TW201228967A - Anti-glare surface treatment method and articles thereof - Google Patents

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201228967 六、發明說明： 相關專利申請案之交叉引用 本申請案根據專利法主張於20 10年11月29曰申請之 美國臨時申請案第6丨/417674號之優先權的權益，本申 請案依賴該申請案之内容且該申請案之内容以全文引用 之方式併入本文中。 相關同在申請中之申請案之交叉引用 本申請案係關於共同擁有且讓渡之以下各申請案：申 〇月於2010年4月30日之標題為「Anti-Glare Surface Treatment Method and Articles Thereof，」的 USSN 61/329,936，以及申請於2010年8月11日之標題為 「Anti-Glare Surface Treatment Method and Articles Thereof」的 USSN 6 1/372655 ° 【發明所屬之技術領域】 本發明大體而言係關於製造及使用抗眩光表面之方法 及其製品。 【先前技術】 無 【發明内容】 本案提供一種製造抗眩光表面之方法、由該方法製造 之製品，以及併有具有該抗眩光表面之製品之顯示系 201228967 統。在實施例中，智；止古 , 裏把方法包括以下步驟：將犧牲可變 形粒子沉積於製品之至少—個表面上；處理該可變形粒 子填充表面（料，微粒表面）以至少將料粒子黏著 ι表面&使該所;^點著微粒表面與钱刻劑接觸以形 成抗眩光粗化表面。 【實施方式】 在貝把例中$揭不之製品及所揭示之製造及使用方 法提供包括如下所述各者之—或多個有利特徵結構或態 樣。在請求項中之任一項中敘述之特徵結構或態樣大體 適用於本發明之所有方面。任―請求項巾之任—所述單 一或多個特徵結構或態樣可與任何其他一或更多請求項 中之任何其他所述特徵結構或態樣組合或置換。 定義 「抗眩光」或類似術語代表接觸本發明之製品（諸如， 顯示器）之處理表面的光改變之物理變換，或代表自製 品之表面反射之光改變成漫反射而非鏡面反射的特性。 在實施例中，表面處理可由機械方法、化學方法、電氣 方法及類似蝕刻方法，或該等方法之組合產生。抗眩光 並不降低自表面反射之光之量，而僅改變反射光之特 性。由抗眩光表面反射之影像沒有尖銳邊界。與抗眩光 表面形成對比’抗反射表面通常為一薄膜塗層，該薄膜 塗層藉由使用折射率變化且在一些例子中使用相消干涉 技術來降低自表面之光反射。 201228967 「接觸」或類似術語代表可導致至少一個接觸之實體 產生物理改變、化學改變或物理改變與化學改變兩者之 緊密實體接觸。在本案中，諸如噴塗技術、浸潰塗佈技 術、狹縫塗佈技術及類似技術之各種微粒沉積或接觸技 術可在接觸（如本文所說明及表明）時提供微粒表面。 或者或另外，如本文所說明及表明，微粒表面之諸如喷 霧技術、浸沒技術、浸潰技術及類似技術或上述技術之 組合的各種化學處理可在與一或多個蝕刻劑組合物接觸 時提供姓刻表面。 「反射影像清晰度」、「影像清晰度」、r DOT」或類似 術藉由以下方法疋義.標題為「Standard Test Methods for Instrumental Measurements of Distinctness-of-Image

Gloss of Coating Surfaces」之 ASTM 程序 D5767 (ASTM 5767)之方法八。根據八8丁]^ 5767之方法八，在鏡面檢 視角及稍微偏離鏡面檢視角之角度下對玻璃製品之至少 一個粗糙化表面進行玻璃反射率因數量測。將自該等量 測中獲得之值組合以提供001值。詳言之，根據方程式 (1)計算 D0I : D〇I= xl〇〇 L Rs Ο) 其中Rs為在鏡面方向中的相對反射率幅度，且R〇s 為在偏離鏡面方向中的相對反射率幅度。如本文所述， 除非另有指定，否則藉由將在偏離鏡面方向達〇 2。至〇 4 。之角度範圍内的反射率求平均而計算R〇s。可藉由將在 201228967 定中心於鏡面方向上的±0.05。之角度範圍内的反射率求 平均而計算Rs。如ASTM程序〇523及D5767中所指定， 使用經校準至檢定之黑玻璃標準之測角光度計 (Novo-gl〇ss IQ，Rhopoint 儀器）量測 rs 與 Ros 兩者。 Novo-gloss儀器使用偵測器陣列，其中鏡面角以债測器 陣列中之最高值定中心。亦可使用1側法（耦接至玻璃 後。卩之黑色吸收體）及2側法（允許自兩個玻璃表面進 行之反射’無至玻璃之麵接）來評估D ΟI。1側量測允 許針對玻璃製品之早一表面（例如，單一粗链化表面） 決疋光澤度 '反射率及DOI，而2側量測能夠整體上針 對玻璃製品決定光澤度、反射率及DOI。可如上所述自 針對Rs及Ros獲得之平均值計算Ros/Rs比率。如astm D5767所述，「2(TDOI」或「DOI2(r」代表光以偏離玻 璃表面之法線20°入射於樣本上的d〇I量測。可最佳地 在暗室或封閉空間中執行使用2側法進行的DOI或普通 光澤度之量測，以使得當不存在樣本時此等性質之量測 值為零。 對於抗眩光表面，大體上需要D〇I相對較低且方程式 ⑴之反射率比率（Ros/Rs)相對較高。此舉導致模糊或不 清楚的反射影像之視覺感知。在實施例中，當使用ι側 方法量測以偏離鏡面方向20。角度量測時，玻璃製品之 至少一個粗糙化表面具有大於約〇卜大於約〇4且大於 約0.8之Ros/Rs。使用2側方法，以偏離鏡面方向2〇。 角度量測的玻璃製品之Ros/Rs大於約〇_〇5 ^在實施例 201228967 針對玻璃製品藉由2側方法量測之Ros/Rs大於約 〇’2且大於約〇.4。如藉由ASTM D523量測，普通光澤 度不足以區分具有強鏡面反射分量（清楚的反射影像） 之表面與具有弱鏡面分量（模糊的反射影像）之彼等表 面。此舉可歸因於不可使用根據ASTM D523設計之普 通光澤度計量測之小角散射效應。 &射渾濁度」、「渾濁度」或類似術語代表與表面粗 棱度有關的特定表面光散射特性。在下文中更詳細地指 疋渾濁度量測。 「粗糖度」、「表面粗糙度（Ra)」或類似術語代表在顯 微位準或顯微位準以下的不均勻或不規則表面狀況，諸 如下文所描述之平均均方根（RMS)粗糙度或RMS粗糙 度。 「光澤度」、「光澤度位準」或類似術語代表（例如） 表面光澤、亮度或發亮，且更特定言之，代表根據ASTM 程序0523 ( ASTM程序D523的内容以全文引用的方式 併入本文中）的經校準至一標準（諸如，檢定之黑玻璃 標準）之鏡面反射之量測。普通光澤度量測通常在2〇。、 及85°之入射光角度下執行，其中最常用的光澤度量 測係在60。之入射光角度下執行。然而，歸因於此量測 之廣泛接受的角度，普通光澤度通常無法區分具有高反 射影像清晰度（distinctness-of-reflected-image; DOI)值 和低反射影像清晰度D0I值的表面。如根據ASTM標準 D523量測，玻璃製品之抗眩光表面具有高達9〇 SGU(標 201228967 = 之光澤度（亦即；相對於特定角度下之 :準自樣本鏡面反射之光的量)，且在—實施例中，該玻 璃製品之抗眩光表面具有在自約6〇咖至高達約8〇 咖'範圍内的光澤度。亦參見上文之DOI定義。 「黏著（Adhere、adhering)」、「退火（^丨、__)」 或類似術語個別地或共同地代表在引起沉積粒子變形且 隨後進-步將沈積粒子快速_至、黏合至、㈣至（及 類似相關聯描述符）正經處理的玻璃表面時的該等沉積 粒子之狀態或動作’包括粒子表面吸引或相關聯（黏 著）、粒子粒子吸引或相關冑（内聚性），及類似交互作 用0 變形」、「可變形」'「變形中」或類似術語代表當藉 由例如熱、機械、輻射或類似手段引起沉積粒子黏著至 玻璃表面時的該等沉積粒子之狀態或動作。 「ALF」或「平均特性最大特徵結構大小」或類似術 語代表在X方向及y方向中（亦即，在基材之平面中） 之表面特徵結構變化的量測，如下文進一步論述。 「閃光j、「顯示閃光」或類似術語代表在至少一個粗 糙化玻璃表面上的特徵結構之大小與感興趣之像素間距 (特定言之，最小像素間距）之間的關係◎顯示「閃光」 通常藉由人對鄰近於像素化顯示器置放之材料的視覺檢 查來評估》已發現ALF及ALF與顯示「閃光」之關係 為具有不同表面形態之不同材料的有效度量，包括具有 變化之組合物及粒子塗佈聚合物材料之玻璃。平均最大 201228967 特f特徵、、“冓大小(ALF)與顯示閃光嚴重程度的視覺等 間的強相關性橫跨多個不同樣本材料及表面形態存 在實施例中’玻璃製品可為形成顯示系統之一部分 的玻璃面板。顯示系統可包括鄰近於玻璃面板安置之像 素化影像顯示面板。顯矛 极顯不面板之最小像素間距可大於 ALF。 ' 均勻性」、「均句」或類似術語代表㈣樣本之表面 :質。表面均句性通常藉由在各角度下的人的視覺檢查 來㈣。