KR20170076779A - 균일한 텍스쳐된 표면 및 저 스파클을 갖는 기판 및 이의 제조 방법 - Google Patents

균일한 텍스쳐된 표면 및 저 스파클을 갖는 기판 및 이의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

눈부심-방지 제품 및 이를 형성하는 방법의 구체 예는 개시된다. 하나 이상의 구체 예에서, 상기 눈부심-방지 제품은 표면을 갖는 기판 및 상기 표면상에 배치된 복수의 피쳐를 포함하고, 여기서 상기 복수의 피쳐 중 약 50% 이상이 약 0.5 내지 약 1.5 범위에서 정규화된 면적을 포함하며, 및 상기 정규화된 면적은 관계식 (피쳐의 표면적/모든 피쳐의 평균 표면적)로서 정의된다. 몇몇 구현 예에서, 상기 피쳐의 약 90% 이상은 약 100 micrometers 이하의 표면적을 갖는다. 상기 눈부심-방지 제품은 약 5% 이하의 PPDr, 약 20% 미만의 투과 헤이즈 및 약 90% 미만의 DOI를 나타낸다. 기판을 형성하는 방법은 또한 개시되며, 수용성 금속이온 염을 포함하는 에칭제로 기판의 표면을 에칭하는 단계를 포함한다.

Description

균일한 텍스쳐된 표면 및 저 스파클을 갖는 기판 및 이의 제조 방법 {Anti-Glare Substrates With A Uniform Textured Surface And Low Sparkle And Methods Of Making The Same}
본 출원은 2014년 10월 31일자에 출원된 미국 가 특허출원 제62/073,224호의 우선권을 주장하고, 이의 전체적인 내용은 참조로 여기에 혼입된다.
본 개시는 눈부심-방지 (anti-glare) 특성을 나타내는 기판에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 균일한 텍스쳐된 표면 (uniform textured surface) 및 저 스파클 (low sparkle)을 나타내는 기판에 관한 것이다. 이러한 기판을 제조하는 방법은 또한 개시된다.
소비자용 전자 기술의 발전은 다양한 커버 기판 특성의 개선을 필요로 한다. 개선을 위한 이러한 영역 중 하나는, 스마트 (휴대용) 전화, 태블릿, 전자 리더기, 디스플레이 및 TV와 같은, 소비자 전자 장치용 눈부심-방지 표면이다.
경면 반사 (specular reflection)의 감소는, 터치 민감성 전자 장치, 전자 잉크 리더, 대화식 화이트보드 (interactive whiteboards) 및 기타 휴대용 LCD 패널에, 특히 특정 광 조건에서 사용된 경우, 종종 바람직한 특성이다. 이러한 특성을 나타내는 커버 기판은, 반사-방지 (anti-reflection) 층으로 코팅하거나 또는 표면에 텍스쳐를 생성하여 (따라서, 눈부심-방지 표면을 형성하여) 실현될 수 있다. 표면 텍스쳐는 반사광의 무작위 산란 (random scattering)을 통해 반사광을 감소시키고 및 흐릿한 반사 이미지 (blurred reflective image)를 야기한다.
소비자용 전자 적용에 대해, 공지된 눈부심-방지 표면은 낮은 투과율 헤이즈 수준 (transmittance haze levels) (예를 들어, 약 10% 이하)에서 스파클 (또는 입자가 거친 외관 (grainy appearance))을 나타낼 수 있다. 디스플레이 "스파클"은 눈부심-방지 또는 광 산란 표면이 디스플레이 시스템에 혼입된 경우, 발생할 수 있는 현상이다. 스파클은 디스플레이의 시야각 변화에 따라 입자의 패턴에서 시프트 (shift)를 갖는 것으로 나타날 수 있는 매우 미세한 입자가 거친 외관과 관련된다. 이 타입의 스파클은, LCD와 같은 픽셀화된 디스플레이가 눈부심 방지 표면을 통해 보는 경우, 관찰된다. 이러한 스파클은 프로젝션 또는 레이저 시스템에서 관찰되고 특징화된 "스파클" 또는 "스펙클 (speckle)"과 다른 타입 및 기원 (origin)이다.
디스플레이가 고화질을 나타내고 및 더 많은 픽셀이 고밀도로 조립됨에 따라, 스파클의 감소는 좀 더 중요해졌다. 눈부심-방지 필름 적층, 샌드 블라스팅 (sand blasting), 졸-겔 코팅과 같은, 공지의 눈부심-방지 기술은, 상당한 스파클을 생성하는 경향이 있다. 따라서, 낮은 DOI 및 낮은 투과 헤이즈 (transmission haze)를 여전히 나타내면서, 저 스파클을 나타내는 눈부심-방지 표면에 대한 요구가 있다.
본 개시의 관점은 표면 텍스쳐 및 저 스파클 사이의 관계를 최적화하는 것과 관련된다. 기재되는 바와 같이, 여기에 기재된 눈부심-방지 기판 및 이를 제조하는 방법은 약 0.5 내지 약 1.5 범위에서 정규화된 피쳐 면적 퍼센트 (normalized feature area percentage)의 약 50% 이상을 갖는 표면을 제공하여, 스파클을 현저히 감소시킨다.
본 개시의 제1 관점은 (낮은 픽셀 파워 편차 기준 또는 PPDr 면에서) 저 스파클을 나타내는 기판 및 이러한 기판을 포함하는 제품에 관한 것이다. 본 개시의 하나 이상의 구체 예는 표면을 갖는 기판 및 상기 표면상에 배치된 복수의 피쳐 (features)를 포함하는 눈부심-방지 제품을 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 상기 복수의 피쳐 중 약 50% 이상은 약 0.5 내지 약 1.5 범위에서 정규화된 면적을 갖는다. 문구 정규화된 면적은 관계식: (피쳐의 표면적/모든 피쳐의 평균 표면적)으로 정의된다. 몇몇 변형에서, 상기 피쳐의 약 90% 이상은 약 100 micrometers 이하의 표면적을 갖는다. 몇몇 변형에서, 상기 복수의 피쳐 중 약 18% 이하는 약 400nm를 초과하는 평균 표면적을 갖는다. 몇몇 변형에서, 상기 복수의 피쳐 중 약 15% 이하는 약 400nm를 초과하는 평균 표면적을 갖는다.
하나 이상의 구체 예에서, 제품은 약 0.15 micrometers 이하의 거칠기 평균 (Ra)을 갖는다. 몇몇 구체 예에서, 제품은 약 5% 이하의 PPDr 값을 나타낸다. 하나 이상의 구체 예의 제품은 또한 약 20% 미만의 투과 헤이즈를 나타낸다. 몇몇 사례에서, 복수의 피쳐를 포함하는 기판 표면은 약 90% 미만의 DOI를 나타낸다. 몇몇 사례에서, 복수의 피쳐를 포함하는 기판 표면은 60°에서 약 87% 이하의 광택 (gloss)을 나타낸다.
본 개시의 제2 관점은 눈부심 방지 표면을 형성하는 방법, 또는 좀 더 구체적으로, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판을 형성하는 방법에 관한 것이다. 하나 이상의 구체 예에서, 눈가심-방지 표면은 복수의 피쳐를 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 복수의 피쳐 중 약 50% 이상은 약 0.5 내지 약 1.5 범위에서 정규화된 면적을 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 최종 기판은 약 20% 이하의 투과 헤이즈 및/또는 약 6 이하의 PPD를 나타낸다. 몇몇 구체 예에서, 눈부심-방지 표면은 약 90% 이하의 DOI 및/또는 60°에서 약 87% 이하의 광택을 나타낸다.
하나 이상의 구체 예에서, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판을 형성하는 방법은, 에칭된 표면을 제공하기 위해 에칭제로 기판의 제1표면의 일부를 에칭하는 단계 및 눈부심-방지 표면을 제공하기 위해 에칭된 표면의 일부를 제거하는 단계를 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 상기 방법은 제1표면의 에칭 전에 상기 기판의 제2 표면상에 내-산성 필름을 형성하는 단계를 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 상기 기판의 제1표면의 일부를 에칭하는 단계는 약 5분 미만 동안 제1표면와 에칭제를 접촉시키는 단계를 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 상기 에칭된 표면의 일부를 제거하는 단계는 15분 미만 동안 에칭된 표면과 산 용액을 접촉시키는 단계를 포함한다.
하나 이상의 구체 예에서, 에칭제는 수용성 금속이온 염을 포함한다. 적절한 수용성 금속이온 염의 예로는 CuCl2, Cu(NO3)2, CuSO4, FeCl3, Fe2(SO4)3, Fe(NO3)3, CoCl2, Co2SO4, Co(NO3)2, NiCl2, Ni2SO4, Ni(NO3)2, ZnCl2, Zn2SO4, Zn(NO3)2, CaCl2, Ca2SO4, Ca(NO3)2, MgCl2, Mg2SO4, Mg(NO3)2, NH4Cl 또는 이의 조합을 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 에칭제는 불화물 함유 산 (fluoride containing acid) 및 충전제 (filler)를 포함한다. 적합한 불화물 함유 산의 예로는 NH4F, NH4HF2 또는 이의 조합을 포함한다. 에칭제의 몇몇 구체 예에 사용된 충전제는 BaSO4, CaF2, MgF2, 카올린 또는 이의 조합과 같은 무기염을 포함할 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 에칭제는 가용성 전분을 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 에칭제는 폴리아크릴아미드, 폴리아크릴산, 폴리(스티렌설포네이트) 및 이들의 조합과 같은 가용성 고분자 계면활성제를 포함할 수 있다. 선택적으로, 에칭제는 KNO3를 포함할 수 있다.
몇몇 구체 예에 활용된 산 용액은 HF, HCl 또는 이의 조합을 포함할 수 있다.
부가적인 특색 및 장점은 하기 상세한 설명에서 서술될 것이며, 부분적으로 그 상세한 설명으로부터 당업자에게 쉽게 명백하게 되거나, 또는 하기 상세한 설명, 청구 범위, 및 첨부 도면을 포함하는, 여기에 기재된 구체 예를 실행시켜 인지될 것이다.
전술한 배경기술 및 하기 상세한 설명 모두는 단지 대표적인 것이며, 및 청구항의 본질 및 특성을 이해하기 위한 개요 또는 틀거리를 제공하도록 의도된 것으로 이해될 것이다. 수반되는 도면은 또 다른 이해를 제공하기 위해 포함되며, 본 명세서에 혼입되고, 본 명세서의 일부를 구성한다. 도면은 다양한 하나 이상의 구체 예를 예시하고, 상세한 설명과 함께 다양한 구체 예의 원리 및 작동을 설명하는 역할을 한다.
