TW200301476A - Method of manufacturing optical information recording media - Google Patents

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Takeshi Kakuta
Takako Ozawa
Toshio Ishida
Akira Mizuta
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Fuji Photo Film Co Ltd
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200301476 玖、發明說明5 乂 …..…：…"：."^ ； ： ,：：·.： : ；；· ·： ：....................- · ： ； (發明說明應敘明：發明所屬之技術領域、先前技術、內容、實施方式及圖式簡單說明) (一）發明所屬之技術領域 本發明係有關一種使用特定波長之雷射光進行記錄及再 現之重複抹寫型光資訊記錄媒體的製法。 (一）先前技術 迄今，藉由雷射光僅可一次記錄資訊的光資訊記錄媒體（ 光碟）係爲已知。該光碟亦稱爲重複抹寫型CD(所謂CD)， 典型的構造係爲在透明圓盤狀基板上依序積層由有機色素 所成的記錄層、由金等之金屬等所成光反射層（金屬反射層） 、以及樹脂製保護層（表層）者。因此，對該CD - R之資訊記 錄可藉由使近紅外線範圍之雷射光（通常爲7 8 0 nm附近波長 之雷射光）照射於CD - R進行，記錄層之照射部分吸收該光 使局部之溫度上升，藉由物理或化學變化（例如生成凹痕） 使該部分之光學特性產生變化，以記錄資訊。另外，資訊 之讀取（再現）係藉由使與記錄用雷射光相同的波長之雷射 光照射於CD - R進行，藉由檢測記錄層之光學特性產生變化 的部位（記錄部分）與沒有產生變化的部位（未記錄部分）之 反射率不同予以進行。 近年來，企求記錄密度較高的光資訊記錄媒體。對該企 求而言，提案有稱爲重複抹寫型數位·多媒體•光碟（所謂 DVD-R)之光碟（例如「日經新媒體」附冊「DVD」、1 9 9 5年 發行）。該DVD - R係爲追蹤經照射的雷射光時之接收溝（預 凹槽），具有一般在以CD-R之一半以下（〇 · 74〜0 . 8μιη)狹窄 溝寬形成的透明圓盤狀基板上使2張依序積層有含有機色 素之記錄層、光反射層（金屬反射層）、以及保護層之光碟 在內側貼合記錄層的構造、或與該光碟相同形狀的圓盤狀 -6 - 200301476 保護基板在內側貼合記錄層的構造。因此，該DVD - R之資 訊記錄及再現藉由照射可視雷射光（通常爲6 3 0nm〜680nm 範圍波長之雷射光）而定予以進行，可得較CD - R高密度記 錄。 最近，網際網路（internet)等之網路（network)或HDTV 急速普及化。而且，亦接近HDTV(高解析度電視）之放映開 始。在該狀況下要求可低價簡便地記錄映像資訊之大容量 記錄媒體。目前DVD - R雖可達成作爲大容量記錄媒體之效 果，惟伴隨大容量化、高密度化的要求，必須開發可對應 於該要求之記錄媒體。因此，企求開發可較DVD - R以更短 波長之光進行高密度記錄、更大容量之記錄媒體。 例如於日本特開平4 - 7 46 9 0號公報、特開平7 - 304256號 公報、特開平7 - 3 042 5 7號公報、特開平8 - 1 27 1 74號公報 、同 1 1 - 5 3 758 號公報、同 1 1 - 334204 號公報、同 1 1 - 3 3 4205 號公報、同1 1 - 3 3 42 06號公報、同1 1 - 3 34207號公報、特 開 2000 - 43423 號公報、同 2000 - 1 08 5 1 3 號公報、同 2000 -1 1 3 504 號公報、同 2000 - 1 49320 號公報、同 2000 - 1 5 8 8 1 8 號公報、及同2000 - 228028號公報中揭示，於具有含有機 色素之記錄層的光資訊記錄媒體中，藉由自記錄層朝金屬 反射層側照射波長5 3 0nm以下之雷射光，進行資訊之記錄 及再現的記錄再現方法。此等方法係在具備卜啉化合物、 偶氮系色素、金屬偶氮系色素、喹酞酮系色素、三次甲基 喹啉藍、二胺基乙烯基苯架構色素、香豆素化合物、萘喹 啉藍化合物等記錄層的光碟上藉由照射藍色（波長430nm、 488nm)或藍綠色（波長515nm)之雷射光進行資訊記錄及再 現。 另外，以相變化型光碟作爲DVD係爲已知，此係採用
GeSbTe等之合金作爲記錄層，且在記錄層上以雷射光瞬間 一 7 - 200301476 加熱，由結晶狀態相變化成無定型狀態，利用藉由相變化 所變化的反射率予以記錄再現。最近，發表使用該相變化 型DVD，藉由藍紫雷射引起記錄再現的DVR系統（「ISOM2000 」210〜211頁）。藉由該系統，對高密度化之課題而言可 達成一定的成果。 上述利用藍紫雷射與高NA波峰之光記錄系統所使用的光 資訊記錄媒體，於使藍紫色雷射光照射於記錄層時，爲組 合高NA之對物透鏡的焦點時以使雷射光入射的表層薄化較 佳。此處，表層例如使用薄的薄膜，使用接合劑或黏合劑 以接合記錄層。表層之厚度通常含有接合劑硬化所形成的 接合層約爲1 00μιη，藉由照射的雷射波長或NA最適化。 該光碟經由在圓盤狀基板上至少具有記錄層與表層，且 於製造時圓盤狀基板上至少形成記錄層側之面上使表層片 板藉由使用如UV硬化型接合劑或黏合劑之接合劑貼合、以 形成表層之貼合步驟。然而，該貼合步驟由於在使上述記 錄層形成面與表層片板貼合所形成的接合層中混有塵埃， 容易形成缺陷部，會產生光碟半途而廢情形、即引起處理 性降低的問題。 另外，於特開2000 - 6 7468號公報中記載連續使透明薄膜 與黏合片板之積層體爲脫模薄膜兩側夾住構成之薄膜積層 體’然後加工成圓盤形狀以形成圓盤狀薄膜積層體，另使 連接於黏合片板側之脫模薄膜剝離，且在形成記錄面之光 碟基板表面上進行位置貼合的方法以設置表層的方法。 藉由該方法連續形成薄膜積層體後，使該薄膜積層體捲 取成輥狀，在加工成圓盤狀之薄膜積層體上會有彎曲或捲 曲的情形，會形成具有面模糊或厚度不均之表層。結果， 具有該表層之光資訊記錄媒體無法得到充分的記錄特性或 耐久性。 ~ 8 - 200301476 而且’於製造上述光資訊記錄媒體中，爲DVD-R、CD-R 時一般在基板上形成記錄層，再於其上形成金屬反射層。 因此’金屬反射層之記錄層側面上不會曝曬於空氣中。另 外’爲DVR時在基板上形成金屬反射層，再於其上形成記 錄層’故金屬反射層之記錄層側面至形成記錄層之間會曝 曬於空氣中。金屬反射層一般藉由濺鍍法使Ag、A 1等金屬 成膜予以形成，藉由使所形成的層曝曬於空氣中，表面受 到空氣中之水份或溫度影響而氧化，致使金屬反射層表面 之粗度惡化的問題。 (三）發明內容 發明槪述 本發明之目的係提供一種跳動佳、噪音少、具有安定記 錄再現特性之光資訊記錄媒體的製法。 本發明之另一目的係提供一種於製造大容量光資訊記錄 媒體時記錄層形成面與表層片板之接合面，使用接合劑貼 合的貼合步驟中，藉由防止塵埃混入上述記錄層形成面與 表層片板之間，可防止產生半途而廢情形之光資訊記錄媒 體的製法。 此外，本發明之另一目的係提供一種於使用具有捲取成 輥狀步驟的表層製作方法之光資訊記錄媒體的製法中，具 有優異記錄特性及耐久性之光資訊記錄媒體的製法。而且 ，本發明之另一目的係提供一種具有優異生產性之光資訊 記錄媒體的製法。 上述課題可藉由下述本發明達成。換言之，本發明係爲 (1 ) 一種光資訊記錄媒體之製法，其係爲以軌距爲200 〜400nm、溝深爲20〜150nm、波長爲45 0nm以下之光記錄 再現的光資訊記錄媒體製法，其至少依序具有 在基板上形成金屬反射層之金屬反射層形成步驟； 一 9一 200301476 在該金屬反射層上形成有機色素系之記錄層的記錄層形 成步驟；以及 在該記錄層上形成表層之表層形成步驟。 而且，第二形態係本發明提供一種上述（1 )之光資訊記錄 媒體的製法，其中表層之厚度爲0.01〜0.5 mm，自金屬反 射形成步驟完成後至表層形成步驟開始之時間爲1 2小時以 下。 此外，第三形態係（3 )提供一種上述（1 )之光資訊記錄媒 體的製法，其中由於表層形成步驟中在該記錄層上使表層 片板接合面使用黏合劑貼合的貼合步驟以形成表層，此處 之貼合步驟係使預先貼合於與表層片板之接合面相反面的 保護片板，於在該記錄層形成面上貼合表層片板之接合面 後自表層表面剝離。 