PL186840B1 - Kompozycja do polerowania optycznego - Google Patents
Kompozycja do polerowania optycznegoInfo
- Publication number
- PL186840B1 PL186840B1 PL99342392A PL34239299A PL186840B1 PL 186840 B1 PL186840 B1 PL 186840B1 PL 99342392 A PL99342392 A PL 99342392A PL 34239299 A PL34239299 A PL 34239299A PL 186840 B1 PL186840 B1 PL 186840B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- cerium dioxide
- polishing
- particle size
- alumina
- microns
- Prior art date
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 36
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 46
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 44
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 8
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 3
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 claims 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 abstract description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);praseodymium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Pr+3].[Pr+3] MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910003447 praseodymium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001954 samarium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075630 samarium oxide Drugs 0.000 description 1
- FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N samarium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sm+3].[Sm+3] FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
- C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
- Y10S977/775—Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
- Y10S977/775—Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
- Y10S977/776—Ceramic powder or flake
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
1. Kompozycja do polerowania optycznego, znamienna tym, ze obejmuje wodna za- wiesine zawierajaca zasadniczo od 5 do 20% wagowych czastek stalych, z których od 85-95% stanowi alfa tlenek glinu o wielkosci czastek D50 mniejszej niz 0,5 mikrona i odpowiednio 15 do 5% wagowych stanowi dwutlenek ceru w postaci proszku o wielkosci czastek D50 od 0,2 do 4 mikronów. PL PL PL
Description
Przedmiotem niniejszego wynalazku są kompozycje do polerowania powierzchni optycznych. Polerowane powierzchnie mogą być szklane lub plastikowe.
Dobrze znanym jest fakt, że w celu uzyskania zadowalającej powierzchni optycznej niezbędnym jest aby była ona wolna od rys i wykazywała tak niską wartość Ra jak to tylko możliwe. Wartość Ra oznacza średnią odległość pomiędzy najwyższym i najniższym punktem na powierzchni, prostopadle do płaszczyzny tafli szkła polerowanego. Tak więc uznając, że powierzchnia nie jest całkowicie płaska w skali mikroskopowej, mierzy się różnice pomiędzy najwyższymi i najniższymi punktami. Oczywiście, niższa liczba oznacza lepszą przejrzystość optyczną i mniej zniekształceń.
Innym ważnym czynnikiem jest szybkość z jaką uzyskuje się pożądany poziom optycznej perfekcji. Szkło poleruje się zgodnie z procesem chemiczno-mechanicznym, który zachodzi tylko w środowisku wodnym. Koniecznym jest aby związek polerujący reagował z powierzchnią szkła i wodą jak również aby powierzchnia ulegała ścieraniu. Pewne substancje, takie jak, dwutlenek ceru są reaktywne lecz niezbyt dobre jako środki ścierające. Inne, takie jak, tlenek glinu działają jako środki ścierające lecz nie wykazują odpowiedniej reaktywności w odniesieniu do powierzchni. Problem ten opisał Lee Clark w artykule „Chemical Processes in Glass Polishing” przedstawionym w Journal of Non-Crystalline Solids, 120 (1990), 152-171. W warunkach przemysłowych, znacznie korzystniejszym jest aby proces wykończeniowy zachodził w krótszym, a nie w dłuższym czasie, zwłaszcza gdy nie jest wymagana bardzo dobra jakość i/lub gdy jakość może być poprawiona.
Proces polerowania przeprowadza się dwoma sposobami. Zgodnie z pierwszym, zawiesinę cząstek ścierających w wodnym środowisku (zwykle opartym o dejonizowaną wodę), umieszcza się tak, aby była w kontakcie z powierzchnią polerowaną i powoduje się przesuwanie warstwy po powierzchni według wcześniej ustalonego sposobu, tak aby wywołać ścieranie w zawiesinie i polerowanie powierzchni. Zgodnie z drugim sposobem, ścierające cząstki są osadzone w matrycy żywicowej, uformowanej w postać narzędzia i narzędzie to stosuje się następnie do polerowania powierzchni optycznej. Niniejszy wynalazek dotyczy pierwszego sposobu, w którym stosuje się zawiesinę.
W tej dziedzinie wiedzy proponowano różne kompozycje do zawiesin. W opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki numer 4 576 612 przedstawiono wytwarzanie zawiesiny in situ w kontrolowanej ilości przez zastosowanie poduszki z warstwą powierzchniową zawierającą cząstki ścierające umieszczone w żywicy, która stopniowo rozpuszcza się
186 840 w trakcie stosowania i uwalnia cząstki polerujące. Proponowane do stosowania cząstki zawierają dwutlenek ceru („ceria”), dwutlenek cyrkonu („zirkonia”) i tlenek żelaza.
