TW201119827A - Method for making an anti-glare film, and method for making a mold for manufacture of anti-glare film - Google Patents

Description

201119827 • 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 . 本發明係關於一種低霧度（haze)且防炫特性佳之防 炫（antiglare，防炫光）膜之製造方法，以及製造此般防炫 膜用模具之製造方法。[防炫膜，ant i g 1 are f i 1 m，防止光 線炫爍的膜，有俗稱為防眩膜的情形] 【先前技術】 液晶顯示器或電漿顯示面板、布朗（Braun)管（陰極射 線f : CRT(Cathode Ray Tube))顯示器、有機電致發光（EL :

Electroluminescence)顯示器等影像顯示裝置·，當外光映 射至其顯示面時，會顯著地損及觀看性。為了防止此般外 $的映射’在重視晝質之電視及個人電腦、於外光較強的 =外所用之攝f彡機及數位相機、以及利用反射光來進行顯 之仃動U等中，以往即已在影像顯示裝置的表面設置 防止外光的映射之膜層。此膜層，可大致區分為由經施 ^用糟Φ光料層膜進行的干涉之無反射處理之膜所構 ^ ’以及由經施以藉由在表面形成細微凹凸使入射光產 將映射像模糊化之防炫處理之膜所構成者。其中， 戶==!膜’由於需形成均-的光學膜厚之多層膜， 造广相對於此’後者的防炫膜可相對便宜地製 二廣泛使用於大型的個人電腦或監視器等用途中。 液塗佈：::'以在、’例如藉由將分散有微粒之樹脂溶 膜表面、：=並調整塗佈膜厚使微粒暴露於塗佈 膜表面，而在膜上形成不規則的㈣之方衫來製造出。 322321 5 201119827 然而，藉由使微粒分散所製造出之防炫膜，由於凹凸的配 置或升v狀會又到樹脂溶液中之微粒的分散狀態或塗佈狀態 等影響，難以獲得期望的凹凸，在霧度較低者中，乃具有 無法獲得充分的防炫效果之問題。再者，當將此般以往的 方,、，膜配置在影像顯示裝置的表面時，顯示面全體會因散 射光而變白，因而具有容易產生顯示濁化之所謂「泛白」 f問題。此外’隨著近來影像«示裝置的高精細化，影像 』不裝，的像素與防炫膜的表面凹凸形狀產生干涉，結果 有办易產生因亮度分布的產生而變得難以觀看之所謂 姓:2象的問題。為了消除閃燦，亦已嘗試一種在黏 =樹W分散微粒之間設置折射率差以使光產生散射之 〆’但畲將此般防炫膜配置在影像顯示裝置的表面時， ，粒與黏結劑樹脂界面之光的散射，而亦具有對比容 易降低之問題。 ,方面，亦已嘗試—種不含微粒，而僅藉由形成於 树脂層的表面之細微凹凸來顯現出防炫性之作法。例 ^日本特開2002-189106號公報（專利文獻丨）中，係揭 =種在將電離輻射線硬化性樹脂祕於壓花（els)禱 、姑、透明樹脂膜之間之狀態下，藉由使該電離輻射線硬化 ί月曰硬化’來形成二維1〇點平均粗链度以及三維粗糖度 f準面上所#接之凸部彼此的平均雜分別滿足預定值之 =微凹凸，而製得將形成有該凹凸之電離輻射線硬化性樹 ^曰層設置在前述透明樹脂膜之形式的防炫膜。然而，即使 错由專利文獻1所揭示之防炫膜，亦難以達成充分的防炫 322321 6 201119827 效果、泛白的抑制、高對比、以及閃爍的抑制 接著’關於在表面具有凹凸之膜的製作 製作方法’例如在曰本特開平6-34961綠公所用之輥的 2)中，係揭示—種使用金屬等來製作出圓筒體（專利文獻 子雕刻、蝕刻、喷砂等手法，將凹凸形成於其 教轉由電 此外，在日本特開2004-29240號公報（專利面之方法。 揭示一種藉由顆粒喷擊（Beads Shot)法來掣作β 中，係 法，在日本特開2004-90187號公報（專利文獻壓吒輥之方 示一種經由將鍍金屬層形成於壓花輥表面之4)中，係揭 屬層的表面進行鏡面研磨之工序、以及 序、將錢金 (Peening)處理之工序，來製作出壓花輥之方戈進行殊擊 然而，在對壓花輥表面施以噴砂處理之狀^ 喷砂粒子的粒徑分布而產生凹凸徑的 、悲下，會因 -3c H 、 藉由喷砂所得之凹部的深度，因此，以重現性 '从控制 來獲得防炫功能佳之凹凸形狀者，仍存在著^好的方式 理 此外，上述專利文獻1中，係記載有較佳為 的表面進行鍍鉻之輕，並藉由喷砂法或顆粒嘴盤、、用對鐵 凹凸模面之内容。