TW200916488A - Photocurable composition and process for producing molded object having fine pattern in surface - Google Patents

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200916488 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關光硬化性組成物及表面具有微細圖型之 成形體的製造方法。 【先前技術】 光學構件、記錄媒體、半導體裝置等之製造時，以短 時間形成微細圖型的方法，例如將表面具有該微細圖型之 反轉圖型的模具壓貼於被配置於基板之表面的光硬化性組 成物’光照射於該光硬化性組成物，使該光硬化性組成物 硬化’在基板之表面形成微細圖型的方法（奈米壓印（ N a η 〇 i m p r i n t法）爲人所知（參照專利文獻1、2 )。 但是該方法係光硬化性組成物之硬化物與模具密著， 因此硬化物與模具不易分離。因此需要在模具表面塗佈脫 模劑。但是因脫模劑本身之膜厚、脫模劑之塗佈不均等， 造成模具之反轉圖型很難精密轉印。 以下提案可形成脫模性較佳之硬化物的光硬化性組成 物。 (1)含有含氟單體、不含氟的單體、含氟界面活性 劑或含氟聚合物及聚合起始劑的光硬化性組成物（專利文 獻3 )。 但是（1 )之光硬化性組成物的硬化物因含有含氟單 體、含氟界面活性劑或含氟聚合物，因此機械強度較低。 得到具有奈米等級之微細圖型之成形體時’需要可維持圖 -4- 200916488 型形狀的耐久性。因而需要可得到機械強度高之硬化物的 光硬化性組成物。又，在半導體裝置之製造時，也要求光 阻之較高的乾蝕刻耐性，同時特別是在奈米等級之微細圖 型爲了保持圖型形狀’需要可得到機械強度較高之硬化物 的光硬化性組成物。 [專利文獻1]美國專利第6696220號說明書 [專利文獻2]特開2004-07 1 934號公報 [專利文獻3]國際公開第2006/114958號說明書 【發明內容】 [發明之揭示] [發明欲解決的課題] 本發明之目的係提供可得到脫模性及機械強度優異之 硬化物的光硬化性組成物、及可製造表面具有模具之反轉 圖型被精密轉印之微細圖型，耐久性優異之成形體的方法 [解決課題的手段] 本發明之光硬化性組成物，其特徵係含有：具有2個 環以上之芳香族化合物或具有2個環以上之脂環族化合物 ，且具有2個（甲基）丙烯醯氧基之化合物（A)，具有 氟原子，且具有1個以上之碳-碳不飽和雙鍵之化合物（ B )(但是化合物（A )除外），具有1個（甲基）丙烯 醯氧基之化合物（C )(但是化合物（B )除外），光聚 -5- 200916488 合引發劑（D )，化合物（A )、化合物（B )、化合物（ C)及光聚合引發劑（D)之合計（1〇〇質量％)中，化合 物（A)爲15〜60質量％ ’化合物（B)爲5〜40質量％ ’化合物（C)爲10〜55質量％ ’光聚合引發劑（d)爲 1〜1 2質量％。 本發明之光硬化性組成物係實質上不含溶劑較佳。 本發明之光硬化性組成物係對於化合物（A )、化合 物（B )、化合物（C )及光聚合引發劑（〇 )之合計100 質量份’進一步含有5〜30質量份之具有2個（甲基）丙 烯醯氧基之化合物（E )(但是化合物（A )及化合物（B )除外）較佳。 本發明之光硬化性組成物係對於化合物（A )、化合 物（B )、化合物（C )及光聚合引發劑（D )之合計1〇〇 質量份，進一步含有5〜90質量份之具有3個以上之（甲 基）丙烯醯氧基的化合物（F )(但是化合物（B )除外 )較佳。 本發明之光硬化性組成物係對於化合物（A )、化合 物C B )、化合物（C )及光聚合引發劑（D )之合計1〇〇 質量份’進一步含有〇 · 1〜3質量份之含氟界面活性劑（G )’且對於含氟界面活性劑（G )之總量之化合物（B ) 的量爲0.5〜1〇〇倍質量較佳。 本發明之光硬化性組成物係對於化合物（A )、化合 物（B )、化合物（C )及光聚合引發劑（D )之合計100 質量份’進一步含有5〜25質量份之含氟聚合物（H)， -6- 200916488 且對於含氟聚合物（Η)之總量之化合物（B )的量爲0 · 5 〜100倍質量較佳。 本發明之表面具有微細圖型之成形體的製造方法，其 特徵係含有： 使本發明之光硬化性組成物接觸於表面具有該微細圖 型之反轉圖型之模具之具有該反轉圖型表面的步驟， 在該光硬化性組成物接觸該模具表面的狀態下，將光 照射於該光硬化性組成物，使該光硬化性組成物硬化形成 硬化物的步驟， 將該硬化物自該模具分離，得到表面具有微細圖型之 成形體的步驟。 本發明之表面具有微細圖型之成形體的製造方法，其 特徵係含有： 將本發明之光硬化性組成物配置於基板表面的步驟， 將表面具有該微細圖型之反轉圖型的模具按壓於該光 硬化性組成物，使該模具之反轉圖型接觸該光硬化性組成 物的步驟， 在該模具按壓於該光硬化性組成物的狀態下，將光照 射於該光硬化性組成物，使該光硬化性組成物硬化形成硬 化物的步驟， 將該模具或該基板及該模具自該硬化物分離，得到表 面具有微細圖型之成形體的步驟。 本發明之表面具有微細圖型之成形體的製造方法，其 特徵係含有： 200916488 使本發明之光硬化性組成物配置於表面具有該微細圖 型之反轉圖型之模具之具有該反轉圖型表面的步驟， 將基板按壓於該光硬化性組成物的步驟， 在該基板按壓於該光硬化性組成物的狀態下，將光照 射於該光硬化性組成物，使該光硬化性組成物硬化形成硬 化物的步驟， 將該模具或該基板及該模具自該硬化物分離，得到表 面具有微細圖型之成形體的步驟。 本發明之表面具有微細圖型之成形體的製造方法，其 特徵係含有： 使基板與表面具有該微細圖型之反轉圖型的模具接近 或接觸，使該模具之反轉圖型在該基板側的步驟， 將本發明之光硬化性組成物塡充於該基板與該模具之 間的步驟， 在該基板與該模具接近或接觸的狀態下，將光照射於 該光硬化性組成物，使該光硬化性組成物硬化形成硬化物 的步驟， 將該模具或該基板及該模具自該硬化物分離，得到表 面具有微細圖型之成形體的步驟。 發明之效果 依據本發明之光硬化性組成物時，可得到脫模性及機 械強度優異之硬化物。 依據本發明之表面具有微細圖型之成形體的製造方法 200916488 時，可製造表面具有模具之反轉圖型被精密轉印之微細圖 型，耐久性優異之成形體。 [實施發明之最佳形態] 本說明書中’將式（A 1 )表示之化合物稱爲化合物 (A 1 )。其他式表示之化合物也同様。本說明書中，（ 甲基）丙烯醯氧基係表示丙烯醯氧基或甲基丙燦醯氧基。 又，本說明書中’（甲基）丙烯酸酯係表示丙烯酸酯或甲 基丙烯酸酯。 <光硬化性組成物> 本發明之光硬化性組成物係含有化合物（A )〜（C )及光聚合起始劑（D )，必要時進一步含有化合物（E )、化合物（F )、含氟界面活性劑（G )、含氟聚合物 (Η )、其他之添加劑的組成物。 化合物（A ):具有2個環以上之芳香族化合物或具 有2個環以上之脂環族化合物，且具有2個（甲基）丙烯 醯氧基之化合物。 化合物（B):具有氟原子，且具有1個以上之碳-碳不飽和雙鍵之化合物（但是化合物（A )除外）。 化合物（C):具有1個（甲基）丙烯醯氧基之化合 物（但是化合物（B )除外）。 化合物（E):具有2個（甲基）丙烯醯氧基之化合 物（但是化合物（A )及化合物（B )除外）。 -9- 200916488 化合物（F):具有3個以上之（甲基）丙烯醯氧基 的化合物（但是化合物（B )除外）。 本發明之光硬化性組成物之25°C的黏度較佳爲0.1〜 3 00mPa · s，特佳爲1〜200mPa · s。光硬化性組成物之黏度 在該範圍時，不必進行特別的操作（例如將光硬化性組成 物加熱至高溫，成爲低黏度的操作等），可容易使光硬化 性組成物與模具之具有反轉圖型的表面接觸。 本發明之光硬化性組成物較佳爲實質上不含溶劑。光 硬化性組成物實質上不含溶劑時，不必進行光照射除外之 特別的操作（例如將光硬化性組成物加熱至高溫，除去溶 劑的操作等），可容易使光硬化性組成物硬化。 溶劑係指不含化合物（A )〜（C )、光聚合起始劑 (D )、化合物（E )、化合物（F )、含氟界面活性劑（ G )、含氟聚合物（Η )及其他添加劑的化合物，且具有 溶解化合物（A)〜（C )、光聚合起始劑（D )、化合物 (E)、化合物（F)、含氟界面活性劑（G)、含氟聚合 物（Η )及其他添加劑中任一者之能力的化合物。 實質上不含溶劑係指完全不含溶劑或光硬化性組成物 (100質量％)中’較佳爲僅含有1質量％以下，特別是 0.7質量％以下之溶劑的情形。