TW201127812A - Photopolymerizable composition, color filter and method of producing the same, solid-state image pick-up device, liquid crystal display, planographic printing plate, and novel compound - Google Patents

Photopolymerizable composition, color filter and method of producing the same, solid-state image pick-up device, liquid crystal display, planographic printing plate, and novel compound Download PDF

Info

Publication number
TW201127812A
TW201127812A TW099129574A TW99129574A TW201127812A TW 201127812 A TW201127812 A TW 201127812A TW 099129574 A TW099129574 A TW 099129574A TW 99129574 A TW99129574 A TW 99129574A TW 201127812 A TW201127812 A TW 201127812A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
photopolymerizable composition
compound
formula
color filter
Prior art date
Application number
TW099129574A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI486334B (zh
Inventor
Masaomi Makino
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of TW201127812A publication Critical patent/TW201127812A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI486334B publication Critical patent/TWI486334B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • C07D209/86Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • C07D209/88Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/12Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/14Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/16Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms
    • C07D295/20Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms by radicals derived from carbonic acid, or sulfur or nitrogen analogues thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/04Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
    • C07D311/58Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4
    • C07D311/68Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4 with nitrogen atoms directly attached in position 4
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D335/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D335/04Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D335/06Benzothiopyrans; Hydrogenated benzothiopyrans
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D339/00Heterocyclic compounds containing rings having two sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D339/02Five-membered rings
    • C07D339/06Five-membered rings having the hetero atoms in positions 1 and 3, e.g. cyclic dithiocarbonates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D339/00Heterocyclic compounds containing rings having two sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D339/08Six-membered rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D491/00Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00
    • C07D491/02Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D491/04Ortho-condensed systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D491/00Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00
    • C07D491/02Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D491/04Ortho-condensed systems
    • C07D491/044Ortho-condensed systems with only one oxygen atom as ring hetero atom in the oxygen-containing ring
    • C07D491/048Ortho-condensed systems with only one oxygen atom as ring hetero atom in the oxygen-containing ring the oxygen-containing ring being five-membered
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/223Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/1462Coatings
    • H01L27/14621Colour filter arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/03Viewing layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/031Polarizer or dye
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • G02F1/133516Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2202/00Materials and properties
    • G02F2202/02Materials and properties organic material
    • G02F2202/022Materials and properties organic material polymeric
    • G02F2202/023Materials and properties organic material polymeric curable

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)

