201007725 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種多層光記錄媒體用片及由使用它 而成之多層光記錄媒體。更詳言之，本發明係有關於一種 薄片，其係用以精確度良好且高品質地製造具有將複數光 記錄層積層而成的重複結構之多層光記錄媒體、及由使用 該薄片而成之多層光記錄媒體 【先前技術】
近年來，以將在光記錄媒體的記錄資訊之高密度化作 爲目的，有提案揭示一種利用二光子吸收性材料而成之多 層記錄媒體。爲了降低在該多層記錄媒體的串音現象 (cross-talk)，有提案揭示一種使非記錄層介於記錄層與記 錄層之間之構成（例如參照專利文獻1及2)。但是此種積層 結構者係通常使用藉由旋轉塗布法形成各層並積層之方 法，因爲每重複積層時膜厚度誤差就增加，會有難以維持 其膜厚度精確度之問題。 作爲解決此問題之方法，可舉出例如在基板貼合由感 壓性黏著劑所構成的非記錄層薄膜片，並在其上藉由旋轉 塗布法方式或刮刀塗布機等的塗布方法形成厚度較薄的記 錄層，且重複需要的積層次數之方法。此時因爲感壓性黏 著劑層的耐溶劑性差，通常係採取在感壓性黏著劑層與記 光子吸收性材料係多半爲低分子材料，所以薄片化時膜強 度不足。因此，通常係採取混合二光子吸收性低的黏合劑 聚合物作爲基質之方法，但是作爲記錄層之記錄敏感度降 201007725 低。 作爲其他方法，有積層由二光子吸收性材料所構成的 記錄層薄膜片與由感壓性黏著劑所構成的非記錄層薄膜片 之方法（例如參照專利文獻3)。依照使用該薄片之方法時’ 藉由製造將記錄層薄膜片與非記錄層薄膜片各自數層積層 而成的單元，能夠以一次的貼合對基板積層數層’能夠簡 便地製造多層光記錄媒體。 [專利文獻1]特開平1 1-250496號公報 @ [專利文獻2]特開2000-67464號公報 [專利文獻3]特開2005-2093 28號公報 【發明内容】 [發明所欲解決之課題] ^ 但是在前述專利文獻3之方法，雖然能夠簡便地製造 ' 多層光記錄媒體，但是10奈米〜5000奈米之極薄的記錄 層或用以設置記錄層之阻障層，會將製程薄膜的凹凸直接 轉印’該凹凸會成爲產生光線散射之問題。通常在市售的 φ 薄膜（聚對酞酸乙二酯薄膜等），因爲以抗黏結等作爲目 的，通常係添加有二氧化矽等的塡料，只要將此種薄膜使 用作爲製程薄膜’凹凸會被轉印至記錄層或阻障層，致使 難以防止產生光線散射。又’在製程薄膜塗布含有形成記 錄層或阻障層（爲了設置記錄層）的材料之塗布液時，材料 的一部分會浸漬至製程薄膜’致使將記錄層或阻障層剝離 變爲困難’或是形成記錄層的材料係混合物時，特定成分 被選擇性地浸漬’結果所得到的記錄層變成與設計的組成 比不同之問題。 201007725 本發明係在此種狀況下進行，其目的係提供一種用以 精確度良好且高品質地製造多層光記錄媒體之薄片，其中 該多層光記錄媒體具有重複積層含有多光子吸收性材料的 複數光記錄層而成之結構，及由使用該薄片而成之多層光 記錄媒體。 [解決課題之手段] 爲了達成上述目的，本發明者等專心硏討的結果發現 藉由具有積層光記錄層及黏著劑層而成的單元之結構，或 Φ 是具有將光記錄層、pi障層及黏著劑層依照該順序積層而 成的單元之結構，且將前述光記錄層或阻障層的最大高度 粗糙度（Rz)規定在特定値以下而成之薄片，能夠達成該目 的，並基於該知識而完成了本發明。 ' 亦即本發明係 、 [1] 一種多層光記錄媒體用片，其特徵係用以製造具有積 層複數光記錄層而成的重複結構的多層光記錄媒體之薄 片，其具有含積層光記錄層及黏著劑層而成的單元之結 ^ 構，或是將光記錄層、阻障層及黏著劑層依照該順序積層 Ο 而成的單元之結構，且前述光記錄層或阻障層的最大高度 粗糙度（Rz)爲500奈米以下。 [2] 如上述[1]項之多層光記錄媒體用片，其中在含有積層 光記錄層及黏著劑層而成的單元之薄片，係將設置於製程 薄膜之形成該光記錄層側的面之光記錄層轉印來進行前述 光記錄層的形成，其中該製程薄膜係形成光記錄層側的面 之最大高度粗糙度（Rz)爲5 00奈米以下。 [3] 如[1]項之多層光記錄媒體用片，其中在含有積層光記 錄層、阻障層及黏著劑層而成的單元之薄片，係將設置於 201007725 製程薄膜之形成該阻障層側的面之阻障層轉印來進行前述 阻障層的形成，其中該製程薄膜係形成阻障層側的面之最 大高度粗糙度（Rz)爲500奈米以下。 [4] 如[2]或[3]項之多層光記錄媒體用片’其中在製程薄膜 之形成光記錄層側的面或形成阻障層側的面之表面皮膜楊 格模數爲l.OGPa以上。 [5] 如[2]至[4]項中任一項之多層光記錄媒體用片，其中製 程薄膜之形成光記錄層側的面或形成阻障層側的面係未含 _ 有塡料。 [6] 如[2]至[5]項中任一項之多層光記錄媒體用片，其中製 程薄膜係在基材薄膜上設置被膜而成者，係在該製程薄膜 之形成光記錄層側的面或形成阻障層側的面設置厚度爲80 - 〜10,0 00奈米的皮膜來緩和基材的凹凸而構成。 [7] 如[2]至[6]項中任一項之多層光記錄媒體用片，其中製 程薄膜之形成光記錄層側的面或形成阻障層側的面係具有 由聚酯系樹脂或藉由活性能量線硬化的樹脂所構成之皮 膜。 [8] 如[1]至[7]項中任一項之多層光記錄媒體用片，其中光 記錄層係含有多光子吸收性材料之層。 [9] 一種多層光記錄媒體，其特徵係使用如[1]至[8]項中任 一項之薄片所製成。 [10] —種薄膜，其係用於製造如[1]至[10]項中任一項之多 層光記錄媒體用片用，其特徵係在形成光記錄層側的面或 阻障層側的面之最大高度粗糙度（Rz)爲5 00奈米以下的製 程薄膜，形成有光記錄層或阻障層。 [發明之效果] 201007725 依照本發明，能夠提供一種薄片，其係用以精確度良 好且高品質地製造具有將複數光記錄層積層而成的重複結 構之多層光記錄媒體、及由使用該薄片而成之多層光記錄 媒體。 【實施方式】 首先，說明本發明的多層光記錄媒體用片。 [多層光記錄媒體用片] 本發明的多層光記錄媒體用片（以下有簡稱爲薄片之 q 情形）其特徵係用以製造具有積層複數光記錄層而成的重 複結構的多層光記錄媒體之薄片，其具有含積層光記錄層 及黏著劑層而成的單元之結構，或是將光記錄層、阻障層 及黏著劑層依照該順序積層而成的單元之結構，且前述光 ‘ 記錄層或阻障層的最大高度粗糙度（Rz)爲500奈米以下。 . (光記錄層） 在本發明的薄片，構成光記錄層之材料沒有特別限 制，能夠從先前已知作爲光記錄媒體的光記錄層的構成材 Λ 料之材料中，適當地選擇使用任意物，但是以含有在200 ❹ 〜800奈米具有吸收之多光子吸收性材料者爲佳。作爲多 光子吸收性材料係意味著同時吸收2個以上的光子且具有 往激發狀態遷移的性質之化合物。其中從得到實用上充分 的記錄敏感度之觀點來看，以含有二光子吸收面積爲 0.1 GM以上的多光子吸收性材料者爲佳，特別是以含有 100GM以上的多光子吸收性材料者爲更佳。作爲此種材料 例如可以是單獨由多光子吸收性材料構成者，或是例如可 以是由多光子吸收性材料與因來自被激發的多光子吸收性 .201007725 材料的能量移動而產生變化之其他的反應性化合物所構成 者，且亦可以由按照必要在基質調配該等而成的材料所構 成。又，前述「GM」係著色力l〇-50cm4 · s · molecule·1 · photon·1 ° 構成前述基質的材料可以是無機材料亦可以是有機材 料’從材料的選擇種類較多等的點而言，以有機系的高分 子材料爲佳。該高分子材料可以是同元聚合物亦可以是共 聚物，其單體的種類、分子量、聚合形態等沒有特別限制。 〇 <高分子材料> 前述高分子材料的具體例可舉出各種聚乙烯、乙烯/1-丁烯共聚物、乙烯/4-甲基-1-戊烯共聚物、乙烯/1-己烯共 聚物、聚丙烯、乙烯/丙烯共聚物、丙烯/1-丁烯共聚物、聚 ' 1-丁烯、1· 丁烯/4-甲基-1-戊烯共聚物、聚4-甲基-1-戊烯、 、 聚3-甲基-1-丁烯、乙烯/環烯烴共聚物、環烯烴系樹脂等 的聚烯烴類、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、乙烯/丙烯酸共聚 物或其金靨鹽、聚甲基丙烯酸甲酯、脂環族丙烯酸樹脂等 Q 的聚（甲基）丙烯酸酯、聚對酞酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二 酯等的聚酯系樹脂、聚全氟乙烯、全氟烯基乙烯醚聚合物 等的氟系樹脂、聚苯乙烯、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚苯硫、 聚醚楓、聚醯亞胺、聚苯醚、烯烴/N-取代順丁烯二醯亞胺 共聚物、烯丙基碳酸酯樹脂、環氧丙烯酸酯、丙烯酸胺基 甲酸酯等》該等高分子材料可單獨使用，亦可組合使用2 種以上。 <多光子吸收性材料> 前述多光子吸收性材料可以是單獨構成者，或者亦可 以是對前述基質化學鍵結而成作爲主鏈或側鏈成分者，亦 .201007725 可以僅是在基質中分散或溶解。作爲該多光子吸收性材料 沒有特別限制，能夠使用各式各樣的化合物。作爲該多光 子吸收性材料可舉出例如花青苷系、苯乙烯基系、吡喃鑰 系、噻吡喃鑷系、部花青素系、亞芳基（arylidene)系、氧 雜菁（〇χ〇η〇1)系、角黨嫌鐵（squalium)、奧鐵（azulenium)、 香豆素系、吡喃系、苯餛系、蒽醌系、三苯基甲烷系、二 苯基甲院系、Pill η星（xanthene)系、硫Dill哩系、啡噻畊系、偶 氮系、甲亞胺系、弗酮系、二芳基乙烯基系、螺吡喃系、 0 醇酸系、菲（perylene)系、多烯系、二苯基胺系、唾吖啶系、 莫鎗系、卟啉系、酞菁系、苯乙烯系、伸苯基伸乙烯基系、 三苯基胺系、咔唑系等的化合物。 在本發明，該多光子吸收性材料的分子量沒有特別限 - 制，從抑制製程薄膜的移動之觀點而言，數量平均分子量 . (Μη)以3 00以上爲佳。分子量的上限沒有特別限制，通常 數量平均分子量爲1〇〇,〇〇〇左右。作爲多光子吸收性材料 係以二光子吸收性材料爲佳。 此種高分子量的多光子吸收性材料係例如能夠藉由對 前述的基質化學鍵結作爲主鏈或側鏈成分來得到。 又，前述數量平均分子量係依照凝膠滲透色譜法（GPC 法）測定之換算成聚苯乙烯的値。 作爲使用此種多光子吸收性化合物之記錄方式，可舉 出例如使用如含偶氮基或C = C基、C = N基的化合物之因光 ，而產生異構化之材料，或如（甲基）丙烯酸酯化合物之因光 而產生聚合反應之材料，或如有機光致變色材料之因光而 產生可逆性結構變化之材料，因光而產生電荷分布之有機 折射材料等來讀取折射率變調之方式；或使用因光而產生 -10- 201007725 螢光特性變化之材料來讀取螢光之方式；組合因光而產生 酸的材料及酸發色性化合物，或組合消色劑及消色性化合 物來讀取吸收率變調或折射率調變之方式等。在該等記錄 方式，可以是多光子吸收性化合物本身具有此種光反應 性，亦可藉由從因多光子吸收而被激發的多光子吸收性化 合物，能量移動至其他的反應性化合物而產生反應。 <光記錄層的性質> 在本發明的薄片，前述光記錄層的厚度沒有特別限 φ 制，通常爲0.04〜50微米左右，以0.05〜10微米爲佳。 又，該光記錄層最大高度粗糙度（Rz)必須是500奈米 以下。最大高度粗糙度（Rz)係在剖面曲線將基準長度拔除 後的部分之最大高度（最高部分與最低部分的差）所示之表 - 面粗糙度（依照Jis B 0601: 2001之規定），若是局部性具 . 有高或低的部分時，該値會大幅度地變動。因此，即便光 記錄層或後述的阻障層的表面平均粗糙度小的情況，最大 高度粗糙度（Rz)大時亦會成爲成爲多層光記錄媒體的記錄 特性變差之原因。藉由使光記錄層及阻障層的最大高度粗 糙度（Rz)爲500奈米以下，能夠抑制局部性光的散射，而 能夠得到具有良好的記錄特性之多層光記錄媒體。該Rz 大於500奈米時，在所得到的多層光記錄媒體，會產生光 的散射等之不良。該Rz係以3 00奈米以下爲佳，以100 奈米以下爲更佳。又，其下限沒有特別限制，雖然越來越 小，但是形成Rz爲小於0.1奈米的光記錄層係困難的，因 此，Rz的下限係通常爲0.1奈米左右。 在本發明的薄片，形成具有此種Rz的光記錄層係如後 述，能夠藉由將設置在製程薄膜的光記錄層形成面之光記 -11- 201007725 錄層轉印至黏著劑層上來進行，該製程薄膜之形成該光記 錄層側的面（以下稱爲「光記錄層形成面」）的Rz爲500奈 米以下。 又，關於前述Rz的測定方法係如後面說明。 (黏著劑層） 在本發明的薄片，構成黏著劑層之黏著劑沒有特別限 制，以在常溫具有黏著性之感壓性黏著劑爲佳，就透明性 高而言，以丙烯酸系感壓性黏著劑爲特佳。 φ 作爲該丙烯酸系感壓性黏著劑能夠使用例如含有（甲 基）丙烯酸酯系共聚物及交聯劑者。 <(甲基）丙烯酸酯系共聚物> 作爲（甲基）丙烯酸酯系共聚物較佳可舉出酯部分的烷 - 基之碳數爲1〜20的（甲基）丙烯酸酯、具有活性氫的官能 ^ 基之單體及依照需要使用的其他單體之共聚物。 在此，酯部分的烷基之碳數爲1〜20的（甲基）丙烯酸 酯可舉出例如（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲 基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸異丙酯、（甲基）丙烯酸正丁 ❹ 酯、（甲基）丙烯酸異丁酯、（甲基）丙烯酸第三丁酯、（甲基） 丙烯酸戊酯、（甲基）丙烯酸己酯、（甲基）丙烯酸環己酯、（甲 基）丙烯酸2-乙基己酯、（甲基）丙烯酸異辛酯、（甲基）丙烯 酸癸酯、（甲基）丙烯酸十二烷酯、（甲基）丙烯酸肉豆蔻酯、 (甲基）丙烯酸棕櫚酯、（甲基）丙烯酸硬脂酯等。該等可單獨 使用1種，亦可組合使用2種以上。 另一方面’作爲具有活性氫的官能基之單體可舉出例 如（甲基）丙烯酸2 -羥基乙酯、（甲基）丙烯酸2 -羥基丙酯、（甲 基）丙烯酸3-羥基丙酯、（甲基）丙烯酸2-羥基丁酯、（甲基） -12- 201007725 丙烯酸3-羥基丁酯、（甲基）丙烯酸4-羥基丁酯等的（甲基） 丙烯酸羥基烷酯、（甲基）丙烯酸一甲胺基乙酯、（甲基）丙烯 酸一乙胺基乙酯、（甲基）丙烯酸一甲胺基丙酯、（甲基）丙烯 酸一乙胺基丙酯等的（甲基）丙烯酸一烷胺基烷酯；丙烯 酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、順丁烯二酸、伊康酸、檸康酸 等的乙烯性不飽和羧酸等。該等單體可單獨使用1種，亦 可組合使用2種以上。 又，依照需要使用的其他單體可舉出例如乙酸乙烯 酯、丙酸乙烯酯等的乙烯酯類；乙烯、丙烯、異丁烯等烯 烴類；氯乙烯、二氯乙烯等的鹵化烯烴類；苯乙烯、α-甲 基苯乙烯等的苯乙烯單體；丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯 等的二烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等的腈系單體；丙 烯醯胺、Ν-甲基丙烯醯胺、Ν,Ν-二甲基丙烯醯胺等的丙烯 醯胺類等。該等單體可單獨使用1種，亦可組合使用2種 以上。 該（甲基）丙烯酸酯系共聚物係其共聚合形態沒有特別 限制，可以是無規、嵌段、接枝共聚合之任一者。又，分 子量係以重量平均分子量爲30萬〜200萬的範圍爲佳。 又，上述重量平均分子量係依照凝膠滲透色譜法（GPC 法）測定之換算成聚苯乙烯的値。 在本發明，該（甲基）丙烯酸酯系共聚物可單獨使用1 種，亦可組合使用2種以上。 <交聯劑> 作爲丙烯酸系感壓性黏著劑的交聯劑沒有特別限制， 能夠從先前在丙烯酸系感壓性黏著劑當中常被用作爲交聯 劑者例如異氰酸酯化合物、環氧化合物、吖環丙烷系化合 -13- 201007725 物、三聚氰胺樹脂、脲樹脂、二醛類、羥甲基聚合 屬鉗合化合物、金屬醇鹽、金屬鹽等之中適當地選 爲起因於黏著劑層的變色（黃變）之光透射率的變化 產生且因雷射照射之變質不容易產生，以脂環族聚 酯系化合物、脂肪族聚異氰酸酯系化合物、脂環族 化合物、脂肪族環氧系化合物、金屬鉗合化合物或 吖環丙烷系化合物爲佳。 作爲金屬鉗合化合物係沒有特別限制，作爲在 ^ 系感壓性黏著劑的金屬鉗合化合物能夠從眾所周知 物中適當地選擇任意物。在該金屬鉗合化合物，金 有鋁、銷、鈦、鋅、鐵、錫等的鉗合化合物。 作爲脂環族聚異氰酸酯化合物或脂肪族聚異氰 - 化合物可舉出例如異佛酮二異氰酸酯、雙環丁烷三 _ 酯、環戊烯二異氰酸酯、環己烯二異氰酸酯、甲基 二異氰酸酯、加氫二苯基甲烷二異氰酸酯、六亞甲 氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、離胺酸二異 等、及該等的縮二脲體、異三聚氰酸酯體、以及與乙 w 丙二醇、新戊二醇、三羥甲基丙烷、蓖麻油等含低 性氫的化合物之反應物亦即加成物體等。 