另外，第四形態係（4 )提供一種上述（1 )之光資訊記錄媒 體的製法，其中表層形成步驟包含在記錄層上使由設有黏 合層之表層薄膜所成的表層在該黏合層與該表面相接下貼 合的步驟，此處之表層係依序經由 在捲取成輥狀的表層薄膜表面上連續設置含有交聯劑之 黏合層步驟，及 保持至該黏合層之交聯反應實質上完成的步驟，及 使設有該黏合層之表層薄膜穿孔成光碟狀的步驟，及 使設置光碟狀黏合層之表層薄膜略爲水平積層、保持的 步驟，所作成。 而且，第五實施形態係（5 )提供一種上述（1 )之光資訊記 錄媒體的製法，其中表層形成步驟包含在記錄層上使由設 有黏合層之表層薄膜所成表層在該黏合層與該表面相接下 貼合的步驟，此處之表層係依序經由 在捲取成輥狀的表層薄膜表面上連續設置含有交聯劑之 200301476 黏合層步驟，及 保持至該黏合層之交聯反應實質上完成的步驟，及 使設有該黏合層之表層薄膜穿孔成光碟狀的步驟，及 使設置光碟狀黏合層之表層薄膜略爲垂直積層、保持的 步驟，所作成。 此處，於第二實施形態中上述金屬反射層形成步驟完成 後至上述表層形成步驟開始之保存溫度以2 0〜4 0 °C較佳、 保存濕度以30〜80%較佳。上述金屬反射層以濺鍍法形成 較佳。另外，上述有機色素系記錄層以塗覆法形成較佳。 而且，於第四及第五之實施形態中在捲取成輥狀的表層 薄膜表面上連續設置含有交聯劑之黏合層的步驟以藉由 在捲取成輥狀之脫模薄膜表面上連續塗覆含交聯劑之黏 合劑，形成黏合劑塗覆層的步驟， 使上述脫模薄膜表面上所形成的黏合劑塗覆層乾燥的步 驟，與 上述黏合劑塗覆層與表層表面相接下貼合的步驟， 予以進行較佳。 較佳具體態樣之詳細說明 於下述中詳細說明有關本發明光資訊記錄媒體之製法。 首先說明本發明光資訊記錄媒體之製法的特徵表層作成 方法。 本發明第二實施形態之光資訊記錄媒體的製法中，表層 係使構成黏合層之光硬性樹脂溶解於適當溶劑中以調製塗 覆液後，使該塗覆液在所定溫度下塗覆記錄層上以形成塗 覆膜，在該塗覆膜上例如以溶液流延製膜積層所得的三醋 酸纖維素薄膜（TAC薄膜），在積層的TAC薄膜上照射光以 使塗覆膜硬化，予以形成。上述TAC薄膜以含有紫外線吸 收劑者較佳。表層之厚度爲0.01〜〇.5mm，較佳者爲0.03 -11- 200301476 〜〇.3mm，更佳者爲0.05〜0.15mm。 於本發明第二實施形態中，上述金屬反射層形成步驟完 成後經由記錄形成步驟、直至上述表層形成步驟開始之時 間（以下稱爲「經過時間」）爲1 2小時以下。藉由經過時間 爲1 2小時以下，對金屬反射層之表面而言空氣中之水份或 溫度影響少，可減少金屬反射層之表面粗度，可使跳動減 小且使噪音減少。若經過時間大於1 2小時，因空氣中之水 份或溫度影響，金屬反射層經氧化的表面粗度變大，故不 爲企求。 上述經過時間以6小時以下更佳，最佳者爲3小時。 上述經過時間之保存溫度以20〜40°C較佳、更佳者爲20 〜25°C。而且，經過時間之保存濕度以30〜80%較佳、更佳 者爲30〜5 0%。藉由使經過時間之保存溫度爲20〜40 °C、 及保存濕度爲30〜80%，可使金屬反射層之表面粗度減少 〇 本發明之第三實施形態中表層係指經由黏合劑、貼合於 上述記錄層形成面上之表層片板。 於本發明之第三實施形態中於使記錄層形成面與表層片 板之接合面使用黏合劑貼合的貼合步驟中，於使預先貼合 於與該表層片板之接合面相反面上之保護片板、與上述記 錄層形成面與表層片板之接合面貼合後，必須自表層表面 剝離。 使預先貼合與表層片板之接合面相反面之保護片板自該 表層片板剝離後，藉由記錄層形成面與表層片板之接合面 使用黏合劑貼合的貼合步驟以形成表層，製作光資訊記錄 媒體時，在該光資訊記錄媒體之記錄層形成面與表層間混 入塵埃、會產生半途而廢情形。此係使保護片板自表層片 板剝離時，因產生靜電氣致使該表層帶電，空氣中漂流的 200301476 塵埃吸附於上述表層片板的接合面之故。 本發明所使用的表層片板對在記錄層上記錄資訊時使用 的波長380nm〜5 00nm範圍內之波長而言，至少具有透過性 、且可使上述記錄層自外部物理、化學、機械保護的片板 狀者，且預先在表層片板之接合面相反面上貼合保護片板 所設置者即可，沒有特別的限制。而且，該「具有透過性 」係指愈使上述雷射光透過（透過率：80%以上）、愈爲透明 。而且，該附有保護片板之表層就保管或運送等而言，以 預先捲取成輥狀較佳。 作爲表層所使用的材料以使用樹脂較佳，更佳者爲聚碳 酸酯或三醋酸纖維素，另外吸濕率在溫度2 3 °C、濕度5 0% 下以5%以下較佳。而且，使記錄層形成面與表層片板之接 合面貼合時，爲防止因該接合面之凹凸在接合面上產生氣 泡時，使上述接合面儘可能平滑較佳。具體而言，預先在 表層片板之接合面相反面上貼合保護片板予以設置的附有 保護片板之表層片板，例如聚碳酸酯片板、三醋酸纖維素 片板（TAC薄膜）。而且，表層片板之厚度只要是可保護記 錄層者即可，在以與N A之關係限定的範圍內實用上以50 〜ΙΟΟμηι較佳、更佳者爲80〜95μίϋ。 而且，保護片板只要是可物理、化學、機械保護附有保 護片板之保層片板的表層片板’且形成表層後自表層表面 剝離保護片板時，使表層破損、在表層表面上不會殘留有 藉由洗淨等不易洗淨的移附物者即可，沒有特別的限制。 然而，以厚度10〜ΙΟΟμπι範圍、由聚對酞酸乙二酯、聚乙 烯等樹脂所成較佳。此外，保護片板與表層片板於保管且 搬運附有保護片板之表層片板等中不會剝離，且使前者與 後者剝離時可容易剝離的程度下貼合較佳。 使記錄層形成面與表層片板之接合面使用黏合劑貼合的 200301476 方法，使光資訊記錄媒體在一般推測的環境下處理時，可 得不會使表層自上述記錄層形成面剝離下之黏合強度者即 可，亦可使用習知的任何方法。 而且，上述黏合劑以藉由UV照射硬化以產生黏合力的UV 硬化型黏合劑、或以塗覆兩面膠或標籤等以極微小的壓力 瞬間產生黏合力的黏合劑較佳。 使用UV硬化型黏合劑作爲黏合劑時之貼合步驟，例如下 述予以實施。首先，在圓盤狀基板之記錄層形成面上使預 先真空脫氣泡的UV硬化型黏合劑藉由旋轉塗覆法塗覆於圓 盤狀基板之內周端與自內周端至外周側、半徑方向Xmm間 之同心圓狀範圍內。而且，爲控制混入黏合層之氣泡、確 實地均勻貼合時，以X之値爲10mm〜40mm之範圍部分塗覆 於記錄層形成表面爲宜。 其次，使附有保護片板之表層片板的黏合面重疊塗覆於 UV硬化型黏合劑之記錄層形成面上，再度藉由使圓盤狀基 板回轉，全面擴展於表層片板之接合面、與記錄層形成面 之間。 在該狀態下以UV照射燈使重疊於表層片板之記錄層形成 面側上照射紫外線，藉由使附有保護層之表層片板、與中 間層黏合、貼合以形成表層，然後，自該表層表面剝離保 護片板。 使黏合劑塗覆記錄層形成面可使用習知方法，以使用已 知的旋轉塗覆法較佳。塗覆溫度就控制黏合劑之黏度而言 以23〜50 °C之範圍較佳，更佳者爲24〜4(TC，最佳者爲25 〜37〇C。 使記錄層形成面與表層片板之接合面使用黏合劑貼合後 ，使用UV硬化型黏合劑作爲上述黏合劑時必須進行UV照 射。UV照射所使用的UV照射機沒有特別的限制，以使用 200301476 脈衝型uv照射器較佳。 使用脈衝型UV照射器時，以該脈衝間隔爲丨〇秒以下之 時間間隔實施較佳，更佳者以丨秒以下之間隔實施。而且 ，1脈衝之照射能量沒有特別的限制，較佳者爲3kw/cm2以 下、更佳者爲2kw/cm2以下，照射次數沒有特別的限制， 以20次以下較佳、更佳者爲1〇次以下。 上述UV硬化型黏合劑爲可藉由UV光照射予以硬化、使 I己錄層表面與表層片板之接合面黏接、貼合者即可，沒有 特別的限制’爲防止光資訊記錄媒體相反時，以硬化時收 縮率小者較佳。該uv硬化型黏合劑例如SD66丨（大日本油 墨/λ司氣：）、SD-347(大日本油墨公司製）、sd_694(大曰本 油墨公司製）、SKCD1051 (SKC公司製）等，此等以於預先真 空脫氣泡後使用較佳。 另外’使用黏合劑作爲貼合時使用的黏合劑時，可使記 錄層形成面與表層片板之接合面黏接者即可，沒有特別的 限制，使用黏合劑時使該黏合劑調整成適當的大小、貼附 於記錄層形成面且使分離器等剝離後，貼合表層片板予以 黏接、形成表層，然後可自表層表面剝離保護片板。 黏合劑使用兩面膠帶時，作爲該兩面膠帶之基材沒有特 別的限制，例如對酞酸乙二酯、聚丙烯、聚乙烯、氯乙烯 等之塑膠薄膜、或牛皮紙、上質紙、和紙等之紙、縲縈、 聚酯等不織布、聚酯、耐龍、丙烯酸等之合成纖維所成的 織布、鋁、銅、不銹鋼等金屬箔，就可使脫模劑層均勻地 條狀塗覆於基材上而言以塑膠薄膜較佳。 而且，兩面膠帶所使用的脫模劑可是當地選自聚矽氧烷 系脫模劑或長鏈烷基系脫模劑等習知使用的各種脫模劑使 用。 