Description

201127812 六、發明說明: 【發明所屬·之技術領域】 本發明係關於一種光聚合性組成物、使用該光聚合性 化合物之彩色濾光片及其製造方法、具備有該彩色濾光片 之固態攝影元件、液晶顯示裝置、平版印刷版原版、以及 該光聚合性化合物所含有之新穎化合物。 【先前技術】 以光聚合性組成物而言,例如有於具有乙烯性不飽和 鍵結之聚合性化合物中添加有光聚合起始劑者。上述光聚 合性組成物會因照光而聚合硬化,故可使用於光硬化性油 墨、感光性印刷版、彩色瀘光片、各種光阻等。 而在光聚合起始劑方面,例如有藉由照光而產生酸, 並以產生之酸作爲觸媒之態樣。具體而言,係利用將產生 之酸作爲觸媒之色素前軀體的顯色反應,而用於形成影 像、防止僞造、檢測能量線之材料。或用於將產生之酸作 爲觸媒之分解反應而利用之半導體製造用、TFT製造用、 彩色濾光片製造用、微機械零件製造用等正型光阻等。 此外,在其他態樣方面,有利用藉由照光使光聚合起 始劑裂解而產生自由基,而產生之自由基使聚合性化合物 進行聚合的圖案形成,而用於彩色濾光片製造用、印刷版 等影像記錄用等負型光阻等。 近年來,在各種用途上均希望能夠開發出一種特別是 具有對於短波長(3 6 5nm或40 5nm)的光源具有感受性之光 201127812 聚合性組成物,而對於如上述短波長的光源顯示出高靈敏 度之光聚合起始劑而言,要求逐漸提高。然而,一般而言 因靈敏度優異之光聚合起始劑欠缺安定性,故目前期盼一 種提升靈敏度的同時亦滿足保存安定性之光聚合起始劑。 例如於美國專利第42555 1 3號說明書、美國專利第 4590145號說明書、日本專利特開2000-80068號公報、曰 本專利特開 2001-233842 號公報、日本專利特開 2006-342166號公報、及日本專利特開2007-231000號公報 中,已提案出多種用於光聚合性組成物之肟酯化合物 (oxime ester compound)來作爲光聚合起始劑。然而,該等 公知之肟酯化合物因其光解所產生的自由基種與聚合性化 合物之間的反應性低,故硬化速度慢,因而無法獲得足夠 的靈敏度。 此外,在光聚合性組成物方面除了保存安定性優異之 外,亦期盼其光聚合起始劑經由照光可產生出與聚合性化 合物具有反應性優異之自由基種,且靈敏度高。 例如日本專利特開2005-202252號公報中已揭示一種 含有肟酯化合物之彩色濾光片用著色感放射線性組成物’ 但關於其保存安定性及對短波長光的靈敏度仍不足。 此外,彩色濾光片用感光性著色組成物中’圖案形成 後色度的再現性成爲了新的課題’歷時所造成之著色性變 化等問題點的改善被強烈期待。 -5- 201127812 另外在影像感測器用彩色濾光片方面’爲了 CCD等固 態攝影元件的高度聚光性與起因於高度色分離性的圖像品 質提升,故對於彩色濾光片要求嚴格的高著色濃度及薄膜 化。若爲了獲得高著色濃度而添加大量色材,則在忠實地 再現2.5;am以下之細微像素圖案的形狀方面靈敏度會變 得不足,使得在整體上會有常發生圖案缺漏的趨勢。此外, 爲了避免該缺漏需要更高能量的照光’故曝光時間變長, 因而造成製造上良率顯著降低的問題點。 綜合以上,關於彩色濾光片用感光性著色組成物,不 但要含有高濃度色材(著色劑)同時亦須要獲得良好的圖案 形成性,由此觀之,目前期盼一種靈敏度高之光聚合性組 成物及光聚合起始劑。 【發明內容】 發明所欲解決之課題 本發明之課題在於達成下述目的。 • .· 本發明之第1目的在於··提供一種靈敏度高、具有優 異膜内部硬化性之光聚合性組成物。 本發明之第2目的在於:提供一種彩色濾光片、以及 可高生產性地製造該彩色濾光片之製造方法;該彩色濾光 片用於形成彩色濾光片之著色區域時,其具備之著色圖案 擁有以下特性:圖案形成性良好、與支持體之密合性優異、 且即使於顯影後之後加熱時亦可保持圖案形狀、加熱所造 成之著色受到抑制。 -6- 201127812 本發明之第3目的在於:提供一種圖案形狀良好且高 解析度之固態攝影元件,以及圖案形狀良好且色純度良好 之液晶顯示裝置。 本發明之第4目的在於:提供一種可高靈敏度形成影 像之平版印刷版原版。 本發明之第5目的在於:提供一種靈敏度高、不會受 到氧所造成之聚合阻礙之新穎肟酯化合物。 用以解決課題之手段 本發明者經過反覆努力硏究,結果獲得以下見解:藉 由使用具有新穎特定構造之肟酯化合物作爲光聚合起始 劑,可獲得一種光聚合性組成物,其經由照光而與聚合性 化合物具有高反應性、高靈敏度、且保存安定性亦優異。 用以解決上述課題之具體手段如以下所示。 < 1 > —種光聚合性組成物,其係含有(A)光聚合起始劑 及(B)聚合性化合物,該(A)光聚合起始劑具有下述通式(1) 所表示之部分構造;
通式(1)中’ R3及R4爲各自獨立,表示氫原子、烷基、 稀基、炔基、芳香基、雜芳基、或烷氧基;R3與R4亦可共 同形成環;X 表示 OR5、SR6' 或 NR17R18; r5、r6、r17、 201127812 及R18爲各自獨立’表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳 香基、或雜芳基;R17與R18之間亦可直接或經由2價之連 接基而形成環。 <2>如<1>之光聚合性組成物,其中該具有通式(1)所表 示之部分構造之光聚合起始劑爲下述通式(2)所表示之化 合物; ? R3
通式(2)中,R1及R2爲爲各自獨立,表示氫原子、烷 基、烯基、炔基、芳香基、或雜芳基;R1與R2亦可共同形 成環;B1表示單鍵或羰基:R3、R4、及X分別與該通式(1) 中之R3、R4、及X同義。 <3>如<1>或<2>之光聚合性組成物,其中該具有通式(1) 所表示之部分構造之光聚合起始劑爲下述通式(3)所表示 之化合物;
通式(3)中,B1、X、R2、R3、及R4分別與該通式(2) 中之B1、X、R2、R3、及R4同義;R8表示氫原子、烷基、 烷氧基、或烷硫基;R8亦可經由2價之連接基與R2鍵結而 -8 - 201127812 形成環構造;R9表示烷基、烯基、芳香基、雜芳基、烷氧 基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、胺基、芳羰基、雜芳羰基、 或鹵原子,當存在複數個R9時其亦可分別經由2價之連接 基而鍵結:η表示0至2的整數;當η爲2時R9可相同或 相異。 <4>如<1>〜<3>中任一項之光聚合性組成物,其中該 具有通式(1)所表示之部分構造之光聚合起始劑爲下述通 式(4)或通式(5)所表示之化合物;
通式(4)中,Β2表示單鍵、伸烷基、氧原子 '硫原子、 或羰基;Υ表示伸烷基、氧原子、硫原子、或nr13;R13 表示烷基或芳香基;R1()表示氫原子、鹵原子、芳碳基、或 雜芳羰基;B^X'RlR3、及R4分別與該通式(2)中之 Βι、X、R2、R3、及R4同義;R8與該通式(3)中之Rs同義; 通式(5)中,Z表示伸烷基、氧原子、或硫原子;Q1表 示單鍵或2價之連接基;B1、X、R3'及R4分別與該通式 (2)中之B1、X、R3、及R4同義;R9及η分別與該通式(3) 中之R9及η同義;當η爲2時R9可相同或相異。 -9 - 201127812 <5>如<1;>〜<3>中任一項之光聚合性組成物,其中該 具有通式(1)所表示之部分構造之光聚合起始劑爲下述通 式(6)所表示之化合物;
該通式(6)中’ R、R4、R”、及r18分別與該通式(1) 中之R3、R4、R17、及r“同義:Bi及r2分別與該通式(2) 中之B1及R2同義;R*與該通式(3)中之r8同義;Rl〇與該 通式(4)中之R1G同義。 <6>如<1>〜<4>中任一項之光聚合性組成物,其中該 具有通式(1)所表示之部分構造之光聚合起始劑爲下述通 式(7)或通式(8)所表示之化合物;
該通式(7)及通式(8)中,R12表示氫原子、烷基、或芳 香基;Q2表示 -(CH2)nl- ,111表示〇至2的整數;113、 R4、R17、及R18分別與該通式(1)中之R3、R4、R17、及R18 同義;R2及B1分別與該通式(2)中之R2及B1同義;R8、 201127812 R9、及η分別與該通式(3)中之R8' R9、及η同義;R10與 該通式(4)中之R1Q同義;當η爲2時R9可相同或相異。 中任一項之光聚合性組成物,其中進 —步含有(C)著色劑。 <8>如<7>之光聚合性組成物,其中該(C)著色劑爲顏 料,且進一步含有(D)顏料分散劑。 <9>如<7>或<8>之光聚合性組成物,其中該(c)著色劑 爲黑色著色劑。 <10>如<7>〜<9>中任一項之光聚合性組成物,其係用 於形成彩色濾光片之著色區域。 <11>一種彩色濾光片,其係於支持體上具有使用如 <1〇>之光聚合性組成物所形成之著色區域。 <12>—種彩色濾光片之製造方法,其係包含以下步驟: 於支持體上塗佈如<1〇>之光聚合性組成物而形成光聚 合性組成物層之步驟; 將該光聚合性組成物層曝光成爲圖案狀之步驟; 將曝光後之該光聚合性組成物層進行顯像而形成著色 圖案之步驟。 <13>—種固態攝影元件,其係具備如<11 >之彩色濾光 片。 <14>—種液晶顯示裝置,其係具備如<1 1>之彩色濾光 片。 -11- 201127812 <15>—種平版印刷版原版,其係於支持體上 <1>〜<7>中任一項之光聚合性組成物之感光層。 <16>—種化合物,其係如下述通式(6)、(7) 示; 具有含如 、或(8)所
該通式(6)〜(8)中,R2表示氫原子' 烷基、 基、芳香基、或雜芳基;。及r4爲各自獨立’表开 院基、烯基、炔基、芳香基、雜芳基、或烷氧基 亦可共同形成環;R8表示氫原子、院基、+烷氧基 基;R8亦可經由2價之連接基與R2鍵結而形成 R9表示烷基、烯基 '芳香基、雜芳基、烷氧基、 烷硫基、芳硫基、胺基、芳羰基、雜芳羰基、或 當存在複數個r9時其亦可分別經由2價之連接基 η表示0至2的整數;當η爲2時R9可相同或; 表示氫原子、鹵原子、芳羰基 '或雜芳羰基;Rl2 子、垸基、或芳香基;R17及R18爲各自獨立,表开 烷基、烯基、炔基、芳香基、或雜芳基;Rl7與B 烯基、炔 t氫原子、 ;R3 與 R4 、或院硫 環構造: 芳氧基、 鹵原子; 丨而鍵結; 有異;R10 表示氫原 :氫原子、 .18之間亦 -12- 201127812 可直接或經由2價之連接基而形成環;Βι 基;Q2表示 -(CH2)nl- ,111表示0至2的| 本發明中,藉由使用具有新穎特定構造 聚合起始劑,而可獲得高靈敏度之光聚合組 在於:照光使本發明之特定構造光聚合起始 其產生之自由基種會與聚合性化合物(例如】 應性。此外,圖案曝光所獲得之圖案形狀看 圖案成形後亦幾乎無因加熱所導致的變形, 定之圖案。其理由一般推測在於本發明之特 合起始劑具有優異之膜内部硬化性。 此外,本發明之光聚合性組成物層係不 在空氣下高靈敏度地硬化。其原因被認爲如 生的自由基相比,本發明中產生的自由基係 原子’故降低了與氧之反應性,因此不會受 合阻礙。 發明效果 藉由本發明可提供一種靈敏度高、具有 化性之光聚合性組成物。 此外’可提供一種彩色濾光片、以及可 造該彩色濾光片之製造方法;該彩色濾光片 濾光片之著色區域時,其具備之著色圖案擁 圖案形成性良好、與支持體之密合性優異、 後之後加熱時亦可保持圖案形狀、加熱所造 抑制。 表示單鍵或羰 g數。 之肟酯作爲光 成物。其原因 劑進行光解, I體)具有高反 不到缺口、且 而獲得形狀穩 定構造之光聚 具氧阻隔層而 下:與現存產 於α位存在雜 到氧引起的聚 優異膜内部硬 高生產性地製 用於形成彩色 有以下特性: 且即使於顯影 成之著色受到 -13- 201127812 進而可提供一種圖案形狀良好且高解析度之固態攝影 元件,以及圖案形狀良好且色純度良好之液晶顯示裝置。 進而可提供一種可高靈敏度形成影像之平版印刷版原 版。 進而可提供一種靈敏度高、不會受到氧所造成之聚合 阻礙之新穎肟酯化合物。 【實施方式】 本發明之光聚合性組成物,其特徵在於:含有(A)光聚 合起始劑(以下簡稱爲「特定肟化合物j )、及(B)聚合性化 合物;該(A)光聚合起始劑係具有下述通式(〗)所表示之部 分構造。 ? R3
通式(1)中,R3及R4爲各自獨立,表示氫原子、烷基、 烯基、炔基、芳香基、雜芳基、或烷氧基。R3與R4亦可共 同形成環。X 表示 OR5、SR6、或 NR17R18。R5、R6、R17、 及R18爲各自獨立,表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳 香基、或雜芳基。R17與R18之間亦可直接或經由2價之連 接基而形成環。 本發明之(A)特定肟化合物具有作爲光聚合起始劑之 機能,其藉由照光而分解,產生自由基起始種使(B)聚合性 -14- 201127812 化合物進行聚合。特別是特定肟化合物因光解所產生之自 由基種顯示出與聚合性化合物很高的反應性,故聚合速度 快而具有優異的靈敏度,因此當其作爲光聚合起始劑而用 於光聚合性組成物時可發揮優異的效果。 以下針對本發明之聚合性化合物所含之各成分進行說 明。 其中,本說明書中表示通式(1)〜(8)之基之烷基、烯 基、炔基、芳香基、雜芳基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、 芳硫基、胺基、芳羰基、及雜芳羰基只要無特別指定,亦 可爲進一步具有取代基者。 < (A)具有通式(1)所表示之部分構造之光聚合起始劑 (特定肟化合物)> 本發明中之特定肟化合物,係具有通式(1)所表示之部 分構造之化合物。 通式(1)中,當R3及R4表示烷基時,就亦可具有取代 基之烷基而言’較佳爲碳數1〜30之烷基,更佳爲碳數i 〜20之烷基’最佳爲碳數i〜10之烷基。 具體而言,可列舉例如:甲基、乙基、丙基、丁基、 己基、辛基、癸基、十二烷基、十八烷基、異丙基 '異丁 基、第二丁基、第三丁基、1-乙基戊基、環戊基、環己基、 二氟甲基、2_乙基己基、苯甲醯甲基、1-萘甲酸甲基' 2 萘甲醯甲基、4-甲磺胺苯甲醯甲基、4-苯磺胺苯甲醯甲基、 4-二甲胺苯甲醯甲基、4_氰苯甲醯甲基、4_甲苯甲醯甲基、 -15- 201127812 2- 甲苯甲醯甲基、3-氟苯甲醯甲基、3-三氟甲苯甲醯甲基、 3- 硝苯甲醯甲基、烯丙基、炔丙基等。 上述具體例之中,烷基較佳爲:甲基、乙基、丙_、 2-乙基己基、異戊基、乙氧乙基、甲氧乙氧乙基、苯氧乙 基、甲氧乙基、環己基甲基、環戊基甲基、四氫呋喃甲基、 甲氧丙氧基、甲氧丙氧丙基、第三丁甲基、烯丙基、& _ 基;更佳爲:甲基、乙基、2-乙基己基、異戊基、乙氧& 基、甲氧乙氧乙基、苯氧乙基、甲氧乙基、環己基甲基、 第三丁基甲基;最佳爲:甲基、乙基、2-乙基己基、異戊 基、乙氧乙基、環己基甲基、烯丙基、炔丙基。 通式(1)中,當R3及R4表示烯基時,就亦可具有取代 基之烯基而言,較佳爲碳數2〜20之烯基,更佳爲碳數2 〜10之烯基,最佳爲碳數2〜8之烯基。 具體而言,可列舉例如:乙烯基、苯乙烯基。 通式(1)中,當R3及R4表示炔基時’就亦可具有取代 基之炔基而言,較佳爲碳數2〜20之炔基,更佳爲碳數2 〜10之炔基,最佳爲碳數2〜4之炔基。 具體而言,可列舉例如:乙炔基、丙炔基、苯乙炔基。 當R3及R4表示芳香基時,就亦可具有取代基之芳香 基而言,較佳爲碳數6〜30之芳香環,更佳爲碳數6〜20 之芳香環,最佳爲碳數6〜12之芳香環。 具體而言,例如可列舉:苯基(PhenyU、聯苯基 (biphenyl)、 1-萘基(1-naphthyl)、 2-萘基(2- naphthyl)、 9- 201127812 蒽基(9-anthranyl)、9-菲基(9-phenanthryl)、1-芘基 (1-pyrenyl)、5-稠四苯基(5-naphthacenyl)、 1-節基 (1-indenyl)、2-莫基(2-azulenyl)、9-苐基(9-fluorenyl)、聯 二苯基(terphenyl)、聯四苯基(quarterphenyl)、鄰、間 '及 對甲苯基(〇-,111-,卩-1〇1丫1)、二甲苯基(乂丫171)、鄰、間、及對 異丙苯基(o-,m-,p-cumenyl)、均三甲苯基(mesityl)、并環戊 一嫌基(p e n t a 1 e n y 1)、聯察基(b i n a p h t h a 1 e n y 1)、聯三萘基 (t e r n a p h t h a 1 e n y 1) ' 聯四萘基(q u a r t e r n a p h t h a 1 e n y 1)、并環 庚二嫌基(heptalenyl)、伸聯苯基(biphenylenyl)' 二環戊二 嫌并苯基(indacenyl)、丙二稀合葬基(fluoranthenyl) '危基 (acenaphthylenyl)、乙嫌合惠基(aceanthrylenyl)、胞基 (phenalenyl)、莽基(fluorenyl)、惠基(anthrany)、聯惠基 (bianthr aceny1)、三葱基(teranthraceny1)、四恵基 (quarteranthracenyl)、恵醒基(anthraquinonyl) ' 菲基 (phenanthryl)、伸三苯基(triphenylenyl)、基(pyrenyl)、 疾基(chrysenyl)、稠四苯基(naphthacenyl)、卞基 (pleiadenyl)、茜基(picenyl)、菲基(perylenyl)、五苯基 (p e n t a p h e n y 1)、稠五苯基(p e n t a c e n y 1)、聯四苯基 (tetraphenylenyl)、異稠六苯基(hexaphenyl)、稠六苯基 (hexacenyl)、節基(rubicenyl)、寇基(coronenyl)、聯伸三 萘基(trinaphthylenyl)、異稠七苯基(heptaphenyl)、稠七苯 基(heptacenyl)、苒基(pyranthrenyl)、莪基(ovalenyl) ' 對 氯苯基(p-chlorophenyl)、對溴苯基(p-bromophenyl) ' 對氟 201127812 苯基(p-fluorophenyl)、對蛛苯基(ρ-iodophenyl)、間氯苯基 (m-chlorophenyl)、間漠苯基(m-bromoplieiiyl)、間氟苯基 (m-fluorophenyl) ' 間确苯基(m-iodophenyl)、鄰氯苯基 (o-chlorophenyl)、鄰溴苯基(o-bromophenyl)、鄰氟苯基 (o-fluorophenyl)、鄰确苯基(o-iodophenyl)、對甲氧苯基 (p-methoxyphenyl)、間甲氧苯基(m-methoxyphenyl)、對甲 硫基苯基(p-methylthiophenyl)、 間甲硫基苯基 (m-methylthiophenyl) 、 對 苯硫基 苯基等 (p-phen ylthiophenyl) 0 上述具體例之中,較佳爲苯基、9-莽基、對氯苯基、 對溴苯基、對氟苯基、對碘苯基、間氯苯基、間溴苯基、 間氟苯基、間碘苯基、鄰氯苯基、鄰溴苯基、鄰氟苯基、 鄰碘苯基、對甲氧苯基、間甲氧苯基、對甲硫基苯基、間 甲硫基苯基、對苯硫基苯基,更佳爲對氯苯基、對溴苯基、 間氯苯基、間溴苯基》 當R3及R4表示雜芳基時,就雜芳基而言,可列舉具 有氮原子、氧原子、硫原子或磷原子之碳數2〜12之芳香 族基。 具體例可列舉例如:噻吩基(thienyl)、苯并[b]噻吩基 (benzo[b]thienyl) 、 萘 并 [2,3-b] 噻吩基 (naphtho[2,3-b]thienyl)、噻嗯基(thianthrenyl)、呋喃基 (furyl)、 哌喃基 (pyranyl)、 異苯并呋喃基 (isobenzofuranyl)、晚嫌基(chromenyl)、口山基(xanthenyl)、 201127812 啡噚噻基(phenoxathiinyl)、2H-吡咯基(2H-pyrrolyl)、吡咯 基(pyrrolyl)、咪哩基(imidazolyl)、 B比哩基(pyrazolyl)、 Π比 陡基(pyridyl)、B比哄基(pyrazinyl)、喃陡基(pyrimidinyl)、 塔哄基(pyridazinyl)、0引 _ 基(indolizinyl)、異 D引哄基 (isoindolyl)、3H-Q引哄基(3H-indolyl) ' Π引哄基(indolyl)、 1H-卩引哩基(indazolyl) '嘌玲基(purinyl)、4H-喹阱基 (qu i η ο 1 i z i n y 1)、異唾咐基(i s 〇 qu i η ο 1 i ny 1)、唾咐基 (quinolyl)、吹 哄基(phthal azinyl)、瞭 陡基 (naphthyridinyl)、唾曙咐基(quinoxalinyl)、喹哩啉基 (quinazolinyl)、哮咐基(cinnolinyl)、噪陡基(pteridinyl)、 Ή 4aH-咔唑基(4aH-carbaz ο 1 y 1)、 咔'哗基(c a r b a ζ 〇 1 y 1)、 β - 咔 啉基(/3 - c ar b ο 1 i n y 1)、1 啡啶基 :(phenanthridin yl)、吖陡 基 (acridinyl)、 呕 陡 基 (perimidinyl) 、 啡 啉 基 (phenanthrolinyl) 、啡 畊 基 (phenazinyl)、 啡呻 阱 基 (phenarsazinyl)、 異噻 唑 基 (isothiazolyl) •啡噻 哄 基 (phenothiazinyl)、 異 噚 唑 基(isoxazolyl) 、呋 吖 基 (furazanyl) 啡 噚阱基 (phenoxazinyl) 、 異 晚 基 (isochromanyl) 、 暁 基 (chromanyl) 、 口比啥 啶 基 (pyrrolidinyl) 、 D比略 啉 基 (pyrrolinyl)、 咪唑 陡 基 (imidazolidinyl)、 咪唑啉 基 (imidazolinyl) 、吡哩 :症 基 (pyrazolidinyl) 、 口比哗啉基(pyrazolinyl) 、哌 陡 基 (piperidyl)、哌哄基(piperazinyl)、B引哄啉基(indolinyl)、 異Π引噪啉基(isoindolinyl)、卩昆陡基(quinuclidinyl)、味琳基 -19- 201127812 (morphlinyl)、硫Π山U星基(thioxanthenyl)等,較佳.爲噻吩基、 η 比陡基、呋喃基、哌喃基、咪唑基、硫灿嘎基、咔唑基。 通式(1)中’當R3及R4表示烷氧基時,就亦可具有取 代基之院氧基而言,較佳爲碳數1〜10之烷氧基,更佳爲 碳數1〜5之烷氧基,最佳爲碳數1〜3之烷氧基。 具體而言’可列舉例如··甲氧基、乙氧基、丙氧基、 丁氧基、異丙氧基。 通式(1)中,X 表示 〇r5、sr6、或 nr17r18。 OR5可列舉:羥基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙 氧基、苯氧基、(對甲基)苯氧基、(對第三丁基)苯氧基、(對 甲氧基)苯氧基、(對羥基)苯氧基、(對二甲胺)苯氧基、(對 氯)苯氧基、(對溴)苯氧基、(對三氟甲基)苯氧基、(對硝基) 苯氧基、(對氰基)苯氧基等。 SR6可列舉:硫醇基、甲硫基 '乙硫基、丙硫基、異 丙硫基、苯硫基、(對甲基)苯硫基、(對第三丁基)苯硫基、 (對甲氧基)苯硫基、(對羥基)苯硫基、(對二甲胺)苯硫基、 (對氯)苯硫基、(對溴)苯硫基、(對三氟甲基)苯硫基、(對 硝基)苯硫基、(對氰基)苯硫基等。 NR17R18可列舉:二甲胺基、二乙胺基、二丙胺基、二 異丙胺基、二丁胺基、二苯胺基、吡咯烷基、哌啶基、味 啉基、硫代味啉基、哌畊基、四氫吖唉基(azetidinyl)等。 通式(1)中之X雖爲OR5、SR6、或NR17R18,其中較佳 爲SR6、或NR17R18,更佳爲NR17R18,此時顯示與聚合性 化合物較高的反應性、聚合速度快、可獲得高靈敏度。 -20- 201127812 通式(i)中之χ較佳者爲羥基、甲氧基、硫醇基、甲硫 基、吡咯烷基、味啉基。 特定肟化合物中,若至少含有〗個通式(1)之部分構 造’則可爲任意化合物。 其中可爲下述通式(2)所表示之化合物。 Ο r1,b、ctn、o 太 C’ ⑵ R2 # x 通式(2)中之Rl、R2、R3、及R4皆與通式⑴中之R3 同義’ R丨、R2、R3 '及R4可分別相同或相異。此外,通式 (2)中之X與通式(1)中之χ同義。 通式(2)中,Βι表示單鍵或羰基。 通式(2)所表示之特定肟化合物又以下述通式(3)所表 示之化合物更佳。 (R9)n-f
CrN'cAc’、⑶
R2 R’4 X 通式(3)中’ B1、X、R2、R3、及R4分別與上述通式(2) 之81'父、;^、113、及114同義。118表示氫原子、烷基'烷 氧基、或院硫基。R8亦可經由2價之連接基與R2鍵結而形 成環構造°厌9表示碳數1〜10之烷基、碳數1〜10之烯基、 碳數ό〜20之芳香基、碳數2〜20之雜芳基、碳數ι〜10 -2 1 - 201127812 之烷氧基、碳數6〜20之芳氧基、碳數1〜l〇之烷硫基、 碳數6〜20之芳硫基、胺基、碳數7〜20之芳羰基、碳數 3〜20之雜芳羰基、或鹵原子,當存在複數個R9時其亦可 分別經由單鍵或2價之連接基而鍵結。η表示0至2的整 數。當η爲2時R9可相同或相異。 R8所表示之烷基,係碳數1〜5之烷基,較佳爲甲基、 乙基、異丙基。 R8所表示之烷氧基,係碳數1〜5之烷氧基,較佳爲 甲氧基、乙氧基、丙氧基。 R8所表示之烷硫基,係碳數1〜5之烷硫基’較佳爲 甲硫基、乙硫基、丙硫基、異丙硫基。 R8較佳爲甲氧基、甲硫基、異丙硫基。 R9所表之鹵原子,可列舉氟、氯、溴、碘等’較佳爲 氟、氯、溴,更佳爲氯、溴。 R9較佳爲..芳香基、芳硫基、胺基。 此外,特定肟化合物較佳爲下述通式(4)或通式(5)所75 之化合物。
? R3
-22- 201127812 通式(4)中,B2表示單鍵、伸烷基、氧原子、硫原子、 或羰基。γ表示伸烷基、氧原子、硫原子、或NRl3 ° Rl3 表示烷基或芳香基.。R1Q表示氫原子、鹵素原子、芳羰基、 或雜芳羰基。B1、X、R2、R3、及R4分別與上述通式(2)中 之B1、X、R2、R3、及R4同義。R8與上述通式(3)中之R8 同義。 通式(5)中,Z表示伸烷基、氧原子、或硫原子。Q1表 示單鍵或2價之連接基。B1、X、R3、及R4分別與上述通 式(2)中之B1、X、R3、及R4同義;R9及η分別與上述通 式(3)中之R9及η同義,較佳範圍亦相同。當η爲2時R9 可相同或相異。 通式(4)中,Β2所表示之伸烷基,係碳數1〜3之伸烷 基,較佳爲亞甲基、伸乙基。 Β2較佳爲單鍵、硫原子、氧原子、羰基。 通式(4)中,Υ所表示之伸烷基,係碳數1〜3之伸烷 基,較佳爲亞甲基、伸乙基。 R13所表示之烷基,係碳數1〜8之烷基;R13所表示之 芳香基,係碳數6〜12之芳香基。 R1(>所表示之芳羰基,係碳數7〜20之芳羰基,較佳爲 苯羰基、鄰甲苯羰基、對溴苯羰基。 R1()所表示之雜芳羰基’係含氧原子、硫原子或氮原子 之碳數3〜1〇之雜芳羰基’較佳爲呋喃羰基、噻吩羰基、 吡啶羰基。 -23- 201127812 通式(5)中,Z所表示之伸烷基,係碳數1〜2之伸烷 基’較佳爲亞甲基、伸乙基。 Z較佳爲氧原子或硫原子。 Q1所表示之2價之連接基爲亞甲基、伸乙基、伸丙基、 -CH(CH3)- ' -CH(CH3)CH2- ' -CH(Ph)- ' -CH(Ph)-CH2- ' -CH(CH3)CH2CH2-、或-CH(P1i)-CH2CH2-。 此外,特定肟化合物又以下述通式(6)、通式(7)、或通 式(8)所示之化合物特佳。上述通式(4)較佳爲下述通式(7) 所示之化合物;上述通式(5)特佳爲下述通式(8)所示之化合 物。
通式(6)〜(8)中,R12表示氫原子、烷基、或芳香基。 Q2 表示- (CH2)nl-,nl 表示 〇 至 2 的整數。R3 ' r4、r"、 及R18分別與上述通式(1)中之R3、R4、R17、及R18同義。 R2、及B1分別與上述通式(2)中之R2、及B1同義,較佳範 圍亦相同。R8、R9、及η分別與上述通式(3)中之R8、R9、 及η同義,較佳範圍亦相同。r1q與上述通式(4)中之R10 同義,較佳範圍亦相同。當η爲2時R9可相同或相異。 *24- 201127812 通式(8)中’ R12所表不之院基’係碳數1〜8之烷基, 較佳爲甲基、乙基。 此外,R12所表示之芳香基,係碳數6〜12之芳香基, 較佳爲苯基、對甲苯基、對甲氧苯基。 特定肟化合物於365nm的莫耳吸光係數,於乙酸乙酯 中較佳爲50〜500000,更佳爲1〇〇〜40000,最佳爲500〜 30000 » 本說明書中之特定肟化合物的莫耳吸光係數,係藉由 紫外可見分光光度計(Varian 公司製 CARRY-5 spectrophotometer)’使用乙酸乙酯溶劑以o.oig/L之濃度 所測定之値。 具有通式(1)所表示之部分構造之化合物其一般的合 成流程(參照下圖),可藉由將肟化合物與於^位具有雜原 子取代基之羧酸進行縮合反應的方式來合成。具體而言可 藉由以下方式獲得:將肟化合物溶解於二氯甲烷中,然後 添加α雜原子羧酸與二甲胺吡啶(DMAP)、二環己基碳化二 亞胺(DCC)並於〇°C攪拌。 肟化合物可藉由以下方式獲得:將羰基化合物於氫氧 化胺鹽酸鹽與乙酸鈉所構成之N-甲基吡咯啶酮(NMP)/水 之混合溶劑中以8 (TC進行加熱攪拌。而當肟化合物爲α -酮肟時,可藉由於乙醇(Et OH)中ΚΟΗ存在下使亞硝酸異戊 酯於〇 °C進行反應的方式獲得。 -25- 201127812 於α位具有雜原子取代基之羧酸可藉由現存之合成文 獻來合成。可藉由將2-溴異丁酸乙酯之雜原子化合物進行 親核取代,並將酯進行酸性水解的方式獲得。 合成文獻可列舉 Journal of the American Chemical S o ci ety; 5 9,( i 93 7),2 24 8 、 Journal of Medicinal
Chemistry:44,(200 1),3 582 等。 x--go2h 〇 NH2〇H/HCI » AcONa R,、R2 NMP/H20,80¾
N
O
X o
KOH EtOH, 0°C ,OH DCC DMAP R O r2 ch2ci2, 〇°〇 R,〆、R2 n^oh X- —CO?H DCC DMAP • Μ CH2C!2. 0°C o
X 以下表示本發明之特定肟化合物之具體例〔例示化合” 物(A-ι)〜(A-13 5)〕,但本發明並未限定於該等中。 -26- 201127812
(A-5) (A-6} (A-7)
{A-4)
(A-14)
-27- 201127812
-28- 201127812
(A-41)
(A-38)
(A-42) -29- a 201127812
(A-44)
(A-46) (A-45)
-30- 201127812
(A-62) (A-63)
(A-64)
(A-65) -3 1- 201127812
(A-68)
(A-69)
(A-74) 0y\n。 ·〆〇
iA-75)
-32-
201127812
(A-84) (A-86) (A-85)
_33· a 201127812
(A-93) (A-94) (A-95) (A-96)
(A-97) (A-98) (A-99) (A-100)
O O
<A-105}
O O
-34- 201127812
(A-l 12) -35- 201127812
-36- 201127812
(A-123) (A-124)
-37- 201127812