도 1은 일 구체 예의 측면도이다;
도 2는 실시 예 1의 광학 현미경 이미지이다;
도 3은 실시 예 6의 광학 현미경 이미지이다;
도 4는 실시 예 12의 광학 현미경 이미지이다;
도 5는 실시 예 21의 광학 현미경 이미지이다;
도 6은 500배 배율에서 실시 예 30의 투과된 광의 광학 현미경 이미지를 나타낸다;
도 7은 200배 배율에서 실시 예 31의 투과된 광의 광학 현미경 이미지를 나타낸다;
도 8은 200배 배율에서 실시 예 32의 투과된 광의 광학 현미경 이미지를 나타낸다;
도 9는 200배 배율에서 비교 예 33의 투과된 광의 광학 현미경 이미지를 나타낸다;
도 10은 실시 예 30-32 및 비교 예 33의 피쳐 표면적 분포 (feature surface area distribution)를 나타내는 막대그래프이다;
도 11은 실시 예 30-32 및 비교 예 33의 피쳐 표면적 분포를 나타내는 선 그래프이다;
도 12는 실시 예 30-32 및 비교 예 33의 피쳐의 정규화된 면적 분포를 나타내는 막대그래프이다;
도 13은 실시 예 30-32 및 비교 예 33의 피쳐의 정규화된 면적 분포를 나타내는 선 그래프이다.
이하 본 개시의 다양한 구체 예(들)에 대해 상세하게 언급될 것이다.
본 개시의 제1 관점은 눈부심-방지 특성을 나타내는 기판 및 이를 포함하는 제품과 관련된다. 구체적으로, 눈부심-방지 기판은, 눈부심-방지 표면 (또는 텍스쳐 또는 거칠어진 표면)을 포함하는 표면상에 측정된 것으로, 약 5% 이하의 PPDr, 낮은 투과 헤이즈 (예를 들어, 약 20% 미만), 낮은 DOI (예를 들어, 약 90% 미만) 및 60°에서 저 광택 (예를 들어, 약 87% 이하) 면에서 저 스파클을 나타낸다.
도 1을 참조하면, 하나 이상의 구체 예에서, 기판 (100)은 대립하는 주 표면 (112, 114) 및 대립하는 부 표면 (116, 118)을 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 적어도 하나의 표면 (예를 들어, 주 표면)은 복수의 피쳐 (122)를 갖는 텍스쳐 (여기에서 텍스쳐된 표면 (120)으로 언급됨)를 포함한다. 상기 텍스쳐는 표면의 일부, 전체 표면 또는 하나 이상의 표면을 가로질러 확장될 수 있다. 상기 텍스쳐는 거칠기로 언급될 수 있다. 상기 피쳐 (120)는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 표면에서 외부로 향하는 면에서, 표면에서 개구부를 갖는 표면으로부터 기판으로 연장되는 오목한 형태로 묘사될 수 있다.
특별한 언급이 없는 한, 기판 (100)의 눈부심-방지 성능은, 반사 모드에서 (즉, 기판의 다른 표면들을 고려하지 않고), 텍스쳐 또는 복수의 피쳐 (122)를 갖는 표면에 대해 DOI 및 광택의 면에서 측정된다. 이들 값이 투과 모드에서 측정되기 때문에, PPDr 및 투과 헤이즈 성능은, 전체 기판에 대한 것이다.
상기 복수의 피쳐는 좁은 표면적 분포를 갖고, 따라서 표면은 균일한 텍스쳐를 갖는다. 하나 이상의 구체 예에서, 상기 복수의 피쳐 중 약 50% 이상은 약 0.25 내지 약 1.75 (또는 약 0.5 내지 약 1.5, 약 0.6 내지 약 1.4, 약 0.7 내지 약 1.3, 또는 약 0.75 내지 약 1.25)의 범위에서 정규화된 면적을 갖는다. 여기에 사용된 바와 같은, 문구 "정규화된 면적"은 관계식: (모든 피쳐의 표면적/모든 피쳐의 평균 표면적)으로 정의된다.
하나 이상의 구체 예에서, 상기 복수의 피쳐 중 상당 부분은 약 100 micrometers (㎛) 이하의 표면적을 갖는다. 예를 들어, 몇몇 구체 예에서, 상기 복수의 피쳐 중 약 90% 이상은 약 100 micrometers (㎛) 이하의 표면적을 갖는다. 몇몇 사례에서, 상기 피쳐의 약 90% 이상은 약 90 micrometers (㎛) 이하, 약 80 micrometers (㎛) 이하, 약 70 micrometers (㎛) 이하, 또는 약 60 micrometers (㎛) 이하의 표면적을 갖는다.
몇몇 사례에서, 상기 복수의 피쳐 중 작은 부분은 약 100 micrometers (㎛)를 초과하는 표면적을 가지며, 상기 복수의 피쳐 중 더 소수는 약 400 micrometers (㎛) 이상의 표면을 갖는다. 예를 들어, 몇몇 구체 예에서, 복수의 피쳐 중 약 20% 이하 (또는 약 18% 이하)는 약 400 nanometers (nm) 이상의 평균 표면적을 갖는다. 몇몇 사례에서, 복수의 피쳐 중 약 20% 이하는 약 450 nanometers (nm) 이상, 약 500 nanometers (nm) 이상, 약 550 nanometers (nm) 이상, 또는 약 600 nanometers (nm) 이상의 평균 표면적을 갖는다. 하나 이상의 구체 예에서, 복수의 피쳐 중 약 15% 이하는 약 400 nanometers (nm)를 초과하는 평균 표면적을 갖는다.
상기 복수의 피쳐는, 피쳐의 평균 가장 긴 단면 치수의 측면에서 기재될 수 있는, 피쳐 크기 측면에서 특징화될 수 있다. 하나 이상의 구체 예에서, 복수의 피쳐는 약 5 micrometers (㎛) 내지 약 50 micrometers (㎛)의 범위, 또는 보다 구체적으로는 약 5 micrometers (㎛) 내지 약 30 micrometers (㎛) 범위에서 평균 가장 긴 단면 치수를 가질 수 있다. 여기에 사용된 바와 같은, 용어 "가장 긴 단면 치수"는 피쳐의 가장 긴 단일 치수를 의미한다. 따라서, 피쳐가 원형인 경우, 가장 긴 단면 치수는 이의 직경이고; 피쳐가 타원형인 경우, 가장 긴 단면 치수는 타원의 가장 긴 직경이며; 및 피쳐가 불규칙한 모양인 경우, 가장 긴 단면 치수는 이의 둘레에서 가장 먼 두 지점 사이의 선이다. 용어 "평균"은, "가장 긴 단면 치수"와 함께 사용되는 경우, 동일한 샘플에 대해 적어도 20개의 다른 피쳐의 측정된 가장 긴 단면 치수의 평균을 포함한다.
몇몇 구체 예에서, 텍스쳐된 표면은 이의 평균 거칠기 (Ra)를 특징으로 할 수 있다. 눈부심-방지 표면은 약 0.15 micrometers (㎛) 이하의 Ra를 가질 수 있다. 몇몇 사례에서, 눈부심-방지 표면은 약 0.14 micrometers (㎛) 이하, 약 0.13 micrometers (㎛) 이하, 약 0.12 micrometers (㎛) 이하, 약 0.11 micrometers (㎛) 이하, 또는 약 0.1 micrometers (㎛) 이하의 Ra를 가질 수 있다. 몇몇 사례에서, Ra는 약 0.6 micrometers (㎛) 이하일 수 있다. 모든 사례에서, Ra 값은 약 0.01 micrometers (㎛) 이상이다.
하나 이상의 구체 예에서, 텍스쳐된 표면은 평균으로부터의 프로파일 고도 편차의 평균 제곱 평균 (RMS)을 특징으로 할 수 있다. 하나 이상의 구체 예에서, 텍스쳐된 표면은 약 200 nanometers (nm) 이상의 RMS를 가질 수 있다. 몇몇 사례에서, 텍스쳐된 표면은 약 200 nanometers (nm) 내지 약 300 nanometers (nm), 또는 약 200 nanometers (nm) 내지 약 260 nanometers (nm)의 범위에서 RMS를 가질 수 있다.
하나 이상의 구체 예에서, 기판은 약 5% 이하, 약 4.5% 이하, 약 4% 이하, 약 3.5% 이하, 또는 약 3% 이하의 픽셀 파워 편차 기준 (pixel power deviation referenced) 또는 PPDr을 특징으로 할 수 있는 저 스파클을 나타낸다. 여기에 사용된 바와 같은, 용어 "픽셀 파워 편차 기준" 및 "PPDr"은 디스플레이 스파클에 대한 정량적 측정을 의미한다. 별도의 언급이 없는 한, PPDr은 60 ㎛×180 ㎛의 네이티브 서브-픽셀 피치 (native sub-pixel pitch) 및 약 44 ㎛×약 142 ㎛의 서브-픽셀 개구 창 크기 (opening window size)을 갖는 측면-발광 LCD 스크린 (edge-lit LCD screen) (꼬인 네마틱 LCD (twisted nematic LCD))을 포함하는 디스플레이 배열을 사용하여 측정된다. LCD 스크린의 전면은 광택의, 반사-방지 타입 선형 편광 필름을 갖는다. 디스플레이 시스템의 PPDr 또는 디스플레이 시스템의 일부를 형성하는 눈부심-방지 표면의 PPDr을 결정하기 위해, 스크린은 사람 관찰자의 눈의 파라미터를 근사치를 내는, "눈-시뮬레이터" 카메라의 초점 영역에 놓는다. 이로써, 카메라 시스템은 광의 수집 각도를 조절하기 위해 광학 경로에 삽입되고, 따라서 인간의 눈의 동공의 구경 (aperture)에 비슷한 구경 (또는 "동공 구경")를 포함한다. 여기에 기재된 PPDr 측정에서, 조리개 (iris diaphragm)는 18 milliradians의 각도에 대향한다.
PPDr 측정은 공지의 눈부심-방지 표면을 특성화하기 위해 사용된 PPD 측정과 구별될 수 있다. PPDr은 픽셀 파워의 정규화된 표준 편차를 포함하고 및 J. Gollier 등의, "Display sparkle measurement and human response," SIDSymposium of Technical Papers 44, No. 1, 295-297 (2013)에 좀 더 자세히 기재된다. 디스플레이 단독으로 PPD 기여를 계산하기 위해, 눈부심-방지 표면 없는 방사형 디스플레이의 픽셀 파워 변화는 (기준 측정을 나타내는) PPDr 측정를 제공하기 위해 제거된다. 일반적으로, 노출된 디스플레이의 제1 이미지는 촬영되고 및 눈부심-방지 표면을 함유하는 시험 샘플로 촬영한 이미지에 대한 기준으로 사용된다. 인접한 픽셀들 사이의 경계는 이미지의 줄과 행을 합산하고, 최소를 결정하여 계산된다. 매우 잡음 이미지 (noisy images)의 경우, 통합된 영역의 위치는 방사형 디스플레이에서 픽셀 피치가 일정하다는 지식을 사용하여 추정되는 것이 필요할 수 있다. 픽셀들 사이에 다크 영역에서 관찰된 배경 카운트 (background counts)는 카메라 다크 카운트 또는 디스플레이 내에 다른 산란 광을 제거하기 위해 이미지에서 공제된다. 각 픽셀 내에 총 파워는 기준 이미지로부터의 픽셀 파워로 나누어 적분되고 정규화된다. 픽셀 파워의 분포의 표준 편차는 그 다음 PPDr 값을 얻기 위해 계산된다.
