JP5617632B2 - 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法に関する。

光学部材、記録メディア、半導体装置等の製造において微細パターンを短時間で形成する方法として、該微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドを、基板の表面に配置された光硬化性組成物に押しつけ、該光硬化性組成物に光を照射し、該光硬化性組成物を硬化させて、基板の表面に微細パターンを形成する方法（ナノインプリント法）が知られている（特許文献１、及び特許文献２参照）。

しかし、該方法においては、光硬化性組成物の硬化物がモールドに密着するため、硬化物とモールドとを分離しにくい。そのため、モールドの表面に離型剤を塗布する必要がある。しかし、離型剤自体の膜厚、離型剤の塗布ムラ等により、モールドの反転パターンを精密に転写することは困難となる。

離型性のよい硬化物を形成できる光硬化性組成物としては、下記のものが提案されている。
（１）含フッ素モノマーと、フッ素を含まないモノマーと、含フッ素界面活性剤または含フッ素ポリマーと、重合開始剤とを含む光硬化性組成物（特許文献３参照）。

ところで、光学部材（レンズアレイ、フォトニック結晶等。）の用途では、屈折率が１．５４以上であることが必要とされる場合がある。しかし、（１）の光硬化性組成物では、屈折率の低い含フッ素モノマーを含むため、高屈折率で、かつ離型性のよい硬化物を得ることは困難である。

米国特許第６６９６２２０号明細書 特開２００４−０７１９３４号公報 国際公開第２００６／１１４９５８号パンフレット

本発明は、離型性および高屈折率の両方を兼ね備えた硬化物を得ることができる光硬化性組成物、およびモールドの反転パターンが精密に転写された微細パターンを表面に有する、高屈折率の成形体を製造できる方法を提供する。

本発明の光硬化性組成物は、硬化前の波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５５以上の、ベンゼン環を２つ以上有する芳香族化合物であり、かつ（メタ）アクリロイルオキシ基を２つ以上有する化合物（Ａ）と、フッ素原子を有し、かつ炭素−炭素不飽和二重結合を１つ以上有する化合物（Ｂ）（ただし、化合物（Ａ）を除く。）と、（メタ）アクリロイルオキシ基を１つ有する化合物（Ｃ）（ただし、化合物（Ｂ）を除く。）と、光重合開始剤（Ｄ）とを含み、化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）、化合物（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）の合計（１００質量％）のうち、化合物（Ａ）が６１〜９０質量％であり、化合物（Ｂ）が２〜１５質量％であり、化合物（Ｃ）が５〜３５質量％であり、光重合開始剤（Ｄ）が１〜１２質量％であることを特徴とする。

本発明の光硬化性組成物は、上記の化合物（Ａ）〜（Ｃ）、および光重合開始剤（Ｄ）の他に、さらに含フッ素界面活性剤（Ｅ）を含んでいてもよい。
本発明の光硬化性組成物は、溶剤を含まないことが好ましい。
本発明の光硬化性組成物は、硬化後の波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５４以上であることが好ましい。

本発明の、表面に微細パターンを有する成形体の製造方法は、本発明の光硬化性組成物を、前記微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドの該反転パターンを有する表面に接触させる工程と、前記モールドの表面に前記光硬化性組成物を接触させた状態で、前記光硬化性組成物に光を照射し、前記光硬化性組成物を硬化させて硬化物とする工程と、前記硬化物から前記モールドを分離して、表面に微細パターンを有する成形体を得る工程とを有することを特徴とする。

本発明の、表面に微細パターンを有する成形体の製造方法は、本発明の光硬化性組成物を、基板の表面に配置する工程と、前記微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドを、該モールドの反転パターンが前記光硬化性組成物に接するように、前記光硬化性組成物に押しつける工程と、前記モールドを前記光硬化性組成物に押しつけた状態で、前記光硬化性組成物に光を照射し、前記光硬化性組成物を硬化させて硬化物とする工程と、前記硬化物から前記モールド、または前記基板および前記モールドを分離して、表面に微細パターンを有する成形体を得る工程とを有することを特徴とする。

本発明の、表面に微細パターンを有する成形体の製造方法は、本発明の光硬化性組成物を、前記微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドの該反転パターンを有する表面に配置する工程と、基板を、前記光硬化性組成物に押しつける工程と、前記基板を前記光硬化性組成物に押しつけた状態で、前記光硬化性組成物に光を照射し、前記光硬化性組成物を硬化させて硬化物とする工程と、前記硬化物から前記モールド、または前記基板および前記モールドを分離して、表面に微細パターンを有する成形体を得る工程とを有することを特徴とする。

本発明の、表面に微細パターンを有する成形体の製造方法は、基板と、前記微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドとを、該モールドの反転パターンが前記基板の側になるように接近または接触させる工程と、本発明の光硬化性組成物を、前記基板と前記モールドとの間に充填する工程と、前記基板と前記モールドとが接近または接触した状態で、前記光硬化性組成物に光を照射し、前記光硬化性組成物を硬化させて硬化物とする工程と、前記硬化物から前記モールド、または前記基板および前記モールドを分離して、表面に微細パターンを有する成形体を得る工程とを有することを特徴とする。
また、本発明の、表面に微細パターンを有する成形体の製造方法において、光硬化性組成物を硬化するために使用する光の波長は、２００〜５００ｎｍであることが好ましい。

本発明の光硬化性組成物によれば、離型性および高屈折率の両方を兼ね備えた硬化物を得ることができる。
本発明の、表面に微細パターンを有する成形体の製造方法によれば、モールドの反転パターンが精密に転写された微細パターンを表面に有する、高屈折率の成形体を製造できる。

表面に微細パターンを有する成形体の製造方法の一例を示す断面図である。 表面に微細パターンを有する成形体の製造方法の他の例を示す断面図である。 表面に微細パターンを有する成形体の一例を示す断面図である。 表面に微細パターンを有する成形体の他の例を示す断面図である。

本明細書においては、式（Ｂ１）で表される化合物を化合物（Ｂ１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。また、本明細書においては、（メタ）アクリロイルオキシ基は、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を意味する。また、本明細書においては、（メタ）アクリレートは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。

＜光硬化性組成物＞
本発明の光硬化性組成物は、化合物（Ａ）〜（Ｃ）、および光重合開始剤（Ｄ）を含み、必要に応じて含フッ素界面活性剤（Ｅ）および添加剤（Ｆ）を含む組成物である。
化合物（Ａ）：硬化前の波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５５以上の化合物であり、かつ（メタ）アクリロイルオキシ基を２つ以上有する化合物。
化合物（Ｂ）：フッ素原子を有し、かつ炭素−炭素不飽和二重結合を１つ以上有する化合物（ただし、化合物（Ａ）を除く。）。
化合物（Ｃ）：（メタ）アクリロイルオキシ基を１つ有する化合物（ただし、化合物（Ｂ）を除く。）。

