KR20140005197A - 눈 부심 방지 표면 처리 방법 및 이의 제품 - Google Patents

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KR20140005197A
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찰스 워렌 랜드너
티모씨 에드워드 마이어스
켈빈 엔구엔
알란 티 2세 스테판스
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코닝 인코포레이티드
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Abstract

본 발명에 한정된 바와 같은, 헤이즈, 선영성, 표면 조도, 및 균일한 특성을 갖는 적어도 하나의 눈부심 방지 표면을 포함하는 유리 제품. 상기 유리 제품의 제조방법은, 예를 들어, 상기 제품의 유리 표면의 적어도 일부에 변형가능한 입자를 증착시키는 단계; 상기 표면에 입자를 부착시키기 위해 상기 표면에 상기 증착된 변형가능한 입자를 변형시키는 단계; 및 눈부심 방지 표면을 형성하기 위해 에칭제로 상기 부착된 입자를 갖는 유리 표면을 접촉시키는 단계를 포함한다. 본 발명에 한정된 바와 같은, 상기 유리 제품을 포함하는 디스플레이 시스템은 또한 개시된다.

Description

눈 부심 방지 표면 처리 방법 및 이의 제품 {Anti-glare surface treatment method and articles thereof}
본 출원은 2010년 11월 29일자에 출원된 미국 가 특허출원 제 61/417,674호의 우선권을 주장하며, 상기 출원의 전체적인 내용은 참조로서 본 발명에 모두 포함된다.
본 출원은 공동 소유되고 양도된 2010년 4월 30일자에 "눈 부심 방지 표면 처리 방법 및 이의 제품"이란 명칭으로 출원된 USSN 61/329,936호, 및 2010년 8월 11일자에 "눈 부심 방지 표면 처리 방법 및 이의 제품"이란 명칭으로 출원된 USSN 372,655호에 관한 것이다.
본 발명은 일반적으로 눈부심 방지 (anti-glare) 표면을 사용 및 제조 방법 및 이의 제품에 관한 것이다.
본 발명은 눈 부심 방지 표면의 제조방법, 상기 방법에 의해 제조된 제품, 및 상기 눈부심 방지 표면을 갖는 제품을 포함하는 디스플레이 시스템을 제공한다.
구체 예에 있어서, 상기 제조방법은 제품의 적어도 하나의 표면 위에 희생 (sacrificial) 변형가능한 입자를 증착하는 단계, 상기 표면에 입자를 적어도 부착시키기 위해 상기 변형가능한 입자 밀집된 (populated) 표면, 즉, 입자화된 표면 (particulated surface)을 처리하는 단계, 및 상기 눈부심 방지 거칠어진 표면을 형성하기 위해 에칭제로 상기 최종 부착된 입자화된 표면을 접촉시키는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 유리 제품은 헤이즈, 선영성, 표면 조도, 및 균일한 특성을 갖는 적어도 하나의 눈부심 방지 표면을 포함한다.
본 발명의 구체 예에 있어서:
도 1은 유리 표면 위에 눈부심 방지층을 제조하는 방법의 개략도이다.
도 2는 Gorilla® 유리표면 위에 슬롯-다이 (slot-die) 코팅된 왁스 입자의 예시적인 현미경 사진이다.
도 3은 30초 동안 75 ℃로 후속 열 처리된 도 2의 Gorilla® 유리표면의 예시적인 현미경 사진이다.
도 4a 및 4b 각각은 유리 샘플을 폴리머 입자 제제로 슬롯-다이 코팅시킨 다음, 30초 동안 106 ℃에서 열처리한 후, 예시적인 에칭된 표면의 두 가지 다른 확대 현미경 사진이다.
도 5a 및 5b 각각은, 코팅 및 30 초동안 106 ℃에서 열처리 및 그 다음 30초 에칭 시간을 거친 후, 에칭된 쿠폰 (etched coupon)의 표면 조도에 대한 고 (도 5a) 및 저 (도 5b) 확대 표면 분석 사진이다.
도 6a 및 6b 각각은, 40초 동안 80 ℃에서 열 처리 전 및 후의, Gorilla® 유리표면 위에 슬롯-다이 코팅된 입자의 대표적인 현미경 사진이다.
도 7a 및 7b 각각은, 30초 동안 105 ℃에서 열 처리 전 및 후의, Gorilla® 유리표면 위에 슬롯-다이 코팅된 입자의 대표적인 현미경 사진이다.
도 8a 및 8b는 레이저 광 산란 (laser light scattering)에 의해 측정된 대표적인 입자 현탁액 제제 (particle suspension formulations)에 대한 입자 크기 분포의 실시 예들을 나타내는 막대 그래프이다.
구체 예에 있어서, 본 발명의 제품, 및 본 발명의 제조 및 사용 방법은 이하 논의된 바와 같은 실시 예를 포함하는, 하나 이상의 바람직한 특성 또는 관점을 제공한다. 청구항 중 어느 것에 인용된 특성 또는 관점은 본 발명의 모든 양상에 일반적으로 적용가능하다. 어떤 한 청구항에서 인용된 단일 또는 다중 특성 또는 관점은 어떤 다른 청구항 또는 청구항들에서 어떤 다른 인용된 특성 또는 관점과 조합 또는 변경될 수 있다.
정의
"눈부심 방지" 또는 이와 유사한 용어는 디스플레이와 같은 변화하는, 본 발명의 제품의 처리된 표면에 접촉하는 광의 물리적 변형, 또는 경면 반사 (specular reflection) 보다 확산 반사 (diffuse reflection)로 제품의 표면으로부터 반사된 광의 변화시키는 특성에 관한 것이다. 구체 예에 있어서, 상기 표면 처리는 기계적, 화학적, 전기적 및 유사한 에칭 방법 또는 이의 조합에 의해 제조될 수 있다. 눈 부심 방지는 상기 표면으로부터 반사된 광의 양을 감소시키지 않을 뿐만 아니라, 상기 반사된 광의 특징을 변화시킨다. 눈부심 방지 표면에 의해 반사된 이미지는 날카롭지 않은 경계를 갖는다. 눈부심 방지 표면에 대조적으로, 항-반사 표면 (anti-reflective surface)은 통상적으로 굴절률 변화 (refractive-index variation)의 사용 및 몇몇 경우에 있어서, 파괴적인 간섭 (destructive interference) 기술을 통해 표면으로부터 광의 반사를 감소시키는 박막 코팅이다.
"접촉" 또는 이와 유사한 용어는 적어도 하나의 접촉된 실체에 물리적 변화, 화학적 변화, 또는 두 변화 모두를 결과할 수 있는 밀접한 물리적 터치에 관한 것이다. 본 발명에 있어서, 스프레이 코팅, 딥 코팅, 슬롯 코팅, 및 이와 유사한 기술과 같은, 다양한 입자화 증착 또는 접촉 기술은, 본 발명에서 설명 및 입증된 바와 같이 접촉된 경우 입자화된 표면을 제공할 수 있다. 부가적으로 또는 선택적으로, 본 발명에서 설명 및 입증된 바와 같은, 스프레이, 침지, 딥핑, 및 이와 유사한 기술 또는 이의 조합과 같은, 입자화된 표면의 다양한 화학적 처리는 하나 이상의 에칭 조성물과 접촉한 경우 에칭된 표면을 제공할 수 있다.
"선형성 반사 이미지 (Distinctness-of-reflected image)," "선형성 이미지 (Distinctness-of-image,)" "DOI" 또는 이와 유사한 용어는 제목 "Standard Test Methods for Instrumental Measurements of Distinctness-of-Image Gloss of Coating Surfaces"의 ASTM 절차 D5767 (ASTM 5767)에 의해 정의된다. ASTM 5767의 방법 A에 따르면, 유리 반사율 (glass reflectance factor) 측정은 경면 시야각 (specular viewing angle) 및 경면 시야각에서 다소 벗어나는 각에서 유리 제품의 적어도 하나의 거친 표면에서 만들어진다. 이러한 측정에 의해 얻어진 값은 DOI 값을 제공하기 위해 조합된다. 특히, DOI은 하기 수학 식 1에 따라 계산된다:
Figure pct00001
여기서 Rs는 경면 방향에서 상대적인 반사율의 진폭 (amplitude of reflectance)이고, Ros는 비-경면 (off-specular) 방향에서 상대적인 반사율의 진폭이다. 본 발명에서 기술된 바와 같이, 특별한 언급이 없는 한, Ros는 상기 경면 방향으로부터 0.2°내지 0.4°의 각도 범위에 걸친 반사율 값의 평균에 의해 계산된다. Rs는 경면 방향의 중앙에서 ±0.05°의 각도 범위에 걸친 반사율의 평균에 의해 계산된다. Rs 및 Ros 모두는 ASTM 절차 D523 및 D5767에서 구체화한 바와 같이, 공인된 블랙 유리 표준 (certified black glass standard)에 의해 보정된, 측정계 (goniophotometer) (Novo-gloss IQ, Rhopoint Instruments)를 사용하여 측정된다. 상기 Novo-gloss 장치는 상기 경면 각이 검출기 어레이 (detector array)에서 가장 놓은 값에 대해 중앙에 있는 검출기 어레이로 사용한다. DOI는 또한 1-면 (유리의 근처에 연결된 블랙 흡수자) 및 2-면 (유리에 연결되지 않은, 유리 표면들 모두로부터 허용된 반사) 방법들을 사용하여 평가된다. 상기 1-면 측정은 상기 유리 제품의 단일 면 (예를 들어, 단일 거친 표면)에 대해 결정될 광택, 반사율 및 DOI를 허용하는 반면, 상기 2-면 측정은 전체로서 유리 제품에 대해 결정될 광택, 반사율, 및 DOI가 가능할 수 있다. 상기 Ros/Rs 비는 전술한 바와 같이, Rs 및 Ros에 대해 얻어진 평균값으로부터 계산될 수 있다. "20°DOI," 또는 "DOI 20°"은, ASTM D5767에서 기술된 바와 같이, 광이 상기 유리 표면의 평균을 20°벗어나 상기 샘플에 입사되는 DOI 측정에 관한 것이다. 상기 2-면 방법을 사용하여 DOI 또는 일반 광택의 측정은 이들 특성의 측정된 값이 상기 샘플이 부재인 경우 0이 되도록 암실 또는 밀봉체에서 수행되는 것이 최선일 수 있다.
눈부심 방지 표면에 있어서, DOI는 상대적으로 낮고, 수학 식 1의 반사율 비 (Ros/Rs)는 상대적으로 높은 것이 일반적으로 바람직하다. 이것은 흐려진 또는 불명확한 반사된 이미지의 시각 인식 (visual perception)을 결과한다. 구체 예에 있어서, 상기 유리 제품의 상기 적어도 하나의 거칠어진 표면은 1-면 방법 측정을 사용하여 상기 경면 방향으로부터 20°의 각에서 측정된 경우, 약 0.1 초과, 약 0.4 초과, 및 약 0.8 초과하는 Ros/Rs를 갖는다. 상기 2-면 방법을 사용하여, 상기 경면 방향으로부터 20°각에서 상기 유리 제품의 Ros/Rs은 약 0.05 초과이다. 구체 예에 있어서, 상기 유리 제품에 대해 2-면 방법으로 측정된 상기 Ros/Rs는 약 0.2 초과, 및 약 0.4 초과이다. ASTM D523에 의해 측정된 바와 같은, 일반 광택은 약한 경면 부분 (흐려진 반사 이미지)을 갖는 표면들과 강한 경면 반사 부분 (뚜렷한 반사 이미지)을 갖는 표면을 구별하기에 불충분하다. 이것은 ASTM D523에 따라 설계된 일반 광택 미터를 사용하여 측정가능하지 않는 소-각 산란 효과 (small-angle scattering effects)에 기인할 수 있다.
"투과 헤이즈 (transmission haze)," "헤이즈", 또는 이와 유사한 용어는 표면 조도에 관련된 입자화 표면 광 산란 특성에 관한 것이다. 헤이즈 측정은 이하 더욱 상세하게 설명된다.
"조도," "표면 조도 (Ra)," 또는 이와 유사한 용어는 현미경 수준 이하에서, 하기에 기술된 평균 제곱근 (root mean squared) (RMS) 조도 또는 RMS 조도와 같은, 울퉁불퉁하거나 또는 불규칙적인 표면 조건에 관한 것이다.
"광택," "광택 수준," 또는 이와 유사한 용어는, 예를 들어, 표면 광택 (surface luster), 밝기 (brightness), 또는 비춤 (shine)에 관한 것으로, 좀더 구체적으로는 본 발명에 참조로서 그 전체적인 내용이 포함되는, ASTM 절차 D523에 따른 (예를 들어, 공인된 블랙 유리 표준과 같은) 표준에 대해 보정된 경면 반사의 측정에 관한 것이다. 일반 광택 측정은 통상적으로 20° 60° 및 85°의 입사광 각에서 수행되며, 가장 일반적으로 사용된 광택 측정은 60°에서 수행된다. 그러나, 이러한 측정의 넓게 허용된 각 때문에, 일반 광택은 종종 높고 낮은 반사된 이미지의 선명성 (distinctness-of-reflected-image) (DOI) 값을 갖는 표면들 사이에서 구별할 수 없다. 상기 유리 제품의 눈부심 방지 표면은 ASTM 절차 D523에 따라 측정된 바와 같이, 90 SGU (표준 광택 단위)까지의 광택 (즉; 특정 각에서의 표준과 비교하여 샘플로부터 경면 반사된 광의 양)을 갖고, 어떤 구체 예에 있어서, 60 SGU 내지 약 80 SGU의 범위에서 광택을 갖는다. 또한 상기 DOI 정의를 참조.
"접착 (Adhere)," "부착 (Adhering)," "어닐 (Anneal)," "어닐링 (Annealing)," 또는 이와 유사한 용어는 개별적 또는 일괄적으로 입자-표면 흡착 (attraction) 또는 결합 (association) (점착 (adhesion)), 입자-입자 흡착 또는 결합 (밀착 (cohesion)), 및 이와 유사한 상호 작용을 포함하는, 처리될 상기 유리 표면에 변형을 유발하고, 나중에 또 다른 잡음 (hold fast), 결합 (bind to), 점착 (stick to), 및 이와 유사한 연관된 디스크립터 (descriptors)가 발생된 경우, 상기 증착된 입자의 상태 또는 작용 (action)에 관한 것이다.
"변형 (deform)," "변형가능한 (deformable)," "변형하는 (deforming)," 또는 이와 유사한 용어는 상기 유리 표면에, 예를 들어, 열적, 기계적, 복사, 또는 이와 유사한 수단에 의해 접착이 발생한 경우, 상기 증착된 입자의 상태 또는 작용 (act)에 관한 것이다.