特別是本發明中，可含有 調製光硬化性組成物時所用之溶劑的殘留溶劑，但是此時 儘量除去殘留溶劑較佳，光硬化性組成物（1 0 0質量％ ) 中，殘留溶劑爲1質量％以下較佳。 -10- 200916488 (化合物（A )) 具有2個環以上之芳香族化合係指具有2個苯環以上 之化合物，2個以上之苯環係可形成縮合環（萘環、蒽環 等）。芳香族化合物例如有具有雙酚骨架之化合物、具有 萘骨架之化合物、具有莽骨架的化合物等。 具有2個以上之環的脂環族化合物係指具有2個以上 之不含芳香族性之烴環的化合物，可爲1個環內形成橋的 多環系化合物。多環系化合物例如具有含金剛烷骨架之三 環癸烷骨架的化合物、具有萘烷骨架的化合物、具有降冰 片烷骨架的化合物、具有異冰片基骨架的化合物等。 化合物（A )例如有下述的化合物。 雙酚A二（甲基）丙烯酸酯、改性雙酚a二（甲基 )丙烯酸酯（乙氧基化雙酚A二（甲基）丙烯酸醋、丙 氧化雙酚A 一（甲基）丙烯酸酯、丙氧化乙氧化雙紛A 二（甲基）丙烯酸酯、雙酚A甘油二（甲基）丙燦酸醋 、雙酚A丙氧化甘油二（甲基）丙烯酸酯等）、乙氧化 雙酚F二（甲基）丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二（甲基） 丙烯酸酯、荞二（甲基）丙烯酸醋等。 化合物（A )從相溶性的觀點，較佳爲三環癸院二甲 醇二（甲基）丙烯酸酯、改性雙酚A二（甲基）丙烯酸 酯（乙氧化雙酣A —(甲基）丙烯酸酯、丙氧化雙酚a 二（甲基）丙烯酸酯、丙氧化乙氧化雙酚八二（甲基） 丙烯酸酯、雙酚A甘油二（甲基）丙烯酸酯、雙酚A丙 氧化甘油二（甲基）丙烯酸酯等。）、乙氧化雙酚F二（ -11 - 200916488 甲基）丙烯酸酯。 化合物（A)可單獨使用或倂用二種以上。 化合物（A )之含量係化合物（A )、化合物（B )、 化合物（C)及光聚合引發劑（D)之合計（10〇質量％) 中，化合物（A)爲15〜60質量％ ’較佳爲20〜45質量 %。化合物（A)之含量爲15質量％以上時，可得到機 械強度優的硬化物。化合物（A)之含量爲60質量％以 下時，硬化物不會變脆。 (化合物（B )) 化合物（B)例如有氟（甲基）丙烯酸酯類、氟二烯 類、氣乙嫌醚類、氟環狀單體類等，從相溶性的觀點，較 佳爲氟（甲基）丙烯酸酯類或氟二烯類。 氟（甲基）丙燒酸醋類例如有下述的化合彳勿。 3-(全氟甲基丁基）-2 -羥丙基（甲基）丙烯酸酯 2，2,2-二氟-1-(二氟甲基）乙基（甲基）丙烧酸酯、 ch2 = chcoo(ch2)2(cf2)10f、 CH2 = CHCOO(CH2)2(CF2)8F、 CH2 = CHCOO(CH2)2(CF2)6F、 CH2 = C(CH3)COO(CH2)2(CF2)10F、 CH2 = C(CH3)COO(CH2)2(CF2)8F、 CH2 = C(CH3)COO(CH2)2(CF2)6F、 CH2 = CHCOOCH2(CF2)6F、 -12- 200916488 CH2 = C(CH3)COOCH2(CF2)6F、 CH2 = CHCOOCH2(CF2)7F、 CH2 = C(CH3)COOCH2(CF2)7F、 CH2 = CHCOOCH2CF2CF2H、 CH2 = CHCOOCH2(CF2CF2)2H、 CH2 = CHCOOCH2(CF2CF2)4H、 CH2 = C(CH3)COOCH2(CF2CF2)H、 CH2 = C(CH3)CO〇CH2(CF2CF2)2H ' CH2 = C(CH3)COOCH2(CF2CF2)4H、 CH2 = CHCOOCH2CF2OCF2CF2OCF3、 ch2 = chcooch2cf2o(cf2cf2o)3cf3、 CH2 = C(CH3)COOCH2CF2OCF2CF2OCF3、 ch2 二 c(ch3)cooch2cf2o(cf2cf2o)3cf3、 CH2 = CHC00CH2CF(CF3)0CF2CF(CF3)0(CF2)3F、 CH2 = CHC00CH2CF(CF3)0(CF2CF(CF3)0)2(CF2)3F、 ch2 = c(ch3)cooch2cf(cf3)ocf2cf(cf3)o(cf2)3f、
CH2 = C(CH3)COOCH2CF(CF3)0(CF2CF(CF3)0)2(CF2)3F ch2 = cfcooch2ch(oh)ch2(cf2)6cf(cf3)2、 CH2 = CFCOOCH2CH(CH2OH)CF2(CF2)6CF(CF3)2、 ch2 = cfcooch2ch(oh)ch2(cf2)10f、 ch2 = cfcooch2ch(ch2oh)ch2(cf2)10f、 CH2 = CFCOOCH2CF(OCF2CF2)nOCF2CH2COCH = CH2 ( 但是n係表示4〜20的整數）等。 -13- 200916488 氟（甲基）丙烯酸酯類從相溶性及環境特性的観點 較佳爲化合物（B 1 )。 [化1] R1 / R2 \ / R4 \
但是R1係表示氫原子或甲基，R2及R3係分別表示氫 原子或碳數1〜4之院基，R4及R5係分別表示氟原子、 碳數1〜4之全氟院基或碳數1〜4之全氟院氧基，r6係 表不氣原子或氣原子，m係表不〜4之整數，η係表示1 〜1 6之整數。η從相溶性的觀點，較佳爲1〜1 〇之整數， 從環境特性的觀點，更佳爲3〜6之整數。 氟二烯例如有下述之化合物。 CF2 = CFOCF2CF = CF2 ' CF2 = CFOCF2CF2CF = CF2、 CF2 = CFCF2CF = CF2、 CF2 = CFCF2CH = CH2、 cf2 = cfcf2c(cf3)(oh)ch2ch = ch2、 cf2 = cfcf2c(cf3)(〇h)ch = ch2、 CF2 = CFCH2CH(CH2C(CF3)2〇H)CH2CH = CH2 等。 赢乙稀Si類例如有下述之化合物。 CF2 = CFO(CF2)3F、 CFa^CFC^CFshCOOCHs 等。 -14- 200916488 氟環狀單體類例如有下述之化合物。 [化2] 0
FC=CF I \ Ώ F3C cf3 〇CF3
F/C=H 0W0 cf2 cf3
F2C—CF cf2 化合物（B )可單獨使用或倂用二種以上。 化合物（B )之含量係化合物（A )、化合物（B )、 化合物（C )及光聚合起始劑（D )之合計（100質量％ ) 中，爲5〜40質量％，較佳爲15〜35質量％。化合物（B )之含量爲5質量％以上時，可得到脫模性優之硬化物， 可進一步抑制光硬化性組成物之起泡。因抑制光硬化性組 成物之起泡，因此調製時容易過濾，可避免因奈米壓印時 之氣泡混入造成之圖型形狀的缺點。化合物（B )之含量 爲40質量％以下時，因可均勻混合，可得到機械強度優 異的硬化物。 (化合物（C )) 化合物（C )係溶解其他成分的成分，且提高化合物 (A )與化合物（B )之相溶性的成分。化合物（A )與化 合物（B )的相溶性較佳時，可抑制光硬化性組成物之調 製時起泡’容易通過過濾器等，光硬化性組成物之調製容 易，可得到均勻的光硬化性組成物。因可得到均質的硬化 -15- 200916488 物，可充分發揮脫模性、機械強度。 化合物（C)之25C的黏度較佳爲0.1〜200mPa.s。 化合物（C )之黏度在該範圍時，容易降低光硬化性組成 物之黏度。 化合物（c )例如有下述之化合物。 苯氧基乙基（甲基）丙烯酸酯、2 -羥基-3-苯氧基丙 基（甲基）丙烯酸酯、苯氧基乙二醇（甲基）丙烯酸酯、 苯氧基二乙二醇（甲基）丙烯酸酯、苄基（甲基）丙烯酸 酯、甲氧基三乙二醇（甲基）丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇 (甲基）丙烯酸酯、2-(甲基）丙烯醯氧基乙基六氫苯二 甲酸、二十二烷基（甲基）丙烯酸酯、2-(甲基）丙烯醯 氧基乙基琥珀酸、硬酯醯（甲基）丙烯酸酯、異硬酯醯（ 甲基）丙烯酸酯、月桂基（甲基）丙烯酸酯、2 -乙基己基 (甲基）丙烯酸酯、3-(三甲氧基甲矽烷基）两基（甲基 )丙烯酸酯、丁基（甲基）丙烯酸酯、乙氧基乙基（甲基 )丙烯酸酯、甲氧基乙基（甲基）丙烯酸酯、苄基（甲基 )丙稀酸醋、四氫糠基（甲基）丙烯酸醋、嫌芮基（甲基 )丙烯酸酯、2-羥基乙基（甲基）丙烯酸酯、2-羥基丙基 (甲基）丙烯酸酯、Ν,Ν -二乙基胺基乙基（甲基）丙烯酸 醋、Ν，Ν- —甲基胺基乙基（甲基）丙嫌酸醋、一甲基肢基 乙基（甲基）丙烯酸酯、2_甲基_2_金剛烷基（甲基）丙 烯酸酯、2 -乙基·2-金剛烷基（甲基）丙烯酸酯、3-羥基-1 -金剛烷基（甲基）丙烯酸酯、丨_金剛烷基（甲基）丙烯 酸酯、異冰片基（甲基）丙稀酸酯、殘基乙基（甲基 -16- 200916488 )丙儲酸酯、辛基 (甲基）丙烯酸酯、癸基（甲基）丙烯
