SE506531C2 - Komposition och förfarande för elektroplätering av guld eller guldlegering - Google Patents

Komposition och förfarande för elektroplätering av guld eller guldlegering

Info

Publication number
SE506531C2
SE506531C2 SE9100503A SE9100503A SE506531C2 SE 506531 C2 SE506531 C2 SE 506531C2 SE 9100503 A SE9100503 A SE 9100503A SE 9100503 A SE9100503 A SE 9100503A SE 506531 C2 SE506531 C2 SE 506531C2
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
gold
composition according
plating
composition
optionally
Prior art date
Application number
SE9100503A
Other languages
English (en)
Other versions
SE9100503L (sv
SE9100503D0 (sv
Inventor
Jan J M Hendriks
Gerardus A Somers
Henrica M H Van Der Steen
Original Assignee
Enthone Omi Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Enthone Omi Inc filed Critical Enthone Omi Inc
Publication of SE9100503D0 publication Critical patent/SE9100503D0/sv
Publication of SE9100503L publication Critical patent/SE9100503L/sv
Publication of SE506531C2 publication Critical patent/SE506531C2/sv

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/48Electroplating: Baths therefor from solutions of gold
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/62Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of gold

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)

Description

15 20 25 30 506 531 2 IEP-A-O 150 439 beskrives elektropläteringsbad för guldlegering, vilka innehåller prestandapromotorer, som är substituterade pyridinföreningar, speciellt pyridinkar- boxylsyror, pyridinsulfonsyror, pyridintioler och derivat därav eller kinolinderivat.
I US-A-3 929 595 beskrives pyridin-S-sulfonsyror, pikolin-sulfonsyror och kinolin- sulfonsyror som tillsatser till elektropläteringsbad fór guld och guldlegering.
I EP-A-0 188 386 beskrives elektropläteringsbad för guldlegering, vilka innehåller prestandaökande tillsatser, som är pyridin- eller piperazinderivat och som jämfóres gynnsamt med pyridin-3 -sulfonsyra. i Ändamålet med föreliggande uppfmning är att åstadkomma pläteringskompositioner för guld eller guldlegering, vilka innehåller effektiva prestandapromotorer, som skiljer sig från och utgör en förbättring i jämförelse med de tidigare föreslagna.
Ett ytterligare ändamål är att åstadkomma ett förfarande fór sur elektroplätering av nickelhärdat guld, speciellt avsett för elektrisk kontaktindustri. Förfarandet bör vara synnerligen mångsidigt och lämpa sig fór plätering i ställ, trumma, från rulle till rulle, punktvis och automatisk områdesplätering. Förfarandet skall uppvisa optimala mekaniska, fysikaliska och kemiska egenskaper fór kontakttillärnpningar och vara idealt anpassat till användning vid framställning av både kontakter och tryckta krets- kort.
Det har visat sig att utmärkt prestandaökning kan erhållas genom att man i pläte- ringskompositioner fór guldlegering infórlivar en eller flera pyridin- eller isokinolin- betainer, som ger gynnsamma resultat i jämförelse med exempelvis pyridin-3-sulfon- syra.
Föreliggande uppfinning hänfór sig fór det första till en pläteringskomposition för guld eller guldlegering, vilken omfattar: en källa fór guldjoner; eventuellt en källa fór legeringsmetalljoner; eventuellt ett komplexbildande medel för legeringsmetalljo- 10 15 20 25 30 506 531 3 nerna om sådana är närvarande; och åtminstone en tillsatsflârening med den allmärma formeln IA eller IB: \ R I (IA) (IB) m-zæ / m-zæ __ QO vari: vardera av Rl och Rz, oberoende av varandra, betecknar en väte- eller halogenatom eller en fonnyl-, karbamoyl-, C1_4-alkyl-, amino-, fenyl- eller bensylgrupp, vari al- kyl-, fenyl- och bensyldelama eventuellt kan vara substituerade med en eller flera hydroxi- eller aminogrupper eller halogenatomer; R3 betecknar en alkylengrupp med l-6 kolatomer, som eventuellt kan vara hydroxy- lerad; och Q betecknar -SOZ- eller -CO-.