"ALF" 또는 "평균 특징적 대형 피쳐 크기 (average characteristic largest feature size)" 또는 이와 유사한 용어는 x- 및 y-방향, 즉, 하기에 더욱 기술된 바와 같이, 상기 기판의 평면에서, 표면 피쳐 변화의 측정에 관한 것이다.
"스파클 (Sparkle)," "디스플레이 스파클", 또는 이와 유사한 용어는 적어도 하나의 거칠어진 유리 표면 및 픽셀 피치 (pixel pitch), 특히 관심의 것 중 가장 작은 픽셀 피치에서 피쳐들의 크기 사이의 관계에 관한 것이다. 디스플레이 스파클은 일반적으로 픽셀형 (pixelated) 디스플레이에 인접하게 배치된 물질의 사람의 육안 검사 (visual inspection)에 의해 평가된다. ALF 및 디스플레이 "스파클"에 대한 이의 관계는 유리의 다양한 조성 및 입자-코팅된 폴리머 물질을 포함하는 다른 표면 모폴로지를 갖는 다른 물질에 대한 유효 매트릭 (valid metric)이라는 것을 확인했다. 평균 대형 특징적 피쳐 크기 (ALF) 및 디스플레이 스파클 심각도 (severity)의 가시적인 순위 사이의 강한 상관관계는 다중의 다른 샘플 물질 및 표면 모폴로지에 걸쳐 존재한다. 구체 예에 있어서, 상기 유리 제품은 디스플레이 시스템의 한 부분을 형성하는 유리 패널 (glass panel)일 수 있다. 상기 디스플레이 시스템은 상기 유리 패널에 인접하게 배치된 픽셀형 이미지 디스플레이 패널을 포함할 수 있다. 상기 디스플레이 패널의 가장 작은 픽셀 피치는 ALF를 초과할 수 있다.
"균일도 (Uniformity)," "균일한 (Uniform)" 또는 이와 유사한 용어는 에칭된 샘플의 표면 품질에 관한 것이다. 표면 균일도는 일반적으로 다양한 각도에서 사람의 육안 검사에 위해 평가된다. 예를 들어, 상기 유리 제품 샘플은 표준, 백색 형광 조건 (white fluorescent light condition) 하에서, 약 눈높이, 그 다음 0도에서 90도까지 천천히 돌리면서 유지된다. 관측자에 의해 검측될 수 있는 핀홀 (pin-holes), 균열 (cracks), 굴곡 (waviness), 조도, 또는 다른 유사한 결함이 없는 경우, 상기 표면 품질은 "균일한" 것으로 간주되며, 그렇지 않다면, 상기 샘플은 균일하지 않다고 간주된다. "우수한" 또는 "OK" 등급은 상기 균일도가 후자의 것보다 주관적으로 전자가 더 허용가능하고 또는 만족스럽다는 것을 의미한다.
"포함한다","포함하는" 또는 이와 유사한 용어는 배제하지 않고 포함하는 포괄적인 의미이지만, 이에 제한되지 않는다.
구체 예에 있어서 "필수적으로 이루어진"은 예를 들어:
본 발명에서 정의된 바와 같이, 상기 제품의 표면 위에 입자를 증착시키는 단계; 상기 제품의 표면에 입자를 부착시키는 단계; 및 에칭제로 입자화된 표면을 접촉시키는 단계에 의해 유리 제품을 제조하는 방법; 또는
본 발명에서 정의된 바와 같이, 헤이즈, 선영성, 표면 조도, 및 균일도 특성을 갖는 눈부심 방지 표면을 갖는 유리 제품; 또는
본 발명에서 정의된 바와 같이, 상기 유리 제품을 포함하는 디스플레이 시스템에 관한 것일 수 있다.
본 발명의 제조방법, 제품, 디스플레이 시스템, 조성물, 제제, 또는 어떤 장치는 청구항에 기재된 구성요소 또는 단계에 더하여, 특정 반응제 (reactants), 특정 첨가제 또는 성분 (ingredients), 특정 시약 (agent), 특정 표면 개질제 (modifier) 또는 상태, 또는 이와 유사한 구조, 물질, 또는 선택된 다양한 공정과 같은, 본 발명의 조성물, 제품, 장치, 또는 제조 및 사용 방법의 기본 및 새로운 특성에 실질적으로 영향을 미치지 않는 또 다른 구성요소 또는 단계를 포함할 수 있다. 본 발명의 구성요소 또는 단계의 기본 특성에 실질적으로 영향을 미칠 수 있거나 또는 본 발명의 원하지 않는 특징을 제공할 수 있는 항목은, 본 발명에서 정의되고 구체화된, 중간값 및 범위를 포함하는, 상기 값을 넘는, 예를 들어, 유해한 높은 눈부심 (objectionable high glare) 또는 고 광택 특성을 갖는 표면, 예를 들어, 헤이즈, 선영성, 표면 조도, 균일도, 또는 이들의 조합을 갖는 표면을 포함한다.
본 발명에 사용된 바와 같은, 용어들의 "단수" 또는 "복수"는 특별히 구분없이 사용하며, 비록 "단수"일지라도, 특별한 언급이 없는 한, 적어도 하나 또는 하나 이상을 의미한다.
기술 분야의 당업자들에게 잘 알려진, 약어 (예를 들어, 시간 또는 시간들에 대해서 "h" 또는 "hr", 그램에 대해서 "g" 또는 "gm", 밀리리터에 대해서 "mL", 및 실온에 대해서 "rt", 나노미터에 대해서 "nm", 및 이와 유사한 약어)는 사용될 수 있다.
구성요소 (components), 성분 (ingredients), 첨가제, 및 이와 유사한 관점 및 이의 범위에 대해 개시된 특정 및 바람직한 값은, 오직 설명을 위한 것이고; 이들은 다른 정의된 값 또는 정의된 범위 내에 다른 값을 배제하지 않는다. 본 발명의 조성물, 장치, 및 방법은 본 발명에 개시된 어떤 값 또는 상기 값의 어떤 조합, 특정 값, 더욱 특정 값 및 바람직한 값을 포함할 수 있다.
화학적으로 강화된 유리는 디스플레이 창으로서 많은 휴대용 및 터치-민감 장치에서 사용되고, 기계적 손상에 저항하는 커버 플레이트는 상기 생산품의 시각적 외관 및 기능성에 중요할 수 있다. 기계적 강화 동안, 용융염 욕 (molten salt bath)의 더 큰 알칼리 이온은 상기 유리 표면으로부터 특정 거리 이내에 위치된 더 작은 이동성 알칼리 이온과 교환된다. 상기 이온-교환 공정은 사용동안 일반적으로 발생하는 어떤 기계적 손상에 좀더 저항하도록 허용하는, 압축이 유리의 표면에서 일어난다.
많은 디스플레이 표면으로부터 눈부심의 중요한 요인인, 상기 경면 반사에서 감소는 특히 눈부심이 태양광에 의해 악화될 수 있는, 야외 사용을 위해 설계된 생산품의 제조업자에 의해 종종 요구된다. 광택과 같이 정량화된, 상기 경면 반사의 강도를 감소시키기 위한 하나의 방법은 상기 유리 표면을 거칠게 하거나 또는 직조된 필름 (textured film)으로 이를 피복시키는 것이다. 상기 조도 또는 직조의 치수는 미세한 헤이즈 또는 무광 표면 (matte surface)을 생성하는, 가시광선을 산란시키기에 충분히 커야 하지만, 상기 유리의 투명성에 상당한 영향을 줄 만큼 크지는 않아야 한다. 직조된 또는 입자-함유 폴리머 필름은 상기 유리 기판의 특성 (예를 들어, 내스크래치)을 유지하는 것이 중요치 않는 경우 사용될 수 있다. 이들 필름은 저렴하고 적용하기에 쉬울 수 있지만, 이들은 쉽게 마모되어 상기 장치의 디스플레이 기능성을 감소시킬 수 있다. 필름 또는 코팅 사용의 또 다른 단점은 어떤 터치-민감 장치의 작동을 방해 또는 성능을 감소시킬 수 있는 것이다. 상기 유리 표면의 거칠게 하는 또 다른 접근법은 화학적 에칭이다. 미국 특허 제4,921,626호, 제6,807,824호, 제5,989,450호, 및 WO 2002053508호는, 유리 에칭 조성물 및 상기 조성물로 유리를 에칭하는 방법은 개시하고 있다. 습식 에칭은 고유의 기계적 표면 특성을 보호하면서, 상기 유리 위에 눈부심 방지 표면을 발생시키는 방법이다. 이러한 공정 동안, 상기 유리 표면은 가시 광선의 산란을 위한 정확한 조도 치수로 표면을 깎아내는 화학제에 노출된다. 다른 용해도를 갖는 미세-구조 영역이 존재하는 소다 라임 실리케이트 유리 (soda lime silicate glasses)의 경우, 거칠어진 표면은 (통상적으로 불화물-이온 함유) 무기산 용액에서 상기 유리를 위치시켜 형성될 수 있다. 이러한 선택적 침출 (leaching) 또는 에칭은, 예를 들어, 리튬, 나트륨, 칼륨, 및 이와 유사한 조성물, 또는 이들의 조합을 함유하는, 알칼리 토 알루미노실리케이트 및 혼합 알칼리 보로실리케이트, 및 알칼리 및 혼합 알칼리 알루미노실리케이트와 같은, 다른 용해 미세-구조 영역이 결함된 다른 디스플레이 유리에 균일한 눈부심 방지 표면을 발생시키는데에는 일반적으로 효과적이지 않다.
유리 표면의 조도화 (roughening)의 하나의 결과는, 입자가 거친 외관 (grainy appearance)으로 인지되는 "스파클"을 생성하는 것이다. 스파클은 대략 픽셀-수준 크기 규모에서 밝음 및 어두움 또는 착색된 점의 외관으로 나타난다. 상기 스파클의 존재는 특히 높은 주변 조명 조건하에서, 픽셀형 디스플레이의 가시성 (viewability)을 감소시킨다.
구체 예에 있어서, 본 발명은:
상기 제품의 적어도 하나의 표면 위에 변형 가능한 입자를 증착시키는 단계;
상기 표면에 변형 및 부착하기 위해 상기 표면 위에 상기 증착된 변형가능한 입자를 발생시키는 단계; 및
상기 눈부심 방지 표면을 형성하기 위해 에칭제로 상기 변형된 및 부착된 입자를 갖는 표면에 접촉시키는 단계를 포함하는, 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법을 제공한다.
구체 예에 있어서, 본 발명은:
제품의 적어도 하나의 입자를 증착시키는 단계;
상기 표면에 부착시키기 위해 상기 표면에 상기 증착된 입자를 변형시키는 단계; 및
상기 눈부심 방지 표면을 형성하기 위해 에칭제로 상기 부착된 입자를 갖는 표면에 접촉시키는 단계를 포함하는, 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법을 제공한다.
구체 예에 있어서, 본 발명은:
제품의 적어도 하나의 유리표면의 일부에 입자를 증착시키는 단계;
상기 유리 표면에 상기 증착된 입자를 부착시키기 위해 입자 표면을 가열시키는 단계; 및
상기 눈부심 방지 표면을 형성하기 위해 에칭제로 상기 부착된 입자를 갖는 유리표면을 접촉시키는 단계를 포함하는, 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법을 제공한다.
구체 예에 있어서, 본 발명은:
제품의 적어도 하나의 유리 표면의 일부에 변형가능한 입자를 증착시키는 단계;
상기 유리 표면에 입자를 부착시키기 위해 상기 표면에 상기 증착된 변형가능한 입자를 변형시키는 단계;
상기 눈부심 방지 표면을 형성하기 위해 에칭제로 상기 부착된 입자를 갖는 상기 유리 표면에 접촉시키는 단계를 포함하는, 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법을 제공한다.
구체 예에 있어서, 본 발명은:
제품의 적어도 하나의 유리 표면의 일부에 폴리머 입자를 증착시키는 단계;
상기 유리 표면에 상기 증착된 폴리머 입자를 부착시키기 위해 상기 폴리머 입자 표면을 가열시키는 단계; 및
상기 눈부심 방지 표면을 형성하기 위해 에칭제로 상기 부착된 입자를 갖는 상기 유리 표면을 접촉시키는 단계를 포함하는, 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법을 제공한다.
구체 예에 있어서, 상기 유리 표면은, 예를 들어, 소다 라임 실리케이트 유리, 알칼리토 알루미노실리케이트 유리 (alkaline earth aluminosilicate glass), 알칼리 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 보로실리케이트 유리, 보로알루미노실리케이트 유리, 또는 이들의 조합 중 적어도 하나를 포함할 수 있고, 상기 변형가능한 입자는, 예를 들어, 폴리머, 왁스, 또는 이들의 조합 중 적어도 하나일 수 있으며, 상기 에칭제는 HF, H2SO4, 또는 이들의 조합으로부터 선택된 적어도 하나의 산을 포함한다. 상기 폴리머 입자는, 예를 들어, 폴리머, 공중합체, 중합체성 나노-입자, 가교된 폴리머 입자, UV 경화된 폴리머 입자, 쉘 폴리머 Tg보다 더 낮은 Tg를 갖는 코어 폴리머를 갖는 코어-쉘 입자, 왁스, 또는 이들의 조합 중의 적어도 하나를 포함할 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 증착된 변형가능한 입자를 변형시키는 단계는, 예를 들어, 가열에 의해 달성될 수 있다. 상기 가열은 열적 수단, 복사 수단, 압력 수단, 및 이와 유사한 방법과 같은, 어떤 적절한 수단에 의해 달성될 수 있다. 이러한 가열은, 예를 들어, 히트 건 (heat gun), 뜨거운 가스 나이프 (hot gas knife), 전자 레인지 (convection oven), 열 램프 (heat lamp), 복사 히터 (radiant heater), 압력 플레이트 (press plate), 가열된 철 (heated iron), 및 이와 유사한 수단 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 제품의 적어도 하나의 유리 표면의 적어도 일부에 변형가능한 입자를 증착시키는 단계는, 예를 들어, 왁스 입자, 폴리머 입자, 또는 이들의 조합의 현탁액으로 적어도 하나의 유리 표면에 접촉시켜 달성될 수 있다. 왁스 입자, 폴리머 입자, 또는 이들의 조합의 현탁액으로 적어도 하나의 유리 표면을 접촉시키는 단계는, 예를 들어, 슬롯 코터 (slot coater)로 달성될 수 있다. 구체 예에 있어서, 상기 증착은, 예를 들어, 바인더 (binder); 레올로지 개질제 (rheology modifier); 또는 이들의 조합 없이 달성될 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 증착된 변형가능한 입자는, 예를 들어, 입자의 단층, 입자의 규칙 단층 (ordered monolayer), 입자의 이층, 입자의 규칙 이층, 및 이들의 조합일 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 에칭제로 접촉시키는 단계는, 예를 들어, 약 1 초 내지 약 30 분 동안 상기 에칭제에 상기 증착된 변형가능한 입자를 갖는 유리 표면에 노출시켜, 달성될 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 증착된 입자는 중간값 및 범위를 포함하는, 예를 들어, 약 1 내지 30 마이크로미터의 D50 직경을 가질 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 증착된 입자는, 예를 들어, 열가소성 물질 (thermoplastic), 왁스, 또는 이들의 조합을 포함하는 폴리머 입자일 수 있다. 구체 예에 있어서, 상기 증착된 입자는 중간값 및 범위를 포함하는, 유리 전이 온도 (Tg), 예를 들어, 약 25 내지 약 95℃, 약 25 내지 약 85℃, 약 30 내지 약 80℃, 약 35 내지 약 50℃, 및 이와 유사한 유리 전이 온도를 갖는다.
