NO319039B1 - Sammensetning for optisk polering - Google Patents

Sammensetning for optisk polering Download PDF

Info

Publication number
NO319039B1
NO319039B1 NO20004122A NO20004122A NO319039B1 NO 319039 B1 NO319039 B1 NO 319039B1 NO 20004122 A NO20004122 A NO 20004122A NO 20004122 A NO20004122 A NO 20004122A NO 319039 B1 NO319039 B1 NO 319039B1
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
cerium oxide
polishing
particle size
slurry
microns
Prior art date
Application number
NO20004122A
Other languages
English (en)
Other versions
NO20004122L (no
NO20004122D0 (no
Inventor
Sr Ronald W Laconto
Rami Schlair
Original Assignee
Saint Gobain Ceramics
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Saint Gobain Ceramics filed Critical Saint Gobain Ceramics
Publication of NO20004122L publication Critical patent/NO20004122L/no
Publication of NO20004122D0 publication Critical patent/NO20004122D0/no
Publication of NO319039B1 publication Critical patent/NO319039B1/no

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09GPOLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00Polishing compositions
    • C09G1/02Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1454Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
    • C09K3/1463Aqueous liquid suspensions
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/773Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
    • Y10S977/775Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/773Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
    • Y10S977/775Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
    • Y10S977/776Ceramic powder or flake