再者，亦記载有在如此形成法來形成 面上，以提升使用時的耐久性者為目的，較佳、=凸之模 等之後再使用，藉此可達成硬膜化以及防輕^以錢絡 -方面，日本特開2004_45471號公報(專 T:容。另 特開2004-45472號公報（專利文獻6)各自的實^5)、日本 §己載有對鐵芯表面進行鍵鉻，經過#25〇的液 〗中’係 後，再次進行_，而在表面形成細微的凹凸砂處3 v狀之内容 322321 201119827 然而’在此般壓花輥的製法中，由於在硬度高的鍍鉻 上進行喷砂或噴擊，所以難以形成凹凸，且難以精密地控 制所形成之凹凸的形狀。 日本特開2000-284106號公報（專利文獻7)中，係記 載有在基材上施以噴砂加工後’施以蝕刻工序及/或薄膜的 積層工序之内容。此外，日本特開2〇〇6_53371號公報（專 利文獻8 )中’係記載有在研磨基材並施以噴砂加工後，施 以無電解鍍鎳之内容。此外，日本特開2〇〇7_187952號公 報（專利文獻9)中，係記載有在對基材施以鍍銅或鍍鎳後， 進行研磨並施以喷砂加工後，施以鍍鉻來製作壓花版之内 容，再者，日本特開2007_237541號公報（專利文獻ι〇)中， 係記載有施以鍍銅或鍍鎳後，進行研磨並施以喷砂加工 後’施以_卫序或賴工序，然後施以鍍鉻來製作壓花 版之内容。此等使时砂加王之製法巾，由於難以在精密 ，制之狀態下形成表面凹凸形狀，所以仍會製作出表面凹 社形狀上具有50_以上的周期之相對較大的凹凸形狀。 :果使此等較大的凹凸形狀與影像顯^置的像素產生干 以’而具有容易產生因亮度分布的產生而變得難以觀看之 所謂閃爍的問題。 【發明内容】 本發明之目的係提供—種對於顯示出高防炫功能之 :炫膜的製作為有用之表面具有細微凹凸形狀之模具之製 =方法此外，係提供一種使用此模具，製造出能夠顯示 較佳的防炫性能並且充分地防止@泛白所造成之觀看性 322321 8 201119827 4 的降低，當配置在高精細的影像顯示裝置的表面時，不會 產生閃爍且對比不會降低之防炫膜之方法。 , 本發明者們為了達成上述目的而進行精心探討，結果 . 發現，若對成為模具之基材表面施以鍍銅或鍍鎳，將該經 施以鍍銅或鍍鎳之表面形成為鏡面後，以預定方法及形狀 藉由切削加工將複數個細微凹部形成於經鏡面加工的面， 並在形成有該細微凹部之面上形成保護膜而構成模具，則 能夠以重現性佳之方式，獲得表面具有期望的細微凹凸形 狀之製造防炫膜用模具。此外發現，將該模具的凹凸面轉 印至透明樹脂膜所得之附有凹凸面的防炫膜係顯現下述以 往者所無法兼備之性能：為低霧度且具有充分的防炫性 能，當適用在影像顯示裝置時，亦不會產生泛白與閃爍等， 且對比亦不會降低而顯示出良好的觀看性。亦即，本發明 如下所述。 本發明之製造防炫膜用模具之製造方法，其係製造表 面具有細微凹凸形狀之製造防炫膜用模具之方法，該製造 方法係包括：對模具用基材的表面施以鍍銅或鍍鎳之電鍍 工序；對經藉由該電鍍工序施以鍍銅或鍍鎳之表面，施以 切削加工及研磨加工的至少任一種加工，藉此形成表面粗 糙度為0. 1 // m以下的鏡面之鏡面加工工序；藉由切削加工 將複數個細微凹部形成於經鏡面加工的面之細微凹部形成 工序；以及在形成有細微凹部之面上形成保護膜之保護膜 形成工序，上述細微凹部形成工序中之複數個細微凹部的 切削加工，係藉由在與模具用基材的表面平行之方向上相 9 322321 201119827 對地直線移動，且與直線移動的同時在與模具用基材的表 面垂直之方向上微小地來回移動之切削工具來進行，當將 所切削之細微凹部間的平均最鄰接距離設為a(/zm)，將切 削深度設為d(//m)時，係滿足下列條件： 10<〇 <40 d 0.0044 <-<0.026 a ο 根據本發明之模具之製造方法，由於細微凹凸形狀能 夠精度高地形成於表面，故可在重現性佳且幾乎不存在缺 陷之狀態下，製造出對於顯示出高防炫功能之防炫膜的製 造為有用之模具。 本發明之模具之製造方法中，較佳為上述細微凹部形 成工序中之上述切削工具在與模具用基材的表面垂直之方 向上的微小來回移動，藉由壓電元件來進行。 本發明之模具之製造方法中，較佳為上述細微凹部形 成工序中所形成之複數個細微凹部係以球面的一部分來形 成，當將球面的半徑設為R(//m)時，係滿足下列條件：