W patencie europejskim numer EP 608 730-A1 przedstawiono zawiesinę ścierającą do polerowania powierzchni w optycznych elementach, która zawiera środek do ścierania wybrany z grupy obejmującej tlenek glinu, szkło, pył diamentowy, karborund, węglik tungstenu, węglik krzemu lub azotek boru z cząstkami o wielkości do jednego mikrona.
W opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki numer 5 693 239 przedstawiono wodną zawiesinę do polerowania i wyrównywania płaszczyzny obrabianych przedmiotów metalowych, która zawiera submikronowe cząstki alfa tlenku glinu, łącznie z inną bardziej miękką postacią tlenku glinu lub bezpostaciowej krzemionki.
Znaczna ilość prac w tej dziedzinie dotyczy zawiesinowych kompozycji do chemicznego i mechanicznego polerowania materiałów półprzewodnikowych, w których ponownie zwykle stosuje się te same środki ścierne ze zmianami składników zawieszonego podłoża.
Powodzenie polerowania szkieł w znacznym stopniu zależy oczywiście od twardości szkła. Polerowanie bardzo twardych szkieł oczywiście trzeba prowadzić bardzo długo i powstają końcowe problemy jeśli dla oczywistej wygody stosuje się bardziej twarde proszki ścierne.
Dotychczasowe kompozycje zawiesinowe często są bardzo skuteczne dla uzyskania pożądanego efektu. Jednak wymagają one również długich okresów czasu. Uzyskano nową kompozycję, w której dwa tlenki, tlenek glinu i dwutlenek cyrkonu wykazują synergizm działania, tak, że ich wzajemne działanie daje lepsze wyniki niż suma działania pojedynczych składników. Taka kompozycja pozwala na uzyskanie bardzo wysokiego poziomu optycznej perfekcji w czasie krótszym niż konieczny dla uzyskania tego wyniku przy użyciu dotychczasowych zawiesin bez konieczności stosowania podwyższonej temperatury, czasami wykorzystywanej dla zwiększenia reaktywności. Ponadto, bardzo skutecznie polerują one również twarde szkła z tylko niewielkim lub bez równoczesnego uszkodzenia powierzchni. Można je stosować w urządzeniach do polerowania typu poduszki (ang. pad) lub kostki (ang. pitch).
Przedmiotem niniejszego wynalazku jest kompozycja do optycznego polerowania, zawierająca środek zawieszający z zawieszonymi w nim cząstkami ściernymi, będącymi cząstkami alfa tlenku glinu i cząstkami dwutlenku ceru w stosunku tlenku glinu do dwutlenku ceru w granicach od 95:5 do 85:15 i bardziej korzystnie od 96:4 do 88:12.
W korzystnych kompozycjach tlenek glinu jest w postaci cząstek, które są zasadniczo o wymiarach submikronowych i średni wymiar cząstki jest mniejszy niż 0,5 mikrona i bardziej korzystnie od 0,15 do 0,25 mikrona. W odniesieniu do opisu niniejszego zgłoszenia należy rozumieć, że określenie „średnie wymiary cząstki” są wartościami „D50” oznaczonymi przy użyciu analizatora wielkości cząstek typu Horiba L-910. Takie tlenki glinu uzyskuje się, na przykład, sposobem przedstawionym w opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki numer 4 657 754.
Dostępny w handlu dwutlenek ceru zwykle jest mieszaniną tlenków metali ziem rzadkich z dwutlenkiem ceru jako głównym składnikiem. Inne składniki mogą obejmować tlenek neodymowy, tlenek samaru, tlenek prazeodymu i tlenek lantanu. Mogą również występować inne mniejsze ilości innych ziem rzadkich. W praktyce stwierdzono, że czystość „dwutlenku ceru” nie ma większego wpływu na przydatność cząstek ściernych z zastosowaniu do polerowania, tym samym właściwości użyteczne zgodnie z niniejszym wynalazkiem są udziałem handlowych substancji sprzedawanych pod nazwą dwutlenku ceru zawierających większą lub mniejszą ilość wszystkich innych tlenków metali ziem rzadkich. Dla celów niniejszego opisu, mieszaniny tlenków metali ziem rzadkich, w których dwutlenek ceru stanowi główny składnik, określony w procentach wagowych produktu, będą określane jako „dwutlenek ceru”. Przykłady handlowych źródeł „dwutlenku ceru” obejmują „50D1” i „Superox 50” (obydwa są dostępne w firmie Cercoa PenYan Nowy Jork), które zawierają, odpowiednio około 75% i 34% dwutlenku ceru; i „Rhodox 76” (z firmy Rhone Poulenc) zawierający około 50% dwutlenku ceru.