作爲脂環族環氧系化合物或脂肪族環氧系化合 出3,4-環氧環己基羧酸3,4-環氧環己基甲酯、1,3_雙 -二環氧丙基胺基甲基）環己烷、加氫雙酚A二環氧p 聚乙二醇二環氧丙基醚、聚丙二醇二環氧丙基醚、 二醇環氧丙酯、己二酸環氧丙酯、癸二酸環氧丙酯 作爲鋁鉗合化合物可舉出例如二異丙氧基鋁一 乙醯乙酸酯、一異丙氧基鋁雙油醯基乙醯乙酸酯、 物、金 擇，因 不容易 異氰酸 環氧系 脂肪族 丙烯酸 的化合 屬原子 酸酯系 異氰酸 環己烯 基二異 氰酸酯 二醇、 分子活 物可舉 (Ν,Ν1 Ϊ基魅、 1，6-己 等。 油醯基 一異丙 -14- ‘201007725 氧基鋁一油酸酯一乙基乙醯乙酸酯、二異丙氧基鋁一月桂 基乙醯乙酸酯、二異丙氧基鋁一硬脂醯基乙醯乙酸酯、二 異丙氧基鋁一異硬脂醯基乙醯乙酸酯、一異丙氧基鋁一 ΝΑ 桂醯基鋁 氫化物 （alanate)— 月桂基乙醯 乙酸酯 、三乙 醯丙酮鋁、一乙醯丙酮鋁雙（異丁基乙醯乙酸酯）鉗合物、 —乙醯基丙酮鋁雙（2-乙基己基乙醯乙酸酯）鉗合物、一乙醯 丙酮鋁雙（十二烷基乙醯乙酸酯）鉗合物、一乙醯丙酮鋁雙 (油醯基乙醯乙酸酯）鉗合物等。 U 作爲脂肪族吖環丙烷系化合物沒有特別限制，能夠從 在丙烯酸系感壓性黏著劑作爲脂肪族吖環丙烷系化合物之 眾所周知的化合物中適當地選擇任何物。作爲脂肪族吖環 丙烷系化合物可舉出例如三羥甲基丙烷三（2-甲基-1-吖環 - 丙烷丙酸酯）、四羥甲基甲烷-三-β-吖環丙烷丙酸酯、2,2’-雙羥基甲基丁醇-參[3-(1-吖環丙烷基）丙酸酯]、1，6·六亞甲 基二伸乙基脲等。 在本發明，前述的脂環族聚異氰酸酯系化合物、脂肪 族聚異氰酸酯系化合物、脂環族環氧系化合物、脂肪族環 ❹ 氧系化合物、金屬鉗合化合物及吖環丙烷系化合物可單獨 使用1種，亦可組合使用2種以上。又，從作爲感壓性黏 著劑的性能之觀點，相對於前述（甲基）丙烯酸酯系共聚物 100質量份，其含量通常爲0.01〜5.0質量份，以0.05〜3.0 質量份爲佳，以在0.1〜1.0質量份的範圍選定爲更佳。 在不損害本發明效果的範圍，可按照需要而在該感壓 性黏著劑添加黏著賦予劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、光 安定劑、軟化劑、塡料等。 在本發明之感壓性黏著劑層的厚度係沒有特別限制， -15- .201007725 通常爲1〜100微米左右，以2〜30微米爲佳。 又’在後面說明黏著劑層的形成方法。 (阻障層） 在本發明的薄片之阻障層，係爲了在感壓性黏著劑層 上使用含有溶劑的光記錄層形成材料並藉由生產性高的旋 轉塗布法等的方法形成光記錄層，按照需要在該感壓性黏 著劑層表面所設置之層。未設置該層而在感壓性黏著劑層 上藉由旋轉塗布法等的方法直接形成光記錄層時，因爲該 φ 感壓性黏著劑層係耐溶劑性差，被光記錄層形成材料的溶 劑侵入，或非記錄層形成材料混入感壓性黏著劑層中，致 使所得到的多層光記錄媒體成爲精確度低且品質差者。 作爲構成該阻障層的材料，可舉出例如在前述光記錄 - 層的說明作爲構成基質的材料所例示的各種高分子材料 等。該等可單獨使用1種，亦可組合使用2種以上，該等 之中以聚乙烯醇爲佳》該聚乙烯醇係水溶性，因爲能夠以 水溶液的形態進行塗布、乾燥來形成阻障層，在作業性方 面係有利的。 W <阻障層的性質> 在本發明，前述阻障層的厚度係沒有特別限制’通常 爲0.01〜100微米程度，以0_05〜30微米爲佳。 又，該阻障層的最大高度粗糙度（Rz)必須爲500奈米 以下。該Rz大於5 00奈米時，藉由旋轉塗布法等在其上面 所形成的光記錄層亦具有同樣的Rz，在所得到的多層光記 錄媒體，會產生發生光的散射等之不良。 該Rz係以3 00奈米以下爲佳，以1〇〇奈米以下爲更 佳。又，其下限沒有特別限制，雖然越來越小’但是形成 -16 - 201007725
Rz爲小於〇. 1奈米的阻障層係困難的，因此，Rz的下限係 通常爲0.1奈米左右。 如後述，在本發明的薄片，形成具有此種Rz的阻障層 係能夠藉由將設置在製程薄膜的阻障層形成面之阻障層轉 印至黏著劑層上來進行，其中該製程薄膜之形成該阻障層 側的面（以下稱爲「阻障層形成面」）的Rz爲500奈米以下。 作爲在如此進行而形成的阻障層上形成光記錄層之方 法，藉由旋轉塗布法塗布光記錄層形成材料之方法係有利 @ 的。藉由採用旋轉塗布法，因爲能夠使用未含有黏合劑之 只有含有多光子吸收性材料之塗布液作爲該光記錄層形成 材料，能夠形成記錄敏感度優良的光記錄層。 又，後續說明該阻障層的Rz之測定方法。 - (多層光記錄媒體用片的製造） _ 作爲本發明的多層光記錄媒體用片係如前所述，具有 2個態樣，亦即（1)具有積層光記錄層及黏著劑層而成之單 元（單元A)之薄片（以下稱爲薄片A);及（2)將光記錄層、阻 障層及黏著劑層依照該順序積層而成之單元（單元B)之薄 V 片（以下稱爲薄片B)。 <薄片A的製造> 作爲本發明的薄片A的製造方法係例如能夠採用以下 所示之方法。 首先，製造附帶兩面剝離薄膜的感壓性黏著劑層。第 1圖係附帶兩面剝離薄膜的感壓性黏著劑層的一個例子之 構成圖，附帶兩面剝離薄膜的感壓性黏著劑層10係具有感 壓性黏著劑層1爲被第1剝離薄膜2及第2剝離薄膜3挾 持而成之構成。 -17- 201007725 該附帶兩面剝離薄膜的感壓性黏著劑層ι〇能夠藉由 依照眾所周知的方法、例如刮刀塗布法、輥塗布法、棒塗 布法、刮板塗布法、模頭塗布法、凹版塗布法等在第1剝 離薄膜2的剝離處理面，以成爲規定厚度的方式塗布前述 的感壓性黏著劑並乾燥後，在所形成的感壓性黏著劑層1 上，貼合第2剝離薄膜3來製造。 作爲前述的剝離薄膜可使用在先前感壓性黏著劑被使 用之眾所周知的剝離薄膜。 @ 作爲前述的剝離薄膜係沒有特別限制，可舉出在聚乙 烯薄膜或聚丙烯薄膜等的聚烯烴薄膜、聚對酞酸乙二酯等 的聚酯薄膜等上塗布矽樹脂等的剝離劑來設置剝離劑層而 成者等。又，該等剝離薄膜的厚度係沒有特別限制，通常 - 爲20〜150微米左右》 . 因爲感壓性黏著劑層表面的Rz係較小爲佳，剝離薄膜 的剝離處理面的Rz係以500奈米以下爲佳。 另一方面，製造附帶製程薄膜的光記錄層作爲後述的 Θ 多層光記錄媒體用片製造用薄膜。第2圖係附帶製程薄膜 的光記錄層的一個例子之構成圖，附帶製程薄膜的光記錄 層20具有在製程薄膜5上設置光記錄層4而成之構成。 該附帶製程薄膜的光記錄層20能夠藉由例如使用光 記錄層形成面的最大高度粗糙度（Rz)爲500奈米以下之製 程薄膜5,在其光記錄層形成面上，依照眾所周知的方法、 例如刮刀塗布法、輥塗布法、棒塗布法、刮板塗布法、模 頭塗布法、凹版塗布法等以乾燥塗膜的厚度成爲規定厚度 的方式塗布由光記錄層形成材料所構成之塗布液並乾燥， 使其形成光記錄層4來製造，其中該光記錄層形成材料係 -18- 201007725 以適當的比率含有多光子吸收性材料、較佳是二光子吸收 性材料及高分子材料等的基質材料。 又，後面詳細說明製程薄膜5。 接著，使前如前述進行所製造的附帶兩面剝離薄膜的 感壓性黏著劑層10及附帶製程薄膜的光記錄層20，來製 造積層光記錄層及感壓性黏著劑層而成之單元A。第3圖 係被製程薄膜及剝離薄膜挾持之積層光記錄媒體及感壓性 黏著劑層而成之單元（稱爲附帶製程、剝離薄膜的單元A) ϋ 的一個例子之構成圖。附帶製程、剝離薄膜的單元A30係 積層光記錄層4及感壓性黏著劑層1而成之單元Α6爲在光 記錄層4側具有製程薄膜5，同時在感壓性黏著劑層1側 具有第1剝離薄膜2之構成。 - 此種構成的附帶製程、剝離薄膜的單元Α30係例如能 夠如以下進行來製造。 將如此進行所製得之附帶兩面剝離薄膜的感壓性黏著 劑層10之第2剝離薄膜3剝離，並藉由在露出的感壓性黏 著劑層1上，貼合如前述進行所製造的附帶製程薄膜的光 _ 記錄層20之光記錄層4面，能夠得到由附帶製程、剝離薄 膜的單元A3 0所構成之薄片Α。 