另外，上述使用的黏合劑可使用丙烯酸系、橡膠系、矽 200301476 氧院系黏合劑，就透明性、耐久性而言以丙烯酸系黏合劑 較仏。^^丙丨布酸系黏合劑爲以2 -乙基己基丙燃酸酯、正丁 基丙烯酸酯等爲主成份、且提高凝聚力時，以短鏈院基丙 烯酸酯或甲基丙烯酸酯、例如甲基丙烯酸、乙基丙嫌酸、 甲基丙烯酸曱酯、與交聯劑之交聯點所成的丙烯酸、甲基 丙烯酸、丙烯醯胺衍生物、馬來酸、羥基乙基丙烯酸酯、 環氧丙基丙烯酸酯等之共聚物較佳。藉由適當調整主成份 與短鏈成份與爲加成交聯點之成份的混合比率、種類，可 改變玻璃轉移溫度（Tg )或交聯密度。 與上述黏合劑倂用的交聯劑例如異氰酸酯系交聯劑、環 氧樹脂系交聯劑、蜜胺樹脂系交聯劑、尿素樹脂系交聯劑 、螯合系交聯劑，其中以異氰酸酯系交聯劑較佳。該異氰 酸酯系交聯劑可使用亞甲苯基二異氰酸酯、4，4 ’ -二苯基甲 烷二異氰酸酯、六伸甲基二異氰酸酯、二甲苯基二異氰酸 酯、萘基-1，5 -二異氰酸酯、鄰甲苯胺二異氰酸酯、異佛爾 酮二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等之異氰酸酯類、 或此等異氰酸酯類與聚醇等之生成物、或藉由異氰酸酯類 之縮合生成的聚異氰酸酯類。此等異氰酸酯類之市售商品 例如日本聚胺甲酸酯公司製、克龍奈頓（譯音）L、克龍奈頓 2030、克龍奈頓203卜米里奈頓（譯音）MR、米里歐奈頓HTL· ;武田藥品公司製之塔肯奈頓D-102、塔肯奈頓D-110N、 塔肯奈頓D- 200、塔肯奈頓D- 202 ;住友拜耶魯（譯音）公司 製迪斯磨吉魯（譯音）L、迪斯磨吉魯IL、迪斯磨吉魯N、迪 斯磨吉魯HL ;等。 於本發明第四及第五實施形態之光資訊紀錄媒體的製法 中，經由（a )在捲取成輥狀之表層薄膜表面上連續設置含有 交聯劑之黏合層、（b )使設有黏合層之表層薄膜捲取成輥狀 之步驟、（c )保持至實質上黏合層之交聯反應完成的步驟、 -16- 200301476 (d )使設有黏合層之表層薄膜穿孔成光碟狀的步驟、與（e ) 使設有光碟狀黏合層之表層薄膜略爲水平積層、保持的步 驟予以製作。 於下述中說明各步驟。 (a )在捲取成輥狀之表層薄膜表面上連續設置含有交聯劑 之黏合層的步驟 在表層薄膜表面上連續設置含有交聯劑之黏合層的方法 ，大致區分爲在表層薄膜表面上貼附預先形成的黏合層之 方法（以下適當稱爲間接法）、與在表層薄膜表面上直接塗 覆黏合劑予以乾燥以形成黏合層的方法（以下適當稱爲直接 法）等兩大類。 爲間接法時，例如可經由第1圖所示黏合層設置裝置、 連續在表層薄膜上貼附黏合層。此處，第1圖係爲表層薄 膜表面上連續設置黏合層的方法例之一形態使用的黏合層 設置裝置之簡略截面圖。而且，在黏合層設置裝置內亦可 進行下述（b )使設置有黏合層之表層薄膜苒捲取成輥狀之步 驟。 如第1圖所示，黏合層設置裝置具有捲取成脫模薄膜h 之輥1、塗覆手段2、乾燥手段3、捲取成表層薄膜f2之輥 4、與爲使設有黏合層之脫模薄膜L與表層薄膜f2共捲之 輥5。 黏合層設置裝置之動作首先自捲取成脫模薄膜G之輥1 朝箭頭方向將脫模薄膜送出。圖中沒有表示的控制部確定 送出的脫模薄膜匕之前端搬送至所定範圍（塗覆範圍）時’ 使用該範圍設置的塗覆部2 ’在脫模薄膜f 1表面上開始塗 覆預先調製的黏合劑塗覆液（塗覆步驟）。藉由該塗覆步驟 ，可得形成有黏合劑塗覆層之脫模薄膜f t。而且’直至捲 取成輥1之脫模薄膜f i送至末端’繼續該黏合劑之塗覆步 200301476 驟。 圖中沒有表示的控制部係確認使形成有黏合劑塗覆層之 脫模薄膜f i搬送至乾燥範圍時，藉油在該乾燥範圍所設置 的乾燥手段3使黏合劑塗覆層乾燥（乾燥步驟）。然後，藉 由該步驟使黏合劑塗覆層之溶劑揮發，製得具備黏合層之 脫模薄膜f!。其次，使具備黏合層之脫模薄膜fi與另外搬 送、自輥4送出的表層薄膜f2在貼合範圍a中、使表層薄 0吴f2表面與接合層相接下貼合（貼合步驟）。_繼後，在輥5 上使具備黏合層之脫模薄膜L與表層薄膜f2共捲（捲取步 驟）。於黏合層設置裝置中此等一連串步驟係使自一個輥狀 脫模薄膜f i自輥1送出、至捲取於輥5連續進行。 於黏合劑設置裝置中塗覆手段2可使用習知的塗覆手段 。具體例如噴霧法、輥塗覆法、塗布塗覆法、刮刀塗覆法 、篩網印刷法等之塗覆手段。 而且，爲直接法時送出輥狀表層薄膜、且自該表層薄膜 之前端至末端，連續塗覆黏合劑塗覆液且形成黏合劑塗覆 層後，依序使黏合劑塗覆層乾燥，使黏合層在表層薄膜之 單側表面全面上形成。 另外，於直接法之塗覆及乾燥步驟中，可使用與上述黏 合層設置裝置所使用的塗覆手段及乾燥手段相同者。 該（a )步驟所使用的脫模薄膜f i可使用聚乙烯薄膜、聚 對酞酸乙二酯薄膜、聚萘二甲酸乙二酯薄膜、聚碳酸酯薄 膜、三乙酸酯纖維素薄膜等。 該（a)步驟所使用的表層薄膜G只要是透明材質之薄膜 即可，沒有特別的限制，以聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯 等之丙烯酸樹脂；聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等之氯乙烯系 樹脂；環氧樹脂；非晶性聚烯烴；聚酯；三醋酸纖維素等 較佳，其中以使用聚碳酸酯或三醋酸纖維素更佳。 200301476 此外，「透明」係指對記錄及再現使用的光而言透過率 爲8 0 %以上。 此處，表層薄膜f2以於下述（b )步驟中在於捲取成輥狀 後較容易進行捲取，故在表層薄膜f2沒有設置黏合層之面 上施有脫模處理較佳。所使用的脫模處理例如使表層薄膜 f2本身之表面粗面化的方法、或使具有脫模性之薄膜貼附 的方法、以及以塗覆法等形成脫膜層的方法。於此等脫模 處理中，以使具有脫模性之薄膜貼附方法較佳。 另外，表層薄膜f2在不會妨礙本發明效果之範圍內亦可 含有各種添加劑。例如含有爲切斷波長400nm以下之光時 之UV吸收劑及/或爲切斷5 00nm以上時之色素。 表層薄膜f2之表面物性以表面粗度爲2次元粗度參數及 3次元粗度參數皆爲5nm以下較佳。而且，就記錄及再現 所使用的光之集光度而言以表層薄膜之複折射率爲l〇nm以 下較佳。 此外，輥狀表層薄膜例如可使用在1 5 0 πιπιφ之軸上捲取寬 度150mm、長度200m之薄膜者。 表層薄膜匕之厚度以0.03〜0.15 mm較佳、更佳者爲0.05 〜0 · 12mm。藉由在該範圍內，使表層薄膜在貼合步驟中容 易處理，且可控制間隙偏差之優點。 該（a )步驟所使用的黏合劑可使用丙烯酸、橡膠系、聚矽 氧烷系黏合劑，就透明性、耐久性而言以丙烯酸系黏合劑 較佳。該丙烯酸系黏合劑爲以2-乙基己基丙烯酸、正丁基 丙烯酸等爲主成份、且提高凝聚力時，以使用短鏈烷基丙 烯酸酯或甲基丙烯酸酯、例如甲基丙烯酸酯、乙基丙烯酸 酯、甲基丙烯酸酯、與交聯劑之交聯點的丙烯酸、甲基丙 烯酸、丙烯醯胺衍生物、馬來酸、羥基乙基丙烯酸酯、環 氧丙基丙嫌酸酯等共聚合者較佳。藉由適當調整主成份、 200301476 短鏈成份、爲加成交聯點之成份之混合比例、種類，可改 變玻璃轉移溫度（τ g )或交聯密度。 與上述黏合劑倂用的交聯劑例如異氰酸酯系交聯劑、環 氧樹脂系交聯劑、蜜胺樹脂系交聯劑、尿素樹脂系交聯劑 、螯合物系交聯劑。其中，以異氰酸酯系交聯劑較佳。該 異氰酸酯系交聯劑可使用亞甲苯基二異氰酸酯、4，4 ’ -二苯 基甲烷二異氰酸酯、六伸甲基二異氰酸酯、二甲苯基二異 氰酸酯、萘基-1，5 -二異氰酸酯、鄰甲苯胺二異氰酸酯、異 佛爾酮二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等之異氰酸酯 類、或此等之異氰酸酯類與聚醇等之生成物、或藉由異氰 酸酯類之縮合生成的聚異氰酸酯類。此等異氰酸酯類之市 售商品例如日本聚胺甲酸酯公司製、克龍奈頓（譯音）L、克 龍奈頓2030、克龍奈頓2031、米里奈頓（譯音）MR、米里歐 奈頓HTL ;武田藥品公司製之塔肯奈頓D - 102、塔肯奈頓 D - 1 10N、塔肯奈頓D- 200、塔肯奈頓D- 202 ;住友拜耶魯（ 譯音）公司製迪斯磨吉魯（譯音）L、迪斯磨吉魯I L、迪斯磨 吉魯N、迪斯磨吉魯HL ;等。 (b)使設有黏合層之表層薄膜、再捲取成輥狀之步驟 藉由經由該步驟，捲取成輥狀、設有黏合層之表層薄膜 亦較同量板狀積層體容易保持搬運，具有搬送性優異的優 點。因此，例如藉由上述黏合層設置裝置進行一連串黏合 層設置步驟，以及設置該捲取成輥狀的黏合層之表層薄膜 容易自裝置取出，可容易移行至下述（c)之步驟。 (c )保持至實質上黏合層之交聯反應完成的步驟 該步驟係爲使黏合層之黏合性、及記錄層或中間層之貼 合面之密接性優異，且提高作爲光資訊記錄媒體之耐久性 的步驟。 