Dostępny w handlu dwutlenek ceru rozpatrywany pod kątem rozkładu wielkości cząstek zwykle jest w postaci dwuskładnikowej mieszaniny cząstek, z pikami wokół cząstek o roz4
186 840 miarach 0,4 i 4 mikrony, przy czym większość cząstek występuje w większych rozmiarach. Daje to wartość ogólną D50 dla proszku mniejszą niż 4, zwykle w zakresie 3-3,5 mikronów. Stwierdzono, że jeśli ten rozkład zmniejsza się za pomocą mielenia dwutlenku ceru do stosunkowo jednolitej wielkości cząstek około 0,2 mikrona i bardziej korzystnie około 0,4 mikrona, to użyteczność kompozycji nie zostaje zbytnio zwiększona chyba, że szkło jest szczególnie twarde i pożądany jest również wysoki poziom wizualnej perfekcji. W tych warunkach substancja o rozkładzie cząstek niemielonych często okazuje się bardziej skuteczna.
Środkiem, w którym cząstki ścierające są zawieszone jest środowisko wodne z możliwymi małymi ilościami cieczy mieszających się z wodą, takich jak, alkohole. Najczęściej stosuje się wodę dejonizowaną łącznie ze środkiem powierzchniowo czynnym dodanym w celu lepszego zawieszenia cząstek ścierających. Zwykle części stałe stanowią w zawiesinie od 5 do 15, a nawet 20% wagowych, przy czym mniejsze wartości lub bardziej rozcieńczone zawiesiny stosuje się dla kostki. Zwykle, zawiesina o mniejszej zawartości stałych składników będzie polerowała wolniej, zaś zawiesinie o większej zawartości stałych składników towarzyszy problem osiadania cząstek ścierających. Wymogi praktyczne dyktują zawartość stałych składników w zawiesinie na poziomie od 5 do 15 i bardziej korzystnie od 8 do 12% wagowych.
Poniżej wynalazek opisano w następujących przykładach, które zamieszcza się w celu zilustrowania użyteczności wynalazku i wpływu czystości i wielkości cząstek dwutlenku ceru. Przykłady jednak nie mają na celu jakiegokolwiek ograniczania zakresu wynalazku.
Przykład 1
W tym przykładzie porównuje się użyteczność mieszaniny cząstek ścierających według wynalazku z zawiesinami kompozycji zawierających osobno składniki.
Próby polerowania przeprowadza się na dwustronnym urządzeniu AC500 Peter Wolters zaopatrzonym w polerujące poduszki „Suba 500” dostępne z firmy Rodel, Inc. Polerowane próbki szkła były wykonane ze stopionej krzemionki kwarcowej (Coming), pomyślane jako wyraźnie twarde szkło (560 - 640 Knoop).
Próbki poleruje się przy użyciu zawiesiny zawierającej 10% substancji stałych w każdym z trzech środków ściernych. Pierwszy z nich zawiera 100% tlenku glinu, drugi 100% dwutlenku ceru, zaś trzeci mieszaninę tego samego tlenku glinu i dwutlenku ceru w stosunku 90:10. Tlenek glinu uzyskuje się z firmy Saint-Gobain Industrial Ceramics, Inc. i zawiera on cząstki alfa tlenku glinu o wielkości pomiędzy około 20 do 50 nanometrów, w postaci aglomeratów o średnicy około 0,15 do 0,25 mikrona. Zasadniczo nie zawiera aglomeratów o średnicy większej niż mikron. Dwutlenek ceru stosuje się w postaci substancji o nazwie Rhodox 76, zawierającej około 50% tlenków metali ziem rzadkich, zmielony do wielkości cząstek dającej D50 wynoszącą około 0,4 mikrona. Zawiesiny przygotowuje się w dejonizowanej wodzie, do której dodaje się 0,07% wagowych substancji powierzchniowo czynnej (poliakrylan sodowy, dostępny z firmy R.T. Vanderbilt pod nazwą handlową Darvan 811).
Użyteczność w odniesieniu do otrzymanej powierzchni końcowej była badana w czasie i wykres wykonano na podstawie zebranych danych. Wyniki przedstawiono na fig. 1. Na fig. 2 przedstawiono te same dane z rozszerzeniem o oś „wykończenie” w celu wyraźniejszego wykazania poprawy.
Na podstawie fig. 1 i fig. 2 można stwierdzić, że jakkolwiek próbka polerowana przy użyciu 100% dwutlenku ceru wykazuje lepsze początkowe wykończenie, (to znaczy, przed polerowaniem jest bardziej gładka), niż dwie pozostałe, to nie jest polerowana tak dobrze. Na podstawie fig. 2, można stwierdzić, że sam tlenek glinu nigdy przy wykańczaniu powierzchni nie osiąga wartości Ra 200 angstremów. Z drugiej strony ten poziom wykończenia powierzchni przy użyciu dwutlenku ceru osiąga się po czasie 19 minut, zaś przy użyciu mieszaniny według niniejszego wynalazku ten poziom osiąga się w czasie krótszym niż 10 minut. Patrząc z innej strony, po czasie około 10 minut zawiesina do polerowania zawierająca dwutlenek ceru jako substancję ścierną, wykazuje wykończenie powierzchni na poziomie około 900, zawiesina zawierająca tlenek glinu jako substancję ścierną wykazuje wykończenie niewiele mniejsze niż 600 i zawiesina według niniejszego wynalazku powoduje wykończenie na poziomie niższym niż 200.
