JP2003526734A

JP2003526734A - ニッケル及び塩化物亜鉛電気めっき浴のマクロな均一電着性の改良方法

Info

Publication number: JP2003526734A
Application number: JP2000574315A
Authority: JP
Inventors: レナード、エル．、ジュニアディアッダリオ、
Original assignee: パヴコインコーポレイテッド
Priority date: 1998-09-18
Filing date: 1999-09-17
Publication date: 2003-09-09
Also published as: BR9913848A; PL349258A1; AU6153099A; WO2000017420A2; CN1330733A; US6143160A; EP1123425A2; WO2000017420A3

Abstract

(57)【要約】【化５】亜鉛又はニッケルイオン、及び一般式(Ｉ)の添加剤を含むことを特徴とする、基材上へのニッケル、亜鉛又は亜鉛合金析出物の電着用水性酸性めっき浴（式中、Ｒ₁及びＲ₂は、ヒドロキシル、カルボニル、カルボン酸又はその塩からなる群より選択される官能基であり；Ｒ₃は次の基、水素、ヒドロキシル、カルボニル、カルボン酸又はその塩からなる群より選択される官能基であり；Ｒ₄及びＲ₅は、例えばハロゲン化物、スルホン酸又はその塩、トリフルオロメチル、シアノ、及びアミノ基であるがこれらに限定されない電子吸引性基である）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 (技術分野) 本発明は、酸性亜鉛電気めっき水溶液、及び亜鉛被膜を電気めっきする方法に
関する。更に詳しくは、本発明は、マクロな均一電着性を向上する特異な添加剤
を含む酸性亜鉛電気めっき溶液に関する。同様に、本発明はニッケル電着プロセ
スに関する。

【０００２】 (背景技術) 金属表面に改良された防食性を付与するためには多くの注意が払われてきた。
防食性を付与する１つの方法は、金属表面に亜鉛又は亜鉛合金被膜を電着するこ
とによる。同様に、ニッケル電着は重要な工業業務となっている。本明細書及び
特許請求の範囲では、微視的に均一又は微視的に不均一であるかも知れない２種
類以上の金属元素の混合物として “合金”と言う用語を定義し使用する。数十
年間、電気めっき亜鉛を使って実用的な高耐食性被膜が提供されてきた。

【０００３】従来から、シアン化物が亜鉛めっき浴の主要な成分を形成してきた。しかしな
がら、シアン化物の有害性を考慮してめっき分野での活動は、シアン化物を含ま
ないアルカリ性浴又は酸性浴の開発に集中されてきた。

【０００４】１つの手法には、ピロリン酸アルカリ金属と錯体亜鉛化合物とを組み合わせて
含むアルカリ溶液を利用することが含まれる。しかしながら、特に、前記のリン
酸塩組成物が工業的に成り立つめっきプロセスを実施するのに必要な濃度で含ま
れる場合、この組成物を水性廃棄物から取り除くことが難しいので、このリン酸
塩の使用に当たっては廃棄物問題が起った。更に、ピロリン酸塩浴を使用する亜
鉛電気めっきプロセスでは、比較的劣った、低電流密度による付着量、粗さ、不
充分な光沢性及び不均一な析出物を生じることがある。

【０００５】一般的に、酸性亜鉛めっき浴は、塩化亜鉛又は硫酸亜鉛のような好適な無機亜
鉛塩を主成分とし、この浴はアンモニウム塩又はホウ酸のような緩衝剤を含むの
が普通である。添加剤は、延性、光沢性、均一電着性及び被覆力を促進させたり
して改良するためにめっき浴の中に入れられることがおおい。結晶構造の改良、
ピッチングの減少、及びその他の添加剤の効果を高めることを目的として界面活
性剤も入れられることがある。

