CN109439282A - 复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备 - Google Patents

复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备 Download PDF

Info

Publication number
CN109439282A
CN109439282A CN201811234366.XA CN201811234366A CN109439282A CN 109439282 A CN109439282 A CN 109439282A CN 201811234366 A CN201811234366 A CN 201811234366A CN 109439282 A CN109439282 A CN 109439282A
Authority
CN
China
Prior art keywords
nano
abrasive material
polishing fluid
cerium oxide
oxide powder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201811234366.XA
Other languages
English (en)
Inventor
周群飞
杨水莲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lens Technology Changsha Co Ltd
Original Assignee
Lens Technology Changsha Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lens Technology Changsha Co Ltd filed Critical Lens Technology Changsha Co Ltd
Priority to CN201811234366.XA priority Critical patent/CN109439282A/zh
Publication of CN109439282A publication Critical patent/CN109439282A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1436—Composite particles, e.g. coated particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00—Polishing compositions
    • C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

本发明提供了一种复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备，涉及磨料技术领域，所述复合纳米磨料包括纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末，两者的质量比为(3‑6)：(2‑5)；其中，纳米氧化铈粉末的粒径为80‑200nm，纳米氧化铝粉末的粒径为100‑300nm，缓解了以微米级氧化铈或微米级氧化铝为磨料的抛光液无法满足玻璃晶片低粗糙度要求的技术问题，本发明提供的复合纳米磨料，通过纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末相互协同，对玻璃晶片进行抛光时，使得玻璃晶片表面的粗糙度显著降低，不仅能够满足玻璃晶片的表观质量要求，而且提高了抛光效率，降低了抛光成本。

Description

复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备
技术领域
本发明涉及磨料技术领域，尤其是涉及一种复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备。
背景技术
随着科学技术的不断发展进步，市场对于高精度的玻璃晶片需求量与日俱增，因此对玻璃晶片的表面加工精度和表面完整性要求越来越高。随着玻璃晶片表面指纹识别等特殊要求的升级，玻璃晶片表面对粗糙度的要求越来越高，这就对抛光液提出了更高的要求。
目前常用的抛光液主要以微米级氧化铈或微米级氧化铝为磨料，以微米级氧化铈为磨料的抛光液加工效率低，且玻璃晶片表面粗糙度偏高；以微米级氧化铝为磨料的抛光液加工效率高，容易造成玻璃晶片表面划伤，使得玻璃晶片表面粗糙度偏高。
有鉴于此，特提出本发明。
发明内容
本发明的目的之一在于提供一种复合纳米磨料，以缓解以微米级氧化铈或微米级氧化铝为磨料的抛光液无法满足玻璃晶片低粗糙度要求的技术问题。
本发明提供的复合纳米磨料，包括纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末，两者的质量比为(3-6)：(2-5)；其中，纳米氧化铈粉末的粒径为80-200nm，纳米氧化铝粉末的粒径为100-300nm。
进一步的，所述纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状。
进一步的，所述纳米氧化铝粉末为α-Al2O3，莫氏硬度为8.5-9.5，优选为9。
本发明的目的之二在于提供一种抛光液，包括本发明提供的复合纳米磨料和水；
优选地，所述水为去离子水。