186 840
Przykład 2
W przykładzie tym bada się wpływ zmiany wielkości cząstek dwutlenku ceru na polerowanie stopionej krzemionki.
Stosowano kompozycję według niniejszego wynalazku z dwutlenkiem ceru o nazwie Rhodox 76 uzyskanym z firmy Rhone Poulenc. Rhodox 76 zawierał jednak cząstki o czterech różnych wielkościach (co określono przez pomiar wartości D50 przy użyciu analizatora wielkości cząstek typ Horiba LA910) i każdy z tych wielkości stosowano w oddzielnej próbie polerowania. Wielkości zastosowanych cząstek wynosiły 3,17 mikrona, 2,14 mikrona, 0,992 mikrona i 0,435 mikrona. Na fig. 3 zestawiono uzyskane wyniki. Z fig. 3 wynika, że dla tego rodzaju szkła, zaobserwowano niewielkie różnice w przydatności do polerowania związane z wielkością cząstek dwutlenku ceru. Podobne wyniki uzyskano przy użyciu jako źródeł dwutlenku ceru, preparatów „Superox 50” i „50D-1”.
Przykład 3
W przykładzie tym badano wpływ źródła pochodzenia dwutlenku ceru, zwłaszcza czy czystość tego produktu w jakikolwiek sposób wpływa na skuteczność polerowania. Przygotowano kompozycje według niniejszego wynalazku, takie jak w przykładzie 1, ale zawierające około 10% dwutlenku ceru i odpowiednio około 90% tlenku glinu. Kompozycje te badano w próbach polerowania szkła ze stopionej krzemionki przy użyciu urządzenia i sposobem identycznym do opisanego w przykładzie 1. Otrzymane wyniki przedstawiono na fig. 4. Pierwsza próbka, „S”, zawierała „Superox 50”, w którym dwutlenek ceru stanowi około 34%. Druga, „R”, zawierała „Rhodox 76”, w którym dwutlenek ceru stanowi około 50%. Trzecia, „D”, zawierała „50D1”, w którym dwutlenek ceru stanowi około 75%. Jak stwierdzono, pomiędzy tymi trzema badaniami występowały tylko niewielkie różnice skuteczności polerowania. Wydaje się, że tlenki innych metali ziem rzadkich będą prawdopodobnie zachowywać się podobnie jak dwutlenek ceru w kompozycjach według wynalazku.
Przykład 4
W tym przykładzie badano skuteczność polerowania i wpływ wielkości cząstek dwutlenku ceru w próbach ze szkłem B270 (twarde szkło o 530 Knoop). Podczas gdy w powyższych przykładach, w warunkach laboratoryjnych badano tylko „wykańczanie powierzchni” mierzone przez określenie wartości Ra, poniższe badanie wykonano pod kątem użyteczności przemysłowej, przy pomocy specjalisty, który określał końcowy wynik w zakresie wizualnej perfekcji. Tym sposobem, bardziej niż dotychczas mierzoną wartością Ra, można zidentyfikować „zaciemnienie” powstające w wyniku niedoskonałości powierzchni po operacji polerowania.
Stosowano urządzenie do dwustronnego typu 4800 P.R. Hoffman, zaopatrzone w polerujące poduszki „Suba 10” uzyskane z korporacji Rodel. Na próbki w czasie polerowania stosowano ciśnienie około 1,5 psi, (1,034 x 104 paskali). Polerowanie kończono w momencie gdy uzyskiwano pożądany poziom perfekcji powierzchni (klarowność).
Badano trzy kompozycje według niniejszego wynalazku. Wszystkie trzy zawierały tlenek glinu i środki powierzchniowo czynne opisane w przykładzie 1, w tych samych ilościach i je, łączme z dwutlenkiem ceru w tych samych względnych proporcjach w wodzie dejonizowanej. Różnice pomiędzy składnikami leżały w wielkości cząstek dwutlenku ceru. W pierwszej („kompozycja A”), dwutlenek ceru występował w postaci cząstek o wartości wynoszącej 0,4 mikrona. W drugiej i trzeciej („kompozycje B i B'”), dwutlenek ceru (Superox 50) stosowano bezpośrednio w postaci dostarczanej przez producenta. Jedyne różnice w tych dwóch przypadkach występowały tylko w polerowanych próbkach szkła. W drugiej z nich ,,B'”, wielkości próbek polerowanych były mniejsze, tym samym ciśnienie przykładane do nich w czasie polerowania w tym samym urządzeniu było większe. Powodowało to szybsze uzyskanie końcowego momentu polerowania. W czwartej, „kompozycja C”, dwutlenek ceru (Rhodox 76) również stosowano w postaci dostarczanej przez producenta. Jak wspomniano wcześniej, rozkłady wielkości cząstek tych substancji mają charakter dwupikowy, z olbrzymią większością posiadających pik około 4, co stwierdzono po analizie przy użyciu analizatora wielkości cząstek typu Horiba 910. Wyniki zamieszczono w poniższej tabeli.
