NO319039B1 - Sammensetning for optisk polering - Google Patents
Sammensetning for optisk polering Download PDFInfo
- Publication number
- NO319039B1 NO319039B1 NO20004122A NO20004122A NO319039B1 NO 319039 B1 NO319039 B1 NO 319039B1 NO 20004122 A NO20004122 A NO 20004122A NO 20004122 A NO20004122 A NO 20004122A NO 319039 B1 NO319039 B1 NO 319039B1
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- cerium oxide
- polishing
- particle size
- slurry
- microns
- Prior art date
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims description 38
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 35
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 10
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 41
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 41
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 23
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 14
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 3
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 claims 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 230000002902 bimodal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000012612 commercial material Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910001954 samarium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075630 samarium oxide Drugs 0.000 description 1
- FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N samarium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sm+3].[Sm+3] FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
- C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
- Y10S977/775—Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
- Y10S977/775—Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
- Y10S977/776—Ceramic powder or flake
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Description
O ppfinnelsens bakgrunn
Den foreliggende oppfinnelse vedrører sammensetninger for polering av optiske overflater. Overflatene som poleres kan være glass eller plast.
Det er velkjent at for å produsere en tilfredsstillende optisk overflate er det nødvendig at overflaten er uten riper og har en så lav verdi for Ra som mulig. Ra er den gjennomsnittlige distanse mellom de høyeste og laveste punkter på overflaten vinkelrett på planet på glassplaten som poleres. Derfor er verdien et mål på variasjonen mellom de høyeste og laveste punkter, tatt i betraktning at overflaten ikke vil være fullstendig flat i submikronskala. Det er klart at jo lavere verdien er desto bedre egenskaper oppnås for optisk klarhet og fravær av forvrengning.
Det finnes imidlertid en annen betraktning og dette er hastigheten hvorved det ønskede nivå for optisk perfeksjon oppnås. Glasspolering er en kjemisk-mekanisk prosess som kun foregår i et vandig miljø. Det er nødvendig at poleringssammensetningen reagerer med glassoverflaten og vannet, så vel som overflaten som underkastes abrasjon. Noen materialer slik som ceriumoksid er ganske reaktive, men ikke særlig abrasive. Andre materialer, slik som alumina, er ganske abrasive men har liten overflatereaktivitet. Dette tema blir grundig behandlet i en artikkel av Lee Clark med tittel "Chemical Processes in Glass Polishing" vist til i Journal of Non-Crystalline Solids 120 (1990), 152-171.1 et industrielt miljø er det en betydelig fordel for sluttbearbeidingen at prosessen avsluttes tidlig fremfor sent, særlig når det ikke blir noe kvalitetstap eller når kvaliteten kan forbedres.
Blant poleringsprosesser finnes to hovedmetoder. Ved den første metode blir en slurry av abrasive partikler i et vandig medium (vanligvis basert på avionisert vann), plassert i kontakt med overflaten som skal poleres, og en poleringspute bevirkes til å beveges på tvers av overflaten i forutbestemte mønstre for derved å bevirke at abrasivet i slurryen polerer overflaten. Ved den andre metode blir abrasive partikler innfestet i en harpiksgrunnmasse i form av et verktøy og verktøyet blir deretter benyttet til å polere den optiske overflate. Den foreliggende oppfinnelse vedrører den første metode hvorved slurryer benyttes.
Ulike slurrysammensetninger er tidligere blitt foreslått. I patentpublikasjon US 4576612 beskrives produksjon av en slurry in situ i kontrollerte mengder ved å tilveiebringe en poleringspute med et overflatelag omfattende de abrasive partikler i en harpiks som gradvis oppløses under bruk for derved å frigi poleringspartiklene. Partiklene som fremholdes å være anvendbare inkluderer ceriumoksid ("ceria"), zirkoniumoksid ("zirconia") og jernoksid.
I patentpublikasjon nr. EP 608 730-A1 beskrives en abrasiv slurry for polering av en overflate i et optisk element som omfatter et abrasiv valgt blant alumina, glass, diamantstøv, karborundum, wolframkarbid, silisiumkarbid eller bornitrid med partikkelstørrelser opp til 1 mikron.
I patentpublikasjon US 5693239 beskrives en vandig slurry for polering og planering av et metallarbeidsstykke, omfattende submikronpartikler av alfaalumina sammen med andre mykere former av alumina eller amorft silika.
En betydelig mengde kjent teknikk eksisterer også i det relaterte felt slurrysammensetninger for kjemisk-mekanisk polering av halvledersubstrater, og igjen gjør disse bruk av de samme vanlige abrasiver med variasjoner i komponentene i dispersjonsmediet.