-38- 201127812 上述例示化合物(A-l)〜(A-135)之中 莫耳吸光係數的觀點而言,較佳爲(A-29) 本發明中之特定肟化合物可藉由添加 聚合性組成物,利用其光聚合起始機能, 所示用途之硬化性材料。 亦即可列舉例如以下所例示之各種用 油墨材料(例如網版印刷油墨用、平版印刷 用、UV硬化油墨用)、對木材或金屬之白 用材料、粉末塗覆材料(特別是對紙、木祠 塗覆材料用)、建築物之標記用或道路標言E 製手法用之全像記錄之記錄材料、影像記 有機溶劑或鹼性水溶液顯影之印刷版原 料、用以製造網版印刷光罩之光硬化性塗 塡充用組成物、接著劑、壓感接著劑、積 液體及乾燥薄膜兩者之蝕刻阻劑用材料 料、電鎪阻劑用材料、永久阻劑用材料、 子電路用光構成性介電體用材料、各種顯 開關用材料、光柵(干渉柵)形成用材料、 材料、大量硬化(使用透明成形鑄具之Uv 光微影手法之三維物品製造用材料(毛 4,5?5,3 3 0號說明書所記載之材料)、複合 而可含有玻璃纖維及/或其他纖維以及其 系聚酯)之其他厚層組成物之製造用材料、 ,以於365nm之 ~ (A-13 5) 〇 丨上述本發明之光 而亦適用於以下 途之材料:印刷 丨或快乾印刷油墨 色或其他色修飾 '、金屬或塑膠之 i用材料、照片複 錄材料、可利用 版之記錄層用材 覆用材料、牙科 層用樹脂材料、 、焊料阻劑用材 印刷電路板或電 示用材料、光學 光電路之製造用 硬化)或利用立體 可如美國專利第 材料(例如視需求 他助劑之苯乙烯 用以塗覆或密封 -39- 201127812 電子零件及積體電路之保護用材料、光纖形成用材料、用 以製造光學透鏡(例如隱形眼鏡或佛氏透鏡)之塗覆用材 料、醫用機器、輔助具或植入物之製造、或例如德國專利 第1 9,700,064號及歐歐洲專利第678,534號各說明書所記 載之具有向熱(thermo tropic)特性之膠體之製造用材料等。 此外’可用於放射線量檢測之材料,進而亦可用於半 導體製造用、TFT製造用、彩色濾光片製造用、微機械零 件製造用等保護材料。 本發明之光聚合性組成物係含有上述(A)特定肟化合 物及後述之(B)聚合性化合物而構成,藉由(A)特定肟化合 物之機能,可形成對於波長3 65nm或405nm之光的靈敏度 高、保存安定性優異、進而可抑制加熱歷時所造成之著色 之硬化膜。其詳細機制雖不明瞭,但一般認爲本發明之(A) 特定肟化合物由於其分子構造的關係,使得吸光而裂解時 自由基的再結合受到抑制,故所產生之自由基的量較多而 達成高靈敏度化。此外,因自由基的再結合受到抑制,故 於加熱歷時.中特定肟化合物之分解生成物彼此間的反應被 抑制,而使該反應所導致之著色受到抑制。 本發明中,爲了評價藉由本發明之光聚合性組成物所 形成之硬化膜因加熱歷時所造成之著色,可利用色差ΔΕ# ab。此處,色差ΔΕ-ab可使用大塚電子(股)製MCPD-3000 來進行測定。 -40- 201127812 評價時之條件,首先將本發明之光聚合性組成物以超 尚壓水銀燈 Proximity 型曝光機(Hitachi High-Tech Electronics Engineering(股)製)、或i線步進曝光裝置 FPA-3 0 00i5 + (CANON(股)製)(3 6 5 n m )於 lOmJ/cm2 〜 2,500mJ/cm2之範圍進行各種曝光量的曝光來形成硬化 膜。然後視需要而進行顯影後,將硬化膜於2 0 0 °C加熱1 小時。 藉由測定該硬化膜於加熱前後之色差ΔΕ+ab,可評價 硬化膜因加熱歷時所造成之著色狀態。 本發明之光聚合性組成物,可將加熱前後之色差△ E * ab設爲5以下。 以下針對本發明之光聚合性組成物,對於其可適用在 形成彩色濾光片之著色區域等之光聚合性組成物(1)〔以下 簡稱爲彩色濾光片用光聚合性組成物〕,以及可適用在形 成平版印刷版原版之感光層等之光聚合性組成物(2)舉例 進行詳細說明’但本發明之光聚合性組成物之用途係如上 所述並無限定於該等之中。 -光聚合性組成物(1)-(彩色濾光片用光聚合性組成物) 彩色濾光片用光聚合性組成物之使用目的在於形成用 於彩色濾光片之著色區域,故除了含有(A)特定肟化合物、 (B)聚合性化合物之外,視需要可含有(C)著色劑。以下針 對構成彩色濾光片用光聚合性組成物之各成分進行敘述。 -41 · 201127812 〔(l)-(A)特定肟化合物〕 光聚合性組成物(1)所含有之(A)特定肟化合物,於組 成物中係扮演光聚合起始劑的作用。(A)特定肟化合物的詳 細內容係如上所述。 光聚合性組成物(1)之特定肟化合物的含量,相對於該 組成物總固體成分較佳爲0.5〜40質量%,更佳爲1〜35 質量%,最佳爲1.5〜30質量%。 此處所謂光聚合性組成物總固體成分,意指自光聚合 組成物中去除溶劑後之成分的總質量。 若位於該範圍,則當光聚合性組成物層進行照光時其 靈敏度高、且硬化之膜可獲得適當的硬度,而可獲得圖案 成形時之圖案成形性良好且具有強度之圖案。 特定肟化合物可單獨使用1種,亦可倂用2種以上。 (其他光聚合起始劑) 光聚合性組成物(1)在不損及本發明之效果之範圍亦 • f 可倂用上述特定肟化合物以外之公知光聚合起始劑。此 時,公知光聚合起始劑較佳爲位於特定肟化合物的50質量 %以下之範圍使用。 可倂用之光聚合起始劑,係受光而分解,係起始、促 進後述之聚合性化合物的聚合之化合物,較佳爲可吸收波 長300〜500nm之區域者。具體而言,例如可列舉:有機鹵 化化合物、側氧二唑化合物 '羰基化合物、縮酮化合物、 安息香化合物、吖啶化合物、有機過氧化化合物、偶氮化 -42- 201127812 合物' 香豆素化合物、疊氮化合物、金屬芳香類(metallocene) 化合物、聯咪唑系化合物、有機硼酸化合物、二磺酸化合 物、鑰鹽化合物、醯膦(氧化物)化合物。 〔(l)-(B)聚合性化合物〕 可用於光聚合性組成物(1)之聚合性化合物,係具有至 少一個乙烯性不飽和雙鍵之加成聚合性化合物,其選自於 末端具有至少1個(較佳爲2個以上)乙烯性不飽和鍵結之 化合物。上述化合物群爲該產業領域中廣爲人知者,本發 明中可使用該等而無特別限定。該等係具有例如單體、預 聚物、亦即2倍體、3倍體及寡聚物、或該等之混合物以 及該等之共聚物等化學的形態。就單體及其共聚物之例而 言,可列舉:不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康 酸、巴豆酸 '異巴豆酸、馬來酸等)、或其酯類、醯胺類, 較佳可使用不飽和羧酸與脂肪族多元醇化合物所構成之 酯、不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物所構成之醯胺類。 此外,較佳亦可使用具有羥基或胺基、锍基等親核性取代 基之不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或.多官能異氰酸酯類 或環氧類所構成之加成反應物,以及單官能或多官能羧酸 所構成之去水縮合反應物等。此外,具有異氰酸酯基或環 氧基等親電子性取代基之不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能 或多官能醇類、胺類、硫醇類所構成之加成反應物,抑或 具有鹵素基或甲苯磺醯氧基等離去取代基之不飽和羧酸酯 或醯胺類與單官能或多官能醇類、胺類、硫醇類所構成之 -43- 201127812 取代反應物亦佳。此外,就其他之例而言,亦可使用取代 成不飽和膦酸、苯乙烯、乙烯醚等之化合物群來取代上述 不飽和羧酸。 脂肪族多元醇化合物與不飽和羧酸所構成之酯之單體 之具體例,在丙烯酸酯方面可列舉:乙二醇二丙烯酸酯、 三乙二醇二丙烯酸酯、1,3-丁烷二醇二丙烯酸酯 '四甲二 醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、 三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧丙基) 醚、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、ls4_ 環己烷二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、新戊四醇 二丙烯酸酯、新戊四醇三丙烯酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯、 二新戊四醇二丙烯酸酯、二新戊四醇六丙烯酸酯、山梨醇 三丙烯酸酯、山梨醇四丙烯酸酯、山梨醇五丙烯酸酯、山 梨醇六丙烯酸酯、三(丙烯醯氧乙基)異三聚異氰酸酯、聚 酯丙烯酸酯寡聚物、異三聚氰酸EO改質三丙烯酸醋等。 在甲基丙烯酸酯方面可列舉:四甲二醇二甲基丙烯酸 酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、 三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三甲基丙烯 酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二甲基丙烯酸 酯、己烷二醇二甲基丙烯酸酯、新戊四醇二甲基丙烯酸酯、 新戊四醇三甲基丙烯酸酯、新戊四醇四甲基丙烯酸酯、二 新戊四醇二甲基丙烯酸酯、二新戊四醇六甲基丙烯酸酯、 山梨醇三甲基丙烯酸酯、山梨醇四甲基丙烯酸酯、雙[對(3- -44- 201127812 甲基丙烯醯氧基-2-羥丙氧基)苯基]二甲基甲院、雙-[對(甲 基丙烯醯氧乙氧基)苯基]二甲基甲烷等。 在伊康酸醋方面可列舉:乙二醇二伊康酸酯、丙二醇 二伊康酸酯、1,3 -丁二醇二伊康酸酯、1,4_ 丁二醇二伊康酸 酯、四甲二醇二伊康酸酯、新戊四醇二伊康酸酯、山梨醇 四伊康酸酯等。 在巴豆酸酯方面可列舉:乙二醇二巴豆酸酯、四甲二 醇二巴豆酸酯、新戊四醇二巴豆酸酯、山梨醇四巴豆酸酯 等。在異巴豆酸酯方面可列舉:乙二醇二異巴豆酸酯、新 戊四醇二異巴豆酸酯、山梨醇四異巴豆酸酯等。 在馬來酸酯方面可列舉:乙二醇二馬來酸酯、三乙二 醇二馬來酸酯、新戊四醇二馬來酸酯、山梨醇四馬來酸酯 等。 在其他酯類之例,可較佳使用例如日本專利特公昭 5 1 -473 3 4、日本專利特開昭5 7 - 1 962 3 1記載之脂肪族醇系 酯類、或日本專利特開昭5 9 -5 240、日本專利特開昭 5 9- 5 24 1、日本專利特開平2-226 149記載之具有芳香族系 骨架者、或日本專利特開平1-165613記載之含有胺基者 等。此外,上述酯單體亦可使用作爲混合物。 此外,脂肪族多元胺化合物與不飽和羧酸所構成之醯 胺之單體之具體例,可列舉:亞甲基雙-丙烯醯胺、亞甲基 雙-甲基丙烯醯胺、1,6-六亞甲基雙-丙烯醯胺、1,6-六亞甲 基雙-甲基丙烯醯胺、二伸乙三胺參丙烯醯胺、苯二甲基雙 丙烯醯胺、苯二甲基雙甲基丙烯醯胺等。 -45- 201127812 在其他較佳之醯胺系單體之例,可列舉日本專利特公 昭54-2 1 726所記載之具有伸環己基構造者。 此外’利用異氰酸酯與羥基之加成反應所製造之胺基 甲酸酯系加成聚合性化合物亦佳,其具體例可列舉例如日 本專利特公昭48-4 1 708號公報中所記載之於1分子中含有 2個以上聚合性乙烯基之乙烯胺基甲酸酯化合物等,其係 於1分子中具有2個以上異氰酸酯基之聚異氰酸酯化合物 中加成有下述通式(A)所表示之含有羥基之乙烯單體者。 CH2 = C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A) (其中,通式(A)中,R4及R5分別表示Η或CH3) 此外,日本專利特開昭5 1 -3 7 1 93號公報、日本專利特 公平2-32293號公報、日本專利特公平2-16765號公報所 記載之丙烯酸胺基甲酸酯類、或日本專利特公昭58-49860 號公報、日本專利特公昭5 6 - 1 7 6 5 4號公報、日本專利特公 昭62-39417號公報 '日本專利特公昭62-39418號公報所 記載之具有環氧乙烷系骨架之胺基甲酸酯化合物類亦佳。 另外,日本專利特開昭63 -277653號公報、日本專利特開 昭63-260909號公報、日本專利特開平1-105238號公報記 載,藉由使用於分子内具有胺基構造或硫醚構造之加成聚 合性化合物類,可獲得感光速度相當優異之光聚合性組成 物。 -46- 201127812 在其他之例方面,可列舉、日本專利特開昭48-64 1 83 號公報 '曰本專利特公昭49-43 1 9 1號公報、日本專利特公 昭52-30490號公報之各公報所記載之聚酯丙烯酸酯類、以 及環氧樹脂與(甲基)丙烯酸反應而成之環氧丙烯酸酯類等 多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。此外,亦可列舉日本專 利特公昭46-43946號公報、日本專利特公平1 -403 3 7號公 報、日本專利特公平1 -403 3 6號公報所記載之特定不飽和 化合物、或日本專利特開平2-25493號公報所記載之乙烯 膦酸系化合物等。又,某些情況可較佳使用日本專利特開 昭61-22048號公報所記載之含有全氟烷基之構造。此外, 亦可使用曰本接著協會誌v〇l.20,No.7,300〜308頁(1984 年)所介紹作爲光硬化性單體及寡聚物者。 該等加成聚合性化合物,關於其構造、單獨使用或倂 用、添加量等使用方法的詳細內容,可配合光聚合性組成 物最終的性能設計予以隨意設定。例如從以下觀點加以選 擇。 以靈敏度的觀點而言,以每1分子之不飽和基含量較 多的構造較佳,而在許多情況下更佳爲2官能以上。此外, 爲了提升硬化膜的強度,較佳爲3官能以上者,倂用不同 官能數•不同聚合性基(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯 '苯 乙烯系化合物、乙烯醚系化合物)者來調節靈敏度與強度兩 者之方法亦有效。 -47- 201127812 此外’對於其與光聚合性組成物所含有之其他成分(例 如光聚合起始劑、著色劑(顔料、染料)等、黏合劑聚合物 等)之間的相溶性、分散性而言,加成聚合性化合物的選 擇·使用方法爲相當重要的因素,例如有時可藉由使用低 純度化合物、或倂用2種以上來提升相溶性。此外,爲了 達成提升其與支持體等硬質表面之間的密合性有時亦可選 擇特定的構造。 光聚合性組成物(1)中聚合性化合物的含量,相對於該 組成物總固體成分較佳爲1〜90質量%,更佳爲2〜70質 量%,最佳爲3〜50質量%。 聚合性化合物可單獨使用1種,亦可倂用2種以上。 〔(l)-(C)著色劑〕 光聚合性組成物(1)可含有(C)著色劑。藉由含有著色 劑,可獲得所需顏色之著色光聚合性組成物。 其中’光聚合性組成物(1)因含有對於短波長光源 (3 65nm或4 05nm之光源)具有優異靈敏度之本發明之(A)聚 合起始劑之特定肟化合物,故即使含高濃度的著色劑時亦 可高靈敏度地硬化。 光聚合性組成物(1)中所用之著色劑並無特別限定,可 使用以往公知之各種染料或顏料1種或混合使用2種以 上,該等係視光聚合性組成物的用途加以適當選擇。當本 發明之光聚合性組成物用於製造彩色濾光片時,可使用形 成彩色濾光片之色像素之R、G、B等彩色系著色劑(彩色 -48- 201127812 著色劑)、以及一般用於形成黑矩陣用之黑色系著色劑(黑 色著色劑)。 含有上述(A)特定肟化合物之本發明之光聚合性組成 物因即使曝光量少亦可高靈敏度地硬化,故特別適用於具 有光難以穿透之黑色著色劑之光聚合性組成物中。 以下’針對可適用於光聚合性組成物(1)之著色劑,將 彩色濾光片用途中較佳之著色劑舉例進行詳細說明。 彩色系顏料可使用以往公知之各種無機顏料或有機顏 料。此外,不論無機顏料或有機顏料,若以高穿透率爲佳 的方式考量,則儘可能使用較細小者較佳;而若再考慮到 操作性,則上述顏料的平均粒徑較佳爲0.01# m〜0.lv m, 更佳爲 O.Ol/zm 〜0.05;am。 無機顏料可列舉以金屬氧化物、金屬錯鹽等所表示之 金屬化合物,具體而言可列舉··鐵、鈷、鋁、鎘、鉛、銅、 鈦、鎂、鉻、鋅、銻等金屬氧化物、及上述金屬之複合氧 化物。 本發明中可較佳使用之顏料可列舉以下者。但本發明 並未限定於該等。 C.I.Pigment Yellow 1 ' 2、3、4、5、6、10、11、12、 13、14' 15、16、17、18、20、24、31、32、34' 35、35:1、 36、 36:1、 37、 37:1、 40、 42、 43、 53、 55、 60、 61、 62、 63、 65、 73、 74、 77、 81、 83、 86、 93、 94、 95、 97、 98、 100、 101、 104、 106、 108、 109、 110' 113' 114、 115、 -49- 201127812 116、 117、 118、 119、 120 、123、 125 、126、 129 、 137 、 138 ' 139 ' 1 47 、148 > 150 、151、 154' 155、 156、 161、 1 62 >164' 166 、167、 170、 171、 172 ' 173、 1 74 、175、 176 、177、 181、 182、 185' 187、 188、 193、 194、 1 99 ' 2 C.I.Pigment Orange :2 ' 5、1 3、 16、 17:1、 38、 43 、 46 、48 > ‘ 49、5 1 ' 52、5 5 、59 、6 0、( 71 、 73 ; C.I.Pigment Red 1 、2 、3、4、 5 ' 6 ' 7 ' 17' 22 ' 23 '31 、38 ' 41 ' 48:1、 48:2 、48:3 49:1' 49:2 ' 52:1' 52:2 ' 53:1、 5 7:1 ^ 60:1 、 67、8 1:1、{ U :2、 8 1:3、 83 ' 88 ' 90 、105、 112 123 ' 144 、 146、 149 ' 150 、155、 166 、168、 171' 172、 175、 176、 177 、178、 1 79 、184、 188、 190 、 200、 202 ' 206 ' 207、 208 、209、 220 、 224 、 226 ' 242 ' 246 、254、 255 、264、 279 ; C,I. Pigment Green L 7 ' 10 ' 36 1 ' 3 7、58 ; C.I.Pigment Violet 1 ' 19、23 、27 、 32 、 C.I.Pigment Blue 1 、2 ' 15、1 : 5:1、 15:2、 15:6' 16n 22 ' 60 ' 64 、66 ' 79 、 80 ; C.I.Pigment Black 1 〇 127 、 128 、 152 、 153 ' 168 、 169 、 179 、 180 、 1 3、2 1 4 等; 3 1> 34 ' 3 6' 51、 62 、 64 、 9 、 10、 14、 、48:4、 49、 63:1、 66 、 、119、 122、 169、 170、 185、 187、 210 ' 216、 270 、 272 ' 37 ' 42 ; 15:3' 15:4' -50- 201127812 該等有機顏料可單獨使用或組合各種使用以提升色純 度。 此外,黑矩陣用顏料可單獨或混合使用碳、黑鈦、氧 化鐵、氧化鈦,較佳爲碳與黑鈦之組合。此外’碳與黑鈦 之質量比以分散安定性的觀點而言較佳爲位於100:0〜 1 00 : 60之範圍。 以下針對黑鈦分散物進行詳細說明。 所謂黑鈦分散物,意指含有黑鈦而作爲色材之分散物。 藉由將黑鈦以預先調製好之黑鈦分散物的形式而包含 於光聚合性組成物中,可提升黑鈦的分散性、分散安定性。 以下針對黑鈦進行說明。 -黑鈦- 所謂黑鈦’意指具有鈦原子之黑色粒子。較佳爲氧較 少之氧化鈦或氮氧化鈦等。黑鈦粒子爲了達成提升分散 性'抑制凝集性等目的視需要可進行表面修飾。可利用氧 化破、氧化鈦、氧化鎵、氧化鋁、氧化鎂、氧化鉻進行被 覆’此外亦可利用揭不於日本專利特開2007-302836號公 報之撥水性物質進行處理。 、著色性 nm ’最佳 黑鈦粒子之粒徑並無特別限制,但以分散性 的觀點而言較佳爲3〜200〇nm,更佳爲1〇〜5〇〇 爲 20〜200nm〇 黑欽之比表面積並無特別限定,但爲了使該黑駄經撥 水化劑進行表面處理後之撥水性具有既定的性能,其以 201127812 BET法所測定之値通常較佳爲5〜150m2/g左右,特佳爲20 〜100m2/g左右。 黑鈦之市售品之例可列舉例如Mitsubishi Material公 司製黑鈦 10S、12S、13R、13M、13M-C、13R、13R_N、 赤穗化成(股)Tilack D等,但本發明並無限定於該等。 光聚合性組成物(1)中當著色劑爲染料時,可獲得均勻 溶解於組成物中之狀態之著色組成物。 可作爲光聚合性組成物(1)所含有之著色劑而使用之 染料並無特別限制,可使用以往彩色濾光片用公知的染 料。例如可使用:吡唑偶氮系、苯胺偶氮系、三苯甲烷系、 恵醌系、惠批陡酮系、苯亞甲基系、氧雜菁(oxon〇l)系、哇 并三唑偶氮系、吡酮偶氮系、花青系、啡噻阱系、吡咯耻 哩次甲基偶氮系、卩山嗖(xanthene)系、酞青素 (phthalocyanine)系、苯并嚒喃系、館青系等染料。 此外’進行·水或鹼性顯影時,以藉由顯影而將光未照 射部分之黏合劑及/或染料完全去除之觀點而言,有時可較 佳使用酸性染料及/或其衍生物。 此外亦可有效使用其他之直接染料、鹼性染料、媒染 染料、酸性媒染染料、偶氮染料、分散染料、油溶染料、 食品染料、及/或該等之衍生物等。 以下列舉酸性染料之具體例,但並無限定於該等。例 如可列舉: -52- 201127812 acid ali z ari n viol et N ;a c i d b 1 a c k 1, 2, 24 ,48 ;acid blue 1,7 ,9,1 5,1 8 ,23 ,25 ,27, 29 40 〜4 5 ,6 2 ,70, 74, 80, 83,86 ,87, 90, 92, 103, 11 2, 1 1 3, 120, 129 > 13 8 ,147 ,1 58, 17 1, 182 ,192 ,243 , 324: 1 ;a c i d c h ro m e violet K ; ;acid Fuchsi n a c i d green 1, 3 ,5 ,9 ,16 ,25, 27, 50 ; acid or ange 6,7 ,8, 10, 12 9 50, 5 1 ,5 2 ,56, 63, 74, 9 5; a c i d r e d 1,4 _,8, ,14, 17 > 18, 26 ,27 ,29, 3 1, 34, 35 - 37 ,4 2 . 1 4 4> 50 > 51, 52 > 57 > 66 ,73 ,80, 87, 88,丨 91,92 ,94, 97, 103 > 111 ,1 1 4 ,1 29, 13 3, 134, 13 8 ,143 ί > 145 ,150 ,15 1,1 58, 176 ) 18 3 ,1 98, 2 11, 2 15 •216 >217, 249, 252, 25 7 ,260 ,266 ,2 74 ; acid violet 6Β, 7,9 ,1 7, 1 9 ; a c i d y e 11 o w 1, 3, 7 ,9, 11 ,17 ,23, 25 > 29, 34,3 6 ,42, 54, 72, 73, 7 6, ,79, 98, 99 , 111, 112,114,116,184,243 ; Food Yellow 3 ;及該等染料之 衍生物。 此外,上述以外之偶氮系、卩III Π星系、酞青素系之酸性 染料亦佳,亦可較佳使用 C.I .Solvent Blue 44、38; C. I .Solvent Orange 45 ; Rhodamine B、Rhodamine 110 等酸 性染料及該等染料之衍生物。 其中,著色劑較佳爲選自:三烯丙基甲烷系、蒽醌系、 次甲基偶氮系、苯亞甲基系、氧雜菁系、花青系、啡噻阱 系、吡咯吡唑次甲基偶氮系、妯嘎系、酞青素系、苯并哌 喃系、靛青系、吡唑偶氮系、苯胺偶氮系、唑并三唑偶氮 -53- 201127812 系、啦酮偶氮系、蒽啦陡酮系、亞甲基啦略(pyrromethene) 系之著色劑。 光聚合性組成物(1)中可使用之著色劑較佳爲染料或 顏料。其中又以滿足平均粒徑(r)爲20nmSrS300nm,較佳 爲 125nm$rS 250nm,特佳爲 30nm$rS 200nm 之顏料爲 宜。藉由使用上述平均粒徑之顔料可獲得高對比且高光線 穿透率之像素。此處所謂「平均粒徑」,意指集合有顏料 一次粒子(單微結晶)之二次粒子之平均粒徑。 此外,本發明中可使用之顏料之二次粒子的粒徑分布 (以下僅稱「粒徑分布」),以落入(平均粒徑±l〇〇)nm之二 次粒子佔全體之70質量%以上,較佳爲80質量%以上爲 宜。 具有上述平均粒徑及粒徑分布之顏料可藉由如下方法 調製:將市售之顏料與視情況所使用之其他顏料(平均粒徑 通常超過3 00nm),較佳爲混合有分散劑及溶劑之顏料混合 液,利用例如珠磨機、輥磨機等粉碎機一邊粉碎一邊混合 分散。該方法所製得之顏料通常爲顏料分散液之形態》 光聚合性組成物(1)所含有之著色劑的含量,於光聚合 性組成物總固體成分中較佳爲20質量%〜95質量%,更 佳爲25質量%〜90質量%,最佳爲30質量%〜80質量%。 藉由使著色劑的含量位於上述範圍,於利用光聚合性 組成物(1)製作彩色濾光片時可獲得適當的色度。此外,由 於光硬化可充分進行、且可維持膜的強度,故可防止鹼性 顯影時顯影寬容度變窄。 -54- 201127812 換言之,本發明之聚合起始劑之(A)特定肟化合物因其 光吸收效率高,故即使於光聚合性組成物中含有高濃度著 色劑’亦可高靈敏度地進行聚合、硬化,與使用其他聚合 起始劑之情況相比,可顯著發揮靈敏度提升之效果。 〔(l)-(D)顏料分散劑〕 當光聚合性組成物(1)含有黑鈦或有機顏料等顏料作 爲(C)著色劑時,以提升該顏料之分散性的觀點而言,較佳 爲進而添加(D)顏料分散劑。 本發明可用之顏料分散劑,可列舉:高分子分散劑[例 如聚醯胺-胺(polyamidoamine)及其鹽、聚羧酸及其鹽、高 分子量不飽和酸酯、改質聚胺基甲酸酯、改質聚酯、改質 聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚重物、萘磺酸甲醛 縮合物]、及聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基胺、烷醇 胺、顏料衍生物等。 局分子分政劑由其構造可進一步分類成直鍵狀局分 子、末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。 高分子分散劑作用在於吸附顏料的表面,防止再凝 集。因此’可列舉對顏料表面具有可穩固連接之部位之末 端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子作爲較佳 構造。 另一方面’因顏料衍生物會修飾顏料表面,故具有促 進高分子分散劑吸附的效果。 -55- 201127812 本發明可用之顏料分散劑之具體例,可列舉:BYK Chemie公司製「Disperbyk-101(聚醯胺-胺隣酸鹽)、1〇7(竣 酸酯)、11〇(含酸基之共聚物)' 130(聚醯胺)、161、162、 163、164、165、166、170(高分子共聚合物)」、「BYK-P104、 P105(高分子量不飽和聚羧酸)' EFKA公司製「EFKA4047、 4050〜4010〜4165(聚胺基甲酸酯系)、EFKA4330〜4340(嵌 段共聚物)、4400〜4402(改質聚丙烯酸酯)、5010(聚酯醢 胺)、5765(高分子量聚羧酸鹽)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞 青素衍生物)、6750(偶氮顏料衍生物)」、Ajinomoto Fine-Techno 公司製「AJISPER PB821、PB822」、共榮社 化學公司製「FLOWLEN TG-710(胺基甲酸酯寡聚物)」、 「POLYFOLW N〇.50E、No.3 00(丙稀酸系共聚物)」、楠本 化成公司製「DISPARLON KS-860、873SN、874、# 2150(脂 肪族多元羧酸)、# 7004(聚醚酯)、DA-703-50、DA-705、 DA-725」、花王公司製「DEMOL RN、N(萘磺酸甲醛聚縮 合物)、MS、C、SN-B(芳香族磺酸甲醛聚縮合物)」、 「HOMOGENOL L-18(高分子聚羧酸)」、「EMULGEN 92 0 ' 930 ' 93 5、9 8 5 (聚氧乙烯壬苯醚)」、「ACETAMIN 86(硬 脂酸胺乙酸酯)」、Japan Lubrizol公司製「SOLSPERSE 5000(酞青素衍生物)、22000(偶氮顏料衍生物)、1 3240(聚 酯胺)、3000、17000、27 00 0 (末端部具有機能部之高分子)、 24000、28000、32000、38500(接枝型高分子)」、Nikko Chemicals公司製「NIKKOL T106(聚氧乙烯去水山梨醇單 -56- 201127812 油酸酯)、MYS-IEX(聚氧乙烯單硬脂酸酯)」等。此外,亦 可列舉 Kawaken Fine Chemicals(股)製 HINOACT T-8000E 等兩性分散劑。 該等顏料分散劑可單獨使用,亦可組合使用2種以 上。本發明中特別以倂用顏料衍生物與高分子分散劑較佳。 光聚合性組成物(1)中之(D)顏料分散劑的含量,相對 於(C)著色劑之顏料100質量份較佳爲1〜質量份,更佳 爲5〜70質量份,最佳爲10〜60質量份。 具體而言’當使用高分子分散劑時,其使用量相對於 顏料100質量份’以質量換算較佳爲5〜100份之範圍,更 佳爲10〜80份之範圍。 此外’當倂用顏料衍生物時,顏料衍生物的使用量相 對於顏料100質量份,以質量換算較佳爲位於丨~ 30份之 範圍’更佳爲位於3〜20份之範圍,最佳爲位於5〜15份 之範圍。 光聚合性組成物(1)中,當使用顏料作爲(C)著色劑,並 進而使用(D)顏料分散劑時,以硬化靈敏度、色濃度的觀點 而言,著色劑及分散劑的含量的總和相對於構成光聚合性 組成物總固體成分較佳爲30質量%以上90質量%以下, 更佳爲40質量%以上85質量%以下,最佳爲50質量%以 上8 0質量%以下。 光聚合性組成物(1)在不損及本發明之效果之範圍視 需要亦可進而含有以下所詳述之任意成分。 -57- 201127812 以下針對光聚合性組成物(1)可含有之任意成分進行 說明。 〔(1)-增感劑〕 光聚合性組成物(1)爲了達成提升自由基起始劑之自 由基產生效率,使感光波長長波長化之目的,亦可含有增 感劑。 本發明可用之增感劑’對於上述之(A)特定肟化合物而 言較佳爲利用電子轉移機制或能量轉移機制的方式增感 者。 光聚合性組成物(1)中可用之增感劑可列舉屬於下列 之化合物之類型,且具有吸收3 00nm〜450nm之波長區域 之波長者。 亦即’例如可列舉:多核芳香族類(例如菲、蒽、芘、 茈、伸三苯、9,10 -二烷氧基蒽)、吔唱類(例如螢光素 (flourescein)、曙紅(eosin)、紅黴素(erythrosine)、若丹明 B(rhodamine B)、玫瑰紅(rose bengal))、氧硫卩山卩星類(異丙 基氧硫灿唱、二乙基氧硫灿哩、氯氧硫Dill嗤)、花青類(例 如硫碳菁(thiacarbocyanine)、氧碳菁(oxacarbocyanine))、 部花青素類(例如部花青素(merocyanine)、碳部花青素 (carbomerocyanine))、酞青素類、噻畊類(例如硫寧 (thionine)、亞甲藍(methylene blue) ' 甲苯胺藍(toluidine blue))、吖啶類(例如吖啶橙、氯黃素(flavin)、吖啶黃素 (acriflavine))、蒽醒類(例如蒽醒(anthraquinone))、方酸鑰 -58- 201127812 類(例如方酸鑰(squarylium))、if陡橙、香豆素類(例如7· 二乙胺-4-甲基香豆素)、酮香豆素、啡噻阱類、啡阱類、苯 乙烯苯類、偶氮化合物、二苯甲烷、三苯甲烷、二苯乙烯 苯類、咔唑類、卟啉、螺化合物、喹吖酮、靛青、苯乙烯、 吡喃鑰化合物、吡略甲烷化合物、唑并三唑化合物、苯并 噻唑化合物、巴比妥酸衍生物、硫巴比妥酸衍生物、苯乙 酮、二苯基酮、氧硫讪0星、米其勒酮等芳香族酮化合物、 N-芳香基噚唑烷酮等雜環化合物等。 光聚合性組成物(1)中之增感劑的含量,以對於深部之 光吸收效率與起始分解效率的觀點而言,由固體成分換算 較佳爲0.1質量%〜20質量%,更佳爲0.5質量%〜15質 量%。 增感劑可單獨使用1種,亦可併用2種以上。 〔(1)-共增感劑〕 光聚合性組成物(1)進而含有共增感劑亦佳。 本發明之共增感劑具有使(A)特定肟化合物或上述增 感劑對於活性放射線進一步提升靈敏度、或抑制氧所造成 之(B)聚合性化合物的聚合阻礙等作用。 上述共增感劑之例可列舉胺類,例如M.R.Sander等著 「Journal ofPolymer Society」第 10 卷 3173 頁(1972)、日 本專利特公昭44-20189號公報、曰本專利特開昭51-82102 號公報、日本專利特開昭52- 1 3 46 92號公報、日本專利特 開昭5 9- 1 3 8 2 0 5號公報、日本專利特開昭60 · 8 43 0 5號公 -59- 201127812 報、日本專利特開昭6 2 - 1 8 5 3 7號公報、日本專利特開昭 64-33104 號公報、Research Disclosure 33825 號所記載之 化合物等’具體而言可列舉三乙醇胺、對二甲胺安息香酸 乙酯、對甲醯二甲苯胺、對甲硫基二甲苯胺等。 共增感劑之其他例可列舉例如硫醇及硫醚類,例如可 列舉日本專利特開昭53_7〇2號公報、日本專利特公昭 55-500806號公報、日本專利特開平5_142772號公報所記 載之硫醇化合物,日本專利特開昭56-75643號公報之二硫 醚化合物等’具體而言可列舉2-毓基苯并噻唑、2-锍基苯 并噚唑、2-巯基苯并咪唑、2-锍基-4(3H)-喹唑咐、-巯基 萘等。 此外,共增感劑之其他例可列舉胺基酸化合物(例如 N-苯甘胺酸等)、日本專利特公昭48-42965號公報所記載 之有機金屬化合物(例如三丁錫乙酸酯等)、日本專利特公 昭 55-34414號公報所記載之氫予體、日本專利特開平 6-3 0 8 727號公報所記載之硫化合物(例如三噻卩il]等)等。 該等共增感劑的含量,以提升隨著聚合成長速度與鏈 轉移間的平衡而定之硬化速度的觀點而言,相對於光聚合 性組成物(1)總固體成分之質量較佳爲0.1質量%〜30質量 %之範圍,更佳爲1質量%〜25質量%之,最佳爲0.5質 量%〜20質量%之範圍。 此外,光聚合性組成物(1)之共增感劑中較佳爲含有硫 醇化合物。 -60- 201127812 光聚合性組成物(1)中所適用之硫醇化合物,更佳爲下 述通式(VI)或通式(W)所表示者》
