FI118180B - Optisille pinnoille soveltuva kiillotusformulaatio - Google Patents

Optisille pinnoille soveltuva kiillotusformulaatio Download PDF

Info

Publication number
FI118180B
FI118180B FI20001800A FI20001800A FI118180B FI 118180 B FI118180 B FI 118180B FI 20001800 A FI20001800 A FI 20001800A FI 20001800 A FI20001800 A FI 20001800A FI 118180 B FI118180 B FI 118180B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
cerium oxide
polishing
particle size
alumina
optical surfaces
Prior art date
Application number
FI20001800A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI20001800A (fi
Inventor
Ronald W Laconto
Rami Schlair
Original Assignee
Saint Gobain Ceramics
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Saint Gobain Ceramics filed Critical Saint Gobain Ceramics
Publication of FI20001800A publication Critical patent/FI20001800A/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI118180B publication Critical patent/FI118180B/fi

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09GPOLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00Polishing compositions
    • C09G1/02Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1454Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
    • C09K3/1463Aqueous liquid suspensions
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/773Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
    • Y10S977/775Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/773Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
    • Y10S977/775Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
    • Y10S977/776Ceramic powder or flake

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Description

118180
Optisille pinnoille soveltuva kiillotusformulaatio
Keksinnön tausta f
Esillä oleva keksintö koskee formulaatioita, jotka soveltuvat optisten pintojen kiillotukseen. Kiillotettava pinta voi olla lasi tai muovi.
5 On tunnettua, että tyydyttävän optisen pinnan aikaansaamiseksi on välttämätöntä, että pinta on naarmuton ja sillä on mahdollisimman pieni Ra.
Tämä Rg-mitta on pinnan korkeimman ja matalimman pisteen keskimääräinen väli kohtisuorassa suunnassa kiillotettavan lasilevyn tasoon nähden. Näin ollen hyväksyttäessä, että pinta ei ole täysin sileä alle mikrometrin tasolla, se on 10 korkeimman ja matalimman pisteen välisen erotuksen mitta. Selvästikin, että ' J
mitä pienempi luku on, sitä parempi optisen kirkkauden ja vääntymättömyyden | kannalta.
On kuitenkin toinenkin näkökohta ja se on se nopeus, jolla toivottu optisen täydellisyyden taso saavutetaan. Lasin kiillotus on kemiallis-mekaa- f 15 ninen prosessi, joka tapahtuu pelkästään vesipitoisessa ympäristössä. On välttämätöntä, että kiillotusyhdiste reagoi lasipinnan ja veden kanssa ja pinta joutuu hionnan kohteeksi. Jotkut aineet, kuten ceriumoksidi, ovat varsin reaktiivi-siä mutta eivät kovin hiovia. Toiset, kuten alumiinioksidi, ovat varsin hiovia mutta niillä ei ole paljonkaan reaktiivisuutta pinnan suhteen. Tätä aihetta käsi-20 tellään hyvin Lee Clarkin artikkelissa, jonka otsikko on Chemical Processes in f .···. Glass Polishing ja joka ilmestyi lehdessä Journal of Non-Crystalline Solids 120 # · (1990) 152 - 171. Teollisuusympäristössä prosessin saattaminen päätökseen I" mieluummin lyhyemmässä kuin pitemmässä ajassa on merkittävä etu, erityisesti f *·'*! silloin, kun ei vaadita laadusta tinkimistä ja/tai kun laatua voidaan parantaa. * * φ · » · ,$ 25 Kiillotusprosesseissa on kaksi lähestymistapaa. Ensimmäisessä liä- -
te, joka sisältää hiovia hiukkasia vettä sisältävässä väliaineessa (tavallisesti I
* · · . ";T
deionisoituun veteen pohjautuvassa), saatetaan kosketukseen kiillotettavan |
pinnan kanssa ja tyyny pannaan liikkumaan pinnan poikki ennalta määrättyjen kuvioiden mukaisesti, niin että lietteessä oleva hionta-aine saadaan kiillotta- J
30 maan pinta. Toisessa hiovat hiukkaset suljetaan hartsimatriisin sisään työväli- * · * . neen muodostamiseksi ja kyseistä välinettä käytetään sitten optisen pinnan kiillottamiseen. Esillä oleva keksintö koskee ensimmäistä lähestymistapaa, • · ’*;·* jossa käytetään lietteitä.
·:· Alan kirjallisuudessa on ehdotettu monenlaisia lieteformulaatioita.
• •tl * :*·.· 35 US-patenttijulkaisussa nro 4 576 612 lietettä tuotetaan in situ kontrolloituja määriä tarjoamalla käytettäväksi tyyny, jossa on pintakerros, kerros käsittää t 118180 : : 2 hiovia hiukkasia hartsissa, joka liukenee vähitellen käytön aikana ja vapauttaa kiillottavat hiukkaset. Hiukkasiin, joiden vakuutetaan olevan käyttökelpoisia, kuuluvat ceriumoksidi ("ceria”), zirkoniumoksidi ("zirkonia”) ja rautaoksidi.
Julkaisu EP 608 730 A1 kuvaa optisessa elementissä olevan pin- * 5 nan kiillotukseen soveltuvaa hionta-ainelietettä, joka käsittää hionta-ainetta, joka valitaan hiukkaskooltaan korkeintaan 1 μηη olevan alumiinioksidin, lasin, timanttipölyn, karborundumin, volframikarbidin, piikarbidin ja boorinitridin joukosta.