本発明の光硬化性組成物の２５℃における粘度は、２００〜１０００ｍＰａ・ｓが好ましく、３００〜６００ｍＰａ・ｓがより好ましい。光硬化性組成物の粘度が該範囲であれば、特別な操作（たとえば、光硬化性組成物を高温に加熱して低粘度にする操作等。）を行うことなく、光硬化性組成物と、モールドの反転パターンを有する表面との接触を容易に行える。

本発明の光硬化性組成物は、実質的に溶剤を含まないことが好ましい。光硬化性組成物が実質的に溶剤を含まなければ、光の照射を除く特別な操作（たとえば、光硬化性組成物を高温に加熱して溶媒を除去する操作等。）を行うことなく、光硬化性組成物の硬化を容易に行える。
溶剤とは、化合物（Ａ）〜（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、含フッ素界面活性剤（Ｅ）、および添加剤（Ｆ）のいずれかを溶解させる能力を有する化合物である。
実質的に溶剤を含まないとは、溶剤を全く含まない、または光硬化性組成物を調製する際に用いた溶剤を残存溶剤として含んでいてもよいことを意味する。ただし、残存溶剤は、極力除去されていることが好ましく、光硬化性組成物（１００質量％）中、１０質量％以下がより好ましい。

本発明の光硬化性組成物の感度は、厚さ約１．５μｍの光硬化性組成物に、高圧水銀灯（１．５〜２．０ｋＨｚにおいて２５４ｎｍ、３１５ｎｍ、および３６５ｎｍに主波長を有する光源。）からの光を照射し、光硬化性組成物が完全に硬化するまでの積算光量で表すことができる。該積算光量は、１０００ｍＪ／ｃｍ^２以下が好ましく、１５０ｍＪ／ｃｍ^２〜７５０ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。該積算光量が１０００ｍＪ／ｃｍ^２を超えると、光硬化性組成物を硬化させるのに２０秒以上時間を要してしまい生産効率が落ちてしまう。

本発明の光硬化性組成物は、硬化後の波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５４以上であることが好ましく、１．５４〜１．６２であることがより好ましい。該屈折率が１．５４未満では、大幅に焦点距離を縮めることができないことからマイクロレンズアレイ等の光学素子の大きさを小さくできない。
硬化後の光硬化性組成物の波長５８９ｎｍにおける屈折率は、アッベ屈折率計を用い２３℃にて測定する。

本発明の光硬化性組成物の硬化後の水に対する接触角は、硬化物の離型性の目安となる。該接触角は、７５度以上が好ましく、８０〜１１６度がより好ましい。該接触角が７５度未満では、離型しにくくなり、モールドに光硬化性組成物が付着してしまい、モールドを破損するおそれがある。該接触角はＪＩＳ Ｒ３２５７に則って測定する。

（化合物（Ａ））
化合物（Ａ）は、硬化前の波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５５以上の化合物であり、かつ（メタ）アクリロイルオキシ基を２つ以上有する化合物である。
硬化前の化合物（Ａ）の波長５８９ｎｍにおける屈折率は、１．５５以上であり、１．５５〜１．６３が好ましい。該屈折率が１．５５未満では、波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５４以上の光硬化性組成物の硬化物を得ることができない。
硬化前の化合物（Ａ）の波長５８９ｎｍにおける屈折率は、アッベ屈折率計を用い２３℃にて測定する。

化合物（Ａ）は液体であることが好ましく、化合物（Ａ）の２５℃における粘度は、１０Ｐａ・Ｓ以下が好ましく、１Ｐａ・Ｓ以下が特に好ましい。粘度が１０Ｐａ・Ｓ超であると、化合物（Ｂ）および化合物（Ｃ）と均一に混合できなくなるおそれがあり、透明性が低下し、光学用途に用いることができなくなるおそれがある。なお、本明細書では、標準液（ＪＳ５０（２５℃で３３．１７ｍＰａ・Ｓ））で校正済みの粘度計（東機産業社製、ＴＶ−２０）を用いて測定することが好ましい。

化合物（Ａ）としては、ベンゼン環を２つ以上有する芳香族化合物であり、かつ（メタ）アクリロイルオキシ基を２つ以上有する化合物が挙げられる。２つ以上のベンゼン環は、縮合環（ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環等。）を形成していてもよい。
ベンゼン環を２つ以上有する芳香族化合物としては、下式（Ａ１）〜（Ａ７）で表される、ビスフェノール骨格を有する化合物、ナフタレン骨格を有する化合物、アントラセン骨格を有する化合物、フルオレン骨格を有する化合物等が挙げられる。

ただし、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^０は、炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ^７は、炭素数１〜５のアルキル基、（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｐまたは（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｑを表し、ｐは、１〜４の整数を表し、ｑは、１〜４の整数を表す。

化合物（Ａ）としては、屈折率が高い点および相溶性の点から、フルオレン骨格を有する化合物が特に好ましい。
フルオレン骨格を有する化合物としては、式（Ａ５）〜（Ａ７）で表されるフルオレン骨格のジ（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。フルオレン骨格を有する化合物の市販品としては、オグソールＥＡ−Ｆ５００３（大阪ガスケミカル社製）、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ（新中村化学工業社製）等が挙げられる。

化合物（Ａ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
化合物（Ａ）の含有量は、化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）、化合物（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）の合計（１００質量％）のうち６１〜９０質量％であり、６３〜８０質量％が好ましい。化合物（Ａ）の含有量が６１質量％以上であれば、波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５４以上の光硬化性組成物の硬化物を得ることができる。化合物（Ａ）の含有量が９０質量％以下であれば、硬化物が層分離することはない。

（化合物（Ｂ））
化合物（Ｂ）は、フッ素原子を有し、かつ炭素−炭素不飽和二重結合を１つ以上有する化合物（ただし、化合物（Ａ）を除く。）である。
化合物（Ｂ）としては、フルオロ（メタ）アクリレート類、フルオロジエン類、フルオロビニルエーテル類、フルオロ環状モノマー類等が挙げられ、相溶性の点から、フルオロ（メタ）アクリレート類が好ましい。
本発明の光硬化性組成物中に化合物（Ｂ）が含まれることで、モールドと硬化した該光硬化性組成物とを分離する際の離型を容易に行うことができる。

化合物（Ｂ）の２５℃における粘度は、３００ｍＰａ・Ｓ以下が好ましく、１５０ｍＰａ・Ｓ以下が特に好ましい。粘度が３００ｍＰａ・Ｓ超であると、化合物（Ａ）および化合物（Ｃ）と均一に混合できなくなるおそれがあり、透明性が低下し、光学用途に用いることができなくなるおそれがある。