Källan till guldjoner är i allmänhet löslig i badet och är företrädesvis ett guld(I)salt, som t ex skulle kunna vara en alkalirnetallguld(l)cyanid eller annnonium- guld(l)cyanid. Guldet kan vara närvarande i en mängd av 1-30 g/l, företrädesvis 2- 20 g/l, t ex 4-12 g/l.
Legeringsmetalljonerna kan, om sådana är närvarande, vara vilken lämplig lege- ringsmetall som helst. Typiskt använda legeringsmetalljoner omfattar nickel, kobolt och järn, även om järn är mindre lämpligt p g a dess tendens att ge sköra avsätt- ningar. Nickel är den mest lämpliga legeringsmetallen eftersom förbättringarna er- hållna genom tillsatsema enligt uppfinningen är speciellt märkbara med denna me- tall. Källan till legeringsmetalljoner är i allmänhet löslig i badet och kan omfatta vil- 10 15 20 25 506 531 4 ket i badet lösligt och med badet kombinerbart salt av den legerande metallen som helst. Sulfater är speciellt lärnpliga salter och föredrages. Legeringsmetallen kan vara närvarande i en mängd av 0-20 g/l, företrädesvis från 0,05 eller 0,5 till 5 g/l, tex från 1 till 3 g/l.
Pläteringskompositioner för guldlegering enligt föreliggande uppfinning kan omfatta ett eller flera komplexbildande medel för legeringsmetalljonerna. Det komplexbil- dande medlets beskaffenhet anses ej vara kritisk, varför vilket lämpligt komplexbil- dande medel som helst i lärnpliga mängder kan användas. Svaga organiska syror, såsom citrat och oxalat, kan användas, liksom DEQUEST®-kompositioner. Om en eller flera svaga organiska syror användes såsom komplexbildande medel, vilket fö- redrages, kan dessa även uppfylla den ytterligare fimktionen att buffra den vatten- haltiga pläteringskompositionen. Föreningar, som skulle kunna ha förrnåga att komplexbilda en legeringsmetalljon, kan således vara närvarande i ett rent guldplä- teringsbad, vari ingen märkbar mängd legeringsjoner finns närvarande. Det under- förstås att då man i föreliggande beskrivning hänvisar till en svag organisk syra eller dess anjon användes dessa uttryck sinsemellan utbytbart; beskaffenheten av den när- varande föreningen kommer att bero på badets pH-värde. Citronsyra är användbar såsom komplexbildande medel, liksom oxalsyra, som kan användas tillsammans med äppelsyra. Koncentrationen av det komplexbildande medlet kan sträcka sig från 0,1 till 2M, t ex 0,2-l,5M, typiskt från 0,5M till l,lM.
Tillsatsföreningen är en pyridinbetain eller isokinolinbetain med den allmänna for- meln IA eller IB, såsom angives ovan. Det är lämpligt att åtminstone en av substituenterna RI och Rz i den allmänna formeln IA (pyridinbetainerna) skall vara väte och att substituenten RI i föreningen med den allmänna formeln IB (isokinolinbetainer) skall vara väte. I den allmänna formeln IA kan åtminstone en av RI och Rz vara karbarnoyl eller företrädesvis forrnyl. 10 15 20 25 30 506 531 5 R3 betecknar företrädesvis en alkylengrupp med 1-4 kolatomer, såsom etylen eller propylen. Alkylengruppen kan vara hydroxylerad; t ex föredrages speciellt en 2- hydroxipropylengmpp.
Det är lämpligt att Q betecknar S02 så att tillsatsföreningarna är betainsulfonater i stället för betainkarboxylater. Bland de mest föredragna föreningarna firms: 1-(3-sulfopropyl)-pyridiniumbetain; I-(2-hydroxi-3-sulfopropyl)-pyridiníumbetain; 3 -forrnyl- 1-(3 -sulfopropyD-pyridiniumbetain; 3 -karbarnoyl- l -(3 -sulfopropyD-pyridiniumbetain; l-(Z-sulfoetyß-pyridiniurnbetain; och I-(3-sulfopropyl)-isokinoliniumbetain, vilka alla firms kommersiellt tillgängliga.
