JPH0770554A - 光ファイバコネクタの端面研磨剤 - Google Patents
光ファイバコネクタの端面研磨剤Info
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- JPH0770554A JPH0770554A JP24211193A JP24211193A JPH0770554A JP H0770554 A JPH0770554 A JP H0770554A JP 24211193 A JP24211193 A JP 24211193A JP 24211193 A JP24211193 A JP 24211193A JP H0770554 A JPH0770554 A JP H0770554A
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- abrasive
- optical fiber
- polishing
- fiber connector
- silicic acid
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/36—Mechanical coupling means
- G02B6/38—Mechanical coupling means having fibre to fibre mating means
- G02B6/3807—Dismountable connectors, i.e. comprising plugs
- G02B6/3833—Details of mounting fibres in ferrules; Assembly methods; Manufacture
- G02B6/3863—Details of mounting fibres in ferrules; Assembly methods; Manufacture fabricated by using polishing techniques
Landscapes
- Mechanical Coupling Of Light Guides (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 純水と珪酸（ＳｉＯ2 ）１〜１０重量％およ
びアルコール１〜５０重量％を組成とする光ファイバコ
ネクタの端面研磨剤を構成した。 【効果】 純水に対する珪酸の研磨微粒子の親和性が向
上し研磨液中で均一分散され該微粒子同士が凝集せず塊
にならないので、研磨後の光学特性、光ファイバコネク
タの反射減衰量の低下の原因となるマクロな傷や加工歪
のない高品位の研磨面が得られると同時に長期間安定性
のあるものが得られる。
びアルコール１〜５０重量％を組成とする光ファイバコ
ネクタの端面研磨剤を構成した。 【効果】 純水に対する珪酸の研磨微粒子の親和性が向
上し研磨液中で均一分散され該微粒子同士が凝集せず塊
にならないので、研磨後の光学特性、光ファイバコネク
タの反射減衰量の低下の原因となるマクロな傷や加工歪
のない高品位の研磨面が得られると同時に長期間安定性
のあるものが得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバコネクタの
端面において、ファイバ面を超精密に研磨して、光コネ
クタの光学特性の低反射減衰量を長期間持続し安定化さ
せる光ファイバコネクタの端面研磨剤に関するものであ
る。
端面において、ファイバ面を超精密に研磨して、光コネ
クタの光学特性の低反射減衰量を長期間持続し安定化さ
せる光ファイバコネクタの端面研磨剤に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、ジルコニアセラミックスのフェル
ールと石英ファイバで構成される光ファイバコネクタの
端面の仕上げ研磨する研磨剤には、純水に珪酸微粒子の
研磨剤を懸濁したアルコールを含有しない一般用研磨懸
濁液が用いられている。
ールと石英ファイバで構成される光ファイバコネクタの
端面の仕上げ研磨する研磨剤には、純水に珪酸微粒子の
研磨剤を懸濁したアルコールを含有しない一般用研磨懸
濁液が用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
研磨剤を使用した場合は、珪酸の微粒子の分散が悪く研
磨液中に該微粒子が凝集するという問題点があった。こ
のため、微粒子の均一な分散性が低下することによっ
て、研磨液の使用期間が短く、また凝集した研磨剤が光
ファイバコネクタの加工面に作用すると、局部的にスク
ラッチや大きな歪を残すなどを招く結果になっていた。
これによって、研磨剤の再作製が必要となり、しかもそ
の手間がかかるため作業効率が低下する。一方、光ファ
イバコネクタの加工面に、傷または加工による変質層を