フルオロ（メタ）アクリレート類としては、化合物（Ｂ１）が好ましい。

ただし、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を示し、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、フッ素原子、または炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基を示し、Ｒ^６は、水素原子またはフッ素原子示し、ｍは、１〜４の整数を示し、ｎは、１〜１６の整数を示す。ｎは、相溶性の点から、１〜１０の整数が好ましい。ｍは、１〜２の整数が好ましい。

フルオロ（メタ）アクリレート類としては、下記の化合物を好ましく使用することができる。
３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル（メタ）アクリレート、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_３、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_３ＣＦ_３、
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_３、
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_３ＣＦ_３、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２）_３Ｆ、 ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ）_２（ＣＦ_２）_３Ｆ、
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２）_３Ｆ、
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_２ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ）_２（ＣＦ_２）_３Ｆ、
ＣＨ_２＝ＣＦＣＯＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２（ＣＦ_２）_６ＣＦ（ＣＦ_３）_２、
ＣＨ_２＝ＣＦＣＯＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２（ＣＦ_２）_６ＣＦ（ＣＦ_３）_２、 ＣＨ_２＝ＣＦＣＯＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２（ＣＦ_２）_１０Ｆ、
ＣＨ_２＝ＣＦＣＯＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２（ＣＦ_２）_１０Ｆ、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２（ただし、ｎは４〜２０の整数を示す。）等。

フルオロ（メタ）アクリレート類としては、相溶性および環境特性の点から、下記の化合物が特に好ましい。
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ_２）_２（ＣＦ_２）_１０Ｆ、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ_２）_２（ＣＦ_２）_８Ｆ、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ_２）_２（ＣＦ_２）_６Ｆ、
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯ（ＣＨ_２）_２（ＣＦ_２）_１０Ｆ、
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯ（ＣＨ_２）_２（ＣＦ_２）_８Ｆ、
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯ（ＣＨ_２）_２（ＣＦ_２）_６Ｆ、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２）_６Ｆ、
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２）_６Ｆ、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２）_７Ｆ、
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２）_７Ｆ、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２ＣＦ_２）_２Ｈ、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２ＣＦ_２）_４Ｈ、
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２ＣＦ_２）Ｈ、
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２ＣＦ_２）_２Ｈ、
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２ＣＦ_２）_４Ｈ。

フルオロジエン類としては、化合物（Ｂ２）が好ましい。

ただし、Ｒ^８およびＲ^９は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜３のアルキル基、または炭素数１〜３のフルオロアルキル基を示し、Ｑは、酸素原子、−ＮＲ^１０−（Ｒ^１０は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、アルキルカルボニル基またはトシル基を示す。）で表される基、または官能基を有していてもよい２価有機基（−ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_３ＰＯ（ＯＣ₂Ｈ₅）_２）ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ）ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ）−、−ＣＨ_２ＣＨ（Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ）ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ）ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＳＯ_２Ｆ）ＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_３）ＣＨ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＦ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＳＯ_２Ｆ）ＣＨ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＦ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＮＨ_２）ＣＨ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_３ＣＮ）−、−ＯＣＦ_２ＣＦ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＮＨ_２）ＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＨ）−、−ＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＨ）ＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＨ）−、−ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_３ＯＣ_２Ｈ_５）ＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＣＨ_２ＯＣＨ_３）ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ）ＣＨ_２−、または−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ）−等。）を示す。

フルオロジエン類としては、相溶性および環境特性の点から、下記の化合物が特に好ましい。
ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＨ）ＣＨ＝ＣＨ_２、
ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＨ）ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２、
ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_３）ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２、
ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＣＨ_２ＯＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２。

化合物（Ｂ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
化合物（Ｂ）の含有量は、化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）、化合物（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）の合計（１００質量％）のうち、２〜１５質量％であり、４〜１０質量％が好ましい。化合物（Ｂ）の含有量が２質量％以上であれば、離型性に優れる硬化物を得ることができ、さらに光硬化性組成物の泡立ちが抑えられる。光硬化性組成物の泡立ちを抑制できることから、調製時にろ過がしやすくなり、さらにナノインプリントする時に泡の混入によるパターン形状の欠陥をなくすことができる。化合物（Ｂ）の含有量が１５質量％以下であれば、均一に混合することができることから機械的強度の優れた硬化物を得ることができ、さらに光硬化性組成物の硬化物の波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５４未満に低下するのを抑えることもできる。

（化合物（Ｃ））
化合物（Ｃ）は、（メタ）アクリロイルオキシ基を１つ有する化合物（ただし、化合物（Ｂ）を除く。）である。
化合物（Ｃ）は、他の成分を溶解させる成分であり、かつ化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）との相溶性を向上させる成分である。化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）との相溶性が良好であれば、光硬化性組成物の調製時の泡立ちが抑えられ、フィルターを通しやすくなる等、光硬化性組成物の調製が容易となり、また、均一な光硬化性組成物が得られる。さらに、均質な硬化物が得られることによって、離型性、機械的強度が充分に発揮できる。

化合物（Ｃ）の２５℃における粘度は、３００ｍＰａ・Ｓ以下が好ましく、１５０ｍＰａ・Ｓ以下が特に好ましい。粘度が３００ｍＰａ・Ｓ超であると、化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）と均一に混合できなくなるおそれがあり、透明性が低下し、光学用途に用いることができなくなるおそれがある。

化合物（Ｃ）としては、下記の化合物が挙げられる。
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシピロピル（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ベヘニル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート、９−アントラセニル（メタ）アクリレート、フルオレセイン ｏ−（メタ）アクリレート、２−（９Ｈ−カルバゾールー９−イル）エチル（メタ）アクリレート、ジルコニウム（メタ）アクリレート、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、（２−（ｔｅｒｔブチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールグルシジルエーテル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル化ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート等。

化合物（Ｃ）としては、相溶性の点から、芳香環を有する（メタ）アクリレート（フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシピロピル（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸等。）、またはアダマンタン骨格を有する（メタ）アクリレート（２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート等。）が好ましい。

化合物（Ｃ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
化合物（Ｃ）の含有量は、化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）、化合物（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）の合計（１００質量％）のうち、５〜３５質量％であり、１０〜３０質量％が好ましい。化合物（Ｃ）の含有量が５質量％以上であれば、化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）との相溶性が良好となる。化合物（Ｃ）の含有量が３５質量％以下であれば、波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５４以上の光硬化性組成物の硬化物を得ることができる。

（光重合開始剤（Ｄ））
光重合開始剤（Ｄ）としては、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、α−アミノケトン系光重合開始剤、α−ヒドロキシケトン系光重合開始剤、α−アシルオキシムエステル、ベンジル−（ｏ−エトキシカルボニル）−α−モノオキシム、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステル、３−ケトクマリン、２−エチルアンスラキノン、カンファーキノン、テトラメチルチウラムスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、ジアルキルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート等が挙げられる。なかでも、感度および相溶性の点から、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、α−アミノケトン系光重合開始剤またはベンゾフェノン系光重合開始剤が好ましい。