186 840
Tabela
Kompozycja | Ilość płytek | Wyjściowa grubość | Końcowa grubość | Czas (minuty) |
A | 24 | 4,180 mm | 4,168 mm | 120 |
B | 10 | 4,186 mm | 4,155 mm | 60 |
B' | 20 | 4,183 mm | 4,163 mm | 40 |
C | 10 | 4,180 mm | 4,150 mm | 50 |
Kompozycja A, (w której stosowano mielony dwutlenek ceru, daje jednolitą, jasną, szarą barwę po 90 minutach i wymaga dalszych 30 minut dla usunięcia tej szarości i pozostawia płaskość poniżej jednej dziesiątej długości fali. Kompozycje B i B' polerują bardzo agresywnie i jednorodnie gęsto na całej powierzchni płytki. Kompozycja C również poleruje w najwyższym stopniu dobrze i szybko. Płytki ze szkła B270 posiadały powierzchnię doskonale płaską. Inne środki polerujące mogą zapewniać polerowanie bardziej „nieregularne” niż gęste i jednorodne polerowanie przy użyciu wymienionych kompozycji.
Z powyższych danych wynika, że gdy krytyczna jest klarowność, polerujące kompozycje zawierające niemielony dwutlenek ceru zapewniają znaczne korzyści. Przeciwnie, kompozycje zawierające mielony dwutlenek ceru ścierają i nadają płaskość szybko, ale więcej czasu potrzeba do uzyskania wizualnej perfekcji.
Claims (4)
1. Kompozycja do polerowania optycznego, znamienna tym, że obejmuje wodną zawiesinę zawierającą zasadniczo od 5 do 20% wagowych cząstek stałych, z których od 85-95% stanowi alfa tlenek glinu o wielkości cząstek D50 mniejszej niż 0,5 mikrona i odpowiednio 15 do 5% wagowych stanowi dwutlenek ceru w postaci proszku o wielkości cząstek D50 od 0,2 do 4 mikronów.
2. Kompozycja do polerowania optycznego według zastrz. 1, znamienna tym, że zawartość części stałych w zawiesinie wynosi od 8 do 12% wagowych.
3. Kompozycja do polerowania optycznego według zastrz. 2, znamienna tym, że wielkość cząstek D50 tlenku glinu wynosi od 0,15 do 0,25 mikrona.
4. Kompozycja do polerowania optycznego według zastrz. 1, znamienna tym, że rozkład wielkości cząstek dwutlenku ceru wykazuje dwa składniki i wielkość cząstek D50 wynosi od 3 do 4 mikronów.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/025,730 US5989301A (en) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | Optical polishing formulation |
PCT/US1999/003143 WO1999042537A1 (en) | 1998-02-18 | 1999-02-16 | Optical polishing formulation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL342392A1 PL342392A1 (en) | 2001-06-04 |
PL186840B1 true PL186840B1 (pl) | 2004-03-31 |
Family
ID=21827759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL99342392A PL186840B1 (pl) | 1998-02-18 | 1999-02-16 | Kompozycja do polerowania optycznego |
Country Status (28)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5989301A (pl) |
EP (1) | EP1060221B1 (pl) |
JP (1) | JP3605036B2 (pl) |
KR (1) | KR100354202B1 (pl) |
CN (1) | CN1187426C (pl) |
AR (1) | AR014959A1 (pl) |
AT (1) | ATE245180T1 (pl) |
AU (1) | AU729245B2 (pl) |
BR (1) | BR9908020B1 (pl) |
CA (1) | CA2319107C (pl) |
CO (1) | CO5060536A1 (pl) |
CZ (1) | CZ294042B6 (pl) |
DE (1) | DE69909597T2 (pl) |
DK (1) | DK1060221T3 (pl) |
ES (1) | ES2204107T3 (pl) |
FI (1) | FI118180B (pl) |
HU (1) | HUP0101154A3 (pl) |
IL (1) | IL137804A0 (pl) |
MY (1) | MY123257A (pl) |
NO (1) | NO319039B1 (pl) |
NZ (1) | NZ505901A (pl) |
PL (1) | PL186840B1 (pl) |
PT (1) | PT1060221E (pl) |
RU (1) | RU2181132C1 (pl) |
SK (1) | SK285219B6 (pl) |
TW (1) | TWI239995B (pl) |
WO (1) | WO1999042537A1 (pl) |
ZA (1) | ZA991150B (pl) |
Families Citing this family (61)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6839362B2 (en) * | 2001-05-22 | 2005-01-04 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Cobalt-doped saturable absorber Q-switches and laser systems |
US20030092271A1 (en) * | 2001-09-13 | 2003-05-15 | Nyacol Nano Technologies, Inc. | Shallow trench isolation polishing using mixed abrasive slurries |
US6896591B2 (en) * | 2003-02-11 | 2005-05-24 | Cabot Microelectronics Corporation | Mixed-abrasive polishing composition and method for using the same |
US7045223B2 (en) * | 2003-09-23 | 2006-05-16 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel articles and methods for forming same |
US7326477B2 (en) * | 2003-09-23 | 2008-02-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel boules, wafers, and methods for fabricating same |
US20050061230A1 (en) * | 2003-09-23 | 2005-03-24 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel articles and methods for forming same |
