CN112703105A - 包括具有超薄玻璃层的抗穿刺层叠体的制品 - Google Patents
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Abstract
一种制品，其包括层叠体，所述层叠体具有基材以及粘结到基材的顶表面的超薄覆盖玻璃层。超薄覆盖玻璃层的厚度是1微米至49微米。通过厚度为5微米至50微米的光学透明粘合剂层将超薄覆盖玻璃层粘结到基材的顶表面。
Description
背景技术
相关申请的交叉引用
本申请根据35 U.S.C.§119，要求2018年8月24日提交的美国临时申请系列第62/722309号的优先权，本文以其作为基础并将其全文通过引用结合于此。
技术领域
本公开内容涉及抗穿刺层叠体。具体来说，本公开内容涉及抗穿刺且抗破裂的层叠体，其包括通过粘合剂层粘结到基材的玻璃层。
背景
用于电子装置的显示器的覆盖基材保护显示屏并提供光学透明的表面，用户可以透过所述光学透明的表面来观看显示屏。近年来，电子装置(例如，手持式和可穿戴装置)的发展趋向于具有改进的可靠性的更轻的装置。减轻这些装置的不同组件(包括诸如覆盖玻璃和基材之类的保护组件)的重量来产生更轻的装置。
此外，消费者电子行业多年来聚焦于将可穿戴和/或柔性概念引入消费者产品中。近年来，得益于塑料膜的不断发展和改进，将基于塑料的覆盖基材用于装置已经在市场中证实获得了一定的成功。但是，采用塑料覆盖基材仍然存在固有缺陷，例如低的抗水蒸气能力和/或抗氧化性以及低的表面硬度，这会导致装置在使用过程中的失效。在一些情况下，对于覆盖基材而言，出于其柔性而使用塑料基材可能增加重量、降低光学透明度、降低耐划痕性、降低抗穿刺性和/或降低热耐久性。
因此，存在对用于消费者产品的覆盖物(例如，用于保护显示屏的覆盖基材或玻璃)进行不断革新的持续需求。并且具体来说，存在对用于消费者装置(包括柔性组件，例如柔性显示屏)的覆盖玻璃或覆盖基材的持续需求。
发明内容
本公开内容涉及柔性抗穿刺且抗破裂的层叠体，其包括通过粘合剂粘结到基材的超薄覆盖玻璃层。超薄覆盖玻璃层的厚度小于50微米(μm或微米)。当通过合适厚度的粘合剂层粘结到基材时，厚度小于50微米的超薄覆盖玻璃层出乎意料地提供了合适的抗穿刺性和抗破裂性。(厚度小于50微米的)此类超薄覆盖玻璃层的抗穿刺性和抗破裂性与柔性的结合产生了对于如本文所述的层叠体而言合乎希望的性质组合。
一些实施方式涉及制品，其包括：具有基材的层叠体；粘结到基材的顶表面的覆盖玻璃层，所述覆盖玻璃层的厚度是1微米至49微米；和厚度为5微米至50微米的光学透明的粘合剂层，其将覆盖玻璃层的底表面粘结到基材的顶表面。
在一些实施方式中，根据前述段落的制品可以包括厚度是1微米至40微米的覆盖玻璃层。在一些实施方式中，根据前述段落的制品可以包括厚度是1微米至30微米的覆盖玻璃层。在一些实施方式中，根据前述段落的制品可以包括厚度是35微米至49微米的覆盖玻璃层。在一些实施方式中，根据前述段落的制品可以包括厚度是25微米至49微米的覆盖玻璃层。
在一些实施方式中，根据任意前述段落的实施方式的制品可以包括厚度是25微米至50微米的光学透明粘合剂层。
在一些实施方式中，根据任意前述段落的实施方式的制品可以包括通过光学透明粘合剂层直接粘结到基材的顶表面的覆盖玻璃层。
在一些实施方式中，根据任意前述段落的实施方式的制品可以包括能够实现3毫米(mm)弯曲半径的层叠体。
在一些实施方式中，根据任意前述段落的实施方式的制品可以包括具有如下抗冲击性的层叠体，所述抗冲击性定义为穿刺测试中，覆盖玻璃层在2.25千克或更大作用力的穿刺负荷下能够避免失效。
在一些实施方式中，根据任意前述段落的实施方式的制品可以包括具有如下抗冲击性的层叠体，所述抗冲击性定义为根据落笔测试进行测量，覆盖玻璃层在8厘米或更高落笔高度下能够避免失效。
在一些实施方式中，根据任意前述段落的实施方式的制品可以包括如下覆盖玻璃层，其是拉制成覆盖玻璃层的厚度的再拉制玻璃层。
在一些实施方式中，根据任意前述段落的实施方式的制品可以包括如下覆盖玻璃层，其包括含碱性铝硅酸盐玻璃。
在一些实施方式中，根据任意前述段落的实施方式的制品可以包括如下覆盖玻璃层，其包含：55摩尔％至70摩尔％SiO2，10摩尔％至20摩尔％Al2O3，和10摩尔％至20摩尔％Na2O。
在一些实施方式中，根据任意前述段落的实施方式的制品可以包括如下覆盖玻璃层，其至少在覆盖玻璃层的顶表面或者底表面中的一个处具有压缩应力，以及在覆盖玻璃层的厚度上的至少两点处，具有不同的金属氧化物浓度。
在一些实施方式中，根据任意前述段落的实施方式的制品可以包括如下基材，其包括具有显示器表面的电子显示器，限定了基材的至少一部分的顶表面。
在一些实施方式中，根据任意前述段落的实施方式的制品可以包括涂层，其布置在覆盖玻璃层的顶表面上。在一些实施方式中，涂层可以包括选自下组的涂层：减反射涂层、防眩光涂层、抗指纹涂层、防碎裂层、抗微生物涂层和易清洁涂层。
在一些实施方式中，根据任意前述段落的实施方式的制品可以包括在覆盖玻璃层的顶表面上没有布置聚合物硬涂层的层叠体。
在一些实施方式中，根据任意前述段落的实施方式的制品可以是消费者电子产品，以及基材可以包括电子显示器，所述消费者电子产品包括包含前表面、背表面和侧表面的外壳，至少部分位于外壳内的电子组件，所述电子组件包括控制器、存储器和所述电子显示器，所述电子显示器位于外壳的前表面或者与外壳的前表面相邻，其中，覆盖玻璃层形成至少一部分的外壳。
一些实施方式涉及电子显示器组件，其包括：包含显示器表面的电子显示器；粘结到显示器表面的覆盖玻璃层，所述覆盖玻璃层包括1微米至49微米的厚度；和厚度为5微米至50微米的光学透明的粘合剂层，其将覆盖玻璃层的底表面粘结到电子显示器的显示器表面。
在一些实施方式中，根据前述段落的实施方式的显示器组件可以包括涂层，其布置在玻璃层的顶表面上。
在一些实施方式中，根据前述两个段落中任一个的实施方式的显示器组件可以包括通过光学透明粘合剂层直接粘结到电子显示器的显示器表面的覆盖玻璃层。
一些实施方式涉及层叠体的制造方法，该方法包括：将覆盖玻璃层粘结到基材的顶表面，所述覆盖玻璃层的厚度是1微米至49微米，其中，通过厚度为5微米至50微米的光学透明粘合剂层将覆盖玻璃层的底表面粘结到基材的顶表面。
在一些实施方式中，根据前述段落的实施方式的方法可以包括通过再拉制工艺形成覆盖玻璃层，其中，再拉制工艺包括将覆盖玻璃层再拉制成覆盖玻璃层的厚度。
在一些实施方式中，根据前述两个段落中任一个的实施方式的方法可以包括用涂层涂覆覆盖玻璃层的顶表面。
附图说明
被结合入本文的附图形成说明书的一部分且阐述了本公开内容的实施方式。结合说明书，附图进一步起到解释所公开的实施方式的原理并使得相关领域技术人员能够执行和使用的作用。这些附图旨在是说明性的，而不是限制性的。虽然在这些实施方式的上下文中描述了本公开内容，但是应理解的是，并不旨在将本公开内容的范围限制为这些特定实施方式。在附图中，相同附图标记表示相同或功能相似元件。
图1显示根据一些实施方式的制品。
图2是具有图4的测试样品构造(具有再拉制的覆盖玻璃层)的各种测试样品的落笔失效高度和压痕负荷图。
图3是具有图4的测试样品构造(具有再拉制和化学薄化的覆盖玻璃层)的各种测试样品的落笔失效高度和压痕负荷图。
图4显示测试样品构造。
图5显示根据一些实施方式模拟落笔测试的有限元模型。
图6是对于模型层叠体的覆盖玻璃层的顶表面上的最大主应力(maximumprincipal stress)与覆盖玻璃层的顶表面上的距离的函数关系图。
图7是对于模型层叠体的覆盖玻璃层的底表面上的最大主应力(maximumprincipal stress)与覆盖玻璃层的底表面上的距离的函数关系图。
图8是模型层叠体的覆盖玻璃层的底表面上的最大应力与覆盖玻璃层厚度的函数关系图。
图9显示制品弯曲之后的图1的制品的横截面图。
图10显示根据一些实施方式的包含涂层的制品。
图11A-11C显示根据各种实施方式的覆盖玻璃层。
图12显示根据一些实施方式的消费者产品。
具体实施方式
本公开内容的以下例子是示意性的，而不是限制性的。通常根据各种条件和参数进行其它合适修饰和调节，这对本领域技术人员来说是显而易见的，属于本公开内容的精神和范围。
用于消费者产品的覆盖基材(例如，覆盖玻璃)可以起到降低不合乎希望的反射，防止在玻璃中形成机械缺陷(例如，划痕或裂纹)，和/或提供易清洁透明表面等作用。本文所揭示的覆盖玻璃和层叠体可以被整合到另一制品中，例如具有显示屏的制品(或显示器制品)(例如，消费者电子产品，包括移动电话、平板、电脑、导航系统以及可穿戴装置(例如手表)等)，建筑制品，运输制品(例如，车辆、火车、飞行器、航海器等)，电器制品，或者任意可以受益于部分透明性、耐划痕性、耐磨性或其组合的制品。
结合了本文所揭示的任意覆盖玻璃层或层叠体的示例性制品是消费者电子装置，其包括：具有前表面、后表面和侧表面的外壳；电子组件，其至少部分位于或者完全位于外壳内并且至少包括控制器、存储器和位于外壳的前表面或者与外壳的前表面相邻的显示器；以及位于外壳的前表面或者在外壳的前表面上方的覆盖玻璃层，从而使其位于显示器上方。在一些实施方式中，覆盖玻璃层可以包括本文所揭示的任意玻璃层。在一些实施方式中，外壳或显示器中的一部分中的至少一个包括本文所揭示的覆盖玻璃层或层叠体。如本文所用，“层叠体”是多层结构，其至少包括通过布置在覆盖玻璃层与基材之间的粘合剂层粘结到一起的覆盖玻璃层和基材。