アセトフェノン系光重合開始剤としては、下記の化合物が挙げられる。
アセトフェノン、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチル）１’，１’，１’−トリクロロアセトフェノン、クロロアセトフェノン、２’，２’−ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２’−フェニルアセトフェノン、２−アミノアセトフェノン、ジアルキルアミノアセトフェノン等。

ベンゾイン系光重合開始剤としては、下記の化合物が挙げられる。
ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール等。

α−アミノケトン系光重合開始剤としては、下記の化合物が挙げられる。
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン等。

ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、下記の化合物が挙げられる。
ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシプロピルベンゾフェノン、アクリルベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン等。

光重合開始剤（Ｄ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
光重合開始剤（Ｄ）の含有量は、化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）、化合物（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）の合計（１００質量％）のうち、１〜１２質量％であり、３〜１０質量％が好ましい。光重合開始剤（Ｄ）の含有量が１質量％以上であれば、加熱等の操作を行うことなく、容易に硬化物を得ることができる。光重合開始剤（Ｄ）の含有量が１２質量％以下であれば、均一に混合することができることから、硬化物に残存する光重合開始剤（Ｄ）が少なくなり、硬化物の物性の低下が抑えられる。

（含フッ素界面活性剤（Ｅ））
光硬化性組成物は、化合物（Ａ）〜（Ｃ）、および光重合開始剤（Ｄ）の他に、さらに含フッ素界面活性剤（Ｅ）を含んでいてもよい。
含フッ素界面活性剤（Ｅ）は、硬化物の離型性を向上させる成分である。
含フッ素界面活性剤（Ｅ）としては、含フッ素界面活性剤（Ｅ）の全元素中（１００質量％）、フッ素含有量が１０〜７０質量％の含フッ素界面活性剤が好ましく、フッ素含有量が１０〜４０質量％の含フッ素界面活性剤がより好ましい。含フッ素界面活性剤は、水溶性であってもよく、脂溶性であってもよく、光硬化性組成物における相溶性および硬化物における分散性の点から、脂溶性が好ましい。

含フッ素界面活性剤（Ｅ）としては、アニオン性含フッ素界面活性剤、カチオン性含フッ素界面活性剤、両性含フッ素界面活性剤、またはノニオン性含フッ素界面活性剤が好ましく、光硬化性組成物における相溶性、および硬化物における分散性の点から、ノニオン性含フッ素界面活性剤がより好ましい。

アニオン性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルカルボン酸塩、ポリフルオロアルキル燐酸エステル、またはポリフルオロアルキルスルホン酸塩が好ましい。
アニオン性含フッ素界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１１１（商品名、ＡＧＣセイミケミカル社製）、フロラードＦＣ−１４３（商品名、住友スリーエム社製）、メガファックＦ−１２０（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。

カチオン性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルカルボン酸のトリメチルアンモニウム塩、またはポリフルオロアルキルスルホン酸アミドのトリメチルアンモニウム塩が好ましい。
カチオン性含フッ素界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１２１（商品名、ＡＧＣセイミケミカル社製）、フロラードＦＣ−１３４（商品名、住友スリーエム社製）、メガファックＦ−１５０（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。

両性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルベタインが好ましい。
両性含フッ素界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１３２（商品名、ＡＧＣセイミケミカル社製）、フロラードＦＸ−１７２（商品名、住友スリーエム社製）、メガファックＦ−１２０（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。

ノニオン性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルアミンオキサイド、またはポリフルオロアルキル・アルキレンオキサイド付加物が好ましい。
ノニオン性含フッ素界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１４５（商品名、ＡＧＣセイミケミカル社製）、サーフロンＳ−３９３（商品名、ＡＧＣセイミケミカル社製）、サーフロンＫＨ−２０（商品名、ＡＧＣセイミケミカル社製）、サーフロンＫＨ−４０（商品名、ＡＧＣセイミケミカル社製）、フロラードＦＣ−１７０（商品名、住友スリーエム社製）、フロラードＦＣ−４３０（商品名、住友スリーエム社製）、メガファックＦ−１４１（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。

含フッ素界面活性剤（Ｅ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
含フッ素界面活性剤（Ｅ）の含有量は、化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）、化合物（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）の合計１００質量部に対して０．０１〜３質量部が好ましく、０．１〜１質量部がより好ましい。含フッ素界面活性剤（Ｅ）の含有量が０．０１質量部以上であれば、離型性が向上する。含フッ素界面活性剤（Ｅ）の含有量が３質量部以下であれば、光硬化性組成物の硬化の阻害が抑えられ、また、硬化物の相分離が抑えられる。

（添加剤（Ｆ））
光硬化性組成物は、化合物（Ａ）〜（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、含フッ素界面活性剤（Ｅ）を除く、他の添加剤（Ｆ）を含んでいてもよい。
添加剤（Ｆ）としては、炭素−炭素不飽和二重結合を有する化合物（ただし、化合物（Ａ）〜（Ｃ）を除く。）、光増感剤、ポリマー、金属酸化物微粒子、炭素化合物、金属微粒子、他の有機化合物等が挙げられる。

光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、アリルチオ尿素、ｓ−ベンジスイソチウロニウム−ｐ−トルエンスルフィネート、トリエチルアミン、ジエチルアミノエチルメタクリレート、トリエチレンテトラミン、４，４’−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン等のアミン化合物が挙げられる。

ポリマーとしては、含フッ素ポリマー、ポリスチレン、ポリチオフェン、ポリエステルオリゴマー、ポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
金属酸化物微粒子としては、チタニア、シリカ被覆チタニア、ジルコニア、酸化亜鉛、シリカ、アルミナ、酸化鉄等が挙げられる。
炭素化合物としては、カーボンナノチューブ、フラーレン、ダイヤモンド、ＤＬＣ等が挙げられる。
金属微粒子としては、銅、白金等が挙げられる。
他の有機化合物としては、ポルフィリン、金属内包ポリフィリン等が挙げられる。

添加剤（Ｆ）の総量は、光硬化性組成物（１００質量％）中、２０質量％以下が好ましい。添加剤（Ｆ）の総量が２０質量％以下であれば、光硬化性組成物の均一に混合でき、均質な光硬化性組成物が得られる。

以上説明した本発明の光硬化性組成物にあっては、化合物（Ａ）を含んでいるため、波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５４以上の光硬化性組成物の硬化物を得ることができる。また、化合物（Ｂ）を含んでいるため、離型性に優れる硬化物を得ることができる。
さらに、化合物（Ｃ）を含んでいるため、化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）との相溶性にすぐれ、その結果、硬化物の離型性および機械的強度がさらに向上する。