甲基）丙烯酸酯、tert-丁基 P基）丙烯酸酯、n-丁基（ 甲基）丙烯酸酯、4-tert-丁 基環己基（甲基）丙燒酸醋等。 化合物（C )可單獨或倂用二種以上。 化合物（C )之含量係化合物（a )、化合物（B )、 化合物（c)及光聚合起始劑（D)之合計（1〇()質量％) 中，1〇〜55質量％，較佳爲15〜45質量％。化合物（c )之含量爲1 0質量％以上時，可調低光硬化性組成物之 黏度’且化合物（A )與化合物（B )之相溶性良好。化 合物（C )之含量爲5 5質量％以下時，感度良好，交聯密 度也提尚，因此可得到機械強度優異的硬化物。 (光聚合起始劑（D )) 光聚合起始劑（D )例如有苯乙酮系光聚合起始劑、 苯偶因系光聚合起始劑、二苯甲酮系光聚合起始劑、噻噸 酮系光聚合起始劑、α -胺基酮系光聚合起始劑、α -羥基 酮系光聚合起始劑、α-醯基肟酯、苄基_(〇_乙氧基羰基 )-α-單肟、醯基膦氧化物、乙醛酸酯、3 -酮香豆素、2-乙基蒽醌、樟腦醌、四甲基二烴基胺荒醯硫化物、偶氮雙 異丁腈、苯甲醯過氧化物、二烷基過氧化物、tert-丁基過 氧化戊酸酯等，從感度及相溶性的觀點，較佳爲苯乙酮系 光聚合起始劑、苯偶因系光聚合起始劑、α-胺基酮系光 -17- 200916488 聚合起始劑或二苯甲酮系光聚合起始劑。 苯乙酮系光聚合起始劑例如有下述化合物。 苯乙酮、p-(tert-丁基）i'Pj、三氯苯乙酮、 乙酮、2’，2、二乙氧基苯乙酮、羥基苯乙酮、2,2_二 基-2 -本基苯乙酮、2 -胺基苯乙酮、二院基胺基苯乙 〇 苯偶因系光聚合起始劑例如有下述化合物。 卞基、本偶因、苯偶因甲基醚、苯偶因乙基醚、 因異丙基醚、苯偶因異丁基醚、1_羥基環己基苯基酮 羥基-2-甲基-丨_苯基_2_甲基丙烷-u酮、異丙基 )-2 -經基-2-甲基丙院-1-酮、节基二甲基縮酮等。 α -胺基酮系光聚合起始劑例如有下述化合物。 2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎咻基苯基）_ 丁酮 2_甲基-1[4-(甲基硫）苯基]-2-嗎啉基丙烷-丨_酮等。 二苯甲酮系光聚合起始劑例如有下述化合物。 二苯甲酮、苯甲醯安息香酸、苯甲醯安息香酸甲 甲基-〇-苯甲醯苯甲酸酯、4 -苯基二苯甲酮、羥基二 酮、羥基丙基二苯甲酮、丙烯基二苯甲酮、4，4，-雙（ 基胺基）二苯甲酮等。 光聚合起始劑（D )可單獨使用或倂用二種以上| 光聚合起始劑（D )之含量係化合物（A )、化 (B )、化合物（C )及光聚合起始劑（D )之合計 質量％)中，爲1〜12質量％，較佳爲4〜10質量％ 聚合起始劑（D )之含量爲1質量％以上時，不必進 氯苯 甲氧 酮等 苯偶 、2- 苯基 -1 x 酯、 苯甲 二甲 〇 合物 (100 。光 行加 -18- 200916488 熱等操作’可容易得到硬化物。光聚合起始劑（D )之含 量爲12質量％以下時，可均勻混合，因此殘留於硬化物 之光聚合起始劑（D )減少，可抑制硬化物之物性降低。 (化合物（E )) 化合物（E )係溶解其他成分的成分，且提高硬化物 之機械強度的成分。化合物（E)爲乙二醇系化合物時， 可進一步提高硬化物之柔軟性。 化合物（E )例如有下述化合物。 乙一醇一（甲基）丙烯酸酯、二丙二醇二（甲基）丙 烯酸酯、1,3_ 丁 一醇二（甲基）丙烯酸酯、1,4 -丁二醇二 (甲基）丙烯酸酯、甘油i，3_二甘油二（甲基）丙烯酸酯 、1，6-己—醇乙氧化二（甲基）丙烯酸酯、丨，6_己二醇丙 氧化二（甲基）丙烯酸酯、：^^己二醇二（甲基）丙烯酸 酯、3-羥基-2,2-二甲基丙酸酯二（甲基）丙烯酸酯、丨，9_ 壬二醇二（甲基）丙烯酸酯、Μ〇·癸二醇二（甲基）丙 烯酸醋、二乙二醇甲基）丙烯酸酯、新戊二醇二（甲 基）丙燒酸酯、新戊二醇丙氧化二（甲基）丙稀酸酯、聚 乙二醇：（甲基）㈣酸酯、丙二醇二（甲基）丙烯酸酯 甘油—（甲基）肖烯酸酯、丙二醇甘油二（甲基）丙烯 酝酯 '聚丙-醇-（甲基）丙烯酸酯、聚氧乙二醇二（甲 基）丙稀酸醋 '二丙二醇二（甲基）丙稀酸醋、三乙二醇 二上甲基）丙稀酸醋、四乙二醇甲基）丙稀酸酯、三 丙-知甘油—（甲基）H烯酸酯、2_羥基I丙烯醯氧基 -19- 200916488 丙基（甲基）丙烯酸酯' 2-甲基-1，3-丙二醇二丙烯酸酯、 二經甲基丙院苯甲酸醋二（甲基）丙稀酸酯、季戊四醇二 (甲基）丙烯酸酯單硬酯酸、三羥甲基丙烷乙氧化甲醚二 (甲基）丙烯酸酯、二胺基甲酸酯二（甲基）丙烯酸酯、 1，3 -雙（3 -甲基丙烯醯氧基丙基）-1，丨，；^，、四甲基二矽氧 烷等。 化合物（E )可單獨使用或倂用二種以上。 化合物（E)之含量係對於化合物（a )、化合物（B )、化合物（C)及光聚合起始劑（〇)之合計1〇〇質量 份，較佳爲5〜3〇質量份，更佳爲〜25質量份。化合 物（E )之含量爲5質量份以上時，提高光硬化性組成物 之感度。化合物（E)之含量爲30質量份以下時，各成分 之相溶性良好。 (化合物（F )) 化合物（F )係提高硬化物之機械強度（硬度）的成 分。 化合物（F )例如有下記之化合物。 三（甲基）丙烯酸酯：三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯 酸酯、二羥甲基丙院乙氧基三（甲基）丙烯酸酯、聚醚彡 (甲基）丙烯酸酯、甘油丙氧基三（甲基）丙烯酸酯、季 戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、乙氧化三聚異氰酸三丙烯酸 酯、乙氧化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、丙氧化三羥甲基芮 院三丙烯酸酯等。 -20- 200916488 四（甲基）丙烯酸酯：季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯 、季戊四醇乙氧基四（甲基）丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷 四（甲基）丙烯酸酯、丙氧化季戊四醇四丙烯酸酯等。 二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、芳香族胺基甲酸酯 三（甲基）丙烯酸酯' 芳香族胺基甲酸酯四（甲基）丙烯 酸酯、芳香族胺基甲酸酯六（甲基）丙烯酸酯等。 化合物（F )可單獨使用或倂用二種以上。 化合物（F )之含量係對於化合物（A )、化合物（B )、化合物（C)及光聚合起始劑（D)之合計100質量 份時，較佳爲5〜90質量份，更佳爲10〜80質量份。化 合物（F )之含量爲5質量份以上時，可提高硬化物之機 械強度。化合物（F )之含量爲90質量份以下時，可將光 硬化性組成物抑制在低黏度。 化合物（E )及化合物（F )之合計係對於化合物（a )、化合物（B )、化合物（C )及光聚合起始劑（D )之 合計1 00質量份時，較佳爲5〜1 1 0質量份，更佳爲1 0〜 65質量份。 (含氟界面活性劑（G )) 含氟界面活性劑（G )係提高硬化物之脫模性的成分 〇 含氟界面活性劑（G)較佳爲氟含量爲1〇〜70質量 %之含氟界面活性劑’更佳爲氟含量爲10〜40質量％之 含氟界面活性劑。含氟界面活性劑可爲水溶性或油溶性。 -21 - 200916488 含氟界面活性劑（G )較佳爲陰離子性含氟界面活性 劑、陽離子性含氟界面活性劑、兩性含氟界面活性劑、或 非離子性含氟界面活性劑，從光硬化性組成物之相溶性及 硬化物之分散性的觀點，更佳爲非離子性含氟界面活性劑 〇 陰離子性含氟界面活性劑較佳爲聚氟烷基羧酸鹽、聚 氟烷基燐酸酯或聚氟烷基磺酸鹽。 陰離子性含氟界面活性劑之具體例有SurflonS-1 1 1 ( 商品名、seimichemical 公司製）、FloradeFC-143 (商品 名、3M公司製）、MegafacF-120(商品名、大日本油舉 化學工業公司製）等。 陽離子性含氟界面活性劑較佳爲聚氟烷基羧酸之三甲 基銨鹽或聚氟烷基磺酸醯胺之三甲基銨鹽。 陽離子性含氟界面活性劑之具體例有SurflonS-121 ( 商品名、seimichemical 公司製）、Florade FC-134(商品 名、3M公司製）、MegafacF-150(商品名、大日本油墨 化學工業公司製）等。 兩性含氟界面活性劑較佳爲聚氟烷基甜菜鹼。 兩性含氟界面活性劑之具體例有SurflonS-132 (商品 名、s e i m i c h e m i c a 1 製）、F1 〇 r a d e F X -1 7 2 (商品名、3 Μ 公司製）、MegafacF-120 (商品名、大日本油墨化學工業 公司製）等。 非離子性含氟界面活性劑較佳爲聚氟烷基胺氧化物或 聚氟烷基•環氧化物加成物。 -22- 200916488 非離子性含氟界面活性劑之具體例有SurflonS-145 ( 商品名、seimichemical 公司製）、SurflonS-393 (商品名 、seimichemical 公司製）、SurflonKH-20 (商品名、 seimichemical 公司製）、S ur f 1 ο η K Η - 4 0 (商品名、 seimichemical 公司製）、FloradeFC-170 (商品名 ' 3Μ 公 司製）、FloradeFC-430 (商品名、3M 公司製）、