通式(VI)中,R29表示芳香基,X1表示氫原子、鹵素原 子、院氧基、院基、或芳香基。 通式(VD)中’ R3Q表示烷基或芳香基,χΐ與通式(VI) 之X1同義。 當光聚合性組成物(1)含有硫醇化合物時,其含量由以 提升隨著聚合成長速度與鏈轉移之平衡而定之硬化速度的 觀點而言’相對於光聚合性組成物總固體成分之質量較佳 爲位於0.5質量%〜30質量%之範圍,更佳爲位於1質量 %〜25質量%之範圍’最佳爲位於3質量%〜2〇質量%之 範圍。 〔(1)-黏合劑聚合物〕 光聚合性組成物(1)中,爲了達成提升皮膜特性等目 的,視需要可進一步使用黏合劑聚合物。黏合劑以使用線 狀有機聚合物較佳。上述「線狀有機聚合物」可隨意使用 公知者。爲了可進行水顯影或弱鹼性水顯影,較佳爲選擇 對於水或弱鹼性水具有可溶性或膨潤性之線狀有機聚合 物。線狀有機聚合物不僅作爲皮膜形成劑,亦可視其作爲 水 '弱鹼性水或有機溶劑之顯影劑之用途加以選用。例如 201127812 若使用水可溶性有機聚合物時則可進行水顯影。上述線狀 有機聚合物可列舉於側鏈具有羧酸基之自由基聚合物,例 如日本專利特開昭59-4461 5號公報、日本專利特公昭 54-34327號公報、日本專利特公昭58-12577號公報、日本 專利特公昭54-25957號公報、日本專利特開昭54-92723 號公報、日本專利特開昭59-53 8 3 6號公報、日本專利特開 昭59-7 1 048號公報所記載者,換言之爲··具有羧基之單體 經單獨或共聚合而成之樹脂、具有酸酐之單體經單獨或共 聚合,且酸酐單位經水解或半酯化或半醯胺化而成之樹 脂、環氧樹脂經不飽和單羧酸及酸酐改質而成之環氧丙烯 酸酯等。具有羧基之單體可列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、伊 康酸、巴豆酸、馬來酸、富馬酸、4-羧苯乙烯等,具有酸 酐之單體可列舉馬來酸酐等。 此外可列舉同樣於側鏈具有羧酸基之酸性纖維素衍生 物。其他亦可適用於具有羥基之聚合物上加成有環狀酸酐 者等。 此外可列舉同樣於側鏈具有羧酸基之酸性纖維素衍生 物。其他亦可適用於具有羥基之聚合物上加成有環狀酸酐 者等。 該等各種鹼性可溶性黏合劑之中,以耐熱性的觀點而 言較佳爲聚羥苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、丙烯酸系 樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯酸醯胺共聚物樹脂, 而以控制顯影性的觀點而言,較佳爲丙烯酸系樹脂、丙烯 醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂。 -62- 201127812 上述丙烯酸系樹脂,較佳爲選自(甲基)丙烯酸苄酯、(甲 基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯醯胺等單體 所構成之共聚物,或市售品之DIANALNR系列(Mitsubishi Rayon 股份有限公司製)、viSCOAT R-264、KS RESIST 1〇6(皆爲大阪有機化學工業股份有限公司製)、cyc LMERP 系列、PLACCEL CF200 系列(皆爲 Daicel Chemical Industries 股份有限公司製)、Ebecry 13800(Daicel-UCB 股 份有限公司製)等。 光聚合性組成物(1)中可用之黏合劑聚合物之重量平 均分子量較佳爲5,000以上,更佳爲1萬〜30萬之範圍; 數量平均分子量較佳爲L000以上,更佳爲2,〇〇〇〜25萬之 範圍。多分散度(重量平均分子量/數量平均分子量)較佳爲 1以上,更佳爲1.1〜10之範圍。 該等黏合劑聚合物可爲無規聚合物、嵌段聚合物、接 枝聚合物等。 黏合劑聚合物的含量,於光聚合性組成物(1)總固體成 分中較佳爲1〜50質量%,更佳爲1〜30質量%,最佳爲 1〜20質量%。 〔(1)-聚合抑制劑〕 光聚合性組成物(1)中,於光聚合性組成物的製造中或 保存中爲了防止(B)聚合性化合物之不必要之熱聚合,較佳 爲添加少量熱聚合防止劑。 熱聚合防止劑的添加量,相對於光聚合性組成物(丨)總 固體成分較佳爲約0.01質量%〜約5質量%。 -63- 201127812 〔(υ-密合促進劑〕 光聚合性組成物(1)中,爲了提升形成之硬化膜與 持體等硬質表面之間的密合性,可添加密合促進劑。 促進劑可列舉矽烷系偶合劑、鈦偶合劑等^ 該等之例中r -甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧矽烷 甲基丙稀酿氧基丙基三乙氧砂院、r-丙稀醯氧基丙基 氧矽烷、r-丙烯醯氧基丙基三乙氧矽烷、r-锍基丙 甲氧矽烷、r-胺丙基三乙氧矽烷、苯基三甲氧矽烷 佳,可列舉甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧矽烷。 密合促進劑的添加量,於光聚合性組成物(1)總固 分中較佳爲0.5質量%〜30質量%,更佳爲0.7質量 20質量%。 〔(υ-溶劑〕 光聚合性組成物(1)亦可使用各種有機溶劑。 此處所使用之有機溶劑可例舉:丙酮、甲基乙基 環己烷、乙酸乙酯、二氯乙烷、四氫呋喃.、甲苯、乙 單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇二甲醚、丙二醇單甲 丙二醇單乙醚、乙醯丙酮、環己酮、二丙酮醇、乙二 甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇單異丙醚、 醇單丁醚乙酸酯、3-甲氧丙醇、甲氧甲氧乙醇、二乙 單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二 乙醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、 氧丙基乙酸酯、Ν,Ν-二甲基甲醯胺、二甲基亞楓、r-酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。 其支 密合 ' 7 - 三甲 基三 爲較 體成 酮、 二醇 醚、 醇單 乙二 二醇 醇二 3-甲 丁內 -64- 201127812 該等溶劑可單獨或混合使用。 本發明之光聚合性組成物相對於有機溶劑,其固體成 分濃度較佳爲2質量%〜60質量%。 〔(1)-界面活性劑〕 光聚合性組成物(1)以進一步提升塗佈性的觀點而言 亦可添加各種界面活性劑。界面活性劑可使用氟系界面活 性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離 子系界面活性劑、聚矽氧系界面活性劑等各種界面活性劑。 特別是藉由含有氟系界面活性劑可進一步提升塗佈液 在調製時之液體特性(特別是流動性),故可更加改善塗佈 厚度的均勻性與省液性。 亦即,當使用採用了含氟系界面活性劑之光聚合性組 成物(1)之塗佈液來形成膜時,藉由降’低被塗佈面與塗佈液 之間的表面張力,而被塗佈面的濕潤性獲得改善’並提升 了被塗佈面的塗佈性。因此,即使於以少量的液量來形成 數V m左右之薄膜時亦可順利形成厚度不均較小之均勻厚 度的膜,此方面相當有效。 氟系界面活性劑中之氟含有率較隹爲3質量%〜4〇質 量% ’更佳爲5質量%〜30質量%,最佳爲7質量%~25 質量%。氟含有率位於該範圍内之氟系界面活性劑在塗佈 膜厚度的均勻性與省液性方面相當有效,於光聚合性組成 物(1 )中之溶解性亦良好。 -6 5- 201127812 氟系界面活性劑可列舉例如:Megafac F171、F172、 F173' F176、 F177、 F141、 F142、 F143、 F144、 R30、 F437、 F475、F479、F482、F554、F780、F781(以上爲 DIC(股)製); Fluor.ad FC430、FC431、FC171(以上爲住友 3M (股)製); SURFLON S-3 8 2、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、 SC1068、SC-381、SC-383、S393、KH-40(以上爲旭硝子(股) 製);SOLSPERSE 20000(Japan Lubrizol(股)製)等。 非離子系界面活性劑具體而言可列舉:甘油、三羥甲 基丙烷、三羥甲基乙烷及該等之乙氧基化物及丙氧基化物 (例如甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月 桂醚、聚氧乙烯硬脂醚、聚氧乙烯油醚、聚氧乙烯辛基苯 醚、聚氧乙烯壬基苯醚、聚乙二醇二月桂酯、聚乙二醇二 硬脂酸酯、去水山梨醇脂肪酸酯(BASF公司製Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、Tetronic 304、 701 ' 704、 901、 904、 150R1)等 。 陽離子系界面活性劑具體而言可列舉:酞青衍生物(商 品名:EFKA-745,森下產業(股)製)、有機矽氧烷聚合物 KP341(信越化學工業(股)製)、(甲基)丙烯酸系(共)聚合物 POLYFOLW No.75、No.90、No.95(共榮社化學(股)製)、 wool(裕商(股)製)等。 陰離子系界面活性劑具體而言可列舉:W004、W005、 W〇17(裕商(股)公司製)等。 -66- 201127812
聚砂氧系界面活性劑可列舉例如:Dow Corning Toray(股)製「TORAY SILICONE DC3PA」、「TORAY SILICONE SH7PA」、「TORAY SILICONE DC11PA」、「TORAY SILICONE SH21PA」' 「TORAY SILICONE SH28PA」、 r TORAY SILICONE SH29PA」' 「TORAY SILICONE SH30PA」、「TORAY SILICONE SH 8 400」、Momentive Performance Materials 公司製「TSF-4440」、「TSF-4300」、 「TSF-4445」、「TSF-4460」、「TSF-4452」、Shin-Etsu Silicone 股份有限公司製「KP341」、「KF6001」、「KF6002」、 BYK 公司製「BYK307」、「BYK323」、「BYK330」等。 界面活性劑可僅使用1種,亦可組合使用2種類以上。 界面活性劑的添加量,相對於光聚合性組成物(1)全質 量較佳爲0.001質量%〜2.0質量%,更佳爲0.005質量% 〜1 .0質量%。 〔(1)_其他添加劑〕 此外,對於光聚合性組成物(1)亦可添加用以改良硬化 皮膜物性之無機塡充劑、可塑劑、感脂化劑(sensitizer)等 公知添加劑。 可塑劑可列舉例如:鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸 二-十二烷酯、三乙二醇二辛酸酯、鄰苯二甲酸二(2-甲氧乙 基)酯、磷酸三甲苯酚酯、己二酸二辛酯、癸二酸二丁酯、 三乙酸甘油酯等,當使用結合劑時,可添加相對於聚合性 化合物與黏合劑聚合物之合計質量之10質量%以下。 -6 7- 201127812 -光聚合性組成物(2)-〔感光性平版印刷版原版用光聚 合性組成物〕 本發明之光聚合性組成物藉由圖案狀之曝光使曝光區 域高靈敏度地硬化而形成穩固的被膜,故可有效用於形成 平版印刷版原版之感光層。 以下針對當本發明之光聚合性組成物適用於平版印刷 版原版之感光層時之較佳態樣進行敘述。 〔(2)-(A)特定肟化合物〕 光聚合性組成物(2)所含有之特定肟化合物,於組成物 中可扮演聚合起始劑的作用。本態樣中之(A)特定肟化合物 係如上所述。 光聚合性組成物(2)之(A)特定肟化合物的含量,相對 於該組成物總固體成分較佳爲0.5質量%〜40質量%,更 佳爲1質量%〜35質量%,最佳爲1.5質量%〜30質量%。 特定肟化合物可單獨使用1種,亦可倂用2種以上。 (其他聚合起始劑) 光聚合性組成物(2)在不損及本發明之效果之範圍亦 可倂用上述特定肟化合物以外之其他公知聚合起始劑。 其他聚合起始劑可列舉例如:(a)芳香族酮類、(b)芳香 族鹽化合物、(c)有機過氧化物、(d)硫化合物、(e)六芳基 聯咪唑化合物、(f)酮肟酯化合物、(g)硼酸鹽化合物、(h) 吖阱鹽(azinium)化合物、(i)金屬芳香類化合物、(j)活性酯 化合物、(k)具有碳鹵鍵結之化合物等。更具體而言可列舉 -68- 201127812 例如日本專利特開2006-7 8749號公報之段落編號[00 8 1 ]〜 [0139]等所記載之聚合起始劑。 〔(2)-(B)聚合性化合物〕 光聚合性組成物(2)所含有之(B)聚合性化合物可列舉 光聚合性組成物(1)中所述之加成聚合性化合物,其同樣爲 較佳者。 該等加成聚合性化合物,關於使用何種構造、單獨使 用或倂用' 添加量爲何等使用方法的詳細內容,可配合最 終材料的性能設計予以隨意設定。例如從以下觀點加以選 fes 擇0 以隨著曝光而定之硬化速度的觀點而言,以每1分子 之不飽和基含量較多的構造較佳,而在許多情況下更佳爲 2官能以上。此外’爲了提升影像部(亦即硬化膜)的強度, 較佳爲3官能以上者’進而亦可有效倂用不同官能數.不 同聚合性基(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯系化合 物、乙烯醚系化合物)者來調節感光性與強度兩者之方法。 分子量大的化合物或疏水性高的化合物雖其隨著曝光而定 之硬化速度與膜強度優異,但以顯影速度或顯影液中之析 出的觀點而言有時並不佳。 此外’對於其與感光層中其他成分(例如黏合劑聚合物、 起始劑、著色劑等)之間的相溶性、分散性而言,加成聚合 化合物的選擇.使用方法爲相當重要的因素,例如有時可 藉由使用低純度化合物、或倂用2種以上來提升相溶性。 -69- 201127812 此外,爲了提升支持體、外塗層等的密合性的目的有時亦 可選擇特定的構造。關於光聚合性組成物層中加成聚合性 化合物的配合比,越高雖對靈敏度有利,但若過高則可能 發生不良之相分離、或光聚合性組成物層之黏著性所造成 之製造步驟上的問題(例如光聚合性組成物成分的轉印、黏 著所導致之製造不良)、或造成其自顯影液中析出等問題。 由上述觀點來看,加成聚合性化合物的含量,相對於 光聚合性組成物(2)總固體成分較佳爲5質量%〜80質量 %,更佳爲25質量%〜75質量%。 此外,該等加成聚合性化合物可單獨使用亦可倂用2 種以上。除此之外,加成聚合性化合物的使用方法可依對 於氧之聚合阻礙的大小、解析度、塗佈性、折射率變化' 表面黏著性等觀點而隨意選擇適當的構造、配比、添加量, 進而視情況亦可實施底塗、表塗等層之構成.塗佈之方法。 〔(2)-黏合劑聚合物〕 光聚合性組成物(2)較佳爲含有黏合劑聚合物。黏合劑 聚合物係依提升皮膜特性的觀點而含有者,只要具有提升 皮膜特性之機能則可使用任意種。 黏合劑聚合物以含有線狀有機高分子聚合物較佳。上 述「線狀有機高分子聚合物」並無特別限定,可使用任意 者。較佳爲選擇可進行水顯影或弱鹼性水顯影,對於水或 弱鹼性水具有可溶性或膨潤性之線狀有機高分子聚合物。 -70- 201127812 線狀有機高分子聚合物不僅作爲光聚合性組成物的皮 膜形成劑,而且可視水、弱鹼性水或有機溶劑顯影劑之態 樣加以選用。例如若使用水可溶性有機高分子聚合物時則 可進行水顯影。上述線狀有機高分子聚合物可列舉於側鏈 具有羧酸基之加成聚合物,例如日本專利特開昭5 9-446 1 5 號 '日本專利特公昭54_34327號、曰本專利特公昭58-12577 號、曰本專利特公昭54-25957號、曰本專利特開昭54-92723 號、日本專利特開昭5 9 - 5 3 8 3 6號、日本專利特開昭5 9 - 7 1 0 4 8 號各公報所記載者,換言之爲:甲基丙烯酸共聚物、丙烯 酸共聚物、伊康酸共聚物、巴豆酸共聚物、馬來酸共聚物、 部分酯化馬來酸共聚物等。此外可列舉同樣於側鏈具有羧 酸基之酸性纖維素衍生物。其他亦可使用於具有羥基之加 成聚合物上加成有環狀酸酐者等》 該等黏合劑聚合物之中特別又以含有(甲基)丙烯酸苄 酯/(甲基)丙烯酸/視需要而含有其他加成聚合性乙烯單體 之共聚物、以及(甲基)丙烯酸烯丙酯/(甲基)丙烯酸/視需要 而含有其他加成聚合性乙烯單體之共聚物’在膜強度、靈 敏度、顯影性之平衡上優異,故較佳。 黏合劑聚合物可於光聚合性組成物(2)中以任意量進 行混和。以影像強度等觀點而言,相對於構成感光層之總 固體成分較佳爲30質量%〜85質量%之範圍。此外’上 述加成聚合性化合物與黏合劑聚合物其質量比較佳爲1/9 〜7 / 3之範圍。 -7 1- 201127812 此外,於較佳實施態樣中,黏合劑聚合物可使用實質 上不溶於水而可溶於鹼者。藉此,在顯影液方面可不使用 對環境不好之有機溶劑或將其限制在非常少的使用量。上 述使用方法中,黏合劑聚合物的酸價(每ig聚合物之酸含 有率以化學當量數表示者)與分子量係依影像強度與顯影 性的觀點而加以適當選擇。較佳之酸價爲 〇.4meq/g〜 3.0meq/g,較佳之分子量爲位於3,000〜50萬之範圍。更佳 之酸價爲0.6〜2.Omeq/g,更佳之分子量爲位於1萬至30 萬之範圍。 〔(2)-增感劑〕 光聚合性組成物(2)較佳爲除了含有(A)特定肟化合 物等聚合起始劑之外亦含有增感劑。本發明可用之增感劑 可列舉分光增感色素、吸收光源之光而與聚合起始劑相互 作用之染料或顏料等。 較佳之分光增感色素或染料,可列舉:多核芳香族類 (例如芘、茈、聯三伸苯)、咄喔類(例如螢光素、曙紅、紅 黴素、若丹明B、玫瑰紅)、花青類(例如硫碳菁、氧碳菁)、 部花青素類(例如部花青素、碳部花青素)、噻畊類(例如硫 寧、亞甲藍、甲苯胺藍)、吖啶類(例如吖啶橙、氯黃素、 吖啶黃素)、酞青類(例如酞青、金屬酞青)、卟啉類(例如四 苯卟啉、中心金屬取代卟啉)、葉綠素類(例如葉綠素、葉 綠酸、中心金屬取代葉綠素)、金屬錯合物、蒽醌類方酸鑰 類(例如方酸鑰)等。 -72- 201127812 更佳之分光增感色素或染料之例可列舉例如日本專利 特開2006-78749號公報段落編號[0144]〜[0202]等所記載 者。 此外,可適用於光聚合性組成物(2)之增感劑亦可列舉 光聚合性組成物(1)之說明中所述者。 增感劑可單獨使用亦可倂用2種以上。光聚合性組成 物(2)中之總聚合起始劑與與增感色素之莫耳比爲1〇〇:〇 〜1: 99,更佳爲90: 10〜10: 90,最佳爲80: 20〜20: 80。 〔(2)-共增感劑〕 光聚合性組成物(2)中亦可添加具有使靈敏度進一步 提升、或抑制氧所造成之聚合阻礙等作用之公知化合物來 作爲共增感劑。 共增感劑之例可列舉光聚合性組成物(1)之說明中所 述者。此外,除此之外亦可列舉日本專利特開平6-250387 號公報所記載之磷化合物(二乙基亞磷酸鹽等)等。 當使用共增感劑時,相對於光聚合性組成物(2)所含有 之聚合起始劑總量1質量份,以使用共增感劑〇.〇1質量份 〜50質量份爲宜。 〔(2)-聚合抑制劑〕 光聚合性組成物(2)中,於該組成物的製造中或保存中 爲了防止具有可聚合之乙烯性不飽和雙鍵之化合物不必要 之熱聚合,較佳爲添加少量熱聚合防止劑。 -73- 201127812 熱聚合防止劑的添加量,相對於總組成物之質 爲約0.01質量%〜約5質量%。此外亦可視需要添 酸或蘿酸醯胺之高級脂肪酸衍生物等來防止氧所造 合阻礙,並使其於塗佈後的乾燥過程中集中在感光 面。高級脂肪酸衍生物的添加量較佳爲佔總組成物 質量%〜約10質量%。 〔(2)-(C)著色劑〕 進而爲了達成感光層著色之目的,亦可添加染 料。藉此可提升作爲印刷版之製版後之視認性與影 測定機之適合性,亦即所謂之檢版性。因過多的染 光聚合系感光層的靈敏度降低,故以使用顏料作爲 特佳。具體例可列舉例如:酞青系顏料、偶氮系顏 黑、氧化鈦等顏料、乙基紫、結晶紫、偶氮系染料 系染料、花青系染料等染料。染料及顏料的添加量 佔總組成物約0.5質量%〜約5質量%。 〔(2)-其他添加劑〕 此外,爲了改良硬化皮膜的物性,亦可添加無 劑、其他可塑劑、可提升感光層表面之油墨吸附性 化劑等公知添加劑。 可塑劑可列舉例如:鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯 二-十二烷酯、三乙二醇二辛酸酯、鄰苯二甲酸二(2-基)酯、磷酸三甲苯酚酯、己二酸二辛酯、癸二酸二 三乙酸甘油酯等,當使用結合劑時,可添加相對於 量較佳 加如蘿 成之聚 層的表 約 0.5 料或顏 像濃度 料會使 著色劑 料、碳 、蒽醌 較佳爲 機塡充 之感脂 二甲酸 甲氧乙 丁酯、 具有乙 -74- 201127812 烯性不飽和雙鍵之化合物與結合劑之合計質量之10質量 %以下。 此外’爲了強化將後述之膜強度(耐刷性)提升作爲目 的之顯影後加熱.曝光的效果,亦可添加熱交聯劑等。 藉由於支持體上塗佈上述光聚合性組成物(2)而形成 感光層,可獲得本發明之平版印刷版原版。關於本發明之 平版印刷版原版係於之後說明。 [彩色濾光片及其製造方法] 接著針對本發明之彩色濾光片及其製造方法進行說 明。 本發明之彩色濾光片之特徵在於含有以下步驟:於支 持體上塗佈本發明之彩色濾光片用光聚合性組成物〔上述 光聚合性組成物(1)〕以形成光聚合性組成物層之步驟(以下 簡稱爲「光聚合性組成物層形成步驟」);將上述光聚合性 組成物層曝光成爲圖案狀之步驟(以下簡稱爲「曝光步 驟」);將曝光後之上述光聚合性組成物層進行顯影而形成 著色圖案之步驟(以下簡稱爲「顯影步驟」)。 以下針對本發明之彩色濾光片,透過其製造方法進行 詳細敘述。 具體而言,可於支持體(基板)上直接或隔著其他層塗 佈本發明之光聚合性組成物(1)而形成光聚合性組成物 層,然後透過既定的光罩圖案進行曝光,僅使受光照射之 塗佈膜部分硬化,再利用顯影液進行顯影’藉此形成由各 -75- 201127812 種色(3色或4色)之像素所構成之圖案狀皮膜,而製造出本 發明之彩色濾光片。 以下針對本發明之彩色濾光片之製造方法中之各步驟 進行說明。 〔光聚合性組成物層形成步驟〕 光聚合性組成物層形成步驟中,係於支持體上塗佈本 發明之光聚合性組成物(1)以形成由光聚合性組成物所構 成之層。 本步驟可用之支持體可列舉例如:用於液晶顯示裝置 等之無鹼玻璃、鈉玻璃、PYREX(註冊商標)玻璃、石英玻 璃、以及於該等上附著有透明導電膜者;或用於固態攝影 元件等之光電轉換元件基板,例如矽基板等、互補性金屬 氧化膜半導體(CMOS)等。該等基板有時亦形成有隔離各像 素之黑條紋。 • .· 此外,於該等支持體上亦可視需要而設置用以改良與 上部之層之密合性、防止物質的擴散、或使基板表面平坦 化之底塗層。 於支持體上塗佈本發明之彩色濾光片用光聚合性組成 物之方法,可適用狹縫塗佈、噴墨法、旋轉塗佈、流延塗 佈、輥塗佈、網版印刷法等各種塗佈方法。 光聚合性組成物之塗佈膜厚較佳爲〜10/zm, 更佳爲〇-2/zm〜5从m,最佳爲0.2//m〜3#m。 -76- 201127812 此外,製造固態攝影元件用之彩色濾光片時,光聚合 性組成物之塗佈膜厚以解析度與顯影性的觀點而言較佳爲 0.35以111〜1.5"1]1,更佳爲0〜40以111〜1.0(^111。 支持體上所塗佈之光聚合性組成物(1)通常係於7 0 °C 〜110 °C下、2分鐘〜4分鐘左右之條件下進行乾燥而形成 光聚合性組成物層。 〔曝光步驟〕 曝光步驟中,使上述光聚合性組成物層形成步驟中所 形成之光聚合性組成物層曝光成爲圖案狀之圖案曝光,通 常係進行透過光罩曝光,僅使受光照射之塗佈膜部分硬化 之方法,亦可利用掃描曝光進行圖案曝光》 曝光以藉由放射線進行照射較佳,曝光時可用之放射 線特別可較佳使用g線、h線、i線等紫外線,更佳爲高壓 水銀燈。照射強度較佳爲 5 m J / c m2〜1 5 0 0 m J / c m2,更佳爲 10mJ/cm2 〜1000mJ/cm2,最佳爲 10mJ/cm2 〜800mJ/cm2。 〔顯影步驟〕 曝光步驟之後係進行鹼性顯影處理(顯影步驟),使曝 光步驟中光未照射部分溶析於鹼性水溶液中。藉此僅使光 硬化之部分(著色圖案部分)殘留。 顯影液以不傷及基質的電路等之有機鹼性顯影液較
I 佳。顯影溫度通常爲20 °C〜30 °C,顯影時間爲20秒〜90 秒。 -77- 201127812 顯影液所用之鹼,可使用例如氨水、乙胺、二乙氨、 二甲基乙醇胺、氫氧化四甲銨、氫氧化四乙銨、膽鹼、吡 咯、哌啶、1,8 -二吖雙環-[5.4.0]-7-~1--烯等有機鹼性化合 物,其中濃度經純水稀釋成0.001質量%〜10質量%,較 佳爲0.0 1質量%〜1質量%之鹼性水溶液。 此外亦可使用無機顯影液,例如可使用氫氧化鈉、氫 氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、甲矽酸鈉等。 其中,當使用由上述鹼性水溶液所構成之顯影液時, 一般於顯影後係以純水進行洗淨(rinse)。 此外,本發明之彩色濾光片之製造方法中,於進行上 述之光聚合性組成物層形成步驟、曝光步驟、以及顯影步 驟之後亦可視需要而含有使形成之著色圖案藉由加熱及/ 或曝光而硬化之硬化步驟。 僅對所需之色度數反覆進行以上說明之光聚合性組成 物層形成步驟 '曝光步驟、以及顯影步驟(進而視需要之硬 化步驟),藉此製作出由所需之色度所構成之彩色濾光片。 [固態攝影元件] 本發明之固態攝影元件,其特徵在於具備本發明之彩 色濾光片。 本發明之彩色濾光片因使用本發明之光聚合性組成物 (1),故曝光靈敏度優異、與曝光部之基板的密合性良好、 形成之著色圖案顯示出與支持體基板有高密合性,而硬化 之組成物具有優異之耐顯影性。因此,可形成賦予所需之 -78- 201127812 截面形狀之高解析度圖案。因而可適用於液晶顯示裝置或 CCD等固態攝影元件,特別是適用於超過100萬像素之高 解析度CCD元件或CMOS等。是以本發明之彩色濾光片較 佳適用於固態攝影元件。 本發明之彩色濾光片可使用作爲例如配置於構成CCD 之各像素之受光部與用以聚光之微透鏡之間的彩色濾光 片。 [液晶顯不裝置] 本發明之彩色濾光片,因其圖案形成性良好、與支持 體之密合性優異、且於顯影後之後加熱時亦可保持圖案形 狀、具有加熱所造成之著色受到抑制之著色像素,故適用 於液晶顯示裝置用、有機EL顯示裝置用之彩色濾光片,特 別是適用作爲液晶顯示裝置用之彩色濾光片。 具備有上述彩色濾光片之液晶顯示裝置,可顯示高品 位之影像。 顯示裝置之定義與各顯示裝置之說明已記載於例如 「電子顯示器元件(佐佐木昭夫著,(股)工業調査會,1990 年發行)」、「顯示器元件(伊吹順章著,產業圖書(股),平 成元年發行)」等。此外,關於液晶顯示裝置已記載於例如 「次世代液晶顯示器技術(内田龍男編集,(股)工業調査 會,1 994年發行)」。本發明可適用之液晶顯示裝置並無特 別限制,可適用於例如上述之「次世代液晶顯示器技術」 所記載之各種方式之液晶顯示裝置。 -79- 201127812 本發明之彩色濾光片其中又以對彩色TFT方式之液晶 顯示裝置特別有效。而關於彩色TFT方式之液晶顯示裝置 已記載於例如「彩色TFT液晶顯示器(共立出版(股)1996 年發行)」。此外,本發明亦可適用於IPS等橫向電場驅動 方式、MVA等像素分割方式等視角擴大之液晶顯示裝置、 或 STN、TN、VA ' OCS、FFS、及 R-OCB 等。 此外,本發明之彩色濾光片亦可供明亮高精細之 COA(Color-filter On Array)方式使用。COA方式之液晶顯 示裝置中,對於彩色濾光片層之要求特性除了如前述之一 般的要求特性之外,亦需要對於層間絶縁膜之要求特性(亦 即低介電常數及剝離液耐性)。藉由紫外光雷射之曝光方法 以及選擇像素的色度或膜厚,因曝光光線之紫外光雷射之 穿透性高,且本發明之彩色濾光片其圖案形成性良好且與 支持體之密合性優異,故可特別提升直接或間接設置於 TFT基板上之著色層之剝離液耐性,而適用於COA方式之 液晶顯示裝置。又爲了滿足低介電常數之要求特性,亦可 於彩色濾光片層上設置樹脂被膜。 再者,於藉由CO A方式所形成之著色層中,爲了導通 著色層上所配置之ITO電極與著色層下方之驅動用基板之 端子,而需要形成一邊的長度爲1〜15 左右之矩形之通 孔或C字型之凹槽等傳導電路,傳導電路的大小(亦即一邊 的長度)特別又以5 m以下較佳,但藉由使用本發明甚至 可形成5/zm以下之傳導電路。 -80- 201127812 關於該等影像顯不方式已記載於例如「EL、PDP、LCD 顯不器-技術與市場之最新動向-(東麗(TORAY)硏究中心調 査硏究部門,2001年發行)」第43頁等。 本發明之液晶顯示裝置係由本發明之彩色濾光片以及 電極基板、偏光膜、位相差膜 '背光、間隔物、視角保障 膜等各種構件所構成。本發明之彩色濾光片可適用於該等 公知構件所構成之液晶顯示裝置。 關於該等構件已記載於例如「’ 9 4液晶顯示器周邊材 料·化學品市場(島健太郎’(股)CMC,1994年發行)」、 「2003液晶關聯市場之現狀與將來展望(下卷)(表良吉, (股)富 士總硏(Fuji Chimera Research),2003 年發行)」。 關於背光已記載於 SID meeting Digest 1380(2005)(Α·Κοηηο et.al)、或月刊顯示器 2005 年 12 月號 第18〜24頁(島康裕)與第25〜30頁(八木隆明)等。 當本發明之彩色濾光片用於液晶顯示裝置,其與以往 公知之冷陰極管之三波長管組合時可實現高對比,進而藉 由將紅、綠、藍之LED光源(RGB-LED)作爲背光,可提供 一種高亮度、色純度高、且色再現性良好之液晶顯示裝置。 [平版印刷版原版] 接著針對本發明之平版印刷版原版進行說明。 本發明之平版印刷版原版’其特徵在於:於支持體上 具有含有上述光聚合性組成物(2)之感光層。 -81 - 201127812 關於使用本發明之平版印刷版原版: 面,可將本發明之光聚合性組成物(2)直 的方式塗佈於平版印刷版用支持體上,形 物層而得到平版印刷版原版,再藉由將該 的感光層曝光成爲圖案狀,然後僅使曝光 用顯影液將未曝光區域進行顯影,使殘存 刷用油墨的吸收層,並濕潤感光層被除去 持體之區域使其成爲水的吸收區域,而獲 本發明之平版印刷版原版視需要亦可 間層等其他層。本發明之平版印刷版原版 本發明之光聚合性組成物,藉此使靈敏度 及耐刷性優異。以下針對構成本發明之平 各要素進行說明。 <感光層〉 感光層係含有本發明之光聚合性組成 言,感光層可藉由以下方式形成:使用本 組成物之較佳態樣之一的上述光聚合性I 光層形成用組成物(以下簡稱爲「感光層/ 支持體上塗佈含有該組成物之塗佈液,然 將感光層用組成物塗佈於支持體上時 所含有之各成分溶解於各種有機溶劑再使 之溶劑,例如:丙酮、甲基乙基酮、環己 二氯乙烷、四氫呋喃、甲苯、乙二醇單甲 农形成印刷版方 接或隔著其他層 成光聚合性組成 平版印刷版原版 部分硬化,再利 之感光層成爲印 而露出親水性支 得平版印刷版。 具有保護層、中 ,其感光層含有 高、歷時安定性 版印刷版原版之 物之層。具體而 發明之光聚合性 巨成物(2)作爲感 目組成物」),於 後乾燥。 ,係將該組成物 用.。此處所使用 烷、乙酸乙酯、 醚、乙二醇單乙 -82- 201127812 醚、乙二醇二甲醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚 丙酮、環己酮、二丙酮醇、乙二醇單甲醚乙酸酯、 乙醚乙酸酯、乙二醇單異丙醚、乙二醇單丁醚乙酸 甲氧丙醇、甲氧甲氧乙醇、二乙二醇單甲醚、二乙 乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇 乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、3-甲氧丙基乙酸酯 二甲基甲醯胺、二甲基亞楓、丁內酯、乳酸甲酯 乙酯等。該等溶劑可單獨或混合使用。其中,塗佈 之固體成分的濃度較佳爲2〜50質量%。 感光層對於支持體之塗佈量,主要會影響到感 靈敏度、顯影性、曝光膜的強度·耐刷性,故較佳 用途加以適當選擇。當塗佈量過少時,耐刷性會變 分。反之當過多時,靈敏度會下降,曝光較費時, 影處理需須要更長的時間,因此皆不佳。 本發明之主要目的之掃描曝光用平版印刷版原 光層,其塗佈量以乾燥後之質量而言較佳爲 0.] 10g/m2之範圍。更佳爲0.5g/m2〜5g/m2。 <支持體> 本發明中之平版印刷版原版所用之支持體,可 知之支持體。其中又以經公知的方法進行粗面化處 極氧化處理之鋁板較佳。 此外,上述鋁板視需要可適當選擇進行以下處 本專利特開 200 1 -25 3 1 8 1號公報或日本專^ 、乙醯 乙二醇 酯、3-二醇單 單甲醚 、N,N- 、乳酸 溶液中 光層的 爲因應 得不充 對於顯 版用感 g/m 2 〜 使用公 理、陽 理:日 Ij特開 -83- 201127812 2001-322365號公報所記載之陽極氧化皮膜微孔洞之擴大 處理或封孔處理;及美國專利第2,714,066號、第3,181,461 號、第3,280,734號及第3,902,734號各說明書所記載之以 鹼金屬矽酸鹽進行表面親水化處理、或美國專利第 3,276,868號、第4,153,461號及第4,689,272號各說明書 所記載之以聚乙烯膦酸等進行表面親水化處理❶ 支持體其中心線平均粗度較佳爲〇.1〇〜1.2/zm。 〔保護層〕 本發明之平版印刷版原版中,較佳爲進而於感光層上 具有保護層。 有關保護層的技術手段係如以往所示,美國專利第 3,458,311號說明書、日本專利特開昭5549729號公報已 詳細記載。可用於保護層之材料,可使用例如結晶性比較 優異之水溶性高分子化合物,具體而言,已知有聚乙烯醇、 聚乙烯吡咯啶酮、酸性纖維素類、明膠、阿拉伯膠、聚丙 烯酸等水溶性聚合物。該等之中,可使用聚乙烯醇作爲主 成分,對於氧阻隔性、顯影除去性之基本特性可賦予最好 的結果。 保護層所使用之聚乙烯醇只要含有用以賦予必要之氧 阻隔性與水溶性之未取代乙㈣單位,則其—部分亦可利 用酯、酸、及縮酵來取代。此外,同樣地其—部分亦可具 有其他共聚合成分。聚乙烯醇之具體例可列舉7im〇1%〜 100mol%$i水解’且分子量以質量平均分子量而言位於3〇〇 至2400之範圍者。 -84- 201127812 保護層的成分(PVA的選擇、添加劑的使用)、塗佈量 等,係考量到氧阻隔性.顯影去除性以及被覆性或密合性. 耐傷性而加以選擇。一般而言,使用之PVA其水解率越高 (保護層中未取代乙烯醇單位含有率越高)、膜厚越厚,則 氧阻隔性會越高,對於靈敏度方面較有利。然而若過度提 高氧阻隔性,則會造成於製造時.直接保存時發生不需要 之聚合反應、或於影像曝光時發生不需要之被覆、畫線過 粗等問題。此外,與影像部之密合性或耐傷性在版的使用 上亦極爲重要。上述保護層之塗佈方法已詳細記載於例如 美國專利第3,458,311號說明書、日本專利特開昭55-49729 號公報。 此外亦可於保護層賦予其他機能。例如可藉由添加曝 光所使用之、350nm至450nm之光穿透性優異、且可有效 吸收500nm以上之光之著色劑(水溶性染料等)來使靈敏度 不降低而進一步提高安全燈適合性。 〔其他層〕 此外,可設置用以提升感光層與支持體之間的密合 性、與增加未曝光感光層的顯影去除性之層。 例如,可將具有重氮構造之化合物或膦化合物等之具 有與基板較強之相互作用之化合物添加於感光層中,或將 含有該等化合物之底塗層設置於支持體與感光層之間,藉 此提升支持體與感光層之間的密合性,並增加耐刷性。 -85- 201127812 其他方面,亦可將如聚丙烯酸或聚磺酸之親水性聚合 物添加於感光層中,或設置含有該等化合物之底塗層,藉 此提升非影像部的顯影性、並提升耐污性。 〔製版〕 平版印刷版原版通常係藉由曝光影像,硬化曝光部的 感光層後,再利用顯影液去除感光層的未曝光部,然後形 成影像的方式製版,而獲得平版印刷版。 本發明之平版印刷版原版可適用之曝光方法可使用公 知的方法而無限制。本發明中由於使用(A)特定肟化合物作 爲光聚合起始劑,故較佳之曝光光源的波長爲3 5 0 nm至 4 5 0nm,具體而言以InGaN系半導體雷射較佳。 曝光機構可爲内面滾筒方式、外面滾筒方式、平版方 式等任意者。此外,感光層成分因使用高水溶性者,雖可 使其可溶於中性水或弱鹼性水,但上述構成之平版印刷版 裝塡至印刷機上後亦可適用於機上進行曝光-顯影(可不經 過濕式顯影而印刷)之所謂機上顯影之方式。 可取得之3 50〜450nm之雷射光源可利用以下者。 氣體雷射可列舉Ar離子雷射(364nm、351nm、10mW 〜1W)、Kr 離子雷射(356nm、351nm、10mW 〜1W)、He-Cd 雷射(441nm、325nm、lmW〜lOOmW);固態雷射可列舉Nd: YAG(YV04)與 SHG 結晶 χ2 次之組合(355nm、5mW 〜1W)、 Cr: LiSAF與SHG結晶之組合(43 0nm、10mW);半導體雷 射系可列舉KNb03環共振器(43 0nm、30mW)、導波型波長 .86- 201127812 轉換元件與 AlGaAs、InGaAs 半導體之組合(3 8 0 nm〜 450nm、5mW〜100mW)、導波型波長轉換元件與AlGalnP、 AlGaAs 半導體之組合(300nm 〜350nm、5mW 〜lOOmW)、 AlGaInN(350nm 〜450nm、5mW 〜30mW);其他方面,脈衝 雷射可列舉N2雷射(337nm、脈衝0.1〜10mJ)、XeF(351nm、 脈衝10〜250mJ)等。 該等之中特別又以 AlGalnN半導體雷射(市售InGaN 系半導體雷射400〜410nm,5〜30mW)在波長特性、成本 面較佳。 此外,在掃描曝光方式之平版印刷版曝光裝置方面, 曝光機構可例舉内面滾筒.方式、外面滾筒方式、平版方式; 光源則可利用上述光源中除了脈衝雷射以外之所有者。 此外,在其他曝光光線方面亦可使用超高壓、高壓、 中壓、低壓之各種水銀燈、化學燈、碳弧燈、氙燈、金屬 鹵素燈、可見光及紫外光之各種雷射燈、螢光燈、鎢絲燈、 太陽光等。 本發明之平版印刷版原版之較佳的顯影液可列舉如日 本專利特公昭5 7-7427號公報所記載之顯影液、矽酸鈉、 矽酸鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、第三磷酸鈉、 第二磷酸鈉、第三磷酸銨、第二磷酸銨、甲矽酸鈉、碳酸 氫鈉 '氨水等無機鹼劑或單乙醇胺或二乙醇胺等有機鹼劑 之水溶液爲宜。該鹼性溶液係添加使其濃度成爲0.1質量 %〜10質量%,較佳爲〇.5質量%〜5質量%。 -87- 201127812 此外,上述鹼性水溶液中可視需要而少量含有界面活 性劑或如苄醇、2 -苯氧乙醇、2 -丁氧乙醇之有機溶劑。例 如可列舉美國專利第3 3 75 1 7 1號說明書及第3 6 1 54 8 〇號說 明書之各說明書所記載者。 再者,日本專利特開昭50-26601號公報、日本專利特 開昭58-54341號公報、日本專利特公昭56_39464號公報、 日本專利特公昭5 6-42 8 60號公報之各公報所記載之顯影液 亦相當優異。 其他方面,平版印刷版原版之製版過程中亦可視需要 於曝光前、曝光中、自曝光至顯影爲止之間進行整面的加 熱。藉由該加熱促進感光層中的影像形成反應,可獲得靈 敏度與耐刷性的提升以及靈敏度安定化之優點。此外,爲 了達成提升影像強度•耐刷性之目的,亦可對顯影後的影 像有效進行整面後加熱或整面曝光。通常顯影前的加熱係 以1 5 0 °C以下之溫和條件進行爲佳。若爲1 5 0 °C以下則不會 產生覆蓋非影像部之問題。顯影後的加熱則利用非常劇烈 的條件。通常係2 0 0 °C〜5 0 0 °C之範圍。若爲2 0 0 °C以上則 可獲得足夠的影像強化作用,而爲500 °C以下時則不會產 生如支持體劣化、影像部熱分解等問題。 實施例 以下藉由實施例對本發明進行更具體的說明’但本發 明只要不超過其主旨則並不限定於以下之實施例。其中’ 若無特別說明’ 「份」表示質量基準’ 「%」表示「質量 %」。 -88- 201127812 首先例示出實施例所用之特定肟化合物(特定化合物1 〜特定化合物11 )、以及比較例所用之比較化合物(比較化 合物1〜比較化合物4)的詳細內容。