【０００６】添加剤は、一般的に、第１タイプの添加剤即ちキャリヤ、第２タイプの添加剤
即ち光沢剤、及び補助添加剤として区別することが出来る３種類の大まかなカテ
ゴリーに入れることが出来る。第１タイプの添加剤は第２タイプの補助添加剤よ
り高濃度でめっき浴の中に含まれ、一般的に、結晶粒微細化及び均一電着性を付
与する機能をする。この第１タイプの添加剤の或るものは、また、第２タイプの
添加剤即ち光沢剤を溶液状態にしておく作用をするヒドロトロピー性を有する。
第２タイプの添加剤は、一般的に、めっき浴の中で析出物に艶又は光沢を付与す
る作用をする。或る場合には、第２添加剤は、改良された均一電着性も付与する
。なかでも、補助添加剤は、光沢性の範囲を広げるのを目的とし、第２添加剤の
可溶化の促進もすることがある。勿論、個々の添加剤は、特に過剰量で使用され
る場合、多かれ少なかれ、前記の性能の２つ以上の作用をすることがあると思わ
れる。

【０００７】酸性亜鉛めっき浴用の種々の例示の添加剤が特許文献に記載されてきた。例え
ば、米国特許第４，０７５，０６６号は、光沢性の、平坦で延性のある亜鉛析出
物を、アンモニア又はアミンは含まない浴の中で少なくとも１個のポリオキシア
ルキル化ナフトール、少なくとも１種の芳香族カルボン酸又はその可溶性塩及び
少なくとも１種のイオン性芳香族スルホン酸又はその可溶性塩を含むことによっ
て得ることが出来ることを記載している。米国特許第４，０７６，６００号は、
光沢性の平坦な亜鉛電着物は水性酸性めっき浴から得ることが出来、その場合、
その浴は特別な炭化水素分子上に付いたリンカチオンを含むことを開示している
。米国特許第４，０８９，７５５号は、広い範囲の電流密度にわたって、光沢性
、微細な結晶粒の亜鉛析出物は、水性浴の中で第１添加剤、又はカチオン第四級
アンモニウム界面活性剤を含むキャリヤ成分を含むことによって生成出来ること
を教示している。米国特許第４，１６２，９４７号は、酸性亜鉛めっき浴、及び
少なくとも１種の芳香族スルホン酸又は塩を含むことによって広範囲の電流密度
にわたって光沢性の平坦な亜鉛電着物を得る方法を開示している。

【０００８】米国特許第４，４０５，４１３号は、少なくとも２種類のカルボキシ末端型長
鎖アルキルフェノールのブレンドから成る界面活性剤を含むことによって、かぶ
れ(ｂｌｕｓｈ)難くなる析出物を生成する酸性亜鉛めっき浴を開示している。米
国特許第４，４２２，９０８号は、アルカリ金属の有機塩、及び安息香酸、セナ
ミン酸(ｃｅｎａｍｉｃａｃｉｄ)、ニコチン酸及び２−フリルアクリル酸から
成る群から選ばれる無機酸錯化剤がめっき浴に加えられる水性亜鉛めっき浴に関
するものである。

【０００９】米国特許第４，４２５，１９８号は、亜鉛及びニッケル及び／又はコバルトイ
オンを光沢剤の中に組み入れる亜鉛合金電気めっき浴に関し、前記光沢剤はアク
リルアミドのホモポリマー、Ｎ−置換アクリルアミドのホモポリマー、並びにア
クリルアミドとＮ−置換アクリルアミド及び／又は、メタクリル酸、アクリル酸
、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニルＣ₁−Ｃ₅アルキルエステル、
ビニルハライド、エピハロヒドリン、ビニリデンハライド、アルキレンオキシド
及びそれらの混合物から成る群から選ばれる可溶化剤とのコポリマーから成る群
から選ばれる。

【００１０】米国特許第４，４９６，４３９号は、亜鉛の電解析出用で、導電性塩、光沢剤
及び界面活性剤を含む水性酸性めっき浴に関する。

【００１１】米国特許第４，５１２，８５６号は、３個以上のエトキシル化及び／又はプロ
ポシキル化ヒドロキシル基を有する非界面活性剤置換多価アルコールから成る結
晶粒微細化剤を使う、亜鉛被膜の電着用の水性酸性亜鉛めっき溶液に関する。

