給路徑43之空氣的壓力之壓力檢測手段的壓力感測器48。
前述各噴出噴嘴6a,係被形成於鋁等之金屬製的塊體6c處,對於各噴出噴嘴6a而供給空氣之內部配管6b,亦係被形成於該塊體6c的內部。另外,如圖10中所示一般,藉由在被與內部配管6b作連接之狀態下而形成於塊體6c之上面處的溝部份、和從上方側來作了裝著的板構件6d,來形成各噴出噴嘴6a。
而後,如圖6中所示一般,係設置有:將從射出部3C之下端部而被作流下導引之米粒群k之中的並未受到 從噴出噴嘴6a而來之空氣的吹拂而維持原狀態地前進之正常的米粒k作回收之正常粒回收用的受口部49、和將受到空氣之吹拂而被從正常之米粒k的流動來朝向橫方向作了分離的分離對象粒(例如,著色米或米體破裂米等之不良米或者是石頭或玻璃片等之異物等)作回收之分離物回收用的受口部50,正常粒回收用之受口部49,係在裝置橫寬幅方向上而被形成為細長之筒狀,並以將該正常粒回收用之受口部49之周圍作包圍的方式,而形成分離物回收用之受口部50。
分離物回收用之受口部50,係在從噴出噴嘴6a而來之空氣的吹拂方向之下游側處,由對於被該空氣所吹飛之米粒作擋止並朝向下方所導引之擋止板50a、和一面將被吹飛的米粒作流下導引一面作回收之下方收窄狀的導引板50b所成,藉由分離物回收用之受口部50所回收了的分離對象物,係從分離物出口52而被排出至外部。
又,藉由正常粒回收用之受口部49所回收了的米粒k,係藉由正常粒導引體53而被供給至排出用上揚搬送裝置8的下部之搬送起始端部處,並藉由排出用上揚搬送裝置8而被作上揚搬送,再藉由排出口7而被排出至裝置外部。
如圖3以及圖6中所示一般,在位置於計測對象場所J之裝置後部側(換言之,於俯視時,位置在米粒群之移送方向的上游側)處並以具備有面臨計測對象場所J之光透過窗59之狀態且朝向裝置橫寬幅方向延伸之狀態下所形 成的後部側照明部收容箱54B內,係被收容有後部側照明手段4B以及背景光形成用之後部側反射板4E。
又,在位置於計測對象場所J之裝置前部側(換言之,於俯視時,位置在米粒群之移送方向的下游側)處並以具備有面臨計測對象場所J之光透過窗59之狀態且朝向裝置橫寬幅方向延伸之狀態下所形成的前部側照明部收容箱54A內,係被收容有前部側照明手段4A、和背景光量調整器4C、以及背景光形成用之前部側反射板4D。
之後,如圖7中所示一般,後部側照明部收容箱54B和前部側照明部收容箱54A,係藉由位置在裝置橫寬幅方向兩側部處之側面部54c而被一體性地作連結,並作為1個的收容體54而被作一體狀的形成。
如同上述一般,後部側照明部收容箱54B和前部側照明部收容箱54A,係分別被形成為朝向裝置橫寬幅方向而延伸的狀態,後部側照明手段4B以及背景光形成用之後部側反射板4E,係以在照明部收容箱54B中之兩側的側面部54c處而藉由未圖示之支座(bracket)來以位置固定狀態而作了安裝之狀態下,而被作收容。又,前部側照明手段4A、背景光量調整器4C、背景光形成用之前部側反射板4D之各個,係以在照明部收容箱54A中之兩側的側面部54c處而藉由未圖示之支座(bracket)來以位置固定狀態而作了安裝之狀態下,而被作收容。
故而,藉由在後部側照明部收容箱54B內具備有後部側照明手段4B以及背景光形成用之後部側反射板4E,而 構成朝向計測對象場所J投射光之上游側照明部M1。而,此上游側照明部M1,係以在米粒群之移送方向上而位置於上游側場所的狀態下,而被作設置。又,藉由在前部側照明部收容箱54A內具備有前部側照明手段4A、背景光量調整器4C以及背景光形成用之前部側反射板4D,而構成朝向計測對象場所J投射光之下游側照明部M2。而,此下游側照明部M2,係以在米粒群之移送方向上而位置於下游側場所的狀態下,而被作設置。
如圖6中所示一般,在前部側照明部收容箱54A之位置於裝置前部側的前側面處,係連接支持有:將前部側反射光受光裝置5A作內裝之前部側攝像機箱部55A、和將彎折光路形成手段39A收容於內部並且被與前部光路形成用箱部55B一體性地作了形成的前部側受光部箱55。而,如同上述一般,前部側反射光受光裝置5A,由於係為在裝置橫寬幅方向上,而被設置為較計測對象場所J之寬幅更為窄寬幅者,因此,如圖7中所示一般,前部側受光部箱55,係成為在裝置橫寬幅方向上而被形成為較收容體54更為窄寬幅者。
又,如圖6中所示一般,在前部側照明部收容箱54A之前側面處,係被形成有用以使從反射光計測場所J1而來之光通過的沿著裝置橫寬幅方向而作細長狀延伸之細縫孔73。
故而,在俯視時相較於下游側照明部M2而設置在更靠米粒群之移送方向的下游側場所處之作為下游側受光部 的前部側反射光受光裝置5A,係在裝置橫寬幅方向上而被形成為較被收容在收容體54中之下游側照明部M2而更窄寬幅狀,並被收容在被連結支持於下游側照明部收容箱54處之前部側受光用箱55內。