特定化合物1〜特定化合物11的合成方法加N 以下所 示。 a -89- 201127812 化合物編號 構造 特定化合物1 ό^χο^ k 特定化合物2 特定化合物3 I 〇 NT0 cy^xo^ k 特定化合物4 cyxx〇vsx>c, k々〇 特定化合物5 〇YVCH3 k -90- 201127812
-9 1- 201127812 化合物編號 構造 比較化合物1 IRGACURE OXE 01 (Ciba Special Chemicals 製) 比較化合物2 IRGAGURE OXE 02 (Ciba Special Chemicals 製) 0 比較化合物3 〇人 V rr^ 比較化合物4 u雜原子化合物的合成) .味啉異丁酸鹽酸鹽的合成 將2 -溴丙酸乙酯(〇.l25mo1)稀釋於甲苯75mL* ’添加 味啉(0.3mol),於室溫攪拌10小時。將白色固體過濾去除 後,蒸餾濾液而獲得2-味啉丙酸乙酯(〇.l〇5mol)。 於燒瓶中添加二異丙胺(〇.12mo1)’並以甲苯4〇1111"進 行稀釋。於氮氣下冷卻至-78 °C後,添加正丁基鋰己烷溶液 (O.llmol)並於- 78°C攪拌1小時。然後於其中添加2-味啉丙 酸乙酯(0.105mol)進而攪拌1小時,再添加碘甲烷(〇.21mol) -92- 201127812 並回復至室溫攪拌1小時。利用冰水將反應驟熄(quench), 並以乙酸乙酯進行萃取,再以飽和氯化鈉水溶液洗淨,然 後以硫酸鎂對有機層進行乾燥。餾除溶劑,利用管柱層析 法(己烷/乙酸乙酯=4/1)進行純化,而獲得α -味啉異丁酸乙 酯(0.55mol)。 使其在5N鹽酸水溶液中回流2小時,餾除鹽酸水溶 液。再將丙酮添加至所得之殘留物中,然後過濾取得生成 之白色固體,而獲得〇:-味啉異丁酸鹽酸鹽(〇.4〇tnol)。 ('H-NMR 3 00MHz 氘氯仿 /氘吡啶):1.76(s,6H)、 3.42(m,4H)、4.1 3 (m,2H) • α-吡咯啶異丁酸鹽酸鹽的合成 於2 -溴異丁酸乙酯(O.lmol)中添加甲苯 lOOmL,並冷 卻至〇°C。歷經10分鐘在其之中滴加吡咯啶(0.4m〇1)。將 反應液回復至室溫進而攪拌3小時。利用分液法去除吡咯 啶溴化氫鹽層並餾除甲苯層溶劑。然後利用減壓蒸餾而獲 得α -吡咯啶異丁酸乙酯(〇.〇82mol)。 使其在5N鹽酸水溶液中回流2小時,餾除鹽酸水溶 液。再將丙酮添加至所得之殘留物中,然後過濾取得生成 之白色固體,而獲得α-吡咯啶異丁酸鹽酸鹽(〇.〇4mol)。 ('H-NMR 3 00MHz 氘氯仿 /氘吡啶):1.81(s,6H)、 2.1 4(m,4H) > 3.75(m,4H) • α-二乙胺異丁酸鹽酸鹽的合成 於2 -溴丙酸乙酯(〇.15mol)中添加二乙胺(〇.4mol),於 -93- 201127812 室溫攪拌ι〇小時。將白色固體過濾去除後,蒸餾濾液而獲 得2-二乙胺丙酸乙酯(0.120m〇l)。 於燒瓶中添加二異丙胺(0.15mol),並以甲苯50mL進 行稀釋。於氮氣下冷卻至-78 °C後,添加正丁基鋰己烷溶液 (0.13mol)並於- 78°C攪拌1小時,然後再升溫至〇〇C攪拌1 小時。然後於其中添加2-二乙胺丙酸乙酯(〇.U mol)進而攪 拌1小時,再添加碘甲烷(0.23mol)並回復至室溫攪拌1小 時。利用冰水將反應驟熄,並以乙酸乙酯進行萃取,再以 飽和氯化鈉水溶液洗淨,然後以硫酸鎂對有機層進行乾 燥。餾除溶劑,利用管柱層析法(己烷/乙酸乙酯= 4/1)進行 純化,而獲得α-二乙胺異丁酸乙酯(0.50mol)。 使其在5N鹽酸水溶液中回流2小時,餾除鹽酸水溶 液。再藉由將所得之殘留物進行真空加熱乾燥(ImmHg,50 °C )6小時而獲得α -二乙胺異丁酸鹽酸鹽(0.5m〇l)。 (!H-NMR 3 00MHz 氘氯仿 / 氘吡啶):1.6 1 (t,J = 7 · 5 Η z,6 Η) ' 1.92(s,6H)、3.42(m,4H) 〔合成例1〕特定肟化合物之特定化合物1的合成 將 1-[6-(2-甲苯甲醯基)-9-乙基- 9H-昨唑-3-基]乙酮肟 (12mmol)與ct -味啉異丁酸鹽酸鹽(12mmol)懸浮於二氯甲 烷20mL中。將其冷卻至0°C後,添加4-二甲胺吡啶(24mmol) 與二環己基碳化二亞胺(13mm〇1)於〇°C攪拌1小時。藉由 氯仿萃取後,以飽和氯化鈉水溶液洗淨,並以硫酸鎂對有 機層進行乾燥並餾除溶劑。利用矽膠管柱層析法(己烷/乙 -94- .201127812 酸乙酯=4/1)將所得之殘留物進行純化,而獲得目的之 7.6mmol之特定化合物1。 獲得之特定化合物1的構造係經NMR確認。 (•H-NMR 3 00MHz 氘氯仿):i.47(s,6H) ' 1 .49(t,3H,J = 7.2Hz) 、 2.35(s,3H) ' 2.52(s,3H) 、 2.74(t,4H,J = 4.5Hz) 、 3 . 7 5 (t, 4 H , J = 4.5 H z) 、 4.42(q,2H, J = 7.2Hz) 、 7.26 〜 7.47(m,6H) 、 7.98(d,lH,J = 8.4Hz)、8.11(d,lH,J = 8.4Hz) ' 8.45(s,lH) ' 8.52(s, 1 H) 特定化合物1於365nm之莫耳吸光係數利用既述之方 法進行測定,結果於乙酸乙酯中爲1580。 〔合成例2〕特定肟化合物之特定化合物2的合成 除了使用α-二乙胺異丁酸鹽酸鹽來取代合成例1中之 α-吡咯啶異丁酸鹽酸鹽,其餘以與特定化合物1相同之方 法進行合成。 獲得之特定化合物2的構造係經N M R確認。 ('H-NMR 3 00MHz 氘氯仿):i.45(s,6H)、 1.49(t,3H,J = 7.2Hz)、 1 . 5 5 (t,6 Η, J = 7.2 Η z) ' 2.35(s,3H)、 2.54(s,3H)、2.90(m,4H)、4.42(q,2H,J = 7.2Hz)、7.26 〜 7.47(m,6H)、7.9 8 (d,1 H,J = 8.4 H z)、8.1 1 (d,1 H,J = 8 · 4 H z)、 8.45(s,1H)、8.52(s,lH) 特定化合物2於365nm之莫耳吸光係數以與上述相同 的方式進行測定,結果於乙酸乙酯中爲1600。 -95- 201127812 〔合成例3〕特定肟化合物之特定化合物3的合成 除了使用α-吡咯啶異丁酸鹽酸鹽來取代合成例1中之 α-吡咯啶異丁酸鹽酸鹽,其餘以與特定化合物1相同之方 法進行合成。 獲得之特定化合物3的構造係經NMR確認。 (*H-NMR 3 00MHz 氘氯仿):1.4 9 (t,3 Η,J = 7.2 Η z )、 1.55(s,6H)1.82(m,4H)2.35(s,3H)、2.51(s,3H)、2.93(m,4H)、 4 · 42 (q,2 H,J = 7 · 2H z) 、 7.26 〜 7.47(m,6H) 、 7.98(d,lH,J = 8.4Hz)、8 · 1 1 (d,1 H,J = 8.4H z)、8.4 5 (s,1 H)、 8.52(s, 1H) 特定化合物3於3 65nm之莫耳吸光係數以與上述相同 的方式進行測定,結果於乙酸乙酯中爲1 520。 〔合成例4〕特定肟化合物之化合物4的合成 將1-[6-(2-甲苯甲醯基)-9-乙基- 9H·咔唑-3-基]丁酮 -4-(4-氯苯硫)-2-肟(16mmol)與α -味啉異丁酸鹽酸鹽 (15mmol)懸浮於二氯甲烷40mL中。將其冷卻至〇°C後,添 加 4-二甲胺吡啶(30mmol)與二環己基碳化二亞胺 (15mmol)於0。(:攪拌1小時。藉由氯仿萃取後,以飽和氯 化鈉水溶液洗淨,並以硫酸鎂對有機層進行乾燥以飽除溶 劑。利用矽膠管柱層析法(己烷/乙酸乙酯=4/1)將所得之殘 留物進行純化,而獲得目的之5.3 mmol之特定化合物4 ° 獲得之特定化合物4的構造係經NMR確認。 (】H-NMR 3 00MHz 氘氯仿): 1.4〇(s,6H)、 -96- 201127812 1.49(t,3H,J = 7.2Hz)、2.3 7 (s,3 Η) ' 2.6 5 (t,4 Η,J = 4.5 Η z)、 3.21(m,4H)3.72(t,4H,J = 4.5Hz)、4.42(q,2H,J = 7.2Hz)、7.26 〜7.47(m,6H)、8.08(d,lH,J = 8.4Hz)、8.35(d,lH,J = 8.4Hz)、 8.58(s,lH)、8_89(s,lH) 特定化合物4於3 65nm之莫耳吸光係數利用既述之方 法進行測定,結果於乙酸乙酯中爲1 5 600。 此外’以與上述合成例1〜合成例4相同方式合成出 上述特定肟化合物之特定化合物5〜特定化合物11。 又上述比較化合物1以及比較化合物2之構造係如以 下所示。
-97 201127812 〔實施例1 -1〕 <光聚合性組成物1之調製及評價> 將光聚合性組成物1利用以下方式進行調製,並評價 其靈敏度。 調製光聚合性組成物1’其含有〇.〇8mmol之上述特定 化合物1作爲特定肟化合物、lg之新戊四醇四丙烯酸酯作 爲自由基聚合性化合物、lg之聚甲基丙烯酸甲酯(Aldirich 公司製,重量平均分子量約9 9 60 0 0)作爲黏合劑樹脂、以及 16g之環己酮作爲溶劑。 使用所得之光聚合性組成物1作爲塗液,利用旋塗法 將其塗覆於玻璃板上,於40°C乾燥10分鐘,形成1.5/zm 膜厚之塗覆膜。於該塗覆膜上配置 21階梯形板(step tablet)(DAINIPPON SCREEN MFG.(股)製之灰階膜),再將 Ushio電機(股)製之5 00mW之高壓水銀燈的光透過熱線截 斷濾片(heat ray cutoff filter)曝光30秒後,使其含浸於甲 苯中60秒進行顯影處理。 將梯形板所對應之完全硬化而不溶化之段數評價作爲 靈敏度時,結果其靈敏度爲7段。 其中,靈敏度段數數字越大表示靈敏度越高。 〔實施例1 -2〜實施例1 -1 1、及比較例1 · 1〜比較例1 -4〕 除了將實施例1-1中作爲特定肟化合物使用之特定化 合物1(0.08mmol)以上述一覽所示之各化合物(特定化合物 2〜特定化合物11及比較化合物1〜比較化合物 4)各 -98- 201127812 0-08mm〇l分別進行取代,其餘以與實施例I」完全相同之 操作分別調製出光聚合性組成物2〜光聚合性組成物1 5, 並以與實施例1-1相同方式評價靈敏度段數。 實施例1 -1〜1 -1 1、及比較例1 _ i〜比較例丨_ 4的評價 結果示於表1。 表1 光聚合性 組成物 特定化合物 或比較化合物 靈敏度段數 氮氣氣體環境下 空氣氣體環境下 實施例1-1 1 特定化合物1 7 7 實施例1-2 2 特定化合物2 8 8 實施例1-3 3 特定化合物3 7 7 實施例1-4 4 特定化合物4 8 8 實施例1-5 5 特定化挪5 7 6 實施例1-6 6 特定化雜6 8 8 實施例1-7 7 特定化合物7 9 9 實施例1-8 8 特定化合物8 9 9 實施例1-9 9 特定化合物9 9 9 實施例1-10 10 特定化合物10 8 8 實施例1-11 11 特定化合物11 7 6 比較例1-1 12 比較化合物1 5 3 比較例1-2 13 比較化合物2 5 2 比較例1-3 14 比較化合物3 4 2 比較例1-4 15 比較化合物4 4 2 由表1可得知以下結果:本發明之實施例1 -1〜〗-11 與比較例1-1〜1-4相比,無論於氮氣氣體環境下或空氣氣 體環境下其靈敏度段數皆較高,係高靈敏度地進行硬化。 此外’一般在空氣氣體環境下之自由基聚合中會受到氧的 存在所造成之聚合阻礙而使靈敏度降低,但在比較例1-1 〜1-4中,相較於氮氣氣體環境下,存在有氧之空氣氣體環 -99· 201127812 境下其靈敏度段數較低,可知有受到聚合阻礙。另一方面, 本發明之實施例1-1〜1-11中,無論於氮氣氣體環境下或 空氣氣體環境下其靈敏度段數幾乎皆未改變,可知即使於 空氣氣體環境下亦未受到氧阻害。其中又以被認爲產生α-胺烷基自由基或α-硫烷基自由基之實施例1-1〜1-4及1-6 〜1-9,較被認爲產生烷氧基自由基之實施例5、10及 11顯示出更強的耐氧性。 〔實施例2-1〕 (1)著色光聚合性組成物Α-1的調製 調製含有著色劑(顔料)之負型著色光聚合性組成物 Α-1作爲彩色濾光片形成用光聚合性組成物,並使用其來 製作彩色濾光片。 (1-1)顏料分散液(Ρ1)的調製 將由作爲顏料之 C.I.Pigment Green 36 與 C.I.Pigment Yellow 219之間爲30/70(質量比)混合物40份、作爲分散 劑之BYK200 1 (BYK公司製,固體成分濃度(以 固體成分換算約4_51份)、以及作爲溶劑之3_乙氧基丙酸 乙酯150份所構成之混合液利用珠磨機混合·分散15小時, 調製出顏料分散液(P1)。 製得之顏料分散液(P 1)係利用動態光散亂法測定顏料 的平均粒徑,結果爲200nm。 (1 - 2)著色光聚合性組成物a -1 (塗佈液)的調製 混合溶解下述組成A-1成分,調製出著色光聚合性組 成物A-1。 -100- 201127812 <組成A -1 > •顏料分散液(PI) 600份 •鹼可溶性樹脂 200份 (甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸羥乙酯共聚 物,mol 比:8 0/10/10 > Mw : 1 0 ,〇〇〇) •聚合性化合物:二新戊四醇六丙烯酸酯 60份 •特定肟化合物:特定化合物1 6 0份 •溶劑:丙二醇單甲醚乙酸酯 1,000份 •界面活性劑(商品名:Tetronicl50Rl,BASF公司)1 份 • r-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧矽烷 5份 (2)彩色濾光片的製作 (2-1)著色光聚合性組成物層的形成 將含有上述所製得之含有顏料之著色光聚合性組成物 A-1利用下述條件於550mmx650mm之玻璃基板上進行狹縫 塗佈,然後實施真空乾燥與預烤(prebake) (100°C 80秒)以形 成光聚合性組成物塗膜(著色光聚合性組成物層)。 狹縫塗佈條件
塗佈頭前端的開口部間隙:50 /z m 塗佈速度:1 〇〇mm/秒 基板與塗佈頭之間的間隙:1 5 0 # m 塗佈厚度(乾燥厚度):2#m 塗佈溫度:2 3 °C -10 1- 201127812 (2-2)曝光、顯影 然後使用2.5kW之超高壓水銀燈將著色光聚合性組成 物層曝光成圖案狀。再將曝光後之著色光聚合性組成物層 的整面以無機系顯影液(商品名:CD,FUJIFILM electronic Materials(股)製)之10%水溶液顯影60秒。 (2-3)加熱處理 然後於著色光聚合性組成物層上將純水以蓮蓬頭狀噴 射來沖洗顯影液,接著利用 220 °C的烘箱加熱1小時 (postbake)。藉此製得於玻璃基板上具有著色圖案之彩色濾 光片。 (3)性能評價 著色光聚合性組成物的保存安定性及曝光靈敏度、使 用著色光聚合性組成物於玻璃基板上形成著色圖案時的顯 影性、所得之著色圖案於加熱歷時之著色、基板密合性、 圖案截面形狀及後加熱圖案截面形狀係以下述方式進行評 價。評價結果經整理示於表2。 (3-1)著色光聚合性組成物的保存安定性 將著色光聚合性組成物於室溫保存1個月後,根據下 述判定基準對於異物的析出程度以目視進行評價。 -判定基準- A :無法確認出析出 B :可確認出些微析出 C :可確認出析出 -102- 201127812 (3-2)著色光聚合性組成物的曝光靈敏度 將著色光聚合性組成物利用旋塗法塗佈於玻璃基板 上,然後將其乾燥而形成膜厚l.O^m的塗膜。旋塗之條件 係以3 00rpm進行5秒後,再以8 00rpm進行20秒,乾燥條 件係於l〇〇°C進行80秒。接著,對所得之塗膜使用線寬2.0 ^ιη之測試用光罩並藉由具有超高壓水銀燈之接近型曝光 機(Hitachi High-Tech Electronics Engineering (股)製),以 lOmJ/cm2〜1 600mJ/Cm2之各種曝光量進行曝光。然後使用 60% CD-2000(FUJIFILM electronic Materials(股)製)顯影 液,將曝光後之塗膜以25 °C、60秒之條件進行顯影。其後 以流水洗淨20秒,再進行噴霧乾燥而完成圖案化。 曝光靈敏度的評價,係將曝光步驟中受光照射之區域 於顯影後之膜厚成爲相對於曝光前之膜厚(100%)的95% 以上之最小曝光量作爲曝光靈敏度的方式來評價。曝·光靈 敏度之値越小表示靈敏度越高。 (3-3)顯影性、圖案截面形狀、基板密合性 將上述(2-3)加熱處理中進行後烤後之基板表面及截面 形狀利用光學顯微鏡及SEM照片觀察之通常的方法進行確 認,藉此進行顯影性、基板密合性、強制加熱歷時之著色 變化、及圖案截面形狀的評價。評價方法的詳細內容係如 下所述。 -103- 201127812 (顯影性) 觀察曝光步驟中未受光照射之區域(未曝光部)有無殘 渣來評價顯影性。評價基準係如下所述。 -評價基準- A:確認出於未曝光部完全無殘渣 B:確認出未曝光部有些許殘渣,但在實用上並無問題 C :確認出於未曝光部明顯有殘渣 (基板密合性) 基板密合性係觀察是否產生圖案缺陷,根據下述基準 進行評價。 -評價基準- A :完全未觀察到圖案缺陷 B:大致未觀察到圖案缺陷,但觀察到有部分缺陷 C :明顯觀察到許多圖案缺陷 (強制加熱歷時之著色評價) 將曝光及顯影後之光聚合性組成物層(著色圖案)利用 加熱板於200°C加熱1小時,並根據下述基準以大塚電子 (股)製MCPD-3000對加熱前後之色差進行評價。 -評價基準- Α : △ E* ab S 5 B: 5<AE*ab<8 C : Δ Ε * ab ^ 8 -104- 201127812 (圖案截面形狀) 將形成之圖案的截面形狀利用掃描式電子顯微鏡((股) 日立製作所製S-43 00)觀察進行評價。圖案的截面形狀最佳 爲正錐形,次佳爲矩形。倒錐形則不佳。 (後加熱後之圖案截面形狀) 此外,將(2-3)加熱處理中進行後烤之後形成圖案的截 面形狀以與上述相同方式觀察進行評價。圖案的截面形狀 最佳爲正錐形,次佳爲矩形。倒錐形則不佳。 〔實施例2-2〜2-17、比較例2-1〜2-3〕 將實施例2-1之著色光聚合性組成物A-1的調製所用 之組成A-1中之特定化合物1(特定肟化合物)60份以表2 所示之各化合物及量進行取代,而於實施例2-10〜2-17中 進而添加表2所示之種類及量的增感劑或共增感劑。除此 之外完全以與實施例2 -1相同的方式調製著色光聚合性組 成物A-2〜A-17及A’-l〜A’ -3,並獲得彩色濾光片。進 而再進行與實施例2-1相同之評價。結果示於表3。 -105- 201127812 表2 聚合起始劑 增感劑 共增感劑 著色光聚合性 組成物 特定化合 物 比較化合 物 含量(份) 種類 含量(份) 種類 含量(份) 實施例2-1 A-1 1 — 60 — — — — 實施例2-2 A-2 2 _ 60 — — — — 實施例2-3 A-3 3 — 60 一 — — — 實施例2-4 A-4 4 _ 60 — 一 — — 實施例2-5 A-5 5 _ 60 — — — — 實施例2-6 A-6 6 — 60 —— — — — 實施例2-7 A-7 7 _ 60 — — — — 實施例2-8 A-8 8 — 60 — 一 — — 實施例2-9 A-9 9 — 60 — — — — 實施例2-10 A-10 2 — 50 Α1 10 一 — 實施例2-11 A-11 2 — 50 Α2 10 — — 實施例2-12 A-12 2 — 50 A3 10 —— — 實施例2-13 A-13 2 — 50 —— — F1 10 實施例2-14 A-14 2 — 40 Α2 10 F1 10 實施例2-15 A-15 2 — 40 Α2 10 F2 10 實施例2-16 A-16 2 — 40 Α2 10 F3 10 實施例2-17 A-17 F3 10 2 40 LD-5 10 比較例2-1 A’ -1 ·— 1 60 — — — — 比較例2-2 A,-2 — 2 60 — — — — 比較例2-3 Α’ ·3 — 3 60 — — — — -106- 201127812 表3 保存安定 性 曝光靈敏 度 (mJ/cm2) 顯像性 強制加熱歷 時之著色變 化 基板密合 姓 圖案截面形 狀 後加熱後之 圖案截面形 狀 實施例2-1 A 120 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-2 A 110 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-3 A 90 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-4. A 90 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-5 A 170 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-6 A 120 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-7 A 50 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-8 A 80 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-9 A 60 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-10 A 90 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-11 A 80 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-12 A 90 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-13 A 80 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-14 A 80 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-15 A 80 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-16 A 70 A A A 正錐形 正錐形 實施例2-17 A 70 A A A 正錐形 正錐形 比較例2-1 A 500 B B C 倒錐形 矩形 比較例2-2 A 300 B C B 倒錐形 矩形 比較例2-3 A 700 C B B 倒錐形 矩形 表2、表4、表6、表8、表10、表11及表14中,「聚 合起始劑」欄中之「特定化合物」欄之數値1〜9表示特定 化合物1〜特定化合物9, 「比較化合物」欄之數値1〜3 表示比較化合物1〜比較化合物3。 表2、表4、表6、表8、表10'表11及表14所示之 增感劑的種類A1〜A3、共增感劑的種類F1〜F3、及LD-5 係以下所示之化合物。 -107- 201127812 A1 : 4,4-雙二乙胺苯基酮 A2 : 二乙基氧硫卩山嘎
F2 : : 2-锍基苯并噻唑 F3 : N-苯基-2-毓基苯并咪唑 LD-5: 2,2’-雙(鄰氯苯)-4,4’,5,5’-四苯聯咪唑 由表3的結果可知,含有特定肟化合物(特定化合物1 〜特定化合物9)之各實施例之著色光聚合性組成物爲保存 安定性(歷時安索性)優異者。此外,亦可知該等著色光聚 合性組成物其曝光靈敏度高、用於形成彩色濾光片之著色 圖案時之顯影性優異、所得之著色圖案於加熱歷時無著 色、且基板密合性、圖案截面形.狀及後加熱後之圖案截面 形狀皆優異。 〔實施例3 -1〕 (1)光阻液A的調製 混合溶解下述組成成分,調製出光阻液。 -1 08- 201127812 -光阻液的組成- •丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA) 19.20份 •乳酸乙酯 36.67份 •樹脂 3 0.5 1份 〔甲基丙烯酸苯甲酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸-2-羥乙 酯共聚物(莫耳比= 60/22/18)40% PGMEA溶液〕 •二新戊四醇六丙烯酸酯(聚合性化合物) 12.20份 •聚合抑制劑(對甲氧酚) 0.0061份 •氟系界面活性劑(F-475,DIC (股)製) 0.83份 •光聚合起始劑 0.586份 (TAZ-107(三齒甲基三畊系光聚合起始劑),Midori Kagaku Chemi ca 1 s (股)製) (2) 帶有底塗層之矽晶片基板的製作 將6英吋矽晶片於烘箱中以2 0 〇t加熱處理3 0分鐘。 接著於該矽晶片上塗佈上述光阻液A(使乾燥膜厚成爲2# m ),再置入2 2 0 °C烘箱中加熱乾燥1小時以形成底塗層’ 而獲得帶有底塗層之矽晶片基板。 (3) 著色光聚合性組成物B-1的調製 混合溶解下述組成B·1之化合物’調製出含有著色劑 (染料)之著色光聚合性組成物B-1。 <組成B - 1 > .環己酮 8 0份 .著色劑 C.I.Acid Blue 108 7.5 份 -109- 201127812 •著色劑 C.I.Solvent Yellow 162 2_5 份 •自由基聚合性單體(聚合性化合物) 7 · 0份 (新戊四醇三丙烯酸酯與二新戊四醇六丙烯酸酯之質 量比3 : 7之混合物) •特定化合物1(特定肟化合物) 2.5份 •甘油丙氧基化物 0.5份 (數量平均分子量Μη: 1,500) (4) 著色光聚合性組成物Β-1(塗佈液)的保存安定性評價 將著色光聚合性組成物Β -1於室溫保存1個月後,根 據下述判定基準對於異物的析出程度以目視進行評價。結 果示於下述表5。 -判定基準- Α :無法確認出析出 Β :可確認出些微析出 C :可確認出析出 (5) 著色光聚合性組成物Β-1構成之彩色濾光片的製作及評價 將上述(3)調製之著色光聚合性組成物Β_ι塗佈於上述 (2)所製得之帶有底塗層之矽晶片基板的底塗層上,而形成 著色光聚合性組成物的塗佈膜。然後使用1 00 °C的加熱板 進行加熱處理120秒(預烤)使該塗佈膜的乾燥膜厚成爲0.9 // m。 接著,使用i線歩進曝光裝置FPA-3000i5 + (CANON(股) 製),以365nm之波長使圖案通過2#m四方形之Island圖 案遮罩照射10〜1600mJ/cm2之曝光量。 -110- 201127812 然後,將受照射形成有塗佈膜之矽晶圓基板載置於旋 淋顯影機(DW-30型、(股)CHEMITRONICS製)的水平旋轉 台上,使用 CD-2000(FUJIFILM electronic Materials(股)製) 於23 °C進行60秒混拌顯影,而於矽晶片基板上形成著色 圖案。 將形成有著色圖案之矽晶片基板利用真空吸盤方式固 定於上述水平旋轉台,藉由旋轉裝置使該矽晶片基板以旋 轉數5〇Γ.Ρ.πι.進行旋轉,同時從該旋轉中心的上方供給來 自嘴噴出之蓮蓬頭狀的純水進行洗淨處理,然後進行噴霧 乾燥。 藉由以上方式,獲得於基板上形成有著色圖案之彩色 濾光片。 將使得曝光步驟中受光照射之區域於顯影後之膜厚成 爲相對於曝光前之膜厚(100%)的95%以上之最小曝光量 作爲曝光靈敏度的方式來評價。曝光靈敏度之値越小表示 靈敏度越高。 並且此時使用測長 SEM 「S-9260A」(Hitachi High-Technologies(股)製)來測定著色圖案的大小。圖案大 小越接近2 // m表示硬化性充分且靈敏度良好。 •結果示於下述表3。 (7)顯影性、加熱歷時之著色 '基板密合性、圖案截面形狀、 後加熱圖案截面形狀的評價 -111- 201127812 顯影性、加熱歷時之著色、基板密合性、圖案截面形 狀及後加熱圖案截面形狀的評價係根據對於實施例2-1所 進行之評價方法及評價基準來進行。結果示於表4。 〔實施例3-2〜3-17、比較例3· 1〜3-3〕 將實施例3-1中著色光聚合性組成物B-1的調製所用 之組成B-1中之特定化合物1(特定肟化合物)2·5份以表4 所示之各化合物及量進行取代。此外,於實施例3_1〇〜實 施例3-17中進而添加表4所示之種類及量的增感劑或共增 感劑,除此之外兀全以與實施例3“相同的方式調製著色 光聚合性組成物Β·2〜Β-17及B,_i〜B,_3,並獲得彩色 濾光片。進而再進行與實施例3d相同之評價。結果示於 表5 〇 '112- 201127812 表4 聚合起始劑 增感劑 共增感劑 著色光聚合性 組成物 特定化合 物 比較化合 物 含量(份) 麵 含量(份) 麵 含量(份) 實施例3-1 B-1 1 — 2.5 — — — — 實施例3-2 B-2 2 — 2.5 — — — — 實施例3-3 B-3 3 一 2.5 — — — — 實施例3-4 B-4 4 — 2.5 — — — — 實施例3-5 B-5 5 — 2.5 — — — — 實施例3-6 B-6 6 _ 2.5 — — — — 實施例3-7 B-7 7 — 2.5 — — — — 實施例3-8 B-8 8 — 2.5 — — — — 實施例3-9 B-9 9 — 2.5 — — — — 實施例3-10 B-10 4 一 2.0 A1 0.5 — 一 實施例3-11 B-11 4 — 2.0 A2 0.5 — — 實施例3-12 B-12 4 — 2.0 A3 0.5 — — 實施例3-13 B-13 4 一 2.0 — — F1 0.5 實施例3-14 B-14 4 — 1.5 A2 0.5 F1 0.5 實施例3-15 B-15 4 — 1.5 A2 0.5 F2 0.5 實施例3-16 B-16 4 — 1.5 A2 0.5 F3 0.5 實施例3-17 B-17 4 1.5 F3 0.5 LD-5 0.5 比較例3-1 B,-1 — 1 2.5 —. — — — 比較例3-2 B,-2 — 2 2.5 — — — 一 比較例3-3 B’ -3 — 3 2.5 — — — — -113- 201127812 表5 保存 安定性 曝光靈敏 度(mJ/cm2) 圖案大 小 (/m) 顯像性 強制加熱歷 時 之著色變化 基板密合 姓 圖案截面形 狀 後加熱後之 圖案截面形 狀 實施例3-1 A 1100 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3-2 A 1200 1.97 A A A 矩形 矩形 實施例3-3 A 1000 1.97 A A A 矩形 矩形 實施例3-4 A 900 1.97 A A A 矩形 矩形 實施例3-5 A 1500 1.97 A A A 矩形 矩形 實施例3-6 A 1400 1.97 A A A 矩形 矩形 實施例3-7 A 800 1.94 A A A 矩形 矩形 實施例3-8 A 900 1.97 A A A 矩形 •矩形 實施例3-9 A 900 1.97 A A A 矩形 矩形 實施例3-10 A 850 1.97 A A A 矩形 矩形 實施例3-11 A 850 1.97 A A A 矩形 矩形 實施例3-12 A 800 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-13 A 850 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-14 A 800 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-15 A 800 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-16 A 750 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-17 A 750 1.98 A A A 矩形 矩形 比較例3-1 A 3000 1.92 B B c 倒錐形 正錐形 比較例3-2 A -2200 1.92 B c B 倒錐形 正錐形 比較例3-3 A 5000 1.92 c C B 倒錐形 正錐形 〔實施例3 -1 8〕 除了將上述顏料分散液(P1)的調製中顏料之 C.I.Pigment Green 36 與 C.I.Pigment Yellow 219 之總量以 C.I.Pigment Red 254 及 C.I.Pigment Yellow 139 分別進行 取代,其餘以與P1的調製相同的方式而獲得CJ.Pig1116111