該步驟藉由上述（b )之步驟可使設有捲取成輥狀之黏合層 200301476 的交聯薄膜保持至黏合層之交聯反應實質上完成爲止。此 處’ 「直至黏合層之交聯反應時直至完成爲止」係指「使 黏合層以紅外線分光吸收光譜測定，且直至實質上形成有 關使用的交聯劑交聯的官能基由來的波峰爲止」，藉由黏 合層之厚度、構成黏合層之黏合劑、交聯劑之種類、或保 持的空間氣氛（溫度及濕度）予以適當調節。 例如使用作爲黏合劑之丙烯酸黏合劑、作爲交聯劑之異 氰酸酯系交聯劑構成的黏合劑（X)，在溫度23°C、濕度50%RH 之氣氛下經時黏合層之紅外線分光吸收光譜，藉由測定直 至實質上形成保持前（塗覆後）異氰酸酯由來、在227 5〜 225OcnT1附近出現的吸收波峰之時間，可求取對應於「直 至黏合層（X )之交聯反應實質上完成爲止」之時間。 對應於如此所得的「直至黏合層之交聯反應實質上完成 爲止」之時間，具體而言在一般的室溫環境（溫度21〜30°C 、濕度30〜8 0%RH)中72小時。因此，在該環境下設有黏 合層之表層薄膜必須保持7 2小時以上。 (d )使設有黏合層之表層薄膜穿孔成光碟狀的步驟 該步驟係使設有輥狀黏合層之表層薄膜穿孔成所定大小 、即與基板相同大小的光碟狀者。 更詳言之，係使設有輥狀黏合層之表層薄膜送出’同時 在平面狀態下例如使用切斷穿孔，連續穿孔成與基板相同 大小者。 然後，除穿孔處外設有黏合層之表層薄膜再藉由捲取成 輥狀，可容易回收因穿孔生成的塵埃。 (e )使設有光碟狀黏合層之表層薄膜略爲水平積層、保持 的步驟 該步驟係爲矯正具設有黏合層之表層薄膜之捲曲、彎曲 、異方性等變形予以進行。參照第2圖詳細說明該步驟。 / -21- 200301476 此處’桌2圖係爲以保持手段使設有光碟狀黏合層之表層 薄膜爲略爲水平積層的狀態之示意圖。 而且，於本發明中「略爲水平」包含由積層設有光碟狀 黏合層之表層薄膜所成的積層體上面（最上層表面）爲引起 設有各黏合層之表層薄膜形狀之因、及/或引起下述保持手 段之因、於施加荷重前自水平僅稍爲傾斜的狀態者。 如第2圖所示’保持手段由台座1 〇、與設有光碟狀黏合 層之表層薄膜f 3、具有較中心孔稍小外徑之料軸2 〇所成。 在台座10上使設有光碟狀黏合層之表層薄膜f3之中心 孔以嵌入料軸20之狀態積層所定張數、例如50張。 而且，如第3圖所示略爲垂直積層、保持步驟中保持手 段爲由台座30、與設有光碟狀黏合層之表層薄膜f3、具有 較中心孔稍小外徑之料軸40、爲使設有光碟狀黏合層之表 層薄膜f4的積層體略爲垂直保持的間隔片50所成。 台座30藉由圖中沒有表示固定部材固定於固定面F上。 對該台座30而言在垂直設置的料軸40上使設有光碟狀黏 合層之表層薄膜f4之中心孔嵌入的狀態，積層所定張數、 例如50張。間隔片50係考慮積層50張設有光碟狀黏合層 之表層薄膜〇時之積層體厚度，且以使自台座之距離與積 層體厚度相等或稍短予以設置。藉此，可使該積層體不會 傾斜、保持略爲垂直。 而且，藉由自箭頭方向施加荷重的方法，使自台座30至 間隔片50之距離較設有光碟狀黏合層之表層薄膜f4的積 層體厚度爲短時，可在更短時間內矯正變形。此處，較佳 的荷重爲10〜500g。 在該狀態下藉由保持於所定時間、例如1小時，設有光 碟狀黏合層之表層薄膜][3及f4，藉其自重矯正捲曲、彎曲 、異方性等變形。該保持時間可是表層薄膜之厚度、黏合 200301476 層之厚度、構成黏合層之黏合劑、交聯劑及其他添加劑之 種類、或保持的空間氣氛（溫度及濕度）予以適當調節。 另外，藉由自設有光碟狀黏合層之表層薄膜f 3及f4的積 層體最上部施加重量，可在更短時間內矯正變形。 如此製作的表層於黏合層之交聯反應實質上完成時，記 錄層或中間層對貼合面而言具有高密接性、且具有爲矯正 捲曲、彎曲、異方性等之變形時面模糊或厚度不均少的優 點效果。此外，表層之製作步驟全部連續進行，且藉由具 有上述（b)及（d)之步驟，具有優異搬送性、容易麈埃回收 、生產性優異得效果。 使該表層在黏合層與上述表面連接下貼合於基板上設置 的記錄層側表面，以製造光資訊記錄媒體。如此製造的光 資訊記錄媒體具有優異的記錄特性及耐久性。 此處，於本發明光資訊記錄媒體之製法中除上述表層之 製作步驟外，具有以下述爲在基板上形成上述光反射層之 光反射層形成步驟、在該光反射層上形成上述記錄層之記 錄層形成步驟爲始之各種習知步驟。 亦可在基板表面與記錄層之間設置反射層，在記錄層與 表層之間設置中間層。 而且，光記錄資訊媒體爲在該記錄與表層之間設有中間 層所成者時，本發明實施的貼合步驟係使中間層表面（記錄 層形成面）與表層片板之黏合面藉由上述貼合予以實施。 同樣地光資訊記錄媒體爲在記錄層與表層之間沒有設置 任何中間層時，本發明實施的貼合步驟係使記錄層表面（記 錄層形成面）與表層片板之黏合面藉由上述貼合予以實施。 光反射層形成步驟 光反射層形成步驟係下述基板之形成預凹槽面上形成由 光反射性物質所成的光反射層之步驟。 - 23 - 200301476 上述基板可任意選擇習知作爲光資訊記錄媒體 料使用的各種材料使用。 具體而言，例如玻璃、聚碳酸酯、聚甲基丙烯 樹脂、聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等氯乙烯係樹脂 聚烯烴、聚酯、鋁等金屬等，視其所需亦可倂用it 於上述材料中就耐濕性、尺寸安定性極低價格 無定性聚烯烴、聚碳酸酯較佳，更佳者爲聚碳酸 ’基板之厚度以1.1土 0.3mm較佳。 在基板上形成追跡用接收溝或表示網址信號等 凸（預凹槽）。爲達成較高記錄密度時，與CD- R或 比必須爲較狹窄的軌距預凹槽。例如，使用作爲 之媒體時，預凹槽之軌距必須爲2 0 0〜4 0 0 n m，較佳 〜3 5 0nm。而且，預凹槽之深度（溝深）必須爲20-較佳者爲30〜100nm。 另外’在設有下述光反射層側之基板表面上， 面性、提高黏合力爲目的時以形成底塗層較佳。 該底塗層之材料例如聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯 丙烯酸共聚物、苯乙烯•馬來酸酐共聚物、聚乙 羥甲基丙烯醯胺、苯乙烯•乙烯甲苯共聚物、氯 烯、硝基纖維素、聚氯乙烯、氯化聚烯烴、聚酯 胺、醋酸乙烯酯•氯乙烯共聚物、乙烯•醋酸乙 物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等之高分子物質 合劑等之表面改質劑。 底塗層於使上述材料溶解或分散於適當溶劑中 覆液後，使該塗覆液藉由旋轉塗覆、浸漬塗覆、 等之塗覆法塗覆於基板表面上予以形成。底塗層 般爲0.00 5〜20μπι之範圍、較佳者爲〇.01〜ι〇μηι 光反射層可藉由使對雷射光之反射率高的光反 之基板材 酸甲酯等 、非晶性 匕等。 而言，以 酯。而且 資訊之凹 DVD-R 相 DVD-b1u e :者爲250 - 1 50nm， 以改善平 酸•甲基 烯醇、N -楓化聚乙 、聚醯亞 烯酯共聚 ;矽烷偶 調製成塗 擠壓塗覆 之厚度一 之範圍。 射性物質 200301476 蒸鍍、濺鍍或離子塗布，在基板上形成。光反射層之層厚 一般爲10〜3 00nm，較佳者爲50〜200nm。 而且，上述反射率以70%以上較佳。 反射率高的光反射性物質例如Mg、S e、Y、T i、Z r、H f 、V、N b、T a、C r、Μ ο、W、Μ η、R e、F e、C ο、N i、R u、R h 、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge 、Te、Pb、Po、Sn、Bi等之金屬及半金屬或不鏽鋼。此等 光反射性物質可以單獨使用或二種以上組合作爲合金使用 。於此等之中較佳者爲Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、A1及不 鏽鋼。更佳者爲Au、Ag、A1或此等之合金，最佳者爲Au 、Ag或此等之合金。 中間層形成步驟 中間層爲使波長380nm〜500nm波長範圍之雷射光以透過 率90%以上透過者即可，沒有特別的限制，以構成中間層 之材料由使上述波長範圍透過的玻璃或陶瓷等所成的介電 體較佳，於此等之中以Zn-S-Si02或Si02更佳。 中間層例如可使上述材料藉由蒸鍍、濺鍍或離子塗布， 在基板上形成。中間層之層厚限定於與在中間層上形成的 表層厚度關係，以lnm〜300nm較佳，更佳者爲2nm〜200nm 〇 記錄層形成步驟 記錄層形成步驟爲在上述光反射層上形成記錄層的步驟 。該記錄層可藉由波長60〇nm以下雷射光記錄資訊，以含 有作爲記錄物質之色素較佳。