JP2002504588A - 光学研摩配合物 - Google Patents
光学研摩配合物Info
- Publication number
- JP2002504588A JP2002504588A JP2000532484A JP2000532484A JP2002504588A JP 2002504588 A JP2002504588 A JP 2002504588A JP 2000532484 A JP2000532484 A JP 2000532484A JP 2000532484 A JP2000532484 A JP 2000532484A JP 2002504588 A JP2002504588 A JP 2002504588A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceria
- polishing
- particle size
- alumina
- optical polishing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
- C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
- Y10S977/775—Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
- Y10S977/775—Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
- Y10S977/776—Ceramic powder or flake
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
Description
、ガラスやプラスチックであることができる。 満足できる光学表面を形成するためには、表面には傷がなく、出来るだけ小さ
いRa を有する必要があることがよく知られている。このRa の測定は、研磨さ
れるガラスのシート面に垂直な、表面の最高点と最下点の間の平均距離である。
即ち、表面がサブミクロンのレベルで全体的に平らでないとすると、これは、最
高点と最下点の間の差異の尺度である。言うまでもなく、この値が小さい程、光
学透明性は良く、歪みが少ない。
ガラス研磨は、水系環境中でのみ進行する化学的機械的プロセスである。研磨用
化合物が、ガラス表面と水に反応すると同時に、表面が磨耗されることが必要で
ある。セルアのようないくつかの物質は、極めて反応性があるが、高い磨耗性は
ない。一方、アルミナ等は、極めて磨耗性であるが、高い表面活性は有しない。
この問題は、文献「Lee Clark, entitled “Chemical Processes in Glass Poli
shing" appearing in Joumal of Non-Crystalline Solids 120 (1990), 152-171
」においてかなり取り扱われている。工業的条件においては、とりわけ、品質が
犠牲にされないことが要求される場合及び/又は品質が改良され得る場合、より
長時間ではなくより短時間でプロセスを仕上げることは大きな利益がある。 研磨プロセスにおいては、2つの仕方がある。第1は、水系媒体(通常は脱イ
オン水を主成分とする)中の研磨材粒子のスラリーを、研磨される表面に接触さ
せ、所定のパターンにおいて表面上でパッドを移動させ、スラリー中の研磨材で
表面を研磨させる。第2は、研磨材粒子を、工具の形態の樹脂マトリックスの中
に埋設し、その工具を使用して光学表面を研磨する。本発明は、スラリーを使用
する第1の仕方に関する。
2号は、樹脂中に研磨材粒子を含む表面層をパッドに設けることによってコント
ロールされた量のスラリーをその場所で提供し、その樹脂は使用中にその場所で
次第に溶解し、研磨材粒子を遊離する。有用であるとされる粒子には、酸化セリ
ウム(セリア)、酸化ジルコニウム(ジルコニア)、及び酸化鉄が挙げられる。
イヤモンドダスト、カーボランダム、炭化タングステン、炭化ケイ素、又は窒化
ホウ素から選択された研磨材を含む、光学エレメントの表面を研磨するための研
磨スラリーを記載している。
ァスシリカのより軟質形態のサブミクロン粒子を含む、金属加工物を研磨・平滑
化するための水系スラリーを記載している。
ー配合物の関連分野にあり、これらも、通常、ディスパージョン媒体の成分に変
化を加えて同様な研磨材を使用する。
非常に硬いガラスの場合、研磨は非常に長時間を要することがあり、より硬質の
研磨材を使用する早急な手段が試みられる場合、仕上の問題を起こすことがある
。
る。しかしながら、それらはまた長時間を要している。ここで、2種類の酸化物
「アルミナとセリア」が相乗的に作用する新規な配合物が開発され、これらは相
互に作用し、単一成分の作用の合計よりも良好な結果を与える。この配合物は、
反応性を高めるために場合により使用される高温を必要とすることなく、従来技
術のスラリーにおけるよりもはるかに短時間で、非常に高度な光学的完全性を得
ることを可能にする。また、この配合物は、硬質ガラスであっても、表面に二次
的損傷を殆ど又は全く与えることなく、非常に効果的に研磨する。この配合物は
、「パッド」又は「ピッチ」型の研磨装置に使用することができる。
研磨用の配合物を提供するものであり、研磨材は、アルミナとセリアの粒子を含
み、アルミナ/セリアの比は95/5〜85/15、より好ましくは96/4〜
88/12である。
の粒子の形態であり、平均粒子サイズは0.5μm未満、最も好ましくは0.1
5〜0.25μmである。本願において、用語「平均粒子サイズ」は、ホリバL-
910 粒子サイズ分析器を用いて測定して「D50」値を意味するものと理解すべき
である。このようなアルミナは、例えば、米国特許第4657754号に記載の
方法によって得ることができる。
る。その他の成分として、ネオジミア、サマリア、プラエセオジミア、ランタニ
アを含むことがある。また、その他のより少量の別な希土類元素が存在すること
もある。実際には、「セリア」の純度は、研磨用途の研磨材粒子の性能にそれ程
影響しないことが見出されており、このため、本発明で有用であると見出されて
いる特性は、セリアの名称で市販されている物質に見られる別な希土類金属酸化
物にも多少は保有されているものと思われる。本発明の目的に関し、生産品中の
重量%でセリアが主成分である希土類金属酸化物の混合物は「セリア」と称する
ものとする。「セリア」の商業的供給源の例には、「50D1」と「Superox50 」(