구체 예에 있어서, 상기 제품의 표면에 폴리머 입자, 왁스 입자, 또는 폴리머 입자 및 왁스 입자의 혼합물을 증착시키는 단계는 슬롯-다이 코터, 및 이와 유사한 코팅 장치 및 방법으로 달성될 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 표면에 증착된 입자는 중간값 및 범위를 포함하는, 예를 들어, 약 2 내지 약 100 마이크로미터와 같은, 약 1 내지 약 200 마이크로미터의 습식 두께 및, 중간값 및 범위를 포함하는, 예를 들어, 약 1 내지 25 마이크로미터와 같은, 약 0.1 내지 약 50 마이크로미터의 건식 두께를 갖는 단일-층 내지 다-층일 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 방법은 습기를 감소 및 용이한 세정을 허용하기 위해, 저-표면 에너지 코팅 (low-surface energy coating), 예를 들어, 플루오로화 화합물 (fluorinated compound)로 최종 거칠어진 표면을 처리하는 단계를 더욱 포함할 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 방법은, 에칭 후에, 최종 눈부심 방지 표면을 세척하는 단계, 상기 눈부심 방지 표면을 화학적으로 강화시키는 단계, 또는 이들의 조합을 더욱 포함할 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 방법은 에칭 전에, 선택적으로 제거가능한 내-에칭 보호층 (etch-resistant protective layer)으로 상기 제품의 적어도 다른 표면에 접촉시키는 단계를 더욱 포함할 수 있다.
구체 예에 있어서, 본 발명은 전술한 공정 중 어떤 것의 조합 또는 치환 (permutations)을 포함하는 전술한 공정 중 어떤 것에 의해 제조된 유리 제품을 제공한다.
구체 예에 있어서, 본 발명은:
약 0.1 내지 약 30의 헤이즈;
약 25 내지 약 85의 선영성 (DOI 20°);
약 50 내지 약 500 nm의 표면 조도 (Ra); 및
약 0.1 내지 약 10 마이크로미터의 평균 조도 고-저 차 프로파일을 갖는 적어도 하나의 눈부심 방지 표면을 포함하는 유리 제품을 제공한다.
구체 예에 있어서, 상기 유리 제품은, 예를 들어, 약 1 내지 약 100 마이크로미터의 평균 직경을 갖는 예를 들어, 형태적 특징 (topographic features)의 분포를 갖는 눈부심 방지 표면을 가질 수 있다. 형태적 특징을 위해 바람직한 직경은 중간값 및 범위를 포함하는, 예를 들어, 약 0.1 내지 약 20 마이크로미터일 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 유리 제품은 예를 들어, 디스플레이 장치의 보호성 커버 유리의 시트일 수 있다.
구체 예에 있어서, 본 발명은, 예를 들어:
약 30 미만의 헤이즈;
약 25 내지 약 85의 선영성 (DOI 20°);
약 50 내지 약 500 nm의 표면 조도 (Ra); 및
약 0.1 내지 약 10 마이크로미터의 평균 조도 고-저 차 프로파일; 및
유리 패널에 인접한 픽셀형 화상-표시 패널을 갖는 전술한 방법 중 어느 것에 의해 제조된 적어도 하나의 거칠어진 눈부심 방지 표면을 갖는 유리 패널을 포함하는 디스플레이 시스템을 제공한다.
구체 예에 있어서, 바람직한 헤이즈는, 예를 들어, 중간값 및 범위를 포함하는, 약 10 미만일 수 있고, 더욱 바람직한 헤이즈는, 예를 들어, 약 6 내지 약 9일 수 있고, 더욱 바람직한 헤이즈는, 예를 들어, 약 5 내지 약 6 이하일 수 있다.
구체 예에 있어서, 본 발명은 실리케이트 유리와 같이, 유리 표면에 나노- 내지 마이크로-규모의 직조된 표면을 형성하기 위하여 코팅 및 습식 에칭 공정을 제공한다. 구체 예에 있어서, 상기 공정은 유리 표면에, 예를 들어, 저분자량 폴리머 입자, 왁스 입자, 또는 이들의 조합을 코팅시키는 단계를 포함하고, 이후 상기 유리 표면에 상기 입자의 변형 및 부착을 증진시키기 위해, 중간값 및 범위를 포함하는, 상대적으로 낮은 온도, 예를 들어, 약 30 내지 약 140 ℃, 약 35 내지 약 135 ℃, 약 40 내지 약 130 ℃, 약 45 내지 약 100 ℃, 약 50 내지 약 90 ℃, 약 55 내지 약 85 ℃, 약 60 내지 약 80 ℃, 및 이와 유사한 온도, 및 충분한 시간 동안 열 처리를 수반한다. 상기 입자화된 표면은 그 다음, 예를 들어, HF,또는 다중-성분 산 용액에서 에칭된다. 상기 에칭 용액은 상기 가공된 유리 제품에 AG 거칠어진 표면층을 형성하기 위해 상기 유리 표면에 변형된 입자 주위에 우선적으로 에칭을 생성한다.
유리 표면에 눈부심 방지층을 제조하기 위해 알려진 에칭 공정은 적어도 세 개의 욕 (baths)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 욕은 상기 유리 표면에 암모늄 바이플로라이드 (ammonium biflouride) (ABF) 결정을 성장시키기 위한, ABF를 포함할 수 있다. 상기 제2 욕은 상기 결정을 제거하기 위한 H2SO4 산을 함유할 수 있다. 상기 제3 욕은 상기 유리 표면을 매끄럽게 하기 위한 H2SO4/HF의 혼합물일 수 있다. 상기 세 개의 욕 공정을 위해 개시에서 마감까지의 통상적인 공정 시간은, 예를 들어, 약 60 내지 80 분일 수 있다.
Corning, Inc.는 공동 소유되고 양도된 USSN 61/329,936호에서 개시된 바와 같은, 입자 현탁액의 사용을 포함하는 선택적인 공정을 개발하였다. 상기 입자 현탁액은 상기 유리 표면에 적용된 경우 다른 에칭-마스크를 생성하기 위해 사용될 수 있고 에칭을 수반한다. 이러한 공정은 상당히 빠르지만, 본 발명의 공정과 비교하여 좀더 복잡하고 비싸다. 본 발명의 공정은 예를 들어 다음의 특징을 포함하는 다른 공정과 비교하여 상당한 이점을 가질 수 있다.
상기 재생가능한 공정은 이전의 공정으로부터 달성할 수 있는 약 7 내지 12와 같은 스파클과 비교하여 약 4 내지 약 6과 같은, 예를 들어, 매우 낮은 스파클을 포함하는 상당히 개선된 외관 특성을 갖는 눈부심 방지 유리 시트를 제공한다.
본 발명에 따라 가공된 유리 제품의 헤이즈 특징은 낮은 값에서부터 매우 높은 값까지 조정될 수 있다. 낮은 헤이즈는 높은 디스플레이 명암도 (contrast)를 요구하는 제품에 바람직할 수 있는 반면, 높은 헤이즈는 가장자리 조명 (edge illumination)과 같은 산란을 갖는 광학 설계, 또는 오프 상태에서 디스플레이스의 "블랙 홀 (black hole)" 외관을 감소시키는 것과 같은 미관상 이유 때문에 유용할 수 있다. 낮은 헤이즈 대 높은 헤이즈에 대한 일반적인 선호도 (및 성능 거래의 수용)은 소비자 (customer) 또는 최종-사용자 선호도 (end-user preferences), 및 이들의 최종 적용 및 사용 모드에 의해 동기가 될 수 있다.
본 발명의 공정은 낮은 값으로부터 매우 높은 값까지의 조도 값의 스펙트럼에 걸쳐 조정될 수 있는 유리 시트의 한 면 또는 두 면의 표면 조도를 허용한다. 낮은 조도는 일반적으로 낮은 헤이즈 및 상응 높은 디스플레이 명암도를 갖는 낮은 DOI를 결과하는, 작은-각 산란에 생성하는데 사용된다. 그러나, 높은 조도는 거친 표면이 손가락 (finger), 주먹 (knuckle), 발가락 (toe), 또는 코 (nose)와 같은, 사용자의 접점 (point-of-contact)을 위하여 바람직한 "글라이딩 필 (gliding feel)을 제공할 수 있는, 특정 터치-민감 디스플레이 장치와 같은, 어떤 제품에 대해 바람직할 수 있다. 높은 조도의 효과는 또한 마우스 패드 표면과 같은 비-디스플레이 제품에서 유용할 수 있다. 이러한 터치 제품에 대하여, 플루오로실란 (fluorosilane)과 같은 저-표면 에너지 코팅으로 거친 표면을 후-처리하는 것이 또한 바람직할 수 있다. 이것은 표면 마찰을 감소할 수 있고, "글라이딩 필" 효과를 개선할 수 있으며, 또한 오일 및 물에 덜 젖고, 세척이 쉬운 표면을 만들 수 있다.
상기 넓게 조정될 수 있는 헤이즈 및 조도 값은 눈부심 방지 공정 이전과 비교하여 짧은 에칭 시간, 예를 들어, 약 30초를 사용하고, 매우 작은 유리 두께 손실, 예를 들어, 약 5 마이크론 미만으로 달성될 수 있다.
본 발명의 공정은 출원중인 공동 소유되고 양도된 USSN 61/372,655호 출원에 기술된 공정과 비교하여 높은 헤이즈 및 조도 값을 달성하기 위해 더 낮은 산 농도 또는 더 짧은 에칭 시간을 사용할 수 있다.
상기 입자 어닐링 온도를 통해 헤이즈, DOI, 조도, 또는 이들의 조합을 조정하기 위한 능력은 다중 헤이즈 수준을 위한 동일한 산 조성물을 사용하기 위하여 또는 선택적으로, 제공된 헤이즈 수준을 달성하기 위해 사용된 산 농도를 감소하기 위해, 새로운 유연성 (flexibility)을 제공한다. 에칭 전에 입자 변형을 통해 상기 유리 표면 프로파일을 조절하기 위한 능력은 상기 코팅 방법 (습식 또는 건식)에 의존될 수 있다.
상기 유리에 입자를 적용하기 위해 사용된 슬롯 다이 코팅 공정은 상기 표면에 입자의 매우 얇은 층, 예를 들어, 1 내지 2 층, 또는 몇몇 경우에 있어서는 단층 (monolayer) 미만을 허용한다. 이것은, 더 효과적인 에칭, 적은 산 소비, 및 적은 입자 소비를 결과하는, 상기 마스크의 공간을 침투하는 산의 능력을 개선시킨다.
출원중인 공동 소유되고 양도된 USSN 61/329,936호 출원에 있어서, 눈부심 방지 표면은 레올로지 개질제, 변형제, 바인더 등과 같이, 다른 성분을 갖는 액체 비히클에 입자를 현탁시키고, 그 다음 상기 유리 표면에 스프레이와 같이 적용된 다음, 건조 및 에칭시켜 생성된다. 상기 액체에서 입자 바인더, 레올로지 개질제, 및 다른 성분의 조합은 복잡성 (complexity)이 부가되고, 예를 들어, 하나 이상의 다른 성분 (ingredients)과 반응하여 산을 약화시키는, 산의 능력을 약화시킬 수 있다. 본 발명은 이들 첨가제 없이 달성될 수 있어, 공정 복잡성을 더욱 단순화할 수 있고, 공정 비용을 감소시킬 수 있다.
구체 예에 있어서, 본 발명은 이의 고유 기계적 표면 특성을 보존하면서 유리에 눈부심 방지 표면을 발생시키기 위한 습식 에칭 방법을 제공한다. 이러한 공정 동안, 입자화된 유리 표면은 가시광선의 산란을 담당하는 표면 조도 치수를 변형하기 위해 상기 표면을 깎아낼 수 있는 화학제에 노출된다. 이동성 알칼리 이온의 상당한 양이 소다 라임 실리케이트 유리와 같은, 유리에 존재하는 경우, 거칠어진 표면은, 예를 들어, 불화물 이온을 함유하는 용액과 같이, 산 에칭 용액에 상기 유리 표면을 접촉시켜 형성될 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 제품의 적어도 하나의 표면은, 예를 들어, 유리, 복합물, 세라믹, 플라스틱 또는 수지 계 물질, 및 이와 유사한 물질 또는 이들의 조합일 수 있다. 구체 예에 있어서, 상기 증착된 변형가능한 입자는 폴리머 입자일 수 있고, 예를 들어, 어떤 적절한 낮은 용융 물질 (substance): 유리, 복합물, 세라믹, 플라스틱 또는 수지 계 물질, 금속, 염, 점토, 폴리머, 공중합체, 나노-입자, 가교 폴리머 입자, UV 경화된 입자, 왁스 입자, 및 이와 유사한 물질 또는 이들의 조합을 부가적으로 또는 선택적으로 포함할 수 있다. 구체 예에 있어서, 상기 에칭제는 상기 증착된 입자 하부의 표면을 에칭하는데 적절한 적어도 하나의 산을 포함될 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 유리 표면은, 예를 들어, 적어도 하나의 알루미노실리케이트, 알루미노보로실리케이트, 소다 라임, 보로실리케이트, 실리카 및 이와 유사한 유리, 또는 이들의 조합으로부터 선택될 수 있고, 상기 에칭제는 HF, H2SO4, 또는 이들의 조합으로부터 선택된 적어도 하나의 산을 포함할 수 있다.
부가적으로 또는 선택적으로, 입자로 적어도 하나의 표면에 접촉시키는 단계는 농축된 입자 현탁액, 또는 중간 농도의 입자 현탁액으로 달성될 수 있다. 상기 입자-표면 접촉은 어떤 적절한 방법, 예를 들어, 슬롯-다이 코팅, 스크린 프린팅, 나이프-오버-롤 코팅 (knife over roll coating) (갭 코팅 (gap coating)), 로드 코팅 (rod coating), 스프레이 코팅 (spray coating), 커튼 코팅 (curtain coating), 및 이와 유사한 적용 방법, 또는 이들의 조합을 사용하여 바람직하게 달성될 수 있다. 상기 증착된 입자는 중간값 및 범위를 포함하는, 예를 들어, 약 0.1 내지 약 30 마이크로미터, 약 1 내지 약 30 마이크로미터, 및 약 1 내지 약 25 마이크로미터의 D50 직경을 가질 수 있다. 구체 예에 있어서, 상기 입자 크기 범위는 중간값 및 범위를 포함하는, 예를 들어, 약 0.1 내지 약 50 마이크로미터, 1 내지 약 30 마이크로미터, 2 내지 약 20 마이크로미터, 및 이와 유사한 입자 직경일 수 있다. 구체 예에 있어서, 상기 입자 크기 특성은 단분산 (monodisperse), 올리고분산 (oligodisperse), 다분산 (polydisperse), 및 이와 유사한 입자 크기 및 입자 특성, 또는 이들의 조합을 포함하는, 예를 들어, 모노모달 (monomodal), 바이모달 (bimodal), 트리모달 (tri-modal), 및 이와 유사한 양태 (modalities)일 수 있다.