좀 더 구체적으로, PPDr의 측정에서, LCD 픽셀의 균일한 녹색 패치 (green patch)는 소스로서 사용된다. 녹색 서브-픽셀 만이 약 20 x 20 LCD 픽셀의 최소 측정 면적으로 비춰진다. 시험 이미지 (Tij) 및 기준 이미지 (Rij)는 획득된다. 기준 이미지는 소스 강도 분포의 불-균일성을 제거한다. 홍채를 통해 보이는 LCD 픽셀의 이미지는 LCD 픽셀 당 적어도 약 20 CCD 픽셀을 갖는 CCD (charge-coupled device) 카메라에 의해 수집된다. 배경 값 (bg)은 또한 미광 (stray light) 및 다크 카운트로부터의 기여를 제거하도록 결정된다. PPDr 값은 하기 수학식 1 및 2에 의해 결정된다.
[수학식 1]
Aij = (Tij - bg)/(Rij - bg)
[수학식 2]
PPDr = St. Dev. [Aij]*100
PPDr 측정은 0° 및 90°에서 수행될 수 있다. 여기에 나열된 PPDr 값은 이들 측정의 수학적 평균을 나타낸다.
몇몇 구체 예들에서, 눈부심-방지 표면은 약 90 이하 (예를 들어, 약 85 이하, 약 80 이하, 약 60 이하 또는 약 40 이하)의 20° 이미지의 선명도 (distinctness of image: DOI)을 나타낸다. 여기에 사용된 바와 같은, 용어 "이미지의 선명도"는 명칭이 "Standard Test Methods for Instrumental Measurements of Distinctness-of-Image Gloss of Coating Surfaces" 인 ASTM 절차 D5767 (ASTM 5767)의 방법 A에 의해 정의되고, 이의 전체적인 내용은 참조로 여기에 혼입된다. ASTM 5767의 방법 A에 따르면, 기판 반사율 지수 측정 (reflectance factor measurements)은, 경면 시야각 (specular viewing angle) 및 경면 시야각 각을 약간 벗어난 각도에서 눈부심-방지 표면에 대해 이루어진다. 이들 측정으로부터 얻어진 값은 DOI 값을 제공하기 위해 조합된다. 특히, DOI는 하기 수학식 3에 따라 계산되고,
[수학식 3]
Figure pct00001
여기서 Ros는 경면 반사 방향에서 벗어난 0.2° 내지 0.4°에서 상대 반사 강도 평균이고, Rs는 경면 방향 (경면 반사 방향을 중심으로 +0.05° 내지 -0.05°)의 상대 반사 강도 평균이다. 입력 광원 각이 (본 개시 전체에 걸쳐) 샘플 표면 법선으로부터 +20°이고, 및 샘플에 대한 표면 법선이 0°로 한다면, 경면 반사광 Rs의 측정은 약 -19.95° 내지 -20.05°의 범위에서 평균으로 취해지고, Ros은 약 -20.2° 내지 -20.4°의 범위 (또는 -19.6° 내지 -19.8°, 또는 이들 두 범위의 모두의 평균)에서 평균 반사 강도로 취해진다. 여기에 사용된 바와 같은, DOI 값은 여기에 정의된 바대로 Ros/Rs의 목표 비를 명시하는 것으로 직접 해석되어야 한다. 몇몇 구체 예에서, 눈부심-방지 표면은, 반사된 광학 파워의 >95%이 +/- 10°의 원뿔 내에 함유되도록, 반사된 산란 프로파일을 가지며, 여기서 원뿔은 임의의 입력 각에 대한 경면 반사 방향을 중심으로 한다.
몇몇 구체 예에서, 여기에 기재된 눈부심-방지 표면은 약 20% 이하의 투과 헤이즈 값을 갖는다. 몇몇 구체 예에서, 투명 유리 시트의 투과 헤이즈는 약 18% 이하, 약 16% 이하, 약 15% 이하, 약 14% 이하, 약 12% 이하, 약 10% 이하, 또는 약 8% 이하이다. 여기에 사용된 바와 같은, 용어 "투과 헤이즈" 및 "헤이즈"는 ASTM 절차 D1003에 따라 약 ± 2.5°의 각 원뿔 외부로 산란된 투과 광의 퍼센트를 의미한다. 광학적으로 매끄러운 표면의 경우, 투과 헤이즈는 일반적으로 0에 가깝다.
눈부심-방지 표면을 형성하는데 사용되는 기판은 무기물일 수 있으며, 비정질 기판, 결정질 기판 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 하나 이상의 구체 예에서, 기판은 비정질일 수 있고, 강화되거나 또는 비-강화될 수 있는, 유리를 포함할 수 있다. 적절한 유리의 예로는 소다 라임 유리, 알칼리 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 함유 보로실리케이트 유리 및 알칼리 알루미노보로실리케이트 유리를 포함한다. 하나 이상의 선택적인 구체 예에서, 기판은 (강화되거나 또는 비-강화될 수 있는) 유리 세라믹 기판과 같은 결정질 기판을 포함할 수 있거나 또는 사파이어와 같은, 단결정 구조를 포함할 수 있다. 하나 이상의 특정 구체 예에서, 기판은 비정질 기반 (예를 들어, 유리) 및 결정질 클래딩 (예를 들어, 사파이어층, 다결정질 알루미나층 및/또는 스피넬 (MgAl2O4)층)을 포함한다.
비록 다른 구체 예가 만곡되거나 또는 다른 모양 또는 조각된 기판을 활용할 수 있지만, 상기 기판은 실질적으로 평면 또는 시트-형일 수 있다. 기판은 실질적으로 광학적으로 맑고, 투명하며 및 광 산란이 없을 수 있다. 이러한 구체 예에서, 기판은 약 85% 이상, 약 86% 이상, 약 87% 이상, 약 88% 이상, 약 89% 이상, 약 90% 이상, 약 91% 이상 또는 약 92% 이상의 광학 파장 레짐 (optical wavelength regime)에 걸친 평균 광 투과를 나타낼 수 있다. 하나 이상의 선택적인 구체 예에서, 기판은 불투명하거나 또는 약 10% 미만, 약 9% 미만, 약 8% 미만, 약 7% 미만, 약 6% 미만, 약 5% 미만, 약 4% 미만, 약 3% 미만, 약 2% 미만, 약 1% 미만 또는 약 0% 미만인 광학 파장 레짐에 걸친 평균 광 투과를 나타낼 수 있다. 기판은 선택적으로 백색, 흑색, 적색, 청색, 녹색, 황색, 오렌지색 등과 같은 색상을 나타낼 수 있다.
부가적으로 또는 선택적으로, 기판의 물리적인 두께는 미적 및/또는 기능상의 이유로 이의 치수 중 하나 이상에 따라 변할 수 있다. 예를 들어, 기판의 에지 (edges)는 기판 (100)의 좀 더 중심 영역과 비교하여 더 두꺼울 수 있다. 기판의 길이, 폭 및 물리적 두께 치수는 또한 적용 또는 용도에 따라 변할 수 있다.
상기 기판은 다양한 다른 공정을 이용하여 제공될 수 있다. 예를 들어, 기판이 유리와 같은 비정질 기판을 포함하는 경우, 다양한 형성 방법은 퓨전 인발 및 슬롯 인발과 같은 다운-인발 공정 및 플로우트 유리 공정을 포함할 수 있다.
형성될 때, 기판은 강화된 기판을 형성하기 위해 강화될 수 있다. 여기에 사용된 바와 같은, 용어 "강화된 기판"은, 예를 들어, 기판의 표면 내에 더 작은 이온에 대해 더 큰 이온을 이온-교환을 통해, 화학적으로 강화된 기판을 지칭할 수 있다. 그러나, 열 템퍼링과 같은, 당 업계에 공지된 다른 강화 방법, 또는 압축 응력 및 중심 장력 영역을 생성하기 위한 기판의 부분들 사이에 열팽창계수의 불일치를 활용하는 방법은, 강화된 기판을 형성하는데 활용될 수 있다.
기판이 이온 교환 공정에 의해 화학적으로 강화되는 경우, 기판의 표면층 내에 이온은, 동일한 원자가 또는 산화 상태를 갖는 더 큰 이온에 의해 대체되거나 - 또는 교환된다. 이온 교환 공정은 통상적으로 기판 내에 더 작은 이온과 교환될 더 큰 이온을 함유하는 용융염 욕조에 기판을 침지시켜 수행된다. 욕조 조성물 및 온도, 침지 시간, 염 욕조 (또는 욕조들)에 기판의 침지 수, 다중 염 욕조들의 사용, 어닐링, 세척 등과 같은 부가적인 단계를 포함하는, 이온 교환 공정에 대한 파라미터가, 일반적으로 기판의 조성물 및 원하는 압축 응력 (CS), 강화 작업으로부터 결과한 기판의 압축 응력 층의 깊이 (또는 층의 깊이)에 의해 결정되는 것은 기술 분야의 당업자에 의해 인식될 것이다. 예로서, 알칼리 금속-함유 유리 기판의 이온 교환은 더 큰 알칼리 금속 이온의 질산염, 황산염 및 염화물과 같은, 그러나 이에 제한하지 않는, 염을 함유하는 적어도 하나의 용융 욕조에 침지시켜 달성될 수 있다. 용융염 욕조의 온도는 통상적으로 약 380℃ 내지 약 450℃의 범위이며, 침지 시간은 약 15분 내지 약 40시간의 범위이다. 그러나, 전술한 것과 다른 온도 및 침지 시간은 또한 사용될 수 있다.
부가적으로, 유리 기판이 다중 이온교환 욕조에 침지되고, 침지 사이에서 세척 및/또는 어닐링 단계를 갖는, 이온 교환 공정의 비-제한 실시 예는, 2008년 7월 11일자로 출원된 미국 가 특허출원 제61/079,995호의 우선권을 주장하여, 2009년 7월 10일자에, 발명의 명칭 "Glass with Compressive Surface for Consumer Applications"으로 출원된 미국 특허출원 제12/500,650호, 여기서, 유리 기판은 다른 농도의 염 욕조에서, 다중, 연속적인, 이온 교환 처리로 침지시켜 강화됨; 및 2008년 7월 29일자에 출원한 미국 가 특허출원 제61/084,398호의 우선권을 주장하며, 2012년 11월 20일자에 발명의 명칭 "Dual Stage Ion Exchange for Chemical Strengthening of Glass"로 Christopher M. Lee 등에 의해 출원된, 미국 특허 제8,312,739호에 기재되며, 여기서 유리 기판은 용출 이온으로 희석된 제1 욕조에서 이온 교환하여 강화되고, 뒤이어 제1 욕조보다 용출 이온의 더 작은 농도를 갖는 제2 욕조에 침지된다. 미국 특허출원 제12/500,650호 및 미국 특허 제8,312,739호의 전체적인 내용은 참조로서 여기에 혼입된다.
