JP4868121B2 - アモルファス金−ニッケル系合金めっき皮膜形成用電気めっき液及び電気めっき方法 - Google Patents
アモルファス金−ニッケル系合金めっき皮膜形成用電気めっき液及び電気めっき方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4868121B2 JP4868121B2 JP2005368186A JP2005368186A JP4868121B2 JP 4868121 B2 JP4868121 B2 JP 4868121B2 JP 2005368186 A JP2005368186 A JP 2005368186A JP 2005368186 A JP2005368186 A JP 2005368186A JP 4868121 B2 JP4868121 B2 JP 4868121B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gold
- nickel
- plating film
- salt
- plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
一方、近年の電子部品の小型化に伴い、電気接点の大きさも微小化しつつあり、近い将来には、接点の大きさが硬質金の結晶粒の大きさと対比されるまでになるものと考えられる。このような微細な接点上の金めっき膜は、それを構成する結晶粒の全数が少ないために、大きい接点で得られるような硬度が保持できなくなるものと推察される。このようなナノメータレベルの大きさになっても物性が影響を受けない微細構造としては、結晶性ではなく、アモルファス構造が理想的である。
また、接点材料として有用であるためには、接点同士が接触したときの電気抵抗が低くなければならない。しかも、接点材料の使用環境下での安定性が必要であることを考え合わせると、アモルファス構造を持った金、又は金合金が望ましい。
理学電機社製 RINT−TTRによる:CuKα(50kV/200mA)
金属組成
理学電機工業 RIX2100による:蛍光X線法
ヌープ硬さ
JIS Z 2251に準じて測定:荷重49.0mN(HK0.005) 荷重保持時間5秒
接触抵抗
山崎精機製電気接点シミュレータCRS−112−ALによる:四端子法で、荷重1N、印加電流10mAの条件で測定
KAu(CN)2を0.035mol/dm3、NiSO4・6H2Oを0.076mol/dm3、クエン酸を0.076mol/dm3含有し、アンモニア水によりpHを6に調整した電気めっき液を用い、温度70℃、電流密度150mA/cm2で純度99.96%の銅板に金−ニッケルアモルファス合金めっき皮膜(膜厚5μm)を形成した。なお、アノードには白金板を用い、めっき中のめっき浴撹拌は行わなかった。
得られた合金めっき皮膜の構造をXRDにより、組成を蛍光X線により解析した。XRDパターンは図1に示すようにブロードでアモルファス構造をとっていることがわかる。皮膜の金属成分解析結果は表1に示すとおりであり、金73wt%、ニッケル27wt%であった。
クエン酸濃度を0.143mol/dm3とした以外は、実施例1と同じ条件でめっきを行った。得られためっき膜のXRDパターンは図1に示すようにブロードで、アモルファス構造をとっていた。皮膜の金属成分解析結果は表1に示すとおりであり、金75wt%、ニッケル25wt%であった。更に、めっき皮膜のヌープ硬度及び接触抵抗を測定したところ、ヌープ硬度は460kg/mm2、接触抵抗は1.9mΩであった。なお、ヌープ硬度測定は、めっき厚みを30μmとして測定した。
電流密度を50mA/cm2とした以外は実施例2と同じ条件にてめっきを行った。得られためっき膜のXRDパターンは図1に示すようにブロードで、アモルファス構造をとっていた。皮膜の金属成分解析結果は表1に示すとおりであり、金72wt%、ニッケル28wt%であった。
NiSO4・6H2Oを0.057mol/dm3、クエン酸濃度を0.143mol/dm3、電流密度を100mA/cm2とした以外は実施例1と同じ条件にてめっきを行った。得られためっき膜のXRDパターンは図1に示すようにブロードで、アモルファス構造をとっていた。皮膜の金属成分解析結果は表1に示すとおりであり、金79wt%、ニッケル21wt%であった。
電流密度を5A/cm2とした以外は実施例1と同じ条件にてめっきを行った。得られためっき膜のXRDパターンはブロードで、アモルファス構造をとっていた。皮膜の金属成分解析結果は表1に示すとおりであり、金64wt%、ニッケル36wt%であった。
クエン酸濃度を0.357mol/dm3とした以外は実施例1と同じ条件でめっきを行った。得られた皮膜の金属成分分析結果は表1に示すように金75wt%、ニッケル25wt%であったが、XRDパターンは図2に示すように2θ=38°付近にAu(111)又はAu−Ni固溶体に由来する微小なピークが認められ、アモルファス構造から外れていることがわかった。
クエン酸濃度を0.257mol/dm3とした以外は実施例1と同じ条件でめっきを行った。得られた皮膜の金属成分分析結果は表1に示すように金76wt%、ニッケル24wt%であったが、XRDパターンは図2に示すように比較的に鋭いピークが認められ、アモルファス構造から外れていると判断した。
電流密度を10mA/cm2とした以外は実施例3と同じ条件にてめっきを行った。得られためっき皮膜の金属成分分析結果は表1に示すように金49wt%、ニッケル51wt%であり、XRDパターンには図2に示すように2θ=45°付近にNi(111)又はAu−Ni固溶体に由来するピークが認められた。また、2θ=39°付近にAu(111)又はAu−Ni固溶体に由来するピークが認められ、アモルファス構造はとっていないことがわかった。
電流密度10mA/cm2とした以外は実施例4と同じ条件にてめっきを行った。得られためっき皮膜の金属成分分析結果は表1に示すように金87wt%、ニッケル13wt%であり、XRDパターンには図2に示すように2θ=38°付近にAu(111)又はAu−Ni固溶体に由来するピークが認められ、アモルファス構造はとっていないことがわかった。
Claims (2)
- シアン化金塩を金基準で0.01〜0.1モル/dm3、水溶性ニッケル塩をニッケル基準で0.017〜0.67モル/dm3、及びクエン酸又はその塩を含有し、タングステン酸塩を含有せず、金とニッケル濃度の比(Au/Ni)がモル比として0.15〜0.6、クエン酸又はその塩とニッケル濃度の比(Cit/Ni)がモル比として1〜3であり、pHが3〜11であることを特徴とするAu:Niの比率が原子比として35:65〜52:48であるアモルファス金−ニッケル系合金めっき皮膜を形成する電気めっき液。