該記錄層所含有的色素例如 喹啉藍色素、噁唑色素、金屬複合物系色素、偶氮色素、 酞菁色素、苯并三唑色素、胺基丁二烯色素等。 三唑系化合物以至少一種酞菁系化合物、卜啉系化合物 、胺基丁二烯系化合物、喹啉藍系化合物等較佳，酞菁系 200301476 化合物以至少一種烷基取代物、颯醯胺取代物、磺醯基取 代物、磺酸取代物較佳。 而且，可倂用日本特開平4 - 746 90號公報、特開平8-1 2 7 1 7 4號公報、同1 1 - 5 3 7 5 8號公報、同1 1 - 334204號公 報、同1 1 - 3 34205號公報、同1 1 - 3 3420 6號公報、同11-334207 號公報、特開 2000-43423 號公報、同 2000-108513 號公報、及同2000-158818號公報等記載的色素。 另外，不受限於上述色素，亦可使用三唑化合物、三畊 化合物、喹啉藍化合物、份菁化合物、胺基丁二烯化合物 、酞菁化合物、肉桂酸化合物、氧化還原化合物、偶氮化 合物、噁唑苯并噁唑化合物、苯并三唑衍生物等之有機化 合物。於此等之化合物中以喹啉藍化合物、胺基丁二烯化 合物、苯并三唑化合物、酞菁化合物更佳。 (記錄層） 此外，於上述第2實施形態中特別以可使波長3 80〜500nm 之雷射光使用ΝΑ (開口數）爲0 . 7以上對物透鏡以記錄資訊 較佳。該記錄層例如以該記錄層至少含有作爲記錄物質之 色素所成較佳。該色素例如喹啉藍色素、噁唑色素、金屬 複合物系色素、偶氮色素、酞菁色素等，具體例如下述化 合物1或化合物2所示之記錄物質。另外，記錄層亦可含 有2種以上之不同色素。 化合物1 ,
- 2 6 - 200301476 化合物2
[S02NH(CH2)3〇CH(CH3)2]r 記錄層係使色素等之記錄物質與結合劑等同時溶解於適 當的溶劑中以調製塗覆液，然後使該塗覆液塗覆於在基板 表面上形成的光反射層上以形成塗膜後，藉由乾燥形成。 塗覆液中記錄物質之濃度一般爲0.01〜15質量％、較佳者 爲0.1〜10質量％、更佳者爲0.5〜5質量％、最佳者爲0.5 〜3質量％。 塗覆液之溶劑例如醋酸丁酯、乳酸乙酯、溶纖劑乙酸酯 等之酯；甲基乙酮、環己酮、甲基異丁酮等之酮；二氯甲 院、1,2-二氯乙烷、氯仿等之氯化烴；二甲基甲醯胺等之 驢胺；甲基環己同等之烴；四氫呋喃、乙醚、二噁烷等之 醚；乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇二丙酮醇等之醇；2，2，3，3 - 四氟丙醇等之氟系溶劑；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、 丙二醇單甲醚等之醇醚類；等。 上述溶劑就考慮使用的記錄物質之溶解性而言可以單獨 或二種以上組合使用。塗覆液中另視其目的亦可添加抗氧 化劑、UV吸收劑、可塑劑、潤滑劑等各種添加劑。 使用結合劑時，該結合劑例如明膠、纖維素衍生物、葡 聚糖、松香、橡膠等之天然有機高分子物質；聚乙烯、聚 丙烯、聚苯乙烯、聚異丁烯等之烴系樹脂、聚氯乙烯、聚 一 27- 200301476 偏二氯乙烯、聚氯乙烯•聚醋酸乙烯酯共聚物等之乙烯系 樹脂、聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯等之丙烯酸樹脂 、聚乙烯醇、氯化聚乙烯、環氧樹脂、丁縮醛樹脂、橡膠 衍生物、苯酚•甲醛樹脂等之熱硬性樹脂的初期縮合物等 合成有機高分子。倂用作爲記錄層材料之結合劑時，結合 劑之使用量對一般記錄物質而言爲〇 · 〇 1〜5 0倍量（質量比） 、較佳者爲0 · 1〜5倍量（質量比）。如此調製的塗覆液中記 錄物質之濃度一般爲0.01〜10質量％、較佳者爲〇.丨〜5質 量％ 〇 塗覆方法例如噴霧法、旋轉塗覆法、浸漬法、輥塗覆法 、塗布塗覆法、刮刀輥法、篩網印刷法等。記錄層可以爲 單層或多層。而且，記錄層之層厚一般爲20〜5 00 nm、較 佳者爲30〜300nm、最佳者爲50〜100nm。另外，塗覆液溫 度以23〜50 °C較佳、更佳者爲24〜40 °C、其中，以23〜50 °C最佳。 爲防止光碟相反時，照射於塗覆膜之紫外線以使用脈衝 型光照射器（較佳者爲UV照射器）進行較佳。脈衝間隔以 msec以下較佳、更佳者爲μηι以下。丨脈衝之照射光量沒有 特別的限制，以3kW/cm2以下較佳、更佳者爲2kW/cm2以下 〇 記錄層中爲提高該記錄層之耐光性時，可含有各種防退 色劑。 防退色劑可使用一般的單態氧急冷劑。單態氧急冷劑可 利用習知專利說明書等之刊行物記載者。 其具體例如特開昭58 - 1 75693號公報、同5 9 - 8 1 1 9 4號公 報、同60-18387號公報、同60-19586號公報、同60-19587 號、同60-35054號公報、同60-36190號公報、同60-36191 號公報、同60-44554號公報、同60-44555號公報、同 200301476 60 - 443 89號公報、同60 - 443 90號公報、同60 報、同6 0 - 4 7 0 6 9號公報、同6 3 - 2 0 9 9 9 5號公 4 - 2 5 4 9 2號公報、特公平1 - 3 8 6 8 0號公報、及 號公報等之各公報、德國專利3 - 5 0 3 9 9號說明 本化學會誌1 992年10月號第1141頁等記載者 上述單態氧急冷劑等退色劑的使用量對色素 常爲0.1〜50質量％、較佳者爲0.5〜45質量免 3〜40質量％、最佳者爲5〜25質量％。 中間層形成層步驟 於本發明光資訊記錄媒體之製法中，於上述 可設置中間層。中間層係爲提高記錄層之保存 記錄層與表層之黏合性時予以設置。中間層所 只要是可透過記錄及再現使用光之材料即可， 限制’例如一般以介電體較佳。具體而言以由 、Te、Sn、Mo、Ge等之氮化物、氧化物、碳化 所成的材料較佳，更佳者爲ZnS、M〇02、Ge02 、Ti02、ZuO、ZnS-Si02、Sn02，最佳者爲 ZnS 。而且，該中間層可藉由蒸鍍、濺鍍等之真空辰 如上所述，藉由使經由光反射層形成步驟、 成步驟、與視其所需中間層形成步驟所形成的 藉由上述表層製作步驟所製作的表層貼合，製 錄媒體。 於上述之本發明中說明有關具備含有作爲記 素等有機化合物之記錄層的光資訊記錄媒體之 記錄層可以藉由相變化進行記錄的相變化記錄 藉由光磁氣進行記錄的光磁氣記錄層。例如爲 層時，誘電層由ZnS-Si02等構成，且設置介電 透過層。而且，相變化記錄層中可使用Sb、Te - 5489 2號公 報、特開平 同 6-26028 書、以及曰 〇 之量而言通 ，、更佳者爲 記錄層上以 性、爲提高 使用的材料 沒有特別的 Zn、Si、T i 物、硫化物 、Te〇、Si02 -S i 02、S n02 之膜形成。 與記錄層形 積層體、與 得光資訊記 錄物質之色 製法例，惟 層’亦可以 相變化記錄 體層取代光 、Ag 、 in 等 200301476 之金屬化合物。 (四）實施方式 實施例 於下述中藉由實施例更詳細說明本發明，惟本發明藉由 本發明所限制。 實施例1 - 1 在具有厚度、直徑12〇mm之螺旋狀凹槽（軌距：3 00nm 、溝深：4〇nm、溝寬：I50nm)之射出成形聚碳酸酯樹脂（帝 人公司製聚碳酸酯、商品名：潘賴頓（譯音）AD5 503 )基板之 具凹槽面上’以擺鍍能量〇.2kW、Ar流量50cm3/sec之ί賤 鍍條件濺鍍Ag，形成100nm層厚之反射層。然後，使歐蘭 羅魯（譯音）藍GN (汽巴特殊化學公司製）與2,2, 3，3-四氟丙 醇混合’照射超音波2小時予以溶解以調製色素塗覆液。 使該色素塗覆液藉由旋轉塗覆法，使回轉數變化至3 0 0〜 400 0 rpm且在23°C、50%RH之條件下塗覆，形成記錄層。然 後’在23 °C、5 0%RH下進行退火2小時，藉由旋轉塗覆、 以100〜3 00 r pm塗覆UV效果黏合劑（大日本油墨化學工業（ 股）製SD3 47、對色素之溶解性：0 · 05質量％)，使碳酸酯片 板（帝人製皮亞耶斯（譯音）、膜厚7 0 μπι)，使回轉數變化 至300〜4000i:pm且全面塗覆黏合劑後，以UV照射燈照射 紫外線予以硬化，形成1 00 μιτι之表層，製得實施例1 - 1之 光資訊記錄媒體。而且，自反射層形成後至表層形成開始 經過時間爲1小時，此時之保存溫度及保存濕度各爲 23 〇C、50%。 實施例1 - 2 除自反射層形成後至表層形成開始經過時間爲6小時， 此時之保存溫度及保存濕度各爲23 °C、50%外，與實施例1 - 1 相同地製得實施例1 - 2之光資訊記錄媒體。 