0.00015 <~<0.0055 R —< 2.05 sin jcos '* ί 1 - —1} R 1 l Rj]

O 本發明之模具之製造方法中，上述保護膜形成工序， 較佳為對形成有複數個細微凹部之面施以鍍鉻之工序，或 10 322321 201119827 是藉由蒸鍍將以碳為主成分之保護膜形成於形成有複數個 細微凹部之面之工序。 本發明之模具之製造方法中，較佳為在上述細微凹部 形成工序後，包括藉由蝕刻處理來調整形成於表面之細微 凹凸形狀之蝕刻工序。 此外，本發明亦提供一種防炫膜之製造方法，其係使 用藉由上述本發明之方法所製造出之模具，將該模具的凹 凸面轉印至透明樹脂膜，接著將轉印有凹凸面之透明樹脂 膜從模具剝離。 根據此般本發明之防炫膜之製造方法，在產業上能夠 有利地製造出霧度低，可保持顯示影像的亮度，並且抗映 射與抗反射，抑制泛白，防止閃爍的產生與對比的降低等 之防炫性能佳之防炫膜。 本發明之上述及其他目的、特徵、態樣及優點，可從 與附加圖面相關聯而理解之本發明的下列詳細說明中更加 明瞭。 【實施方式】 <模具之製造方法> 本發明之模具之製造方法，基本上係包括：[1]電鍍 工序，[2]鏡面加工工序，[3]細微凹凸形成工序，以及[4] 保護膜形成工序。以下參照第1圖，詳細地說明本發明之 模具之製造方法的各工序。 [1]電鍍工序 本發明之模具之製造方法中，首先對模具所用之基材 11 322321 201119827 (模具用基材）1的表面2施以鍍銅或鍍鎳3。如此，藉由對 模具用基材1的表面2施以鍍銅或鍍鎳3，可消除模具用 基材上所存在的微小凹凸或坑洞（Cavi ty)。此外，可提升 在保護膜形成工序中形成鍍鉻時的密著性與光澤性。此係 由於鍍銅或鍍鎳的被覆性高且平滑化作用強，可埋填模具 用基材的微小凹凸或坑洞（Cavity)等而能夠形成平坦且具 光澤的表面之故。此外，由於鍍銅或鐘鎳的切削性佳，所 以在之後鏡面加工工序中的鏡面加工與細微凹部形成工序 中之細微凹部的切削變得容易。 電鍍工序中所用之銅或鎳，除了分別為純金屬之外， 亦可為以銅為主體之合金或以鎳為主體之合金，因此’本 說明書中所謂「鋼」，係含有銅及銅合金之涵義，此外，「鎳」 係含有鎳及鎳合金之涵義。鍍銅及鍍鎳可分別藉由電解電 鍍來進行或是無電解電鍍來進行，銅一般係採用電解電 鍍，鎳採用無電解電鍍。 施以鍍銅或鍍鎳時，當鍍層太薄時，無法完全排除底 層表面的影響，所以其厚度較佳為50/2m以上。鍍層厚度 的上限並非臨界值，就與成本等之關聯來看，一般500 # m 左右即可。 本發明之模具之製造方法中，適用於模具用基材1之 金屬材料，就成本之觀點來看，可列舉出鋁、鐵等，此外， 就熱傳導率之觀點來看，可列舉出不鏽鋼 '鈦等。在此所 謂的鋁、鐵、鈦等，可為純金屬，但就成本、硬度、切削 性等觀點來看，較佳為以紹、鐵、鈦等為主體之合金。 12 322321 201119827 此外，基材的形狀，只要是該領域中以往所採用之適 當的形狀者即可，可為平板狀，或是圓柱狀或圓筒狀的輥。 若使用輥狀的基材來製作模具，則具有能夠以連續的輥狀 來製造防炫膜之優點。 [2]鏡面加工工序 在接續的鏡面加工工序中，係對經在上述電鍍工序中 施以鍍銅或鍍鎳3後之基材表面，施以切削加工及研磨加 工的至少任一種加工，藉此形成表面粗糙度為0. 1 /zm以下 的鏡面。此係由於成為基材之金屬板或金屬輥，為了達到 期望精度，較多情況係施以切割或研磨等機械加工，因而 在基材表面殘留加工痕跡，即使在施以鍵銅或鑛鎳之狀態 下，亦可能殘留此等加工痕跡，並且在經電鍍之狀態下， 表面存在起伏而無法獲得完全平滑的面之故。亦即，即使 對殘留有此般較深的加工痕跡或是存在有起伏之表面進行 後述細微凹部形成工序，亦可能因加工痕跡與起伏之影響， 無法藉由切削加工來形成依照設計之細微凹部。第1圖（a) 係示意地顯示在電鍍工序中對平板狀之模具用基材1的表 面2施以鍍銅或鍍鎳3，然後經由鏡面加工工序而具有經 鏡面加工之表面4的狀態。 關於將經施以鍍銅或鍍鎳之模具用基材的表面形成 為鏡面之方法並無特別限制，可使用切削加工及研磨加工 的至少任一種。當藉由切削加工來進行鏡面加工時，較佳 為使用超精密車床，使用切削工具進行鏡面切削，藉此將 該經施以鍍銅或鍍鎳之面形成為鏡面。切削工具的材質與 13 322321 201119827 形狀等並無特別限制，可使㈣硬刀片 、CBN(cubic boron nitride立方氮化蝴）刀片、陶究刀片、金剛石刀片等， 就加工精度之觀點來看，較佳為使用金剛石刀片。此外， 田藉由研磨加工來進行鏡面加工時，可使用機械研磨法、 電解研磨法、化學，法“彳靖知的方法。機械研磨法 可例不出超加工法、磨光法、流體研磨法、拋光研磨法等。 再者為了獲#預定的表面祕度，亦可組合切削加工及 研磨加工來進行。知τ祕α Μ

後的鏡面之表面粗糙度，依據JISB 、疋之中心線平均粗輪度Ra，較佳 尤佳為 0.05/zm 以τ ^ ^ 大於磨彳謝心線平均錄度以 ， 此在細微凹部形成工序的切削加工中殘 召表面粗糙度的影響，