Suksess ved polering av glass er selvsagt i en viss grad avhengig av hardheten på glasset. Ved meget hardt glass kan poleringen ta meget lang tid, og det fremkommer sluttførings- eller utseendeproblemer dersom det opplagte trekk å benytte hardere abrasiv forsøkes.
Slurrysammensetningene i henhold til kjent teknikk er ofte meget effektive til å oppnå det ønskede resultat. Imidlertid medfører de også ganske stort tidsforbruk. En ny sammensetning er blitt utviklet, hvor to oksider, alumina og ceriumoksid, arbeider sammen med synergieffekt, slik at deres gjensidige samvirkning gir bedre resultat enn for summen av de enkelte komponenteffekter. Denne sammensetning tillater oppnåelse av et meget høyt nivå av optisk perfeksjon i løpet av betydelig kortere tid enn det som er oppnåelig med de tidligere kjente slurryer, og uten behov for de forhøyede temperaturer som i blant benyttes for å øke reaktiviteten. I tillegg polerer de foreliggende sammensetninger også hardt glass meget effektivt med liten eller ingen medfølgende skade på overflaten. De kan benyttes med poleringsplate-eller harpiks-typen poleringsapparater.
Generell beskrivelse av oppfinnelsen
Med den foreliggende oppfinnelse tilveiebringes en sammensetning for optisk polering, særpreget ved at den omfatter en vandig slurry som i hovedsak består av fra 5 til 20 vekt% faste stoffer hvorav 85-95 % av faststoffinnholdet tilveiebringes av en alfaaluminakomponent med en Dso-partikkelstørrelse mindre enn 0,5 mikron, og korresponderende 15 til 5 vekt% av faststoffinnholdet tilveiebringes av ceriumoksid i form av et pulver med en Dso-partikkelstørrelse fra 0,2 til 4 mikron.
Aluminaet er i form av partikler som i hovedsak er fullstendig av submikron størrelse og hvor den gjennomsnittlige partikkelstørrelse er mindre enn 0,5 mikron og mest foretrukket fra 0,15 til 0,25 mikron. I sammenheng med den foreliggende patentsøknad forstås det med begrepet "gjennomsnittlig partikkelstørrelse" som diskuteres verdien "D50" målt ved bruk av en partikkelstørrelseanalysator av typen Horiba L-910. Slikt alumina er oppnåelig for eksempel ved bruk av prosessen beskrevet i patentpublikasjon US 4657754.
Kommersielt tilgjengelig ceriumoksid er generelt en blanding av sjeldne jordmetalloksider med cerium som den dominerende komponent. Andre komponenter kan inkludere neodymoksid, samariumoksid, praeseodymoksid og lantanoksid. Andre mindre mengder av de andre sjeldne jordmetaller kan også være til stede. I praksis finnes at renheten av ceriumoksid ikke behøver å påvirke ytelsen i stor grad for abrasivpartiklene i poleringsanvendelsen, så lenge egenskapene som finnes anvendbare med den foreliggende oppfinnelse synes å deles i større eller mindre grad av alle de andre sjeldne jordmetalloksider som forekommer med ceriumoksid i kommersielle materialer solgt under slikt navn. I forbindelse med den foreliggende beskrivelse blir sjeldne jordmetalloksidblandinger hvor ceriumoksid er den dominerende komponent med hensyn til vektprosentandel i produktet, betegnet som "ceriumoksid". Eksempler på kommersielle kilder til ceriumoksid inkluderer "50D1" og "Superox 50" (begge tilgjengelige fra Cercoa PenYan N.Y.), hvilke inneholder ca. 75 % og 34 % ceriumoksid, henholdsvis; og "Rhodox 76" (fra Rhone Poulenc), omfattende ca. 50 % ceriumoksid.
Som kommersielt tilgjengelig foreligger ceriumoksid vanligvis i form av partikler med bikomponent partikkelstørrelsesfordeling med topper rundt partikkelstørrelser på 0,4 og 4 mikron, hvor de større partikkelstørrelser tilveiebringer hovedvolumet av partiklene. Dette gir en total verdi av D50 for pulveret på mindre enn 4, og vanligvis i området 3-3,5 mikron. Det er blitt funnet at dersom denne fordeling reduseres ved oppmaling av ceriumoksidet til en relativt jevn partikkelstørrelse på ca. 0,2 mikron og mer foretrukket ca. 0,4 mikron, blir ytelsen av sammensetningen ikke i stor grad påvirket såfremt glasset ikke er spesielt hardt og et høyt nivå av visuell perfeksjon også er påkrevet. Ved disse omstendigheter finnes ofte at den uoppmalte partikkelstørrelsesfordeling er mer effektiv.