生ずると、光ファイバ面の極表層部の屈折率が増大し、
屈折率の異なる境界層で光が反射し戻り光となって、光
信号のノイズとなったりして、半導体等の光源に悪影響
を及ぼす等の問題点があった。
研磨剤を使用した場合は、珪酸の微粒子の分散が悪く研
磨液中に該微粒子が凝集するという問題点があった。こ
のため、微粒子の均一な分散性が低下することによっ
て、研磨液の使用期間が短く、また凝集した研磨剤が光
ファイバコネクタの加工面に作用すると、局部的にスク
ラッチや大きな歪を残すなどを招く結果になっていた。
これによって、研磨剤の再作製が必要となり、しかもそ
の手間がかかるため作業効率が低下する。一方、光ファ
イバコネクタの加工面に、傷または加工による変質層を
生ずると、光ファイバ面の極表層部の屈折率が増大し、
屈折率の異なる境界層で光が反射し戻り光となって、光
信号のノイズとなったりして、半導体等の光源に悪影響
を及ぼす等の問題点があった。
【０００４】本発明は、前述の問題点に鑑みなされたも
のであり、前述したような研磨剤を使用すると光ファイ
バコネクタの表面への局部的な傷、加工歪等の発生と有
効使用期間が短いという問題点を同時に解決した光ファ
イバコネクタの端面研磨剤を提供しようとするものであ
る。
のであり、前述したような研磨剤を使用すると光ファイ
バコネクタの表面への局部的な傷、加工歪等の発生と有
効使用期間が短いという問題点を同時に解決した光ファ
イバコネクタの端面研磨剤を提供しようとするものであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、請求項１において、純水と珪酸の研磨剤および研磨
分散促進剤からなる光ファイバコネクタの端面を研磨す
る研磨剤であって、前記研磨分散促進剤は前記端面の研
磨を促進するアルコールである光ファイバコネクタの端
面研磨剤である。また、請求項２において本発明の研磨
剤は、前記珪酸の研磨剤が１〜１０％重量比、研磨分散
促進剤であるアルコールが１〜５０重量％の組成である
ので、この研磨剤を使用し光ファイバコネクタの端面を
研磨することによって、該端面の表面の粗さを少くし、
加工歪を発生させず、しかも研磨剤中の珪酸の微粒子の
分散性が向上し長期間にわたって安定的に維持できる研
磨剤として低反射減衰量の光ファイバコネクタを安定的
に得ることができるようにした。
め、請求項１において、純水と珪酸の研磨剤および研磨
分散促進剤からなる光ファイバコネクタの端面を研磨す
る研磨剤であって、前記研磨分散促進剤は前記端面の研
磨を促進するアルコールである光ファイバコネクタの端
面研磨剤である。また、請求項２において本発明の研磨
剤は、前記珪酸の研磨剤が１〜１０％重量比、研磨分散
促進剤であるアルコールが１〜５０重量％の組成である
ので、この研磨剤を使用し光ファイバコネクタの端面を
研磨することによって、該端面の表面の粗さを少くし、
加工歪を発生させず、しかも研磨剤中の珪酸の微粒子の
分散性が向上し長期間にわたって安定的に維持できる研
磨剤として低反射減衰量の光ファイバコネクタを安定的
に得ることができるようにした。
【０００６】
【作用】珪酸の研磨液中に添加された研磨分散促進剤と
してのアルコールの濃度を１〜５０重量％としているの
で、純水に対する珪酸研磨微粒子は一層親和性を向上
し、研磨微粒子間同士で凝集せず、分散性が向上し長期
間にわたってこのような状態を安定的に維持できる。こ
の結果、光ファイバコネクタの端面を研磨傷の少ない高
品位なものに研磨することができる。
してのアルコールの濃度を１〜５０重量％としているの
で、純水に対する珪酸研磨微粒子は一層親和性を向上
し、研磨微粒子間同士で凝集せず、分散性が向上し長期
間にわたってこのような状態を安定的に維持できる。こ
の結果、光ファイバコネクタの端面を研磨傷の少ない高
品位なものに研磨することができる。
【０００７】本発明に使用される研磨分散促進剤として
のアルコールは、基本的に限定されるものではなく、例
えば、メタノール、エタノールなどを挙げることができ
る。このうち、光ファイバコネクタの端面研磨にはエタ
ノールが最適である。
のアルコールは、基本的に限定されるものではなく、例
えば、メタノール、エタノールなどを挙げることができ
る。このうち、光ファイバコネクタの端面研磨にはエタ
ノールが最適である。
【０００８】このようなアルコールを研磨剤に１〜５０
重量％添加するのであるが、１重量％未満の場合では、
珪酸微粒子の分散が不安定となるため、該粒子同士が凝
集し、塊として大きくなり、光ファイバコネクタ端面に
研磨傷や加工歪を残す結果、高品位な研磨が得られな
い。一方５０重量％以上の場合には、樹脂製の研磨シー
ト等を用いた研磨工具の場合には、その表面を溶解する
結果、微粒子の保持性を無くし、光ファイバコネクタ端
面の研磨に必要な加工能力をいちじるしく低下させる。