US7919815B1 (en) | 2005-02-24 | 2011-04-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel wafers and methods of preparation |
US7294044B2 (en) * | 2005-04-08 | 2007-11-13 | Ferro Corporation | Slurry composition and method for polishing organic polymer-based ophthalmic substrates |
CN101594966B (zh) * | 2006-12-19 | 2012-10-17 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 亚微米α-氧化铝高温粘结磨料 |
US8216326B2 (en) | 2008-06-23 | 2012-07-10 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | High porosity vitrified superabrasive products and method of preparation |
MX2011008068A (es) * | 2009-01-30 | 2011-12-16 | Pcw Holdings Llc | Composiciones y metodos para restaurar cubiertas y lentes de plastico. |
WO2011056680A2 (en) | 2009-10-27 | 2011-05-12 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Vitreous bonded abrasive |
MX2012004913A (es) | 2009-10-27 | 2012-08-15 | Saint Gobain Abrasifs Sa | Abrasivo aglomerado de resina. |
RU2608890C2 (ru) * | 2010-09-08 | 2017-01-26 | Басф Се | Водные полирующие композиции, содержащие n-замещенные диазений диоксиды и/или соли n -замещенных n'-гидрокси-диазений оксидов |
EP2658680B1 (en) | 2010-12-31 | 2020-12-09 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive articles comprising abrasive particles having particular shapes and methods of forming such articles |
TWI605112B (zh) * | 2011-02-21 | 2017-11-11 | Fujimi Inc | 研磨用組成物 |
US8986409B2 (en) | 2011-06-30 | 2015-03-24 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive articles including abrasive particles of silicon nitride |
EP2726248B1 (en) | 2011-06-30 | 2019-06-19 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Liquid phase sintered silicon carbide abrasive particles |
BR112014007089A2 (pt) | 2011-09-26 | 2017-03-28 | Saint-Gobain Ceram & Plastics Inc | artigos abrasivos incluindo materiais de partículas abrasivas, abrasivos revestidos usando os materiais de partículas abrasivas e os métodos de formação |
WO2013049526A2 (en) | 2011-09-29 | 2013-04-04 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing hard surfaces |
JP5903502B2 (ja) | 2011-12-30 | 2016-04-13 | サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド | 成形研磨粒子を備える粒子材料 |
EP2797715A4 (en) | 2011-12-30 | 2016-04-20 | Saint Gobain Ceramics | SHAPED ABRASIVE PARTICLE AND METHOD OF FORMING THE SAME |
US9266220B2 (en) | 2011-12-30 | 2016-02-23 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive articles and method of forming same |
AU2012362173B2 (en) | 2011-12-30 | 2016-02-25 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Forming shaped abrasive particles |
US9321947B2 (en) | 2012-01-10 | 2016-04-26 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing coated surfaces |
JP5966019B2 (ja) | 2012-01-10 | 2016-08-10 | サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド | 複雑形状を有する研磨粒子およびその形成方法 |
US8840696B2 (en) | 2012-01-10 | 2014-09-23 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles |
US9138867B2 (en) | 2012-03-16 | 2015-09-22 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing surfaces |
US8968435B2 (en) | 2012-03-30 | 2015-03-03 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for fine polishing of ophthalmic lenses |
US9242346B2 (en) | 2012-03-30 | 2016-01-26 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products having fibrillated fibers |
CN110013795A (zh) | 2012-05-23 | 2019-07-16 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 成形磨粒及其形成方法 |
IN2015DN00343A (pl) | 2012-06-29 | 2015-06-12 | Saint Gobain Ceramics | |
US9440332B2 (en) | 2012-10-15 | 2016-09-13 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles |
CN104994995B (zh) | 2012-12-31 | 2018-12-14 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 颗粒材料及其形成方法 |
CA2907372C (en) | 2013-03-29 | 2017-12-12 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles |
TW201502263A (zh) | 2013-06-28 | 2015-01-16 | Saint Gobain Ceramics | 包含成形研磨粒子之研磨物品 |
AU2014324453B2 (en) | 2013-09-30 | 2017-08-03 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particles and methods of forming same |
BR112016015029B1 (pt) | 2013-12-31 | 2021-12-14 | Saint-Gobain Abrasifs | Artigo abrasivo incluindo partículas abrasivas moldadas |
US9771507B2 (en) | 2014-01-31 | 2017-09-26 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particle including dopant material and method of forming same |