进一步的，所述抛光液还包括助剂，所述助剂包括分散剂、活性剂和填料中的至少一种；
优选地，所述分散剂选自硬脂酸、聚乙烯亚胺和聚氨酯中的至少一种；
优选地，所述活性剂选自1,2-丙二醇、丙三醇、1,3-丁二醇和油酸中的至少一种；
优选地，所述填料选自微晶纤维素、黄原胶、膨润土和硫酸镁铝中的至少一种。
进一步的，所述抛光液包括按质量份数计的如下原料：复合纳米磨料25-55份，分散剂0.1-2份，活性剂0.1-2份，填料0.01-2分，余量为水，上述各原料之和为100份。
本发明的目的之三在于提供一种抛光液的制备方法，包括如下步骤：将复合纳米磨料、任选的分散剂、任选的活性剂和任选的填料，加入水中，混合均匀，即制得抛光液；
优选地，先将分散剂和填料加入水中混合均匀，再加入复合纳米磨料混合均匀，最后加入活性剂混合均匀，过100-200目过滤网，得到抛光液。
进一步的，所述抛光液的制备方法，具体包括如下步骤：
(a)将水在500-1000rpm之间进行搅拌，加入分散剂和填料，搅拌至混合均匀；
(b)将复合纳米磨料加入(a)制得的溶液中，搅拌至混合均匀，静置4-6h；
(c)将活性剂加入(b)制得的溶液中，搅拌1-2h；
(d)将(c)制得的溶液用100-200目过滤网，过滤，得到抛光液。
本发明的目的之四在于提供一种玻璃晶片，采用本发明提供的纳复合纳米磨料或本发明提供的抛光液抛光制得。
本发明的目的之五在于提供一种电子设备，包括本发明提供的玻璃晶片。
本发明提供的复合纳米磨料，通过纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末相互协同，对玻璃晶片进行抛光时，使得玻璃晶片表面的粗糙度显著降低，不仅能够满足玻璃晶片的表观质量要求，而且提高了抛光效率，降低了抛光成本。
本发明提供的抛光液采用本发明提供的复合纳米磨料为磨料，对玻璃晶片进行抛光时，使得玻璃晶片表面的粗糙度降低至显著降低，不仅能够满足玻璃晶片的表观质量要求，而且提高了抛光效率，降低了抛光成本。
本发明提供的抛光液的制备方法工艺简单操作方便，适用于工业化大生产，能够有效提高制备效率，降低生产成本。
本发明提供的玻璃晶片采用本发明提供的复合纳米磨料或抛光液抛光得到，表面加工精度高，完整性好，粗糙度低，能够满足表面指纹识别等特殊要求。
具体实施方式
下面将结合实施例对本发明的实施方案进行详细描述，但是本领域技术人员将会理解，下列实施例仅用于说明本发明，而不应视为限制本发明的范围。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。
根据本发明的一个方面，本发明提供了一种复合纳米磨料，包括纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末，两者的质量比为(3-6)：(2-5)；其中，纳米氧化铈粉末的粒径为80-200nm，纳米氧化铝粉末的粒径为100-300nm。
在本发明中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末的典型但非限制性的质量比如为3:2、2:1、5:2、3:1、4:3、1:1、4:5、5:3、5:4或6:5。
在本发明中，纳米氧化铈粉末的典型但非限制性的粒径如为80、90、100、110、120、130、140、150、160、170、180、190或200nm；纳米氧化铝粉末的典型但非限制性的粒径如为100、120、140、150、160、180或200nm。
本发明提供的复合纳米磨料，通过纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末相互协同，对玻璃晶片进行抛光时，使得玻璃晶片表面的粗糙度显著降低，不仅能够满足玻璃晶片的表观质量要求，而且提高了抛光效率，降低了抛光成本。
在本发明的一种实施方案中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状。
在本发明的实施方案中，类球状粉末为表面圆润，不带尖锐棱角的颗粒。
通过采用类球状的纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末相互协同作为复合纳米磨料，以避免因纳米氧化铈粉末和/或纳米氧化铝粉末存在尖锐凸起造成玻璃晶片表面划伤，影响玻璃晶片的质量。
在本发明的一种实施方案中，纳米氧化铝粉末为α-Al2O3，莫氏硬度为8.5-9.5。在本发明的优选实施方案中，通过选用莫氏硬度为8.5-9.5的纳米氧化铝粉末与纳米氧化铈粉末相互协同形成复合纳米磨料，以保证复合纳米磨料的硬度，从而有效提高抛光效率。
在本发明的优选实施方案中，纳米氧化铝粉末的典型但非限制性的莫氏硬度如为8.5、8.6、8.7、8.8、8.9、9、9.1、9.2、9.3、9.4或9.5。
根据本发明的第二个方面，本发明提供了一种抛光液，包括本发明提供的复合纳米磨料和水。
本发明提供的抛光液采用本发明提供的复合纳米磨料为磨料，对玻璃晶片进行抛光时，使得玻璃晶片表面的粗糙度降低至显著降低，不仅能够满足玻璃晶片的表观质量要求，而且提高了抛光效率，降低了抛光成本。
在本发明的一种实施方案中，水为去离子水。
通过选用去离子水和复合纳米磨料制成抛光液，以减少抛光液中杂质，避免因水中含有杂质，影响抛光液的抛光质量。
在本发明的一种实施方案中，抛光液还包括助剂，助剂包括分散剂、活性剂和填料中的一种或几种。
通过在抛光液中加入分散剂以能够提高纳米氧化铈粉末在抛光液中的均匀一致性，便于后续清洗，且利于防止纳米氧化铈粉末在抛光液中的沉降。