【００１２】米国特許第５，２００，０５７号は、亜鉛めっき浴用の添加剤組成物に関する
ものであり、その添加剤組成物は、ポリ(Ｎ−ビニル−２−ピロリドン)と少なく
とも１種類の硫黄含有化合物との混合物から成る。

【００１３】光沢と艶のある金属亜鉛析出物は、水性酸性亜鉛めっき溶液又は浴から金属基
材上に電気めっきすることが出来ることはよく知られている。しかしながら、充
分な高レベルの光沢と艶、そしてなかでも特に均一な厚さの、均一で信頼性のあ
る亜鉛被膜を工業的に製造するには幾つかの難問が未だに残っている。更に、従
来の浴によって亜鉛被膜を製造する際、工業的利用において普通に遭遇する広範
囲な電流密度にわたってマクロな均一電着性を高めるためには、添加剤を加える
ことなくして一様に平滑でかつち密な表面を見せることは出来ない。

【００１４】酸性亜鉛電気めっき浴によって製造される被膜の品質を改良する前記の既に開
発されたあらゆる添加剤があるにも拘らず、酸性度の少ない浴のマクロな均一電
着性は、一般的に、複雑な形状を有する部品には不満足である。従って、改良さ
れたマクロな均一電着性を達成する酸性塩化亜鉛めっき浴用の添加剤を開発する
ことが当業界で要望されている。同様に、ニッケルめっきは多くの同様な難問に
直面しており、本発明は、ニッケル電着又はニッケルめっき浴において有効であ
る。

【００１５】

【発明の要約】

従って、ニッケル、又は酸性塩化亜鉛めっき浴用の新規で改良された添加剤を
提供することが本発明の第１の長所である。ニッケル又は酸性塩化亜鉛めっき浴
のマクロな均一電着性を改良する、ニッケル又は酸性塩化亜鉛めっき浴用の新規
で改良された添加剤を提供することが本発明の更なる目的である。本発明の更な
る目的及び長所は、下記の記載の中で一部分説明され、そして記載内容から明ら
かになるか或いは、本発明の実施によって習得出来る。本発明の目的及び長所は
、添付の特許請求の範囲の中で特に明らかにされる手段及び組み合わせによって
実現され、達成出来る。

【００１６】前記の目的を達成するため、及び本発明の目的によると、本明細書で具体化し
て広く説明するように、添加剤は、オルト位置のカルボキシル基又はヒロドキシ
ル基を含む芳香族炭化水素の形をしている。好ましくは本発明の添加剤は次の一
般式を特徴とする：

【００１７】

【化３】（式中、Ｒ₁及びＲ₂は、ヒドロキシル、カルボニル、カルボン酸又はその塩か
らなる群より選択される官能基であり；Ｒ₃は次の基、水素、ヒドロキシル、カ
ルボニル、カルボン酸又はその塩からなる群より選択される官能基であり；Ｒ₄
及びＲ₅は、例えばハロゲン化物、スルホン酸又はその塩、トリフルオロメチル
、シアノ、及びアミノ基であるがこれらに限定されない電子吸引性基である）。

【００１８】本発明の添加剤が好適である水性酸性亜鉛めっき浴は、当業者には公知の慣用
の亜鉛及びアンモニウム又はホウ酸含有めっき浴が挙げられる。前記の浴は遊離
の亜鉛イオンを含む。一般的に、硫酸亜鉛，塩化亜鉛、フルオロホウ酸亜鉛及び
／又はスルファミン酸亜鉛が亜鉛イオン供給源である。ラック式めっき浴、薄板
又は線材めっき用の高速めっき浴、及びバレルめっきのような電気めっき浴が全
てのタイプの工業用亜鉛めっきプロセスで使用出来る。