いずれもニューヨーク州のセルコアペンヤン社から入手可能)が挙げられ、これ
らはそれぞれ約75%と34%のセリアを含み、また、「Rhodox76」(フォンポ
ーレンク社より)が挙げられ、これは約50%セリアを含む。 市販品のように、セリアは通常粒子の形態であり、約0.4〜4μmの粒子サ
イズにピークを有する二成分粒子サイズ分布を有し、より大きいサイズは粒子の
まとまりを与える。このことは、粒子全体として4μm未満のD50を与え、通常
は3〜3.5μmである。セリアを粉砕して約0.2μm、より好ましくは約0
.4μmの割合に均一な粒子サイズまでこの分布を小さくしても、ガラスが特に
硬質でかつ高度な目視的完全性が要求されるのでなければ、配合物の性能はそれ
程影響されない。これらの条件において、未粉砕の粒子サイズ分布が、多くはよ
り有効であることが見出されている。
体が少量存在することができる。最も一般には、研磨材粒子が十分に分散された
ままにすることを助長する界面活性剤とともに脱イオン水が使用される。スラリ
ーの固形分は、一般に、重量で5〜15%、又20%に及び、ピッチについては
より少ない又はより希薄な場合である。一般に、より少い固形分のスラリーはよ
り遅く研磨し、高い固形分のスラリーは、スラリーの研磨材が沈降する問題が生
じることがある。したがって、実際の対処は、スラリー中に5〜15重量%の固
形分、より好ましくは8〜12%の固形分である。
有用性と、セリア成分の種々の純度と粒子サイズの効果を例証するためのもので
ある。ここで、これらの例は、本発明の範囲に必須の限定を与えるものではない
。
と比較する。Rodel 社から入手のSuba500 研磨パッドを備えた両面のAC500 ピー
ターウォルターズ機を用いて研磨テストを行った。研磨したガラスサンプルは、
溶融石英(Corning 社)からなり、明確に硬いガラスであると考えられる(ヌー
プ硬度560〜640)。
研磨した。第1は100%アルミナ、第2は100%セリア、第3は、同じアル
ミナとセリアの成分の90/10混合物とした。アルミナはサンゴバンインダス
トリアルセラミックス社より入手し、直径約0.15〜0.25μmの凝集体の
形態の約20〜50nm(ナノメートル)のサイズを有するα−アルミナ粒子から
なった。基本的に1μmを上回る凝集体は存在しなかった。セリア成分はRhodox
76であり、約0.4μmのD50の粒子サイズまで粉砕された、セリアを約50%
含む希土類金属酸化物製品であった。脱イオン水中のスラリーを作成し、これに
0.07重量%の界面活性剤(R.Y.Vanderbilt社より商標Darvan811 として入手
可能なポリアクリル酸ナトリウム)を添加した。
成した。これは、図1の図面に見られる。図2は、拡大した「仕上」軸について
の同じデータを示し、得られた改良をより明確に示す。
初期仕上を有したが(即ち、研磨前により平滑であった)、同等に十分には研磨
していない。図2から分るように、アルミナ単独は200Å(オングストローム
)の表面仕上(Ra )には決して達しなかった。他方で、この表面仕上のレベル
は、約19分後にセリアによって達成され、本発明の混合物は10分間未満でこ
のレベルに達した。別な角度から見ると、約10分間後ではセリアのスラリーが
研磨した材料は約900Åの表面仕上を有し、アルミナのスラリーが研磨した材
料は600Åを下回る仕上を有し、本発明によるスラリーは200Å未満の仕上
を生成した。
て検討する。 本発明による配合物は、基本的に例1で使用したものであり、セリアはRhone
Poulenc 社から入手したRhodox76である。ここで、Rhodox76は、4つの別な研磨
評価において、4つの異なる粒子サイズを使用した(ホリバLA910 粒子サイズ分
析器を用いて測定したD50値により評価)。用いた粒子サイズは3.17μm、
2.14μm、0.992μm、及び0.435μmであった。図3に示したグ
ラフはこれらの結果をまとめて示す。このグラフより、上記のガラスにおいては
、セリアの粒子サイズの効果を追跡できる研磨性能に、殆ど相異がない。同様な
結果が、セリア源としてSuperox50 と50D-1 を用いて得られた。
を及ぼすか否かについて検討した。約10%のセリア成分と、例1の配合物で使
用した対応する約90%のアルミナ成分を含む本発明の配合物を作成した。これ
らの配合物を、例1に記載したのと同じ装置と方法を用い、溶融シリカガラスの
研磨についてテストした。この結果を図4に示す。最初のサンプルSは、約34
%のセリアを含むSuperox50 である。第2のRは、約50%のセリアを含むRhod
ox76である。第3のDは、約75%のセリアを含む50D1である。見られるように
、3つの間で研磨性能に殆ど差異がない。このため、本発明による配合物におい
て、別な希土類金属酸化物がセリアと同様な仕方で好適に挙動するものと思われ
る。
とセリア粒子サイズの効果を検討する。上記の例は実験室条件下で評価し、Ra 値について測定した表面仕上に関してのみテストしたが、下記の評価は、目視上
の完全性について終点を評価する熟練オペレーターによって、製造設備において
行った。これは、研磨操作の後に残る表面欠陥から生じる「灰色」を必ずしも特
定しない単なるRa 値を超えるものがある。 Rodel 社から入手した「Suba10」研磨パッドを備えた4800P.R.ホフマン両
面ポリシャを使用した。研磨の際、約1.5psi (1.034×104Pa )の圧
力を加工物に適用した。研磨の終点は、所望の所定レベルの表面完全性(透明性
)に達する時とした。
したアルミナと界面活性剤の成分を同じ量で含み、また、脱イオン水の中に同じ
相対比でセリア成分を分散した。成分間の相異は、セリアの粒子サイズである。
第1において(配合物A)、セリア成分は0.4μmのD50まで粉砕した。第2
と第3において(配合物BとB′)、セリア(Superox50 )をメーカーから供給
されたそのままで使用した。この2つの唯一の差異は、研磨されるガラスサンプ
ルであった。第2において(B′)、研磨されるサンプルのサイズは比較的小さ
く、したがって、同じ機械で研磨する際にそれらに及ぼされる圧力は比較的高か
った。このことは、終点の到達をより迅速にした。第4において(配合物C)、
やはりセリア(Rhodox76)を、メーカーから供給されたそのままで使用した。前
述のように、受け入れたままの材料は双峰分布を有し、粒子のかなりの割合は、
ホリバ910粒子サイズ分析器で約4μmの粒子ピークを有した。結果は、下記
の表1に示す。
、この灰色を除去して波長の1/10未満の平滑性を形成するにはさらに30分