通过在抛光液中加入活性剂以促进抛光液中各原料的溶解，增强抛光液的表面活性。
通过在抛光液中加入填料以提高抛光液的耐磨性能，降低抛光液的成本。
在本发明的一种优选实施方案中，分散剂选自硬脂酸、聚乙烯亚胺和聚氨酯中的一种或几种。
在本发明一种优选实施方案中，活性剂选自1,2-丙二醇、丙三醇、1,3-丁二醇和油酸中的一种或几种。
在本发明的一种优选实施方案中，填料选自微晶纤维素、黄原胶、膨润土和硫酸镁铝中的一种或几种。
在本发明的一种实施方案中，抛光液包括按质量份数计的如下原料：复合纳米磨料25-55份，分散剂0.1-2份，活性剂0.1-2份，填料0.01-2分，余量为水，上述各原料之和为100份。
所述的“包括”，意指其除所述组分外，还可以包括其他组分，这些其他组份赋予所述抛光液不同的特性。除此之外，本发明所述的“包括”，还可以替换为封闭式的“为”或“由……组成”。
需要注意的是，余量为水，指抛光液的组分中除去复合纳米磨料、分散剂、活性剂、填料以及任选地其他组分之外的余量为水，水与复合纳米磨料、分散剂、活性剂、填料以及任选地其他组分的质量百分含量之和为100份。
在本发明的该实施方案中，抛光液中，复合纳米磨料的典型但非限制性的质量份数如为25、28、30、32、35、38、40、42、45、48、50、52或55份；分散剂的典型但非限制性的质量份数如为0.1、0.2、0.5、0.8、1、1.2、1.5、1.8或2份；活性剂的典型但非限制性的质量份数如为0.1、0.2、0.5、0.8、1、1.2、1.5、1.8或2份；填料的典型但非限制性的质量份数如为0.01、0.02、0.05、0.08、0.1、0.15、0.2、0.25、0.3、0.5、0.8、1、1.2、1.5、1.8或2份。
在本发明的该实施方案中，抛光液通过纳米复合磨料、分散剂、活性剂和填料相互协同，使得抛光液在抛光时的抛光稳定性更佳，抛光效率更高。
根据本发明的第三个方面，本发明提供了上述抛光液的制备方法，包括如下步骤：将复合纳米磨料、任选的分散剂、任选的活性剂和任选的填料，加入水中，混合均匀，即制得抛光液。
本发明提供的抛光液的制备方法工艺简单操作方便，适用于工业化大生产，能够有效提高制备效率，降低生产成本。
在本发明的一种优选实施方案中，抛光液的制备方法包括如下步骤：先将分散剂和填料加入水中混合均匀，再加入复合纳米磨料混合均匀，最后加入活性剂混合，过100-200目过筛网，得到抛光液。
通过将抛光液中的各原料分批次混合均匀，以保证抛光液中各原料的分散均匀性。
通过将各原料混合后的溶液过100-200目筛网，以将团聚或粘合在一起的大颗粒过滤去除，避免大颗粒的存在影响抛光质量和抛光效率。
在本发明的一种实施方案中，筛网的典型但非限制性的孔径如为100、110、120、130、140、150、160、170、180、190或200目。
在本发明的一种优选实施方案中，抛光液的制备方法具体包括如下步骤：
(a)将水在500-1000rpm之间进行搅拌，加入分散剂和填料，搅拌至混合均匀；
(b)将复合纳米磨料加入(a)制得的溶液中，搅拌至混合均匀，静置4-6h；
(c)将活性剂加入(b)制得的溶液中，搅拌1-2h；
(d)将(c)制得的溶液用100-200目过滤网，过滤，得到抛光液。
在步骤(a)中，先搅拌水再加入填料和分散剂，有助于分散剂和填料在水中分散均匀。
在本发明的优选实施方式中，通过先将分散剂和填料在水中分散均匀，再加入复合纳米磨料混合均匀，然后再加入活性剂混合均匀，最后再将溶液过滤，有助于提高抛光液的分散稳定性。
根据本发明的第四个方面，本发明提供了一种玻璃晶片，采用本发明提供的复合纳米磨料或本发明提供的抛光液抛光得到。
本发明提供的玻璃晶片采用本发明提供的复合纳米磨料或抛光液抛光得到，表面加工精度高，完整性好，粗糙度低，能够满足表面指纹识别等特殊要求。
根据本发明的第五个方面，本发明提供了一种电子设备，包括本发明提供的玻璃晶片。
下面结合实施例和对比例对本发明提供的技术方案作进一步的描述。
实施例1
本实施例提供了一种复合纳米磨料，包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末15份和纳米氧化铝粉末25份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为80nm，纳米氧化铝粉末的粒径为300nm。
实施例2
本实施例提供了一种复合纳米磨料，包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末30份和纳米氧化铝粉末15份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为200nm，纳米氧化铝粉末的粒径为100nm。
实施例3
本实施例提供了一种复合纳米磨料，包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末26份和纳米氧化铝粉末22份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为120nm，纳米氧化铝粉末的粒径为100nm。
实施例4
本实施例提供了一种复合纳米磨料，包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末23份和纳米氧化铝粉末24份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为180nm，纳米氧化铈粉末的粒径为150nm。
实施例5