Tillsatsföreningen kan vara närvarande i kompositionema enligt uppfmningen i en mängd av från 0,05 eller 0,1 till l0 g/l, typiskt 0,5-5 g/l, t ex l-3 g/1.
Ett pH-reglerande medel, t ex kalimnhydroxid eller annan al-kalimetallhydroxid, kan vara närvarande i badet, företrädes-vis i en mängd, som ger ett slutligt pH-värde för badet av 3,2-5,5, speciellt 3,5-4,9. Såsom närrmts ovan kan ett buff-rande system vara närvarande för att underlätta vid Stabilisering av pH-värdet och ett citron- syra/alkalimetallcitrat-system fungerar effektivt i detta avseende. Vilket annat lämp- ligt buffringssystem som helst kan vara närvarande, om så önskas. Även om det ej är nödvändigt att badet innehåller några ytterligare tillsatser, kan andra tillsatser användas för att modifiera och/eller förbättra glansen, duktiliteten, kom-finheten och liknande. Komponenter för dessa och andra ändamål, såsom kan vara konventionellt inom tekniken, kan tillsättas i enlighet med känd praktik. Härvid 10 15 20 25 30 506 531 6 bör emellertid de tillsatta komponentema vara kombinerbara med de övriga bad- komponentema och ej uppvisa några ofórdelaktiga effekter på badet eller dess drift.
Uppfinningen hänför sig även till ett förfarande för elektrolytisk avsättning av guld- eller guldlegeringsplätering på ett underlag, vilket förfarande omfattar att man bringar ett underlag såsom katod i kontakt med en vattenhaltig komposition enligt uppfinningen och bringar ström att passera mellan katoden och en anod i komposi- tionen.
Kompositionen kan drivas vid en temperatur av 20-80°C, lämpligen från 30 till 70° C, t ex från 35 till 60°C, under plätering.
Underlaget kan bringas i kontakt med kompositionen på vilket lämpligt sätt som helst. Det är vanligtvis lämpligast att doppa underlaget i ett bad av den vattenhaltiga kompositionen, men detta är ej det enda sättet, genom vilket kontakt kan åstadkom- mas mellan kompositionen och underlaget. Exempelvis kan sprutplätering eller be- strylcningsplätering vara lärnpliga eller önskvärda under vissa omständigheter.
Oberoende av vilket förfarande som användes för kontakt mellan kompositionen och underlaget, är det i allmänhet lämpligt att åstadkomma omröring av kompositionen för att förorsaka turbulens i ett pläteringsbad. Omröring kan uppnås på vilket lämp- ligt sätt som helst och kommer vanligtvis att bestämmas genom det speciella pläte- ringsförfarande som användes. Uppfinningen kan användas vid plätering i trumma, plätering i ställ, reglerad dopplätering och sprutplätering och vardera av dessa pläte- ringsförfaranden har något speciellt sätt för uppnående av omröring.
Tillsatserna använda i kompositionerna enligt föreliggande uppfinning möjliggör användning av högre strömtätheter, eller användning av en lägre koncentration av guld eller en kombination av dessa två fördelar. Om det huvudsakliga ändamålet är att maximera strömtätheten, kan plätering i trumma äga rum vid 0,6 A/dmz eller mer, 10 15 20 25 30 506 531 7 plätering i ställ vid 2 eller 3 A/dmz eller mer, reglerad dopplätering vid 15 A/dmz eller mer och sprutplätering vid 100 A/dmz eller mer.
Pläteringstiden kommer att vara sådan att man uppnår den önskade pläteringstjockle- ken och har ett tydligt samband med pläteringshastígheten. Pläteringshastigheten beror i sin tur på strömtätheten. Pläteringshastigheter av storleksordningen 10- ZOpm/minut kan lätt uppnås med hjälp av föreliggande uppfinning. Kontakttider mellan underlaget och pläteringskompositionen kan därför variera från några få se- kimder (t ex 2 eller 5 sekunder) till flera minuter (t ex från 5 till 10 minuter eller mer). Efter pläteringen sköljes företrädesvis det på avsett sätt pläterade underlaget i mjukt eller avjoniserat vatten, speciellt då oxalat användes i kompositionen, för undvikande av olämpliga avsättningar av kalciumoxalat eller andra salter.