Ra^-rnP 故不佳。此外，中心線平均粗糙度

Ra的下限並無特㈣制，就加工時間及加 看，本身即存在限制，無需特別紋。成本之規點來 [3]細微凹部形成工序 :接續的細微凹部形成工序中’係使 ==數個細微凹部5形成於藉由上述鏡面加工 序而形成為鏡面之模具用基材i的表 係示意地顯示在模1用其#】AA主u ^ 1 ®(b) 5之狀態。〃▲材1的表面4上形成有細微凹部 細微凹部形成卫序中之複數個細微凹部的切削加工， Πΐ由t與施以鍍銅或鍍鎳後經鏡面加工之模具用基 移動==行之方向6上相對地直線移動，且與直線 動的同時在與模具用基材1的表面4垂直之方向7上微 322321 14 201119827 小地來回移動之切削工具8來進 在與施以鍍鋼或鍍錄後經鏡面加工之地顯示 :4平行之方向6上相對地 ，：盎】=的表面 :在與模具用基的表面4垂直之線私動的同時 動之切削工呈8的模様之㈣笛9 上微小地來回移 《的楔樣之圖。第2圖中 u 1固定來顯示，所以僅切削工呈8進行吉用基材 以utr小來回移動。藉由進行此般切削加工，能夠 用基材^距、冰度’將細微凹部5高精度地形成於模具 =3 =及第4 _示意地顯示用以進行此般切削加工 、°第3圖係顯示模具用基材為平板狀時之裝置，並 且，有：設置模具用基材並可在與模具用基材的 =方向(以下稱為「X方向」)上、及與模具用基材的 表面千仃且與X方向垂直之第2方向(以下稱為「Y方向」） 上移動之加工機台9’可在與模具用基材的表面垂直之方 向（以下稱為「Z方向」）上移動之2軸驅動部1〇,安褒於 z軸驅動部1()之微小來回移動用驅動機構部n，以及^裝 於微小來回移動用驅動機構部u之切削工具8。將模具用 基材1設置在此加工機台9，使用加工裝置的Z軸驅動部 10使微小來回移動用驅動機構部u在2軸方向上 f使切削工具8與模具用基材i接近至可進行加工之預定 里為止。接著藉由加工機台往χ方向之驅動，以一定的速 度來移動模具用基材1。此時，係使用微小來回移動 動機構部η’使切削工具8在2方向上以預定的微小量來 322321 15 201119827 回地移動。藉此，切削工具8的前端部，係 材1描緣出第2圖所示之工具移動軌跡.⑽之;^ 移動，而能夠尚精度地形成細微凹部5。 :4圖係示意地顯示模具用基材1為圓筒狀時之裝 裝置，係具有：用以支樓作為圓筒狀的模具 用基材之報的兩端之支撑機構13，以該長度方向轴線為中 心使作為圓筒狀的模具用基材之輕旋轉之馬達⑷以下將 =方向稱為「X方向」），可在該長度方向（以下稱為「γ °」）上移動之γ軸驅動部15,安裝於γ軸驅動部丨5之 可在與模具用基材的表面垂直之方向（以下稱為「Ζ方向」） 上移動之Ζ轴驅動部10,安裝於2轴驅動部1〇之微小來 ::動用驅動機構㈣，以及安裝於微小來回移動用驅動 機構部11之切削工具8。將圓筒狀的模具用基材i設置在 此支樓機構13,使用加工裝置的2軸驅動部1〇使微小來 回移動用驅動機構部11在Z軸方向上移動，並使切削工具 8與模具用基材1接近至可進行加工之預定量為止。接著 =馬達U的驅動，在χ方向上以一定的速度使模具用基 方疋轉。此時’係使用微小來回移動用驅動機構部U， 使切削工具8在Z方向上來回地移動僅預定的微小量。藉 此’切削工具8的前端部，係以對模具用基材1描繪出第 2古圖所示之工具移動執跡…、⑽之方式來移動，而能夠 尚精度地形成細微凹部5。 微小來回移動用驅動機構部Π的驅動源，只要是可 字刀肖J工具8微小地驅動者即可，並無特別限制，可使用 322321 16 201119827 磁致伸縮元件、超音波振蝴，就加工精度、 加工速度之觀點來看，較佳為使用壓電元件。安裝於微小 =回：：用驅動機構部u之切削工具8的材 =，可超硬刀片、咖刀片'陶究刀片、金剛石刀片 # ’就加工精度之觀點來看，較佳為使用金剛石刀片。 :刀肖j加工所形成之複數個細微凹 :接距離一切驗度,(一較佳係滿足;： 10 £ λ ^ 40 d 0.0044 < ~ < 〇 〇26 a 在此，所謂細微凹部間的平均最鄰接距離，當 個細微凹部時，為該細微凹部的最深部 :凹部之該細微凹部的最深部間之距離的平均值= =以=微凹部間的最鄰接距離a及切削深度dU =、、第5圖（a)為俯視圖，第5圖㈦為剖面圖。最鄰接 凹部A之細微凹部㈣最深部Π間之距離 :::，=r離。此外，所謂細微凹 個細微凹部之表面=:r:r凹部形成工序形成有複數 為止之距離。 ^ 16’至細微凹部的最深部Η 微凹=二Γ的細微凹凸表面’就抑制因防炫膜的細 以上的4生之閃燦之觀點來看，較佳為不含50Μ 的長週期成分。㈣’在僅含有1G_以下的短週期 322321 17 201119827 成分之細微凹凸表面上，無法顯現出較佳的防炫性能。因 此，為了顯現充分的防炫效果並充分地防止閃爍，防炫膜 的細微凹凸表面，較佳係含有具備10至50# m的週期之表 面形狀作為主成分。因此，用以製造出可顯現充分的防炫 效果並充分地防止閃爍之防炫膜之模具，較佳係含有具備 10至50# m的週期之表面形狀作為主成分。當平均最鄰接 距離a高於40//m時，所得之模具容易形成週期為50/zm 以上之細微凹凸表面形狀，結果在將所得之防炫膜配置在 高精細的影像顯示裝置的表面時，會產生閃爍。此外，當 平均最鄰接距離a低於10 // m時，，所得之模具含有許多週 期為10/zm以下之短週期成分，所得之防炫膜無法顯現出 較佳的防炫性能。 此外，防炫膜的細微凹凸表面，就藉由防炫膜的細微 凹凸表面抑制所產生之泛白之觀點來看，垂直於防炫膜的 主平面之細微凹凸表面的平均傾斜角度，較佳為3°以下。 此外，就顯現出防炫性之觀點來看，該平均傾斜角度較佳 為0.5°以上。在此，平均傾斜角度6»，可從平均最鄰接距 離a及切削深度d中，藉由下式來推算出。 d tan0

因此，切削深度d與平均最鄰接距離a之比d/a，較 佳為 tan(0· 5°)/2=0· 0044 以上，tan(3°)/2=0· 026 以下。 當比d/a低於0.0044時，所得之模具的平均傾斜角度未達 18 322321 201119827 0. 5，所彳于之防炫膜無法顯現出充分的防炫效果，故不佳。 此外.’當比d/a高於〇· 026時，所得之模具的平均傾斜角 :度超過3°，所得之防炫膜會產生泛白，故不佳。 - &外’為了抑制防炫膜產生泛白並顯現出較佳的防炫 性^在細微凹部形成工序中所形成之複數個細微凹部，較 佳係以球面的-部分來形成。第6圖可示意地顯示以球面 的-部分來形成細微凹部時之細微凹部的形狀。當將此時 之球面半徑設為R(#m)時，前述平均傾斜角度Θ可藉由下 式來推算出。 d , ~ = I-c〇s20 κ 2θ^'Η) 因此’切削深度d與球面半徑R之比d/R，較佳為 1 cos(l )=〇· GGG15 以上’卜c〇w)={) 〇()55 以下。當比 d/R。低於G.GGG15時，所得之模具的平均傾斜角度:達 〇. 5，所件之防炫膜難以顯現出充分的防炫效果，故不佳。 此外、，當比d/R高於〇. 0055時，所得之模具的平均傾斜角 度超過3°，所得之防炫膜容易產生泛白。 此外所知之防炫膜，較佳者係該平坦面，亦即傾斜 角度大致為〇。之面為5%以下。此係由於當平坦面超過5% 時’無法顯現出充分的防炫性之故。平坦面的比率^，可 攸則述平均傾斜角度Θ與球面半徑R、及平均最鄰接距離 a，藉由下式來推算出。 322321 19 201119827 -a

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因此’平均最鄰接距離a與球面半徑R之比a/R，較 佳為滿足下列條件。 a Ί.