US-patenttijulkaisu nro 5 693 239 kuvaa metallisen työkappaleen kiil- ? 10 lotukseen ja tasoitukseen soveltuvaa vesipitoista lietettä, joka käsittää kooltaan alle mikrometrin olevia alfa-alumiinioksidihiukkasia yhdistettyinä alumiini-oksidin toisen, pehmeämmän muodon tai amorfisen piidioksidin kanssa.
Huomattava määrä alan kirjallisuutta on myös olemassa läheiseltä puolijohteiden substraattien kemiallis-mekaaniseen kiillotukseen soveltuvien lie- ' > 15 teformulaatioiden alueelta, ja näissä käytetään tavallisesti samoja hionta-aineita erojen ollessa dispersion väliaineen ainesosissa. i EP-julkaisu 745656 kuvaa hiomahiukkasia, jotka käsittävät (a) vähintään yhtä oksidia valittuna alumiinioksidista ja piioksidista ja (b) ceriumia.
Hiukkaset muodostetaan suspendoimalla alumiinioksidi tai piioksidi liuotti- ‘ 20 meen, sekoittamalla ceriumyhdiste suspensioon seoksen muodostamiseksi, kuivaamalla seos ja kapinoimalla kuivattu seos. i :***: US-julkaisu 5465314 kuvaa menetelmän kuidun kiillottamiseksi * · · hiomakivellä. Hiomakivessä on ceriumoksidihiomarakeita, jotka on sekoitettu • · · . v: kromioksidihiomarakeiden, zirkoniumoksidihiomarakeiden tai alumiinioksidi- * * * 25 hiomarakeiden kanssa, joiden sitomiseen hiomakiveen käytetään sideainetta.
• # #...t Lasien kiillotuksen onnistuminen on tietysti jossakin määrin riippu- "I vainen lasin kovuudesta. Erittäin kovien lasien ollessa kyseessä kiillotus saat- k *···* taa viedä todella hyvin pitkän ajan ja synnyttää viimeistelyongelmia, jos yrite tään käyttää ilmeistä keinoa, kovempaa hionta-ainetta.
: **· 30 Tekniikan tason mukaiset lieteformulaatiot ovat usein erittäin tehok- • · . ^ kaita toivotun tuloksen saavuttamisessa. Ne vaativat kuitenkin myös varsin : .·. pitkän ajan. On kehitetty uudenlainen formulaatio, jossa kaksi oksidia, alumii- ; *.”··[ nioksidi ja ceriumoksidi, toimivat yhdessä synergisesti, niin että niiden keski- • · *·* näinen vuorovaikutus antaa parempia tuloksia kuin kummankaan yksittäisen 35 ainesosan vaikutusten summa. Tämä formulaatio mahdollistaa optisen täydel- -·ζ * · ·'· '·'·;{ :.*·· lisyyden erittäin korkean tason saavuttamisen paljon lyhyemmässä ajassa, f ;jf 118180 -¾ 3 · ' f .'5> ·.·* kuin mihin voidaan päästä sellaisilla tekniikan tason mukaisilla lietteillä, tarvit- n sematta korotettuja lämpötiloja, joita toisinaan käytetään reaktiivisuuden lisää- f :.h miseksi. Lisäksi ne kiillottavat jopa kovia laseja erittäin tehokkaasti aiheuttaen vain vähän tai aiheuttamatta lainkaan välillistä vahinkoa pinnalle. Niitä voidaan ! 5 käyttää ’’tyynytyyppiä" tai "pikityyppiä” olevan kiillotuslaitteen kanssa.
Keksinnön yleinen kuvaus
Esillä oleva keksintö tarjoaa käytettäväksi optisille pinnoille soveltuvan kiillotusformulaation, joka käsittää dispergointiväliaineen, johon on disper-goitu hiovia hiukkasia, ja jossa hionta-aine käsittää alfa-alumiinioksidi- ja ce- f 10 riumoksidihiukkasia alumiinoksidin suhteen ceriumoksidiin ollessa 95:5 - 85:15 > ja edullisemmin 96:4 - 88:12.
Edullisissa formulaatioissa alumiinioksidi on hiukkasten muodossa, ; jotka ovat kooltaan olennaisesti kokonaan alle mikrometrin, ja niissä hiukkas- -¾ ten keskikoko on alle 0,5 pm ja edullisimmin 0,15 - 0,25 pm. Tämän patentti- f 15 hakemuksen yhteydessä käsitetään, että mainitut "hiukkasten keskikoot” ovat D50-arvoja, jotka mitataan käyttämällä Horiba L-910-hiukkaskokoanalysaat-toria. Sellaisia alumiinioksideja on saatavissa esimerkiksi käyttämällä US-patenttijulkaisussa nro 4 657 754 kuvattua menetelmää.
%
Kaupan oleva ceriumoksidi on yleensä harvinaisten maametallien f 20 oksidien seos, jossa suurimpana ainesosana on ceriumoksidi. Muita ainesosia .·**. voivat olla neodyymioksidi, samariumoksidi, praseodyymioksidi ja lantaaniok- '? .·*. sidi. Läsnä voi olla myös vielä pienempiä määriä muita harvinaisia maametal- | leja. Käytännössä havaitaan, että ’’ceriumoksidin” puhtaus ei vaikuta suuresti | **’\ hiovien hiukkasten toimintakykyyn kiillotuskäytössä, niin että tässä keksinnös- .1
• · · · · - -V
25 sä hyödylliseksi todettu ominaisuus tuntuisi olevan enemmän tai vähemmän • · *···* yhteinen kaikille muille harvinaisten maametallien oksideille, joita esiintyy ce- riumoksidin kanssa kyseisellä nimellä myytävissä kaupallisissa aineissa. Tä- | män selityksen tarkoituksia ajatellen harvinaisten maametallien oksidien seok- • · : ’*· siä, joissa ceriumoksidi on hallitseva ainesosa painoprosenttiosuudella tuot- :**[: 30 teestä mitattuna, kutsutaan ceriumoksidiksi. Esimerkkejä ceriumoksidin kau- ; *.t pallisista lähteistä ovat 50D1 ja Superox 50 (joita molempia on saatavissa yh- tiöltä Cercoa PenYan, N.Y.), jotka sisältävät vastaavasti noin 75 % ja 34 % • · **;·* ceriumoksidia, sekä Rhodox 76 (Rhone Poulencilta), joka sisältää noin 50 % "* ceriumoksidia. i • » · · 35 Kaupan olevana ceriumoksidi on tavallisesti hiukkasten muodossa, joilla on kaksikomponenttinen hiukkaskokojakauma, jossa huiput ovat hiuk- 118180 4 .;> :-ir kaskokojen 0,4 ja 4 μιτι tienoilla suurempikokoisten muodostaessa pääosan -4 hiukkasista. Tämä antaa jauheelle kokonais-Dso-arvoksi alle 4 μm ja tavallises-ti 3 - 3,5 μιτι. Havaitaan, että jos tätä jakaumaa pienennetään jauhamalla ce- f riumoksidi suhteellisen tasaiseen hiukkaskokoon, joka on 0,2 μητη tienoilla ja ^ 5 edullisemmin 0,4 μητη tienoilla, sillä ei ole suurta vaikutusta formulaation toimintakykyyn, ellei lasi ole erityisen kova ja vaadita myös visuaalisen täydellisyyden korkeaa tasoa. Näissä olosuhteissa hiukkaskokojakauma jauhamatto-mana havaitaan usein tehokkaammaksi.