覆盖基材(例如，覆盖玻璃)还起到保护消费者产品的灵敏组件免受机械破坏(例如，穿刺和冲击力)的作用。对于包括柔性可折叠和/或锋利弯曲部分(例如，挠性、可折叠和/或锋利弯曲的显示屏)的消费者产品，用于保护显示屏的覆盖基材应该在保护屏幕的同时还保留屏幕的柔性、可折叠性和/或曲率。此外，覆盖基材应该抗机械破坏(例如，划痕和破裂)，从而用户可以一览无余地欣赏显示屏。
厚的单体式玻璃层可以提供足够的机械性质，但是这些层会是大体积的，并且无法折叠至较紧的半径以用于可折叠、柔性或者锋利弯曲的消费者产品。而高度柔性的覆盖基材(例如，塑料基材)可能无法提供消费者产品所希望的足够的抗穿刺性、耐划痕性和/或抗破裂性。
作为覆盖基材而言，玻璃相比于塑料提供了对于水蒸气(和氧气)更好的阻隔，并且提供了硬度属性使得使用过程中的划痕和变形破损最小化。并且超薄玻璃可以弯曲到非常小的弯曲半径。将可折叠制品或层叠体弯曲成较紧的弯曲半径受到制品或层叠体的整体刚度的驱动。由于高的玻璃模量，制品或层叠体的覆盖玻璃层对制品或层叠体的刚度起到主要贡献作用。因此，需要较薄的覆盖玻璃层从而有助于制品或层叠体的弯曲。因此，定义为或者包含有提供了充分的抗穿刺性、耐划痕性和/或抗破裂性的超薄玻璃层的覆盖基材能够起到覆盖基材的作用。此类(厚度小于50微米的)超薄玻璃层可以减少产生具有合适的机械性质的覆盖基材的层数。
本文所述的制品包括厚度小于50微米(微米)的超薄覆盖玻璃层(即，49微米或更薄，例如：48微米、或者47微米、或者46微米、或者45微米、或者40微米、或者35微米、或者30微米、或者25微米，或者其间的任意和全部子范围)。相比于厚度为50微米且通过粘合剂粘结到基材的覆盖玻璃层，当通过类似的粘合剂层粘结到类似的基材时，厚度小于50微米的覆盖玻璃层出乎意料地提供了优异的抗穿刺性和抗破裂性。之前相信随着玻璃厚度下降到低于50微米，由于玻璃层的薄度会使得抗穿刺性和抗破裂性发生类似的下降。但是，对于通过合适厚度的粘合剂层通过粘合剂的方式粘结到基材的覆盖玻璃层而言，则不是这种情况。
具体来说，出乎意料的是，对于厚度小于50微米的超薄覆盖玻璃层，在覆盖玻璃层中所建立起的应力与粘结到基材的层的刚度成反比。引起穿刺测试或者落笔测试过程中覆盖玻璃失效的高应力是由于玻璃的局部化弯曲所导致的。因此，之前相信覆盖玻璃的刚度与抗穿刺性和抗破裂性一致且直接相关。这种理解的原因在于，相信由于穿刺作用力所导致的覆盖玻璃层中建立起来的应力总是会与玻璃层的刚度成反比。由此，相对而言，相信更厚、更为刚性的覆盖玻璃层总是会改善落笔测试性能和穿刺测试性能，并且因而改善了抗穿刺性和抗破裂性。
但是，发现厚度小于50微米的覆盖玻璃层能够为层叠体提供合适的穿刺失效负荷与落笔性能。如本文所公开的那样，小于50微米的覆盖玻璃层厚度显示出比50微米厚的覆盖玻璃层更好的性能。并且当经受落笔或准静态压痕负荷(穿刺作用力)时，小于50微米的覆盖玻璃层厚度显示出与大于50微米且最高至约100微米的覆盖玻璃层厚度相似的性能。但是，相比于通过相同材料制造的50微米或更大厚度的覆盖玻璃层，小于50微米的覆盖玻璃层厚度会具有优异的柔性和弯曲性质。此类(厚度小于50微米的)覆盖玻璃层的优异的柔性和可弯曲能力使得它们能够以更小的弯曲半径弯曲而不发生失效。此外，由于这些较薄的覆盖玻璃层降低了制造提供所需保护的覆盖玻璃层的原材料量，它们可以降低制造成本。
在落笔性能测试过程中，包含粘结到基材且厚度小于50微米的覆盖玻璃层的层叠体比厚度为50微米且以类似方式粘结到相似基材的相当的玻璃层表现更好。为了验证这种出乎意料的行为，通过
机器(伊利诺伊工具有限公司(Illinois Tool WorksInc.)制造的受控穿刺测试机器)，以受控负荷方式采用穿刺测试对其他层叠体进行测试。可以通过这个穿刺测试的结果得到与破坏引发和传播相关的信息。即使不是无法获得，也是难以通过落笔实验获得这个信息的。穿刺测试能够在准静态负荷过程中监测受控的破裂。换言之，由于可以在首次感应到破裂之后立即停止下来，这有助于区分出层叠体中的哪一层首先发生失效。在首次感应到破裂之后就停止下来帮助区分覆盖玻璃层的失效和/或与覆盖玻璃层粘结的基材的失效。穿刺测试结果证实厚度小于50微米的覆盖玻璃层相比于50微米厚的相当的覆盖玻璃层具有优异的抗穿刺性和抗破裂性。
鉴于出乎意料的落笔测试和穿刺测试，对包含粘结到基材的覆盖玻璃层的层叠体的行为进行建模以评估通过施加到覆盖玻璃层的表面上的穿刺作用力所产生的应力分布。模型结果显示，对于厚度小于50微米的覆盖玻璃层，应力水平在总体上来说小于那些厚度为50微米的相当的覆盖玻璃层。这些建模结果证实，相比于以类似方式粘结到类似基材的50微米厚的覆盖玻璃层，厚度小于50微米且通过合适厚度的粘合剂粘结到基材的覆盖玻璃层对于抵抗由于穿刺或冲击作用力所导致的失效更为优秀。如本文所述，粘结到基材的小于50微米厚的覆盖玻璃层提供了充分的柔性、抗穿刺性、耐划痕性和抗破裂性，从而起到了基材和包含基材的制品的保护组件的作用。
图1显示根据一些实施方式的制品100。制品100包括层叠体102，其具有基材110以及通过光学透明粘合剂层130粘结到基材110的覆盖玻璃层120。覆盖玻璃层120可以覆盖整个或者一部分的基材110。覆盖玻璃层120可以覆盖基材110的整个或者一部分的顶表面114。在一些实施方式中，覆盖玻璃层120可以完全覆盖顶表面114。在一些实施方式中，覆盖玻璃层120可以覆盖基材110的顶表面114的所有相对边缘之间的顶表面114，但是没有完全覆盖顶表面。
在一些实施方式中，基材110可以是电子显示器或者包含电子显示器的电子显示器组件。在一些实施方式中，基材110的全部或者一部分的顶表面114可以是电子显示器或者电子显示器组件的显示器表面。换言之，显示器表面可以限定了基材110的全部或者一部分的顶表面114。示例性电子显示器包括：发光二极管(LED)显示器或者有机发光二极管(OLED)显示器。在一些实施方式中，基材110可以是非电子显示器装置。例如，基材110可以是显示静态或者印刷记号的显示器装置。在一些实施方式中，基材110可以是触摸传感器(例如电容式触摸传感器)，或者偏振器，或者电池。
在一些实施方式中，基材110(例如电子显示器或者电子显示器组件)可以是柔性基材。如本文所用，柔性层、柔性制品或者柔性基材是其自身可以实现10mm或更小弯曲半径的层、制品或基材。在一些实施方式中，基材110可以实现5mm或更小的弯曲半径。在一些实施方式中，基材110可以实现4mm或更小的弯曲半径。在一些实施方式中，基材110可以实现3mm或更小的弯曲半径。在约25℃和约50％相对湿度情况下，当基材110保持在“X”半径持续60分钟，如果其抵挡住了失效的话，那么基材110实现了弯曲半径“X”。图9显示层叠体102以及基材110的弯曲半径170的测量。
覆盖玻璃层120是厚度126小于50微米的超薄玻璃层。覆盖玻璃层120可以具有从覆盖玻璃层120的底表面122到顶表面124测得的1微米至49微米(微米，μm)的厚度126，包括其间的子范围。例如，覆盖玻璃层120可以具有如下厚度126：1微米、5微米、10微米、15微米、20微米、25微米、30微米、35微米、40微米、45微米、46微米、47微米、48微米、49微米，或者在这些值中的任意两个作为端点的范围内。在一些实施方式中，厚度126可以是如下范围：1微米至40微米，或者2微米至35微米，或者3微米至30微米，或者4微米至30微米，或者5微米至30微米，或者6微米至25微米，或者7微米至20微米，或者10微米至20微米，或者15微米至20微米，或者15微米至25微米，或者15微米至30微米，或者15微米至35微米，或者15微米至40微米，或者15微米至45微米，或者15微米至49微米。在一些实施方式中，厚度126可以是1微米至30微米。在一些实施方式中，厚度126可以是35至49微米。在一些实施方式中，厚度126可以是25微米至49微米。在一些实施方式中，厚度126可以是15微米至49微米。在一些实施方式中，厚度126可以是5微米至49微米。
覆盖玻璃层120可以实现10mm或更小的弯曲半径。在一些实施方式中，覆盖玻璃层120可以实现5mm或更小的弯曲半径。在一些实施方式中，覆盖玻璃层120可以实现4mm或更小的弯曲半径。在一些实施方式中，覆盖玻璃层120可以实现3mm或更小的弯曲半径。
在一些实施方式中，覆盖玻璃层120可以包括含碱性铝硅酸盐玻璃材料。用于覆盖玻璃层120的其他合适的材料包括如下玻璃材料，例如但不限于：钠钙玻璃、含碱性硼硅酸盐玻璃和含碱性铝硼硅酸盐玻璃。在一些变化形式中，玻璃材料可以不含氧化锂。在其他实施方式中，玻璃材料可以含有氧化锂。