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Description

O ppfinnelsens bakgrunn
Den foreliggende oppfinnelse vedrører sammensetninger for polering av optiske overflater. Overflatene som poleres kan være glass eller plast.
Det er velkjent at for å produsere en tilfredsstillende optisk overflate er det nødvendig at overflaten er uten riper og har en så lav verdi for Ra som mulig. Ra er den gjennomsnittlige distanse mellom de høyeste og laveste punkter på overflaten vinkelrett på planet på glassplaten som poleres. Derfor er verdien et mål på variasjonen mellom de høyeste og laveste punkter, tatt i betraktning at overflaten ikke vil være fullstendig flat i submikronskala. Det er klart at jo lavere verdien er desto bedre egenskaper oppnås for optisk klarhet og fravær av forvrengning.
Det finnes imidlertid en annen betraktning og dette er hastigheten hvorved det ønskede nivå for optisk perfeksjon oppnås. Glasspolering er en kjemisk-mekanisk prosess som kun foregår i et vandig miljø. Det er nødvendig at poleringssammensetningen reagerer med glassoverflaten og vannet, så vel som overflaten som underkastes abrasjon. Noen materialer slik som ceriumoksid er ganske reaktive, men ikke særlig abrasive. Andre materialer, slik som alumina, er ganske abrasive men har liten overflatereaktivitet. Dette tema blir grundig behandlet i en artikkel av Lee Clark med tittel "Chemical Processes in Glass Polishing" vist til i Journal of Non-Crystalline Solids 120 (1990), 152-171.1 et industrielt miljø er det en betydelig fordel for sluttbearbeidingen at prosessen avsluttes tidlig fremfor sent, særlig når det ikke blir noe kvalitetstap eller når kvaliteten kan forbedres.
Blant poleringsprosesser finnes to hovedmetoder. Ved den første metode blir en slurry av abrasive partikler i et vandig medium (vanligvis basert på avionisert vann), plassert i kontakt med overflaten som skal poleres, og en poleringspute bevirkes til å beveges på tvers av overflaten i forutbestemte mønstre for derved å bevirke at abrasivet i slurryen polerer overflaten. Ved den andre metode blir abrasive partikler innfestet i en harpiksgrunnmasse i form av et verktøy og verktøyet blir deretter benyttet til å polere den optiske overflate. Den foreliggende oppfinnelse vedrører den første metode hvorved slurryer benyttes.
Ulike slurrysammensetninger er tidligere blitt foreslått. I patentpublikasjon US 4576612 beskrives produksjon av en slurry in situ i kontrollerte mengder ved å tilveiebringe en poleringspute med et overflatelag omfattende de abrasive partikler i en harpiks som gradvis oppløses under bruk for derved å frigi poleringspartiklene. Partiklene som fremholdes å være anvendbare inkluderer ceriumoksid ("ceria"), zirkoniumoksid ("zirconia") og jernoksid.
I patentpublikasjon nr. EP 608 730-A1 beskrives en abrasiv slurry for polering av en overflate i et optisk element som omfatter et abrasiv valgt blant alumina, glass, diamantstøv, karborundum, wolframkarbid, silisiumkarbid eller bornitrid med partikkelstørrelser opp til 1 mikron.
I patentpublikasjon US 5693239 beskrives en vandig slurry for polering og planering av et metallarbeidsstykke, omfattende submikronpartikler av alfaalumina sammen med andre mykere former av alumina eller amorft silika.
En betydelig mengde kjent teknikk eksisterer også i det relaterte felt slurrysammensetninger for kjemisk-mekanisk polering av halvledersubstrater, og igjen gjør disse bruk av de samme vanlige abrasiver med variasjoner i komponentene i dispersjonsmediet.
Suksess ved polering av glass er selvsagt i en viss grad avhengig av hardheten på glasset. Ved meget hardt glass kan poleringen ta meget lang tid, og det fremkommer sluttførings- eller utseendeproblemer dersom det opplagte trekk å benytte hardere abrasiv forsøkes.
Slurrysammensetningene i henhold til kjent teknikk er ofte meget effektive til å oppnå det ønskede resultat. Imidlertid medfører de også ganske stort tidsforbruk. En ny sammensetning er blitt utviklet, hvor to oksider, alumina og ceriumoksid, arbeider sammen med synergieffekt, slik at deres gjensidige samvirkning gir bedre resultat enn for summen av de enkelte komponenteffekter. Denne sammensetning tillater oppnåelse av et meget høyt nivå av optisk perfeksjon i løpet av betydelig kortere tid enn det som er oppnåelig med de tidligere kjente slurryer, og uten behov for de forhøyede temperaturer som i blant benyttes for å øke reaktiviteten. I tillegg polerer de foreliggende sammensetninger også hardt glass meget effektivt med liten eller ingen medfølgende skade på overflaten. De kan benyttes med poleringsplate-eller harpiks-typen poleringsapparater.
Generell beskrivelse av oppfinnelsen
Med den foreliggende oppfinnelse tilveiebringes en sammensetning for optisk polering, særpreget ved at den omfatter en vandig slurry som i hovedsak består av fra 5 til 20 vekt% faste stoffer hvorav 85-95 % av faststoffinnholdet tilveiebringes av en alfaaluminakomponent med en Dso-partikkelstørrelse mindre enn 0,5 mikron, og korresponderende 15 til 5 vekt% av faststoffinnholdet tilveiebringes av ceriumoksid i form av et pulver med en Dso-partikkelstørrelse fra 0,2 til 4 mikron.