Väliaine, johon hiovat hiukkaset dispergoidaan, oh vettä sisältävä, 10 joskin läsnä voi olla pieniä määriä veteen sekoittuvia nesteitä, kuten alkoholeja. Tavallisimmin käytetään deionisoitua vettä yhdessä pinta-aktiivisen aineen § kanssa hiovien hiukkasten pitämisen hyvin dispergoituneina auttamiseksi. Lietteen kiintoainepitoisuus on tyypillisesti 5 painoprosentista 15 tai jopa 20 pai- f noprosenttiin, pien tapauksessa painoprosentteina pienempi ja laimeampi.
15 Yleensä liete, jonka kiintoainepitoisuus on pienempi, kiillottaa hitaammin ja lietteen, jonka kiintoainepitoisuus on suuri, ongelmana saattaa olla se, että hionta-aine laskeutuu lietteestä. Käytännön seikat määräävät sen vuoksi kiin-toainepitoisuuden 5 -15 ja edullisemmin 8 -12 painoprosentiksi lietteestä. -.f
Edullisten suoritusmuotojen kuvaus .'-l 20 Keksintöä kuvataan nyt tarkemmin seuraavien esimerkkien avulla, f .**·. jotka on tarkoitettu havainnollistamaan keksinnön käyttökelpoisuutta ja cerium- if • · . '’λ, oksidiainesosan puhtauden ja hiukkaskoon vaihtelun vaikutuksia. Esimerkkien • · yi' ei ole kuitenkaan tarkoitus merkitä mitään välttämättömiä rajoituksia keksinnön ΐ *·*\ piiriin.
····· ...
• · 25 Esimerkki 1 ·♦* Tässä esimerkissä keksinnön mukaisen hionta-aineseoksen toimin- • · · takykya verrataan sellaisten lieteformulaatioiden toimintakykyyn, jotka sisältä- ***., vät kyseisiä ainesosia yksinään. f .**·. Kiillotustestit tehtiin kaksipuolisella AC 500 Peter Volters-koneella, . *. 30 joka oli varustettu Suba 500 -kiillotustyynyillä, joita on saatavissa yhtiöltä Ro- | • * · i del, Inc. Kiillotetut lasinäytteet valmistettiin kvartsilasista (Corning), jota pide- tään melko kovana lasina (560 - 640 Knoop). ? ··· Näytteet kiillotettiin käyttämällä kiintoainepitoisuudeltaan 10-prosent- ·*·* : tista lietettä, jollainen muodostettiin kustakin kolmesta hionta-aineesta. En- 35 simmäinen niistä oli 100-prosenttinen alumiinioksidi, toinen 100-prosenttinen 5" 118180 ceriumoksidi ja kolmas saman alumiinioksidi- ja ceriumoksidiainesosan seos suhteessa 90:10. Alumiinioksidi hankittiin yhtiöltä Saint-Gobain Industrial |
Ceramics, Inc. ja käsitti alfa-alumiinioksidihiukkasia, joiden koko oli noin 20 ja f 50 nanometrin välillä, agglomeraattien muodossa, joiden läpimitta oli noin f 5 0,15- 0,25 μιτι. Juuri yksikään agglomeraatti ei ollut mikrometriä suurempi.
Ceriumoksidiainesosa oli Rhodox 76, harvinaisten maametallien oksideista muodostunut tuote, joka sisältää noin 50 % ceriumoksidia ja joka oli jauhettu hiukkaskooltaan sellaiseksi, että D50 oli noin 0,4 μιτι. Lietteet valmistettiin deio-nisoituun veteen, johon oli lisätty 0,07 painoprosenttia pinta-aktiivista ainetta 10 (natriumpolyakrylaattia, jota on saatavissa R. T. Vanderbiltiltä kauppanimellä
Darvan 811). '
Toimintakykyä saavutettuna pinnan viimeistelyasteena ilmaistuna seurattiin ajan funktiona, ja kerätyistä tiedoista piirrettiin käyrä. Tämä on nähtävissä piirrosten kuviona 1. Kuvio 2 esittää samat tiedot levitetyn ’’viimeistely- f 15 aste”-akselin avulla saavutetun parannuksen osoittamiseksi selvemmin. ?
Kuvioista 1 ja 2 voidaan havaita, että vaikka 100-prosenttisella ce-riumoksidilla kiillotetun näytteen lähtöviimeistelyaste oli parempi (ts. se oli si-leämpi ennen kiillotusta) kuin muiden kahden, se ei kiillottunut läheskään yhtä hyvin. Kuten kuviosta 2 voidaan havaita, alumiinioksidi yksinään ei koskaan 20 saavuttanut pinnan viimeistelyastetta (Ra) 200 ängströmiä. Toisaalta tämä pinnan viimeistelytaso saavutettiin ceriumoksidilla noin 19 minuutin kuluttua ja ·’**: keksinnön mukaisella seoksella tämä taso saavutettiin alle 10 minuutissa. Toi- f ··« .**·. sesta näkökulmasta katsottuna noin 10 minuutin kuluttua ceriumoksidilietteellä * ♦ kiillotetun materiaalin pinnan viimeistelyaste oli noin 900, alumiinioksidilietteel- • · · 25 lä kiillotetun materiaalin viimeistelyaste oli hiukan alle 600 ja keksinnön mukai- 4 · nen liete tuotti viimeistelyasteeksi alle 200.
Esimerkki 2 Tässä esimerkissä selvitettiin ceriumoksidin hiukkaskoon vaihtelun [**.. vaikutusta kvartsilasin kiillotuksessa. |
:***: 30 Keksinnön mukainen formulaatio oli olennaisilta osiltaan sama, jota I
• · · * . käytettiin esimerkissä 1, ceriumoksidin ollessa Rhone Poulencilta hankittua , • · · *“,* Rhodox 76:ta. Rhodox 76:ta käytettiin kuitenkin hiukkaskooltaan neljänlaisena • · **:·* (mitattuna D5o-arvolla, joka määritettiin käyttämällä Horiba LA910 -hiukkasko- koanalysaattoria) neljässä eri kiillotustutkimuksessa. Käytetyt hiukkaskoot oli-35 vat 3,17 μιη, 2,14 μm, 0,992 μm ja 0,435 μιη. Kuviona 3 esitetty käyrä on yhteenveto tuloksista. Kyseisen käyrän perusteella ymmärretään, että tämän la- 6' -¾ 118180 sin tapauksessa oli kiillotuskyvyssä vain vähän eroa, joka voitaisiin jäljittää ce- ;·; riumoksidin hiukkaskokoon. Samankaltaisia tuloksia saatiin käyttämällä ce-riumoksidin lähteinä Superox 50:tä ja 50D1:tä.