第4圖係具有2層積層光記錄層及感壓性黏著劑層而 成的單元A之本發明的薄片A的一個例子之構成圖，本發 明的薄膜A40能夠如下述進行來製造’但是未限定於此》 將在如前述進行所得到的附帶製程、剝離薄膜的單元 A3 0之製程薄膜5剝離，並在露出的光記錄層4_1面，貼 合將前述感壓性黏著劑層10之第2剝離薄膜3剝離而露出 的感壓性黏著劑層1 -2面，接著，將第1剝離薄膜2剝離， -19- 201007725 並藉由在露出的感壓性黏著劑層1-2面，貼合前述 程薄膜的光記錄層20的光記錄層4-2面，來形成積 錄層4-2及感壓性黏著劑層1-2而成之單元A6-2。 如此進行，能夠製造如第4圖所示之積層2層 而成之本發明的薄片A40，其中該2層單元A具有 記錄層4-1及感壓性黏著劑層1-1而成的單元A6-1 層光記錄層4-2及感壓性黏著劑層1-2而成的單元 又，在光記錄層4-2上，設置有製程薄膜5且在感 • 著劑層1-1上設置有第1剝離薄膜2。 本發明的薄片A之前述單元A的積層數係通常 層左右。 <薄片B的製造> 作爲本發明的薄片B的製造方法能夠採用例如 _ 示之方法。 首先，與製造前述薄片A時同樣地進行，製造 圖所示之附帶兩面剝離薄膜的感壓性黏著劑層，同 _ 附帶製程薄膜的阻障層作爲後述的多層光記錄媒體 〇 造用薄膜。 第5圖係附帶製程薄膜的阻障層的一個例子 圖，製造附帶製程薄膜的阻障層50具有在製程薄膜 置阻障層7而成之構成。 該製造附帶製程薄膜的阻障層50能夠藉由例 阻障層形成面的最大高度粗糙度（Rz)爲500奈米以 程薄膜5，在其阻障層形成面上，依照眾所周知的 例如刮刀塗布法、輥塗布法、棒塗布法、刮板塗布 頭塗布法、凹版塗布法等以乾燥塗膜的厚度成爲規 附帶製 層光記 單元A 積層光 :及積 A6-2。 壓性黏 爲1〜6 以下所 如第1 時製造 用片製 之構成 5上設 如使用 下之製 方法、 法、模 定厚度 -20- 201007725 的方式塗布含有阻障層形成材料之塗布液並乾燥，使其形 成阻障層7來製造。 又，後面詳細說明製程薄膜5。 接著，藉由將如第1圖所示之在附帶兩面剝離薄膜的 感壓性黏著劑層10之第2剝離薄膜3剝離，並在露出的感 壓性黏著劑層1上，貼合如上述進行所製造之附帶製程薄 膜的阻障層50之阻障層面7，且將製程薄膜5剝離後，在 露出的阻障層7上，依照眾所周知的方法、例如旋轉塗布 @ 法、刮刀塗布法、輥塗布法、棒塗布法、刮板塗布法、模 頭塗布法、凹版塗布法、毛細管塗布法等以成爲規定厚度 的方式塗布含有多光子吸收性材料、較佳是二光子吸收性 材料之塗布液並乾燥而形成光記錄層，能夠得到如第6圖 - 所示之在第1剝離薄膜2上將光記錄層4a、阻障層7及感 . 壓性黏著劑層1依照該順序積層而成的單元B8所構成的薄 片B所設置而成之積層體60。 如此，在阻障層上藉由旋轉塗布法等直接設置光記錄 層時’未使用高分子材料等的基質材料而使用單獨含有多 參 光子吸收性材料之塗布液作爲光記錄層形成材料變爲可 能，能夠形成記錄敏感度優良的光記錄層。 第7圖係本發明的薄片B的一個例子之構成圖，本發 明的薄片B70具有在第1剝離薄膜2設置2層單元B而成 之構成’該2層單元B具有將光記錄層4 a-1、阻障層7-1 及感壓性黏著劑層1-1依此順序積層而成之單元B8-1;及 將光記錄層4a-2、阻障層7-2及感壓性黏著劑層1-2依此 順序積層而成之單元B8-2。 該薄片B70能夠藉由例如製造2片前述第6圖所示的 -21 - 201007725 積層體60，並在第1積層體4a面，將第2積層體之第1 剝離薄膜2而露出的感壓性黏著劑層1面貼合來製造。當 然，未限定於該方法。 在本發明的薄片B之前述單元B的積層數通常爲1〜6 層左右。 (製程薄膜） <製程薄膜的性質> 製程薄膜係設置基材薄膜及按照需要於其表面設置被 φ 膜而成的構成之薄膜。 前述之具有將光記錄層及感壓性黏著劑層積層而成的 單元A之薄片A之光記錄層的形成；及具有將光記錄層、 阻障層及感壓性黏著劑層依照該順序積層而成的單元B之 - 薄片B之阻障層的形成，能夠藉由將設置在各自製程薄膜 . 的光記錄層及阻障層轉印至感壓性黏著劑層上來形成。 在本發明，由於前述的理由，前述的光記錄層及阻障 層係各自的最大高度粗糙度（Rz)必須爲5 00奈米以下，以 © 300奈米以下爲佳，以0.01〜100奈米以下爲更佳。因此’ 爲了形成具有此種Rz的光記錄層及阻障層，前述製程薄膜 係光記錄層形成面或阻障層形成面的最大高度粗糙度（Rz) 爲與前述同樣地爲500奈米以下係重要的，以3 00奈米以 下爲佳，以〇.1〜1〇〇奈米以下爲更佳。 又，在製程薄膜之光記錄層形成面的皮膜係柔軟時’ 在其上設置光記錄層時，因該光記錄層中的低分子成分移 動至前述皮膜，會有記錄特性產生變化’或是將光記錄層 從製程薄膜剝離變爲困難等之問題。 因此，在本發明，在製程薄膜的光記錄層形成面或阻 -22- .201007725 障層形成面的表面皮膜楊格模數係以l.OGPa以上爲佳，以 1.5〜15GPa爲更佳。 又，在製程薄膜之光記錄層形成面或阻障層形成面的 最大高度粗糙度（Rz)及表面皮膜的楊格模數的測定方法， 係在後面說明。 <製程薄膜的製造> 該製程薄膜係設置在其上面的光記錄層或阻障層具有 能夠剝離之剝離性者，亦可對基材薄膜的光記錄層形成面 0 或阻障層形成面施加剝離處理，或是設置用以緩和基材薄 膜的凹凸之被膜或用以調整表面皮膜的楊格模數之皮膜， 但是使Rz在上述範圍係重要的。 作爲剝離處理可舉出在基材薄膜塗布矽系剝離劑、丁 - 二烯系剝離劑、氟系剝離劑等眾所周知的剝離劑之塗布方 _ 法。剝離劑層的厚度沒有特別限定，依照需要設定即可， 通常0.05〜50微米。 製程薄膜的剝離力係以10〜70OmN/25mm爲佳。剝離 力在該範圍時，在製程薄膜所設置的光記錄層或阻障層的 轉印作業良好。較佳的剝離力爲30〜300mN/25mm。 作爲該製程薄膜係光記錄層形成面或阻障層形成面未 含有塡料者爲佳，又，厚度爲1〇〜〇〇〇奈米左右’以50 〜8,000奈米爲佳，以設置80〜5，000奈米的皮膜來緩和基 材的凹凸而構成者爲佳。在此，緩和凹凸係指藉由設置皮 膜來使表面粗糙度的値變小。作爲表面粗糙度的指標能夠 使用前述Rz。 作爲用以緩和前述凹凸之皮膜係沒有特別限制’若是 前述所設置的光記錄層或阻障層能夠剝離時’可以是無機 -23- 201007725 皮膜、有機皮膜之任一者，以醇酸樹脂等的聚酯系樹脂皮 膜或藉由活性能量線硬化的樹脂皮膜爲佳。聚酯系樹脂皮 膜及藉由活性能量線硬化的樹脂皮膜具有適當的表面張 力，含有作爲本發明的光記錄層或阻障層的材料之塗布液 不會產生收縮斑，而能夠容易地形成最大高度粗糙度（RZ) 小的光記錄層或阻障層。塗布液產生收縮斑時，會有該部 分係最大高度粗糙度（Rz)的値變大而成爲缺點，或是無法 形成光記錄層或阻障層之情形。而且，在該等皮膜，光記 g 錄層中的多光子吸收性材料等低分子成分的移動較少。 (a) 基材薄膜 作爲在該製程薄膜之基材薄膜，可舉出例如聚對酞酸 乙二酯、聚對酞酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等的聚酯薄 - 膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏二氯 乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜、 聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚颯薄 膜、聚醚醚酮薄膜、聚醚碾薄膜、聚苯硫醚薄膜、聚醚醯 亞胺薄膜、聚醯亞胺薄膜、氟樹脂薄膜、聚酿胺薄膜、丙 0 烯酸樹脂薄膜、降栢烯系樹脂薄膜、環烯烴樹脂薄膜等。 基材薄膜的厚度沒有特別限制，通常爲1〜50 0微米左 右，以2〜200微米爲佳。 又，爲了提升與在其表所設置的皮膜之黏附性，可按 照必要在該基材薄膜的皮膜形成面施行例如電暈放電處 理、鉻酸處理（濕式）、火焰處理、熱風處理、照射臭氧、 紫外線處理等。 (b) 聚酯系樹脂皮膜的形成 作爲聚酯系樹脂皮膜係以具有交聯結構的醇酸樹脂皮 -24- 201007725 膜爲佳，其形成能夠使用例如將由含有（X)醇酸樹脂、（γ) 交聯劑及按照需要的（Ζ)硬化觸媒之熱硬化性樹脂組成物 所構成的層，加熱使其硬化之方法。 作爲前述（X)成分的醇酸樹脂係沒有特別限制，能夠從 先前已知作爲醇酸樹脂之眾所周知之物適當地選擇使用。 