이온 교환에 의해 달성되는 화학적 강화의 정도는 중심 장력 (CT), 표면 CS 및 층 깊이 (DOL)의 매개 변수에 기초하여 정량화될 수 있다. 표면 CS는 표면 근처 또는 강화 유리 내에 다양한 깊이에서 측정될 수 있다. 최대 CS 값은 강화된 기판의 표면에서의 측정된 CS (CSs)를 포함할 수 있다. 유리 기판 내에 압축 응력 층에 인접한 내부 영역에 대해 계산된 CT는, CS, 물리적 두께 t, 및 DOL로부터 계산될 수 있다. CS 및 DOL은 당 업계에 공지된 수단을 사용하여 측정된다. 이러한 수단으로는, Luceo Co., Ltd. (Tokyo, Japan)에 의해 제작된, FSM-6000, 또는 이와 유사한 것과 같은 상업적으로 이용 가능한 기구를 사용하여 표면 응력의 측정 (FSM)을 포함하지만, 이에 제한되지 않으며, 및 CS 및 DOL을 측정하는 방법은, 명칭 "Standard Specification for Chemically Strengthened Flat Glass"인, ASTM 1422C-99 및 명칭이 "Standard Test Method for Non-Destructive Photoelastic Measurement of Edge and Surface Stresses in Annealed, Heat-Strengthened, and Fully-Tempered Flat Glass"인 ASTM 1279.19779에 기재되며, 이들의 전체적인 내용은 참조로 여기에 혼입된다. 표면 응력 측정은, 유리 기판의 복굴절과 연관된, 응력 광학 계수 (SOC)의 정확한 측정에 의존한다. SOC는, 결과적으로, 섬유 및 4점 굽힘 방법 (fiber and four point bend methods), 이들 모두는 명칭이 "Standard Test Method for Measurement of Glass Stress-Optical Coefficient"인 ASTM 표준 C770-98 (2008)에 기재되고, 이들의 전체적인 내용은 참조로 여기에 혼입됨, 및 벌크 실린더 (bulk cylinder) 방법과 같은, 당 업계에 공지된 방법에 의해 측정된다. CS와 CT 사이의 관계는 하기 수학식에 의해 주어진다:
CT = (CS·DOL)/(t-2 DOL),
여기서 t는 유리 제품의 물리적 두께 (㎛)이다. 본 개시의 다양한 부분에서, CT 및 CS는 여기서 megaPascals (MPa)로 표시되고, 물리적 두께 t는 micrometers (㎛) 또는 millimeters (mm)로 표시되며 및 DOL은 micrometers (㎛)로 표시된다.
하나의 구체 예에서, 강화된 기판은 250 MPa 이상, 300 MPa 이상, 예를 들어, 400 MPa 이상, 450 MPa 이상, 500 MPa 이상, 550 MPa 이상, 600 MPa 이상, 650MPa 이상, 700MPa 이상, 750MPa 이상 또는 800MPa 이상의 표면 CS를 가질 수 있다. 상기 강화된 기판은 10㎛ 이상, 15㎛ 이상, 20㎛ 이상 (예를 들어, 25㎛, 30㎛, 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛ 이상)의 DOL 및/또는 10 MPa 이상, 20 MPa 이상, 30 MPa 이상, 40 MPa 이상 (예를 들어, 42 MPa, 45 MPa 또는 50 MPa 이상)이지만 100 MPa 미만 (예를 들어, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55 MPa 이하)의 CT를 가질 수 있다. 하나 이상의 특정 구체 예에서, 강화된 기판은: 500 MPa 초과의 표면 CS, 15㎛ 초과의 DOL 및 18 MPa 초과의 CT 중 하나 이상을 갖는다.
기판에 사용될 수 있는 대표적인 유리는 알칼리 알루미노실리케이트 유리 조성물 또는 알칼리 알루미노보로실리케이트 유리 조성물을 포함할 수 있지만, 다른 유리 조성물도 고려된다. 이러한 유리 조성물은 이온 교환 공정에 의해 화학적으로 강화될 수 있다. 하나의 대표 유리 조성물은 SiO2, B2O3 및 Na2O를 포함하며, 여기서 (SiO2 + B2O3) ≥ 66 mol.%, 및 Na2O ≥ 9 mol.%를 포함한다. 구체 예에서, 유리 조성물은 적어도 6 wt.%의 산화알루미늄을 포함한다. 또 다른 구체 예에서, 기판은 알칼리토 산화물의 함량이 적어도 5 wt.% 이도록, 하나 이상의 알칼리토 산화물을 갖는 유리 조성물을 포함한다. 적절한 유리 조성물은, 몇몇 구체 예에서, K2O, MgO, 및 CaO 중 적어도 하나를 더욱 포함한다. 특정 구체 예에서, 기판에 사용된 유리 조성물은 61-75 mol.% SiO2; 7-15 mol.% Al2O3; 0-12 mol.% B2O3; 9-21 mol.% Na2O; 0-4 mol.% K2O; 0-7 mol.% MgO; 및 0-3 mol.% CaO를 포함할 수 있다.
기판용으로 적절한 또 다른 대표 유리 조성물은: 60-70 mol.% SiO2; 6-14 mol.% Al2O3; 0-15 mol.% B2O3; 0-15 mol.% Li2O; 0-20 mol.% Na2O; 0-10 mol.% K2O; 0-8 mol.% MgO; 0-10 mol.% CaO; 0-5 mol.% ZrO2; 0-1 mol.% SnO2; 0-1 mol.% CeO2; 50 ppm 미만의 As2O3; 및 50 ppm 미만의 Sb2O3를 포함하고; 여기서 12 mol.% ≤ (Li2O + Na2O + K2O) ≤ 20 mol.% 및 0 mol.% ≤ (MgO + CaO) ≤ 10 mol.%이다.
기판용으로 적절한 또 다른 대표 유리 조성물은: 63.5-66.5 mol.% SiO2; 8-12 mol.% Al2O3; 0-3 mol.% B2O3; 0-5 mol.% Li2O; 8-18 mol.% Na2O; 0-5 mol.% K2O; 1-7 mol.% MgO; 0-2.5 mol.% CaO; 0-3 mol.% ZrO2; 0.05-0.25 mol.% SnO2; 0.05-0.5 mol.% CeO2; 50 ppm 미만의 As2O3; 및 50 ppm 미만의 Sb2O3를 포함하고; 여기서 14 mol.% ≤ (Li2O + Na2O + K2O) ≤ 18 mol.% 및 2 mol.% ≤ (MgO + CaO) ≤ 7 mol.%이다.
특정 구체 예에서, 기판용으로 적절한 알칼리 알루미노실리케이트 유리 조성물은 알루미나, 적어도 하나의 알칼리 금속 및, 몇몇 구체 예에서, 50 mol.% 초과의 SiO2, 다른 구체 예에서, 적어도 58 mol.%의 SiO2, 및 또 다른 구체 예에서, 적어도 60 mol.%의 SiO2를 포함하고, 여기서 비는
Figure pct00002
이며, 상기 비에서 성분은 mol.%로 표시되고, 상기 개질제는 알칼리 금속 산화물이다. 상기 유리 조성물은, 특정 구체 예에서, 58-72 mol.% SiO2; 9-17 mol.% Al2O3; 2-12 mol.% B2O3; 8-16 mol.% Na2O; 및 0-4 mol.% K2O를 포함하며, 여기서 비는
Figure pct00003
이다.
또 다른 구체 예에서, 기판은: 64-68 mol.% SiO2; 12-16 mol.% Na2O; 8-12 mol.% Al2O3; 0-3 mol.% B2O3; 2-5 mol.% K2O; 4-6 mol.% MgO; 및 0-5 mol.% CaO를 포함하는 알칼리 알루미노실리케이트 유리 조성물을 포함할 수 있고, 여기서: 66 mol.% ≤ SiO2 + B2O3 + CaO　≤ 69 mol.%; Na2O + K2O + B2O3 + MgO + CaO + SrO > 10 mol.%; 5 mol.% ≤ MgO + CaO + SrO ≤ 8 mol.%; (Na2O + B2O3) - Al2O3 ≤ 2 mol.%; 2 mol.% ≤ Na2O - Al2O3 ≤ 6 mol.%; 및 4 mol.% ≤ (Na2O + K2O) - Al2O3 ≤ 10 mol.%이다.
선택적인 구체 예에서, 기판은 2 mol% 이상의 Al2O3 및/또는 ZrO2, 또는 4 mol% 이상의 Al2O3 및/또는 ZrO2를 포함하는 알칼리 알루미노실리케이트 유리 조성물을 포함할 수 있다.
기판이 결정질 기판을 포함하는 경우, 기판은, Al2O3를 포함할 수 있는, 단결정을 포함할 수 있다. 이러한 단결정 기판은 사파이어라고도 불린다. 결정질 기판용 다른 적절한 물질은 다결정질 알루미나 층 및/또는 스피넬 (MgAl2O4)을 포함한다.
선택적으로, 결정질 기판은, 강화되거나 또는 비-강화될 수 있는, 유리 세라믹 기판을 포함할 수 있다. 적절한 유리 세라믹의 예로는 Li2O-Al2O3-SiO2 시스템 (즉, LAS-시스템) 유리 세라믹, MgO-Al2O3-SiO2 시스템 (즉, MAS-시스템) 유리 세라믹, 및/또는 β-석영 고용체, β-스포듀멘 ss, 코디어라이트, 및 리튬 디실리케이트를 포함하는 주 결정상을 포함하는 유리 세라믹을 포함할 수 있다. 유리 세라믹 기판은 여기에 개시된 화학 강화 공정을 사용하여 강화될 수 있다. 하나 이상의 구체 예에서, MAS-시스템 유리 세라믹 기판은 Li2SO4 용융염에 강화될 수 있고, 이에 의해 Mg2+에 대한 2Li+의 교환은 발생할 수 있다.
하나 이상의 구체 예에 따른 기판은, 약 100㎛ 내지 약 5mm의 물리적 두께 범위를 가질 수 있다. 대표 기판의 물리적 두께는 약 100 ㎛ 내지 약 500 ㎛의 범위 (예를 들어, 100, 200, 300, 400 또는 500 ㎛)이다. 또 다른 대표 기판의 물리적 두께는 약 500 ㎛ 내지 약 1000 ㎛의 범위 (예를 들어, 500, 600, 700, 800, 900 또는 1000 ㎛)이다. 기판은 약 1mm를 초과하는 물리적 두께 (예를 들어, 약 2, 3, 4 또는 5mm)를 가질 수 있다. 하나 이상의 특별한 구체 예에서, 기판은 2 mm 이하 또는 1 mm 미만의 물리적 두께를 가질 수 있다. 기판은 산 연마될 수 있거나, 또는 표면 흠의 영향을 제거 또는 감소시키기 위해 처리될 수 있다.