Tjockleken för guld- eller guldlegeringspläteringen på underlaget kan vara åt- minstone 1 um.
Andra föredragna kännetecken på förfarandet enligt uppfinningen är desamma som beträffande kompositionen enligt uppfinningen med vederbörliga ändringar.
Följande icke-begränsande exempel är avsedda att ytterligare åskådliggöra uppfin- ningen och beskrives tillsammans med järnförelseexempel.
J ämförelseexempel 1 Man framställde ett bad med följande sammansättning: DL-äppelsyra 95 g/l Oxalsyra 37,0 g/l Guld (såsom guld(l)kaliumcyanid) 8 g/l Nickel (såsom nickelsulfat) 1,0 g/l Kaliurnhydroxid till pH 4,2 Destillerat vatten upp till l l 10 15 20 25 30 506 531 Badet med ovanstående sammansättning placerades i ett pläteringssystem med turbu- lent omröring i laboratorieskala. Elektrolyt pumpades genom två rör in i en 1 l bä- gare och leddes genom hål i rören mot underlaget, som var nedsänkt såsom katod i bägaren. Elektrolytlösningen pumpades bort genom ett tredje rör i bägaren. Katoden befinner sig mellan två matarrör och anoder är placerade mnt matarröret vid sådant läge, att de ej stör lösningsströmningen.
Lösningen upphettas till och hålles vid en temperatur av 45 °C och pumpas nmt systemet vid en strömningshastighet av 2 1/ minut (vilken strömningshastighet mätes med vatten vid rumstemperatur).
Detta bad drives vid en slutlig godtagbar strömtäthet av 4 A/dmz. En helt glänsande avsättning på 1,5 um uppnåddes vid en pläteringshastighet av 1,5 pm/minut. Pläte- ringsutbytet var 65 mg/Arninut. För järnförelseändainål gavs badet en kvalitetsbe- dömning av 0. Kvalitetsbedömningen är huvudsakligen baserad på pläteringsutbytet och förmågan att motstå bränning vid höga strömtätlietsorriråden.
Exempel 1 Förfarandet i Järníörelseexempel 1 upprepades, men med tillsats av 2,0 g l-(3-sul- fopropyD-pyridiniumbetain (tillgängligt från Raschig GmbH, Ludwigshafen, Tyskland) i pläteringskompositionen. Strömtätheten använd i detta bad var 15 A/dmz, vid vilken helt glänsande avsättningar med en tjocklek av 1,5 pm uppnåddes vid en pläteringshastighet av 2,7pm/minut, vilket motsvarade en betydlig förbättring över det jämförande exemplet 1. Pläteringsutbytet var 31 mg/Aminut. Vid 4 A/dmz var hastigheten 1,3 pin/minut, vilket motsvarar ett pläteringsutbyte av 55 mg/A.minut. Badet gavs en kvalitetsbedömning av 10. 10 15 20 25 30 506 531 Exempel 2 Förfarandet i det jämförande exemplet l upprepades, men med tillsats av 1,5 g/1 l- (3-sulfopropyl)-isokinoliniumbetain (Raschig) i pläteringskompositionen. Den maximalt användbara strömtätheten i detta bad var 10 A/dmz, vid vilken täthet helt glänsande avsättningar på 1,5pm uppnåddes vid en maximal plâteringshastighet av Zßpm/minut. Pläteiingsutbytet var 33 mg/A.minut. Badet gavs en kvalitetsbedöm- ning av 8.
Exempel 3 Förfarandeti det jämförande exemplet l upprepades, men med tillsats av 2 g/l 3- formyl-1-(3-sulføpropyD-pyridiníumbetain (Raschig) i pläteringskompositionen. Den maximala snönnatnaæn användbara dena bad var 15 A/dnn2, vid vilken varnar han glänsande avsättningar på 1,5 pm uppnåddes vid en maximal pläteringshastighet av 2,0p.rn/minut. Pläteringsutbytet var 23 mg/A.minut. Badet gavs kvalitetsbedöm- ningen 8.
Exempel 4 Förfarandet i det jämförande exemplet 1 upprepades, men med tillsats av 2 g/l l-(2- hydroxi-3-sulfopropyD-pyridinium-betain (Raschig) till pläteringskompositionen.