例如’在標準的白色勞光燈條件下，將玻璃製 =本以大約眼睛位準固持，且接著將玻璃製品樣本緩 -自〇度旋轉至90度。當觀察者無法谓測到任何針 孔裂縫、波紋、粗糙，或其他類似缺陷時，認為表面 品質「均勾」；否則，認為樣本不均勾。「良好」或「正 常」等級意謂均句性為可接受的或滿意的，其中前者主 觀上比後者好。 「包括〇ndude、includes)」或類似術語意謂涵蓋但不限 於，亦即，具有包含性而非排他性。 實施例中之「基本上由......組成」可代表（例如）： 藉由以下操作製造破璃製品之方法：在製品之表面上 沉積粒子；將粒子黏著至製品之表面；及使微粒表面與 蝕刻劑接觸，如本文所定義；或 具有抗眩光表面之玻璃製品，該抗眩光表面具有渾濁 度、影像清晰度、表面㈣度及㈣性特性，如本 定義；或 10 201228967 併有玻璃製品之顯示系統，如本文所定義。 本案之製k方法、製品、顯示系統、組合物、調配物 或任何没備可包括在請求項中列出之組件或步驟；加上 不會顯著影響本案之組合物、製品、設備，或製造及使 用方法之基本的且新穎的特性的其他組件或步驟，諸如 特定反應物、特定添加劑或成分、特定試劑、特定表面 改質劑或條件，或類似結構、材料，或選定之製程變數。 可顯著影響本案之組件或步驟之基本特性或可賦予本發 明不良特性的項目包括：例如，具有令人不愉快的高眩 光或高光澤度特性（例如，具有超過本文定義且指定的 包括中間值及範圍之值的渾濁度、影像清晰度、表面粗 糙度、均勻性或上述特性之組合）之表面。 除非另外指定，否則’如本文中所使用的不定冠詞「一」 及不定冠詞「一個」之相應定冠詞「該」意謂至少一個、 或一或多個。 可使用為本領域一般技術者所眾所熟知的縮寫（例 ^，「h」*「hr」代表小時，「g」*「gm」代表公克， 「瓜1」代表毫升，並且「rt」代表室溫，「nm」代表奈来， 及其類似縮寫）^ 針對組A、成分、％加劑及類似態樣及上述各者之範 圍所揭不之特定及較佳值僅用於說明；該等特定及較佳 值並不排除其他定義值或在該等定義範圍内的其他值。 本案之組合物'設備及方法可包括本文所述之值、特定 值、更特定值及較佳值巾的任—值或任一组合。 11 201228967 化學強化玻璃用於如顯示視窗及蓋板之許多手持型及 觸敏^'裝置中’其中耐機械損傷性對於產品之視覺外觀 及功能性而言可能為报重要的。在化學強化期間，用位 於離玻璃表面某—距離内的較小行動驗離子交換熔融鹽 浴中之較大驗離子。離子交換製程將玻璃表面置於壓縮 狀中從而允許玻璃表面變得更能耐受通常在使用期 間經受的任何機械損傷。 通常需要減少來自許多顯示表面的鏡面反射（眩光中 之重要因素）’尤其對於產品經設計成用於戶外使用之製 造商而言（在戶外使用中，眩光可能由於日光而加重）。 降低鏡面反射（量化為光澤度）之強度之—種方式為使 玻璃表面粗糙化或用紋理化膜覆蓋玻璃表面。粗糙度或 紋理之尺寸應足夠大以使可見光散射，從而產生略模糊 或無光澤的表面，但不可過大以至顯著影響玻璃之透明 度《當維持玻璃基材之特性（例如，耐到擦性）並不重 要時，可使用紋理化或含粒子聚合物膜。雖然此等膜可 能很便宜並且易於塗覆，但是該等膜容易經受磨損，磨 損可降低裝置之顯示功能性。使用膜或塗層之另一不足 在於：該等膜可干擾某些觸敏型裝置之操作，或減小某 些觸敏型裝置之效能。使玻璃表面粗糙化之另一途徑為 化學钱刻。美國專利第4,921，626號、第6,8〇7,824號、 第5,989,450號及W02002053508提及玻璃蝕刻組合物 及用該等組合物蝕刻玻璃之方法。濕式蝕刻為在玻璃上 產生抗眩光表面同時保留該玻璃之固有機械表面性質的 12 201228967 方法。在此製程期間，將玻璃表面曝露於化學品令該 等化學品使該表面降解至用於可見光之散射的正確粗縫 度尺寸。當存在具有差別溶解度之微結構區域時，諸如 在鹼石灰矽酸鹽玻璃中，可藉由將玻璃置放於（通常含 氟離子）無機酸溶液中形成粗糙化表面。在於缺少此等 差別可/容解微結構區域的其他顯示玻璃上產生均句、抗 眩光表面時’此選擇性浸濾或蝕刻大體上為無效的，該 等其他顯示玻璃諸如鹼土鋁矽酸鹽及混合鹼硼矽酸鹽玻 璃，及對於含有例如鋰、鈉、鉀及類似組合物或上述組 合物之組合的鹼及混合鹼鋁矽酸鹽玻璃。 使玻璃表面粗糙化之一結果為產生Γ閃光」，該「閃光」 可感知為粒狀外觀。閃光表現為在近似像素位準大小級 下的明壳及黑暗或彩色斑點之外觀。閃光之存在降低了 像素化顯示器之可見性，尤其降低在高環境照明條件下 的像素化顯示器之可見性。 在實施例中’本案提供一種製造具有抗眩光表面之製 品之方法，該方法包含以下步驟： 將可變形粒子沉積於該製品之至少一個表面上； 引起該表面上的沉積之可變形粒子變形且黏著至該表 面；以及 使具有變形且黏著之粒子之表面與餘刻劑接觸以形成 抗眩光表面。 在實施例中，本案提供一種製造具有抗眩光表面之製 σ 口之方法，該方法包含以下步驟： 13 201228967 將粒子沉積於製品之至少一個表面上； 使該表面上的沉積粒子變形以黏著至該表面；以及 使具有黏著粒子之表面與蝕刻劑接觸以形成抗眩光表 面。 在實施例中’本案提供一種製造具有抗眩光表面之製 之方法，該方法包含以下步驟： • 將粒子沉積於該製品之至少一個玻璃表面之一部分 上； 加熱該粒子表面以將該等沉積之粒子黏著至玻璃表 面；以及 〃有黏著粒子之玻璃表面與蚀刻劑接觸以形成抗眩 光表面。 在實施例中，本案提供一種製造具有抗眩光表面之製 σσ之方法，該方法包含以下步驟： 將可變形粒子沉積於該製品之至少一個玻璃表面之_ 部分上； 使該表面上之該等沉積之可變形粒子變形以將該等粒 子黏著至玻璃表面；以及 • -#黏著粒子t玻璃表面肖蝕刻劑接觸以形成抗眩 光表面。 口在實施例中，本案提供—種製造具有抗眩光表面之製 品之方法，該方法包含以下步驟： 將聚合物粒子沉積於該製品之至少一個玻璃表面之— 部分上； 14 201228967 加熱該聚合物粒子表面以將該等沉積之聚合物粒子黏 著至玻璃表面；以及 使具有黏著粒子之玻璃表面與蝕刻劑接觸以形成抗眩 光表面。 在實施例中’玻璃表面可為例如以下各者中之至少一 者：鹼石灰矽酸鹽玻璃、鹼土鋁矽酸鹽玻璃、鹼鋁矽酸 鹽玻璃、鹼硼矽酸鹽玻璃、硼鋁矽酸鹽玻璃，或上述玻 璃的組合；可變形粒子可為例如聚合物、蠟或上述物質 的組合中之至少一者；且蝕刻劑包含選自hf、h2S〇4或 上述物質的組合中之至少一種酸。聚合物粒子可包括例 如以下各者中之至少一者：聚合物、共聚物聚合奈米 粒子、交聯聚合物粒子、紫外線（ultra Vi〇let; uv)固化 聚合物粒子、核殼粒子（該等核殼粒子具有核聚合物， 該核聚合物之Tg比殼聚合物％低）、蠟，或上述物質的 組合。 在實施例中，可例如藉由加熱完成使該等沉積之可變 形粒子變形。可藉由任何合適的手段完成該加熱，諸如 熱手段、輻射手段、壓力手段’以及類似方法，或上述 各者之組合。此加熱手段可包括：例如，空氣加熱搶、 熱氣刀、對流烘箱、加熱燈、輻射加熱器、壓板、加熱 鐵，及類似手段或上述各者之組合。 在實施例中，沉可例如藉由使製品之至少-個玻璃表 面與蝶粒子、聚合物粒子或上述各者的組合之懸浮液接 觸來完成將可變形粒子沈積於該至少一個玻璃表面之至 15 201228967 少一部分上。使至少一個玻璃表面與蠟粒子、聚合物粒 子或上述物質的組合之懸浮液接觸可利用例如狹缝塗佈 機來完成。在實施例中，沉可例如在無黏合劑流變改 質劑或上述物質的組合之情況下完成該沈積。 在實施例中，沉積之可變形粒子可為例如單層粒子、 有序單層粒子、雙層粒子、有序雙層粒子，及上述粒子 的組合。 在實施例中，可藉由例如將具有沉積之可變形粒子的 玻璃表面曝露於蝕刻劑達大約丨秒至大約3〇分鐘來完成 與蝕刻劑接觸。 在實施例中，沉積之粒子可具有例如自大約丨微米至 大約30微米之〇5〇直徑，包括中間值及範圍。 在實施例中，沉積之粒子可為包含例如熱塑性材料、 壤或上述物質的組合之聚合物粒子。在實施例中，沉積 之粒子具有一玻璃轉變溫度（Tg)，該玻璃轉變溫度（Tg) 例如自大約25。(：至大約95。〇、自大約25β(：至大約Ml、 自大約3(TC至大約_、自大約价至大約赋及類 似玻璃轉變溫度，包括中間值及範圍。 在實轭例中，可使用狹缝型擠壓式塗佈機及類似塗佈 設備及方法完成將聚合物粒子、蠟粒子或聚合物粒子及 蠟粒子之混合物沉積於製品之表面上。 在實施例中’在表面上的沉積之粒子可為例如單層至 夕層該單層至多層具有：潮濕厚度，該潮濕厚度例如 自大約1微米至大約200微米，諸如自大約2微米至大 201228967 厚微未，包括中間值及範圍；及乾燥厚度，該乾燥 U如自大約(M微米至大約5〇微米 微米至大約25微米，包括中間值及範圍。自大约 在實施例中， 面能塗層（例如 低潮濕且允許清 該方法可進一步包含以下步驟：用低表 ，氟化合物）處理所得粗糙化表面以降 理容易》 在實施例中’該方法可進一步包含以下步驟：在姓刻 之後’清洗所得抗眩光表s ;化學強化該抗眩光表面； 或上述步郡之組合。 