又,如圖6中所示一般,在後部側照明部收容箱54B之位置於裝置後部側的後側面處,係連接支持有:將後部側反射光受光裝置5B作內裝之第1後部側攝像機箱部56A、和將透過光受光裝置5C作內裝之第2後部側攝像機箱部56B、和將彎折光路形成手段39B收容於內部並且被與後部光路形成用箱部56C一體性地作了形成的後部側受光部箱56。而,如同上述一般,後部側反射光受光裝置5B以及透過光受光裝置5C,由於係為在裝置橫寬幅方向上,而被設置為較計測對象場所J之寬幅更為窄寬幅者,因此,如圖7中所示一般,後部側受光部箱56,係成為在裝置橫寬幅方向上而被形成為較收容體54更為窄寬幅者。
又,如圖6中所示一般,在後部側照明部收容箱54B之後側面處,係分別被形成有用以使從反射光計測場所J1而來之光通過的沿著裝置橫寬幅方向而作細長狀延伸之細縫孔74、以及用以使從透過光計測場所J2而來之光通過的沿著裝置橫寬幅方向而作細長狀延伸之細縫孔75。
故而,在俯視時相較於上游側照明部M1而設置在更靠米粒群之移送方向的上游側場所處之作為受光部的後部側反射光受光裝置5B以及透過光受光裝置5C,係在裝置 橫寬幅方向上而被形成為較被收容在收容體54中之上游側照明部M2而更窄寬幅狀,並被收容在被連結支持於下游側照明部收容箱54處之前部側受光用箱54內。
如圖6以及圖8中所示一般,射出部3,係以進入至被形成在後部側照明部收容箱54B和前部側照明部收容箱54A之間的使米粒群通過之空間中的狀態,而被作設置,並且,空氣吹拂裝置6,係以位置在較計測對象場所而更靠米粒群之移送方向下游側的狀態,而以橫跨收容體54處之兩側的側面部54c地作架設支持的狀態被作安裝。
若是更進一步作說明,則如圖6以及圖8中所示一般,係以橫跨收容體54處之兩側的側面部54c地被作架設的狀態,而被連結有支持支座65。此支持支座65,係以使位置在裝置橫寬幅方向兩側部處之凸緣部65a被螺合固定在形成於兩側之側面部54c處的橫向之鍔部54c1上的狀態,而被作安裝。
而後,在支持支座65之前部側的框狀安裝部65a處,係以作了螺合固定的狀態而被安裝有構成空氣吹拂裝置6之塊體6c。在塊體6c之更前部側處,係如圖10中所示一般,被安裝有用以形成正常粒回收用之受口部49的筒狀之盛入口形成構件49A。此盛入口形成構件49A之橫側部49A1,係被作廣寬幅設置,以防止米粒朝向裝置橫寬幅方向飛散的情形。
如圖6中所示一般,在位置於塊體6c之背面側的支持支座65之底面部65b上,係具備有空氣岐管42、複數 之電磁閥45以及複數之配管等,並且,係設置有以將該些之各裝置所具備的空間與米粒群所通過之區域作區隔的狀態來作覆蓋之蓋體66。係成為能夠通過被形成在框狀安裝部65a處之開口65a1來與塊體6a作連接。
蓋體66,係藉由熔接或者是螺合固定等而被安裝在支持支座65上,蓋體66之上部面66a,係以在接近計測對象場所J之側而位於較高位置且越遠離計測對象場所J並靠近裝置後部側則越位置於下方之傾斜姿勢而被作設置,而構成為並不將米粒群k載置在該上部面66a處地來使米粒群朝向下方流動。
而,如圖8、圖9以及圖10中所示一般,前述遮光構件38,係以將被設置在其之裝置橫寬幅方向兩側部處的安裝部38B藉由熔接或螺絲鎖合來作了固定的狀態下,被安裝在蓋體66處。在遮光構件38處之遮光作用部38A和蓋體66之上部面66a之間,係被形成有用以使透過光通過之空隙Z。
在此粒狀體分選裝置中,將被投入至投入漏斗1中之米粒群k作上揚搬送並供給至儲存漏斗3A處之供給用上揚搬送裝置2、和將從正常粒回收用之受口部49所回收了的正常粒作上揚搬送並從設置在上部之排出部7而排出的排出用上揚搬送裝置8,係在射出部3C處之於米粒群之移送方向而較上游側照明部M1更靠上游側的部分之橫脇部處,以於射出部3C之橫寬幅方向上而位置在較上游側照明部M1之兩側端部位置而更接近射出部3C處的狀態 下,而被作裝備。
如圖1中所示一般,供給用上揚搬送裝置2,係藉由斗式上揚輸送帶所構成,該斗式上揚輸送帶,係在無端部轉動體2c處空出有適當間隔地而具備有複數之斗2d,該無端部轉動體2c,係在俯視而成矩形狀之筒狀框體2A的內部,橫跨位置於下端側處之驅動輪體2a和位置於上端側處之被動輪體2b而被作捲繞,該供給用上揚搬送裝置2,係如圖1以及圖5中所示一般,構成為將被投入至設置於裝置後部側之下部處的投入漏斗1中之米粒群k藉由斗2d來作上揚搬送並供給至儲存漏斗3A處。另外,在儲存漏斗3A處,係被形成有透視窗70,而構成為能夠藉由目視來對於米粒群k之供給狀態作確認。