間を要した。配合物BとB′は、加工物の全体を非常に攻撃的にかつ一定して均
質に研磨した。また、配合物Cは、極めて首尾よくかつ迅速に研磨した。B250ガ
ラス製品は、優れた表面平滑性を有した。その他の研磨材料は、これらの配合物
のように加工物の表面全体で一定した均質ではなく、むらのある研磨であること
があった。
研磨は、大きな利益を与えると考えられる。これに対して、粉砕セリア成分を有
する配合物は迅速に研磨して迅速に平滑にするが、目視上の完全性を得るには時
間がかかる。
Claims (4)
- 【請求項1】 5〜20重量%の固形分を含む水系スラリーからなる光学研
磨配合物であって、固形分の85〜95重量%は0.5μm未満の平均粒子サイ
ズを有するα−アルミナによって提供され、固形分の残りの20〜5重量%は、
0.2〜4μmの平均粒子サイズを有する粉末状のセリアによって提供される光
学研磨配合物。 - 【請求項2】 スラリーの固形分が8〜12重量%である請求項1に記載の
光学研磨配合物。 - 【請求項3】 アルミナ成分が0.15〜0.25μmの平均粒子サイズを
有する請求項1に記載の光学研磨配合物。 - 【請求項4】 セリア成分が2つの成分を示す粒子サイズ分布と3〜4μm
の平均粒子サイズを有する請求項1に記載の光学研磨配合物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/025,730 | 1998-02-18 | ||
US09/025,730 US5989301A (en) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | Optical polishing formulation |
PCT/US1999/003143 WO1999042537A1 (en) | 1998-02-18 | 1999-02-16 | Optical polishing formulation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002504588A true JP2002504588A (ja) | 2002-02-12 |
JP3605036B2 JP3605036B2 (ja) | 2004-12-22 |
Family
ID=21827759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000532484A Expired - Lifetime JP3605036B2 (ja) | 1998-02-18 | 1999-02-16 | 光学研摩配合物 |
Country Status (28)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5989301A (ja) |
EP (1) | EP1060221B1 (ja) |
JP (1) | JP3605036B2 (ja) |
KR (1) | KR100354202B1 (ja) |
CN (1) | CN1187426C (ja) |
AR (1) | AR014959A1 (ja) |
AT (1) | ATE245180T1 (ja) |
AU (1) | AU729245B2 (ja) |
BR (1) | BR9908020B1 (ja) |
CA (1) | CA2319107C (ja) |
CO (1) | CO5060536A1 (ja) |
CZ (1) | CZ294042B6 (ja) |
DE (1) | DE69909597T2 (ja) |
DK (1) | DK1060221T3 (ja) |
ES (1) | ES2204107T3 (ja) |
FI (1) | FI118180B (ja) |
HU (1) | HUP0101154A3 (ja) |
IL (1) | IL137804A0 (ja) |
MY (1) | MY123257A (ja) |
NO (1) | NO319039B1 (ja) |
NZ (1) | NZ505901A (ja) |
PL (1) | PL186840B1 (ja) |
PT (1) | PT1060221E (ja) |
RU (1) | RU2181132C1 (ja) |
SK (1) | SK285219B6 (ja) |
TW (1) | TWI239995B (ja) |
WO (1) | WO1999042537A1 (ja) |
ZA (1) | ZA991150B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010513048A (ja) * | 2006-12-19 | 2010-04-30 | サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド | サブミクロンのアルファアルミナ高温結合研磨材 |
Families Citing this family (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6839362B2 (en) * | 2001-05-22 | 2005-01-04 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Cobalt-doped saturable absorber Q-switches and laser systems |
US20030092271A1 (en) * | 2001-09-13 | 2003-05-15 | Nyacol Nano Technologies, Inc. | Shallow trench isolation polishing using mixed abrasive slurries |
US6896591B2 (en) * | 2003-02-11 | 2005-05-24 | Cabot Microelectronics Corporation | Mixed-abrasive polishing composition and method for using the same |
US7326477B2 (en) * | 2003-09-23 | 2008-02-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel boules, wafers, and methods for fabricating same |