Red 254之顏料分散液,以及C.I.Pigment Yellow 139之顏 料分散液。 -114- 201127812 然後混合溶解下述組成C-1之化合物,調製出含有著 色劑(顏料)之著色光聚合性組成物C-1。 <組成C -1 > • 3-乙氧基丙酸乙酯(溶劑) 17.9份 •著色劑 C.I.PigmentRed 254之分散液 26.7份 (固體成分:15質量%,固體成分中顏料含有率:60 % ) •著色劑 C.I.PigmentYellowl39 之分散液 17.8 份 (固體成分:15質量%,固體成分中顏料含有率:60 % ) •自由基聚合性單體(聚合性化合物) 3 · 5份 (新戊四醇三丙烯酸酯與二新戊四醇六丙烯酸酯爲3:7 之混合物) •特定化合物1(特定聘化合物) 0.5份 •甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物 2.0份 (莫耳比=70/3 0) 〔實施例3-19〜3-34、比較例3-4〜3-6〕 將實施例3-18中著色光聚合性組成物c-1的調製所用 之組成C-1中之特定化合物1(特定肟化合物)0.5份以表6 所示之各化合物及量進行取代。此外,於實施例3 _ 2 7〜實 施例3-34中進而添加表6所示之種類及量的增感劑及共增 感劑’除此之外完全以與實施例3-18相同的方式調製著色 光聚合性組成物C-2〜C-17及C,-3。 -115- 201127812 將所得之各著色光聚合性組成物進行與實施例3 -1相 同的評價。結果示於表7。 表6 聚合起始劑 增感劑 共增感劑 著色光聚合性 組成物 特定化合 物 比較化合 物 含量(份) 種類 含量(份) 種類 含量(份) 實施例3-18 C-1 1 — 0.5 — — — ' — 實施例3-19 C-2 2 _ 0.5 — — — — 實施例3-20 C-3 3 — 0.5 — — — — 實施例3-21 C-4 4 — 0.5 — — — — 實施例3-22 C-5 5 一 0.5 — — — — 實施例3-23 C-6 6 — 0.5 — — — — 實施例3-24 C-7 7 — 0.5 — — — — 實施例3-25 C-8 8 _ 0.5 — — — — 實施例3-26 C-9 9 _ 0.5 — — — — 實施例3-27 C-10 7 _ 0.4 A1 0.1 — — 實施例3-28 C-11 7 — 0.4 A2 0.1 — — 實施例3-29 C-12 7 _ 0.4 A3 0.1 — — 實施例3-30 C-13 7 _ 0.4 — — F1 0.1 實施例3-31 C-14 7 — 0.3 A2 0.1 F1 0.1 實施例3-32 C-15 7 _ 0.3 A2 0.1 F2 0.1 實施例3-33 C-16 7 _ 0.3 A2 0.1 F3 0.1 實施例3-34 C-17 0.3 A2 0.1 F3 0.1 7 LD-5 0.1 比較例3-4 C -1 _ 1 0.5 — — — — 比較例3-5 C’ -2 — 2 0.5 — — — — 比較例3-6 C -3 — 3 0.5 — — — — -116- 201127812 表7 保存 安定性 曝光靈敏 度(mJ/cm2) 圖案大 小 (/m) 顯像性 強制加熱歴 時 之著色變化 基板密合 姓 圖案截面形 狀 後加熱後之 圖案截面形 狀 實施例3-18 A 1100 1.97 A A A 矩形 矩形 實施例3-19 A 1200 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-20 A 1000 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-21 A 900 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-22 A 1300 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-23 A 1400 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-24 A 700 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3-25 A 800 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-26 A 600 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-27 A 800 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-28 A 850 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-29 A 850 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-30 A 650 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-31 A 650 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-32 A 650 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-33 A 600 1.98 A A A 矩形 矩形 實施例3-34 A 600 1.98 A A A 矩形 矩形 比較例3-4 B 3200 1.92 B B C 倒錐形 正錐形 比較例3-5 A 2400 1.92 B C B 倒錐形 正錐形 比較例3-6 A 4600 1.92 c B B 倒錐形 正錐形 〔實施例3 - 3 5〕 混合溶解下述組成D-1之化合物,調製出含有著色劑 (顏料)之著色光聚合性組成物D-1。 <組成D-1 > •3 -乙氧基丙酸乙酯〔溶劑〕 17.9份 •著色劑 C.I.Pigment Red 254 之分散液 33. 份 -117- 201127812 (固體成分:15質量%,固體成分中顏料含有率:6〇 % ) •著色劑 C·1.Pigment Yellow 139 之分散液 22.23 份 (固體成分:15質量%,固體成分中顏料含有率:6〇 % ) •自由基聚合性單體(聚合性化合物) 2.5份 〔新戊四醇二丙烯酸酯與二新戊四醇六丙烯酸酯爲 3 : 7之混合物〕 •特定化合物1(特定肟化合物) ο]份 •甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物 2〇份 (莫耳比=70/3 0) 〔實施例3 - 3 6〜實施例3 - 5 1 '比較例3 - 7〜比較例3 - 9〕 將實施例3-35中著色光聚合性組成物〇_;!的調製所用 之組成D-1中之特定化合物丨(特定肟化合物)〇 5份以表8 所示之各化合物及量進行取代。此外,於實施例3_44〜實 施例3-51中進而添加表8所示之種類及量的增感劑及共增 感劑’除此之外完全以與實施例3_35相同的方式調製著色 光聚合性組成物D-2〜D-17及d,-1〜D,-3。 將所得之各著色光聚合性組成物進行與實施例3 _丨相 同的評價。結果示於表9。 -118- 201127812 表8 聚合起始劑 增感劑 共增感劑 著色光聚合性 組成物 特定化合 物 比較化合 物 含量(份) mm 含量(份) 種類 含量(份) 實施例3-35 D-1 1 — 0.5 — — — — 實施例3-36 D-2 2 — 0.5 — — — — 實施例3-37 D-3 3 — 0.5 — — — — 實施例3-38 D-4 4 — 0.5 — — — — 實施例3-39 D-5 5 — 0.5 — — — 一 實施例3-40 D-6 6 — 0.5 — — — — 實施例3-41 D-7 7 — 0.5 — — — — 實施例3-42 D-8 8 — 0,5 — — — — 實施例3-43 D-9 9 — 0.5 — — — — 實施例3-44 D-10 8 — 0.4 A1 0.1 — — 實施例3-45 D-11 8 — 0.4 A2 0.1 — — 實施例3-46 D-12 8 — 0.4 A3 0.1 — — 實施例3-47 D-13 8 — 0.4 — — F1 0.1 實施例3-48 D-14 8 — 0.3 A2 0.1 F1 0.1 實施例3-49 D-15 8 — 0.3 A2 0.1 F2 0.1 實施例3-50 D-16 8 — 0.3 A2 0.1 F3 0.1 實施例3-51 D-17 0.3 F3 0.1 8 LD-5 0.1 比較例3-7 D,-1 — 1 0.5 — — .. — — 比較例3-8 D,-2 — 2 0.5 — — — — 比較例3-9 D,-3 - 3 0.5 — — — - -119- 201127812 表9 保存 安定性 曝光靈敏 度(mJ/cm2) 圖案大 小 (jtzm) 顯像性 強制加熱歷 時 之著色變化 基板密合 姓 圖案截面形 狀 後加熱後之 圖案截面形 狀 實施例3-35 A 1500 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3-36 A 1400 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3-37 B 1400 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3-38 A 1200 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3·39 A 1700 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3*40 A 1900 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3-41 A 900 1.94 A A A 矩形 矩形 實施例3-42 A 900 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3·43 A 900 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3·44 A 850 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例345 A 850 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3-46 A 800 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3-47 A 800 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例348 A 750 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例349 A 700 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3-50 A 700 1.96 A A A 矩形 矩形 實施例3-51 A 1200 1.96 A A A 矩形 矩形 比較例3-7 B 6000 1.92 c B c 倒錐形 正錐形 比較例3-8 A 4500 1.92 B G c 倒錐形 正錐形 比較例3-9 A 7000 1.92 C B c 倒錐形 正錐形 由表5、表7、及表9的結果可知,含有特定脰化合物 (特定化合物1〜特定化合物9)之各實施例之著色光聚合性 組成物爲保存安定性(歷時安定性)優異者。此外,亦可知 該等著色光聚合性組成物其曝光靈敏度高、用於形成彩色 濾光片之著色圖案時之顯影性優異、圖案大小接近遮罩大 小之2/zm、所得之著色圖案於加熱歷時無著色、且基板密 合性、圖案截面形狀及後加熱圖案截面形狀皆優異。 -120- 201127812 又由表9可明顯得知,即使顏料的含量較多時亦具有 優異之曝光靈敏度。 〔實施例4 - 1〜4 - 3 8、比較例4 -1〜4 -1 2〕 (黑色光聚合性組成物的調製) <碳黑分散液A的調製> 將下述組成1利用雙輥實施高黏度分散處理而獲得分 散物。此時之分散物的黏度爲70,00 OmPa· s。 然後於該分散物中添加下述組成2,以3,00 〇rpm之條 件使用均質機攪拌3小時。將獲得之混合溶液藉由使用 0.3mm锆珠之分散機(商品名:DISPERMAT,GETZMANN 公司製)實施4小時微分散處理,調製出碳黑分散液A(以下 標記爲CB分散液A)。此時之混合溶液的黏度爲37mPa· s。 (組成1) •平均一次粒徑 1 5nm 碳黑(Pigment Black 7) 23 份 •甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(莫耳比:7 0/30, Mw: 30,000)之丙二醇單甲醚乙酸酯45%溶液 22份 • SOLSPERSE 5000(Japan Lubrizol 公司製) 1.2 份 (組成2) •甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(莫耳比:70/30, Mw: 30,000)之丙二醇單甲醚乙酸酯45%溶液 22份 •丙二醇單甲醚乙酸酯 200份 -1 2 1 - 201127812 <黑鈦分散液A的調製> 將下述組成3利用雙輥實施高黏度分散處理而獲得分 散物。此時之分散物的黏度爲40,00 OmPa· s。 (組成3) .平均一次粒徑75nm黑鈦13M-C 39份 (Mitsubishi Material(股)製)(Pigment Black 35) •甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(莫耳比:70/3 0, Mw: 30,00 0)之丙二醇單甲醚乙酸酯溶液 8份 • SOLSPERSE 5 000(Japan Lubrizol 公司製) 1 份 於所得之分散物中添加下述成分4,以3,0 00rpm之條 件使用均質機攪拌3小時》將獲得之混合溶液藉由使用 〇.3mm鉻珠之分散機(商品名:DISPERMAT GETZMANN 公司製)實施4小時微分散處理,而獲得黑鈦分散液A(以下 標記爲TB分散液A)。 此時之混合溶液的黏度爲7.0m Pa. s。 (組成4) •甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(莫耳比:70/3 0, Mw : 3 0,00 0)之丙二醇單甲醚乙酸酯溶液 8份 •丙二醇單甲醚乙酸酯 200份 <黑色光聚合性組成物E-1〜E-18'及E’ -1〜E’ -6的調製> 將下述組成E-a之成分以攪拌機混合,調製出黑色光 聚合性組成物E-1〜E-18、及E’ -1〜E’ -6。 -1 22- 201127812 (組成E-a) •甲基丙烯酸酯/丙烯酸共聚物(鹼可溶樹脂)(共聚合莫 耳比:75/25,重量平均分子量:50000) 1.6份 •二新戊四醇六丙烯酸酯 2.3份 •乙氧基化新戊四醇四丙烯酸酯 0.8份 •上述CB分散液A或上述TB分散液A 24份 •丙二醇單甲醚乙酸酯 10份 •乙基-3-乙氧基丙酸酯 8份 •表1 〇所記載之化合物:特定肟化合物或比較化合物 表1 〇所記載之量 .共增感劑:上述F3 無添加、或0.1份 -123- 201127812 表ίο 黑色光聚合 性組成物 組成 分散液 聚合起始劑 共增感劑 特定化合物 比較化合物 含量 (質量份) 種類 含置 (質量份) 實施例4-1 E-1 E-a CB分散液A 1 — 0.8 — — 實施例4-2 E-2 E-a CB分散液A 2 — 0.8 — 一 實施例4-3 E-3 E-a CB分散液A 3 — 0.8 — — 實施例4-4 E-4 E-a CB分散液A 4 — 0.8 — — 實施例4-5 E-5 E-a CB分散液A 5 — 0.8 — — 實施例4-6 E-6 E-a CB分散液A 6 — 0.8 — — 實施例4-7 • E-7 E-a CB分散液A 7 — 0.8 — — 實施例4-8 E-8 E-a CB分散液A 8 — 0.7 — — 實施例4-9 E-9 E-a CB分散液A 9 — 0.7 — — 實施例4-10 E-10 E-a CB分散液A 1 一 0,1 F3 0.1 實施例4-11 E-11 E-a TB分散液A 1 — 0.8 — — 實施例4-12 E-12 E-a TB分散液A 2 — 0.8 — — 實施例4-13 E-13 E-a TB分散液A 3 — 0.8 — — 實施例4-14 E-14 E-a TB分散液A 4 — 0.8 — — 實施例4-15 E-15 E-a TB分散液A 7 — 0.8 — — 實施例4-16 E-16 E-a TB分散液A δ — Ο.δ — — 實施例4-17 E-17 E-a TB分散液A 9 — 0.8 — — 實施例4-18 E-18 E-a TB分散液A 9 — 0.7 F3 0.1 比較例4-1 E* -1 E-a CB分散液A — 1 0.8 — — 比較例4-2 E’ -2 E-a CB分散液A — 2 0.8 — — 比較例4-3 E,-3 E-a CB分散液A — 3 0.8 — 一 比較例44 E,-4 E-a TB分散液A — 1 0.8 — — 比較例4-5 Ε’ ·5 E-a TB分散液A — 2 0.8 ' — 一 比較例4-6 Ε,-6 E-a TB分散液A - 3 0.8 — — <黑色光聚合性組成物E-19〜E-38、及E’ -7〜E’ -12的 調製> 將下述組成E-b之成分以攪拌機混合調製出黑色光聚 合性組成物E-19〜E-38及E’ -7〜E’ -12。 -124- 201127812 (組成E-b) •二新戊四醇六丙烯酸酯 2.3份 .上述CB分散液A或上述TB分散液A 24份 •丙二醇單甲醚乙酸酯 10份 •乙基-3-乙氧基丙酸酯 8份 •表1 1所記載之化合物:特定肟化合物或比較化合物 表1 1所記載之量 .共增感劑:上述F 3 無添加、或〇. 1份 -125- 201127812 表11 黑色光聚合 髓成物 組成 分散液 聚合起始劑 共增感劑 特定化合物 比較化合物 含量 (質量份) 麵 含量 (質量份) 實施例4-19 Ε-19 E-b CB分散液A 1 — 0.8 一 — 實施例‘20 Ε-20 E-b CB分散液A 2 — 0.8 — — 實施例4*21 Ε-21 E-b CB分散液A 3 — 0.8 — 一 實施例4-22 Ε-22 E-b CB分散液A 4 — 0.8 — — 實施例4-23 Ε-23 .E-b CB分散液A 5 — 0.8 — 一 實施例4>24 Ε-24 E-b CB分散液A 6 — 0.8 — 一 實施例4-25 Ε-25 E-b CB分散液A 7 — 0.8 — — 實施例4-26 Ε-26 E-b CB分散液A 8 — 0.8 — — 實施例4·27 Ε-27 E-b CB分散液A 9 — 0.8 — 一 實施例4-28 Ε-28 E-b CB分散液A 8 — 0.7 F3 0.1 實施例4-29 Ε-29 E-b TB分散液A 1 — 0.8 — — 實施例4>30 Ε-30 E-b TB分散液A 2 — 0.8 — — 實施例4-31 Ε-31 E-b TB分散液A 3 — 0.8 — — 實施例4-32 Ε-32 E-b TB分散液A 4 — 0.8 — — 實施例4-33 Ε-33 E-b TB分散液A 5 — 0.8 — — 實施例4*34 Ε-34 E-b TB分散液A 6 — 0.8 — — 實施例4-35 Ε-35 E-b TB分散液A 7 — 0.8 — — 實施例‘36 Ε-36 E-b TB分散液A 8 一 0.8 — — 實施例4>37 Ε-37 E-b TB分散液A 9 — 0.8 — ... — 實施例4-38 Ε-38 E-b TB分散液A 8 — 0.7 F3 0.1 比較例4-7 Ε’ -7 E-b CB分散液A — 1 0.8 — — 比較例4-8 Ε’ -8 E-b CB分散液A — 2 0.8 — — 比較例4-9 Ε,-9 E-b CB分散液A — 3 0.8 — — 比較例‘10 Ε,-10 E-b TB分散液A — 1 0.8 — — 比較例4-11 Ε,-11 E-b TB分散液A — 2 0.8 — — 比較例4-12 Ε’ -12 E-b TB分散液A — 3 0.8 - - 使用上述方式所製得之黑色光聚合性組成物 E-l〜 E-3 8及E’ -1〜E’ -12進行以下評價。其結果經整理示於 表12及表13。 -126- 201127812 •曝光靈敏度評價- 首先’利用下述方法求出上述方式所製得之黑色光聚 合性組成物E-1〜E-38及E,·〖〜£,_12的曝光靈敏度並 進行評價。 使用黑色光聚合性組成物E-1〜E-38及E’ -1〜E’ -12均勻塗佈於矽晶片上,並調整旋塗法的塗佈旋轉數使塗 佈後經加熱板以表面溫度1 2 0 °C 1 2 0秒之加熱處理後的膜 厚成爲1.0/zm,而獲得Ι.Ομιη的塗膜。 接著,使用 i線歩進曝光裝置 FPA-3 000iS + (CANON(股)製),隔著描繪有i〇nm之L&S(線/間距)圖案 之遮罩照射 100〜5, l〇〇m J/cm2之範圍之曝光量(以 lOOmJ/cm2爲間隔而變化)。 照射後,使用氫氧化四甲銨(TMAH)0.3 %水溶液於23 °C進行60秒混拌顯影,然後使用純水藉由旋淋機進行20 秒洗淨,進而再以純水沖洗。然後將附著的水滴以高純度 的空氣去除使基板自然乾燥,而獲得黑色影像圖案。 所得之各著色影像圖案係利用光學顯微鏡根據下述基 準進行評價。 測定使上述曝光步驟中受光照射之區域於顯影後之膜 厚成爲相對於曝光前之膜厚100%的95%以上之最小曝光 量’將其視爲曝光靈敏度來評價。 曝光靈敏度之値越小表示靈敏度越高。 -127- 201127812 -保存安定性(歷時安定性)評價- 此外,上述方式所製得之黑色光聚合性組成物E-1〜 E-38及E’ -1〜E’ -12的保存安定性(歷時安定性)係利用 下述方法進行評價; 亦即將黑色光聚合性組成物E-1〜E-38及E’ -1〜E’ -12於室溫保存1個月後,根據下述判定基準對於異物的析 出程度以目視進行評價。 -判定基準- A =無法確認出析出 可確認出些微析出 C ·’可確認出析出 -顯影性評價- 進而,上述方式所製得之黑色光聚合性組成物E-1〜 E-38及E’ _i〜E’ _12的顯影性係利用下述方法進行評 價。 亦即觀察上述靈敏度評價時之曝光步驟中未受光照射 之區域(未曝光部)有無殘渣來評價顯影性。評價基準係如 下所述。 -評價基準_ A:確認出於未曝光部完全無殘渣 B:確認出未曝光部有些許殘渣,但在實用上並無問題 C :確認出於未曝光部明顯有殘渣 -1 28- 201127812表12
曝光靈敏度 (mJ/cm2) 保存安定性 顯像性 實施例4-1 200 A A 實施例4-2 250 A A 實施例4-3 200 A A 實施例4*4 150 A A 實施例4-5 450 A A 實施例4-6 400 A A 實施例4-7 100 A A 實_4-8 150 A A 實施例4-9 100 A A 實施例4-10 150 A A 實施例4-11 200 A A 實施例4-12 200 A A 實施例4-13 150 A A 實施例4-14 120 A A 實施例4-15 90 A A 實施例4-16 130 A A 實施例4-17 90 A A 實施例4-18 90 A A 比較例4-1 900 B C 比較例4-2 700 A C 比較例4-3 1000 B c 比較例4-4 800 B c 比較例4-5 600 A B 比較例4-6 900 B B -129- 201127812 表13
曝光靈敏度 (mJ/cm2) 保存安定性 顯像性 實施例4-19 500 A A 實施例4-20 400 A A 實施例4-21 400 A A 實施例4-22 400 A A 實施例4-23 550 A A 實施例4-24 5⑴ A A 實施例4-25 130 A A 實施例4-26 150 A A 實施例4-27 150 A A 實施例4-28 150 A A 實施例4-29 300 A A 實施例4-30 200 A A 實施例4-31 200 A A 實施例4-32 200 A A 實施例4-33 450 A A 實施例4-34 500 A A 實施例4-35 150 A A 實施例4-36 100 A A 實施例4-37 90 A A 實施例4-38 80 A A 比較例4-7 1200 C C 比較例14-8 900 A C 比較例4-9 1500 B c 比較例4-10 1000 C c 比較例4-11 600 A c 比較例4-12 800 B B 由表12及表13可知,含有特定肟化合物 之黑色光聚合性組成物爲保存安定性(歷時安 者。此外,亦可知該等黑色光聚合性組成物相j 乙各實施例 定性)優異 芝於比較例 -130- 201127812 其曝光靈敏度較高,且未曝光部之顯影性較優異,故即使 曝光量較少亦可形成良好的黑色圖案(著色圖案)。 〔實施例5〕 <全彩彩色濾光片的製作> 將上述實施例4-1所製作之黑色影像圖案作爲黑矩 陣’於該黑矩陣上使用上述著色光聚合性組成物A-1,並 利用與實施例3-1所記載之方法相同之手段形成1. 6x1.6 // m之綠色(G)著色圖案。 進而單獨將上述著色光聚合性組成物A-1中之顏料 (C.I.Pigment Green 36 與 C.I.Pigment Yellow 219 爲 30/70 〔質量比〕混合物)變更爲藍色顏料(C.I.Pigment Blue 15 : 6與C.I.PigmentViolet23爲30/70〔質量比〕混合物)與紅 色顏料(C.I.PigmentRed254),其餘以與上述相同的方式, 調製出藍色(B)、紅色(R)之著色光聚合性組成物。 對於上述矽晶片基板上設置有黑矩陣以及綠色像素之 基板上利用與綠色(G)光聚合性組成物A-1所實施之相同 方式依序形成l.6xl.6//m之藍色(B)、紅色(R)圖案,而製 作出固態攝影元件用之彩色濾光片。 製得之全彩彩色濾光片係利用與實施例3-1相同之方 法,對於黑色影像圖案與RGB各色之著色圖案、其各別之 截面形狀及基板密合性進行評價,結果可知其圖案皆爲矩 形、且皆無圖案缺陷、基板密合性優異。 -131- 201127812 〔實施例6〕 <固態攝影元件的製作> 將實施例5所獲得之全彩彩色濾光片組裝於固態攝影 元件,該固態攝影元件經確認具有高解析度、且色分離性 優異。 〔實施例7-1〜7-15、比較例7-1〜7-4〕 <支持體的製作> 將厚度 0.30mm之材質1S鋁板利用8號尼龍刷與 8 OOmesh之浮石之水懸浮液對其表面進行粗化硏磨,然後 仔細用水洗淨。然後以1 〇 %氫氧化鈉於70 °C浸漬60秒進 行蝕刻後,再以流水進行沖洗,接著以20% HN〇3進行中 和洗淨並沖洗。將該鋁板於VA=12.7V之條件下使用正弦 波之交流波形電流,於1%硝酸水溶液中300庫倫/dm2之 陽極時電量進行電解粗面化處理。其表面粗度經測定爲〇 〜45//m(以Ra表示)。接著將鋁板浸漬於30%H2SO4水溶 液中於55°C去污2分鐘後,再於33乞20%1123〇4水溶液中 將陰極配置於其經粗化硏磨之面上,並於電流密度5 A/dm 2 之條件下進行50秒陽極處理’所得之厚度爲2.7 g/m 2 ° 藉由以上方式製得平版印刷版原版用支持體A-1。 <感光層的形成> 於製得之支持體上塗佈下述組成之感光層用塗佈液 (使乾燥塗佈量成爲i·48/1112)’並於95 °C進行乾燥以形成感 光層。 -132- 201127812 -感光層用塗佈液組成- .加成聚合性化合物(表14所記載之Μ' Ν'或0) 0.8 0 份 .黏合劑聚合物(表14所記載之B1、Β2、或Β3) 0.90 份 •增感劑(表14所記載之Al、Α2、或A3) 無添加 或〇 · 1 〇份 •表1 4所記載之化合物:特定肟化合物、比較化合物 或 LD-5 〇.〇5 份 •共增感劑(表14所記載之上述F2或上述F3) 無添 加或〇 . 2 5份 •氟系界面活性劑(Megafac F-177 : DIC(股)製) 0.02 份 •熱聚合抑制劑(N-亞硝基羥胺鋁鹽) 0.03份 • ε型銅駄青分散物 0.2份 •甲基乙基酮 16.0份 •丙二醇單甲醚 16.0份 型銅酞青分散物的調製- 除了將顏料分散液(P1)的調製中顏料之C.I.Pigment Green 36 與 C.I.Pigment Yellow 219 之總量取代爲 C.I.PigmentBluel5: 6,其餘以與P1的調製相同的方式而 獲得C.I.Pigment Blue 15 : 6之顏料分散液。 -1 33- 201127812 表14 實施例7-1 支持體 ------- 感光層 特定化合物 或比較化合物 加成聚合性 化合物 黏合劑 聚合物 增感劑 共增感劑 塗佈量 (g/m2) Α-1 特定化合物1 Μ B1 一 1.4 實施例7-2 實施例7-3 實施例7-4 實施例7-5 Α-1 特定化合物2 Μ B1 一 1.4 Α-1 — 特定化合物3 Μ B1 — 1.4 Α-1 ----^ 特定化合物4 Μ B1 — 1.4 Α-1 特定化合物5 Μ B1 一 1.4 實施例7-6 Α-1 特定化合物6 Μ B1 _ 1.4 實施例7-7 實施例7-8 Α-1 特定化合物7 Μ B1 一 1.4 Α-1 1 特定化合物8 Μ B1 _ 1.4 實施例7-9 Α-1 特定化合物9 Μ B1 1.4 實施例7-10 實施例7-11 Α-1 —-—___ 特定化合物2 Μ B1 A1 F2 1.4 Μ 特定化合物2 Ν B2 A1 F2 1.4 實施例7-12 Α-1 特定化合物2 〇 B3 A1 F2 1.4 實施例7-13 實施例7-14 Α-1 特定化合物2 〇 B3 A2 F2 1.4 Α-1 特定化合物2 〇 B3 A3 F3 1.4 實施例7-15 Α-1 特定化合物2 〇 B3 A3 F3 1.4 比較例7-1 比較例7-2 Α-1 **—— 比較化合物1 Μ B1 — 1.4 Α-1 比較化合物2 Μ B1 一 1.4 比較例7-3 Α-1 比較化合物3 Μ B1 一 1.4 比較例7·4 Α-1 LD-5 Μ B1 A1 F2-* 1.4 表14中「加成聚合性化合物」欄中之Μ、N、0、以 及「黏合劑聚合物」欄中之Bl、B2、B3的詳細內容係如 下所述。其中’下述B3係由MDI與HMDI所構成之混合 物(混合莫耳比:80/20)、與下述構造之DMPA與PPG(m = 3) 與TEG所構成之混合物(混合莫耳比:52/22/26)經過等莫 耳(平均)聚合之聚合物(重量平均分子量:70000)。 -1 34- 201127812
士n〇L〇 匕# DMPA=52 PPG1000=22 <保護層的形成> 於製得之感光層上塗佈聚乙烯醇(皂化度98mol%,聚 合度5 5 0) 3 %之水溶液(使乾燥塗佈質量成爲2g/m2),並於 l〇〇°C乾燥2分鐘以形成保護層。 藉由以上方式獲得實施例及比較例之平版印刷版原 版。 a -135- 201127812 <製版> 對於平版印刷版原版進行以下之曝光·顯影處理。 (曝光) 將平版印刷版原版利用波長40 5nm之Violet LD(FFEI 公司製Violet Boxer)以50〆J/cm2之曝光量、並以4,000dpi 之175線/英吋之條件對實體影像(solid image)與1〜99% 之網點影像(以1 %爲間隔)進行掃描曝光。 (顯影) 利用裝有下述顯影液1及finishing gum液「FP-2W」 (FUJIFILM(股)製)之自動顯影機(FUJIFILM(股)製 LP- 8 5 0P2)進行標準處理。預熱條件爲版面到達溫度1〇〇 °C,顯影液溫爲3 (TC,顯影液的浸漬時間爲約1 5秒。 顯影液1係由下述組成所構成,其pH於25 °C爲1 1.5, 導電率爲5mS/cm。 -顯影液1的組成- _ •氫氧化紳 〇 · 1 5 g •聚氧乙烯苯醚(n=13) 5.0g • Chelest 400(螯合劑) O.lg •水 94.75g <評價> 實施例及比較例之平版印刷版原版之靈敏度、保存安 定性及形成之影像部的耐刷性係以下述方法進行評價。結 果經整理記載於表1 5。 -136- 201127812 (1) 靈敏度的評價 將平版印刷版原版以上述條件進行曝光,之 上述條件進行顯影而形成影像,並利用網點面 (GretagMacbeth公司製)對此時之50%網點之面 測定。數字越大表示靈敏度越高。 (2) 影像部耐刷性試験 使用Man Roland公司製「R201」之印刷機、 墨化學工業(股)製「GEOS-G(N)」之油墨、以及平 原版進行印刷。觀察實體影像部的印刷物,藉由 細斑化之張數調查耐刷性。數字越多表示耐刷性 (3) 強制歷時變化量(保存安定性)的評價 除了將各種平版印刷版原版與隔紙一同以鋁 行密閉,並於60 °C放置4日,其餘以與評價靈敏 相同的方法進行網點面積的測定。接著,算出有 置4日之網點面積與沒有在60 °C放置4日之網點 的差,以測定強制歷時所造成之網點變動(△ % )。 絶對値越小表示強制歷時所造成之影響越少,亦 定性越高。 後立即以 積測定器 積%進行 大曰本油 版印刷版 影像開始 越佳。 牛皮紙進 度時完全 在60°C放 面積之間 其數字之 即保存安 -137- 201127812 表15 靈敏度(%) (50%網點面積) 強制歷時 變化童(%) 影像部耐刷性 試驗 實施例7-1 56 2.0 70000 實施例7-2 56 2.0 70000 實施例7-3 56 2.0 60000 實施例7*4 60 2.0 100000 實施例7-5 52 2.0 40000 實施例7-6 52 2.0 40000 實施例7-7 65 2.0 100000 實施例7-8 67 2.0 120000 實施例7-9 69 2.0 120000 實施例7-10 57 2.0 70000 實施例7-11 57 2.0 7_ 實施例742 59 2.0 100000 實施例7-13 60 2.0 100000 實施例7-14 62 2.0 100000 賨施例7-15 65 2.0 100000 比較例7-1 45 2.0 1000 比較例7-2 47 2.0 5000 比較例7-3 40 2.0 2000 比較例7-4 48 2.0 10000 -由表15可知,含有本發明之特定肟化合物之感光層之 實施例7 -1〜7 -1 5之平版印刷版原版爲高靈敏度、且保存 安定性及耐刷性優異者。 另一方面,比較例7-1〜7-4之平版印刷版原版其靈敏 度及耐刷性皆較實施例之平版印刷版原版爲差。 【圖式簡單說明】 姐〇 vt、、 【主要元件符號說明】 〇 J\\\ -138-