該醇酸樹脂係藉由多元醇與多元羧酸的縮合反應而得到的 樹脂，有二羧酸與二元醇的縮合物或使用不乾性油脂肪酸 改性而成者亦即不轉化性醇酸樹脂；以及二羧酸與三元以 0 上的醇之縮合物亦即轉化性醇酸樹脂，在本發明係任一者 都可使用。 作爲前述（Υ)成分的交聯劑可例示三聚氰胺樹脂、脲樹 脂等的胺基樹脂、以及胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂及酚樹 脂。 在本發明，（Υ)成分的交聯劑係可單獨使用1種，亦可 組合使用2種以上。 在該熱硬化性樹脂組成物，前述（X)成分及（Υ)成分的 ^ 比率係固體成分質量比以70 : 30至10 : 90的範圍爲佳。 Θ (X)成分的比率大於該範圍時，硬化物無法得到充分的交聯 結構，又，難以得到需要的楊格模數而且成爲產生剝離性 低落的原因。另一方面，（X)成分小上述範圍時，楊格模數 太高且變爲硬而脆，致使剝離性低落。（X)成分與（Υ)成分 較佳比率係固體成分質量比爲65 : 3 5至10 : 90，以60 : 40至20 : 80的範圍爲特佳。 在該熱硬化性樹脂樹脂組成物，能夠使用酸性觸媒作 爲（Ζ)成分的硬化觸媒。作爲該酸性觸媒係沒有特別限制， 能夠從先前已知作爲醇酸樹脂的交聯反應觸媒之眾所周知 -25- 201007725 的酸性觸媒適當地選擇使用。作爲此種酸性觸媒係例 對甲苯磺酸或甲磺酸等的有機系酸性觸媒爲佳。該酸 媒可單獨使用1種，亦可組合使用2種以上。又，相 前述（X)成分與（Y)成分的合計1〇〇質量份，其使用量 爲0.1〜40質量份，以0.5〜30質量份爲佳，以在1 質量份的範圍選定爲更佳。 就使用上的便利性而言，該熱硬化性樹脂組成物 常以有機溶劑溶液的形態使用。此時作爲使用的有 0 劑，因爲對前述（X)成分及（Y)成分之溶解性良好，可 對於該等爲惰性之眾所周知的溶劑中適當地選擇使用 種溶劑可舉出例如甲苯、二甲苯、甲醇、乙醇、異丙 正丁醇、丙酮、甲基乙基酮、四氫呋喃等。該等可單 - 用1種，亦可組合使用2種以上。 _ 該等的有機溶劑中，能夠藉由將前述的（X)成分 成分及依照需要所使用的（Z)成分或各種添加成分，以 規定的比率添加，調整成爲能夠塗布的黏度，來得到 硬化性樹脂組成物。此時作爲所使用的添加成分係沒 別限制，能夠從先前已知作爲醇酸樹脂的添加成分之 周知的添加成分適當地選擇使用》例如能夠使用陽離 界面活性劑等的防靜電劑、用以調整撓性或黏度等之 酸系樹脂等其他的樹脂、調平劑、消泡劑等。 如此進行所得到的熱硬化性樹脂組成物能夠藉由 材薄膜的一面，依照例如棒塗布法、逆輥塗布法、刮 布法、輥式刮刀法、凹版塗布法、氣刀刮塗法、刮片 法、毛細管塗布法等先前眾所周知的塗布方法進行塗 且在80〜150°C左右的溫度加熱硬化數十秒〜數分間 如以 性觸 對於 通常 〜20 係通 機溶 以從 。此 醇、 獨使 ' (Y) 各自 該熱 有特 眾所 子系 丙烯 在基 刀塗 塗布 布， ，來 -26- 201007725 形成樹脂皮膜。 如此進行所形成的樹脂皮膜之厚度係如前述，通常爲 10〜10,000奈米，以50〜8，000奈米爲佳。 (c)藉由活性能量線硬化的樹脂皮膜之形成 前述樹脂皮膜係由活性能量線硬化型樹脂組成物的硬 化物所構成之皮膜時，在該活性光線硬化型樹脂組成物， 作爲活性光線硬化型化合物能夠使用在分子內具有2個以 上的聚合性不飽和基之活性能量線聚合性單體及/或低聚 ❹物。 又，活性能量線硬化型化合物係指在電磁波或帶電粒 子線中具有能量子者，亦即係指藉由照射紫外線或電子射 線等，來進行交聯、硬化之聚合性化合物。 • 活性能量線係紫外線等的活性光線時，通常能夠與前 . 述活性能量線聚合物單體及/或低聚物一同使用光聚合引 發劑。另一方面，活性能量線係電子射線時，亦可不使用 光聚合引發劑。在本發明，作爲活性能量線係以使用紫外 I 線等的活性光線爲佳。因此，活性能量線硬化型樹脂組成 物係以含有（A)在分子內具有2個以上的聚合性不飽和基之 活性能量線聚合性單體及/或低聚物；及（B)光聚合引發劑 之光硬化型樹脂組成物爲佳。 在該光硬化型樹脂組成物，作爲（A)在分子內具有2個 以上的聚合性不飽和基之活性能量線聚合性單體可舉出例 如選自2官能以上的（甲基）丙烯酸酯化合物中至少1種。 作爲2官能以上的（甲基）丙烯酸酯化合物可舉出1，4-丁二醇二（甲基）丙烯酸酯、1，6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、 新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、 -27- 201007725 新戊二醇己二酸二（甲基）丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊 二醇二（甲基）丙烯酸酯、二（甲基）丙烯酸二環戊酯、二（甲 基）丙烯酸己內酯改性二環戊烯酯、環氧乙烷改性磷酸二 (甲基）丙烯酸酯、二（申基）丙烯酸烯丙基化環己酯、異三聚 氰酸二（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯' 二新戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、丙酸改性二新戊四醇三（甲 基）丙烯酸酯、新戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、環氧丙烷改性 三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、參（丙烯醯氧基乙基）異三 ϋ 聚氰酸酯、丙烯酸改性二新戊四醇五（甲基）丙烯酸酯 '二 新戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、己內酯改性二新戊四醇六（甲 基）丙烯酸酯等。該等可單獨使用1種，亦可組合使用2種 以上》 - 另一方面，作爲活性能量線聚合性低聚物可舉出例如 聚酯型丙烯酸酯系、環氧丙烯酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯 系、多元醇丙烯酸酯系等。該等活性能量線聚合性低聚物 可單獨使用1種，亦可組合使用2種以上，又，亦可與前（甲 基）丙烯酸酯化合物組合而使用。 又，作爲（B)成分的光聚合引發劑能夠從先前作爲丙烯 酸酯系化合物的光聚合引發劑使用之眾所周知的各種光聚 合引發劑中，適當地選擇使用1種或2種以上的任意物。 光聚合引發劑可舉出苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基 醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻-正丁基醚、苯偶姻異丁基醚、 乙醯苯、二甲胺基乙醯苯、2,2·二甲氧基-2-苯基乙醯苯、 2，2-二乙氧基-2-苯基乙醯苯、2-羥基_2_甲基-1-苯基丙烷 -1-酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-1·[4-(甲硫基）苯基]-2-味啉-丙烷-1·酮、4-(2-羥基乙氧基）苯基-2(羥基-2-丙基） -28- 201007725 酮、二苯基酮、對苯基二苯基酮、4,4’-二乙胺基二苯基酮、 二氯二苯基酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-第三丁基蒽醌、 2-胺基蒽醌、2-甲基硫卩山噃酮、2-乙基硫卩山噃酮、2-氯硫B山 嘎酮、2，4 -二甲基硫灿哩酮、2，4 -二乙甲基硫卩山噃酮、苄基 二甲基縮酮、乙醯苯二甲基縮酮、對二甲胺苯甲酸酯等。 又，相對於前述光聚合性單體及/或光聚合性低聚物100質 量份，其調配量通常能夠在0.2〜10質量份的範圍選擇。 在本發明所使用的活性能量線硬化型樹脂組成物、較 φ 佳是光硬化型樹脂組成物能夠藉由在適當的溶劑中，將前 述活性能量線硬化型化合物、光聚合引發劑及按照需要的 各種添加成分例如單官能性活性光線聚合性單體、抗氧化 劑、紫外線吸收劑、光安定劑、調平劑、消泡劑等，以各 - 自規定比率添加並使其溶解或分散來調製。 . 