US20050061230A1 (en) * | 2003-09-23 | 2005-03-24 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel articles and methods for forming same |
US7045223B2 (en) * | 2003-09-23 | 2006-05-16 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel articles and methods for forming same |
US7919815B1 (en) | 2005-02-24 | 2011-04-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel wafers and methods of preparation |
US7294044B2 (en) * | 2005-04-08 | 2007-11-13 | Ferro Corporation | Slurry composition and method for polishing organic polymer-based ophthalmic substrates |
KR20110019427A (ko) | 2008-06-23 | 2011-02-25 | 생-고뱅 어브레이시브즈, 인코포레이티드 | 고공극율 유리질 초연마 제품들 및 그 제조 방법 |
JP5571695B2 (ja) * | 2009-01-30 | 2014-08-13 | レンズセーバーズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | プラスチックカバーおよびレンズの修復組成物および方法 |
WO2011056671A2 (en) | 2009-10-27 | 2011-05-12 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Resin bonded abrasive |
MX2012004912A (es) | 2009-10-27 | 2012-08-15 | Saint Gobain Abrasifs Sa | Abrasivo aglomerado vitreo. |
EP2614122A4 (en) * | 2010-09-08 | 2014-01-15 | Basf Se | AQUEOUS CLEANSING COMPOSITIONS WITH N-SUBSTITUTED DIAZENIUM DIOXIDE AND / OR N'-HYDROXY DIAZENIUM OXIDE SALTS |
CN103370174B (zh) | 2010-12-31 | 2017-03-29 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 具有特定形状的研磨颗粒和此类颗粒的形成方法 |
TWI605112B (zh) * | 2011-02-21 | 2017-11-11 | Fujimi Inc | 研磨用組成物 |
CN103764349B (zh) | 2011-06-30 | 2017-06-09 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 液相烧结碳化硅研磨颗粒 |
WO2013003830A2 (en) | 2011-06-30 | 2013-01-03 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive articles including abrasive particles of silicon nitride |
BR112014007089A2 (pt) | 2011-09-26 | 2017-03-28 | Saint-Gobain Ceram & Plastics Inc | artigos abrasivos incluindo materiais de partículas abrasivas, abrasivos revestidos usando os materiais de partículas abrasivas e os métodos de formação |
US9168638B2 (en) | 2011-09-29 | 2015-10-27 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing hard surfaces |
CN104114664B (zh) | 2011-12-30 | 2016-06-15 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 形成成型研磨颗粒 |
KR102187425B1 (ko) | 2011-12-30 | 2020-12-09 | 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 | 형상화 연마입자 및 이의 형성방법 |
PL2797716T3 (pl) | 2011-12-30 | 2021-07-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Kompozytowe ukształtowane cząstki ścierne i sposób ich formowania |
US9266220B2 (en) | 2011-12-30 | 2016-02-23 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive articles and method of forming same |
US8840696B2 (en) | 2012-01-10 | 2014-09-23 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles |
EP3705177A1 (en) | 2012-01-10 | 2020-09-09 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics Inc. | Abrasive particles having complex shapes and methods of forming same |
WO2013106575A1 (en) | 2012-01-10 | 2013-07-18 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing coated surfaces |