Me gafacF-141 (商品名、大日本油墨化學工業公司製）等 〇 含氟界面活性劑（G)可單獨使用或倂用二種以上。 含氟界面活性劑（G )之含量係對於化合物（A )、 化合物（B )、化合物（C )及光聚合起始劑（D )之合計 1〇〇質量份時，較佳爲0.1〜3質量份，更佳爲0.5〜1質 量份。含氟界面活性劑（G )之含量爲0.1質量份以上時 ，提高脫模性。含氟界面活性劑（G )之含量爲3質量份 以下時，可抑制光硬化性組成物之硬化阻礙，且可抑制硬 化物之相分離。 對於含氟界面活性劑（G )之總量之化合物（B )的 量較佳爲0.5〜100倍質量，特佳爲1〇〜75倍質量。化合 物（B)之量在該範圍時，可發揮化合物（B)及含氟界 面活性劑（G )之脫模性的相乘效果。化合物（b )之量 未達〇 · 5倍質量時’無法均勻相溶，且會起泡。化合物（ B )之量超過1 〇 〇倍質量時，含氟界面活性劑（G )無脫 模性的效果。 -23- 200916488 (含氟聚合物（Η )) 含氟聚合物（Η )係調整光硬化性組成物t ^ 分。 含氟聚合物（H)之質量平均分子量較佳胃 2000000，更佳爲1000〜1000000，特佳爲 3000〜 。含氟聚合物（H)之質量平均分子量在該範圍時 他之成分的相溶性良好。 含氟聚合物（H)之氟含量較佳爲3〇〜7〇質 更佳爲45〜70質量％。含氟聚合物（H)之氟含 範圍時，光硬化性組成物會均勻溶解，容易調整光 組成物之黏度。 含氟聚合物（H)較佳爲具有雜原子的含氟聚 更佳爲具有氮原子、氧原子、硫原子或磷原子的含 物，更佳爲具有羥基、醚性氧原子、酯基、烷氧羰 醯基、燐酸酯基、胺基、硝基、或酮基的含氟聚合 相溶性的觀點，特佳爲具有羥基、醚性氧原子、酯 氧羰基的含氟聚合物。具有雜原子的含氟聚合物與 分的相溶性高’容易調製均句的光硬化性組成物。 含氟聚合物（H )例如有下述含氟聚合物（Η 1 Η4 ) ’從相溶性的觀點，較佳爲含氟聚合物（η4 ) 含氣聚合物（Η1 ):使化合物（h 1 )聚合的 合物。 CFfCRH-Q-ClUcj^ …⑷）。 但是R11及R12係分別表示氫原子、氟原子、 度的成 5 00〜 500000 ，與其 量％， 量在該 硬化性 合物， 氟聚合 基、磺 物，從 基、烷 其他成 含氟聚 碳數1 -24- 200916488 〜3之烷基、或碳數1〜3之氟烷基，Q係表示氧原子、 -NR13-、或可具有官能基的2價有機基，R13係表示氫原 子、碳數1〜6之院基、院基羯基或甲苯擴釀基。 含氟聚合物（H2):具有氟烯烴單位與烴系單體單 位的含氟聚合物。 氟烯烴單位例如有氟化乙烯、偏氟乙烯、三氟乙烯、 四氟乙烯、五氟丙烯、六氟丙烯等。烴系單體單位例如有 乙烯醚、乙烯酯、烯丙醚、烴系烯烴、丙烯酸酯、甲基丙 烯酸酯等。 含氟聚合物（H3):具有氣乙嫌單位與氟（甲基） 丙烯酸酯單位的含氟聚合物。 氟乙烯單位例如有四氟乙烯、CF2 = CFC1等。氟（甲 基）丙烯酸酯單位例如有、甲基丙烯酸2 -過氟己基）乙 酯、丙烯酸2-(過氟己基）乙酯、甲基丙烯酸2_ (過氟 辛基）乙酯、丙烯酸2-(過氟辛基）乙酯等。 含氟聚合物（H4 ):具有氟乙烯單位與化合物（h4 )單位的含氟聚合物。 CHR17 = CH-0-R'8 · . . (h4)。 但是R 係表不氫原子、碳數1〜4之院基、苯基、 苄基，R18係表示碳數1〜18之烷基、含芳香環之碳數1〇 以下之烷基或苯基、含羥基之碳數10以下之烷基或苯基 、含氟原子之碳數10以下之烷基或苯基、或含羧酸或酯 基之碳數1〇以下之院基或苯基。 含氟聚合物（Η )可單獨使用或倂用二種以上。 -25- 200916488 含氟聚合物（Η )之含鼍係對於化合物（a )、 物（B )、化合物（C )及光聚合起始劑（D )之合計 質量份時’較佳爲5〜25質量份，更佳爲7〜2〇質量 含氟聚合物（Η )之含量爲5質量份以上時，可得到 化性組成物之黏度的調整效果。含氟聚合物（Η )之 爲2 5質量份以下時’可抑制光硬化性組成物之硬化 ，可抑制硬化物之相分離。 對於含氟聚合物（Η )之總量之化合物（β )的 佳爲〇·5〜100倍質量’更佳爲2〜5〇倍質量。化合牧 )之量爲該範圍時’可得到不會引起相分離之均勻的 化性組成物。化合物（Β )之量未達〇 · 5倍質量時， 脫模性的效果。化合物（Β )之量超過1 〇 〇倍質量時 產生相分離。 含氟界面活性劑（G )及含氟聚合物（η )之合 對於化合物（A )、化合物（B )、化合物（C )及光 起始劑（D)之合計1〇〇質量份’較佳爲〇」〜35質 ，更佳爲0.5〜25質量份。 化合物（E )、化合物（F )、含氟界面活性劑（ 及含氟聚合物（Η)之合計係對化合物（a )、化合物 )、化合物（C )及光聚合起始劑（d )之合計1〇〇 份’較佳爲0.1〜125質量份，更佳爲〇_5〜85質量份 (其他之添加劑） 光硬化性組成物係化合物（A )〜（C )、光聚 化合 100 份。 光硬 含量 阻礙 量較 ! ( B 光硬 不具 ，會 計係 聚合 量份 G) I ( B 質量 合起 -26- 200916488 始劑（D )、化合物（E )、化合物（F )、含氟界 劑（G)、含氟聚合物（η)除外，可含有其他之添 〇 其他之添加劑例如有光增感劑、其他之樹脂、金 化物微粒子、碳化合物、金屬微粒子、其他之有機化 等。 先增感劑例如有η -丁基胺、二- η-丁基胺、三_n 膦、烯丙基硫尿、s -苄基異硫脲丙基硫酸鹽-p_甲苯亞 醋、一乙基fl女、一乙基胺基乙基甲基丙稀酸醋、三乙 胺、4,4’-雙（二烷基胺基）二苯甲酮等之胺化合物。 其他之樹脂例如有聚酯、聚酯寡聚物、聚碳酸醋 (甲基）丙烯酸酯等。 金屬酸化物微粒子例如有二氧化欽、二氧化砂等 碳化合物例如有奈米碳管、富勒烯等。 金屬微粒子例如有銅、鉑等。 其他之有機化合物例如有卟啉、金屬內包卟啉等 其他之添加劑之總量係光硬化性組成物（1 〇〇質 )中，較佳爲20質量％以下。其他之添加劑之總量 質量％以下時，可均勻混合光硬化性組成物，得到均 光硬化性組成物。 以上說明之本發明的光硬化性組成物係因含有化 (A )，因此可得到機械強度優異的硬化物。又因含 合物（B )，因此可得到脫模性優異的硬化物。又含 合物（C )，因此化合物（A )與化合物（B )之相溶 活性 加劑 :屬氧 ，合物 -丁基 :磺酸 撐四 、聚 量％ 爲20 質的 合物 有化 有化 性優 -27- 200916488 ，結果可進一步提高硬化物之脫模性及機械強度。 <在表面具有微細圖型之成形體的製造方法> 本發明之在表面具有微細圖型之成形體之製造方法係 具有下述（1 )〜（3 )的步驟。 (1 )使本發明之光硬化性組成物接觸於具有在表面 具有該微細圖型之反轉圖型之模具之該反轉圖型表面的步 驟。 (2 )在光硬化性組成物接觸於模具表面的狀態下， 將光照射於光硬化性組成物，使光硬化性組成物硬化形成 硬化物的步驟。 (3 )將硬化物自模具分離，得到表面具有微細圖型 之成形體的步驟。 本發明之表面具有微細圖型之成形體的製造方法，更 具體例如有下述（a)〜（c)的方法。 (a )方法： 具有下述步驟（a-Ι)〜（a-4)的方法。 (a- 1 )如圖1所示，將光硬化性組成物2 0配置於基 板3 0之表面的步驟。 (a-2 )如圖1所示’將模具丨〇按壓於光硬化性組成 物2G ’使該模具1 〇之反轉圖型1 2與光硬化性組成物2〇 接觸的步驟。 (a-3 )將模具1 〇按壓於光硬化性組成物2〇的狀態 -28- 200916488 下，將光照射於光硬化性組成物20，使光硬化性組成物 2〇硬化形成硬化物的步驟。 (a-4)自硬化物將模具10或基板30及模具10分離 ，得到表面具有微細圖型之成形體的步驟。 (b )之方法： 具有下述步驟（b-Ι )〜（b-4 )的方法。 (b-Ι )如圖2所示，將光硬化性組成物20配置於模 具1〇之反轉圖型12之表面的步驟。 (b-2 )如圖2所示，基板3 0按壓於模具1 0之表面 之光硬化性組成物20的步驟。 (b-3 )將基板3 0按壓於光硬化性組成物20的狀態 下，光照射光硬化性組成物2 0，使光硬化性組成物2 0硬 化形成硬化物的步驟。 (b-4)自硬化物將模具1〇或基板30及模具10分離 ，得到表面具有微細圖型之成形體的步驟。 (c )之方法： 具有下述步驟（c-1)〜（c-4)的方法。 (c-1 )如圖1所示，使基板3 0與模具10接近或接 觸，模具1 〇之反轉圖型1 2在基板3 0側的步驟。 (c-2 )如圖1所示，將光硬化性組成物20塡充於基 板3 0與模具1 0之間的步驟。 (c-3 )基板3 0與模具1 〇接近或接觸的狀態下，光 -29- 200916488 照射於光硬化性組成物20，使光硬化性組成物20硬化形 成硬化物的步驟。 (c-4)自硬化物將模具1〇或基板3〇及模具分離 5得到表面具有微細圖型之成形體的步驟。 基板例如有無機材料製基板或機材料製基板。 無機材料材例如有矽晶圓、玻璃、石英玻璃、金屬（ 鋁、鎳、銅等）、金屬氧化物（氧化鋁等）、氮化矽、氮 化鋁、鈮酸鋰等。 有機材料例如有氟樹脂、聚矽氧樹脂、丙烯酸樹脂、 聚碳酸酯、聚酯（聚對苯二甲酸乙二酯）、聚醯亞胺、聚 丙烯、聚乙烯、尼龍樹脂、聚苯硫醚、環狀聚烯烴等。 基板從與光硬化性組成物之密著性優異的觀點，可使 用經表面處理後的基板。表面處理例如有底漆塗佈處理、 臭氧處理、電漿蝕刻處理等。底漆例如有矽烷偶合劑、矽 胺烷等。 模具例如有非透光材料製模具或透光材料製模具。 非透光材料例如有矽晶圓、鎳、銅、不鏽鋼、鈦、 SiC、雲母等。 透光材料例如有石英、玻璃、聚二甲基矽氧烷、環狀 聚烯烴、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、透明氟樹脂等 〇 基板及模具中至少一方係光聚合起始劑（D )產生作 用之波長之光可透過40%以上的材料。 模具係表面具有反轉圖型。反轉圖型係對應成形體之 -30- 200916488 表面之微細圖型的反轉圖型。 反轉圖型具有微細之凸部及/或凹部。 凸部例如有延伸於模具表面之長條的凸條、點散於表 面的突起等。 凹部例如有延伸於模具表面之長條的溝、點散於表面 的孔等。 凸條或溝之形狀例如有直線、曲線、折彎形狀等。凸 條或溝可多數平行存在，形成條紋狀。 凸條或溝之與長度方向直交之方向的剖面形狀例如有 長方形、台形、三角形、半圓形等。 突起或孔之形狀例如有三角柱、四角柱、六角柱、圓 柱、三角錐、四角錐、六角錐、圓錐、半球、多面體等。 凸條或溝之寬度較佳爲平均lnm〜100// m，更佳爲 1 Onm〜10//m。凸條之寬度係指與長度方向直交之方向之 剖面底邊的長度。溝之寬度係指與長度方向直交之方向之 剖面上邊的長度。 突起或孔之寬度較佳爲平均lnm〜ΙΟΟ/zm，更佳爲 10nm〜10#m。突起之寬度係指底面爲細長時，與長度方 向直交之方向之剖面的底邊長度，其餘的情形，係指突起 之底面之最大長度。孔之寬度係指開口部爲細長時，與長 度方向直交之方向之剖面的上邊長度，其餘的情形係指孔 之開口部的最大長度。 凸部之高度較佳爲平均lnm〜lOO^/m，更佳爲l〇nm -31 - 200916488 凹部之深度較佳爲平均lnm〜100/zm，更佳赁 〜1 0从m。 在反轉圖型爲密集之區域中，鄰接之凸部（或 間之間隔較佳爲平均lnm〜500/zm，更佳爲lnm〜 。鄰接之凸部間的間隔係指由凸部之剖面底邊之終 接之凸部之剖面底邊開始端爲止的距離。鄰接之凹 間隔係指由凹部之剖面上邊的終端至鄰接之凹部之 邊之開始端的距離。 凸部之最小尺寸較佳爲lnm〜50/zm，更佳爲 5 00nm -特佳爲 lnm〜50nm。最小尺寸係指凸部之 長度及高度中，最小的尺寸。 凹部之最小尺寸較佳爲lnm〜50/zm，更佳爲 5 00nm >特佳爲 lnm〜50nm。最小尺寸係指凹部之 長度及深度中，最小的尺寸。 步驟（a -1 ) ·· 光硬化性組成物之配置方法例如有噴墨法、 Potting )法、旋轉塗佈法、輥式塗佈法、澆鑄塗佈 漬塗佈法、壓模塗佈法、蘭米爾投射（Langmuir’s )法、真空蒸鍍法等。 可將光硬化性組成物配置於基板之全面或基板 一部分。 步驟（a-2 ) ^ 1 0 nm 凹部） 5 0 // m 端至鄰 部間之 剖面上 1 n m〜 寬度、 1 nm〜 寬度、 塗膠（ 法、浸 proj ect 表面之 -32- 200916488 將模具緊壓於光硬化性組成物時之壓製壓力（表壓） 較佳爲超過0〜lOMPa以下，更佳爲0.1〜5MPa。將模具 緊壓於光硬化性組成物時之溫度較佳爲0〜1 〇 〇 °C，更佳爲 1 0 〜6 0 t。 步驟（b -1 ): 光硬化性組成物之配置方法例如有噴墨法、塗膠（ Potting )法、旋轉塗佈法、輥式塗佈法、澆鑄塗佈法、浸 漬塗佈法、壓模塗佈法 '蘭米爾投射（Langmuir's project )法、真空蒸鍍法等。 光硬化性組成物可配置於模具之反轉圖型的全面或配 置於反轉圖型之一部份’較佳爲配置於反轉圖型之全面。 步驟（b-2): 將基板緊壓於光硬化性組成物時之壓製壓力（表壓） 較佳爲超過0〜lOMPa以下，更佳爲〇.1〜5MPa。將基板 緊壓於光硬化性組成物時之溫度較佳爲〇〜1〇〇。(：，更佳爲 1 0 〜6 0 〇C ° 步驟（c-2): 將光硬化性組成物塡充於基板與模具之間的方法例如 有藉由毛細管現象’使空隙吸引光硬化性組成物的方法。 塡充光硬化性組成物時之溫度較佳爲〇〜1 〇 〇 °c，更佳 爲 1 0 〜6 0 〇C。 -33- 200916488 步驟（a-3) 、（b-3) 、（c-3). 光照射的方法例如有使用透光材料製模具’由該 側進行光照射的方法、使用透光材料製基板’由該基 進行光照射的方法。光之波長較佳爲200〜5 00nm。 射時，可將光硬化性組成物加熱促進硬化。 光照射時之溫度較佳爲〇〜l〇〇°C，更佳爲1〇〜 步驟（a-4) 、 （b-4) 、 （c-4): 由硬化物將模具或基板及模具分離時的溫度較佳 〜l〇〇°C，更佳爲10〜60°C。 由硬化物將基板及模具分離時，可得到如圖3所 僅由具有模具之反轉圖型被轉印之表面的硬化物4 2 成，表面具有微細圖型44的成形體40。 由硬化物僅將模具分離時’可得到如圖4所示， 模具之反轉圖型被轉印之表面的硬化物42與基板30 成，表面具有微細圖型44的成形體40(層合體）。 表面具有微細圖型之成形體例如有下述物品。 光學元件：爲透鏡陣列、光導元件、光開關元件 柵偏光元件、波長板等）、非捏耳波帶片（F r e s n e 1 plate，FZP )元件、二進制元件（binary device )、 元件、光學結晶等。 防反射構件：AR ( Anti Reflection )塗佈構件等
模具 板側 光照 6 0°C 爲0 示， 所構 具有 所構 (光 zone 光柵 -34- 200916488 晶片類：生物晶片、μ-TAS (Micro-Total Analysis Systems)用之晶片、超微小反應晶片等。 其他：記錄多媒體、顯示器材料、觸媒之載持體、濾 波器、感知器構件、用於製造半導體裝置之光阻、奈米壓 印用之擴充（Daughter)模具等。 作爲光阻使用時，以該具有微細圖型之成形體作爲光 罩’對基板進行触刻，在基板上形成微細圖型。 以上說明之本發明之在表面具有微細圖型之成形體的 製造方法，因使用可得到脫模性及機械強度優異之硬化物 之本發明的光硬化性組成物，因此可製造表面具有模具之 反轉圖型被精密轉印之微細圖型之耐久性優異的成形體。 【實施方式】 [實施例] 以下舉實施例說明本發明，但是本發明不限於這些實 施例。 例1〜1 0、1 9〜2 7係實施例，例1 1〜1 8係比較例。 (質量平均分子量） 含氟聚合物（H)之質量平均分子量係使用GPC分析 裝置（東曹公司製、HLC-8220)測定。 (黏度） 光硬化性組成物之2 5 °C的黏度係使用黏度計（東機產 -35- 200916488 業公司製、TV-20 )測定。該黏度計係以標準 25°C下，33.17mPa‘S))校正完成者。黏度f; 以下之値時判斷爲良好。 (感度） 光硬化性組成物之感度係如下述求得。 硬化性組成物以旋轉塗佈法塗佈形成膜丨 ，然後照射高壓水銀燈（1 . 5〜2.0 k Η z下，於 365nm具有主波長的光源）的光，求出直到完 的累積光量，作爲感度。 光硬化性組成物是否完全硬化係測定IR 丙烯酸部分之烯烴之吸收之有無來判| 5 00m：T/cm2以下之値時，判斷爲良好。 (體積收縮率） 體積收縮率係如下述求得。 2 5 °C下’試驗管（玻璃製）中，將光硬化 入至L· 1之高度爲止，對光硬化性組成物以清 1 .5 〜2.0kHz 下，於 25 5、3 1 5 及 3 6 5 nm 具有 源）之光照射1 5秒，測定所得之硬化物的高 述式求得體積收縮率。體積收縮率在1 5 %以 良好。 體積收縮率（％) = (L1-L2) /LlxlOO。