Aluminaet er i form av partikler som i hovedsak er fullstendig av submikron størrelse og hvor den gjennomsnittlige partikkelstørrelse er mindre enn 0,5 mikron og mest foretrukket fra 0,15 til 0,25 mikron. I sammenheng med den foreliggende patentsøknad forstås det med begrepet "gjennomsnittlig partikkelstørrelse" som diskuteres verdien "D50" målt ved bruk av en partikkelstørrelseanalysator av typen Horiba L-910. Slikt alumina er oppnåelig for eksempel ved bruk av prosessen beskrevet i patentpublikasjon US 4657754.
Kommersielt tilgjengelig ceriumoksid er generelt en blanding av sjeldne jordmetalloksider med cerium som den dominerende komponent. Andre komponenter kan inkludere neodymoksid, samariumoksid, praeseodymoksid og lantanoksid. Andre mindre mengder av de andre sjeldne jordmetaller kan også være til stede. I praksis finnes at renheten av ceriumoksid ikke behøver å påvirke ytelsen i stor grad for abrasivpartiklene i poleringsanvendelsen, så lenge egenskapene som finnes anvendbare med den foreliggende oppfinnelse synes å deles i større eller mindre grad av alle de andre sjeldne jordmetalloksider som forekommer med ceriumoksid i kommersielle materialer solgt under slikt navn. I forbindelse med den foreliggende beskrivelse blir sjeldne jordmetalloksidblandinger hvor ceriumoksid er den dominerende komponent med hensyn til vektprosentandel i produktet, betegnet som "ceriumoksid". Eksempler på kommersielle kilder til ceriumoksid inkluderer "50D1" og "Superox 50" (begge tilgjengelige fra Cercoa PenYan N.Y.), hvilke inneholder ca. 75 % og 34 % ceriumoksid, henholdsvis; og "Rhodox 76" (fra Rhone Poulenc), omfattende ca. 50 % ceriumoksid.
Som kommersielt tilgjengelig foreligger ceriumoksid vanligvis i form av partikler med bikomponent partikkelstørrelsesfordeling med topper rundt partikkelstørrelser på 0,4 og 4 mikron, hvor de større partikkelstørrelser tilveiebringer hovedvolumet av partiklene. Dette gir en total verdi av D50 for pulveret på mindre enn 4, og vanligvis i området 3-3,5 mikron. Det er blitt funnet at dersom denne fordeling reduseres ved oppmaling av ceriumoksidet til en relativt jevn partikkelstørrelse på ca. 0,2 mikron og mer foretrukket ca. 0,4 mikron, blir ytelsen av sammensetningen ikke i stor grad påvirket såfremt glasset ikke er spesielt hardt og et høyt nivå av visuell perfeksjon også er påkrevet. Ved disse omstendigheter finnes ofte at den uoppmalte partikkelstørrelsesfordeling er mer effektiv.
Mediet hvor abrasivpartiklene dispergeres er vandig selv om mindre mengder av vannblandbare væsker slik som alkoholer kan være til stede. Mest vanlig blir avionisert vann benyttet med et overfiatemiddel for å assistere til å holde de abrasive partikler godt dispergert. Faststoffinnholdet i slurryen er vanligvis fra 5 til 15 eller endog 20 vekt%, med lavere eller mer fortynnede prosentandeler for harpiks. Generelt vil en slurry med et lavere faststoffinnhold polere langsommere, og en slurry med et høyere faststoffinnhold kan ha problemer med abrasivutfelling fra slurryen. Praktiske betraktninger medfører derfor et faststoffinnhold fra 5 til 15, og mer foretrukket fra 8 til 12 vekt%, faststoff i slurryen.
Beskrivelse av foretrukne utførelsesformer
Oppfinnelsen blir nå ytterligere beskrevet med henvisning til de følgende eksempler som er ment å demonstrere anvendbarheten av oppfinnelsen og virkningene av å variere renheten og partikkelstørrelsen av ceriumoksidkomponenten.
Eksempel 1
I dette eksempel blir ytelsen av abrasivblandingen ifølge oppfinnelsen sammenlignet med slurrysammensetninger inneholdende komponentene alene.
Poleringstestene ble utført på en dobbeltsidig AC500 Peter Wolters-maskin utstyrt med "Suba 500" poleringsputer tilgjengelige fra Rodel, Inc. Glassprøvene som ble polert ble fremstilt av smeltet silikakvarts (Corning), betraktet som et temmelig hardt glass (560-640 Knoop).
Prøvene ble polert ved bruk av 10 % faststoffslurry for hver av de tre abrasiver. Det første var 100 % alumina, det andre var 100 % ceriumoksid og det tredje var en 90:10 blanding av de samme komponenter av alumina og ceriumoksid. Aluminaet ble tilveiebragt fra Saint-Gobain Industrial Ceramics, Inc. og omfattet alfaaluminapartikler med størrelser mellom 20 og 50 nanometer i form av agglomerater med diameter ca. 0,15 til 0,25 mikron. I hovedsak var ingen agglomerater større enn 1 mikron. Ceriumkomponenten var Rhodox 76, et sjeldent jordmetalloksidprodukt omfattende ca. 50 % ceriumoksid som var blitt oppmalt til en partikkelstørrelse med en D50 på ca. 0,4 mikron. Slurryene ble fylt inn i avionisert vann hvortil 0,07 vekt% av et overflatemiddel, (natriumpolyakrylat tilgjengelig fra RT.Vanderbilt under varemerket Darvan 811), var blitt tilført.
Ytelsen med hensyn til overflatekvaliteten som ble oppnådd ble målt med tiden, og en graf ble tegnet ved hjelp av de oppsamlede data. Denne graf fremkommer som Figur 1 blant tegningene. Figur 2 viser de samme data med en ekspandert akse for overflatefinhet for å vise den oppnådde forbedring klarere.
Fra Figurene 1 og 2 kan det ses at selv om prøven polert med 100 % ceriumoksid hadde en bedre opprinnelig overflatefinhet (dvs. før polering var den jevnere) enn de andre to prøver, ble den ikke polert like bra. Slik det kan ses fra Figur 2 ble det med alumina alene aldri oppnådd en overflatefinhet, (Ra), på 200 Å. På den annen side ble dette nivå av overflatefinhet oppnådd med ceriumoksidet etter ca. 19 minutter, og blandingen i henhold til foreliggende oppfinnelse oppnådde dette finhetsnivå på under 10 minutter. Betraktet på en annen måte ble det etter 10 minutter, med ceriumoksidslurry-poleringsmaterialet oppnådd en overflatefinhet på ca. 900, med aluminaslurry-poleringsmaterialet ble det oppnådd en overflatefinhet på litt under 600 og med slurryen i henhold til den foreliggende oppfinnelse ble det produsert en finhet på finere enn 200.