Claims (1)

  1. 201127812 七、申請專利範圍: 1·—種光聚合性組成物,其係含有(A)光聚合起始劑及(b) 聚合性化合物,該(A)光聚合起始劑具有下述通式(1)所表 示之部分構造
    ⑴ 通式(1)中,R3及R4爲各自獨立,表示氫原子、烷 基、烯基、炔基、芳香基、雜芳基、或烷氧基;R3與R4 亦可共同形成環;X表示OR5' SR6、或NR17R18; R5、 R6、R17、及R18爲各自獨立,表示氫原子、烷基、烯基、 炔基、芳香基、或雜芳基;R17與R18之間亦可直接或經 由2價之連接基而形成環。 2.如申請專利範圍第1項之光聚合性組成物,其中該具有 通式(1)所表示之部分構造之光聚合起始劑爲下述通式(2) 所表示之化合物; Ο Ri/B、ciN、〇/0、c/ ⑵ R2 r/4、X 通式(2)中,R1及R2爲爲各自獨立,表示氫原子、 烷基、烯基、炔基、芳香基、或雜芳基;R1與R2亦可共 同形成環;B1表示單鍵或羰基;R3、R4、及X分別與該 通式(1)中之R3、R4、及X同義。 3.如申請專利範圍第1項之光聚合性組成物,其中該具有 通式(1)所表示之部分構造之光聚合起始劑爲下述通式(3) 所表示之化合物; -139- 201127812 (rV
    通式(3)中’ B1、X、R2、R3、及R4分別與該通式(2) 中之“’乂〜尺^以’及“同義:…表示氫原子〜烷基、 烷氧基、或烷硫基;R8亦可經由2價之連接基與R2鍵結 而形成環構造;R9表示烷基、烯基、芳香基、雜芳基、 烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、胺基、芳羰基、雜 芳羰基、或鹵原子,當存在複數個R9時其亦可分別經由 2價之連接基而鍵結;η表示0至2的整數;當n爲2時 R9可相同或相異。 4.如申請專利範圍第1項之光聚合性組成物,其中該具有 通式(1)所表示之部分構造之光聚合起始劑爲下述通式(4) 或通式(5)所表示之化合物:
    通式(4)中’Β2表示單鍵、伸烷基 '氧原子、硫原子 或羰基:Υ表示伸烷基、氧原子、硫原子、或NRu ; R 表示烷基或芳香基;Rie表示氫原子、鹵原子、芳羯基 R4分別與該通式(2)中 或雜芳羰基;B1、X、R2、R3、及 之B1、X、R2、R3、及R4同義;R8與該通式(3)中之r 同義; -140- 201127812 通式(5)中,Z表示伸烷基、氧原子、或硫原 表示單鍵或2價之連接基;B1、X、R3、及R4分 通式(2)中之B1、X、R3、及R4同義;R9及n分別 式(3)中之R9及η同義;當η爲2時R9可相同或 5 ·如申請專利範圍第1項之光聚合性組成物,其中 通式(1)所表示之部分構造之光聚合起始劑爲下述 所表示之化合物; 子;Q丨 別與該 與該逋 相異。 該具有 通式(6) Re
    R R 17 1 9 R3、。儿0人。〔18 R2 R4’ > (6) 中之R: 及R18同義;B1及R2分別與 (2)中之B1及R2同義;R8與該通式(3)中之R8同 與該通式(4)中之R1()同義。 6.如申請專利範圍第1項之光聚合性組成物,其 通式(1)所表示之部分構造之光聚合起始劑爲下 或通式(8)所表示之化合物; 通式(1 ) •該通式 義;R10 1該具有 [通式(7)
    該通式(7)及通式(8)中’ R12表示氫原子、顏 芳香基;Q2表示 _(CH2)nl- ,111表示0至2 01 R3、R4、R17、及R18分別與該通式(1)中之R3、R 及R18同義;R2及B1分別與該通式(2)中之R2及] -14 1- ί基、或 ]整數; 4、R17 ' 31同義; 201127812 R8、R9、及η分別與該通式(3)中之R8、R9、及n同義; R1Q與該通式(4)中之R1(>同義;當η爲2時R9可相同或 相異。 7. 如申請專利範圍第1項之光聚合性組成物,其係進一步 含有(C)著色劑。 8. 如申請專利範圍第7項之光聚合性組成物,其中該(C)著 色劑爲顏料,且進一步含有(D)顏料分散劑。 9. 如申請專利範圍第7項之光聚合性組成物,其中該(C)著 色劑爲黑色著色劑。 1 〇 _如申請專利範圍第7項之光聚合性組成物,其係用於形 成彩色濾光片之著色區域。 11. 一種彩色濾光片,其係於支持體上具有使用如申請專利 範圍第10項之光聚合性組成物所形成之著色區域。 12. —種彩色濾光片之製造方法,其係包含以下步驟: 於支持體上塗佈如申請專利範圍第10項之光聚合性 組成物而形成光聚合性組成物層之步驟; 將該光聚合性組成物層曝光成爲圖案狀之步驟; 將曝光後之該光聚合性組成物層進行顯像而形成著 色圖案之步驟。 1 3 · —種固態攝影元件,其係具備如申請專利範圍第1 1項 之彩色濾光片。 1 4 · 一種液晶顯示裝置,其係具備如申請專利範圍第1 1項 之彩色濾光片。 -142- 201127812 15. —種平版印刷版原版,其係於支持體上具有含如申請專 利範圍第1至7項中任一項之光聚合性組成物之感光層。 16. —種化合物’其係如下述通式(6)、(乃、或(8)所示;
    該通式(6)〜(8)中’ R2表示氫原子、烷基、烯基、炔 基、芳香基、或雜芳基;R3及R4爲各自獨立,表示氫原 子、烷基、烯基、块基、芳香基、雜芳基、或烷氧基; R3與R4亦可互相形成環;118表示氫原子、烷基、烷氧基、 或院硫基;R8亦可經由2價之連接基與R2鍵結而形成環 構造;R9表示烷基、烯基、芳香基、雜芳基、烷氧基、 芳氧基、烷硫基、芳硫基、胺基、芳羰基、雜芳羰基、 或鹵原子;當存在複數個R9時其亦可分別經由2價之連 接基而鍵結;η表示〇至2的整數;當n爲2時R9可相 同或相異;r1q表示氫原子、鹵原子' 芳羰基、或雜芳羰 基;R12表示氫原子 '烷基、或芳香基;Ri7& R】8爲各 自獨立’表示氫原子、烷基、烯基、炔基 '芳香基、或 雜芳基;R17與R18之間亦可直接或經由2價之連接基而 形成環;B1表示單鍵或羰基;q2表示_(CH2)nl- ,nl 表示0至2的整數。 -1 43- 201127812 四、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:無。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 無0 五、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式: ? R3
    C / 、〇、σ ⑴ R;4 X
TW099129574A 2009-09-14 2010-09-02 光聚合性組成物、彩色濾光片、及其製造方法、固態攝影元件、液晶顯示裝置、平版印刷版原版、以及新穎化合物 TWI486334B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009211931 2009-09-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201127812A true TW201127812A (en) 2011-08-16
TWI486334B TWI486334B (zh) 2015-06-01