又,如圖3中所示一般,排出用上揚搬送裝置8,係與供給用上揚搬送裝置2相同的,藉由斗式上揚輸送帶所構成,該斗式上揚輸送帶,係在無端部轉動體8c處空出有適當間隔地而具備有複數之斗8d,該無端部轉動體8c,係在俯視而成矩形狀之筒狀框體8A的內部,橫跨位置於下端側處之驅動輪體8a和位置於上端側處之被動輪體8b而被作捲繞,該供給用上揚搬送裝置8,係構成為將從正常粒回收用之受口部49所被回收並藉由導引板53而被作了流下導引之正常的米粒群k,藉由斗來作上揚搬送並供給至排出部7處。
供給用上揚搬送裝置2以及排出用上揚搬送裝置8,係分別構成為藉由使位置在下端側處之驅動輪體2a、8a 的各驅動軸2e、8e朝向同一方向作旋轉而進行搬送動作。
供給用上揚搬送裝置2以及排出用上揚搬送裝置8之各別的筒狀框體2A、8A,係成為構成此粒狀體分選裝置之主框部F的一部份。亦即是,如圖4中所示一般,在一對之上揚搬送裝置2、8的各別之筒狀框體2A、8A的下端部處,係被連接有朝向裝置前部側(亦即是俯視時米粒群之移送方向的下游側)而延伸之基框12,並且,左右一對之側板13、14,係以被與筒狀框體2A、8A和基框12作連接的狀態而被作設置,而由一對之筒狀框體2A、8A和基框12以及左右一對之側板13、14來構成主框部F。另外,在圖4中,為了易於理解主框部F之構成,係將其他構件作了省略。
如圖4中所示一般,基框12,係具備有位置在左右方向之兩側處的側部12a、和將該些之左右的側壁部12a彼此作連結的前部12b,而構成俯視時呈略ㄈ字形,又,係如圖1中所示一般,以位置在藉由該些所形成之內部空間中的狀態下且被承受台12c所支持的狀態下,而具備有電動馬達15。
如圖2中所示一般,此電動馬達15,係以使輸出軸15a朝向兩側外方向突出的狀態下而被作設置,並涵蓋該輸出軸15a和各驅動軸2e、8e之各個地而被捲繞有鍊或傳動皮帶等之無端部轉動體16,且以藉由電動馬達15來使各驅動軸2e、8e朝向同一方向作一體性之旋轉驅動的 狀態,而被作了連動連結。
如圖4中所示一般,收容體54,係成為使裝置橫寬幅方向之兩側部分別被連結支持於左右之側板13、14處的構成。若更進一步作說明,則在收容體54處之裝置橫寬幅方向的兩側部,係以插通於被分別形成在左右之側板13、14處的矩形狀之插通孔60中的狀態下,而被作架設支持,被形成在收容體54處之兩側的側面部54c之周部處的鍔部,係成為被與形成在側板13、14之插通孔60的周圍處之鍔部作螺桿連結之構成。
如圖2及圖4中所示一般,在左右之側板13、14的各別之位於裝置橫寬幅方向的兩側外方場所處,係具備有將外方側作覆蓋的側部蓋體63、64。而,在收容體54之側面部54c處,係被形成有具備透明玻璃之透過窗67,在從裝置前部作觀察時而位置於右側之其中一方的側部蓋體63處,係以能夠通過前述透過窗67以及被形成在側板13處之插通孔60來從裝置外部而對於計測對象場所J作目視監視的方式,而被形成有透視窗68。
如圖4以及圖5中所示一般,在左右兩側之側板13、14處,係分別被形成有將其之周緣部彎曲形成為略ㄈ字形的鍔部,藉由此鍔部,而形成側部蓋體63、64之安裝部,並且,在側板13和側部蓋體63之間、以及側板14和側部蓋體64之間,係分別被形成有空間Q1、Q2。
而後,如圖4中所示一般,在藉由右側之側板13和右側之側部蓋體63之間的空隙所形成之空間Q1中,係被 配備有控制裝置9以及未圖示之電源裝置等,該些係成為在右側之側板13處而以位置固定狀態來作安裝之構成。又,在藉由左側之側板14和左側之側部蓋體64之間的空隙所形成之空間Q2中,係被配備有電磁閥驅動電路29,其係成為在左側之側板14處而以位置固定狀態來作安裝之構成。
如圖4中所示一般,將此振動送料器3B作支持之支持台27,係以橫跨各側板13、14地作架設的狀態,而被作連結固定。在此支持台27之下面側處,將右側之空間Q1和左側之空間Q2作通連的角筒狀之筒狀部28,係以被一體性地作連結的狀態而被作設置,將電磁閥驅動電路29和控制裝置9作連接之電性配線h,係構成為能夠以插通於此筒狀部28之內部的狀態下來作配備。
又,被與線狀光源41A、41B以及各受光裝置5A、5B、5C作連接之電性配線(未圖示),係成為通過收容體54之內部地被作配備並與控制裝置9作連接的構成。如此這般,在米粒所通過之計測用通過區域處,電性配線h係成為並不會露出。在米粒所通過之場所處,雖然會有例如老鼠等之小動物進入的風險,但是,由於係設為並不使電性配線h露出於計測用通過區域處的構成,因此,係能夠避免電性配線被小動物等所損傷等的情況。
接著,針對控制構成作說明。