- 被めっき物を陰極として請求項1記載の電気めっき液に浸漬し、温度20〜90℃、陰極電流密度3mA/cm2以上10mA/cm2未満又は20mA/cm2を超え200mA/cm2の範囲で電気めっきを行うことを特徴とする、Au:Niの原子比率が35:65〜52:48であるアモルファス金−ニッケル系合金めっき皮膜を形成する電気めっき方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005368186A JP4868121B2 (ja) | 2005-12-21 | 2005-12-21 | アモルファス金−ニッケル系合金めっき皮膜形成用電気めっき液及び電気めっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005368186A JP4868121B2 (ja) | 2005-12-21 | 2005-12-21 | アモルファス金−ニッケル系合金めっき皮膜形成用電気めっき液及び電気めっき方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007169706A JP2007169706A (ja) | 2007-07-05 |
JP4868121B2 true JP4868121B2 (ja) | 2012-02-01 |
Family
ID=38296648
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005368186A Expired - Fee Related JP4868121B2 (ja) | 2005-12-21 | 2005-12-21 | アモルファス金−ニッケル系合金めっき皮膜形成用電気めっき液及び電気めっき方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4868121B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5424666B2 (ja) | 2009-02-17 | 2014-02-26 | 学校法人早稲田大学 | 微細結晶−アモルファス混在金合金およびめっき皮膜、そのためのめっき液およびめっき皮膜形成方法 |
EP2990507A1 (en) * | 2014-08-25 | 2016-03-02 | ATOTECH Deutschland GmbH | Composition, use thereof and method for electrodepositing gold containing layers |
CN105316732A (zh) * | 2015-11-30 | 2016-02-10 | 苏州市金星工艺镀饰有限公司 | 一种无氰金–钴合金电镀液及其电镀方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS48102738A (ja) * | 1972-04-10 | 1973-12-24 | ||
JPS5347346B2 (ja) * | 1972-06-06 | 1978-12-20 | ||
DE2855735A1 (de) * | 1978-12-22 | 1980-07-03 | Int Gold Corp Ltd | Elektrolyt zur galvanischen abscheidung von weissgold-legierungen und seine verwendung |
JPS6033382A (ja) * | 1983-08-03 | 1985-02-20 | Nippon Pureeteingu Kk | パルス電解による非晶質合金の電着方法 |
JPS60169591A (ja) * | 1984-02-10 | 1985-09-03 | Inoue Japax Res Inc | 合成樹脂用金型の製作方法 |
JPS62290893A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-17 | Nippon Mining Co Ltd | 金−ニツケル合金めつき液及びめつき方法 |
JPH0731375B2 (ja) * | 1987-10-19 | 1995-04-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像読取方法 |
GB2242200B (en) * | 1990-02-20 | 1993-11-17 | Omi International | Plating compositions and processes |
JP3262929B2 (ja) * | 1993-12-28 | 2002-03-04 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 金合金メッキ液 |
JP4006541B2 (ja) * | 1998-07-10 | 2007-11-14 | 株式会社ナウケミカル | 光モジュール用光ファイバとその製造方法 |
US6814850B1 (en) * | 1999-06-17 | 2004-11-09 | Umicore Galvanotechnik Gmbh | Acid bath for electrodeposition of glossy gold and gold alloy layers and a gloss additive for same |
JP2001342591A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-12-14 | Takayasu Mochizuki | 高強度合金及びその製造方法並びにその高強度合金を被覆してなる金属とその高強度合金を用いたマイクロ構造体 |
JP3900961B2 (ja) * | 2002-02-18 | 2007-04-04 | 日立電線株式会社 | 樹脂接着用銅箔およびその製造方法 |
JP2004176082A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-06-24 | Osaka Gas Co Ltd | 高耐食性部材及びその製造方法 |