Mediet hvor abrasivpartiklene dispergeres er vandig selv om mindre mengder av vannblandbare væsker slik som alkoholer kan være til stede. Mest vanlig blir avionisert vann benyttet med et overfiatemiddel for å assistere til å holde de abrasive partikler godt dispergert. Faststoffinnholdet i slurryen er vanligvis fra 5 til 15 eller endog 20 vekt%, med lavere eller mer fortynnede prosentandeler for harpiks. Generelt vil en slurry med et lavere faststoffinnhold polere langsommere, og en slurry med et høyere faststoffinnhold kan ha problemer med abrasivutfelling fra slurryen. Praktiske betraktninger medfører derfor et faststoffinnhold fra 5 til 15, og mer foretrukket fra 8 til 12 vekt%, faststoff i slurryen.
Beskrivelse av foretrukne utførelsesformer
Oppfinnelsen blir nå ytterligere beskrevet med henvisning til de følgende eksempler som er ment å demonstrere anvendbarheten av oppfinnelsen og virkningene av å variere renheten og partikkelstørrelsen av ceriumoksidkomponenten.
Eksempel 1
I dette eksempel blir ytelsen av abrasivblandingen ifølge oppfinnelsen sammenlignet med slurrysammensetninger inneholdende komponentene alene.
Poleringstestene ble utført på en dobbeltsidig AC500 Peter Wolters-maskin utstyrt med "Suba 500" poleringsputer tilgjengelige fra Rodel, Inc. Glassprøvene som ble polert ble fremstilt av smeltet silikakvarts (Corning), betraktet som et temmelig hardt glass (560-640 Knoop).
Prøvene ble polert ved bruk av 10 % faststoffslurry for hver av de tre abrasiver. Det første var 100 % alumina, det andre var 100 % ceriumoksid og det tredje var en 90:10 blanding av de samme komponenter av alumina og ceriumoksid. Aluminaet ble tilveiebragt fra Saint-Gobain Industrial Ceramics, Inc. og omfattet alfaaluminapartikler med størrelser mellom 20 og 50 nanometer i form av agglomerater med diameter ca. 0,15 til 0,25 mikron. I hovedsak var ingen agglomerater større enn 1 mikron. Ceriumkomponenten var Rhodox 76, et sjeldent jordmetalloksidprodukt omfattende ca. 50 % ceriumoksid som var blitt oppmalt til en partikkelstørrelse med en D50 på ca. 0,4 mikron. Slurryene ble fylt inn i avionisert vann hvortil 0,07 vekt% av et overflatemiddel, (natriumpolyakrylat tilgjengelig fra RT.Vanderbilt under varemerket Darvan 811), var blitt tilført.
Ytelsen med hensyn til overflatekvaliteten som ble oppnådd ble målt med tiden, og en graf ble tegnet ved hjelp av de oppsamlede data. Denne graf fremkommer som Figur 1 blant tegningene. Figur 2 viser de samme data med en ekspandert akse for overflatefinhet for å vise den oppnådde forbedring klarere.
Fra Figurene 1 og 2 kan det ses at selv om prøven polert med 100 % ceriumoksid hadde en bedre opprinnelig overflatefinhet (dvs. før polering var den jevnere) enn de andre to prøver, ble den ikke polert like bra. Slik det kan ses fra Figur 2 ble det med alumina alene aldri oppnådd en overflatefinhet, (Ra), på 200 Å. På den annen side ble dette nivå av overflatefinhet oppnådd med ceriumoksidet etter ca. 19 minutter, og blandingen i henhold til foreliggende oppfinnelse oppnådde dette finhetsnivå på under 10 minutter. Betraktet på en annen måte ble det etter 10 minutter, med ceriumoksidslurry-poleringsmaterialet oppnådd en overflatefinhet på ca. 900, med aluminaslurry-poleringsmaterialet ble det oppnådd en overflatefinhet på litt under 600 og med slurryen i henhold til den foreliggende oppfinnelse ble det produsert en finhet på finere enn 200.
Eksempel 2
Med dette eksempel ble virkningen undersøkt av å variere partikkelstørrelsen av ceriumoksidet ved polering av smeltet silika.
Sammensetningen i henhold til oppfinnelsen var i hovedsak den benyttet i Eksempel 1, med ceriumoksidet i form av Rhodox 76 oppnådd fra Rhone Poulenc. Rhodox 76 ble imidlertid benyttet i fire forskjellige partikkelstørrelser (som målt ved D50-verdien bestemt ved bruk av en partikkelstørrelsesanalysator av typen Horiba LA910) i fire separate poleringsundersøkelser. Partikkelstørrelsene som ble benyttet var 3,17 mikron, 2,14 mikron, 0,992 mikron og 0,435 mikron. Grafen presentert som Figur 3 oppsummerer resultatene. Fra grafen kan det ses at, med dette glass, var det liten forskjell i poleringsytelsen som kunne spores til virkningen av ceriumoksidets partikkelstørrelse. Tilsvarende resultater ble oppnådd ved bruk av "Superox 50" og "50D-1" som ceriumoksidkilder.