Den maximala i detta bad användbara strömtätheten var ll A/drnz, vid vilken täthet helt glänsande avsättningar på 1,5 gm uppnåddes vid en maximal pläteringshastighet av 2,5 inn/minut. Pläteringsutbytet var 37 mg/Aminut. Badet gavs kvalitetsbedöm- ningen 9. 10 15 20 25 30 506 531 10 Exempel 5 Förfarandeti det jämförande exemplet I upprepades, men med tillsats av 1 g/l 1-(2- sulfoetyD-pyridiniumbetain (BASF) till pläteringskompositionen. Den maximalt an- vändbara strömtätheten i detta bad var 12 A/dm2, vid vilken täthet helt glänsande av- sättningar på 1,5 pun uppnåddes vid en maximal pläteringshastighet av 2,3 wii/minut.
Pläteringsutbytet var 33 mg/ A.minut. Badet gavs en kvalitetsbedömning av 9.
Järnfiârelseexempel 2 Förfarandet i det jämförande exemplet l upprepades, men med tillsats av l g/l pyii- din-3-sulfonsyra (såsom enligt US-A-3 929 595) till pläteringskompositionen. Den i detta bad maximalt användbara strömtätheten var endast 7 A/dmz, vid vilken täthet helt glänsande avsättningar på l,5pm uppnåddes vid en maximal pläteringshastighet av 2,1 pin/minut. Pläteringsutbytet var 52 my A.minut. Badet fick en kvalitetsbe- dömning om 6.
Järnfórelseexemgel 3 Förfarandet i det jämförande exemplet l upprepades, men med tillsats av 1 g/l pyii- din-4-etansulfonsyra till pläteringskompositionen. Den i detta bad maximalt an- vändbara strömtätheten var endast 7 A/dmz, vid vilken täthet helt glänsande avsätt- ningar på l,5p.m uppnåddes vid en maximal pläteringshastighet av Zßnm/minut.
Pläteringsutbytet var 50 mg/Aminut. Badet fick en kvalitetsbedömning på 6. 10 15 20 25 30 506 531 11 J ämförelseexempel 4 Ett bad med följande sammansättning frarnställdes: Kaliumcitrat 50 g/l Citronsyra 70 g/l Kaliumoxalat 50 g/l Nickel (såsom nickelsulfat) 1 g/ls Guld (såsom kaliumguld(I)cyanid) 8 g/l Kaliumhydroxid till pH 4,2 Destillerat vatten upp till 1 l Ett underlag pläterades under samma betingelser som beskrivs i det jämförande exemplet 1. Den i detta bad maximalt användbara strömtätheten var 4 A/dmz, vid vilken täthet brända avsättningar på 1,5 pm uppnåddes vid en pläteringshastighet av 1,8 inn/minut. Pläteringsutbytet var 80 mg/ A.minut. Badet fick kvalitetsbedöm- ningen 0.
Exempel 6 Förfarandet i det jämförande exemplet 4 upprepades, men med tillsats av 7 g/l l-(3- sulfopropyD-pyridiniumbetain (Raschig) till pläteringskompositionen. Den i detta bad maximalt användbara strömtätlreten var 10 A/dm/z, vid vilken täthet helt glän- sande avsättningar på 1,5 lim uppnåddes vid en maximal pläteringshastighet av Zßpm/minut. Pläteringsutbytet var 40 mg/Aminut. Badet fick kvalitetsbedömningen 9. 10 15 20 25 506 551 12 J ämfórelseexempel 5 Man framställde ett bad med följande sammansättning: Citronsyra 110 g/l Kaliumcitrat 90 g/l DEQUEST® 2010 50 ml/I Kobolt (såsom koboltsulfat) l g/l Guld (såsom kaliumguldflkyanid) 8 g/l Kaliumhydroxid till pH 4,0 Ett underlag pläterades under samma betingelser som beskrivs i det jämförande exemplet 1. Den i detta bad maximalt använda strömtätheten var 8 A/dmz, vid vilken täthet godtagbara avsättningar på l,5um uppnåddes vid en maximal pläterings- hastighet av 2,3 pin/minut. Pläteringsutbytet var 50 mg/A.minut. Badet fick kvalitetsbedömningen 6.
Exempel 7 Förfarandet i det jämförande exemplet 5 upprepades, men med tillsats av 1 g/l 1-(3- sulfopropyU-pyridiniumbetain (Raschig) till pläteringskompositionen. Den i detta bad maximalt användbara strömtätlreten var 13 A/dmz, vid vilken täthet helt glän- sande avsättningar på 1,5 pm uppnåddes vid en maximal pläteringshastighet av 3,0um/minut. Pläteringsutbytet var 41 mg/Aminut. Badet fick kvalitetsbedömningen 10.