Eksempel 2
Med dette eksempel ble virkningen undersøkt av å variere partikkelstørrelsen av ceriumoksidet ved polering av smeltet silika.
Sammensetningen i henhold til oppfinnelsen var i hovedsak den benyttet i Eksempel 1, med ceriumoksidet i form av Rhodox 76 oppnådd fra Rhone Poulenc. Rhodox 76 ble imidlertid benyttet i fire forskjellige partikkelstørrelser (som målt ved D50-verdien bestemt ved bruk av en partikkelstørrelsesanalysator av typen Horiba LA910) i fire separate poleringsundersøkelser. Partikkelstørrelsene som ble benyttet var 3,17 mikron, 2,14 mikron, 0,992 mikron og 0,435 mikron. Grafen presentert som Figur 3 oppsummerer resultatene. Fra grafen kan det ses at, med dette glass, var det liten forskjell i poleringsytelsen som kunne spores til virkningen av ceriumoksidets partikkelstørrelse. Tilsvarende resultater ble oppnådd ved bruk av "Superox 50" og "50D-1" som ceriumoksidkilder.
Eksempel 3
I dette eksempel ble kilden til ceriumoksid undersøkt, og nærmere bestemt hvorvidt renheten av produktet hadde noen virkning på poleringseffektiviteten. Sammensetninger i henhold til oppfinnelsen ble fremstilt inneholdende ca. 10 % av ceriumoksykomponenten og tilsvarende ca. 90 % av aluminaet benyttet i sammensetningene ifølge Eksempel 1. Disse sammensetninger ble testet for polering av smeltet silikaglass ved bruk av utstyr og prosedyrer identiske med dem beskrevet i Eksempel 1. Resultatene som vises i Figur 4 ble oppnådd. Den første prøve, "S", var "Superox 50" som inneholdt ca. 34 % ceriumoksid. Den andre prøve "R", var "Rhodox 76" som inneholdt ca. 50 % ceriumoksid. Den tredje prøve, "D", var "50D1" som inneholdt ca. 75 % ceriumoksid. Slik det kan observeres ble det funnet liten forskjell i poleringsytelse mellom de tre ovennevnte. Det synes derfor som om de andre sjeldne jordmetalloksider sannsynligvis gir tilsvarende resultater som ceriumoksidet i sammensetningene ifølge oppfinnelsen.
Eksempel 4
Med dette eksempel ble det foretatt undersøkelser av
poleringsvirkningsgraden og virkningene av ceriumoksidets partikkelstørrelse på B270 glass (hardt glass, 530 Knoop). Mens de ovenstående eksempler ble evaluert under laboratoriebetingleser og testet kun for overflatefinhet målt i form av Ra-verdien, ble de etterfølgende evalueringer foretatt i et produksjonsmiljø ved bruk av en trenet operatør som evaluerte sluttproduktet med hensyn til visuell perfeksjon. Dette betyr mer enn bare Ra-verdien som ikke nødvendigvis identifiserer "gråhet" som skriver seg fra overflatedefekter etterlatt fra poleringsoperasjonen.
En 4800 P.R. Hoffman dobbeltsidig poleringsmaskin utstyrt med "Suba 10"
poleringsputer tilveiebragt fra Rodel-selskapet, ble benyttet. Det ble anvendt et trykk på ca. 1,5 psi (1,034 x IO<4> pascal) på arbeidsstykkene under polering. Sluttpunktet for poleringen var når det ble oppnådd et ønsket forutbestemt nivå av overflateperfeksjon (klarhet).
Det ble fremstilt tre sammensetninger i henhold til oppfinnelsen.
Alle tre inneholdt aluminaet og overflatemiddelkomponenten beskrevet i Eksempel 1 i de samme mengder og dispersjoner, sammen med ceriumoksidkomponenten, i samme relative forhold med avionisert vann. Forskjellen mellom komponentene lå i partikkelstørrelsen av ceriumoksidet. I den første sammensetning, A, ble ceriumoksidkomponenten oppmalt til en D50-verdi på 0,4 mikron. I den andre og tredje sammensetning, henholdsvis B og B<1>, ble ceriumoksidet (Superox 50) benyttet slik det ble levert direkte fra produsenten. Den eneste forskjell mellom de to var glassprøvene som ble polert. I den andre prøve, B<1>, var størrelsen av prøvene som ble polert mindre, og derfor ble trykket påført prøvene under polering med samme maskin høyere. Dette resulterte i oppnåelse av sluttilstanden hurtigere. I den fjerde sammensetning, C, ble ceriumoksidet (Rhodox 76) også benyttet slik det ble levert fra produsenten. Som tidligere nevnt hadde materialene som levert fra produsenten en bimodal distribusjon med det større volum av partikler med en partikkeltopp som målt på en Horiba 910 partikkelstørrelsesanalysator på ca. 4. Resultatene er fremsatt i Tabell 1 nedenfor.
Sammensetningen A, (som inneholdt den oppmalte ceriumoksidkomponent), frembragte en jevn lys grå farge etter 90 minutter og påkrevet ytterligere 30 minutter for å fjerne gråheten og etterlate en flatnet under en tidel bølgelengde. Sammensetningene B og B' polerte meget aggressivt og konsistent jevnt over arbeidsstykket. Sammensetningen C polerte også ekstremt bra og raskt. B270 glassproduktet hadde en utmerket overflateflatehet. Andre poleringsmaterialer kan polere "flekkvis" istedenfor konsistent og jevnt over arbeidsstykkets overflate, slik som med sammensetningene ifølge oppfinnelsen.
Det innses derfor at når klarhet er kritisk, frembyr polering med sammensetningene med uoppmalt ceriumoksidkomponent signifikante fordeler. På den annen side frembyr sammensetningene med oppmalte ceriumoksidkomponenter hurtig oppnåelse av polering og flatnet, men det tar lenger tid å nå visuell perfeksjon.