在一些实施方式中，覆盖玻璃层120可以是再拉制的(redrawn)玻璃层。在一些实施方式中，覆盖玻璃层120可以是采用不具有化学薄化过程的工艺形成的玻璃层(即，覆盖玻璃层120可以是非化学薄化的玻璃层)。如本文所用，术语“再拉制的覆盖玻璃层”表示在再拉制过程中被拉制成其最终厚度的玻璃材料层。例如，在再拉制过程中，可以将玻璃块加热到所需的拉制温度并通过拉制辊拉长(在非质量区域中进行，例如，置于玻璃边缘内部的区域和/或旨在用于制造装置的区域)，从而使其厚度降低至覆盖玻璃层的最终厚度。在被再拉制到最终厚度之后，没有采用额外的工艺步骤来明显改变覆盖玻璃层的厚度。可以采用研磨或抛光来对再拉制的覆盖玻璃层的边缘进行形状调节，但是不认为此类研磨或抛光改变了层的厚度。如本文所用，术语“化学薄化的覆盖玻璃层”表示经受一种或多种化学蚀刻过程从而使其厚度减小到玻璃层最终所需厚度的玻璃材料层。由于用于使其厚度下降的蚀刻工艺，化学薄化玻璃层(也被称作蚀刻的玻璃层)的性质会不同于再拉制的玻璃层。例如，再拉制的玻璃层的表面可以比化学薄化的玻璃层的表面明显更为光滑。再拉制的玻璃层的表面粗糙度会小到约0.1nm(纳米)至0.2nm，而化学薄化玻璃层的最小表面粗糙度约为2nm至3nm。
在一些实施方式中，覆盖玻璃层120可以是经强化的玻璃层，例如经过离子交换过程或者热回火过程的玻璃层。对于经过离子交换过程的覆盖玻璃层120，覆盖玻璃层120在顶表面124和/或底表面122包括压缩应力，以及在覆盖玻璃层120的厚度126上的至少两点处包含有不同的金属氧化物浓度。在一些实施方式中，覆盖玻璃层120可以是未经强化的玻璃层，例如未经过离子交换过程或者热回火过程的玻璃层。
除非另有说明，否则覆盖玻璃层120是单体式单层。如本文所用，“单体单层”表示在其体积上具有大致一致组成的作为整体形成的单层。不认为通过层叠一种或多种材料或层，或者通过将不同层机械附连在一起制得的层是单体式单层。
光学透明粘合剂层130布置在基材110的顶表面114的上方，并且将覆盖玻璃层120粘结到基材110。在一些实施方式中，光学透明粘合剂层130可以布置在基材110的顶表面114上。在此类实施方式中，光学透明粘合剂层130的底表面132与基材110的顶表面114直接接触。如本文所用，“布置在……上”表示第一层和/或组件与第二层和/或组件直接接触。“布置在”第二层/或组件“上”的第一层/或组件可以是沉积到、形成在、放置在或者任意其他方式直接施加到第二层/或组件上的。换言之，如果第一层/或组件布置在第二层/或组件上，则在第一层/或组件与第二层/或组件之间没有布置层。将第一层/或组件描述为“粘结到”第二层/或组件表示层/或组件的相互粘结，通过这两层/或组件的直接接触和/或粘结或者经由粘合剂层。如果第一层/或组件描述为“布置在”第二层/或组件的“上方”，则在第一层/或组件与第二层/或组件之间可能存在或者不存在其他层。
适用于层130的光学透明粘合剂包括但不限于：丙烯酸粘合剂，例如：3MTM8212粘合剂，或者任何光学透明的液体粘合剂，例如：
光学透明液体粘合剂。光学透明粘合剂层130可以具有从光学透明粘合剂层130的底表面132到顶表面134测得的厚度136，其是5微米至50微米，包括子范围。例如，光学透明粘合剂层130的厚度136可以是：5微米、10微米、15微米、20微米、25微米、30微米、35微米、40微米、45微米、50微米，或者在这些值中的任意两个作为端点的范围内。在一些实施方式中，厚度136可以是25微米至50微米。在一些实施方式中，厚度136可以是：5微米至49微米，或者5微米至45微米，或者5微米至40微米，或者5微米至35微米，或者5微米至30微米，或者5微米至25微米，或者5微米至20微米，或者5微米至15微米，或者5微米至48微米，或者10微米至45微米，或者15微米至45微米，或者20微米至45微米，或者25微米至45微米，或者30微米至45微米，或者35微米至45微米，或者6微米至48微米，或者10微米至42微米，或者15微米至37微米，或者20微米至32微米，或者25微米至30微米。
如本文所用，“光学透明”表示穿过1.0mm厚的材料片，400nm至700nm波长范围内的平均透射率是70％或更大。在一些实施方式中，对于穿过1.0mm厚的材料片，在400nm至700nm波长范围内，光学透明材料可以具有75％或更大、80％或更大、85％或更大、或者90％或更大的平均透射率。通过测量从约400nm到约700nm的整数波长的透射率，并对测量取平均值，来计算400nm至700nm波长范围内的平均透射率。覆盖玻璃层120可以是光学透明的。
在一些实施方式中，覆盖玻璃层120的底表面122可以与光学透明粘合剂层130的顶表面134直接接触。在一些实施方式中，覆盖玻璃层120可以通过光学透明粘合剂层130直接粘结到基材110的顶表面114。在此类实施方式中，覆盖玻璃层的底表面122和基材110的顶表面114分别与光学透明粘合剂层130的顶表面134和底表面132直接接触。
在一些实施方式中，覆盖玻璃层120的顶表面124可以是层叠体102和/或制品100的最顶部的面朝用户的外表面。如本文所用，涉及层、组件或制品的顶表面和底表面的术语“顶表面”或者“最顶部表面”以及“底表面”或者“最底部表面”会取向成是在其正常使用和目标用途时，使得顶表面作为面朝用户表面。例如，当结合到具有电子显示器的手持式消费者电子产品中的时候，制品、层或层叠体的“顶表面”指的是该制品、层叠体或层被用户持有时通过制品、层叠体或层观看电子显示器的顶表面。
在一些实施方式中，覆盖玻璃层120的顶表面124可以涂覆一层或多层涂层(例如，涂层180)，以提供所需的特性。此类涂层包括但不限于：聚合物硬涂层、减反射涂层、防眩光涂层、防指纹涂层、防碎裂层、抗微生物和/或抗病毒涂层、以及易清洁涂层。在一些实施方式中，层叠体102可以不含布置在覆盖玻璃层120的顶表面124上方或者与覆盖玻璃层120的顶表面124粘结的涂层(例如，涂层180)。在一些实施方式中，层叠体102可以不含布置在覆盖玻璃层120的顶表面124上方或者与覆盖玻璃层120的顶表面124粘结的聚合物硬涂层。聚合物硬涂层(例如，本文所述的光学透明的聚合物(OTP)硬涂层)是构造成改善层叠体的抗穿刺性和/或抗破裂性的具有明显硬度的层。涂覆了一层或多层涂层或者没有涂覆任何涂层的覆盖玻璃层120可以被称作“覆盖基材”。
制品100和/或层叠体102可以实现10mm或更小的弯曲半径170。在一些实施方式中，制品100和/或层叠体102可以实现5mm或更小的弯曲半径170。在一些实施方式中，制品100和/或层叠体102可以实现4mm或更小的弯曲半径170。在一些实施方式中，制品100和/或层叠体102可以实现3mm或更小的弯曲半径170。图9显示施加到制品100和/或层叠体102以使其弯曲至弯曲半径170的弯曲作用力172。如图9所示，可以以玻璃层120的顶表面124朝向其自身弯曲，通过相对于基材110的底表面112来测量弯曲半径170。由此，基材110具有如图9所示的弯曲半径170，而玻璃层120的弯曲半径小于基材110的弯曲半径。
在一些实施方式中，层叠体102可以具有由覆盖玻璃层120的能力所限定的抗冲击性，从而当根据“落笔测试”进行测量时，避免8厘米(cm)或更大的落笔高度时的失效。在一些实施方式中，层叠体102可以具有由覆盖玻璃层120的能力所限定的抗冲击性，从而当根据“落笔测试”进行测量时，避免9cm或更大的落笔高度时的失效。在一些实施方式中，层叠体102可以具有由覆盖玻璃层120的能力所限定的抗冲击性，从而当根据“落笔测试”进行测量时，避免10cm或更大的落笔高度时的失效。
如本文所述和参见本文，以如下方式进行“落笔测试”，使得：对层叠体的样品进行测试，负荷(即，从某一高度掉落的笔)施加到覆盖玻璃层的顶表面，通过50微米厚的光学透明粘合剂层将覆盖玻璃层的底表面粘结到100微米厚的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)(其作为层叠体的基材)。落笔测试中的PTE层用于模拟柔性电子显示器装置(例如，OLED装置)。在测试过程中，将粘结到PET层的覆盖玻璃层放置在铝板上(6063铝合金，以400目纸抛光至表面粗糙度)，PET与铝板接触。样品位于铝板上的那侧上没有使用条带。
落笔测试使用导管引导笔到达样品，将管放置成与样品的顶表面接触，使得管的纵轴基本垂直于样品的顶表面。管具有1英寸(2.54cm)的外直径，9/16英寸(1.4cm)的内直径，和90cm的长度。对于每次测试，使用丙烯腈丁二烯(“ABS”)垫片将笔保持在所需高度。在每次跌落后，管相对于样品重新定位，从而将笔引导到样品上的不同撞击位置。用于落笔测试的笔是
Easy Glide Pen,Fine(细笔尖易滑笔)，具有0.7mm(0.68mm)直径的碳化钨圆珠尖端，包括笔盖的重量是5.73克(不包括笔盖的重量是4.68g)。
对于落笔测试，在笔盖附连到顶端(即，与笔尖相反的那端)的情况下使得笔掉落，从而圆珠尖可以与测试样品相互作用。在根据落笔测试的掉落序列中，在1cm的初始高度进行一次落笔，之后以0.5cm增量依次掉落(最高至20cm)，然后在20cm之后，以2cm增量直到测试样品失效。在每次进行掉落之后，记录下存在的对于样品的任意可观察到的破裂、失效或者其他损坏证据，以及具体的落笔高度。使用落笔测试，可以根据相同的跌落序列对多个样品进行测试，以产生具有统计数据改善的组。对于落笔测试，每五次跌落之后以及对于每次新的样品测试，将笔更换为新笔。此外，在样品中心处或者靠近中心处的样品上的随机位置进行所有的落笔，没有在样品的边缘或者靠近样品的边缘进行落笔。