:2.05 sin < cos

、為了以半徑為R之球面的一部分來形成在細微凹部形 ，工序中所形成之複數個細微凹部，可使用鼻端（nose)半 仅為R之糊1具’控制χ方向的移動速度或旋轉速度以 及Ζ方向的微小來回移動，以使切削工具前端部的移動軌 跡描繪出半彳 iR^圓弧的-部分之方式來設定並進行加工。 在細微凹部形成工序令所形成之複數個細微凹部，可 規則地排列配置來形成，或是不規則地配置，但當規則地 形成細微凹部時，可能會產生起因於規則的細微凹部配置 之干涉色，故較佳為規則地配置。第7圖係示意地顯示規 則地配置細微凹部之情況。此外，第8 _示意地顯示不 規則地配置細微凹部之情況。 [4]保護膜形成工序 接著，藉由在形成有細微凹部之面18上形成保護膜 19來提升模具的表面硬度及耐磨耗性，以提升作為模具 之耐久性。藉由形成保護膜19，可防止使用中凹凸產生磨 損或疋模具產生損傷。第1圖（c)係顯示在藉由上述細微凹 20 322321 201119827 •部形成工序而形成有細微凹部之表面上形成保護膜19之 狀態。 ： 本發明之模具之製造方法中，較佳為採用在平板或輥 等的表面上具光澤，硬度高，摩擦係數小，且可賦予良好 的脫模性之鍍鉻作為保護膜。鍍鉻之種類並無特別限^， 但較佳為使用稱為所謂光澤鍍鉻或裝飾用鍍鉻等之可顯現 出良好的光澤之鍍鉻。鍍鉻一般是藉由電解來進行，其電 鍍浴可使用含有無水鉻酸（Cr〇3)與少量硫酸之水溶液。藉 由調節電流密度與電解時間，可控制鍍鉻的厚度。鍍鉻以 外的電鑛中’由於硬度或耐磨耗性低，使作為模具^耐久 性降低，可能在使用中使凹凸磨損或損傷模具。藉由此般 模具所製得之防炫膜中’可能難以獲得充分的防炫功能， 此外，防炫膜上產生缺陷的可能性亦高。 所形成之鍍鉻的厚度較佳為i至1〇_之範圍，尤佳 為3至6# m之範圍。當鍵鉻厚度較薄時，作為模具之财久 性可能不足。另-方面，當錢絡厚度太厚時，除了生產性 惡化外’更會產生稱為突粒（n〇dule)之突起狀的電鑛缺 陷。此外，所形成之鍍鉻層，較佳係形成為維氏硬度成為 80 尤佳形成為1〇〇〇以上。此係由於當鑛鉻層的維 氏硬度未達800時，模具使用時的财久性降低，並且鐘絡 層的硬，降低者，於電鐘處理時電鍍浴組成、電解條件等 產生/、吊之可能性提尚，且對於缺陷的產生狀況產生較不 佳的影響之可能性提高之故。 此外，本發明之模具之製造方法中，該保護膜形成工 21 322321 201119827 序可為藉由蒸鍍將以碳為主成分之保護膜形成於形成有複 數個細微凹部之面之工序。具光澤，硬度高，摩擦係數小， 且可賦予良好的脫模性之以碳為主成分之碳膜，較隹地採 用作為本發明之模具之製造方法中的保護膜。以碳為主成 分之碳膜，例如可列舉出金剛石薄膜、金剛石狀碳臈、氮 化非晶形碳膜（以下稱為「DLC」膜）。該碳膜的形成方法可 使用各種蒸鍍法，例如，金剛石薄膜可藉由微波電漿Cvd (chemical vapor deposition ’化學氣相沉積）法、熱燈絲 (hot f ilament)CVD 法、電衆喷射法、ECR(electron cyclotron resonance，電子迴旋加速器共振）電漿cvd法 等，金剛石狀碳膜及DLC膜可藉由電漿cvd法、離子束濺 鍍法、離子束蒸鍍法、電漿濺鍍法等來形成。此外，在前 述形成方法中，亦可和在成膜的同時注入選自惰性氣體、 氮、妷的至少一種離子之IBM(離子束混合）或是將脈衝偏 1細加於所注入之模具基材所進行之pB I丨（p丨 L〇nimplantation，電漿離子佈植）一同地組合成膜方法， ，此可在難模具基材之間*存在明顯的界面，而提升密 著丨生此等石反膜的厚度較佳為〇1至之範圍内，尤佳 為0.5至之範圍内。當碳膜的厚度未達〇· _時， 作為模具之耐久性可能不足n面，當碳膜的厚度超 過5#m時，生產性會惡化。 料明之模具之製造方法中，在上述L3 蝕二：成工序與[4]保護骐形成工序之間，較佳亦包米 ^理來將經由細微凹部形成工序所形成之細微β 22 322321 201119827 • 以鈍化之蝕刻工序。該蝕刻工序中，係藉由蝕刻處理，將 經由細微凹部形成工序所形成之第丨表面凹凸形狀2〇予以 :鈍化。藉由該蝕刻處理，可消除藉由切削加工所形成之第 1表面凹凸形狀2〇之表面傾斜較陡的部分，使採用所得之 模具所製造出之防炫膜的光學特性往較佳的方向變化。第 9圖中，係顯示藉由蝕刻處理將模具用基材1的第1表面 凹凸形狀20予以純化，使表面傾斜較陡的部分純化，而形 成有具有和緩的表面傾斜之第2表面凹凸形狀21之狀態。 蝕刻工序之姓刻處理，一般係使用氯化鐵⑽⑴液、 氯化銅（CuCh)液、鹼姓刻液（⑽咖⑴等，藉由將金屬 f面進行腐#來進行，但亦可使用鹽酸或硫酸等強酸，或 是藉由施加與電解電鍍時為相反的電位所進行之反電解蝕 %以钱刻處理後之凹凸的純化程度，因底層金屬的種 員、钱刻手法、以及藉由細微凹部形成工序所得之細微凹 =的尺寸及深度等而不同，無法—概而論，但控制純化程 戶為蝕刻量。在此所謂蝕刻量，是指藉由蝕刻 开Μ示^土ί的厚度。當钱刻量較小時’將藉由細微凹部 蜂工所得之凹凸的表面形狀予以鈍化之效果不足，將 =^狀#印至透明樹脂膜所製得之防炫膜的光學特性 而成Μ = Μ ’ #_量太大時，凹凸形狀幾乎消失 =騎平坦之模具，所以無法顯示出防炫性。因此， 範二广圭為1至5〇_之範圍内，尤佳為4至20"m之 序，處理，可藉由1次_處理來 進仃，或疋將钱刻處理分為2次以上來進行。在此，當將 322321 23 201119827 蝕刻處理分為2次以上來進行時，2次以上之餘刻處理 蝕刻量合計，較佳為丨至5〇//m。 <防炫膜之製造方法> 此外本么明亦提供-種使用藉由上述本發明之模具 ' 之製造方法所得的模具所製造出之防炫膜造 ' 、 即，本發明，膜之製造方法，係包括發 之模具之製造方法所製造出之模具的凹凸面轉印至透明樹 月旨膜之工序’以及將轉印有模具的凹凸面之透明樹脂膜從 模具剝離之工序。藉由此般本發明之防炫膜之製造方法， 可理想地製造出顯示較佳光學特性之防炫膜。 …將模具形狀轉印至膜，較佳為藉由壓花法來進行。壓 花法可例示出使用光硬化性樹脂之uv壓花法、以及使用熱 塑性樹脂之熱麗花法，其中就生產性之觀點來看，較Μ UV壓花法。 UV壓花法，是將光硬化性樹脂層形成於透明樹脂膜的 表面，並一邊將該光硬化性樹脂層按壓於模具的凹凸面一 邊進仃硬化’藉此將模具的凹凸面轉印至光硬化性樹脂層 之方法。具體而言，將紫外線硬化型樹脂塗佈於透明樹脂 膜上’在將所塗佈的紫外線硬化型樹脂密著於模具的凹凸 面之狀態下，從透明樹脂膜側照射紫外線使紫外線硬化型 樹脂硬化，然後從該模具中，將形成有硬化後的紫外線硬 化型樹脂層之透明樹脂膜剝離，藉此將模具的形狀轉印至 紫外線硬化型樹脂。 當使用UV壓花法時，透明樹脂膜只要是實質上呈光 24 322321 201119827 學透明之勝b 膦即可，例如有三乙酸纖維素膜、聚對笨二甲酿 乙二酯膜、取 十一 T敗 ^ 1甲基丙烯酸曱酯膜、聚碳酸酯膜、以降获稀 2化合物作為單體之非結晶性環狀聚烯烴等熱塑性樹脂的 溶劑鑄I讀壓料細旨膜。 、此外，使用UV壓花法時之紫外線硬化型樹脂的種類 並無特別限制，可使用市售的適當品。此外，亦可將適當 ，擇的光起始劑組合於紫外線硬化型樹脂，而能夠使用可 藉由波長較紫外線還長之可見光進行硬化之樹脂。具體而 s，可分別單獨使用三羥曱基丙烷三丙烯酸酯、季戍四醇 四丙稀酸能等多官能丙烯酸酯或是混合此等的2種以上來 使用或疋使用將此與Irgacure 907(Ciba Specialty