MX2016013465A (es) | 2014-04-14 | 2017-02-15 | Saint-Gobain Ceram & Plastics Inc | Articulo abrasivo que incluye particulas abrasivas conformadas. |
WO2015160855A1 (en) | 2014-04-14 | 2015-10-22 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
WO2015184355A1 (en) | 2014-05-30 | 2015-12-03 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Method of using an abrasive article including shaped abrasive particles |
US9707529B2 (en) | 2014-12-23 | 2017-07-18 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Composite shaped abrasive particles and method of forming same |
US9914864B2 (en) | 2014-12-23 | 2018-03-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particles and method of forming same |
US9676981B2 (en) | 2014-12-24 | 2017-06-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particle fractions and method of forming same |
TWI634200B (zh) | 2015-03-31 | 2018-09-01 | 聖高拜磨料有限公司 | 固定磨料物品及其形成方法 |
CN107636109A (zh) | 2015-03-31 | 2018-01-26 | 圣戈班磨料磨具有限公司 | 固定磨料制品和其形成方法 |
EP3307483B1 (en) | 2015-06-11 | 2020-06-17 | Saint-Gobain Ceramics&Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
CN109415615A (zh) | 2016-05-10 | 2019-03-01 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 磨料颗粒及其形成方法 |
WO2017197002A1 (en) | 2016-05-10 | 2017-11-16 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive particles and methods of forming same |
EP4349896A3 (en) | 2016-09-29 | 2024-06-12 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Fixed abrasive articles and methods of forming same |
US10563105B2 (en) | 2017-01-31 | 2020-02-18 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
US10759024B2 (en) | 2017-01-31 | 2020-09-01 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
EP3642293A4 (en) | 2017-06-21 | 2021-03-17 | Saint-Gobain Ceramics&Plastics, Inc. | PARTICULATE MATERIALS AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF |
US11865663B2 (en) * | 2018-05-10 | 2024-01-09 | George Shuai | Optical surface polishing |
CN109439282A (zh) * | 2018-10-23 | 2019-03-08 | 蓝思科技(长沙)有限公司 | 复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备 |
CN109135580B (zh) * | 2018-10-25 | 2021-04-02 | 蓝思科技(长沙)有限公司 | 一种玻璃用抛光液及其制备方法 |
CN110724460A (zh) * | 2019-11-13 | 2020-01-24 | 刘通 | 一种铈铝复合氧化物抛光粉的制备方法 |
CN114867582B (zh) | 2019-12-27 | 2024-10-18 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 磨料制品及其形成方法 |
CN113881348A (zh) * | 2021-11-04 | 2022-01-04 | 青岛福禄泰科表面材料科技有限公司 | 一种复合氧化铝抛光液及其制备方法和应用 |
CN114213977A (zh) * | 2021-12-23 | 2022-03-22 | 中天科技精密材料有限公司 | 抛光剂及其制备方法 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3429080A (en) * | 1966-05-02 | 1969-02-25 | Tizon Chem Corp | Composition for polishing crystalline silicon and germanium and process |
GB1501570A (en) * | 1975-11-11 | 1978-02-15 | Showa Denko Kk | Abrader for mirror polishing of glass and method for mirror polishing |
US4161394A (en) * | 1978-06-19 | 1979-07-17 | Regan Glen B | Polishing slurry of xanthan gum and a dispersing agent |
FR2549846B1 (fr) * | 1983-07-29 | 1986-12-26 | Rhone Poulenc Spec Chim | Nouvelle composition de polissage a base de cerium et son procede de fabrication |
US4576612A (en) * | 1984-06-01 | 1986-03-18 | Ferro Corporation | Fixed ophthalmic lens polishing pad |
US5312789A (en) * | 1987-05-27 | 1994-05-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive grits formed of ceramic, impregnation method of making the same and products made therewith |
BR9307095A (pt) * | 1992-09-25 | 1999-03-30 | Minnesota Mining & Mfg | Processo para preparar grãos de abrasivo |
CA2111010A1 (en) * | 1993-01-29 | 1994-07-30 | Robert James Hagerty | Method of finely polishing planar optical elements |
US5549962A (en) * | 1993-06-30 | 1996-08-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Precisely shaped particles and method of making the same |
US5465314A (en) * | 1993-09-09 | 1995-11-07 | The Furukawa Electronic Co., Ltd. | Method of manufacturing optical connector |
US5632668A (en) * | 1993-10-29 | 1997-05-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for the polishing and finishing of optical lenses |
KR960041316A (ko) * | 1995-05-22 | 1996-12-19 | 고사이 아키오 | 연마용 입상체, 이의 제조방법 및 이의 용도 |
US5693239A (en) * | 1995-10-10 | 1997-12-02 | Rodel, Inc. | Polishing slurries comprising two abrasive components and methods for their use |