出于落笔测试的目的，“失效”指的是在层叠体中形成可见的机械缺陷。机械缺陷可以是裂纹或者塑性变形(例如，表面压痕)。裂纹可以是表面裂纹或者贯穿裂纹。可能在层叠体的内表面或外表面上形成裂纹。裂纹可以延伸穿过层叠体的所有层或者一部分的层。可见的机械缺陷具有0.2毫米或更大的最小尺寸。图2和3的附图显示对于根据落笔测试进行测试的具有测试样品400的构造的各种测试样品的失效掉落高度与覆盖玻璃层厚度的关系。
在一些实施方式中，层叠体102可以具有由覆盖玻璃层120的能力所限定的抗冲击性，从而在“穿刺测试”中，避免2.25千克作用力或更大作用力的穿刺负荷时的失效。在一些实施方式中，层叠体102可以具有由覆盖玻璃层120的能力所限定的抗冲击性，从而在“穿刺测试”中，避免2.5千克作用力或更大作用力的穿刺负荷时的失效。在一些实施方式中，层叠体102可以具有由覆盖玻璃层120的能力所限定的抗冲击性，从而在“穿刺测试”中，避免2.75千克作用力或更大作用力的穿刺负荷时的失效。在一些实施方式中，层叠体102可以具有由覆盖玻璃层120的能力所限定的抗冲击性，从而在“穿刺测试”中，避免3千克作用力或更大作用力的穿刺负荷时的失效。在一些实施方式中，层叠体102可以具有由覆盖玻璃层120的能力所限定的抗冲击性，从而在“穿刺测试”中，避免3.25千克作用力或更大作用力的穿刺负荷时的失效。
如本文所述和参见本文，以如下方式进行“穿刺测试”，使得：对层叠体的样品进行测试，负荷施加到覆盖玻璃层的顶表面，通过50微米厚的光学透明粘合剂层将覆盖玻璃层的底表面粘结到100微米厚的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)(其作为层叠体的基材)。穿刺测试中的PTE层用于模拟柔性电子显示器装置(例如，OLED装置)。在穿刺测试过程中，覆盖玻璃层的顶表面负载了具有200微米直径的平坦底部的不锈钢销钉。在0.5mm/分钟的十字头速度的位移控制下，进行根据本公开内容的穿刺测试。通过采用
机器(利诺伊工具有限公司(Illinois Tool Works Inc.)制造的受控穿刺测试机器)来进行这种准静态负荷测试(压痕)。在测试过程中，将样品放于销钉尖端下方，并且增加负载直到观察到失效。在失效时，记录穿刺负荷(测量单位是千克作用力(kgf))。在规定测试量(即，10次测试)之后为不锈钢销钉更换新的销钉，从而避免可能由于与进行测试相关的金属销钉的变形所导致的偏差。
出于穿刺测试的目的，“失效”指的是在层叠体中形成可见的机械缺陷。机械缺陷可以是裂纹或者塑性变形(例如，表面压痕)。裂纹可以是表面裂纹或者贯穿裂纹。可能在层叠体的内表面或外表面上形成裂纹。裂纹可以延伸穿过层叠体的所有层或者一部分的层。可见的机械缺陷具有0.2毫米或更大的最小尺寸。图2和3的附图显示对于根据穿刺测试进行测试的具有测试样品400的构造的各种测试样品的失效压痕负荷与覆盖玻璃层厚度的关系。
每个测试样品400包括通过50微米厚的光学透明粘合剂层420粘结到100微米厚的PTE基材410的覆盖玻璃层430，如图4所示。测试的覆盖玻璃层430包括再拉制的覆盖玻璃层(图2和3中标记为“R”)以及化学薄化的覆盖玻璃层(图3中标记为“CT”)。每个覆盖玻璃层430是包含具有如表1中的组合物1的组成的含碱性铝硅酸盐玻璃的玻璃层。每个覆盖玻璃层430是未经强化的覆盖玻璃层。测试的样品400包括如下覆盖玻璃层：(i)25微米厚的再拉制的覆盖玻璃层430，(ii)35微米厚的再拉制的覆盖玻璃层430，(iii)50微米厚的化学薄化的覆盖玻璃层430，(iv)50微米厚的再拉制的覆盖玻璃层430，(v)75微米厚的再拉制的覆盖玻璃层430，以及(vi)100微米厚的再拉制的覆盖玻璃层430。
虽然图2和3记录的测试结果是对于具有组合物1的组成的玻璃层所进行的测试结果，但是结果中示出的趋势不依赖于所测试的特定铝硅酸盐玻璃组合物。对于其他玻璃组合物(包括表1中的组合物2-5)，类似的测试结果显示相同的趋势。用于本文所述的覆盖玻璃层的其他合适的玻璃材料包括：钠钙玻璃、含碱性硼硅酸盐玻璃和碱性铝硼硅酸盐玻璃。在一些变化形式中，玻璃材料可以不含氧化锂。这些玻璃材料可以经过强化或者未经过强化。
在一些实施方式中，用于本文所讨论的玻璃层的玻璃组合物可以包含40摩尔％至90摩尔％SiO2(氧化硅)。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含：40摩尔％、45摩尔％、50摩尔％、55摩尔％、60摩尔％、65摩尔％、70摩尔％、75摩尔％、80摩尔％、85摩尔％、或90摩尔％SiO2，或者这些值中的任意两个作为端点的任意范围内的摩尔％。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含55摩尔％至70摩尔％SiO2。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含57.43摩尔％至68.95摩尔％SiO2。
在一些实施方式中，用于本文所讨论的玻璃层的玻璃组合物可以包含1摩尔％至10摩尔％B2O3(氧化硼)。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含：1摩尔％、2摩尔％、3摩尔％、4摩尔％、5摩尔％、6摩尔％,7摩尔％、8摩尔％、9摩尔％、或者10摩尔％B2O3，或者这些值中的任意两个作为端点的任意范围内的摩尔％。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含3摩尔％至6摩尔％B2O3。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含3.86摩尔％至5.11摩尔％B2O3。在一些实施方式中，玻璃组合物可以不包含B2O3。
在一些实施方式中，用于本文所讨论的玻璃层的玻璃组合物可以包含5摩尔％至30摩尔％Al2O3(氧化铝)。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含：5摩尔％、10摩尔％、15摩尔％、20摩尔％、25摩尔％、或者30摩尔％Al2O3，或者这些值中的任意两个作为端点的任意范围内的摩尔％。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含10摩尔％至20摩尔％Al2O3。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含10.27摩尔％至16.10摩尔％Al2O3。
在一些实施方式中，用于本文所讨论的玻璃层的玻璃组合物可以包含1摩尔％至10摩尔％P2O5(氧化磷)。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含：1摩尔％、2摩尔％、3摩尔％、4摩尔％、5摩尔％、6摩尔％、7摩尔％、8摩尔％、9摩尔％、或者10摩尔％P2O5，或者这些值中的任意两个作为端点的任意范围内的摩尔％。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含2摩尔％至7摩尔％P2O5。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含2.47摩尔％至6.54摩尔％P2O5。在一些实施方式中，玻璃组合物可以不包含P2O5。
在一些实施方式中，用于本文所讨论的玻璃层的玻璃组合物可以包含5摩尔％至30摩尔％Na2O(氧化钠)。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含：5摩尔％、10摩尔％、15摩尔％、20摩尔％、25摩尔％、或者30摩尔％Na2O，或者这些值中的任意两个作为端点的任意范围内的摩尔％。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含10摩尔％至20摩尔％Na2O。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含10.82摩尔％至17.05摩尔％Na2O。
在一些实施方式中，用于本文所讨论的玻璃层的玻璃组合物可以包含0.01摩尔％至0.05摩尔％K2O(氧化钾)。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含：0.01摩尔％、0.02摩尔％、0.03摩尔％、0.04摩尔％、或者0.05摩尔％K2O，或者这些值中的任意两个作为端点的任意范围内的摩尔％。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含0.01摩尔％K2O。在一些实施方式中，玻璃组合物可以不包含K2O。
在一些实施方式中，用于本文所讨论的玻璃层的玻璃组合物可以包含1摩尔％至10摩尔％MgO(氧化镁)。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含：1摩尔％、2摩尔％、3摩尔％、4摩尔％、5摩尔％、6摩尔％、7摩尔％、8摩尔％、9摩尔％、或者10摩尔％MgO，或者这些值中的任意两个作为端点的任意范围内的摩尔％。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含2摩尔％至6摩尔％MgO。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含2.33摩尔％至5.36摩尔％MgO。在一些实施方式中，玻璃组合物可以不包含MgO。