重量％添加するのであるが、１重量％未満の場合では、
珪酸微粒子の分散が不安定となるため、該粒子同士が凝
集し、塊として大きくなり、光ファイバコネクタ端面に
研磨傷や加工歪を残す結果、高品位な研磨が得られな
い。一方５０重量％以上の場合には、樹脂製の研磨シー
ト等を用いた研磨工具の場合には、その表面を溶解する
結果、微粒子の保持性を無くし、光ファイバコネクタ端
面の研磨に必要な加工能力をいちじるしく低下させる。
【０００９】また、研磨剤としての珪酸は１〜１０重量
％添加するのであるが、１重量％未満の場合では光ファ
イバコネクタ端面の研磨に必要な作用微粒子が不足し、
研磨が困難となる。一方１０重量％以上の場合には、純
水中での溶解がなく凝集する結果、分散性の良好な研磨
液が得られないことになる。
％添加するのであるが、１重量％未満の場合では光ファ
イバコネクタ端面の研磨に必要な作用微粒子が不足し、
研磨が困難となる。一方１０重量％以上の場合には、純
水中での溶解がなく凝集する結果、分散性の良好な研磨
液が得られないことになる。
【００１０】
【実施例】本発明を実施例によって図面と共に詳細説明
する。図１は、本発明による光ファイバコネクタの端面
研磨剤を使用する研磨装置の概要説明図である。シート
状のセルローズ系樹脂のフィルム１がリング状金具２と
薄板の押え金具３とで挟持されている。回転定盤４の外
周部に形成されたネジ部４ａによりリング状金具２を緊
定し固定することによって、回転定盤４の上面に形成さ
れたリング状突起４ｂによりフィルム１は一定の張力で
引張られる。回転装置（図示せず）にはチャック５が設
けられており、チャック５には光ファイバコネクタが保
持されている。すなわち、光ファイバコネクタ６はジル
コニアセラミックスのフェルール７と、フェルール７の
中心に固定された光ファイバ８とで構成され、光ファイ
バコネクタの先端は前記フィルム１に一定量押しこまれ
て、押圧された状態になっている。図中９は、光ファイ
バコネクタ６の先端とフィルム１の当接部に研磨剤を供
給する研磨剤供給ノズルである。このような研磨装置を
使用して前記光ファイバコネクタ６の端面研磨を行っ
た。
する。図１は、本発明による光ファイバコネクタの端面
研磨剤を使用する研磨装置の概要説明図である。シート
状のセルローズ系樹脂のフィルム１がリング状金具２と
薄板の押え金具３とで挟持されている。回転定盤４の外
周部に形成されたネジ部４ａによりリング状金具２を緊
定し固定することによって、回転定盤４の上面に形成さ
れたリング状突起４ｂによりフィルム１は一定の張力で
引張られる。回転装置（図示せず）にはチャック５が設
けられており、チャック５には光ファイバコネクタが保
持されている。すなわち、光ファイバコネクタ６はジル
コニアセラミックスのフェルール７と、フェルール７の
中心に固定された光ファイバ８とで構成され、光ファイ
バコネクタの先端は前記フィルム１に一定量押しこまれ
て、押圧された状態になっている。図中９は、光ファイ
バコネクタ６の先端とフィルム１の当接部に研磨剤を供
給する研磨剤供給ノズルである。このような研磨装置を
使用して前記光ファイバコネクタ６の端面研磨を行っ
た。
【００１１】研磨剤１０として、純水に粒径０．０１μ
ｍの珪酸微粒子を１重量％、エチルアルコールを２０重
量％添加した研磨剤を使用し、前記研磨装置で光ファイ
バコネクタの端面の研磨を行った。なお回転定盤４の周
速は５００ｍ／ｍｉｎ以下で、光ファイバ先端の荷重は
５００ｇ以内とした。まず、光ファイバコネクタ６の先
端をフィルム１に一定量押し込み、フィルム１のフィル
ム面に研磨剤供給ノズル９より研磨剤を滴下させる。回
転定盤４を回転させると共にチャック５を回転させ、さ
らに回転定盤４を径方向に揺動させ、フィルム１に対し
光ファイバコネクタ６の先端面を相対的に揺動させて、
光コネクタ６の先端を端面研磨した。
ｍの珪酸微粒子を１重量％、エチルアルコールを２０重
量％添加した研磨剤を使用し、前記研磨装置で光ファイ
バコネクタの端面の研磨を行った。なお回転定盤４の周
速は５００ｍ／ｍｉｎ以下で、光ファイバ先端の荷重は
５００ｇ以内とした。まず、光ファイバコネクタ６の先
端をフィルム１に一定量押し込み、フィルム１のフィル
ム面に研磨剤供給ノズル９より研磨剤を滴下させる。回
転定盤４を回転させると共にチャック５を回転させ、さ
らに回転定盤４を径方向に揺動させ、フィルム１に対し
光ファイバコネクタ６の先端面を相対的に揺動させて、
光コネクタ６の先端を端面研磨した。
【００１２】本研磨剤と従来の研磨剤とにより研磨した
光ファイバコネクタの端面の表面状態を比較したとこ
ろ、本研磨剤による研磨（ａ）の場合では、珪酸の微粒
子は該微粒子の分散が均一になることから粒子同士が塊
となって作用することがないため、ジルコニアフェルー