US5702811A (en) * | 1995-10-20 | 1997-12-30 | Ho; Kwok-Lun | High performance abrasive articles containing abrasive grains and nonabrasive composite grains |
AU2079597A (en) * | 1996-05-08 | 1997-11-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article comprising an antiloading component |
US5858813A (en) * | 1996-05-10 | 1999-01-12 | Cabot Corporation | Chemical mechanical polishing slurry for metal layers and films |
KR19980019046A (ko) * | 1996-08-29 | 1998-06-05 | 고사이 아키오 | 연마용 조성물 및 이의 용도(Abrasive composition and use of the same) |
JP3856513B2 (ja) * | 1996-12-26 | 2006-12-13 | 昭和電工株式会社 | ガラス研磨用研磨材組成物 |
US5876268A (en) | 1997-01-03 | 1999-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method and article for the production of optical quality surfaces on glass |
US5833724A (en) * | 1997-01-07 | 1998-11-10 | Norton Company | Structured abrasives with adhered functional powders |
US5851247A (en) * | 1997-02-24 | 1998-12-22 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Structured abrasive article adapted to abrade a mild steel workpiece |
US5910471A (en) | 1997-03-07 | 1999-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article for providing a clear surface finish on glass |
US5876470A (en) * | 1997-08-01 | 1999-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive articles comprising a blend of abrasive particles |
-
1998
- 1998-02-18 US US09/025,730 patent/US5989301A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-02-12 MY MYPI99000512A patent/MY123257A/en unknown
- 1999-02-12 ZA ZA9901150A patent/ZA991150B/xx unknown
- 1999-02-15 CO CO99008983A patent/CO5060536A1/es unknown
- 1999-02-16 AR ARP990100633A patent/AR014959A1/es unknown
- 1999-02-16 EP EP19990907002 patent/EP1060221B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 DE DE69909597T patent/DE69909597T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 NZ NZ505901A patent/NZ505901A/en unknown
- 1999-02-16 KR KR1020007009035A patent/KR100354202B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 AT AT99907002T patent/ATE245180T1/de active
- 1999-02-16 BR BRPI9908020-6A patent/BR9908020B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 WO PCT/US1999/003143 patent/WO1999042537A1/en active IP Right Grant
- 1999-02-16 PL PL99342392A patent/PL186840B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 DK DK99907002T patent/DK1060221T3/da active
- 1999-02-16 SK SK1145-2000A patent/SK285219B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 CN CNB998028681A patent/CN1187426C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-16 JP JP2000532484A patent/JP3605036B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 CA CA002319107A patent/CA2319107C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-16 ES ES99907002T patent/ES2204107T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 HU HU0101154A patent/HUP0101154A3/hu unknown
- 1999-02-16 AU AU26777/99A patent/AU729245B2/en not_active Ceased
- 1999-02-16 PT PT99907002T patent/PT1060221E/pt unknown
- 1999-02-16 CZ CZ20002969A patent/CZ294042B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 IL IL13780499A patent/IL137804A0/xx not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 RU RU2000122964/04A patent/RU2181132C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1999-03-02 TW TW088102220A patent/TWI239995B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-07-26 US US09/361,438 patent/US6258136B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-08-15 FI FI20001800A patent/FI118180B/fi not_active IP Right Cessation
- 2000-08-17 NO NO20004122A patent/NO319039B1/no not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
PL186840B1 (pl) | Kompozycja do polerowania optycznego | |
KR100429940B1 (ko) | 개선된 세리아 분말 | |
US5228886A (en) | Mechanochemical polishing abrasive | |
JP2011238952A (ja) | Cmp生成物 | |
WO1993022103A1 (en) | Compositions and methods for polishing and planarizing surfaces | |
Jacobs et al. | Magnetorheological finishing of IR materials | |
JPH05156238A (ja) | メカノケミカル研摩用研摩剤、および材料片を研摩する方法 | |
JPH11188610A (ja) | 高硬度無機質固体材料の鏡面研磨方法 | |
MXPA00008063A (en) | Optical polishing formulation | |
JP2003117806A (ja) | 多結晶セラミックスの鏡面研磨方法 | |
JP3599816B2 (ja) | 研磨材 | |
CN115651544A (zh) | 一种混合磨料抛光液及其制备方法 | |
JP2023141786A (ja) | 研磨スラリー及び研磨方法 | |
JP2022066727A (ja) | 研磨材組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20120216 |