Claims (18)

10 15 20 25 506 531 13 Patentkrav
1. Komposition för elektropläteríng av guld eller guldlegering, k ä n n e t e c k n a d av att den omfattar: en källa för guldjoner; eventuellt en källa för legeringsme- talljoner; eventuellt ett komplexbildande medel fór legeringsmetalljonerna, om sådana är närvarande; och åtminstone en tillsatsfiirening med den allmänna formeln IA eller IB: 1 R / I az R1 / (m) (na) \ 3 \$ '3 G tlq R -,Qo R3___Qoe vari: RI och Rz vardera, oberoende av varandra, betecknar en väte- eller halogenatom eller en formyl-, karbamoyl; C1_4-alkyl-, amino-, fenyl- eller bensylgmpp, van' al- kyl-, fenyl- och bensyldelarna eventuellt kan vara substituerade med en eller flera hydroxi- eller arninogrupper eller halogenatomer; R3 betecknar en alkylengrupp med l-6 kolatomer, som eventuellt kan vara hydroxy- lerad; och Q betecknar -SOZ- eller -CO-.
2. Komposition enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a d av att källan för guldjoner är ett guld(I)salt.
3. Komposition enligt krav 1 eller 2, k ä n n e te c k n a d av att guldet är närva- rande i en mängd av 2-20 g/l. 10 15 20 25 30 506 531 14
4. Komposition enligt krav 1, 2 eller 3, k ä n n e t e c k n a d av att legeringsmetall- jonema omfattar nickel, kobolt och/eller järn.
5. Komposition enligt krav l, 2 eller 3, k ä n n e t e c k n a d av att legeringsmetall- jonema omfattar nickel.
6. Komposition enligt något av kraven 1-5, k ä n n e t e c k n a d av att källan för legeringsmetalljoner omfattar ett sulfat av legeringsmetallen.
7. Komposition enligt något av kraven I-6, k ä n n e t e c k n a d av att legeringsmetallen kan vara närvarande i en mängd av 0,05-5 g/l.
8. Komposition enligt något av kraven 1-7, k ä n n e t e c k n a d av att det komplexbildande medlet omfattar citronsyra eller oxalsyra.
9. Komposition enligt något av kraven 1-8, k ä n n e t e c k n a d av att tillsatsmed- let är närvarande i en mängd av 0,05-10 g/l.
10. Komposition enligt något av kraven l-9, k ä n n e t e c kn a d av att åtminstone en av substituentema RI och Rz i den allmänna formeln IA är väte.
11. l 1. Komposition enligt något av kraven l-10, k ä n n e t e c k n a d av att åt- minstone en av substituentema RI och Rz i den allmänna formeln IA är karbarnoyl eller fonnyl.
12. Komposition enligt något av kraven 1-11, k ä n n e te c k n a d av att substituenten Rl i den allmänna formeln IB är väte.
13. Komposition enligt något av kraven l-12, k ä n n e t e c k n a d av att R3 betecknar en etylen- eller propylengrupp. 10 15 20 25 506 531 15
14. Komposition enligt något av kraven 1-13, k ä n n e t e c k n a d av att Q betecknar S02.
15. Komposition enligt något av kraven 1-14, k ä n n e t e c k n a d av att tillsats- föreningen är en eller flera av: 1-(3-sulfopropyD-pyridiniurnbetain; l-(2-hydroxi-3 -sulfopropyD-pyridiniumbetain; 3-fonnyl-1-(3 -sulfopropyD-pyridiniumbetain; 3 -karbamoyl- 1-(3 -sulfopropyl)-pyridiniumbetaim l-(Z-sulfoetyb-pyridiniumbetain; och 1-(3-sulfopropylHsokinoliniuinbetain.
16. Komposition enligt något av kraven 1-15, k ä n n e t e c k n a d av ett pH-värde av 3,9-4,9.
17. Förfarande for elektrolytisk avsättning av en guld- eller guldlegeringsplätering på ett underlag, k ä n n e t e c k n a t av att det omfattar att man bringar ett underlag så-som katod i kontakt med en vattenhaltig komposition enligt något av kraven 1-16 och bringar ström att passera mellan katoden och en anod i kompositionen.
18. Förfarande enligt krav l7, k ä n n e te c k n at av att det drives vid 30-70°C under plåtering.
SE9100503A 1990-02-20 1991-02-20 Komposition och förfarande för elektroplätering av guld eller guldlegering SE506531C2 (sv)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB9003762A GB2242200B (en) 1990-02-20 1990-02-20 Plating compositions and processes

