TW201247802A - Composition for coating film formation purposes - Google Patents

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forming
group
substrate
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Keiichi Akinaga
Tadashi Okawa
Kazuhiro Nishijima
Eiji Kitaura
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Dow Corning Toray Co Ltd
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Description

201247802 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種被覆膜形成用組合物及被覆膜形成方 法、以及於表面形成有被覆膜之基體及其用途。 【先前技術】 知有於要求撥水性之各種基體表面燒附具有與發原子 鍵結之氫原子之有機聚石夕氧烧而形成疏水性被覆膜。 例如，於日本專利特開2000-119642號公報中揭示有一 種含有具有與矽原子鍵結之氫原子之有機聚矽氧烷的撥水 性被覆膜形成用組合物，於日本專利特開201 0-60162號公 報中揭示有一種具有包括冷卻片之熱交換器之熱泵式空氣 調節器’該冷卻片具有包含該組合物之撥水性被覆膜。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]曰本專利特開2000-119642號公報 [專利文獻2]曰本專利特開2010-60162號公報 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 然而’具有上述撥水性被覆膜之表面之疏水性不充分， 例如於表面具有上述撥水性被覆膜之冷卻片之情形時，若 不將冷卻片配置為接近垂直之角度，則附著於表面之水滴 難以滑落。於冷卻風扇上附著有水滴之狀態下，根據運轉 條件不同，於冷卻片表面產生霜，從而熱交換器中之通風 阻力增大’通風量降低’並且熱交換器之熱交換面中之空 163665.doc 201247802 氣側之熱傳遞性能降低，熱交換器之能力降低。 本發明之目的在於提供一種可形成具有較高之疏水性且 具有充分滑水性能之撥水性被覆膜的組合物及方法。又， 本發明之目的亦在於提供一種具有此種較高之疏水性之基 體’例如散熱體。 [解決問題之技術手段] 本發明之目的係藉由如下被覆膜形成用組合物而達成， 該被覆膜形成用組合物包含： (A) 有機烷氧基矽烷； (B) 含有與石夕原子鍵結之氫原子之有機聚矽氧烷；及 (C) 縮合反應觸媒。 作為上述（B)含有與矽原子鍵結之氫原子之有機聚矽氧 烧’較佳為下述平均單元式（1)所示者： [R1R2R3Si〇1/2]2[R4HSi02/2]m[R52si〇2/2]n [式中，R、R及R3分別獨立為一價烴基或氫原子，R4及 R5分別獨立為一價烴基’ 〇1為0或正數，n為正數，（m+n)之 值為5〜500’ {m/(m+n)}之值為〇〜〇3，其中於m>〇時末 端矽烷基之矽原子上所鍵結之氫原子為〇〜2個，於瓜=〇 時’末端石夕炫基之石夕原子上所鍵結之氮原子為W2個]。 於上述平均單元式（1)中，更佳為爪=0。 作為上述（C)縮合反應觸媒，較佳為辞、錫、猛、姑或 鐵系觸媒。 本發明之被覆膜形成用組合物令之上述（A)有機烧氧基 石夕院的調配量以組合物之全部固形物成分質量為基準計較 163665.doc -4- 201247802 佳為1〜90質量％之範圍。 本發明之被覆膜形成用組合物中之上述（B)含有與矽原 子鍵結之氫原子之有機聚矽氧烷的調配量以組合物之全部 固形物成分質量為基準計較佳為1〜9〇質量。/〇之範圍。 本發明之被覆膜形成用組合物中之上述（c)縮合反應觸 媒的調配量以組合物之全部固形物成分質量為基準計較佳 為0.001〜8質量％之範圍。 本發明之被覆膜形成用組合物較佳為進而包含（D)碎氧 樹脂。 作為上述（D)矽氧樹脂’較佳為下述平均單元式（2)所示 者： [R6Si〇3/2]a[R7R8pSiO(3-p)/2]b (2) {式中’ R6及R7分別獨立為一價烴基，R8分別獨立為燒氧 基或羥基’其中’ R8中之70莫耳％以上為烷氧基，p為 p<3之範圍之數，a為0或正數，b為正數，且0.5$b/(a+b)S 1.0}。 本發明之被覆膜形成用組合物亦可進而包含（E)石夕氮化 反應觸媒。 本發明亦關於一種將上述被覆膜形成用組合物應用於基 體表面後進行加熱之被覆膜形成方法。 上述基體表面較佳為包含無機材料。 上述基體表面亦可已包括含有石夕之被覆膜。 上述加熱可於100〜300°c之溫度範圍内進行。 本發明亦關於一種藉由上述被覆膜形成方法而於表面形 163665.doc 201247802 成有被覆膜之基體。 上述基體可於含有水蒸氣之氣體中較佳地使用》 上述基體可較佳地用於散熱體’又，上述基體或上述散 熱體可較佳地用於熱交換器。 [發明之效果] 本發明之被覆膜形成用組合物及被覆膜形成方法可形成 具有較尚之疏水性且具有充分滑水性能之撥水性被覆膜。 藉由本發明而獲得之被覆膜具有較高之疏水性，且可具 有如下優異之滑水性能：即便為如2 μΐ般之極少量之水 滴’亦僅藉由使被覆膜稍稍傾斜便可使附著於被覆膜上之 水滴滑落。例如，將上述傾斜角相對於水平面設為15度以 下。 又’由於本發明之基體具備具有較高之疏水性且具有充 分滑水性能之撥水性表面，故而適合作為於空氣中使用之 散熱體，尤其適於與外部空氣進行熱交換之熱交換器。 【實施方式】 本發明之被覆膜形成用組合物至少包含： (Α)有機坑氧基石夕烧； (Β)含有與矽原子鍵結之氫原子之有機聚矽氧烷；及 (C)縮合反應觸媒。 上述（Α)有機烷氧基矽烷係用以藉由與上述（β)含有與矽 原子鍵結之氫原子之有機聚矽氧烷併用而形成具有優異之 滑水特性之硬化被覆膜的成分。上述⑷有機烧氧基石夕烧 只要具有至少丨個與矽原子鍵結之有機基及至少丨個烷氧 163665.doc 201247802 基，則並無限定，較佳為下述通式：