Claims (4)

1. Sammensetning for optisk polering, karakterisert ved at den omfatter en vandig slurry som i hovedsak består av fra 5 til 20 vekt% faste stoffer hvorav 85-95 % av faststoffinnholdet tilveiebringes av en alfaaluminakomponent med en Dso-partikkelstørrelse mindre enn 0,5 mikron, og korresponderende 15 til 5 vekt% av faststoffinnholdet tilveiebringes av ceriumoksid i form av et pulver med en DSo-partikkelstørrelse fra 0,2 til 4 mikron.
2. Sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at faststoffinnholdet i slurryen er fra 8 til 12 vekt%.
3. Sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at aluminakomponenten har en D5o-partikkelstørrelse fra 0,15 til 0,25 mikron.
4. Sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at ceriumoksidkomponenten har en partikkelstørrelsesfordeling som fremviser to komponenter og en Dso-partikkelstørrelse fra 3 til 4 mikron.
NO20004122A 1998-02-18 2000-08-17 Sammensetning for optisk polering NO319039B1 (no)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/025,730 US5989301A (en) 1998-02-18 1998-02-18 Optical polishing formulation
PCT/US1999/003143 WO1999042537A1 (en) 1998-02-18 1999-02-16 Optical polishing formulation

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NO20004122L NO20004122L (no) 2000-08-17
NO20004122D0 NO20004122D0 (no) 2000-08-17
NO319039B1 true NO319039B1 (no) 2005-06-06

Family

ID=21827759

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO20004122A NO319039B1 (no) 1998-02-18 2000-08-17 Sammensetning for optisk polering

Country Status (28)

Country Link
US (2) US5989301A (no)
EP (1) EP1060221B1 (no)
JP (1) JP3605036B2 (no)
KR (1) KR100354202B1 (no)
CN (1) CN1187426C (no)
AR (1) AR014959A1 (no)
AT (1) ATE245180T1 (no)
AU (1) AU729245B2 (no)
BR (1) BR9908020B1 (no)
CA (1) CA2319107C (no)
CO (1) CO5060536A1 (no)
CZ (1) CZ294042B6 (no)
DE (1) DE69909597T2 (no)
DK (1) DK1060221T3 (no)
ES (1) ES2204107T3 (no)
FI (1) FI118180B (no)
HU (1) HUP0101154A3 (no)
IL (1) IL137804A0 (no)
MY (1) MY123257A (no)
NO (1) NO319039B1 (no)
NZ (1) NZ505901A (no)
PL (1) PL186840B1 (no)
PT (1) PT1060221E (no)
RU (1) RU2181132C1 (no)
SK (1) SK285219B6 (no)
TW (1) TWI239995B (no)
WO (1) WO1999042537A1 (no)
ZA (1) ZA991150B (no)