本实施例提供了一种复合纳米磨料，包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末22份和纳米氧化铝粉末23份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为150nm，纳米氧化铈粉末的粒径为180nm。
实施例6
本实施例提供了一种复合纳米磨料，包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末24份和纳米氧化铝粉末26份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为90nm，纳米氧化铈粉末的粒径为200nm。
实施例7
本实施例提供了一种复合纳米磨料，包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末18份和纳米氧化铝粉末18份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为160nm，纳米氧化铈粉末的粒径为200nm。
实施例8
本实施例提供了一种复合纳米磨料，包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末26份和纳米氧化铝粉末15份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为130nm，纳米氧化铈粉末的粒径为250nm。
实施例9
本实施例提供了一种复合纳米磨料，包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末18份和纳米氧化铝粉末20份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为170nm，纳米氧化铈粉末的粒径为300nm。
实施例10
本实施例提供了一种复合纳米磨料，包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末23份和纳米氧化铝粉末16份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为150nm，纳米氧化铈粉末的粒径为80nm。
实施例11
本实施例提供了一种复合纳米磨料，包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末22份和纳米氧化铝粉末15份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为160nm，纳米氧化铈粉末的粒径为120nm。
实施例12
本实施例提供了一种复合纳米磨料，包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末24份和纳米氧化铝粉末12份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为110nm，纳米氧化铈粉末的粒径为250nm。
对比例1
本对比例提供了一种磨料，其包括按质量份数计的氧化铈粉末45份，其中纳米氧化铈粉末为类球状，氧化铈粉末的粒径为800nm。
对比例2
本对比例提供了一种磨料，其包括按质量份数计的氧化铈粉末45份，其中，纳米氧化铈粉末为类球状，氧化铈粉末的粒径为1μm。
对比例3
本对比例提供了一种磨料，其包括按质量份数计的氧化铝粉末20份，其中，纳米氧化铝粉末为类球状，氧化铝粉末的粒径为800nm。
对比例4
本对比例提供了一种磨料，其包括按质量份数计的氧化铝粉末20份，其中纳米氧化铝粉末为类球状，氧化铝粉末的粒径为500nm。
对比例5
本对比例提供了一种纳米磨料，其包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末45份，其中，纳米氧化铈粉末为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为150nm。
对比例6
本对比例提供了一种纳米磨料，其包括按质量份数计的纳米氧化铝粉末35份，其中，纳米氧化铝粉末为类球状，纳米氧化铝粉末的粒径为200nm。
对比例7
本对比例提供了一种复合纳米磨料，其包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末40份和纳米氧化铝粉末5份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为160nm，纳米氧化铝粉末的粒径为200nm。
对比例8
本对比例提供了一种复合纳米磨料，其包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末5份和纳米氧化铝粉末30份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为160nm，纳米氧化铝粉末的粒径为200nm。
对比例9
本对比例提供了一种复合纳米磨料，其包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末23份和纳米氧化铝粉末24份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为500nm，纳米氧化铝粉末的粒径为500nm。
对比例10
本对比例提供了一种复合纳米磨料，其包括按质量份数计的纳米氧化铈粉末23份和纳米氧化铝粉末24份，其中，纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状，纳米氧化铈粉末的粒径为50nm，纳米氧化铝粉末的粒径为50nm。