2實施例中’該方法可進一步包含以下步驟：在蝕刻 之刖’使製品之至少另一表面與視情況可移除的耐蝕刻 保護層接觸。 在實施例中，本案提供一種玻璃製品，該玻璃製品由 上述製程中之任一者（包括上述製程之組合或排列）製 備。 在實施例中，本案提供一種玻璃製品，該玻璃製品包 含： 至少一個抗眩光表面，該表面具有： 渾濁度’該渾濁度自大約0.1至大約30 ; 影像清晰度（DOI 20 ) ’該影像清晰度（d〇i 20。）自大約 25至大約85 ; 表面粗糙度（Ra)，該表面粗糙度（Ra)自大約5〇 nm至 大約500 nm ;及 平均粗链度峰谷差異輪廓’該平均粗縫度峰谷差異輪 17 201228967 廓自大約0· 1微米至大約1 〇微米。 在實施例中，玻璃製品可具有抗眩光表面，該抗眩光 表面具有例如形貌特徵結構分佈，該形貌特徵結構分佈 具有例如大約1微米至大約100微米之平均直徑。形貌 特徵結構之較佳直徑可為例如自大約0〖微米至大約20 微米，包括中間值及範圍。 在實施例中’玻璃製品可為例如顯示裝置之一片保護 蓋玻璃。 在實施例中’本案提供一顯示系統，該顯示系統包含 (例如）： 玻璃面板，該玻璃面板具有至少一個粗輪化抗眩光表 面，該至少一個粗糙化抗眩光表面由上述方法中之任一 者製備，該至少一個粗链化抗眩光表面具有： 渾濁度，該渾濁度小於大約30 ; 影像清晰度（DOI 20 °) ’該影像清晰度（d〇i 20。）大約 25至大約85 ; 表面粗糙度（Ra)，該表面粗糙度（Ra)大約5〇 nm至大 約5 00 nm ;及 平均粗糙度峰谷差異輪廓，該平均粗糙度蜂谷差異輪 廓大約0.1微米至大約10微米；及 像素化影像顯示面板，該像素化影像顯示面板鄰近於 玻璃面板。 在實施例中’較佳渾濁度可例如小於大約10，更較佳 渾濁度可為例如大約6至大約9，且更較佳渾濁度可為 201228967 例如大約5至大約6或6以下，包括中間值及範圍。 在實施例中，本案提供塗層及濕式蝕刻製程以在諸如 矽酸鹽玻璃之玻璃表面上形成奈米至微米級紋理化表 面。在實施例中，製程涉及在玻璃表面上塗佈例如低分 子量聚合物粒子、蠟粒子或該等粒子之組合，接著在例 如以下相對低溫下熱處理並且達到足以促使粒子變形且 使粒子黏著至玻璃表面上的時間：自大約3〇<>c至大約 14(TC、自大約35。(：至大約135。(；、自大約4(rc至大約 130°C、自大約45t至大約i〇(TC、自大約5(rc至大約 90°C、自大約55。(：至大約85。(：、自大約6〇〇c至大約8〇 °c及類似溫度，包括中間值及範圍。接著，例如在HF 或多組分酸性溶液中蝕刻微粒表面。蝕刻溶液在玻璃表 面上圍繞變形粒子產生優先蝕刻以在處理之玻璃製品上 形成AG粗較化表面層。 在玻璃表面上產生抗眩光層之已知钱刻製程可涉及至 少三個浴。例如’第一浴可含有氟化氫銨（amm〇nium biflouride; ABF)，用於在玻璃表面上生長aBF晶體。第 二浴可含有H2S〇4酸以移除晶體。第三浴可為H2s〇4/HF 之混合物以使玻璃表面平滑。三個浴製程之自始至終的 典型處理時間可為例如大約60分鐘至大約8〇分鐘。

Corning，Inc.已開發替代製程，如共同擁有且讓渡之 USSN 61/329,936中所揭示，該製程涉及使用粒子懸浮 液。粒子懸浮液可用以在塗覆於玻璃表面時產生差異蝕 刻遮罩且隨後進行蝕刻《此製程顯著更快，但與目前揭 19 201228967 二製程相比較而s更複雜且成本高昂。所揭示之製程 與包括例如以下特徵結構之其他製程相比較而言可具有 顯著益處。 該氣程可再現地提供具有顯著改良之外觀特性的抗眩 光玻璃片，該等顯著改良外觀特性包括例如與自先前製 ，可得到的諸如自大約7至大約12的閃光相比較，可獲 得諸如自大約4至大約6之極低閃光。 根據本案處理之玻璃製品的渾濁度特性可在自低值至 非常高的值之間調整。對於需要高顯示對比度之應用可 能需要低渾濁度’而高渾濁度可用於具有諸如邊緣照明 之散射的光學設計，或用於諸如降低處於㈣狀態之顯 示器的「黑洞」外觀的美學原因。低渾濁度抑或高渾濁 度之大體偏好（及對效能折衷之接受）可由客戶或終端 使用者偏好及客戶祕端使㈣之最終應用及使用模式 促成。 所揭示之製程允許在粗糙度值之範圍上在自低值至非 常高的值之間調整玻璃片之一側或兩側之表面粗糙度。 低粗糙度大體用以產生小角散射，從而產生具有低渾濁 度及相應高顯示對比度之低D〇I。然而，對於一些應用 可能需要高粗糙度，諸如在粗糙表面可為使用者的接觸 點（諸如手指、指節、腳趾或鼻）提供所要的「滑動感 覺J之某些觸敏型顯示裝置中。高粗糙度之效應亦可用 於非顯示應用中，諸如鼠標墊表面。對於此等接觸應用， 亦可能需要用諸如氟矽烷之低表面能塗層後處理粗糙表 20 201228967 面。此舉可降低表面摩擦、改良「滑動感覺」效應，並 且使表面較不可由油及水弄濕，且易於清潔。 廣泛可調的渾濁度及粗糙度值可使用短蝕刻時間達 成’例如，大約30秒，且相對於先前技術抗眩光製程而 言’幾乎不具有玻璃厚度損耗，例如，小於大約5微米。 與同在申請中之共同擁有且讓渡之USSN 61372655申 請案相比較，所揭示之製程可使用較低酸濃度或較短蝕 刻時間來達成高渾濁度及粗糙度值。 經由粒子退火溫度調整渾濁度、DOI、粗糙度或上述 各者之組合的能力提供用於對多個渾濁度位準使用相同 酸組合物或者降低用以達成給定渾濁度位準之酸濃度的 新的靈活性》在蝕刻之前經由粒子變形控制玻璃表面輪 扉的能力可獨立於塗佈方法（濕式或乾式）。 用以將粒子塗覆至玻璃的狹縫型擠壓式塗佈製程允許 在表面上塗佈極薄層（例如1至2層）之粒子，或在一 些例子中塗佈小於單層之粒子。此舉改良酸滲入遮罩中 之二間的此力’從而產生更有效率的钱刻、較少的酸消 耗’及較少的粒子消耗。 在同在申請中之共同擁有且讓渡之USSN 61/329,936 申請案中，藉由以下操作產生抗眩光表面：將粒子懸浮 於具有諸如流變改質劑、變形劑（deformer)、黏合劑等等 之其他組分的液態載體中，接著將液態載體塗覆（諸如 喷塗）至玻璃表面上，接著進行乾燥及蝕刻。液體中的 粒子黏合劑、流變改質劑及其他組分之組合添加了複雜 21 201228967 性並且可知害酸之強度，例如，藉由與其他成分中之一 或更多者起反應使酸弱化。本案可在無此等添加劑之情 況下完成，此舉可進-步簡化製程複雜性且降低製程成 本0 在實施例中，本案提供用於在玻璃上產生抗眩光表面 同時保留該玻璃的固有機械表面性f之濕式姓刻方法。 在此製程期間，將微粒玻璃表面曝露於化學品中，該等 化學品可使表面降解以變更負貴使可見光散射之表面粗 链度尺寸。當顯著量的行動驗離子存在於玻璃中（諸如， 驗石灰石夕酸鹽玻璃中）時，可藉由例如在諸如含氣離子 溶液之酸蝕刻劑溶液中接觸玻璃表面形成粗糙化表面。 在實施例中，製品之至少一個表面可為例如：玻璃、 複合材料、陶竞、基於塑膠或樹脂之材料，及類似材料， 或上述材料之組合。在實施例中，沉積之可變形粒子可 為聚合物粒子且或者或另外，沉積之可變形粒子可包括 例如任何合適之低熔點物質：玻璃、複合材料、陶究、 基於塑膠或樹脂之材料、金屬、鹽、黏土、聚合物、共 聚物、奈米粒子、交聯聚合物粒子、uv硬化粒子、峨 粒子，及類似材料，或上述材料之組合。在實施例中， 飯刻劑可由適合於㈣在沉積之粒子之下的表面之至少 —種酸組成。 ^ 在實施例中，玻璃表面可選自例如以下各者：至少一 種鋁矽酸鹽、鋁硼矽酸鹽、鹼石灰、硼矽酸鹽、矽=， 及類似玻璃’或上述各者之組合，並絲_可包 22 201228967 自HF、HzSO4或上述各者的組合中之至少一種酸。 或者或另外’可用濃粒子懸浮液或具有中等濃度之粒 子懸浮液完成使至少一個表面與粒子接觸。粒子表面接 觸可較佳使用任何合適之方法完成，例如，狹缝型擠壓 式塗佈、絲網印刷、羅拉刮刀塗佈（間隙塗佈）、棒塗佈、 喷塗、簾幕式塗佈，及類似塗覆方法，或上述方法之組 合。沉積之粒子可具有例如D5G直徑，該D5q直徑自大 約0.1微米至大約30微米、自大約J微米至大約3〇微 米’及自大約1微米至大約25微米，包括中間值及範圍。 在實施例中，粒徑範圍可為例如自大約〇丨微米至大約 50微米、自1微米至大約3〇微米、自2微米至大約2〇 微米，及類似粒子直徑，包括中間值及範圍。在實施例 中，粒徑性質可為例如：單模態、雙模態、三模態，及 類似模態，包括單分散、寡分散（〇Hg〇disperse)、多分散， 及類似粒徑及粒子性質，或上述各者之組合。 在實施例中，微粒表面與蝕刻劑之接觸可藉由例如將 具有沉積之粒子的表面曝露於蝕刻劑例如達自大約丨秒 至大約30分鐘（包括中間值及範圍）來完成，歷時諸如 自大約10秒至大約1 〇分鐘、自大約2〇秒至大約1分鐘， 及類似曝露或間隔。 在實施例中，製備方法可視情況進一步包括以下步 驟：例如，清洗所得蝕刻抗眩光表面；化學強化該抗眩 光表面，塗覆功能塗層或膜（例如，感光或偏光膜）或 保護性表面塗層或膜，及類似塗層或膜；或上述步驟之 23 201228967 組合。 在實施例中，當在一片玻璃上需要單側酸蝕刻或類似 改質時’可保護玻璃之一側免受蝕刻溶液之影響。