作爲此時所使用的溶劑，可舉出例如己烷、庚烷等的 脂肪族烴、甲苯、二甲苯等的芳香族烴、二氯甲烷、二氯 乙烷等的鹵化烴、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等的醇、丙酮、 甲基乙基酮、2 -戊酮、異佛爾酮、環己烷等的酮、乙酸乙 ❹ 酯、乙酸丁酯等的酯、乙基賽路蘇等的賽路蘇系溶劑等。 如此進行所調製的組成物之濃度，作爲黏度係能夠塗 布者即可，沒有特別限制，能夠按照狀況而適當地選定。 接著，能夠在前述基材薄膜的一面，將上述組成物塗 布使用例如棒塗布法、刮刀塗布法、輥塗布法、刮板塗布 法、模頭塗布法、凹版塗布法等塗布使其形成塗膜，並按 照需要進行加熱乾燥後，對其照射活性能量線來使該塗膜 硬化來形成樹脂皮膜。 作爲活性能量線係例如以紫外線等的活性光線爲佳。 -29- .201007725 上述紫外線係能夠藉由高壓水銀燈、FUSION製Η型燈、 氙燈等，照射量係通常爲100〜500mJ/cm2。 如此進行所形成的樹脂皮膜厚度係如前述，通常爲10 〜10,000奈米，以50〜8,000奈米爲佳》 用以調整表面皮膜楊格模數之皮膜可以是有機膜亦可 以是無機膜。作爲有機膜係以與前述活性能量線硬化型樹 脂組成物同樣者爲佳。作爲無機膜可舉出使用濺鍍或離子 噴鑛等方法在基材薄膜上設置具有透明性的錫摻雜氧化銦 φ 等金屬氧化物而成者。無機膜的厚度係通常爲10〜1000奈 米左右。 如此進行所製成的製程薄膜係能夠使光記錄層形成面 或阻障層形成面的最大高度粗糙度（Rz)爲500奈米以下且 使表面皮膜楊格模數爲l.OGPa以上。在本發明，藉由使表 . 面皮膜楊格模數爲l.OGPa以上，在該製程薄膜的光記錄層 形成面或阻障層形成面設置光記錄層時，能夠抑制該光記 錄層中的低分子成分移動至該製程薄膜的樹脂皮膜，又， @ 藉由將前述光記錄層轉印至在前述薄片A的感壓性黏著劑 .層上，能夠形成Rz爲500奈米以下的光記錄層。 另一方面，藉由在該製程薄膜的阻障層形成面設置阻 障層’並轉印至在薄片B的感壓性黏著劑層上，能夠形成 Rz爲5 00奈米以下的阻障層。然後，在該阻障層上，藉由 旋轉塗布法塗布光記錄層形成材料並乾燥，能夠生產性良 好地形成光記錄層。此時，藉由採用旋轉塗布法，因爲能 夠使用單獨含有多光子吸收性材料的塗布液作爲光記錄層 形成材料，能夠形成記錄敏感度優良的光記錄層。 本發明亦提供一種本發明的多層光記錄媒體用片製造 -30- .201007725 用薄膜，其特徵係在形成光記錄層側的面或阻障層側的面 之最大高度粗糙度（Rz)爲500奈米以下的製程薄膜’形成 有光記錄層或阻障層。製程薄膜、光記錄層、阻障層、光 記錄層及阻障層的形成方法係與前述多層光記錄媒體用片 同樣。 接著，說明本發明的多層光記錄媒體。 [多層光記錄媒體] 本發明的多層光記錄媒體其特徵係使用前述的多層光 q 記錄媒體用片，亦即具有積層光記錄層及感壓性黏著劑層 而成的單元A之薄片A，或積層光記錄層、阻障層及感壓 性黏著劑層而成的單元B之薄片B所製成。 在本發明的多層光記錄媒體之前述單元（A、B)的積層 數係沒有特別限制，通常爲2〜200層左右，以3〜100層 爲佳。1層時無法得到充分的記錄密度，大於200層時因 在各層的光吸收或在層間的光反射等，有產生資訊寫入或 讀取不良之可能性。 第8圖係本發明的多層光記錄媒體的構成的一個例子 之剖面圖，多層光記錄媒體80係具有在基板9上交替地多 層積層黏著劑層及光記錄層，來設置黏著劑層1-1、光記錄 層4-1、黏著劑層1-2、光記錄層4-2.......黏著 劑層l-(n-l)、光記錄層4-(n-l)、黏著劑層1-n、光記錄層 4-n，而且在最上層，按照必要使黏著劑層11介於中間而 設置有保護薄膜12而成之結構。在此，能夠使用玻璃基 板、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、環烯烴樹脂等的薄膜 作爲作爲基板9，且使用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、 環烯烴樹脂等的透明樹脂薄膜作爲保護薄膜12。又，黏著 -31 - .201007725 劑層1 1能夠使用前述感壓性黏著劑層。又，符號6-1、6-2、 6-(n-l)及6-n係各自表示第1、第2、第（n-1)及第η單元A。 此種構成的多層光記錄媒體80係例如能夠使用前述 第4圖的多層光記錄媒體用片Α40,並如以下進行來製造。 首先，從前述薄片Α4 0，將第1剝離薄膜2剝離而使 其露出感壓性黏著劑層1-1，並將該露出的感壓性黏著劑層 1-1與基板9以面對面的方式使兩者貼合。接著，將製程薄 膜5從該積層體剝離而使光記錄層4-2露出，並將該光記 ^ 錄層4-2，與從另外的多層光記錄媒體用片Α40將第1剝 離薄膜2剝離而露出的感壓性黏著劑層1-1 (在第8圖係 1-3，但是未圖示）以面對面的方式使兩者貼合。以下，藉 由同樣的步驟依照順序積層，能夠得到光記錄層及感壓性 黏著劑層係各自η層積層而成之多積層層結構體》而且藉 由在該多積層層結構體最上層貼合設置有黏著劑層11的 保護薄膜12，能夠得到多層光記錄媒體80。 第9圖係本發明的多層光記錄媒體的構成的另外例子 之剖面圖，多層光記錄媒體90係在基板9上，多層積層將 W 感壓性黏著劑層、阻障層及光記錄層以該該順序積層而成 的單元B，來設置感塵性黏著劑層1-1、阻障層7_1、光記 錄層4a-l、感壓性黏著劑層1-2、阻障層7-2、光記錄層 4a-2.......感壓性黏著劑層l-(n-l)、阻障層7-(n-l)、 光記錄層4a-(n-l)、感壓性黏著劑層1-n、阻障層7-n、光 記錄層4a-n，並在最上層，按照必要使感壓性黏著劑層11 介於中間而具有設置保護薄膜12而成之結構。基板9、保 護薄膜12及黏著劑層11能夠使用與前述同樣者。又，符 號8-1、8-2、8-(n-l)及8-n係各自表示第1、第2、第（n-1) -32- .201007725 及第η單元B。 此種構成的多層光記錄媒體90係例如能夠使用前述 第7圖的多層光記錄媒體用片B70,並如以下進行來製造。 首先，從前述薄片B70，將第1剝離薄膜2剝離而使 其露出感壓性黏著劑層1-1，並將該露出的感壓性黏著劑層 1-1與基板9以面對面的方式使兩者貼合。接著，將該積層 體的光記錄層4a-2，與從另外的多層光記錄媒體用片B70 將第1剝離薄膜2剝離而露出的感壓性黏著劑層1-1(在第 0 8圖係1-3，但是未圖示）以面對面的方式使兩者貼合。以 下，藉由同樣的步驟依照順序積層，能夠得到光記錄層、 阻障層及感壓性黏著劑層係各自η層積層而成之多積層層 結構體。而且藉由在該多積層層結構體最上層的光記錄層 • 4a-n，按照必要貼合設置有感壓性黏著劑層11的透明保護 . 薄膜12，能夠得到第9圖所示之多層光記錄媒體90。 在如此進行所得到多層光記錄媒體係除了光記錄層、 黏著劑層、阻障層以外，亦可存在反射層、介電體層、保 ^ 護層、具有記錄坑或溝圖案的層等》 實施例 接著，藉由實施例更詳細地說明本發明，但是本發明 未限定於該等例子。 又，在實施例及比較例之各種特性係依照以下所示的 方法來求取。 (1)最大高度粗糙度（Rz)的測定 製造將製程薄膜、光記錄層（厚度爲0.6微米）或阻障層 (厚度爲1.0微米）、感壓性黏著劑層（厚度爲10微米）及剝 離薄膜以該順序積層而成之如前述第3圖所示構成的積層 -33- 201007725 薄膜，測定所使用的製程薄膜的光記錄層形成面或阻障層 形成面的最大高度粗糙度（Rz)，同時將前述積層薄膜的製 程薄膜剝離，並測定露出的光記錄層或阻障層（實施例7) 的Rz。