Esimerkki 3 * 5 Tässä esimerkissä tutkittiin ceriumoksidin lähdettä ja erityisesti sitä, olisiko tuotteen puhtaudella mitään vaikutusta kiillotustehoon. Keksinnön mukaiset formulaatiot valmistettiin sellaisiksi, että ne sisälsivät noin 10 % cerium-oksidiainesosaa ja vastaavasti noin 90 % alumiinioksidiainesosaa, jota käytettiin esimerkin 1 mukaisissa formulaatioissa. Nämä formulaatiot testattiin kiillot-10 tamalla kvartsilasia käyttäen laitteistoa ja menettelytapoja, jotka olivat identti- f set esimerkissä 1 kuvattujen kanssa. Saatiin kuviossa 4 esitetyt tulokset. Ensimmäisessä näytteessä S oli Superox 50, joka sisältää noin 34 % ceriumok- f sidia. Toisessa R oli Rhodox 76, joka sisältää noin 50 % ceriumoksidia. Koi- ; mannessa D oli 50D1, joka sisältää noin 75 % ceriumoksidia. Kuten havaitaan, 15 kyseisten kolmen välillä havaittiin vain vähän eroa kiillotuskyvyssä. Vaikuttaisi siltä, että muut harvinaisten maametallien oksidit käyttäytyvät luultavasti samalla tavalla kuin ceriumoksidi keksinnön mukaisissa formulaatioissa.
Esimerkki 4 Tässä esimerkissä tutkittiin kiillotustehoa ja ceriumoksidin hiukkas- t»..# 20 koon vaikutuksia B270-lasiin (kova lasi, 530 Knoop). Kun edellä olevat esimer- * · !** kit tutkittiin laboratorio-olosuhteissa ja niistä testattiin ainoastaan ’’pinnan vii- • · ***** meistelyaste" mitattuna Ra-arvona, seuraavat tutkimukset tehtiin tuotantolai- | • · ·
*·**! toksessa käyttämällä ammattitaitoista koneenkäyttäjää, joka arvioi päätepis- . .T
teen visuaalisen täydellisyyden perusteella. Tämä merkitsee enemmän kuin • * t ·; ·...· 25 pelkkä Ra-arvo, joka ei välttämättä tunnista kiillotusvaiheesta jäävistä pinnan epätäydellisyyksistä seurauksena olevaa’’harmautta”.
Käytettiin kaksipuolista 4800 P. R. Hoffman -kiillotuskonetta, joka oli ·*·.. varustettu Rodel-yhtiöltä hankituilla Suba 10-kiillotustyynyillä. Kappaleisiin koh- distettiin kiillotuksen aikana noin 1,5 psi:n (1,034 x 104 pascalin) paine. Kiillo- / , \ 30 tuksen päätepiste oli se, kun saavutettiin pinnan täydellisyyden (kirkkauden) • · · :·| ί toivottu, ennalta määrätty taso.
Valmistettiin kolme keksinnön mukaista formulaatiota. Kaikki kolme ··· sisälsivät esimerkissä 1 kuvattua alumiinioksidiainesosaa ja pinta-aktiivista ai- ·«·· .*. { nesosaa samoina määrinä ja dispergoituina, yhdessä ceriumoksidiainesosan | 35 kanssa, samoissa suhteissa deionisoituun veteen. Ero ainesosien välillä oli ?:v£· 118180 7 . 1 '•f ceriumoksidin hiukkaskoossa. Ensimmäisessä (’’formulaatio A”) ceriumoksi- | diainesosa oli jauhettu Dso-arvoon 0,4 pm. Toisessa ja kolmannessa (’’formu- | laatiot B ja B’) ceriumoksidia (Superox 50) käytettiin suoraan valmistajan toi- § mittamassa muodossa. Ainoa ero kyseisten kahden välillä oli kiillotettavat lasi-5 näytteet. Toisessa, B’:ssa, kiillotettavien näytteiden koko oli pienempi ja sen vuoksi niihin samassa koneessa kiillotuksen aikana kohdistunut paine oli suurempi. Tämä johti päätepisteen saavuttamiseen nopeammin. Neljännessä (’’formulaatio C) ceriumoksidia (Rhodox 76) käytettiin myös sellaisena kuin i valmistaja sen toimitti. Kuten aikaisemmin mainittiin, vastaanotetuilla materiaali) leiliä on bimodaalinen jakauma ja suuremmalla määrällä hiukkasista oli hiuk-kashuippu Horiba 910 -hiukkaskokoanalysaattorilla 4:n tienoilla. Tulokset on esitetty alla taulukossa 1.
Taulukko 1
Formulaatio Kappaleiden Lähtöpaksuus Loppupaksuus Aika f __lukumäärä____(minuuttia) A__24__4,180 mm__4,168 mm__120 _B__10__4,186 mm__4,155 mm__60 B’__20__4,183 mm__4,163 mm__40 f _C__10__4,180 mm__4,150 mm__50 15 Formulaatio A, jossa käytettiin jauhettua ceriumoksidiainesosaa, tuotti tasai- sen vaaleanharmaan värin 90 minuutin kuluttua ja vaati 30 minuuttia lisää, ? ··· jotta tämä harmaus poistui ja jäi jäljelle sileys, joka oli alle yksi kymmenesosa • · · aallonpituudesta. Formulaatiot B ja B’ kiillottivat erittäin aggressiivisesti ja joh- ä .···, donmukaisen tasaisesti yli koko työkappaleen. Formulaatio C kiillotti myös ää- f • ♦ ·?$ 20 rimmäisen hyvin ja nopeasti. B270-lasituotteen pinnan sileys oli erinomainen. f *·*·* Muut kiillotusmateriaalit kykenevät kiillottamaan pikemminkin ’’paikoittain” kuin
johdonmukaisesti ja tasaisesti yli työkappaleen pinnan, kuten on asia näitä for- -I
: *** mulaatioita käytettäessä.
··♦
Vaikuttaisi sen vuoksi siltä, että milloin kirkkaus on ratkaiseva, kiillo-: :*. 25 tus formulaatioilla, jotka sisältävät jauhamatonta ceriumoksidiainesosaa, tarjoaa Φ · * # · . :* .*·*, merkittäviä etuja. Sitä vastoin formulaatiot, jotka sisältävät jauhettuja cerium- oksidiainesosia, hiovat nopeasti ja sileäksi saakka nopeasti mutta vaativat pi- ..i’ temmän ajan visuaalisen täydellisyyden saavuttamiseksi.
« · • · · • ·· * ·