RaxSi(ORb)4.x 所不者。作為⑷有機炫氧基碎燒，可單獨使用1種 氧基石夕院…視需要亦可併用2種以上有機貌氧基石; 院。 上述通式中，R分別獨立表示一價烴基。作為一價庐 基，較佳為碳原子數卜3〇之經取代或未經取代之直鍵狀^ 为支狀之一價烴基，例如可列舉：甲基、乙基、丙基、丁 基、戍基、己基、庚基、辛基等碳原子數卜3 原子數1〜20、更佳為浐疮工如， 马及 . 更佳為妷原子數1〜6之直鏈狀或支鏈狀之烷 基環戊基、環己基等碳原子數3〜3()、較佳為碳原子數 3'!〇、更佳為碳原子數3〜6之環烷基；乙烯基、烯丙基、 丁烯基等碳原子數2〜30、較佳為碳原子數2〜20、更佳為碳 原子數w之直鍵狀或支鏈狀之稀基；笨基、甲笨基2 原：數6 30、較佳為碳原子數6〜2〇、更佳為碳原子數6〜1〇 之方基，¥基等碳數7〜30、較佳為碳原子數7〜2q、更佳為 碳原子數7〜1〇之芳烷基；以及與該等基之碳原子鍵結之氫 原子至少部分性地經氣等齒素原子取代之基。作為一價烴 基：較佳為碳原子數1〜6之直鏈狀之烷基、烯基或芳基， 進而更佳為甲基或乙基、乙烯基、苯基。 美丄述通式申’ Rb分別獨立表示甲基、乙基、丙基、丁 二:戊基、己基、庚基、辛基等碳原子數卜3〇、較佳為碳 ^數1 2G、更佳為碳原子數1〜6之直鏈狀或支鍵狀之烧 土 c作為Rb，較佳為曱基、乙基、丙基。 163665.doc 201247802 上述通式中，x為0〜3之整數，較佳為，更佳為1。 作為上述（A)有機院氧基石夕院，例如可列舉：甲基=甲 氧基矽烷'曱基三乙氧基矽烷、乙基三甲氡基矽烷、:基 二乙氧基矽烷、第三丁基三甲氧基矽烷、第三丁基三乙氧 基矽烷、正己基三曱氧基矽烷' 正己基三乙氧基矽烷、辛 基二曱氧基矽烷、辛基三乙氧基矽烷、癸基三甲氧基矽 烷、癸基二乙氧基矽烷 '二曱基二曱氧基矽烷二甲基二 乙氧基矽烷、第三丁基甲基二曱氧基矽烷、第三丁基曱基 二乙氧基矽烷、正己基甲基二曱氧基矽烷、正己基曱基二 乙氧基矽烷、辛基甲基二甲氧基矽烷、辛基甲基二乙氧基 矽烷、癸基甲基二甲氧基矽烷、癸基甲基二乙氧基矽烷、 乙烯基三曱氧基矽烷、烯丙基三曱氧基矽烷、烯丙基三乙 氧基矽烷、烯丙基三（乙氧基甲氧基）矽烷、丁烯基三曱氧 基矽烷 '己烯基三曱氧基矽烷、己烯基三乙氧基矽烷苯 基二甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、甲基苯基二甲氧基 矽烷、甲基苯基二乙氧基矽烷、3,3,3_三氟丙基三甲氧基 矽烷、3,3,3-三氟丙基三乙氧基矽烷' 3,3,3_三氟丙基曱基 一甲氧基矽烷、3,3,3-三氟丙基▼基二乙氧基矽烷等。 關於本發明之被覆膜形成用組合物中之上述（八）有機烧 氧基矽烷之調配量，只要可形成撥水性被覆膜，則並無特 別限疋，以被覆膜形成用組合物之全部固形物成分質量為 基準計較佳為1〜90質量％，更佳為1〇〜85質量％ ’進而更佳 為30〜80質量％。 上述（B)含有與矽原子鍵結之氫原子之有機聚矽氧烷係 163665.doc 201247802 用以藉由與上述（A)有機烷氧基矽烷併用而形成具有優異 之滑水特性之硬化被覆膜的成分。含有與矽原子鍵結之氫 原子之有機聚矽氧烷只要具有至少丨個、較佳為至少2個與 矽原子鍵結之氫原子，則並無限定，可為具有直鏈狀、支 鏈狀、環狀、網狀之任一結構者，較佳為下述 ⑴所示之直鏈狀者： 式 中，R〗、R2及R3分別獨立為一價烴基或氫原子，Μ及 R5分別獨立為-價煙基，正數，n為正數，加+4之 值為5〜500’ {m/(m+n)}之值為。〜〇3，其中於時末 端梦院基之梦原子上所鍵結之氫原子為卜2個於㈣ 時末端矽烷基之矽原子上所鍵結之氫原子為1或2個]。 作為上，（B)含有與發原子鍵結之氩原子之有機聚石夕氧 二:可早獨使用1種含有與矽原子鍵結之氫原子之有機聚 石m X ’視需要亦可併用2種以上含有㈣原子鍵結 之紅原子之有機聚矽氧烷。 上述平均單元式⑴中之一價煙基之定義及例示如 述。作為一價炮其 n 土’較佳為碳原子數1〜6之直鍵狀之产 基、烯基或芳灵，、#芯 且越狀之烷 方基進而更佳為甲基或乙基、乙烯基、笨 ^述平均單元式⑴中，較佳為心/( Μ 而更佳為 於上述平均單开， 式（1)中，就被覆膜之厚度之調整容易 庄3面而言，較佳
馬5客m+n $ 400，更佳為8 S m+n S 163665.doc 201247802 300，進而更佳為10$m+nS 200。 作為上述（B)成分’較佳為分子鏈兩末端由二烷基氫石夕 炫氧基封閉之一烧基聚石夕氧烧或分子鍵單末端由二烧美氮 矽烷氧基封閉之二烷基聚矽氧烷。因此，於上述平均單元 式（1)中較佳為m=0。 關於本發明之被覆膜形成用組合物中之上述（B)含有與 石夕原子鍵結之氫原子之有機聚矽氧烷的調配量，只要可形 成撥水性被覆膜，則並無特別限定，以被覆膜形成用組合 物之全部固形物成分質量為基準計較佳為丨〜卯質量％，更 佳為2〜70質量％，進而更佳為5〜50質量％。其中，於以在 撥水性被覆膜之表面存在聚矽氧油為不佳之情形時，上述 (B)含有與矽原子鍵結之氫原子之有機聚矽氧烷的調配量 以被覆膜形成用組合物之全部固形物成分質量為基準計較 佳為1〜1 5質量％，更佳為1〜1 〇質量〇/〇。 上述（C)縮合反應觸媒係用以使上述（A)有機烷氧基矽烷 與上述（B)含有與矽原子鍵結之氫原子之有機聚矽氧烷進 行縮合反應而形成硬化被覆膜的觸媒。