在一些实施方式中，用于本文所讨论的玻璃层的玻璃组合物可以包含0.01摩尔％至0.1摩尔％CaO(氧化钙)。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含：0.01摩尔％、0.02摩尔％、0.03摩尔％、0.04摩尔％、0.05摩尔％、0.06摩尔％、0.07摩尔％、0.08摩尔％、0.09摩尔％、或者0.1摩尔％CaO，或者这些值中的任意两个作为端点的任意范围内的摩尔％。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含0.03摩尔％至0.06摩尔％CaO。在一些实施方式中，玻璃组合物可以不包含CaO。
在一些实施方式中，用于本文所讨论的玻璃层的玻璃组合物可以包含0.01摩尔％至0.05摩尔％Fe2O3(氧化铁)。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含：0.01摩尔％、0.02摩尔％、0.03摩尔％、0.04摩尔％、或者0.05摩尔％Fe2O3，或者这些值中的任意两个作为端点的任意范围内的摩尔％。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含0.01摩尔％Fe2O3。在一些实施方式中，玻璃组合物可以不包含Fe2O3。
在一些实施方式中，用于本文所讨论的玻璃层的玻璃组合物可以包含0.5摩尔％至2摩尔％ZnO(氧化锌)。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含：0.5摩尔％、1摩尔％、1.5摩尔％、或者2摩尔％ZnO，或者这些值中的任意两个作为端点的任意范围内的摩尔％。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含1.16摩尔％ZnO。在一些实施方式中，玻璃组合物可以不包含ZnO。
在一些实施方式中，用于本文所讨论的玻璃层的玻璃组合物可以包含1摩尔％至10摩尔％Li2O(氧化锂)。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含：1摩尔％、2摩尔％、3摩尔％、4摩尔％、5摩尔％、6摩尔％、7摩尔％、8摩尔％、9摩尔％、或者10摩尔％Li2O，或者这些值中的任意两个作为端点的任意范围内的摩尔％。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含5摩尔％至7摩尔％Li2O。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含6.19摩尔％Li2O。在一些实施方式中，玻璃组合物可以不包含Li2O。
在一些实施方式中，用于本文所讨论的玻璃层的玻璃组合物可以包含0.01摩尔％至0.3摩尔％SnO2(氧化锡)。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含：0.01摩尔％、0.05摩尔％、0.1摩尔％、0.15摩尔％、0.2摩尔％、0.25摩尔％、或者0.3摩尔％SnO2，或者这些值中的任意两个作为端点的任意范围内的摩尔％。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含0.01摩尔％至0.2摩尔％SnO2。在一些实施方式中，玻璃组合物可以包含0.04摩尔％至0.17摩尔％SnO2。
在一些实施方式中，用于本文所讨论的玻璃层的玻璃组合物可以是如下组合物，其包含的R2O(碱金属氧化物)+RO(碱土金属氧化物)的值是10摩尔％至30摩尔％。在一些实施方式中，R2O+RO可以是：10摩尔％、15摩尔％、20摩尔％、25摩尔％、或者30摩尔％，或者这些值中的任意两个作为端点的任意范围内的摩尔％。在一些实施方式中，R2O+RO可以是15摩尔％至25摩尔％。在一些实施方式中，R2O+RO可以是16.01摩尔％至20.61摩尔％。
表1：玻璃组合物
此外，虽然图2和3所记录的测试结果是具有50微米厚的光学透明粘合剂层的样品400的测试结果，但是更薄的光学透明粘合剂层420(例如，25微米和10微米)会导致对于覆盖玻璃层而言相同的性能。但是，显著量的粘合剂允许覆盖玻璃层在穿刺作用力位置的局部变形。在一些实施方式中，较为弹性的光学透明粘合剂层允许覆盖玻璃层在穿刺作用力位置发生局部变形，并且因此允许吸收一部分的穿刺作用力。最小5微米的粘合剂层厚度实现了覆盖玻璃层充分的局部变形。
图2显示5种不同厚度的再拉制覆盖玻璃层430(25微米、35微米、50微米、75微米、和100微米)的落笔失效高度和压痕失效负荷值的图200。图200上的每个点代表测试样品400的每种厚度的15-20个数据点的平均值。落笔高度数据点显示为圆圈，而压痕失效负荷数据点显示为正方形。
落笔高度与压痕失效负荷结果显示，对于厚度从100微米下降到50微米的覆盖玻璃层430，落笔失效高度和压痕失效负荷都单调下降。然后，出乎意料的是，当覆盖玻璃层430的厚度进一步下降到小于50微米时，落笔失效高度和压痕失效负荷的趋势都发生反转。35微米测试样品和25微米测试样品的落笔失效高度和压痕失效负荷值高于50微米测试样品的值。这种行为显示可以通过使得覆盖玻璃层的厚度下降到低于50微米，来增加覆盖玻璃层相对于50微米厚度层的可靠性(例如，抗穿刺性和抗破裂性)。这种厚度降低不仅改善了覆盖玻璃层的可靠性，并且由于厚度减小还增加了覆盖玻璃层的相对柔性(可弯曲性)。相比于由相同材料制得的更厚的覆盖玻璃层，更薄的覆盖玻璃层倾向于具有增加的柔性。
除了对5种厚度的再拉制的覆盖玻璃层430进行测试之外，还对1种厚度的化学薄化的覆盖玻璃层430进行测试来确定化学薄化的玻璃层是否会比再拉制的玻璃层表现得更好或较差。图3显示对于与图2所示相同的5种厚度的再拉制的覆盖玻璃层430以及1种厚度(50微米)的化学薄化的覆盖玻璃层430的落笔失效高度和压痕失效负荷值的图300。类似于图2，在图3中，落笔失效高度数据点显示为圆圈，而压痕失效负荷数据点显示为正方形。
如图3所示，采用化学薄化工艺形成的覆盖玻璃层在落笔测试和穿刺测试中的表现都不如具有相同厚度且由相同材料制成的再拉制的玻璃层。例如，图3中的50微米化学薄化样品的落笔高度和压痕负荷(分别是小于2.5cm和小于1.5kgf)都低于图2和3中的50微米再拉制样品的落笔高度和压痕负荷(分别是大于8cm和大于2.25kgf)。相信用于产生化学薄化覆盖玻璃层的蚀刻过程在覆盖玻璃层的化学薄化的表面上引入了表面瑕疵。由此，相信化学薄化的玻璃层通常不如具有相同厚度的对应的再拉制覆盖玻璃层那么可靠。
使用有限元分析来评估为何厚度小于50微米的再拉制的覆盖玻璃层在落笔测试和穿刺测试中的表现都出乎意料地优于化学薄化的覆盖玻璃层。通过对落笔测试施加的应力进行建模，可以对由于穿刺作用力施加到覆盖玻璃层上的应力程度进行分析来评估覆盖玻璃层的失效模式。图5显示用于对这些应力进行分析的有限元模型500。
模型500中的覆盖玻璃层510代表测试样品400的覆盖玻璃层430。模型覆盖玻璃层510的顶表面514是受到穿刺作用力负载的表面，而模型覆盖玻璃层510的底表面512是通过50微米厚的光学透明粘合剂层粘结到基材的表面。在模型500中，X方向对应于沿着模型覆盖玻璃层510的长度518的顶表面514，Y方向对应于沿着模型覆盖玻璃层510的宽度519的顶表面514，以及Z方向对应于模型覆盖玻璃层510从底表面512到顶表面514的厚度516。以Z方向测量落笔高度530。对于模型500，对在模型覆盖玻璃层510的顶表面514上施加了穿刺负荷的笔520进行建模。建模的笔520复刻了
Easy Glide Pen,Fine(细笔尖易滑笔)，其具有0.7mm(0.68mm)直径的碳化钨圆珠尖端(半径524为0.34mm)以及(包括
EasyGlide Pen笔盖)的重量是5.73克。
图6显示对于不同的覆盖玻璃层510厚度以及10厘米(cm)的落笔高度530，模型500的X方向上的施加到顶表面514上的最大主应力分布的图600。图7显示对于不同的覆盖玻璃层510厚度以及10厘米(cm)的落笔高度530，模型500的X方向上的施加到底表面512上的最大主应力分布的图700。图形600和700都显示了50微米、35微米和25微米的模型覆盖玻璃层510厚度。在图形600中，X方向上的0值是顶表面514上模型圆珠尖端522接触顶表面514的位置。在图形700中，X方向上的0值是底表面512上的顶表面514在Z方向上的模型圆珠尖端522的中心接触顶表面514的位置的正下方的点。
如图6所示，有限元分析显示对于所有三种厚度，顶表面514上的最大主应力的值全都符合相同趋势。类似地，如图7所示，有限元分析显示对于所有三种厚度，底表面512上的最大主应力的值全都符合相同趋势。