Families Citing this family (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6839362B2 (en) * 2001-05-22 2005-01-04 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Cobalt-doped saturable absorber Q-switches and laser systems
US20030092271A1 (en) * 2001-09-13 2003-05-15 Nyacol Nano Technologies, Inc. Shallow trench isolation polishing using mixed abrasive slurries
US6896591B2 (en) * 2003-02-11 2005-05-24 Cabot Microelectronics Corporation Mixed-abrasive polishing composition and method for using the same
US7326477B2 (en) * 2003-09-23 2008-02-05 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Spinel boules, wafers, and methods for fabricating same
US20050061230A1 (en) * 2003-09-23 2005-03-24 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Spinel articles and methods for forming same
US7045223B2 (en) * 2003-09-23 2006-05-16 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Spinel articles and methods for forming same
US7919815B1 (en) 2005-02-24 2011-04-05 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Spinel wafers and methods of preparation
US7294044B2 (en) * 2005-04-08 2007-11-13 Ferro Corporation Slurry composition and method for polishing organic polymer-based ophthalmic substrates
AU2007337145B2 (en) * 2006-12-19 2011-08-11 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Submicron alpha alumina high temperature bonded abrasives
KR20110019427A (ko) 2008-06-23 2011-02-25 생-고뱅 어브레이시브즈, 인코포레이티드 고공극율 유리질 초연마 제품들 및 그 제조 방법
EP2401114A4 (en) * 2009-01-30 2015-02-25 Pcw Holdings Llc COMPOSITIONS AND METHODS FOR RESTORING PLASTIC COATINGS AND GLASSES
CA2779254A1 (en) 2009-10-27 2011-05-12 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Vitreous bonded abrasive
KR20150097811A (ko) 2009-10-27 2015-08-26 생-고뱅 어브레이시브즈, 인코포레이티드 레진본드 연마재
CN103210047B (zh) * 2010-09-08 2018-07-17 巴斯夫欧洲公司 含n取代的二氮烯*二氧化物和/或n’-羟基-二氮烯*氧化物盐的含水抛光组合物
BR112013016734A2 (pt) 2010-12-31 2019-09-24 Saint Gobain Ceramics partículas abrasivas com formas particulares e métodos de deformação de tais partículas
TWI605112B (zh) * 2011-02-21 2017-11-11 Fujimi Inc 研磨用組成物
WO2013003830A2 (en) 2011-06-30 2013-01-03 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive articles including abrasive particles of silicon nitride
CN103764349B (zh) 2011-06-30 2017-06-09 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 液相烧结碳化硅研磨颗粒
US9517546B2 (en) 2011-09-26 2016-12-13 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive articles including abrasive particulate materials, coated abrasives using the abrasive particulate materials and methods of forming
KR20140075718A (ko) 2011-09-29 2014-06-19 생-고뱅 어브레이시브즈, 인코포레이티드 연마 제품 및 경질 표면 마무리 방법
WO2013102176A1 (en) 2011-12-30 2013-07-04 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Forming shaped abrasive particles
EP3851248B1 (en) 2011-12-30 2024-04-03 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Composite shaped abrasive particles and method of forming same
EP3517245B1 (en) 2011-12-30 2023-12-13 Saint-Gobain Ceramics & Plastics Inc. Shaped abrasive particle and method of forming same
US9266220B2 (en) 2011-12-30 2016-02-23 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive articles and method of forming same
WO2013106575A1 (en) 2012-01-10 2013-07-18 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive products and methods for finishing coated surfaces
US8840696B2 (en) 2012-01-10 2014-09-23 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles
WO2013106597A1 (en) 2012-01-10 2013-07-18 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive particles having complex shapes and methods of forming same
RU2595788C2 (ru) 2012-03-16 2016-08-27 Сэнт-Гобэн Эбрейзивс, Инк. Абразивные продукты и способы чистовой обработки поверхностей
US9242346B2 (en) 2012-03-30 2016-01-26 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive products having fibrillated fibers
WO2013149197A1 (en) 2012-03-30 2013-10-03 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive products and methods for fine polishing of ophthalmic lenses
IN2014DN10170A (no) 2012-05-23 2015-08-21 Saint Gobain Ceramics
WO2014005120A1 (en) 2012-06-29 2014-01-03 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles
RU2614488C2 (ru) 2012-10-15 2017-03-28 Сен-Гобен Абразивс, Инк. Абразивные частицы, имеющие определенные формы, и способы формирования таких частиц
JP2016503731A (ja) 2012-12-31 2016-02-08 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 粒子材料およびその形成方法
EP4364891A2 (en) 2013-03-29 2024-05-08 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles
TW201502263A (zh) 2013-06-28 2015-01-16 Saint Gobain Ceramics 包含成形研磨粒子之研磨物品
JP2016538149A (ja) 2013-09-30 2016-12-08 サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド 形状化研磨粒子及び形状化研磨粒子を形成する方法
CA2934938C (en) 2013-12-31 2019-04-30 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
US9771507B2 (en) 2014-01-31 2017-09-26 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Shaped abrasive particle including dopant material and method of forming same
US10557067B2 (en) 2014-04-14 2020-02-11 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
KR101884178B1 (ko) 2014-04-14 2018-08-02 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 형상화 연마 입자들을 포함하는 연마 물품