구체 예에 있어서, 에칭제로 입자화된 표면을 접촉시키는 단계는, 예를 들어, 약 10 초 내지 약 10 분, 약 20 초 내지 약 1 분, 및 이와 유사한 노출 또는 간격과 같은, 중간값 및 범위를 포함하는, 예를 들어 약 1 초 내지 약 30 분동안 상기 에칭제에 상기 증착된 입자를 갖는 표면에 노출시켜 달성될 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 제조 방법은, 예를 들어, 상기 최종 에칭된 눈부심 방지 표면을 세척하는 단계, 상기 눈부심 방지 표면을 화학적으로 강화시키는 단계, 기능성 코팅 또는 필름 (예를 들어, 광 민감성 또는 편광 필름) 또는 보호 표면 코팅 또는 필름을 적용시키는 단계, 및 이와 유사한 코팅 또는 필름, 또는 이들의 조합을 선택적으로 더욱 포함할 수 있다.
구체 예에 있어서, 단일-면 산-에칭 (single-side acid-etch), 또는 이와 유사한 변형이 유리의 시트에 요구된 경우, 상기 유리의 일 면은 상기 에칭 용액으로부터 보호될 수 있다. 보호는, 예를 들어, 아크릴 왁스와 같은 불용성 비-다공성 코팅을 적용하여, 또는 부착층, 예를 들어, 아크릴, 실리콘 및 이와 유사한 접착 물질, 또는 이들의 조합을 갖는 라미네이트 필름을 적용하여 달성될 수 있다. 코팅 적용 방법은, 예를 들어, 브러싱 (brushing), 롤링 (rolling), 스프레잉 (spraying), 라미네이트 (laminating), 및 이와 유사한 방법을 포함할 수 있다. 상기 산-에칭 노출된 불용성 비-다공성 보호 코팅은 상기 에칭 공정을 견디고, 상기 에칭 후 쉽게 제거될 수 있다. 상기 제품의 표면으로부터 보호 필름의 제거는 용해 액체로 보호 필름을 접촉, 액화 및 배출하기 위한 필름의 가열, 및 이와 유사한 방법 및 물질, 또는 이들의 조합과 같은, 어떤 적절한 방법을 사용하여 달성될 수 있다. 따라서, 상기 제조 방법은 선택적으로 에칭 전, 적어도 다른 표면을 접촉, 예를 들어, 선택적으로 제거될 수 있는, 내-에칭 보호층을 갖는 상기 제품의 유리 시트의 배면과 같은 제2 표면에 접촉을 포함할 수 있다.
구체 예에 있어서, 본 발명은 전술된 입자 증착, 입자 변형, 입자 표면 부착, 및 에칭 단계에 의해 제조된 유리 제품과 같은, 본 발명의 제조방법 중 어떤 것에 의해 제조된 제품을 제공한다. 구체 예에 있어서, 상기 제조방법은 순차적으로, 동시에, 연속적으로, 반-연속적으로, 회분식, 및 이와 유사한 치환, 또는 이들의 조합으로 달성될 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 제품의 적어도 하나의 표면은 유리일 수 있고, 상기 증착된 입자는 왁스일 수 있으며, 상기 에칭제는 적어도 하나의 산일 수 있다.
구체 예에 있어서, 본 발명은:
중간값 및 범위를 포함하는, 약 0.1 내지 약 25, 약 0.1 내지 약 20, 약 0.1 내지 약 10, 및 약 1 내지 약 10와 같은, 예를 들어, 약 0.1 내지 약 30의 헤이즈, 및 약 0.1 내지 약 5, 및 약 1 내지 약 5의 낮은 헤이즈;
중간값 및 범위를 포함하는, 예를 들어, 약 25 내지 약 85, 약 40 내지 약 80, 약 45 내지 약 75, 및 약 50 내지 약 70의 선영성 (DOI 20°);
중간값 및 범위를 포함하는, 예를 들어, 약 50 내지 약 500 nm, 및 약 80 내지 약 300 nm의 표면 조도 (Ra); 및
중간값 및 범위를 포함하는, 약 0.1 내지 약 10 마이크로미터의 평균 조도 피크-대-밸리 프로파일 (peak-to-valley profile)을 갖는 적어도 하나의 눈부심 방지 표면을 포함하는 유리 제품을 제공한다.
구체 예에 있어서, 본 발명의 눈부심 방지 표면을 갖는 유리 제품은 중간값 및 범위를 포함하는, 약 0.1 내지 약 100 마이크로미터, 약 0.1 내지 약 50 마이크로미터, 약 0.1 내지 약 30 마이크로미터, 및 이와 유사한 범위의 평균 직경을 갖는 형태적 특징 (topographic features)의 분포를 포함할 수 있다.
구체 예에 있어서, 본 발명은, 예를 들어:
중간값 및 범위를 포함하는 약 0.1 내지 약 30 미만의 헤이즈;
중간값 및 범위를 포함하는 약 40 내지 약 80의 선영성 (DOI 20°);
중간값 및 범위를 포함하는 약 100 내지 약 300 nm의 표면 조도 (Ra); 및
중간값 및 범위를 포함하는 약 0.1 내지 약 10 마이크로미터의 평균 조도 고-저 차 프로파일; 및
유리 패널에 인접한 픽셀형 화상-표시 패널을 갖는 적어도 하나의 거칠어진 눈부심 방지 표면을 갖는 유리 패널을 포함하는 디스플레이 시스템을 제공한다.
구체 예에 있어서, 본 발명은 대부분 실리케이트 유리에 균일한 나노- 내지 마이크로-규모의 직조된 표면을 형성하고, 상기 유리의 화학적 강화 능력에 상당한 영향을 갖지 않는 습식 에칭 공정을 제공한다. 상기 공정은 입자 변형 또는 표면 부착, 및 HF, 또는 다-성분 산 용액과 같이, 상기 입자화된 표면의 산 에칭을 수반하는, 상기 유리 표면에 폴리머, 유리 또는 복합 입자와 같은, 변형가능한 입자를 증착 또는 그 밖의 방법으로 코팅하는 단계를 포함한다. 구체 예에 있어서, 상기 HF 용액은 상기 유리 표면에 부착 또는 어닐링된 입자 주위를 우선적으로 에칭할 수 있고, 그 다음 선택적으로, 상태 및 내구성에 의존하여, 나중에 상기 에칭된 표면으로부터 부착 또는 어닐링된 입자를 침식할 수 있고, 또한 상기 표면 조도를 감소시킬 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 원하는 감소된 광택 또는 눈부심 수준은 예를 들어, 적어도 하나 이상의 다음의 파라미터를 조정하여 얻어질 수 있다: 입자 현탁액의 점도, 현탁액에서 상기 입자의 수준 또는 농도, 산 에칭제의 농도, 표면 위에 증착된 입자의 양, 사용된 상기 입자의 입자 크기 분포 (PDS), 및 유리 샘플의 입자-함유 표면이 상기 산 에칭제와 접촉하는 노출 간격 또는 시간. 구체 예에 있어서, 상기 마스크된 표면은 에칭될 수 있고, 상기 마스크된 표면은 제거될 수 있으며, 상기 마스크되지 않은 에칭된 표면은, 예를 들어, 상기 마스크되지 않은 에칭된 표면의 적어도 약간의 매끄러움을 제공하기 위하여, 일 회 이상으로 에칭될 수 있다.
구체 예에 있어서, 눈부심 방지 유리 제품은 제공된다. 상기 유리 제품은 이온 교환가능할 수 있고, 적어도 하나의 거칠어진 표면을 가질 수 있다. 상기 거칠어진 표면은 20°의 입사각에서 측정된 경우 (20°에서 DOI) 90 미만의 선영성-반사 이미지 (DOI)를 갖는다. 상기 눈부심 방지 유리 제품을 포함하는 픽셀화된 디스플레이 시스템은 또한 제공된다. 상기 유리 제품은, 예를 들어, 적어도 하나의 엣지에 의해 주변 상에 결합된 두 개의 주 표면을 갖는 평면 시트 또는 패널일 수 있지만, 상기 유리 제품은 예를 들어, 3-차원 형상과 같이 다른 형상으로 형성될 수도 있다. 상기 표면의 적어도 하나는, 돌출부 (projections), 돌기부 (protrusions), 함몰부 (depressions), 피트 (pits), 폐쇄 또는 개방 셀 구조, 입자, 아일랜드 (islands), 랜드 (lands), 트랜치 (trenches), 균열 (fissures), 크레비스 (crevices), 및 이와 유사한 기하학 및 특징, 또는 이들의 조합과 같은, 예를 들어, 형태적 또는 모폴로지적 특징을 포함하는 거칠어진 표면이다.
구체 예에 있어서, 본 발명은 알루미노실리케이트 유리 제품을 제공한다. 상기 알루미노실리케이트 유리 제품은, 예를 들어, 적어도 2 mol% Al2O3을 포함할 수 있고, 이온-교환가능할 수 있으며, 적어도 하나의 거칠어진 표면을 가질수 있다. 상기 알루미노실리케이트 유리 제품은 다수의 형태학적 특징을 포함하는 적어도 하나의 거칠어진 표면을 가질 수 있다. 상기 다수의 형태학적 특징은 약 1 마이크로미터 내지 약 50 마이크로미터의 평균 특성 대형 피쳐 크기 (ALF)을 가질 수 있다.
구체 예에 있어서, 본 발명은 디스플레이 시스템을 제공한다. 상기 디스플레이 시스템은, 예를 들어, 적어도 하나의 유리 패널 및 상기 유리 패널에 인접한 픽셀형 화상-표시 패널을 포함할 수 있다. 상기 이미지-디스플레이 패널은 최소 네이티브 픽셀 피치 치수 (minimum native pixel pitch dimension)를 가질 수 있다. 상기 유리 패널의 평균 특성 대형 피쳐 크기 (ALF)는 상기 디스플레이 패널의 최소 네이티브 픽셀 피치 치수보다 작을 수 있다. 상기 픽셀화된 이미지 디스플레이 패널은 예를 들어, LCD 디스플레이, OLED 디스플레이, 또는 이와 유사한 디스플레이 장치 중 하나일 수 있다. 상기 디스플레이 시스템은 또한 터치-민감 소자 또는 표면을 포함할 수 있다. 상기 유리는, 예를 들어, ALF를 갖는 다수의 특징을 포함하는 적어도 하나의 거칠어진 표면을 갖는 알루미늄실리케이트 이온-교환된 유리와 같은 전술된 어떤 유리 일 수 있고, 상기 이미지-디스플레이 패널은 최대 네이티브 픽셀 피치를 갖는다. 상기 최소 네이티브 픽셀 피치는, 예를 들어, 상기 유리 패널의 거칠어진 표면의 ALF보다 더 클 수 있다.
ALF는 거칠어진 유리 표면에 (즉, 평행하는) 평면에서 측정되고, 따라서 조도에 독립적이다. ALF는 상기 x- 및 y-방향, 즉, 상기 거칠어진 유리 표면의 평면에서 피쳐 변형의 측정이다. 가장 큰 특징적인 피쳐를 선택하는 것은 좀더 전체적인 평균 피쳐 크기를 결정하는 다른 방법으로부터의 유용한 구별이다. 가장 큰 피쳐는 육안으로 가장 쉽게 보여지고, 따라서 상기 유리 제품의 가시적 수용을 결정하는데 가장 중요하다. 구체 예에 있어서, 적어도 하나의 거칠어진 표면의 상기 형태학적 또는 모폴로지적 특징은 중간값 및 범위를 포함하는, 약 1 마이크로미터 내지 약 50 마이크로미터, 약 5 마이크로미터 내지 약 40 마이크로미터; 약 10 마이크로미터 내지 약 30 마이크로미터; 및 약 14 마이크로미터 내지 약 28 마이크로미터의 평균 특성 대평 피쳐 (ALF) 크기를 갖는다. 상기 평균 특성 대형 피쳐 크기는 거칠어진 표면 위에 시계 (viewing field)내에 20개의 가장 큰 반복 피쳐의 평균 단면 직선 치수이다. 표준 보정된 광학 광 현미경은 통상적으로 피쳐 크기를 측정하는데 사용될 수 있다. 상기 시계는 상기 피쳐 크기에 비례하고, 통상적으로 대략 30(ALF) x 30(ALF)의 영역을 갖는다. 만약, 예를 들어, 상기 ALF가 대략 10 마이크로미터라면, 그 다음 상기 시계로부터 선택된 20개 가장 큰 피쳐는 대략 300 마이크로미터 x 300 마이크로미터이다. 상기 시계의 크기에서 작은 변화는 ALF에 상당한 영향이 없다는 것이다. ALF를 결정하기 위해 사용된 20개의 가장 큰 피쳐의 표준 편차는 일반적으로 상기 평균값의 약 40% 미만일 수 있고, 즉, 주요 특이 값들 (outliers)은 "특징적인" 피쳐로 고려되지 않기 때문에 무시할 수 있다.
상기 눈부심 방지 표면의 형태는, 예를 들어, 약 400 nm 미만의 최대 치수를 갖는 돌기부 또는 돌출부, 함몰부 및 이와 유사한 특징과 같은 특징을 포함할 수 있다. 구체 예에 있어서, 이들 형태학적 특징은 약 10 nm 내지 약 200 nm의 평균 거리에서 서로 또는 이격되어 분리될 수 있다. 상기 최종 눈부심 방지 표면은 상기 표면에서 피크-투-밸리 차이 (PV) 측정에 의해 측정된 바와 같은, 평균 조도를 가질 수 있다. 구체 예에 있어서, 상기 눈부심 방지 표면은 약 800 nm, 약 500 nm, 및 약 100 nm의 RMS 조도를 가질 수 있다.
ALF을 계산하기 위해 사용된 특징은 "특성"이고, 즉, 적어도 20개 유사한 특징이 비례적 시계에 위치될 수 있다. 다른 모폴로지 또는 표면 구조는 ALF를 사용하여 특징지을 수 있다. 예를 들어, 일 표면 구조는 폐쇄-셀 반복 구조로 나타날 수 있고, 또 다른 표면 구조는 큰 플래튜 (plateaus)에 의해 분리된 작은 피트 (pits)로 나타날 수 있으며, 세 번째 표면 구조는 간헐적 큰 매끄러운 영역에 의해 강조된 (punctuated) 작은 입자의 필드로 나타날 수 있다. 각각의 예에 있어서, 상기 ALF는 실질적으로 광학적으로 매끄러운 상기 20개의 대형 반복 표면 영역을 측정하여 결정된다. 상기 반복 폐쇄 셀 표면 구조의 예에 있어서, 상기 측정될 수 있는 특징은 상기 패쇄된-셀 매트릭스에서 가장 큰 셀이다. 큰 플래튜에 의해 분리된 작은 피트를 포함하는 표면 구조에 대하여, 상기 피트 사이의 큰 플래튜는 측정된다. 간헐적 큰 매끄러운 영역에 의해 강조된 작은 입자의 필드를 포함하는 표면에 대하여, 상기 간헐적 큰 매끄러운 영역은 측정될 수 있다. 실질적으로 변화하는 모폴로지를 갖는 모든 표면은 따라서 ALF을 사용하여 특징지을 수 있다.
구체 예에 있어서, 평균 RMS 조도를 갖는 상기 유리 제품의 적어도 하나의 거칠어진 표면은 약 10 nm 내지 약 800 nm, 약 40 nm 내지 약 500 nm, 및 약 40 nm 내지 약 300 nm일 수 있다. 구체 예에 있어서, 상기 평균 RMS 조도는 약 10 nm 초과 및 상기 ALF의 약 10% 미만, 약 10 nm 초과 및 상기 ALF의 약 5% 미만, 및 약 10 nm 초과 및 상기 ALF의 약 3% 미만일 수 있다.