Eksempel 3
I dette eksempel ble kilden til ceriumoksid undersøkt, og nærmere bestemt hvorvidt renheten av produktet hadde noen virkning på poleringseffektiviteten. Sammensetninger i henhold til oppfinnelsen ble fremstilt inneholdende ca. 10 % av ceriumoksykomponenten og tilsvarende ca. 90 % av aluminaet benyttet i sammensetningene ifølge Eksempel 1. Disse sammensetninger ble testet for polering av smeltet silikaglass ved bruk av utstyr og prosedyrer identiske med dem beskrevet i Eksempel 1. Resultatene som vises i Figur 4 ble oppnådd. Den første prøve, "S", var "Superox 50" som inneholdt ca. 34 % ceriumoksid. Den andre prøve "R", var "Rhodox 76" som inneholdt ca. 50 % ceriumoksid. Den tredje prøve, "D", var "50D1" som inneholdt ca. 75 % ceriumoksid. Slik det kan observeres ble det funnet liten forskjell i poleringsytelse mellom de tre ovennevnte. Det synes derfor som om de andre sjeldne jordmetalloksider sannsynligvis gir tilsvarende resultater som ceriumoksidet i sammensetningene ifølge oppfinnelsen.
Eksempel 4
Med dette eksempel ble det foretatt undersøkelser av
poleringsvirkningsgraden og virkningene av ceriumoksidets partikkelstørrelse på B270 glass (hardt glass, 530 Knoop). Mens de ovenstående eksempler ble evaluert under laboratoriebetingleser og testet kun for overflatefinhet målt i form av Ra-verdien, ble de etterfølgende evalueringer foretatt i et produksjonsmiljø ved bruk av en trenet operatør som evaluerte sluttproduktet med hensyn til visuell perfeksjon. Dette betyr mer enn bare Ra-verdien som ikke nødvendigvis identifiserer "gråhet" som skriver seg fra overflatedefekter etterlatt fra poleringsoperasjonen.
En 4800 P.R. Hoffman dobbeltsidig poleringsmaskin utstyrt med "Suba 10"
poleringsputer tilveiebragt fra Rodel-selskapet, ble benyttet. Det ble anvendt et trykk på ca. 1,5 psi (1,034 x IO<4> pascal) på arbeidsstykkene under polering. Sluttpunktet for poleringen var når det ble oppnådd et ønsket forutbestemt nivå av overflateperfeksjon (klarhet).
Det ble fremstilt tre sammensetninger i henhold til oppfinnelsen.
Alle tre inneholdt aluminaet og overflatemiddelkomponenten beskrevet i Eksempel 1 i de samme mengder og dispersjoner, sammen med ceriumoksidkomponenten, i samme relative forhold med avionisert vann. Forskjellen mellom komponentene lå i partikkelstørrelsen av ceriumoksidet. I den første sammensetning, A, ble ceriumoksidkomponenten oppmalt til en D50-verdi på 0,4 mikron. I den andre og tredje sammensetning, henholdsvis B og B<1>, ble ceriumoksidet (Superox 50) benyttet slik det ble levert direkte fra produsenten. Den eneste forskjell mellom de to var glassprøvene som ble polert. I den andre prøve, B<1>, var størrelsen av prøvene som ble polert mindre, og derfor ble trykket påført prøvene under polering med samme maskin høyere. Dette resulterte i oppnåelse av sluttilstanden hurtigere. I den fjerde sammensetning, C, ble ceriumoksidet (Rhodox 76) også benyttet slik det ble levert fra produsenten. Som tidligere nevnt hadde materialene som levert fra produsenten en bimodal distribusjon med det større volum av partikler med en partikkeltopp som målt på en Horiba 910 partikkelstørrelsesanalysator på ca. 4. Resultatene er fremsatt i Tabell 1 nedenfor.
Sammensetningen A, (som inneholdt den oppmalte ceriumoksidkomponent), frembragte en jevn lys grå farge etter 90 minutter og påkrevet ytterligere 30 minutter for å fjerne gråheten og etterlate en flatnet under en tidel bølgelengde. Sammensetningene B og B' polerte meget aggressivt og konsistent jevnt over arbeidsstykket. Sammensetningen C polerte også ekstremt bra og raskt. B270 glassproduktet hadde en utmerket overflateflatehet. Andre poleringsmaterialer kan polere "flekkvis" istedenfor konsistent og jevnt over arbeidsstykkets overflate, slik som med sammensetningene ifølge oppfinnelsen.