实施例13
本实施例提供了一种抛光液，包括按质量份数计如下原料：实施例1提供的复合纳米磨料40份，分散剂0.8份，活性剂0.6份和填料0.8份，余量为水，上述各组分之和为100份；其中，分散剂为硬脂酸，活性剂为1,2-丙二醇，填料为硫酸镁铝。
实施例14
本实施例提供了一种抛光液，包括按质量份数计的如下原料：实施例2提供的复合纳米磨料45份，分散剂0.8份，活性剂0.6份和填料0.8份，余量为水，上述各组分之和为100份；其中，分散剂为硬脂酸，活性剂为1,2-丙二醇，填料为硫酸镁铝。
实施例15
本实施例提供了一种抛光液，包括按质量份数计的如下原料：实施例3提供的复合纳米磨料48份，分散剂0.8份，活性剂0.6份和填料0.8份，余量为水，上述各组分之和为100份；其中，分散剂为硬脂酸，活性剂为1,2-丙二醇，填料为硫酸镁铝。
实施例16
本实施例提供了一种抛光液，包括按质量份数计的如下原料：实施例4提供的复合纳米磨料47份，分散剂1份，活性剂0.3份和填料0.6份，余量为水，上述各组分之和为100份；其中，分散剂为聚乙烯亚胺和聚氨酯的混合物，活性剂为丙三醇和1,3-丁二醇的混合物，填料为黄原胶。
实施例17
本实施例提供了一种抛光液，包括按质量份数计的如下原料：实施例5提供的复合纳米磨料46份，分散剂0.6份，活性剂0.4份和填料1份，余量为水，上述各组分之和为100份；其中，分散剂为聚乙烯亚胺，活性剂为1,2-丙二醇和油酸的混合物，填料为膨润土。
实施例18
本实施例提供了一种抛光液，包括按质量份数计的如下原料：实施例6提供的复合纳米磨料50份，分散剂0.7份，活性剂0.5份和填料0.6份，余量为水，上述各组分之和为100份；其中，分散剂为聚氨酯，活性剂为丙三醇和油酸的混合物，填料为微晶纤维素和黄胶原的混合物。
实施例19
本实施例提供了一种抛光液，包括按质量份数计的如下原料：实施例7提供的复合纳米磨料36份，分散剂0.5份，活性剂0.2份和填料0.4份，余量为水，上述各组分之和为100份；其中，分散剂为硬脂酸和聚氨酯的混合物，活性剂为1,2丙二醇和丙三醇的混合物，填料为微晶纤维素。
实施例20
本实施例提供了一种抛光液，包括按质量份数计的如下原料：实施例8提供的复合纳米磨料41份，分散剂0.9份，活性剂0.1份和填料0.5份，余量为水，上述各组分之和为100份；其中，分散剂为硬脂酸、聚乙烯亚胺和聚氨酯的混合物，活性剂为丙三醇、1,3-丁二醇和油酸的混合物，填料为黄胶原和膨润土的混合物。
实施例21
本实施例提供了一种抛光液，包括按质量份数计的如下原料：实施例9提供的复合纳米磨料38份，分散剂1.2份，活性剂0.3份和填料0.3份，余量为水，上述各组分之和为100份；其中，分散剂为聚氨酯，活性剂为丙三醇，填料为微晶纤维素和膨润土的混合物。
实施例22
本实施例提供了一种抛光液，包括按质量份数计的如下原料：实施例10提供的复合纳米磨料39份，分散剂1.2份，活性剂0.6份和填料0.8份，余量为水，上述各组分之和为100份；其中，分散剂为聚氨酯，活性剂为1,3丁二醇，填料为膨润土。
实施例23
本实施例提供了一种抛光液，包括按质量份数计的如下原料：实施例11提供的复合纳米磨料37份，分散剂0.6份，活性剂0.25份和填料0.6份，余量为水，上述各组分之和为100份；其中，分散剂为硬脂酸，活性剂为油酸，填料为黄胶原和硫酸镁铝的混合物。
实施例24
本实施例提供了一种抛光液，包括按质量份数计的如下原料：实施例12提供的复合纳米磨料36份，分散剂0.4份，活性剂0.4份和填料1.2份，余量为水，上述各组分之和为100份；其中，分散剂为硬脂酸，活性剂为丙三醇和1,3-丁二醇的混合物，填料为微晶纤维、黄胶原和膨润土的混合物。
实施例25
本实施例提供了一种抛光液的制备方法，实施例13-24提供的抛光液均按照该方法制备而成，具体包括如下步骤：
(1)将去离子水在800rpm之间进行搅拌，加入分散剂和填料，搅拌至混合均匀；
(2)将磨料加入(1)制得的溶液中，搅拌至混合均匀，静置5h；
(3)将活性剂加入(2)制得的溶液中，搅拌1.5h；
(4)将(3)制得的溶液用150目过滤网，过滤，得到抛光液。
对比例11
本对比例提供了一种抛光液，包括按质量份数计的如下原料：对比例1提供的磨料45份，分散剂1份，活性剂0.6份和填料0.8份，余量为水，各原料之和为100份，其中分散剂为硬脂酸，活性剂为1,2-丙二醇和丙三醇的混合物，填料为膨润土和硫酸镁铝的混合物。
对比例12
本对比例提供了一种抛光液，本对比例与对比例11的不同之处为，采用对比例2提供的磨料代替对比例1提供的磨料。
对比例13
本对比例提供了一种抛光液，本对比例与对比例11的不同之处在于，采用对比例3提供的磨料代替对比例1提供的磨料，且磨料为20份。
对比例14
本对比例提供了一种抛光液，本对比例与对比例11的不同之处在于，采用对比例4提供的磨料代替对比例1提供的磨料，且磨料为20份。
对比例15
本对比例提供了一种抛光液，本对比例与对比例11的不同之处在于，采用对比例5提供的磨料代替对比例1提供的磨料。
对比例16
本对比例提供了一种抛光液，本对比例与对比例11的不同之处在于，采用对比例6提供的磨料代替对比例1提供的磨料，且磨料为35份。
对比例17
本对比例提供了一种抛光液，本对比例与对比例11的不同之处在于，采用对比例7提供的磨料代替对比例1提供的磨料。
对比例18
本对比例提供了一种抛光液，本对比例与对比例11的不同之处在于，采用对比例8提供的磨料代替对比例1提供的磨料，且磨料为35份。