＜表面に微細パターンを有する成形体の製造方法＞
本発明の、表面に微細パターンを有する成形体の製造方法は、下記の（１）〜（３）の工程を有する。
（１）本発明の光硬化性組成物を、微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドの該反転パターンを有する表面に接触させる工程。
（２）モールドの表面に光硬化性組成物を接触させた状態で、光硬化性組成物に光を照射し、光硬化性組成物を硬化させて硬化物とする工程。
（３）硬化物からモールドを分離して、表面に微細パターンを有する成形体を得る工程。

本発明の、表面に微細パターンを有する成形体の製造方法としては、より具体的には、下記の（ａ）〜（ｃ）の方法が挙げられる。

（ａ）の方法：
下記の工程（ａ−１）〜（ａ−４）を有する方法。
（ａ−１）図１に示すように、光硬化性組成物２０を基板３０の表面に配置する工程。
（ａ−２）図１に示すように、モールド１０を、該モールド１０の反転パターン１２が光硬化性組成物２０に接するように、光硬化性組成物２０に押しつける工程。
（ａ−３）モールド１０を光硬化性組成物２０に押しつけた状態で、光硬化性組成物２０に光を照射し、光硬化性組成物２０を硬化させて硬化物とする工程。
（ａ−４）硬化物からモールド１０、または基板３０およびモールド１０を分離して、表面に微細パターンを有する成形体を得る工程。

（ｂ）の方法：
下記の工程（ｂ−１）〜（ｂ−４）を有する方法。
（ｂ−１）図２に示すように、光硬化性組成物２０をモールド１０の反転パターン１２の表面に配置する工程。
（ｂ−２）図２に示すように、基板３０をモールド１０の表面の光硬化性組成物２０に押しつける工程。
（ｂ−３）基板３０を光硬化性組成物２０に押しつけた状態で、光硬化性組成物２０に光を照射し、光硬化性組成物２０を硬化させて硬化物とする工程。
（ｂ−４）硬化物からモールド１０、または基板３０およびモールド１０を分離して、表面に微細パターンを有する成形体を得る工程。

（ｃ）の方法：
下記の工程（ｃ−１）〜（ｃ−４）を有する方法。
（ｃ−１）図１に示すように、基板３０とモールド１０とを、モールド１０の反転パターン１２が基板３０側になるように接近または接触させる工程。
（ｃ−２）図１に示すように、光硬化性組成物２０を基板３０とモールド１０との間に充填する工程。
（ｃ−３）基板３０とモールド１０とが接近または接触した状態で、光硬化性組成物２０に光を照射し、光硬化性組成物２０を硬化させて硬化物とする工程。
（ｃ−４）硬化物からモールド１０、または基板３０およびモールド１０を分離して、表面に微細パターンを有する成形体を得る工程。

基板としては、無機材料製基板または有機材料製基板が挙げられる。
無機材料製基板としては、シリコンウェハ、ガラス、石英ガラス、金属（アルミニウム、ニッケル、銅等。）、金属酸化物（アルミナ等。）、窒化珪素、窒化アルミニウム、ニオブ酸リチウム等が挙げられる。
有機材料製基板としては、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート等。）、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、ナイロン樹脂、ポリフェニレンサルファイド、環状ポリオレフィン等が挙げられる。

基板としては、光硬化性組成物との密着性に優れる点から、表面処理された基板を用いてもよい。表面処理としては、プライマー塗布処理、オゾン処理、プラズマエッチング処理等が挙げられる。プライマー塗布処理に使用されるプライマーとしては、シランカップリング剤、シラザン等が挙げられる。

モールドとしては、非透光材料製モールドまたは透光材料製モールドが挙げられる。
モールド用の非透光材料としては、シリコンウェハ、ニッケル、銅、ステンレス、チタン、ＳｉＣ、マイカ等が挙げられる。
モールド用の透光材料としては、石英、ガラス、ポリジメチルシロキサン、環状ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、透明フッ素樹脂等が挙げられる。

基板およびモールドのうち少なくとも一方は、光重合開始剤（Ｄ）が作用する波長の光を４０％以上透過する材料とする。

モールドは、表面に反転パターンを有する。反転パターンは、成形体の表面の微細パターンに対応した反転パターンである。

反転パターンは、微細な凸部および／または凹部を有する。
凸部としては、モールドの表面に延在する長尺の凸条、表面に点在する突起等が挙げられる。
凹部としては、モールドの表面に延在する長尺の溝、表面に点在する孔等が挙げられる。

凸条または溝の形状としては、直線、曲線、折れ曲がり形状等が挙げられる。凸条または溝は、複数が平行に存在して縞状をなしていてもよい。
凸条または溝の、長手方向に直交する方向の断面形状としては、長方形、台形、三角形、半円形等が挙げられる。
突起または孔の形状としては、三角柱、四角柱、六角柱、円柱、三角錐、四角錐、六角錐、円錐、半球、多面体等が挙げられる。

凸条または溝の幅は、平均で５０ｎｍ〜５００μｍが好ましく、７０ｎｍ〜３００μｍがより好ましい。凸条の幅とは、長手方向に直交する方向の断面における底辺の長さを意味する。溝の幅とは、長手方向に直交する方向の断面における上辺の長さを意味する。
突起または孔の幅は、平均で５０ｎｍ〜５００μｍが好ましく、７０ｎｍ〜３００μｍがより好ましい。突起の幅とは、底面が細長い場合、長手方向に直交する方向の断面における底辺の長さを意味し、そうでない場合、突起の底面における最大長さを意味する。孔の幅とは、開口部が細長い場合、長手方向に直交する方向の断面における上辺の長さを意味し、そうでない場合、孔の開口部における最大長さを意味する。

凸部の高さは、平均で５０ｎｍ〜５００μｍが好ましく、７０ｎｍ〜３００μｍがより好ましい。
凹部の深さは、平均で５０ｎｍ〜５００μｍが好ましく、７０ｎｍ〜３００μｍがより好ましい。

反転パターンが密集している領域において、隣接する凸部（または凹部）間の間隔は、平均で５０ｎｍ〜５００μｍが好ましく、７０ｎｍ〜３００μｍがより好ましい。隣接する凸部間の間隔とは、凸部の断面の底辺の終端から、隣接する凸部の断面の底辺の始端までの距離を意味する。隣接する凹部間の間隔とは、凹部の断面の上辺の終端から、隣接する凹部の断面の上辺の始端までの距離を意味する。

凸部の最小寸法は、５０ｎｍ〜５００μｍが好ましく、７０ｎｍ〜３００μｍがより好ましく、７０ｎｍ〜１５０μｍが特に好ましい。凸部の最小寸法とは、凸部の幅、長さおよび高さのうち最小の寸法を意味する。
凹部の最小寸法は、５０ｎｍ〜５００μｍが好ましく、７０ｎｍ〜３００μｍがより好ましく、７０ｎｍ〜１５０μｍが特に好ましい。凹部の最小寸法とは、凹部の幅、長さおよび深さのうち最小の寸法を意味する。

工程（ａ−１）：
光硬化性組成物の配置方法としては、インクジェット法、ポッティング法、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、ダイコート法、ラングミュラープロジェット法、真空蒸着法等が挙げられる。
光硬化性組成物は、基板の全面に配置してもよく、基板の表面の一部に配置してもよい。

工程（ａ−２）：
モールドを光硬化性組成物に押しつける際のプレス圧力（ゲージ圧）は、０超〜１０ＭＰａ以下が好ましく、０．１ＭＰａ〜５ＭＰａがより好ましい。モールドを光硬化性組成物に押しつける際の温度は、０〜１００℃が好ましく、１０〜６０℃がより好ましい。

工程（ｂ−１）：
光硬化性組成物の配置方法としては、インクジェット法、ポッティング法、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、ダイコート法、ラングミュラープロジェット法、真空蒸着法等が挙げられる。
光硬化性組成物は、モールドの反転パターンの全面に配置してもよく、反転パターンの一部に配置してもよく、反転パターンの全面に配置することが好ましい。

工程（ｂ−２）：
基板を光硬化性組成物に押しつける際のプレス圧力（ゲージ圧）は、０超〜１０ＭＰａ以下が好ましく、０．１ＭＰａ〜５ＭＰａがより好ましい。基板を光硬化性組成物に押しつける際の温度は、０〜１００℃が好ましく、１０〜６０℃がより好ましい。

工程（ｃ−２）：
光硬化性組成物を基板とモールドとの間に充填する方法としては、毛細管現象により空隙に光硬化性組成物を吸引する方法が挙げられる。
光硬化性組成物を充填する際の温度は、０〜１００℃が好ましく、１０〜６０℃がより好ましい。

工程（ａ−３）、（ｂ−３）、および（ｃ−３）：
光を照射する方法としては、透光材料製モールドを用い該モールド側から光照射する方法、透光材料製基板を用い該基板側から光照射する方法などが挙げられる。光の波長は、２００〜５００ｎｍが好ましく、２５０〜４００ｎｍがより好ましい。光を照射する際には、光硬化性組成物を加熱して硬化を促進してもよい。
光を照射する際の温度は、０〜１００℃が好ましく、１０〜６０℃がより好ましい。

工程（ａ−４）、（ｂ−４）、および（ｃ−４）：
硬化物からモールド、または基板およびモールドを分離する際の温度は、０〜１００℃が好ましく、１０〜６０℃がより好ましい。

硬化物から基板およびモールドを分離した場合、図３に示すような、モールドの反転パターンが転写された表面を有する硬化物４２のみからなる、表面に微細パターン４４を有する成形体４０が得られる。
硬化物からモールドのみを分離した場合、図４に示すような、モールドの反転パターンが転写された表面を有する硬化物４２と基板３０とからなる、表面に微細パターン４４を有する成形体４０（積層体）が得られる。

表面に微細パターンを有する成形体としては、下記の物品が挙げられる。
光学素子：マイクロレンズアレイ、光導波路素子、光スイッチング素子（グリッド偏光素子、波長板等。）、フレネルゾーンプレート素子、バイナリー素子、ブレーズ素子、フォトニック結晶等。
反射防止部材：ＡＲ（Ａｎｔｉ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）コート部材等。
チップ類：バイオチップ、μ−ＴＡＳ（Ｍｉｃｒｏ−Ｔｏｔａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ Ｓｙｓｔｅｍｓ）用のチップ、マイクロリアクターチップ等。
その他：記録メディア、ディスプレイ材料、触媒の担持体、フィルター、センサー部材、半導体装置の製造に用いられるレジスト、ナノインプリント用のドーターモールド等。
レジストとして用いる場合、該微細パターンを有する成形体をマスクとして基板をエッチングすることで、基板に微細パターンを形成できる。

以上説明した本発明の、表面に微細パターンを有する成形体の製造方法にあっては、離型性および高屈折率の両方を兼ね備えた硬化物を得ることができる本発明の光硬化性組成物を用いているため、モールドの反転パターンが精密に転写された微細パターンを表面に有する、高屈折率の成形体を製造できる。

以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
例１〜６、１５、および１６は実施例であり、例７〜１４は比較例である。

（屈折率）
光硬化性組成物の屈折率は、下記のようにして求めた。
光硬化性組成物に高圧水銀灯（１．５〜２．０ｋＨｚにおいて２５４ｎｍ、３１５ｎｍ、および３６５ｎｍに主波長を有する光源。）からの光を１５秒間照射し、硬化物を得た。
該硬化物について、アッベ屈折率測定装置（ＡＴＡＧＯ社製、２Ｔ型）を用いて２３℃にて波長５８９ｎｍにおける屈折率を測定した。

（感度）
光硬化性組成物の感度は、下記のようにして求めた。
光硬化性組成物をスピンコート法にて厚さ約１．５μｍになるように塗膜し、そこに高圧水銀灯（１．５〜２．０ｋＨｚにおいて２５４ｎｍ、３１５ｎｍ、および３６５ｎｍに主波長を有する光源。）からの光を照射し、完全に硬化するまでの積算光量を求め、感度とした。
光硬化性組成物が完全に硬化したかどうかは、ＩＲスペクトルを測定し、アクリル部分のオレフィンの吸収の有無により判断した。積算光量が１０００ｍＪ／ｃｍ^２以下の値の時に、感度は良好であると判断した。

（粘度）
光硬化性組成物の２５℃における粘度は、標準液（ＪＳ５０（２５℃で３３．１７ｍＰａ・Ｓ））で校正済みの粘度計（東機産業社製、ＴＶ−２０）を用いて測定した。

（接触角）
硬化物の水に対する接触角は、下記のようにして測定した。
光硬化性組成物に高圧水銀灯（１．５〜２．０ｋＨｚにおいて２５４ｎｍ、３１５ｎｍ、および３６５ｎｍに主波長を有する光源。）からの光を１５秒間照射し、硬化物を得た。
該硬化物について、接触角計（協和界面科学社製、ＣＡ−Ｘ１５０型）を用い、ＪＩＳＲ３２５７に則り４μＬの水を硬化物の表面に着滴させて測定した。
水に対する接触角は、硬化物の離型性の目安となる。接触角が７５度以上の時に、離型性は良好であると判断した。

（化合物（Ａ））
化合物（Ａ７１）：大阪ガスケミカル社製、商品名：オグソールＥＡ−Ｆ５００３、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンエチレンオキサイド変性ジアクリレート、波長５８９ｎｍにおける屈折率：１．５８３。

（化合物（Ｂ））
化合物（Ｂ１１）：アルドリッチ社製、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルアクリレート。
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２（ＣＦ_２）_６Ｆ ・・・（Ｂ１１）

化合物（Ｂ２１）：１，１，２，３，３−ペンタフルオロ−４−トリフルオロメチル−４−ヒドロキシ−１，６−ヘプタジエン。
ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＨ）ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ ・・・（Ｂ２１）