이러한 눈부심-방지 기판을 포함할 수 있는 제품의 예로는, 랩탑, 휴대 전화, 스마트폰, 태블릿, 전자 리더, 판매 시점 관리 장치, 재고 장치, 내비게이션 시스템, 자동차 계기판, 자동차 콘솔, 가전제품 (예를 들어, 스토브, 레인지, 식기 세척기 및 냉장고)과 같은 전자 장치에 사용되는 디스플레이를 포함한다. 여기에 기재된 눈부심-방지 기판은 또한 장식 목적을 위해 이러한 전자 장치의 하우징에 사용될 수 있다. 눈부심-방지 기판은 또한 조리대, 창문, 엘리베이터 등과 같은 건축용 제품으로 혼입될 수 있다.
본 개시의 제2 관점은 여기에 기재된 눈부심-방지 기판을 형성하는 방법에 관한 것이다. 상기 방법은, 표면을 갖는 여기에 기재된 기판을 제공하는 단계, 및 에칭된 표면을 제공하거나 또는 형성하기 위해 표면의 일부를 에칭하는 단계를 포함한다. 상기 방법은, 에칭된 표면의 일부를 제거하여, 여기에 기재된 바와 같은, 복수의 피쳐를 포함하는 텍스쳐된 표면을 갖는 눈부심-방지 표면을 제공한다.
하나 이상의 구체 예에서, 기판은 에칭을 위해 준비될 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 기판은 오염물을 제거하기 위해 세정된 다음, 초음파 교반된 DI 수의 욕조에서 헹궈진다. 세정액은 세정제 및 물을 포함할 수 있다. 세정 및 헹굼 후에, 기판은 텍스쳐 처리될 표면 (120)을 에칭하기 전에 처리되지 않은 기판의 표면 (예를 들어, 도 1의 표면 (114, 116 및/또는 118)) 상에 내-산성 필름으로 적층될 수 있다. 내-산성 필름(들)을 갖는 기판은 짧은 지속 기간 (예를 들어, 5초 또는 10초) 동안 불화수소산 및 염산의 희석된 욕조에 침지될 수 있고, 그 다음 짧은 시간 동안 DI 수에서 다시 헹궈질 수 있다. 그 후, 표면 (120)은 에칭제에 노출되어 에칭된 표면을 형성한 다음, 에칭된 표면의 일부는 제거될 수 있다. 기판은 에칭제를 함유한 탱크 또는 욕조에 딥핑될 수 있다. 상기 에칭제에 표면 (120)의 노출 시간은 약 5분 미만일 수 있다. 몇몇 사례에서, 에칭제에 기판의 노출 시간은 약 30초 내지 약 240초, 약 30초 내지 약 220초, 약 30초 내지 약 200초, 약 30초 내지 약 180초, 약 30초 내지 약 160초, 약 30초 내지 약 140초, 약 30초 내지 약 120초, 약 30초 내지 약 100초, 약 30초 내지 약 80초, 약 30초 내지 약 60초, 약 60초 내지 약 240초, 약 80초 내지 약 240초, 약 100초 내지 약 240초, 약 120초 내지 약 240초, 약 140초 내지 약 240초, 약 160초 내지 약 240초, 또는 약 180초 내지 약 240초의 범위이다. 몇몇 사례에서, 에칭 단계의 지속 시간은, 에칭된 표면의 두께의 일부의 후속 제거를 위한 마스크로서 작용하는, 표면 (120) 상에 충분한 석출물 (precipitates)을 형성하도록 변경될 수 있다.
몇몇 구체 예에서, (석출물을 포함하는) 에칭된 표면이 형성된 후에, 기판은 에칭제를 제거하기 위해 (예를 들어, 약 20초 이하 또는 약 10초 동안 DI 수조에 기판을 침지시켜) 헹궈질 수 있다. 그 후, 에칭된 표면의 일부는, 에칭된 표면 (또는 표면 위에 배치된 내-산성 필름을 갖는 전체 기판)을 약 15분 미만 동안 산 용액에 노출시켜 제거된다. 예를 들어, 몇몇 사례에서, 산 용액에 에칭된 표면의 노출 시간은, 약 2분 내지 약 15분, 약 4분 내지 약 15분, 약 5분 내지 약 15분, 약 6분 내지 약 15분, 약 8분 내지 약 15분, 약 10분 내지 약 15분, 약 2분 내지 약 14분, 약 2분 내지 약 12분, 약 2분 내지 약 10분, 약 2분 내지 약 8분, 약 2분 내지 약 6분, 약 2분 내지 약 5분, 또는 약 5분 내지 약 10분일 수 있다.
텍스쳐된 표면 또는 눈부심-방지 표면을 갖는 최종 기판은 DI 수에서 헹궈질 수 있다. 적용 가능한 경우, 내-산성 필름은 제거될 수 있고, 기판은 건조될 수 있다.
하나 이상의 구체 예에서, 에칭제는 가용성 금속이온 염을 포함한다. 몇몇 구체 예의 금속이온 염은 수용성이다. 금속이온은 전이 금속이온, 비-전이 금속이온 또는 이의 조합을 포함할 수 있다. 적절한 가용성 금속 이온의 예로는 CuCl2, Cu(NO3)2, CuSO4, FeCl3, Fe2(SO4)3, Fe(NO3)3, CoCl2, Co2SO4, Co(NO3)2, NiCl2, Ni2SO4, Ni(NO3)2, ZnCl2, Zn2SO4, Zn(NO3)2, CaCl2, Ca2SO4, Ca(NO3)2, MgCl2, Mg2SO4, Mg(NO3)2 및 NH4Cl을 포함한다. 이러한 가용성 금속이온 염은 조합 또는 단독에서 사용될 수 있다. 다시 말해서, 에칭제는 가용성 금속이온 염의 단일 타입 또는 가용성 금속이온 염의 조합을 포함할 수 있다.
하나 이상의 구체 예에서, 가용성 금속이온 염은 에칭제에 약 30 wt.%까지의 양으로 존재한다. 몇몇 구체 예에서, 가용성 금속이온 염은 에칭제에 약 1 wt.% 내지 약 30 wt.%, 약 1 wt.% 내지 약 28 wt.%, 약 1 wt.% 내지 약 25 wt.%, 약 5 wt.% 내지 약 30 wt.%, 약 10 wt.% 내지 약 30 wt.%, 또는 약 15 wt.% 내지 약 30 wt.%의 양으로 존재한다.
몇몇 구체 예에서, 에칭제는 NH4F, NH4HF2, 다른 공지된 불화물 함유 산 및 이들의 조합을 포함할 수 있는 불화물 함유 산을 포함한다. 상기 불화물 함유 산은, 약 1 wt% 내지 약 50 wt%, 약 5 wt% 내지 약 50 wt%, 약 10 wt% 내지 약 50 wt%, 약 20 wt% 내지 약 50 wt%, 약 1 wt% 내지 약 45 wt%, 약 1 wt% 내지 약 40 wt%, 약 10 wt% 내지 약 40 wt%, 또는 약 20 wt% 내지 약 40 wt% 범위의 양으로 존재할 수 있다. 몇몇 사례에서, 에칭제는 약 10 wt% 내지 약 20% 범위의 양으로 NH4F 및 약 10 wt% 내지 약 20 wt% 범위의 양으로 NH4HF2을 포함할 수 있다.
몇몇 구체 예에서, 에칭제는 무기염을 포함할 수 있다, 이러한 무기염의 예로는 BaSO4, CaF2, MgF2, 카올린 및 다른 공지된 무기염을 포함한다. 에칭제는 오직 하나의 무기염 또는 무기염의 조합을 포함할 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 상기 무기염은 약 1 wt% 내지 약 30 wt%, 약 5 wt% 내지 약 30 wt%, 약 10 wt% 내지 약 30 wt%, 약 1 wt% 내지 약 25 wt%, 약 1 wt% 내지 약 20 wt%, 또는 약 5 wt% 내지 약 20 wt% 범위의 양으로 존재할 수 있다.
몇몇 구체 예의 에칭제는 가용성 전분 또는 수용성 전분을 포함할 수 있다. 적절한 가용성 전분의 예로는 다당류, 키틴, 셀룰로오스 및 다른 이러한 전분을 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 에칭제는 오직 하나의 타입의 가용성 전분을 포함하고, 또는 가용성 전분의 조합을 포함할 수 있다. 상기 가용성 전분은 약 0.1 wt% 내지 약 20 wt%, 약 1 wt% 내지 약 20 wt%, 약 5 wt% 내지 약 20 wt%, 0.1 wt% 내지 약 15 wt%, 약 0.1 wt% 내지 약 10 wt% 또는 약 1 wt% 내지 약 10 wt% 범위의 양으로 에칭제에 존재할 수 있다.
하나 이상의 구체 예의 에칭제는, 가용성 고분자 계면활성제 또는 수용성 고분자 계면활성제를 포함할 수 있다. 적절한 계면활성제의 예로는, 폴리아크릴아미드, 폴리아크릴산, 폴리(스티렌설포네이트) 및 기타 공지된 고분자 계면활성제를 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 에칭제는 오직 하나의 타입의 고분자 계면활성제만을 포함하거나 또는 고분자 계면활성제의 조합을 포함할 수 있다. 상기 고분자 계면활성제는, 약 0 wt% 내지 약 10 wt%, 약 0 wt% 내지 약 8 wt%, 약 0 wt% 내지 약 5 wt%, 약 0 wt% 내지 약 4 wt%, 약 0 wt% 내지 약 2 wt%, 약 0.1 wt% 내지 약 10 wt%, 약 1 wt% 내지 약 10 wt%, 약 2 wt% 내지 약 10 wt%, 약 4 wt% 내지 약 10 wt%, 또는 약 0.1 wt% 내지 약 5 wt% 범위의 양으로 에칭제에 존재할 수 있다.
에칭제는 선택적으로 KNO3과 같은 칼륨염을 포함할 수 있다. 칼륨염은 약 0 wt% 내지 약 10 wt%, 약 0.1 wt% 내지 약 10 wt%, 약 1 wt% 내지 약 10 wt%, 약 0 wt% 내지 약 5 wt%, 또는 약 0.1 wt% 내지 약 5 wt% 범위의 양으로 에칭제에 존재할 수 있다.
하나 이상의 구체 예에서, 상기 방법은, 가용성 금속이온 염, 불화물 함유 산, 무기염, 가용성 전분, 가용성 고분자 계면활성제 및 선택적 칼륨염 중 임의의 하나 이상을 함께 조합하여 에칭제를 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 이러한 성분은 분말형태로 제공될 수 있다. 약 10wt.% 내지 약 40wt.% 범위에서의 양의 DI 수는 수동 교반과 조합하여 첨가될 수 있다. 이후, 슬러리가 형성될 때까지 수동 교반과 함께 불화수소산 용액 (20%)은 천천히 첨가된다. 첨가된 불화수소산 용액의 총량은 약 5 wt.% 내지 약 20 wt.%의 범위일 수 있다. 슬러리는 최대 2시간 또는 3시간 동안 기계적 교반기를 사용하여 추가로 교반될 수 있고, 기판의 표면을 에칭하기 위해 사용 전에 주변 조건에서 최대 24시간 동안 유지될 수 있다. 에칭제는 실온 (예를 들어, 24℃)에서 제조될 수 있다.