通过对比图6和7可以看出，顶表面514上的最大主应力与底表面512上的最大主应力之间的最大差异(“Δ最大应力”)位于X值为零的地方(即，顶表面514上的模型圆珠尖端522的中心接触顶表面514的地方)。图6和7显示，在这个位置(X值为零的地方)，玻璃层510经受了最高的应力。因此，相对而言，25微米厚的玻璃层510在X值为零处具有最小的Δ最大应力，这显示出(对于这些厚度)，厚度为25微米的模型覆盖玻璃层510在穿刺事件过程中经受了最小的应力量。厚度为35微米的模型覆盖玻璃层510的Δ最大应力大于25微米厚的层，但是仍然小于50微米厚的层。对于25微米厚的玻璃层510，X等于零处的底表面512上的最大主应力小于其他玻璃厚度(35微米和50微米)的情况。25微米厚的玻璃层510在X等于零处的顶表面514上的最大主应力高于其他玻璃厚度的情况。但是，在X等于零处的玻璃层的底表面512的最大主应力远高于顶表面的情况(约为2倍那么高，或者更高)，因此，这个最大主应力最有可能决定玻璃层在穿刺事件过程中是否会发生失效。
图6和7所示结果表明在25微米和35微米厚的覆盖玻璃层510的厚度上，所存在的应力值低于50微米厚的覆盖玻璃层510的那些情况。较薄的覆盖玻璃层510的厚度上所存在的这些较低的应力值导致改进的落笔测试和穿刺测试结果，如图2所示。换言之，相比于50微米厚的玻璃层，相似的掉落能量在厚度小于50微米的覆盖玻璃层的厚度上产生较小的应力。这意味着相比于50微米厚的覆盖玻璃层，这些较薄的层更有可能经受住给定的穿刺作用力。如图6和7所示，使得覆盖玻璃层厚度从50微米下降到25微米，导致底表面512上较低的应力以及顶表面514上较高的应力。相信这种行为表明了玻璃失效模式随着玻璃厚度的下降发生偏离，而这种偏移的结果是改进的抗穿刺性和抗破裂性。
此外，通过对比图6和7可以看出，覆盖玻璃层510的底表面512上存在的主应力的最大值的大小明显高于顶表面514上的那些情况。对于X值小于约0.15mm，尤其如此，其中，底表面512上的最大值高于5000MPa(兆帕斯卡)。由于模型500显示底表面512上的拉伸主应力是最高主应力，这些应力最有可能导致落笔测试和/或穿刺测试过程中的失效。因此，导致底表面512上较低的最大主应力的覆盖玻璃层更有可能在落笔测试和/或穿刺测试中具有改进的性能。
图8显示基于2厘米(cm)落笔高度，模型覆盖玻璃层510的底表面512上的最大主应力与厚度516的函数关系图800。如图8所示，底表面512上的主应力的最大量存在于厚度516约为65微米的覆盖玻璃层510中。与图6和7所示的结果相符合，使得覆盖玻璃层的厚度下降到低于50微米导致底表面512上较低的最大主应力的值。并且与图6和7的结果相似的是，这种行为是出乎意料的。
因此，如图2和3的测试结果以及图6-8的有限元模型分析结果所示，相比于在相似结构中包含厚度为50微米的覆盖玻璃层，在本文所述的层叠体中包含厚度小于50微米(例如，49微米或更薄)的覆盖玻璃层具有优异且出乎意料的抗穿刺性和抗破裂性。这种行为是出乎意料的，原因在于，通常来说，随着玻璃厚度的减小，对于冲击作用力(例如，落笔作用力)的抗穿刺性和抗破裂性预期是下降的。在图2和3的100微米厚、75微米厚和50微米厚的测试样品400的测试结果中，显示了抗穿刺性和抗破裂性的这种下降趋势。但是，对于小于50微米的厚度，这种趋势出乎意料地发生反转。35微米和25微米厚的测试样品400的测试结果显示，通过使得覆盖玻璃层的厚度下降到小于50微米，对于冲击作用力(例如，落笔作用力)的抗穿刺性和抗破裂性会相对于相当的50微米厚覆盖玻璃层发生增加。
通过有限元分析证实了厚度小于50微米的覆盖玻璃层的出乎意料且优异的表现行为，其显示冲击作用力(例如，落笔作用力)在此类覆盖玻璃层中产生了较小的应力量。由于这些应力值较小，此类(厚度小于50微米的)覆盖玻璃层能够更好地抵抗由于冲击作用力所导致的穿刺和/或破裂。具体来说，厚度小于50微米的覆盖玻璃层的底表面上较小的应力值导致覆盖玻璃层更好地适用于抵抗由于冲击作用力所引起的穿刺和/或破裂。
在一些实施方式中，例如如图10所示，层叠体102可以涂覆了涂层180，其具有底表面182、顶表面184和厚度186。在一些实施方式中，涂层180可以粘结到覆盖玻璃层120的顶表面124。在一些实施方式中，涂层180可以布置在覆盖玻璃层120的顶表面124上。在一些实施方式中，可以在覆盖玻璃层120上方(包括顶表面上和/或底表面112上)涂覆相同材料或不同材料和/或相同厚度或不同厚度的多层涂层180。
在一些实施方式中，涂层180可以是光学透明聚合物(OTP)硬涂层。用于OTP硬涂层的合适材料包括但不限于：聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、有机聚合物材料、无机-有机混合聚合物材料、以及脂族或芳族六官能团氨基甲酸酯丙烯酸酯。在一些实施方式中，OTP硬涂层可以基本上由有机聚合物材料、无机-有机混合聚合物材料或者脂族或芳族六官能团氨基甲酸酯丙烯酸酯构成。在一些实施方式中，OTP硬涂层可以由聚酰亚胺、有机聚合物材料、无机-有机混合聚合物材料或者脂族或芳族六官能团氨基甲酸酯丙烯酸酯构成。
如本文所用，“有机聚合物材料”指的是包含仅具有有机组分的单体的聚合物材料。在一些实施方式中，OTP硬涂层可以包括Gunze有限公司制造的厚度为9H的有机聚合物材料，例如，Gunze公司的“高度耐用性透明膜”。如本文所用，“无机-有机混合聚合物材料”指的是包含具有无机和有机组分的单体的聚合物材料。通过具有无机基团和有机基团的单体之间的聚合反应来得到无机-有机混合聚合物。无机-有机混合聚合物不是包含分开的无机和有机组成或相的纳米复合材料(例如，无机颗粒分散在有机基质中)。
在一些实施方式中，无机-有机混合聚合物材料可以包括包含无机硅基基团的聚合化单体，例如，硅倍半氧烷聚合物。硅倍半氧烷聚合物可以是例如：烷基-硅倍半氧烷、芳基-硅倍半氧烷或者具有如下化学结构(RSiO1.5)n的芳基烷基-硅倍半氧烷，其中，R是有机基团，例如但不限于甲基或苯基。在一些实施方式中，OTP硬涂层可以包括与有机基质结合的硅倍半氧烷聚合物，例如，新日铁化学株式会社(Nippon Steel Chemical Co.,Ltd)制造的SILPLUS。
在一些实施方式中，OTP硬涂层可以包含：90重量％至95重量％的芳族六官能氨基甲酸酯丙烯酸酯(例如，Miwon特种化学品公司制造的PU662NT(芳香族六官能氨基甲酸酯丙烯酸酯))，以及10重量％至5重量％的光引发剂(例如，Ciba特种化学品公司制造的Darocur1173)，硬度为8H或更大。在一些实施方式中，可以通过如下方式形成作为自立式层的包含脂族或芳香族六官能氨基甲酸酯丙烯酸酯的OTP硬涂层：将层旋涂到聚对苯二甲酸乙二酯(PET)基材上，使得氨基甲酸酯丙烯酸酯固化，以及从PET基材去除氨基甲酸酯丙烯酸酯层。
OTP硬涂层的厚度186可以是10微米至120微米，包括子范围。例如，OTP硬涂层的厚度186可以是：10微米、20微米、30微米、40微米、50微米、60微米、70微米、80微米、90微米、100微米、110微米、120微米，或者在这些值中的任意两个作为端点的范围内。在一些实施方式中，OTP硬涂层可以是单体式单层。
在一些实施方式中，OTP硬涂层可以是厚度为80微米至120微米的无机-有机混合聚合物材料层或者有机聚合物材料层，包括子范围。例如，包含无机-有机混合聚合物材料或者有机聚合物材料的OTP硬涂层可以具有如下厚度：80微米、90微米、100微米、110微米、120微米，或者在这些值中的任意两个作为端点的范围内。在一些实施方式中，OTP硬涂层可以是厚度为10微米至60微米的脂族或芳族六官能氨基甲酸酯丙烯酸酯材料层，包括子范围，例如：15微米至60微米，或者20微米至60微米，或者25微米至60微米，或者30微米至60微米，或者45微米至60微米，或者50微米至60微米，或者10微米至55微米，或者10微米至50微米，或者10微米至45微米，或者10微米至40微米，或者10微米至35微米，或者10微米至30微米，或者10微米至25微米，或者10微米至20微米。例如，包含脂族或芳族六官能氨基甲酸酯丙烯酸酯材料的OTP硬涂层可以具有如下厚度：10微米、20微米、30微米、40微米、50微米、60微米，或者在这些值中的任意两个作为端点的范围内。
在一些实施方式中，涂层180可以是减反射涂层。适用于减反射涂层的示例性材料包括：SiO2、Al2O3、GeO2、SiO、AlOxNy、AlN、SiNx、SiOxNy、SiuAlvOxNy、Ta2O5、Nb2O5、TiO2、ZrO2、TiN、MgO、MgF2、BaF2、CaF2、SnO2、HfO2、Y2O3、MoO3、DyF3、YbF3、YF3、CeF3、聚合物、含氟聚合物、等离子体聚合化的聚合物、硅氧烷聚合物、倍半硅氧烷、聚酰亚胺、氟化聚酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚醚砜、聚苯砜、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、丙烯酸聚合物、氨基甲酸酯聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯以及上文引述的适用于耐划痕层的其他材料。减反射涂层可以包括不同材料的子层。