Claims (4)

118180 e ,ΐ ,.-rj S Patenttivaatimukset ~f It
1. Optisille pinnoille soveltuva kiillotusformulaatio, joka käsittää vesipitoisen lietteen, joka koostuu olennaisilta osiltaan 5-20 painoprosentista kiintoainetta ja jossa 85 - 95 painoprosenttia kiintoainesisällöstä muodostaa al- 5 fa-alumiinioksidiainesosa, jonka D50-hiukkaskoko on alle 0,5 μιη, ja vastaavasti 15 - 5 painoprosenttia kiintoainesisällöstä muodostaa jauheen muodossa oleva ceriumoksidi, jonka D5o-hiukkaskoko on 0,2 - 4 μηη. f
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen optisille pinnoille soveltuva kiillotusformulaatio, jossa lietteen kiintoainepitoisuus on 8 -12 painoprosenttia.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen optisille pinnoille soveltuva kiillo- , tusformulaatio, jossa alumiinioksidiainesosan D5o-hiukkaskoko on 0,15- f 0,25 μιτι.
4. Patenttivaatimuksen 1 mukainen optisille pinnoille soveltuva kiillo- ^ tusformulaatio, jossa ceriumoksidiainesosalla on hiukkaskokojakauma, jossa 15 esiintyy kaksi komponenttia, ja ceriumoksidiainesosan Dso-hiukkaskoko on 3 -4 pm. • · ·· • · · • « 1 • · · ·=» • · .-vÄ * · · '1? • · · * 1 • · . ···1· ·'?·. • · -¾ . -¾ *·· • « ,Vi' • · ·.;< *·· ···.·’'·.· Λ • » :-· ··.:·. ψ • · · ’ ·1 • f - & • . ·. g • ta :- -7¾ : ; » • f1 • · · ta· • ·· · r.zk • · • t ··· • ' • - ··» ... ···· • · * · · - · .... 9 118180 s
FI20001800A 1998-02-18 2000-08-15 Optisille pinnoille soveltuva kiillotusformulaatio FI118180B (fi)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/025,730 US5989301A (en) 1998-02-18 1998-02-18 Optical polishing formulation
US2573098 1998-02-18
US9903143 1999-02-16
PCT/US1999/003143 WO1999042537A1 (en) 1998-02-18 1999-02-16 Optical polishing formulation