낮은 DOI 및 높은 Ros/Rs의 내력은 상기 특징적 피쳐 크기 및 ALF에 제약을 제공한다. 제공된 조도 수준에 대하여, 더 큰 피쳐 크기는 낮은 DOI 및 높은 Ros/Rs를 결과한다는 것을 발견하였다. 따라서, 디스플레이 스파클 및 DOI 타겟과 균형을 맞추기 위하여, 너무 작지도 너무 크지도 않는 중간 특징적 피쳐 크기를 갖는 눈부심 방지 표면을 생성하는 것이 바람직할 수도 있다. 투과된 헤이즈가 주변 광 하에서 거칠어진 제품의 유백색 외형을 일으킬 수 있는 매우 높은 각으로 산란시키고 있는 경우, 반사된 또는 투과된 헤이즈를 최소화하는 것이 또한 바람직하다.
"투과 헤이즈", "헤이즈," 또는 이와 유사한 용어는 ASTM D1003에 따라 ±4.0°의 각 콘 (angular cone) 외부로 산란된 투과된 광의 퍼센트에 관한 것이다. 선택적으로 매끄러운 표면을 위하여, 상기 전달 헤이즈는 일반적으로 0에 가깝다. 두 면에 거칠어진 유리 시트의 투과 헤이즈 (Haze 2 -면 )는 대략 하기 수학식 2에 따라, 오직 일 면 (Haze 1 - side )만 거칠어진 동등한 표면을 갖는 유리 시트의 투과 헤이즈에 관한 것일 수 있다:
Figure pct00002
헤이즈 값은 일반적으로 퍼센트 헤이즈의 관점에서 보고된다. 상기 수학 식 2로부터 헤이즈 2 - side 의 값은 100을 곱해야만 한다. 구체 예에 있어서, 본 발명의 유리 제품은 약 50% 미만 및 심지어 약 30% 미만의 투과 헤이즈를 가질 수 있다.
다단계 표면 처리 공정은 상기 거칠어진 유리 표면을 형성하기 위해 사용되어 왔다. 다단계 에칭 공정의 예는 2009년 3월 31일자에, Carlson, 등이, "Glass Having Anti-Glare Surface and Method of Making"의 발명의 명칭으로 출원된 공동 소유되고, 출원중인 미국 가 특허출원 제 61/165,154호에 개시되며, 여기서 유리 표면은 상기 표면에 결정을 형성하기 위해 먼저 에칭제로 처리되고, 그 다음 상기 유리 표면으로부터 결정을 제거를 수반하는, 원하는 조도로 상기 결정의 각각에 인접한 표면의 영역을 에칭하고, 원하는 헤이즈 및 광택을 갖는 표면에 제공하기 위해 상기 유리 제품의 표면의 조도를 감소시킨다.
구체 예에 있어서, 다양한 성능 향상 첨가제는, 예를 들어, 계면활성제, 공-용매, 희석제, 윤활제, 겔화제, 및 이와 유사한 첨가제 또는 이들의 조합을 포함하는, 입자 현탁액, 에칭 용액 또는 이들 모두에 포함될 수 있다.
에칭제로 입자화된 표면을 접촉시키는 단계는, 예를 들어, 2 내지 10 wt%의 플루오로화 수소산 및 염산, 황산, 질산, 인산, 및 이와 유사한 산, 또는 이들의 조합과 같은 2 내지 30 wt%의 무기산을 포함하는 산성 에칭 용액으로, 예를 들어, 선택적으로 부분 또는 완전한 디핑, 스프레이, 침지, 및 이와 유사한 처리, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 상기 유리 표면은 상기 표면 조도에서 더 큰 감소를 일반적으로 유도하는 더 긴 시간으로, 중간값 및 범위를 포함하는 약 1 초 내지 약 10분의 기간 동안 상기 용액에서 에칭될 수 있다. 본 발명의 농도 및 에칭 시간은 대표적인 적절한 예이다. 본 발명의 범위 외의 농도 및 에칭 시간은 또한 잠재적으로는 덜 효율적이기는 하지만, 상기 유리 제품의 거칠어진 표면을 얻기 위해 사용될 수 있다. 다른 에칭 농도는 중간값 및 범위를 포함하는, 예를 들어, 3M HF/ 3.6 M H2SO4, 5.5M HF/ 6.5M H2SO4 , 6M HF/ 7 M H2SO4, 및 이와 유사한 에칭 농도 및 조성물일 수 있다.
화학적 강화에 있어서, 더 큰 알칼리 금속 이온은 상기 유리 표면 근처의 더 작은 이동성 알칼리 이온과 교환된다. 이러한 이온-교환 공정은 어떤 기계적 손상에 대해 더 많은 내성을 갖도록 허용하는, 압축하의 유리 표면을 발생시킨다. 구체 예에 있어서, 상기 유리 제품의 외부면은 선택적으로 이온-교환될 수 있는데, 여기서 더 작은 금속 이온이 더 작은 이온과 같은 동일한 원자가를 갖는 더 큰 금속 이온에 의해 대체 또는 교환된다. 예를 들어, 상기 유리에서 나트륨 이온은 칼륨 이온을 함유하는 용융염 욕에서 상기 유리를 침지시킴으로서 더 큰 칼륨 이온으로 대체될 수 있다. 더 큰 이온으로 더 작은 이온의 대체는 상기 층 안에서 압축 응력을 생성한다. 구체 예에 있어서, 상기 유리의 외부 표면 근처의 더 큰 이온은, 예를 들어, 상기 유리의 변형점 (strain point) 이상의 온도에서 상기 유리를 가열하여, 더 작은 이온에 의해 대체될 수 있다. 상기 변형점 이하의 온도까지 냉각하자마자, 압축 응력은 상기 유리의 외부 층에 생성된다. 상기 유리의 화학적 강화는 상기 유리 제품의 이온-교환 거동 또는 강화에 다소 부정적 영향으로, 상기 표면 조도 처리 후에 선택적으로 수행될 수 있다.
구체 예에 있어서, 본 발명은, 예를 들어, 액체 현탁액 또는 수트 건 (soot gun) 같은 것으로, 입자로 표면을 입자화시키는 단계 (즉, 부착시키는 단계 (populating), 상기 표면의 입자를 변형 또는 부착시키는 단계; 적절한 에칭제로 부착된 입자화된 표면을 에칭하는 단계, 상기 에칭된 표면을 이온-교환하는 단계, 및 선택적으로 원치않는 표면 결함 (flaws)를 감소시키기 위해 (즉, 결함 감소) 또 다른 공정을 수행하는 단계를 포함하는 눈부심 방지 표면을 제조하기 위한 방법을 제공한다. 선택적으로 또는 부가적으로, 상기 표면은 이온교환될 수 있고, 입자로 입자화될 수 있으며, 상기 표면에 입자 부착될 수 있고, 에칭제로 에칭될 수 있으며, 선택적으로 결합 감소 처리될 수 있다.
도면을 참조하면, 도 1은 GORILLA® 유리 표면에 눈부심 방지층을 생성하기 위한 공정에서의 단계를 개략적으로 나타낸다. 약 0.1 내지 약 20 마이크로미터의 평균 입자 크기를 갖는, 왁스 입자, 또는 이와 유사한 변형가능한 입자는 이소프로필 알코올과 같은 적절한 액체에서 현탁되고, 상기 최종 현탁액은, 예를 들어, 유기 기판에 슬롯 코팅되어 증착 (100)될 수 있고, 상기 용매는 상기 유리 기판 (110)에 약하게 부착된 왁스 입자 (105)의 잉여 층을 남도록 제거된다. 상기 샘플은 그 다음 산 에칭 (120) 욕에서 담지 (dipped) 또는 침지된다. 상기 HF/H2SO4 에칭제는 상기 왁스 입자 주변 영역을 공격하고, 점진적으로 개별적인 입자에 의해 피복된 영역을 깎아낸다 (under-cut). 상기 왁스 입자는 눈부심 방지 특성을 갖는 상기 유리 기판 위에 직조된 표면 (130)을 생성하기 위해 헹구는 단계 (120) 동안 또는 후에 상기 기판 표면으로부터 벗어날 수 있다. 도 1은 상기 눈부심 방지층이, 예를 들어, 상기 슬롯-다이 공정에 사용하여 GORILLA® 유리 표면에 생성시키는 방법의 일반적인 공정을 나타낸다. 상기 입자는 이소프로필 또는 유사한 액체와 같은, 액체에서 먼저 현탁되고, 그 다음 상기 현탁액은 유리 기판 위에 슬롯-다이 코팅된다. 상기 용매는 어떤 적절한 수단, 예를 들어, 상기 유리 표면 위에 입자의 얇은 층을 남기는, 증발, 진공, 뜨거운 공기, 및 이와 유사한 수단에 의해 제거될 수 있다. 뜨거운 공기 또는 이와 유사한 수단으로 용매를 제거하는 단계는 작은, 중간, 또는 큰 규모의 유리 표면에 변형가능한 입자를 부착하기에 충분하고 효과적일 수 있다. 상기 샘플은, 그 다음, 예를 들어, HF/H2SO4 에칭제 욕에서 담지 (디핑)될 수 있다. 상기 산은 상기 입자 주위 영역을 공격하고, 점진적으로 상기 입자의 몇몇 또는 모든 영역을 깎아낸다. 상기 입자의 몇몇 또는 실질적으로 모두는 상기 제품의 눈부심 방지층 또는 눈부심 방지 표면을 제공하기 위해 에칭된 표면을 뒤에 남도록 헹구는 단계 동안 상기 유리 표면에서 떨어진다.
도 2는 Gorilla® 유리표면 위에 슬롯-다이 코팅된 왁스 입자의 예시적인 현미경 이미지를 나타낸다. 다수의 실험들은 상기 왁스 입자가 상기 입자들 사이에 작은 개구 (tiny openings), 공극 (voids), 또는 간극 (interstices)을 제공하며 상기 유리 표면 위에 균일하게 증착된다는 것을 입증하였다.
도 3은 60초 동안 75 ℃로 후속 열 처리된 도 2의 Gorilla® 유리표면의 예시적인 현미경 이미지이다. 상기 입자는 상기 유리 표면에서 변형되고, 서로 융합되며, 잘 부착된다. 실질적으로 많은 수의 미세-개구는 광의 그림자 영역으로 보여질 수 있다.
도 4a 및 4b 각각은 유리 샘플을 폴리머 입자 제제로 슬롯-다이 코팅시킨 다음, 30초 동안 106 ℃에서 열처리한 후, 예시적인 에칭된 표면의 두 가지 다른 확대 현미경 이미지를 나타낸다. 도 4a는 200 마이크로미터 규모를 나타내고, 도 4b는 100 마이크로미터 규모를 나타낸다. 사용된 상기 에칭 용액은 5.5M HF/ 6.5M H2SO4이고, 상기 샘플은 30 초 동안 에칭된다. 상기 최종 표면의 측정된 광학 특성은: 헤이즈 = 39 및 DOI = 44, 스파클 = 5.1이다.
도 5a 및 5b 각각은, 코팅 후 106 ℃에서 30 초 동안 열처리한 다음, 30초 에칭 시간 후에 에칭된 쿠폰의 표면 조도에 대한 고 (도 5a) 및 저 (도 5b) 확대시킨 표면 분석 이미지를 나타낸다. 상기 동일한 영역은 두 개의 다른 광학 대물렌즈 (optical objectives) (20X 및 10X)로 캡쳐된다. 상기 Ra = 82 nm는 20X, 2X 줌에서 캡쳐되고, Ra = 245 nm는 10X, 1X 줌에서 캡쳐된다. 상기 에칭된 표면은 30 초 동안 "6/7" 산 용액 (즉, 6 M HF/ 7M H2SO4의 산 몰 비)에서 얻어진다.
도 6a 및 6b 각각은, 75 ℃에서 30초 동안 열 처리 전 및 후에, GORILLA® 유리 표면 위에 슬롯-다이 코팅된 입자의 대표적인 현미경 이미지를 나타낸다. 캡쳐된 이미지 위치는 75 ℃에서 열처리 후 작은 개구를 갖는 왁스 입자 표면의 30초 전 (도 6a 상부) 및 후 (도 6b 하부)의 표면을 나타내도록 도 6a 및 6b에서 동일한 위치이다.
도 7a 및 7b 각각은, 85℃에서 30 초 동안 열 처리된 GORILLA® 유리 표면 위에 슬롯-다이 코팅된 입자의 대표적인 현미경 이미지를 나타낸다. 캡쳐된 이미지 위치는 115 ℃에 가열하여 입자 표면 변형의 30 초 전 (7a, 상부) 및 후 (7b, 하부)의 표면 외형 및 상태를 나타내도록 도 7a 및 7b 모두에서 동일 위치이다.
도 8a는 레이저 광 산란에 의해 측정된 실시 예 1의 대표적인 입자 현탁액 제제에 대한 입자 크기 분포의 실시 예를 나타내는 막대그래프를 나타낸다. 도 8b는 DEUREX MM 8015 왁스 입자로 이루어진 대표적인 모노모달 입자 현탁액 제제에 대한 입자 크기 분포의 또 다른 실시 예를 나타내는 막대그래프를 나타낸다. 상기 "% CHAN"은 평균 입자 크기 채널 또는 빈 (bin), 예를 들어, 6.0 +/-0.5 마이크로미터 이내의 입자 크기 분포의 상대적인 수 퍼센트 (relative number percentage)에 관한 것이다. 상기 폴리머 입자 분포 프로파일은 실질적으로 약 2 및 20 마이크론 사이의 실질적인 바이모달 특징을 갖고, 약 8 내지 10 마이크론의 입자 크기 주변으로 집중된다. 다른 적절한 입자 크기는 중간값 및 범위를 포함하는, 예를 들어, 0.5 마이크로미터 내지 약 20 마이크론일 수 있다. 약 20 마이크론을 초과하는 입자 크기의 사용은 증가된 스파클을 갖는 에칭된 표면을 결과할 수 있다.
본 발명의 에칭 방법은 유리 표면 위에 눈부심 방지층을 생성하기 위해, 예를 들어, 약 2 초 내지 약 4분과 같은, 중간값 및 범위를 포함하는, 약 1 초 내지 약 5분, 약 1 초 내지 약 10 분에 빠르게 달성될 수 있다. 종래의 다중-욕 방법은 약 60분 이상이 소요될 수 있다. 본 발명의 에칭 방법은 종래의 공정에서 사용된 세 개 이상의 욕 대신에 단일 화학 에칭제 욕 (예를 들어, HF 및 H2SO4)을 사용한다.
구체 예에 있어서, 본 발명의 방법은 원하는 눈부심 방지층을 생성하기 위해, 중간값 및 범위를 포함하는, 상기 기판의 약 1 내지 약 30 마이크로미터, 상기 기판의 약 1 내지 약 20 마이크로미터, 상기 기판의 약 1 내지 약 10 마이크로미터로부터, (즉, 상기 기판의 평면 또는 z-방향으로) 에칭될 상기 기판의 약 1 내지 약 50 마이크로미터로부터 이격되어 에칭될 수 있다. 명암도에 있어서, 종래의 에칭 공정은 통상적으로 상기 유리 표면의 약 100 내지 약 200 마이크로미터를 제거할 수 있다. 상대적으로 작은 유리가 본 발명의 방법을 사용하는 상기 유리 기판으로부터 손실되기 때문에, 상기 유리는 약 250 마이크로미터 미만의 최대 와프 (warp)을 가질 수 있다. 종래의 유리 에칭 공정은, 예를 들어, 약 300 마이크로미터 이상의 와프를 갖는 유리 표면을 제조할 수 있다.
본 발명의 공정으로 제조된 샘플을 종래의 공정으로 에칭된 샘플과 비교한 경우, 유사한 광학 특성 (예를 들어, 헤이즈, 광택, 및 이미지의 선영성 (DOI))을 나타내지만, 본 발명의 방법 및 샘플은 공정 시간 및 비용에서 실질적인 감소를 갖는 장점을 갖는다. 본 발명의 공정은 1 제곱 미터 유리 시트 이상과 같은, 큰 부분에 대해 쉽게 규모가 키워지는 반면, 종래의 딥 공정은 더 큰 단위에 대해 쉽게 규모를 키울 수 없다.
적당한 설계 선택으로, 본 발명의 공정은 단일-면 샘플을 만들기 위한 배면 보호가 필요하지 않다. 단일-면 샘플은, 예를 들어, 단일-면 딥, 스프레이, 스크린 프린팅, 또는 스핀 코팅 방법을 사용하여 제조될 수 있다. 다중-욕 종래 공정은 제조 비용을 더욱 증가시킬 수 있는, 배면 보호 필름이 필요하다.