Publications (3)

Publication Number Publication Date
SE9100503D0 SE9100503D0 (sv) 1991-02-20
SE9100503L SE9100503L (sv) 1991-08-21
SE506531C2 true SE506531C2 (sv) 1997-12-22

Family

ID=10671276

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE9100503A SE506531C2 (sv) 1990-02-20 1991-02-20 Komposition och förfarande för elektroplätering av guld eller guldlegering

Country Status (9)

Country Link
US (1) US5169514A (sv)
JP (1) JPH086195B2 (sv)
CA (1) CA2036222C (sv)
CH (1) CH682823A5 (sv)
DE (1) DE4105272A1 (sv)
FR (1) FR2658536B1 (sv)
GB (1) GB2242200B (sv)
IT (1) IT1245514B (sv)
SE (1) SE506531C2 (sv)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4013349A1 (de) * 1990-04-23 1991-10-24 Schering Ag 1-(2-sulfoaethyl)pyridiniumbetain, verfahren zu dessen herstellung sowie saure nickelbaeder enthaltend diese verbindung
US5576282A (en) * 1995-09-11 1996-11-19 The Procter & Gamble Company Color-safe bleach boosters, compositions and laundry methods employing same
AU7320996A (en) * 1995-11-03 1997-05-29 Enthone-Omi Inc Electroplating processes compositions and deposits
GB9522591D0 (en) * 1995-11-03 1996-01-03 Enthone Omi Suisse S A Electroplating processes compositions and deposits
US7449098B1 (en) 1999-10-05 2008-11-11 Novellus Systems, Inc. Method for planar electroplating
US7531079B1 (en) 1998-10-26 2009-05-12 Novellus Systems, Inc. Method and apparatus for uniform electropolishing of damascene IC structures by selective agitation
US6312580B1 (en) * 1998-11-02 2001-11-06 Tivian Industries, Ltd. Method for gold plating chromium and other passive metals
US7799200B1 (en) 2002-07-29 2010-09-21 Novellus Systems, Inc. Selective electrochemical accelerator removal
US8530359B2 (en) 2003-10-20 2013-09-10 Novellus Systems, Inc. Modulated metal removal using localized wet etching
US8158532B2 (en) * 2003-10-20 2012-04-17 Novellus Systems, Inc. Topography reduction and control by selective accelerator removal
JP4868121B2 (ja) * 2005-12-21 2012-02-01 学校法人早稲田大学 アモルファス金−ニッケル系合金めっき皮膜形成用電気めっき液及び電気めっき方法
CH714243B1 (fr) * 2006-10-03 2019-04-15 Swatch Group Res & Dev Ltd Procédé d'électroformage et pièce ou couche obtenue par ce procédé.
CH710184B1 (fr) * 2007-09-21 2016-03-31 Aliprandini Laboratoires G Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or jaune par galvanoplastie sans utilisation de métaux ou métalloïdes toxiques.
ES2387055T3 (es) * 2008-05-07 2012-09-12 Umicore Galvanotechnik Gmbh Baños de electrolitos de Pd y Pd-Ni
US7534289B1 (en) * 2008-07-02 2009-05-19 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Electroless gold plating solution
EP2312021B1 (fr) * 2009-10-15 2020-03-18 The Swatch Group Research and Development Ltd. Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or jaune par galvanoplastie sans utilisation de métaux toxiques
US8168540B1 (en) 2009-12-29 2012-05-01 Novellus Systems, Inc. Methods and apparatus for depositing copper on tungsten
EP2801640A1 (en) * 2013-05-08 2014-11-12 ATOTECH Deutschland GmbH Galvanic nickel or nickel alloy electroplating bath for depositing a semi-bright nickel or nickel alloy
JP6214355B2 (ja) * 2013-11-25 2017-10-18 日本高純度化学株式会社 電解金めっき液及びそれを用いて得られた金皮膜
CN106637307B (zh) * 2017-01-04 2019-01-01 中国地质大学(武汉) 一种用于黄金无氰电铸工艺的添加剂
KR101996915B1 (ko) * 2018-09-20 2019-07-05 (주)엠케이켐앤텍 카보닐 산소를 갖는 퓨린 또는 피리미딘계 화합물을 함유하는 치환형 무전해 금 도금액 및 이를 이용한 치환형 무전해 금 도금 방법
CN111663158B (zh) * 2020-06-19 2021-08-13 深圳市华乐珠宝首饰有限公司 一种耐高温无氰硬金的制备方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL6611248A (sv) * 1965-12-02 1966-10-25
GB1442325A (en) * 1972-07-26 1976-07-14 Oxy Metal Finishing Corp Electroplating with gold and gold alloys
DE2355581C3 (de) * 1973-11-07 1979-07-12 Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt Galvanisches Glanzgoldbad mit hoher Abscheidungsgeschwindigkeit
GB1578168A (en) * 1976-03-12 1980-11-05 Cilag Chemie Pyridyl alkylsulphonic acid derivatives and their use in electroplating baths
DE3108508C2 (de) * 1981-03-06 1983-06-30 Langbein-Pfanhauser Werke Ag, 4040 Neuss Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung
US4430171A (en) * 1981-08-24 1984-02-07 M&T Chemicals Inc. Electroplating baths for nickel, iron, cobalt and alloys thereof
GB8334226D0 (en) * 1983-12-22 1984-02-01 Learonal Uk Ltd Electrodeposition of gold alloys
GB8501245D0 (en) * 1985-01-18 1985-02-20 Engelhard Corp Gold electroplating bath
US4615774A (en) * 1985-01-31 1986-10-07 Omi International Corporation Gold alloy plating bath and process
US4670107A (en) * 1986-03-05 1987-06-02 Vanguard Research Associates, Inc. Electrolyte solution and process for high speed gold plating
US4744871A (en) * 1986-09-25 1988-05-17 Vanguard Research Associates, Inc. Electrolyte solution and process for gold electroplating
DE3817722A1 (de) * 1988-05-25 1989-12-14 Raschig Ag Verwendung von 2-substituierten ethansulfon-verbindungen als galvanotechnische hilfsstoffe
US5049286A (en) * 1989-12-22 1991-09-17 Omi International Corporation Process for purification of nickel plating baths