Publications (2)

Publication Number Publication Date
FI20001800A FI20001800A (fi) 2000-08-15
FI118180B true FI118180B (fi) 2007-08-15

Family

ID=21827759

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI20001800A FI118180B (fi) 1998-02-18 2000-08-15 Optisille pinnoille soveltuva kiillotusformulaatio

Country Status (28)

Country Link
US (2) US5989301A (fi)
EP (1) EP1060221B1 (fi)
JP (1) JP3605036B2 (fi)
KR (1) KR100354202B1 (fi)
CN (1) CN1187426C (fi)
AR (1) AR014959A1 (fi)
AT (1) ATE245180T1 (fi)
AU (1) AU729245B2 (fi)
BR (1) BR9908020B1 (fi)
CA (1) CA2319107C (fi)
CO (1) CO5060536A1 (fi)
CZ (1) CZ294042B6 (fi)
DE (1) DE69909597T2 (fi)
DK (1) DK1060221T3 (fi)
ES (1) ES2204107T3 (fi)
FI (1) FI118180B (fi)
HU (1) HUP0101154A3 (fi)
IL (1) IL137804A0 (fi)
MY (1) MY123257A (fi)
NO (1) NO319039B1 (fi)
NZ (1) NZ505901A (fi)
PL (1) PL186840B1 (fi)
PT (1) PT1060221E (fi)
RU (1) RU2181132C1 (fi)
SK (1) SK285219B6 (fi)
TW (1) TWI239995B (fi)
WO (1) WO1999042537A1 (fi)
ZA (1) ZA991150B (fi)