可例 如精由塗覆諸如丙稀酸躐之不溶無孔塗層或具有黏著層 之層壓膜來達成保護’該黏著層例如丙稀酸、聚續氧， 及類似黏著材料’或上述材料之組合。塗層塗覆方法可 包括例如刷塗、滾塗、喷塗、層壓，及類似方法。酸蝕 刻曝露之不溶無孔保護塗層不被蝕刻製程腐蝕，並且可 容易地在钮刻之後移除。將保護膜自製品之表面移除可 使用任何合適之方法完成，諸如使保護膜與溶解液體接 觸’加熱該膜以液化且排放，及類似方法及材料，或上 述方法及材料之組合。因此，製備方法可視情況進—步 包括以下步驟：在蝕刻之前，使至少另一表面（例如， 諸如製品之玻璃片之背側的第二表面）與視情況可移除 之耐餘刻保護層接觸。 在實施例中，本案提供由本文揭示的製備製程中之任 者製備之製品，諸如由上文所提及的粒子沉積、粒子 變形、粒子表面黏著及蝕刻步驟製備之玻璃製品❶在實 施例中，可順序地、同時地、連續地、半連續地、分批 人地及以類似排列或上述排列之組合完成製備製程。 在實施例中，製品之至少一個表面可為玻璃，沉積之 粒子可為蠟，並且蝕刻劑可為至少一種酸。 在實施例中，本案提供一種玻璃製品，該玻璃製。勺 24 201228967 至少一個抗眩光表面，該表面具有： 渾濁度，該渾濁度例如自大約〇.丨至大約30，諸如自 大約0.1至大約25，自大約01至大約20，自大約〇」 至大約10，以及自大約1至大約;以及低渾濁度，諸 如自大約0· 1至大約5，以及自大約i至大約5，包括中 間值及範圍； 影像清晰度（DOI 20。），該影像清晰度（D0I 20。）例如自 大約25至大約85、自大約40至大約80、自大約45至 大約75 ’且自大約50至大約70，包括中間值及範圍； 表面粗链度（Ra)，該表面粗糙度（Ra)例如自大約5〇 nm 至大約500 nm ’且自大約go nm至大約300 nm，包括 中間值及範圍；以及 平均粗糙度峰谷輪廓，該平均粗链度峰谷輪廓自大約 0.1微米至大約10微米，包括中間值及範圍。 在實施例中’本案之具有抗眩光表面之玻璃製品可包 含形貌特徵結構分佈，該形貌特徵結構分佈具有一平均 直徑，該平均直徑大約〇. 1微米至大約1 〇〇微米、大約 〇-1微米至大約50微来、大約〇丨微米至大約3〇微米及 類似範圍，包括中間值及範圍。 在實施例中’本案提供一顯示系統，該顯示系統包括 (例如）： 玻璃面板’該玻璃面板具有至少一個粗缝化抗眩光表 面’該粗糙化抗眩光表面具有： 渾濁度’該渾濁度自大約〇· 1至小於大約3〇，包括中 25 201228967 間值及範圍； 影像清晰度（DOI 20 °)，該影像清晰度（DOI 20。）自大約 40至大約80，包括中間值及範圍； 表面粗链度（Ra)，該表面粗縫度（Ra)自大約1 〇〇 nm至 大約300 nm，包括中間值及範圍；及 平均粗链度峰谷差異輪廓，該平均粗糙度峰谷差異輪 廓自大約0.1微米至大約10微米，包括肀間值及範圍； 及 像素化影像顯示面板，該像素化影像 玻璃面板。 在實施例中，本案提供濕式蝕刻製程以在大部分矽酸 鹽玻璃上形成均勻、奈米至微米級紋理化表面，並且對 玻璃之化學強化能力不具有顯著影響。該製程包括將可 變形粒子（諸如聚合物、玻璃，或複合粒子）沉積或以 其他方式塗佈於玻璃表面上，接著進行粒子變形或表面 黏著，以及在諸如HF <多組分酸性溶液中酸性#刻微 粒表面。在實施例中’卵溶液可優先在玻璃表面上圍繞 黏著或退火粒子㈣，接著取決於條件及持續時間，可 視情況隨後使HF ;容液自敍刻表面侵钱黏著或退火粒 子，且亦可降低表面粗糙度。 在實施例中，可例如藉由調整以下參數中之至少一或 多者來獲得所要的降低之.要痒 尤澤度或眩先位準：微粒懸浮 液之黏度、在懸浮液中夕& Α θ 之粒子的含置或濃度、酸蝕刻劑 之漢度、沉積於表面上的叙 J祖子之里、使用的粒子之粒徑 26 201228967 分佈（PDS)，以及玻璃樣本之粒子承載表面與酸钱刻劑接 觸之曝路間隔或時間。在實施例中，可钱刻遮單表面， 可將遮罩表面移除’並且可將無遮罩蝕刻表面蝕刻—或 多次以例如提供該無遮罩蝕刻表面之至少一些平滑化。 在只施例中，提供抗眩光玻璃製品。該玻璃製品可為 可離子父換玻璃製品且可具有至少—個粗链化表面。粗 糖化表面具有反射影像清晰度（腦），該反 ㈣在於，之人射角下量測時⑺。時之⑽ 9〇 °亦提供包括抗眩光玻璃製品之像素化顯示系統。玻 璃製品可為例如具有在周邊由至少―個邊緣接合之兩個 主要表面之平板或面板，但是玻璃製品亦可形成為其他 形狀’諸如三維形狀。該等表面中之至少—者為粗縫化 表面’該粗Μ化表面包括例如：拓撲或形態特徵結構， 諸如突出物 '突起、凹陷、凹點、封閉或開式單元結構、 粒子、島狀物、連接盤、溝槽、裂痕、微間隙，及類似 幾何形狀和特徵結構’或上述幾何形狀和特徵結構的組 合。 在實施例中，本案提供鋁矽酸鹽玻璃製品。鋁矽酸鹽 玻璃製品可包括例如至少2莫耳％之MW3，可離子交 奐並且可具有至少一個粗棱化表面《鋁石夕酸鹽玻璃製 品可具有至少一個粗糙化表面，該至少一個粗糙化表面 包含複數個形貌特徵結構。該複數個形貌特徵結構可具 有平均特性最大特徵結構大小（ALF)，該平均特性最2 特徵結構大小（ALF)自大約i微米至大約5〇微米。 27 201228967 在實施例中’本案提供顯示系統。該顯示系統可包括 例如至少一個玻璃面板及像素化影像顯示面板，該像素 化影像顯示面板鄰近於該玻璃面板。影像顯示面板可具 有最小自然像素間距尺寸。玻璃面板之平均特性最大特 徵結構大小（ALF)可小於顯示面板之最小自然像素間距 尺寸。像素化影像顯示面板可為例如LCD顯示器、〇led 顯示器或類似顯示裝置中之一者。顯示系統亦可包括觸 敏型元件或表面。玻璃可為例如上述玻璃中之任一者， 諸如具有至少一個粗糙化表面之鋁矽酸鹽離子交換玻 璃，該粗糙化表面包括具有ALF之複數個特徵結構，並 且衫像顯示面板具有最小自然像素間距。最小自然像素 間距可例如大於玻璃面板的粗糙化表面之ALF。 ALF係在粗糙化玻璃表面之平面内（亦即，平行於粗 糙化玻璃表面）進行量測，並且因此獨立於粗糙度。ALF 為在X方向及y方向中（亦即，在粗糙化玻璃表面之平 面内）的特徵結構變化之量測。選擇最大特性特徵結構 為區別決定更全域平均的特徵結構大小之其他方法之有 用區別。最大特徵結構最易於由人眼所見且因此在決定 玻璃製品之視覺接受時最為重要。在實施例中，至少一 個粗糙化表面之拓撲或形態特徵結構具有平均特性最大 特徵結構（ALF)大小，該平均特性最大特徵結構（ALF)大 小自大約1微米至大約50微米、自大約5微米至大約 40微米；自大約10微米至大約3〇微米；並且自大約14 微米至大約28微米，包括中間值及範圍。平均特性最大 28 201228967 特徵、’·。構大小為在粗棱化表面上的視野内的二十個最大 重複特徵結構之平均橫載面線性尺寸。標準校準光學顯 微鏡通常可用以量測特徵結構大小。視野與特徵結構大 小成比例，並且通常具有大約3〇 (ALF)x3〇 (ALf)之面 積。若例如ALF為大約10微米，則選擇二十個最大特 徵結構所自之視野為大約300微米x300微米。視野大小 的較小改Μ會顯著影響ALF。^決定ALF之二十個 最大特徵結構的標準差大體上應小於平均值之大約 4〇/〇亦即，應忽略大的異常值，此係因為不將該等大 的異常值視為「特性」特徵結構。 沉眩光表面之形貌可包括例如諸如突起或突出物、c 陷之特徵結構’以及類似特徵結構，該等特徵結構具肩 小於大約400 nm之最大尺寸。尤眘a 上 例中’此等㈣ 徵、.4可以自大約10 nm至高達大約2〇〇⑽之平均迫 離彼此分離或隔開。所得抗眩光表面可具有平均粗相 ^如藉由表面上的峰谷差（pv)量測所量測。在實施你 ，抗眩光表面可具有大約8〇〇 nm、大約5〇〜以及 大約100 nm之RMS粗糙度。 用以計算ALF之特徵結構為「特性」，亦即，至少二 十個類似特徵結構可位於比例視野中。不：- 結構可一來特徵化。例如，-個表面結 為封閉單元重複結構，另—表面結構可呈現為由大 離的过點並且第二表面結構可呈現為由間歇 ’大的平滑區域標示的小的.粒子域 ^ 例子中，藉 29 201228967 由量測實質上光學平滑的二 下1固最大重複表面區域決定 ALF。在重複封閉單元表面結構之例子中，待量測之特 徵結構為封閉單元矩陣中的單元中之最大單元。對於包 含由大的平坦區分離的小 u點之表面結構，應量測在凹 點之間的大的平J：曰區。斜^ 一 』卞一 對於包含由間歇的大的平滑區域 標不的小的粒子域的矣& ’應夏測間歇的大的平滑區 域。因此可使用ALF # 1女& # 使具有實質上變化的形態之所有表 面特徵化。 在實施例中，玻璃製品之至少一個粗链化表面具有平 均麵s粗链度，該平均_粗趟度可自大約ι〇_至 大約刪nm’自大約4〇 nm至大約5〇〇 nm，以及自大 約nm至大約300 nm。在實施例中，平均趣粗糙 度可大於約i〇nm且小於ALF之大約1〇%、大於約i〇nm 且小於ALF之大約5%，且大於約1〇nm且小於alf之 大約3 %。 