如圖14中所示一般,係設置有利用了微電腦之控制裝置9,在此控制裝置9處,係被輸入有從各受光裝置5A 、5B、5C而來之各畫像訊號和從操作面板11而來之操作資訊。如圖2中所示一般,操作面板11,係以在前蓋體10處而面臨於外方向的狀態被作配備,並成為能夠進行各種之設定。另一方面,從控制裝置9,係輸出有:使線狀光源30A、30B作點燈之驅動訊號、和驅動對於斷續進行從空氣岐管42所對於各噴出噴嘴6a之各空氣的供給之各電磁閥45作驅動的電磁閥驅動電路29之驅動訊號、和對於振動送料器3B用之振動產生器26所輸出之驅動訊號、以及對於調光裝置35之控制指令用的訊號。
之後,係利用控制裝置9,而構成實行根據受光手段5之受光資訊來判別其是否為成為分離對象之粒狀體(包含有不良之米粒以及小石頭或玻璃等之異物)(以下,稱作分離對象物)的粒狀體判別處理之評價處理手段100、和根據壓力感測器48之檢測資訊來為了對於米粒群k之移送流量作變更而對於振動送料器3B之動作作控制的供給量控制手段101。
控制裝置9,係構成為:根據粒狀體判別處理之判別結果,若是判別出其係為成為分離對象之粒狀體一事,則為了使相對應之噴出噴嘴6a動作,而對於電磁閥驅動電路29輸出驅動訊號。
接著,針對評價處理手段100作說明。
評價處理手段100,係針對前部側反射光受光裝置5A以及後部側反射光受光裝置5B之各個,而在各單位受光部5a之每一者處,分別進行對於藉由各單位受光部5a所 受光並得到的光量值是否落於在各單位受光部5a之每一者處所預先設定了的適當光量範圍△Eh之外一事的判別,並且,在透過光受光裝置5C之各單位受光部5a之每一者處,分別進行對於藉由各單位受光部5a所受光並得到的光量值是否落於在各單位受光部5a之每一者處所預先設定了的適當光量範圍△Et之外一事的判別,當在此些之判別中,任一者的單位受光部5a之受光量為落於適當光量範圍△Eh、△Et外的情況時,則判別出係其係為分離對象物。
又,評價處理手段100,係構成為:在各受光裝置5A、5B、5C之各單位受光部5a的每一者處,針對藉由取樣所得到之設定個數的受光量資料,來求取出相對於將從暗側起直到明側之間區分成複數之階段的各光量值之頻度分布(亦稱作直方圖),並根據該頻度分布,來設定適當光量範圍△Eh、△Et。
具體而言,在線狀光源30A、30B之照明光量充分地安定了的狀態下,一面使米粒群k流動,一面針對各受光裝置5A、5B、5C之各單位受光部5a,而對於設定個數之受光量資料作取樣。另外,於此情況,係並不使前述空氣吹拂裝置6動作。而,如圖18中所示一般,評價處理手段100,係構成為:與頻度分布hg中之從暗側起一直到明側地而相對於各光量值之頻度值為連續性存在的連續區域(於圖中以斜線作展示者)之上端部的近旁位置相對應地,而設定上側光量值HT1,並在從該上側光量值TH1起朝向 明側而離開了設定光量K1的位置處,設定適當光量範圍之上限值T1,並且,與連續區域之下端部的近旁位置相對應地而設定下側光量值TH2,並在從該下側光量值TH2起朝向暗側而離開了設定光量K2的位置處,設定前述適當光量範圍之下限值T2。上述各設定光量K1、K2,係作為控制定數而被預先作設定。
另外,雖並不作詳細敘述,但是,係設為根據伴隨著分選作業而在每一設定時間所得到的設定個數之受光量資料,來對於上側光量值TH1或下側光量值TH2作修正。
針對檢測光為透過光的情況時之適當光量範圍△Et作說明。
在透過光的情況時,如同圖16之透過光受光裝置5C的輸出波形所示一般,當與各單位受光部5a之受光量相對應的輸出電壓為落在相對於米粒群k的適當光量範圍△Et內的情況時,係判別出正常之米粒(並非為分離對象之粒狀體)的存在,當落於設定適當範圍△Et之外的情況時,係判別出不良米粒或者是異物(分離對象物)的存在。於此,透過光用之適當光量範圍△Et,係挾持著與從正常米粒而來之標準的透過光相對應之輸出電壓準位eO,而設定為上下特定寬幅之範圍。
而,當較適當光量範圍△Et更小的情況時,係判別出相較於正常之米粒而透過率為小之不良的米粒或異物等(例如,黑色的石粒)之存在,當較適當光量範圍△Et更大的情況時,係判別出相較於正常之米粒k而透過率為大之 明側之不良的米粒k或異物等之存在。作為此明側之不良米粒k或者是異物的例子,薄的附有顏色之玻璃片等,係成為透過率較正常之米粒k更大的異物之例子,又,在將正常之米粒k設為「糯米」時之「粳米」,係成為透過率為較正常之米粒k更大之不良米粒k的例子。
在圖16中,係例示有:單位受光部5a之輸出電壓(受光量),當在米粒k中存在有一部分之著色部分的位置或者是黑色之石頭等的位置(以e1作標示)、以及存在有米體破碎之部分的位置(以e2作標示),會成為位置在較上述適當光量範圍△Et而更下側處,又,當存在有透過率為較正常之米粒而更大之異物等的情況時,係如同在位置e4處所示一般,會位置在較適當光量範圍△Et而更上側處的狀態。
接著,針對檢測光為反射光的情況時之適當光量範圍△Eh作說明。