在一些实施方式中，减反射涂层可以包括六边形堆积的纳米颗粒层，例如但不限于2016年3月1日公告的美国专利第9,272,947号所述的六边形堆积的纳米颗粒层，其全文通过引用结合入本文。在一些实施方式中，减反射涂层可以包括纳米多孔含Si涂层，例如但不限于2013年7月18日公开的WO2013/106629所述的纳米多孔含Si涂层，其全文通过引用结合入本文。在一些实施方式中，减反射涂层可以包括多层涂层，例如但不限于：2013年7月18日公开的WO2013/106638、2013年6月6日公开的WO2013/082488以及2016年5月10日公告的美国专利第9,335,444号所述的多层涂层，它们全文全都通过引用结合入本文。
在一些实施方式中，涂层180可以是易清洁涂层。在一些实施方式中，易清洁涂层可以包括选自下组的材料：含氟烷基硅烷、全氟聚醚烷氧基硅烷、全氟烷基烷氧基硅烷、含氟烷基硅烷-(无氟烷基硅烷)共聚物，以及含氟烷基硅烷的混合物。在一些实施方式中，易清洁涂层可以包括含有全氟化基团的选定类型的硅烷的一种或多种材料，例如：化学式为(RF)ySiX4-y的全氟烷基硅烷，式中，RF是直链C6-C30全氟烷基，X＝Cl、乙酰氧基、-OCH3和-OCH2CH3，以及y＝2或3。可从许多市场化供应商处购得全氟烷基硅烷，包括：道康宁(Dow-Corning)(例如氟碳2604和2634)，3M公司(例如ECC-1000和ECC-4000)，以及其它氟碳供应商，例如大金公司(Daikin Corporation)，瑟克(Ceko)(韩国)，克特科公司(Cotec-GmbH)(DURALON UltraTec材料)和赢创(Evonik)。在一些实施方式中，易清洁涂层可以包括2013年6月6日公开的WO2013/082477所述的易清洁涂层，其全文通过引用结合入本文。
在一些实施方式中，涂层180可以是形成在覆盖玻璃层120的顶表面124上或布置在其上方的防眩光层。合适的防眩光层包括但不限于：美国专利公开第2010/0246016号、第2011/0062849号、第2011/0267697号、第2011/0267698号、第2015/0198752号和第2012/0281292号所述的工艺制备的防眩光层，其全文结合入本文。
在一些实施方式中，涂层180可以是防指纹涂层。合适的防指纹涂层包括但不限于：包含气体俘获特征的疏油性表面层，例如，2011年8月25日公开的美国专利申请公开第2011/0206903号所述；以及由未固化或部分固化硅氧烷涂料前体(其包含与玻璃或玻璃陶瓷基材的表面具有反应性的无机侧链(例如，部分固化的线性烷基硅氧烷))形成的亲油性涂层，例如，2013年5月23日公开的美国专利申请公开第2013/0130004号所述。美国专利申请公开第2011/0206903号和美国专利申请公开第2013/0130004号的内容全文通过引用结合入本文。
在一些实施方式中，涂层180可以是形成在覆盖玻璃层120的顶表面124上或布置在其上方的抗微生物和/或抗病毒层。合适的抗微生物和/或抗病毒层包括但不限于：从玻璃的表面延伸到玻璃的深度内的抗微生物Ag+区域，其在玻璃的表面上具有合适的Ag+1离子浓度，例如，2012年2月9日公开的美国专利申请公开第2012/0034435号和2015年4月30日公开的美国专利申请公开第2015/0118276号所述。美国专利申请公开第2012/0034435号和美国专利申请公开第2015/0118276号的内容全文通过引用结合入本文。
在一些实施方式中，覆盖玻璃层120可以是2D、2.5D或者3D覆盖玻璃。如本文所用，“2D覆盖玻璃”包括这样的覆盖玻璃，其在覆盖玻璃与周界边缘相邻的顶表面和/或底表面上具有斜切形状的周界边缘。可以通过例如包含机械研磨的精整方法来形成顶表面和/或底表面上的斜切形状。2D覆盖玻璃可以在覆盖玻璃的顶表面和底表面上具有相同或者不同的斜切形状。
如本文所用，“2.5D覆盖玻璃”表示覆盖玻璃具有在其顶部侧(面朝用户侧)上具有弯曲表面的周界边缘。可以通过例如机械抛光方法形成弯曲表面。2.5D覆盖玻璃的顶部侧上的弯曲表面触摸起来比2D覆盖玻璃的斜切表面更光滑。如本文所用，“3D覆盖玻璃”表示覆盖玻璃具有形成非平坦形状的弯曲周界边缘。可以通过例如热成形和/或冷成形形成弯曲周界边缘。3D覆盖玻璃具有与覆盖玻璃的周界边缘相邻的弯曲底表面和弯曲顶表面。3D覆盖玻璃指的是如本文所述在室温(23℃)且没有经受外部作用力(例如，弯曲作用力)的情况下保持3D形状的覆盖玻璃。在室温下，由于其自身重量可能发生变形的柔性膜不被认为是本文所述的3D覆盖玻璃。2.5D和3D覆盖玻璃这两者都具有这样的最顶部外表面，其包括基本平坦的中心区域和绕着全部或者部分的基本平坦的中心区域布置的弯曲周界区域。3D覆盖玻璃包括这样的最底部外表面，其包括基本平坦的中心区域和绕着全部或者部分的基本平坦的中心区域布置的弯曲周界区域。
图11A显示根据一些实施方式的2D覆盖玻璃1100。覆盖玻璃1100包括基本平坦的中心区域1104和斜切周界区域1504。可以通过机械研磨方法对2D覆盖玻璃1104的周界区域1104进行精整，从而在覆盖玻璃1100的顶表面1106和/或底表面1108上产生斜切形状。在一些实施方式中，覆盖玻璃1100的顶表面1106和底表面1108上的斜切形状可以是相同的。
图11B显示根据一些实施方式的2.5D覆盖玻璃1110。2.5D覆盖玻璃1110包括基本平坦的中心区域1112和覆盖玻璃1110的顶表面1116上的弯曲周界区域1114。可以通过机械抛光方法对弯曲周界区域1114进行精整从而在顶表面1116上形成弯曲表面。由此，2.5D覆盖玻璃1110可以具有周界区域1114，其具有平坦底表面1118和弯曲顶表面1116。在一些实施方式中，可以通过玻璃层的周界区域的机械抛光来制得2.5D覆盖玻璃。
图11C显示根据一些实施方式的3D覆盖玻璃1120。3D覆盖玻璃1120包括基本平坦的中心区域1122和弯曲周界区域1124。3D覆盖玻璃1120具有弯曲顶表面1126和弯曲周界区域1124中的弯曲底表面1128。可以通过例如，将玻璃层模制成3D形状来形成3D覆盖玻璃1120。
图12显示根据一些实施方式的消费者电子产品1200。消费者电子产品1200可以包括外壳1202，其具有前表面(面朝使用者的表面)1204，与前表面1204相对的背表面1206，以及侧表面1208。电子组件可以至少部分地提供在外壳1202内。电子组件可以包括控制器1210、存储器1212和显示器组件(包括显示器1214)等。在一些实施方式中，显示器1214可以提供在外壳1202的前表面1204处或与其相邻。显示器1214可以是例如：发光二极管(LED)显示器或者有机发光二极管(OLED)显示器。
例如，如图12所示，消费者电子产品1200可以包括覆盖基材1220。覆盖基材1220可以起到保护显示器1214以及电子产品1200的其他组件(例如，控制器1210和存储器1212)免受破坏的作用。在一些实施方式中，覆盖基材1220可以布置在显示器1214上方。在一些实施方式中，覆盖基材1220可以粘结到显示器1214。在一些实施方式中，覆盖基材1220可以是覆盖玻璃，其完全或者部分由本文所讨论的覆盖玻璃层120所限定。覆盖基材1220可以是2D、2.5D或者3D覆盖基材。覆盖基材1220可以限定了至少一部分的外壳1202。在一些实施方式中，覆盖基材1220可以限定外壳1204的前表面1202。在一些实施方式中，覆盖基材1220可以限定外壳1202的前表面1204以及外壳1202的全部或者一部分的侧表面1208。在一些实施方式中，消费者电子产品1200可以包括限定了外壳1202的全部或者一部分的背表面1206的覆盖基材1220。
在一些实施方式中，本文所讨论的覆盖玻璃层可以包括通过玻璃的受控结晶所产生的“玻璃陶瓷”材料。在此类实施方式中，玻璃陶瓷具有约30％至约90％结晶度。可以使用的玻璃陶瓷体系的非限制性例子包括：Li2O×Al2O3×nSiO2(即LAS体系)，MgO×Al2O3×nSiO2(即，MAS体系)和ZnO×Al2O3×nSiO2(即，ZAS体系)。在一个或多个替代实施方式中，玻璃层可以包括晶体基材，例如玻璃陶瓷基材(其可以经过强化或者未经过强化)或者可以包括单晶结构，例如蓝宝石。在一个或多个具体实施方式中，玻璃层可以包括无定形基底(例如玻璃)和晶体包覆(例如，蓝宝石层、多晶氧化铝层和/或尖晶石(MgAl2O4)层)。在一些实施方式中，本文所讨论的覆盖玻璃层可以不是包含玻璃陶瓷材料的。
如本文所述，可以对覆盖玻璃层进行强化以形成强化层。如本文所用，术语“强化层”可以表示通过例如用较大离子来离子交换层表面中的较小离子进行化学强化的层。也可以采用本领域已知的其他强化方法，例如热回火或者利用层部分之间的热膨胀系数的不匹配来产生压缩应力和中心张力区域，以形成强化层。