低DOI及高R〇s/Rs之規格對特性特徵結構大小及 ALF提供了約束。對於給定粗糙度位準，已發現，較大 特徵結構大小產生較低DOI及較高R0s/Rs。因此，為了 平衡顯示閃光與D0I目標，在實施例中，可能需要產生 中間特性特徵結構大小既不過小也不過大的抗眩光表 面 §透射渾濁度散射成可使粗趟化製品在周圍照明下 產生乳白色外觀的非常高的角度時，亦需要使反射或透 射渾濁度最小化。 根據ASTMD1003，「透射渾濁度」、「渾濁度」或類似 30 201228967 術語代表透射光散射至±4.0 °之角度圓錐體之外的百分 比。對於光學上平滑表面，透射渾濁度大體上接近於零。 根據方程式（2)的近似’在兩側上粗链化的玻璃片之透射 渾濁度（//—αζΑ-ί,ώ)可與僅在一側上粗糖化的具有等效表 面之玻璃片之透射渾濁度（//ozeL)有關： ^^-su^^-Haz^yHaze^+Haze^ ( 2 ) 通常依據百分比渾濁度報告渾濁度值。來自方程式（2) 的极油的值必須乘以1〇〇。在實施例中，所揭示之玻 璃製品可具有一透射渾濁度，該透射渾濁度小於大約 5 0%並且甚至小於大約3〇%。 已使用多步驟表面處理製程以形成粗糙化玻璃表面。 在2009年3月31日Carlson等人申請、標題為「Glass Having Anti-Glare Surface and Meth〇d 〇fMakingj 之共 同擁有之同在申請中的美國臨時專利申請案第 61/165,154號中揭示多步驟蝕刻製程之實例其中用第 d劑處理玻璃表面以在表面上形成晶體，接著將鄰 近於晶體中之每一者的表面之區域蝕刻至所要之粗糙 度’接著將晶體自玻璃表面移除，並且降低玻璃製品之 表面的粗糖度以為該表面提供所要之渾濁度及光澤度。 在實施例中，可在粒子懸浮液、钱刻溶液或粒子懸浮 ，、蝕刻冷液兩者中包括各種效能增強添加劑，該等效 此增強添加劑包括例如界面活性劑 '共溶劑、稀釋劑、 們'月劑、凝膠劑，及類似添加劑或該等添加劑之組合。 31 201228967 使微粒表面與蝕刻劑接觸可涉及例如用酸性蝕刻溶液 進行的選擇性部分或完全浸潰、喷霧、浸没及類似處理 或處理之組合，其中酸㈣刻溶液包括例如2重量％至 1〇重量。/。之氫敗酸及2重量％至3〇重量％之無機酸，諸 如鹽酸、硫酸、確酸、磷酸，及類似酸或該等酸之組合。 可在溶液中㈣玻璃表面達自大約1秒至大約Μ分鐘的 時段，包括中間值及範圍，其中較長的時間大體上導致 表面粗糙度的較大減少。所揭示之濃度及蝕刻時間表示 合適實例。雖然可能較不有效率，但是在所揭示之範圍 外的濃度及_時間亦可用以獲得玻璃製品之粗糖化表 面。其他姓刻濃度可為·仓丨l

又 J 马.例如 3 M HF/3.6M H2S04、5.5M HF/6.5M H2S04、61Vf Mm ττ 4 6MHF/7MH2S〇4,及類似蝕刻濃度及 組合物’包括中間值及範圍。 在化子強化中，用罪近玻璃表面的較小行動驗離子交 換較大驗金>1料。此離子交換製料玻璃表面置於受 壓縮中從而允許玻璃表面更能耐受任何機械損傷。在 實她例申I璃製品之外表面可視情況進行離子交換， 其中可用具有與較小離子相同原子價的較大金屬離子置 換或乂換較小金屬離子。例如’可藉由將玻璃浸沒於含 卸離子的溶融鹽浴中而用較大鉀離子置換玻璃中的納離 子用較大離子置換較小離子在層内產生壓縮應力。在 實1J中T例如藉由將玻璃加熱至高於玻璃應變點的 溫度而用較小離子置換靠近玻璃之外表面的較大離子。 #^至低於應變點的溫度之後，在玻璃之外層中產生 32 201228967 壓縮應力。可視情況在表面粗糙化處理之後執行玻璃之 化學強化，其中對離子交換行為或玻璃製品之強度幾乎 不具有負影響。 在實施例中，本案提供一種用於製造抗眩光表面之方 法，該方法包括以下步驟：例如，諸如使用液體懸浮液 或菸塵搶用粒子使表面「微粒化」（亦即，填入），使微 粒變形或黏著至表面，使用合適之蝕刻劑蝕刻黏著微粒 表面，對該#刻表面進行離子交1，並纟視情況完成進 一步處理以降低令人不愉快的表面缺陷（亦即，缺陷減 少）。或者或另外，可對表面進行離子交換、用粒子使表 面微粒化、將粒子黏著至表面、用蝕刻劑蝕刻表面，且 視情況進行缺陷減少處理。 參看諸圖，第1圖示意性圖示在G〇RILL A®玻璃表面 上產生抗眩光層之製程中的步驟。使具有自大約〇1微 米至大約20微米之平均粒徑的蠟粒子或類似可變形粒 子懸浮於諸如異丙醇之合適液體中，並且可將所得懸浮 液沉積（100)(例如，狹縫塗佈）至玻璃基材上’並且移 除溶劑以留下微弱黏著於玻璃基材（11〇)上的殘餘蠟粒 子層（105)。接著，可將樣本浸潰或浸沒於酸蝕刻（12〇) 浴中。HF/H2S〇4餘刻劑侵钱圍繞蠟粒子之區域並且最 終基蝕由個別粒子覆蓋之區域。在沖洗步驟（12〇)期間或 之後，可將蠟粒子自基材表面釋放，以在具有抗眩光性 質之玻璃基材上產生紋理化表面（13〇)。第j圖圖示在使 用狹缝型擠壓式製程中如何在例如G〇riUa®玻璃表面上 33 201228967 產生抗眩光層的一般製程。首先使粒子懸浮於諸如異丙 醇或類似液體之液體中，接著將懸浮液狹缝型擠壓式塗 佈至玻璃基材上。可藉由例如蒸發、真空、熱空氣及類 似手段之任何合適手段將溶劑移除’從而在玻璃表面上 留下一粒子薄層。用熱空氣或類似手段將溶劑移除可充 分且足夠有效率地將可變形粒子在小範圍'中等範圍或 大範圍上黏著至玻璃表面。接著，可將樣本例如浸潰於 HF/H2S〇4蝕刻劑浴中。酸侵蝕圍繞粒子之區域，並且最 終基蝕一些或所有粒子之區域。在沖洗期間，一些或實 質上所有粒子離開玻璃表面，從而留下蝕刻表面以在製 品上提供抗眩光層或抗眩光表面。 第2圖圖示狹缝型擠壓式塗佈於G〇riu一玻璃表面上 之蠟粒子的實例顯微影像。許多實驗表明：均勻沉積於 玻璃表面上的蠟粒子在粒子之間提供微小的開口、空隙 或間隙。 第3圖圖不第2圖之G〇riUa®玻璃表面隨後在乃。〇下 經熱處理達60秒的實例顯微影像。粒子變形且熔融在一 起並且良好地黏著至玻璃表^可將實質上較多數目的 微開口視為遮光區域。 第4A圖及第4B圖分別圖示在對玻璃樣本狹缝型擠壓 式塗佈以蠟粒子調配物且接著將玻璃樣本在1〇6。(：下熱 (退火）達30秒後，在實例蝕刻表面之兩種不同放 大倍數下的顯微影像。第4A圖圖示200微米級且第4B 圖圖不100微求級。使用的飯刻溶液為5.5 M HF/6.5 Μ 34 201228967 H2S〇4，並且將樣本蝕刻達30秒。所得表面之量測之光 學性質為：渾濁度=39且D〇I=44，閃光=5」。 第5A圖及第5B圖分別圖示在塗佈且於1〇6艽下熱處 理達30秒且接著30秒蝕刻時間之後在蝕刻試樣之表 面粗糙度的高放大倍數下（第5A圖）及低放大倍數下 (第5B圖）之表面分析影像。使用兩個不同光學物鏡 (20X及10X)俘獲相同區域。在2〇χ下用縮放俘 獲Ra=82nm，並且在10Χ下用IX縮放俘獲Ra=245 nm。 用「6/7」酸溶液（亦即，酸莫耳濃度比為：6mhf/7m HzSO4)達30秒獲得蝕刻表面。 第6A圖及帛6B圖分別圖示狹缝型擠壓式塗佈於 Gorilla玻璃表面上之粒子在於75π下經熱處理達秒 之引及之後的示例性顯微影像。所俘獲之影像位置在第 6Α圖及第6Β圖中為相同位置，以圖示在於下熱處 理具有微小開口的蠟粒子表面達30秒之前（第6Α圖頂 部）及之後（第6Β圖底部）的表面。 第7Α圖及帛7Β圖分別圖示狹縫型擠壓式塗佈於 Gorilla玻璃表面上之粒子在於下經熱處理達秒 之⑴及之後的不例性顯微影像。俘獲之影像位置在第 圖及第7B圖兩者中為相同位置’以圖示藉由S 115。。下 加熱引起的粒子表面變形達3〇秒之前（7a，頂部）及 之後（7B ’底部）的表面外觀及狀態。 第8A圖圖不直太[gj ^ ^ 圖該直方圖表示由雷射光散射量 測的實例1之示例性粒子懸浮液調配物的粒徑分佈之實 35 201228967 例。第8 B圖圖示吉太同 ·