上述縮合反應係 (A) 有機烷氧基矽烷中之烷氧基水解而產生之矽烷醇基與 (B) 含有與矽原子鍵結之氫原子之有機聚矽氧烷中之與矽 原子鍵結之氫原子之間的縮合反應。作為上述（c)縮合反 應觸媒，可單獨使用1種縮合反應觸媒，又，視需要亦可 併用2種以上縮合反應觸媒。 關於上述（C)縮合反應觸媒之種類，只要可形成硬化被 覆膜，則並無限；t。作為上述（c)縮合反應_，例如可 163665.doc •10· 201247802 使用鋅m或鐵系觸媒。作為鋅、錫、猛、姑或 鐵系觸媒，較佳為有機酸金屬鹽，作為有機酸，較佳為脂 肪酸。作為上述(C)硬化_，具體而言，例如可列舉： 二乙酸鋅、二辛酸辞、辛酸鋅、二新癸酸鋅、雙十一碳烯 酸鋅、二曱基丙稀酸鋅；二新癸酸二f基錫、=乙酸二丁 基錫、二辛酸二丁基錫、二月桂酸二丁基錫、二月桂酸二 辛基錫、二油酸二丁基錫、二甲氧基二丁基錫、二辛酸 錫—月桂酸錫、一乙酸錫、四乙酸錫、氧化二丁基錫、 节基順丁烯二酸二丁基錫、雙（三乙氧基矽烷氧基）二丁基 錫、二乙酸二苯基錫、辛酸錫、新癸酸二曱基錫；二乙酸 猛一辛酸猛、辛酸猛；二乙酸銘、二辛酸钻、辛酸銘； 二乙酸鐵、二辛酸鐵及辛酸鐵等。 本發明之被覆膜形成用組合物中之上述（c)縮合反應觸 媒之調配量並無限定’以被覆膜形成用組合物之全部固形 物成分質量為基準計較佳為0.01〜8質量％，更佳為〇質 量0/。，進而更佳為1〜3質量％。 本發明之被覆膜形成用組合物較佳為進而包含（D)矽氧 樹脂。包含上述（D)矽氧樹脂之本發明之被覆膜形成用組 合物可形成厚度更均勻且緻密之被覆膜。因此，包含上述 (D)矽氧樹脂之部分水解縮合物之本發明之被覆膜形成用 组合物可形成就防銹性等方面而言更優異之被覆膜。 作為上述（D)矽氧樹脂，可例示：包含單元式（Resi〇3/2) 所示之三官能性矽氧烷單元（以下記作T單元）、視需要之 單元式（Re2Si02/2)所示之二官能性矽氧烷單元（以下記作d 163665.doc 201247802 單兀）及單元式（R^SiOm)所示之單官能性矽氧烷單元（乂 下記作Μ單元）的DT型或MDT型矽氧樹脂；包含單元 (siOw)所示之四官能性矽氧烷單元（以下記作q單元= 單元的MQ樹脂。上式中，RC分別獨立表示一價煙基。^ 為：價烴基’可例示㈣相同之基…少量之“可為 〇Rb所示之烷氧基或羥基(D)矽氧樹脂於常溫下可為固體 狀亦可為液狀’於為固體狀之情形時，亦可具有炫點。 其中，較佳為下述平均單元式（2)所示者· [R Sl〇3/2]a[R7R8pSi〇(3.p)/2]b (2) {式中’ R及R分別獨立為一價烴基，尺8分別獨立為烷氧 基或經基，其中，R8中之7〇莫耳％以上為貌氧基p為Μ Ρ<3之範圍之數，a為G或正數，b為正數，且化b/(a+b^ 1.0} » 上述（D)平均單疋式（2)所示之#氧樹脂較佳為有機燒氧 基石夕炫之部分水解縮合物，只要為具有龍氧基之 有機烧氧基錢之部分水解縮合物，則並無限定。作為有 機烷氧基矽烷之部分水解縮合物，可單獨使用1種有機烷 U Μ 刀水解縮合物’又’視需要亦可併用2種以 上有機烧氧基碎炫之部分水解縮合物。 上述平均單元式（2)中之一價煙基之定義及例示如上所 述。作為-價烴基，較佳為碳原子數卜6之直键狀之坑 基'烯基或芳基’進而更佳為甲基或乙基、乙稀基、苯 基》 上述（D)矽氧樹脂較佳 為於1分子中具有至少1個烯基 16366S.doc -12, 201247802 作為該情形時之烯基，較佳為乙烯基。 上述平均單元式（2)中之烷氧基為碳原子數丨〜” ' 較佳 為碳原子數1〜20、更佳為碳原子數1〜6之直鏈狀之烷氧 基，具體而言，可列舉甲氧基、乙氧基、丙氧基等。更佳 為曱氧基或乙氧基，進而更佳為甲氧基。 於上述平均單元式（2)中，較佳為3 $ a+b S 1 〇〇，更佳為 4ga+b^50,進而更佳為 5^a+b^2〇。 本發明之被覆膜形成用組合物中之上述（D)矽氧樹脂的 調配量並無限定，以被覆膜形成用組合物之全部固形物成 分質量為基準計較佳為5〜80質量％，更佳為10〜50質量％， 進而更佳為15〜43質量％。 本發明之被覆膜形成用組合物亦可進而包含（E)矽氫化 反應觸媒。尤其於本發明之被覆膜形成用組合物包含上述 (D)矽氧樹脂之情形時，且尤其於上述（D)矽氧樹脂含有烯 基之情形時，較佳為進而包含（£)矽氫化反應觸媒。作為 上述（E)矽氫化反應觸媒，可單獨使用丨種矽氫化反應觸 媒，又，視需要亦可併用2種以上矽氫化反應觸媒。 作為上述（E)矽氫化反應觸媒，可使用作為矽氫化觸媒 公知者，例如鉑、釕、鍺、鈀、餓、銥等化合物。尤其鉑 系觸媒較有用。作為鉑系觸媒之例，可使用氣鉑酸、鉑之 單體、將固體鉑擔載於氧化鋁、二氧化矽、碳黑等載體 者、鉑-乙烯基矽氧烷錯合物、鉑_膦錯合物、鉑_亞磷酸酯 錯合物、醇鉑觸媒等。於進行矽氫化反應時，鉑系觸媒以 鉑計，可使用以被覆膜形成用組合物之全部固形物成分質 163665.doc •13· 201247802 量為基準計為〇.〇〇〇〇1質量％〜〇」質量％左右。 本發明之被覆膜形成用組合物例如可藉由將上述 (A)〜（C)成分、以及視需要之上述（D)及/或（E)成分、進而 其他任意成分與溶劑混合而製備。 作為任意成分’只要為不妨礙所獲得之撥水性被覆膜之 效果的添加劑，則其種類並無特別限定，例如可列舉：顏 料、染料、防腐劑、殺菌劑、抗老化劑、防蝕劑、防銹 劑、抗靜電劑、阻燃劑、防污劑等。 作為溶劑，可列舉：苯、曱苯、二曱苯等芳香族烴化合 物’二乙&$、二異丙醚、四氫咬喃等喊化合物；甲醇、乙 醇、丙醇、丁醇、己醇等醇化合物；丙酮、甲基乙基酮、 曱基異丁基酮等酮化合物；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯化合 物；氣仿、三氣乙烯、四氣化碳等函化烴化合物；正己 烷、正辛烷、異辛烷、十八烷等飽和烴化合物；三曱基甲 氧基矽烷、二曱基二甲氧基矽烷、甲基三曱氧基矽烷四 乙氧基矽烷等矽烷化合物；六曱基二矽氧烷等揮發性聚矽 氧化合物等，但並不限定於該等。