JP4868123B2 (ja) * | 2005-02-04 | 2012-02-01 | 学校法人早稲田大学 | 金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜、電気めっき液及び電気めっき方法 |
-
2005
- 2005-12-21 JP JP2005368186A patent/JP4868121B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007169706A (ja) | 2007-07-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Rao et al. | Chemical and electrochemical depositions of platinum group metals and their applications | |
Donten et al. | Pulse electroplating of rich-in-tungsten thin layers of amorphous Co-W alloys | |
JP4868116B2 (ja) | 金−コバルト系アモルファス合金めっき皮膜、電気めっき液及び電気めっき方法 | |
JP4790191B2 (ja) | パラジウム又はその合金を電気化学的に析出させるための電解浴 | |
Carlos et al. | Effect of tartrate on the morphological characteristics of the copper–tin electrodeposits from a noncyanide acid bath | |
JP4868123B2 (ja) | 金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜、電気めっき液及び電気めっき方法 | |
Ibrahim et al. | New cyanide-free ammonia bath for brass alloy coatings on steel substrate by electrodeposition | |
JP4868121B2 (ja) | アモルファス金−ニッケル系合金めっき皮膜形成用電気めっき液及び電気めっき方法 | |
JP4740508B2 (ja) | パラジウム錯塩及びパラジウム又はその合金の一つを析出させる電解浴のパラジウム濃度を調節するためのその使用 | |
JP5424666B2 (ja) | 微細結晶−アモルファス混在金合金およびめっき皮膜、そのためのめっき液およびめっき皮膜形成方法 | |
Moniruzzaman et al. | Fe-Ni alloy electrodeposition from simple and complex type sulfate electrolytes containing Ni/Fe ratio of 1 and 12 | |
El Boraei et al. | Preparation, characterisation and electrochemical study of crack-free nanocrystalline electrodeposited Co-W alloy coating of high hardness | |
JP2007308801A (ja) | ニッケル・コバルト・リン電気メッキの組成物及びその用途 | |
JP5312842B2 (ja) | 電解合金めっき液及びそれを用いるめっき方法 | |
JP4561149B2 (ja) | 水素発生用合金電極およびその製造方法 | |
KR102295180B1 (ko) | 전기전도성, 내식성 및 내구성 향상을 위한 은-나노 합금 도금액 조성물 및 이를 이용한 도금 방법 | |
WO2021141987A1 (en) | Nickel-gold alloy and methods of forming the same | |
US4470886A (en) | Gold alloy electroplating bath and process | |
JPH07292491A (ja) | 高耐食性めっき皮膜およびめっき液 | |
JP2012233223A (ja) | 電気めっき組成物、および、電気めっき液 | |
Girin et al. | Electrochemical reduction of ions in metals/alloys at a liquid cathode versus a solid chemically identical one | |
JP4934765B2 (ja) | 金めっき膜およびその製造方法 | |
JP2017048423A (ja) | ニッケルタングステン合金およびコンタクトプローブ | |
JP2001271132A (ja) | 高強度合金及びその高強度合金を被覆してなる金属 | |
JP2012184468A (ja) | めっき膜、電子部品、めっき液、および、めっき膜の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081017 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110511 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110708 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110803 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110927 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111019 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111101 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4868121 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141125 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |