RU2011120235A - Теплопоглощающие добавки - Google Patents

Теплопоглощающие добавки Download PDF

Info

Publication number
RU2011120235A
RU2011120235A RU2011120235/05A RU2011120235A RU2011120235A RU 2011120235 A RU2011120235 A RU 2011120235A RU 2011120235/05 A RU2011120235/05 A RU 2011120235/05A RU 2011120235 A RU2011120235 A RU 2011120235A RU 2011120235 A RU2011120235 A RU 2011120235A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
tungsten
weight
parts
particles
alkali metal
Prior art date
Application number
RU2011120235/05A
Other languages
English (en)
Inventor
Марк МАМАК
Урс ЛЕМАНН
Ральф КНИШКА
Франческа ПЕРИ
Адольф КЭЗЕР
Original Assignee
Дейталейз Лимитед
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Дейталейз Лимитед filed Critical Дейталейз Лимитед
Publication of RU2011120235A publication Critical patent/RU2011120235A/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G41/00—Compounds of tungsten
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C29/00—Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides
    • C22C29/12—Alloys based on carbides, oxides, nitrides, borides, or silicides, e.g. cermets, or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides based on oxides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G41/00—Compounds of tungsten
    • C01G41/02—Oxides; Hydroxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G41/00—Compounds of tungsten
    • C01G41/04—Halides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/32—Radiation-absorbing paints
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/66—Additives characterised by particle size
    • C09D7/67—Particle size smaller than 100 nm
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/66—Additives characterised by particle size
    • C09D7/68—Particle size between 100-1000 nm
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F2999/00—Aspects linked to processes or compositions used in powder metallurgy
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
    • C01P2002/72—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/80—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
    • C01P2002/82—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by IR- or Raman-data
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)

Abstract

1. Порошкообразная композиция, содержащаяa) вольфрамовую бронзу щелочного металла,b) бинарный оксид вольфрама, иc) металлический вольфрам.2. Композиция по п.1, содержащаяa) 25-95 мас.ч., предпочтительно 40-94 мас.ч. вольфрамовой бронзы щелочного металла формулы WOMe, в которой Me выбирается из группы, включающей Cs, Na, K; x находится в диапазоне от 0,2 до 1, предпочтительно от 0,4 до 0,7; и z равно 0 или находится в диапазоне от 0 до x,b) 4-60 мас.ч., предпочтительно 5-60 мас.ч. бинарного оксида вольфрама, иc) 1-15 мас.ч., предпочтительно 1-10 мас.ч. металлического вольфрама.3. Композиция по п.1, содержащая бронзу (а) в качестве основного компонента, составляющего, по меньшей мере, 50 мас.% в пересчете на всю композицию; предпочтительно содержащая, на 100 мас.ч. всей порошкообразной композиции,a) 70-98 мас.ч., предпочтительно 80-96 мас.ч. вольфрамовой бронзы щелочного металла формулы WOMe, в которой Me выбирается из группы, включающей Cs, Na, K; x находится в диапазоне от 0,2 до 1; и z равно 0 или находится в диапазоне от 0 до x,b) 1-15 мас.ч., предпочтительно 2-10 мас.ч. бинарного оксида вольфрама, иc) 1-15 мас.ч., предпочтительно 2-10 мас.ч. металлического вольфрама.4. Композиция по любому из пп.1-3, в которой компоненты (a)-(c) составляют до 95-100 мас.% в пересчете на всю порошкообразную композицию, остальными компонентами, если они содержатся, являются полимеры, другие соединения вольфрама и/или вода.5. Способ получения вольфрамовой бронзы щелочного металла или композиции, содержащей вольфрамовую бронзу щелочного металла, предпочтительно по п.1, причем этот способ содержит взаимодействие смеси подходящего эдукта вольфрама, предпочтительно вольфрамата аммония, и подходящей соли цезия, рубидия, лития,

Claims (16)

1. Порошкообразная композиция, содержащая
a) вольфрамовую бронзу щелочного металла,
b) бинарный оксид вольфрама, и
c) металлический вольфрам.
2. Композиция по п.1, содержащая
a) 25-95 мас.ч., предпочтительно 40-94 мас.ч. вольфрамовой бронзы щелочного металла формулы WO3-zMex, в которой Me выбирается из группы, включающей Cs, Na, K; x находится в диапазоне от 0,2 до 1, предпочтительно от 0,4 до 0,7; и z равно 0 или находится в диапазоне от 0 до x,
b) 4-60 мас.ч., предпочтительно 5-60 мас.ч. бинарного оксида вольфрама, и
c) 1-15 мас.ч., предпочтительно 1-10 мас.ч. металлического вольфрама.
3. Композиция по п.1, содержащая бронзу (а) в качестве основного компонента, составляющего, по меньшей мере, 50 мас.% в пересчете на всю композицию; предпочтительно содержащая, на 100 мас.ч. всей порошкообразной композиции,
a) 70-98 мас.ч., предпочтительно 80-96 мас.ч. вольфрамовой бронзы щелочного металла формулы WO3-zMex, в которой Me выбирается из группы, включающей Cs, Na, K; x находится в диапазоне от 0,2 до 1; и z равно 0 или находится в диапазоне от 0 до x,
b) 1-15 мас.ч., предпочтительно 2-10 мас.ч. бинарного оксида вольфрама, и
c) 1-15 мас.ч., предпочтительно 2-10 мас.ч. металлического вольфрама.
4. Композиция по любому из пп.1-3, в которой компоненты (a)-(c) составляют до 95-100 мас.% в пересчете на всю порошкообразную композицию, остальными компонентами, если они содержатся, являются полимеры, другие соединения вольфрама и/или вода.
5. Способ получения вольфрамовой бронзы щелочного металла или композиции, содержащей вольфрамовую бронзу щелочного металла, предпочтительно по п.1, причем этот способ содержит взаимодействие смеси подходящего эдукта вольфрама, предпочтительно вольфрамата аммония, и подходящей соли цезия, рубидия, лития, натрия или калия, которая предпочтительно выбирается из группы, включающей ацетаты, цитраты, формиаты, нитраты, гидрокарбонаты, нитриты, хлориды, бромиды, йодиды, сульфаты, перхлораты, гипохлорит, гидроксиды, пропионаты, пируваты, оксалаты, фумараты, лактаты, метоксиды, алкоксиды, оксиды лития или натрия, или калия, или рубидия, или цезия; и/или подходящего вольфрамата щелочного металла; с восстанавливающим газом, предпочтительно водородом, при температуре, равной 2500 K или выше.
6. Способ по п.5, в котором взаимодействие проводят в плазме.
7. Способ по п.5, в котором восстанавливающий газ применяется в смеси с инертным газом.
8. Способ по любому из пп.5-7, в котором восстанавливающий газ содержит водород, и количество водорода подбирают таким образом, чтобы количество металлического вольфрама, образовавшегося в продукте, составляло менее 15 мас.%, предпочтительно находилось в диапазоне 1-10 мас.% в пересчете на массу продукта.
9. Дисперсия частиц, содержащая частицы вольфрамовой бронзы щелочного металла в комбинации с частицами бинарного оксида вольфрама и с частицами металлического вольфрама по любому из пп.1-4 в диспергирующей среде, выбранной из числа органических полимеров, растворителей, таких как органические растворители или вода, или комбинации органических растворителей и воды, и комбинаций органических полимеров и растворителей.
10. Дисперсия частиц по п.9, в которой 90 мас.% или более от полной массы частиц представляют собой частицы, обладающие размером, находящимся в диапазоне от 1 нм до 800 нм.
11. Композиция, содержащая
i) органический полимер, предпочтительно синтетический термопластический органический полимер, и
ii) от 0,01 до 15 мас.%, в пересчете на компонент (i), вольфрамовой бронзы щелочного металла, в виде порошкообразной композиции по любому из пп.1-4.
12. Композиция по п.11, содержащая компонент (ii) в виде частиц, диспергированных в матрице компонента (i).
13. Применение частиц вольфрамовой бронзы щелочного металла или частиц, содержащих вольфрамовую бронзу щелочного металла, в комбинации с частицами бинарного оксида вольфрама и частицами металлического вольфрама по любому из пп.1-4, в качестве поглотителя инфракрасного излучения и/или теплоэкранирующей добавки в органической или неорганической полимерной композиции или органической/неорганической смешанной полимерной системе.
14. Применение по п.13, в котором дополнительную добавку, выбранную из группы, включающей TiO2; органические поглотители ИК-излучения, такие как соль хинон-диимония, соль аминия, полиметины, фталоцианин, нафталоцианин и кватеррилен-бисимид; один неорганический поглотитель ИК-излучения, выбранный из группы, включающей гексаборид лантана, оксид индия-олова, оксид сурьмы-олова; пигменты; дитиоленовые комплексы металлов формулы I и II
Figure 00000001
Figure 00000002
где М обозначает Ni, Pd, Pt, Au, Ir, Fe, Zn, W, Cu, Mo, In, Mn, Co, Mg, V, Cr и Ti, X1, X2 и X3 независимо друг от друга означают серу или кислород;
R1, R2, R3, R4, R5 и R6 независимо друг от друга означают водород, NR7R8, C1-C18-алкил, арил, арилалкил, гетероарилалкил, где R7 и R8 независимо друг от друга означают C1-C18-алкил, арил, арилалкил, гетероарилалкил; включают в полимер или в смешанную систему полимеров.
15. Способ увеличения количества тепла, подводимого с помощью излучения в ближней инфракрасной области спектра к твердому или жидкому материалу, предпочтительно при небольшом влиянии на цвет материала, причем способ включает введение частиц вольфрамовой бронзы щелочного металла или частиц, содержащих вольфрамовую бронзу щелочного металла, предпочтительно в комбинации с частицами бинарного оксида вольфрама и частицами металлического вольфрама в массовом соотношении по п.2 или 3 в указанный материал, который предпочтительно выбирается из группы, включающей пластмассы, композиции покрытий, клеи, краски, тонеры, бумагу, для лазерной сварки пластмасс, отверждения и сушки покрытий с помощью БИК, отверждения и сушки клеев, сушки красок для печати, закрепления тонеров на подложках, нагревания предварительно сформованных пластмассовых изделий, лазерной маркировки пластмасс или бумаги.
16. Способ по п.15, в котором дополнительную добавку, выбранную из группы, включающей TiO2; органические поглотители ИК-излучения, такие как соль хинон-диимония, соль аминия, полиметины, фталоцианин, нафталоцианин и кватеррилен-бисимид; один неорганический поглотитель ИК-излучения, выбранный из группы, включающей гексаборид лантана, оксид индия-олова, оксид сурьмы-олова; пигменты; дитиоленовые комплексы металлов формулы 1 и II
Figure 00000003
Figure 00000004
где М обозначает Ni, Pd, Pt, Au, Ir, Fe, Zn, W, Cu, Mo, In, Mn, Co, Mg, V, Cr и Ti, X1, X2 и X3 независимо друг от друга означают серу или кислород;
R1, R2, R3, R4, R5 и R6 независимо друг от друга означают водород, NR7R8, C1-C18-алкил, арил, арилалкил, гетероарилалкил, где R7 и R8 независимо друг от друга означают C1-C18-алкил, арил, арилалкил, гетероарилалкил; включают в материал.
RU2011120235/05A 2008-10-23 2009-10-14 Теплопоглощающие добавки RU2011120235A (ru)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US19710208P 2008-10-23 2008-10-23
US61/197,102 2008-10-23
EP09151848.0 2009-02-02
EP09151848 2009-02-02
PCT/EP2009/063377 WO2010046285A2 (en) 2008-10-23 2009-10-14 Heat absorbing additives

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2011120235A true RU2011120235A (ru) 2012-11-27

Family

ID=40718572

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011120235/05A RU2011120235A (ru) 2008-10-23 2009-10-14 Теплопоглощающие добавки

Country Status (8)

Country Link
US (1) US8853314B2 (ru)
EP (1) EP2340276B1 (ru)
JP (1) JP5460720B2 (ru)
KR (2) KR101782567B1 (ru)
CN (1) CN102197076A (ru)
BR (1) BRPI0920040B1 (ru)
RU (1) RU2011120235A (ru)
WO (1) WO2010046285A2 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2662545C2 (ru) * 2013-07-30 2018-07-26 Дейталейз Лтд. Краска для лазерного формирования изображений

Families Citing this family (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8642504B2 (en) 2005-07-25 2014-02-04 Gill Jennings & Every Llp Aqueous and transparent coatings for marking substrates
WO2009010405A1 (en) 2007-07-18 2009-01-22 Basf Se Laser-sensitive coating formulation
CN101755019A (zh) * 2007-07-18 2010-06-23 巴斯夫欧洲公司 涂料组合物
RU2011120235A (ru) 2008-10-23 2012-11-27 Дейталейз Лимитед Теплопоглощающие добавки
EP2342295A1 (en) 2008-10-27 2011-07-13 DataLase Ltd Coating composition for marking substrates
EP2404752A4 (en) * 2009-03-06 2013-10-09 Bridgestone Corp LAMINATE FOR HEAT RADIATION SHIELDING AND LAMINATED GLASS FOR HEAT RADIATION SHIELDING
JP5343697B2 (ja) * 2009-05-15 2013-11-13 住友金属鉱山株式会社 複合タングステン酸化物超微粒子の製造方法
JP5695356B2 (ja) * 2010-07-13 2015-04-01 株式会社カネカ 近赤外線吸収能を有する硬化性コーティング剤、および近赤外線吸収材
JP5544239B2 (ja) 2010-07-29 2014-07-09 富士フイルム株式会社 重合性組成物
CN103237853B (zh) * 2010-11-24 2016-05-04 巴斯夫欧洲公司 芳基或杂芳基取代的二硫醇烯金属配合物作为ir吸收剂的用途
JP5305050B2 (ja) * 2011-04-14 2013-10-02 住友金属鉱山株式会社 熱線遮蔽微粒子含有組成物の製造方法および熱線遮蔽微粒子含有組成物、当該熱線遮蔽微粒子含有組成物を用いた熱線遮蔽膜および当該熱線遮蔽膜を用いた熱線遮蔽合わせ透明基材
JP5344261B2 (ja) * 2011-04-14 2013-11-20 住友金属鉱山株式会社 熱線遮蔽膜とその製造方法、および熱線遮蔽合わせ透明基材
JP6021895B2 (ja) * 2011-05-06 2016-11-09 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ ペルフルオロアルキル置換基を有する発色団
US11597813B2 (en) * 2011-07-21 2023-03-07 Colormatrix Holdings, Inc. Polymeric materials
EP2753666B1 (de) * 2011-09-06 2020-04-08 Basf Se Infrarotstrahlung absorbierende weisse und helle farben
JP5867753B2 (ja) 2011-12-02 2016-02-24 住友金属鉱山株式会社 熱線遮蔽膜、熱線遮蔽合わせ透明基材、および、当該熱線遮蔽合わせ透明基材が窓材として搭載されている自動車、および、当該熱線遮蔽合わせ透明基材が窓材として使用されている建造物
US9862842B2 (en) 2012-02-29 2018-01-09 Sabic Global Technologies B.V. Infrared radiation absorbing articles and method of manufacture
CN104093520B (zh) * 2012-03-01 2017-07-04 费罗公司 激光吸收化合物
JP2014024537A (ja) * 2012-06-19 2014-02-06 3M Innovative Properties Co ナンバープレート用シート、ナンバープレート用積層体、ナンバープレートおよびナンバープレート用装飾部材
JP6086261B2 (ja) * 2012-11-30 2017-03-01 住友金属鉱山株式会社 近赤外線吸収フィルタおよび撮像素子
US10343339B2 (en) 2013-04-11 2019-07-09 Københavns Universitet Laser welding plastic
CN104341007B (zh) * 2013-07-23 2016-11-16 财团法人工业技术研究院 红外吸收材料、其制造方法、以及包含其的隔热结构
US9434652B2 (en) 2013-07-23 2016-09-06 Industrial Technology Research Institute Infrared absorption material, method for fabricating the same, and thermal isolation structure employing the same
TWI522319B (zh) * 2013-07-23 2016-02-21 財團法人工業技術研究院 紅外光吸收材料、其製造方法、以及包含其之隔熱結構
CN104341000B (zh) * 2013-08-05 2017-09-29 北京化工大学 纳米掺杂vib族金属氧化物颗粒或其分散体的制备方法和用途
CN103613280B (zh) * 2013-11-22 2016-05-18 福耀玻璃工业集团股份有限公司 一种用于形成紫外线吸收涂层的涂液和紫外线吸收玻璃
JP6326142B2 (ja) * 2014-09-01 2018-05-16 富士フイルム株式会社 赤外光遮蔽組成物、赤外光カットフィルタ、固体撮像素子
JP6299559B2 (ja) 2014-10-30 2018-03-28 住友金属鉱山株式会社 熱線遮蔽粒子、熱線遮蔽粒子分散液、熱線遮蔽粒子分散体、熱線遮蔽粒子分散体合わせ透明基材、赤外線吸収透明基材、熱線遮蔽粒子の製造方法
CN104610710B (zh) * 2015-01-05 2017-01-04 南京攀腾科贸有限公司 一种高效阻隔紫外线及近红外线pet膜及其制备方法
CN104559117B (zh) * 2015-01-26 2018-06-22 江苏凯尚绿色建筑管理有限公司 一种能阻隔紫外线和近红外线的聚碳酸酯薄膜及其制备方法
CN104559119B (zh) * 2015-01-26 2018-04-13 江苏凯尚绿色建筑管理有限公司 一种能阻隔紫外线和近红外线的聚碳酸酯板材及其制备方法
EP3067216B1 (en) * 2015-03-10 2019-01-16 Basf Se Chromophoric compositions
TWI617604B (zh) * 2015-03-13 2018-03-11 Infrared absorbing polyester masterbatch, infrared absorbing polyester preform and polyester bottle
US10919217B2 (en) 2015-07-23 2021-02-16 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Three-dimensional (3D) printing build material composition
CN106477633B (zh) * 2015-09-01 2018-12-25 北京化工大学 一种双金属掺杂vib族金属氧化物纳米材料及其制备方法与应用
JP7027887B2 (ja) * 2015-09-18 2022-03-02 住友金属鉱山株式会社 近赤外線硬化型インク組成物、近赤外線硬化膜、および光造形法
EP3365153B1 (en) * 2015-10-23 2024-02-28 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Three-dimensional (3d) printing
CN105754313A (zh) * 2015-11-03 2016-07-13 魏勇 一种纳米隔热母粒及其制备方法和应用
WO2017104855A1 (ja) * 2015-12-18 2017-06-22 住友金属鉱山株式会社 偽造防止インク用組成物、偽造防止インク、および偽造防止用印刷物、並びに偽造防止インク用組成物の製造方法
WO2017104854A1 (ja) * 2015-12-18 2017-06-22 住友金属鉱山株式会社 近赤外線遮蔽超微粒子分散体、日射遮蔽用中間膜、赤外線遮蔽合わせ構造体、および近赤外線遮蔽超微粒子分散体の製造方法
WO2017104853A1 (ja) 2015-12-18 2017-06-22 住友金属鉱山株式会社 複合タングステン酸化物超微粒子およびその分散液
DE102016213372A1 (de) 2016-07-21 2018-01-25 Few Chemicals Gmbh NIR-Absorber Additive für das Laserstrahlschweißen von Kunststoffen
GB2553776B (en) * 2016-09-09 2021-12-08 Centrica Hive Ltd Equipment cover
US10262763B2 (en) * 2016-09-19 2019-04-16 Radium Incorporated Systems, devices, and/or methods for managing radiation shielding
WO2018144054A1 (en) * 2017-02-06 2018-08-09 Hewlett-Packard Development Company, L.P. 3d printing
US10781228B2 (en) 2017-02-06 2020-09-22 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Fusing agent including a metal bis(dithiolene) complex
WO2018194542A1 (en) 2017-04-17 2018-10-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Fusing agent(s)
TWI631079B (zh) * 2017-03-14 2018-08-01 賽能有限公司 一種銣銫鎢青銅顆粒製造方法以及其組合物
KR102615612B1 (ko) * 2017-07-24 2023-12-20 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 적외선 흡수 미립자 함유 마스터배치 분쇄물, 적외선 흡수 미립자 함유 마스터배치 분쇄물 함유 분산액, 적외선 흡수 재료 함유 잉크, 그것들을 사용한 위조 방지 잉크, 위조 방지용 인쇄막, 및 적외선 흡수 미립자 함유 마스터배치 분쇄물의 제조 방법
US11787949B2 (en) 2017-07-24 2023-10-17 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Infrared absorbing fine particle dispersed powder, dispersion liquid containing infrared absorbing fine particle dispersed powder, ink containing infrared absorbing fine particle dispersed powder, and anti-counterfeit ink, and anti-counterfeit printed matter
US10353123B2 (en) * 2017-08-08 2019-07-16 Apple Inc. Electronic Devices with glass layer coatings
GB2574075B (en) 2018-09-21 2020-07-08 Keeling & Walker Ltd Near infra-red absorbing material and uses
MX2021004429A (es) * 2018-10-18 2021-07-07 Basf Se Composicion de microparticulas que comprende un pigmento organico absorbente de ir.
CN113544795A (zh) * 2019-03-01 2021-10-22 密歇根大学董事会 基于超薄导体的半透明电磁干扰屏蔽
CN112744865A (zh) * 2019-10-31 2021-05-04 北京信息科技大学 一种铯钨青铜/氧化钨复合材料的制备方法
CN113861601B (zh) * 2021-09-27 2023-03-07 烟台佳隆纳米产业有限公司 铯钨青铜吸热剂及制备方法、在ms红外焊接中的应用

Family Cites Families (119)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2357725A (en) 1941-10-09 1944-09-05 Bennett Harry Flameproofing
US2427443A (en) 1943-06-04 1947-09-16 Dick Co Ab Light-sensitive layer and processes of making and exposing it
US2800457A (en) 1953-06-30 1957-07-23 Ncr Co Oil-containing microscopic capsules and method of making them
NL275857A (ru) 1961-03-13 1900-01-01
US3373170A (en) 1964-09-17 1968-03-12 Pan American Petroleum Corp Amine salts of boric acid-polyol complexes
US3513114A (en) 1966-01-07 1970-05-19 Monsanto Co Intumescent coating compositions
CH540715A (de) 1970-05-26 1973-10-15 Ciba Geigy Ag Verfahren zur Einkapselung von in einer Flüssigkeit fein verteilter Substanz
SE394868B (sv) 1970-07-08 1977-07-18 Yamamoto Kagaku Gosei Kk Tryckkensligt kopiepapper, hos vilket som fergbildare anvendes ett bensylaminofluoranderivat
GB1347467A (en) 1970-11-18 1974-02-27 Clayton Aniline Co Ltd Process for the preparation of crystal biolet lactone
BE791898A (fr) 1971-11-26 1973-05-24 Ciba Geigy Ag Procede de preparation de substances chromogenes a partir d'indoles et d'anhydrides d'acides dicarboxyliques vicinaux, aromatiques ou heteroaromatiques, nouveaux chromogenes de cette categorie et leur emploi
US3853791A (en) 1973-02-06 1974-12-10 American Cyanamid Co Oxide and molybdenum oxide on an alumina support and catalyst obtained
JPS5138245B2 (ru) 1973-05-22 1976-10-20
US3955987A (en) 1974-04-19 1976-05-11 Monsanto Research Corporation Intumescent compositions and substrates coated therewith
UST961009I4 (en) 1976-02-06 1977-08-02 Imperial Chemical Industries Limited Oriented polyolefin film treated with amine sulphates
JPS5323630A (en) 1976-08-17 1978-03-04 Dainippon Printing Co Ltd Method of forming picture
LU76074A1 (ru) 1976-10-26 1978-05-16
JPS5434909A (en) 1977-08-08 1979-03-14 Yamada Chem Co Colored recording material
CA1096712A (en) 1977-12-19 1981-03-03 Douglas W.T. Beattie Pigment compositions and methods of preparation
GB2044272B (en) 1979-02-05 1983-03-16 Sandoz Ltd Stabilising polymers
DE2914427A1 (de) 1979-04-10 1980-10-23 Bayer Ag Beschichtung fuer thermoplasten
AU5960380A (en) 1979-08-30 1981-03-05 A. Ehrenreich G.m.b.H. & Co. KG Bellows seal and retaining ring
JPS59120654A (ja) 1982-12-27 1984-07-12 Shin Nisso Kako Co Ltd フルオラン化合物
US4619956A (en) 1985-05-03 1986-10-28 American Cyanamid Co. Stabilization of high solids coatings with synergistic combinations
JPS62100692A (ja) 1985-10-26 1987-05-11 三菱原子燃料株式会社 核燃料棒
JP2626761B2 (ja) 1987-05-29 1997-07-02 富士写真フイルム株式会社 カラー画像形成方法および記録材料
US4916247A (en) 1987-09-07 1990-04-10 Ciba-Geigy Corporation Organometal-containing compounds
DE68927136T2 (de) 1988-05-31 1997-03-06 Dainippon Ink & Chemicals Verfahren und Zusammensetzung für Lasermarkierung
US5166350A (en) 1989-06-10 1992-11-24 Ciba-Geigy Corporation Process for the manufacture of fluoran compounds
US5175312A (en) 1989-08-31 1992-12-29 Ciba-Geigy Corporation 3-phenylbenzofuran-2-ones
US5063137A (en) 1989-11-09 1991-11-05 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Laser-marking method and resin composition for laser-marking
DE69030362T2 (de) 1989-12-05 1997-10-23 Ciba Geigy Ag Stabilisiertes organisches Material
US5198498A (en) 1990-02-06 1993-03-30 Ciba-Geigy Corporation Light-stabilized binders for coating compositions
EP0442847B2 (de) 1990-02-16 2000-08-23 Ciba SC Holding AG Gegen Schädigung durch Licht, Wärme und Sauerstoff stabilisierte Ueberzugsmittel
EP0458741B1 (de) 1990-05-10 1996-01-24 Ciba-Geigy Ag Strahlenhärtbare lichtstabilisierte Zusammensetzungen
EP0458502B1 (en) 1990-05-21 2003-06-18 Dow Global Technologies Inc. Latent catalysts, cure-inhibited epoxy resin compositions and laminates prepared therefrom
US5358821A (en) 1990-12-28 1994-10-25 Xerox Corporation Process for producing electrophotographic toners containing passivated pigments
KR100187320B1 (ko) 1991-02-21 1999-04-01 월터 클리웨인 광, 산소 및 열에 대해 안정화된 도료
TW206220B (ru) 1991-07-01 1993-05-21 Ciba Geigy Ag
US5252643A (en) 1991-07-01 1993-10-12 Ciba-Geigy Corporation Thiomethylated benzofuran-2-ones
JP2984488B2 (ja) 1991-12-12 1999-11-29 山本化成株式会社 ２−（３−メチルアニリノ）−３−メチル−６−ジエチルアミノフルオランの結晶変態、その製造方法及びこの結晶変態を含有する記録材料
NL9300801A (nl) 1992-05-22 1993-12-16 Ciba Geigy 3-(acyloxyfenyl)benzofuran-2-on als stabilisatoren.
TW260686B (ru) 1992-05-22 1995-10-21 Ciba Geigy
GB2267490B (en) 1992-05-22 1995-08-09 Ciba Geigy Ag 3-(Carboxymethoxyphenyl)benzofuran-2-one stabilisers
TW255902B (ru) 1992-09-23 1995-09-01 Ciba Geigy
MX9305489A (es) 1992-09-23 1994-03-31 Ciba Geigy Ag 3-(dihidrobenzofuran-5-il)benzofuran-2-onas, estabilizadores.
US5256805A (en) 1992-11-25 1993-10-26 Siltech Inc. Silicone amido amine salts
JP2751089B2 (ja) 1992-11-30 1998-05-18 大日本インキ化学工業株式会社 レーザーマーキング方法及び印刷インキ
US5354794A (en) 1993-02-03 1994-10-11 Ciba-Geigy Corporation Electro coat/base coat/clear coat finishes stabilized with S-triazine UV absorbers
US5681791A (en) 1993-09-30 1997-10-28 Ciba-Geigy Corporation Color former mixture
DE4338361A1 (de) 1993-11-10 1995-05-11 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Verfahren zur Herstellung von Zusammensetzungen auf der Basis von Epoxidgruppen-haltigen Silanen
IT1269953B (it) 1994-06-27 1997-04-16 Ciba Geigy Spa Films di poliolefine o copolimeri di olefine con migliorata stabilita' alla luce e resistenza agli insetticidi
US5556973A (en) 1994-07-27 1996-09-17 Ciba-Geigy Corporation Red-shifted tris-aryl-s-triazines and compositions stabilized therewith
JP2535790B2 (ja) * 1994-09-08 1996-09-18 工業技術院長 タングステンブロンズおよびその被覆複合体の製造方法
TW308601B (ru) 1995-01-18 1997-06-21 Ciba Sc Holding Ag
US6379787B1 (en) 1995-02-03 2002-04-30 Exxonmobil Oil Corporation Coating composition for a plastic film
DE69623939T2 (de) 1995-03-15 2003-05-28 Ciba Sc Holding Ag Biphenyl-substituierte triazine als lichtschutzmittel
IT1273607B (it) 1995-04-26 1997-07-08 Ciba Geigy Spa Combinazione di stabilizzanti per polimeri sintetici organici
JP3620097B2 (ja) 1995-04-28 2005-02-16 株式会社リコー 水性インク
US5560769A (en) 1995-09-20 1996-10-01 Advanced Technical Products Supply Co., Inc. Water-based ceramic marking ink for marking metal surfaces and method using same
TW363016B (en) 1996-01-08 1999-07-01 Nippon Kayaku Kk Laser marking article having two or more layers of thin films on the surface thereof, method for laser marking of the article and ground composition for use in laser marking
JPH09258365A (ja) 1996-03-19 1997-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 赤外レーザー用感熱記録材料
US5954866A (en) 1996-06-11 1999-09-21 Seiko Epson Corporation Ink for ink jet recording and image forming method using the same
DE19724397A1 (de) 1997-06-10 1999-01-14 Bayer Ag UV-Stabilisatoren für Siloxan-Systeme
DE19724396A1 (de) 1997-06-10 1998-12-24 Bayer Ag UV-Stabilisatoren für Siloxan-Systeme
JPH1167604A (ja) 1997-08-08 1999-03-09 Toyama Yakuhin Kogyo Kk 電解コンデンサの駆動用電解液
TW436491B (en) 1997-08-22 2001-05-28 Ciba Sc Holding Ag Compositions for use in base-catalysed reactions, a process for curing said compostions and a process for photochemically generating bases in base catalysed polymeriaztion reactions
US6203603B1 (en) 1998-08-04 2001-03-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Erasable image forming material
US7635662B2 (en) 1998-09-04 2009-12-22 Chemipro Kasei Kaisha, Ltd. Compound for color-producing composition, and recording material
CA2350806A1 (en) 1998-11-10 2000-05-18 Isle Firestop Limited Composition for fire-protection coating
JP2000233929A (ja) * 1998-11-30 2000-08-29 High Frequency Heattreat Co Ltd Ｖ（１−ｘ）Ｏ２Ｍｘ組成の超微粒子粉末とその製造方法及び赤外線遮蔽材料
US6394594B1 (en) 1999-02-26 2002-05-28 Canon Kabushiki Kaisha Ink, method of reducing kogation on heater of ink-jet recording head, ink-jet recording process, ink-jet recording apparatus, recording unit, and method for lengthening the life of recording head
US6210472B1 (en) 1999-04-08 2001-04-03 Marconi Data Systems Inc. Transparent coating for laser marking
US6261348B1 (en) 1999-06-25 2001-07-17 Marconi Data Systems Inc. Laser markable coating
US6478861B1 (en) 1999-06-25 2002-11-12 Videojet Technologies Inc. Laser markable coating
JP2002006102A (ja) * 2000-06-19 2002-01-09 Nof Corp 近赤外線遮蔽性減反射材およびその用途
DE10108982A1 (de) 2001-02-23 2002-09-12 Mitsubishi Hitec Paper Flensbu Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial und seine Verwendung
EP1365923B2 (en) 2001-02-28 2009-11-11 DataLase Ltd Laser coding
DE60232829D1 (de) 2001-03-16 2009-08-13 Datalase Ltd Verfahren zur Erzeugung eines Bildes durch Laser
GB0114265D0 (en) 2001-06-12 2001-08-01 Ciba Sc Holding Ag Polymeric material containing a latent acid
TW593303B (en) 2001-09-11 2004-06-21 Ciba Sc Holding Ag Stabilization of synthetic polymers
FI110677B (fi) 2001-10-12 2003-03-14 Jujo Thermal Oy Lämpöherkkä tallennusmateriaali
DE10217023A1 (de) 2002-04-05 2003-10-16 Degussa Laserbeschriftbare Beschichtung auf Basis eines Polymer-Pulvers
DE10252007A1 (de) 2002-11-06 2004-05-27 Merck Patent Gmbh Lasermarkierbare Pigmente
US7270919B2 (en) 2002-11-12 2007-09-18 Datalase Ltd. Use of transition metal compounds in imageable coatings
US20040110870A1 (en) 2002-12-04 2004-06-10 Liu Matthew T. Fire protection coating composition
US7708974B2 (en) * 2002-12-10 2010-05-04 Ppg Industries Ohio, Inc. Tungsten comprising nanomaterials and related nanotechnology
WO2005012442A1 (en) 2003-07-30 2005-02-10 Datalase Ltd. Laser-arkable compositions
KR100701735B1 (ko) * 2003-10-20 2007-03-29 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 적외선 차폐재료 미립자 분산체, 적외선 차폐체, 및 적외선차폐재료 미립자의 제조방법, 및 적외선 차폐재료 미립자
JP2005193588A (ja) 2004-01-09 2005-07-21 Fuji Photo Film Co Ltd マイクロカプセル、その製造方法、及び記録材料
GB0400813D0 (en) 2004-01-14 2004-02-18 Sherwood Technology Ltd Laser imaging
US7144676B2 (en) 2004-02-06 2006-12-05 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Imaging compositions and methods
WO2006025470A1 (ja) 2004-08-31 2006-03-09 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 導電性粒子、可視光透過型粒子分散導電体およびその製造方法、透明導電薄膜およびその製造方法、これを用いた透明導電物品、赤外線遮蔽物品
WO2006030654A1 (ja) 2004-09-03 2006-03-23 Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. 記録材および記録方法
JP2006111675A (ja) 2004-10-13 2006-04-27 Mitsubishi Materials Corp 金属ナノロッド配向組成物およびその用途
JP4355945B2 (ja) * 2004-11-08 2009-11-04 住友金属鉱山株式会社 近赤外線吸収繊維およびこれを用いた繊維製品
ATE492407T1 (de) 2004-11-12 2011-01-15 Datalase Ltd Photothermisches aufzeichnungsmedium
JP4586970B2 (ja) * 2004-11-30 2010-11-24 住友金属鉱山株式会社 プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター、及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル
EP1827859B1 (en) 2004-12-08 2011-09-07 Fuji Hunt Photographic Chemicals, Inc. Composition for forming a laser-markable coating and process for forming a marking by laser exposure
GB0427747D0 (en) 2004-12-18 2005-01-19 Avecia Ltd Process
GB0428299D0 (en) 2004-12-24 2005-01-26 Ciba Sc Holding Ag Coating compositions for marking substrates
JP5094126B2 (ja) 2004-12-24 2012-12-12 株式会社ジェイテクト 転がり、摺動部品およびその製造方法
JP4623093B2 (ja) 2005-03-18 2011-02-02 住友金属鉱山株式会社 農園芸用覆土フィルム
MY143187A (en) 2005-03-23 2011-03-31 Ciba Holding Inc Coating compositions for marking substrates
GB0511096D0 (en) 2005-05-31 2005-07-06 Sherwood Technology Ltd Laser imaging
US8642504B2 (en) 2005-07-25 2014-02-04 Gill Jennings & Every Llp Aqueous and transparent coatings for marking substrates
BRPI0615836A2 (pt) 2005-09-15 2011-05-31 Ciba Sc Holding Ag composições de revestimento compreendendo um ativador latente para a produção de substratos
JP2007152686A (ja) 2005-12-02 2007-06-21 Fujifilm Corp 記録方法
US8021820B2 (en) 2006-01-31 2011-09-20 Datalase Ltd. Coating composition for marking substrates
KR100800417B1 (ko) * 2006-05-10 2008-02-01 김인열 차광 및 방충용 유리도포 조성물, 피막 및 이의 제조방법
KR20090101196A (ko) 2007-01-09 2009-09-24 시바 홀딩 인크 전자기선 또는 열 민감성 조성물
EP2101986B1 (en) * 2007-01-17 2017-03-22 Basf Se Dithiolene metal complex colorless ir absorbers
DE102007013219A1 (de) * 2007-03-15 2008-09-18 Rev Renewable Energy Ventures, Inc. Plasmagestützte Synthese
CN101755019A (zh) 2007-07-18 2010-06-23 巴斯夫欧洲公司 涂料组合物
WO2009010405A1 (en) 2007-07-18 2009-01-22 Basf Se Laser-sensitive coating formulation
JP5586466B2 (ja) * 2007-08-22 2014-09-10 データレース リミテッド レーザー感受性被覆組成物
KR101611627B1 (ko) 2007-11-05 2016-04-11 바스프 에스이 열 차폐용 첨가제
WO2010029276A1 (en) 2008-09-10 2010-03-18 Datalase Ltd. Laser imaging and its use in security applications
RU2011120235A (ru) 2008-10-23 2012-11-27 Дейталейз Лимитед Теплопоглощающие добавки
EP2342295A1 (en) 2008-10-27 2011-07-13 DataLase Ltd Coating composition for marking substrates

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2662545C2 (ru) * 2013-07-30 2018-07-26 Дейталейз Лтд. Краска для лазерного формирования изображений

Also Published As

Publication number Publication date
BRPI0920040B1 (pt) 2021-01-05
US20120129090A1 (en) 2012-05-24
JP5460720B2 (ja) 2014-04-02
BRPI0920040A2 (pt) 2017-06-27
EP2340276B1 (en) 2020-11-25
KR101691898B1 (ko) 2017-01-02
KR20170002689A (ko) 2017-01-06
KR101782567B1 (ko) 2017-09-27
WO2010046285A3 (en) 2010-07-01
KR20110083678A (ko) 2011-07-20
WO2010046285A2 (en) 2010-04-29
US8853314B2 (en) 2014-10-07
CN102197076A (zh) 2011-09-21
JP2012506463A (ja) 2012-03-15
EP2340276A2 (en) 2011-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2011120235A (ru) Теплопоглощающие добавки
JP6615955B2 (ja) 自己分散型顔料ならびにその製造方法および使用
US8960885B2 (en) Ink for inkjet recording, and ink cartridge, inkjet recording method, inkjet recorder, ink-recorded matter and method of producing the ink-recorded matter using the ink
JP3793222B2 (ja) インクジェット用インク、インクセット、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット、及びインクジェット記録装置
JP5966380B2 (ja) インクジェット記録用インク、インクカートリッジ、インクジェット記録方法、インクジェット記録方法、及びインク記録物
CN1831054B (zh) 油墨组合物、墨盒、喷墨记录方法以及记录物
CN1366007A (zh) 油墨组、喷墨记录方法、记录单元、墨盒、喷墨记录装置、减轻渗漏的方法,和提高黑色图像定影性的方法
JP2012532822A5 (ru)
US10974450B2 (en) 3D printer with tuned fusing radiation emission
JP2006063330A (ja) インクジェット用インク、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット及びインクジェット記録装置
EP2924081A1 (en) Ink composition and recording method
CN1654547A (zh) 新型色素化合物、油墨、油墨罐、记录元件、记录装置以及记录方法
JP6598516B2 (ja) 自己分散顔料の製造方法、インクの製造方法、及びインクジェット記録方法
JP6064785B2 (ja) インクジェットインクセット
US8709143B2 (en) Water-based ink set for ink-jet recording, ink-jet recording method and ink-jet recording apparatus
WO2015068282A1 (ja) 赤外線吸収性インクジェット印刷インク
CN1738868A (zh) 用于喷墨印刷油墨的三偶氮染料
JP6968335B2 (ja) インク吐出装置及びインク吐出方法
US20200376753A1 (en) Three-dimensional printing methods
CN105315725B (zh) 自分散颜料的制造方法、自分散颜料、墨、墨盒和喷墨记录方法
JP5481873B2 (ja) β型フタロシアニン顔料およびそれを用いた着色組成物
JP2017019916A (ja) インクセットおよびインクジェット記録方法
US10982107B2 (en) Metal nanoparticle ink composition
JP2012188467A (ja) インクセット及びその製造方法並びにインクジェット記録装置
JP2020002309A (ja) 水性インク、インクカートリッジ、記録装置及び記録方法