Det innses derfor at når klarhet er kritisk, frembyr polering med sammensetningene med uoppmalt ceriumoksidkomponent signifikante fordeler. På den annen side frembyr sammensetningene med oppmalte ceriumoksidkomponenter hurtig oppnåelse av polering og flatnet, men det tar lenger tid å nå visuell perfeksjon.
Claims (4)
1. Sammensetning for optisk polering,
karakterisert ved at den omfatter en vandig slurry som i hovedsak består av fra 5 til 20 vekt% faste stoffer hvorav 85-95 % av faststoffinnholdet tilveiebringes av en alfaaluminakomponent med en Dso-partikkelstørrelse mindre enn 0,5 mikron, og korresponderende 15 til 5 vekt% av faststoffinnholdet tilveiebringes av ceriumoksid i form av et pulver med en DSo-partikkelstørrelse fra 0,2 til 4 mikron.
2. Sammensetning ifølge krav 1,
karakterisert ved at faststoffinnholdet i slurryen er fra 8 til 12 vekt%.
3. Sammensetning ifølge krav 1,
karakterisert ved at aluminakomponenten har en D5o-partikkelstørrelse fra 0,15 til 0,25 mikron.
4. Sammensetning ifølge krav 1,
karakterisert ved at ceriumoksidkomponenten har en partikkelstørrelsesfordeling som fremviser to komponenter og en Dso-partikkelstørrelse fra 3 til 4 mikron.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/025,730 US5989301A (en) | 1998-02-18 | 1998-02-18 | Optical polishing formulation |
PCT/US1999/003143 WO1999042537A1 (en) | 1998-02-18 | 1999-02-16 | Optical polishing formulation |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO20004122D0 NO20004122D0 (no) | 2000-08-17 |
NO20004122L NO20004122L (no) | 2000-08-17 |
NO319039B1 true NO319039B1 (no) | 2005-06-06 |
Family
ID=21827759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO20004122A NO319039B1 (no) | 1998-02-18 | 2000-08-17 | Sammensetning for optisk polering |
Country Status (28)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5989301A (no) |
EP (1) | EP1060221B1 (no) |
JP (1) | JP3605036B2 (no) |
KR (1) | KR100354202B1 (no) |
CN (1) | CN1187426C (no) |
AR (1) | AR014959A1 (no) |
AT (1) | ATE245180T1 (no) |
AU (1) | AU729245B2 (no) |
BR (1) | BR9908020B1 (no) |
CA (1) | CA2319107C (no) |
CO (1) | CO5060536A1 (no) |
CZ (1) | CZ294042B6 (no) |
DE (1) | DE69909597T2 (no) |
DK (1) | DK1060221T3 (no) |
ES (1) | ES2204107T3 (no) |
FI (1) | FI118180B (no) |
HU (1) | HUP0101154A3 (no) |
IL (1) | IL137804A0 (no) |
MY (1) | MY123257A (no) |
NO (1) | NO319039B1 (no) |
NZ (1) | NZ505901A (no) |
PL (1) | PL186840B1 (no) |
PT (1) | PT1060221E (no) |
RU (1) | RU2181132C1 (no) |
SK (1) | SK285219B6 (no) |
TW (1) | TWI239995B (no) |
WO (1) | WO1999042537A1 (no) |
ZA (1) | ZA991150B (no) |
Families Citing this family (61)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6839362B2 (en) * | 2001-05-22 | 2005-01-04 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Cobalt-doped saturable absorber Q-switches and laser systems |
US20030092271A1 (en) * | 2001-09-13 | 2003-05-15 | Nyacol Nano Technologies, Inc. | Shallow trench isolation polishing using mixed abrasive slurries |
US6896591B2 (en) * | 2003-02-11 | 2005-05-24 | Cabot Microelectronics Corporation | Mixed-abrasive polishing composition and method for using the same |
US7045223B2 (en) * | 2003-09-23 | 2006-05-16 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel articles and methods for forming same |
US20050061230A1 (en) * | 2003-09-23 | 2005-03-24 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel articles and methods for forming same |
US7326477B2 (en) * | 2003-09-23 | 2008-02-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel boules, wafers, and methods for fabricating same |
US7919815B1 (en) | 2005-02-24 | 2011-04-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Spinel wafers and methods of preparation |
US7294044B2 (en) * | 2005-04-08 | 2007-11-13 | Ferro Corporation | Slurry composition and method for polishing organic polymer-based ophthalmic substrates |
WO2008079680A1 (en) * | 2006-12-19 | 2008-07-03 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Submicron alpha alumina high temperature bonded abrasives |
JP5539339B2 (ja) | 2008-06-23 | 2014-07-02 | サンーゴバン アブレイシブズ,インコーポレイティド | 高気孔率ビトリファイド超砥粒製品および製造方法 |
WO2010087849A1 (en) * | 2009-01-30 | 2010-08-05 | Lenzsavers, Llc | Compositions and methods for restoring plastic covers and lenses |