液（JS50 ( 3 OOmPa· S f 約 1 . 5 /z m 255 、 315 及 全硬化爲止 光譜，藉由 ί 。感度在 ，性組成物封 丨壓水銀燈（ '主波長的光 度L2 。由下 下時判斷爲 -36- 200916488 (接觸角） 硬化物對水之接觸角係如下述測定。 對光硬化性組成物照射高壓水銀燈（1 . 5〜2.0 k Η Z下 ’於255、315及365nm具有主波長的光源）之光15秒 得到硬化物。 該硬化物使用接觸角計（協和界面科學公司製、CA-X 1 5 0型），將4 μ L的水滴附於硬化物之表面進行測定。 接觸角係硬化物之脫模性的判斷標準。接觸角在7 5 度以上時，判斷爲良好。 (鉛筆硬度） 硬化物之鉛筆硬度係如下述測定。 對光硬化性組成物照射高壓水銀燈（1 . 5〜2.0 k Η ζ下 ，於255、315及；365nm具有主波長的光源）之光15秒 得到硬化物。 該硬化物之鉛筆硬度係依據JIS K5400 (舊JIS)， 以1kg荷重的條件求得。 鉛筆硬度係作爲硬化物之機械強度的判斷標準。鉛筆 硬度在F以上時判斷爲良好。 (乾蝕刻耐性） 乾蝕刻耐性係如下述求得。 光硬化性組成物塗佈於基板（矽晶圓）後，對於光硬 化性組成物照射高壓水銀燈（1 . 5〜2.0kHz下，於2 5 5、 -37- 200916488
3 1 5及3 6 5 nm具有主波長的光源）之光1 5秒形成硬化物 。準備該硬化物形成的基板與塗佈聚甲基丙烯酸甲酯（以 下稱爲PMMA)的基板，同時使用RIE-10NR(SAMCO公 司製）’在 CF4/〇2(40/10sccm)、壓力 5Pa、輸出 70W 、1 20秒的條件下，同時進行蝕刻處理，由蝕刻處理前後 之膜厚差’計算蝕刻速度，求出當PMMA之蝕刻速度爲1 時之硬化物之蝕刻速度的相對値，作爲乾蝕刻耐性。乾蝕 刻耐性在0.6以下時判斷爲良好。 (化合物（A1 )) [化3]
CHa CH2=C—C一0 II 0 (化合物（A 2 )) [化4] CH2=CH-C-〇-(C3He〇), 0 但是q及r係各自表示1〜3的整數。 (化合物（A 3 )) -38 * 200916488
(化合物（B 1 1 )) CH2 = CHCOOCH2CH2(CF2)6F · · · ( B 1 1 )。 (化合物（B 2 )) CF2 = CFCF2C(CF3)(OH)CH2CH = CH2 …（B2)。 (化合物（c 1 )) [化6]
(C1) (化合物（C2 )) [化7] Ο I! CH2= CHx (C2) (光聚合起始劑（D 1 ) -39- 200916488 光聚合起始齊!l ( D1 ) : Ciba · Speciality · Chemicals 公司製、商品名：IR GA CURE 651。 (化合物（E1 )) [化8] 0 〇
II II CH2=C^^Ox^/〇xX^〇^CssC=CH2 (E1) ch3 ch3 (化合物（F1 )) [化9] CH2=CHCOOCH2、 CH2=CHC00CH2-C-CH20H (FI) ch2=chcooch/ (含氟界面活性劑（G 1 )) 含氟界面活性劑（G 1 ):非離子系含氟界面活性劑 、SemiChemical 公司製、商品名：Surflon S- 3 9 3。 (含氟聚合物（Η 1 1 )) 將化合物（Β2 ) 9.00g、1,4-二噁烷3 8.3 7g投入耐壓 反應器（內容積5 OmL、玻璃製）內，接著將二異丙基過 氧二碳酸酯〇 . 7 1 g投入。反應器內經凍結脫氣後’內溫保 持4 0 °C，進行1 8小時聚合。其次’將反應器之內容液滴 至己烷中。將凝集的固形分回收’以1 1 0它真空乾燥4 0小 -40- 200916488 時得到白色粉末狀之具有下述重複單位的非結晶性含氟聚 合物（氟含有量56.3質量％)(以下稱爲含氟聚合物（ Η 1 1 )) 6.3 3 g。含氟聚合物（Η 1 1 )係玻璃轉移溫度爲 118 °C，數平均分子量爲26 00，質量平均分子量爲48〇〇。 [化 10] CF、 CH、 / CF — CH \ / \ CFZ £Η2
CF3〆、OH (含氟聚合物（H41)) 含氟聚合物（H4 1 ):旭硝子公司製、商品名： LUMIFLONLF710、質量平均分子量4〇〇〇〇。 [例1] 玻璃瓶容器（內容積6mL)中加入化合物（A1) 1.52g、化合物（Bll) 〇_88g、化合物（ci) l_44g，其次 混合光聚合起始劑（Dl) 〇.l6g，使用〇.2#m之聚對苯二 甲酸乙二酯（以下稱爲PTFE )製過濾器過濾，得到光硬 化性組成物。該組成物之組成如表1所示，評價結果如表 2所示。 [例2] 玻璃瓶容器（內容積6mL )中加入化合物（A2 ) l_52g、化合物〇.88g、化合物（ci) 1.44g’ 其次 -41 - 200916488 混合光聚合起始劑（Dl) 0.16g，使用0.2/zm 過濾器過濾得到光硬化性組成物。該組成物之 所示，評價結果如表2所示。 [例3] 玻璃瓶容器（內容積6mL)中加入化老 1.52g、化合物（Bll) 〇.88g、化合物（Cl) 1 混合光聚合起始劑（Dl) 〇_16g，使用 過濾器過濾得到光硬化性組成物。該組成物之 所示，S平價結果如表2所示。 [例4] 玻璃瓶容器（內容積6mL )中加入化名 1 .52g、化合物（B2 ) 0_88g、化合物（Cl ) 1 混合光聚合起始劑（Dl) 0.16g，使用0.2;zm 過濾器過瀘得到光硬化性組成物。該組成物之 所示，評價結果如表2所示。 [例5] 玻璃瓶容器（內容積6mL )中加入化名 1.52g、化合物（B1 1 ) 〇.88g、化合物（C2 ) 1 混合光聚合起始劑（Dl) 0.16g，使用0_2y(zm 過濾器過濾得到光硬化性組成物。該組成物之 所示，評價結果如表2所示。 之PTFE製 組成如表1 ί 物（A3 ) •44g ，其次 之PTFE製 組成如表1 ί 物（A2 ) •44g ，其次 之PTFE製 組成如表1 Γ 物（A2 ) .4 4 g，其次 之PTFE製 組成如表1 -42- 200916488 [例6] 玻璃瓶容器（內容積 6mL·)中加入化合物（A2) 1.32g、化合物（Bll) 〇.8〇g、化合物（Cl) l_32g、化合 物（El) 0.40g，其次混合光聚合起始劑（Dl) 〇.16g’使 用0 _ 2 μ m之P TF E製過據器過濾得到光硬化性組成物。 該組成物之組成如表1所示，評價結果如表2所示。 [例7] 玻璃瓶容器（內容積6mL )中加入化合物（A2 ) l_20g、化合物（Bll) 0.80g、化合物（Cl) 1.20g、化合 物（E 1 ) 0 · 3 2 g、化合物（F 1 ) 〇 . 3 2 g，其次混合光聚合起 始劑（Dl) 〇.16g，使用0.2/zin之PTFE製過濾器過濾得 到光硬化性組成物。該組成物之組成如表1所示，評價結 果如表2所示。 [例8] 玻璃瓶容器（內容積6mL)中加入化合物（A2) I.20g、化合物（Bll) 〇.80g、化合物（Cl) 1.20g、化合 物（E 1 ) 〇 . 2 8 g、化合物（F 1 ) 〇 . 2 8 g、含氟界面活性劑（ Gl) 0.08g，其次混合光聚合起始劑（di) 〇.i6g，使用 0 ·2 # m之ρ τ F E製過濾器過濾得到光硬化性組成物。該組 成物之組成如表1所示，評價結果如表2所示。 -43- 200916488 [例9] 玻璃瓶容器（內容積6mL )中加入化合物（A2 ) 1.20g、化合物（Bll) 0.80g、化合物（Cl) l_20g、化合 物（El) 0.28g、含氟界面活性劑（Gl) 0.08g、含氟聚合 物（Hll) 0.28g，其次混合光聚合起始劑（Dl) 〇.16g， 使用0.2/zm之PTFE製過濾器過濾得到光硬化性組成物 。該組成物之組成如表1所示’評價結果如表2所示。 [例 10] 玻璃瓶容器（內容積6mL )中加入化合物（A2 ) 1.20g、化合物（Bll) 0.80g、化合物（Cl) 1.20g、化合 物（El) 0.28g、含氟界面活性劑（Gl) 0.08g、含氟聚合 物（H4 1 ) 〇.28g，其次混合光聚合起始劑（Dl ) 0.16g， 使用0.2/zm之PTFE製過濾器過濾得到光硬化性組成物 。