ルや石英ファイバの端面に凝集せず、特に石英ファイバ
の表面には傷はなく、平均粗さ１０Å以下の高品位の研
磨を行うことができた。一方、従来の研磨剤による研磨
（ｂ）の場合では、ファイバの表面に珪酸の微粒子の塊
によるマクロな傷が多数生じている。以上の結果から明
らかなように、（ａ）の場合の本発明の研磨剤で光ファ
イバコネクタのファイバの端面を研磨することによっ
て、ファイバ表面の平均粗さは１０Å以下の傷がない良
好な端面を得ることができたのである。
光ファイバコネクタの端面の表面状態を比較したとこ
ろ、本研磨剤による研磨（ａ）の場合では、珪酸の微粒
子は該微粒子の分散が均一になることから粒子同士が塊
となって作用することがないため、ジルコニアフェルー
ルや石英ファイバの端面に凝集せず、特に石英ファイバ
の表面には傷はなく、平均粗さ１０Å以下の高品位の研
磨を行うことができた。一方、従来の研磨剤による研磨
（ｂ）の場合では、ファイバの表面に珪酸の微粒子の塊
によるマクロな傷が多数生じている。以上の結果から明
らかなように、（ａ）の場合の本発明の研磨剤で光ファ
イバコネクタのファイバの端面を研磨することによっ
て、ファイバ表面の平均粗さは１０Å以下の傷がない良
好な端面を得ることができたのである。
【００１３】図２は、前記表面粗さと珪酸（ＳｉＯ2 ）
研磨剤の重量％との関係を示すグラフ。図２より珪酸
（ＳｉＯ2 ）の研磨剤を１〜１０重量％の範囲で光ファ
イバの表面粗さが小さくなることを認めた。図３は、同
様に表面粗さとアルコールの重量％との関係を示すグラ
フ。図３より表面粗さが低下するアルコールの重量％は
１〜５０重量％の範囲内であることが分かる。図４は、
本発明の珪酸の研磨剤による研磨液と従来の研磨液につ
いてその反射減衰量と経過日数の関係の比較結果を示し
ている。図４より従来のアルコールを含有しない研磨剤
では、反射減衰量４５ｄＢ以上を確保できる経過日数は
わずか２日程度である。これに対し本発明のアルコール
が２０重量％のものでは、約１００日経過しても反射減
衰量は４５ｄＢを確保できる。このことは、従来の研磨
剤による経過日数に対して約５０倍と大幅に向上させる
ことができたことを示している。
研磨剤の重量％との関係を示すグラフ。図２より珪酸
（ＳｉＯ2 ）の研磨剤を１〜１０重量％の範囲で光ファ
イバの表面粗さが小さくなることを認めた。図３は、同
様に表面粗さとアルコールの重量％との関係を示すグラ
フ。図３より表面粗さが低下するアルコールの重量％は
１〜５０重量％の範囲内であることが分かる。図４は、
本発明の珪酸の研磨剤による研磨液と従来の研磨液につ
いてその反射減衰量と経過日数の関係の比較結果を示し
ている。図４より従来のアルコールを含有しない研磨剤
では、反射減衰量４５ｄＢ以上を確保できる経過日数は
わずか２日程度である。これに対し本発明のアルコール
が２０重量％のものでは、約１００日経過しても反射減
衰量は４５ｄＢを確保できる。このことは、従来の研磨
剤による経過日数に対して約５０倍と大幅に向上させる
ことができたことを示している。
【００１４】なお、上述の実施例においては、本発明の
研磨剤をジルコニアフェルール材の光ファイバコネクタ
の端面研磨について説明したが、Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｓｉ3 Ｎ
4 等のセラミックスフェルールやＳＵＳ材及び超硬材等
の金属材料のフェルールに対しても同様の結果を得た。
研磨剤をジルコニアフェルール材の光ファイバコネクタ
の端面研磨について説明したが、Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｓｉ3 Ｎ
4 等のセラミックスフェルールやＳＵＳ材及び超硬材等
の金属材料のフェルールに対しても同様の結果を得た。
【００１５】
【発明の効果】本発明による珪酸の研磨剤は、所定量の
アルコール重量％を添加した研磨剤であるので、純水に
対する珪酸の微粒子の親和性が向上し、研磨液中で均一
分散されるため、該微粒子同士が凝集することなく塊に
ならない。この結果、研磨後の光学特性、光ファイバコ
ネクタの反射減衰量の低下の原因となるマクロな傷や加
工歪のない高品位の研磨面（平均粗さ１０Å以下）が得
られると同時に、長期間安定性（使用有効期間約１００
日）を得ることができるという効果がある。
アルコール重量％を添加した研磨剤であるので、純水に
対する珪酸の微粒子の親和性が向上し、研磨液中で均一
分散されるため、該微粒子同士が凝集することなく塊に
ならない。この結果、研磨後の光学特性、光ファイバコ
ネクタの反射減衰量の低下の原因となるマクロな傷や加
工歪のない高品位の研磨面（平均粗さ１０Å以下）が得
られると同時に、長期間安定性（使用有効期間約１００
日）を得ることができるという効果がある。