在反射光的情況時,如同圖17之前部側反射光受光裝置5A(或者是後部側反射光受光裝置5B)的輸出波形所示一般,當與各單位受光部5a之受光量相對應的輸出電壓為落在適當光量範圍△Eh內的情況時,係判別出正常之米粒的存在,當落於設定適當範圍△Eh之外的情況時,係判別出不良米粒或者是異物的存在。於此,反射光用之適當光量範圍△Eh,係挾持著與從正常米粒而來之標準的反射光相對應之輸出電壓準位eO’,而設定為上下特定寬幅之範圍。
在圖17中,係例示有:當在米粒k中存在有一部分之著色部分的位置(以e1’作標示)或者是存在有米體破碎之部分的位置(以e2’作標示)的情況時,會成為位置在較上述適當光量範圍△Eh而更下側處的狀態。又,係例示有當存在有玻璃片等之異物的情況時,會由於從異物而來之強烈的直接反射光而如同位置e3’所示一般之從適當光量範圍△Eh而朝向上側偏離的狀態。又,雖並未圖示,但是,當黑色之石頭等的情況時,由於反射率係為非常小,因此,在波形中,係成為相較於適當光量範圍△Eh而大幅度地朝向下側偏離。
如同上述一般,在各受光裝置5A、5B、5C之各單位受光部5a的每一者處,被作了設定以及修正之適當光量範圍△Et、△Eh(與透過光和反射光之其中一者相對應者)的上限值T1以及下限值T2之值,係在控制裝置24內之記憶體LUT(前面反射光用、後面反射光用以及透過光用之LUT)中,作為不良檢測處理用之查找表(lookup table)而被作記憶。
而,一面將成為判別對象之米粒群k藉由移送手段3來作移送一面判別其是否為分離對象物之處理,係如同下述一般而進行。
亦即是,如圖19中所示一般,一面將米粒群k作移送,一面將各受光裝置5A、5B、5C之單位受光部5a的光量值j,與位置資料i(i=0~(單位受光部之數量-1))附加有對應地而作輸入(步驟1)。接著,實行各受光裝置5A、 5B、5C之單位受光部5a的光量值j之判定處理(步驟2)。具體而言,係根據前部側反射光受光裝置5A以及後部側反射光受光裝置5B之各別的光量值j,來對於以位置資料i(i=0~(單位受光部之數量-1))而作表現的各單位受光部5a之每一者進行判別,若是光量值j為落於適當光量範圍△Eh內,則判別其係為正常之米粒,若是光量值j為落於適當光量範圍△Eh之外,則判別其係為分離對象物。又,針對透過光受光裝置5C,亦為相同,對於以位置資料i(i=0~(單位受光部之數量-1))而作表現的各單位受光部5a之每一者,而判別其之光量值j是否為落於適當光量範圍△Et內。
若是前部側反射光受光裝置5A以及後部側反射光受光裝置5B之其中一者的單位受光部5a之光量值j為落於適當光量範圍△Eh外並判別出其係身為分離對象物,則係在經過了從反射光計測場所J1起直到分離場所處為止所需要的第1延遲時間t1之後,從空氣吹拂裝置6中之相對應的噴出噴嘴6a而使空氣噴出(步驟3,4,7)。
又,若是透過光受光裝置5C之其中一者的單位受光部5a之光量值j為落於適當光量範圍△Et外並判別出其係身為分離對象物,則係在經過了從透過光計測場所J2起直到分離場所處為止所需要的第2延遲時間t2之後,以會使從空氣吹拂裝置6中之相對應的噴出噴嘴6a而使空氣噴出的方式,來輸出對於電磁閥驅動電路29之驅動訊號(步驟5,6,7)。電磁閥驅動電路29,係使與該噴出 噴嘴6a相對應之電磁閥45動作,並從噴出噴嘴6a而使空氣噴出。
如此這般地對於分離對象物而從與其之位置相對應的區間之各噴出噴嘴6a來吹拂空氣並與正常之米粒分離,而回收至分離物回收用之受口部50處。另一方面,並未被判別為分離對象物之正常的米粒,係被回收至正常粒回收用之受口部49處。
藉由分離物回收用之受口部50所作了回收的分離對象物,係從分離物出口52而被排出至外部,藉由正常粒回收用之受口部49所回收了的正常的米粒群k,係藉由導引板53而被作流下導引並供給至排出用上揚搬送裝置8的下部之搬送起始端部處,並藉由排出用上揚搬送裝置8而被作上揚搬送,再藉由排出口7而被排出至裝置外部。
接著,針對供給量控制手段101作說明。
前述供給量控制手段101,係構成為:當藉由壓力檢測器48所檢測出之空氣的壓力為較預先所設定了的下限值更高時,係以使檢測壓力為低時會成為較檢測壓力為高時而藉由移送手段3所致之移送流量會變少的方式,來根據檢測壓力而對於移送流量作變更地來控制移送手段3之動作,當檢測壓力為較下限值更低時,則係為了使由移送手段所進行之米粒群k的移送停止,而對於移送手段3之動作作控制。
具體而言,供給量控制手段101,係構成為:若是壓力感測器48之檢測壓力Px為較預先所設定的切換用判定 值Ps2更高,則係將米粒群k之移送流量調整為第1設定值,並且,若是檢測壓力Px為切換用判定值Ps2以下,則係將粒狀體群之移送流量調整為較第1設定值而更少了所設定之量的第2設定值,以此形態,來根據檢測壓力Px而對於移送流量作變更地,而對於移送手段3之動作作控制。