CA2867350C (en) | 2012-03-16 | 2017-05-23 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing surfaces |
US8968435B2 (en) | 2012-03-30 | 2015-03-03 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for fine polishing of ophthalmic lenses |
US9242346B2 (en) | 2012-03-30 | 2016-01-26 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products having fibrillated fibers |
KR102534897B1 (ko) | 2012-05-23 | 2023-05-30 | 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 | 형상화 연마입자들 및 이의 형성방법 |
US10106714B2 (en) | 2012-06-29 | 2018-10-23 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles |
US9440332B2 (en) | 2012-10-15 | 2016-09-13 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles |
KR101818946B1 (ko) | 2012-12-31 | 2018-01-17 | 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 | 미립자 소재 및 이의 형성방법 |
CN107685296B (zh) | 2013-03-29 | 2020-03-06 | 圣戈班磨料磨具有限公司 | 具有特定形状的磨粒、形成这种粒子的方法及其用途 |
TW201502263A (zh) | 2013-06-28 | 2015-01-16 | Saint Gobain Ceramics | 包含成形研磨粒子之研磨物品 |
CA3114978A1 (en) | 2013-09-30 | 2015-04-02 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particles and methods of forming same |
KR101870617B1 (ko) | 2013-12-31 | 2018-06-26 | 생-고뱅 어브레이시브즈, 인코포레이티드 | 형상화 연마 입자들을 포함하는 연마 물품 |
US9771507B2 (en) | 2014-01-31 | 2017-09-26 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particle including dopant material and method of forming same |
ES2972193T3 (es) | 2014-04-14 | 2024-06-11 | Saint Gobain Ceramics | Artículo abrasivo que incluye partículas abrasivas conformadas |
MX2016013464A (es) | 2014-04-14 | 2017-04-13 | Saint-Gobain Ceram & Plastics Inc | Articulo abrasivo que incluye particulas abrasivas conformadas. |
WO2015184355A1 (en) | 2014-05-30 | 2015-12-03 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Method of using an abrasive article including shaped abrasive particles |
US9914864B2 (en) | 2014-12-23 | 2018-03-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particles and method of forming same |
US9707529B2 (en) | 2014-12-23 | 2017-07-18 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Composite shaped abrasive particles and method of forming same |
US9676981B2 (en) | 2014-12-24 | 2017-06-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particle fractions and method of forming same |
WO2016161157A1 (en) | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Fixed abrasive articles and methods of forming same |
TWI634200B (zh) | 2015-03-31 | 2018-09-01 | 聖高拜磨料有限公司 | 固定磨料物品及其形成方法 |
EP3307483B1 (en) | 2015-06-11 | 2020-06-17 | Saint-Gobain Ceramics&Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
PL3455321T3 (pl) | 2016-05-10 | 2022-12-12 | Saint-Gobain Ceramics&Plastics, Inc. | Sposób formowania cząstek ściernych |
CN109462993A (zh) | 2016-05-10 | 2019-03-12 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 磨料颗粒及其形成方法 |