对比例19
本对比例提供了一种抛光液，本对比例与对比例11的不同之处在于，采用对比例9提供的磨料代替对比例1提供的磨料，且磨料为47份。
对比例20
本对比例提供了一种抛光液，本对比例与对比例11的不同之处在于，采用对比例10提供的磨料代替对比例1提供的磨料，且磨料为47份。
对比例11-20提供的抛光液的制备方法同实施例25，在此不再赘述。
试验例1
将实施例13-24和对比例11-20提供的抛光液均密闭储存三个月，然后评估上述抛光液的储存稳定性，结果如表1所示。
表1抛光液储存3个月稳定性评价表
从表1中，实施例13-24及对比例15-18可以看出，当磨料中纳米氧化铈粉末为80-200nm，纳米氧化铝粉末的粒径为100-300nm时，所制成的抛光液储存3个月后仍能够均匀稳定分散。
从对比例11-14及对比例19-20可以看出，当纳米氧化铝粉末小于100nm或大于300nm；和/或，纳米氧化铈粉末的粒径小于80nm或大于200nm时，所制成的抛光液的分散稳定性差，储存3个月后，出现明显沉降现象。
试验例2
将实施例13-24和对比例11-20提供的抛光液进行抛光效果测试，抛光条件如下：
抛光机：15B双抛机；被抛光的晶片：玻璃晶片；被抛光晶片片数：35pcs；抛光垫：聚氨酯(开槽)；抛光压力：200kg；抛光转速：35rpm；抛光时间：100s。
抛光后，对抛光的玻璃晶片进行超声波清洗、干燥后，检测其表观状态；用厚度仪测量玻璃晶片的厚度差来计算抛光速率，对所有35pcs被抛光晶片进行测量，求平均值得到抛光速率；用粗糙度测试仪对35pcs被抛光晶片进行测量，求平均值得到晶片表面粗糙度。测试结果如表2所示。
表2抛光液抛光性能数据表
从表2中实施例13-24的测试数据可以看出，实施例13-24提供的抛光液对玻璃晶片进行抛光后，产品的平均表观良率＞90％，平均抛光速率控制在1～2μm/min之间，产品的表面粗糙度由Ra＜0.65nm，不仅完全满足玻璃晶片抛光工艺制程中对于抛光速率和表观质量的要求，而且提高了抛光质量。
从实施例13-24与对比例11-16的对比可以看出，实施例13-24提供的抛光液抛光后的玻璃晶片的平均表观良率显著提高，表面粗糙度显著降低，这说明实施例13-14提供的抛光液通过选用粒径为80-200nm的纳米氧化铈粉末和粒径为100-300nm纳米氧化铝粉末相互协同制成的复合纳米磨料，使得抛光液的抛光效果显著高于单一氧化铝粉末或氧化铈粉末作为磨料的抛光液。
从实施例13-24与对比例17-20的对比可以看出，当抛光液中采用的复合纳米磨料中80-200nm的纳米氧化铈粉末和粒径为100-300nm纳米氧化铝粉末的质量比为(3-6)：(2-5)时，所制成的抛光液的抛光效率显著提高，不仅玻璃晶片的平均表观良率显著提高，而且玻璃晶片表面粗糙度显著降低，能够满足表面指纹识别等特殊要求。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种复合纳米磨料，其特征在于，包括纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末，两者的质量比为(3-6)：(2-5)；其中，纳米氧化铈粉末的粒径为80-200nm，纳米氧化铝粉末的粒径为100-300nm。
2.根据权利要求1所述的复合纳米磨料，其特征在于，所述纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末均为类球状。
3.根据权利要求1所述的复合纳米磨料，其特征在于，所述纳米氧化铝粉末为α-Al2O3，莫氏硬度为8.5-9.5，优选为9。
4.一种抛光液，其特征在于，包括权利要求1-3任一项所述的复合纳米磨料和水；
优选地，所述水为去离子水。
5.根据权利要求4所述的抛光液，其特征在于，还包括助剂，所述助剂包括分散剂、活性剂和填料中的至少一种；
优选地，所述分散剂选自硬脂酸、聚乙烯亚胺和聚氨酯中的至少一种；
优选地，所述活性剂选自1,2-丙二醇、丙三醇、1,3-丁二醇和油酸中的至少一种；
优选地，所述填料选自微晶纤维素、黄原胶、膨润土和硫酸镁铝中的至少一种。
6.根据权利要求5所述的抛光液，其特征在于，包括按质量份数计的如下原料：复合纳米磨料30-55份，分散剂0.1-2份，活性剂0.1-2份，填料0.01-2分，余量为水，上述各原料之和为100份。
7.根据权利要求4-6任一项所述的抛光液的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将复合纳米磨料、任选的分散剂、任选的活性剂和任选的填料，加入水中，混合均匀，即制得抛光液；
优选地，先将分散剂和填料加入水中混合均匀，再加入复合纳米磨料混合均匀，最后加入活性剂混合均匀，过100-200目过滤网，得到抛光液。
8.根据权利要求7所述的抛光液的制备方法，其特征在于，具体包括如下步骤：
(a)将水在500-1000rpm之间进行搅拌，加入分散剂和填料，搅拌至混合均匀；
(b)将复合纳米磨料加入(a)制得的溶液中，搅拌至混合均匀，静置4-6h；
(c)将活性剂加入(b)制得的溶液中，搅拌1-2h；
(d)将(c)制得的溶液用100-200目过滤网，过滤，得到抛光液。
9.一种玻璃晶片，其特征在于，采用权利要求1-3任一项所述的复合纳米磨料或权利要求4-6任一项所述的抛光液抛光制得。
10.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求9所述的玻璃晶片。