Chemicals 公司製）、Irgacure 184(Ciba Specialty Chenucals公司製）、Lucirin Tp〇(BASF公司製）等光聚合 起始劑混合而成者。 另一方面’熱壓花法，是在加熱狀態下將由熱塑性樹 月曰所形成之透明樹脂膜按壓於模具，而將模具的表面形狀 轉印至透_簡之方法。熱壓花法巾所用之透明樹脂膜， 要疋Λ質上呈透明者均可，例如可使用聚甲基丙烯酸甲 酯、聚碳酸酯、聚對笨二甲酸乙二酯、三乙酸纖維素、以 降莰烯系化合物作為單體之非結晶性環狀聚烯烴等熱塑性 樹脂的溶劑鑄膜或擠壓臈等。此等透明樹脂膜，亦可適當 地用作為上述所說明之UV壓花法中用以堂佈紫外線硬化 型樹脂之透明樹脂膜。 使用藉由本發明之模具之製造方法所得的模具所製 25 322321 201119827 造出之防炫膜’由於能夠高精度地控制細微凹凸表面來形 成，所以可顯現充分的防炫性且不會產生泛白，當配置在 影像顯示裝置的表面時，亦不會產生閃爍，且顯示出高對 比。 以下係列舉出實施例來更詳細地說明本發明，但本發 明並不限於此等實施例。例中，表示含量及用量之％及份， 無特別記載時為重量基準。 <實施例1> 首先製備在縱長lOOmmx寬度l〇〇mm的不鏽鋼（STAVAX、 Uddeholm(股）公司製）表面上施以無電解鍍鎳者。無電解錢 錄層的厚度設定在大約100 // m。藉由切削加工對該無電解 鐘鎳層表面進行鏡面加工。於經鏡面加工之無電解鑛鎳層 的表面上，以細微凹部間的最鄰接距離成為25//m，切削 深度成為0.6/ζιη之方式，以第1〇圖的配置將複數個細微 凹部進行切削加工而製作出模具A。在此，係將模具用基 材設置於可在X方向及γ方向上移動之加工基台，將鼻端 半徑143# m的金剛石刀片，安裝於藉由壓電元件所驅動之 微小來回移動用驅動機構部，使模具用基材在X方向上以 一定速度來移動’同時使切削工具在Z方向上來回地移動 僅預定微小量而藉此進行。此外，細微凹部係以成為半徑 143//m之球面的一部分之方式來進行切削加工。 將光硬化性樹脂組成物GRANDIC 806T(大日本油墨化 學工業（股）公司製）溶解於乙酸乙酯，形成50重量％濃度的 溶液’然後將光聚合起始劑的LucirinTPOCBASF公司製、 26 322321 201119827 4 化學名稱：2, 4, 6-三甲基苯曱醯基二苯基膦氧化物），以硬 化性樹脂成分每100重量份添加5重量份之方式調製出塗 . 佈液。在厚度80/zm的三乙酸纖維素（TAC)膜上，以使乾燥 後的塗佈厚度成為10 // m之方式塗佈此塗佈液’在設定為 6(TC之乾燥機中進行3分鐘的乾燥。將乾燥後的膜，以使 光硬化性樹脂組成物層成為模具側之方式，藉由橡膠輥按 壓於先前所得之模具A的凹凸面並使密著。在此狀態下， 從TAC膜側，以經h射線換算的光量成為200mJ/cm2之方 式，將來自強度20mW/cm2之高壓水銀燈的光予以照射，使 光硬化性樹脂組成物層硬化。然後以每個硬化樹脂為單 位，將TAC膜從模具剝離，而製作出由表面具有凹凸之硬 化樹脂與TAC膜之積層體所構成的透明防炫膜A。 <實施例2 > 除了以細微凹部間的最鄰接距離成為40 // m，切削深 度成為0. 6 // m之方式，以第11圖所示的配置將複數個細 微凹部進行切削加工之外，其他與實施例1相同而製作出 模具B。除了使用所得之模具B之外，其他與實施例1相 同而製作出透明防炫膜B。 <評估試驗1> 對於在實施例1及實施例2中所得之各模具的表面形 狀進行評估。表面形狀的測定，係共焦點顯微鏡PL/z 2300 (Sensof ar公司製）。測定時，係將物鏡倍率設為50倍。 根據測定資料，並以依據JIS B 0601之方法來計算，藉此 計算出算術平均高度Pa、平均長度PSm及最大剖面高度 27 322321 201119827