이론에 제한되는 것을 원하지는 않지만, 에칭제 내에 금속 이온은, 기판의 표면에 쉽게 부착되고 및 기판의 표면상의 석출물의 핵형성 및 성장에 영향을 미친다. 따라서 에칭제는 균일한 텍스쳐된 표면을 제공하는 고유 마스크 (unique mask)를 형성하는 것으로 믿어진다. 이론에 의한 제한을 원하지는 않지만, 에칭제의 금속이온은 기판 표면상에 석출물의 성장 속도를 감소시키는 것으로 믿어진다.
에칭된 표면의 일부를 제거하는데 활용되는 산 용액은 불화수소산 (HF), 염산 (HCl), 다른 공지된 산 및 이의 조합을 포함할 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 산 용액은 HF 및 HCl 모두를 포함할 수 있다. 하나 이상의 구체 예에서, 상기 산 용액은, 약 5 wt.% 내지 약 15 wt.%, 또는 약 10 wt.% 내지 약 15 wt.% 또는 약 12 wt.%의 범위에서 HF의 농도를 가질 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 상기 산 용액은 약 10 wt.% 내지 약 20 wt.%, 약 12 wt.% 내지 약 18 wt.% 또는 약 15 wt.%의 범위에서 HCl의 농도를 가질 수 있다. 몇몇 사례에서, 상기 용액은 나머지 부분으로 물을 포함할 수 있다. 하나의 실시 예에서, 상기 산 용액은 약 12 wt.%의 HF, 약 15 wt.%의 HCl 및 약 73 wt.%의 물을 포함한다.
하나 이상의 구체 예에서, 여기에 기재된 에칭제는, 산 용액과 함께, 여기에 제공된 범위 내에서, 에칭제의 성분의 농도를 변화시켜, 및/또는 에칭제에 노출시간을 변형시켜 조정될 수 있는, 바람직한 PPDr, 투과 헤이즈, 광택 및 DOI 값을 나타내는 텍스쳐된 표면을 갖는 기판을 제공할 수 있다. 예를 들어, 하나 이상의 구체 예에 따른 최종 기판은, 약 20%의 투과 헤이즈, 약 5% 이하의 PPDr 값 및 90 이하의 DOI 값을 나타낼 수 있다.
하나 이상의 구체 예에서, 상기 방법은 텍스쳐된 표면상에 코팅을 적용하는 단계를 포함할 수 있다. 몇몇 사례에서, 눈부심-방지 표면으로부터 반사는 표면에 반사-방지 코팅을 적용하여 감소될 수 있다. 다른 구체 예에서, 내-스크래치성은 표면상에 내-스크래치성 코팅을 적용하여 텍스쳐된 표면에 부여될 수 있다.
실시 예
다양한 구체 예는 하기 실시 예에 의해 더욱 명확해질 것이다.
실시 예 1-29
실시 예 1 내지 29의 각각은, 표 1에 나타낸 바와 같이, 공칭 조성물 (nominal compositions)을 갖는 A-D로부터 선택된 유리 기판을 포함한다. 각 유리 기판의 하나의 주 표면은 하기 조성물을 갖는 에칭제에 노출된다: 약 16 wt.%의 NH4F, 약 8 wt.%의 NH4HF2, 약 8 wt.%의 KNO3, 약 1 wt.%의 폴리아크릴아미드, 약 14 wt.%의 HF 산 (40% 농도) 및 약 18 wt.% CuCl2, 및 약 35 wt.% DI 수. 주 표면은 약 1 내지 3분 범위의 지속기간 동안에 에칭제에 노출된 다음, 헹궈지고, 에칭된 표면을 남긴다. 에칭된 표면의 일부는 HF 및 HCl 산을 포함하는 산 용액에 에칭된 표면을 약 5분 내지 약 20분 범위의 기간동안, 노출시켜 제거된다.
실시 예 1-29에 대한 기판 조성물
성분 (mol%) 기판 A 기판 B 기판 C 기판 D
SiO2 69.19 68.96 64.74 67.55
B2O3 0.00 0.00 5.14 3.67
Al2O3 8.52 10.28 13.94 12.67
Na2O 13.94 15.21 13.72 13.66
K2O 1.174 0.012 0.000 0.014
MgO 6.44 5.37 2.38 2.33
CaO 0.54 0 0 0
SnO2 0.19 0.17 0.08 0.10
도 2-5는 각각 실시 예 1, 6, 12 및 21의 광학 현미경 이미지를 나타낸다. 도 2-5의 스케일은 20 micrometers (㎛)를 나타낸다.
표 2는 실시 예 1-19에 대해 측정된 Ra (micrometers), 0° 및 90° 및 이의 평균에서 취한 PPDr 측정치, 투과 헤이즈, DOI 및 60°에서 광택을 포함한다. 표 3은 실시 예 20-29에 대해 측정된 PPDr (평균), 투과 헤이즈, DOI, 60°, 85° 및 20°에서 광택 및 RMS를 포함한다.
실시 예 1-19의 Ra, PPDr 및 광학 속성
실시 예 기판 Ra (㎛) PPDr 광학 속성
0˚ 90˚ 평균 헤이즈 (T) DOI 광택 (60°)
1 A 0.1079 4.5 4.66 4.6 13.8 66.6 55.4
2 A 0.1127 4.69 4.79 4.7 15.9 58.3 49
3 B 0.0916 4.61 4.91 4.8 10.6 71.3 55.2
4 B 0.1103 5.13 5 5.1 14 44.3 45.7
5 B 0.078 4.71 4.59 4.7 8.77 80.3 66.1
6 B 0.0749 4.61 4.57 4.6 9.4 77 69.6
7 B 0.1109 4.87 4.87 4.9 14.8 51.9 45.8
8 B 0.1006 4.98 4.86 4.9 12 56.8 70
9 B 0.0763 4.78 4.66 4.7 7.25 76.2 62.7
10 B 0.0662 4.59 4.67 4.6 4.31 80.2 82.5
11 B 0.1102 4.76 4.77 4.8 14.6 48.8 48
12 C 0.1347 4.44 4.51 4.5 18.7 60.5 45.8
13 C 0.1202 4.6 4.64 4.6 16.6 75.6 45.5
14 C 0.065 4.22 4.48 4.4 6.76 88.9 76.6
15 C 0.1234 4.68 4.8 4.7 17.1 62.8 44.8
16 C 0.1234 4.62 4.65 4.6 16.3 64.5 48.4
17 C 0.0841 4.52 4.65 4.6 10.9 83.5 60.4
18 C 0.1032 4.59 4.85 4.7 13.5 69 53.7
19 C 0.1167 4.38 4.36 4.4 14.9 80.2 49.2
실시 예 20-29에 대한 PPDr, 투과율, 투과 헤이즈, DOI, 광택 및 표면 거칠기 측정
실시 예 기판 AVG
(PPDr)		 투과율
%		 헤이즈
(T)		 DOI 광택
(60°)		 광택 (85°) 광택 (20°) RMS (nm)
20 D 4.6 92.4 6.7 72.3 86.6 76.5 63 238
21 D 4.8 92.3 9.22 62.5 71.1 75.3 46.5 253
22 D 5 92.3 11.2 57.9 59.6 71.9 37.8 224
23 D 4.8 92.3 11.7 54.5 63.3 70.1 41.4 272
24 D 4.7 92.3 10.2 63.6 65.1 76.1 42.7 207
25 D 5 92.3 7.82 62.9 67.8 77.3 43 229
26 D 4.9 92.3 12.4 51.2 62 69.4 38.9 310
27 D 4.9 92.3 17.5 53.1 57.8 60 37.3 336
28 D 5 92.3 11.3 51.3 64.5 74.4 40.4 287
29 D 4.9 92.4 7.44 63.7 84.5 73.4 59.2 264
실시 예 30-33
실시 예 30-32 및 비교 예 33은 스파클 (또는 PPDr 값)과 텍스쳐된 표면의 균일 도 사이에 상관관계를 특성화하기 위해 준비된다. 실시 예 30-32는 기판 B의 공칭 조성물 (nominal composition)을 갖는 기판을 1 내지 3분의 노출시간 동안에 에칭제에 노출시켜 형성된다. 에칭제는 약 11.22 wt.%의 NH4F, 약 8.44 wt.%의 NH4HF2, 약 4.94 wt.%의 NH4Cl, 약 9.07 wt.%의 KNO3, 약 5.39 wt.%의 BaSO4, 약 15.35 wt.%의 HF 산 (40% 농도), 약 4.49 wt.%의 전분, 및 41.1 wt.%의 DI 수를 갖는다. 에칭된 표면은 그 다음 5 내지 20분의 노출시간 동안 HF와 HCl 산의 산 용액에 노출된다. 비교 예 33은 상업적으로 이용가능한 눈부심-방지 유리를 포함한다.
실시 예 30-32 및 비교 예 33 각각의 PPDr 값은 (표 4에 나타낸 바와 같이) 측정되고, PPDr을 결정하기 위해 사용된 이미지는 피쳐 표면적 및 피쳐 표면적 분포를 결정하기 위해 이미지 프로세싱 소프트웨어 (image processing software)를 사용하여 분석된다.
실시 예 30-32 및 비교 예 32에 대한 PPDr 값
실시 예 30 실시 예 31 실시 예 32 비교 예 33
PPDr 3.16% 5.55% 7.11% 10.2%
도 6은 500배 배율로 실시 예 30의 투과된 광의 광학 현미경 이미지를 나타낸다. 도 7은 실시 예 31의 투과된 광의 광학 현미경 이미지를 200배 배율로 나타낸다. 도 8은 실시 예 32의 투과된 광의 광학 현미경 이미지를 200배 배율로 나타낸다. 도 9는 비교 예 33의 투과된 광의 광학 현미경 이미지를 200배 배율로 나타낸다.
이미지 프로세싱 및 계산을 통해, 실시 예 30-32 및 비교 예 33 각각의 피쳐의 표면적 및 피쳐 표면적 분포의 통계 분석은 수행되고, 표 5 및 도 10 및 11에 나타낸다. 도 10 및 11은 표 5의 데이터를 그래프로 나타내고, 실시 예 30-32 및 비교 예 33의 피쳐 면적 분포를 예시한다. 도 10 및 11에 나타낸 바와 같이, 도 30은 좁은 피쳐 표면적 분포를 가지며, 따라서 낮은 PPDr을 나타낸다. 비교 예 33은 가장 넓은 피쳐 표면적 분포를 가지며, 가장 높은 PPDr을 나타낸다.