EP2493659A4 (en) | 2009-10-27 | 2015-09-02 | Saint Gobain Abrasives Inc | VITREOUS BONDED ABRASIVE |
KR20150097811A (ko) | 2009-10-27 | 2015-08-26 | 생-고뱅 어브레이시브즈, 인코포레이티드 | 레진본드 연마재 |
TWI598434B (zh) * | 2010-09-08 | 2017-09-11 | 巴斯夫歐洲公司 | 含有N-取代重氮烯(diazenium)二氧化鹽及/或N’-羥基-重氮烯(diazenium)氧化鹽之水研磨組成物 |
RU2013135445A (ru) | 2010-12-31 | 2015-02-10 | Сэнт-Гобэн Керамикс Энд Пластикс, Инк. | Абразивное изделие (варианты) и способ его формования |
TWI605112B (zh) * | 2011-02-21 | 2017-11-11 | Fujimi Inc | 研磨用組成物 |
US8986409B2 (en) | 2011-06-30 | 2015-03-24 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive articles including abrasive particles of silicon nitride |
CN103764349B (zh) | 2011-06-30 | 2017-06-09 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 液相烧结碳化硅研磨颗粒 |
WO2013049239A1 (en) | 2011-09-26 | 2013-04-04 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive articles including abrasive particulate materials, coated abrasives using the abrasive particulate materials and methods of forming |
CA2849805A1 (en) | 2011-09-29 | 2013-04-04 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing hard surfaces |
KR20140106737A (ko) | 2011-12-30 | 2014-09-03 | 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 | 형상화 연마입자들 형성 |
KR102074138B1 (ko) | 2011-12-30 | 2020-02-07 | 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 | 형상화 연마입자 및 이의 형성방법 |
US9266220B2 (en) | 2011-12-30 | 2016-02-23 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive articles and method of forming same |
EP2797716B1 (en) | 2011-12-30 | 2021-02-17 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Composite shaped abrasive particles and method of forming same |
BR112014017050B1 (pt) | 2012-01-10 | 2021-05-11 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | partícula abrasiva moldada |
WO2013106575A1 (en) | 2012-01-10 | 2013-07-18 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing coated surfaces |
US8840696B2 (en) | 2012-01-10 | 2014-09-23 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles |
WO2013138765A1 (en) | 2012-03-16 | 2013-09-19 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for finishing surfaces |
US9242346B2 (en) | 2012-03-30 | 2016-01-26 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products having fibrillated fibers |
US8968435B2 (en) | 2012-03-30 | 2015-03-03 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive products and methods for fine polishing of ophthalmic lenses |
US9200187B2 (en) | 2012-05-23 | 2015-12-01 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particles and methods of forming same |
IN2015DN00343A (no) | 2012-06-29 | 2015-06-12 | Saint Gobain Ceramics | |
RU2614488C2 (ru) | 2012-10-15 | 2017-03-28 | Сен-Гобен Абразивс, Инк. | Абразивные частицы, имеющие определенные формы, и способы формирования таких частиц |
KR101818946B1 (ko) | 2012-12-31 | 2018-01-17 | 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 | 미립자 소재 및 이의 형성방법 |
PL2978566T3 (pl) | 2013-03-29 | 2024-07-15 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Cząstki ścierne o określonych kształtach i sposoby formowania takich cząstek |
TW201502263A (zh) | 2013-06-28 | 2015-01-16 | Saint Gobain Ceramics | 包含成形研磨粒子之研磨物品 |
CA3114978A1 (en) | 2013-09-30 | 2015-04-02 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particles and methods of forming same |
US9566689B2 (en) | 2013-12-31 | 2017-02-14 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
US9771507B2 (en) | 2014-01-31 | 2017-09-26 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particle including dopant material and method of forming same |
KR101890106B1 (ko) | 2014-04-14 | 2018-08-22 | 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 | 형상화 연마 입자들을 포함하는 연마 물품 |
US9803119B2 (en) | 2014-04-14 | 2017-10-31 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
US9902045B2 (en) | 2014-05-30 | 2018-02-27 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Method of using an abrasive article including shaped abrasive particles |
US9914864B2 (en) | 2014-12-23 | 2018-03-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particles and method of forming same |
US9707529B2 (en) | 2014-12-23 | 2017-07-18 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Composite shaped abrasive particles and method of forming same |