구체 예에 있어서, 상기 유리 제품은 소다 라임 실리케이트 유리, 알칼리토 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 보로실리케이트 유리, 및 이들의 조합 중 하나로 이루어지거나, 필수적으로 이루어지거나, 또는 포함할 수 있다. 구체 예에 있어서, 상기 유리 제품은, 예를 들어, 하기 조성물을 갖는 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함할 수 있다: 60-72 mol% SiO2; 9-16 mol% Al2O3; 5-12 mol% B2O3; 8-16 mol% Na2O; 및 0-4 mol % K2O, 여기서 상기 비는
Figure pct00003
여기서 상기 알칼리 금속 개질제는 알칼리 금속 산화물이다. 구체 예에 있어서, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리 기판은, 예를 들어: 61-75 mol% SiO2; 7-15 mol% Al2O3; 0-12 mol% B2O3; 9-21 mol% Na2O; 0-4 mol% K2O; 0-7 mol% MgO; 및 0-3 mol% CaO일 수 있다. 구체 예에 있어서, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리 기판은 예를 들어: 60-70 mol% SiO2; 6-14 mol% Al2O3; 0-15 mol% B2O3; 0-15 mol% Li2O; 0-20 mol% Na2O; 0-10 mol% K2O; 0-8 mol% MgO; 0-10 mol% CaO; 0-5 mol% ZrO2; 0-1 mol% SnO2; 0-1 mol% CeO2; 50 ppm 미만의 As2O3; 및 50 ppm 미만의 Sb2O3일 수 있고, 여기서 12 mol% ≤ Li2O + Na2O + K2O ≤ 20 mol% 및 0 mol% ≤ MgO + CaO ≤ 10 mol%이다. 구체 예에 있어서, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리 기판은, 예를 들어: 64-68 mol% SiO2; 12-16 mol% Na2O; 8-12 mol% Al2O3; 0-3 mol% B2O3; 2-5 mol% K2O; 4-6 mol% MgO; 및 0-5 mol% CaO일 수 있고, 여기서: 66 mol% ≤ SiO2 + B2O3 + CaO ≤ 69 mol%; Na2O + K2O + B2O3 + MgO + CaO + SrO > 10 mol%; 5 mol% ≤ MgO + CaO + SrO ≤ 8 mol%; (Na2O + B2O3) - Al2O3 ≤ 2 mol%; 2 mol% ≤ Na2O - Al2O3 ≤ 6 mol%; 및 4 mol% ≤ (Na2O + K2O) - Al2O3 ≤ 10 mol%이다. 구체 예에 있어서, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리는 예를 들어: 50-80 wt% SiO2; 2-20 wt% Al2O3; 0-15 wt% B2O3; 1-20 wt% Na2O; 0-10 wt% Li2O; 0-10 wt% K2O; 및 0-5 wt% (MgO + CaO + SrO + BaO); 0-3 wt% (SrO + BaO); 및 0-5 wt% (ZrO2 + TiO2)일 수 있고, 여기서 0 ≤ (Li2O + K2O)/Na2O ≤ 0.5이다.
구체 예에 있어서, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리는, 예를 들어, 실질적으로 리튬이 없을 수 있다. 구체 예에 있어서, 상기 알칼리 알루미노실리케이트 유리는, 예를 들어, 실질적으로 비소, 안티몬, 바륨 또는 이들의 조합 중 적어도 하나가 없을 수 있다. 구체 예에 있어서, 상기 유리는 0 내지 2 mol% 의 Na2SO4, NaCl, NaF, NaBr, K2SO4, KCl, KF, KBr, SnO2과 같은, 적어도 하나의 청징제 및 이와 유사한 물질, 또는 이들의 조합으로 선택적으로 배치 (batch)될 수 있다.
구체 예에 있어서, 상기 선택된 유리는, 예를 들어, 다운 인발가능한, 즉, 기술 분야에서 알려진, 슬롯 인발 또는 융합 인발 공정과 같은 방법에 의해 형성가능할 수 있다. 이러한 경우에 있어서, 상기 유리는 적어도 130 kpoise의 액상 정도를 가질 수 있다. 알칼리 알루미노실리케이트 유리의 예로는, 2007년 5월 22일자 출원된 미국 가 출원 제 60/930,808호를 우선권 주장하는, 2007년 7월 31일자에 출원되어, 공동 소유되고, 양도된 미국 특허출원 제 11/888,213호, Ellison, et al., 발명의 명칭 "Down-Drawable, Chemically Strengthened Glass for Cover Plate,"; 2007년 11월 29일자 출원된 미국 가 출원 제 61/004,677호를 우선권 주장하는, 2008년 11월 25일자에 출원된, 미국 특허출원 제 12/277,573호, Dejneka, et al., 발명의 명칭 "Glasses Having Improved Toughness and Scratch Resistance,"; 2008년 2월 26일자 출원된 미국 가 출원 제 61/067,130호를 우선권 주장하는, 2009년 2월 25일자에 출원된, 미국 특허출원 제 12/392,577호, Dejneka, et al., 발명의 명칭 "Fining Agents for Silicate Glasses,"; 2008년 2월 29일자 출원된 미국 가 출원 제 61/067,732호를 우선권 주장하는, 2009년 2월 26일자에 출원된, 미국 특허출원 제 12/393,241호, Dejneka, et al., 발명의 명칭 "Ion-Exchanged, Fast Cooled Glasses,"; 2008년 8월 8일자에 발명의 명칭 "Chemically Tempered Cover Glass"로 출원된 미국 가 출원 제 61/087,324호를 우선권 주장하는, 2009년 8월 7일자에 출원된, 미국 특허출원 제 12/537,393호, Barefoot, et al., 발명의 명칭 "Strengthened Glass Articles and Methods of Making,"; 2009년 8월 21일자에 발명의 명칭 "Crack and Scratch Resistant Glass and Enclosures Made Therefrom"로 출원된, Barefoot, et al., 미국 가 출원 제 61/235,767호; 및 2009년 8월 21일자에 발명의 명칭 "Zircon Compatible Glasses for Down Draw"로 출원된, Dejneka, et al., 미국 가 출원 제 61/235,762호에 기술되어 있다.
하기 실시 예에 따라 기술된 유리 표면 및 시트는 어떤 적절한 입자-코팅 가능하고 에칭 가능한 유리 기판 또는 이와 유사한 기판일 수 있고, 예를 들어 하기 표 1에 기재된, 유리 조성물 1 내지 11, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
대표적인 유리 기판 조성물
유리
산화물
(mol%)		 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11
SiO2 66.16 69.49 63.06 64.89 63.28 67.64 66.58 64.49 66.53 67.19 70.62
Al2O3 10.29 8.45 8.45 5.79 7.93 10.63 11.03 8.72 8.68 3.29 0.86
TiO2 0 - - 0.64 0.66 0.056 0.004 - 0.089
Na2O 14 14.01 15.39 11.48 15.51 12.29 13.28 15.63 10.76 13.84 13.22
K2O 2.45 1.16 3.44 4.09 3.46 2.66 2.5 3.32 0.007 1.21 0.013
B2O3 0.6 1.93 - 1.9 - - 0.82 - 2.57 -
SnO2 0.21 0.185 - - 0.127 - - 0.028 - - -
BaO 0 - - - - - - 0.021 0.01 0.009 -
As2O3 0 - - - - 0.24 0.27 - 0.02 -
Sb2O3 - - 0.07 - 0.015 - 0.038 0.127 0.08 0.04 0.013
CaO 0.58 0.507 2.41 0.29 2.48 0.094 0.07 2.31 0.05 7.05 7.74
MgO 5.7 6.2 3.2 11.01 3.2 5.8 5.56 2.63 0.014 4.73 7.43
ZrO2 0.0105 0.01 2.05 2.4 2.09 - - 1.82 2.54 0.03 0.014
Li2O 0 - - - - - - - 11.32 - -
Fe2O3 0.0081 0.008 0.0083 0.008 0.0083 0.0099 0.0082 0.0062 0.0035 0.0042 0.0048
SrO - - - 0.029 - - - - - - -
실시 예
이하 실시 예를 통하여 본 발명의 제품을 만들기 위한 방법을 더욱 기술한다.
실시 예 1
입자 현탁액의 제조
본 실시 예는 본 발명의 방법을 달성하기 위한 하나의 대표적인 절차이다. 상기 유리가 코팅되고, 열처리되며, 그 다음 에칭되는 방법의 단계는 하기에 기술된다. 2318 유리 (6"x6") 견본 (specimen)은 탈이온화된 (DI) 물에서 약 4% 세제를 사용하여 세척기 (Crest Line)에서 세척된다. 상기 세척된 유리 시트는 그 다음 평평한 표면 위에 놓고, 33.33%의 DEUREX ME 1519 왁스 입자는 용기 (container) 안에서 측량되며, 66.64 wt%의 2-프로판올은 첨가된다. DEUREX ME 1519 왁스 입자는 DEUREX Micro-Technologies; Germany (www.deurex.com)로부터 구입가능하다. 상기 용기는 60% 분말 수준에서 Resodyn™ Acoustic Mixer에서 5 분동안 가공된다. 레이저 광 산란에 의해 측정된 상기 최종 입자 크기 분포는 도 8a에서 나타내었다. 상기 농축된 현탁액은 또 다른 변형없이 직접 사용될 수 있고, 만약 사용 전에 연속적으로 회전된다면, 예를 들어, 약 1주 동안 저장될 수 있다.
실시 예 2
입자화된 표면의 제조 - 입자 현탁액을 코팅 또는 증착
본 실시 예는 유리 표면 위에 왁스 입자 현탁액을 코팅 또는 증착하기 위한 대표적인 절차이다. 실시 예 1의 입자 현탁액은 1mil (25 마이크론) 다운인발 바 (drawdown bar)를 사용하여 유리 시트 위에 핸드-코팅된다.
상기 휘발성 액체 또는 용매는 공기 중에 증발되거나 또는 진공, 온건한 가열 (mild heating), 또는 이들의 조합과 같은 가속화된 건조 방법으로 증발된다. 상기 왁스 입자화의 잔여 표면층은 산 에칭 동안 상기 기판의 전부가 에칭되지 않도록, 상기 유리 기판 표면의 기초 부분 또는 지지 부분을 부분적으로 보호한다. 입자화된 현탁액 제조는, 예를 들어, 농축된 스톡 현탁액을 제조한 다음, 표면 적용 이전에, 상기 농축액은 적용 후 쉽게 증발될 수 있는 휘발성 액체를 첨가 (희석)하여 농도의 감소 또는 낮출 수 있는 단계를 포함하는, 예를 들어, 두 단계 공정을 포함할 수 있다. 구체 예에 있어서, 상기 희석 현탁액은, 예를 들어, 몇일 내지 몇 주 동안 안정하고, 회전 또는 쉐이킹에 의해 재-현탁될 수 있다.
다음은 대표적인 핸드 코팅 공정이다.
소량 (1 mL)의 입자 현탁액은 상기 유리 샘플에 붓는다. 상기 유리 샘플의 일 측 말단에서 다른 쪽까지 상기 부은 입자 현탁액을 스윕 (sweep)하기 위해 25 마이크로미터 갭 다운인발 바를 사용한다. 25 마이크로미터 습식 두께를 갖는 박막이 상기 유리에 남는다.
코팅된 면을 위로하여, 상기 유리는, 예를 들어, 75℃에서 40 초 동안, 뜨거운 플레이트 셋트 위에 위치된다.
상기 열처리 후에, 상기 샘플은 그 다음 특정시간, 예를 들어, 30초 동안, 특정 농도, 예를 들어, 5.5M HF/6.5M H2SO4를 갖는 산 용액을 함유하는 에칭제 욕에 담긴다. 상기 최종 에칭된 샘플은 그 다음 상기 산 욕으로부터 제거되고 헹군다. 선택적 유기 용매 헹굼은 만약 어떤 왁스 입자 마스크 잔여물이 있다면, 사용될 수 있다. 예를 들어, 아세톤 또는 이와 유사한 용매는 폴리머 입자의 다수의 다른 형태를 제거하기 위해 특히 유용하다. 상기 쿠폰은 상기 에칭된 샘플의 헤이즈, 스파클, 및 DOI를 측정하기 전에 건조하는 것이 허용된다.
상기 입자를 적용하기 위한 다른 방법은 선택될 수 있다. 예를 들어, 상기 입자 현탁액은 스프레이, 커튼-코팅, 스크린 프린트, 딥-코팅, 스핀-코팅, 롤러로 적용, 로드-코팅, 롤-코팅, 및 이와 유사한 방법, 또는 이들의 조합으로 도포될 수 있다. 본 발명에서 많은 실시 예는 슬롯-다이 코팅 방법을 사용하여 제조되었고, 이러한 방법은 대량 생산 및 생산성에 장점을 갖는다. 상기 슬롯-다이 코팅 기술의 장점은 상기 코팅 두께가 정확히 조절될 수 있다는 것이다. 코팅 및 열처리 후에, 입자의 (약 1 내지 2 층, 또는 몇몇 경우에 있어서, 완전한 단일 층 미만) 매우 얇은 층은 상기 표면 위에 남는다. 상기 코팅의 형태는, 예를 들어, 더욱 효과적인 에칭, 적은 산 소비, 및 적은 입자 소비를 결과하는 상기 입자 코팅 마스크에서 공간에 퍼지거나 스며들기 위한 상기 산의 능력을 개선시킨다. 또 다른 공정 개선은, 예를 들어, 상기 유리 또는 입자 특성, 입자 농도, 표면 전하 특성, 또는 이들의 조합을 조정하여 상기 입자 및 상기 유리 표면 사이의 상호 작용을 최적화시키는 단계를 포함한다. 구체 예에 있어서, 바람직한 습식 코팅 방법은 상기 유리 표면에 약 1 내지 2 입자 층, 또는 심지어 단일층 미만에 적용된다. 표 2는 동일한 열처리 시간을 유지하는 동안 다양한 열 셋트 점의 실시 예들을 보여준다. 동일한 산 에칭제 농도는 사용된다.
입자 크기
(마이크론)		 가열온도
(℃)		 가열시간
(초)		 산
농도		 에칭시간
(초)		 DOI 헤이즈 스파클