当层通过离子交换工艺进行化学强化时，用具有相同价态或氧化态的较大的离子来代替或交换层的表面层内的离子。通常通过将层浸没在熔盐浴中进行离子交换工艺，所述熔盐浴包含要与基材中的较小离子发生交换的较大离子。本领域技术人员会理解的是，离子交换工艺的参数包括但不限于：浴组成和温度，浸没时间，层在一种或多种盐浴中的浸没次数，多种盐浴的使用，其它步骤例如退火以及洗涤等，其通常是由以下的因素决定的：层的组成和所需的压缩应力(CS)，通过强化操作得到的基材的压缩应力层深度(或层深度)。例如，含碱金属的玻璃层的离子交换可以通过以下方式实现：浸没在至少一种包含盐的熔盐浴中，所述盐是例如但不限于较大碱金属离子的硝酸盐、硫酸盐和氯化物。熔盐浴的温度通常是约380℃至高至约450℃，而浸入时间是约15分钟至高至约40小时。但是，也可以采用与上述不同的温度和浸没时间。
另外，在以下文献中描述了在多种离子交换浴中浸没玻璃层(在浸没之间进行洗涤和/或退火步骤)的离子交换工艺的非限制性例子：Douglas C.Allan等人于2009年7月10日提交的题为“Glass with Compressive Surface for Consumer Applications(用于消费者应用的具有压缩表面的玻璃)”的美国专利申请第12/500,650号，其要求2008年7月11日提交的美国临时专利申请第61/079,995号的优先权，其中，通过在不同浓度的盐浴中多次浸没，进行多次连续的离子交换处理，从而对玻璃基材进行强化；以及2012年11月20日公告的Christopher M.Lee等人的题为“Dual Stage Ion Exchange for ChemicalStrengthening of Glass(用于对玻璃进行化学强化的双阶段离子交换)”的美国专利8,312,739，其要求2008年7月29日提交的美国临时专利申请第61/084,398号的优先权，其中，玻璃基材通过以下方式进行强化：首先在用流出离子稀释的第一浴中进行离子交换，然后在第二浴中浸没，所述第二浴的流出离子浓度小于第一浴。美国专利申请第12/500,650号和美国专利第8,312,739号的内容全文参考结合于此。
尽管本文已经描述了各种实施方式，但是它们通过示例方式给出，并不构成限制。应注意的是，基于本文所列出的教导和指导，旨在将调试和改良包括在所揭示的实施方式的含义和等价内容范围之内。因此，对于本领域的技术人员显而易见的是，可以在不偏离本公开的精神和范围的情况下，对本文所揭示的实施方式进行形式和细节上的各种修改和变动。本文所呈现的实施方式的元素不一定是相互排斥的，而是可以互换以满足各种情形，这是本领域技术人员会理解的。
参考如附图所示的本公开的实施方式来详细描述本公开的实施方式，其中相同的附图标记用于表示相同或功能相似的元件。对于“一个实施方式”、“一种实施方式”、“一些实施方式”、“在某些实施方式中”等的参照表明所描述的实施方式可以包括特定的特征、结构、或特性，但是不一定每个实施方式都包括该特定的特征、结构、或特性。此外，此类表述不一定指的是同一个实施方式。除此之外，当结合一个实施方式描述特定的特征、结构、或特性时，指的是本领域技术人员有能力结合其他实施方式影响此类特征、结构、或特性，无论是否明确描述出来。
本公开内容的例子是示意性的，而不是限制性的。通常根据各种条件和参数进行其它合适修饰和调节，这对本领域技术人员来说是显而易见的，属于本公开内容的精神和范围。
用于描述元件或组件的不定冠词“一个”和“一种”表示存在这些元件或组件中的一个或至少一个。尽管这些冠词通常用于预示修饰的名词是单数名词，但是除非另有说明，否则本文所用的冠词“一个”和“一种”也包括复数。类似地，同样除非另有说明，否则如本文所使用，定冠词“该”也预示修饰的名词可以是单数或复数。
如权利要求所用，“包括”是开放式过渡用语。跟在过渡用语“包括”之后的一系列元件是非排他性举例，从而还可能存在除了那些具体列出之外的元件。如权利要求所用，短语“基本由......组成”或者“基本由......构成”将材料的组成限制到指定的材料以及不会对材料基本和新颖特征造成显著影响的那些。如权利要求所用，“由......构成”或者“完全由......组成”将材料的组成限制到具体的材料，并且排除任何没有指定的材料。
术语“其中”用作开放式过渡用语，引入对结构的一系列特性进行陈述。
除非在具体情况下另外指出，否则本文所陈述的数值范围包括上限和下限值，且该范围旨在包括其端点和该范围内的所有整数和分数。当限定了范围时，并不旨在将权利要求的范围限制到所陈述的具体值。此外，当以范围、一种或更多种优选范围、或者优选的数值上限以及优选的数值下限的形式表述某个量、浓度或其它值或参数的时候，应当理解相当于具体揭示了通过将任意一对范围上限或优选数值与任意范围下限或优选数值结合起来的任何范围，而不考虑这种成对结合是否具体揭示。最后，当使用术语“约”来描述范围的值或端点时，应理解本公开包括所参考的具体值或者端点。无论数值或者范围的端点有没有陈述“约”，该数值或范围的端点旨在包括两种实施方式：一种用“约”修饰，而一种没有用“约”修饰。
如本文所用，术语“约”表示量、尺寸、制剂、参数和其他变量和特性不是也不需要是确切的，而是可以按照需要是近似的和/或更大或更小的，反映了容差、转换因子、舍入和测量误差等，以及本领域技术人员已知的其他因素。
本文所用术语“基本”、“基本上”及其变化形式旨在表示所描述的特征与数值或描述相等同或近似相同。例如，“基本平面”表面旨在表示平面或近似平面的表面。此外，“基本上”旨在表示两个值是相等或者近似相等的。在一些实施方式中，“基本上”可以表示数值相互在约为10％之内，例如相互在约为5％之内，或者相互在约为2％之内。
上面已经借助于显示特定功能及其关系的功能构建块描述了本文实施方式。为了便于描述，本文任意定义了这些功能构建块的边界。可以定义替代边界，只要适当地执行指定的功能及其关系即可。
要理解的是，本文使用的短语和术语的目的是描述而非限制。本公开内容的宽度和范围不应局限于任何上述示例性实施方式，而仅由下面的权利要求书和其等价形式来限定。
Claims (22)
1.一种制品，其包括：
层叠体，其包括：
基材；
粘结到基材的顶表面的覆盖玻璃层，所述覆盖玻璃层包括1微米至49微米的厚度；和
包括5微米至50微米厚度范围的光学透明粘合剂层，其将覆盖玻璃层的底表面粘结到基材的顶表面。
2.如权利要求1所述的制品，其中，覆盖玻璃层包括1微米至40微米的厚度。
3.如权利要求1所述的制品，其中，覆盖玻璃层包括1微米至30微米的厚度。
4.如权利要求1所述的制品，其中，覆盖玻璃层包括35微米至49微米的厚度。
5.如权利要求1所述的制品，其中，覆盖玻璃层包括25微米至49微米的厚度。
6.如权利要求1-5中任一项所述的制品，其中，光学透明粘合剂层包括25微米至50微米的厚度。
7.如权利要求1-6中任一项所述的制品，其中，通过光学透明粘合剂层将覆盖玻璃层直接粘结到基材的顶表面。
8.如权利要求1-7中任一项所述的制品，其中，层叠体实现了3mm的弯曲半径。
9.如权利要求1-8中任一项所述的制品，其中，层叠体包括如下抗冲击性，其定义为穿刺测试中，覆盖玻璃层在2.25千克或更大作用力的穿刺负荷下能够避免失效的能力。
10.如权利要求1-9中任一项所述的制品，其中，层叠体包括如下抗冲击性，其定义覆盖玻璃层在8厘米或更高落笔高度下能够避免失效的能力，其中，根据落笔测试测量落笔高度。
11.如权利要求1-10中任一项所述的制品，其中，覆盖玻璃层是拉制成所述覆盖玻璃层的厚度的再拉制的玻璃层。
12.如权利要求1-11中任一项所述的制品，其中，覆盖玻璃层包括含碱性铝硅酸盐玻璃。
13.如权利要求1-12中任一项所述的制品，其中，覆盖玻璃层包含：
55摩尔％至70摩尔％SiO2；
10至20摩尔％Al2O3；和
10摩尔％至20摩尔％Na2O。
14.如权利要求1-13中任一项所述的制品，其中，覆盖玻璃层包括：至少在覆盖玻璃层的顶表面或者底表面中的一个处的压缩应力，以及在覆盖玻璃层的厚度上的至少两点处的金属氧化物的不同浓度。
15.如权利要求1-14中任一项所述的制品，其中，基材包括电子显示器，其包含限定了基材的至少一部分顶表面的显示器表面。
16.如权利要求1-15中任一项所述的制品，其包括布置在覆盖玻璃层的顶表面上的涂层。
17.如权利要求16所述的制品，其中，涂层包括选自下组的涂层：减反射涂层、防眩光涂层、抗指纹涂层、防碎裂涂层、抗微生物涂层和易清洁涂层。
18.如权利要求1-17中任一项所述的制品，其中，层叠体不包含布置在覆盖玻璃层的顶表面上的聚合物硬涂层。
19.如权利要求1-18中任一项所述的制品，其中，制品是消费者电子产品以及基材包括电子显示器，所述消费者电子产品包含：
包含前表面、背表面和侧表面的外壳；以及
至少部分位于所述外壳内的电子组件，所述电子组件包括控制器、存储器和所述电子显示器，所述电子显示器位于所述外壳的前表面处或者与所述外壳的前表面相邻；
其中，所述覆盖玻璃层形成了至少一部分的所述外壳。
20.一种制造层叠件的方法，所述方法包括：
将覆盖玻璃层粘结到基材的顶表面，所述覆盖玻璃层包括1微米至49微米的厚度，
其中，通过包含厚度为5微米至50微米的光学透明粘合剂层将覆盖玻璃层的底表面粘结到基材的顶表面。
21.如权利要求20所述的方法，其还包括通过再拉制工艺形成覆盖玻璃层，其中，再拉制工艺包括将覆盖玻璃层再拉制成所述覆盖玻璃层的厚度。
22.如权利要求20或21所述的方法，其还包括用涂层涂覆覆盖玻璃层的顶表面。
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