200301476 實施例1 - 3 除自反射層形成後至表層形成開始經過時間爲1 2小時， 此時之保存溫度及保存濕度各爲23 °C、50%外，與實施例1 - 1 相同地製得實施例1 - 3之光資訊記錄媒體。 實施例1 - 4 除自反射層形成後至表層形成開始經過時間爲1小時， 此時之保存溫度及保存濕度各爲40°C、50%外，與實施例1 - 1 相同地製得實施例1 - 4之光資訊記錄媒體。 實施例1 - 5 除自反射層形成後至表層形成開始經過時間爲1小時， 此時之保存溫度及保存濕度各爲40°C、80%外，與實施例1 - 1 相同地製得實施例1 - 5之光資訊記錄媒體。 實施例1 _ 6 於實施例1 - 1中使用A 1取代反射層形成時使用的Ag， 在濺鍍能量3,0kW、Ar流量50cm3/sec之濺鍍條件予以濺 鍍，形成100nm層厚之反射層外，與實施例1 - 1相同地製 得實施例1 - 6之光資訊記錄媒體。 實施例1 - 7 除自反射層形成後至表層形成開始經過時間爲6小時， 此時之保存溫度及保存濕度各爲45°C、50%外，與實施例1 - 1 相同地製得實施例1 - 7之光資訊記錄媒體。 實施例1 - 8 除自反射層形成後至表層形成開始經過時間爲1小時， 此時之保存溫度及保存濕度各爲40°C、90%外，與實施例1 - 1 相同地製得實施例1 - 8之光資訊記錄媒體。 比較例1-1 除自反射層形成後至表層形成開始經過時間爲1 3小時外 ，與實施例1 - 1相同地製得比較例1 - 1之光資訊記錄媒體 200301476 比較例1 - 2 除經過時間之保存溫度及保存濕度各爲40°C ' 50%外’與 比較例1 - 1相同地製得比較例1 - 2之光資訊記錄媒體。 比較例1 - 3 除經過時間之保存溫度及保存濕度各爲40 °C ' 80%外’與 比較例1 - 1相同地製得比較例1 - 3之光資訊記錄媒體。 比較例1 - 4 除經過時間之保存溫度及保存濕度各爲45 °C、50%外’與 比較例1 - 1相同地製得比較例1 - 4之光資訊記錄媒體。 比較例1 - 5 除經過時間之保存溫度及保存濕度各爲40°C、90%外，與 比較例1 - 1相同地製得比較例1 - 5之光資訊記錄媒體。 評估 對上述之各實施例及比較例所得光學資訊媒體而言進行 下述（1 )〜（3 )所示之評估。評估結果如表1所示。 (1)自反射層表面之基準面的15 nm平均突起直徑 使反射層形成後、表層形成前之光資訊記錄媒體以下述 測定條件原子間力顯微鏡（AFM)測定，求取平均表面粗度Ra ’以此作爲基準面，求取自該基準面之15nm高度的平均突 起直徑Dv。平均突起直徑Dv爲突起截面爲圓時之直徑的 平均値。該値愈大時表面之突起愈大、表面愈粗。 [測定條件] 裝置：精工音斯茲魯緬茲（譯音）公司製 SPA500 型式：AFM型（接觸型） 測定用碳針：SI AF01(彈簧常數·· 0.1N/m) 測定範圍：1 Ομπι寬 掃描線：5 1 2 X 5 1 2 - 32- 200301476 掃描速度：2 Η z (2 )跳動評估 使形成表層之光資訊記錄媒體照射波長405nm之雷射光 ，且藉由搭載透鏡開口率NA爲〇 . 8 5讀取裝置之記錄再現 目平估機（脈衝技術公司製、D D U 1 0 0 0 )，以時鐘周波數6 6 Μ Η z / 線速5 . 6m / s e c使1 - 7ΡΡ變動信號再現，時間內部脈衝分析 器測定跳動。 (3)噪音評估
使形成表層之光資訊記錄媒體藉由「（ 2 )跳動評估」使用 的記錄再現機，與（2 )同樣地記錄再現，使未記錄部之反射 率以示波器測定，以「信號之振幅/信號之大小」作爲未記 錄噪音。 表1
經過時間 (時間） 保存溫度 (。〇 保存濕度 (%) 反射層 金屬 自金屬表面 15nm之平均突 起直徑Dv(nm) 跳動 (%) 噪音 (%) 評估 實施例1-1 1 23 50 Ag 45 7.2 5.3 ◎ 實施例1-2 6 23 50 Ag 52 7.8 5.9 ◎ 實施例1-3 12 23 50 Ag 80 8.5 6.2 〇 實施例1-4 1 40 50 Ag 60 7.6 6.5 〇 實施例1-5 1 40 80 Ag 75 8.0 6.8 〇 實施例1-6 1 23 50 A1 50 7.4 5.5 ◎ 實施例1-7 1 45 50 Ag 85 8.5 7.0 Δ 實施例1-8 1 40 90 Ag 88 8.8 7.2 Δ 比較例1-1 13 23 50 Ag 110 13.1 10.3 X 比較例1-2 13 40 50 Ag 125 14.0 11.8 X 比較例1-3 13 40 80 Ag 130 16.5 12.0 X 比較例1-4 13 45 50 Ag 128 16.0 13.2 X 比較例1-5 13 40 90 Ag 132 18.5 14.0 X - 33 - 200301476 而且，於表1中具有特佳的記錄再現特性時爲◎、具有 良好的記錄再現特性時爲〇、稍許不佳惟在實用上沒有問 題時爲△、實用上沒有問題爲X ，評估各實施例及比較例 所得的光資訊記錄媒體。 由表1可知，反射層形成後、至表層形成之經過時間爲 1 2小時以下之實施例1 - 1〜1 - 8之光資訊記錄媒體之反射 層表面粗度、跳動、及噪音皆小。特別是經過時間之保存 溫度及保存濕度各保持於20〜40°C、30〜80%之實施例1 - 1 〜1 - 6中可得更佳的結果。 對此而言，經過時間大於1 2小時之比較例1 -1〜1 - 5的 光資訊記錄媒體中，反射層之表面粗度、跳動 '及噪音皆 大，故無法得到良好的結果。 實施例2 - 1 使用厚度1 . 1mm、直徑120mm、在表面上具有螺旋狀凹槽 (軌距3 4 0 n m、溝深2 0 n m、溝寬1 6 0 n m )之射出成形聚碳酸 酯樹脂（帝人公司製、商品名：潘賴頓AD5 5 03 )基板作爲圓 盤狀基板，在形成圓盤狀基板之凹槽面上藉由濺鍍法形成 膜厚120nm之Ag膜。 其次，使作爲色素之化合物1所示有機物3質量％溶解於 乳酸甲酯溶液中且施予超音波攪拌2小時，使回轉數於 3 00 r pm〜40 00 r pm變化且在23 t：、50%RH之氣氛下塗覆、形 成記錄層，然後，在23 °C、50%RH之氣氛下退火處理2小 時。另外，在該形成的記錄層表面上藉由濺鍍法形成作爲 中間層之膜厚5nm的ZnS-Si02。 然後，在該形成的中間層表面上使預先實施真空脫氣泡 6小時的UV硬化型黏合劑（SD661、大日本油墨公司製）藉 由旋轉塗覆法大約擴大至圓盤狀基板的內周端、與自內周 端至外周側之半徑方向30mm間的同心圓狀範圍內以30〜 - 34- 200301476 3 00 rpm變化且塗覆。 繼後，使附有保護片板之表層片板（保護片板厚度爲8 5 μιτι 、表層材質爲由聚碳酸酯所成的聚碳酸酯片板、皮亞耶斯 帝人公司製）之黏合面重疊於塗覆有黏合劑之中間層表面上 ，再藉由使圓盤狀基板在30rpm〜8000rpm變化下回轉，使 UV硬化型黏合劑全面擴大於表層與中間層之間，使表層與 中間層貼合。在該狀態下以UV照射燈照射紫外線，藉由附 有保護片板之表層片板、與中間層黏接、貼合以形成表層 ，再藉由自該表層表面使保護片板剝離，製作實施例2 - 1 之光資訊記錄媒體。 實施例2 - 2 使用厚度1 . 1mm、直徑120mm、在表面上具有螺旋狀凹槽 (軌距3 40nm、溝深20nm、溝寬160nm)之射出成形聚碳酸 酯樹脂（帝人公司製、商品名：潘賴頓AD5 503 )基板作爲圓 盤狀基板，在形成圓盤狀基板之凹槽面上藉由濺鍍法形成 膜厚120nm之Ag膜。 其次，使作爲色素之化合物2所示有機物3質量％溶解於 乳酸甲酯溶液中且施予超音波攪拌2小時，使回轉數於 3 0(^?111〜4000 ”111變化且在23°(：、50%^之氣氛下塗覆、形 成記錄層，然後，在23°C、50%RH之氣氛下退火處理2小 時。另外，在該形成的記錄層表面上藉由濺鍍法形成作爲 中間層之膜厚5nm的ZnS-Si02。而且，於化合物2所示有 機物的構造式中η係指1〜4之整數。 在該形成的中間層表面上使預先實施真空脫氣泡6小時 的UV硬化型黏合劑（SD661、大日本油墨公司製）藉由旋轉 塗覆法大約擴大至圓盤狀基板的內周端、與自內周端至外 周側之半徑方向30mm間的同心圓狀範圍內以30〜30 Or pm 200301476 繼後，使附有保護片板之表層片板（保護片板厚度爲85μηι 、表層材質爲由聚碳酸酯所成的聚碳酸酯片板、皮亞耶斯 帝人公司製）之黏合面重疊於塗覆有黏合劑之中間層表面上 ，再藉由使圓盤狀基板在30rpm〜8000rpm變化下回轉，使 UV硬化型黏合劑全面擴大於表層與中間層之間，使表層與 中間層貼合。