US9676981B2 (en) | 2014-12-24 | 2017-06-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particle fractions and method of forming same |
EP3277459B1 (en) | 2015-03-31 | 2023-08-16 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Fixed abrasive articles and methods of forming same |
TWI634200B (zh) | 2015-03-31 | 2018-09-01 | 聖高拜磨料有限公司 | 固定磨料物品及其形成方法 |
CA3118262C (en) | 2015-06-11 | 2023-09-19 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
KR102313436B1 (ko) | 2016-05-10 | 2021-10-19 | 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 | 연마 입자들 및 그 형성 방법 |
KR102481559B1 (ko) | 2016-05-10 | 2022-12-28 | 생-고뱅 세라믹스 앤드 플라스틱스, 인코포레이티드 | 연마 입자 및 이의 형성 방법 |
WO2018064642A1 (en) | 2016-09-29 | 2018-04-05 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Fixed abrasive articles and methods of forming same |
US10759024B2 (en) | 2017-01-31 | 2020-09-01 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
US10563105B2 (en) | 2017-01-31 | 2020-02-18 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
CN110719946B (zh) | 2017-06-21 | 2022-07-15 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 颗粒材料及其形成方法 |
US11865663B2 (en) * | 2018-05-10 | 2024-01-09 | George Shuai | Optical surface polishing |
CN109439282A (zh) * | 2018-10-23 | 2019-03-08 | 蓝思科技(长沙)有限公司 | 复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备 |
CN109135580B (zh) * | 2018-10-25 | 2021-04-02 | 蓝思科技(长沙)有限公司 | 一种玻璃用抛光液及其制备方法 |
CN110724460A (zh) * | 2019-11-13 | 2020-01-24 | 刘通 | 一种铈铝复合氧化物抛光粉的制备方法 |
WO2021133901A1 (en) | 2019-12-27 | 2021-07-01 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive articles and methods of forming same |
CN113881348A (zh) * | 2021-11-04 | 2022-01-04 | 青岛福禄泰科表面材料科技有限公司 | 一种复合氧化铝抛光液及其制备方法和应用 |
CN114213977A (zh) * | 2021-12-23 | 2022-03-22 | 中天科技精密材料有限公司 | 抛光剂及其制备方法 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3429080A (en) * | 1966-05-02 | 1969-02-25 | Tizon Chem Corp | Composition for polishing crystalline silicon and germanium and process |
GB1501570A (en) * | 1975-11-11 | 1978-02-15 | Showa Denko Kk | Abrader for mirror polishing of glass and method for mirror polishing |
US4161394A (en) * | 1978-06-19 | 1979-07-17 | Regan Glen B | Polishing slurry of xanthan gum and a dispersing agent |
FR2549846B1 (fr) * | 1983-07-29 | 1986-12-26 | Rhone Poulenc Spec Chim | Nouvelle composition de polissage a base de cerium et son procede de fabrication |
US4576612A (en) * | 1984-06-01 | 1986-03-18 | Ferro Corporation | Fixed ophthalmic lens polishing pad |
US5312789A (en) * | 1987-05-27 | 1994-05-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive grits formed of ceramic, impregnation method of making the same and products made therewith |
BR9307095A (pt) * | 1992-09-25 | 1999-03-30 | Minnesota Mining & Mfg | Processo para preparar grãos de abrasivo |
CA2111010A1 (en) * | 1993-01-29 | 1994-07-30 | Robert James Hagerty | Method of finely polishing planar optical elements |
US5549962A (en) * | 1993-06-30 | 1996-08-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Precisely shaped particles and method of making the same |
US5465314A (en) * | 1993-09-09 | 1995-11-07 | The Furukawa Electronic Co., Ltd. | Method of manufacturing optical connector |
US5632668A (en) * | 1993-10-29 | 1997-05-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for the polishing and finishing of optical lenses |
KR960041316A (ko) * | 1995-05-22 | 1996-12-19 | 고사이 아키오 | 연마용 입상체, 이의 제조방법 및 이의 용도 |
US5693239A (en) * | 1995-10-10 | 1997-12-02 | Rodel, Inc. | Polishing slurries comprising two abrasive components and methods for their use |
US5702811A (en) * | 1995-10-20 | 1997-12-30 | Ho; Kwok-Lun | High performance abrasive articles containing abrasive grains and nonabrasive composite grains |
BR9708934A (pt) * | 1996-05-08 | 1999-08-03 | Minnesota Mining & Mfg | Artigo abrasivo abrasivo e processo para produzir um artigo abrasivo |
US5858813A (en) * | 1996-05-10 | 1999-01-12 | Cabot Corporation | Chemical mechanical polishing slurry for metal layers and films |
KR19980019046A (ko) * | 1996-08-29 | 1998-06-05 | 고사이 아키오 | 연마용 조성물 및 이의 용도(Abrasive composition and use of the same) |
JP3856513B2 (ja) * | 1996-12-26 | 2006-12-13 | 昭和電工株式会社 | ガラス研磨用研磨材組成物 |