（合成例）
化合物（Ｂ２１）の合成：
２Ｌのガラス製反応器にＣＦ_２ＣｌＣＦＣｌＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＦ_３の１０８ｇおよび脱水テトラヒドロフランの５００ｍＬを入れ、０℃に冷却した。これに、窒素雰囲気下で、２ＭのＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２ＭｇＣｌのテトラヒドロフラン溶液の２００ｍＬをさらに２００ｍＬの脱水テトラヒドロフランで希釈したものを、約５．５時間かけて滴下した。滴下終了後、０℃で３０分撹拌し、室温で１７時間撹拌した後、２Ｎ塩酸の２００ｍＬを滴下した。さらに、水の２００ｍＬおよびジエチルエーテルの３００ｍＬを加え、分液し、ジエチルエーテル層を有機層として得た。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過し、粗液を得た。粗液をエバポレーターで濃縮し、ついで減圧蒸留して、８５ｇのＣＦ_２ＣｌＣＦＣｌＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＨ）ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２（留出温度；６０〜６６℃／０．７ｋＰａ）を得た。

ついで、５００ｍＬのガラス製反応器に亜鉛の８１ｇおよびジオキサンの１７０ｍＬを入れ、ヨウ素で亜鉛の活性化を行った。その後、１００℃に加熱し、上記で合成したＣＦ_２ＣｌＣＦＣｌＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＨ）ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２の８４ｇをジオキサンの５０ｍＬで希釈したものを１．５時間かけて滴下した。滴下終了後、１００℃で４０時間撹拌した。反応液をろ過し、少量のジオキサンで洗浄した。ろ液を減圧蒸留し、３０ｇのＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＨ）ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２（留出温度；３６〜３７℃／１ｋＰａ）を得た。以下に、^１Ｈ−ＮＭＲおよび^１９Ｆ−ＮＭＲのデータを示す。

^１Ｈ−ＮＭＲ（３９９．８ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：２．７４（ｄ，Ｊ＝７．３，２Ｈ），３．５４（ｂｏａｄ ｓ，１Ｈ），５．３４（ｍ，２Ｈ），５．８６（ｍ，１Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６．２ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：−７５．７（ｍ，３Ｆ），−９２．２（ｍ，１Ｆ），−１０６．５７（ｍ，１Ｆ），−１１２．６（ｍ，２Ｆ）， −１８３．５（ｍ，１Ｆ）。

（化合物（Ｃ））
化合物（Ｃ１）：出光興産社製、２−メチル−２−アダマンチルメタクリレート。

化合物（Ｃ２）：アルドリッチ社製、ベンジルメタクリレート。

（光重合開始剤（Ｄ））
光重合開始剤（Ｄ１）：チバ・ガイギー・スペシャリティー社製、商品名：イルガキュア６５１。

（含フッ素界面活性剤（Ｅ））
含フッ素界面活性剤（Ｅ１）：ノニオン系含フッ素界面活性剤、ＡＧＣセイミケミカル社製、商品名：サーフロンＳ−３９３。

（添加剤（Ｆ））
添加剤（Ｆ１）：酸化チタン（アルドリッチ社製、ナノパウダー）。
添加剤（Ｆ２）：酸化ジルコニア（アルドリッチ社製、ナノパウダー）。

〔例１〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の２．６０ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．２０ｇ、および化合物（Ｃ１）の１．０４ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．１６ｇを混合し、５．０μｍのポリテトラフルオロエチレン（以下、ＰＴＦＥと記す。）製のフィルターにてろ過して、光硬化性組成物を得た。該組成物の組成を表１に、評価結果を表２に示す。

〔例２〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の２．６０ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．２０ｇ、および化合物（Ｃ２）の１．０４ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．１６ｇを混合し、５．０μｍのＰＴＦＥ製のフィルターにてろ過して、光硬化性組成物を得た。該組成物の組成を表１に、評価結果を表２に示す。

〔例３〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の３．００ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．２８ｇ、および化合物（Ｃ１）の０．６０ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．１２ｇを混合し、５．０μｍのＰＴＦＥ製のフィルターにてろ過して、光硬化性組成物を得た。該組成物の組成を表１に、評価結果を表２に示す。

〔例４〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の２．６０ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．２０ｇ、および化合物（Ｃ１）の１．０４ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．１６ｇ、および含フッ素界面活性剤（Ｅ１）の０．００４ｇを混合し、５．０μｍのＰＴＦＥ製のフィルターにてろ過して、光硬化性組成物を得た。該組成物の組成を表１に、評価結果を表２に示す。

〔例５〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の２．６０ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．２０ｇ、および化合物（Ｃ１）の１．０４ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．１６ｇ、および添加剤（Ｆ１）の０．１２ｇを加えて高速撹拌機にて混合し、５．０μｍのＰＴＦＥ製のフィルターにてろ過して、光硬化性組成物を得た。該組成物の組成を表１に、評価結果を表２に示す。

〔例６〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の２．６０ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．２０ｇ、および化合物（Ｃ１）の１．０４ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．１６、および添加剤（Ｆ２）の０．１２ｇを加えて高速撹拌機にて混合し、５．０μｍのＰＴＦＥ製のフィルターにてろ過して、光硬化性組成物を得た。該組成物の組成を表１に、評価結果を表２に示す。

〔例７〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の２．２０ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．４０ｇ、および化合物（Ｃ１）の１．２４ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．１６ｇを混合し、５．０μｍのＰＴＦＥ製のフィルターにてろ過して、光硬化性組成物を得た。該組成物の組成を表１に、評価結果を表２に示す。

〔例８〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の３．６８ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．０８ｇ、および化合物（Ｃ１）の０．２０ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．０４ｇを混合したが、層分離してしまい均一な組成物を得ることができなかった。

〔例９〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の２．６０ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．０４ｇ、および化合物（Ｃ１）の１．２０ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．１６ｇを混合し、５．０μｍのＰＴＦＥ製のフィルターにてろ過して、光硬化性組成物を得た。該組成物の組成を表１に、評価結果を表２に示す。

〔例１０〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の２．６０ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．８０ｇ、および化合物（Ｃ１）の０．４４ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．１６ｇを混合したが、層分離してしまい均一な組成物を得ることができなかった。

〔例１１〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の３．４０ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．３２ｇ、および化合物（Ｃ１）の０．０８ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．２０ｇを混合したが、層分離してしまい均一な組成物を得ることができなかった。

〔例１２〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の２．４４ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．０８ｇ、および化合物（Ｃ１）の１．４４ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．０４ｇを混合し、５．０μｍのＰＴＦＥ製のフィルターにてろ過して、光硬化性組成物を得た。該組成物の組成を表１に、評価結果を表２に示す。

〔例１３〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の２．６０ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．２０ｇ、および化合物（Ｃ１）の１．１８ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．０２ｇを混合し、５．０μｍのＰＴＦＥ製のフィルターにてろ過して、光硬化性組成物を得た。該組成物の組成を表１に、評価結果を表２に示す。