又，溶劑可單獨使用， 或亦可併用兩種以上。 本發明之被覆膜形成用組合物中之溶劑的調配量並無限 定，以被覆膜形成用組合物之全部質量為基準計較佳為 50 98質量％，更佳為7〇〜95質量％，進而更佳為〜列質量 %。換言之，本發明之被覆膜形成用組合物中之固形物成 刀里以被覆膜形成用組合物之全部質量為基準計較佳為 2〜50質量。/〇，更佳為5〜3〇質量％，進而更佳為〜質量 163665.doc 201247802 %» 本發明之被覆膜形成用組合物可藉由加熱使其硬化而形 成撥水性之被覆膜。因此，於本發明之被覆膜形成方法 中，藉由將上述被覆膜形成用組合物應用於基體表面後進 行加熱，而形成具有較高之疏水性且具有充分滑水性能之 撥水性被覆膜。 上述基體之材質為任意，可為金屬、金屬氧化物、玻 璃、陶瓷、塑膠、橡膠等，但就耐熱性方面而言，較佳為 至少基體表面（較佳為整個基體）包含金屬、金屬氧化物、 玻璃及陶瓷等無機材料。作為金屬，例如可列舉：鐵、 鋁、銅、金、銀、黃銅、錫、鎳及不鏽鋼等。再者，亦可 對金屬表面施加各種鑛敷。 上述基體表面亦可已包括含有矽之被覆膜。作為含有矽 之被覆膜’較佳為聚矽氧硬化被覆膜。 上述聚矽氧硬化被覆膜可藉由縮合反應硬化型、矽氫化 反應硬化型、有機過氧化物硬化型及紫外線硬化型等公知 之硬化機制而獲得。 縮合反應硬化型之聚矽氧硬化被覆膜例如可藉由使包含 以下各者之硬化性聚矽氧組合物硬化而獲得： (1)常溫下為液狀且分子鏈末端由矽烷醇基或與矽原子 鍵結之水解性基封閉之二有機聚矽氧烷、或具有與矽原子 鍵結之水解性基之有機矽烷之部分水解縮合物、 ⑺足以交聯⑴成分之量之具有與㈣子鍵結之水解性 基的有機矽烷系或有機矽氧烷系交聯劑、及 I63665.doc 15· 201247802 (3)所需量之縮合反應促進觸媒β 作為（1)成分中之與梦原子鍵結之水解性基，可例示： 一甲基酮肟基、甲基乙基酮肟基等酮肟基（ket〇xim〇)[有時 亦稱為酮肟基（ketoximino)，且為通式：_〇_n=cr9rig所示 之基（式中，R9及Ri〇為相同或不同之烷基，較佳為碳原子 數1〜6之烷基）];子氧基、乙氧基等烷氧基；乙醯氧基等 醯氧基；N-丁基胺基、N，N_二乙基胺基等烷基胺基；ν·甲 基乙醯胺基等醯胺基；Ν，Ν_二乙基胺氧基等Ν，Ν-二烷基胺 氧基；丙料基㈣氧基。於該〇較佳為絲基及嗣肪 基0 作為⑴成分，具體而言，可例示：分子鍵兩末端由石夕 烷醇基、與矽原子鍵結之甲氧基或乙氧基封閉之二甲基聚 矽氧烷、甲基烷基聚矽氧烷、二甲基矽氧烷-甲基苯基矽 氧烧，、聚物曱基（3,3,3·三氣丙基）聚石夕氧烧或烧氧基石夕烧 之=分水解縮合物等’但就硬化物之性狀及經濟性之方面 而。較佳為—甲基聚矽氧烷或烷氧基矽烷之部分水解縮 。物。再者為由與矽原子鍵結之曱氧基或乙氧基封閉 之-甲基聚矽氧烷之末端基，可例示：甲基二曱氧基矽烷 氧基 '甲基二乙氧基石夕炫氧基、三甲氧基石夕烧氧基、三乙 氧基我氧基、？基：甲氧基㈣基乙基（：甲基）錢氧 基、二曱氧基矽烷基乙基（二甲基）矽烷氧基等。 作為⑴成分，亦可併用2種以上二有機聚石夕氧烧或有機 石夕炫之。卩分水解縮合物。例如可列舉（丨⑴饥下之黏 2〇〜1〇〇ηΐΡ"之分子鏈兩末端由錢醇基封閉之二甲^聚 163665.doc •16· 201247802 矽氧烷、與〇2)25C下之黏度為looo〜5〇〇〇 mpa s之分子 鍵兩末端由石夕院醇基封閉之二甲基聚石夕氧院之混合物。此 處，成分（M)與成分（1-2)之調配比較佳為以質量比計處於 ⑽〜之卜於該情形時，成分⑴之黏度為不足 1000〜不足5000 mPa . s，塗佈性良好。 (2)成分為（1)成分之交聯劑，具有至少2個與矽原子鍵結 之水解性基，較佳為具有3個或4個與矽原子鍵結之水解性 基。具代表性的為通式：RnySiX4_y所示（式中，r11為碳原 子數1〜10之一仏烴基，X為與矽原子鍵結之水解性基，y為 0或1)之有機矽烧或作為該有機矽烧之部分水解縮合物之 有機矽氧烷低聚物。再者，一價烴基及與矽原子鍵結之水 解性基之定義及例示如上所述。 作為（2)成分，例如可例示：四曱氧基矽烷、四乙氧基 矽烷、正矽酸正丙酯、甲基三曱氧基矽烷、曱基三乙氧基 矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、乙烯 基二甲氧基矽烷、乙烯基三（2_甲氧基乙氧基）矽烷、夂胺 基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二甲氧基 石夕烧、雙-[3-(二乙氧基石夕烧基）_丙基]四硫鍵、雙-[3_(三乙 氧基矽烷基）-丙基]二硫醚、甲基丙烯酸三乙氧基矽烷基丙 酯單硫醚、四（曱基乙基酮肟）矽烷、甲基三（甲基乙基酮 肟）矽烷、乙烯基三（甲基乙基酮肟）矽烷、曱基三乙醯氧基 矽烷、乙基三乙醯氧基矽烷、甲基三異丙烯氧基矽烷四 異丙烯氧基矽烷、甲基三（N，N_二乙胺基）矽烷。 (2)成分之調配量為足以使（丨）成分硬化之量，於硬化性 163665.doc： •17- 201247802 聚石夕氧組合物為單液型之情形時，為可在阻斷濕氣下長時 間保存、且當暴露於濕氣中時可於常溫下硬化之量，通常 為2〜30質量。/。之範圍。具體而言，（2)成分之調配量例如相 對於（1)成分丨〇〇質量份，為5〜1〇〇質量份’就硬化性方面 而& ’較佳為8〜40質量份之範圍。 作為（3)成为，可使用先前公知之縮合反應促進觸媒。 