【図１】本発明による光ファイバコネクタの端面研磨剤
を使用する研磨装置の概要説明図
を使用する研磨装置の概要説明図
【図２】本発明の研磨剤による研磨面の表面粗さと珪酸
研磨剤の重量％との関係を示すグラフ
研磨剤の重量％との関係を示すグラフ
【図３】本発明の研磨剤による研磨面の表面粗さとアル
コール重量％との関係を示すグラフ
コール重量％との関係を示すグラフ
【図４】本発明の研磨剤による場合と従来の研磨剤によ
る場合の反射減衰量と経過日数の関係を示す比較図
る場合の反射減衰量と経過日数の関係を示す比較図
１ フィルム ２ リング状金具 ３ 押え金具 ４ 回転定盤 ４ａ ねじ部 ４ｂ リング状突起 ５ チャック ６ 光ファイバコネクタ ７ フェルール ８ 光ファイバ ９ 研磨剤供給ノズル １０ 研磨剤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松永 和夫 東京都千代田区内幸町１丁目１番６号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 大平 文和 東京都千代田区内幸町１丁目１番６号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 清水 湧一 東京都武蔵野市御殿山一丁目１番３号 エ ヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株 式会社内 (72)発明者 日野 昇 東京都港区六本木１丁目４番33号 エヌ・ ティ・ティ・インターナショナル株式会社 内
Claims (2)
- 【請求項１】 純水と珪酸の研磨剤および研磨分散促進
剤からなる光ファイバコネクタの端面を研磨する研磨剤
であって、前記研磨分散促進剤がアルコールであること
を特徴とする光ファイバコネクタの端面研磨剤。 - 【請求項２】 珪酸の研磨剤は１〜１０重量％で、かつ
研磨分散促進剤であるアルコールは１〜５０重量％の組
成であることを特徴とする請求項１記載の光ファイバコ
ネクタの端面研磨剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24211193A JPH0770554A (ja) | 1993-09-03 | 1993-09-03 | 光ファイバコネクタの端面研磨剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24211193A JPH0770554A (ja) | 1993-09-03 | 1993-09-03 | 光ファイバコネクタの端面研磨剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0770554A true JPH0770554A (ja) | 1995-03-14 |
Family
ID=17084467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24211193A Pending JPH0770554A (ja) | 1993-09-03 | 1993-09-03 | 光ファイバコネクタの端面研磨剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0770554A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2365439A (en) * | 2000-05-25 | 2002-02-20 | Furukawa Electric Co Ltd | Grinding optical fibre connectors using a grinding liquid containing an alcohol |
| CN112372393A (zh) * | 2020-11-17 | 2021-02-19 | 上海理工大学 | 一种多功能光纤打磨设备 |
-
1993
- 1993-09-03 JP JP24211193A patent/JPH0770554A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2365439A (en) * | 2000-05-25 | 2002-02-20 | Furukawa Electric Co Ltd | Grinding optical fibre connectors using a grinding liquid containing an alcohol |
| CN112372393A (zh) * | 2020-11-17 | 2021-02-19 | 上海理工大学 | 一种多功能光纤打磨设备 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040210 |