EP4349896A3 (en) | 2016-09-29 | 2024-06-12 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Fixed abrasive articles and methods of forming same |
US10563105B2 (en) | 2017-01-31 | 2020-02-18 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
US10759024B2 (en) | 2017-01-31 | 2020-09-01 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
WO2018236989A1 (en) | 2017-06-21 | 2018-12-27 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | PARTICULATE MATERIALS AND METHODS OF FORMATION THEREOF |
US11865663B2 (en) * | 2018-05-10 | 2024-01-09 | George Shuai | Optical surface polishing |
CN109439282A (zh) * | 2018-10-23 | 2019-03-08 | 蓝思科技(长沙)有限公司 | 复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备 |
CN109135580B (zh) * | 2018-10-25 | 2021-04-02 | 蓝思科技(长沙)有限公司 | 一种玻璃用抛光液及其制备方法 |
CN110724460A (zh) * | 2019-11-13 | 2020-01-24 | 刘通 | 一种铈铝复合氧化物抛光粉的制备方法 |
KR20220116556A (ko) | 2019-12-27 | 2022-08-23 | 세인트-고바인 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인크. | 연마 물품 및 이의 형성 방법 |
CN113881348A (zh) * | 2021-11-04 | 2022-01-04 | 青岛福禄泰科表面材料科技有限公司 | 一种复合氧化铝抛光液及其制备方法和应用 |
CN114213977A (zh) * | 2021-12-23 | 2022-03-22 | 中天科技精密材料有限公司 | 抛光剂及其制备方法 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3429080A (en) * | 1966-05-02 | 1969-02-25 | Tizon Chem Corp | Composition for polishing crystalline silicon and germanium and process |
GB1501570A (en) * | 1975-11-11 | 1978-02-15 | Showa Denko Kk | Abrader for mirror polishing of glass and method for mirror polishing |
US4161394A (en) * | 1978-06-19 | 1979-07-17 | Regan Glen B | Polishing slurry of xanthan gum and a dispersing agent |
FR2549846B1 (fr) * | 1983-07-29 | 1986-12-26 | Rhone Poulenc Spec Chim | Nouvelle composition de polissage a base de cerium et son procede de fabrication |
US4576612A (en) * | 1984-06-01 | 1986-03-18 | Ferro Corporation | Fixed ophthalmic lens polishing pad |
US5312789A (en) * | 1987-05-27 | 1994-05-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive grits formed of ceramic, impregnation method of making the same and products made therewith |
ATE137792T1 (de) * | 1992-09-25 | 1996-05-15 | Minnesota Mining & Mfg | Verfahren zur herstellung von aluminiumoxid und ceroxid enthaltendem schleifkorn |
CA2111010A1 (en) * | 1993-01-29 | 1994-07-30 | Robert James Hagerty | Method of finely polishing planar optical elements |
US5549962A (en) * | 1993-06-30 | 1996-08-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Precisely shaped particles and method of making the same |
US5465314A (en) * | 1993-09-09 | 1995-11-07 | The Furukawa Electronic Co., Ltd. | Method of manufacturing optical connector |
US5632668A (en) * | 1993-10-29 | 1997-05-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for the polishing and finishing of optical lenses |
KR960041316A (ko) * | 1995-05-22 | 1996-12-19 | 고사이 아키오 | 연마용 입상체, 이의 제조방법 및 이의 용도 |
US5693239A (en) * | 1995-10-10 | 1997-12-02 | Rodel, Inc. | Polishing slurries comprising two abrasive components and methods for their use |