作為具體例，可列舉）乙酸二丁基錫、二辛酸二丁基 錫' 二月桂m二順丁稀二酸二丁基錫、二月桂 酸二辛基錫、二順丁烯二酸二辛基錫、辛酸錫等有機錫化 合物；鈦酸四（異丙基）酯' 鈦酸四（正丁基）酯、二丁氧基 雙（乙醯丙酮）鈦、三異硬脂醞基鈦酸異丙酯、三（二辛基焦 填酿氧基）欽酸異丙醋、雙（二辛基焦峨醢氧基）經乙酸欽酸 酯等有機鈦酸酯化合物；鍅酸四丁酯、四（乙醯丙酮）錯、 鍅i四異丁g曰、丁氧基二（乙醯丙酮）鍅、環烷酸鍅等有機 錄化。物，二（乙基乙酿乙酸）紹、三（乙g篮丙酮）紹等有機 銘化合物；環院酸鋅、環烧酸姑 '辛酸料有機酸金屬 | -乙醇胺、二乙醇胺等胺系觸媒。再者，有機錫化合 物或有機㈣g旨化合物適於脫醇型之縮合反應硬化性聚石夕 氧組合物，有機鈦酸醋化合物適於脫肟型之縮合反應硬化 性聚♦氧組合物。 (3)成分之調配量為足以促進⑴成分及⑺成分之縮合反 應之量，例如為G,1〜15質量％，較佳為卜㈣量％。若以⑴ 成分為基準’則例如相對於⑴成分1G0質量份，為(U〜2〇 質量份，就硬化性方面而言，較佳為丨〜12質量份之範圍。 163665.doc 201247802 夕氫化反應硬化型之聚哿氧硬化被覆膜例如可藉由對如 下硬化r生聚石夕氧組合物進行加熱硬化而獲得：&含1分子 中，、有至乂 2個與石夕原子鍵結之稀基之二有冑聚石夕氧烧（例 如，兩末端由二甲基乙稀基石夕烧氧基封閉之二甲基聚石夕氧 '元）刀子中具有至少2個、較佳為3個以上與石夕原子鍵 氫原子之有機聚矽氧烷（例如，兩末端由三甲基矽烷 氧基封閉之甲基氫聚石夕氧炫），石夕氫化反應觸媒（例如氣始 馱）以及較佳為進而包含矽氫化反應抑制劑。 為機過氧化物硬化型之聚發氧硬化被覆膜例如可藉由對 匕s 1刀子中具有至少2個烯基之二有機聚矽氧烷及有機過 氧ί匕物等的硬化性聚⑪氧組合物進行加熱硬化而獲得。 紫外線硬化型之聚矽氧硬化被覆膜例如可藉由使如下硬 化性聚矽氧組合物硬化而獲得：包含⑷矽氫化反應硬化型 有機聚吩氧;^及光聚合起始劑、（b)丙稀酸官能性聚石夕氧炫 及光聚合起始劑、或⑷環氧官能性有機料氧院及陽離子 產生型觸媒。 光聚合起始劑可自先前作為藉由照射紫外線而產生自由 基之化合物公知者，例如有機過氧化物 '羰基化合物、有 機硫化合物、偶氮化合物等中適當選擇。又，陽離子產生 型觸媒可自公知之鑌鹽，具體而言為三芳基疏鹽、三芳基 鎭鹽、雙（十二烷基苯基）六氟銻酸鹽等中適當選擇。 上述紫外線硬化型之硬化性聚矽氧組合物若於〇〜8〇它左 =之溫度下照射如下紫外線，則可形成硬化被覆膜，上述 紫外線之波長區域較佳為細〜彻nm、尤其於使用陽離子 163665.doc -19· 201247802 產生型觸媒之情形時更佳為200〜300 nm之範圍，又，於使 用石夕氫化反應硬化型有機聚矽氧烷之情形時較佳為 300〜400 nm之範圍。 本發明之被覆膜形成用組合物於基體表面之應用可利用 任意方法實施。作為應用方法，可利用浸潰塗佈'含浸 法、輥塗法、流塗法、刷塗法、喷霧法等。形成於基體表 面之被覆膜之厚度並無特別限定，但就導熱性方面而言’ 較佳為0.1〜5.0 μηι之厚度’更佳為丨〇〜2 μπΐ2厚度。 上述加熱例如可於100〜30〇t之溫度範圍内進行較佳 為120~250°C之溫度範圍，更佳為13〇〜2〇〇〇c之溫度範圍。 加熱時間並無限定，例如可於i分鐘〜丨小時之時間範圍内 加熱。較佳為於加熱前將塗佈有被覆膜形成用組合物之基 體放置於40 C以下之溫度、較佳為室溫下，使溶劑揮發。 [產業上之可利用性] 本發明之被覆膜形成用組合物及被覆膜形成方法可較佳 地用於要求優異撥水性之各種基體，例如可用於在含有水 蒸氣之氣體中使用且具備有結露及/或結霜之可能性之表 面的任意基體之表面處理。作為此種基體，例如可列舉廚 房、盥洗室、浴室等所謂用水場所製品。 由於本發明之基體具備具有較高之疏水性且具有充分滑 水性能之撥水性表面，故而可較佳地用於與外部空氣進行 熱父換之熱父換器，具體而言可用作散熱體。尤佳為使用 本發明之基體作為包括以固定間隔平行地設置之複數個冷 卻片、及連接該冷卻片之熱交換管之熱交換器的冷卻片。 I63665.doc -20- 201247802 並且，上述熱交換器更佳為具有 氣之送風機。 ° 7卹片輪送熱交換用空 本發明尤其可較佳地用 箱等冷凍裝置或冷藏裝置 ;在a有濕氣之環境中使用之冰 、空調等空氣調節裝置。 實施你】 丞於貫狍例及比較例對.双。。 ,. 本發明進行詳細說明，但 本發明並不受實施例限定。再者， 从t y 寄實施例及比較例中之滾 落角係以下述方式進行敎以及評價又甲基三甲氧基 矽烷部分水解縮合物丨及2係以下述方式進行土 [滚落角（滑落角）] 使用接觸角計（協和界面科學製造，DM_7〇〇)並利用滑落 法進行駭。具體而言’附液滴2 μ1之水，—面使附液滴 面傾斜，-面利用相機觀察水滴，將水滴之前端點及後端 點之兩者開始移動之瞬間的傾斜角度作為滾落角（滑落 角）〇 [曱基三甲氧基矽烷部分水解縮合物1之製備] 向設置有攪拌裝置、冷卻管及溫度計之5〇〇 ml之四口燒 瓶内投入曱基三曱氧基矽烷259.6 g、甲醇28.6 g及三氟甲 項酸0.13 g ’均勻混合後，滴下水29.6 g，於曱醇回流溫度 下使其反應1小時，於常壓下以120eC之溫度一面除去甲醇 一面使其反應3小時。冷卻至室溫後，吹入氨氣進行中 和，進而’於80°C之溫度及5〇 mmHg之減壓下進行汽提 後，實施過濾而獲得甲基三曱氧基矽烷部分水解縮合物 i。由13C NMR及29Si NMR之測定結果確認到所獲得之甲 163665.doc -21 · 201247802 基二甲氧基;ε夕烷部分水解縮合物1具有下述平均組成式β [CH3Si03/2]3 8[CH3R3丨 3Si〇丨 7/山 5 (式中，R3為甲氧基）。 [甲基三甲氧基矽烷部分水解縮合物2之製備] 向設置有擾拌聚置、冷卻管及溫度計之5〇〇 mi之四口燒 瓶内投入曱基三曱氧基矽烷265 1 g、曱醇23 3 g及三氟甲 績酸0.13 g ’均勻混合後，滴下水24 9 g，於曱醇回流溫度 下使其反應1小時，於常壓下以12〇eC之溫度一面除去甲醇 一面使其反應3小時。冷卻至室溫後，吹入氨氣進行中 和’進而於80°C之溫度及50 mmHg之減壓下進行汽提後， 實施過濾而獲得曱基三曱氧基矽烷部分水解縮合物2。由 13C NMR及29Si NMR之測定結果確認到所獲得之甲基三甲 氧基矽烷部分水解縮合物2具有下述平均組成式。 [CH3Si〇3/2]〇.3[CH3R3i.3Si017/2]3.0 (式中，R3為甲氧基）。 [實施例1〜16、比較例1〜2] 以表1〜3所記載之質量份數將表1〜3所示之成分均勻地混 合’而製備實施例1〜14及比較例1〜2之被覆膜形成用組合 物。再者，始系觸媒係以鉑金屬量為被覆膜形成用組合物 之固形物成分之10 ppm之方式進行調配。繼而，將浸潰於 驗性脫脂劑中進行脫脂處理後，利用流水及蒸餾水清洗並 進行加熱乾燥之鋁測試面板（ΠS A1050P)浸潰於上述組合 物中，並進行提拉’藉此以被覆膜形成用組合物被覆上述 測試面板表面。於室溫下將上述被覆測試面板放置數分 163665.doc -22· 201247802 鐘’使異辛烷揮發後’於2〇〇°c下加熱20分鐘，而於上述 測試面板表面上形成疏水性硬化被覆膜。 測定如此獲得之疏水性硬化被覆膜上之滾落角（滑落 角）。將結果一併示於表1〜3。 表中之MH、D之含義如下所述。 MH :表示（H(CH3)2Si〇1/2)單元 D·表示（(CHshSiO2,2)單元’下標表示£>單元之平均鍵數 又’表中之矽酸甲酯係三菱化學公司製造之製品名MKC Silicate MS56(—分子中之矽原子數平均為約1〇個）。又， 表中之MQ樹脂為下述平均單元式： [(CH3)3 Si〇i/2] 0.44 [Si〇4/2] 0.56 所示之矽氧樹脂，藉由凝膠滲透層析法所得之標準聚笨乙 烯換算之重量平均分子量為約4,600，含有約3重量❶/。之羥 基。 I:表 1] 實施 例1 實施 例2 實施 例3 實施 例4 實施 例5 實施 例6 實施 例7 甲基三甲氧基石夕烷 5.83 6.90 5.60 4.50 4.20 5.60 5.83 0.34 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.34 甲基三甲氧基矽烷 部分水解縮合物1 2.91 1.50 2.80 3.90 4.20 2.80 矽酸甲酯 - - - - 2.91 新癸酸二甲基錫 「0.18 0.18 0.18 0.18 0.18 0.18 「0.18 異辛烷 91 91 91 91 91 91 91 滾落角(滑落角） 5 5 5 7 13 5 6 163665.doc •23- 201247802 [表2] 實施例 8 實施例 9 實施例 10 實施例 11 實施例 12 實施例 13 甲基三甲氧基矽烷 - - 7.89 5.71 3.81 3.81 乙烯基三甲氧基矽烷 5.60 5.52 - - - - MmD98Mh 0.67 1.18 1.18 3.36 3.36 3.36 甲基三曱氧基矽烷部 分水解縮合物1 2.80 2.37 - - 1.90 - MQ樹脂 - - - - - 1.90 新癸酸二甲基錫 0.18 0.18 0.18 0.18 0.18 0.18 鉑系觸媒 10 ppm - - - 麵 異辛烷 91 91 91 91 91 91 滾落角（滑落角） 6 6 6 4 5 15 [表3] 實施例14 實施例15 實施例16 比較例1 比較例2 甲基三曱氧基矽烷 5.60 5.26 3.95 - - 乙烯基三曱氧基矽烷 5.60 5.52 - - - mhd98mh 0.67 1.18 1.18 0.67 0.67 曱基三甲氧基矽烷部 分水解縮合物1 - - 論 8.40 7.89 曱基三曱氧基矽烷部 分水解縮合物2 2.80 2.63 3.95 - - 新癸酸二甲基錫 0.18 0.18 0.18 0.18 0.18 異辛烷 91 91 91 91 91 滾落角（滑落角） 4 4 4 33 18 根據實施例1〜14及比較例1〜2之結果可知，本發明之被 覆膜形成組合物可形成具有良好滑水性能之撥水性硬化被 覆膜，另一方面，於不存在有機烷氧基矽烷時，所獲得之 硬化被覆膜之撥水性降低且滑水性變差。 163665.doc 24-

Claims (1)

  1. 201247802 七、申請專利範圍·· 1. 一種被覆膜形成用組合物，其包含（A)有機院氧基石夕烧、 (B)含有與矽原子鍵結之氫原子之有機聚矽氧貌、及（c) 縮合反應觸媒。 2. 如請求項1之被覆膜形成用組合物，其中上述（B)含有與 矽原子鍵結之氫原子之有機聚矽氧烷由下述平均單元式 (1)表示： [R'RYSiO^MVHSiOwUR^SiOwL ⑴ [式中，R1、R2及R3分別獨立為一價烴基或氫原子，R4 及R5分別獨立為一價烴基，m為0或正數，η為正數， (m+n)之值為5〜500，{m/(m+n)}之值為〇〜〇·3，其中，於 πι>〇時，末端矽烷基之矽原子上所鍵結之氫原子為〇〜2 個’於m=0時’末端矽烷基之矽原子上所鍵結之氫原子 為1或2個]。 3. 如請求項1或2之被覆膜形成用組合物，其中於上述平均 卓元式（1)中，m=0。 4. 如請求項1至3中任一項之被覆膜形成用組合物，其中上 述（C)縮合反應觸媒為鋅、錫、錳、鈷或鐵系觸媒。 5. 如請求項1至4中任一項之被覆膜形成用組合物，其中上 述（A)有機烷氧基矽烷之調配量，以組合物之全部固形物 成分質量為基準計為1〜90質量％ » 6. 如請求項1至5中任一項之被覆膜形成用組合物，其中上 述（B)含有與矽原子鍵結之氫原子之有機聚矽氧烷的調配 量’以組合物之全部固形物成分質量為基準計為丨〜卯質 I63665.doc 201247802 量％。 7. 如請求項1至6中任一項之被覆膜形成用組合物，其中上 述（C)縮合反應觸媒之調配量，以組合物之全部固形物成 分質量為基準計為〇 〇〇1〜8質量。/〇。 8. 如請求項1至7中任一項之被覆膜形成用組合物，其進而 包含（D)矽氧樹脂。 9. 如請求項8之被覆膜形成用組合物，其中上述（D)矽氧樹 脂由下述平均單元式表示： [R6Si03/2]a[R7R8pSi〇(3.p)/2]b (2) {式中，R6及R7分別獨立為一價烴基，R8為烷氧基或 羥基，其中，R8中之70莫耳％以上為烷氧基，{?為1${)<3 之範圍之數’ a為〇或正數，b為正數，且〇.5^b/(a+b)g 1.0} » 10. 如請求項1至9中任一項之被覆膜形成用組合物，其進而 包含（E)矽氫化反應觸媒。 11 · 一種被覆膜形成方法，其係將如請求項丨至丨〇中任一項 之被覆膜形成用組合物應用於基體表面後進行加熱。 12. 如請求項！】之被覆膜形成方法，其中上述基體表面包含 無機材料。 13. 如請求項^或^之被覆膜形成方法，其中上述基體表面 包括含有矽之被覆膜。 M.如請求項11至13中任一項之被覆膜形成方法，其中於 100〜3 00 c之溫度範圍内進行上述加熱。 15. —種基體，其係藉由如請求項丨丨至^中任一項之被覆膜 163665.doc 201247802 形成方法而於表面形成有被覆膜。 1 6.如請求項1 5之基體，其係於含有水蒸氣之氣體中使用。 17. —種散熱體，其包括如請求項15或16之基體。 18. —種熱交換器，其包括如請求項15或16之基體或者如請 求項17之散熱體。 163665.doc 201247802 四、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：（無） (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： [R1R2R3Si01/2]2[R4HSi02/2]m[R52Si02/2]n (1) 163665.doc
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI771507B (zh) * 2017-10-12 2022-07-21 日商日本帕卡瀨精股份有限公司 表面處理劑以及具有表面處理覆膜的金屬材料與其製造方法

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6346456B2 (ja) * 2013-02-22 2018-06-20 国立研究開発法人産業技術総合研究所 撥水／撥油皮膜及びその製造方法
CN103204639B (zh) * 2013-04-19 2016-06-01 奇瑞汽车股份有限公司 防尘汽车玻璃的制备方法
KR101405366B1 (ko) * 2014-01-27 2014-06-11 대한로드라인 페인트 주식회사 침투성 발수제 및 이를 이용한 그루빙 시공방법
CN107109123A (zh) * 2014-10-31 2017-08-29 住友化学株式会社 透明被膜
JP6715530B2 (ja) 2014-10-31 2020-07-01 住友化学株式会社 撥水撥油コーティング混合組成物
CN107109124B (zh) 2014-10-31 2021-07-09 住友化学株式会社 透明被膜
JP6705752B2 (ja) 2014-11-12 2020-06-03 住友化学株式会社 撥水撥油コーティング組成物及び透明皮膜
EP3233973B1 (en) 2014-12-19 2019-06-12 Dow Silicones Corporation Method of preparing condensation cross-linked particles
JP6232605B2 (ja) * 2016-05-10 2017-11-22 メック株式会社 被膜形成用組成物、表面処理金属部材の製造方法、および金属‐樹脂複合体の製造方法
CN109790415A (zh) * 2016-10-05 2019-05-21 三键有限公司 涂布剂组合物
CN111094477B (zh) 2017-09-07 2022-06-03 陶氏环球技术有限责任公司 导热憎冰涂层
CN111902485A (zh) * 2018-03-28 2020-11-06 株式会社钟化 加热固化型的固化物的制造方法和加热固化型的固化性组合物
TWI794532B (zh) * 2018-08-03 2023-03-01 日商日本帕卡瀨精股份有限公司 具有表面處理被膜的外科用電極
JP6988834B2 (ja) * 2019-01-10 2022-01-05 信越化学工業株式会社 ポリシロキサンの製造方法
US11542398B2 (en) * 2019-01-23 2023-01-03 Dow Global Technologies Llc Azeotropic and pseudoazeotropic blends
WO2022192480A1 (en) * 2021-03-10 2022-09-15 Spotless Materials Inc. Repellent coatings for high temperature surfaces

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1443437A (fr) * 1964-05-27 1966-06-24 Owens Illinois Inc Résines de polysiloxanes organiques et leur procédé de préparation
JPS63120773A (ja) 1986-11-10 1988-05-25 Toray Silicone Co Ltd シリコ−ン水性エマルジヨン防水材組成物
JP3110749B2 (ja) * 1990-11-28 2000-11-20 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物
JPH06329914A (ja) * 1993-05-18 1994-11-29 Toray Dow Corning Silicone Co Ltd 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物およびその製造方法
JPH06329997A (ja) * 1993-05-18 1994-11-29 Toray Dow Corning Silicone Co Ltd シリコーンゴムによる基材の接着方法
US5895794A (en) * 1993-08-30 1999-04-20 Dow Corning Corporation Shelf stable cross-linked emulsions with optimum consistency and handling without the use of thickeners
EP0643106B1 (en) 1993-09-10 1999-12-22 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Organopolysiloxane compositions, their preparation and use, rubber articles coated with them
JP3846640B2 (ja) * 1994-01-20 2006-11-15 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物
JP3461404B2 (ja) * 1995-03-29 2003-10-27 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物
JPH0912892A (ja) * 1995-07-04 1997-01-14 Toray Dow Corning Silicone Co Ltd 現場成形ガスケット用シリコーンゴム組成物
TW334469B (en) * 1995-08-04 1998-06-21 Doconitele Silicon Kk Curable organosiloxane compositions and semiconductor devices
JPH10292151A (ja) 1997-04-17 1998-11-04 Ito Kogaku Kogyo Kk 撥水処理光学要素
JPH1143777A (ja) 1997-07-22 1999-02-16 Kobe Steel Ltd 撥水性及び着霜防止性が優れたアルミニウム又はアルミニウム合金材及びその製造方法
US6297305B1 (en) * 1998-09-02 2001-10-02 Dow Corning Toray Silicone Company, Ltd. Curable silicone composition
JP3976417B2 (ja) * 1998-10-12 2007-09-19 東レ・ダウコーニング株式会社 撥水性被膜形成用組成物
JP2001295078A (ja) 2000-04-12 2001-10-26 Toto Ltd 水廻り機器、機器用部品およびその製造方法
JP4875251B2 (ja) * 2001-04-26 2012-02-15 東レ・ダウコーニング株式会社 シリコーンゲル組成物
ATE348125T1 (de) * 2001-07-26 2007-01-15 Dow Corning Toray Co Ltd Bei umgebungstemparatur härtbare polysiloxanzusammensetzung
JP5972511B2 (ja) * 2008-03-31 2016-08-17 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物およびその硬化物
JP2010060162A (ja) 2008-09-01 2010-03-18 Daikin Ind Ltd 冷凍装置におけるデフロスト方法及び冷凍装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI771507B (zh) * 2017-10-12 2022-07-21 日商日本帕卡瀨精股份有限公司 表面處理劑以及具有表面處理覆膜的金屬材料與其製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US8925626B2 (en) 2015-01-06
WO2012137977A1 (ja) 2012-10-11
CN103443223A (zh) 2013-12-11
US20130340992A1 (en) 2013-12-26
EP2695922A4 (en) 2014-08-20
KR20140010115A (ko) 2014-01-23
EP2695922A1 (en) 2014-02-12
JPWO2012137977A1 (ja) 2014-07-28

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