〔例１４〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の２．５２ｇ、化合物（Ｂ１１）の０．２０ｇ、および化合物（Ｃ１）の０．６８ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．６０ｇを混合したが、光重合開始剤（Ｄ１）が溶けきれず均一な組成物を得ることができなかった。

〔例１５〕
バイヤル容器（内容積６ｍＬ）に、化合物（Ａ７１）の２．６０ｇ、化合物（Ｂ２１）の０．２０ｇ、および化合物（Ｃ１）の１．０４ｇを加え、つぎに光重合開始剤（Ｄ１）の０．１６ｇを混合し、５．０μｍのＰＴＦＥ製のフィルターにてろ過して、光硬化性組成物を得た。該組成物の組成を表１に、評価結果を表２に示す。

ただし、表１の「−」は、含フッ素界面活性剤（Ｅ）および／または添加剤（Ｆ）を使用しなかったことを意味し、表２の「−」は、各物性の評価をしなかったか、評価できなかったことを意味する。

〔例１６〕
２５℃にて、例１の光硬化性組成物の１滴をシリコンウェハ上に垂らし、該組成物が均一に塗布されたシリコンウェハを得た。幅８００ｎｍ、深さ１８０ｎｍ、長さ１０μｍの凹部を表面に有する石英製モールドを、シリコンウェハ上の光硬化性組成物に押しつけて、そのまま０．５ＭＰａ（ゲージ圧）でプレスした。
つぎに２５℃にて、モールド側から光硬化性組成物に高圧水銀灯（１．５〜２．０ｋＨｚにおいて２５４ｎｍ、３１５ｎｍ、および３６５ｎｍに主波長を有する光源。）からの光を１５秒間照射して、光硬化性組成物の硬化物を得た。２５℃にて、モールドをシリコンウェハから分離して、モールドの凹部が反転した凸部を表面に有する硬化物がシリコンウェハの表面に形成された成形体を得た。該凸部の底面から頂上面まで高さは、１７８〜１８０ｎｍであった。

本発明の製造方法で得られる、表面に微細パターンを有する成形体は、マイクロレンズアレイ、光導波路素子、光スイッチング素子（グリッド偏光素子、波長板等。）、フレネルゾーンプレート素子、バイナリー素子、ブレーズ素子、フォトニック結晶等の光学素子や反射防止部材、生産用のレプリカモールド等として有用である。

なお、２００８年５月２９日に出願された日本特許出願２００８−１４０７６４号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

１０ モールド
１２ 反転パターン
２０ 光硬化性組成物
３０ 基板
４０ 成形体
４２ 硬化物
４４ 微細パターン

Claims (10)

1. 硬化前の波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５５以上の、ベンゼン環を２つ以上有する芳香族化合物であり、かつ（メタ）アクリロイルオキシ基を２つ以上有する化合物（Ａ）と、
   フッ素原子を有し、かつ炭素−炭素不飽和二重結合を１つ以上有する化合物（Ｂ）（ただし、化合物（Ａ）を除く。）と、
   （メタ）アクリロイルオキシ基を１つ有する化合物（Ｃ）（ただし、化合物（Ｂ）を除く。）と、
   光重合開始剤（Ｄ）とを含み、
   化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）、化合物（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）の合計（１００質量％）のうち、化合物（Ａ）が６１〜９０質量％であり、化合物（Ｂ）が２〜１５質量％であり、化合物（Ｃ）が５〜３５質量％であり、光重合開始剤（Ｄ）が１〜１２質量％である、ことを特徴とする光硬化性組成物。
2. さらに、含フッ素界面活性剤（Ｅ）を含有する請求項１に記載の光硬化性組成物。
3. 溶剤を含まない、請求項１または２に記載の光硬化性組成物。
4. 硬化後の波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５４以上である、請求項１〜３のいずれかに記載の光硬化性組成物。
5. 表面に微細パターンを有する成形体の製造方法であり、
   請求項１〜４のいずれかに記載の光硬化性組成物を、前記微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドの該反転パターンを有する表面に接触させる工程と、
   前記モールドの表面に前記光硬化性組成物を接触させた状態で、前記光硬化性組成物に光を照射し、前記光硬化性組成物を硬化させて硬化物とする工程と、
   前記硬化物から前記モールドを分離して、表面に微細パターンを有する成形体を得る工程と
   を有する、ことを特徴とする表面に微細パターンを有する成形体の製造方法。
6. 表面に微細パターンを有する成形体の製造方法であり、
   請求項１〜４のいずれかに記載の光硬化性組成物を、基板の表面に配置する工程と、
   前記微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドを、該モールドの反転パターンが前記光硬化性組成物に接するように、前記光硬化性組成物に押しつける工程と、
   前記モールドを前記光硬化性組成物に押しつけた状態で、前記光硬化性組成物に光を照射し、前記光硬化性組成物を硬化させて硬化物とする工程と、
   前記硬化物から前記モールド、または前記基板および前記モールドを分離して、表面に微細パターンを有する成形体を得る工程と
   を有する、ことを特徴とする表面に微細パターンを有する成形体の製造方法。
7. 表面に微細パターンを有する成形体の製造方法であり、
   請求項１〜４のいずれかに記載の光硬化性組成物を、前記微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドの該反転パターンを有する表面に配置する工程と、
   基板を、前記光硬化性組成物に押しつける工程と、
   前記基板を前記光硬化性組成物に押しつけた状態で、前記光硬化性組成物に光を照射し、前記光硬化性組成物を硬化させて硬化物とする工程と、
   前記硬化物から前記モールド、または前記基板および前記モールドを分離して、表面に微細パターンを有する成形体を得る工程と
   を有する、ことを特徴とする表面に微細パターンを有する成形体の製造方法。
8. 表面に微細パターンを有する成形体の製造方法であり、
   基板と、前記微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドとを、該モールドの反転パターンが前記基板の側になるように接近または接触させる工程と、
   請求項１〜４のいずれかに記載の光硬化性組成物を、前記基板と前記モールドとの間に充填する工程と、
   前記基板と前記モールドとが接近または接触した状態で、前記光硬化性組成物に光を照射し、前記光硬化性組成物を硬化させて硬化物とする工程と、
   前記硬化物から前記モールド、または前記基板および前記モールドを分離して、表面に微細パターンを有する成形体を得る工程と
   を有する、ことを特徴とする表面に微細パターンを有する成形体の製造方法。
9. 光硬化性組成物を硬化する際に使用する光の波長が、２００〜５００ｎｍである請求項５〜８のいずれかに記載の表面に微細パターンを有する成形体の製造方法。
10. 請求項５〜９のいずれかに記載の表面に微細パターンを有する成形体の製造方法により得られることを特徴とする成形体。

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