US9902045B2 (en) 2014-05-30 2018-02-27 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Method of using an abrasive article including shaped abrasive particles
US9707529B2 (en) 2014-12-23 2017-07-18 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Composite shaped abrasive particles and method of forming same
US9914864B2 (en) 2014-12-23 2018-03-13 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Shaped abrasive particles and method of forming same
US9676981B2 (en) 2014-12-24 2017-06-13 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Shaped abrasive particle fractions and method of forming same
TWI634200B (zh) 2015-03-31 2018-09-01 聖高拜磨料有限公司 固定磨料物品及其形成方法
CN107636109A (zh) 2015-03-31 2018-01-26 圣戈班磨料磨具有限公司 固定磨料制品和其形成方法
CA2988012C (en) 2015-06-11 2021-06-29 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
KR102422875B1 (ko) 2016-05-10 2022-07-21 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 연마 입자들 및 그 형성 방법
SI3455321T1 (sl) 2016-05-10 2022-10-28 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Metode oblikovanja abrazivnih delcev
WO2018064642A1 (en) 2016-09-29 2018-04-05 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Fixed abrasive articles and methods of forming same
US10563105B2 (en) 2017-01-31 2020-02-18 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
US10759024B2 (en) 2017-01-31 2020-09-01 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive article including shaped abrasive particles
WO2018236989A1 (en) 2017-06-21 2018-12-27 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. PARTICULATE MATERIALS AND METHODS OF FORMATION THEREOF
US11865663B2 (en) * 2018-05-10 2024-01-09 George Shuai Optical surface polishing
CN109439282A (zh) * 2018-10-23 2019-03-08 蓝思科技(长沙)有限公司 复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备
CN109135580B (zh) * 2018-10-25 2021-04-02 蓝思科技(长沙)有限公司 一种玻璃用抛光液及其制备方法
CN110724460A (zh) * 2019-11-13 2020-01-24 刘通 一种铈铝复合氧化物抛光粉的制备方法
WO2021133901A1 (en) 2019-12-27 2021-07-01 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Abrasive articles and methods of forming same
CN113881348A (zh) * 2021-11-04 2022-01-04 青岛福禄泰科表面材料科技有限公司 一种复合氧化铝抛光液及其制备方法和应用
CN114213977A (zh) * 2021-12-23 2022-03-22 中天科技精密材料有限公司 抛光剂及其制备方法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3429080A (en) * 1966-05-02 1969-02-25 Tizon Chem Corp Composition for polishing crystalline silicon and germanium and process
GB1501570A (en) * 1975-11-11 1978-02-15 Showa Denko Kk Abrader for mirror polishing of glass and method for mirror polishing
US4161394A (en) * 1978-06-19 1979-07-17 Regan Glen B Polishing slurry of xanthan gum and a dispersing agent
FR2549846B1 (fr) * 1983-07-29 1986-12-26 Rhone Poulenc Spec Chim Nouvelle composition de polissage a base de cerium et son procede de fabrication
US4576612A (en) * 1984-06-01 1986-03-18 Ferro Corporation Fixed ophthalmic lens polishing pad
US5312789A (en) * 1987-05-27 1994-05-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive grits formed of ceramic, impregnation method of making the same and products made therewith
ATE137792T1 (de) * 1992-09-25 1996-05-15 Minnesota Mining & Mfg Verfahren zur herstellung von aluminiumoxid und ceroxid enthaltendem schleifkorn
CA2111010A1 (en) * 1993-01-29 1994-07-30 Robert James Hagerty Method of finely polishing planar optical elements
US5549962A (en) * 1993-06-30 1996-08-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Precisely shaped particles and method of making the same
US5465314A (en) * 1993-09-09 1995-11-07 The Furukawa Electronic Co., Ltd. Method of manufacturing optical connector
US5632668A (en) * 1993-10-29 1997-05-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for the polishing and finishing of optical lenses
KR960041316A (ko) * 1995-05-22 1996-12-19 고사이 아키오 연마용 입상체, 이의 제조방법 및 이의 용도
US5693239A (en) * 1995-10-10 1997-12-02 Rodel, Inc. Polishing slurries comprising two abrasive components and methods for their use
US5702811A (en) * 1995-10-20 1997-12-30 Ho; Kwok-Lun High performance abrasive articles containing abrasive grains and nonabrasive composite grains
EP0912295A1 (en) * 1996-05-08 1999-05-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article comprising an antiloading component
US5858813A (en) * 1996-05-10 1999-01-12 Cabot Corporation Chemical mechanical polishing slurry for metal layers and films
KR19980019046A (ko) * 1996-08-29 1998-06-05 고사이 아키오 연마용 조성물 및 이의 용도(Abrasive composition and use of the same)
JP3856513B2 (ja) * 1996-12-26 2006-12-13 昭和電工株式会社 ガラス研磨用研磨材組成物
US5876268A (en) 1997-01-03 1999-03-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method and article for the production of optical quality surfaces on glass
US5833724A (en) * 1997-01-07 1998-11-10 Norton Company Structured abrasives with adhered functional powders
US5851247A (en) * 1997-02-24 1998-12-22 Minnesota Mining & Manufacturing Company Structured abrasive article adapted to abrade a mild steel workpiece
US5910471A (en) 1997-03-07 1999-06-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article for providing a clear surface finish on glass
US5876470A (en) * 1997-08-01 1999-03-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive articles comprising a blend of abrasive particles