若是更進而作說明,則係成為:試驗性地進行將成為分選對象之粒狀體群作為對象而一面實際地藉由移送手段來進行移送一面藉由評價處理手段100來實行粒狀體判別處理並將評價處理手段100所判別之成為分離對象的粒狀體經由空氣噴出裝置6來作分離的處理,並求取出能夠以適當之狀態來進行該分離處理的移送流量值,而將該移送流量值設定為第1設定值。
具體而言,當試驗性地移送米粒群k並進行運轉時,係成為藉由對於操作面板11進行操作,來使振動送料器3B之移送流量以手動作變化,並求使出能夠以適當之狀態來進行分離處理之移送流量值。
接著,若是開始針對成為分選對象之米粒群k的分選處理,則供給量控制手段101,係根據壓力之檢測來實行移送手段3之流量調節處理。以下,根據圖20之流程圖來作具體性說明。
若是流量調節處理開始,則藉由壓力感測器48所檢測出之檢測壓力Px係被作輸入(步驟10),並判斷該檢測壓力Px是否為預先所設定了的下限值Ps1以下(步驟11) 。當檢測壓力Px並非為預先所設定的下限值Ps1以下而為較下限值Ps1更高的情況時,接著,係判斷檢測壓力Px是否為作為較前述下限值Ps1更高之壓力而設定了的切換用判定值Ps2以下(步驟12)。而後,在步驟12中,若是判別出檢測壓力Px係並非為切換用判定值Ps2以下而為較切換用判定值Ps2更高,則作為移送流量,係維持原本狀態之流量,亦即是維持於被作了初期設定之第1設定值,當檢測壓力Px成為了切換用判定值Ps2以下的情況時,則係藉由未圖示之報告手段(例如,聲音式報告手段或者是訊息顯示式之報告手段等),來將空氣壓力係為不足一事報告給使用者,並以將米粒群之移送流量調整為較第1設定值而更少了所設定之量之第2設定值的方式,來對於移送手段3之動作作控制(步驟13、14)。具體而言,係藉由使振動送料器3B之搬送速度改變,而將米粒群之移送流量調整為第2設定值。而,在將移送流量調整為第2設定值之後,移送流量係被維持於該第2設定值。
在步驟11中,若是判別出檢測壓力Px係一直降低至下限值Ps1以下,則由於要藉由空氣來良好地將分離對象物吹散一事係為困難,因此,此時,係藉由未圖示之報告手段(例如,聲音式報告手段或者是訊息顯示式之報告手段等)來報告此係為異常狀態,並停止振動送料器3B之動作(步驟15、16)。
在上述步驟12中,若是判別出檢測壓力Px為較切換用判定值Ps2更高,則作為移送流量而維持原本之流量、 亦即是維持於作了初期設定之第1設定值的處理,係對應於將米粒群k之移送流量調整為第1設定值的處理。
[其他實施形態]
接著,針對粉粒體檢查裝置之其他實施形態作說明。
(1)在上述實施形態中,作為移送手段3,雖係設為具備有將直線狀之溝m以沿著路徑橫寬幅方向而作了複數列之並排的狀態來作了形成的附有溝之射出部3C的構成,但是,代替此,亦可設為具備有涵蓋路徑橫寬幅方向之全寬幅而被形成為平坦之導引面的平面射出部之構成。
又,代替將粒狀體群以複數列之橫方向並排狀態來作移送,亦可設為將粒狀體群以1列且縱列狀地作並排的狀態來作移送之構成。於此情況,藉由作為在以粒狀體之移送方向來作觀察時之相對於計測對象場所J而位置於其中一側的場所以及位置於與其中一側的場所相異180度之另外一側的場所,而代替裝置前部側之場所和裝置後部側之場所,來設定在以粒狀體之移送方向來作觀察時之於裝置橫寬幅方向上的其中一端側場所和另外一端側場所等,並以各種之配置狀態來配置反射光受光手段或透過光受光手段,係成為能夠實現上述構成。
(2)在上述實施形態中,雖係將反射光計測場所J1和透過光計測場所J2設定為沿著米粒之移送方向而相互接近的狀態,並採用設置有遮光構件38之構成,但是,係亦可設為下述一般之構成:亦即是,若是將反射光計測場所J1 和透過光計測場所J2設定在沿著米粒之移送方向而相互作了分離的位置處,則就算是並不設置遮光構件38,後部側照明手段4B所對於反射光計測場所J1作照明並被米粒所反射了的反射光,亦不會有被透過光受光裝置5C所受光的情況,並且,也不會有後部側照明手段4B之照明光到達了透過光計測場所J2處的情況。
又,在此構成中,代替使前部側照明手段4A作為透過光照明手段來對於透過光計測場所J2進行照明之構成,亦可採用具備有對於透過光計測場所J2進行照明之專用的透過光照明手段之構成。
(3)在上述實施形態中,作為照明手段,雖係設為使用身為線狀光源之螢光燈,但是,係並不被限定於此構成,例如,亦可使用將多數之發光二極體(LED)在橫寬幅方向上作了並列配置的LED陣列等,而能夠以各種之形態來實施。