50% < 6;
99% <19		 100

30

6M HF
7M H2SO4


30

 65 7.4 5.9
102 53 12.3 6.1
104 37 28.4 5
106 26 44 6.5
108 26 45.6
110 26 58.5 시각적
등급<6
상기 처리 온도가 증가함에 따라, 더 많은 입자가 서로 융합되고, 상기 유리 표면 위에 더 강하게 부착하며, 따라서, 상기 산은 유리를 좀더 에칭한다. 상기 헤이즈 수준이 증가된 경우, 상기 DOI가 낮아진다는 것이 표 1에서 분명하게 입증된다. 낮은 온도에서 열처리된 경우, 상기 입자는 서로 융합되지 않고, 상기 유리 위에 약하게 부착된다. 상기 입자는 상기 표면에서 쉽게 세척되어 이탈될 수 있거나 상기 산에 의해 빠르게 깎아내 진다. 이것은 높은 DOI 및 낮은 헤이즈 값을 결과한다.
HF/H2SO4 용액에서 매우 짧은 에칭 시간일 지라도, 우수한 DOI를 갖는 매우 높고 높은 헤이즈 목표는 달성된다. 상기 스파클은 매우 낮고 상기 눈부심 방지 외형 특성은 다수의 관찰자에 의해 우수하다고 판단되었다. 이는 마스킹 층으로서 폴리에틸렌 왁스 입자 제제의 사용이 우수한 광학 성능을 제공한다는 것을 명확하게 입증하는 것이다.
표 3은 Gorilla® 유리에 눈부심 방지층을 생성하기 위해 폴리에틸렌 왁스 입자를 사용한 더 많은 예를 보여준다. 샘플은 다른 온도에서 열처리되고, 더 짧은 시간 동안 에칭된다. 표 3에서 결과는 더 짧은 에칭 시간을 사용된 경우, 상기 DOI가 상기 헤이즈 및 유사한 스파클을 유지하면서 상승한다는 것을 보여준다. 이것은 유연성 (flexibility) 및 적은 유리 두께 손실을 입증하는 것이다.
입자 크기
(마이크론)		 가열온도
(℃)		 가열시간
(초)		 산
농도		 에칭시간
(초)		 DOI 헤이즈 스파클


50% < 6;
99% <19		 100

30

6M HF
7M H2SO4


20

 65 10 5.8
102 60 15 5.6
104 42 25 5.2
106 26 45 5.9
108 26 46 5.9
110 26 58 시각적
등급<6
표 4는 Gorilla® 유리에 눈부심 방지층을 생성하기 위해 저 분자량 폴리에틸렌 왁스 입자를 사용하는 더 많은 실시 예들을 보여준다. 샘플은 다른 온도에서 가열되고, 낮은 산 농도에서 에칭된다. 낮은 산 농도로, 높은 헤이즈 내지 매우 높은 헤이즈는 여전히 우수한 스파클로 달성된다. 이것은 낮은 산 농도도, 예를 들어, 입자 가열 온도, 가열 시간, 입자 농도, 에칭 온도, 코팅 두께, 에칭 시간, 또는 이들의 조합을 조정하여 유사한 결과를 달성하는데 사용될 수 있다는 것이 예측된다.
입자 크기
(마이크론)		 가열온도
(℃)		 가열시간
(초)		 산
농도		 에칭시간
(초)		 DOI 헤이즈 스파클


50% < 6;
99% <19		 100

30

5.5M HF
6.5M H2SO4


30

 71 6.8 5.4
102 70 7.4 5.2
104 57 19 5.4
106 30 30 5.6
108 29 32 5.3
110 26 51 시각적
등급<6
사용된 입자는 상대적으로 낮은 Tg를 갖는, 저 분자량 폴리에틸렌 입자에 기초된다. 상기 폴리머 입자의 Tg에 대략 비례하게 될 어닐링 온도를 갖는 선택적인 폴리머 입자의 넓은 다양성은 선택될 수 있다. 다른 폴리머 입자 물질의 예는, 예를 들어, 폴리스티렌, 폴리에스테르, 폴리올레핀, 염화폴리비닐, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴로니트릴, 실리콘, 폴리에틸렌, 멜라민, (메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 포함한다. 상기 입자는 호모폴리머, 공중합체, 또는 이의 혼합물일 수 있다. 비드 (beads)는 가교와 같은 표면 처리, 온도 또는 복사 민감 쉘, 및 이와 유사한 변형 또는 이들의 조합으로 개질될 수 있다. 상기 입자는 가교 또는 비가교될 수 있고, 플라스틱이 포함된 구형 또는 평평한 미세 입자 형성 요소가 사용될 수 있다. 다른 적절한 선택적 물질은, 예를 들어, 왁스 또는 왁스-와 같은 특성을 갖는 폴리머를 포함하고, 본 발명의 특징 및 관점을 달성하는 특히 효과적이다. 왁스의 분류는 석유 유도된 합성 왁스를 포함하는, 예를 들어, 식물, 광물, 또는 동물-계일 수 있다. 몇몇 예의 왁스는 에루카미드 (erucamide), 스테아르아미드(stearamide), 올레아미드 (oleamide), 몬탄 (Montan), 산화된 폴리에틸렌, 이들 조합을 함유하는 공중합체, 및 어떤 폴리머의 코어 및 다른 폴리머의 쉘을 갖는 입자 및 다른 이와 유사한 물질을 포함한다. 상기 다른 폴리머 입자 유형은 비용, 제거의 용이함, 또는 산 용액에서 강인성 (robustness)을 포함하는 다양한 고려 사항을 기초로 선택될 수 있다.
상기 폴리머 입자 크기는 제한되지 않는다. 디스플레이 제품에서 눈부심 방지 표면에 대하여, 일반적으로 원하는 입자 크기 범위는 중간값 및 범위를 포함하는, 예를 들어, 약 1 마이크론 내지 약 50 마이크론일 수 있다. 이러한 범위 미만에서, 서브-파장 효과는 상기 눈부심 방지 산란을 감소시킬 수 있고, 이러한 범위를 초과하면, 수용할 수 없는 디스플레이 "스파클"은 몇몇 픽셀화된 디스플레이에서 가시화될 수 있다. 그러나, 본 발명의 공정은 여전히 이러한 범위 밖의 입자 크기를 사용하여 적용가능할 것이라고 믿어진다. 예를 들어, 상기 슬롯 다이 코팅 방법은 입자의 여러 층을 생성, 및 에칭 전에 입자 마스크의 가열을 통해 최종 유리 조도를 조절하기 위해 사용될 수 있다. 50 마이크론을 초과하는 입자는 마우스 패드 또는 다른 터치 입력 장치와 같은, 비-디스플레이 제품, 비-픽셀된 디스플레이를 위한 눈부심 방지 표면, 및 이와 유사한 제품에 유용할 수 있다. 약 1 마이크론 미만의 폴리머 입자는 나노-구조 표면, 예를 들어, 구배-율 (gradient-index) 반사-방지 코팅 또는 소수성 (hydrophobic) 또는 소유성 (oleophobic) 구조화 표면을 생성하기 위해 유용할 수 있다. 본 발명의 방법으로부터 유익할 수 있는 다른 비-디스플레이 제품은 개선된 광 트랩핑 또는 광 흡수를 위한 광전기력 (photovoltaic) 패널, 및 가전제품 또는 건축물 (architectural) 제품을 위한 미적 패널 또는 커버를 포함하는 광-산란 표면을 생성하는 것이다.
실시 예 3
입자화된 표면의 제조
DEUREX MM 8015은 표 5에서 기술된 조건에 따라 슬롯-다이 코팅되고, 여기서 S-Gap(um)은 마이크로미터로 출발 슬롯 푸어 치수 (slot pour dimension)이고, C-Gap(um)는 마이크로미터로 코팅 갭 슬롯 치수이며, Horiz Del 및 Vert Del은 지연 시간이고, Liq Trig (mm)는 상기 코팅 작동의 말단에서 슬롯-다이 펌프가 정지된 경우 치수이다. 표 6은 에칭 조건 및 결과를 제공한다.
슬롯 다이 코팅 조건
폭
(mm)		 Aim Wet
(마이크론)		 mm/sec ml/min S-Gap
(um)		 C-Gap
(um)		 Horiz
Del		 Vert
Del		 Liq Trig
149.225 13 50 5.82 90 90 0.1 0.1 4
에칭 데이터
입자 크기 분포 및
특성 (마이크론)		 가열 온도
(℃)		 열처리 시간
(초)		 산
농도		 에칭 시간
(초)		 DOI 헤이즈 스파클
50% < 5 um
99% <15 um		 69 30 5.5M HF
6.5M H2SO4 		30 27 42 5.5
실시 예 4
혼합된 입자화 표면의 제조
DEUREX MM 8015 물질 또는 이와 유사한 물질은, 만약 원한다면, 다른 입자화 물질 또는 다른 성능 첨가제, 예를 들어, 왁스 입자 및 폴리머 입자의 혼합물과 혼합될 수 있다. 입자 현탁액은 전술한 바와 같이 동일한 슬롯-다이 설정으로 코팅된다. DUEREX 입자 현탁액은 전술한 바와 같이 제조된다. 폴리머 입자 현탁액, 예를 들어, PMMA 또는 이와 유사한 폴리머, 또는 메틸메타아크릴레이트 및 에틸렌글리콜디메타아크릴레이트의 공중합체와 같은, 공중합체는 표 7에 기재된 제제에 따라 제조된다. 선택적으로, 예를 들어, 점성 개질제, 바인더, 또는 분산제의 하나 이상이 상기 제제로부터 생략될 수 있다.
대표적인 폴리머 입자 현탁액 제제
제제 성분 (wt%) 1 2 3
Medium 80 863
용매 브랜드1 		11.48 11.48 11.48
에탄올 70.86 70.86 70.86
Disperbyk2 0.31 0.31 0.31
BYK 4203 2.04 2.04 2.04
8 마이크로미터에서
폴리머 입자		 15.28
12 마이크로미터에서
폴리머 입자		 15.28
20 마이크로미터에서
폴리머 입자		 15.28
총 100 100 100
1. Medium 80 683 (Ferro사의 바인더; 혼합된 용매에 8% 셀룰로오즈 유도체; 변성된 에탄올, ca. 40 wt%, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, ca. 60 wt%).
2. Byk Chemie사의 Disperbyk는 카르복실산 공중합체 습식 및 분산 첨가제이다. Disperbyk 그 자체로 이들 제제에서 사용된다.
3. Byk Chemie사의 Byk 420은 N-메틸피롤리돈에서 개질된 요소로 이루어진 점탄성 (thixotropic) 레올로지 개질제이다.
4. 폴리머 입자는 Sekisui Products LLC사에서 구매한 메틸메타아크릴레이트 및 에틸렌글리콜디메타아크릴레이트의 공중합체이다.
다른 폴리머 입자 크기, 입자 조성물, 같거나 다른 조성물로 두 개 이상의 입자 크기로 서로 혼합, 또는 유리 기판은 상기 최종 제품에서 원하는 조도 수준, 및 DOI 특성을 갖는 최종 기판을 제조하기 위해 부가적으로 또는 또 다른 제제 조작을 포함할 수 있다.
혼합된 현탁액은 10 wt%의 폴리머 입자 현탁액과 90 wt%의 DEUREX 왁스 현탁액을 조합하여 제조되고, 상기 혼합 현탁액은 균일한 혼합물을 제공하기 위해 약 한 시간 동안 롤러에 위치된다. 상기 혼합물은 그 다음 전술한 바와 같은 동일한 셋팅으로 슬롯-다이 코팅된다. 입자 코팅된 샘플은 그 다음 75 ℃에서 45초 동안 가열되고, 화학적 에칭을 수반한다. 표 8은 사용된 에칭 조건 및 최종 눈부심 방지 유리의 특성을 기재하였다. 본 실시 예는 DEUREX 물질에 가교된 폴리머 입자의 첨가가 최종 눈부심 방지 Gorilla® 유리에서 우수한 광학 특성을 제공할 수 있다는 것을 입증한다.
혼합된 입자 마스크 에칭 데이터
입자 크기
(마이크론)		 가열 온도
(℃)		 열처리 시간
(초)		 산
농도		 에칭 시간
(초)		 DOI 헤이즈 스파클
90% DEUREX
8015 및
10% PMMA1 		75
45
 5.5M HF
6.1M H2SO4
30
 40 25 63
75 5.5M HF
6.5M H2SO4 		40 30 6.1
1. PMMA는 약 5 마이크론의 평균 직경을 갖는 가교된 폴리메틸메타아크릴레이트 폴리머 입자이다.
100: 증착 105: 왁스 입자
110: 유리 기판 120: 산 에칭
130: 직조된 표면

Claims (20)