在該狀態下以UV照射燈照射紫外線，藉由附 有保護片板之表層片板、與中間層黏接、貼合以形成表層 ，再藉由自該表層表面使保護片板剝離，製作實施例2 - 2 之光資訊記錄媒體。 比較例2 - 1 與實施例2 - 1相同地，在圓盤狀基板之形成凹槽面上依 序形成反射層、記錄層及中間層，在該中間層表面上使預 先實施真空脫氣泡6小時的UV硬化型黏合劑（SD661、大曰 本油墨公司製）藉由旋轉塗覆法大約擴大至圓盤狀基板的內 周端、與自內周端至外周側之半徑方向30mm間的同心圓狀 範圍內以30〜300r pm變化且塗覆。 繼後，使實施例1使用的附有保護片板之表層片板與保 護片板與表層片板完全分離，且使該表層片板之黏合面重 疊於塗覆有黏合劑之中間層表面上，再藉由使圓盤狀基板 在30i:pm〜8000 rpm變化下回轉，使UV硬化型黏合劑全面 擴大於表層與中間層之間，使表層與中間層貼合。在該狀 態下以UV照射燈照射紫外線，藉由附有保護片板之表層片 板、與中間層黏接、貼合以形成表層，製作比較例2 - 1之 光資訊記錄媒體。 比較例2 - 2 與實施例2 - 1相同地，在圓盤狀基板之形成凹槽面上依 序形成反射層、記錄層及中間層，在該中間層表面上使預 先實施真空脫氣泡6小時的UV硬化型黏合劑（SD661、大曰 200301476 本油墨公司製）藉由旋轉塗覆法大約擴大至圓盤狀基板的內 周端、與自內周端至外周側之半徑方向3 0mm間的同心圓狀 範圍內以30〜300 r pm變化且塗覆。
其次，使實施例2使用的附有保護片板之表層片板與保 護片板與表層片板完全分離，且使該表層片板之黏合面重 疊於塗覆有黏合劑之中間層表面上，再藉由使圓盤狀基板 在30rpm〜8000 rpm變化下回轉，使UV硬化型黏合劑全面 擴大於表層與中間層之間，使表層與中間層貼合。在該狀 態下以UV照射燈照射紫外線，藉由附有保護片板之表層片 板、與中間層黏接、貼合以形成表層，製作比較例2 - 2之 光資訊記錄媒體。 塵埃之評估方法
評估實施例2 - 1〜2 - 2及比較例2 - 1〜2 - 2製作的光資訊 記錄媒體之記錄層與表層片板間的黏合層上混入的塵埃， 使用特雷仙頓李克（譯音）微測器TL10(kowa公司製），以倍 率1 00倍觀察光資訊記錄媒體表面，藉由觀察黏合層上發 生的氣泡數目予以實施。而且，塵埃之發生數作爲4視野 之氣泡數平均値求得。實施例及比較例所得的光資訊記錄 媒體之塵埃發生數評估結果如表2所示。 表2 塵埃發生數（個/視野） 實 施 例 2-1 0 實 施 例 2-2 0 比 較 例 2-1 35 比 較 例 2-2 42 實施例3-1 在具有厚度1 . 1mm、直徑120mm之螺旋狀凹槽（深度：lOOnm -37- 200301476 、寬度：1 2 0 n m、軌距·· 3 2 0 n m )基板上使聚碳酸酯樹脂（帝 人公司製聚碳酸酯、商品名：潘賴頓（譯音）AD5 503)射出 成形。在所得基板之具有凹槽面上濺鍍Ag以形成1 〇〇nm厚 度之光反射層（光反射層形成步驟）。 然後’將20g歐蘭羅魯（譯音）藍GN(汽巴特殊化學公司 製）添加於1 L之2，2，3，3 -四氟丙醇中，照射超音波2小時 進行溶解以調製記錄層形成用之塗覆液。使調製的塗覆液 藉由旋轉塗覆法，使回轉數變化至300〜4000 rpm且在23°C 、50%RH之條件下塗覆。其次，在記錄層上濺鍍厚度 之ZnS-Si02以形成中間層。 表層之製作 黏合劑塗覆液之調製 使丙烯酸系共聚物（溶劑：醋酸乙酯/甲苯=1 / 1 )、與異氰 酸酯系交聯劑（溶劑··醋酸乙酯/甲苯/ 1 )以1 00 : 1 (質量 比）混合，調製黏合劑塗覆液A。 (a )在捲取成輥狀之表層表面上連續設置含有交聯劑之黏 合層步驟、以及（b)再使設有黏合層之表層薄膜捲取成 輥狀的步驟 首先，使用第1圖所示的黏合層設置裝置，在表層薄膜 表面上設置黏合層。使捲於輥1之聚乙烯製脫模薄膜朝箭 頭方向送出，且使用設置的塗覆部2，在脫模薄膜表面上 塗覆黏合劑塗覆液A (塗覆步驟）。然後，使形成有黏合劑 塗覆層之脫模薄膜藉由設置於乾燥區域的乾燥方法3、在 1 00 °C下乾燥（乾燥步驟），製得具備黏合層之脫模薄膜。然 後，使具備黏合層之脫模薄膜，與另外搬送自輥4送出的 表層薄膜（聚碳酸酯薄膜、帝人皮亞耶斯、厚度：80μπι、附 有單面脫模薄膜）在貼合區域a中，以表層薄膜之聚碳酸酯 面與黏合層相接下貼合（貼合步驟）。其次，以輥5使具備 200301476 黏合層之脫模薄膜與表層薄膜共捲（捲取步驟）。 (C ) 保持至黏合層之交聯反應實質上完成的步驟 然後，使具備黏合層之脫模薄膜與表層薄膜共捲的狀態 之輥5，在23°c、50%RH之氣氛中保持72小時。該「72小 時」係爲在上述氣氛中以紅外線分光吸收光譜經時測定本 實施例之黏合層，直至實質上出現異氰酸酯由來之2275〜 2 2 5 0 cur1附近之吸收波峰的經過時間，對應於本實施例之 「直至黏合層之交聯反應實質上完成爲止」之時間。 而且，於本步驟中紅外線分光吸收光譜在下述條件下以 FT-IR、1次反射法測定。 測定機：撒摩 尼克雷（譯音）日本製 N e X u s 6 7 0 測定裝置：OMNI - Sampler 1次反射型水平ATR裝置 積算次數··々cnT1 32次 檢測器：MCT - A (高感度檢測器） U)使設有黏合層之表層薄膜穿孔成光碟狀的步驟、以及（e ) 使設有光碟狀黏合層之表層薄膜約水平積層、保持的 步驟 使具備共捲狀態之黏合層的脫模薄膜與表層薄膜自輥5 送出’穿孔成與上述基板相同的形狀。具備經穿孔的黏合 層之脫模薄膜與表層薄膜之積層體，如第2圖所示嵌入具 有較中心孔稍小外徑之料軸，約略水平積層5 0張。在該狀 態下保持1小時。 然後，每次取出一張且剝離黏合劑側之脫模薄膜，使上 述中間層與黏合層藉由輥予以押壓的方法貼合，製作光記 錄資訊媒體。 評估 (1) C/N(搬送波對雜音比）
使所製作的光資訊記錄媒體使用405nm雷射、搭載有NA 200301476 :0 · 8 5波峰之記錄再現評估機（脈衝技術公司製：DDU 1 0 0 0 ) ，在時鐘周波數66ΜΗζ/線速5.6m/s之條件下、以單一周 波數之信號（2Τ = 0 · 13μπι)記錄及再現，使用光譜分析器測定 C / Ν。結果如表3所示。 (2) 表層之厚度不均評估 使所製作的光資訊記錄媒體以奇恩斯（譯音）雷射變位計 (LT80 20 )，使2點間作爲片板距離之可測定表層厚度以光 資訊記錄媒體之圓周方向8點（4 5 °間隔）、半徑方向8點 (5mm間隔）、共計64點測定，自（最大値-平均値）、與（平 均値-最小値）之値求取厚度不均。結果如表3所示。 (3) 密接力 使所製作的光記錄資訊媒體在80°C、80%RH之環境下放 置48小時。然後使光資訊記錄媒體之表層以手捲取，觀察 是否有剝離情形。有剝離者爲X 、沒有剝離、惟端部有捲 曲情形者爲△、沒有剝離者爲〇。結果如表3所示。 實施例3 - 2 除保持至於實施例3 - 1之（c )黏合層的交聯劑實質上完成 之步驟中，使具備黏合層之脫模薄膜與表層薄膜共捲狀態 之輥5在23 °C、50%RH之氣氛下保持168小時外，與實施 例3 - 1相同地製作實施例3 - 2之光資訊記錄媒體。 使製作的光資訊記錄媒體與實施例3 - 1相同的評估。結 果如表3所示。 實施例3 - 3 除於貫施例3 - 1之（e )設有光碟狀黏合層之表層薄膜約略 水平、積層、保持的步驟中，積層5 0張具備穿孔的黏合層 之脫模薄膜與表層薄膜之積層體，在該狀態下保持2 4小時 外，與實施例3 - 1相同地製作實施例3 - 3之光資訊記錄媒 體。 -40 - 200301476 使製作的光資訊記錄媒體與實施例3 -1相同的評估。結 果如表3所示。 比較例3 - 1 除保持至於實施例3 - 1之（c )黏合層的交聯劑實質上完成 之步驟中，使具備黏合層之脫模薄膜與表層薄膜共捲狀態 之輕5在2 3 °C、5 0%RH之氣氛下保持48小時外，與實施例 3 - 1相同地製作比較例3 - 1之光資訊記錄媒體。而且，4 8 小時之保持時間係除黏合層之交聯反應實質上完成的範圍 外之時間 使製作的光資訊記錄媒體與實施例3 — 1相同的評，估。結 果如表3所示。 比較例3 - 2 除於實施例3 - 1之（e )設有光碟狀黏合層之表層薄膜約略 水平、積層、保持的步驟外，與實施例3 - 1相同地製作比 較例3 - 2之光資訊記錄媒體。 使製作的光資訊記錄媒體與實施例3 - 1相同的評估。結 果如表3所示。 比較例3 - 3 除實施例3 - 1之黏合劑塗覆液的調製中，沒有使用異氰 酸酯交聯劑外，與實施例3 - 1相同地製作比較例3 - 3之光 資訊記錄媒體。 使製作的光資訊記錄媒體與實施例3 - 1相同的評估。