【００１９】一般的に、亜鉛めっき浴は、塩化アンモニウム、フッ化アンモニウム又は硫酸
アンモニウムの形のアンモニウム化合物も含む。その他の導電性塩も使用出来る
。本発明の酸性亜鉛めっき浴で使用される導電性塩の例には、塩化ナトリウム、
ホウ酸ナトリウム及び塩化カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、塩化アン
モニウム又は硫酸アンモニウム、フルオロホウ酸のナトリウム塩、カリウム塩又
はアンモニウム塩、硫酸ナトリウムカリウム又は硫酸アンモニウム、硫酸マグネ
シウム又はそれらの混合物が挙げられる。

【００２０】代替物として、ｐＨを調整するために弱い緩衝剤として本発明の亜鉛めっき浴
にホウ酸も入れても良い。ホウ酸は析出物を平滑化するのにも役に立つ。電気め
っき浴の中のホウ酸の濃度は重要ではなく、概ね、リットル当たり最高約４０グ
ラムの範囲である。

【００２１】本発明の酸性浴の酸性度は、ｐＨを約１．５から約６又は７まで変動させるこ
とが出来る。希薄な塩酸又は硫酸溶液のような酸性溶液を加えてｐＨを下げるこ
とが出来る。ｐＨが所望の操作範囲を下回る場合は、水酸化アンモニウム又は水
酸化カリウムを加えて、ｐＨを上げることが出来る。酸性亜鉛めっき浴はｐＨが
約４から約６．５で作業するのが好ましい。

【００２２】亜鉛の無機塩は、リットル当たり約１０から１５０グラム、好ましくは３０な
いし１１０グラムの範囲の量で本発明のめっき浴に含めることが出来る。塩化ア
ンモニウム又は塩化カリウムのような導電性塩は、リットル当たり約５０から２
５０グラム以上の範囲の量で含まれる。

【００２３】勿論、めっき浴は、また、光沢剤、湿潤剤を含めて慣用のあらゆる所望の追加
の添加剤を含むことが出来る。酸性亜鉛電気めっき浴を使って、例えば鉄、銅、
又は黄銅のような全てのタイプの金属又は合金の表面に、光沢のある亜鉛析出物
を生成することが出来る。

【００２４】一般的に、二次的光沢作用を発現することが知られているその他の材料、例え
ばポリビニルアルコール、ゼラチン、カルボキシメチルセルロース、非イオン性
ポリマー及び複素環式第四級塩、等の既知の界面活性剤又は湿潤剤を併用出来る
。必要に応じて、例えばクエン酸及びマレイン酸のようなキレート化剤を加えて
、めっき浴本体中か、又は陽極若しくは陰極の表面のいずれかで亜鉛化合物の沈
殿を防ぐことが出来る。これらキレート化剤はめっき浴中で緩衝作用も示す。

【００２５】有機光沢剤には、アセトチオナフテン、フルオロアセトン、ベンザルアセトン
、ベンゾフェノン、ベンゾアセトニトリル及びオルトクロロベンズアルデヒドを
挙げることが出来る。亜鉛合金のめっき溶液の中で一般的に使用されるタイプの
代替の光沢剤には、芳香族アルデヒド又はケトン、ニコチン酸第四級塩、アミン
を含むポリエピクロラールヒドリン第四級塩、ポリエチレンアミンとその誘導体
、チオウレア又はそのＮ置換誘導体が挙げられる。

【００２６】更に、たとえば硫酸アルミニウムのような水溶性塩によってアルミニウムイオ
ンをめっき浴に導入すると、光沢効果を獲得、向上させることが出来る。同様に
、亜鉛合金と共析出する極く微量の金属を加えることによって、耐食性を高める
ことが出来る。例えば、クロム、スズ、又はインジウムの可溶性塩をめっき浴に
加えることが出来る。本発明のめっき浴で使用される温度及び電流密度のような
操作条件は、めっきされる金属表面の性質に関する特定のめっき浴組成によって
変更することが出来ると考えられる。