US5876268A (en) | 1997-01-03 | 1999-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method and article for the production of optical quality surfaces on glass |
US5833724A (en) * | 1997-01-07 | 1998-11-10 | Norton Company | Structured abrasives with adhered functional powders |
US5851247A (en) * | 1997-02-24 | 1998-12-22 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Structured abrasive article adapted to abrade a mild steel workpiece |
US5910471A (en) | 1997-03-07 | 1999-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article for providing a clear surface finish on glass |
US5876470A (en) * | 1997-08-01 | 1999-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive articles comprising a blend of abrasive particles |
-
1998
- 1998-02-18 US US09/025,730 patent/US5989301A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-02-12 MY MYPI99000512A patent/MY123257A/en unknown
- 1999-02-12 ZA ZA9901150A patent/ZA991150B/xx unknown
- 1999-02-15 CO CO99008983A patent/CO5060536A1/es unknown
- 1999-02-16 PT PT99907002T patent/PT1060221E/pt unknown
- 1999-02-16 DK DK99907002T patent/DK1060221T3/da active
- 1999-02-16 HU HU0101154A patent/HUP0101154A3/hu unknown
- 1999-02-16 DE DE69909597T patent/DE69909597T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 WO PCT/US1999/003143 patent/WO1999042537A1/en active IP Right Grant
- 1999-02-16 JP JP2000532484A patent/JP3605036B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 CN CNB998028681A patent/CN1187426C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-16 CA CA002319107A patent/CA2319107C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-16 KR KR1020007009035A patent/KR100354202B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 ES ES99907002T patent/ES2204107T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 EP EP19990907002 patent/EP1060221B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-16 IL IL13780499A patent/IL137804A0/xx not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 BR BRPI9908020-6A patent/BR9908020B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 AT AT99907002T patent/ATE245180T1/de active
- 1999-02-16 RU RU2000122964/04A patent/RU2181132C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 SK SK1145-2000A patent/SK285219B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 NZ NZ505901A patent/NZ505901A/en unknown
- 1999-02-16 AR ARP990100633A patent/AR014959A1/es unknown
- 1999-02-16 CZ CZ20002969A patent/CZ294042B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 PL PL99342392A patent/PL186840B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1999-02-16 AU AU26777/99A patent/AU729245B2/en not_active Ceased
- 1999-03-02 TW TW088102220A patent/TWI239995B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-07-26 US US09/361,438 patent/US6258136B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-08-15 FI FI20001800A patent/FI118180B/fi not_active IP Right Cessation
- 2000-08-17 NO NO20004122A patent/NO319039B1/no not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NO319039B1 (no) | Sammensetning for optisk polering | |
EP2888077B1 (en) | Methods of polishing sapphire surfaces | |
CN108239484B (zh) | 一种蓝宝石抛光用氧化铝抛光液及其制备方法 | |
KR100429940B1 (ko) | 개선된 세리아 분말 | |
KR101488987B1 (ko) | 경질 결정 기판 연마 방법 및 유성 연마 슬러리 | |
Zhu et al. | The effect of abrasive hardness on the chemical-assisted polishing of (0001) plane sapphire | |
Zhu et al. | Tribochemical polishing of silicon carbide in oxidant solution | |
EP1072666A2 (en) | Colloidal polishing of fused silica | |
EP1072665A2 (en) | Colloidal silica polishing abrasive | |
MXPA00008063A (en) | Optical polishing formulation | |
JP7513985B2 (ja) | 研磨材組成物 | |
Pan et al. | Innovative CMP Solution for Advanced STI Process | |
JP2003297776A (ja) | 研磨方法 | |
JP2001035819A (ja) | 研磨スラリー及びこれを用いた研磨方法 | |
Cheemalapati et al. | Novel pure organic particles for copper CMP at low down force | |
JP2023141786A (ja) | 研磨スラリー及び研磨方法 | |
Kulawski et al. | Advances in the CMP process on fixed abrasive pads for the polishing of SOI-substrates with high degree of flatness | |
NO147658B (no) | Pensekobling for korte og ultrakorte elektromagnetiske boelger |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM1K | Lapsed by not paying the annual fees |