JP4868123B2 - 金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜、電気めっき液及び電気めっき方法 - Google Patents
金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜、電気めっき液及び電気めっき方法 Download PDFInfo
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Description
本発明の金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜は、微細結晶を有さない均質なアモルファス相で形成されている。
KAu(CN)2を0.035mol/dm3、NiSO4・6H2Oを0.076mol/dm3、Na2WO4・2H2Oを0.182mol/dm3、クエン酸を0.258mol/dm3含有し、アンモニア水によりpHを6に調整した電気めっき液を用い、温度70℃、電流密度150mA/cm2で純度99.96%の銅板上に金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜(膜厚5μm)を形成した。なお、アノードには白金板を用い、めっき中のめっき浴の攪拌は実施しなかった。
XRD
理学電機社製 RINT−TTRによる:CuKα(50kV/200mA)
TEM及びTHEED
日立製作所製H8100Aによる:加速電圧200kV 明視野像
金属組成
日本電子社製JAX−8600による:EDS−EPMA法
非金属元素測定
LECO社製無機組成元素分析装置CS−444,TC−436による
ヌープ硬さ
JIS Z 2251に準じて測定:荷重49.0mN(HK0.005) 荷重保持時間5秒 銅板上に形成された30μm厚みのめっき皮膜で測定した
接触抵抗
山崎精機製電気接点シミュレータCRS−112−ALによる:四端子法で、荷重1N、印加電流10mAの条件で測定
アニール温度(保温温度)を各々200℃,300℃又は400℃とし、アニール処理時間を昇温1時間、保温1時間、冷却1.5時間として大気雰囲気下で処理した。なお、XRD分析の方法及び条件は上記と同様である。
接触抵抗の熱安定性
2,5インチHD基板(材質:アルミ基板上に非晶質NiP8μmを成膜し、研磨したもの)上に膜厚1μm光沢純Niからなる下地層をめっきにより形成し、この上に測定する対象のめっき皮膜を膜厚0.2μmで形成し、200℃、大気雰囲気下でアニール処理し、アニール処理前後の接触抵抗を上記と同様の方法及び条件で経時的に測定した。
KAu(CN)2を0.0175mol/dm3とした以外は、実施例1と同様にして金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜を形成し、得られためっき皮膜について、分析、測定した。XRDパターンを図1に示す。XRDパターンは実施例1と同様であり、得られた合金がアモルファスであることがわかる。また、組成の分析結果を表1に示す。
KAu(CN)2を0.035mol/dm3、NiSO4・6H2Oを0.057mol/dm3、Na2WO4・2H2Oを0.182mol/dm3、クエン酸を0.258mol/dm3含有し、アンモニア水によりpHを9に調整した電気めっき液を用い、温度70℃、電流密度150mA/cm2で純度99.96%の銅板上に金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜(膜厚5μm)を形成した。なお、アノードには白金板を用い、めっき中のめっき浴の攪拌は実施しなかった。
KAu(CN)2を0.0035mol/dm3とした以外は、実施例1と同様にして金−ニッケル系合金めっき皮膜を形成し、得られためっき皮膜について、分析、測定した。XRDパターンを図1に示す。XRDパターンは実施例1,2とは異なり、2つに分かれている。得られた合金はアモルファスNiWとAu又はAuNi合金結晶との混相であり、アモルファス合金単一相ではないことがわかる。また、組成の分析結果を表1に示す。
Na2WO4・2H2Oを含有させなかった以外は実施例1と同様にして金−ニッケル系合金めっき皮膜を形成し、得られためっき皮膜について、分析、測定した。XRDパターンを図1に示す。XRDパターンは実施例1,2とは異なり、2θ=40°付近に鋭いピークが見られ、アモルファス構造をとっていないことがわかる。また、組成の分析結果を表1に示す。この場合、金とニッケルとの組成比が実施例1と実施例2との間にあるにもかかわらず、アモルファス構造をとっておらず、この結果は、本発明の金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜の形成にはタングステンが重要な働きをしていることを示している。
Claims (8)
- 微細結晶を有さない均質なアモルファス相で形成されてなり、金及びニッケルを含む金属成分を97.5質量%以上、及び炭素を2.5質量%以下で含有し、上記金属成分中の金及びニッケルの組成が、金及びニッケルの総量として98質量%以上、かつ金/ニッケル=(59.5/39.6)〜(77.2/22.6)(質量比)であることを特徴とする金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜。
- 上記金属成分として、更にタングステンを含有すると共に、上記金属成分中のタングステンの含有率が2質量%以下であることを特徴とする請求項1記載の金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜。
- 接触抵抗が5mΩ以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜。
- ヌープ硬さがHk=200以上であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜。
- 請求項1乃至4のいずれか1項記載の金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜を形成するための電気めっき液であって、シアン化金塩を金基準で0.01〜0.1mol/dm3の濃度、ニッケル塩をニッケル基準で0.02〜0.2mol/dm3の濃度、及びタングステン酸塩をタングステン基準で0.1〜0.5mol/dm3の濃度で含有することを特徴とする電気めっき液。
- 更に、錯化剤を含有することを特徴とする請求項5記載の電気めっき液。
- 錯化剤を0.1〜0.5mol/dm3の濃度で含有することを特徴とする請求項6記載の電気めっき液。
- 請求項5乃至7のいずれか1項記載の電気めっき液を用いて被めっき物上に金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜を形成することを特徴とする電気めっき方法。
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