圖’該直方圖表示由DEUREX MM 8〇15壤粒子組成之示例性單模態粒子懸浮液調配物之 粒徑分佈的另—實例„「％chan」代表在平均粒徑通道 或分組内的粒徑分佈之相對數百分比，平均粒徑通道或 分組例如6_0+/·0.5微米。聚合物粒子分佈輪廓具有雙模 態特性，該雙模態特性實質上在大約2微米與20微求之 間並且以大約8微米至1〇微米之粒徑定中心。其他合適 之粒徑可為：例如，〇·5微米至大約20微米，包括中間 值及範圍。使用大於約2G微米之粒徑可產生閃光增加的 餘刻表面。 所揭示之蝕刻方法可迅速地例如用自大約丨秒至大約 10分鐘、自大，約i秒至大約5分鐘（包括中間值及範 圍），諸如用自大約2秒至大約4分鐘完成，以在玻璃表 面上產生抗眩光層。習知多浴方法可能需要大約6〇分鐘 或60分鐘以上。所揭示之蝕刻方法使用單個化學蝕刻劑 浴（例如，HF及HjO4)，而不是在習知製程中使用的 三個或三個以上浴。 在實施例中，所揭示之方法可蝕刻掉例如自大約i微 米至大約50微米之正被蝕刻的基材（亦即，至基材之平 面或Z方向中）、自大約i微米至大約3〇微米之基材、 自大約1微米至大約20微米之基材、自大約1微米至大 約10微米之基材（包括中間值及範圍），以產生所要之 抗眩光層。與此相反，習知蝕刻製程通常可移除大約1〇〇 微米至大約200微米之玻璃表面。因為使用所揭示之方 36 201228967 法相對幾乎不自玻璃基材損失玻璃，所以玻璃可具有小 於大約250微米之最大觀曲。習知玻璃钱刻製程可產生 具有例如大約300微米或300微米以上之輕曲的破璃表 面。 使用所揭示之製程製備的樣本在與使用習知製程钱刻 之樣本相比時，顯示類似光學性質（例如，渾濁度光 澤度及影像清晰度（D〇I))，但是本發明方法及樣本之優 點在於在製程時間及成本中有實質減少。所揭示之製程 易於放大用於大型零件，諸如一平方公尺及一平方公尺 以上的玻璃’而習知浸潰製程較不易於縮放用於較大 一 翠兀。 利用適當設計選擇，所揭示之製程不需要背側保護以 製造單側樣本。可制例如單側浸潰、喷塗、絲網印刷 或旋塗方法製備單側樣本。多浴習知製程需要背側保護 膜，該背側保護膜可能進一步增加製造成本。 在實施例中，玻璃製品可包含以下各者中之一者、基 本上由以下各者中之—者組成或由以下各者中之一者組 成：鹼石灰矽酸鹽玻璃 '鹼土紹矽酸鹽玻璃、鹼铭矽酸 鹽玻璃、鹼硼矽酸鹽玻璃’及上述玻璃的組合。在實施 例中，玻璃製品可為你丨心目士 八有以下組合物的驗銘石夕酸鹽 玻璃· 6 0 - 7 2莫耳％之$; 〇 · Λ 兴斗/。之 S1〇2，9-16 莫耳 ％之 Al2〇3 ; 5_12 莫耳％之Β2〇3，8_16莫耳％之仏2〇 ;及〇 4莫耳％之 κ20，其中比率 、 37 >1 >1201228967 从03(莫^ 2^檢性金屬改質巧 其中臉金屬改質劑為驗金屬氧化物。在實施例中，驗 鋁矽酸鹽玻璃基材可為例如：61_75莫耳％之si〇2; 7_15 莫耳％之Al2〇3 ; 0-12莫耳％之b2〇3 ; 9 21莫耳％之 Na20 ; 0-4莫耳％之κ20 ; 〇-7莫耳％之Mg〇 ;及〇_3莫 耳％之CaO。在實施例中，鹼銘矽酸鹽玻璃基材可為例 如：60-70 莫耳 ％之 Si02 ; 6-14 莫耳 ％之 Al2〇3 ; 〇_15 莫 耳％之 B2〇3 ; 0-15 莫耳 ％之 u2〇 ; 0_20 莫耳 ％之 Na2〇 ; 0-10莫耳％之K20 ; 0-8莫耳。/。之Mg〇 ; 〇1〇莫耳％之 CaO ; 0-5莫耳％之Zr02 ; 〇-1莫耳％之Sn〇2 ; ο」莫耳％ 之 Ce02;小於 50 ppm 之 As2〇3;及小於 5〇 ppm 之 Sb2〇3; 其中12莫耳Li2〇+Na2〇+K2〇S 20莫耳％且0莫耳％ S MgO+CaO $ 1 〇莫耳％。在實施例中，驗鋁矽酸鹽玻璃 基材可為例如：64-68莫耳％之si02 ; 12-16莫耳％之 Na20 ; 8-12 莫耳 ％之 a1203 ; 0-3 莫耳 ％之 B2〇3 ; 2-5 莫 耳〇/。之K20 ; 4-6莫耳％之MgO ;以及0-5莫耳％之CaO， 其中：66 莫耳 ％ $ Si02+B203+Ca0 S 69 莫耳0/〇 ; Na2〇+K20+B203+Mg0+Ca0 + Sr0>10 莫耳。/。； 5 莫耳％ SMgO + CaO + SrO$8 莫耳％; (Na20+B203)-Al203 $2 莫耳％ ; 2莫耳Na20 — A1203 S 6莫耳％ ;以及4莫耳 °/〇‘（Na20+K20) — A1203S 10 莫耳。/〇。在實施例中，驗鋁 矽酸鹽玻璃可為例如：50-80重量％之Si02 ; 2-20重量％ 38 201228967 之 Al2〇3; 0-15 重量 ％之 B2〇3; 1-20 重量 ％之 Na2〇; 0-10 重量％之Li20 ; 0-10重量％之K20 ;以及0-5重量％之 (MgO+CaO+SrO+BaO) ; 0-3 重量 ％之（SrO+BaO);以及 0-5 重量。/〇 之（Zr02+Ti02)，其中 0S(Li2O+K2O)/Na2Og 0.5。 在實施例中，鹼鋁矽酸鹽玻璃可為例如實質上無鋰。 在實施例中，鹼鋁矽酸鹽玻璃可為例如實質上無砷、銻， 鋇或上述物質的組合中之至少一者。在實施例中，可視 情況利用0至2莫耳％之至少一種澄清劑批次處理玻 璃’澄清劑諸如 Na2S04、NaCl、NaF、NaBr、K2S04、 KC1、KF、KBr、Sn02，及類似物質或上述物質之組合。 在實施例中，選定之玻璃可為例如可向下拉製之玻 璃’亦即’可藉由諸如在此項技術中已知的狹缝拉製或 熔融拉製製程之方法形成β在此等例子中，玻璃可具有 至少13 0 kpoise之液體黏度。鹼鋁矽酸鹽玻璃之實例描 述於以下各申請案中：Emson等人申請於2007年7月 31 日、標題為「Down-Drawable，Chemically Strengthened

Glass for Cover Plate」之共同擁有且讓渡之美國專利申 凊案第11/888,213號’該申請案主張來自申請於2007 年5月22曰的美國臨時申請案第60/930,808號的優先 權；Dejneka等人申請於20〇8年U月25曰、標題為 「Glasses Having Improved Toughness and Scratch

Resistance」之美國專利申請案第i2/277,573號，該申 請案主張來自申請於2007年丨丨月29曰的美國臨時申請 39 201228967 案第61/004,677號之優先權；Dejneka等人申請於2009 年 2 月 25 日、標題為「Fining Agents for Silicate Glasses」 之美國專利申請案第12/392,577號，該申請案主張來自 申請於2008年2月26曰的美國臨時申請案第61/067,130 號之優先權；Dejneka等人申請於2009年2月26曰、 標題為「Ion-Exchanged, Fast Cooled Glasses」之美國專 利申请案第12/393,241號，該申請案主張申請於2008 年2月29曰的美國臨時申請案第61/〇67,732號之優先 權；Barefoot等人申請於2009年8月7日、標題為 「Strengthened Glass Articles and Methods of Making」 之美國專利申請案第12/537,393號’該申請案主張申請 於 2008 年 8月 8 日的標題為「chemically Tempered Cover Glass」之美國臨時申請案第61/〇87,324號之優先權； Barefoot等人申請於2009年8月21日、標題為「Crack and Scratch Resistant Glass and Enclosures Made Therefrom」之美國臨時專利申請案第61/235 767號；以 及Dejneka等人申請於2009年8月21日、標題g「Zirc〇n Compatible Glasses for Down Draw」之美國臨時專利申 請案第61/235,762號。 描述於以下實例中的玻璃表面及玻璃片可為任何合適 的可塗佈粒子及可蝕刻玻璃基材或類似基材，並且可包 括例如列於表1中的玻璃組合物1至玻璃組合物1丨，或 上述玻璃成分之組合。 表1.代表性玻璃基材組合物 40 201228967 玻璃 > 氧化 物（莫耳 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 Si〇2 66.16 69.49 63.06 64.89 63.28 67.64 66.58 64.49 66.53 67.19 70.62 Al2〇3 10.29 8.45 8.45 5.79 7.93 10.63 11.03 8.72 8.68 3.29 0.86 Ti〇2 0 - 一 0.64 0.66 0.056 0.004 - 0.089 NazO 一· 14 14.01 15.39 11.48 15.51 12.29 13.28 15.63 10.76 13.84 13.22 κ2ο 2.45 1.16 3.44 4.09 3.46 2.66 2.5 3.32 0.007 1.21 0.013 Β2〇3 0.6 1.93 - 1.9 _ 0.82 - 2.57 _ Sn02 0.21 0.185 - - 0.127 • 0.028 - 一 Ba〇 0 - - - _ 0.021 0.01 0.009 _ As2〇3 0 - - - 0.24 0.27 - 0.02 . Sb2〇^ - - 0.07 - 0.015 _ 0.038 0.127 0.08 0.04 0.013 CaO 0.58 0.507 2.41 0.29 2.48 0.094 0.07 2.31 0.05 7.05 7.74 Mg〇 5.7 6.2 3.2 11.01 3.2 5.8 5.56 2.63 0.014 4.73 7.43 Zr〇2 0.0105 0.01 2.05 2.4 2.09 . 1.82 2.54 0.03 0.014 LijO 0 - - - 11.32 Fe2〇3 ---— Sr〇 0.0081 0.008 0.0083 0.008 — --- 0.0083 0.0099 0.0082 0.0062 0.0035 0.0042 0.0048 - 0.029 - - - - - - - 實例 實施例進一步描述方法以及如何製造本案之製品。 實例1 粒子懸浮液之製備。該實例為用於完成本發明方法之 一不例性程序。如何塗佈、熱處理、接著蝕刻玻璃之步 驟描述如下。使用去離子（DI)水中大約4%之洗滌劑在洗 滌器中清洗23 1 8玻璃（6 r x6」）樣品。接著將清洗的玻 璃片放在平表面上，並且將33 33重量％之DEUREX ME 1519蠟粒子稱重放入至容器中且添加66 64重量％之2_ 丙醇。DEUREX ME 1519蠟粒子可購自德國之DEUREX Micro-Technologies (www.deurex.com)。在 60%之功率位 準下於厌以一”…聲學混合器上處理容器歷時五分鐘。 由雷射光散射量測之所得粒徑分佈圖示於第8A圖中。 41 201228967 若在使用之如連續滚動/辰懸浮液，則濃懸浮液可在無進 一步改質之情況下直接使用或可儲存例如達大約1週。 實例2 微粒表面之製備-塗佈或沉積粒子懸浮液。此實例為用 於將躐粒子懸浮液塗佈或沉積於玻璃表面上的示例性程 • 序。實例1之粒子懸浮液係使用1密爾（2 5微米）塗佈 . 棒（drawdown bar)手工塗佈至玻璃片上。 使揮發性液體或溶劑在空氣中蒸發或使用加速乾燥法 蒸發，諸如真空、適度加熱，或上述方法的組合。蠟微 粒之殘餘表面層部分地保護玻璃基材表面之底層或支撐 部分，以便在酸蝕刻期間不蝕刻掉所有基材。微粒懸浮 液製備可包括例如兩步製程，該兩步製程包含例如：製 備濃縮庫存懸浮液，且接著在表面塗覆之前，可藉由添 加（稀釋）可容易地在塗覆之後蒸發的揮發性液體降低 濃縮物之濃度或減低濃度。在實施例中，稀釋懸浮液在 例如幾天至幾週的一段時期保持穩定，並且可藉由滾動 或搖動而重新懸浮。 以下為示例性手工塗佈程序。 將少量（1 mL)粒子懸浮液傾倒至玻璃樣本上。使用25 微米間隙塗佈棒將傾倒的粒子懸浮液自玻璃樣本之一端 拂掠至另一端。具有25微米潮濕厚度之薄膜保留在玻璃 上。 塗佈側向上，將玻璃置放於熱板裝置上，例如在75。(： 下達40秒。 42 201228967 在熱處理之後，接著將樣本浸潰於含有酸性溶液的姓 刻劑浴中，該酸性溶液具有例如達例如3〇秒之特定時門 的5.5MHF/6.5MH2S〇4之比濃度。接著，將所得钱刻樣 本自酸浴移除並且沖洗。若存在任何犧粒子遮罩殘餘 物，則可使用可選有機溶劑沖洗劑。例如，丙㈣_ 溶劑尤其可用於移除許多不同類型之聚合物粒子。允許 試樣在量測蝕刻樣本之渾濁度、閃光及D〇i之前乾燥。 可選擇用於塗覆粒子之不同方法。例如，可喷塗簾 幕式塗佈、絲網印刷、浸潰塗佈、旋轉塗佈粒子懸浮液， 使用滾筒、棒塗佈、滾筒塗佈及類似方法或上述方法之 組合塗覆粒子懸浮液。本案中之許多實例係使用狹縫型 擠壓式塗佈方法製備，該方法具有若干生產及生產率優 點。狹缝型擠壓式塗佈技術之優點為可精確控制塗層厚 度。在塗佈及熱處理之後，在表面保留非常薄的粒子層 (僅具有大約1層至2層，或在一些例子中小於完整單 層）。此類型之塗佈改良了酸滲透或滲入粒子塗佈遮罩中 之空間的能力，從而產生例如更有效率的蝕刻、較少的 酸消耗’及較少的粒子消耗。其他製程改良包括：例如， 藉由調整玻璃或粒子性質、粒子濃度、表面電荷特性或 上述各項之組合，使粒子與玻璃表面之間的交互作用最 佳化。在實施例中，較佳濕式塗佈方法僅將大約1至2 個粒子層，乃至小於一單層塗覆至玻璃表面。表2展示 各種熱設定點同時保持熱處理時間相同之實例。使用相 同酸钱刻劑濃度。 43 201228967 表2 粒徑（微 加熱溫 加熱時 酸濃度 餘刻時 DOI 渾濁度 米） 度(。〇 間（秒） 間（秒） ~~〜| 閃光 100— -- ~~65~ - 1 -- 102 7.4 5.9 卜104 53 12.3 6.1 50%<6; 99%<19 106 37 28.4 5 108 30 6MHF 30 26 44 6.5 7MH2S04 26 45.6 110 26 58.5 視覺等 ^--------- 級<6 隨著處理溫度增加，更多粒子溶融在一起並且對玻璃 表面有更強的黏著’且因此允許酸㈣至玻璃中更多。 當渾濁度位準增加並且D0I變得較低時可清楚地在表 1中表明此情況。當在低溫下進行熱處理時，粒子不會 熔融在一起並且對玻璃之黏著不良。可容易地將粒子自 表面清洗掉或藉由酸快速地基蝕粒子。此情形產生高 DOI及低渾濁度值。 即使在HF/H2S04溶液中的姓刻時間非常短，亦達成 具有良好D0I之高至非常高的渾濁度目標。閃光非常低 並且經由許多觀察者判斷抗眩光外觀特性很優良。此情 形β楚地表明使用聚乙埽躐粒子調配物作為遮罩層提供 優越光學效能。 表3展示使用聚乙稀蟻粒子在G〇ri〗ia®玻璃上產生抗 眩光層的更多實例。在不同溫度下熱處理樣本，並且將 樣本蝕刻達較短時間。表3中之結果展示：當使用較短 44 201228967 姓刻時間時，DOI上升同時保持渾濁度及閃光相似。此 情形表明靈活性及更少的玻璃厚度損耗。 粒徑（微 加熱溫度 1 1 .. 加熱時 米） (°C) 間（秒） 酸濃度 100 102 104 50%<6; 99%<19 106 6MHF 108 30 7M 110 h2so4 蝕刻時 間（秒）

DOI 65 60 42 26 渾濁度 閃光 10 15 20 25 "45" 26 46 26 58 5.8 5.6 5.2 5.9 5.9 視覺等 級<6 表4展示使用低分子量聚乙烯蠟粒子在G〇r⑴一玻璃 上產生抗眩光層的更多實例。在不同溫度下加熱樣本並 且在較被酸濃度下蝕刻樣本。利用較低酸濃度，仍達成 具有優良閃光之高渾濁度至非常高渾濁度。預期，可藉 由例如調整粒子加熱溫度、加熱時間、粒子濃度、蝕刻 溫度、塗層厚度、蝕刻時間或上述各者之組合而使用甚 至更低的酸濃度達成相似結果。 表4 45 201228967 粒徑（微 米） 加熱溫 度(。。） 加熱時 間（秒） 酸濃度 蝕刻時 間（秒） DOI 渾濁度 閃光 100 71 6.8 5.4 102 70 7.4 5.2 104 5.5M HF 6.5M h2so4 57 19 5.4 50%<6; 106 30 30 1 5.6 99%<19 108 30 30 29 32 5.3 _ 110 26 51 視覺等 級<6 所使用之粒子係基於低分子聚乙烯粒子，具有相對較 低Tg。可選擇具有與聚合物粒子之Tg約略成比例的退 火溫度之廣泛多種替代聚合物粒子。其他聚合物粒子材 料之實例包括例如：聚苯乙烯、聚酯、聚烯烴、聚氣乙 稀、聚醋酸乙稀酯、聚乙烯醇、聚丙稀腈、聚石夕氧、聚 乙烯、三聚氰胺、（甲基）丙烯酸酯、聚對苯二甲酸乙二 醇醋。該等粒子可為均聚物、共聚物，或上述物質之混 合物。可使用諸如交聯之表面處理、溫度或輻射敏感性 设以及類似改質或上述改變之組合來改質珠粒。粒子可 為交聯或非交聯的’並且可使用由塑膠組成之球狀或平 坦化之精細粒子外觀造型規格。其他合適之替代材料包 括例如蠟或具有蠟類特性之聚合物，並且在達成本案之 特徵結構及態樣中尤其有效。蠟之類別可為例如基於植 物、礦物或動物之蠟，包括石油衍生蠟及合成蠟。一些 實例蠟包括芥酸醯胺、硬脂醯胺、油醯胺、褐煤蠟、氧 化聚乙烯、含有此等組合之共聚物，以及具有一聚合物 46 201228967 之核心與一不同聚合物之外殼的粒子及其他類似材 料。可基於各種考慮選擇其他聚合物粒子類型該等考 慮包括成本、易於移除或酸性溶液中之堅固性。 不需要限制聚合物粒徑。對於顯示應用中的抗眩光表 面，大體需要的粒徑範圍可為例如自大約i微米至大約 5〇微米’包括中間值及範圍。低於此_，亞波長效應 可降低抗眩光散射；高於此範圍，不可接受的顯示‘閃 光可在一些像素化顯示器中變得可見。然而，仍咸信， 所揭示之製程適用於使用在此範圍之外的粒徑。例如， 狹縫型擠壓式塗佈法可用以產生好粒子層，並且藉由 在钱刻之則加熱粒子遮罩控制最終玻璃粗链度。大於 微米之粒子可用於非顯示應用，諸如用於鼠標墊或其他 觸摸式輸入裝置、非像素化顯示器之抗眩光表面，及類 似應用。小於大約i微米之聚合物粒子可用於產生奈米 結構化表面，例如梯度指數抗反射塗層或疏水性或疏油 性結構化表面。可受益於所揭示之方法的其他非顯示應 用係在玻璃上產生光散射表面，玻璃包括用於改良光捕 集或光吸收之光電面板，以及用於電器設備或架構應用 之美學面板或蓋件。 實例3 微粒表面之製備。根據表5中列出的條件狹缝型擠壓 式塗佈DEUREXMM 8015，其中S-間隙（um)為以微米計 的起始狹縫傾倒尺寸，C-間隙（um)為以微米計的塗層間 隙狹縫尺寸，水平延遲及垂直延遲為時間延遲，且Liq 47 201228967