結 果如表3所示。 比較例3 - 4 預先在穿孔成光碟狀之脫模薄膜表面上使用旋轉塗覆以 塗覆實施例3 - 1使用的黏合劑塗覆液A。藉由該黏合劑塗 覆液A形成的黏合層上貼合相同的在光碟上穿孔的聚碳酸 酯薄膜，保持7 2小時。然後，如第2圖所示約略水平、積 200301476 層50張保持1小時，製得表層外，與實施例3 - 1相同地製 作比較例3 - 4之光資訊記錄媒體。此處，使用的脫模薄膜 及聚碳酸酯薄膜爲與實施例3 - 1相同者。 使製作的光資訊記錄媒體與實施例3 - 1相同的評估。結 果如表3所不。 表3 交聯劑 塗覆方法 車毘狀之保 持時間（h) 水平之保 持時間（h) C/N(dB) 厚度不均 (μπ〇 密接力 實施例3-1 有 輥狀連續塗覆 72 1 52 土 1 〇 實施例3-2 有 輥狀連續塗覆 168 1 51 ± 0·8 〇 實施例3-3 有 輥狀連續塗覆 72 24 55 ±0.9 〇 比較例3-1 有 輥狀連續塗覆 48 1 45 ±4 Δ 比較例3-2 有 輥狀連續塗覆 72 0 41 ±1 〇 比較例3-3 迦 /\\\ 輥狀連續塗覆 72 1 49 ±1 X 比較例3-4 有 旋轉塗覆 0 1 38 土 6 〇 實施例4 - 1 經由與實施例3 - 1相同的步驟（a )〜（c )，作成輥5。然 後，（d )使設有黏合層之表層薄膜穿孔成光碟狀、以及（e ) 使設有光碟狀黏合層之表層薄膜略爲垂直積層、保持的步 驟係爲使具有共捲狀態的黏合層之脫模薄膜與表層薄膜自 輥5送出，且穿孔成與上述基板相同的形狀。具備有穿孔 的黏合層之脫模薄膜與表層薄膜的積層體，如第3圖所示 對在固定面F上固定的台座30而言，垂直設置的料軸40 上略爲垂直嵌入，積層5 0張。此時，調距板5 0係使自台 座30之距離與上述積層體之厚度相等。在該狀態下保持1 小時。 然後，每次取出一張且剝離黏合劑側之脫模薄膜’藉由 -42- 200301476 輥之押壓方法貼合上述中間層與黏合層，製作光資訊記錄 媒體。 與實施例3 - 1相同地評估（1 ) C / N (對搬送波之雜音比）、（2 ) 表層之厚度不均、（3 )密接力。結果如表4所示。 另外，除（Ο使設有光碟狀黏合層之表層薄膜略爲垂直積 層保持外，經由與實施例3 - 2〜3 - 3及比較例3 - 1〜3 - 4相 同的步驟，做成實施例4 - 2〜4 - 3及比較例4 - 1〜4 - 4，進 行與實施例4 - 1相同的評估。結果如表4所示。 表4 交聯劑 塗覆方法 輥狀之保 持時間（h) 垂直之保 持時間（h) C/N(dB) 厚度不均 (μηι) 密接力 實施例4-1 有 輥狀連續塗覆 72 1 54 ±1 〇 實施例4-2 有 輥狀連續塗覆 168 1 53 ±0.9 〇 實施例4-3 有 輥狀連續塗覆 72 24 56 土0.9 〇 比較例4-1 有 輥狀連續塗覆 48 1 46 ±4 Δ 比較例4-2 有 輥狀連續塗覆 72 0 41 ±1 〇 比較例4-3 /fnT ΙΙΙΙΓ J\\\ 輥狀連續塗覆 72 1 48 ±1 X 比較例4-4 有 旋轉塗覆 0 1 37 ±6 〇 由表3及表4之結果可知，使用本發明之製法製作的實 施例3 - 1〜3 - 3及4 - 1〜4 - 3之光資訊記錄媒體，記錄特性 之C / N、厚度不均、以及密接力皆佳。 另外，比較例3 - 1〜3 - 4及4 - 1〜4 - 4之光資訊記錄媒體 ，與實施例3 - 1〜3 - 3及4 - 1〜4 - 3之光資訊記錄媒體相比 時記錄特性之C / N較低。而且，由比較例3 - 1〜3 - 4及4 - 1 〜4 - 4之黏合層的交聯反應於實値上沒有完成時，或由比 較例3 - 4及4 - 3之黏合層沒有使用交聯劑可知，厚度不均 及密接力皆不佳。另外，由比較例3 - 2及4 - 2可知沒有設 -43- 200301476 置約水平或約垂直的保持步驟時，c / N大爲降低。由比較 例3 - 4、4 - 4中可知以旋轉塗覆形成黏合層、且黏合層之交 聯反應實質上沒有完成時，記錄特性之c / N變低、厚度不 均變大。 (五）圖式簡單說明 第1圖係在表層薄膜表面上連續設置黏合層之方法例示 的一形態所使用的黏合劑設置裝置之示意剖面圖。 第2圖係以保持方法使設置有光碟狀黏合層之表層薄膜 略爲水平積層狀態之示意圖。 第3圖係以保持方法使設置有光碟狀黏合層之表層薄膜 略爲垂直積層狀態之示意圖。 符號說明’· fl 脫模薄膜 f2 表層薄膜 1 輥 2 塗覆部 3 乾燥手段 4 輥 5 輥 f3 表層薄膜 f4 表層薄膜 10 台座 20 料軸 30 台座 40 料軸 50 間隔片 F 固定面 一 44-

Claims (1)

  1. 200301476 拾、申請專利範圍 1 . 一種光資訊記錄媒體之製法，其係爲以軌距爲200〜 400nm、溝深爲20〜150nm、波長爲450nm以下之光記錄 再現的光資訊記錄媒體製法，其至少依序具有 在基板上形成金屬反射層之金屬反射層形成步驟； 在該金屬反射層上形成有機色素系記錄層的記錄層形 成步驟；及 在該記錄層上形成表層之表層形成步驟。 2 .如申請專利範圍第1項之光資訊記錄媒體之製法，其中 表層之厚度爲0.01〜〇.5mm，自金屬反射形成步驟完成 後至表層形成步驟開始之時間爲1 2小時以下。 3 .如申請專利範圍第1項之光資訊記錄媒體之製法，其中 藉由於表層形成步驟中在該記錄層上使表層片板接合面 使用黏合劑貼合的貼合步驟形成表層，此處之貼合步驟 係使預先貼合於與表層片板之接合面相反面的保護片板 ，於在該記錄層形成面上貼合表層片板之接合面後自表 層表面剝離。 4 .如申請專利範圍第1項之光資訊記錄媒體之製法，其中 表層形成步驟包含在記錄層上使由設有黏合層之表層薄 膜所成的表層在該黏合層與該表面相接下貼合的步驟’ 此處之表層係依序經由在捲取成輥狀的表層薄膜表面上 連續設置含有交聯劑之黏合層步驟，及 保持至該黏合層之交聯反應實質上完成的步驟，及 使設有該黏合層之表層薄膜穿孔成光碟狀的步驟’及 -45- 200301476 使設置光碟狀黏合層之表層薄膜略爲水平積層、保持的 步驟所作成。 5 .如申請專利範圍第1項之光資訊記錄媒體之製法’其 _ 中表層形成步驟包含在記錄層上使由設有黏合層之表層 薄膜所成的表層在該黏合層與該表面相接下貼合的步驟 ，此處之表層係依序經由在捲取成輥狀的表層薄膜表面 上連續設置含有交聯劑之黏合層步驟，及 保持至該黏合層之交聯反應實質上完成的步驟，及 | 使設有該黏合層之表層薄膜穿孔成光碟狀的步驟，及 使設置光碟狀黏合層之表層薄膜略爲垂直積層、保持的 步驟所作成。 6 .如申請專利範圍第2項之光資訊記錄媒體之製法，其中 自金屬反射層形成步驟後至表層形成步驟開始之保存溫 度爲20〜40°C，保存濕度爲30〜80%。 7 .如申請專利範圍第3項之光資訊記錄媒體之製法，其中 表層薄膜之厚度爲50μηι〜ΙΟΟμηι。 泰 8 .如申請專利範圍第3項之光資訊記錄媒體之製法，其中 保護片板爲由厚度ΙΟμιτι〜ΙΟΟμηι範圍之聚對酞酸乙二酯 或聚乙烯所成。 9 .如申請專利範圍第3項之光資訊記錄媒體之製法，其中 黏合劑爲UV硬化型接合劑或黏合劑。 1 〇 .如申請專利範圍第4項之光資訊記錄媒體之製法，其中 連續設置捲取成輥狀之表層薄膜表面上含有交聯劑之黏 合層的步驟含有在捲取成輥狀之脫模薄膜表面上連續塗 一 4 6 - 200301476 覆含有交聯劑之黏合劑、形成黏合劑塗覆層之步驟，及 使在該脫模薄膜表面上形成的黏合劑塗覆層乾燥的步驟 ，及 使該黏合劑塗覆層與表層薄膜相接、貼合的步驟。 11 ·如申請專利範圍第1 〇項之光資訊記錄媒體之製法，其中 黏合劑爲由丙烯酸系黏合劑所成。 1 2 ·如申請專利範圍第1 0項之光資訊記錄媒體之製法，其中 交聯劑爲異氰酸酯系交聯劑。 1 3 ·如申請專利範圍第5項之光資訊記錄媒體之製法，其中 連續設置捲取成輥狀之表層薄膜表面上含有交聯劑之黏 合層的步驟含有在捲取成輥狀之脫模薄膜表面上連續塗 覆含有交聯劑之黏合劑、形成黏合劑塗覆層之步驟，及 使在該脫模薄膜表面上形成的黏合劑塗覆層乾燥的步驟 ，及 使該黏合劑塗覆層與表層薄膜相接、貼合的步驟。 1 4 ·如申請專利範圍第1 3項之光資訊記錄媒體之製法，其中 黏合劑爲由丙烯酸系黏合劑所成。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項之光資訊記錄媒體之製法，其中 交聯劑爲異氰酸酯系交聯劑。 -47 -
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