Families Citing this family (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6839362B2 (en) * 2001-05-22 2005-01-04 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Cobalt-doped saturable absorber Q-switches and laser systems
US20030092271A1 (en) * 2001-09-13 2003-05-15 Nyacol Nano Technologies, Inc. Shallow trench isolation polishing using mixed abrasive slurries
US6896591B2 (en) * 2003-02-11 2005-05-24 Cabot Microelectronics Corporation Mixed-abrasive polishing composition and method for using the same
US7045223B2 (en) * 2003-09-23 2006-05-16 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Spinel articles and methods for forming same
US20050061230A1 (en) * 2003-09-23 2005-03-24 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Spinel articles and methods for forming same
US7326477B2 (en) * 2003-09-23 2008-02-05 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Spinel boules, wafers, and methods for fabricating same
US7919815B1 (en) 2005-02-24 2011-04-05 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Spinel wafers and methods of preparation
US7294044B2 (en) * 2005-04-08 2007-11-13 Ferro Corporation Slurry composition and method for polishing organic polymer-based ophthalmic substrates
AU2007337145B2 (en) * 2006-12-19 2011-08-11 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Submicron alpha alumina high temperature bonded abrasives
JP5539339B2 (ja) 2008-06-23 2014-07-02 サンーゴバン アブレイシブズ,インコーポレイティド 高気孔率ビトリファイド超砥粒製品および製造方法
RU2487792C2 (ru) * 2009-01-30 2013-07-20 ПиСиДабл-ю ХОЛДИНГЗ, ЭлЭлСи Составы и способы для восстановления пластмассовых колпаков и линз
US8784519B2 (en) 2009-10-27 2014-07-22 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Vitrious bonded abbrasive
AU2010315460B2 (en) 2009-10-27 2014-11-20 Saint-Gobain Abrasifs Resin bonded abrasive
RU2608890C2 (ru) * 2010-09-08 2017-01-26 Басф Се Водные полирующие композиции, содержащие n-замещенные диазений диоксиды и/или соли n -замещенных n'-гидрокси-диазений оксидов
RU2013135445A (ru) 2010-12-31 2015-02-10 Сэнт-Гобэн Керамикс Энд Пластикс, Инк. Абразивное изделие (варианты) и способ его формования
TWI605112B (zh) * 2011-02-21 2017-11-11 Fujimi Inc 研磨用組成物
US8986409B2 (en) 2011-06-30 2015-03-24 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive articles including abrasive particles of silicon nitride
US8840694B2 (en) 2011-06-30 2014-09-23 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Liquid phase sintered silicon carbide abrasive particles
CN103826802B (zh) 2011-09-26 2018-06-12 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 包括磨料颗粒材料的磨料制品,使用磨料颗粒材料的涂布磨料及其形成方法
WO2013049526A2 (en) 2011-09-29 2013-04-04 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive products and methods for finishing hard surfaces
JP5847331B2 (ja) 2011-12-30 2016-01-20 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 成形研磨粒子の形成
US9266220B2 (en) 2011-12-30 2016-02-23 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive articles and method of forming same
JP5903502B2 (ja) 2011-12-30 2016-04-13 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 成形研磨粒子を備える粒子材料
KR20140106713A (ko) 2011-12-30 2014-09-03 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 형상화 연마입자 및 이의 형성방법
US9321947B2 (en) 2012-01-10 2016-04-26 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive products and methods for finishing coated surfaces
AU2013207946B2 (en) 2012-01-10 2016-07-07 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive particles having complex shapes and methods of forming same
WO2013106602A1 (en) 2012-01-10 2013-07-18 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles
CA2867350C (en) 2012-03-16 2017-05-23 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive products and methods for finishing surfaces
US9242346B2 (en) 2012-03-30 2016-01-26 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive products having fibrillated fibers
WO2013149197A1 (en) 2012-03-30 2013-10-03 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive products and methods for fine polishing of ophthalmic lenses
EP4302955A3 (en) 2012-05-23 2024-04-17 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Shaped abrasive particles and methods of forming same
EP2866977B8 (en) 2012-06-29 2023-01-18 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles
CA2887561C (en) 2012-10-15 2019-01-15 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles
CN104994995B (zh) 2012-12-31 2018-12-14 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 颗粒材料及其形成方法
US9457453B2 (en) 2013-03-29 2016-10-04 Saint-Gobain Abrasives, Inc./Saint-Gobain Abrasifs Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles
TW201502263A (zh) 2013-06-28 2015-01-16 Saint Gobain Ceramics 包含成形研磨粒子之研磨物品
CN111978921A (zh) 2013-09-30 2020-11-24 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 成形磨粒及其形成方法
US9566689B2 (en) 2013-12-31 2017-02-14 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
US9771507B2 (en) 2014-01-31 2017-09-26 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Shaped abrasive particle including dopant material and method of forming same
US9803119B2 (en) 2014-04-14 2017-10-31 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
EP3131706B8 (en) 2014-04-14 2024-01-10 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
US9902045B2 (en) 2014-05-30 2018-02-27 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Method of using an abrasive article including shaped abrasive particles
US9707529B2 (en) 2014-12-23 2017-07-18 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Composite shaped abrasive particles and method of forming same
US9914864B2 (en) 2014-12-23 2018-03-13 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Shaped abrasive particles and method of forming same
US9676981B2 (en) 2014-12-24 2017-06-13 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Shaped abrasive particle fractions and method of forming same
CN107636109A (zh) 2015-03-31 2018-01-26 圣戈班磨料磨具有限公司 固定磨料制品和其形成方法
TWI634200B (zh) 2015-03-31 2018-09-01 聖高拜磨料有限公司 固定磨料物品及其形成方法
CA2988012C (en) 2015-06-11 2021-06-29 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
EP3455320A4 (en) 2016-05-10 2019-11-20 Saint-Gobain Ceramics&Plastics, Inc. GRINDING PARTICLES AND METHOD FOR FORMING THEREOF
US11718774B2 (en) 2016-05-10 2023-08-08 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive particles and methods of forming same
WO2018064642A1 (en) 2016-09-29 2018-04-05 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Fixed abrasive articles and methods of forming same
US10759024B2 (en) 2017-01-31 2020-09-01 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
US10563105B2 (en) 2017-01-31 2020-02-18 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
US10865148B2 (en) 2017-06-21 2020-12-15 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Particulate materials and methods of forming same
US11865663B2 (en) * 2018-05-10 2024-01-09 George Shuai Optical surface polishing
CN109439282A (zh) * 2018-10-23 2019-03-08 蓝思科技(长沙)有限公司 复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备
CN109135580B (zh) * 2018-10-25 2021-04-02 蓝思科技(长沙)有限公司 一种玻璃用抛光液及其制备方法
CN110724460A (zh) * 2019-11-13 2020-01-24 刘通 一种铈铝复合氧化物抛光粉的制备方法
CN114867582A (zh) 2019-12-27 2022-08-05 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 磨料制品及其形成方法
CN113881348A (zh) * 2021-11-04 2022-01-04 青岛福禄泰科表面材料科技有限公司 一种复合氧化铝抛光液及其制备方法和应用
CN114213977A (zh) * 2021-12-23 2022-03-22 中天科技精密材料有限公司 抛光剂及其制备方法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3429080A (en) * 1966-05-02 1969-02-25 Tizon Chem Corp Composition for polishing crystalline silicon and germanium and process
GB1501570A (en) * 1975-11-11 1978-02-15 Showa Denko Kk Abrader for mirror polishing of glass and method for mirror polishing
US4161394A (en) * 1978-06-19 1979-07-17 Regan Glen B Polishing slurry of xanthan gum and a dispersing agent
FR2549846B1 (fr) * 1983-07-29 1986-12-26 Rhone Poulenc Spec Chim Nouvelle composition de polissage a base de cerium et son procede de fabrication
US4576612A (en) * 1984-06-01 1986-03-18 Ferro Corporation Fixed ophthalmic lens polishing pad
US5312789A (en) * 1987-05-27 1994-05-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive grits formed of ceramic, impregnation method of making the same and products made therewith
DE69302582T2 (de) * 1992-09-25 1996-10-31 Minnesota Mining & Mfg Verfahren zur herstellung von aluminiumoxid und ceroxid enthaltendem schleifkorn
CA2111010A1 (en) * 1993-01-29 1994-07-30 Robert James Hagerty Method of finely polishing planar optical elements
US5549962A (en) * 1993-06-30 1996-08-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Precisely shaped particles and method of making the same
US5465314A (en) * 1993-09-09 1995-11-07 The Furukawa Electronic Co., Ltd. Method of manufacturing optical connector
US5632668A (en) * 1993-10-29 1997-05-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for the polishing and finishing of optical lenses
KR960041316A (ko) * 1995-05-22 1996-12-19 고사이 아키오 연마용 입상체, 이의 제조방법 및 이의 용도
US5693239A (en) * 1995-10-10 1997-12-02 Rodel, Inc. Polishing slurries comprising two abrasive components and methods for their use
US5702811A (en) * 1995-10-20 1997-12-30 Ho; Kwok-Lun High performance abrasive articles containing abrasive grains and nonabrasive composite grains
BR9708934A (pt) * 1996-05-08 1999-08-03 Minnesota Mining & Mfg Artigo abrasivo abrasivo e processo para produzir um artigo abrasivo
US5858813A (en) * 1996-05-10 1999-01-12 Cabot Corporation Chemical mechanical polishing slurry for metal layers and films
KR19980019046A (ko) * 1996-08-29 1998-06-05 고사이 아키오 연마용 조성물 및 이의 용도(Abrasive composition and use of the same)
JP3856513B2 (ja) * 1996-12-26 2006-12-13 昭和電工株式会社 ガラス研磨用研磨材組成物
US5876268A (en) 1997-01-03 1999-03-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method and article for the production of optical quality surfaces on glass
US5833724A (en) * 1997-01-07 1998-11-10 Norton Company Structured abrasives with adhered functional powders
US5851247A (en) * 1997-02-24 1998-12-22 Minnesota Mining & Manufacturing Company Structured abrasive article adapted to abrade a mild steel workpiece
US5910471A (en) 1997-03-07 1999-06-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article for providing a clear surface finish on glass
US5876470A (en) * 1997-08-01 1999-03-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive articles comprising a blend of abrasive particles