【００２７】亜鉛電気めっきプロセスは、攪拌の有無に拘らず、約１０℃ないし約５０℃、
好ましくは１５℃ないし３５℃の温度で行なうことが出来る。必要に応じて、電
着過程では攪拌は機械的運動、又はめっきされる物品に対して溶液を攪拌するこ
とによって行なうことが出来る。

【００２８】特に好ましい態様では、本発明は、次の一般式の添加剤を含む：

【００２９】

【化４】（式中、Ｒ₁及びＲ₂は、ヒドロキシル、カルボニル、カルボン酸又はその塩か
らなる群より選択される官能基であり；Ｒ₃は次の基、水素、ヒドロキシル、カ
ルボニル、カルボン酸又はその塩からなる群より選択される官能基であり；Ｒ₄
及びＲ₅は、例えばハロゲン化物、スルホン酸又はその塩、トリフルオロメチル
、シアノ、及びアミノ基であるがこれらに限定されない電子吸引性基である）。

【００３０】本発明の特に好ましい態様では、添加剤は、ドデシル（スルホフェノキシ）ベ
ンゼンスルホン酸二ナトリウム塩、又は４，５−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼ
ン二スルホン酸二ナトリウム塩を含む。

【００３１】本発明の重要な特性には、ベンゼン環上におけるヒドロキシ基又はカルボン酸
基の隣の位置決めが挙げられる。理論に拘ることなく述べれば、本発明の化合物
は、高い電流密度範囲で亜鉛の析出を遅くする作用をして、より均一な被膜を作
ることが出来ると思われる。このような方策は、高電流密度範囲で部品に吸着し
てその範囲での被覆プロセスを遅らせると考えられるピロリドンのような化合物
を使用してきた従来の方法とは異なる。以下に本発明の添加剤を説明するための例を示す。

【００３２】（実施例）酸性塩化亜鉛めっき浴の均一電着性を改良するための種々の添加剤をめっき浴
に加えてその成分を次表に示している。

【００３３】

【表１】

【００３４】開始剤及び光沢剤はオハイオ州、クリーブランド市のＰａｖｃｏ社の市販品で
ある。めっきは全て２３ないし２７℃で行ない、特に断りがない限り、めっき浴
のｐＨは５．７〜５．９であった。めっきの評価は、亜鉛陽極と鋼陰極を有する
２６７ｍｌのハルセルパネル(Ｈｕｌｌｃｅｌｌｐａｎｅｌ)で行なった。ハル
セルパネルは、めっき直前に５０％の塩酸で酸洗いをした。めっき過程はこのセ
ル電流を１５分間１アンペア、又は５分間２アンペアとして行なった。

【００３５】厚さ測定は、渦電流プローブ付きのＣＭＩＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社の
型式ＥＭＸ−Ｄ厚さ試験計を使って行なった。厚さの読み値は、ハルセルパネル
の高電流密度（ＨＣＤ）及び低電流密度（ＬＣＤ）で行なった。１アンペアパネ
ルのＬＣＤ及びＨＣＤ範囲は、各々、０．３〜０．４アンペア／平方デシメート
ルの電流密度、及び３〜４アンペア／平方デシメートルの電流密度に対応し、一
方、２アンペアパネルのＬＣＤ及びＨＣＤ範囲は、各々、０．６〜０．８アンペ
ア／平方デシメートルの電流密度、及び６〜９アンペア／平方デシメートルの電
流密度に対応する。各電流密度で、６〜１０個の個別の測定を行なった後、平均
を算出した。

【００３６】めっき浴の均一電着性は、ＨＣＤ／ＬＣＤの厚さの読み取り値の比から決めた
後、添加剤の効果は、種々の添加剤のめっき浴から調製したパネルのＨＣＤ／Ｌ
ＣＤ比を、対照めっき浴のＨＣＤ／ＬＣＤ比と比較することによって決めること
が出来る。種々の添加剤、めっき条件、及び対応する均一電着性は次の一覧表に
している。