US5702811A (en) * | 1995-10-20 | 1997-12-30 | Ho; Kwok-Lun | High performance abrasive articles containing abrasive grains and nonabrasive composite grains |
WO1997042007A1 (en) * | 1996-05-08 | 1997-11-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article comprising an antiloading component |
US5858813A (en) * | 1996-05-10 | 1999-01-12 | Cabot Corporation | Chemical mechanical polishing slurry for metal layers and films |
KR19980019046A (ko) * | 1996-08-29 | 1998-06-05 | 고사이 아키오 | 연마용 조성물 및 이의 용도(Abrasive composition and use of the same) |
JP3856513B2 (ja) * | 1996-12-26 | 2006-12-13 | 昭和電工株式会社 | ガラス研磨用研磨材組成物 |
US5876268A (en) | 1997-01-03 | 1999-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method and article for the production of optical quality surfaces on glass |
US5833724A (en) * | 1997-01-07 | 1998-11-10 | Norton Company | Structured abrasives with adhered functional powders |
US5851247A (en) * | 1997-02-24 | 1998-12-22 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Structured abrasive article adapted to abrade a mild steel workpiece |
US5910471A (en) | 1997-03-07 | 1999-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article for providing a clear surface finish on glass |
US5876470A (en) * | 1997-08-01 | 1999-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive articles comprising a blend of abrasive particles |
-
1998
- 1998-02-18 US US09/025,730 patent/US5989301A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-02-12 MY MYPI99000512A patent/MY123257A/en unknown
- 1999-02-12 ZA ZA9901150A patent/ZA991150B/xx unknown
- 1999-02-15 CO CO99008983A patent/CO5060536A1/es unknown
- 1999-02-16 SK SK1145-2000A patent/SK285219B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 AR ARP990100633A patent/AR014959A1/es unknown
- 1999-02-16 DK DK99907002T patent/DK1060221T3/da active
- 1999-02-16 ES ES99907002T patent/ES2204107T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 PT PT99907002T patent/PT1060221E/pt unknown
- 1999-02-16 AT AT99907002T patent/ATE245180T1/de active
- 1999-02-16 EP EP19990907002 patent/EP1060221B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 AU AU26777/99A patent/AU729245B2/en not_active Ceased
- 1999-02-16 DE DE69909597T patent/DE69909597T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 NZ NZ505901A patent/NZ505901A/en unknown
- 1999-02-16 IL IL13780499A patent/IL137804A0/xx not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 WO PCT/US1999/003143 patent/WO1999042537A1/en active IP Right Grant
- 1999-02-16 KR KR1020007009035A patent/KR100354202B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 JP JP2000532484A patent/JP3605036B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 CN CNB998028681A patent/CN1187426C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-16 HU HU0101154A patent/HUP0101154A3/hu unknown