실시 예 30-32 및 비교 예 33의 피쳐 영역 분포의 이미지 분석 결과
표면적 범위 실시 예 30 실시 예 31 실시 예 32 비교 예 33
면적을 갖는 피쳐의 수 면적을 갖는 피쳐의 % 면적을 갖는 피쳐의 수 면적을 갖는 피쳐의 % 면적을 갖는 피쳐의 수 면적을 갖는 피쳐의 % 면적을 갖는 피쳐의 수 면적을 갖는 피쳐의 %
0-100 857 95.22 171 21.03 144 18.65 231 27.60
100-200 43 4.78 236 29.03 157 20.34 189 22.58
200-300 0 0.00 185 22.76 185 23.96 138 16.49
300-400 0 0.00 114 14.02 135 17.49 86 10.27
400-500 0 0.00 58 7.13 66 8.55 70 8.36
500-600 0 0.00 20 2.46 43 5.57 54 6.45
600-700 0 0.00 15 1.85 23 2.98 33 3.94
700-800 0 0.00 12 1.48 11 1.42 14 1.67
800-900 0 0.00 0 0.00 5 0.65 13 1.55
900-1000 0 0.00 0 0.00 2 0.26 4 0.48
1000-1100 0 0.00 2 0.25 1 0.13 2 0.24
1100-1200 0 0.00 0 0.00 0 0.00 2 0.24
1200-1300 0 0.00 0 0.00 0 0.00 1 0.12
실시 예 30-32 및 비교 예 33에 대한 각각의 피쳐 표면적 분포는 정규화된 면적을 제공하기 위해 각 실시 예에 대한 수학적 평균 피쳐 면적에 의해 정규화된다. 정규화된 면적 분포는 표 6에 나타내고, 도 12-13에 나타낸 해당 분포도에 예시된다. 도 12 및 13에 나타낸 바와 같이, PPDr은 정규화된 피쳐 영역 분포와 강한 상관관계를 갖는다.
실시 예 30-32 및 비교 예 33의 정규화된 면적 분포의 이미지 분석 결과.
정규화된 면적 실시 예 30 실시 예 31
정규화된 면적을 갖는 피쳐의 수 정규화된 면적을 갖는 피쳐의 % 정규화된 면적을 갖는 피쳐의 수 정규화된 면적을 갖는 피쳐의 %
0-0.5 407 22.623680 205 25.246305
0.5-1.0 700 38.910506 265 32.635468
1.0-1.5 358 19.899944 188 23.152709
1.5-2.0 162 9.005003 88 10.837438
2.0-2.5 102 5.669817 36 4.433498
2.5-3.0 32 1.778766 16 1.970443
3.0-3.5 26 1.445247 13 1.600985
3.5-4.0 8 0.444691 0 0.000000
4.0-4.5 4 0.222346 1 0.123153
정규화된 면적 실시 예 32 비교 예 33
정규화된 면적을 갖는 피쳐의 수 정규화된 면적을 갖는 피쳐의 % 정규화된 면적을 갖는 피쳐의 수 정규화된 면적을 갖는 피쳐의 %
0-0.5 201 26.036269 284 33.97129
0.5-1.0 229 29.663212 221 26.43541
1.0-1.5 196 25.388601 133 15.90909
1.5-2.0 82 10.621762 84 10.04785
2.0-2.5 40 5.181347 65 7.77512
2.5-3.0 16 2.072539 23 2.751196
3.0-3.5 7 0.906736 17 2.033493
3.5-4.0 1 0.129534 5 0.598086
4.0-4.5 0 0.000000 4 0.478469
실시 예 30의 좁은 분포는 같은 것의 더 낮은 PPDr과 연관될 수 있지만, 비교 예 33의 피쳐 면적의 더 넓은 분포는 같은 것의 더 높은 PPDr과 연관될 수 있다. 구체적으로, 0.5-1.0 및 1.0-1.5의 정규화된 면적의 퍼센트 및 연관된 PPDr은 표 7에 나타낸다.
실시 예 30-32 및 비교 예 33에게 대한 정규화된 면적, 정규화된 면적을 갖는 피쳐의 퍼센트 및 PPDr
실시 예 30 실시 예 31 실시 예 32 비교 예 33
PPDr 3.16 5.55 7.11 10.2
0.5-1 또는 1-1.5의 정규화된 면적을 갖는 피쳐의 퍼센트 58.8% 55.7% 55.0% 42.3%
표 6 및 7 및 도 12-13에 나타낸 바와 같이, 더 좁은 피쳐 표면적 분포는 더 낮은 PPDr을 결과한다. 한편, 더 많은 수의 피쳐가 0-0.5의 정규화된 면적 범위에 속할 때, PPDr은 증가한다. 더 큰 표면적을 갖는 피쳐의 퍼센트가 증가하는 경우, PPDr도 증가한다. 따라서, 데이터는 PPDr이 피쳐 표면적 분포와 연관성이 있음을 시사한다 (즉, 유사한 표면적을 갖는 피쳐로, 좀 더 균일한 텍스쳐된 표면은, 더 낮은 PPDr을 결과한다).
본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양한 변형 및 변화가 이루어질 수 있음은 당업자에게 명백할 것이다.

Claims (24)

  1. 표면을 갖는 기판; 및
    상기 표면상에 배치된 복수의 피쳐를 포함하고,
    여기서 상기 복수의 피쳐 중 약 50% 이상이 약 0.5 내지 약 1.5 범위에서 정규화된 면적을 포함하고, 상기 정규화된 면적은 관계식 (피쳐의 표면적/모든 피쳐의 평균 표면적)로서 정의되는, 눈부심-방지 제품.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 피쳐의 약 90% 이상은 약 100 micrometers 이하의 표면적을 갖는, 눈부심-방지 제품.
  3. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 복수의 피쳐 중 약 18% 이하는 약 400nm 초과의 평균 표면적을 갖는, 눈부심-방지 제품.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 복수의 피쳐 중 약 15% 이하는 약 400nm 초과의 평균 표면적을 갖는, 눈부심-방지 제품.
  5. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제품은 약 0.15 micrometers 이하의 Ra를 나타내는, 눈부심-방지 제품.
  6. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제품은 약 5% 이하의 PPDr을 나타내는, 눈부심-방지 제품.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 제품은 약 20% 미만의 투과 헤이즈를 나타내고, 상기 기판 표면은 약 90% 미만의 DOI를 나타내는, 눈부심-방지 제품.
  8. 청구항 6에 있어서,
    상기 기판 표면은 60°에서 약 87% 이하의 광택을 나타내는, 눈부심-방지 제품.
  9. 수용성 금속이온 염을 포함하는 에칭제로 기판의 제1표면의 일부를 에칭하여 에칭된 표면을 제공하는, 에칭 단계; 및
    상기 에칭된 표면의 일부를 제거하여 눈부심-방지 표면을 제공하는, 제거 단계를 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판을 형성하는 방법으로,
    여기서, 상기 눈부심-방지 표면은 복수의 피쳐를 포함하고, 및
    여기서, 상기 복수의 피쳐 중 약 50% 이상은 약 0.5 내지 약 1.5 범위에서 정규화된 면적을 포함하며, 상기 정규화된 면적은 관계식 (피쳐의 표면적/모든 피쳐의 평균 표면적)로서 정의되는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 수용성 금속이온 염은 CuCl2, Cu(NO3)2, CuSO4, FeCl3, Fe2(SO4)3, Fe(NO3)3, CoCl2, Co2SO4, Co(NO3)2, NiCl2, Ni2SO4, Ni(NO3)2, ZnCl2, Zn2SO4, Zn(NO3)2, CaCl2, Ca2SO4, Ca(NO3)2, MgCl2, Mg2SO4, Mg(NO3)2 및 NH4Cl 중 하나 이상을 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 에칭제는 불화물 함유 산 및 충전제를 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 불화물 함유 산은 NH4F 및 NH4HF2 중 하나 이상을 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  13. 청구항 11에 있어서,
    상기 충전제는 무기염을 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 무기염은 BaSO4, CaF2, MgF2 및 카올린 중 하나 이상을 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  15. 청구항 9-14 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 에칭제는 가용성 전분을 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  16. 청구항 9-15 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 에칭제는 가용성 고분자 계면활성제를 더욱 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  17. 청구항 16에 있어서,
    상기 가용성 고분자 계면활성제는 폴리아크릴아미드, 폴리아크릴산 및 폴리(스티렌설포네이트) 중 하나 이상을 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  18. 청구항 9-17 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 에칭제는 KNO3를 더욱 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  19. 청구항 9-18 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1표면의 에칭 전에 상기 기판의 제2표면상에 내-산성 필름을 형성하는 단계를 더욱 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  20. 청구항 9-19 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판의 제1표면의 일부를 에칭하는 단계는 약 5분 미만 동안 에칭제와 제1표면을 접촉시키는 단계를 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  21. 청구항 20에 있어서,
    상기 에칭된 표면의 일부를 제거하는 단계는 15분 미만 동안 상기 에칭된 표면을 산 용액과 접촉시키는 단계를 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  22. 청구항 21에 있어서,
    상기 산 용액은 HF 및 HCl 중 하나 이상을 포함하는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  23. 청구항 9-23 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 약 20% 이하의 투과 헤이즈, 및 약 6 이하의 PPD 중 하나 이상을 나타내는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
  24. 청구항 9-23 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 눈부심-방지 표면은 약 90% 이하의 DOI 및 60°에서 약 87% 이하의 광택 중 어느 하나 이상을 나타내는, 눈부심-방지 표면을 갖는 기판의 형성 방법.