Rz係使用表面粗糙度計[MITUTOYO(股）製、機種名 (SV-3 000)]來測定。 (2) 製程薄膜的表面皮膜楊格模數的測定 使用薄膜機械特性測定裝置亦即奈米壓痕儀[MTS公 司製、機種名「NanoindenterTest Works-4」]測定在各製 程薄膜的光記錄層形成面或阻障層形成面之表面皮膜楊格 模數，並採用在厚度方向之50奈米的位置之値。 (3) 霧度値的測定 製造與前述（1)同樣構成的積層薄膜，並將剝離薄膜剝 下，將露出的感壓性黏著劑層以面對面的方式貼合於支撐 體亦即玻璃載片。接著，將製程薄膜剝離並從光記錄層或 阻障層側射入光線，且使用霧度値[日本電色工業（股）製、 機種名「NDH2000」]，來測定霧度値。霧度値係以2.5% 以下爲合格。 (4) 亮點數的測定 製造與前述（1)同樣構成的積層薄膜，並將剝離薄膜剝 下，將露出的感壓性黏著劑層以面對面的方式貼合於支撐 體亦即玻璃載片。接著，將製程薄膜剝離並使用數位顯微 鏡[KEYENCE公司製、機種名「VHX-200」]以倍率1000 倍觀察光記錄層或阻障層側並計算在100微米xlOO微米的 區域存在有多少個亮點。亮點係起因於光記錄層或阻障層 的凹凸’亮點數以50個/104平方微米以下爲合格。 -34- 201007725 (5) 製程薄膜的低分子成分移動之確認（成分殘留率） 製造與在實施例1〜6及比較例1之前述（1)同樣構成 的積層薄膜，將製程薄膜剝下且將露出的感壓性黏著劑層 以面對面的方式貼合於支撐體亦即玻璃載片。接著，將製 程薄膜剝離並測定剝離製程薄膜的製程薄膜之吸光度，且 由下述式來求取a値（％)。 a={[記錄層剝離後的製程薄膜之吸光度（吸收λ max)]/[附 帶記錄層的製程薄膜之吸光度（吸收λ max)]}xl00 0 a値爲10%以下時，來自光記錄層的低分子成分不會移 動至製程薄膜，a値大於10%以上時，低分子成分會移動至 製程薄膜。又，測定波長係以200〜800奈米進行。 (6) 剝離力的測定 • 製造與前述（1)同樣構成的積層薄膜，將剝離薄膜剝 . 下，並將露出的感壓性黏著劑層以面對面的方式貼合於支 撐體亦即玻璃基板。隨後，在25°c，依照JIS Z0327進行 製程薄膜之1 80°剝下試驗，來測定剝離力。 _ (7)接觸角的測定 Θ 使用接觸角計[協和界面科學公司製、型式「CA-D」]， 依照液滴法測定製程薄膜表面的液滴之接觸角。作爲液滴 係使用精製水（直徑2毫米）。 (8)塗布液的收縮斑之觀察 目視觀察在實施例1〜6、比較例1及比較例2，在製 程薄膜剛將光記錄層用塗布液塗布後，在實施例7剛將阻 障層形成面塗布液塗布後，塗布液是否有收縮斑。 製造例1 光記錄層形成用塗布液（a)的調製 將二光子吸收性材料亦即二芳基乙烯[東京化成公司 -35- 201007725 製數量平均分子量爲326]、及作爲基質材料之聚（甲基） 丙烯酸甲酯[Aldrich公司製重量平均分子量爲3 50,000] 以質量比1: 9混合，並添加甲基異丁基酮作爲溶劑，來調 製固體成分濃度爲5質量％的記錄層形成用塗布液（a) » 製造例2阻障層形成用塗布液（b)的調製 將聚乙烯醇[日本合成化學工業（股）製、商品名： 「Gohsenol EG-05」]溶解於溶劑亦即精製水中，來調製固 體成分濃度爲5質量％的阻障層形成用塗布液（b)。 φ 製造例3感壓性黏著劑薄片的製造 (1)感壓性黏著劑塗布液（c)的製造 相對於100質量份使用96質量份丙烯酸正丁酯及4質 量份丙烯酸而得到的丙烯酸酯共聚物（重量平均分子量50 - 萬）的乙酸乙烯酯溶液（固體成分濃度30質量％)，添加8質 , 量份鋁鉗合劑系交聯劑[綜硏化學公司製、商品名「M-5A」、 固體成分濃度5質量％]並攪拌至均勻，來調製感壓性黏著 劑塗布液（c)。 ^ (2)第1剝離薄膜的製造 〇 在厚度爲50微米的聚對酞酸乙二酯薄膜[東洋紡績公 司製、商品名「A4100」]的平滑面（Rz: 80奈米），將在100 質量份矽樹脂[信越化學公司製、商品名「KS-8 47H」]添加 1.5質量份觸媒[信越化學公司製、商品名「CAT-PL-50T」] 且添加甲苯而稀釋成固體成分濃度爲1.3質量％而成之塗 布液，使用繞線棒（meyer bar)#4塗布，並在150°C乾燥1 分鐘形成厚度100奈米的矽剝離層，來製造第1剝離薄膜。 (3)第2剝離薄膜的製造 在厚度爲50微米的聚對酞酸乙二酯薄膜[東洋紡績公 -36- 201007725 司製、商品名「A4100」]的平滑面（RZ: 80奈米），將在100 質量份矽樹脂[信越化學公司製、商品名「KS- 83 5」]添加 1.0質量份觸媒[信越化學公司製、商品名「CAT-PL-50T」] 且添加甲苯而稀釋成固體成分濃度爲1.3質量％而成之塗 布液，使用繞線棒#4塗布，並在150°C乾燥1分鐘形成厚 度100奈米的矽剝離層，來製造第2剝離薄膜。 (4)感壓性黏著劑薄片的製造 在上述（2)所得到的第1剝離薄膜之設置有矽剝離層的 面側，藉由刮刀塗布法塗布1在上述（1)所得到的感壓性黏 著劑層塗布液（c)，並在90°C加熱乾燥1分鐘後，積層在上 述（3)所得到的第2剝離薄膜之設置有矽剝離層的面，來製 造感壓性黏著劑薄片。感壓性黏著劑層的厚度爲1〇微米。 實施例1 在厚度爲50微米的聚對酞酸乙二酯薄膜[東洋紡績公 司製、商品名「A4100」](以下稱爲製程薄膜[1])的平滑面（未 含有塡料的面之 Rz: 80奈米，表面皮膜楊格模數 3.46 GP a)，藉由凹版塗布法塗布光記錄層形成用塗布液 (a)，並在90 °C乾燥1分鐘來製造多層光記錄媒體用片製造 用薄膜之附帶製程薄膜的光記錄層。該光記錄層的厚度爲 0.6微米。 接著，將感壓性黏著劑薄片的第2剝離薄膜剝離，並 將露出的感壓性黏著劑層與前述附帶製程薄膜的光記錄層 之光記錄層側貼合’來製造多層光記錄媒體用片。所得到 的多層光記錄媒體用片的各種特性係如表1所示。 實施例2 (1)製程薄膜[2]的製造 -37- .201007725 在厚度爲50微米的聚對酞酸乙二酯薄膜[東洋紡績公 司製、商品名「A4100」]的平滑面，將在1〇〇質量份醇酸 樹脂[日立化成POLYMER(股）製、商品名「TESFINE 3 03」、 固體成分濃度爲20質量％]添加混合3質量份觸媒的對甲苯 磺酸而成之熱硬化性醇酸樹脂塗布液，使用繞線棒#4塗 布，並在140°C加熱乾燥1分鐘使其熱硬化形成厚度100 奈米的熱硬化樹脂層，來製造製程薄膜[2]。 該製程薄膜[2]的熱硬化樹脂層面（光記錄層形成面）的 @ Rz爲70奈米，且樹脂皮膜的表面皮膜楊格模數3.6 8 GPa。 (2)多層光記錄媒體用片的製造 在實施例1，除了使用上述（1)所得到的製程薄膜[2]代 替製程薄膜[1]，並塗布光記錄層形成用塗布液（a)以外，與 - 實施例1同樣地進行來製造多層光記錄媒體用片。所得到 . 的多層光記錄媒體用片的各種特性係如表1所示》 實施例3 (1) 丁二烯系剝離劑液的調製 ©將 1，4-聚丁二烯橡膠[日本 ΖΕΟΝ公司製、商品名 「川？〇11241」、含35%順式1，4鍵結]使用甲苯稀釋，來調 製固體成分濃度爲0.5質量％的分散液後，在該分散液，相 對於前述分散液中的1,4-聚丁二烯橡膠100質量份，以1 質量份的比率添加抗氧化劑[CIBA SPECIALTY CHEMICALS 公司製、商品名「IRGANOX HP225 1」]，來 調製丁二烯系剝離劑液。 (2)製程薄膜[3]的製造 在厚度爲38微米的聚對酞酸乙二酯薄膜[三菱化學 POLYESTER公司製、商品名「PET38T-700」]的平滑面（未 -38- .201007725 含塡料的面的Rz: 210奈米）’將在上述（1)所得到的丁二 烯系剝離劑液，使用繞線棒#4塗布’並在1 〇〇°C加熱1分 鐘使其乾燥。隨後，以1320m J/cm2照射紫外線而形成厚度 200奈米的丁二烯系剝離劑層’來製造製程薄膜[3]。 該製程薄膜[3]的剝離處理面（光記錄層形成面）的RZ 爲210奈米，且表面皮膜楊格模數1.42GPa。 (3)多層光記錄媒體用片的製造 在實施例1，除了使用上述（2)所得到的製程薄膜[3]代 φ 替製程薄膜[1]，並塗布光記錄層形成用塗布液（a)以外，與 實施例1同樣地進行來製造多層光記錄媒體用片。所得到 的多層光記錄媒體用片的各種特性係如表1所示。 實施例4 ' 在實施例1，除了使用厚度爲100微米的環烯烴樹脂 薄膜[日本ΖΕΟΝ公司製、商品名「ZF16」（以下稱爲製程 薄膜[4])代替製程薄膜[1]，並在剝離其保護薄膜後的面（Rz 爲50奈米、表面皮膜楊格模數2.61 GPa)塗布光記錄層形成 ^ 用塗布液（a)以外，與實施例1同樣地進行來製造多層光記 ❿ 錄媒體用片。所得到的多層光記錄媒體用片的各種特性係 如表1所示。 實施例5 (1)光硬化型樹脂分散液的調製 在100質量份紫外線硬化型樹脂[日本化藥公司製、商 品名「KAYANOVA FOP-5000B」固體成分80%]，添加1.6 質量份光聚合引發劑[CIBA SPECIALTY CHEMICALS公司 製、商品名IRGACURE 907]，進而以甲苯及甲基異丁基酮 稀釋，來調製固體成分濃度爲38.6質量％的光硬化型樹脂 -39- 201007725 層分散液。 (2) 製程薄膜[5]的製造 在厚度爲38微米的聚對酞酸乙二酯薄膜[三菱化學 POLYESTER 公司製、商品名「PET38 T-300」（Rz: 3 05 奈 米）]’將在上述（1)所得到的光硬化型樹脂分散液，藉由凹 版塗布法塗布，並在90°C加熱乾燥1分鐘後。以5 00mJ/cm2 照射紫外線而形成厚度5微米的光硬化型樹脂層，來製造 製程薄膜[5]。 0 該製程薄膜[5]的光硬化樹脂面（光記錄層形成面）的