該組成物之組成如表1所示，評價結果如表2所示。 [例 1 1] 玻璃瓶容器（內容積 6mL )中加入化合物（A1 ) 0.28g、化合物（Bll) 1.56g、化合物（Cl) 2.00g，其次 混合光聚合起始劑（D1 ) 0· 1 6g，使用0.2 // m之PTFE製 過濾器過濾得到光硬化性組成物。該組成物之組成如表i 所示’評價結果如表2所示。 [例 12] -44 - 200916488 玻璃瓶容器（內容積 6mL )中加入1 3.00g ' 化合物（Bll) 0_40g、化合物（Cl 混合光聚合起始劑（Dl) 0.16g，使用0.2// 過濾器過濾得到光硬化性組成物。硬化物硬 難以獨立膜來使用。該組成物之組成如表1 果如表2所示。 [例 13] 玻璃瓶容器（內容積 6mL )中加入4 1.84g、化合物（Bll) 0_12g、化合物（C1 混合光聚合起始劑（D1 ) 0. 16g，使用0.2 // 過濾器過濾得到光硬化性組成物。該組成物 所示，評價結果如表2所示。 [例 14] 玻璃瓶容器（內容積 6mL)中加入〃 〇.8〇g ' 化合物（Bll) 2.20g、化合物（Cl 混合光聚合起始劑（D 1 ) 0 · 1 6 g，但是無法 生相分離。該組成物之組成如表1所示。 [例 15] 玻璃瓶容器（內容積6mL )中加入4 1,96g ' 化合物（B 1 1 ) 1 60 g、化合物（C 1 混合光聚合起始劑（D 1 ) 0. 1 6g，但是無法 七合物（A 1 ) )0.44 g，其次 m之PTFE製 ，但是脆，很 所示，評價結 匕合物（A 1 ) )1 _88g，其次 m之PTFE製 之組成如表1 合物（A1) )0 · 8 4 g，其次 均勻混合，產 匕合物（A1 ) )0.2 8 g，其次 均勻混合，產 -45 - 200916488 生相分離。該組成物之組成如表1所示。 [例 16] 玻璃瓶容器（內容積6mL )中加入/ 0.60g、化合物（Bll) 0.24g、化合物（C1 混合光聚合起始劑（D1 ) 0.16g，使用〇 2 “ 過瀘器過濾得到光硬化性組成物。硬化物硬 難以獨立膜來使用。該組成物之組成如表i 果如表2所示。 [例 17] 玻璃瓶谷器（內容積 6mL)中加入/( l_60g、化合物（Bll) 〇.96g、化合物（C1 混合光聚合起始劑（D 1 ) 0.0 2 g，使用〇 _ 2 " 過濾器過濾得到光硬化性組成物。但是即使 化部分仍多’無法得到硬化物。該組成物之 示，評價結果如表2所示。 [例 18] 玻璃瓶容器（內容積6mL)中加入〃 1 . 2 0 g、化合物（b 1 1 ) 〇 _ 7 2 g、化合物（C 1 混合光聚合起始劑（Dl) 0.80g，但是因光 D 1 )未完全溶解’因此無法得到均勻的組 物之組成如表1所示。 t合物（A1 ) )3.00g ，其次 m之PTFE製 ，但是脆，很 所示，評價結 ’七合物（A1 ) )1 _ 4 2 g，其次 m之PTFE製 光照射，未硬 組成如表1所 匕合物（A1 ) )1.2 8 g，其次 聚合起始劑（ 成物。該組成 -46- 200916488 [例 19] 玻璃瓶容器（內容槙6mL )中加入化 1.44g、化合物（Bll) 〇.88g、化合物（C1) 物（E 1 ) 0.0 8 g，其次混合光聚合起始劑（D 1 用0.2# m之PTFE製過濾器過濾得到光硬设 該組成物之組成如表1所示’評價結果如表2 [例 20] 玻璃瓶容器（內容積6mL )中加入化 1 , 0 8 g、化合物（B 1 1 ) 0.5 6 g、化合物（C 1 ) 物（El) l.OOg,其次混合光聚合起始劑（D1 用0.2//m之PTFE製過濾器過濾得到光硬介 該組成物之組成如表1所示，評價結果如表2 [例 21]
玻璃瓶容器（內容積6mL )中加入化 1.32g、化合物（Bll) 〇_88g、化合物（C1) 物（E 1 ) 0 · 2 0 g、化合物（F 1 ) 0 _ 0 4 g，其次名 始劑（Dl) 0.16g，使用 〇_2#«1 之 PTFE 製 J 到光硬化性組成物。該組成物之組成如表1戶 果如表2所示。 [例 22] 合物（A1 ) 1.4 4 g、化合 )0_ 1 6g，使 二性組成物。 所示。 合物（A 1 ) 1.2〇g 、化合 )0 . 1 6 g，使 :性組成物。 所示。 合物（A2 ) 1.4 0 g、化合 :合光聚合起 i濾器過濾得 丨示，評價結 -47 - 200916488 玻璃瓶容器（內容積 6mL )中加入化合物（a2 ) 0.64g、化合物（Bll) 〇.40g、化合物（Cl) 〇.72g、化合 物（El) 0_26g、化合物（FI) 1.82g，其次混合光聚合起 始劑（D 1 ) 0 . 1 6 g，使用0.2 v m之P T F E製過濾器適濾得 到光硬化性組成物。該組成物之組成如表1所示，評價結 果如表2所示。 [例 2 3] 玻璃瓶容器（內容積 6mL )中加入化合物（A2 ) 1.20g、化合物（Bll) 0.20g、化合物（Cl) 1.24g、化合 物（El ) 0.80g、化合物（FI ) 0.40g、含氟界面活性劑（ G1 ) 〇.〇〇2g，其次混合光聚合起始劑（D1 ) 〇.16g，使用 〇·2 # m之PTFE製過濾器過濾得到光硬化性組成物。該組 成物之組成如表1所示，評價結果如表2所示。 [例 24] 玻璃瓶容器（內容積 6mL )中加入化合物（A2 ) lOSg、化合物（Bll) 0.88g、化合物（Cl) 1.08g、化合 物（El ) 0.68g、含氟界面活性劑（G1 ) 0.12g，其次混合 光聚合起始劑（Dl) 0.16g，使用0_2/zm之PTFE製過濾 器過濾得到光硬化性組成物。該組成物之組成如表1所示 ，評價結果如表2所示。 [例 25] -48- 200916488 玻璃瓶容器（內容積 6mL )中加入化合物（A2 ) l_28g、化合物（Bll) 0.80g、化合物（Cl) l_28g、化合 物（El ) 0.2 80g、含氟界面活性劑（G1 ) 〇.〇8g、含氟聚 合物（Hll) 0.12g，其次混合光聚合起始劑（Dl) 0.16g ，使用0.2 // m之PTFE製過濾器過濾得到光硬化性組成 物。該組成物之組成如表1所示，評價結果如表2所示。 [例 26] 玻璃瓶容器（內容積6mL )中加入化合物（A2 ) 0.96g、化合物（Bll) 〇.68g、化合物（Cl) l.OOg、化合 物（El) 0_20g、含氟界面活性劑（Gl) 〇.〇8g、含氟聚合 物（Hll) 0.84g，其次混合光聚合起始劑（Dl) 〇.24g， 使用0_2#m之PTFE製過濾器過濾得到光硬化性組成物 。該組成物之組成如表1所示，評價結果如表2所示。 -49 - 200916488
(A) + (B) + (C) + (D) 之100質量％中的質量％ (A) + (BH 對於100質量1 h(C) + (D 丨分中的質: ) 匱份 (A) (B) (C) (D) (E) (F) (G) (H) 例1 38. 0 22· 0 36. 0 4- 0 一 一 一 一 例2 38. 0 22. 0 36. 0 4. 0 一 一 一 — 例3 38. 0 22. 0 36. 0 4. 0 一 一 — - 例4 38. 0 22. 0 36. 0 4. 0 一 一 — 一 例6 38. 0 22. 0 36. 0 4. 0 — 一 — — 例6 36. 7 22. 2 36. 7 4. 4 11. T 一 — 一 例7 35. 7 23, 8 35. 7 4. 8 9. 5 9. 5 一 一 例8 35. 7 23· 8 35. 7 4. 8 8. 3 8. 3 2. 4 — 例9 35. 7 23. 8 35. 7 4. 8 8. 3 一 2. 4 8. 3 例10 35. 7 23. 8 35. 7 4. 8 8. 3 一 2. 4 8. 3 例11 7.0 39. 0 50. 0 4. 0 — — 一 - 例12 65. 0 16. 0 15. 0 4. 0 一 一 一 — 例13 45. 9 3. 0 47. 1 4. 0 一 — 一 — 例14 20, 0 55. 0 21. 0 40 一 — — 一 例15 49. 0 40. 0 7.0 4. 0 一 — - 一 例16 15. 0 6. 0 75_ 0 4. 0 — 一 - 一 例17 40. 0 24. 0 35. 5 0 5 - — 一 一 例18 35. 0 18, 0 32. 0 15. 