CN201811234366.XA 2018-10-23 2018-10-23 复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备 Pending CN109439282A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811234366.XA CN109439282A (zh) 2018-10-23 2018-10-23 复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811234366.XA CN109439282A (zh) 2018-10-23 2018-10-23 复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN109439282A true CN109439282A (zh) 2019-03-08

Family

ID=65548170

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811234366.XA Pending CN109439282A (zh) 2018-10-23 2018-10-23 复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109439282A (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112538315A (zh) * 2019-09-21 2021-03-23 刘文战 玻璃抛光液及其制备方法
CN113372821A (zh) * 2021-06-09 2021-09-10 广东富行洗涤剂科技有限公司 一种提升良率降低用量的玻璃抛光液及其制备方法
CN114213977A (zh) * 2021-12-23 2022-03-22 中天科技精密材料有限公司 抛光剂及其制备方法
CN116855176A (zh) * 2023-06-26 2023-10-10 东莞市海发科技发展有限公司 一种金属表面处理抛光液及其制备方法

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1176283A (zh) * 1996-08-29 1998-03-18 住友化学工业株式会社 磨料组合物及其用途
JP2000345143A (ja) * 1999-06-03 2000-12-12 Showa Denko Kk ガラス研磨用研磨材組成物およびそれを用いた研磨方法
CN1290289A (zh) * 1998-02-18 2001-04-04 圣戈本工业陶瓷股份有限公司 光学抛光制剂
CN101050338A (zh) * 2007-05-11 2007-10-10 江苏海迅实业有限公司 微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法
CN101096571A (zh) * 2006-06-30 2008-01-02 天津晶岭电子材料科技有限公司 一种用于玻璃材料的抛光液及其制备方法
CN101302404A (zh) * 2008-07-01 2008-11-12 上海大学 纳米氧化铈复合磨粒抛光液的制备方法
CN101528882A (zh) * 2006-10-16 2009-09-09 卡伯特微电子公司 玻璃抛光组合物及方法
CN102268236A (zh) * 2011-08-12 2011-12-07 河南工业大学 氧化铝-氧化铈核壳复合磨粒及其制备方法
CN102504705A (zh) * 2011-10-17 2012-06-20 刘玉林 光通讯Zr02陶瓷插芯精密加工用抛光液及其制备方法
CN102516880A (zh) * 2011-12-14 2012-06-27 德米特（苏州）电子环保材料有限公司 一种氧化铈基质的玻璃镜片抛光粉制备方法
CN103320093A (zh) * 2013-06-20 2013-09-25 无锡晨旸科技股份有限公司 一种平板玻璃混合型研磨材料生产的工艺方法
CN103965790A (zh) * 2014-04-25 2014-08-06 泰安麦丰新材料科技有限公司 一种锆铝铈抛光液及其制备方法
CN105538076A (zh) * 2016-02-05 2016-05-04 刘汝河 一种玻璃用抛光膏及玻璃抛光修复方法
CN106479371A (zh) * 2016-08-15 2017-03-08 惠州市米特仑科技有限公司 一种高精度复合抛光液及其制备方法
WO2017038201A1 (ja) * 2015-09-02 2017-03-09 旭硝子株式会社 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板、並びに磁気記録媒体

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1176283A (zh) * 1996-08-29 1998-03-18 住友化学工业株式会社 磨料组合物及其用途
CN1290289A (zh) * 1998-02-18 2001-04-04 圣戈本工业陶瓷股份有限公司 光学抛光制剂
JP2000345143A (ja) * 1999-06-03 2000-12-12 Showa Denko Kk ガラス研磨用研磨材組成物およびそれを用いた研磨方法