Trig (mm)為在於塗層執行結束時狹縫型擠壓式泵關閉 時的尺寸。表6提供蝕刻條件及結果。 表5.狹缝型擠壓式塗佈條件 寬度 (mm) 目標潮濕 (微米） mm/ 秒 ml/ 分鐘 S-間隙 (um) C-間隙 (um) 水平 延遲 垂直 延遲 Liq Trig 149.225 13 50 5.82 90 90 0.1 0.1 4 表6.蝕刻資料 粒控分佈 及性質 (微米） 加熱溫 度(。。） 熱處理時 間（秒） 酸濃度 蝕刻時 間（秒） DOI 渾濁度 閃光 50% <5 um 99%<15 um 69 30 5.5M HF 6.5M h2so4 30 27 42 5.5 實例4 混合微粒表面之製備。可將DEUREX MM 8015材料 或類似材料（若需要）與其他微粒材料或其他效能添加 劑（例如，蠟粒子與聚合物粒子之混合物）混合。用如 上相同狹缝型擠壓式裝置塗佈粒子懸浮液。如上製備 DUEREX粒子懸浮液。根據表7中列出的調配物製備例 如PMMA或類似聚合物或共聚物（諸如，曱基丙烯酸曱 酯與乙二醇二曱基丙烯酸酯之共聚物）之聚合物粒子懸 浮液。或者，可自調配物中省略例如黏度改質劑、黏合 劑或分散劑中之一或更多者。 48 201228967 表7.代表性聚合物粒子懸浮液調配物 調配物組分(重量％) 1 2 3 介質80 863溶劑混合物1 11.48 11.48 11.48 乙醇 70.86 70.86 70.86 Disperbyk2 0.31 0.31 0.31 BYK 4203 2.04 2.04 2.04 聚合物粒子（8微米） 15.28 聚合物粒子（12微米） 15.28 聚合物粒子（20微米） 15.28 總計 100 100 100 1 ·介質80 683 (來自Ferro之黏合劑；混合溶劑中8% 的纖維素衍生物；大約40重量％之變性乙醇，大約60 重量％之乙二醇一甲基醚）。 2 ·來自Byk Chemie之Disperbyk為叛酸共聚物濕潤及 分散添加劑。Disperbyk本來用於此等調配物中。 3. 來自Byk Chemie之Byk 420為.由N-甲基°比洛咬酮 中的改質尿素組成的搖溶性流變改質劑。 4. 聚合物粒子為賭買自Sekisui Products LLC之曱基 丙烯酸甲酯與乙二醇二曱基丙烯酸酯之共聚物。 其他聚合物粒徑、粒子組合物、將具有相同或不同組 合物之兩種或兩種以上粒徑混合在一起或玻璃基材可涉 及額外或進一步調配物處理，以產生在完成製品中具有 所要之粗糙度、渾濁度位準及D0I性質的完成基材。 49 201228967 藉由將90重量％之DEUREX蠟懸浮液與10重量％之 聚合物粒子懸浮液組合製備混合懸浮液，並且將混合懸 浮液置放於滾筒上達大約一小時以提供均勻混合物。接 著，用如上相同裝置狹缝型擠壓式塗佈混合物。接著， 將粒子塗佈之樣本在75°C下加熱達45秒，且接著進行 化學蝕刻。表8列出所使用之蝕刻條件及所得抗眩光玻 璃之性質。此實例表明將交聯聚合物粒子添加至 DEUREX材料可在所得抗眩光Gorilla®玻璃中提供良好 光學性質。 表8混合粒子遮罩蝕刻資料。 粒徑（微 米） 加熱溫 度(SC) 熱處理時 間（秒） 酸濃度 蝕刻時 間（秒） DOI 渾濁度 閃光 90% DEUREX 8015 及 10% PMMA1 75 45 5.5MHF 6.1MH2S04 30 40 25 63 75 5.5MHF 6.5MH2S04 43 30 6.1 1 .PMMA為具有大約5微米之平均直徑之交聯聚甲基 丙烯酸曱酯聚合物粒子。 【圖式簡單說明】 在本案之實施例中： 第1圖圖示在玻璃表面上製造抗眩光層之方法之示意 圖。 第2圖圖示狹缝型擠壓式塗佈於Gorilla®玻璃表面上 之蠟粒子的實例顯微影像。 50 201228967

數下的顯微影像。 riUa玻璃表面隨後在75°C下 微影像。

示在對玻璃樣本狹縫型擠壓 且接著將玻璃樣本在106°C 表面之兩種不同放大倍 第5A圖及第5B圖分別圖示在塗佈且於l〇6<t下熱處

(第5B圖）之表面分析影像。 第6A圖及第6B圖分別圖示狭缝型擠壓式塗佈於 Gorilla®玻璃表面上之粒子在於8〇艺下經熱處理達4〇秒 之前及之後的示例性顯微影像。 第7A圖及第7B圖分別圖示狹缝型擠壓式塗佈於 Gorilla®玻璃表面上之粒子在於1〇yc下經熱處理達3〇 秒之前及之後的示例性顯微影像。 第8A圖及第8B圖圖示表示示例性粒子懸浮調配物之 粒徑分佈的實例之直方圖，該粒徑分佈由雷射光散射量 測。 【主要元件符號說明】 !〇〇 步驟 105 步驟 110 玻璃基材 120 酸姓刻浴 13 0 紋理化表面 51

Claims (1)

1. 201228967 七、申請專利範圍： 之方法，該方法包 1. 一種製造具有一抗眩光表面之一製 含以下步驟： 之—部分 將可變形粒子沉積於該製品之至少一個玻璃表面 上； 使該表面上之該等沉積之可變形粒子變形以將該等粒子黏 著至該玻璃表面；以及 使具有該等黏著粒子之該玻璃表面與一蝕刻劑接觸以形成 該抗眩光表面。 2·如請求項1所述之方法，其中該玻璃表面包含以下各者 中之至少一者：一鹼石灰矽酸鹽玻璃、一鹼土鋁矽酸鹽 玻璃、一鹼鋁矽酸鹽玻璃、一鹼硼矽酸鹽玻璃、一硼鋁 矽酸鹽玻璃，或上述玻璃的一組合；該等粒子由蠟、聚 合物或上述物質的一組合中之至少一者組成；並且該蝕 刻劑包含選自HF、HJCU或上述蝕刻劑的—組合中之至 少一種酸。 3·如請求項1所述之方法，其中該使該等沉積之可變形粒 子變形之步驟係藉由加熱完成。 4.如吻求項1所述之方法，其中將可變形粒子於該製品之 至少-個玻璃表面之一部分上沉積的步驟包含以下步 52 201228967 驟：使該玻璃表面與蠟粒子 一組合之一懸浮液接觸。 聚合物粒子或上述物質的 5.如請求項4所述之 一粒子懸浮液接觸 方法，其中使該至少一個玻璃表面與 之步驟係用一狹缝塗佈機完成。 6. 其中該沉積之步驟係用無以下 :一黏合劑；一流變改質劑； 如請求項4所述之方法， 各者的該粒子懸浮液完成 或上述各者的一組合。 7-如請求項1所述之 趣. ’，、中該接觸之步驟包含以下步 ,,, 子之該玻璃表面曝露於該蝕刻劑 違大約1秒至大約3〇分鐘。 8. 如請求項1所述 有一 D5〇直徑，該 法其中該等沉積之可變形粒子具 50直杈自大約1微米至大約30微米。 該等可變形粒子包含一熱 之一組合。 9·如請求項1所述之方法，其中 塑性材料、一躐，或上述各者 該等可變形粒子具有一玻 溫度（Tg)自大約25°C至大 1〇·如明求項1所述之方法，其中 璃轉變遇度（Tg)，該坡璃轉變 約 950C 0 53 201228967 π.如請求項1所述之方法，其中用一粒子懸浮液將該等可 變形粒子沉積於該製品之一表面上之步驟在該表面上提 供有序粒子。 12.如請求項u所述之方法，其中在該表面上的該等沉積 之可變形粒子包含一單層至一多層，該單層至該多層具 有：—潮濕厚度，該潮濕厚度自大約i微米至大約2〇〇 微米；及一乾燥厚度，該乾燥厚度自大約〇1微米至大 約50微米。 如凊求項述之方法該方法進一步包含以下步 用一低表面能塗層處理該所得粗糙化表面。 4.如吻求項1所述之方法 清洗該所得抗眩光表面； 述步驟之一組合。 該方法進一步包含以下步驟： 化學強化該抗眩光表面；或上 月求項1所述之方法，該方法進—步包含以下步帮 在钱刻之前，你#也丨 ^ 1品之至少另一表面與一視情況可穿 除的耐蝕刻保護層接觸。 —種由如諳杰 、所述之製程製備之玻螭製品。 54 1 7 如請求項1 6所、中4 述之玻璃製品，該玻璃製品包含 201228967 至少一個抗眩光表面，該表面具有： 一渾濁度，該渾濁度自大約0.1至大約30 ; 一影像清晰度（DOI 20°)，該影像清晰度（DOI 20。）自大 約25至大約85 ; 一表面粗糙度（Ra)，該表面粗糙度（Ra)自大約5〇 至 大約500 nm ;以及 一平均粗糙度峰谷差異輪廓，該平均粗糙度峰谷差異輪 廓自大約0.1微米至大約10微米。 18·如請求項17所述之玻璃製品，其中該抗眩光表面包含 一形貌特徵結構分佈，該形貌特徵結構分佈具有一平均 直徑’該平均直徑大約1微米至大約1〇〇微米。 19·如請求項17所述之玻璃製品’其中該製品為一顯示裝 置之一片保護蓋玻璃。 20. —種顯示系統，該顯示系統包含： —破璃面板，該玻璃面板具有至少一個粗糙化抗眩光表 面，該至少一個粗糙化抗眩光表面由如請求項丨所述之 方法製備，該至少一個粗糙化抗眩光表面具有： —渾濁度，該渾濁度小於大約30 ; 影像清晰度（DOI 20。），該影像清晰度（DOI 20。）大約 25至大約85 ; 表面粗經度（Ra)，該表面粗糙:度（Ra)大約5〇 nm至大 55 201228967 約5 00 nm ;以及 一平均粗糙度峰谷差異輪廓，該平均粗糙度峰谷差異輪 廓大約0· 1微米至大約10微米；以及 一像素化影像顯示面板，該像素化影像顯示面板鄰近於該 玻璃面板。 56