(4)在上述實施形態中,作為前述受光手段5,雖係對於具備有將從前述計測對象場所J而來之光在光軸方向上作折返並導引至受光裝置處之光反射式的彎折光路形成手段39A、39B、39C的構成作了例示,但是,代替此種構成,就算是使受光裝置直接受光從前述計測對象場所而來之光的構成者,亦能夠將本發明作適用。
(5)在上述實施形態中,作為受光手段5,除了單色形態之CCD感測器以外,係亦可為攝像管式之電視攝像機。又,亦可並非使用單色形態,而藉由彩色形態之CCD感測器 來構成之,例如,亦可設為根據顏色資訊R、G、B之每一者的受光量,來對於不良米或異物之存在與否作更良好之精確度的判別。
(6)在上述實施形態中,分離手段6,雖係設為對於分離對象物吹拂空氣,並分離至與其他粒狀體群相異之路徑處,但是,係並不被限定於此,例如,亦可設為藉由空氣來吸引分離對象物並使其分離,或者是設為藉由機械性之抵接作用來使其分離。
(7)在上述實施形態中,雖係針對粒狀體群為米粒群的情況來作了例示,但是,係並不被限定於此,例如,亦可適用於以樹脂鑄錠等作為對象的情況中。
[產業上之利用可能性]
本發明,係可適用在設置有一面將米粒等的粒狀體群以通過計測對象場所的方式來作移送,一面根據受光從計測對象場所而來之光的受光手段之受光資訊來判別其是否為成為分離對象之粒狀體的評價處理手段之粒狀體分選裝置中。
3‧‧‧移送手段
3C‧‧‧流下導引板
4‧‧‧照明手段
4A‧‧‧其中一側照明手段
4B‧‧‧另外一側照明手段
5‧‧‧受光手段
5A‧‧‧其中一側之反射光受光手段
5B‧‧‧另外一側之反射光受光手段
5C‧‧‧透過光受光手段
5a‧‧‧單位受光部
6‧‧‧分離手段
100‧‧‧評價處理手段
J‧‧‧計測對象場所
J1‧‧‧反射光計測場所
J2‧‧‧透過光計測場所
△Et,△Eh‧‧‧適當光量範圍
t1‧‧‧第1延遲時間
t2‧‧‧第2延遲時間
[圖1]粒狀體分選裝置之側面圖。
[圖2]粒狀體分選裝置之正面圖。
[圖3]粒狀體分選裝置之縱斷側面圖。
[圖4]對於主框部之構成作展示的立體圖。
[圖5]對於重要部分之配置狀態作展示的平面圖。
[圖6]重要部分之側面圖。
[圖7]對於收容體配設部之構成作展示的立體圖。
[圖8]對於收容體配設部之構成作展示的立體圖。
[圖9]遮光構件配設部之立體圖。
[圖10](a)係為遮光構件配設部之立體圖,(b)係為遮光構件配設部之分解立體圖。
[圖11]對於收容體內部之各部的構成作展示之分解立體圖。
[圖12]對於計測對象場所之照明狀態作展示之圖。
[圖13]展示對於空氣噴出裝置之空氣供給狀態的圖。
[圖14]係為控制區塊圖。
[圖15]對於受光手段之受光狀態作展示之圖。
[圖16]對透過光之適當光量範圍作展示之圖。
[圖17]對反射光之適當光量範圍作展示之圖。
[圖18]對於光量之頻度分布作展示之圖。
[圖19]對於控制動作之流程圖作展示之圖。
[圖20]對於控制動作之流程圖作展示之圖。
[圖21]對於從計測對象場所而來之光的受光狀態作展示之圖。
4‧‧‧照明手段
4A‧‧‧其中一側照明手段
4B‧‧‧另外一側照明手段
4C‧‧‧背景光量調整器
4D‧‧‧前部側反射板
4E‧‧‧後部側反射板
5‧‧‧受光手段
5A‧‧‧其中一側之反射光受光手段
5B‧‧‧另外一側之反射光受光手段
5C‧‧‧透過光受光手段
5a‧‧‧單位受光部
6‧‧‧空氣吹拂裝置
6a‧‧‧噴出噴嘴
6b‧‧‧內部配管
6c‧‧‧塊體
30A‧‧‧線狀光源
30B‧‧‧線狀光源
31A‧‧‧光反射構件
31B‧‧‧光反射構件
32‧‧‧擴散反射板
33‧‧‧LED發光元件
34‧‧‧擴散板
36‧‧‧CCD感測部
37‧‧‧集光透鏡
38‧‧‧遮光構件
39A‧‧‧光路形成手段
39B、39C‧‧‧彎折光路形成手段
40A‧‧‧第1反射體
40B‧‧‧第1反射體
40C‧‧‧第1反射體
41A‧‧‧第2反射體
41B‧‧‧第2反射體
41C‧‧‧第2反射體
42‧‧‧空氣岐管
45‧‧‧電磁閥
49‧‧‧受口部
50‧‧‧受口部
50a‧‧‧擋止板
50b‧‧‧導引板
53‧‧‧正常粒導引體
54A‧‧‧前部側照明部收容箱
54B‧‧‧後部側照明部收容箱
55‧‧‧前部側受光部箱
55A‧‧‧前部側攝像機箱部
55B‧‧‧前部光路形成用箱部
56‧‧‧後部側受光部箱
56A‧‧‧第1後部側攝像機箱部
56B‧‧‧第2後部側攝像機箱部
56C‧‧‧後部光路形成用箱部
59‧‧‧光透過窗
66‧‧‧蓋體
66a‧‧‧上部面
73‧‧‧細縫孔
74‧‧‧細縫孔
75‧‧‧細縫孔
CL1‧‧‧光軸
CL2‧‧‧光軸
J‧‧‧計測對象場所
J1‧‧‧反射光計測場所
J2‧‧‧透過光計測場所
k‧‧‧米粒群