Pt。此外，係從藉由測定所得之剖面曲線中，計算出各模 具表面的平均傾斜角度(9及最大傾斜角度5» max。將該結果 與模具的製作條件一同顯示於表丨。此外，各模具的剖面 曲線如第12圖所示。 表1 實施例1 模具A 實施例2 模具B 細微凹邵的最鄰接距離a 25 // m 40 jcnn 細微凹部的切削深度d 0. 6 // m 0. 6 # m 細微凹部的球面半徑R 143 /z m 143 β m d/a 0.024 0. 015 d/R 0. 0042 0. 0042 2. 05sin[cos_1(l-d/R)] 0. 19 0. 19 a/R 0. 17 0. 28 算術平均高度Pa 0. 13 // m 0. 14 /z in 平均長度PSm 0. 52 # m 0. 47 # m 最大剖面高度Pt 10. 7 μ m 17. 1 // m 平均傾斜角度0 2· 3° 1. 2° . 最大傾斜角度 5. 2° 4.0° <評估試驗2> 對於所得之各防炫膜，進行下列光學特性及防炫性能 之評估。 (1)光學特性的評估1 :霧度的測定 防炫膜的霧度係藉由JIS κ 7136所規定之方法來進 行測疋。具體而言，係使用依據此規格之霧度計服-150 型（村上色彩技術研究所製）來測定霧度。為了防止防炫膜 的輕曲，係使用光學呈透明之黏著劑，以使凹凸面成為表 322321 28 201119827 面之方式貼合於玻璃基板後，再提供於測定。—般， 當霧度增大時，運用在影像顯示裝置時之影像會變暗，結 . 果容易使正面對比降低。因此，霧度較低者為佳。 _ (2)光學特性的評估2 :穿透鮮明度的測定 穿透鮮明度係藉由JIS K 7105所規定之方法來進行 測定。具體而言’係使用依據此規格之攝像性測定器 ICM-IDP(Suga Test Instruments(股）公司製）來測定防炫 膜的穿透鮮明度。此規格中，影像鮮明度測定中所用之光 梳，係規定有暗部與亮部的寬度比為1 : 1，其寬度為 0· 125mm、0. 5mm、1. Omm、2. Omm 之 4 種。將使用此等 4 種 光梳所測定之影像鮮明度的和，稱為穿透鮮明度。依據此 定義時之穿透鮮明度的最大值為400%。依據此定義時之穿 透鮮明度，愈大者愈佳。當穿透鮮明度較小時，配置在影 像顯示裝置時，影像有變得不鮮明之傾向，此外，有容易 產生閃爍之傾向’故不佳。因此，穿透鮮明度較佳為200% 以上，更佳為300%以上。評估時，與霧度測定時相同，為 了防止防炫膜的翹曲，係使用光學呈透明之黏著劑，以使 凹凸面成為表面之方式貼合於玻璃基板後’再提供於測定。 在此狀態下’從玻璃基板側將光入射來進行測定。 (3)光學特性的評估3 : 60度光澤度的測定 60度光澤度係藉由jis Z 8741所規定之方法來進行 測定。具體而言’係使用依據此規格之光澤計PG-1M(日本 電色工業（股）公司製）來測定防炫膜的光澤度。此時，為了 防止防炫膜的翹曲以及防止來自内面的反射，係使用光學 29 322321 201119827 呈透明之黏著劑，以使凹凸面成為表面之方式將防炫膜貼 合於2mm厚的黑色丙烯酸樹脂板後，再提供於測定。在此 狀態下，從防炫膜側將光入射來進行測定。一般而言，60 度光澤度小者，係意味著樣本表面模糊，結果容易產生泛 白。因此，光澤度較高者較佳，但當光澤度過高時，會產 生映射而使防炫性降低，所以較佳係在30至90%之程度之 值。 (4) 防炫性能的評估1 :映射的目視評估 為了防止來自防炫膜内面之反射，係以使凹凸面成為 表面之方式將防炫膜貼合於黑色丙烯酸樹脂板，在打開螢 光燈之明亮室内，以目視方式從凹凸面側來觀察，根據下 列基準並以目視方式，使用3階段來評估螢光燈之映射的 有無。 1 :未觀察到映射。 2:觀察到些許映射。 3:明顯地觀察到映射。 (5) 防炫性能的評估2 :泛白的目視評估 為了防止來自防炫膜内面之反射，係以使凹凸面成為 表面之方式將防炫膜貼合於黑色丙烯酸樹脂板，在打開螢 光燈之明亮室内，以目視方式從凹凸面側來觀察，根據下 列基準並以目視方式，使用3階段來評估泛白的程度。 1 :未觀察到泛白。 2:觀察到些許泛白。 3 :明顯地觀察到泛白。 30 322321 201119827 ' 結果如表2所示。表2中，實施例1之穿透鮮明度的 内容例如為下列所示者。 0. 125mm 光梳： 0. 5mm光梳 ： 1. Omm光梳 ： 0. 5mm光梳 ： 合計 表2 穿透鮮明度 48. 3% 73. 1% 80. 1% 80. 5% 282.0% 樣本名稱 實施例1 防炫膜A 實施例2 防炫膜B 全光線穿透率 90. 0% 90. 4% 霧度 4. 2% 0. 9% 穿透鮮明度 282. 0% 324. 9% 光澤度 34. 2% 73.4% 映射 1 2 泛白 1 1 從表1所示之結果中，可得知藉由本發明之製造方法 所製造之模具，係適當地控制表面凹凸形狀的傾斜角度而 形成。此外，從表2所示之結果中，可得知從藉由本發明 之模具之製造方法所製造的模具所製得之防炫膜，係顯示 出較佳的防炫性能。由藉由滿足所有較佳要件之本發明之 模具之製造方法所製造的模具所製得之防炫膜A，可達成 充分的防炫性能及泛白的防止。此外，由於穿透鮮明度亦 高，故配置在影像顯示裝置時，亦不會產生閃爍。另一方 31 322321 201119827 面，由藉由比a/R未滿足較佳要件之本發明之模具之製造 方法所製造的模具所製得之防炫膜B，雖顯示出泛白防止 與高穿透鮮明度，但仍產生些許的映射。此係如上述般， 由於比a/R未滿足本發明之模具之製造方法的較佳要件， 所以模具B與由此所得之防炫膜B存在有較多平坦面之故。 藉由對所得之模具A及模具B施以鍍鉻或DLC膜，可 賦予硬度及耐磨耗性。形成有此般保護膜之模具，可提升 耐久性，即使連續使用，亦不會使凹凸產生磨損或是模具 產生損傷。 【圖式簡單說明】 第1圖（a)至（c)係階段性顯示本發明之模具之製造方 法的較佳一例之示意剖面圖。 第2圖（a)至（d)係顯示在與模具用基材的表面平行之 方向上相對地直線移動，且與直線移動的同時在與模具用 基材的表面垂直之方向上微小地來回移動之切削工具的模 樣之示意圖。 第3圖係顯示用以進行切削加工而將細微凹部形成於 平板狀的模具用基材之裝置之示意圖。 第4圖係顯示用以進行切削加工而將細微凹部形成於 圓筒狀的模具用基材之裝置之示意圖。 第5圖係用以說明細微凹部間的最鄰接距離a及切削 深度d之示意圖，第5圖（a)為俯視圖，第5圖（b)為剖面 圖。 第6圖係顯示以球面的一部分來形成細微凹部時之細 32 322321 201119827 微凹部形狀之示意圖。 第7圖係顯示規則地配置細微凹部之狀態之示意圖。 第8圖係顯示不規則地配置細微凹部之狀態之示意圖。 第9圖係顯示藉由蝕刻工序，將藉由細微凹部形成工 序所形成之凹凸面予以鈍化之狀態之示意圖。 第10圖係顯示實施例1之細微凹部的配置之圖。 第11圖係顯示實施例2之細微凹部的配置之圖。 第12圖係顯示實施例1 的剖面曲線之圖。 【主要元件符號說明】 1 模具用基材 2 3 鍍銅或鏡鎳 4 5 細微凹部 6 7 與表面4垂直之方向 8 切削工具 9 10 Z 驅動部 11 微小來回移動用驅動 12a、 12b工具移動軌跡 13 支撐機構 15 Y軸驅動部 j 6 17 細微凹部的最深部 18 形成有細微凹部之面 19 保護膜 2q 21 第2表面凹凸形狀 及實施例2中所製作之模具 模具用基材的表面 經鏡面加工之表面 與表面4平行之方向 加工機台 機構部 馬達 細微凹部的最高部 第1表面凹凸形狀 322321 33 201119827 A ' B 細微凹部 a 最鄰接距離 aAB .細微凹部之最深部間之距離 d 切削深度 R 球面半徑 Θ 平均傾斜角度 34 322321