CN101096571A (zh) * 2006-06-30 2008-01-02 天津晶岭电子材料科技有限公司 一种用于玻璃材料的抛光液及其制备方法
CN101528882A (zh) * 2006-10-16 2009-09-09 卡伯特微电子公司 玻璃抛光组合物及方法
CN101050338A (zh) * 2007-05-11 2007-10-10 江苏海迅实业有限公司 微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法
CN101302404A (zh) * 2008-07-01 2008-11-12 上海大学 纳米氧化铈复合磨粒抛光液的制备方法
CN102268236A (zh) * 2011-08-12 2011-12-07 河南工业大学 氧化铝-氧化铈核壳复合磨粒及其制备方法
CN102504705A (zh) * 2011-10-17 2012-06-20 刘玉林 光通讯Zr02陶瓷插芯精密加工用抛光液及其制备方法
CN102516880A (zh) * 2011-12-14 2012-06-27 德米特（苏州）电子环保材料有限公司 一种氧化铈基质的玻璃镜片抛光粉制备方法
CN103320093A (zh) * 2013-06-20 2013-09-25 无锡晨旸科技股份有限公司 一种平板玻璃混合型研磨材料生产的工艺方法
CN103965790A (zh) * 2014-04-25 2014-08-06 泰安麦丰新材料科技有限公司 一种锆铝铈抛光液及其制备方法
WO2017038201A1 (ja) * 2015-09-02 2017-03-09 旭硝子株式会社 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板、並びに磁気記録媒体
CN105538076A (zh) * 2016-02-05 2016-05-04 刘汝河 一种玻璃用抛光膏及玻璃抛光修复方法
CN106479371A (zh) * 2016-08-15 2017-03-08 惠州市米特仑科技有限公司 一种高精度复合抛光液及其制备方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112538315A (zh) * 2019-09-21 2021-03-23 刘文战 玻璃抛光液及其制备方法
CN113372821A (zh) * 2021-06-09 2021-09-10 广东富行洗涤剂科技有限公司 一种提升良率降低用量的玻璃抛光液及其制备方法
CN114213977A (zh) * 2021-12-23 2022-03-22 中天科技精密材料有限公司 抛光剂及其制备方法
CN116855176A (zh) * 2023-06-26 2023-10-10 东莞市海发科技发展有限公司 一种金属表面处理抛光液及其制备方法
CN116855176B (zh) * 2023-06-26 2024-03-12 东莞市海发科技发展有限公司 一种金属表面处理抛光液及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109439282A (zh) 复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备
CN103992743B (zh) 含有二氧化铈粉体与胶体二氧化硅混合磨料的抛光液及其制备工艺
CN104736296B (zh) 抛光蓝宝石表面的方法
JP6147941B1 (ja) 建築用コーティング剤組成物
CN1122094C (zh) 抛光组合物
CN101818047B (zh) 氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用
CN109929460A (zh) 一种玻璃抛光用水基氧化铈抛光液及其制备方法
CN104559798B (zh) 一种氧化铝基化学机械抛光液
CN1165589C (zh) 混合抛光膏剂
CN108864948A (zh) 玻璃用抛光粉、抛光液及其制备方法、玻璃和电子产品
CN113683962B (zh) 二氧化硅研磨抛光剂的制备方法
CN102504705A (zh) 光通讯Zr02陶瓷插芯精密加工用抛光液及其制备方法
CN110358453A (zh) 一种玻璃抛光用纳米氧化铈抛光液及其制备方法
CN106829954B (zh) 一种窄粒度分布的纳米级金刚石微粉的制备方法
CN109135580A (zh) 一种玻璃用抛光液及其制备方法
CN108219678A (zh) 一种金刚石研磨液及其制备方法
CN104275651A (zh) 一种金刚石抛光膜制备方法
CN101671538A (zh) 一种氧化硅/氧化铈复合磨粒的制备方法
CN103087575A (zh) 一种水性消光浆及其制备方法和应用
CN101906270A (zh) 一种化学机械抛光液
CN101307211A (zh) 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法
CN108864949A (zh) 一种用于抛光玻璃的稀土抛光液及其制备方法
CN104449400A (zh) 玉米状纳米氧化镧铈/石墨烯复合稀土抛光粉及制备方法
CN104726028A (zh) 一种化学机械抛光液及其使用方法
CN108655965A (zh) 研磨用组合物

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20190308