0 一 — — 一 例19 36. 7 22. 4 36. 7 4. 1 2. 0 一 一 一 例20 36. 0 18. 7 40. 0 5. 3 33. 3 一 — — 例21 35. 1 23· 4 37. 2 4. 3 5. 3 1.1 - 一 例22 33. 3 20. 8 37. 5 8.3 13. 5 94. 8 一 一 例23 42. 8 7. 2 44. 3 5. 7 28. 6 14. 3 0. 071 - 例24 33. 8 27. 5 33. 8 5. 0 21. 3 — 3. 8 一 例25 36. 4 22. 7 36. 4 4. 5 8. 0 一 2. 3 3. 4 例26 33. 3 23. 6 34. 7 8. 3 6. 9 — 2.8 29. 2 -50- 200916488 [表2] 黏度 (mPa-s) 感度 (mJ/cm*) 體積 收ιΐ率 (%) 接觸角 (·) 鉛筆硬度 乾蝕刻耐性 (PMMA=1 時 的相對速度） 例1 80 441 9 78 Η 0. 5 例2 41 315 10 79 Η 0. 5 例3 32 315 9 85 Η 0· 6 例4 37 315 12 82 Η 0. 5 例5 35 315 10 79 Η 0. 6 例6 40 284 9 80 Η 0. 5 例7 66 284 9 60 2Η 0. 4 例8 62 284 9 97 2Η 0. 4 例9 109 284 8 93 Η 0· 5 例10 116 284 7 91 Η 0. 5 例11 22 567 13 79 4Β 0. 9 例12 76 252 11 77 — 一 例13 45 378 12 69 Η 0. 4 例14 一 一 一 一 一 一 例15 一 一 — 一 一 — 例16 15 1260 22 71 一 一 例17 45 未硬化 — 一 一 一 例18 — — 一 一 — — 例19 39 315 10 77 Η 0. 5 例20 37 252 13 76 F 0· 6 例21 40 284 Q 79 Η 0. 6 例22 215 284 14 78 4H 0. 3 例23 72 252 9 75 2H 0. 4 例24 35 315 9 91 F 0. 6 例25 82 284 9 97 Η 0. 5 例26 298 378 7 93 F 0. 6 -51 - 200916488 [例 27] 在25 °C下’將例2之光硬化性組成物之1滴垂滴於矽 晶圓上，得到該組成物均勻塗佈的矽晶圓。將表面具有寬 800nm、深180nm、長ΙΟ/zm之凹部的石英製模具緊壓於 矽晶圓上的光硬化性組成物，此狀態下以0 · 5 MP a (表壓 )壓製。 其次，在2 5 °C下，由模具側對光硬化性組成物照射高 壓水銀燈（1 .5〜2.0kHz下，於2 5 5、3 1 5及3 6 5 nm具有 主波長的光源）之光1 5秒，得到光硬化性組成物的硬化 物。在2 5 °C下，將模具自矽晶圓分離，得到在矽晶圓表面 形成表面具有模具之凹部反轉之凸部之硬化物的成形體。 由該凸部之底面至頂上面的高度爲178〜180nm。 [產業上之利用可能性] 本發明之製造方法製得之表面具有微細圖型之成形體 可作爲光學元件、防反射構件、生物晶片、超微小反應晶 片、記錄多媒體、觸媒載持體、生產用之複製品模具、光 阻等使用。 在此引用2007年6月20日申請之日本專利申請案第 2 00 7- 1 62466號之說明書、申請專利範圍、圖面及摘要之 全內容，揭示於本發明之說明書中。 【圖式簡單說明】 [圖1]係表不表面具有微細圖型之成形體之製造方法 -52- 200916488 之一例的剖面圖。 [圖2]係表示表面具有微細圖型之成形體之製造方法 之其他例的剖面圖。 [圖3 ]係表示表面具有微細圖型之成形體之一例的剖 面圖。 [圖4]係表示表面具有微細圖型之成形體之其他例的 剖面圖。 【主要元件符號說明】 1 〇 :模具 1 2 反轉圖型 2 〇 :光硬化性組成物 3 0 :基板 4 0 :成形體 4 2 :硬化物 44 :微細圖型 -53-

Claims (1)

  1. 200916488 十、申請專利範圍 1 ·—種光硬化性組成物，其特徵係含有：具有2個 環以上之芳香族化合物或具有2個環以上之脂環族化合物 ’且具有2個（甲基）丙烯醯氧基之化合物（a)， 具有氯原子’且具有1個以上之碳-碳不飽和雙鍵之 化合物（B )(但是化合物（a )除外）， 具有1個（甲基）丙烯醯氧基之化合物（C)(但是 化合物（B )除外）， (B )、化合物（C)及光聚合 質量％)中，化合物（A)爲 )爲5〜40質量％，化合物（ 合引發劑（D)爲1〜12質量 光聚合引發劑（D )， 化合物（A )、化合物 引發劑（D )之合計（1〇〇 15〜60質量％，化合物（B C)爲10〜55質量％，光聚 % 。 2 .如申請專利範廣| 實質上不含溶劑。 3 .如申請專利範_ 其係對於化合物（A )、 聚合引發劑（D )之合言十 份之具有2個（甲基） 第1項之光硬化性組成物，其中 胃1或2項之光硬化性組成物， 化合物（B )、化合物（C )及光 lG〇質量份，尙含有5〜30質量 胃烯醯氧基之化合物（E)(但是 化合物（A )及化合物（b )除外 4 . 如申g靑專利範慶|链· 1〜3項中任一項之光硬化性組 成物，其係對於化合物（A、 ，丨^/丨人仏， 、A)、化合物（B )、化合物（C )及光聚合引發劑（D) J之合計100質量份，尙含有5〜 • 54 - 200916488 90質量份之具有3個以上之（甲基）丙烯醯氧基的化合物 (F )(但是化合物（B )除外）。 5 ·如申請專利範圍第1〜4項中任一項之光硬化性組 成物，其係對於化合物（A )、化合物（B )、化合物（C )及光聚合引發劑（D )合計100質量份，尙含有0.1〜3 質量份之含氟界面活性劑（G )，且對於含氟界面活性劑 (G )總量之化合物（B )的量爲0.5〜100倍質量。 6. 如申請專利範圍第1〜5項中任一項之光硬化性組 成物，其係對於化合物（A )、化合物（B )、化合物（C )及光聚合引發劑（D )合計100質量份，尙含有5〜25 質量份之含氟聚合物（Η )，且對於含氟聚合物（Η )總 量之化合物（Β)的量爲0.5〜100倍質量。 7. 一種表面具有微細圖型之成形體的製造方法，其 係在表面具有微細圖型之成形體的製造方法，其特徵係含 有： 使申請專利範圍第1〜6項中任一項之光硬化性組成 物接觸於表面具有該微細圖型之反轉圖型之模具之具有該 反轉圖型表面的步驟， 在該光硬化性組成物接觸該模具表面的狀態下，將光 照射於該光硬化性組成物’使該光硬化性組成物硬化形成 硬化物的步驟， 將該硬化物自該模具分離，得到表面具有微細圖型之 成形體的步驟。 8. 一種表面具有微細圖型之成形體的製造方法，其 -55- 200916488 係在表面具有微細圖型之成形體的製造方法，其特徵係含 有： 將申請專利範圍第1〜6項中任一項之光硬化性組成 物配置於基板表面的步驟， 將表面具有該微細圖型之反轉圖型的模具按壓於該光 硬化性組成物，使該模具之反轉圖型接觸該光硬化性組成 物的步驟， 在該模具按壓於該光硬化性組成物的狀態下，將光照 射於該光硬化性組成物，使該光硬化性組成物硬化形成硬 化物的步驟， 將該模具或該基板及該模具自該硬化物分離，得到表 面具有微細圖型之成形體的步驟。 9. 一種表面具有微細圖型之成形體的製造方法，其 係在表面具有微細圖型之成形體的製造方法，其特徵係含 有： 使申請專利範圍第1〜6項中任一項之光硬化性組成 物配置於表面具有該微細圖型之反轉圖型之模具之具有該 反轉圖型表面的步驟， 將基板按壓於該光硬化性組成物的步驟， 在該基板按壓於該光硬化性組成物的狀態下，將光照 射於該光硬化性組成物，使該光硬化性組成物硬化形成硬 化物的步驟， 將該模具或該基板及該模具自該硬化物分離，得到表 面具有微細圖型之成形體的步驟。 -56- 200916488 ι〇· —種表面具有微細圖型之成形體的製造方法，其 係在表面具有微細圖型之成形體的製造方法，其特徵係含 有： 使基板與表面具有該微細圖型之反轉圖型的模具接近 或接觸，使該模具之反轉圖型位於該基板側的步驟， 將申請專利範圍第1〜6項中任一項之光硬化性組成 物塡充於該基板與該模具之間的步驟， 在該基板與該模具接近或接觸的狀態下，將光照射於 該光硬化性組成物，使該光硬化性組成物硬化形成硬化物 的步驟， 將該模具或該基板及該模具自該硬化物分離，得到表 面具有微細圖型之成形體的步驟。 -57-
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