Also Published As

Publication number Publication date
BR9908020A (pt) 2000-10-24
AU729245B2 (en) 2001-01-25
HUP0101154A3 (en) 2002-06-28
IL137804A0 (en) 2001-10-31
US6258136B1 (en) 2001-07-10
SK285219B6 (sk) 2006-09-07
EP1060221B1 (en) 2003-07-16
CZ20002969A3 (cs) 2001-03-14
RU2181132C1 (ru) 2002-04-10
AR014959A1 (es) 2001-04-11
KR20010034504A (ko) 2001-04-25
CN1290289A (zh) 2001-04-04
NO20004122L (no) 2000-08-17
ES2204107T3 (es) 2004-04-16
CA2319107C (en) 2005-09-20
CN1187426C (zh) 2005-02-02
CO5060536A1 (es) 2001-07-30
CA2319107A1 (en) 1999-08-26
PL186840B1 (pl) 2004-03-31
NZ505901A (en) 2002-03-01
JP3605036B2 (ja) 2004-12-22
TWI239995B (en) 2005-09-21
PT1060221E (pt) 2003-12-31
BR9908020B1 (pt) 2009-01-13
AU2677799A (en) 1999-09-06
DE69909597T2 (de) 2004-05-27
EP1060221A1 (en) 2000-12-20
FI20001800A (fi) 2000-08-15
NO319039B1 (no) 2005-06-06
NO20004122D0 (no) 2000-08-17
PL342392A1 (en) 2001-06-04
SK11452000A3 (sk) 2001-02-12
KR100354202B1 (ko) 2002-09-26
US5989301A (en) 1999-11-23
WO1999042537A1 (en) 1999-08-26
HUP0101154A2 (hu) 2001-07-30
MY123257A (en) 2006-05-31
DE69909597D1 (de) 2003-08-21
ATE245180T1 (de) 2003-08-15
ZA991150B (en) 1999-08-12
DK1060221T3 (da) 2003-10-20
CZ294042B6 (cs) 2004-09-15
JP2002504588A (ja) 2002-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI118180B (fi) Optisille pinnoille soveltuva kiillotusformulaatio
RU2426635C2 (ru) Гибкий абразивный инструмент и способ формирования абразивного порошкового материала
KR100429940B1 (ko) 개선된 세리아 분말
US5228886A (en) Mechanochemical polishing abrasive
WO2009046311A2 (en) Composite slurries of nano silicon carbide and alumina
KR101022982B1 (ko) 폴리싱 슬러리 및 그 사용 방법
KR100615691B1 (ko) 연마용 부재, 그것을 이용한 연마용 정반 및 연마방법
JP2002355763A (ja) 合成砥石
JPH05156238A (ja) メカノケミカル研摩用研摩剤、および材料片を研摩する方法
JP5603591B2 (ja) 加工用砥粒、加工具、加工液およびそれらを用いた加工方法
JP2000265160A (ja) 高速鏡面研磨用研磨材
JP3040441B2 (ja) セラミックスの精密研磨方法
JP2003117806A (ja) 多結晶セラミックスの鏡面研磨方法
MXPA00008063A (en) Optical polishing formulation
JP2004261942A (ja) 研磨砥石
CN115651544A (zh) 一种混合磨料抛光液及其制备方法
TW202417586A (zh) 材料拋光之方法及材料
JP2023141786A (ja) 研磨スラリー及び研磨方法
Wu et al. Polishing Optical Glass by Mechanochemical Machining
CN1154285A (zh) 用于抛光光纤连接器端面的方法

Legal Events

Date Code Title Description
FG Patent granted

Ref document number: 118180

Country of ref document: FI

MM Patent lapsed