Family

ID=43732319

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW099129574A TWI486334B (zh) 2009-09-14 2010-09-02 光聚合性組成物、彩色濾光片、及其製造方法、固態攝影元件、液晶顯示裝置、平版印刷版原版、以及新穎化合物

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8691352B2 (zh)
EP (1) EP2479613A4 (zh)
JP (1) JP5535814B2 (zh)
KR (1) KR101732451B1 (zh)
CN (1) CN102483572B (zh)
TW (1) TWI486334B (zh)
WO (1) WO2011030645A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI699618B (zh) * 2015-08-31 2020-07-21 日商富士軟片股份有限公司 著色層的製造方法、彩色濾光片、遮光膜、固體攝影元件及圖像顯示裝置

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5728336B2 (ja) 2011-08-31 2015-06-03 富士フイルム株式会社 カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子の製造方法
JP6074949B2 (ja) * 2011-10-03 2017-02-08 Jsr株式会社 着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子
WO2013141014A1 (ja) * 2012-03-22 2013-09-26 株式会社Adeka 新規化合物及び感光性樹脂組成物
JP6008760B2 (ja) * 2013-03-05 2016-10-19 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法
JP6008891B2 (ja) 2013-03-15 2016-10-19 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子及び液晶表示装置
US10095110B2 (en) * 2015-11-26 2018-10-09 Jsr Corporation Photosensitive resin composition, method for forming resist pattern, and method for producing metallic pattern
KR101892086B1 (ko) * 2016-05-19 2018-08-27 주식회사 삼양사 옥심에스테르 유도체 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제, 및 감광성 조성물
KR102402726B1 (ko) * 2016-09-16 2022-05-27 미쯔비시 케미컬 주식회사 감광성 수지 조성물, 경화물 및 화상 표시 장치
WO2018135249A1 (ja) * 2017-01-23 2018-07-26 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、及び、硬化膜の製造方法
KR101910734B1 (ko) * 2017-03-28 2018-10-22 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치
CN107797383A (zh) * 2017-09-19 2018-03-13 合肥惠科金扬科技有限公司 一种amoled显示屏用复合树脂
CN111868626A (zh) * 2018-03-26 2020-10-30 富士胶片株式会社 感光性组合物
KR102590366B1 (ko) * 2019-01-18 2023-10-17 동우 화인켐 주식회사 하드마스크용 조성물

Family Cites Families (89)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE540601A (zh) 1950-12-06
BE606888A (zh) 1960-08-05 1900-01-01
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3280734A (en) 1963-10-29 1966-10-25 Howard A Fromson Photographic plate
DE1246134B (de) 1964-10-23 1967-08-03 Asea Ab Schwerwasserkernreaktor
US3458311A (en) 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
DK125218B (da) 1967-11-09 1973-01-15 Kalle Ag Lysfølsomt optegnelsesmateriale og lysfølsom blanding til anvendelse ved fremstilling af materialet.
ZA6807938B (zh) 1967-12-04
US3547651A (en) 1968-04-02 1970-12-15 Du Pont Photopolymerizable compositions containing organometal compounds
US3615480A (en) 1969-02-24 1971-10-26 Du Pont Developer solutions for photopolymerized layers
DE2033769B2 (de) 1969-07-11 1980-02-21 Ppg Industries, Inc., Pittsburgh, Pa. (V.St.A.) Bis-<2-acryloxyäthyl)hexahydrophthalat enthaltende Gemische und Herstellungsverfahren
JPS4841708B1 (zh) 1970-01-13 1973-12-07
DE2053683A1 (de) 1970-11-02 1972-05-10 Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich Photopolymerisierbare Kopiermasse
DE2064080C3 (de) 1970-12-28 1983-11-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
JPS5324989B2 (zh) 1971-12-09 1978-07-24
JPS5230490B2 (zh) 1972-03-21 1977-08-09
US3844790A (en) 1972-06-02 1974-10-29 Du Pont Photopolymerizable compositions with improved resistance to oxygen inhibition
JPS5026601A (zh) 1973-07-09 1975-03-19
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
DE2363806B2 (de) 1973-12-21 1979-05-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
US3902734A (en) 1974-03-14 1975-09-02 Twm Mfg Co Frames for axle suspension systems
JPS5311314B2 (zh) 1974-09-25 1978-04-20
ZA757984B (en) 1974-10-04 1976-12-29 Dynachem Corp Polymers for aqueous processed photoresists
DE2458345C3 (de) 1974-12-10 1979-08-23 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Durch UV-Licht härtbare Überzugsmassen und Druckfarben
JPS5177401A (ja) 1974-12-26 1976-07-05 Fuji Photo Film Co Ltd Genzoekisoseibutsu
ZA757987B (en) 1975-12-23 1976-12-29 Dynachem Corp Adhesion promoters for polymerizable films
JPS5928203B2 (ja) 1976-05-04 1984-07-11 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPS5344202A (en) 1976-10-01 1978-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd Developer composition and developing method
JPS5522759A (en) 1978-08-08 1980-02-18 Fuji Photo Film Co Ltd Developing method of positive type photosensitive lithographic printing plate
JPS5492723A (en) 1977-12-30 1979-07-23 Somar Mfg Photosensitive material and use
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
GB2029423A (en) 1978-08-25 1980-03-19 Agfa Gevaert Nv Photo-polymerisable materials and recording method
JPS5549729A (en) 1978-10-06 1980-04-10 Nec Corp Data transfer system
US4197173A (en) 1978-10-19 1980-04-08 General Electric Company Photocurable polyene-polythiol-siloxane-polyester composition for coating
DE2944866A1 (de) 1979-11-07 1981-05-21 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
DE2952698A1 (de) 1979-12-29 1981-07-02 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
DE2952697A1 (de) 1979-12-29 1981-07-02 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches kopiermaterial
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3120052A1 (de) 1981-05-20 1982-12-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial
JPS5854341A (ja) 1981-09-28 1983-03-31 Fuji Photo Film Co Ltd 現像方法および現像液
DE3223104A1 (de) 1982-06-21 1983-12-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
JPS595241A (ja) 1982-06-21 1984-01-12 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 放射線重合可能な混合物
JPS5944615A (ja) 1982-09-07 1984-03-13 Furuno Electric Co Ltd ジヤイロ装置
JPS5953836A (ja) 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS5971048A (ja) 1982-10-18 1984-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合系感光性組成物
US4511596A (en) 1983-01-20 1985-04-16 Ciba-Geigy Corporation Process for the electron beam curing of coating compositions
DE3331157A1 (de) 1983-08-30 1985-03-14 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Photopolymerisierbare mischungen, enthaltend tertiaere amine als photoaktivatoren
DE3406101A1 (de) 1984-02-21 1985-08-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern
DE3421511A1 (de) 1984-06-08 1985-12-12 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Polymerisierbare, perfluoralkylgruppen aufweisende verbindungen, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck
US4575330A (en) 1984-08-08 1986-03-11 Uvp, Inc. Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
US4590145A (en) 1985-06-28 1986-05-20 Daicel Chemical Industries, Ltd. Photopolymerization initiator comprised of thioxanthones and oxime esters
GB2180358B (en) 1985-07-16 1989-10-04 Mead Corp Photosensitive microcapsules and their use on imaging sheets
DE3710282A1 (de) 1987-03-28 1988-10-13 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3710281A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3710279A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
GB8714865D0 (en) 1987-06-25 1987-07-29 Ciba Geigy Ag Photopolymerizable composition iii
DE3738864A1 (de) 1987-11-16 1989-05-24 Hoechst Ag Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3817424A1 (de) 1988-05-21 1989-11-23 Hoechst Ag Alkenylphosphon- und -phosphinsaeureester, verfahren zu ihrer herstellung und durch strahlung polymerisierbares gemisch, das diese verbindungen enthaelt
DE3843205A1 (de) 1988-12-22 1990-06-28 Hoechst Ag Photopolymerisierbare verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
JPH05142772A (ja) 1991-11-26 1993-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH06250387A (ja) 1993-03-01 1994-09-09 Sumitomo Chem Co Ltd キノンジアジドスルホン酸エステルの製法及び該製法により得られたキノンジアジドスルホン酸エステルを含有してなる感放射線性樹脂組成物
JP3112771B2 (ja) 1993-04-19 2000-11-27 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
DE4414088A1 (de) 1994-04-22 1995-10-26 Basf Ag Gele mit thermotropen Eigenschaften
DE19700064A1 (de) 1996-01-13 1997-07-17 Basf Ag Gele mit thermotropen Eigenschaften
SG77689A1 (en) 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
NL1016815C2 (nl) 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.
JP2001253181A (ja) 2000-03-09 2001-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感熱性平版印刷用原板
JP2001322365A (ja) 2000-05-16 2001-11-20 Fuji Photo Film Co Ltd 感熱性平版印刷用原板
EP1395615B1 (en) 2001-06-11 2009-10-21 Basf Se Oxime ester photoinitiators having a combined structure
JP4420189B2 (ja) 2003-10-28 2010-02-24 株式会社Ihi X線検査装置
JP2005202252A (ja) 2004-01-16 2005-07-28 Dainippon Printing Co Ltd 固体撮像素子カラーフィルター用感光性着色組成物、固体撮像素子カラーフィルター、固体撮像素子、及び固体撮像素子カラーフィルターの製造方法
JP2005319758A (ja) * 2004-05-11 2005-11-17 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷方法及びそれに用いる平版印刷版原版
JP4572098B2 (ja) 2004-09-09 2010-10-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4613115B2 (ja) 2005-08-30 2011-01-12 富士フイルム株式会社 光重合型感光性平版印刷版
JP5312743B2 (ja) 2006-02-01 2013-10-09 富士フイルム株式会社 オキシム化合物及びそれを含む感光性組成物
JP4904869B2 (ja) * 2006-03-22 2012-03-28 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
JP2007302836A (ja) 2006-05-15 2007-11-22 Mikuni Color Ltd ブラックマトリックス形成用カーボンブラック分散液
TWI415904B (zh) 2006-06-02 2013-11-21 Fujifilm Corp 顏料分散組成物、光硬化性組成物、使用它所製造之彩色濾光片及彩色濾光片之製法
JP4792367B2 (ja) * 2006-09-29 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法
JP2008250074A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corp 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板
TWI620800B (zh) * 2007-06-21 2018-04-11 三菱化學股份有限公司 顏料分散液、彩色濾光片用著色組成物、彩色濾光片、液晶顯示裝置及有機el顯示器
JP2009109921A (ja) * 2007-10-31 2009-05-21 Fujifilm Corp カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP2009179619A (ja) * 2008-02-01 2009-08-13 Toyo Ink Mfg Co Ltd 新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物
JP5192876B2 (ja) * 2008-03-28 2013-05-08 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5359100B2 (ja) * 2008-08-01 2013-12-04 東洋インキScホールディングス株式会社 新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物
JP2010215575A (ja) * 2009-03-18 2010-09-30 Toyo Ink Mfg Co Ltd 新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI699618B (zh) * 2015-08-31 2020-07-21 日商富士軟片股份有限公司 著色層的製造方法、彩色濾光片、遮光膜、固體攝影元件及圖像顯示裝置

Also Published As

Publication number Publication date
TWI486334B (zh) 2015-06-01
KR20120080186A (ko) 2012-07-16
US8691352B2 (en) 2014-04-08
CN102483572B (zh) 2014-04-09
EP2479613A4 (en) 2014-01-22
EP2479613A1 (en) 2012-07-25
JP5535814B2 (ja) 2014-07-02
JP2011081349A (ja) 2011-04-21
US20120176571A1 (en) 2012-07-12
WO2011030645A1 (ja) 2011-03-17
CN102483572A (zh) 2012-05-30
KR101732451B1 (ko) 2017-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201127812A (en) Photopolymerizable composition, color filter and method of producing the same, solid-state image pick-up device, liquid crystal display, planographic printing plate, and novel compound
TWI465464B (zh) 新穎化合物、聚合性組成物、彩色濾光片及其製法、固態攝像元件及平版印刷版原版
TWI547760B (zh) 用於固態攝影元件的彩色濾光片的感光性透明組成物、以及使用其的固態攝影元件的彩色濾光片的製造方法、固態攝影元件的彩色濾光片以及固態攝影元件
KR101260712B1 (ko) 신규 화합물, 중합성 조성물, 컬러필터와 그 제조 방법, 고체촬상소자, 및 평판 인쇄판 원판
TWI436163B (zh) 混合物、可光聚合的組成物、彩色濾鏡以及平版印刷的印刷板前驅物
JP5743801B2 (ja) 着色組成物、着色感放射線性組成物、重合体の製造方法、パターンの形成方法、カラーフィルタ、及びその製造方法、並びに固体撮像素子
TWI631190B (zh) 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件及圖像顯示裝置
TWI623593B (zh) 著色組成物、著色硬化膜、彩色濾光片、固體攝像元件及圖像顯示裝置
TWI548701B (zh) 用於彩色濾光片的著色感放射線性組成物、著色膜、圖案形成方法、彩色濾光片及其製造方法以及固態影像感測裝置
US8669025B2 (en) Polymerizable composition, cured film, color filter, method of producing color filter and solid-state image sensor
JP5657442B2 (ja) 着色感放射線性組成物、パターンの形成方法、カラーフィルタ及びそのカラーフィルタの製造方法、並びに、固体撮像素子
TWI522743B (zh) 著色感放射線性組成物、固化膜及其製備方法、彩色濾光片及其製備方法、用於噴墨印刷的墨水、固態影像感測器、液晶顯示裝置以及有機el顯示裝置
KR20120129868A (ko) 중합성 조성물, 컬러필터, 컬러필터의 제조방법, 및 고체촬상소자
JP5317879B2 (ja) 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP2015068945A (ja) 感光性樹脂組成物、赤外線透過フィルタおよびその製造方法、赤外線センサならびにカラーフィルタ。
EP2105443A1 (en) Oxime derivatives and their use in photopolymerizable compositions for colour filters
JP5606869B2 (ja) 光重合性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、低屈折率硬化膜、固体撮像素子、並びに、新規化合物
TW201035049A (en) Colored photopolymerizable composition, method for producing colored pattern, and color filter and liquid crystal display device with the color filter
JP2013054079A (ja) 光硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
TW201115267A (en) Colored curable composition, method for forming colored pattern, color filter, and liquid crystal display
JP2011209655A (ja) 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、新規化合物
JP2012201643A (ja) カルボン酸の製造方法、ジピロメテン化合物の製造方法、着色感放射線性組成物、カラーフィルタ、固体撮像素子及び液晶表示装置