【００３７】

【表２】

【００３８】注目されるように、複数の二座のキレート化合物において、ＨＣＤとＬＣＤの
比が著しく小さいなるにつれ均一電着性が増すことが証明される。

【００３９】亜鉛電気めっきプロセスと同様に、ニッケルは電着によって被覆される最も重
要な金属の１つである。一般的に、ニッケルめっきは、クロム電気めっき品の下
に、鋼、黄銅、亜鉛化成金属化プラスチック、アルミニウム及びマグネシウム合
金の各物品に対する、より薄く高光沢及び耐食性の仕上げ面を作り出す被膜とし
て被覆される。歴史的には、ニッケル電着を行なうには、ワット浴(Ｗａｔｔｓ
ｂａｔｈ)プロセスが使用される。一般的に、ワット浴は硫酸ニッケル、塩化ニ
ッケル及びホウ酸を含む。ニッケルイオン含量の大半は硫酸ニッケルによるもの
である。塩化物イオンの原理的作用は、分極を減らすことにより陽極溶解を改良
すること、及びめっき浴の導電性を高めることである。ホウ酸はｐＨを調整する
ための弱い緩衝剤としての役目で供給される。本発明の添加剤は、ニッケル浴で
の均一電着性を向上するのに有用であることが判った。本発明が好適であるニッ
ケル電着に対する基本原理を説明する更に広範囲な考察は、ＪｏｈｎＷｉｌｅ
ｙａｎｄＳｏｎｓ社によって発行されたＭｏｄｅｒｎＥｌｅｃｔｒｏｐｌａ
ｔｉｎｇ、第３版、第１２章に見ることが出来る。

【００４０】従って、前述の目的、目標及び長所を充分に満たす酸性塩化亜鉛めっき浴が本
発明によって提供されることは明白である。本発明の具体的実施態様と関連付け
て説明してきたが、多くの代替方法、修正又は変形が前述の説明に照らして当業
者に明白であることは明らかである。従って、添付の特許請求の範囲には、その
精神及び範囲に含まれる代替方法、修正及び変形のような全てが包含されるもの
とする。

【手続補正書】

【提出日】平成１３年４月２５日（２００１．４．２５）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【化１】（式中、Ｒ₁及びＲ₂は、ヒドロキシル、カルボニル、カルボン酸又はその塩から
なる群より選択される官能基であり；Ｒ₃は次の基、水素、ヒドロキシル、カル
ボニル、カルボン酸又はその塩からなる群より選択される官能基であり；Ｒ₄及
びＲ₅は、例えばハロゲン化物、スルホン酸又はその塩、トリフルオロメチル、
シアノ、及びアミノ基であるがこれらに限定されない電子吸引性基である）を含むことを特徴とする、基材上へのニッケル、亜鉛又は亜鉛合金析出物の電着
用水性酸性めっき浴。