Rz爲10奈米，且表面皮膜楊格模數l〇.80GPa。 (3) 多層光記錄媒體用片的製造 在實施例1，除了使用上述（2)所得到的製程薄膜[5]代 • 替製程薄膜[1]，並塗布光記錄層形成用塗布液（a)以外，與 . 實施例1同樣地進行來製造多層光記錄媒體用片。所得到 的多層光記錄媒體用片的各種特性係如表1所示。 實施例6 Λ (1)製程薄膜[6]的製造 藉由在厚度爲200微米的聚對酞酸乙二酯薄膜[帝人化 成公司製、商品名「Teonex Q65FA」（Rz : 92奈米）]，設 置厚度爲150奈米的錫摻雜氧化銦（ITO)，來製造製程薄膜 [6]。 該製程薄膜[6]的IT0膜表面（光記錄層形成面）的Rz 爲90奈米，且表面皮膜楊格模數13.OOGPa。 (2)多層光記錄媒體用片的製造 在實施例1，除了使用上述（1)所得到的製程薄膜[6]代 替製程薄膜[1]，並在ITO膜面塗布光記錄層形成用塗布液 -40- 201007725 (a)以外，與實施例1同樣地進行來製造多層光記錄媒體用 片。所得到的多層光記錄媒體用片的各種特性係如表i所 示0 實施例7 (1) 附帶製程薄膜的阻障層的製造 在製程薄膜[1]的平滑面，藉由凹版塗布法塗在阻障層 形成用塗布液（b)，並在100 °C乾燥1分鐘來製造作爲多層 光記錄媒體用片製造用薄片之附帶製程薄膜的阻障層《阻 〇 障層的厚度爲1.〇微米。 (2) 多層光記錄媒體用片的製造 將感壓性黏著劑片的第2剝離薄膜剝離，並在露出的 感壓性黏著劑面，貼合在上述（1)所得到之附帶製程薄膜的 ' 阻障層上來製造積層薄膜。接著，在將製程薄膜剝離並露 - 出的阻障層上，將二光子吸收性材料亦即二芳基乙烯[東京 化成公司製]溶解於作爲溶劑的甲基異丁基酮而得到之固 體成分濃度爲5質量％的光記錄層形成用塗布液（d)藉由旋 φ 轉塗布法塗布，並在90°C乾燥1分鐘而形成厚度爲〇·6微 米的光記錄層，來製造多層光記錄媒體用片。該光記錄層 的表面高度粗糙度Rz爲53奈米。所得到的多層光記錄媒 體用片的各種特性係如表1所示。 比較例1 (1) 丁二烯系剝離劑液的調製 將1，4-聚丁二烯橡膠[日本ΖΕΟΝ公司製、商品名 「1^?〇11241」、含35°/。順式1，4鍵結]使用甲苯稀釋’來調 製固體成分濃度爲0.5質量％的分散液後’在該分散液’相 對於前述分散液中的1，4-聚丁二烯橡膠100質量份’以1 -41- 201007725 質量份的比率添加抗氧化劑[CIBA SPECIALTY CHEMICALS 公司製、商品名「IRGANOX HP225 1」]，來 調製丁二烯系剝離劑液》 (2)製程薄膜[7]的製造 在厚度爲38微米的聚對酞酸乙二酯薄膜[三菱化學, POLYESTER公司製、商品名「PET38T-100」]，將在上述 (1)所得到的丁二烯系剝離劑液，使用繞線棒#4塗布，並在 100°C加熱1分鐘使其乾燥。隨後，以11〇 mJ/cm2照射紫 〇 外線而形成厚度50奈米的丁二烯系剝離劑層，來製造製程 薄膜[7]。 該製程薄膜[7]的剝離處理面的Rz爲987奈米’且樹 脂皮膜的表面皮膜楊格模數0.3 2GPa。 ' (3)多層光記錄媒體用片的製造 - 在實施例1，除了使用上述（2)所得到的製程薄膜[7]代 替製程薄膜[1]，並塗布光記錄層形成用塗布液U)以外’與 實施例1同樣地進行來製造多層光記錄媒體用片。所得到 Q 的多層光記錄媒體用片的各種特性係如表1所示。 比較例2 (1) 矽系剝離劑液的調製 在85質量份矽系剝離劑[TORAY-DOWCORNING公司 製、商品名「BY24-510」]，添加 2 質量份觸媒 [TORAY-DOWCORNING 公司製、商品名「BY24-835」]、 2400質量份甲苯，來調製矽系剝離劑液（濃度爲1.2質量 %)。 (2) 製程薄膜[8]的製造 在厚度爲38微米的聚對酞酸乙二酯薄膜[三菱化學 -42- 201007725 POLYESTER公司製、商品名「PET3 8 Τ-100」]，將上述（1) 所得到的矽系剝離劑液塗布’並在1 20°C加熱1分鐘而形 成厚度80奈米的矽系剝離劑層，來製造製程薄膜[8]。該 製程薄膜[8]的剝離處理面的厌2爲1090奈米’且表面皮膜 楊格模數0.1 9GPa。 (3)多層光記錄媒體用片的製造 在實施例1，除了使用製程薄膜[8]代替製程薄膜[1] 以外，嘗試與實施例1同樣地進行來製造多層光記錄媒體 # 用片，但是由於塗布液的收縮斑大而無法形成光記錄層。
-43- 201007725 ❹ο 【15 收縮斑 裢 涯 m m m m m 耻 接觸角 (度） 〇 νο VO ON S3 c<i CO o l_ 4 〇 g H 剝離力 (mN/25cm) 」 8 T—Η οο CSJ g 5 vo s I-H 〇 oo * ( 成分殘留率 (%) ； _______-1 Ρ ρ o 卜· 〇 o p p t r—H 亮點數 (個/l〇Vm2) 1—Η CNj cs cn 寸 对 〇 I-H vo 霧度値 (%) ______________ 1—^ τ—< ρ S P 寸· a\ ρ i a 5 ^ s min EQj IS 0¾ οο οο (N <N ON S5 s OO 製程薄膜 1 表面皮膜 楊格模數 (GPa) οο ν〇 cn 1.42 s 03 10.80 13.00 3.46 0.32 0.19 最大高度粗 糙度(Rz) (奈米） __________J g o 04 o 1090 實施例1 實施例2 |實施例3 I 實施例4 實施例5 |實施例6 I 實施例7 比較例1 比較例2 -寸寸- oililf .201007725 從表1得知在實施例1〜7，與比較例1比較時，霧度 値較小而且亮點數較少，任一者都合格，又，成分殘留率 係較低而爲小於1 0%，且與比較例1比較時，剝離力亦較 低。而且，在實施例1〜7，製程薄膜表面的接觸角爲70 〜95度，未觀察到塗布液產生收縮斑。比較例1的製程薄 膜係塗布液產生收縮斑，且所得到的光記錄層的RZ大。比 較例2的製程薄膜係塗布液的收縮斑大而無法形成光記錄 層。 ® 產業上之利用可能性 本發明的多層光記錄媒體用片能夠精確度良好且高品 質地製造具有積層複數光記錄層而成的重複結構之多層光 記錄媒體。 【圖式簡單說明】 第1圖係附帶兩面剝離薄膜的感壓性黏著劑層的一個 例子之構成圖。 第2圖係附帶製程薄膜的光記錄層的一個例子之構成 ® 圖。 第3圖係附帶製程、剝離薄膜的單元A的一個例子之 構成圖。 第4圖係具有2層積層光記錄層及感壓性黏著劑層而 成的單元A之本發明的薄片A的一個例子之構成圖。 第5圖係附帶製程薄膜的阻障層的一個例子之構成 圖。 第6圖係用以製造本發明的薄片B之積層體的一個例 子之構成圖 -45- 201007725 第7圖係本發明的薄片B的一個例子之構成圖。 第8圖係本發明的多層光記錄媒體的構成的一個例子 之剖面圖。 第9圖係本發明的多層光記錄媒體的構成的另外例子 之剖面圖。 【主要元件符號說明】 1、1-1、1-2、l-(n-l)、1-n、11 黏著劑層（感壓性黏著劑層） 2 第1剝離薄膜 參 3 4、4-1、4-2、4-(n-l)、4-n 第2剝離薄膜 光記錄層 4a、4a-l、4a-2、4a-(n-l)、4a-n 光記錄層 5 製程薄膜 6、6-1、6-2、6-(n-l)、6-n 單元A 7、7-1、7-2、7-(n-l)、7-n 阻障層 8 ' 8-1 ' 8-2 ' 8-(n-l) ' 8-n 單元B 9 基板 10 附帶兩面剝離薄膜的感壓性黏著 ❹ 12 劑層 透明保護薄膜 20 附帶製程薄膜的光記錄層 30 附帶製程、剝離薄膜的單元A 40 薄片A 50 附帶製程薄膜的阻障層 60 積層體 70 薄片B 80、90 多層光記錄媒體 46 -