M1‧‧‧上游側照明部
M2‧‧‧下游側照明部
m‧‧‧溝

Claims (5)

  1. 一種粒狀體分選裝置,係設置有:移送手段,係將粒狀體群以通過計測對象場所的方式來作移送;和受光手段,係受光在前述計測對象場所處之從粒狀體而來之光;和照明手段,係對於前述計測對象場所進行照明;和評價處理手段,係實行根據前述受光手段之受光資訊來判別其是否為成為分離對象之粒狀體的粒狀體判別處理,該粒狀體分選裝置,其特徵為:作為前述計測對象場所,係以在粒狀體之移送方向上而位置互為相異的狀態,來分別設定有用以計測在粒狀體之表面所反射了的反射光之反射光計測場所、和用以受光透過了粒狀體之透過光的透過光計測場所,前述受光手段,係構成為具備有:在從粒狀體之移送方向來作觀察時,相對於前述計測對象場所而位置於其中一側處並受光前述反射光之其中一側之反射光受光手段、和在從粒狀體之移送方向來作觀察時,相對於前述計測對象場所而位置於與前述其中一側之場所相差180度的另外一側處並受光前述反射光之另外一側之反射光受光手段、以及位置在前述計測對象場所之其中一側或者是另外一側的其中一側處並受光前述透過光之透過光受光手段,前述照明手段,係構成為具備有:在從粒狀體之移送 方向來作觀察時,相對於前述計測對象場所而位置於其中一側處並對於前述反射光計測場所進行照明之其中一側照明手段、和在從粒狀體之移送方向來作觀察時,相對於前述計測對象場所而位置於與前述另外一側處並對於前述反射光計測場所進行照明之另外一側照明手段、以及位置在前述計測對象場所之其中一側或者是另外一側之中的與前述透過光受光裝置相反側處,並對於透過光計測場所進行照明之透過光照明手段,前述評價處理手段,係構成為根據前述其中一側之反射光受光手段、前述另外一側之反射光受光手段、以及前述透過光受光手段,該些之各別的檢測資訊,來實行前述粒狀體判別處理。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之粒狀體分選裝置,其中,係為了阻止前述其中一側照明手段以及前述另外一側照明手段中之位於存在有前述透過光受光手段之側者所對於前述反射光計測場所作照明並從粒狀體而反射了的反射光被前述透過光受光手段而受光,並且為了阻止前述其中一側照明手段以及前述另外一側照明手段中之位於存在有前述透過光受光手段之側者的照明光到達前述透過光計測場所處,而設置有將前述反射光以及前述照明光作遮光之遮光構件,前述其中一側照明手段以及前述另外一側照明手段中之位於與存在有前述透過光受光手段之側相反側者,係構 成為作為前述透過光照明手段而對於前述透過光計測場所作照明。
  3. 如申請專利範圍第1項所記載之粒狀體分選裝置,其中,在位於較前述計測對象場所而更靠粒狀體之移送方向下游側的分離場所處,係具備有將成為分離對象之粒狀體分離至與其他之粒狀體群相異之路徑處的分離手段,前述評價處理手段,係構成為:若是藉由前述粒狀體判別處理而根據前述其中一側之反射光受光手段以及前述另外一側之反射光受光手段的檢測資訊來判別出成為分離對象之粒狀體,則係在經過了從前述反射光計測場所來到達前述分離場所處所需要的第1延遲時間之後,使前述分離手段動作,並且,若是根據前述透過光受光裝置之檢測資訊而判別出成為分離對象之粒狀體,則係在經過了從前述透過光計測場所來到達前述分離場所處所需要的第2延遲時間之後,使前述分離手段動作。
  4. 如申請專利範圍第1項所記載之粒狀體分選裝置,其中,前述移送手段,係構成為以在將粒狀體群在橫寬幅方向上作了分散的狀態下來通過沿著該橫寬幅方向而形成為廣寬幅之前述計測對象場所的方式,來將粒狀體群作移送,前述其中一側之反射光受光手段和前述另外一側之反射光受光手段以及前述透過光受光手段之各個,係以將受 光從前述計測對象場所而來之光之複數個的單位受光部沿著前述計測對象場所之橫寬幅方向來並排配置的方式而被構成,前述評價處理手段,係作為前述粒狀體判別處理,而根據前述單位受光部所受光之光量值是否超出於適當光量範圍一事,來判別出是否為成為分離對象之粒狀體,並且,以在前述複數之單位受光部的每一者處而實行前述粒狀體判別處理的方式,而被構成。
  5. 如申請專利範圍第1~4項中之任一項所記載之粒狀體分選裝置,其中,前述移送手段,係具備有一面使粒狀體群以沿著粒狀體移送方向而縱長延伸的狀態來流下一面進行移送之傾斜姿勢的流下導引板,前述透過光受光手段、和前述其中一側之反射光受光手段以及前述另外一側之反射光受光手段中的其中一者,係在前述流下導引板之下方側並且當俯視時為與前述流下導引板相重複或者是略重複的場所處,而以使該些作上下並排的狀態來作配備。
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