Also Published As

Publication number Publication date
PT1060221E (pt) 2003-12-31
AR014959A1 (es) 2001-04-11
BR9908020A (pt) 2000-10-24
PL186840B1 (pl) 2004-03-31
PL342392A1 (en) 2001-06-04
CO5060536A1 (es) 2001-07-30
NO20004122L (no) 2000-08-17
CZ294042B6 (cs) 2004-09-15
AU729245B2 (en) 2001-01-25
IL137804A0 (en) 2001-10-31
RU2181132C1 (ru) 2002-04-10
BR9908020B1 (pt) 2009-01-13
FI20001800A (fi) 2000-08-15
CA2319107A1 (en) 1999-08-26
ES2204107T3 (es) 2004-04-16
DE69909597T2 (de) 2004-05-27
EP1060221A1 (en) 2000-12-20
DE69909597D1 (de) 2003-08-21
KR100354202B1 (ko) 2002-09-26
ZA991150B (en) 1999-08-12
NZ505901A (en) 2002-03-01
AU2677799A (en) 1999-09-06
CA2319107C (en) 2005-09-20
CZ20002969A3 (cs) 2001-03-14
DK1060221T3 (da) 2003-10-20
ATE245180T1 (de) 2003-08-15
JP3605036B2 (ja) 2004-12-22
MY123257A (en) 2006-05-31
CN1187426C (zh) 2005-02-02
HUP0101154A3 (en) 2002-06-28
TWI239995B (en) 2005-09-21
NO20004122D0 (no) 2000-08-17
SK11452000A3 (sk) 2001-02-12
HUP0101154A2 (hu) 2001-07-30
WO1999042537A1 (en) 1999-08-26
CN1290289A (zh) 2001-04-04
SK285219B6 (sk) 2006-09-07
EP1060221B1 (en) 2003-07-16
FI118180B (fi) 2007-08-15
JP2002504588A (ja) 2002-02-12
US5989301A (en) 1999-11-23
US6258136B1 (en) 2001-07-10
KR20010034504A (ko) 2001-04-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO319039B1 (no) Sammensetning for optisk polering
EP2888077B1 (en) Methods of polishing sapphire surfaces
KR100429940B1 (ko) 개선된 세리아 분말
CN108239484B (zh) 一种蓝宝石抛光用氧化铝抛光液及其制备方法
KR101488987B1 (ko) 경질 결정 기판 연마 방법 및 유성 연마 슬러리
Zhang et al. Two-step chemical mechanical polishing of sapphire substrate
Zhu et al. The effect of abrasive hardness on the chemical-assisted polishing of (0001) plane sapphire
MXPA01002146A (es) Particulas abrasivas de diamante y metodo para producir las mismas.
Zhu et al. Tribochemical polishing of silicon carbide in oxidant solution
EP1072666A2 (en) Colloidal polishing of fused silica
US6159077A (en) Colloidal silica polishing abrasive
MXPA00008063A (en) Optical polishing formulation
Pan et al. Innovative CMP Solution for Advanced STI Process
JP2022066727A (ja) 研磨材組成物
JP2001035819A (ja) 研磨スラリー及びこれを用いた研磨方法
Cheemalapati et al. Novel pure organic particles for copper CMP at low down force
JP2023141786A (ja) 研磨スラリー及び研磨方法
Kulawski et al. Advances in the CMP process on fixed abrasive pads for the polishing of SOI-substrates with high degree of flatness
NO147658B (no) Pensekobling for korte og ultrakorte elektromagnetiske boelger

Legal Events

Date Code Title Description
MM1K Lapsed by not paying the annual fees