Claims (1)

1. 201119827 ，七、申請專利範圍： ，製化防炫膜用模具之製造方法，其係製造表面具有 、讀凹凸形狀之製造_膜賴具之方法，賴造方法 係包括： 對模制基材的表面施赠銅或鍍鎮之電錢工序； ，對、、查藉由該電鍍工序施以鍍銅或鍍鎳之表面，施以 切削加工及研磨加工的至少任一種加工，藉此形成表面 粗链度為ο.1"10以下的鏡面之鏡面加工工序； 藉由切削加工將複數個細微凹部形成於經鏡面加 工的面之細微凹部形成工序；以及 在形成有細微凹部之面上形成保護膜之保護膜形 成工序， 其特徵為·· 、，上述細微凹部形成工序中之複數個細微凹部的切 削加工，係藉由在與模具用基材的表面平行之方向上相 對地直線移動，且與直線移動的同時在與模具用基材的 表面垂直之方向上微小地來回移動之切削工具來進行， 當將所切削之細微凹部間的平均最鄰接距離設為a (以m)，將切削深度設為V/zm)時，係滿足下列條件： 10 <α^40 0.0044 < - < 0.026 a 0 2.如申請專利範圍第1項所述之方法，其中上述細微凹部 形成工序中之上述切削工具在與模具用基材的表面垂 322321 35 201119827 直之方向上的微小來回移動，係藉由壓電元件來進行。 3.如申請專利範圍第1項所述之方法，其中在上述細微凹 部形成工序中所形成之複數個細微凹部係以球面的一 部分來形成，當將球面的半徑設為吖以…時，係滿足 下列條件： 000015令00055 ~ ^ 2.05 sin jcos'1 4.如申請專利範圍第丨項所述之方法，其中上述保護膜形 成工序，為對形成有複數個細微凹部之面施以鍍鉻之工 序0 5. 如申請專利範圍第！項所述之方法，其中上述保護膜形 成工序，為藉由蒸鍍將以碳為主成分之保護膜形成於形 成有複數個細微凹部之面之工序。 6. 專利範圍第1項所述之方法，其中在上述細微凹 〜、工序後，包括藉由㈣處理來調整形成於表面之 細微凹凸形狀之蝕刻工序。 =1方⑽之製造方法，其係包括：使用藉由申請專利 項所述之方法所製造出之模具，將該模具的凹 r膜-桓If明樹脂膜’接著將轉印有凹凸面之透明樹 月曰臈攸模具剝離之步驟。 322321 36