  1. 제품의 적어도 하나의 유리 표면의 일부에 변형가능한 입자를 증착시키는 단계;
    상기 유리 표면에 입자를 부착시키기 위해 상기 표면에 상기 증착된 변형가능한 입자를 변형시키는 단계; 및
    눈부심 방지 표면을 형성하기 위해 에칭제로 상기 부착된 입자를 갖는 유리 표면을 접촉시키는 단계를 포함하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 유리 표면은 소다 라임 실리케이트 유리, 알칼리토 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 보로실리케이트 유리, 보로알루미노실리케이트 유리, 또는 이들의 조합 중 적어도 하나를 포함하고, 상기 입자는 왁스, 폴리머, 또는 이들의 조합 중 적어도 하나를 포함하며, 상기 에칭제는 HF, H2SO4, 또는 이들의 조합으로부터 선택된 적어도 하나의 산을 포함하는 것을 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  3. 청구항 1 내지 2 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 증착된 변형가능한 입자를 변형시키는 단계는 가열에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  4. 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제품의 적어도 하나의 유리 표면의 일부에 변형가능한 입자를 증착시키는 단계는 왁스 입자, 폴리머 입자, 또는 이들의 조합의 현탁액으로 상기 유리 표면을 접촉시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 적어도 하나의 유리 표면을 입자 현탁액으로 접촉시키는 단계는 슬롯 코터로 수행되는 것을 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  6. 청구항 4 내지 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 증착 단계는 바인더; 레올로지 개질제; 또는 이들의 조합이 없는 입자 현탁액으로 수행되는 것을 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  7. 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접촉 단계는 상기 부착 입자를 갖는 상기 유리 표면을 상기 에칭제에 약 1 초 내지 약 30 분 동안 노출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  8. 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 증착된 변형가능한 입자는 약 1 내지 약 30 마이크로미터의 D50 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  9. 청구항 1 내지 8 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 변형가능한 입자는 열가소성 물질, 왁스, 또는 이들의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  10. 청구항 1 내지 9 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 변형가능한 입자는 약 25 내지 약 95℃의 유리 전이 온도 (Tg)를 갖는 것을 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  11. 청구항 1 내지 10 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 변형가능한 입자를 입자 현탁액으로 상기 제품의 표면에 증착시키는 단계는 상기 표면에 규칙 입자를 제공하는 것을 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 표면에 증착된 변형가능한 입자는 약 1 내지 약 200 마이크로미터의 습식 두께, 및 약 0.1 내지 약 50 마이크로미터의 건식 두께를 갖는 단-층 내지 다-층을 포함하는 것을 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  13. 청구항 1 내지 12 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 방법은 저-표면 에너지 코팅으로 최종 거칠어진 표면을 처리하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  14. 청구항 1 내지 13 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 방법은 최종 눈부심 방지 표면을 세척하는 단계, 상기 눈부심 방지 표면을 화학적으로 강화시키는 단계, 또는 이들의 조합을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  15. 청구항 1 내지 14 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 방법은, 에칭 전에, 선택적으로 제거가능한, 내에칭성 보호층으로 상기 제품의 적어도 또 다른 표면을 접촉시키는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 눈부심 방지 표면을 갖는 제품의 제조방법.
  16. 청구항 1 내지 15 중 어느 한 항에 방법에 의해 제조된 유리 제품.
  17. 청구항 16에 있어서,
    약 0.1 내지 약 30의 헤이즈;
    약 25 내지 약 85의 선영성 (DOI 20°);
    약 50 내지 약 500 nm의 표면 조도 (Ra); 및
    약 0.1 내지 약 10 마이크로미터의 평균 조도 고-저 차 프로파일을 갖는 적어도 하나의 눈부심 방지 표면을 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 제품.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 눈부심 방지 표면은 약 1 내지 약 100 마이크로미터의 평균 직경을 갖는 형태적 특징의 분포를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 제품.
  19. 청구항 17 내지 18 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제품은 디스플레이 장치의 보호 커버 유리의 시트인 것을 특징으로 하는 유리 제품.
  20. 약 30 미만의 헤이즈;
    약 25 내지 약 85의 선영성 (DOI 20°);
    약 50 내지 약 500 nm의 표면 조도 (Ra); 및
    약 0.1 내지 약 10 마이크로미터의 평균 조도 고-저 차 프로파일; 및
    유리 패널에 인접한 픽셀형 화상-표시 패널;을 갖는 청구항 1 내지 15 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 적어도 하나의 거칠어진 눈부심 방지 표면을 갖는 유리 패널을 포함하는 디스플레이 시스템.
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Families Citing this family (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101984806B1 (ko) 2011-02-28 2019-05-31 코닝 인코포레이티드 낮은 디스플레이 스파클을 갖는 방현 표면을 구비한 유리
US9446979B2 (en) * 2011-11-02 2016-09-20 Corning Incorporated Method for sparkle control and articles thereof
US8947866B2 (en) * 2012-06-21 2015-02-03 Corning Incorporated Edge armored display cover plate
US9588263B2 (en) 2012-08-17 2017-03-07 Corning Incorporated Display element having buried scattering anti-glare layer
KR20200039804A (ko) * 2012-08-31 2020-04-16 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 방현·반사 방지 부재 및 그 제조 방법
EP2904435A4 (en) * 2012-10-01 2016-10-05 Arkema France OPTICAL DIFFUSER OF LIGHT AND ITS MEASURING METHOD
CN105164078B (zh) 2012-11-02 2018-09-04 康宁股份有限公司 织构化不透明、有色和半透明材料的方法
JPWO2014112446A1 (ja) * 2013-01-16 2017-01-19 旭硝子株式会社 白色ガラスを含む筐体、白色ガラスを含む筐体の製造方法およびポータブル電子装置
CN108129032B (zh) * 2013-01-30 2020-11-03 Agc 株式会社 带防污膜的透明基体
US20150225283A1 (en) * 2014-02-10 2015-08-13 Hony Glass Technology Co., Ltd. Glass Substrate and Method of Manufacturing the Same
US10490167B2 (en) * 2014-03-25 2019-11-26 Intel Corporation Techniques for image enhancement using a tactile display
CN103934756B (zh) * 2014-04-20 2016-10-05 杭州道盈信息科技有限公司 防眩光玻璃的制作工艺
JP6476582B2 (ja) * 2014-04-23 2019-03-06 大日本印刷株式会社 積層体の製造方法、積層体、偏光板及び画像表示装置
CR20170028A (es) 2014-06-27 2017-09-28 Vidrio Plano Mexico Sa De Cv Proceso de fabricación de láminas de vidrio con acabado difuso y lámina de vidrio resultante
US10787384B2 (en) * 2014-07-09 2020-09-29 Agc Glass Europe Low sparkle glass sheet and process of making it
WO2016005216A1 (en) * 2014-07-09 2016-01-14 Agc Glass Europe Low sparkle glass sheet
US20160280584A1 (en) * 2014-07-09 2016-09-29 Agc Glass Europe Low sparkle glass sheet
CN104118996B (zh) * 2014-07-11 2016-08-17 中国南玻集团股份有限公司 防眩玻璃的制备方法
US10338276B2 (en) 2014-09-12 2019-07-02 Fujifilm Corporation Antireflective film, polarizing plate, cover glass, image display device, and method of manufacturing antireflective film
WO2016069113A1 (en) * 2014-10-31 2016-05-06 Corning Incorporated Anti-glare substrates with a uniform textured surface and low sparkle and methods of making the same
KR101539907B1 (ko) * 2015-01-22 2015-08-06 성균관대학교산학협력단 패턴화된 태양전지용 유리기판 제조방법 및 이를 이용한 박막태양전지
US20180128957A1 (en) * 2015-05-15 2018-05-10 Corning Incorporated Glass article comprising light extraction features and methods for making the same
US10663791B2 (en) 2015-06-02 2020-05-26 Corning Incorporated Material system having multiple appearance states for a display surface of a display unit
CN107923996B (zh) 2015-07-31 2019-12-06 富士胶片株式会社 防反射膜的制造方法及防反射膜
JP6852678B2 (ja) * 2015-11-30 2021-03-31 Ａｇｃ株式会社 ガラス板、タッチパッド、およびタッチパネル
JP2017116573A (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 旭硝子株式会社 ガラス基板の製造方法およびガラス基板
WO2018025818A1 (ja) 2016-08-02 2018-02-08 富士フイルム株式会社 積層体、反射防止物品、及びそれらの製造方法
US11073715B2 (en) * 2016-09-27 2021-07-27 AGC Inc. Method for producing glass article, and glass article
US11550080B2 (en) 2016-10-07 2023-01-10 Nippon Paint Automotive Coatings Co., Ltd. Optical laminated member
CN108191253B (zh) * 2016-12-22 2020-11-20 蓝思科技（长沙）有限公司 一种蒙砂液、其制备方法、用途以及制备防眩玻璃的方法
CN108439813B (zh) * 2017-02-14 2022-04-15 康宁股份有限公司 具有弯曲减少的基于低闪光防眩光玻璃的制品和减少基于防眩光玻璃的制品中的弯曲的方法
US11208344B2 (en) 2017-03-28 2021-12-28 Corning Incorporated Textured glass articles and methods of making the same
TW201906798A (zh) 2017-06-23 2019-02-16 美商康寧公司 包括結構化島狀層的可折曲疊層製品及其製造方法
CN107290809A (zh) * 2017-07-20 2017-10-24 武汉华星光电技术有限公司 抗眩层的制作方法及显示面板
CN107739159B (zh) * 2017-09-28 2020-04-10 深圳航天科技创新研究院 一种高雾度低光泽度防眩光膜及其制备方法
EP3695297B1 (en) 2017-10-10 2022-08-17 Razer (Asia-Pacific) Pte. Ltd. Method and apparatus for analyzing mouse gliding performance
US11560330B2 (en) 2017-11-30 2023-01-24 Corning Incorporated Patterned glass articles and methods of making the same
TWI821234B (zh) 2018-01-09 2023-11-11 美商康寧公司 具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法
TW201935039A (zh) 2018-01-25 2019-09-01 美商康寧公司 用於可折疊電子顯示器的纖維玻璃複合蓋及其製作方法
CN111936310A (zh) 2018-02-14 2020-11-13 康宁股份有限公司 包括光学透明聚合硬涂层的可折叠玻璃制品及其制造方法
CN112243429B (zh) 2018-04-09 2023-03-28 康宁股份有限公司 局部强化的玻璃陶瓷及其制造方法
US11402669B2 (en) 2018-04-27 2022-08-02 Apple Inc. Housing surface with tactile friction features
US10694010B2 (en) 2018-07-06 2020-06-23 Apple Inc. Cover sheet and incorporated lens for a camera of an electronic device
WO2020013012A1 (ja) * 2018-07-09 2020-01-16 日本板硝子株式会社 画像表示装置に適したガラス板
CN108585533A (zh) * 2018-07-19 2018-09-28 佛山陵朝新材料有限公司 一种防眩光玻璃的制备方法
US11112827B2 (en) 2018-07-20 2021-09-07 Apple Inc. Electronic device with glass housing member
WO2020041032A1 (en) 2018-08-24 2020-02-27 Corning Incorporated Article comprising puncture resistant laminate with ultra-thin glass layer
CN111087169B (zh) * 2018-10-24 2022-09-06 重庆鑫景特种玻璃有限公司 一种雾度渐变玻璃及其制作方法及利用其制作的玻璃器件
US20210380474A1 (en) 2018-11-09 2021-12-09 Corning Incorporated Flexible glass cover with polymeric coatings
US11691912B2 (en) 2018-12-18 2023-07-04 Apple Inc. Chemically strengthened and textured glass housing member
WO2020131400A1 (en) 2018-12-21 2020-06-25 Corning Incorporated Strengthened 3d printed surface features and methods of making the same
US11199929B2 (en) 2019-03-21 2021-12-14 Apple Inc. Antireflective treatment for textured enclosure components
CN113710384B (zh) * 2019-04-11 2024-03-22 康宁股份有限公司 抗反射透明疏油表面及其制造方法
US11372137B2 (en) 2019-05-29 2022-06-28 Apple Inc. Textured cover assemblies for display applications
US11109500B2 (en) 2019-06-05 2021-08-31 Apple Inc. Textured glass component for an electronic device enclosure
US10827635B1 (en) 2019-06-05 2020-11-03 Apple Inc. Electronic device enclosure having a textured glass component
US11192823B2 (en) 2019-06-05 2021-12-07 Apple Inc. Electronic devices including laser-textured glass cover members
CN114466829A (zh) 2019-08-07 2022-05-10 康宁股份有限公司 具有碎片保留硬涂层的薄挠性玻璃覆盖
US20220282130A1 (en) 2019-08-28 2022-09-08 Corning Incorporated Bendable articles including adhesive layer with a dynamic elastic modulus
DE102021107593A1 (de) 2020-03-30 2021-09-30 Schott Ag Blendfreie Glasartikel und Verfahren zum Herstellen von blendfreien Glasartikeln
US20230271875A1 (en) * 2020-05-14 2023-08-31 Corning Incorporated Anti-reflection and anti-glare glass laminates
US20220011477A1 (en) 2020-07-09 2022-01-13 Corning Incorporated Textured region to reduce specular reflectance including a low refractive index substrate with higher elevated surfaces and lower elevated surfaces and a high refractive index material disposed on the lower elevated surfaces
US11897809B2 (en) 2020-09-02 2024-02-13 Apple Inc. Electronic devices with textured glass and glass ceramic components
WO2023183220A1 (en) * 2022-03-25 2023-09-28 Photronics, Inc. System, method and program product for photomask surface treatment

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2381479A (en) * 1943-03-13 1945-08-07 Pittsburgh Plate Glass Co Method of providing matte surfaces upon glass
US4921626A (en) 1989-08-23 1990-05-01 Automark Corporation Glass etching composition and method of making
KR0182416B1 (ko) 1996-08-26 1999-04-15 구자홍 유리기판 에칭용 에천트
US6807824B1 (en) 1999-04-27 2004-10-26 Hiroshi Miwa Glass etching composition and method for frosting using the same
US7276181B2 (en) 2000-12-27 2007-10-02 Hiroshi Miwa Method for preparing decorative glass using glass etching composition
US7005079B2 (en) 2003-04-07 2006-02-28 Chungwha Picture Tubes, Ltd. Manufacturing method of light-guiding apparatus for using in backlight of liquid crystal display
TWI461758B (zh) * 2003-08-13 2014-11-21 Sumitomo Chemical Co 製備抗眩光學膜的方法
US7855833B2 (en) * 2004-08-10 2010-12-21 Kimoto Co., Ltd. Transmission screen
JP2008529950A (ja) 2005-02-18 2008-08-07 エージーシー フラット グラス ユーロップ エスエー ガラス物品表面の選択的エッチングのための方法
US7982380B2 (en) * 2006-08-18 2011-07-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Front filter for plasma display and plasma display
KR100854486B1 (ko) 2007-04-05 2008-08-26 한국기계연구원 초발수 표면 제조 방법
WO2009023169A1 (en) * 2007-08-10 2009-02-19 Nano Terra Inc. Structured smudge-resistant coatings and methods of making and using the same
JP2009058862A (ja) * 2007-09-03 2009-03-19 Toppan Printing Co Ltd 防眩フィルム
US20090071537A1 (en) 2007-09-17 2009-03-19 Ozgur Yavuzcetin Index tuned antireflective coating using a nanostructured metamaterial
JP4945460B2 (ja) * 2008-01-04 2012-06-06 株式会社東芝 反射防止構造の形成方法および反射防止構造
CN101314522B (zh) * 2008-06-12 2010-09-08 东华大学 一种防眩光玻璃的制备方法
KR20100019922A (ko) * 2008-08-11 2010-02-19 주식회사 룩스온 나노 다공성 반사방지막 및 그의 제조방법
US8325296B2 (en) * 2009-03-30 2012-12-04 Fujifilm Corporation Light-transmitting substrate, optical film, polarizing plate and image display device
US8771532B2 (en) 2009-03-31 2014-07-08 Corning Incorporated Glass having anti-glare surface and method of making
CN102754217B (zh) * 2009-11-17 2016-07-06 3M创新有限公司 吸光基材的织构化表面
US9085484B2 (en) 2010-04-30 2015-07-21 Corning Incorporated Anti-glare surface treatment method and articles thereof
US9446979B2 (en) 2011-11-02 2016-09-20 Corning Incorporated Method for sparkle control and articles thereof
WO2013181007A1 (en) * 2012-05-29 2013-12-05 Corning Incorporated Method for texturing a glass surface

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