【化２】（式中、Ｒ₁及びＲ₂は、ヒドロキシル、カルボン酸又はその塩からなる群より選
択される官能基であり；Ｒ₃は水素、ヒドロキシル、カルボン酸又はその塩から
なる群より選択される官能基であり；Ｒ₄及びＲ₅は、ハロゲン化物、スルホン酸
又はその塩、トリフルオロメチル、シアノから成る群より選択される電子吸引性
基である）。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＵ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＥＥ，ＧＤ，ＧＥ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＰ，ＫＲ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ｉ）亜鉛又はニッケルイオン；及びｉｉ）一般式の添加剤、【化１】（式中、Ｒ₁及びＲ₂は、ヒドロキシル、カルボニル、カルボン酸又はその塩から
なる群より選択される官能基であり；Ｒ₃は次の基、水素、ヒドロキシル、カル
ボニル、カルボン酸又はその塩からなる群より選択される官能基であり；Ｒ₄及
びＲ₅は、例えばハロゲン化物、スルホン酸又はその塩、トリフルオロメチル、
シアノ、及びアミノ基であるがこれらに限定されない電子吸引性基である）を含むことを特徴とする、基材上へのニッケル、亜鉛又は亜鉛合金析出物の電着
用水性酸性めっき浴。
【請求項２】Ｒ₁及びＲ₂が、各々、ヒドロキシル基であることを特徴とす
る、請求項１に記載の浴。
【請求項３】Ｒ₄及びＲ₅の少なくとも１つがスルホン酸ナトリウムである
ことを特徴とする、請求項１に記載の浴。
【請求項４】Ｒ₃が水素であることを特徴とする、請求項１に記載の浴。
【請求項５】前記添加剤が４，５−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼン二ス
ルホン酸、二ナトリウム塩を含むことを特徴とする、請求項４に記載の浴。
【請求項６】前記添加剤が４，５−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼン二ス
ルホン酸、二ナトリウム塩一水和物を含むことを特徴とする、請求項４に記載の
浴。
【請求項７】更に光沢剤を含むことを特徴とする、請求項１に記載の浴。
【請求項８】更に開始剤を含むことを特徴とする、請求項１に記載の浴。
【請求項９】更に塩化アンモニウムを含むことを特徴とする、請求項１に
記載の浴。
【請求項１０】ｉ）亜鉛ニッケルイオン；及びｉｉ）オルト位置に少なくとも２個のヒドロキシ基を含むポリヒドロキシベン
ゼンの塩、を含むことを特徴とする、基材上へのニッケル、亜鉛又は亜鉛合金析出物の電着
用水性酸性めっき浴。
【請求項１１】ｉ）亜鉛ニッケルイオン；及びｉｉ）７未満のｐＨで亜鉛と四面体錯体を形成する二座キレート物、を含むことを特徴とする、基材上へのニッケル、亜鉛又は亜鉛合金析出物の電着
用水性酸性めっき浴。
【請求項１２】前記炭化水素化合物がメチオニンであることを特徴とする
、請求項１１に記載のめっき浴。
【請求項１３】前記添加剤が４，５−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼン二
スルホン酸、二ナトリウム塩を含むことを特徴とする、請求項１１に記載のめっ
き浴。
【請求項１４】前記添加剤が４，５−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼン二
スルホン酸、二ナトリウム塩一水和物を含むことを特徴とする、請求項１１に記
載の浴。
【請求項１５】金属物品を被覆するプロセスにおいて、前記金属物品を、
亜鉛又はニッケルイオン及び次の一般式の添加剤を含む浴に浸漬することを特徴
とする前記プロセス：【化２】（式中、Ｒ₁及びＲ₂は、ヒドロキシル、カルボニル、カルボン酸又はその塩から
なる群より選択される官能基であり；Ｒ₃は次の基、水素、ヒドロキシル、カル
ボニル、カルボン酸又はその塩からなる群より選択される官能基であり；Ｒ₄及
びＲ₅は、例えばハロゲン化物、スルホン酸又はその塩、トリフルオロメチル、
シアノ、及びアミノ基であるがこれらに限定されない電子吸引性基である）。
【請求項１６】Ｒ₁及びＲ₂が、各々、ヒドロキシルであることを特徴とす
る、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１７】Ｒ₄及びＲ₅の少なくとも１つがスルホン酸ナトリウム基を
含むことを特徴とする、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１８】前記添加剤が４，５−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼン二
スルホン酸、二ナトリウム塩を含むことを特徴とする、請求項１５に記載のプロ
セス。
【請求項１９】前記添加剤が４，５−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼン二
スルホン酸、二ナトリウム塩一水和物を含むことを特徴とする、請求項１５に記
載のプロセス。
【請求項２０】更に開始剤を含むことを特徴とする、請求項１に記載のプ
ロセス。
【請求項２１】亜鉛又はニッケルイオン、及びオルト位置にカルボキシル
又はヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素を含むことを特徴とする、ニッケル
、亜鉛又は亜鉛合金の電着用水性酸性めっき浴。