KR1020177014928A 2014-10-31 2015-09-04 균일한 텍스쳐된 표면 및 저 스파클을 갖는 기판 및 이의 제조 방법 KR20170076779A (ko)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200138049A (ko) * 2019-05-29 2020-12-09 애플 인크. 디스플레이 애플리케이션들을 위한 텍스처링된 커버 조립체들
US11369028B2 (en) 2019-06-05 2022-06-21 Apple Inc. Electronic device enclosure having a textured glass component
US11397449B2 (en) 2018-07-20 2022-07-26 Apple Inc. Electronic device with glass housing member
US11402669B2 (en) 2018-04-27 2022-08-02 Apple Inc. Housing surface with tactile friction features
US11533817B2 (en) 2019-06-05 2022-12-20 Apple Inc. Textured glass component for an electronic device enclosure
US11691912B2 (en) 2018-12-18 2023-07-04 Apple Inc. Chemically strengthened and textured glass housing member
US11897809B2 (en) 2020-09-02 2024-02-13 Apple Inc. Electronic devices with textured glass and glass ceramic components

Families Citing this family (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016040151A1 (en) * 2014-09-08 2016-03-17 Corning Incorporated Anti-glare substrates with low sparkle, doi and transmission haze
US10364180B2 (en) 2015-01-06 2019-07-30 Corning Incorporated Apparatus and method for producing anti-glare surfaces
US11597672B2 (en) 2016-03-09 2023-03-07 Corning Incorporated Cold forming of complexly curved glass articles
TWI826126B (zh) 2016-06-28 2023-12-11 美商康寧公司 層壓薄強化玻璃至用於裝飾及顯示器蓋應用的曲面模製塑膠表面
JP7071294B2 (ja) 2016-07-05 2022-05-18 コーニング インコーポレイテッド 冷間成形ガラス物品及びその組立方法
CN115403280B (zh) 2016-10-25 2024-03-19 康宁公司 用于显示器的冷成形玻璃积层
WO2018102512A1 (en) * 2016-11-30 2018-06-07 Corning Incorporated Textured glass for light extraction enhancement of oled lighting
JP7253382B2 (ja) * 2016-12-12 2023-04-06 日本電気硝子株式会社 透明物品
TWI771357B (zh) * 2017-01-03 2022-07-21 美商康寧公司 具有彎曲的覆蓋玻璃以及顯示器或觸控面板的車輛內部系統及其形成方法
US10712850B2 (en) 2017-01-03 2020-07-14 Corning Incorporated Vehicle interior systems having a curved cover glass and a display or touch panel and methods for forming the same
US11016590B2 (en) 2017-01-03 2021-05-25 Corning Incorporated Vehicle interior systems having a curved cover glass and display or touch panel and methods for forming the same
US20180215657A1 (en) * 2017-01-30 2018-08-02 Corning Incorporated Textured glass surfaces with low sparkle and methods for making same
CN106646697B (zh) * 2017-02-24 2019-05-21 武汉华星光电技术有限公司 一种抗闪光盖板的制造方法
US11208344B2 (en) * 2017-03-28 2021-12-28 Corning Incorporated Textured glass articles and methods of making the same
US11852785B2 (en) 2017-04-11 2023-12-26 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Transparent article having a roughened uneven surface
EP3625179A1 (en) 2017-05-15 2020-03-25 Corning Incorporated Contoured glass articles and methods of making the same
JP7395350B2 (ja) * 2017-05-15 2023-12-11 日本電気硝子株式会社 透明物品、及び透明物品の製造方法
JP7353971B2 (ja) * 2017-05-15 2023-10-02 日本電気硝子株式会社 透明物品の製造方法
CN110753862A (zh) * 2017-06-15 2020-02-04 Ａｇｃ株式会社 透明基体
WO2018235808A1 (ja) * 2017-06-20 2018-12-27 Ａｇｃ株式会社 ガラス板
JP6497414B2 (ja) * 2017-06-22 2019-04-10 株式会社Ｎｓｃ ガラス表面処理装置
EP4190616A3 (en) 2017-07-18 2023-06-28 Corning Incorporated Cold forming of complexly curved glass articles
JP6721794B2 (ja) 2017-08-04 2020-07-15 株式会社ダイセル 防眩フィルム
JP7335872B2 (ja) 2017-09-12 2023-08-30 コーニング インコーポレイテッド 装飾的なガラス上にタッチパネルを有するディスプレイ用のデッドフロントおよび関連する方法
US11065960B2 (en) 2017-09-13 2021-07-20 Corning Incorporated Curved vehicle displays
TWI806897B (zh) 2017-09-13 2023-07-01 美商康寧公司 用於顯示器的基於光導器的無電面板、相關的方法及載具內部系統
TW201918462A (zh) 2017-10-10 2019-05-16 美商康寧公司 具有改善可靠性的彎曲的覆蓋玻璃的車輛內部系統及其形成方法
EP3714316B1 (en) 2017-11-21 2023-12-27 Corning Incorporated Aspheric mirror for head-up display system and methods for forming the same
CN111741935B (zh) * 2017-11-30 2022-10-14 康宁股份有限公司 图案化的玻璃制品及其制造方法
WO2019108016A1 (en) 2017-11-30 2019-06-06 Corning Precision Materials Co., Ltd. Systems and methods for vacuum-forming aspheric mirrors
WO2019108015A2 (en) 2017-11-30 2019-06-06 Corning Precision Materials Co., Ltd. Vacuum mold apparatus, systems, and methods for forming curved mirrors
JP7067077B2 (ja) * 2018-01-18 2022-05-16 Ａｇｃ株式会社 ガラス板及び表示装置
JP7293662B2 (ja) * 2018-01-25 2023-06-20 日本電気硝子株式会社 表示装置のカバー部材
JP7119417B2 (ja) * 2018-02-22 2022-08-17 Ａｇｃ株式会社 透光性構造体
JP7361705B2 (ja) 2018-03-13 2023-10-16 コーニング インコーポレイテッド 亀裂抵抗性の湾曲したカバーガラスを有する乗物内装システムおよびその形成方法
JP7040234B2 (ja) * 2018-04-04 2022-03-23 日本電気硝子株式会社 物品
JP7149455B2 (ja) * 2018-05-24 2022-10-07 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 冷蔵庫
EP3823825A1 (en) 2018-07-16 2021-05-26 Corning Incorporated Vehicle interior systems having a cold-bent glass substrate and methods for forming the same
US11167375B2 (en) 2018-08-10 2021-11-09 The Research Foundation For The State University Of New York Additive manufacturing processes and additively manufactured products
JPWO2020067134A1 (ja) * 2018-09-25 2021-09-02 日本電気硝子株式会社 透明物品
CN109305759A (zh) * 2018-10-31 2019-02-05 邓惠玉 能够防眩的tft玻璃薄化蚀刻液
CN109231844A (zh) * 2018-11-01 2019-01-18 邓惠玉 提高防眩性能的tft玻璃基板薄化用蚀刻液
JP7305982B2 (ja) * 2019-02-26 2023-07-11 Ａｇｃ株式会社 凹凸形状付きガラス基体およびその製造方法
EP3771695A1 (en) 2019-07-31 2021-02-03 Corning Incorporated Method and system for cold-forming glass
US11772361B2 (en) 2020-04-02 2023-10-03 Corning Incorporated Curved glass constructions and methods for forming same
CN113526876B (zh) * 2020-04-16 2023-01-31 郑州恒昊光学科技有限公司 一种具有冰凌效果玻璃的制作方法
US20220011478A1 (en) * 2020-07-09 2022-01-13 Corning Incorporated Textured region of a substrate to reduce specular reflectance incorporating surface features with an elliptical perimeter or segments thereof, and method of making the same
CN113620610A (zh) * 2021-08-06 2021-11-09 安徽金龙浩光电科技有限公司 一种组合雾面效果的玻璃及其制备方法
CN116693208A (zh) * 2022-02-28 2023-09-05 康宁股份有限公司 经涂覆的纹理化玻璃制品及其制造方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2275602A (en) * 1938-10-03 1942-03-10 Alncin Inc Light diffusing lens
JPS62204838A (ja) 1986-03-06 1987-09-09 Meito Sangyo Kk 乳化剤の製造法
US7294405B2 (en) * 2004-08-26 2007-11-13 3M Innovative Properties Company Antiglare coating and articles
EP1873126A1 (en) * 2006-02-22 2008-01-02 Central Glass Co., Ltd. Anti-Glare Glass Substrate
JP5076334B2 (ja) 2006-03-08 2012-11-21 住友化学株式会社 表面に微細な凹凸形状を有する金型、その金型の製造方法及びその金型を用いた防眩フィルムの製造方法
JP4844254B2 (ja) 2006-06-20 2011-12-28 住友化学株式会社 防眩フィルム及び画像表示装置
JP2009109683A (ja) 2007-10-30 2009-05-21 Tsujiden Co Ltd アンチグレア、アンチニュートンフィルム
CN101314522B (zh) * 2008-06-12 2010-09-08 东华大学 一种防眩光玻璃的制备方法
EP2307328A1 (en) 2008-07-11 2011-04-13 Corning Incorporated Glass with compressive surface for consumer applications
KR20110038701A (ko) 2008-07-29 2011-04-14 코닝 인코포레이티드 유리의 화학적 강화를 위한 이중 단계 이온 교환
WO2010061834A1 (ja) * 2008-11-25 2010-06-03 大日本印刷株式会社 偏光子保護用光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP5158444B2 (ja) 2009-03-25 2013-03-06 住友化学株式会社 防眩フィルムの製造方法および防眩フィルム作製のための金型の製造方法
US8771532B2 (en) * 2009-03-31 2014-07-08 Corning Incorporated Glass having anti-glare surface and method of making
US8598771B2 (en) * 2009-09-15 2013-12-03 Corning Incorporated Glass and display having anti-glare properties
US9017566B2 (en) 2010-04-30 2015-04-28 Corning Incorporated Anti-glare surface treatment method and articles thereof
US9085484B2 (en) * 2010-04-30 2015-07-21 Corning Incorporated Anti-glare surface treatment method and articles thereof
US8992786B2 (en) 2010-04-30 2015-03-31 Corning Incorporated Anti-glare surface and method of making
US9890223B2 (en) 2010-09-28 2018-02-13 Sekisui Plastics Co., Ltd. Resin particles and process for producing same, antiglare film, light-diffusing resin composition, and external preparation
WO2012118594A1 (en) * 2011-02-28 2012-09-07 Corning Incorporated Glass having antiglare surface with low display sparkle
US9573842B2 (en) 2011-05-27 2017-02-21 Corning Incorporated Transparent glass substrate having antiglare surface
WO2013115698A1 (en) * 2012-01-30 2013-08-08 Telefonaktiebolaget L M Ericsson (Publ) Random access mode fallback in wireless networks
US20150336301A1 (en) * 2012-05-02 2015-11-26 Rolith, Inc. Cylindrical polymer mask and method of fabrication
US10040718B2 (en) 2012-11-02 2018-08-07 Corning Incorporated Methods to texture opaque, colored and translucent materials
TW201500306A (zh) 2013-05-22 2015-01-01 Corning Inc 利用玻璃載體處理可撓性薄片玻璃基板之方法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11402669B2 (en) 2018-04-27 2022-08-02 Apple Inc. Housing surface with tactile friction features
US11397449B2 (en) 2018-07-20 2022-07-26 Apple Inc. Electronic device with glass housing member
US11822385B2 (en) 2018-07-20 2023-11-21 Apple Inc. Electronic device with glass housing member
US11691912B2 (en) 2018-12-18 2023-07-04 Apple Inc. Chemically strengthened and textured glass housing member
KR20200138049A (ko) * 2019-05-29 2020-12-09 애플 인크. 디스플레이 애플리케이션들을 위한 텍스처링된 커버 조립체들
US11372137B2 (en) 2019-05-29 2022-06-28 Apple Inc. Textured cover assemblies for display applications
US11940594B2 (en) 2019-05-29 2024-03-26 Apple Inc. Textured cover assemblies for display applications
US11369028B2 (en) 2019-06-05 2022-06-21 Apple Inc. Electronic device enclosure having a textured glass component
US11533817B2 (en) 2019-06-05 2022-12-20 Apple Inc. Textured glass component for an electronic device enclosure
US11849554B2 (en) 2019-06-05 2023-12-19 Apple Inc. Electronic device enclosure having a textured glass component
US11910551B2 (en) 2019-06-05 2024-02-20 Apple Inc. Textured glass component for an electronic device enclosure
US11897809B2 (en) 2020-09-02 2024-02-13 Apple Inc. Electronic devices with textured glass and glass ceramic components

Also Published As

Publication number Publication date
TW201621351A (zh) 2016-06-16
TWI670525B (zh) 2019-09-01
US10690818B2 (en) 2020-06-23
US20170285227A1 (en) 2017-10-05
JP2017538150A (ja) 2017-12-21
WO2016069113A1 (en) 2016-05-06
CN107076878A (zh) 2017-08-18

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