Also Published As

Publication number Publication date
IT1245514B (it) 1994-09-29
DE4105272C2 (sv) 1993-08-05
DE4105272A1 (de) 1991-08-22
FR2658536B1 (fr) 1992-12-31
CH682823A5 (de) 1993-11-30
GB2242200B (en) 1993-11-17
ITTO910114A1 (it) 1992-08-19
GB2242200A (en) 1991-09-25
CA2036222C (en) 2001-08-14
US5169514A (en) 1992-12-08
CA2036222A1 (en) 1991-08-21
ITTO910114A0 (it) 1991-02-19
FR2658536A1 (fr) 1991-08-23
JPH06184788A (ja) 1994-07-05
SE9100503L (sv) 1991-08-21
JPH086195B2 (ja) 1996-01-24
SE9100503D0 (sv) 1991-02-20
GB9003762D0 (en) 1990-04-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE506531C2 (sv) Komposition och förfarande för elektroplätering av guld eller guldlegering
US7780839B2 (en) Electroplating bronze
US20040232000A1 (en) Tin plating
JPS6362595B2 (sv)
JP2002524662A (ja) 亜鉛被膜または亜鉛合金被膜のめっき堆積のためのシアン化物を含まない水性アルカリ浴
ITTO950840A1 (it) Bagni alcalini elettrolitici e procedimenti per zinco e leghe di zinco
US4444629A (en) Zinc-iron alloy electroplating baths and process
JP2004510053A (ja) 錫−銅合金層を析出させるための電解質及び方法
JP4675626B2 (ja) ブロンズ電析法及び電解質
KR20110003519A (ko) Pd 및 Pd-Ni 전해질 욕조
JP4446040B2 (ja) 錫−銀合金層を電着させるための電解液および方法
US4885064A (en) Additive composition, plating bath and method for electroplating tin and/or lead
US4401526A (en) Zinc alloy plating baths with condensation polymer brighteners
JP6432667B2 (ja) 錫合金めっき液
EP0663460B1 (en) Tin-zinc alloy electroplating bath and method for electroplating using the same
JPS60169588A (ja) 亜鉛用または亜鉛合金用酸性電着浴
EP0246869B1 (en) Gold electroplating bath
JP2003502513A (ja) 光沢のある金層および金合金層を電着するための酸性浴および電着用光沢剤
US20020166774A1 (en) Alloy composition and plating method
JP3920983B2 (ja) 銀又は銀合金酸性電気めっき浴
JP2005314799A (ja) 錫めっき方法とこれに用いられる錫めっき浴
JP2003526734A (ja) ニッケル及び塩化物亜鉛電気めっき浴のマクロな均一電着性の改良方法
WO2018142776A1 (ja) 錫合金めっき液
US4397718A (en) Zinc plating baths with condensating polymer brighteners
JP2763072B2 (ja) 錫‐ニツケル合金めつき液

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed

Ref document number: 9100503-3

Format of ref document f/p: F