- 1999-02-16 BR BRPI9908020-6A patent/BR9908020B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 CA CA002319107A patent/CA2319107C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-16 RU RU2000122964/04A patent/RU2181132C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 CZ CZ20002969A patent/CZ294042B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 PL PL99342392A patent/PL186840B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1999-03-02 TW TW088102220A patent/TWI239995B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-07-26 US US09/361,438 patent/US6258136B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-08-15 FI FI20001800A patent/FI118180B/fi not_active IP Right Cessation
- 2000-08-17 NO NO20004122A patent/NO319039B1/no not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010513048A (ja) * | 2006-12-19 | 2010-04-30 | サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド | サブミクロンのアルファアルミナ高温結合研磨材 |
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3605036B2 (ja) | 光学研摩配合物 | |
KR100429940B1 (ko) | 개선된 세리아 분말 | |
US5149338A (en) | Superpolishing agent, process for polishing hard ceramic materials, and polished hard ceramics | |
EP2140974B1 (en) | Synthetic grindstone | |
CN103240665A (zh) | 合成石英玻璃衬底的制造 | |
TW200411754A (en) | A method of polishing a wafer of material | |
EP1072666A2 (en) | Colloidal polishing of fused silica | |
US6159077A (en) | Colloidal silica polishing abrasive | |
MXPA00008063A (en) | Optical polishing formulation | |
JPH11188610A (ja) | 高硬度無機質固体材料の鏡面研磨方法 | |
Singh et al. | Novel reactive chemical mechanical polishing technology for fabrication of SiC mirrors | |
Li et al. | Effect of FAP characteristics on fixed abrasive polishing of CaF2 crystal | |
Pan et al. | Innovative CMP Solution for Advanced STI Process | |
JP2000038572A (ja) | ガラス、石英用研磨組成物及びその製造方法 | |
Watt et al. | Total process solution for the grinding and polishing of precision optics | |
JPH0770554A (ja) | 光ファイバコネクタの端面研磨剤 | |
TW202417586A (zh) | 材料拋光之方法及材料 | |
CN114774003A (zh) | NiP改性层化学机械抛光液及其制备方法和应用 | |
JPH11267962A (ja) | 研磨方法及び研磨装置 | |
JPH11181408A (ja) | 研磨液及び研磨方法 | |
JPH026880A (ja) | 塗装面の補修方法 | |
JPH10230445A (ja) | 低損失研磨法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20031215 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20040128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040316 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040831 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040930 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081008 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091008 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091008 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101008 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111008 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121008 Year of fee payment: 8 |